JP5879830B2 - Fundus imaging device with wavefront compensation - Google Patents

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Description

本発明は、被検眼の波面収差を補正した状態で被検眼の眼底像を撮影する波面補償付眼底撮影装置に関する。   The present invention relates to a fundus imaging apparatus with wavefront compensation that captures a fundus image of a subject's eye while correcting the wavefront aberration of the subject's eye.

シャックハルトマンセンサーなどの波面センサを用いて眼の波面収差を検出し、その検出結果に基づいて波面補償デバイスを制御し、波面補償後の眼底画像を細胞レベルで撮影する装置が開示されている(例えば、特許文献1参照)。このような装置は、被検眼と装置との位置合わせの完了後、眼の波面収差の検出と、その検出結果に基づく波面補償制御を繰り返し行う。   An apparatus for detecting wavefront aberration of an eye using a wavefront sensor such as a Shack-Hartmann sensor, controlling a wavefront compensation device based on the detection result, and photographing a fundus image after wavefront compensation at a cellular level is disclosed ( For example, see Patent Document 1). Such an apparatus repeatedly detects the wavefront aberration of the eye and the wavefront compensation control based on the detection result after the alignment between the eye to be examined and the apparatus is completed.

特表2001−507258号公報JP-T-2001-507258

しかしながら、位置あわせの完了後において、被検眼の固視状態が十分に保持されず、良好な眼底画像が得られない場合がある。   However, after the alignment is completed, the fixation state of the eye to be examined is not sufficiently maintained, and a good fundus image may not be obtained.

図6(a)は、固視がずれた状態の波面センサの受光結果を示す例である。例えば、波面センサ上には、波面補償デバイスによる有効領域62が設定されており、ハルトマン像61が形成されていない領域Sにおいては、波面の状態が検出されない。このように波面測定データの一部が欠損している場合(図6(a)参照)、波面全体の情報が得られないため、波面補正領域における波面収差が適正に測定されない。そして、このような状態で得られた検出結果に基づいて波面補償制御が行われた場合、波面補償デバイスは誤った収差補償量にて制御されてしまう。   FIG. 6A is an example showing a light reception result of the wavefront sensor in a state where fixation is shifted. For example, the effective area 62 by the wavefront compensation device is set on the wavefront sensor, and the state of the wavefront is not detected in the area S where the Hartmann image 61 is not formed. As described above, when part of the wavefront measurement data is missing (see FIG. 6A), information on the entire wavefront cannot be obtained, and thus the wavefront aberration in the wavefront correction region is not properly measured. When wavefront compensation control is performed based on the detection result obtained in such a state, the wavefront compensation device is controlled with an incorrect aberration compensation amount.

固視がずれた場合、測定を中断し、顎台と額当ての位置を調整することによって、位置あわせの再調整を行う必要があるため、検者は常にこの位置あわせを気にする必要があり、手間であった。   If the fixation is misaligned, the measurement must be interrupted and the position of the chin rest and forehead must be adjusted to readjust the alignment, so the examiner must always be concerned about this alignment. There was a lot of trouble.

本発明は、上記問題点を鑑み、波面収差が補正された状態の良好な眼底画像を撮影できる波面補償付眼底撮影装置を提供することを技術課題とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a fundus photographing apparatus with wavefront compensation that can photograph a good fundus image in a state in which wavefront aberration is corrected.

上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。   In order to solve the above problems, the present invention is characterized by having the following configuration.

(1) 被検眼眼底上で光を走査する走査部を有し,前記光の被検眼眼底からの反射光を受光して眼底像を撮像する眼底撮像光学系と、前記眼底撮像光学系の光路中に配置され、入射光の波面を制御して被検眼の波面収差を補償する波面補償デバイスと、被検眼眼底に向けて測定光を投光し、その眼底からの反射光を波面センサにより検出する波面収差測定光学系と、前記波面補償デバイスに設けられた補償可能領域の一部であり収差補正制御が有効な有効領域と,前記波面収差測定光学系によって波面収差が測定される波面測定領域と,の間の光軸に直交する方向に関するずれが補正されるように、前記補償可能領域上での前記有効領域の位置を制御する制御手段と、前記眼底撮像光学系よりも広画角の眼底像を第2眼底像として撮像する第2撮影ユニットと、前記第2眼底像を用いた位置指定に基づいて前記走査部を制御することにより,前記眼底撮影光学系における眼底上の撮影位置を設定する撮影位置制御手段と、を備えることを特徴とする。 (1) A fundus imaging optical system that has a scanning unit that scans light on the fundus of the subject's eye and receives reflected light from the fundus of the subject's eye to capture a fundus image, and an optical path of the fundus imaging optical system The wavefront compensation device is placed inside and controls the wavefront of the incident light to compensate the wavefront aberration of the eye to be examined. The measurement light is projected toward the fundus of the eye to be examined, and the reflected light from the fundus is detected by the wavefront sensor. A wavefront aberration measuring optical system, an effective area which is a part of a compensable area provided in the wavefront compensation device and in which aberration correction control is effective, and a wavefront measuring area where wavefront aberration is measured by the wavefront aberration measuring optical system And a control means for controlling the position of the effective area on the compensable area so that a deviation in a direction perpendicular to the optical axis is corrected, and a wider field angle than the fundus imaging optical system. First to capture the fundus image as the second fundus image A photographing unit, by controlling the scanning unit based on the position specified with the second fundus image, that and a photographing position control means for setting the imaging position on the fundus of the eye fundus photographing optical system Features.

本発明は、上記問題点を鑑み、波面収差が補正された状態の良好な眼底画像を撮影できる。   In view of the above problems, the present invention can capture a good fundus image in a state where wavefront aberration is corrected.

本発明の実施形態を説明する。図1は、本実施形態の眼底撮影装置の外観図を示しており、本装置は、基台510と、顔支持ユニット600と、撮影部500を備える。顔支持ユニット600は、基台510に取り付けられている。撮影部500には、後述する光学系が収納されており、基台510の上に設けられている。顔支持ユニット600には、顎台610が設けられている。顎台610は、図示無き顎台駆動手段の操作により、顔指示ユニット600の基部に対して左右方向(X方向)、上下方向(Y方向)及び前後方向(Z方向)に移動される。   An embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is an external view of a fundus imaging apparatus according to this embodiment, and the apparatus includes a base 510, a face support unit 600, and an imaging unit 500. The face support unit 600 is attached to the base 510. The imaging unit 500 houses an optical system described later, and is provided on the base 510. The face support unit 600 is provided with a chin rest 610. The chin rest 610 is moved in the left / right direction (X direction), the up / down direction (Y direction), and the front / rear direction (Z direction) with respect to the base of the face indicating unit 600 by operating a chin rest driving means (not shown).

図2は、本実施形態の眼底撮影装置の光学系を示した模式図である。本実施形態の眼底撮影装置は、大別して、眼底撮像光学系100と、波面収差検出光学系(以下、収差検出光学系と記載する。)110と、収差補償ユニット10,72と、第2撮影ユニット200と、トラッキング用ユニット(位置検出部)300を備える。   FIG. 2 is a schematic diagram showing an optical system of the fundus imaging apparatus of the present embodiment. The fundus imaging apparatus of the present embodiment is broadly divided into a fundus imaging optical system 100, a wavefront aberration detection optical system (hereinafter referred to as an aberration detection optical system) 110, aberration compensation units 10 and 72, and a second imaging. A unit 200 and a tracking unit (position detection unit) 300 are provided.

眼底撮像光学系100は、被検眼Eの眼底からの反射光を受光して被検眼の眼底像を撮像する。収差検出光学系(収差測定光学系)110は、波面センサ73を有し、被検眼眼底に測定光を投光し、その眼底からの反射光を波面センサ73にて指標パターン像として受光(検出)する。収差補償ユニット10,72は、被検眼の収差を補正するために眼底撮像光学系100に配置される。第2撮影ユニット200は、眼底撮像光学系100で得られる眼底画像(以下、第1眼底画像と記す)の撮影位置を指定するための眼底の観察画像(以下、第2眼底画像と記す)を得る。   The fundus imaging optical system 100 receives reflected light from the fundus of the eye E and captures a fundus image of the eye. The aberration detection optical system (aberration measurement optical system) 110 has a wavefront sensor 73, projects measurement light onto the fundus of the eye to be examined, and receives (detects) reflected light from the fundus as an index pattern image at the wavefront sensor 73. ) The aberration compensation units 10 and 72 are disposed in the fundus imaging optical system 100 in order to correct the aberration of the eye to be examined. The second photographing unit 200 displays a fundus observation image (hereinafter referred to as a second fundus image) for designating a photographing position of a fundus image obtained by the fundus imaging optical system 100 (hereinafter referred to as a first fundus image). obtain.

ここで、眼底撮像光学系100は、被検眼Eの眼底を高解像度(高分解能)・高倍率で撮影する。また、収差補償ユニットは、被検眼の低次収差(視度:例えば、球面度数)を補正するための視度補正部10と、被検眼の高次収差を補正するための高次収差補償部(波面補償デバイス)72と、に大別される。   Here, the fundus imaging optical system 100 captures the fundus of the eye E with high resolution (high resolution) and high magnification. The aberration compensation unit includes a diopter correction unit 10 for correcting low-order aberrations (diopter: for example, spherical power) of the eye to be examined, and a high-order aberration compensation unit for correcting high-order aberrations of the eye to be examined. (Wavefront compensation device) 72.

眼底撮像光学系100は、被検眼Eに照明光(照明光束)を照射し眼底を2次元的に照明する第1照明光学系100aと、眼底に照射された照明光の反射光(反射光束)を受光して第1眼底画像を得るための第1撮影光学系100bと、収差補償部72と、を備える。眼底撮像光学系100は、例えば、共焦点光学系を用いた走査型レーザ検眼鏡の構成とされる。   The fundus imaging optical system 100 includes a first illumination optical system 100a that irradiates the eye E with illumination light (illumination light beam) to illuminate the fundus two-dimensionally, and reflected light (reflected light beam) of the illumination light irradiated on the fundus. And a first compensation optical system 100b for obtaining a first fundus image and an aberration compensator 72. The fundus imaging optical system 100 has, for example, a scanning laser ophthalmoscope configuration using a confocal optical system.

第1照明光学系100aは、光源1(第1光源)、走査部15を有する。光源1は、被検眼に視認されにくい近赤外域の照明光が用いられ、眼底を照明するための照明光を出射する。本実施形態では光源1は、波長840nmのSLD(Super Luminescent Diode)光源が用いられる。なお、光源としては、収束性の高い特性を持つスポット光を出射するものであればよく、例えば、半導体レーザ等であってもよい。走査部15は、照明光(スポット光)を眼底上で水平方向(X方向)に走査する。   The first illumination optical system 100 a includes a light source 1 (first light source) and a scanning unit 15. The light source 1 uses near-infrared illumination light that is difficult to be visually recognized by the eye to be examined, and emits illumination light for illuminating the fundus. In the present embodiment, the light source 1 is an SLD (Super Luminescent Diode) light source having a wavelength of 840 nm. The light source may be any light source that emits spot light having a high convergence property, and may be, for example, a semiconductor laser. The scanning unit 15 scans illumination light (spot light) in the horizontal direction (X direction) on the fundus.

はじめに、第1照明光学系100aを説明する。第1照明光学系100aは、光源1から眼底に到るまでの光路において、レンズ2、偏光ビームスプリッタ(PBS)4、凹面ミラー6、凹面ミラー7、平面ミラー8、波面補償デバイス72、凹面ミラー11、凹面ミラー12、走査部15、凹面ミラー16、凹面ミラー17を備える。そして、さらに、平面ミラー21、レンズ22、平面ミラー23、視度補正部10、平面ミラー25、凹面ミラー26、偏向部400、ダイクロイックミラー90、凹面ミラー31、平面ミラー32、平面ミラー33、凹面ミラー35が配置される。視度補正部10は、平面ミラーとレンズからなる。偏向部400は、光源1から出射された照明光を眼底上で垂直方向(Y方向)に走査する。さらに、偏向部400は、2次元状に走査される照明光の走査位置を補正する。ダイクロイックミラー90は、第2撮影ユニット200等の光路を第1照明光学系100aと略同軸にする。   First, the first illumination optical system 100a will be described. The first illumination optical system 100a includes a lens 2, a polarizing beam splitter (PBS) 4, a concave mirror 6, a concave mirror 7, a plane mirror 8, a wavefront compensation device 72, and a concave mirror in the optical path from the light source 1 to the fundus. 11, a concave mirror 12, a scanning unit 15, a concave mirror 16, and a concave mirror 17. Further, the plane mirror 21, lens 22, plane mirror 23, diopter correction unit 10, plane mirror 25, concave mirror 26, deflection unit 400, dichroic mirror 90, concave mirror 31, plane mirror 32, plane mirror 33, concave surface A mirror 35 is arranged. The diopter correction unit 10 includes a plane mirror and a lens. The deflecting unit 400 scans the illumination light emitted from the light source 1 in the vertical direction (Y direction) on the fundus. Further, the deflecting unit 400 corrects the scanning position of the illumination light scanned in a two-dimensional manner. The dichroic mirror 90 makes the optical path of the second imaging unit 200 and the like substantially coaxial with the first illumination optical system 100a.

光源1から出射された照明光は、レンズ2により平行光とされた後、PBS4を介する。照明光は、本実施形態においては、PBS4によりS偏光成分のみの光束とされる。PBS4を経た照明光は、ビームスプリッタ(BS)71を介し、凹面ミラー6、凹面ミラー7及び平面ミラー8にて反射され、波面補償デバイス72に入射する。波面補償デバイス72にて反射した照明光は、BS75を介し、凹面ミラー11、凹面ミラー12にて反射され、走査部15に向かう。   The illumination light emitted from the light source 1 is converted into parallel light by the lens 2 and then passes through the PBS 4. In the present embodiment, the illumination light is changed to a light beam having only an S-polarized component by the PBS 4 in this embodiment. The illumination light that has passed through the PBS 4 is reflected by the concave mirror 6, the concave mirror 7, and the plane mirror 8 via the beam splitter (BS) 71, and enters the wavefront compensation device 72. The illumination light reflected by the wavefront compensation device 72 is reflected by the concave mirror 11 and the concave mirror 12 via the BS 75 and travels toward the scanning unit 15.

走査部15は、ここでは、眼底でX方向に照明光を走査する。本実施形態では、照明光を眼底にて水平方向(X方向)に偏向させ走査するための偏向部材となるレゾナントミラーと、ミラーを駆動する駆動部を備える。走査部15を経た照明光は、凹面ミラー16、凹面ミラー17、平面ミラー21で反射され、レンズ22にて集光される。そして、照明光は、平面ミラー23にて反射される。照明光は、視度補正部10を介して、平面ミラー25、凹面ミラー26、にて反射され、偏向部400に向かう。なお、視度補正部10は、駆動部10aを有し、平面ミラー及びレンズが図示する矢印方向に移動することにより、光路長を変えることができ、視度補正の役目を果たしている。なお、視度補正部10は、駆動部と、駆動部の駆動によって光軸方向に移動可能なプリズムからなる構成であってもよい。   Here, the scanning unit 15 scans illumination light in the X direction on the fundus. In the present embodiment, a resonant mirror serving as a deflecting member for deflecting and scanning illumination light in the horizontal direction (X direction) at the fundus and a drive unit for driving the mirror are provided. The illumination light that has passed through the scanning unit 15 is reflected by the concave mirror 16, the concave mirror 17, and the flat mirror 21 and is collected by the lens 22. The illumination light is reflected by the plane mirror 23. The illumination light is reflected by the plane mirror 25 and the concave mirror 26 via the diopter correction unit 10 and travels toward the deflection unit 400. The diopter correction unit 10 includes a driving unit 10a, and the optical path length can be changed by moving the plane mirror and the lens in the direction of the arrow shown in the drawing, and plays a role in diopter correction. The diopter correction unit 10 may be configured by a driving unit and a prism that can move in the optical axis direction by driving the driving unit.

偏向部400は、眼底でXY方向に照明光を走査する。本実施形態では、X走査用のガルバノミラーと、Y走査用のガルバノミラーからなる2枚のガルバノミラーにより構成されている。偏向部400を経た照明光は、ダイクロイックミラー90、凹面ミラー31、平面ミラー32、平面ミラー33、及び凹面ミラー35にて反射され、被検眼Eの眼底に集光し、走査部15及び偏向部400によって眼底上を2次元的に走査することとなる。   The deflecting unit 400 scans illumination light in the XY directions at the fundus. In this embodiment, the galvano mirror for X scanning and the galvano mirror for Y scanning are constituted by two galvano mirrors. The illumination light that has passed through the deflecting unit 400 is reflected by the dichroic mirror 90, the concave mirror 31, the flat mirror 32, the flat mirror 33, and the concave mirror 35, and is condensed on the fundus of the eye E to be scanned, and the scanning unit 15 and the deflecting unit. By 400, the fundus is scanned two-dimensionally.

また、ダイクロイックミラー90は、後述する第2撮影ユニット200、及びトラッキング用ユニット300、からの光束を透過させ、光源1及び後述する光源76からの光束を反射させる特性を持つ。なお、光源1及び光源76の出射端と被検眼Eの眼底とは共役とされている。このようにして、照明光を眼底に2次元的に照射する第1照明光学系100aが形成される。   Further, the dichroic mirror 90 has a characteristic of transmitting a light beam from the second imaging unit 200 and tracking unit 300 described later and reflecting a light beam from the light source 1 and a light source 76 described later. Note that the emission ends of the light sources 1 and 76 and the fundus of the eye E are conjugate. Thus, the 1st illumination optical system 100a which irradiates illumination light to a fundus two-dimensionally is formed.

トラッキング用ユニット300は、撮影される被検眼Eの固視微動等による位置ずれの経時変化を検出し、移動位置情報を得る。トラッキング用ユニット300では、トラッキング開始時に得られた受光結果を基準情報として制御部80に送っておき、その後、1走査毎に得られる受光結果(受光情報)を逐次、制御部80に送信する。制御部80は基準情報に対してその後に得られた受光情報を比較し、基準情報と同じ受光情報が得られるように、移動位置情報を演算により求める。制御部80は求めた移動位置情報に基づいて偏向部400を駆動させる。このようなトラッキングを行うことにより、被検眼Eが微動してもその動きが相殺されるように偏向部400の駆動が行われるため、モニタ70に表示される眼底画像の動きは抑制されることとなる。また、ダイクロイックミラー91は、第2撮影ユニット200からの光束を透過させ、トラッキング用ユニット300からの光束を反射させる特性を持つ。   The tracking unit 300 detects a time-dependent change in positional deviation due to fixation eye movement of the eye E to be photographed, and obtains movement position information. In the tracking unit 300, the light reception result obtained at the start of tracking is sent as reference information to the control unit 80, and thereafter, the light reception result (light reception information) obtained for each scan is sequentially transmitted to the control unit 80. The control unit 80 compares the received light information obtained thereafter with the reference information, and obtains the movement position information by calculation so that the same received light information as the reference information is obtained. The control unit 80 drives the deflection unit 400 based on the obtained movement position information. By performing such tracking, the deflection unit 400 is driven so that even if the eye E moves slightly, the movement of the eye E is offset, so that the movement of the fundus image displayed on the monitor 70 is suppressed. It becomes. The dichroic mirror 91 has a characteristic of transmitting the light beam from the second photographing unit 200 and reflecting the light beam from the tracking unit 300.

次に、第1撮影光学系100bを説明する。第1撮影光学系100は、第1照明光学系100aにて説明したダイクロイックミラー90からBS71までの光路を共通とし、さらに平面ミラー51、PBS52、レンズ53、ピンホール板54、レンズ55、受光素子56を含む。なお、本実施形態では、受光素子56はAPD(アバランシェフォトダイオード)が用いられている。ピンホール板54は、眼底と共役な位置に置かれる。   Next, the first photographing optical system 100b will be described. The first photographing optical system 100 has a common optical path from the dichroic mirror 90 to the BS 71 described in the first illumination optical system 100a, and further includes a plane mirror 51, a PBS 52, a lens 53, a pinhole plate 54, a lens 55, and a light receiving element. 56. In this embodiment, the light receiving element 56 is an APD (avalanche photodiode). The pinhole plate 54 is placed at a position conjugate with the fundus.

光源1から出射された照明光における眼底からの反射光は、前述した第1照明光学系100aを逆に辿り、BS71、平面ミラー51で反射され、PBS52にてS偏光の光だけ透過される。この透過光は、レンズ53を介してピンホール板54のピンホールに焦点を結ぶ。ピンホールにて焦点を結んだ反射光は、レンズ55を経て受光素子56に受光される。なお、照明光の一部は角膜上で反射されるが、ピンホール板54により大部分が除去され、角膜反射の画像への悪影響が低減される。このため、受光素子56は、角膜反射の影響を抑えて、眼底からの反射光を受光できる。   The reflected light from the fundus of the illumination light emitted from the light source 1 traces the first illumination optical system 100a in the reverse direction, is reflected by the BS 71 and the plane mirror 51, and only the S-polarized light is transmitted by the PBS 52. This transmitted light is focused on the pinhole of the pinhole plate 54 via the lens 53. The reflected light focused at the pinhole is received by the light receiving element 56 through the lens 55. Although a part of the illumination light is reflected on the cornea, most of the illumination light is removed by the pinhole plate 54, and the adverse effect of the corneal reflection on the image is reduced. For this reason, the light receiving element 56 can receive the reflected light from the fundus while suppressing the influence of corneal reflection.

このようにして、第1撮影光学系100bが形成される。第1撮影光学系100bで受光された処理された画像が第1眼底画像となる。1フレームの第1眼底画像は、走査部15の主走査と、偏向部400に設けられたY走査用のガルバノミラーの副走査によって形成される。なお、第1撮影ユニット100で取得する眼底画像(眼底像)の画角が所定の角度となるように走査部15及び偏向部400におけるミラーの振れ角(揺動角度)を定める。ここでは、眼底の所定の範囲を高倍率で観察、撮影する(ここでは、細胞レベルでの観察等をする)ために、画角を1度〜5度程度とする。本実施形態では、1.5度とする。被検眼の視度等にもよるが、第1眼底画像の撮影範囲は、500μm角程度とされる。   In this way, the first photographing optical system 100b is formed. The processed image received by the first imaging optical system 100b becomes the first fundus image. One frame of the first fundus image is formed by the main scanning of the scanning unit 15 and the sub scanning of the Y scanning galvanometer mirror provided in the deflection unit 400. Note that the deflection angle (swing angle) of the mirror in the scanning unit 15 and the deflection unit 400 is determined so that the angle of view of the fundus image (fundus image) acquired by the first imaging unit 100 becomes a predetermined angle. Here, in order to observe and photograph a predetermined range of the fundus at a high magnification (here, observation at a cell level or the like), the angle of view is set to about 1 to 5 degrees. In this embodiment, the angle is 1.5 degrees. Although depending on the diopter of the eye to be examined, the imaging range of the first fundus image is about 500 μm square.

さらに、偏向部400に設けられたX走査用のガルバノミラーとY走査用のガルバノミラーの反射角度が第1眼底眼底像の撮像画角より大きく移動されることによって、眼底上における第1眼底画像の撮像位置が変更される。   Further, the reflection angle of the X-scanning galvanometer mirror and the Y-scanning galvanometer mirror provided in the deflecting unit 400 is moved larger than the imaging field angle of the first fundus fundus image, so that the first fundus image on the fundus The imaging position is changed.

次に、第2撮影ユニット200を説明する。第2撮影ユニットは、第1撮影ユニットの画角よりも広画角の眼底画像(第2眼底画像)を取得するためのユニットであり、取得される第2眼底画像は、前述した狭画角の第1眼底画像を得るための位置指定、及び位置確認用の画像として用いられる。このような第2眼底画像を取得するための第2撮影ユニット200は、被検眼Eの眼底画像を観察用として広画角(例えば20度〜60度程度)でリアルタイムに取得できればよい。したがって第2撮影ユニット200は、既存の眼底カメラの観察・撮影光学系や走査型レーザー検眼鏡(Scanning Laser Ophthalmoscope:SLO)の光学系、及び制御系を用いることができる。   Next, the second photographing unit 200 will be described. The second imaging unit is a unit for acquiring a fundus image (second fundus image) having a wider angle of view than the angle of view of the first imaging unit, and the acquired second fundus image has the narrow angle of view described above. Used for position designation and position confirmation for obtaining the first fundus image. The second imaging unit 200 for acquiring such a second fundus image only needs to be able to acquire the fundus image of the eye E to be examined in real time with a wide angle of view (for example, about 20 to 60 degrees). Therefore, the second imaging unit 200 can use an observation / imaging optical system of an existing fundus camera, an optical system of a scanning laser ophthalmoscope (SLO), and a control system.

次に、収差検出光学系110について説明する。前述のように、収差検出光学系110は、一部の光学素子を第1照明光学系100aの光路上に持ち、第1照明光学系100aと光路を一部共用している。収差検出光学系110は、光源76、レンズ77、PBS78、BS75、BS71、ダイクロイックミラー86、PBS85、レンズ84、平面ミラー83、レンズ82、波面センサ73を含む。そして、収差検出光学系110は、第1照明光学系100aの光路上に置かれるBS71から凹面ミラー35までの光学部材を共用することにより構成されている。   Next, the aberration detection optical system 110 will be described. As described above, the aberration detection optical system 110 has some optical elements on the optical path of the first illumination optical system 100a, and shares a part of the optical path with the first illumination optical system 100a. The aberration detection optical system 110 includes a light source 76, a lens 77, PBS 78, BS75, BS71, a dichroic mirror 86, PBS85, a lens 84, a plane mirror 83, a lens 82, and a wavefront sensor 73. The aberration detection optical system 110 is configured by sharing the optical members from the BS 71 to the concave mirror 35 placed on the optical path of the first illumination optical system 100a.

波面センサ73は、例えば、多数のマイクロレンズからなるマイクロレンズアレイと、マイクロレンズアレイを透過した光束を受光させるための二次元撮像素子73a(2次元受光素子)からなる。また、収差検出用光源(第3光源)である光源76は、光源1と異なる赤外域の光を発する光源とされる。本実施形態では光源76は波長780nmのレーザ光を出射するレーザダイオードを用いている。   The wavefront sensor 73 includes, for example, a microlens array composed of a large number of microlenses and a two-dimensional imaging element 73a (two-dimensional light receiving element) for receiving a light beam transmitted through the microlens array. A light source 76 that is an aberration detection light source (third light source) is a light source that emits light in an infrared region different from that of the light source 1. In the present embodiment, the light source 76 uses a laser diode that emits laser light having a wavelength of 780 nm.

光源76から出射したレーザ光は、レンズ77により平行光束とされ、PBS78により光源1からの照明光と直交する偏光方向(P偏光)とされ、BS75により第1照明光学系の光路に導かれる。なお、光源76の出射端はこの眼底共役位置と共役な関係とされる。PBS78は、光源76から出射された光を所定の偏光方向とする役割を持ち、波面補償部が備える第1偏光手段の役割を持つ。   The laser light emitted from the light source 76 is converted into a parallel light beam by the lens 77, and the polarization direction (P-polarized light) is orthogonal to the illumination light from the light source 1 by the PBS 78, and is guided to the optical path of the first illumination optical system by the BS 75. Note that the emission end of the light source 76 has a conjugate relationship with the fundus conjugate position. The PBS 78 has a role of making the light emitted from the light source 76 a predetermined polarization direction, and has a role of a first polarization means provided in the wavefront compensation unit.

BS75により反射したレーザ光は、第1照明光学系100aの光路を経て被検眼Eの眼底に集光される。眼底で反射されたレーザ光は、第1照明光学系100aの各光学部材を経て波面補償デバイス72にて反射し、BS71により第1照明光学系100aの光路から外れ、ダイクロイックミラー86によって反射され、PBS85、レンズ84、平面ミラー83、レンズ82を経て波面センサ73へと導かれる。   The laser light reflected by the BS 75 is condensed on the fundus of the eye E through the optical path of the first illumination optical system 100a. The laser light reflected from the fundus is reflected by the wavefront compensation device 72 through each optical member of the first illumination optical system 100a, deviated from the optical path of the first illumination optical system 100a by the BS 71, and reflected by the dichroic mirror 86. The light is guided to the wavefront sensor 73 through the PBS 85, the lens 84, the flat mirror 83, and the lens 82.

PBS85は、波面補償部に備えられた第2偏光手段であり、光源76から眼Eに照射された光の偏光方向(P偏光光)を遮断し、この偏光方向に直交する偏光方向(S偏光光)を透過し、波面センサ73へと導光する役割を持つ。なお、ダイクロイックミラー86は、光源1の波長の光(840nm)を透過し、収差検出用の光源76の波長の光(780nm)を反射する特性とされる。従って、波面センサ73では、照射したレーザ光の眼底での散乱光のうちS偏光成分を持つ光が検出される。このようにして、角膜や光学素子で反射される光が波面センサ73に検出されることを抑制している。   The PBS 85 is a second polarization unit provided in the wavefront compensation unit, blocks the polarization direction (P-polarized light) of the light emitted from the light source 76 to the eye E, and is orthogonal to the polarization direction (S-polarized light). Light) and guides it to the wavefront sensor 73. The dichroic mirror 86 has a characteristic of transmitting light (840 nm) having the wavelength of the light source 1 and reflecting light (780 nm) having the wavelength of the light source 76 for detecting aberration. Accordingly, the wavefront sensor 73 detects light having an S-polarized component from the scattered light on the fundus of the irradiated laser light. In this way, light reflected by the cornea and the optical element is suppressed from being detected by the wavefront sensor 73.

走査部15、波面補償デバイス72の反射面、及び波面センサ73のマイクロレンズアレイは、被検眼の瞳と略共役とされる。また、波面センサ73の受光面は被検眼Eの眼底と略共役とされる。波面センサ73には、低次収差及び高次収差を含む波面収差が検出できる素子、例えば、ハルトマンシャック検出器や光強度の変化を検出する波面曲率センサ等を用いる。   The scanning unit 15, the reflection surface of the wavefront compensation device 72, and the microlens array of the wavefront sensor 73 are substantially conjugate with the pupil of the eye to be examined. The light receiving surface of the wavefront sensor 73 is substantially conjugate with the fundus of the eye E. As the wavefront sensor 73, an element capable of detecting wavefront aberration including low-order aberration and high-order aberration, for example, a Hartmann Shack detector, a wavefront curvature sensor that detects a change in light intensity, or the like is used.

また、波面補償デバイス72は、例えば、液晶空間光変調器とし、反射型のLCOS(Liquid Crystal On Silicon)等を用いるものとしている。そして、波面補償デバイス72は、眼底撮像光学系100の光路中に配置され、入射光の波面を制御して被検眼の波面収差を補償する。なお、波面補償デバイス72は、光源1からの照明光(S偏光光)、照明光の眼底での反射光(S偏光光)、波面収差検出用光の反射光(S偏光成分)等の所定の直線偏光(S偏光)に対して収差を補償することが可能な向きに配置される。これにより、波面補償デバイス72は、入射する光のS偏光成分を変調できる。   The wavefront compensation device 72 is, for example, a liquid crystal spatial light modulator and uses a reflective LCOS (Liquid Crystal On Silicon) or the like. The wavefront compensation device 72 is disposed in the optical path of the fundus imaging optical system 100 and controls the wavefront of incident light to compensate for the wavefront aberration of the eye to be examined. The wavefront compensation device 72 is a predetermined unit such as illumination light (S-polarized light) from the light source 1, reflected light from the fundus of the illumination light (S-polarized light), reflected light of wavefront aberration detection light (S-polarized component), and the like. Are arranged in a direction capable of compensating the aberration with respect to the linearly polarized light (S-polarized light). As a result, the wavefront compensation device 72 can modulate the S-polarized component of the incident light.

波面補償デバイス72は、その液晶層内の液晶分子の配列方向が入射する反射光の偏光面と略平行であり、さらに、液晶分子が液晶層への印加電圧の変化に応じて回転する所定の面が、波面補償デバイス72に対する眼底からの反射光の入射光軸及び反射光軸と、波面補償デバイス72が持つミラー層の法線と、を含む平面に対して略平行になるように、配置されている。   The wavefront compensation device 72 has a predetermined direction in which the alignment direction of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer is substantially parallel to the polarization plane of the incident reflected light, and the liquid crystal molecules rotate according to a change in the voltage applied to the liquid crystal layer. Arranged so that the plane is substantially parallel to a plane including the incident optical axis and reflected optical axis of the reflected light from the fundus to the wavefront compensation device 72 and the normal of the mirror layer of the wavefront compensation device 72 Has been.

なお、本実施例においては、波面補償デバイス72は、液晶変調素子とし、反射型のLCOS(Liquid Crystal On Silicon)等を用いるものとしているが、これに限るものではない。反射型の波面補償デバイスであればよい。例えば、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)の一形態であるデフォーマブルミラーを用いてもよい。また、反射型の波面補償デバイスではなく、眼底からの反射光を透過させて波面収差を補償するような透過型の波面補償デバイスを用いることもできる。   In this embodiment, the wavefront compensation device 72 is a liquid crystal modulation element and uses a reflective LCOS (Liquid Crystal On Silicon) or the like, but is not limited thereto. Any reflective wavefront compensation device may be used. For example, a deformable mirror that is a form of MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) may be used. Further, instead of a reflection type wavefront compensation device, a transmission type wavefront compensation device that transmits reflected light from the fundus and compensates for wavefront aberration can also be used.

なお、以上の説明では、収差検出用光源として、第1光源とは異なる波長の照明光を出射する光源を用いたが、第1光源を収差検出用光源として用いてもよい。   In the above description, a light source that emits illumination light having a wavelength different from that of the first light source is used as the aberration detection light source. However, the first light source may be used as the aberration detection light source.

なお、以上説明した本実施形態では、波面センサ及び波面補償デバイスを被検眼の瞳共役としたが、被検眼の前眼部の所定部位と略共役な位置であればよく、例えば、角膜共役であってもよい。   In the present embodiment described above, the wavefront sensor and the wavefront compensation device are the pupil conjugate of the eye to be examined. However, the position may be a position that is substantially conjugate with a predetermined part of the anterior eye portion of the eye to be examined. There may be.

次に、眼底撮影装置の制御系を説明する。図3は、本実施形態の眼底撮影装置の制御系を示したブロック図である。装置全体の制御を行う制御部80には、光源1、駆動機構505、走査部15、受光素子56、波面補償デバイス72、波面センサ73、光源76、第2撮影ユニット200、トラッキング用ユニット300、偏向部400、駆動部10a、が接続される。また、記憶部81、コントロール部92、画像処理部93、モニタ70、が接続される。   Next, a control system of the fundus imaging apparatus will be described. FIG. 3 is a block diagram showing a control system of the fundus imaging apparatus of the present embodiment. The control unit 80 that controls the entire apparatus includes a light source 1, a driving mechanism 505, a scanning unit 15, a light receiving element 56, a wavefront compensation device 72, a wavefront sensor 73, a light source 76, a second photographing unit 200, a tracking unit 300, The deflection unit 400 and the drive unit 10a are connected. Further, a storage unit 81, a control unit 92, an image processing unit 93, and a monitor 70 are connected.

画像処理部93は受光素子56、第2撮影ユニット200にて受光した信号に基づきモニタ70に画角の異なる被検眼眼底の画像、つまり、第1眼底画像及び第2眼底画像を形成する。記憶部81には種々の設定情報や撮影画像が保存される。なお、モニタ70には、例えば、外部のパ−ソナルコンピューターのモニタや装置に備えられているモニタが考えられる。モニタ70には、所定のフレームレートにて更新される眼底画像(第1眼底画像、及び第2眼底画像)が表示される。フレームレートとしては、例えば、10〜100Hzとされる。このようにして、動画として眼底画像が表示される。本実施形態では、制御部80は、モニタ70の表示制御部、偏向部400の駆動制御部、光源1、76等の出射制御部の機能を兼ねる。   Based on signals received by the light receiving element 56 and the second imaging unit 200, the image processing unit 93 forms on the monitor 70 images of the fundus of the subject's eye with different angles of view, that is, a first fundus image and a second fundus image. Various setting information and captured images are stored in the storage unit 81. As the monitor 70, for example, a monitor of an external personal computer or a monitor provided in an apparatus can be considered. The monitor 70 displays fundus images (first fundus image and second fundus image) that are updated at a predetermined frame rate. The frame rate is, for example, 10 to 100 Hz. In this way, the fundus image is displayed as a moving image. In the present embodiment, the control unit 80 also functions as a display control unit of the monitor 70, a drive control unit of the deflection unit 400, and emission control units such as the light sources 1 and 76.

なお、波面補償デバイス72を制御する場合、波面センサ73で検出された波面収差に基づいて、波面補償デバイス72が制御され、光源76の反射光のS偏光成分と共に、光源1から出射される照明光とその反射光の高次収差が取り除かれる。このようにして、光源1から出射された照明光とその反射光が持つ収差が取り除かれる。言い換えると、被検眼Eの高次収差が取り除かれた(波面補償された)高解像度の第1眼底画像が得られることとなる。この場合、視度補正部10によって低次収差が補正される。   When the wavefront compensation device 72 is controlled, the wavefront compensation device 72 is controlled based on the wavefront aberration detected by the wavefront sensor 73, and the illumination emitted from the light source 1 together with the S-polarized component of the reflected light of the light source 76. Higher order aberrations of the light and its reflected light are removed. In this way, the aberration of the illumination light emitted from the light source 1 and the reflected light is removed. In other words, a high-resolution first fundus image from which the high-order aberration of the eye E is removed (wavefront compensated) is obtained. In this case, the low-order aberration is corrected by the diopter correction unit 10.

図4は、波面センサの補償可能領域と有効領域について説明する図である。補償可能領域40は、波面補償デバイス72において、入射光の波面を制御可能な領域を示している。有効領域41は、補償可能領域40内において、波面センサ73からの検出信号に基づく波面補償デバイス72のフィードバック制御によって収差補正が有効である領域を示している。本実施形態においては、補償可能領域40は、16×12mmの大きさであり、有効領域41は、φ8.64mmの大きさである。補償可能領域40の大きさは、有効領域41の大きさよりも十分な範囲の大きさであるため、有効領域41の位置・大きさ・形状の少なくともいずれかを補償可能領域40内において変更できる(詳しくは後述する)。   FIG. 4 is a diagram for explaining a compensable region and an effective region of the wavefront sensor. The compensable region 40 indicates a region where the wavefront of the incident light can be controlled in the wavefront compensation device 72. The effective area 41 indicates an area in which aberration correction is effective by feedback control of the wavefront compensation device 72 based on a detection signal from the wavefront sensor 73 in the compensable area 40. In the present embodiment, the compensable region 40 has a size of 16 × 12 mm, and the effective region 41 has a size of φ8.64 mm. Since the size of the compensable region 40 is sufficiently larger than the size of the effective region 41, at least one of the position, size, and shape of the effective region 41 can be changed in the compensable region 40 ( Details will be described later).

図5は、波面センサの補償可能領域上における指標パターン像と有効領域の具体例について説明する図である。図6はモニタ70の画面上に表示された収差補正画面60を示した図である。収差補正画面60には、波面センサ73の二次元撮像素子73aに受光された指標パターン像(本実施例においては、ハルトマン像とし、以下、ハルトマン像と記載する)61と、収差補正の補正度合(残存収差)をグラフィック表示した収差補正グラフィック65と、実際に撮影されている眼底の細胞像画像66と、が表示されている。   FIG. 5 is a diagram for explaining a specific example of an index pattern image and an effective area on a compensable area of the wavefront sensor. FIG. 6 is a diagram showing an aberration correction screen 60 displayed on the screen of the monitor 70. The aberration correction screen 60 includes an index pattern image (in this embodiment, a Hartmann image, hereinafter referred to as a Hartmann image) 61 received by the two-dimensional imaging element 73a of the wavefront sensor 73, and a correction degree of aberration correction. An aberration correction graphic 65 that graphically displays (residual aberration) and a cell image image 66 of the fundus that is actually captured are displayed.

ハルトマン像(ドットパターン像)61は、波面センサ73上に受光された複数の点像61aの集まりを示す。レンズアレイを通過した眼底反射光は、波面センサ73の二次元撮像素子73aに受光され、ハルトマン像として撮像される。そして、ハルトマン像61は、モニタ70上に表示される。なお、波面センサ73によって点像61aが検出された領域では、収差検出が可能である。   A Hartmann image (dot pattern image) 61 represents a group of a plurality of point images 61 a received on the wavefront sensor 73. The fundus reflection light that has passed through the lens array is received by the two-dimensional imaging device 73a of the wavefront sensor 73 and captured as a Hartmann image. The Hartmann image 61 is displayed on the monitor 70. In the area where the point image 61a is detected by the wavefront sensor 73, aberration detection is possible.

円62は、二次元撮像素子73a上において、波面補償デバイス72によって収差補正が有効である有効領域を仮想的に示したものである。そして、円62に対応するグラフィックが、モニタ70上のハルトマン像に重合されて表示される。円62の中心に位置するマークは、波面センサ73上における有効領域の中心位置を示すグラフィックである。   A circle 62 virtually indicates an effective region in which aberration correction is effective by the wavefront compensation device 72 on the two-dimensional imaging device 73a. The graphic corresponding to the circle 62 is superimposed on the Hartmann image on the monitor 70 and displayed. The mark located at the center of the circle 62 is a graphic indicating the center position of the effective area on the wavefront sensor 73.

そして、円62の外周、領域、波面センサ73上におけるその位置情報が予め記憶部81に設定されている。これらは、キャリブレーション又はシミュレーションなどにより予め求めておけばよい。なお、波面補償デバイス72において、有効領域は、入射光全体の内、ある一部の領域(例えば、瞳孔上における直径6mm領域)の光束に制限される。このため、他の入射光については、受光素子54に向けて反射されるが、波面は補償されない。   The outer circumference of the circle 62, the area, and the position information on the wavefront sensor 73 are set in the storage unit 81 in advance. These may be obtained in advance by calibration or simulation. In the wavefront compensation device 72, the effective region is limited to a light beam in a certain partial region (for example, a region having a diameter of 6 mm on the pupil) in the entire incident light. For this reason, other incident light is reflected toward the light receiving element 54, but the wavefront is not compensated.

ここで、収差補正は、波面センサ73による収差検出結果に基づいて行われる。すなわち、円62の領域内においてハルトマン像61が形成された領域では、波面の状態が検出可能である(図5(b)参照)。一方、円62の領域内において、ハルトマン像61が形成されていない領域Sにおいては、波面の状態が検出されない。ここで、波面データの一部が欠損している場合、波面全体の情報が得られないため、波面補正領域における波面収差が適正に測定されない(図5(a)参照)。よって、図6(a)に示すように、収差補正が実行されても、収差補正グラフィック65に示されるように適正に収差が除去されない。また、細胞像画像66に示されるように撮影が困難となる。   Here, the aberration correction is performed based on the aberration detection result by the wavefront sensor 73. That is, in the region where the Hartmann image 61 is formed in the region of the circle 62, the wavefront state can be detected (see FIG. 5B). On the other hand, in the region of the circle 62, the wavefront state is not detected in the region S where the Hartmann image 61 is not formed. Here, when part of the wavefront data is missing, information on the entire wavefront cannot be obtained, and therefore the wavefront aberration in the wavefront correction region is not properly measured (see FIG. 5A). Therefore, as shown in FIG. 6A, even when the aberration correction is performed, the aberration is not properly removed as shown in the aberration correction graphic 65. In addition, as shown in the cell image 66, it becomes difficult to capture.

以上のような構成の眼底撮影装置において、その動作を図7に示すフローチャートを用いて説明する。   The operation of the fundus imaging apparatus having the above configuration will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

検者により、初めに、モニタ70の画面上に表示された図示無き前眼部画像を観察しながら、顎台610の位置調整を手動又は自動にて行い、粗くアライメントを行う。また、検者は、被検者が図示無き固視標を固視するように指示する。   First, the examiner adjusts the position of the chin rest 610 manually or automatically while observing an anterior ocular segment image (not shown) displayed on the screen of the monitor 70 to perform rough alignment. Further, the examiner instructs the subject to fixate a fixation target (not shown).

顎台610による粗いアライメントが完了し、検者により図示無き測定スイッチが選択されると、制御部80により、視度補正部10を用いて視度補正が行われ、次いで、収差補正に必要な波面検出を行う。   When the rough alignment by the chin rest 610 is completed and a measurement switch (not shown) is selected by the examiner, the control unit 80 performs diopter correction using the diopter correction unit 10, and then it is necessary for aberration correction. Perform wavefront detection.

次に、制御部80は、波面センサ73上に設定された波面補償デバイス72の有効領域(例えば、円62)と波面センサ73による指標パターン像(例えば、ハルトマン像61)の受光領域(波面測定領域)とのずれ情報を検出する。そして、制御部80は、顎台610の位置調整を手動又は自動にて行う。他の構成として、撮影部500を眼Eに対して移動可能な構成を設けた場合、制御部80は、ずれ情報が許容範囲内に収まるように撮影部500を移動させてもよい。   Next, the control unit 80 receives the effective area (for example, circle 62) of the wavefront compensation device 72 set on the wavefront sensor 73 and the light receiving area (wavefront measurement) of the index pattern image (for example, Hartmann image 61) by the wavefront sensor 73. The deviation information from the area is detected. Then, the controller 80 manually or automatically adjusts the position of the chin rest 610. As another configuration, when the photographing unit 500 is configured to be movable with respect to the eye E, the control unit 80 may move the photographing unit 500 so that the deviation information is within an allowable range.

例えば、制御部80は、円62の成す領域がハルトマン像外周61bの成す領域内に収まっているか判定をする。そして、制御部80は、円62の成す領域がハルトマン像外周61bの成す領域から外れている場合、眼Eと撮影部500との相対位置を調整する。一方、制御部80は、円62の成す領域がハルトマン像外周61bの成す領域内に収まっている場合に、波面センサ73の検出結果に基づいて被検眼Eの波面収差を検出するとともに、眼底撮像光学系100による眼底撮影を開始する。   For example, the control unit 80 determines whether the region formed by the circle 62 is within the region formed by the Hartmann image outer periphery 61b. And the control part 80 adjusts the relative position of the eye E and the imaging | photography part 500, when the area | region which the circle | round | yen 62 comprises has remove | deviated from the area | region which the Hartmann image outer periphery 61b comprises. On the other hand, when the region formed by the circle 62 is within the region formed by the Hartmann image outer periphery 61b, the control unit 80 detects the wavefront aberration of the eye E based on the detection result of the wavefront sensor 73, and performs fundus imaging. Fundus photographing with the optical system 100 is started.

制御部80は、その収差の検出結果に基づいて、収差補償量を算出し、その算出結果を用いて、波面補償デバイス72の有効領域41を制御し、波面収差を補償する。そして、制御部80は、波面センサ73から出力されるハルトマン像を新たに取得し、波面収差を検出する。そして、その収差検出結果に基づいて、収差補償量を算出し、その算出結果を用いて、波面補償デバイス72の有効領域41を制御し、波面収差を補償する。以上のように、制御部80は、収差検出と、その結果に基づく波面補償の制御と、を繰り返すフィードバック制御を行う。   The control unit 80 calculates an aberration compensation amount based on the detection result of the aberration, and controls the effective area 41 of the wavefront compensation device 72 using the calculation result to compensate the wavefront aberration. Then, the control unit 80 newly acquires a Hartmann image output from the wavefront sensor 73, and detects wavefront aberration. Then, an aberration compensation amount is calculated based on the aberration detection result, and the effective area 41 of the wavefront compensation device 72 is controlled using the calculation result to compensate for the wavefront aberration. As described above, the control unit 80 performs feedback control that repeats aberration detection and wavefront compensation control based on the aberration detection.

例えば、LCOSの場合、波面センサ73による波面収差の検出と、この検出結果に基づくLCOSの位相パターンの算出と、この算出結果に基づくLCOSの各画素への電圧印加と、を含むループ処理において補償用位相パターンはフィードバック制御される。これにより、波面収差の検出に基づいてLCOSの液晶層の屈折率が随時変化され、眼底反射光の波面の歪みが補正される。   For example, in the case of LCOS, compensation is performed in a loop process including detection of wavefront aberration by the wavefront sensor 73, calculation of an LCOS phase pattern based on the detection result, and application of a voltage to each pixel of the LCOS based on the calculation result. The phase pattern for use is feedback controlled. Accordingly, the refractive index of the LCOS liquid crystal layer is changed as needed based on the detection of the wavefront aberration, and the distortion of the wavefront of the fundus reflection light is corrected.

また、デフォーマブルミラーの場合、波面センサ73による波面収差の検出と、この検出結果に基づくミラー形状の算出と、この算出結果に基づくデフォーマブルミラーの各駆動部への電圧印加と、を含むループ処理においてミラー全体の形状はフィードバック制御される。これにより、波面収差の検出に基づいて、ミラー全体の形状が随時変化され、眼底反射光の波面の歪みが補正される。   In the case of a deformable mirror, a loop including wavefront aberration detection by the wavefront sensor 73, calculation of a mirror shape based on the detection result, and voltage application to each drive unit of the deformable mirror based on the calculation result. In the processing, the shape of the entire mirror is feedback controlled. Thereby, based on the detection of wavefront aberration, the shape of the entire mirror is changed as needed, and the distortion of the wavefront of the fundus reflection light is corrected.

上記のフィードバック制御は、波面収差が補償される間に、同時に取得されている眼底動画像に反映される。すなわち、上記のように、フィードバック制御を行うことにより、眼底反射光の波面が補償されていくため、眼底動画像のぼけを減らすことができる。したがって、被検眼の固視状態や位置の変化によって、眼底撮影装置に対する被検眼の収差状態が変化しても、鮮明な眼底像を得ることができる。   The above feedback control is reflected in the fundus moving image acquired simultaneously while the wavefront aberration is compensated. That is, as described above, by performing feedback control, the wavefront of the fundus reflection light is compensated, and thus blurring of the fundus moving image can be reduced. Therefore, a clear fundus image can be obtained even if the aberration state of the eye to be examined with respect to the fundus imaging apparatus changes due to changes in the fixation state or position of the eye to be examined.

なお、フィードバック制御は、撮影終了時まで行われる。また、フィードバック制御が行われ、眼底動画像を取得している間に、所定のトリガ信号が出力されると、そのときに取得された眼底の細胞像が動画像又は静止画像として記憶部81に記憶される。   The feedback control is performed until the end of shooting. When a predetermined trigger signal is output while feedback control is performed and the fundus moving image is acquired, the cell image of the fundus acquired at that time is stored in the storage unit 81 as a moving image or a still image. Remembered.

ここで、位置合わせを調整した後においても、例えば、被検眼Eの固視状態が十分に保持できない等の理由により、被検眼Eと装置間で位置ずれが生じ、実際に波面を測定している波面測定領域(ハルトマン像外周61bの成す領域)が波面補償デバイス72の有効領域41(円62の成す領域)を制御するのに必要な領域から外れてしまう可能性がある。この場合、有効領域41(円62の成す領域)の制御に必要な波面情報が十分に得られない。   Here, even after the alignment is adjusted, for example, the fixation state of the eye E cannot be sufficiently maintained, so that a positional deviation occurs between the eye E and the apparatus, and the wavefront is actually measured. The wavefront measurement region (region formed by the Hartmann image outer periphery 61b) may deviate from the region necessary for controlling the effective region 41 (region formed by the circle 62) of the wavefront compensation device 72. In this case, sufficient wavefront information necessary for controlling the effective area 41 (area formed by the circle 62) cannot be obtained.

そこで、波面測定領域と波面補償デバイスの有効領域にずれが生じた場合、制御部80は、波面補償デバイス72において収差補正制御が有効な有効領域41と収差測定光学系110によって波面収差が測定される波面測定領域との間の光軸に直交する方向に関するずれが補正されるように、波面補償デバイス72を制御する。例えば、制御部80は、有効領域41と波面測定領域との間の光軸に直交する方向に関するずれ情報を検出する。そして、制御部80は、検出されたずれ情報が許容範囲内を外れた場合に、ずれ情報が許容範囲内に収まるように、有効領域41の位置を調整する。   Therefore, when a deviation occurs between the wavefront measurement region and the effective region of the wavefront compensation device, the control unit 80 measures the wavefront aberration by the effective region 41 in which the aberration correction control is effective in the wavefront compensation device 72 and the aberration measurement optical system 110. The wavefront compensation device 72 is controlled so that the deviation in the direction orthogonal to the optical axis between the measured wavefront measurement region and the wavefront measurement region is corrected. For example, the control unit 80 detects deviation information regarding a direction orthogonal to the optical axis between the effective area 41 and the wavefront measurement area. Then, the control unit 80 adjusts the position of the effective area 41 so that the deviation information is within the allowable range when the detected deviation information is out of the allowable range.

具体的に説明すると、初めに、制御部80は、波面センサ73で受光されたハルトマン像61の内で最も外側で受光された点像位置を順に検出していきハルトマン像外周61bの位置情報を検出する。これにより、ハルトマン像61の検出領域(波面測定領域)が求められる。   Specifically, first, the control unit 80 sequentially detects the position of the point image received at the outermost side among the Hartmann images 61 received by the wavefront sensor 73, and obtains position information of the Hartmann image outer periphery 61b. To detect. Thereby, the detection area (wavefront measurement area) of the Hartmann image 61 is obtained.

次いで、制御部80は、ハルトマン像外周61bの位置情報と円62(有効領域)の位置情報を比較して、その比較結果に基づいて波面測定領域が有効領域を満たしているかを判定する。これにより、眼Eの収差を補正できるか否かが判定される。   Next, the control unit 80 compares the position information of the Hartmann image outer periphery 61b and the position information of the circle 62 (effective region), and determines whether the wavefront measurement region satisfies the effective region based on the comparison result. Thereby, it is determined whether or not the aberration of the eye E can be corrected.

より具体的には、制御部80は、ハルトマン像外周61bに囲まれた領域(点線参照)と円62に囲まれた領域を比較する。ここで、制御部80は、円62の成す領域がハルトマン像外周61bの成す領域内に収まっている場合には、十分である(OK)と判定する(図5(b)参照)。また、制御部80は、円62の成す領域が外周61bの成す領域内に収まっていない場合には、不十分である(NG)と判定する(図5(a)参照)。   More specifically, the control unit 80 compares the region surrounded by the Hartmann image outer periphery 61 b (see the dotted line) with the region surrounded by the circle 62. Here, the control unit 80 determines that it is sufficient (OK) when the region formed by the circle 62 is within the region formed by the Hartmann image outer periphery 61b (see FIG. 5B). Moreover, the control part 80 determines with it being inadequate (NG), when the area | region which the circle 62 comprises is not settled in the area | region which the outer periphery 61b comprises (refer Fig.5 (a)).

制御部80は、NGと判定すると、ハルトマン像61の外周61bの成す領域内に円62の成す領域が入るように、波面補償デバイス72を制御し、波面補償デバイス72の補償可能領域40内で有効領域41を変更させる。補償可能領域40は、入射光の波面を制御(移動、拡大等)可能な領域であるため、入射光の波面を制御する位置を変更することによって、補償可能領域64内において、有効領域41を変更(再設定)することが可能である。   If the controller 80 determines NG, the controller 80 controls the wavefront compensation device 72 so that the region formed by the circle 62 enters the region formed by the outer periphery 61b of the Hartmann image 61, and within the compensable region 40 of the wavefront compensation device 72. The effective area 41 is changed. Since the compensable region 40 is a region in which the wavefront of incident light can be controlled (moved, expanded, etc.), the effective region 41 is changed within the compensable region 64 by changing the position for controlling the wavefront of incident light. It is possible to change (reset).

以下、図8を参考にして、有効領域の変更の具体例について説明する。例えば、制御部80は、検出したハルトマン像外周61bの位置情報よりハルトマン像61の中心座標O1を算出する。また、制御部80は、円62の中心座標O2を算出する(図8(a)参照)。制御部80は、ハルトマン像61の中心座標O1の座標位置と円62の中心座標O2が一致するように、波面補償デバイス72の波面の制御位置を変更し、有効領域41の位置を移動させる。これにより、図8(b)に示されるように、ハルトマン像外周61a内に円62が収まり、収差補正可能な状態となる。また、図6(b)に示すように、収差補正グラフィック65に示されるように収差が除去された状態となり、細胞像画像66においても、収差が除去された画像が表示される。   Hereinafter, a specific example of changing the effective area will be described with reference to FIG. For example, the control unit 80 calculates the center coordinate O1 of the Hartmann image 61 from the detected position information of the Hartman image outer periphery 61b. Further, the control unit 80 calculates the center coordinate O2 of the circle 62 (see FIG. 8A). The control unit 80 changes the control position of the wavefront of the wavefront compensation device 72 and moves the position of the effective region 41 so that the coordinate position of the center coordinate O1 of the Hartmann image 61 and the center coordinate O2 of the circle 62 coincide. As a result, as shown in FIG. 8B, the circle 62 is accommodated in the Hartmann image outer periphery 61a, and the aberration can be corrected. Further, as shown in FIG. 6B, the aberration is removed as shown in the aberration correction graphic 65, and an image from which the aberration is removed is also displayed in the cell image 66.

被検眼は随時移動する可能性があるため、制御部80は、測定光軸に対する測定可能領域の変化に応じて、波面補償デバイス72の有効領域41の位置を追尾させる。   Since the eye to be inspected may move at any time, the control unit 80 tracks the position of the effective area 41 of the wavefront compensation device 72 according to the change in the measurable area with respect to the measurement optical axis.

なお、上記のように円62の位置の調整に伴って、制御部80は、位置を調整する前の第1の有効領域において用いられた収差補正状態を用いて、位置を調整した後の第2有効領域での収差補正制御を行う。制御部80は、収差補正制御として、第2有効領域への調整後、収差検出と、その検出結果に基づく波面補償制御と、と繰り返すフィードバック制御を行う。すなわち、制御部80は、位置調整後の有効領域41における収差補償量に関して、位置調整前の有効領域41で用いていた収差補正量を転用すればよく、収差補正量を継続しつつ収差補正位置を変更するような補正処理を行う。   As described above, with the adjustment of the position of the circle 62, the control unit 80 uses the aberration correction state used in the first effective area before adjusting the position, and adjusts the position after adjusting the position. 2. Aberration correction control in the effective area is performed. As the aberration correction control, the control unit 80 performs feedback control that repeatedly performs aberration detection and wavefront compensation control based on the detection result after adjustment to the second effective region. That is, the control unit 80 only needs to divert the aberration correction amount used in the effective region 41 before the position adjustment with respect to the aberration compensation amount in the effective region 41 after the position adjustment, and the aberration correction position while continuing the aberration correction amount. Correction processing is performed to change

例えば、制御部80は、有効領域41の位置を調整する際に、円62の成す領域がハルトマン像外周61bの成す領域から外れる直前又はそれより前の収差補償量を記憶部81に記憶させる。そして、円62の位置調整完了とともに、制御部80は、記憶部81に記憶されていた収差補償量にて、波面補償デバイス72を動作させる。もちろん、元の収差補償量を記憶させなくても、有効領域を変更する際には、収差補償量が維持される構成としてもよい。なお、円62の成す領域がハルトマン像外周61bの成す領域から外れる前の収差検出結果が反映された収差補償量にて波面補償デバイス72が動作されればよく、円62の成す領域がハルトマン像外周61bの成す領域から外れる前と同程度の駆動信号が印加されればよい。   For example, when adjusting the position of the effective region 41, the control unit 80 causes the storage unit 81 to store the aberration compensation amount immediately before or before the region formed by the circle 62 deviates from the region formed by the Hartmann image outer periphery 61b. When the position adjustment of the circle 62 is completed, the control unit 80 operates the wavefront compensation device 72 with the aberration compensation amount stored in the storage unit 81. Of course, the aberration compensation amount may be maintained when the effective region is changed without storing the original aberration compensation amount. It is sufficient that the wavefront compensation device 72 is operated with an aberration compensation amount that reflects the aberration detection result before the region formed by the circle 62 deviates from the region formed by the Hartmann image outer periphery 61b, and the region formed by the circle 62 is the Hartman image. It is only necessary to apply a drive signal of the same level as before the region outside the outer periphery 61b.

LCOSの場合、有効領域41の位置を調整するとともに、制御部80は、有効領域41内におけるLCOSの各画素への電圧印加量を、円62の成す領域がハルトマン像外周61bの成す領域から外れる前の印加量にて調整し、LCOSの屈折率を一定とすればよい。デフォーマブルミラーの場合、制御部80は、同様に、有効領域内に関して、円62の成す領域がハルトマン像外周61bの成す領域から外れる前の印加量にて各駆動部への電圧印加量を調整し、ミラー全体の形状を一定とすればよい。   In the case of LCOS, the position of the effective region 41 is adjusted, and the control unit 80 determines the voltage application amount to each pixel of the LCOS in the effective region 41 so that the region formed by the circle 62 deviates from the region formed by the Hartmann image outer periphery 61b. The refractive index of LCOS may be made constant by adjusting the previous application amount. In the case of a deformable mirror, the control unit 80 similarly adjusts the voltage application amount to each drive unit with the application amount before the region formed by the circle 62 deviates from the region formed by the Hartmann image outer periphery 61b in the effective region. The shape of the entire mirror may be made constant.

なお、制御部80は、ずれ情報が許容範囲内を外れた場合においても、眼底撮像光学系100を動作させることにより眼底の高倍率画像を連続的に取得し、取得される高倍率画像を動画像としてモニタ85に随時出力する。すなわち、制御部80は、波面補償デバイス72の有効領域位置の移動を用いたトラッキングを行う。   Note that the control unit 80 continuously acquires a high-magnification image of the fundus by operating the fundus imaging optical system 100 even when the deviation information is out of the allowable range, and the acquired high-magnification image is a moving image. An image is output to the monitor 85 as needed. That is, the control unit 80 performs tracking using the movement of the effective region position of the wavefront compensation device 72.

円62の位置を調整した後、制御部80は、波面センサ73によって波面収差を検出し、収差検出結果に基づく駆動信号を波面補償デバイス72に送る。そして、制御部80は、円32が外周31a内に収まっている間は、波面センサ73による収差検出/検出結果に基づく波面補償デバイス72による波面補償の動作を繰り返す。これにより、リアルタイムで検出される収差検出結果が波面補償デバイス72に反映され、ぼけの少ない良好な高倍率眼底像が取得される。   After adjusting the position of the circle 62, the control unit 80 detects wavefront aberration by the wavefront sensor 73 and sends a drive signal based on the aberration detection result to the wavefront compensation device 72. The control unit 80 repeats the wavefront compensation operation by the wavefront compensation device 72 based on the aberration detection / detection result by the wavefront sensor 73 while the circle 32 is within the outer periphery 31a. Thereby, the aberration detection result detected in real time is reflected on the wavefront compensation device 72, and a good high-magnification fundus image with little blur is acquired.

以上のようにして波面収差が補償され、所定のトリガ信号が出力されると、眼底の細胞像が動画像又は静止画像として撮影される。   When wavefront aberration is compensated as described above and a predetermined trigger signal is output, a cell image of the fundus is captured as a moving image or a still image.

なお、撮影中において、被検眼の瞳の位置が大きくずれることで、ハルトマン像61が波面補償デバイス72の補償可能領域64を外れてしまう場合がある。このとき、例えば、警告音を発生させることやモニタ70の画面上に被検眼の位置が大きくずれたことを示す旨を表示させる等によって、検者は、被検眼の位置が大きくずれたことを認識することができる。そして、この場合、検者は、図無き顎台の位置調整を行い、再度、粗くアライメントを行うことによって、ハルトマン像61を波面補償デバイス72の補償可能領域64内に収める。   During imaging, the Hartmann image 61 may deviate from the compensable region 64 of the wavefront compensation device 72 due to a significant shift in the position of the pupil of the eye to be examined. At this time, for example, by displaying a warning sound or indicating that the position of the eye to be examined is greatly deviated on the screen of the monitor 70, the examiner confirms that the position of the eye to be examined has been greatly deviated. Can be recognized. Then, in this case, the examiner adjusts the position of the jaw table (not shown) and coarsely aligns again to place the Hartmann image 61 in the compensable region 64 of the wavefront compensation device 72.

以上のような構成によれば、被検眼の瞳位置の変化によって、眼Eの収差情報が取得できなくなっても、測定位置のずれが補正されるので、眼底の微小領域がスムーズに良好な状態にて撮影できる。また、検者が被検眼の瞳位置の変化に備えて、常に位置あわせを気にする必要がなくなり、検者の手間と負担が軽減される。   According to the configuration as described above, even if aberration information of the eye E cannot be acquired due to a change in the pupil position of the eye to be examined, the shift of the measurement position is corrected, so that the minute region of the fundus is smoothly and satisfactorily You can shoot at. Further, it is not necessary for the examiner to always be aware of the alignment in preparation for a change in the pupil position of the eye to be examined, and the labor and burden on the examiner are reduced.

有効領域の位置を変更した場合においても、有効領域の位置を変更する必要が生じる前の波面補償デバイス72の収差補償量を用いて収差補償のフィードバック制御を開始することにより、収差補正にかかる時間が少なくて済む。このため、スムーズに良好な眼底画像が得られる。   Even when the position of the effective region is changed, the time required for the aberration correction is obtained by starting the aberration compensation feedback control using the aberration compensation amount of the wavefront compensation device 72 before the position of the effective region needs to be changed. Is less. Therefore, a good fundus image can be obtained smoothly.

なお、上記判定において、制御部80は、ハルトマン像外周61bの全ての点像位置座標が円62の位置座標より外側又は同位置であり、且つ、ハルトマン像61外周の成す領域が円62外周の成す領域内に入っている場合には、OKと判定するようにしてもよい。また、制御部80は、ハルトマン像61外周の点像の位置座標が円62外周の位置座標より内側である場合には、NGと判定するようにしてもよい。   In the above determination, the control unit 80 determines that all point image position coordinates of the Hartmann image outer periphery 61b are outside or the same position as the position coordinates of the circle 62, and the area formed by the outer periphery of the Hartman image 61 is the outer periphery of the circle 62. If it is within the area to be formed, it may be determined as OK. In addition, the control unit 80 may determine that the position coordinates of the point image on the outer periphery of the Hartmann image 61 are NG when the position coordinates on the outer periphery of the circle 62 are on the inner side.

なお、上記判定において、指標パターン像が有効領域を100%満たしていなくてもよく、一定の精度にて波面収差が測定されればよい(例えば、95%の領域)。そして、判定結果にてずれが検出された場合、制御部80は、波面補償デバイス72を制御すし、有効領域内におけるある許容範囲(例えば、一定の割合以上)を超えて指標パターン像が受光されるように有効領域を変更させる。   In the above determination, the index pattern image does not have to satisfy 100% of the effective area, and the wavefront aberration may be measured with a certain accuracy (for example, 95% area). When a deviation is detected as a result of the determination, the control unit 80 controls the wavefront compensation device 72, and the index pattern image is received beyond a certain allowable range (for example, a certain ratio or more) in the effective region. The effective area is changed as follows.

なお、本実施例において、制御部80は、波面補償デバイス72の有効領域と波面センサ73による眼底反射光束の検出領域とのずれ情報を波面センサ73の出力信号に基づいて検出したが、これに限定されない。本装置は、波面補償デバイス72の有効領域と波面測定領域との間の光軸に直交する方向に関するずれ情報を検出する。   In this embodiment, the control unit 80 detects deviation information between the effective area of the wavefront compensation device 72 and the detection area of the fundus reflected light flux by the wavefront sensor 73 based on the output signal of the wavefront sensor 73. It is not limited. This apparatus detects deviation information regarding the direction orthogonal to the optical axis between the effective area of the wavefront compensation device 72 and the wavefront measurement area.

例えば、被検眼の前眼部正面像を観察する観察光学系を設ける。制御部80は、観察光学系により撮像された前眼部正面像から瞳孔位置を検出する。そして、制御部80は、ずれ情報として、検出された瞳孔位置と収差検出光学系110の光軸とのずれ情報を検出する構成が挙げられる。   For example, an observation optical system for observing a front image of the anterior segment of the eye to be examined is provided. The control unit 80 detects the pupil position from the front image of the anterior segment imaged by the observation optical system. And the control part 80 has the structure which detects the deviation information of the detected pupil position and the optical axis of the aberration detection optical system 110 as deviation information.

なお、瞳孔位置を検出する手段として、前眼部観察カメラ上に有効領域が設定され、制御部80が前眼部観察系により撮像された前眼部正面像から、瞳孔外縁部を画像処理により抽出し、抽出された前記外縁部に基づいて、瞳孔位置を検出する構成としてもよい。   As a means for detecting the pupil position, an effective region is set on the anterior ocular segment observation camera, and the control unit 80 performs image processing on the outer edge of the pupil from the front image of the anterior ocular segment imaged by the anterior ocular segment observation system. It is good also as a structure which detects a pupil position based on the said outer edge part extracted and extracted.

また、被検眼に対してアライメント光を投光し、角膜周辺にアライメント指標を形成させるアライメント指標投光光学系と、角膜周辺に形成されたアライメント指標を検出するアライメント指標検出光学系を設ける。なお、前眼部観察系によって検出されるアライメント検出結果と前述のずれ情報を予め対応づけておく。そして、制御部80は、アライメント指標検出光学系による検出結果に基づいて、瞳孔位置を間接的に検出する構成でもよい。この場合、例えば、アライメント指標によって検出される角膜頂点位置と,人眼の瞳孔中心位置がほぼ同じであるという前提の下で、瞳孔位置が間接的に検出される。   Further, an alignment index projection optical system that projects alignment light onto the eye to be examined and forms an alignment index around the cornea, and an alignment index detection optical system that detects the alignment index formed around the cornea are provided. Note that the alignment detection result detected by the anterior ocular segment observation system is associated with the above-described deviation information in advance. And the control part 80 may be the structure which detects a pupil position indirectly based on the detection result by an alignment parameter | index detection optical system. In this case, for example, the pupil position is indirectly detected on the assumption that the corneal apex position detected by the alignment index is substantially the same as the pupil center position of the human eye.

なお、本実施形態において、有効領域変更とともに、新たな有効領域の補償量を元の有効領域における収差補償量に変更する構成としたがこれに限定されない。例えば、有効領域の変更後、収差検出を開始し、一から補償を開始する構成としてもよい。   In the present embodiment, the effective amount is changed, and the compensation amount of the new effective region is changed to the aberration compensation amount in the original effective region. However, the present invention is not limited to this. For example, after changing the effective area, aberration detection may be started, and compensation may be started from the beginning.

なお、本実施形態において、制御部80は、有効領域を変更する前の有効領域における収差補償量においては、ゼロにリセットせずとも、有効領域を変更する前の収差補正状態を維持するようにしてもよい。   In the present embodiment, the control unit 80 maintains the aberration correction state before changing the effective area without resetting the aberration compensation amount in the effective area before changing the effective area to zero. May be.

これにより、再度、元の有効領域の位置に有効領域が復帰したした場合においても、波面補償デバイス72の駆動量及び駆動時間が少なくて済み、スムーズに良好な眼底画像が得ることができる。もちろん、有効領域変更後、波面補償デバイス72を収差検出を開始する前の初期状態にリセットしてもよい。   As a result, even when the effective area is restored to the position of the original effective area again, the driving amount and driving time of the wavefront compensation device 72 can be reduced, and a good fundus image can be obtained smoothly. Of course, after changing the effective area, the wavefront compensation device 72 may be reset to an initial state before starting the aberration detection.

なお、本実施形態においては、有効領域の変更にとともに、波面補償デバイス72の収差補償量は、ずれ情報が許容範囲を外れる前の収差補償量を反映させた後、フィードバック制御を連続的に行う構成としたがこれに限定されない。   In the present embodiment, along with the change of the effective area, the aberration compensation amount of the wavefront compensation device 72 continuously performs feedback control after reflecting the aberration compensation amount before the deviation information is out of the allowable range. Although it was set as the structure, it is not limited to this.

収差検出光学系110の検出光軸L1近傍から測定可能領域の中心がずれた場合に、制御部80は、収差補償が既に反映された有効領域41を移動させ、フィードバック制御を一時的に停止させるようにしてもよい。さらに、検出光軸L1近傍に測定可能領域の中心が復帰した場合において、フィードバック制御を再開するようにしてもよい。   When the center of the measurable region deviates from the vicinity of the detection optical axis L1 of the aberration detection optical system 110, the control unit 80 moves the effective region 41 in which the aberration compensation has already been reflected, and temporarily stops the feedback control. You may do it. Furthermore, feedback control may be resumed when the center of the measurable region returns near the detection optical axis L1.

例えば、制御部80は、ずれが発生する前の波面収差補償デバイス72の有効領域41での収差補償量を記憶部81に記憶させる。その後、検出光軸L1近傍に測定可能領域の中心が復帰した場合、有効領域41の位置を戻すと共に、記憶部81に記憶された収差補償量を前記波面補償デバイス72に反映させる。   For example, the control unit 80 causes the storage unit 81 to store the aberration compensation amount in the effective region 41 of the wavefront aberration compensation device 72 before the deviation occurs. Thereafter, when the center of the measurable area returns to the vicinity of the detection optical axis L1, the position of the effective area 41 is returned and the aberration compensation amount stored in the storage unit 81 is reflected in the wavefront compensation device 72.

なお、以上の説明においては、眼底撮像光学系100として、被検眼眼底と略共役な位置に配置された共焦点開口を介して被検眼眼底で反射した光束を受光して被検眼眼底の共焦点正面画像を撮影する共焦点光学系(SLO光学系)を用いるものとしたが、これに限るものではない(例えば、特表2001−507258号公報参照)。   In the above description, the fundus imaging optical system 100 receives the light beam reflected from the fundus of the eye to be examined through the confocal aperture disposed at a position substantially conjugate to the fundus of the eye to be examined, and confocals the fundus of the eye to be examined. Although a confocal optical system (SLO optical system) that captures a front image is used, the present invention is not limited to this (see, for example, JP 2001-507258 A).

例えば、被検眼眼底で反射した光束を二次元撮像素子により受光して被検眼の眼底正面画像を撮影する眼底カメラ光学系であってもよい。また、被検眼眼底で反射した光束と参照光による干渉光を受光して被検眼の断層画像を撮影する光断層干渉光学系(OCT光学系)であってもよい。   For example, a fundus camera optical system that captures a frontal image of the fundus of the subject's eye by receiving a light beam reflected from the fundus of the subject's eye with a two-dimensional image sensor. Further, it may be an optical tomographic interference optical system (OCT optical system) that receives a light beam reflected from the fundus of the eye to be examined and interference light from the reference light and takes a tomographic image of the eye to be examined.

本実施形態の眼底撮影装置の外観図を示した図である。It is the figure which showed the external view of the fundus imaging apparatus of this embodiment. 本実施形態の眼底撮影装置の光学系を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the optical system of the fundus imaging apparatus of this embodiment. 本実施形態の眼底撮影装置の制御系を示したブロック図である。It is the block diagram which showed the control system of the fundus imaging apparatus of this embodiment. 波面センサの補償可能領域と有効領域について説明する図である。It is a figure explaining the compensation area | region and effective area | region of a wavefront sensor. 波面センサの補償可能領域上における指標パターン像と有効領域の具体例について説明する図である。It is a figure explaining the specific example of the index pattern image and effective area on the compensation possible area | region of a wavefront sensor. モニタの画面上に表示された収差補正画面を示した図である。It is the figure which showed the aberration correction screen displayed on the screen of a monitor. 本実施形態の眼底撮影装置における動作について説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the operation | movement in the fundus imaging apparatus of this embodiment. 有効領域の変更の具体例について説明する図である。It is a figure explaining the specific example of a change of an effective area | region.

1 光源
10 視度補正部
15 走査部
56 受光素子
72 波面補償デバイス
73 波面センサ
76 光源
70 モニタ
80 制御部
81 記憶部
100 眼底撮像光学系
110 波面収差検出光学系
200 第2撮影ユニット
300 トラッキング用ユニット
400 偏向部
500 撮影部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light source 10 Diopter correction part 15 Scan part 56 Light receiving element 72 Wavefront compensation device 73 Wavefront sensor 76 Light source 70 Monitor 80 Control part 81 Memory | storage part 100 Fundus imaging optical system 110 Wavefront aberration detection optical system 200 2nd imaging | photography unit 300 Tracking unit 400 Deflection unit 500 Imaging unit

Claims (1)

被検眼眼底上で光を走査する走査部を有し,前記光の被検眼眼底からの反射光を受光して眼底像を撮像する眼底撮像光学系と、
前記眼底撮像光学系の光路中に配置され、入射光の波面を制御して被検眼の波面収差を補償する波面補償デバイスと、
被検眼眼底に向けて測定光を投光し、その眼底からの反射光を波面センサにより検出する波面収差測定光学系と、
前記波面補償デバイスに設けられた補償可能領域の一部であり収差補正制御が有効な有効領域と,前記波面収差測定光学系によって波面収差が測定される波面測定領域と,の間の光軸に直交する方向に関するずれが補正されるように、前記補償可能領域上での前記有効領域の位置を制御する制御手段と、
前記眼底撮像光学系よりも広画角の眼底像を第2眼底像として撮像する第2撮影ユニットと、
前記第2眼底像を用いた位置指定に基づいて前記走査部を制御することにより,前記眼底撮影光学系における眼底上の撮影位置を設定する撮影位置制御手段と、
を備えることを特徴とする波面補償付眼底撮影装置。
A fundus imaging optical system that has a scanning unit that scans light on the fundus of the subject's eye and that receives the reflected light from the fundus of the subject's eye and captures a fundus image;
A wavefront compensation device that is disposed in the optical path of the fundus imaging optical system and that controls the wavefront of incident light to compensate the wavefront aberration of the eye to be examined;
A wavefront aberration measuring optical system for projecting measurement light toward the fundus of the eye to be examined and detecting reflected light from the fundus by a wavefront sensor;
An optical axis between an effective region that is a part of a compensable region provided in the wavefront compensation device and in which aberration correction control is effective, and a wavefront measurement region in which wavefront aberration is measured by the wavefront aberration measurement optical system. Control means for controlling the position of the effective area on the compensable area so that the deviation in the orthogonal direction is corrected;
A second imaging unit that images a fundus image having a wider angle of view than the fundus imaging optical system as a second fundus image;
Photographing position control means for setting the photographing position on the fundus in the fundus photographing optical system by controlling the scanning unit based on the position designation using the second fundus image;
A fundus imaging apparatus with wavefront compensation, comprising:
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