JP5884532B2 - Photodiode, wavelength sensor, wavelength measuring device - Google Patents

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Description

本発明は、例えば通信システムなどに用いられるフォトダイオード、波長センサ、及び波長測定装置に関する。   The present invention relates to a photodiode, a wavelength sensor, and a wavelength measurement device used in, for example, a communication system.

特許文献１には、回折格子を有するフォトダイオードが開示されている。このフォトダイオードは、回折格子を用いてフォトダイオードへの入射光の光密度を低減させる。そして、光密度の低下した入射光が光吸収層に吸収される。   Patent Document 1 discloses a photodiode having a diffraction grating. This photodiode uses a diffraction grating to reduce the light density of light incident on the photodiode. Then, incident light having a reduced light density is absorbed by the light absorption layer.

特開平４−２６１０７２号公報JP-A-4-2611072

フォトダイオードへの入射光の光密度を低減させることは、フォトダイオードの結晶の劣化防止に有効である。また、フォトダイオードの感度を高めることも重要である。そのため、フォトダイオードへの入射光の光密度を低減しつつ、感度を高めることが要求される。   Reducing the light density of light incident on the photodiode is effective for preventing deterioration of the crystal of the photodiode. It is also important to increase the sensitivity of the photodiode. Therefore, it is required to increase the sensitivity while reducing the light density of the incident light to the photodiode.

本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、入射光の光密度を低減しつつ、感度を高めることができるフォトダイオード、波長センサ、波長測定装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and it is an object of the present invention to provide a photodiode, a wavelength sensor, and a wavelength measuring device that can increase the sensitivity while reducing the light density of incident light. And

本願の発明に係るフォトダイオードは、基板と、該基板の上に形成された受光層と、該受光層の上に形成された半導体層と、該半導体層に形成された、該半導体層に垂直に入射した入射光を回折して該受光層を導波する光とする２次の回折格子と、該受光層の端部に形成された、該受光層を導波する光を反射する反射膜と、該基板と該受光層の間に形成された多重反射層と、該多重反射層と該受光層の間に形成された、回折格子を有する層と、を備えたことを特徴とする。 The photodiode according to the invention of the present application includes a substrate, a light receiving layer formed on the substrate, a semiconductor layer formed on the light receiving layer, and a perpendicular to the semiconductor layer formed on the semiconductor layer. A second-order diffraction grating that diffracts incident light incident on the light to make the light guided through the light-receiving layer, and a reflective film that is formed at the end of the light-receiving layer and reflects the light guided through the light-receiving layer And a multiple reflection layer formed between the substrate and the light receiving layer, and a layer having a diffraction grating formed between the multiple reflection layer and the light receiving layer .

本願の発明に係る波長センサは、上述のフォトダイオードを備える。   The wavelength sensor according to the invention of the present application includes the photodiode described above.

本願の発明に係る波長測定装置は、上述のフォトダイオードを備える。   A wavelength measuring device according to the invention of the present application includes the photodiode described above.

本発明によれば、フォトダイオードへの入射光の光密度を低減しつつ、感度を高めることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a sensitivity can be raised, reducing the optical density of the incident light to a photodiode.

本発明の実施の形態１に係るフォトダイオードの平面図である。1 is a plan view of a photodiode according to a first embodiment of the present invention. 図１のＩＩ−ＩＩ破線における断面図である。It is sectional drawing in the II-II broken line of FIG. 本発明の実施の形態１に係るフォトダイオード１０の動作を示す断面図である。It is sectional drawing which shows operation | movement of the photodiode 10 which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態２に係るフォトダイオードの平面図である。It is a top view of the photodiode which concerns on Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態３に係るフォトダイオードの断面図である。It is sectional drawing of the photodiode which concerns on Embodiment 3 of this invention. 図５のフォトダイオードの平面図である。FIG. 6 is a plan view of the photodiode of FIG. 5. 本発明の実施の形態４に係るフォトダイオードの断面図である。It is sectional drawing of the photodiode which concerns on Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態５に係る波長センサのブロック図である。It is a block diagram of the wavelength sensor which concerns on Embodiment 5 of this invention. 比較例の波長センサを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the wavelength sensor of a comparative example. 本発明の実施の形態６に係る波長測定装置のブロック図である。It is a block diagram of the wavelength measurement apparatus which concerns on Embodiment 6 of this invention. 本発明の実施の形態７に係るフォトダイオードの断面図である。It is sectional drawing of the photodiode which concerns on Embodiment 7 of this invention. 図１１のフォトダイオードの平面図である。FIG. 12 is a plan view of the photodiode of FIG. 11. 本発明の実施の形態８に係るフォトダイオードを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the photodiode which concerns on Embodiment 8 of this invention. 図１３のフォトダイオードの平面図である。FIG. 14 is a plan view of the photodiode of FIG. 13.

実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１に係るフォトダイオードの平面図である。フォトダイオード１０は、電極層１２を備えている。電極層１２は中央に開口１２ａを有している。開口１２ａには上クラッド層１４が露出している。フォトダイオード１０の一端には反射膜１６が形成され、他端には反射膜１８が形成されている。 Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a plan view of a photodiode according to Embodiment 1 of the present invention. The photodiode 10 includes an electrode layer 12. The electrode layer 12 has an opening 12a in the center. The upper cladding layer 14 is exposed in the opening 12a. A reflection film 16 is formed at one end of the photodiode 10, and a reflection film 18 is formed at the other end.

図２は、図１のＩＩ−ＩＩ破線における断面図である。フォトダイオード１０は、ＩｎＰで形成された基板３０を備えている。基板の裏面には電極層３１が形成されている。基板３０の上には、多重反射層３２が形成されている。多重反射層３２の上には下クラッド層３４が形成されている。下クラッド層３４の上には受光層３６が形成されている。受光層３６の上にはガイド層３８が形成されている。ガイド層３８には２次の回折格子３８ａが形成されている。２次の回折格子３８ａはガイド層３８に垂直に入射した入射光を回折して受光層３６を導波する光とするものである。   2 is a cross-sectional view taken along a broken line II-II in FIG. The photodiode 10 includes a substrate 30 made of InP. An electrode layer 31 is formed on the back surface of the substrate. A multiple reflection layer 32 is formed on the substrate 30. A lower cladding layer 34 is formed on the multiple reflection layer 32. A light receiving layer 36 is formed on the lower cladding layer 34. A guide layer 38 is formed on the light receiving layer 36. A second-order diffraction grating 38 a is formed on the guide layer 38. The second-order diffraction grating 38 a diffracts incident light perpendicularly incident on the guide layer 38 and guides it through the light receiving layer 36.

ガイド層３８の上には上クラッド層１４が形成されている。上クラッド層１４の上には開口１２ａを有する電極層１２が形成されている。前述の２次の回折格子３８ａは開口１２ａの直下に形成されている。受光層３６の端部に、反射膜１６、１８が形成されている。反射膜１６、１８は受光層３６を導波する光を全反射するものである。   An upper cladding layer 14 is formed on the guide layer 38. An electrode layer 12 having an opening 12 a is formed on the upper cladding layer 14. The aforementioned second-order diffraction grating 38a is formed immediately below the opening 12a. Reflective films 16 and 18 are formed at the end of the light receiving layer 36. The reflection films 16 and 18 totally reflect the light guided through the light receiving layer 36.

次いで、フォトダイオード１０の製造方法を説明する。基板３０の上に多重反射層３２、下クラッド層３４、受光層３６、及びガイド層３８を成長する。次いでガイド層３８に２次の回折格子３８ａを形成する。その後、ＩｎＰを材料とする上クラッド層１４で２次の回折格子３８ａを埋め込む。上クラッド層１４をＩｎＰで形成しない場合は、上クラッド層の上にコンタクト層を形成する。その後、電極層１２、３１及び反射膜１６、１８を形成する。   Next, a method for manufacturing the photodiode 10 will be described. A multiple reflection layer 32, a lower cladding layer 34, a light receiving layer 36, and a guide layer 38 are grown on the substrate 30. Next, a second-order diffraction grating 38 a is formed on the guide layer 38. Thereafter, the second-order diffraction grating 38a is embedded in the upper cladding layer 14 made of InP. When the upper cladding layer 14 is not formed of InP, a contact layer is formed on the upper cladding layer. Thereafter, the electrode layers 12 and 31 and the reflective films 16 and 18 are formed.

図３は、本発明の実施の形態１に係るフォトダイオード１０の動作を示す断面図である。図３における矢印は光の進む方向を示す。開口１２ａから上クラッド層１４を経由し、ガイド層３８に垂直に入射した入射光は、２次の回折格子３８ａにより回折される。回折された光は受光層３６を導波する光となる。受光層３６を導波する光は受光層３６で吸収され電子とホールをつくる。電極層１２、３１に逆バイアスをかけることで、電流を取り出す。受光層３６の端面に至った光は、反射膜１６、１８によって反射されて受光層３６に吸収される。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing the operation of the photodiode 10 according to the first embodiment of the present invention. The arrows in FIG. 3 indicate the light traveling direction. Incident light that enters the guide layer 38 perpendicularly through the upper cladding layer 14 from the opening 12a is diffracted by the secondary diffraction grating 38a. The diffracted light becomes light guided through the light receiving layer 36. The light guided through the light receiving layer 36 is absorbed by the light receiving layer 36 and creates electrons and holes. A current is taken out by applying a reverse bias to the electrode layers 12 and 31. The light reaching the end face of the light receiving layer 36 is reflected by the reflection films 16 and 18 and absorbed by the light receiving layer 36.

ところで、高い光密度の入射光が結晶（ガイド層３８、受光層３６、下クラッド層３４）へ入射すると、入射光及び電流の集中により結晶の一部が高温になり欠陥を生じる場合がある。しかしながら、本発明の実施の形態１に係るフォトダイオード１０によれば、ガイド層３８に垂直に入射した入射光が２次の回折格子３８ａによって回折される。そのため、入射光の光密度を低減し結晶に欠陥が生じることを回避できる。この効果は特に入射光が過入力の場合に有効である。   By the way, when incident light with a high light density is incident on the crystal (guide layer 38, light receiving layer 36, lower clad layer 34), a part of the crystal may become high temperature due to the concentration of the incident light and current, which may cause defects. However, according to the photodiode 10 according to the first embodiment of the present invention, the incident light perpendicularly incident on the guide layer 38 is diffracted by the second-order diffraction grating 38a. Therefore, it is possible to avoid the occurrence of defects in the crystal by reducing the light density of incident light. This effect is particularly effective when the incident light is excessively input.

さらに、入射光は２次の回折格子３８ａにより回折されて受光層３６を導波する光となるので、フォトダイオード１０の感度を高めることができる。また、反射膜１６、１８により受光層３６を導波する光を受光層３６に閉じ込めることは、感度向上に貢献する。このように、本発明の実施の形態１に係るフォトダイオード１０によれば、フォトダイオードへの入射光の光密度を低減しつつ、感度を高めることができる。   Furthermore, since the incident light is diffracted by the second-order diffraction grating 38a and becomes light guided through the light receiving layer 36, the sensitivity of the photodiode 10 can be increased. Moreover, confining the light guided through the light receiving layer 36 by the reflective films 16 and 18 in the light receiving layer 36 contributes to an improvement in sensitivity. Thus, according to the photodiode 10 according to the first embodiment of the present invention, it is possible to increase the sensitivity while reducing the light density of the incident light to the photodiode.

２次の回折格子３８ａはガイド層３８以外の層に形成してもよい。すなわち、受光層３６の上に半導体層を形成し、当該半導体層に２次の回折格子を形成すれば上述の効果を得ることができる。また、反射膜１６、１８は光を全反射するものでなくてもよい。反射膜１６、１８の反射率は、フォトダイオード１０に求められる特性を考慮して決めればよい。   The secondary diffraction grating 38 a may be formed in a layer other than the guide layer 38. That is, the above-described effects can be obtained by forming a semiconductor layer on the light receiving layer 36 and forming a secondary diffraction grating in the semiconductor layer. Further, the reflection films 16 and 18 do not have to totally reflect light. The reflectivities of the reflective films 16 and 18 may be determined in consideration of characteristics required for the photodiode 10.

必要に応じて、開口１２ａに露出した上クラッド層１４に対しＡＲコート(入射光は透過するが、フォトダイオードの外に向かう出射光は反射するコート膜)を形成してもよい。また、格子整合のために適宜バッファ層を形成してもよい。   If necessary, an AR coat (a coat film that transmits incident light but reflects outgoing light that travels outside the photodiode) may be formed on the upper cladding layer 14 exposed in the opening 12a. In addition, a buffer layer may be appropriately formed for lattice matching.

実施の形態２．
図４は、本発明の実施の形態２に係るフォトダイオードの平面図である。フォトダイオード５０の特徴は回折格子にあるので、図４では上クラッド層を透明にして回折格子が見えるようにした（以降の平面図も同様である）。以後、実施の形態１に係るフォトダイオードとの相違点を中心に説明する。フォトダイオード５０は２次の回折格子３８ａと２次の回折格子３８ａとは異なる周期で形成された追加回折格子５２を備えている。追加回折格子５２は、２次の回折格子３８ａと同様にガイド層３８に形成されている。追加回折格子５２は、特定の波長に対して２次の回折格子となるように形成されている。 Embodiment 2. FIG.
FIG. 4 is a plan view of a photodiode according to Embodiment 2 of the present invention. Since the characteristic of the photodiode 50 is the diffraction grating, in FIG. 4, the upper cladding layer is made transparent so that the diffraction grating can be seen (the same applies to the following plan views). Hereinafter, the description will focus on differences from the photodiode according to the first embodiment. The photodiode 50 includes a secondary diffraction grating 38a and an additional diffraction grating 52 formed with a period different from that of the secondary diffraction grating 38a. The additional diffraction grating 52 is formed in the guide layer 38 in the same manner as the secondary diffraction grating 38a. The additional diffraction grating 52 is formed to be a second-order diffraction grating for a specific wavelength.

本発明の実施の形態２に係るフォトダイオード５０によれば、周期の異なる２つの回折格子を形成したので、２波長の入射光に対して光密度を低減しつつ感度を高めることができる。ここでは、周期の異なる２つの回折格子を示したが、３以上の回折格子を形成してもよい。なお、本発明の実施の形態２に係るフォトダイオードは少なくとも実施の形態１と同程度の変形は可能である。   According to the photodiode 50 according to the second embodiment of the present invention, since two diffraction gratings having different periods are formed, the sensitivity can be increased while reducing the optical density with respect to incident light of two wavelengths. Although two diffraction gratings having different periods are shown here, three or more diffraction gratings may be formed. The photodiode according to the second embodiment of the present invention can be modified at least as much as in the first embodiment.

実施の形態３．
本発明の実施の形態１、２では、矩形の領域に回折格子を形成したが、回折格子は同心円状に形成してもよい。図５は、本発明の実施の形態３に係るフォトダイオードの断面図である。フォトダイオード７０のガイド層７２には２次の回折格子７２ａが形成されている。２次の回折格子７２ａは同心円状に形成されている。図６は、図５のフォトダイオードの平面図である。反射膜７４は、円形に形成されたガイド層７２などを取り巻くように円形に形成されている。 Embodiment 3 FIG.
In Embodiments 1 and 2 of the present invention, the diffraction grating is formed in the rectangular region, but the diffraction grating may be formed concentrically. FIG. 5 is a cross-sectional view of a photodiode according to Embodiment 3 of the present invention. A secondary diffraction grating 72 a is formed on the guide layer 72 of the photodiode 70. The secondary diffraction grating 72a is formed concentrically. FIG. 6 is a plan view of the photodiode of FIG. The reflective film 74 is formed in a circular shape so as to surround the circular guide layer 72 and the like.

実施の形態４．
図７は、本発明の実施の形態４に係るフォトダイオードの断面図である。実施の形態１に係るフォトダイオードとの相違点を中心に説明する。フォトダイオード１５０は、受光層３６の下層に回折格子を備えたことを特徴とする。多重反射層３２と受光層３６の間には回折格子１５２ａを有する層１５２が形成されている。回折格子１５２ａの周期は２次の回折格子３８ａの周期と同じである。 Embodiment 4 FIG.
FIG. 7 is a cross-sectional view of a photodiode according to Embodiment 4 of the present invention. The description will focus on the differences from the photodiode according to the first embodiment. The photodiode 150 includes a diffraction grating below the light receiving layer 36. A layer 152 having a diffraction grating 152 a is formed between the multiple reflection layer 32 and the light receiving layer 36. The period of the diffraction grating 152a is the same as the period of the secondary diffraction grating 38a.

このように受光層３６の下に回折格子を形成すると、多重反射層３２で反射した光が受光層３６を導波する光となるように回折することができる。よって、本発明の効果を高めることができる。   When the diffraction grating is formed under the light receiving layer 36 in this way, the light reflected by the multiple reflection layer 32 can be diffracted so as to be light guided through the light receiving layer 36. Therefore, the effect of the present invention can be enhanced.

回折格子１５２ａの周期は２次の回折格子３８ａの周期と一致させなくてもよい。回折格子１５２ａの周期が２次の回折格子３８ａの周期と異なっていても、入射光を分散させる効果を得ることができる。なお、本発明の実施の形態４に係るフォトダイオードは少なくとも実施の形態１と同程度の変形は可能である。   The period of the diffraction grating 152a may not coincide with the period of the second-order diffraction grating 38a. Even if the period of the diffraction grating 152a is different from the period of the secondary diffraction grating 38a, the effect of dispersing incident light can be obtained. The photodiode according to the fourth embodiment of the present invention can be modified at least as much as the first embodiment.

実施の形態５．
図８は、本発明の実施の形態５に係る波長センサのブロック図である。まず、波長センサ２００の入射光学系２０２に光が入射する。入射した光は、光ファイバー２０４、及びスリット２０６を経由してフォトダイオード１０に入射する。フォトダイオード１０は、実施の形態１で説明したフォトダイオード１０である。スリット２０６とフォトダイオード１０で分光器２０８を構成している。 Embodiment 5 FIG.
FIG. 8 is a block diagram of a wavelength sensor according to Embodiment 5 of the present invention. First, light enters the incident optical system 202 of the wavelength sensor 200. The incident light enters the photodiode 10 via the optical fiber 204 and the slit 206. The photodiode 10 is the photodiode 10 described in the first embodiment. The slit 206 and the photodiode 10 constitute a spectroscope 208.

ここで、波長センサ２００の理解を容易にするために比較例について説明する。図９は、比較例の波長センサを示すブロック図である。比較例の波長センサ２５０は、分光器２５２を有している。分光器２５２は、折返し平面鏡２５４、グレーティング２５６、及びラインセンサ２５８を有している。比較例の場合は、グレーティング２５６を用いて分光するので分光器２５２が大型になる。   Here, a comparative example will be described in order to facilitate understanding of the wavelength sensor 200. FIG. 9 is a block diagram showing a wavelength sensor of a comparative example. The wavelength sensor 250 of the comparative example has a spectroscope 252. The spectroscope 252 includes a folded plane mirror 254, a grating 256, and a line sensor 258. In the case of the comparative example, the spectroscope 252 is enlarged because the grating 256 is used for the spectroscopic analysis.

ところが、波長センサ２００にフォトダイオード１０を組み込むことで、構成を簡素にしつつ、感度を高めた波長センサを製造できる。分光器２０８で用いるフォトダイオードとしては、実施の形態１に係るフォトダイオード１０のみならず実施の形態２−４に係るフォトダイオード、又は実施の形態１−４に係るフォトダイオードの特徴を組み合わせたフォトダイオードを用いてもよい。例えば、周期の異なる回折格子を有するフォトダイオードを波長センサに採用することができる。   However, by incorporating the photodiode 10 into the wavelength sensor 200, it is possible to manufacture a wavelength sensor with improved sensitivity while simplifying the configuration. As the photodiode used in the spectroscope 208, not only the photodiode 10 according to the first embodiment but also the photodiode according to the second to fourth embodiments, or a photo combining the characteristics of the photodiode according to the first to fourth embodiments. A diode may be used. For example, photodiodes having diffraction gratings with different periods can be used for the wavelength sensor.

実施の形態６．
図１０は、本発明の実施の形態６に係る波長測定装置のブロック図である。波長測定装置３００は、レーザダイオード３０２を有している。レーザダイオード３０２から出射した光は、入射光学系２０２、光ファイバー２０４、スリット２０６を経由して実施の形態１に係るフォトダイオード１０に入射する。スリット２０６とフォトダイオード１０で分光器３０４を構成している。 Embodiment 6 FIG.
FIG. 10 is a block diagram of the wavelength measuring apparatus according to the sixth embodiment of the present invention. The wavelength measuring apparatus 300 has a laser diode 302. The light emitted from the laser diode 302 enters the photodiode 10 according to the first embodiment via the incident optical system 202, the optical fiber 204, and the slit 206. The slit 206 and the photodiode 10 constitute a spectroscope 304.

分光器３０４にフォトダイオード１０を用いたため、前述の比較例の分光器２５２よりも構成を簡素にしつつ感度を高めた波長測定装置３００を製造できる。また、特定の波長の光のみ素早く測定できる。なお、実施の形態５と同様に、フォトダイオードとしては、実施の形態１に係るフォトダイオード１０のみならず実施の形態２−４に係るフォトダイオード、又は実施の形態１−４に係るフォトダイオードの特徴を組み合わせたフォトダイオードを用いてもよい。   Since the photodiode 10 is used for the spectroscope 304, it is possible to manufacture the wavelength measuring device 300 with higher sensitivity while simplifying the configuration than the spectroscope 252 of the above-described comparative example. Moreover, only light of a specific wavelength can be measured quickly. As in the fifth embodiment, the photodiode includes not only the photodiode 10 according to the first embodiment but also the photodiode according to the second to fourth embodiments or the photodiode according to the first to fourth embodiments. Photodiodes that combine features may also be used.

実施の形態７．
図１１は、本発明の実施の形態７に係るフォトダイオードの断面図である。以後、実施の形態１に係るフォトダイオードとの相違点を中心に説明する。フォトダイオード３５０のガイド層３５２には単一モードで発振させるために、λ／４位相シフト回折格子３５２ａが形成されている。回折格子３５２ａは２次の回折格子となる周期で形成されている。図１２は、図１１のフォトダイオードの平面図である。回折格子３５２ａは平面視で円形に形成されている。回折格子３５２ａは直径が１００μｍ程度である。 Embodiment 7 FIG.
FIG. 11 is a cross-sectional view of a photodiode according to Embodiment 7 of the present invention. Hereinafter, the description will focus on differences from the photodiode according to the first embodiment. A λ / 4 phase shift diffraction grating 352a is formed on the guide layer 352 of the photodiode 350 in order to oscillate in a single mode. The diffraction grating 352a is formed with a period that becomes a secondary diffraction grating. 12 is a plan view of the photodiode of FIG. The diffraction grating 352a is formed in a circular shape in plan view. The diffraction grating 352a has a diameter of about 100 μm.

このようにλ／４位相シフト回折格子３５２ａを形成すると、波長単一性を高めつつ、本発明の効果を得ることができる。また、このλ／４位相シフト回折格子３５２ａを本発明の実施の形態１の構成に適用して波長単一性を高めてもよい。なお、本発明の実施の形態７に係るフォトダイオードは少なくとも実施の形態１と同程度の変形は可能である。   When the λ / 4 phase shift diffraction grating 352a is formed in this way, the effects of the present invention can be obtained while improving the wavelength unity. The λ / 4 phase shift diffraction grating 352a may be applied to the configuration of the first embodiment of the present invention to improve wavelength unity. Note that the photodiode according to the seventh embodiment of the present invention can be modified at least as much as the first embodiment.

実施の形態８．
図１３は、本発明の実施の形態８に係るフォトダイオードを示す断面図である。フォトダイオード４００は、ガイド層４０２に形成された回折格子４０２ａの周期を途中（中央部）で変更したことを特徴とする。図１４は、図１３のフォトダイオードの平面図である。このように、回折格子を同心円状よりずらして形成してもよい。これにより、異なる周期の回折格子を形成できるので多数の波長を検出できる。 Embodiment 8 FIG.
FIG. 13 is a sectional view showing a photodiode according to the eighth embodiment of the present invention. The photodiode 400 is characterized in that the period of the diffraction grating 402a formed in the guide layer 402 is changed in the middle (center portion). FIG. 14 is a plan view of the photodiode of FIG. In this way, the diffraction grating may be formed so as to be shifted from the concentric shape. Thereby, since diffraction gratings having different periods can be formed, a large number of wavelengths can be detected.

ここまでの全ての実施の形態に係る構成は、適宜組み合わせてもよい。なお、本発明の実施の形態７に係るフォトダイオードは少なくとも実施の形態１と同程度の変形は可能である。   The configurations according to all the embodiments so far may be combined as appropriate. Note that the photodiode according to the seventh embodiment of the present invention can be modified at least as much as the first embodiment.

１０ フォトダイオード、 １２ 電極層、 １２ａ 開口、 １４ 上クラッド層、 １６ 反射膜、 １８ 反射膜、 ３０ 基板、 ３１ 電極層、 ３２ 多重反射層、 ３４ 下クラッド層、 ３６ 受光層、 ３８ ガイド層、 ３８ａ 回折格子、 ５０ フォトダイオード、 ５２ 追加回折格子、 ７０ フォトダイオード、 ７２ ガイド層、 ７２ａ 回折格子、 ７４ 反射膜、 １５０ フォトダイオード、 １５２ 回折格子を有する層、 ２００ 波長センサ、 ２０２ 入射光学系、 ２０４ 光ファイバー、 ２０６ スリット、 ２０８ 分光器、 ２５０ 波長センサ、 ２５２ 分光器、 ２５４ 平面鏡、 ２５６ グレーティング、 ２５８ ラインセンサ、 ３００ 波長測定装置、 ３０２ レーザダイオード、 ３０４ 分光器、 ３５０ フォトダイオード、 ３５２ ガイド層、 ３５２ａ 位相シフト回折格子、 ４００ フォトダイオード、 ４０２ ガイド層、 ４０２ａ 回折格子   10 photodiodes, 12 electrode layers, 12a openings, 14 upper cladding layers, 16 reflective films, 18 reflective films, 30 substrates, 31 electrode layers, 32 multiple reflective layers, 34 lower clad layers, 36 light receiving layers, 38 guide layers, 38a Diffraction grating, 50 photodiode, 52 additional diffraction grating, 70 photodiode, 72 guide layer, 72a diffraction grating, 74 reflective film, 150 photodiode, layer with 152 diffraction grating, 200 wavelength sensor, 202 incident optical system, 204 optical fiber , 206 slit, 208 spectrometer, 250 wavelength sensor, 252 spectrometer, 254 plane mirror, 256 grating, 258 line sensor, 300 wavelength measuring device, 302 laser diode, 304 spectrometer, 35 0 photodiode, 352 guide layer, 352a phase shift diffraction grating, 400 photodiode, 402 guide layer, 402a diffraction grating

Claims (9)

基板と、
前記基板の上に形成された受光層と、
前記受光層の上に形成された半導体層と、
前記半導体層に形成された、前記半導体層に垂直に入射した入射光を回折して前記受光層を導波する光とする２次の回折格子と、
前記受光層の端部に形成された、前記受光層を導波する光を反射する反射膜と、
前記基板と前記受光層の間に形成された多重反射層と、
前記多重反射層と前記受光層の間に形成された、回折格子を有する層と、を備えたことを特徴とするフォトダイオード。 A substrate,
A light-receiving layer formed on the substrate;
A semiconductor layer formed on the light receiving layer;
A second-order diffraction grating formed in the semiconductor layer and diffracting incident light perpendicularly incident on the semiconductor layer to guide the light-receiving layer;
A reflection film that is formed at an end of the light receiving layer and reflects light guided through the light receiving layer;
A multiple reflection layer formed between the substrate and the light receiving layer;
A photodiode having a diffraction grating formed between the multiple reflection layer and the light receiving layer. 前記半導体層の上に形成された、開口を有する電極層を備え、
前記２次の回折格子は前記開口の直下に形成されたことを特徴とする請求項１に記載のフォトダイオード。 An electrode layer having an opening formed on the semiconductor layer;
The photodiode according to claim 1, wherein the second-order diffraction grating is formed immediately below the opening. 前記反射膜は、前記受光層を導波する光を全反射するように形成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載のフォトダイオード。   The photodiode according to claim 1, wherein the reflective film is formed so as to totally reflect light guided through the light receiving layer. 前記半導体層に形成された、前記２次の回折格子とは異なる周期の追加回折格子を備えたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のフォトダイオード。   4. The photodiode according to claim 1, further comprising an additional diffraction grating formed in the semiconductor layer and having a period different from that of the second-order diffraction grating. 5. 前記２次の回折格子は平面視で円形に形成されたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のフォトダイオード。   The photodiode according to any one of claims 1 to 4, wherein the second-order diffraction grating is formed in a circular shape in plan view. 前記回折格子と、前記２次の回折格子は同じ周期で形成されたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のフォトダイオード。   6. The photodiode according to claim 1, wherein the diffraction grating and the second-order diffraction grating are formed with the same period. 前記回折格子と、前記２次の回折格子は異なる周期で形成されたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のフォトダイオード。   6. The photodiode according to claim 1, wherein the diffraction grating and the second-order diffraction grating are formed with different periods. 請求項１に記載のフォトダイオードを備えた波長センサ。   A wavelength sensor comprising the photodiode according to claim 1. 請求項１に記載のフォトダイオードを備えた波長測定装置。   A wavelength measuring device comprising the photodiode according to claim 1.
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