JP5889587B2 - Transfer type protective layer, method for manufacturing transfer type protective layer, personal authentication medium, and method for manufacturing personal authentication medium - Google Patents
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本発明の実施形態は、個人認証媒体の保護層を形成するための転写型保護層、転写型保護層の製造方法、個人認証媒体、及び個人認証媒体の製造方法に関する。 Embodiments described herein relate generally to a transfer-type protective layer for forming a protective layer for a personal authentication medium, a method for manufacturing the transfer-type protective layer, a personal authentication medium, and a method for manufacturing a personal authentication medium.
ＩＤカード，従業員証，身分証明証は、その表面に顔などの画像情報、文字情報を印刷している。これらの多くは、画像部分あるいはカード全体の表面を破損や劣化から防護するために透明な保護膜で覆われている。この保護膜は熱可塑性樹脂で構成されるものもあるが、より耐久性を向上させるためＵＶや熱・電子線などによって硬化する材質で構成されている。この保護膜を支持体上に設けて転写型保護層を形成し、保護膜を支持体からカード上に転写させることによってカード表面に保護膜を形成することができる。この転写による保護膜形成の方法は大きく分けて２つある。１つはカード上に保護膜を転写させてから、ＵＶ・熱・電子線硬化させる方法であり、２つめは既に硬化済みの保護膜をカード上に転写させる方法である。これらの方法によって現在のＩＤなどの高耐久性を要求されるカード類は表面保護を実現されている。 The ID card, employee ID card, and ID card have image information such as a face and text information printed on the surface. Many of these are covered with a transparent protective film to protect the surface of the image portion or the entire card from damage or deterioration. Although this protective film is made of a thermoplastic resin, it is made of a material that is cured by UV, heat, electron beam, or the like in order to improve durability. The protective film can be formed on the card surface by providing the protective film on the support to form a transfer type protective layer and transferring the protective film from the support onto the card. There are roughly two methods for forming a protective film by transfer. One is a method in which a protective film is transferred onto a card and then UV, heat, and electron beam curing is performed, and the second is a method in which an already cured protective film is transferred onto the card. By these methods, surface protection is realized for cards that require high durability such as current ID.
保護膜に要求される機能はカードとの接着性、常温での保存性、ＩＤカードとしての耐水性、耐溶剤性、耐熱性などがある。従来技術で述べた２つの方法にはそれぞれ課題や問題がある。１つ目の方法にはカードに転写した後に硬化を実施するため、カード上への接着には問題ないが、転写後にＵＶ照射を実施するため、ＩＤカードの製造装置にＵＶ照射器を搭載させる必要があり、電力消費が大きくなってしまう。またＵＶランプは高価で消耗も激しいため、コスト面でも大きな負担となってしまう。２つ目の方法では、ＵＶ照射器を必要とせず、電力消費を抑えることができる。しかし、カード表面のロゴや枠・共通記載事項などの部分に一般的に使われる紫外線硬化型インクが事前印刷されたカードの場合、この紫外線硬化型インク部分への接着性が悪いという技術的困難な問題がある。そのため接着性能とＩＤカードとしての耐水性、耐溶剤性、耐熱性といった各種耐久性能と利便性を両立させることが困難であった。具体的に述べると、転写対象のカードに熱負担をかけすぎない温度や速度、圧力で転写するには接着層の樹脂には軟化温度の低いものを使用する必要があり、この場合一般的にリボン状態での保存で、ブロッキングが生じたり、保護膜のムラ等が発生し、難しい。さらにこれらは高温状態ではより生じやすい。 Functions required for the protective film include adhesion to a card, storage stability at room temperature, water resistance as an ID card, solvent resistance, and heat resistance. Each of the two methods described in the prior art has problems and problems. The first method cures after transferring to the card, so there is no problem with adhesion on the card, but UV irradiation is performed after transfer, so a UV irradiator is mounted on the ID card manufacturing apparatus. This requires power consumption. In addition, since the UV lamp is expensive and consumed heavily, it is a heavy burden in terms of cost. The second method does not require a UV irradiator and can reduce power consumption. However, in the case of a card pre-printed with UV curable ink commonly used for the logo, frame, and common items on the card surface, it is technically difficult to adhere to this UV curable ink. There is a problem. For this reason, it is difficult to satisfy various durability performances such as adhesion performance and water resistance, solvent resistance, and heat resistance as an ID card. Specifically, in order to transfer at a temperature, speed, or pressure that does not overload the card to be transferred, it is necessary to use a resin with a low softening temperature as the resin of the adhesive layer. Storage in the ribbon state is difficult due to blocking and unevenness of the protective film. Furthermore, these are more likely to occur at high temperatures.
一方、これを改良しようと逆にリボン化して保存できるような軟化温度の高い樹脂を選択した場合、転写の際にかなりの熱が必要になりカードや印刷機機体に負荷が大きくなってしまう。 On the other hand, if a resin having a high softening temperature that can be stored as a ribbon is selected to improve this, a considerable amount of heat is required at the time of transfer, which increases the load on the card and the printing press.
本発明の実施形態は、接着性と熱保存特性が良好な保護層を有する個人認証媒体を提供することを目的とする。 An object of the embodiment of the present invention is to provide a personal authentication medium having a protective layer having good adhesiveness and heat storage characteristics.
実施形態によれば、支持体、該支持体上に形成された保護層、及び該保護層上に形成され、熱可塑性樹脂と微粒子を含有する接着層を含むことを特徴とする転写型保護層が提供される。 According to the embodiment, the transfer-type protective layer comprising a support, a protective layer formed on the support, and an adhesive layer formed on the protective layer and containing a thermoplastic resin and fine particles. Is provided.
実施形態にかかる転写型保護層は、支持体、支持体上に形成された保護層、及び保護層上に形成された接着層を含む。接着層は、熱可塑性樹脂と微粒子を含有する。 The transfer type protective layer according to the embodiment includes a support, a protective layer formed on the support, and an adhesive layer formed on the protective layer. The adhesive layer contains a thermoplastic resin and fine particles.
実施形態にかかる転写型保護層の製造方法は、支持体上に、光硬化性樹脂を含む保護層塗布液を塗布乾燥して保護層塗布層を形成する工程、保護層塗布層に光照射して保護層塗布層を光硬化せしめ、保護層を形成する工程、保護層上に接着層を形成する工程を具備する。接着層は、熱可塑性樹脂と微粒子を含有する。 The manufacturing method of the transfer type protective layer according to the embodiment includes a step of coating and drying a protective layer coating solution containing a photocurable resin on a support to form a protective layer coating layer, and irradiating the protective layer coating layer with light. The step of photo-curing the protective layer coating layer to form a protective layer and the step of forming an adhesive layer on the protective layer. The adhesive layer contains a thermoplastic resin and fine particles.
実施形態にかかる個人認証媒体は、基材、基材上に形成された画像部、画像部が形成された基材表面に設けられた接着層、該接着層上に設けられた保護層を含む。接着層は、熱可塑性樹脂と微粒子を含有する。保護層は、光硬化性樹脂を含む保護層は光照射することにより予め光硬化した後、接着層上に形成されている。 The personal authentication medium according to the embodiment includes a base material, an image portion formed on the base material, an adhesive layer provided on the surface of the base material on which the image portion is formed, and a protective layer provided on the adhesive layer. . The adhesive layer contains a thermoplastic resin and fine particles. The protective layer is formed on the adhesive layer after the protective layer containing the photocurable resin is photocured in advance by light irradiation.
画像部は、昇華性インク、溶融性インク等により印刷することができる。 The image portion can be printed with sublimation ink, melt ink, or the like.
基材と画像部との間には、画像受容層を設けることができる。 An image receiving layer can be provided between the substrate and the image portion.
画像受容層としては、例えば昇華性インクを受容し得る材料、あるいは溶融性インクと接着性の良好な材料を使用することができる。 As the image receiving layer, for example, a material capable of receiving a sublimation ink or a material having good adhesiveness with a meltable ink can be used.
実施形態にかかる個人認証媒体の製造方法は、基材上に画像部を形成する工程、及び画像部上に接着層と保護層によって形成された転写型保護層を転写する工程を含む。転写型保護層は、支持体と、支持体上に設けられ、光硬化性樹脂を含む保護層塗布液を支持体上に塗布乾燥した後、光照射することにより硬化された保護層と、保護層上に設けられ、熱可塑性樹脂と微粒子を含有する接着層とを含む。」
実施形態によれば、転写型保護層の保護層上に熱可塑性樹脂と微粒子を含有する接着層を適用することにより、転写前に予め保護層が光硬化されていても、保護層の接着性と熱保存特性が良好な保護層を有する個人認証媒体が得られる。また、実施形態によれば、転写型保護層の状態で予め保護層が光硬化されているので、個人認証媒体の製造工程において、個人認証媒体の製造装置に紫外線ランプ等の光照射を行う設備を設ける必要がなく、低コストである。また、個人認証媒体の保護層以外の基材例えば写真画像、文字画像等の画像部等が紫外線ランプ等の光照射を受けないので、光照射による劣化を生じない。
The manufacturing method of the personal authentication medium according to the embodiment includes a step of forming an image portion on a base material, and a step of transferring a transfer type protective layer formed by an adhesive layer and a protective layer on the image portion. The transfer-type protective layer is provided on the support, the protective layer coated with the protective layer coating solution containing the photocurable resin, dried on the support, and then cured by light irradiation. It is provided on the layer and includes a thermoplastic resin and an adhesive layer containing fine particles. "
According to the embodiment, by applying an adhesive layer containing a thermoplastic resin and fine particles on the protective layer of the transfer type protective layer, even if the protective layer is previously photocured before transfer, the adhesion of the protective layer And a personal authentication medium having a protective layer with good heat storage characteristics. Further, according to the embodiment, since the protective layer is photocured in advance in the state of the transfer type protective layer, in the manufacturing process of the personal authentication medium, equipment for irradiating the personal authentication medium manufacturing apparatus with light such as an ultraviolet lamp There is no need to provide a low cost. Further, since the substrate other than the protective layer of the personal authentication medium, for example, an image portion such as a photographic image or a character image is not irradiated with light such as an ultraviolet lamp, deterioration due to light irradiation does not occur.
接着層は０．５μｍないし１０μｍの厚さを有することが好ましい。 The adhesive layer preferably has a thickness of 0.5 μm to 10 μm.
接着層は０．５μｍ未満であると、十分な接着ができなくなる傾向があり、１０μｍを越えると、リボンとしての巻き径が大きくなりすぎコストがかかりすぎる傾向があるため、３μｍ程度が望ましい。 If the adhesive layer is less than 0.5 μm, sufficient adhesion tends to be impossible, and if it exceeds 10 μm, the winding diameter as a ribbon tends to be too large and the cost tends to be too high, so about 3 μm is desirable.
微粒子は、接着層の厚さの０．８倍ないし３倍の体積平均粒径を有することが好ましい。 The fine particles preferably have a volume average particle diameter of 0.8 to 3 times the thickness of the adhesive layer.
図１に、ロール状に巻かれた転写型保護層における接着層中の微粒子の様子を表すモデル図を示す。 FIG. 1 is a model diagram showing the state of fine particles in an adhesive layer in a transfer type protective layer wound in a roll shape.
図中、４４は支持体を、４３は保護層を、４２は接着層を、４１は微粒子を、４５は支持体を各々示す。 In the figure, 44 indicates a support, 43 indicates a protective layer, 42 indicates an adhesive layer, 41 indicates fine particles, and 45 indicates a support.
図示するように微粒子４１が接着層３の厚さの０．８倍ないし３倍の体積平均粒径を有すると、微粒子４１が支持体４５と接着層４２との間のスペーサーとしての役割を担い、接着層４２が支持体４５に直接触れず、また圧力を受けにくくなる。接着層３から微粒子４１が飛び出ているのが望ましいからである。ロール状に巻かれた転写型保護層において転写型保護層が重なっても、接着層はその上の転写型保護膜の支持体裏面にくっつき難くなる。
As shown in the figure, when the
微粒子の大きさが、接着層の厚さの０．８倍未満であると、スペーサーとしての役割を果たせなくなる傾向があり、３倍を越えると、接着層が転写の際に基材に触れる量が少なくなり接着力が弱くなる傾向がある。 If the size of the fine particles is less than 0.8 times the thickness of the adhesive layer, it tends to be unable to serve as a spacer. If it exceeds 3 times, the amount of the adhesive layer that touches the substrate during transfer Tends to decrease and the adhesive strength tends to be weak.
微粒子は、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂からなる群から選択される材料からなる樹脂微粒子、及びシリカ、アルミナ、及びガラスからなる群から選択される材料からなる無機微粒子のうち少なくとも１種であることが好ましい。 The fine particles are resin fine particles made of a material selected from the group consisting of silicone resin, acrylic resin, styrene resin, urethane resin, polyethylene resin, and inorganic fine particles made of a material selected from the group consisting of silica, alumina, and glass. Of these, at least one is preferable.
微粒子は熱可塑性樹脂に対し０．１〜３０重量％含まれていることが好ましい。 The fine particles are preferably contained in an amount of 0.1 to 30% by weight with respect to the thermoplastic resin.
微粒子の含有量が０．１重量％未満であると、スペーサーとしての役割を果たせなくなる傾向があり、３０重量％を越えると、接着層が転写の際に基材に触れる量が少なくなり接着力が弱くなる傾向がある。 If the content of the fine particles is less than 0.1% by weight, there is a tendency that the role as a spacer cannot be achieved. If the content exceeds 30% by weight, the amount of the adhesive layer that touches the substrate during transfer decreases, and the adhesive strength Tend to be weak.
支持体と保護層との間にさらに剥離層を形成することができる。 A peeling layer can be further formed between the support and the protective layer.
熱可塑性樹脂として、理論Ｔｇ３６℃以下のポリアクリル酸エステル共重合体を用いることが好ましい。 As the thermoplastic resin, a polyacrylate copolymer having a theoretical Tg of 36 ° C. or lower is preferably used.
理論Ｔｇ３６℃以上のポリアクリル酸エステル共重合体を用いると、接着力不足となる傾向がある。 When a polyacrylic acid ester copolymer having a theoretical Tg of 36 ° C. or higher is used, the adhesive strength tends to be insufficient.
以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.
図２に、第１の実施形態にかかる転写型保護層の一例を表す断面図を示す。 FIG. 2 is a sectional view showing an example of the transfer type protective layer according to the first embodiment.
第１の実施形態にかかる転写型保護層１１は、図示するように、支持体１と支持体１上に設けられた保護層２とを有する。
The transfer type
保護層２は、例えば、２０：８０〜８０：２０の重量比で配合された熱可塑性樹脂及び光硬化性樹脂、及び固形分比率で０．１〜２０重量％の光重合開始剤を含む保護層塗布液を支持体１上に塗布乾燥した後、光照射することにより硬化されている。
The
図３に、第２の実施形態にかかる転写型保護層の一例を表す断面図を示す。 FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating an example of the transfer type protective layer according to the second embodiment.
第２の実施形態にかかる転写型保護層１２は、保護層２上に、接着層３が設けられていること以外は、図２と同様の構成を有する。
The transfer type
図４に、第３の実施形態にかかる転写型保護層の一例を表す断面図を示す。 FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an example of the transfer type protective layer according to the third embodiment.
第２の実施形態にかかる転写型保護層１３は、支持体１と保護層２との間にさらに剥離層４を有すること以外は図３と同様の構成を有する。ここで、接着層３は、任意に設けられ得る。
The transfer type
図５に、第４の実施形態にかかる個人認証媒体の一例を表す断面図を示す。 FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an example of a personal authentication medium according to the fourth embodiment.
第４の実施形態にかかるＩＤカード１０は、プラスチック製の基材５と、基材５上に形成された写真画像部６及び文字画像部７等の記録情報を含む画像部９と、基材５上に記録情報９を介して設けられた保護層２とを含む。文字画像部７は、例えばＵＶインク、溶融インクを用いて形成することができる。写真画像部６は例えば昇華性インク、インクジェットインク、または溶融インクを用いて形成することができる。基材５上に図示しない画像受容層を設け、その上に写真画像部６を設けることができる。
An
図６に、第４の実施形態にかかる個人認証媒体の他の一例を表す断面図を示す。 FIG. 6 is a sectional view showing another example of the personal authentication medium according to the fourth embodiment.
第４の実施形態にかかるＩＤカード３０は、基材５及び画像部９と保護層２との間に接着層３が設けられ、かつ写真画像部６表面に、写真画像部６を紫外線から保護するＵＶカット層３１が形成されていること以外は、図５と同様の構造を有する。
In the
図７に、第４の実施形態にかかる個人認証媒体のさらに他の一例を表す断面図を示す。 FIG. 7 is a sectional view showing still another example of the personal authentication medium according to the fourth embodiment.
第４の実施形態にかかるＩＤカード５０は、基材５及び画像部９の間に画像受容層５１が設けられていること以外は、図６と同様の構造を有する。
The
なお、図中、画像部９は、説明の便宜上、例えば、画像受容層５１表面上に層状に設けられているけれども、層状の画像部のみならず、画像受容層の表面領域に受容された昇華性インクによる写真画像等も含むものとする。
In the figure, for convenience of explanation, for example, the
図８に、第５の実施形態にかかる個人認証媒体の一例を表す断面図を示す。 FIG. 8 is a sectional view showing an example of a personal authentication medium according to the fifth embodiment.
第５の実施形態にかかる紙製金券媒体２０は、紙製の基材８と、情報を記録するための文字画像部等の画像部９と、基材８上に画像部９を介して設けられた保護層２とを含む。なお、基材５及び画像部９と保護層２との間に図示しない接着層を設けることができる。
A
図９は、実施形態にかかる個人認証媒体の製造装置の一例を表す概略図を示す。 FIG. 9 is a schematic diagram illustrating an example of a personal authentication medium manufacturing apparatus according to the embodiment.
この装置４０は、個人認証媒体としてＩＤカードの製造装置である。
This
図示するように、まず、ＩＤカード基材供給部２１よりＩＤカード基材２６をＩＤカード製造装置４０内に取り込み、搬送部２７へ供給する。
As shown in the figure, first, the ID
次に、例えば、サーマルヘッド等の記録部材２９とインクリボン等のインク部材３２等を備えた印刷部２２にＩＤカード基材２６を導入し、例えばＵＶインク、溶融インクを用いて文字画像部を形成し、例えば昇華性インクを用いて写真画像部を形成することができる。
Next, for example, the
続いて、例えば支持体と支持体上に形成されたＵＶカット層とを有するＵＶカット層転写リボン３３と、加熱ローラー２８等を備えたＵＶカット層形成部２３に文字画像部及び写真画像部等の画像部が形成されたＩＤカード基材２６を導入し、昇華性インクを用いて形成された写真画像部の上にＵＶカット層を形成することができる。
Subsequently, for example, a UV cut
その後、例えば図４と同様の転写型保護層１３と加熱ローラー３４とを備えた保護層形成部２４において、画像部及びＵＶカット層が形成されたＩＤカード基材２６表面に接着層を介して保護層を形成することができる。
Thereafter, for example, in the protective layer forming unit 24 including the transfer type
このようにして、得られたＩＤカード２５がＩＤカードの製造装置か排出される。
In this way, the obtained
実施形態に使用する支持体としては例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレナフタレート、ポリカーボネート、セルロース、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等の各種プラスチックフィルムが挙げられる。また、ポリイミド、ポリスルホン等の透明性の低い樹脂フィルムも、フィルムの膜厚みが薄ければ紫外線等を透過できることから使用可能である。 Examples of the support used in the embodiment include various plastic films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, cellulose, polypropylene, polyethylene, polystyrene, and polyvinyl chloride. In addition, resin films with low transparency such as polyimide and polysulfone can be used because they can transmit ultraviolet rays and the like if the film thickness is thin.
支持体の厚みは、１〜２００μｍの範囲が、更には５〜５０μｍの範囲が好ましい。１μｍより薄ければカールし易くなるし、２００μｍより厚過ぎると転写時の熱量が多く必要となる傾向がある。 The thickness of the support is preferably in the range of 1 to 200 μm, more preferably in the range of 5 to 50 μm. If it is thinner than 1 μm, it will be easy to curl, and if it is thicker than 200 μm, it tends to require a large amount of heat during transfer.
保護層に用いられる熱可塑性樹脂としては、透明性の高い樹脂を用いることができる。透明性の高い樹脂としては、例えばポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂及びこれらの各樹脂の混合物等があげられる。 As the thermoplastic resin used for the protective layer, a highly transparent resin can be used. Examples of highly transparent resins include polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, epoxy resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl butyral resins, vinyl acetate resins, ethylene-vinyl acetate resins, and these resins. And the like.
熱可塑性樹脂の分子量としては、１，０００から２５，０００が好ましい。この範囲内の分子量を有する熱可塑性樹脂は転写時のバリが発生しにくく、切れ性が良い。 The molecular weight of the thermoplastic resin is preferably 1,000 to 25,000. A thermoplastic resin having a molecular weight within this range is less likely to generate burrs during transfer and has good cutting properties.
ポリエステル系樹脂は、具体的には、東洋紡績（株）製 商品名 バイロン２００、バイロン２２０、バイロン２４０、バイロン２４５、バイロン２８０、バイロン２９６、バイロン５３０、バイロン５６０、バイロン６００、バイロナールＭＤ１１００、バイロナールＭＤ１２００、バイロナールＭＤ１２４５、バイロナールＭＤ１４００、バイロナールＧＸ−Ｗ２７、ユニチカ（株）製 商品名 エリーテルＵＥ−３３００、エリーテルＵＥ−３３２０、エリーテルＵＥ−３３５０、エリーテルＵＥ−３３７０、エリーテルＵＥ−３３８０等を使用することができる。 Specifically, the polyester-based resin is manufactured by Toyobo Co., Ltd. Trade names: Byron 200, Byron 220, Byron 240, Byron 245, Byron 280, Byron 296, Byron 530, Byron 560, Byron 600, Byronal MD1100, Byronal MD1200. , Bayronal MD1245, Bayronal MD1400, Baylonal GX-W27, manufactured by Unitika Ltd., trade name Elitel UE-3300, Elitel UE-3320, Elitel UE-3350, Elitel UE-3370, Elitel UE-3380, etc. can be used. .
ポリウレタン系樹脂としては、例えば日本ポリウレタン工業（株） 商品名 ニッポラン２３０１、ニッポラン２３０４、ニッポラン３０１６、ニッポラン３０２２、ニッポラン３０２７、パールセンＵ−１０２Ａ、パールセンＵ−１０２Ｂ、パールセンＵ−２０４Ａ、パールセンＵ−２０４Ｂ、コロネートＴ、ミリオネートＭＴ、ミリオネートＭＲ、ＭＤＩバリアンツ、ニッポラン５０３３、ニッポラン５１１１、ニッポラン５１１５、ニッポラン５１２０、ニッポラン５１３８、ニッポラン５１９３、ニッポラン５１９６、ニッポラン５１９９、ニッポラン５２３０、ニッポラン５２３８、ニッポラン５９８０、ニッポラン３０２２、ニッポラン３１１０、ニッポラン３１１６、ニッポラン３１６８、ニッポラン２３０１、ニッポラン２３０４、ニッポラン３０１６、ニッポラン３１１３、ニッポラン３１２４、ニッポラン３１２６、ニッポラン３１２４、ニッポラン３１２６、ニッポラン３２１９、ニッポラン３２３０ニッポラン３００４、ミラクトランＸＮ−２００１、ミラクトランＸＮ−２００２、ミラクトランＸＮ−２００４、ミラクトランＰ３９５ＳＲＮＡＴ、ミラクトランＰ３９０ＲＳＵＰ、ミラクトランＰ４８０ＲＳＵＩ、ミラクトラン４８５ＲＳＵＩ、ミラクトランＰ４９０ＲＳＵＩ、ミラクトランＰ８９０ＲＳＵＡ、ミラクトランＰ２２ＭＲＮＡＴ、ミラクトランＰ２５ＭＲＮＡＴ、ミラクトランＰ２６ＭＲＮＡＴ、ミラクトランＰ２２ＳＲＮＡＴ、ミラクトランＰ２６ＳＲＮＡＴ、電気化学工業（株）製 商品名 ハードロックＷＸ−２０００Ｒ、ハードロックＷＸ−２０００Ｓ等を使用することができる。 Examples of polyurethane-based resins include Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. trade names Nippon Runan 2301, Nippon Run 2304, Nippon Run 3016, Nippon Run 3022, Nippon Run 3027, Pearlsen U-102A, Pearlsen U-102B, Pearlsen U-204A, Pearlsen U-204B, Coronate T, Millionate MT, Millionate MR, MDI Variants, Nippon Run 5033, Japan Run 5111, Japan Run 5115, Japan Run 5120, Japan Run 5138, Japan Run 5193, Japan Run 5196, Japan Run 5199, Japan Run 5230, Japan Run 5pos. , Nippon Run 3116, Japan Run 3168, Japan Run 2301, Japan Run 23 04, Nippon Run 3016, Nippon Run 3113, Nippon Run 3124, Nippon Run 3126, Nippon Run 3124, Nippon Run 3126, Nippon Run 3219, Nippon Run 3230 Nippon Run 3004, Milactolan XN-2001, Milactolan XN-2002, Milactolan XN-2004, Milactolan P3 S P480RSUI, milactolan 485RSUI, milactolan P490RSUI, milactolan P890RSUA, milactolan P22MRNAT, milactolan P25MRNAT, milactolan P26MRNAT, milactolan P22SRNAT, milactolan P26SRNAT, product name Hard Rock WX-2000R KW-2000S or the like can be used.
アクリル系樹脂としては、例えば、ダイセル化成品（株）製 商品名 セビアンＡ４５０００、セビアンＡ４５６１０、セビアンＡ４６７７７、セビアンＡ４６３５、三菱レイヨン（株）製 商品名 ダイヤナールＢＲ−８０、ダイヤナールＢＲ−８３、ダイヤナールＢＲ−８５、ダイヤナールＢＲ−８７、ナールＢＲ−８８、ダイヤナールＢＲ−１０１、ダイヤナールＢＲ−１０２、ダイヤナールＢＲ−１０５、ダイヤナールＢＲ−１０６等を使用することができる。 Examples of the acrylic resin include Daicel Chemicals, Inc., trade names: Sebian A45000, Sebian A45610, Sebian A46777, Sebian A4635, Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade names: Dianal BR-80, Dianal BR-83, Dia Narnal BR-85, Dialnal BR-87, Naral BR-88, Dialnal BR-101, Dialnal BR-102, Dialnal BR-105, Dialnal BR-106, and the like can be used.
エポキシ系樹脂としては、例えば、三菱化学（株） 商品名 ８２７、８２８、８２８ＥＬ、８２８ＸＡ、８３４、８０１Ｎ、８０１ＰＮ、８０２、８１１、８１３、８１６Ａ、８１６Ｃ、８１９、１００１、１００２、１００３、１０５５、１００４、１００４ＡＦ、１００７、１０９、１０１０、１００３Ｆ、１００４Ｆ、１００５Ｆ、００９Ｆ、１００４ＦＳ、１００６ＦＳ、１００７ＦＳ、８３４Ｘ９０、１００１Ｂ８０、１００１Ｘ７０、１００１Ｔ７５、８０６、８０７、４００５Ｐ、４００７Ｐ、４０１０Ｐ、１２５６、４２５０、４２７５、１２５５ＨＸ３０、ＹＸ８１００ＢＨ３０、ＹＸ６９５４ＢＨ３０、５０４６Ｂ８０、５０５０Ｔ６０、５０５０、５０５１、１５２、１５４、１５７Ｓ７０、１０３１Ｓ、１０３２Ｈ６０、６０４、６３０、８７１、８７２、８７２Ｘ７５、１６８Ｖ７０、１９１Ｐ、ＹＸ３１０、５４５、ＹＬ６８１０、ＹＸ８０００、ＹＸ８０３４、ＹＸ８８００、ＹＬ９８０、ＹＬ９８３Ｕ、ＹＸ４０００、ＹＸ４０００Ｈ、ＹＬ６１２１Ｈ、ＹＸ７３９９等を使用することができる。 Examples of the epoxy resin include Mitsubishi Chemical Corporation trade names 827, 828, 828EL, 828XA, 834, 801N, 801PN, 802, 811, 813, 816A, 816C, 819, 1001, 1002, 1003, 1055, 1004. , 1004AF, 1007, 109, 1010, 1003F, 1004F, 1005F, 009F, 1004FS, 1006FS, 1007FS, 834X90, 1001B80, 1001X70, 1001T75, 806, 807, 4005P, 4007P, 4010P, 1256, 4250, 4275, 1255H100H, 3055X100H YX6954BH30, 5046B80, 5050T60, 5050, 5051, 152, 154, 157S70, 1031S, 1032H 60, 604, 630, 871, 872, 872X75, 168V70, 191P, YX310, 545, YL6810, YX8000, YX8034, YX8800, YL980, YL983U, YX4000, YX4000H, YL6121H, YX7399, etc. can be used.
ポリビニルアルコール系樹脂は、例えば、日本合成化学工業（株） 商品名 ゴーセノールＮＨ−２６、ゴーセノールＮＨ−２０、ゴーセノールＮＨ−１８、ゴーセノールＮ−３００、ゴーセノールＮＭ−１４、ゴーセノールＮＭ−１１、ゴーセノールＮＬ−０５、ゴーセノールＡＨ−２６、ゴーセノールＡＨ−１７、ゴーセノールＡ−３００ゴーセノールＣ−５００、ゴーセノールＰ−６１０、ゴーセノールＡＬ−０６Ｒ、ゴーセノールＧＨ−２３、ゴーセノール、ＧＨ−２０、ゴーセノールＧＨ−１７、ゴーセノールＧＭ−１４、ゴーセノールＧＭ−１４Ｌ、ゴーセノールＧＬ−０５、ゴーセノールＧＬ−０３、ゴーセノールＫＨ−２０、ゴーセノールＫＨ−１７、ゴーセノールＫＬ−０５、ゴーセノールＫＬ−０３、ゴーセノールＫＰ−０８Ｒ、ゴーセノールＮＫ−０５Ｒ、ゴーセファイマーＺ−１００、ゴーセファイマーＺ−２００、ゴーセファイマーＺ−２０５、ゴーセファイマーＺ−２１０、ゴーセファイマーＺ−２２０、ゴーセファイマーＺ−３００、ゴーセファイマーＺ−３２０、ゴーセファイマーＺ−４１０、ゴーセファイマーＯＫＳ３５４０等を使用することができる。 Polyvinyl alcohol resins are, for example, Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. trade names Gohsenol NH-26, Gohsenol NH-20, Gohsenol NH-18, Gohsenol N-300, Gohsenol NM-14, Gohsenol NM-11, Gohsenol NL- 05, GOHSENOL AH-26, GOHSENOL AH-17, GOHSENOL A-300 GOHSENOL C-500, GOHSENOL P-610, GOHSENOL AL-06R, GOHSENOL GH-23, GOHSENOL, GH-20, GOHSENOL GH-17, GOHSENOL GM- 14, GOHSENOL GM-14L, GOHSENOL GL-05, GOHSENOL GL-03, GOHSENOL KH-20, GOHSENOL KH-17, GOHSENOL KL-05, GOHSENOL KL-03, GOHSENOL KP- 08R, Gohsenol NK-05R, Gohsefamer Z-100, Gohsefaimer Z-200, Gohsefaimer Z-205, Gohsefamer Z-210, Gohsefaimer Z-220, Gohsefamer Z-300, Go Cephemer Z-320, Gohsephimer Z-410, Gohsephimer OKS3540, and the like can be used.
ポリビニルブチラール系樹脂としては、例えば、（株）クラレ製 商品名 Ｍｏｗｉｔａｌ・ＬＰＢ１６Ｂ、ＭｏｗｉｔａｌＢ２０Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ３０Ｔ、Ｍｏｗｉｔａｌ３０Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ３０ＨＨ、Ｍｏｗｉｔａｌ４５Ｍ、Ｍｏｗｉｔａｌ４５Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ６０Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ６０Ｔ、Ｍｏｗｉｔａｌ６０ＨＨ、Ｍｏｗｉｔａｌ７０ＨＨ、Ｍｏｗｉｔａｌ７５Ｈ、積水化学工業（株） 商品名 エスレックＢＬ−１、エスレックＢＬ−１Ｈ、ＢＬ−２、ＢＬ−２Ｈ、エスレックＢＬ−５、エスレックＢＬ−１０、エスレックＢＬ−Ｓ、エスレックＢＭ−１、エスレックＢＭ−２、エスレックＢＭ−５、エスレックＢＭ−Ｓ、エスレックＢＨ−３、エスレックＢＨ−６、エスレックＢＨ−Ｓ、エスレックＢＸ−１、エスレックＢＸ−Ｌ、エスレックＢＸ−３、エスレックＢＸ−５、エスレックＫＳ−１、エスレックＫＳ−３、エスレックＫＳ−５、エスレックＫＳ−１０等を使用することができる。 Examples of the polyvinyl butyral resin include trade names Mowital / LPB16B, Mowital B20H, Mowital 30T, Mowital 30H, Mowital 30H, Mowital 45M, Mowital 45H, Mowital 60H, Mowital 60H, Mowital 60H, Mowital 60H, and Mowital 60H ESREC BL-1, ESREC BL-1H, BL-2, BL-2H, ESREC BL-5, ESREC BL-10, ESREC BL-S, ESREC BM-1, ESREC BM-2, ESREC BM-5, ESREC BM -S, ESREC BH-3, ESREC BH-6, ESREC BH-S, ESREC BX-1, ESLE Click BX-L, S-LEC BX-3, S-LEC BX-5, S-LEC KS-1, S-LEC KS-3, S-LEC KS-5, can be used LEC KS-10 or the like.
酢酸ビニル樹脂としては、例えば、電気化学工業（株） 商品名 サクノールＳＮ−０４、サクノールＳＮ−０４Ｓ、サクノールＳＮ−０４Ｄ、サクノールＳＮ−０９Ａ、サクノールＳＮ−０９Ｔ、サクノールＳＮ−１０、サクノールＳＮ−１０Ｎ、サクノールＳＮ−１７Ａ、ＡＳＲ ＣＨ−０９、ＡＳＲ ＣＬ−１３、クラリアントポリマー（株）製 商品名 モビニールＤＣ、ダイセル化成品（株）製 商品名 セビアンＡ５３０、セビアンＡ７００、セビアンＡ７０７、セビアンＡ７１０、セビアンＡ７１２、セビアンＡ８００等を使用することができる。 Examples of the vinyl acetate resin include Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade names: Sacnol SN-04, Sacnol SN-04S, Sacnol SN-04D, Sacnol SN-09A, Sacnol SN-09T, Sacnol SN-10, Sacnol SN-10N , Sacnol SN-17A, ASR CH-09, ASR CL-13, manufactured by Clariant Polymer Co., Ltd. Trade name Mobile DC, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Product names Sebian A530, Sebian A700, Sebian A707, Sevian A710, Sebian A712 Sebian A800 or the like can be used.
エチレン−酢酸ビニル系樹脂としては、例えば、三井・デュポン・ポリケミカル（株）製 商品名 エバフレックス４５Ｘ、エバフレックス４０、エバフレックス１５０、エバフレックス２１０、エバフレックス２２０、エバフレックス２５０、エバフレックス２６０、エバフレックス３１０、エバフレックス３６０、エバフレックス４１０、エバフレックス４２０、エバフレックス４５０、エバフレックス４６０、エバフレックス５５０、エバフレックス５６０、クラリアントポリマー（株）製 商品名 モビニール０８１Ｆ、住友化学工業（株）製 商品名 エバテートＤ３０２２、Ｄ３０１２、Ｄ４０３２、ＣＶ８０３０、ヒロダイン工業（株）製 商品名 ヒロダイン１８００−５、ヒロダイン１８００−６、ヒロダイン１８００−８、ヒロダイン３７０６、ヒロダイン４３０９、コニシ（株）製 商品名 ＣＺ２５０、ＣＶ３１０５、ＳＰ３０５５、ＣＶ６１０５、ＳＰ７、ＳＰ９５、ＳＰ２００、ＳＰ２１０Ｎ、ＳＰ２２０Ｎ、ＳＰ１９５、ＳＰ２９５、ＳＰ２８５０Ｎ、ＣＺ２２０、ＣＺ２５０、日本合成化学工業（株）製 商品名 モビニール０８１Ｆ、モビニール０８２、モビニール１０９Ｅ、モビニール１７２Ｅ、モビニール１８０Ｅ、モビニール１８５ＥＫ、モビニール２０６、モビニール４１２、モビニール４９０、モビニール５０６、モビニール５０７、モビニール６５０、モビニール７６０Ｈ、モビニール７６１ＨＧ、モビニール７６３、モビニール９８７Ｂ、モビニール１４１０、モビニール７９８０、モビニールＤＣ、モビニールＤＣ０２、モビニールＤＳ５、モビニールＳ−７１等を使用することができる。
Examples of the ethylene-vinyl acetate resin include trade names EVAFLEX 45X,
光硬化性樹脂としては、２官能アクリレートまたは２官能メタクリレートと、３官能以上の多官能アクリレートまたは３官能以上の多官能メタクリレートとからなる材料を用いることができる。 As the photocurable resin, a material composed of a bifunctional acrylate or a bifunctional methacrylate and a trifunctional or higher polyfunctional acrylate or a trifunctional or higher polyfunctional methacrylate can be used.
２官能アクリレートまたは２官能メタクリレートとしては、骨格に、下記式（１）で表されるジメチルメチレン（Ａ）を持つものを使用することができる。
２官能アクリレートまたは２官能メタクリレートは、ビスフェノールＡ型またはビスフェノールＦ型の骨格を持つものを使用することができる。 As the bifunctional acrylate or bifunctional methacrylate, those having a bisphenol A type or bisphenol F type skeleton can be used.
骨格にジメチルメチレンをもつものとして、例えば、共栄社化学（株）製 商品名 ライトエステルＴＢ、ライトアクリレートＨＰＰ−Ａ、ライトアクリレートＢＡ−１０４、ライトアクリレートＮＰ−Ａ、日本化薬（株）製 商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ・ＦＭ−４００、ＫＡＹＡＲＡＤ・ＮＰＧＤＡ、ＫＡＹＡＲＡＤ・ＨＸ−２２０、ＫＡＹＡＲＡＤ・ＨＸ−６２０、ＫＡＹＡＲＡＤ・Ｒ−６０４、新中村化学工業（株）製 商品名 ＮＫエステルＮＰＧ、ＮＫエステルＢＰＥ−８０Ｎ、東亜合成（株） 商品名 アロニックスＭ２１１Ｂ等を使用することができる。 Examples of those having dimethylmethylene in the skeleton include, for example, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. trade name: Light Ester TB, Light Acrylate HPP-A, Light Acrylate BA-104, Light Acrylate NP-A, Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD · FM-400, KAYARAD · NPGDA, KAYARAD · HX-220, KAYARAD · HX-620, KAYARAD · R-604, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Product name NK ester NPG, NK ester BPE-80N, Toa Gosei (Trade name) Aronix M211B etc. can be used.
ビスフェノールＡ型またはビスフェノールＦ型の骨格をもつものとして、例えば、日本化薬（株） 商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ・Ｒ−７１２、ＫＡＹＡＲＡＤ・Ｒ５５１、共栄社化学（株） 商品名 ライトエステルＢＰ−２ＥＭＫ、ライトエステルＢＰ−４ＥＭ、ライトエステルＢＰ−６ＥＭ、ライトアクリレートＢＰ−４ＥＡ、ライトアクリレートＢＰ−４ＰＡ、ライトアクリレートＢＰ−１０ＥＡ、東亜合成（株） 商品名 アロニックスＭ−２０８、アロニックスＭ２１１Ｂ、新中村化学工業（株） 商品名 ＮＫエステルＡＢＥ−３００、ＮＫエステルＡ−Ｂ１２０６ＰＥ、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−１０、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−２０、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−３０、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−４、ＮＫエステルＡ−ＢＰＰ−３、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＮＫエステルＢＰＥ−２００、ＮＫエステルＢＰＥ−５００、ＮＫエステルＢＰＥ−９００、ＮＫエステルＢＰＥ−１３００Ｎ等を使用することができる。 Examples of those having a bisphenol A type or bisphenol F type skeleton include, for example, Nippon Kayaku Co., Ltd., trade names KAYARAD / R-712, KAYARAD / R551, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade names Light Ester BP-2EMK, Light Ester BP -4EM, Light Ester BP-6EM, Light Acrylate BP-4EA, Light Acrylate BP-4PA, Light Acrylate BP-10EA, Toa Gosei Co., Ltd. Product Name Aronix M-208, Aronix M211B, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Name NK Ester ABE-300, NK Ester A-B1206PE, NK Ester A-BPE-10, NK Ester A-BPE-20, NK Ester A-BPE-30, NK Ester A-BPE-4, NK Ester A-BPP -3, N K ester BPE-100, NK ester BPE-200, NK ester BPE-500, NK ester BPE-900, NK ester BPE-1300N, etc. can be used.
３官能以上の多官能アクリレートまたはメタクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ペンタエリスリトールポリアクリレート、及びジペンタエリスリトールポリアクリレート等が挙げられる。また、これら３官能以上の紫外線硬化化合物は複数のものを組み合わせて使用しても良いし、混合物であっても良い。 Examples of the trifunctional or higher polyfunctional acrylate or methacrylate include pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, and dipentaerythritol tetramethacrylate. Examples include acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, pentaerythritol polyacrylate, and dipentaerythritol polyacrylate. These trifunctional or higher functional ultraviolet curable compounds may be used in combination of a plurality of them, or may be a mixture.
中でも、エリスリトール基を複数もつものとして、例えば、日本化薬（株） 商品名 ＫＡＹＡＲＡＤ・ＤＰＨＡ、ＫＡＹＡＲＡＤ・ＤＰＥＡ−１２、ＫＡＹＡＲＡＤ・ＤＰＨＡ−２Ｃ、ＫＡＹＡＲＡＤ・Ｄ−３１０、ＫＡＹＡＲＡＤ・ＤＰＣＡ−２０、ＫＡＹＡＲＡＤ・ＤＰＣＡ−３０、ＫＡＹＡＲＡＤ・ＤＰＣＡ−６０、ＫＡＹＡＲＡＤ・ＤＰＣＡ−１２０、ＫＡＹＡＲＡＤ・ＤＮ−００７５、新中村化学工業（株） 商品名 ＮＫエステルＡ−９５５０、ＮＫエステルＡ−９５３０、ＮＫエステルＡ−ＤＰＨ、ＮＫエステルＴＭＰＴ、ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３Ｌ、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭＴ、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭＴ、ＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ、ＮＫエステルＡＤ−ＴＭＰ、ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ、共栄社化学（株） 商品名 ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、ライトアクリレートＰＥ−４Ａ、ライトアクリレートＰＥ−３Ａ、ウレタンアクリレートＵＡ−３０６Ｈ、ウレタンアクリレートＵＡ−３０６Ｔ、ウレタンアクリレートＵＡ−３０６Ｉ、ウレタンアクリレートＵＡ−５１０Ｈ、東亜合成（株） 商品名 アロニックスＭ−３０６、アロニックスＭ−３０５、アロニックスＭ−３０９、アロニックスＭ−３１０、アロニックスＭ−３１５、アロニックスＭ−３２０、アロニックスＭ−３２５、アロニックスＭ−３３０、アロニックスＭ−４００、アロニックスＭ−４１５、アロニックスＭ−４５０、アロニックスＭ−４０８、アロニックスＭ４０３、アロニックスＭ−４００、アロニックスＭ−４０２、アロニックスＭ４０４、アロニックスＭ４０６、アロニックスＭ４０５、等を使用することができる。 Among them, as those having a plurality of erythritol groups, for example, Nippon Kayaku Co., Ltd. trade names KAYARAD / DPHA, KAYARAD / DPEA-12, KAYARAD / DPHA-2C, KAYARAD / D-310, KAYARAD / DPCA-20, KAYARAD / DPCA-30, KAYARAD / DPCA-60, KAYARAD / DPCA-120, KAYARAD / DN-0075, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Trade name NK ester A-9550, NK ester A-9530, NK ester A-DPH, NK Ester TMPT, NK Ester A-TMPT, NK Ester A-TMM-3, NK Ester A-TMM-3L, NK Ester A-TMM-3LM-N, NK Ester A-TMMT, NK Ester A-TMMT, NK Este ATM-35E, NK ester AD-TMP, NK ester A-TMPT, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Trade name Light acrylate DPE-6A, Light acrylate PE-4A, Light acrylate PE-3A, Urethane acrylate UA-306H, Urethane acrylate UA -306T, urethane acrylate UA-306I, urethane acrylate UA-510H, Toa Gosei Co., Ltd. Trade name Aronix M-306, Aronix M-305, Aronix M-309, Aronix M-310, Aronix M-315, Aronix M- 320, Aronix M-325, Aronix M-330, Aronix M-400, Aronix M-415, Aronix M-450, Aronix M-408, Aronix M403, Allo Box M-400, Aronix M-402, Aronix M404, Aronix M406, can be used Aronix M405, and the like.
光硬化性樹脂には光重合開始剤を混合することができる。 A photopolymerization initiator can be mixed with the photocurable resin.
光重合開始剤として、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、チオキサントン類、アゾ化合物類、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾインアルキルエーテル、ベンジルジメチルケタール、及びテトラメチルチウラムモノサルファイド等を挙げることができる。具体的には、例えば、ＢＡＳＦ（株）製 商品名 イルガキュア６５１、イルガキュア１８４、ダロキュア１１７３、イルガキュア５００、イルガキュア１０００、イルガキュア１３００、イルガキュア２９５９、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア１７００、イルガキュア１８００、イルガキュア１８５０、イルガキュア８１９、イルガキュア７８４、東京化成工業（株）製 商品名 Ａ００６１、Ａ１０２８、Ｂ００５０、Ｂ０２２１、Ｂ３６３３、Ｂ００７９、Ｂ０２２２、Ｂ１０１９、Ｂ１０１５、Ｂ０９４２、Ｂ０８６９、Ｂ００８３、Ｂ０１０３、Ｂ１１６４、Ｂ１２６７、Ｂ２３８０、Ｂ２３８１、Ｂ１２２５、Ｂ０１３９、Ｂ１２７５、Ｂ０４８１、Ｃ００１４、Ｃ０１３６、Ｃ１１５０、Ｃ１４８５、Ｃ０２９２、Ｄ１８０１、Ｄ１６２１、Ｄ１６４０、Ｄ２３７５、Ｄ１７０２、Ｄ２９６３、Ｄ２２４８、Ｄ２２３８、Ｄ２２５３、Ｄ３３５８、Ｅ００６３、Ｆ００２１、Ｆ０３６２、Ｈ０６１７、Ｈ０９９１、Ｐ０２１１、Ｉ０５９１、Ｉ０６７８、Ｍ１２４５、Ｍ２１４０、Ｍ０７９２、Ｂ１２３１、Ｍ１２０９、Ｍ２０２８、Ｎ０５２８、Ｐ１４１０、Ｐ１３７７、Ｂ０４８６、Ｔ０１５７、Ｔ１１８８、Ｔ１６０８、Ｔ２０４１、Ｔ２０４２等を使用することができる。 Examples of the photopolymerization initiator include benzophenones, acetophenones, benzoins, thioxanthones, azo compounds, Michler's ketone, benzyl, benzoin alkyl ether, benzyl dimethyl ketal, and tetramethyl thiuram monosulfide. Specifically, for example, trade names Irgacure 651, Irgacure 184, Darocur 1173, Irgacure 500, Irgacure 1000, Irgacure 1300, Irgacure 2959, Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 1800, Irgacure 1850, manufactured by BASF Corp. Irgacure 819, Irgacure 784, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Trade names A0061, A1028, B0050, B0221, B3633, B0079, B0222, B1019, B1015, B0942, B0869, B0083, B0103, B1164, B1267, B2380, B2381, B1225 , B0139, B1275, B0481, C0014, C0136, C1150, C1485, 0292, D1801, D1621, D1640, D2375, D1702, D2963, D2248, D2238, D2253, D3358, E0063, F0021, F0362, H0617, H0991, P0211, I0591, I0678, M1245, M2140, M0792, B1231, 2028, M1231, 2028 N0528, P1410, P1377, B0486, T0157, T1188, T1608, T2041, T2042, and the like can be used.
熱可塑性樹脂と光硬化性樹脂の配合比率は、２０：８０〜８０：２０の割合で配合することができる。媒体に転写後の保護層の柔軟性を更に向上させたい場合は熱可塑性樹脂の配合比率を上げていくことが好ましく、媒体に転写後の保護層の堅牢性を更に向上させたい場合は光硬化性樹脂の配合比率を上げていくことが好ましい。 The blending ratio of the thermoplastic resin and the photocurable resin can be blended at a ratio of 20:80 to 80:20. In order to further improve the flexibility of the protective layer after transfer to the medium, it is preferable to increase the blending ratio of the thermoplastic resin, and to further improve the robustness of the protective layer after transfer to the medium, photocuring It is preferable to increase the blending ratio of the functional resin.
光硬化性樹脂の中でも更に、２官能アクリレートまたは２官能メタクリレートと、３官能以上の多官能アクリレートまたは多官能メタクリレートとの配合比率を９７：３〜５０：５０の割合で配合することができる。媒体に転写後の保護層の柔軟性を更に向上させたい場合は２官能アクリレートまたは２官能メタクリレートの配合比率を上げていくことが好ましく、媒体に転写後の保護層の堅牢性を更に向上させたい場合は３官能以上の多官能アクリレートまたは多官能メタクリレートの配合比率を上げていくことが好ましい。 Among the photocurable resins, the blending ratio of the bifunctional acrylate or bifunctional methacrylate to the trifunctional or higher polyfunctional acrylate or polyfunctional methacrylate can be blended at a ratio of 97: 3 to 50:50. In order to further improve the flexibility of the protective layer after transfer to the medium, it is preferable to increase the blending ratio of the bifunctional acrylate or bifunctional methacrylate, and to further improve the robustness of the protective layer after transfer to the medium In such a case, it is preferable to increase the blending ratio of the polyfunctional acrylate or polyfunctional methacrylate having three or more functions.
２官能アクリレートまたは２官能メタクリレートの材料としては、２官能アクリレートまたは２官能メタクリレートであればその特性を有するが、更に向上させたい場合は、骨格にジメチルメチレンを持つ材料、且つ又は、ビスフェノールＡ型またはＦ型の骨格を持つ材料を使用する方が好ましい。 The bifunctional acrylate or bifunctional methacrylate material has the characteristics of the bifunctional acrylate or bifunctional methacrylate, but if further improvement is desired, a material having dimethylmethylene in the skeleton and / or bisphenol A type or It is preferable to use a material having an F-type skeleton.
３官能以上の多官能アクリレートまたはメタクリレートとしては、３官能以上の多官能アクリレートまたはメタクリレートであればその特性を有するが、更に向上させたい場合は、エリスリトール基を複数持つ材料を使用する方が好ましい。更には、ペンタエリスリトールを骨格に持つ材料を使用する方が更に好ましい。 The trifunctional or higher polyfunctional acrylate or methacrylate has the characteristics as long as it is a trifunctional or higher polyfunctional acrylate or methacrylate, but it is preferable to use a material having a plurality of erythritol groups for further improvement. Furthermore, it is more preferable to use a material having pentaerythritol as a skeleton.
転写型保護層の膜厚は、転写させる媒体の厚さや材質により種種異なるが、好ましくは０．１μｍから５０μｍが好ましい。転写箔を巻き物で保存しておく場合などは硬化済み光硬化樹脂にクラックなどのひび割れが生じやすいことから、又、熱転写時に発生するバリの抑制の観点から薄い方が好ましく堅牢性を保持する為には厚い方が好ましいことから、３μｍ〜３０μｍが好ましい。 The thickness of the transfer type protective layer varies depending on the thickness and material of the medium to be transferred, but is preferably 0.1 μm to 50 μm. When storing the transfer foil in a roll, the cured photocured resin is susceptible to cracks such as cracks, and from the standpoint of suppressing burrs that occur during thermal transfer, it is preferable to maintain the robustness. The thickness is preferably 3 to 30 μm because it is preferably thicker.
転写型保護層では、支持体と保護層の間に剥離層を設けることができる。 In the transfer type protective layer, a release layer can be provided between the support and the protective layer.
支持体と保護層の間に剥離層を設けることにより、保護層が剥離層からはがれやすくなる。 By providing a release layer between the support and the protective layer, the protective layer is easily peeled off from the release layer.
剥離層の膜厚は、０．１μｍから３０μｍが好ましい。 The thickness of the release layer is preferably 0.1 μm to 30 μm.
剥離層に用いる樹脂としては、支持体との接着力が適度に調節されていることが望ましい。接着力が過度に大きいと、熱接着後の剥離時に支持体から光硬化樹脂をカード表面に転写できなくなる。また、接着力が過度に小さいと、支持体剥離後にカード端面にバリが発生するという問題点が発生する。 As resin used for a peeling layer, it is desirable that the adhesive force with a support body is adjusted moderately. If the adhesive force is excessively large, the photo-curing resin cannot be transferred from the support to the card surface during peeling after thermal bonding. Further, if the adhesive force is excessively small, there is a problem that burrs are generated on the card end face after the support is peeled off.
接着力の調整は、保護層を剥離するのに適した樹脂と保護層を接着する樹脂の混合比率を調整することなどにより、行うことができる。 The adjustment of the adhesive force can be performed by adjusting the mixing ratio of the resin suitable for peeling off the protective layer and the resin for bonding the protective layer.
剥離層樹脂に適した適度な接着力を持つ樹脂としては、ポリビニルアルコール樹脂、ワックス樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂及びこれらの各樹脂の混合物等が用いられる。または離型層付きの支持体を用いても良い。 Examples of resins having appropriate adhesive strength suitable for the release layer resin include polyvinyl alcohol resin, wax resin, vinyl acetate resin, polyvinyl butyral resin, vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, silicone resin, polyester resin, and each of these resins. Or the like. Alternatively, a support with a release layer may be used.
ワックス樹脂としては、例えば、日本精蝋（株）製 商品名 Ｈｉ−Ｍｉｃ−２０６５、Ｈｉ−Ｍｉｃ−１０４５、Ｈｉ−Ｍｉｃ−２０４５、ＰＡＬＶＡＸ−１２３０、ＰＡＬＶＡＸ−１３３０、ＰＡＬＶＡＸ−１３３５、ＰＡＬＶＡＸ−１４３０、ＢＯＮＴＥＸ−００１１、ＢＯＮＴＥＸ−０１００、ＢＯＮＴＥＸ−２２６６等を使用することができる。 As the wax resin, for example, trade names Hi-Mic-2065, Hi-Mic-1045, Hi-Mic-2045, PALVAX-1230, PALVAX-1330, PALVAX-1335, PALVAX-1430, manufactured by Nippon Seiwa Co., Ltd. BONTEX-0011, BONTEX-0100, BONTEX-2266, etc. can be used.
酢酸ビニル樹脂としては、例えば、電気化学工業（株） 商品名 サクノールＳＮ−０４、サクノールＳＮ−０４Ｓ、サクノールＳＮ−０４Ｄ、サクノールＳＮ−０９Ａ、サクノールＳＮ−０９Ｔ、サクノールＳＮ−１０、サクノールＳＮ−１０Ｎ、サクノールＳＮ−１７Ａ、ＡＳＲ ＣＨ−０９、ＡＳＲ ＣＬ−１３、クラリアントポリマー（株）製 商品名 モビニールＤＣ、ダイセル化成品（株）製 商品名 セビアンＡ５３０、セビアンＡ７００、セビアンＡ７０７、セビアンＡ７１０、セビアンＡ７１２、セビアンＡ８００等を使用することができる。 Examples of the vinyl acetate resin include Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade names: Sacnol SN-04, Sacnol SN-04S, Sacnol SN-04D, Sacnol SN-09A, Sacnol SN-09T, Sacnol SN-10, Sacnol SN-10N , Sacnol SN-17A, ASR CH-09, ASR CL-13, manufactured by Clariant Polymer Co., Ltd. Trade name Mobile DC, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Product names Sebian A530, Sebian A700, Sebian A707, Sevian A710, Sebian A712 Sebian A800 or the like can be used.
ポリビニルブチラール系樹脂としては、例えば、（株）クラレ製 商品名 Ｍｏｗｉｔａｌ・ＬＰＢ１６Ｂ、ＭｏｗｉｔａｌＢ２０Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ３０Ｔ、Ｍｏｗｉｔａｌ３０Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ３０ＨＨ、Ｍｏｗｉｔａｌ４５Ｍ、Ｍｏｗｉｔａｌ４５Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ６０Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ６０Ｔ、Ｍｏｗｉｔａｌ６０ＨＨ、Ｍｏｗｉｔａｌ７０ＨＨ、Ｍｏｗｉｔａｌ７５Ｈ、積水化学工業（株） 商品名 エスレックＢＬ−１、エスレックＢＬ−１Ｈ、ＢＬ−２、ＢＬ−２Ｈ、エスレックＢＬ−５、エスレックＢＬ−１０、エスレックＢＬ−Ｓ、エスレックＢＭ−１、エスレックＢＭ−２、エスレックＢＭ−５、エスレックＢＭ−Ｓ、エスレックＢＨ−３、エスレックＢＨ−６、エスレックＢＨ−Ｓ、エスレックＢＸ−１、エスレックＢＸ−Ｌ、エスレックＢＸ−３、エスレックＢＸ−５、エスレックＫＳ−１、エスレックＫＳ−３、エスレックＫＳ−５、エスレックＫＳ−１０等を使用することができる。 Examples of the polyvinyl butyral resin include trade names Mowital / LPB16B, Mowital B20H, Mowital 30T, Mowital 30H, Mowital 30H, Mowital 45M, Mowital 45H, Mowital 60H, Mowital 60H, Mowital 60H, Mowital 60H, and Mowital 60H ESREC BL-1, ESREC BL-1H, BL-2, BL-2H, ESREC BL-5, ESREC BL-10, ESREC BL-S, ESREC BM-1, ESREC BM-2, ESREC BM-5, ESREC BM -S, ESREC BH-3, ESREC BH-6, ESREC BH-S, ESREC BX-1, ESLE Click BX-L, S-LEC BX-3, S-LEC BX-5, S-LEC KS-1, S-LEC KS-3, S-LEC KS-5, can be used LEC KS-10 or the like.
エチレン−酢酸ビニル系樹脂としては、例えば、三井・デュポン・ポリケミカル（株）製エバフレックス４５Ｘ、エバフレックス４０、エバフレックス１５０、エバフレックス２１０、エバフレックス２２０、エバフレックス２５０、エバフレックス２６０、エバフレックス３１０、エバフレックス３６０、エバフレックス４１０、エバフレックス４２０、エバフレックス４５０、エバフレックス４６０、エバフレックス５５０、エバフレックス５６０、クラリアントポリマー（株）製モビニール 商品名 ０８１Ｆ、住友化学工業（株）製 商品名 エバテートＤ３０２２、Ｄ３０１２、Ｄ４０３２、ＣＶ８０３０、ヒロダイン工業（株）製 商品名 ヒロダイン１８００−５、ヒロダイン１８００−６、ヒロダイン１８００−８、ヒロダイン３７０６、ヒロダイン４３０９、コニシ（株）製 商品名 ＣＺ２５０、ＣＶ３１０５、ＳＰ３０５５、ＣＶ６１０５、ＳＰ７、ＳＰ９５、ＳＰ２００、ＳＰ２１０Ｎ、ＳＰ２２０Ｎ、ＳＰ１９５、ＳＰ２９５、ＳＰ２８５０Ｎ、ＣＺ２２０、ＣＺ２５０、日本合成化学工業（株）製 商品名 モビニール０８１Ｆ、モビニール０８２、モビニール１０９Ｅ、モビニール１７２Ｅ、モビニール１８０Ｅ、モビニール１８５ＥＫ、モビニール２０６、モビニール４１２、モビニール４９０、モビニール５０６、モビニール５０７、モビニール６５０、モビニール７６０Ｈ、モビニール７６１ＨＧ、モビニール７６３、モビニール９８７Ｂ、モビニール１４１０、モビニール７９８０、モビニールＤＣ、モビニールＤＣ０２、モビニールＤＳ５、モビニールＳ−７１等を使用することができる。
Examples of the ethylene-vinyl acetate resin include, for example, Evaflex 45X,
アクリル樹脂としては、例えば、ダイセル化成品（株）製 商品名 セビアンＡ４５０００、セビアンＡ４５６１０、セビアンＡ４６７７７、セビアンＡ４６３５、三菱レイヨン（株）製 商品名 ダイヤナールＢＲ−８０、ダイヤナールＢＲ−８３、ダイヤナールＢＲ−８５、ダイヤナールＢＲ−８７、ナールＢＲ−８８、ダイヤナールＢＲ−１０１、ダイヤナールＢＲ−１０２、ダイヤナールＢＲ−１０５、ダイヤナールＢＲ−１０６等を使用することができる。 Examples of the acrylic resin include Daicel Chemicals, Inc., trade names: Sebian A45000, Sebian A45610, Sebian A46777, Sebian A4635, Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade names: Dianal BR-80, Dianal BR-83, and Dianal. BR-85, dialnal BR-87, naal BR-88, dialnal BR-101, dialnal BR-102, dialnal BR-105, dialnal BR-106, and the like can be used.
シリコーン樹脂としては、例えば、東芝シリコーン（株）製 商品名 トスガード５１０等を使用することができる。 As the silicone resin, for example, Tosgard 510 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd. can be used.
ポリエステル樹脂としては、例えば、東洋紡績（株）製 商品名 バイロン２００、バイロン２２０、バイロン２４０、バイロン２４５、バイロン２８０、バイロン２９６、バイロン５３０、バイロン５６０、バイロン６００、バイロナールＭＤ１１００、バイロナールＭＤ１２００、バイロナールＭＤ１２４５、バイロナールＭＤ１４００、バイロナールＧＸ−Ｗ２７、ユニチカ（株）製 商品名 エリーテルＵＥ−３３００、エリーテルＵＥ−３３２０、エリーテルＵＥ−３３５０、エリーテルＵＥ−３３７０、エリーテルＵＥ−３３８０等を使用することができる。 Examples of the polyester resin include Toyobo Co., Ltd. trade names: Byron 200, Byron 220, Byron 240, Byron 245, Byron 280, Byron 296, Byron 530, Byron 560, Byron 600, Byronal MD1100, Byronal MD1200, Byronal MD1245. Vylonal MD1400, Bironal GX-W27, Unitika Co., Ltd. product name Elitel UE-3300, Elitel UE-3320, Elitel UE-3350, Elitel UE-3370, Elitel UE-3380, etc. can be used.
ポリビニルアルコール樹脂としては、例えば、日本合成化学工業（株） 商品名 ゴーセノールＮＨ−２６、ゴーセノールＮＨ−２０、ゴーセノールＮＨ−１８、ゴーセノールＮ−３００、ゴーセノールＮＭ−１４、ゴーセノールＮＭ−１１、ゴーセノールＮＬ−０５、ゴーセノールＡＨ−２６、ゴーセノールＡＨ−１７、ゴーセノールＡ−３００ゴーセノールＣ−５００、ゴーセノールＰ−６１０、ゴーセノールＡＬ−０６Ｒ、ゴーセノールＧＨ−２３、ゴーセノール、ＧＨ−２０、ゴーセノールＧＨ−１７、ゴーセノールＧＭ−１４、ゴーセノールＧＭ−１４Ｌ、ゴーセノールＧＬ−０５、ゴーセノールＧＬ−０３、ゴーセノールＫＨ−２０、ゴーセノールＫＨ−１７、ゴーセノールＫＬ−０５、ゴーセノールＫＬ−０３、ゴーセノールＫＰ−０８Ｒ、ゴーセノールＮＫ−０５Ｒ、ゴーセファイマーＺ−１００、ゴーセファイマーＺ−２００、ゴーセファイマーＺ−２０５、ゴーセファイマーＺ−２１０、ゴーセファイマーＺ−２２０、ゴーセファイマーＺ−３００、ゴーセファイマーＺ−３２０、ゴーセファイマーＺ−４１０、ゴーセファイマーＯＫＳ３５４０等を使用することができる。 Examples of the polyvinyl alcohol resin include Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Trade names Gohsenol NH-26, Gohsenol NH-20, Gohsenol NH-18, Gohsenol N-300, Gohsenol NM-14, Gohsenol NM-11, Gohsenol NL- 05, GOHSENOL AH-26, GOHSENOL AH-17, GOHSENOL A-300 GOHSENOL C-500, GOHSENOL P-610, GOHSENOL AL-06R, GOHSENOL GH-23, GOHSENOL, GH-20, GOHSENOL GH-17, GOHSENOL GM- 14, GOHSENOL GM-14L, GOHSENOL GL-05, GOHSENOL GL-03, GOHSENOL KH-20, GOHSENOL KH-17, GOHSENOL KL-05, GOHSENOL KL-03, GOHSENOL K P-08R, Gohsenol NK-05R, Gohsefamer Z-100, Gohsefaimer Z-200, Gohsefaimer Z-205, Gohsefamer Z-210, Gohsefaimer Z-220, Gohsefamer Z-300 , Gohsephimer Z-320, Gohsephimer Z-410, Gohsephimer OKS3540, and the like can be used.
離型層付きの支持体としては、例えば、東レフィルム加工（株） 商品名 セラピールＭＦ、セラピールＭＤ、セラピールＢＫ、セラピールＷＤ、セラピールＷＺ、セラピールＢＸ８、セラピールＢＸ９、セラピールＢＬ、セラピールＨＰ２、帝人デュポンフィルム（株） 商品名 ピューレックス＃２４、ピューレックス＃３１、ピューレックス＃３２、ピューレックス＃３３、ピューレックス＃３３Ｎ、ピューレックス＃３５、ピューレックス＃３６、ピューレックス＃４３、ピューレックス＃５０、ピューレックス＃７５、ピューレックス＃７８、ピューレックス＃５４、ピューレックス＃５５、ピューレックス＃７０、ピューレックス＃７１、ピューレックス＃７２、ピューレックス＃５２、ピューレックス＃５３、ピューレックス＃ＮＲ１、ピューレックス＃ＡＮ１５、パナック（株） 商品名 ０１ＢＵ、ＴＰ−０１、ＴＰ−０２、ＳＧ−１、
リンテック（株） 商品名 コートフィルム離型剤処方の一般シリコーン離型剤０１処方、ＧＳ処方、ＧＳ−Ｈ処方、１０７０処方、ＰＳ／−２処方、Ａ処方、Ｂ処方、Ｃ処方、ＳＤ処方、ＬＴ処方、１０１０処方、１０２０処方、１０３１処方、２０１０処方、２０８０処方、２０９０処方、２１００処方、コートフィルム離型剤処方の重剥離タイプ離型剤６０４０処方、６０１０処方、Ｘ処方、ＳＫ−１処方、ＡＬ−５処方、６０５０処方、Ｔ１５７−２処方等を使用することができる。
Examples of the support with a release layer include, for example, Toray Film Processing Co., Ltd. Trade name MF, Therapy MD, Therapy BK, Therapy WD, Therapy WZ, Therapy BX8, Therapy BX9, Therapy BL, Therapy HP2, Teijin DuPont Film Co., Ltd. Product name Purex # 24,
Lintec Co., Ltd. Trade name General silicone release agent 01 formulation of coat film release agent formulation, GS formulation, GS-H formulation, 1070 formulation, PS / -2 formulation, A formulation, B formulation, C formulation, SD formulation, LT prescription, 1010 prescription, 1020 prescription, 1031 prescription, 2010 prescription, 2080 prescription, 2090 prescription, 2100 prescription, heavy film release agent 6040 prescription, 6010 prescription, X prescription, SK-1 prescription , AL-5 prescription, 6050 prescription, T157-2 prescription and the like can be used.
実施形態にかかる転写型保護層では、保護層の上にさらに接着層を設けることができる。 In the transfer type protective layer according to the embodiment, an adhesive layer can be further provided on the protective layer.
接着層の膜厚は、０．１μｍから３０μｍが好ましい。 The film thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 μm to 30 μm.
さらに好ましくは０．５ないし１０μｍである。 More preferably, it is 0.5 to 10 μm.
接着層に用いる樹脂としては、個人認証媒体との十分な接着力があるものが選択される。 As the resin used for the adhesive layer, a resin having sufficient adhesive strength with the personal authentication medium is selected.
接着層の材料としては、ポリビニルアルコール樹脂、ワックス樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂及びこれらの各樹脂の混合物等が用いられる。 Examples of the material for the adhesive layer include polyvinyl alcohol resin, wax resin, vinyl acetate resin, polyvinyl butyral resin, vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, silicone resin, polyester resin, and a mixture of these resins.
ワックス樹脂は、具体的には、日本精蝋（株）製 商品名 Ｈｉ−Ｍｉｃ−２０６５、Ｈｉ−Ｍｉｃ−１０４５、Ｈｉ−Ｍｉｃ−２０４５、ＰＡＬＶＡＸ−１２３０、ＰＡＬＶＡＸ−１３３０、ＰＡＬＶＡＸ−１３３５、ＰＡＬＶＡＸ−１４３０、ＢＯＮＴＥＸ−００１１、ＢＯＮＴＥＸ−０１００、ＢＯＮＴＥＸ−２２６６等を使用することができる。 Specific examples of the wax resin include trade names Hi-Mic-2065, Hi-Mic-1045, Hi-Mic-2045, PALVAX-1230, PALVAX-1330, PALVAX-1335, and PALVAX- manufactured by Nippon Seiwa Co., Ltd. 1430, BONTEX-0011, BONTEX-0100, BONTEX-2266, etc. can be used.
酢酸ビニル樹脂としては、例えば、電気化学工業（株） 商品名 サクノールＳＮ−０４、サクノールＳＮ−０４Ｓ、サクノールＳＮ−０４Ｄ、サクノールＳＮ−０９Ａ、サクノールＳＮ−０９Ｔ、サクノールＳＮ−１０、サクノールＳＮ−１０Ｎ、サクノールＳＮ−１７Ａ、ＡＳＲ ＣＨ−０９、ＡＳＲ ＣＬ−１３、クラリアントポリマー（株）製 商品名 モビニールＤＣ、ダイセル化成品（株）製 商品名 セビアンＡ５３０、セビアンＡ７００、セビアンＡ７０７、セビアンＡ７１０、セビアンＡ７１２、セビアンＡ８００、等を使用することができる。 Examples of the vinyl acetate resin include Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade names: Sacnol SN-04, Sacnol SN-04S, Sacnol SN-04D, Sacnol SN-09A, Sacnol SN-09T, Sacnol SN-10, Sacnol SN-10N , Sacnol SN-17A, ASR CH-09, ASR CL-13, manufactured by Clariant Polymer Co., Ltd. Trade name Mobile DC, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Product names Sebian A530, Sebian A700, Sebian A707, Sevian A710, Sebian A712 Sebian A800, etc. can be used.
ポリビニルブチラール系樹脂としては、例えば、（株）クラレ製 商品名 Ｍｏｗｉｔａｌ・ＬＰＢ１６Ｂ、ＭｏｗｉｔａｌＢ２０Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ３０Ｔ、Ｍｏｗｉｔａｌ３０Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ３０ＨＨ、Ｍｏｗｉｔａｌ４５Ｍ、Ｍｏｗｉｔａｌ４５Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ６０Ｈ、Ｍｏｗｉｔａｌ６０Ｔ、Ｍｏｗｉｔａｌ６０ＨＨ、Ｍｏｗｉｔａｌ７０ＨＨ、Ｍｏｗｉｔａｌ７５Ｈ、積水化学工業（株） 商品名 エスレックＢＬ−１、エスレックＢＬ−１Ｈ、ＢＬ−２、ＢＬ−２Ｈ、エスレックＢＬ−５、エスレックＢＬ−１０、エスレックＢＬ−Ｓ、エスレックＢＭ−１、エスレックＢＭ−２、エスレックＢＭ−５、エスレックＢＭ−Ｓ、エスレックＢＨ−３、エスレックＢＨ−６、エスレックＢＨ−Ｓ、エスレックＢＸ−１、エスレックＢＸ−Ｌ、エスレックＢＸ−３、エスレックＢＸ−５、エスレックＫＳ−１、エスレックＫＳ−３、エスレックＫＳ−５、エスレックＫＳ−１０等を使用することができる。
Examples of the polyvinyl butyral resin include trade names Mowital / LPB16B, Mowital B20H, Mowital 30T, Mowital 30H, Mowital 30H, Mowital 45M, Mowital 45H, Mowital 60H, Mowital 60H, Mowital 60H, Mowital 60H, and Mowital 60H ESREC BL-1, ESREC BL-1H, BL-2, BL-2H, ESREC BL-5, ESREC BL-10, ESREC BL-S, ESREC BM-1, ESREC BM-2, ESREC BM-5, ESREC BM -S, ESREC BH-3, ESREC BH-6, ESREC BH-S, ESREC BX-1, ESREC BX-L, ESREC BX-3, ESREC BX-5, ESREC KS-1, ESREC KS-3, ESREC KS-5, ESREC KS-10, etc. can be used.
エチレン−酢酸ビニル系樹脂としては、例えば、三井・デュポン・ポリケミカル（株）製 商品名 エバフレックス４５Ｘ、エバフレックス４０、エバフレックス１５０、エバフレックス２１０、エバフレックス２２０、エバフレックス２５０、エバフレックス２６０、エバフレックス３１０、エバフレックス３６０、エバフレックス４１０、エバフレックス４２０、エバフレックス４５０、エバフレックス４６０、エバフレックス５５０、エバフレックス５６０、クラリアントポリマー（株）製 商品名 モビニール０８１Ｆ、住友化学工業（株）製 商品名 エバテートＤ３０２２、Ｄ３０１２、Ｄ４０３２、ＣＶ８０３０、ヒロダイン工業（株）製 商品名 ヒロダイン１８００−５、ヒロダイン１８００−６、ヒロダイン１８００−８、ヒロダイン３７０６、ヒロダイン４３０９、コニシ（株）製 商品名 ＣＺ２５０、ＣＶ３１０５、ＳＰ３０５５、ＣＶ６１０５、ＳＰ７、ＳＰ９５、ＳＰ２００、ＳＰ２１０Ｎ、ＳＰ２２０Ｎ、ＳＰ１９５、ＳＰ２９５、ＳＰ２８５０Ｎ、ＣＺ２２０、ＣＺ２５０、日本合成化学工業（株）製 商品名 モビニール０８１Ｆ、モビニール０８２、モビニール１０９Ｅ、モビニール１７２Ｅ、モビニール１８０Ｅ、モビニール１８５ＥＫ、モビニール２０６、モビニール４１２、モビニール４９０、モビニール５０６、モビニール５０７、モビニール６５０、モビニール７６０Ｈ、モビニール７６１ＨＧ、モビニール７６３、モビニール９８７Ｂ、モビニール１４１０、モビニール７９８０、モビニールＤＣ、モビニールＤＣ０２、モビニールＤＳ５、モビニールＳ−７１等を使用することができる。
Examples of the ethylene-vinyl acetate resin include trade names EVAFLEX 45X,
アクリル樹脂は、例えば、ダイセル化成品（株）製 商品名 セビアンＡ４５０００、セビアンＡ４５６１０、セビアンＡ４６７７７、セビアンＡ４６３５、三菱レイヨン（株）製 商品名 ダイヤナールＢＲ−８０、ダイヤナールＢＲ−８３、ダイヤナールＢＲ−８５、ダイヤナールＢＲ−８７、ナールＢＲ−８８、ダイヤナールＢＲ−１０１、ダイヤナールＢＲ−１０２、ダイヤナールＢＲ−１０５、ダイヤナールＢＲ−１０６等を使用することができる。 Acrylic resins are, for example, Daicel Chemicals, Inc., trade names: Sebian A45000, Sebian A45610, Sebian A46777, Sebian A4635, Mitsubishi Rayon Co., Ltd., trade names: Dianal BR-80, Dianal BR-83, and Dianal BR. -85, dialnal BR-87, naal BR-88, dialnal BR-101, dialnal BR-102, dialnal BR-105, dialnal BR-106, etc. can be used.
シリコーン樹脂は、例えば、東芝シリコーン（株）製トスガード５１０等を使用することができる。 As the silicone resin, for example, Tosguard 510 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd. can be used.
ポリエステル樹脂は、例えば、東洋紡績（株）製バイロン２００、バイロン２２０、バイロン２４０、バイロン２４５、バイロン２８０、バイロン２９６、バイロン５３０、バイロン５６０、バイロン６００、バイロナールＭＤ１１００、バイロナールＭＤ１２００、バイロナールＭＤ１２４５、バイロナールＭＤ１４００、バイロナールＧＸ−Ｗ２７、ユニチカ（株）製エリーテルＵＥ−３３００、エリーテルＵＥ−３３２０、エリーテルＵＥ−３３５０、エリーテルＵＥ−３３７０、エリーテルＵＥ−３３８０等を使用することができる。 Polyester resins are, for example, Byron 200, Byron 220, Byron 240, Byron 245, Byron 280, Byron 296, Byron 530, Byron 560, Byron 600, Byronal MD1100, Byronal MD1200, Byronal MD1245, Byronal MD1400, manufactured by Toyobo Co., Ltd. Vylonal GX-W27, Unitika Co., Ltd. Elitel UE-3300, Elitel UE-3320, Elitel UE-3350, Elitel UE-3370, Elitel UE-3380, etc. can be used.
ポリビニルアルコール樹脂は、例えば、日本合成化学工業（株） 商品名 ゴーセノールＮＨ−２６、ゴーセノールＮＨ−２０、ゴーセノールＮＨ−１８、ゴーセノールＮ−３００、ゴーセノールＮＭ−１４、ゴーセノールＮＭ−１１、ゴーセノールＮＬ−０５、ゴーセノールＡＨ−２６、ゴーセノールＡＨ−１７、ゴーセノールＡ−３００ゴーセノールＣ−５００、ゴーセノールＰ−６１０、ゴーセノールＡＬ−０６Ｒ、ゴーセノールＧＨ−２３、ゴーセノール、ＧＨ−２０、ゴーセノールＧＨ−１７、ゴーセノールＧＭ−１４、ゴーセノールＧＭ−１４Ｌ、ゴーセノールＧＬ−０５、ゴーセノールＧＬ−０３、ゴーセノールＫＨ−２０、ゴーセノールＫＨ−１７、ゴーセノールＫＬ−０５、ゴーセノールＫＬ−０３、ゴーセノールＫＰ−０８Ｒ、ゴーセノールＮＫ−０５Ｒ、ゴーセファイマーＺ−１００、ゴーセファイマーＺ−２００、ゴーセファイマーＺ−２０５、ゴーセファイマーＺ−２１０、ゴーセファイマーＺ−２２０、ゴーセファイマーＺ−３００、ゴーセファイマーＺ−３２０、ゴーセファイマーＺ−４１０、ゴーセファイマーＯＫＳ３５４０等を使用することができる。 Polyvinyl alcohol resin is, for example, Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. trade name GOHSENOL NH-26, GOHSENOL NH-20, GOHSENOL NH-18, GOHSENOL N-300, GOHSENOL NM-14, GOHSENOL NM-11, GOHSENOL NL-05 , GOHSENOL AH-26, GOHSENOL AH-17, GOHSENOL A-300 GOHSENOL C-500, GOHSENOL P-610, GOHSENOL AL-06R, GOHSENOL GH-23, GOHSENOL, GH-20, GOHSENOL GH-17, GOHSENOL GM-14 , GOHSENOL GM-14L, GOHSENOL GL-05, GOHSENOL GL-03, GOHSENOL KH-20, GOHSENOL KH-17, GOHSENOL KL-05, GOHSENOL KL-03, GOHSENOL KP-0 8R, Gohsenol NK-05R, Gohsephimer Z-100, Gohsephimer Z-200, Gohsefaimer Z-205, Gohsefaimer Z-210, Gohsefaimer Z-220, Gohsefamer Z-300, Go Cephemer Z-320, Gohsephimer Z-410, Gohsephimer OKS3540, and the like can be used.
転写型保護層の作成方法としては、上記各層の材料を塗料化し、支持体上にグラビアコート、リバースコート、ダイコート、ワイヤーバーコート、ホットメルトコート、バーコート等により、順次塗布・乾燥する方法等が挙げられる。 As a method for creating a transfer type protective layer, the material of each of the above layers is made into a paint, and is applied and dried sequentially by gravure coating, reverse coating, die coating, wire bar coating, hot melt coating, bar coating, etc. Is mentioned.
光反応開始剤を励起させる為に使用する紫外線ランプとしては、水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプが好適であるが紫外線等の高エネルギー光線を発するものであれば、これに限定されるものではないが反応開始剤を励起するに適した波長の紫外線を発する光源が好ましい。 As the ultraviolet lamp used to excite the photoinitiator, a mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, and a metal halide lamp are suitable, but are not limited to this as long as they emit high-energy rays such as ultraviolet rays. A light source that emits ultraviolet light having a wavelength suitable for exciting the reaction initiator is preferred.
個人認証媒体としては、プラスチック製または紙製のＩＤカードまたはＩＣ内蔵型カード、又は、証券、株券、金券などのプラスチック製または紙製の媒体が好ましい。 The personal authentication medium is preferably a plastic or paper ID card or IC built-in card, or a plastic or paper medium such as securities, stock certificates, or cash vouchers.
実施形態にかかる転写型保護層を媒体に形成する方法としては、転写型保護層と媒体を重ね、ヒートローラ、プラテンローラ、シャフトにより転写型保護層と媒体を送りながら、転写型保護層の支持体面からヒートローラによって加熱及び加圧することにより、プラテンローラ上に位置する媒体の表面に転写型保護層を転写させることができる。簡便な方式としては、転写型保護層と媒体を重ねアイロン等加熱器具を用いて加熱及び加圧することにより、媒体の表面に転写型保護層を転写させることができる。 As a method of forming the transfer type protective layer according to the embodiment on the medium, the transfer type protective layer and the medium are stacked, and the transfer type protective layer and the medium are fed by a heat roller, a platen roller, and a shaft, and the transfer type protective layer is supported. The transfer type protective layer can be transferred onto the surface of the medium located on the platen roller by heating and pressing from the body surface with the heat roller. As a simple method, the transfer type protective layer can be transferred onto the surface of the medium by heating and pressurizing the transfer type protective layer and the medium using a heating tool such as an iron.
個人認証媒体に記録されるセキュリティ情報あるいは個人情報等のオンデマンド情報は、染料熱拡散記録技術、熱溶融転写記録技術、熱現像銀塩写真記録技術、電子写真記録技術、インクジェット記録技術、及びドットインパクト記録技術等の記録技術を用いて記録することができる。簡便性及びセキュリティ性、階調性、解像度等の画質の点から、染料熱拡散記録技術、インクジェット記録技術を用いることが好ましい。 Security information recorded on personal authentication media or on-demand information such as personal information includes dye thermal diffusion recording technology, thermal melt transfer recording technology, heat development silver salt photographic recording technology, electrophotographic recording technology, ink jet recording technology, and dots Recording can be performed using a recording technique such as an impact recording technique. From the standpoint of image quality such as simplicity, security, gradation, and resolution, it is preferable to use dye thermal diffusion recording technology and inkjet recording technology.
画像受容層の材料としては、例えば、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアセタール樹脂等の熱可塑性樹脂を設けることができる。また、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアセタール樹脂等の熱可塑性樹脂にイソシアネート化合物等を添加し架橋させても良く、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアセタール樹脂等の熱可塑性樹脂にシリコーン等の離型剤を添加させても良い。 As a material for the image receiving layer, for example, a thermoplastic resin such as a vinyl chloride resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl butyral resin, or a polyacetal resin can be provided. In addition, an isocyanate compound or the like may be added to a thermoplastic resin such as a vinyl chloride resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl butyral resin, or a polyacetal resin to crosslink, and a vinyl chloride resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl butyral resin, A release agent such as silicone may be added to a thermoplastic resin such as a polyacetal resin.
実施例
以下実施例を示し、実施形態をより具体的に説明する。
Example An example will be shown below to describe the embodiment more specifically.
実施例１
剥離層の形成
厚さ２５μｍのポリエステルフィルムの片面に次に示す組成の樹脂液を厚さ1μmになるようにワイヤーバーコート法で塗布し、その後乾燥して剥離層を形成した。
Example 1
Formation of Release Layer A resin liquid having the following composition was applied to one side of a 25 μm thick polyester film by a wire bar coating method so as to have a thickness of 1 μm, and then dried to form a release layer.
剥離層樹脂液組成
純水・・・77重量部
商品型番：NL-05（日本合成化学）・・・９重量部
商品型番：MD1200（東洋紡）・・・4重量部
保護層の形成
剥離層上に次に示す組成の保護層塗布液を厚さ１０μｍになるようにワイヤーバーコート法で塗布し、乾燥して保護層を形成した。その後、保護層上からＵＶ照射機を用いてピーク照度４５（ｍＷ／ｃｍ２），積算光量３２１（ｍＪ／ｃｍ２）のＵＶ照射を実施し、保護層をＵＶ硬化させた。
Release layer resin liquid composition pure water ... 77 parts by weight Product model number: NL-05 (Nippon Synthetic Chemical) ... 9 parts by weight Product model number: MD1200 (Toyobo) ... 4 parts by weight Formation of protective layer On release layer A protective layer coating solution having the following composition was applied by a wire bar coating method to a thickness of 10 μm and dried to form a protective layer. Thereafter, UV irradiation with a peak illuminance of 45 (mW / cm 2 ) and an integrated light quantity of 321 (mJ / cm 2 ) was performed from above the protective layer using a UV irradiator, and the protective layer was UV cured.
保護層塗布液組成
メチルエチルケトン・・・６７重量部
商品型名：BR-83（三菱レイヨン）・・・25.4重量部
商品型名：FM-400（日本化薬）・・・3.2重量部
商品型名：M-400（東亜合成）・・・3.2重量部
商品型名：イルガキュア６５１(長瀬産業)・・・1.3重量部
接着層の形成
保護層上に次に示す組成の接着層塗布液を厚さ3μmになるようにワイヤーバーコート法で塗布しその後乾燥して接着層を形成した。
Protective layer coating liquid composition Methyl ethyl ketone ... 67 parts by weight Product type name: BR-83 (Mitsubishi Rayon) ... 25.4 parts by weight Product type name: FM-400 (Nippon Kayaku) ... 3.2 parts by weight : M-400 (Toagosei) ... 3.2 parts by weight Product type name: Irgacure 651 (Nagase Sangyo) ... 1.3 parts by weight Formation of adhesive layer The thickness of the adhesive layer coating solution of the following composition on the protective layer It apply | coated by the wire bar coating method so that it might become 3 micrometers, and it dried after that, and formed the contact bonding layer.
接着層塗布液組成
純水・・・８５重量部
商品名：ET-325(日本東亜合成)・・・15重量部
商品名：KMP-701(信越化学工業)・・・0.05重量部
画像受容層形成
厚さが50μmの白色ポリエステルフィルム（東レKK製,商品型番：E20）の片面に次の組成の画像受容層塗布液を塗布し、120℃で30分間、加熱・乾燥して、画像受容層を形成した。
Adhesive layer coating composition pure water ... 85 parts by weight Product name: ET-325 (Nippon Toagosei) ... 15 parts by weight Product name: KMP-701 (Shin-Etsu Chemical) ... 0.05 parts by weight Image receiving layer Formation An image-receiving layer coating solution having the following composition is applied to one side of a 50 μm thick white polyester film (product number: E20, manufactured by Toray KK), heated and dried at 120 ° C. for 30 minutes, and image-receiving layer Formed.
画像受容層塗布液組成
メチルエチルケトン・・・30重量部
トルエン・・・30重量部
商品型番：UR-1400（東洋紡）・・・30重量部
商品型番：TSF4700（東芝シリコーン）・・・0.2重量部
商品型番：コロネート2513（日本ポリウレタン）・・・１重量部
ＵＶ硬化インク部形成
画像受容層の上にオフセット印刷にてＵＶ硬化型インクのロゴマーク・枠線を印刷した。
Image Receptive Layer Coating Solution Composition:
ＩＤカード製造装置内の工程
図８に示すようなＩＤカード製造装置を用いて、上記で説明したカードに画像・個別情報を印刷し、ＵＶカット層と保護層を転写する工程を行った。
Process in ID Card Manufacturing Apparatus Using an ID card manufacturing apparatus as shown in FIG. 8, the process of printing the image / individual information on the card described above and transferring the UV cut layer and the protective layer was performed.
（Ａ）ＵＶ硬化インクでの印刷までが完了したカードを印刷機に取り込む。 (A) A card that has been completely printed with UV curable ink is taken into a printing machine.
（Ｂ）カード上に溶融印刷にて個別情報を印刷し、昇華印刷にて画像を印刷する。 (B) Individual information is printed on the card by melt printing, and an image is printed by sublimation printing.
（Ｃ）画像を印刷した昇華印刷部上にＵＶカット層を転写する。 (C) The UV cut layer is transferred onto the sublimation printing part on which the image is printed.
（Ｄ）カード表面全体に保護層を転写する。 (D) Transfer the protective layer to the entire card surface.
（Ｅ）印刷機外へ完成カードを排出する。 (E) The completed card is discharged out of the printing press.
得られたＩＤカードは図６と同様の構成を有する。 The obtained ID card has the same configuration as in FIG.
上記（Ｄ）の工程で転写型リボンの接着層側がカード表面と当接するように、カードに転写型保護層リボンを重ねる。そしてヒートローラ、プラテンローラ、シャフトにより転写リボンとカードを送りながら、転写型保護層リボンの支持体側からヒートローラーによって圧力９ｋｇ重／ｍ２，転写速度２８ｍｍ／ｓで加熱及び加圧することにより、プラテンローラ上に位置するカード表面に紫外線硬化保護膜を転写させる。 In the step (D), the transfer type protective layer ribbon is stacked on the card so that the adhesive layer side of the transfer type ribbon contacts the card surface. Then, while feeding the transfer ribbon and the card by the heat roller, the platen roller, and the shaft, the platen plate is heated and pressurized at a pressure of 9 kgf / m 2 and a transfer speed of 28 mm / s from the support side of the transfer type protective layer ribbon by the heat roller. An ultraviolet curing protective film is transferred to the card surface located on the roller.
その際のヒートローラの温度はカード表面温度が８５℃，１００℃，１１５℃の３段階になるように設定し各温度での転写を実施した。 The temperature of the heat roller at that time was set so that the card surface temperature was in three stages of 85 ° C., 100 ° C., and 115 ° C., and transfer was performed at each temperature.
各種転写温度別の転写温度の示す特徴を以下に示す。 The characteristics of the transfer temperature for each transfer temperature are shown below.
（１）８５℃：機器負担も少なく、従来製品で既に実現されている温度。 (1) 85 ° C .: Temperature that is already realized with conventional products with less equipment burden.
（２）１００℃：機器への負担が大きく、ローラーなどの消耗品劣化が激しくなる温度
（３）１１５℃：機器・カード共の負担が大きく、一部のカードには溶け・反りが頻発に発生する温度
得られたＩＤカードについて、接着性試験及び熱保存特性試験を行った。
(2) 100 ° C: The temperature at which equipment is heavily loaded and the consumables such as rollers are severely deteriorated. (3) 115 ° C: Both the device and card are heavily loaded, and some cards frequently melt and warp. Generated temperature The obtained ID card was subjected to an adhesion test and a heat storage characteristic test.
接着性試験
３０ｍｍ×６０ｍｍの大きさのテープをＩＤカードに貼付し、９０°剥離の条件で剥離を行い、保護層の剥がれの有無を調べた。また、媒体をマンドレル径６ｍｍの塗膜屈曲試験機を用いて折り曲げる試験を実施し、保護層のクラック、ひび割れの有無を調べた。
Adhesive test A tape having a size of 30 mm × 60 mm was applied to an ID card, and the tape was peeled off at a 90 ° peeling condition to examine whether the protective layer was peeled off. Moreover, the test which bends a medium using the coating-film bending tester with a mandrel diameter of 6 mm was implemented, and the presence or absence of the crack of a protective layer and a crack was investigated.
テープ剥離や屈曲試験などにおいて、保護層の剥がれが一切みられない状態を○、テープ剥離や屈曲試験などのどれかにおいて保護層の剥がれが一部に確認された状態を△、テープ剥離や屈曲試験などのすべてにおいて剥離層の剥がれが一部に確認される、もしくは転写自体が全く不可の状態を×と評価した。 In the tape peeling or bending test, the state where no peeling of the protective layer is observed is ○, in the tape peeling or bending test, the state where the peeling of the protective layer is partially confirmed is Δ, the tape peeling or bending In all the tests and the like, the state where peeling of the release layer was confirmed in part or the transfer itself was completely impossible was evaluated as x.
熱保存試験
ＩＤカードを５０℃で８５時間保存した後、ＩＤカード表面に変化が見られず、またブロッキングが発生していない状態を○、ＩＤカード表面が変化する、もしくはブロッキングが発生してしまった状態を×と評価した。
Thermal storage test After storing the ID card at 50 ° C for 85 hours, no change is seen on the surface of the ID card, and no blocking occurs, the surface of the ID card changes, or blocking occurs. The state was evaluated as x.
実施例２〜９
下記組成の接着層を用いること以外は実施例１と同様にして、各々ＩＤカードを作成した。
Examples 2-9
An ID card was prepared in the same manner as in Example 1 except that an adhesive layer having the following composition was used.
使用されるＫＭＰは、各々粒径の違う微粒子であり、ＫＭＰ−７０１：平均粒径３．５μｍ，ＫＭＰ−５９０：平均粒径２．０μｍ，ＫＭＰ−６０１：平均粒径：１２μｍのシリコーン微粒子である。 The KMPs used are fine particles having different particle sizes, and KMP-701: silicone fine particles having an average particle size of 3.5 μm, KMP-590: average particle size of 2.0 μm, KMP-601: average particle size: 12 μm. is there.
実施例-1 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-701(信越化学)：0.05
実施例-2 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-701(信越化学)：0.5
実施例-3 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-701(信越化学)：5
実施例-4 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-590(信越化学)：0.05
実施例-5 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-590(信越化学)：0.5
実施例-6 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-590(信越化学)：5
実施例-7 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-601(信越化学)：0.05
実施例-8 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-601 (信越化学)：0.5
実施例-9 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-601 (信越化学)：5
実施例-10 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-701 (信越化学)：15
実施例-11 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-590(信越化学)：15
実施例-12 純水：85,ET-325(東亜合成)：15,KMP-601 (信越化学)：15
得られたＩＤカードについて、接着性試験及び熱保存特性試験を行った。
Example-1 Pure water: 85, ET-325 (Toagosei): 15, KMP-701 (Shin-Etsu Chemical): 0.05
Example-2 Pure water: 85, ET-325 (Toagosei): 15, KMP-701 (Shin-Etsu Chemical): 0.5
Example-3 Pure water: 85, ET-325 (Toagosei): 15, KMP-701 (Shin-Etsu Chemical): 5
Example-4 Pure water: 85, ET-325 (Toagosei): 15, KMP-590 (Shin-Etsu Chemical): 0.05
Example-5 Pure water: 85, ET-325 (Toa Gosei): 15, KMP-590 (Shin-Etsu Chemical): 0.5
Example-6 Pure water: 85, ET-325 (Toa Gosei): 15, KMP-590 (Shin-Etsu Chemical): 5
Example-7 Pure water: 85, ET-325 (Toagosei): 15, KMP-601 (Shin-Etsu Chemical): 0.05
Example-8 Pure water: 85, ET-325 (Toagosei): 15, KMP-601 (Shin-Etsu Chemical): 0.5
Example-9 Pure water: 85, ET-325 (Toagosei): 15, KMP-601 (Shin-Etsu Chemical): 5
Example-10 Pure water: 85, ET-325 (Toagosei): 15, KMP-701 (Shin-Etsu Chemical): 15
Example-11 Pure water: 85, ET-325 (Toagosei): 15, KMP-590 (Shin-Etsu Chemical): 15
Example-12 Pure water: 85, ET-325 (Toagosei): 15, KMP-601 (Shin-Etsu Chemical): 15
The obtained ID card was subjected to an adhesion test and a heat storage characteristic test.
比較例１ないし３
下記組成の接着層を用いること以外は実施例１と同様にしてＩＤカードを作成した。
Comparative Examples 1 to 3
An ID card was prepared in the same manner as in Example 1 except that an adhesive layer having the following composition was used.
比較例-1 純水：[85],ET-325(Tg：27℃)：[15]
比較例-2 純水：[85],ET-410(Tg：44℃)：[15]
比較例-3 純水：[85],ET-613(Tg：67℃)：[15]
得られたＩＤカードについて、実施例１と同様に接着性試験及び熱保存特性試験を行った。
Comparative Example-2 Pure water: [85], ET-410 (Tg: 44 ° C): [15]
Comparative Example-3 Pure water: [85], ET-613 (Tg: 67 ° C): [15]
The obtained ID card was subjected to an adhesion test and a heat storage characteristic test in the same manner as in Example 1.
上記の実施例・比較例の結果から、ポリアクリル酸エステル共重合体にて低い温度で十分な接着性を得るにはＴｇが少なくとも４３℃以下のものを使用することが好ましく、また５０℃８５時間保存性能試験をクリアするには最低でも微粒子の粒径２．０〜１２μｍのものをポリアクリル酸エステル共重合体に０．１％から３０％程度混入させることが好ましい。微粒子を３０％以上混入させてしまうと接着性が低下する傾向がある。よって接着性と保存性を両立させる条件としては少なくともＴｇ４３℃以下のポリアクリル酸エステル共重合体に粒径２〜１２μｍの微粒子を０．１〜４９％程度添加させたものを用いることが好ましいことがわかる。 From the results of the above Examples and Comparative Examples, it is preferable to use a polyacrylic acid ester copolymer having a Tg of at least 43 ° C. or less in order to obtain sufficient adhesion at a low temperature, and 50 ° C. 85 ° C. In order to clear the time storage performance test, it is preferable that at least about 0.1% to 30% of fine particles having a particle size of 2.0 to 12 μm are mixed in the polyacrylate copolymer. If more than 30% of the fine particles are mixed, the adhesiveness tends to decrease. Therefore, it is preferable to use a polyacrylic acid ester copolymer having a Tg of 43 ° C. or less to which 0.1 to 49% of fine particles having a particle size of 2 to 12 μm are added as a condition for achieving both adhesion and storage stability. I understand.
実施形態によれば、紫外線照射による個人認証媒体の劣化を防止し、紫外線照射設備の省略により製造装置を低コスト化し、保護層の接着性と熱保存特性が良好な保護層を有する個人認証媒体が得られる。 According to the embodiment, the personal authentication medium having a protective layer that prevents deterioration of the personal authentication medium due to ultraviolet irradiation, reduces the cost of the manufacturing apparatus by omitting the ultraviolet irradiation equipment, and has good adhesion and heat storage characteristics of the protective layer Is obtained.
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる
。
Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.
１…支持体、２…保護層、３…接着層、４…剥離層、５，８…基材、６…写真画像、７…文字画像、９…記録情報、１０，２０…個人認証媒体、１１，１２，１３…転写型保護層
DESCRIPTION OF
Claims (14)
前記微粒子は熱可塑性樹脂に対し０．１〜３０重量％含まれていることを特徴とする転写型保護層。 A support, a protective layer formed on the support and containing a cured photocurable resin , and an adhesive layer formed on the protective layer and containing a thermoplastic resin and fine particles,
The transfer type protective layer, wherein the fine particles are contained in an amount of 0.1 to 30% by weight with respect to the thermoplastic resin.
前記微粒子は熱可塑性樹脂に対し０．１〜３０重量％含まれていることを特徴とする転写型保護層の製造方法。 Applying and drying a protective layer coating solution containing a photocurable resin on the support to form a protective layer coating layer, irradiating the protective layer coating layer with light and photocuring the protective layer coating layer for protection A step of forming a layer, a step of forming an adhesive layer containing a thermoplastic resin and fine particles on the protective layer,
The method for producing a transfer type protective layer, wherein the fine particles are contained in an amount of 0.1 to 30% by weight based on the thermoplastic resin.
該基材上に形成された画像部、
該画像部が形成された基材表面に設けられた、熱可塑性樹脂と微粒子を含有する接着層と、
該接着層上に設けられ、光硬化性樹脂を含み、該接着剤層上に設けられる前に予め光硬化された保護層とを具備し、
前記微粒子は熱可塑性樹脂に対し０．１〜３０重量％含まれていることを特徴とする個人認証媒体。 Base material,
An image portion formed on the substrate;
An adhesive layer containing a thermoplastic resin and fine particles provided on the surface of the substrate on which the image portion is formed;
A protective layer that is provided on the adhesive layer, includes a photocurable resin, and is previously photocured before being provided on the adhesive layer;
The personal authentication medium, wherein the fine particles are contained in an amount of 0.1 to 30% by weight based on the thermoplastic resin.
支持体と、該支持体上に設けられ、光硬化性樹脂を含む保護層塗布液を該支持体上に塗布乾燥した後、光照射することにより硬化された保護層と、該保護層上に設けられ、熱可塑性樹脂と微粒子を含有する接着層とを含む転写型保護層を用いて、該画像部上に、該接着層を介して保護層を転写する工程を具備し、
前記微粒子は熱可塑性樹脂に対し０．１〜３０重量％含まれていることを特徴とする個人認証媒体の製造方法。 A step of forming an image portion on a substrate, and a support, and a protective layer coating solution provided on the support and containing a photocurable resin is applied and dried on the support, and then irradiated with light. A protective layer is provided on the image portion via the adhesive layer using a transfer type protective layer that is provided on the protective layer and includes a cured protective layer and an adhesive layer containing a thermoplastic resin and fine particles. A step of transferring
The method for producing a personal authentication medium, wherein the fine particles are contained in an amount of 0.1 to 30% by weight based on the thermoplastic resin.
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