JP5879661B2 - Insulation coating and method for manufacturing the same - Google Patents

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Description

本発明は、適用電圧が高い条件下での使用に適した絶縁被覆体と、その製造方法に関する。   The present invention relates to an insulating covering suitable for use under conditions where the applied voltage is high, and a method for manufacturing the same.

絶縁電線等の、電気絶縁層で被覆された絶縁被覆体は、各種電気機器に組み込まれる導体部品やコイルに用いられる。そして、適用電圧が高い条件下で使用されるモーター等の電気機器では、絶縁電線に高電圧が印加され、絶縁被覆層の表面で部分放電(コロナ放電)が発生し易くなる。コロナ放電が発生すると、局所的に温度が上昇したり、オゾンやイオンが発生して、絶縁被覆層が侵されて絶縁破壊が生じ、電気機器の寿命が短くなってしまう。そこで、適用電圧が高い絶縁被覆層には、部分放電(コロナ放電)の開始電圧を上昇させることが求められる。   An insulation covering such as an insulated wire covered with an electric insulation layer is used for conductor parts and coils incorporated in various electric devices. And in electric equipments, such as a motor used on the conditions with a high applied voltage, a high voltage is applied to an insulated wire and it becomes easy to generate | occur | produce partial discharge (corona discharge) on the surface of an insulation coating layer. When corona discharge occurs, the temperature rises locally, ozone or ions are generated, the insulating coating layer is eroded and dielectric breakdown occurs, and the life of the electrical device is shortened. Therefore, an insulating coating layer having a high applied voltage is required to increase the starting voltage of partial discharge (corona discharge).

また、適用電圧が高い絶縁被覆層には、耐熱性、火災時を想定した高度の難燃性(仮に燃焼したとしても、有害ガスを発生させない、又は有害ガスの発生量を少量に抑制することも重要である)、耐環境性としての耐湿熱性が求められる。   In addition, the insulation coating layer with high applied voltage has high heat resistance and high flame resistance in the event of a fire (does not generate harmful gases even if burned, or suppresses the generation of harmful gases to a small amount. It is also important to have heat and humidity resistance as environmental resistance.

一方、電気機器に組み込むために絶縁被覆体を加工する場合を考えると、例えば、コイル用絶縁電線の場合であれば、コイルの巻き線工程の高速化及び合理化が進められ、従来の手作業に代わり、自動コイル巻き線機による加工を行うことが主流となってきている。コイル用絶縁電線以外の絶縁被覆体でも同様であり、例えば、ロボット等を用いてプレス加工等を自動化して行うことが主流となってきている。しかし、このような自動加工を行う場合には、絶縁被覆体に大きな張力が加わるため、絶縁被覆層は大きなストレスを受け、損傷し易くなる。一方、加工済みの絶縁被覆体を各種電気機器に組み込む工程も、従来の手作業に代わり、ロボット等の機械を用いた自動装填工程が主流となってきたため、絶縁被覆層はさらに大きなストレスを受けるようになってきている。このような環境下では、絶縁被覆体同士、又は絶縁被覆体とその接触物との間で擦れが生じ易くなっており、絶縁被覆層の傷つき(擦傷)による絶縁不良が起こり易くなる。そこで、耐擦傷性が高い絶縁被覆層が求められている。   On the other hand, considering the case of processing an insulation covering for incorporation into an electrical device, for example, in the case of an insulated wire for a coil, the coil winding process has been speeded up and streamlined. Instead, processing by an automatic coil winding machine has become mainstream. The same applies to insulation coverings other than the insulated wire for coils, and for example, it has become mainstream to automate pressing and the like using a robot or the like. However, when such automatic processing is performed, since a large tension is applied to the insulating coating body, the insulating coating layer is easily stressed and easily damaged. On the other hand, the process of incorporating a processed insulation coating into various electrical devices has become more prevalent because the automatic loading process using a machine such as a robot has become the mainstream instead of the conventional manual work. It has become like this. Under such an environment, the insulating coating bodies or between the insulating coating bodies and their contact objects are easily rubbed, and insulation failure due to scratching (scratching) of the insulating coating layer is likely to occur. Therefore, an insulating coating layer having high scratch resistance is required.

これに対して、例えば、部分放電の開始電圧値を上昇させる方法としては、低誘電率の材料で絶縁被覆層を形成する方法が知られており、低誘電率の絶縁材料としてポリイミド、フッ素樹脂、芳香族ポリスルホンが知られている。特許文献1では、ポリエステルイミドとポリエーテルスルホンとの混合樹脂を含む樹脂組成物を、塗布及び焼付けすることで、部分放電の開始電圧が高く、機械的強度や耐熱性に優れる絶縁被覆層を形成することが開示されている。また、特許文献2には、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステルイミド及びH種ポリエステルから選ばれる樹脂と、フッ素樹脂及びポリスルホンから選ばれる低誘電率樹脂と、の混合樹脂を用いた絶縁被覆層が開示されている。   On the other hand, for example, as a method of increasing the starting voltage value of partial discharge, a method of forming an insulating coating layer with a low dielectric constant material is known. As a low dielectric constant insulating material, polyimide, fluororesin Aromatic polysulfones are known. In Patent Document 1, a resin composition containing a mixed resin of polyesterimide and polyethersulfone is applied and baked to form an insulating coating layer having a high partial discharge start voltage and excellent mechanical strength and heat resistance. Is disclosed. Patent Document 2 discloses an insulating coating layer using a mixed resin of a resin selected from polyamide, polyimide, polyesterimide and H-type polyester and a low dielectric constant resin selected from fluororesin and polysulfone. Yes.

しかし、適用電圧が高い絶縁被覆層には、ある程度の厚さが必要となるが、これを形成するための絶縁組成物を用いて、キャスティング及び焼付けからなるプロセスで絶縁被覆層を形成しようとすると、何回にも渡ってこれらプロセスを繰返し行う必要があり、工業的に行うことが困難となってしまう。そこで、熱可塑性樹脂を含む絶縁組成物を用いて、溶融押し出しやプレス加工によって絶縁被覆層を形成するのが好適である。   However, a certain thickness is required for the insulating coating layer having a high applied voltage. However, when an insulating coating layer is formed by a process consisting of casting and baking using an insulating composition for forming the insulating coating layer. These processes need to be repeated many times, making it difficult to do industrially. Therefore, it is preferable to form the insulating coating layer by melt extrusion or pressing using an insulating composition containing a thermoplastic resin.

このように、適用電圧が高い絶縁被覆層には、熱可塑性樹脂を用いて作製でき、部分放電の開始電圧が高く、耐熱性、難燃性、耐環境性及び耐擦傷性を有することが求められる。このような絶縁層を形成可能な材料の例としては、ポリスルホン及びフッ素樹脂が挙げられる。   As described above, the insulating coating layer having a high applied voltage is required to be manufactured using a thermoplastic resin, to have a high partial discharge starting voltage, and to have heat resistance, flame resistance, environmental resistance, and scratch resistance. It is done. Examples of materials that can form such an insulating layer include polysulfone and fluororesin.

特開2009−277369号公報JP 2009-277369 A 特開2010−67521号公報JP 2010-67521 A

しかし、ポリスルホンは剛性が高過ぎる上に、耐薬品性に乏しく、これを用いて形成された絶縁被覆層は、応力変形下で極性有機溶媒等の薬品と接触するとクラックが発生し易い(耐ストレスクラック性が低い)という問題点があった。例えば、絶縁電線の場合、これを巻線してコイルを作製し、エポキシ樹脂等を含むワニスに浸漬した後、ワニスを硬化させるときには、絶縁被覆層にクラックが発生し易い。
また、フッ素樹脂は機械強度が低いため、絶縁被覆層の形成には不向きであるという問題点があった。
However, polysulfone is too rigid and poor in chemical resistance, and the insulating coating layer formed using it is prone to cracking when it comes into contact with chemicals such as polar organic solvents under stress deformation (stress resistance) There was a problem that the cracking property was low. For example, in the case of an insulated wire, a coil is produced by winding the insulated wire, and when the varnish is cured after being immersed in a varnish containing an epoxy resin or the like, a crack is likely to occur in the insulating coating layer.
Further, since the fluororesin has low mechanical strength, there is a problem that it is not suitable for forming an insulating coating layer.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、熱可塑性樹脂を用いて作製でき、部分放電の開始電圧が高く、耐熱性、難燃性、耐環境性、耐擦傷性及び耐薬品性を有する絶縁被覆層を備えた絶縁被覆体と、その製造方法を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, can be produced using a thermoplastic resin, has a high partial discharge start voltage, heat resistance, flame resistance, environmental resistance, scratch resistance and chemical resistance. It is an object of the present invention to provide an insulating coating body including an insulating coating layer having the above and a manufacturing method thereof.

上記課題を解決するため、
本発明は、芳香族ポリスルホン(A)及びフッ素樹脂(B)を含む芳香族ポリスルホン組成物を用いて得られた絶縁被覆層で、被覆対象物が被覆されてなる絶縁被覆体であって、前記芳香族ポリスルホン組成物において、前記芳香族ポリスルホン(A)の鎖状構造の末端に存在するフェノール性ヒドロキシル基及びフェノール性ヒドロキシル基の塩の総含有量が、前記フッ素樹脂(B)1gに対して3.0×10−5〜10.0×10 −5モルであることを特徴とする絶縁被覆体を提供する。
To solve the above problem,
The present invention is an insulating coating obtained by coating an object to be coated with an insulating coating layer obtained by using an aromatic polysulfone composition containing an aromatic polysulfone (A) and a fluororesin (B), In the aromatic polysulfone composition, the total content of phenolic hydroxyl groups and salts of phenolic hydroxyl groups present at the ends of the chain structure of the aromatic polysulfone (A) is 1 g of the fluororesin (B). Provided is an insulating covering characterized in that it is 3.0 × 10 −5 to 10.0 × 10 −5 mol.

本発明の絶縁被覆体においては、前記フッ素樹脂(B)の流動開始温度が350℃以下であることが好ましい。
本発明の絶縁被覆体においては、前記芳香族ポリスルホン組成物において、前記芳香族ポリスルホン(A)の鎖状構造の末端に存在するフェノール性ヒドロキシル基及びフェノール性ヒドロキシル基の塩の総含有量が、前記フッ素樹脂(B)1gに対して4.0×10−5〜9.0×10−5モルであることが好ましい。
本発明の絶縁被覆体においては、前記芳香族ポリスルホン(A)が、下記一般式(1)で表される繰返し単位を有することが好ましい。
(1)−Ph−SO−Ph−O−
(式中、Ph及びPhはそれぞれ独立にフェニレン基であり、前記フェニレン基の1個以上の水素原子は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。)
In the insulation coating body of this invention, it is preferable that the flow start temperature of the said fluororesin (B) is 350 degrees C or less.
In the insulating coating of the present invention, in the aromatic polysulfone composition, the total content of phenolic hydroxyl groups and phenolic hydroxyl group salts present at the ends of the chain structure of the aromatic polysulfone (A) is: it is preferable that the fluorine resin (B) 4.0 × 10 -5 ~9.0 × 10 -5 mol per 1g.
In the insulation coating body of this invention, it is preferable that the said aromatic polysulfone (A) has a repeating unit represented by following General formula (1).
(1) -Ph 1 -SO 2 -Ph 2 -O-
(In the formula, Ph 1 and Ph 2 are each independently a phenylene group, and one or more hydrogen atoms of the phenylene group may be each independently substituted with an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.)

また、本発明は、鎖状構造の末端にフェノール性ヒドロキシル基及び/又はフェノール性ヒドロキシル基の塩を有する芳香族ポリスルホン(A2)と、前記芳香族ポリスルホン(A2)に該当しない芳香族ポリスルホン(A1)と、フッ素樹脂(B)と、を配合して芳香族ポリスルホン組成物を調製し、前記芳香族ポリスルホン組成物を用いて形成した絶縁被覆層で、被覆対象物を被覆する絶縁被覆体の製造方法であって、前記芳香族ポリスルホン組成物において、前記芳香族ポリスルホン(A1)の配合量を100質量部、前記フッ素樹脂(B)の配合量を5〜45質量部とし、前記芳香族ポリスルホン組成物において、鎖状構造の末端に存在する前記フェノール性ヒドロキシル基及びフェノール性ヒドロキシル基の塩の総含有量を、前記フッ素樹脂(B)1gに対して3.0×10−5〜10.0×10 −5モルとすることを特徴とする絶縁被覆体の製造方法を提供する。 The present invention also provides an aromatic polysulfone (A2) having a phenolic hydroxyl group and / or a salt of a phenolic hydroxyl group at the end of the chain structure, and an aromatic polysulfone (A1) not corresponding to the aromatic polysulfone (A2). ) And a fluororesin (B) to prepare an aromatic polysulfone composition, and manufacture of an insulating coating that covers an object to be coated with an insulating coating layer formed using the aromatic polysulfone composition In the aromatic polysulfone composition, the amount of the aromatic polysulfone (A1) is 100 parts by mass, the amount of the fluororesin (B) is 5-45 parts by mass, and the aromatic polysulfone composition The total content of the phenolic hydroxyl group and the salt of the phenolic hydroxyl group present at the end of the chain structure To provide a manufacturing method of the insulating cover member, characterized in that the relative fluororesin (B) 1 g and 3.0 × 10 -5 ~10.0 × 10 -5 mol.

本発明によれば、熱可塑性樹脂を用いて作製でき、部分放電の開始電圧が高く、耐熱性、難燃性、耐環境性、耐擦傷性及び耐薬品性を有する絶縁被覆層を備えた絶縁被覆体と、その製造方法が提供される。   According to the present invention, an insulation having an insulating coating layer that can be produced using a thermoplastic resin, has a high partial discharge start voltage, and has heat resistance, flame resistance, environmental resistance, scratch resistance, and chemical resistance. A covering and a manufacturing method thereof are provided.

本発明に係る絶縁被覆体は、芳香族ポリスルホン(A)及びフッ素樹脂(B)を含む芳香族ポリスルホン組成物を用いて得られた絶縁被覆層で、被覆対象物が被覆されてなる絶縁被覆体であって、前記芳香族ポリスルホン組成物において、前記芳香族ポリスルホン(A)の鎖状構造の末端に存在するフェノール性ヒドロキシル基及びフェノール性ヒドロキシル基の塩(以下、これらをまとめて「末端フェノール性ヒドロキシル基類」という。)の総含有量が、前記フッ素樹脂(B)1gに対して3.0×10−5〜10.0×10 −5モルであることを特徴とする。
前記絶縁被覆層は、前記芳香族ポリスルホン(A)及びフッ素樹脂(B)を用いたものから形成することで、優れた耐薬品性を示す。ここで、「耐薬品性」とは、絶縁被覆層が、残留応力が生じている場合も含めて応力が加えられた状態で、極性有機溶媒等の薬品と接触しても、クラックの発生が抑制される(耐ストレスクラック性が高い)ことを意味する。また、前記絶縁被覆層は、芳香族ポリスルホン(A)を用いているので、熱可塑性に加え、十分な耐熱性、難燃性、耐環境性(耐湿性)及び絶縁性を有し、加えて、部分放電の開始電圧が高い。さらに、フッ素樹脂(B)を用いているので、耐擦傷性に優れ、柔軟性も有する。したがって、本発明に係る絶縁被覆体は、適用電圧が高い条件下で使用される各種電気機器に組み込まれる、コイル等の絶縁被覆導体への適用に好適であり、さらに、絶縁被覆層が耐擦傷性に優れることから、絶縁被覆導体やこれを組み込む各種電気機器の製造及び組み立てを、自動プロセスで行うのに特に好適である。
The insulating coating according to the present invention is an insulating coating obtained by coating an object to be coated with an insulating coating layer obtained by using an aromatic polysulfone composition containing an aromatic polysulfone (A) and a fluororesin (B). In the aromatic polysulfone composition, the phenolic hydroxyl group present at the end of the chain structure of the aromatic polysulfone (A) and a salt of the phenolic hydroxyl group (hereinafter these are collectively referred to as “terminal phenolic”). The total content of “hydroxyl groups”) is 3.0 × 10 −5 to 10.0 × 10 −5 mol with respect to 1 g of the fluororesin (B).
The said insulation coating layer shows the outstanding chemical resistance by forming from the thing using the said aromatic polysulfone (A) and a fluororesin (B). Here, “chemical resistance” means that the insulation coating layer is in a state where stress is applied even when residual stress is generated, and cracks are generated even if it comes into contact with a chemical such as a polar organic solvent. It means that it is suppressed (high stress crack resistance). Moreover, since the said insulation coating layer uses aromatic polysulfone (A), in addition to thermoplasticity, it has sufficient heat resistance, a flame retardance, environmental resistance (humidity resistance), and insulation, The partial discharge starting voltage is high. Furthermore, since the fluororesin (B) is used, it has excellent scratch resistance and flexibility. Therefore, the insulating covering according to the present invention is suitable for application to insulating covering conductors such as coils incorporated in various electric devices used under conditions where the applied voltage is high, and further, the insulating covering layer is scratch resistant. Because of its excellent properties, it is particularly suitable for manufacturing and assembling an insulation-coated conductor and various electric devices incorporating the same by an automatic process.

前記芳香族ポリスルホン(A)は、典型的には、2価の芳香族基(芳香族化合物から、その芳香環に結合した水素原子を2個除いてなる残基)と、スルホニル基(−SO−)と、酸素原子とを含む繰返し単位を有する樹脂である。 The aromatic polysulfone (A) typically includes a divalent aromatic group (residue obtained by removing two hydrogen atoms bonded to the aromatic ring from an aromatic compound) and a sulfonyl group (-SO 2- ) and a resin having a repeating unit containing an oxygen atom.

また、芳香族ポリスルホン(A)は、上記の末端フェノール性ヒドロキシル基類を有する。このような芳香族ポリスルホン(A)を用いることにより、後述するフッ素樹脂(B)と芳香族ポリスルホン(A)との親和性が向上し、その結果、フッ素樹脂(B)が芳香族ポリスルホン(A)からなるマトリックス中で均一且つ安定に分散して、芳香族ポリスルホン組成物の分散性が向上し、芳香族ポリスルホン組成物から得られる絶縁被覆層は、耐擦傷性に優れ、柔軟性も有するものとなる。   Moreover, aromatic polysulfone (A) has said terminal phenolic hydroxyl group. By using such an aromatic polysulfone (A), the affinity between the fluororesin (B) described later and the aromatic polysulfone (A) is improved. As a result, the fluororesin (B) is converted into an aromatic polysulfone (A). ), The dispersibility of the aromatic polysulfone composition is improved in a uniform and stable manner, and the insulating coating layer obtained from the aromatic polysulfone composition has excellent scratch resistance and flexibility. It becomes.

前記フェノール性ヒドロキシル基の塩とは、ヒドロキシル基からプロトンが解離してなるオキシアニオン基と、対カチオンとから構成され、対カチオンの例としては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンの等のアルカリ金属イオン;マグネシウムイオン、カルシウムイオン等のアルカリ土類金属イオン;アンモニア又は第1〜3級アミンがプロトン化されてなるアンモニウムイオン又は4級アンモニウムイオンが挙げられる。なお、対カチオンが、アルカリ土類金属イオン等の多価カチオンである場合、対アニオンは、複数のオキシアニオン基を含んで構成されていてもよいし、オキシアニオン基と、塩化物イオン、水酸化物イオン等の他のアニオンとを含んで構成されていてもよい。   The salt of the phenolic hydroxyl group is composed of an oxyanion group in which protons are dissociated from a hydroxyl group and a counter cation. Examples of the counter cation include alkali ions such as lithium ion, sodium ion, and potassium ion Metal ions; Alkaline earth metal ions such as magnesium ions and calcium ions; Ammonium ions or quaternary ammonium ions obtained by protonating ammonia or primary to tertiary amines. When the counter cation is a polyvalent cation such as an alkaline earth metal ion, the counter anion may include a plurality of oxyanion groups, or the oxyanion group, chloride ion, water Other anions such as oxide ions may be included.

芳香族ポリスルホン(A)は、後述する絶縁被覆層が耐熱性、難燃性及び耐薬品性に特に優れ、さらに機械強度が高く、ガスの発生量が抑制される点から、下記一般式(1)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(1)」ということがある。)を有することが好ましく、さらに、下記一般式(2)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(2)」ということがある。)や、下記一般式(3)で表される繰返し単位(以下、「繰返し単位(3)」ということがある。)等の他の繰返し単位を1種以上有していてもよい。   The aromatic polysulfone (A) has the following general formula (1) because the insulating coating layer described later is particularly excellent in heat resistance, flame retardancy, and chemical resistance, has high mechanical strength, and suppresses gas generation. ) (Hereinafter sometimes referred to as “repeating unit (1)”), and further represented by the following general formula (2) (hereinafter referred to as “repeating unit ( 2) ") and one or more other repeating units such as a repeating unit represented by the following general formula (3) (hereinafter also referred to as" repeating unit (3) "). You may do it.

(1)−Ph−SO−Ph−O−
(式中、Ph及びPhはそれぞれ独立にフェニレン基であり、前記フェニレン基の1個以上の水素原子は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、スルホ基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基又はヒドロキシル基の塩で置換されていてもよい。)
(1) -Ph 1 -SO 2 -Ph 2 -O-
(In the formula, Ph 1 and Ph 2 are each independently a phenylene group, and one or more hydrogen atoms of the phenylene group are each independently an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a sulfo group, a nitro group, or an amino group. , May be substituted with a carboxyl group, a hydroxyl group or a salt of a hydroxyl group.)

(2)−Ph−R−Ph−O−
(式中、Ph及びPhはそれぞれ独立にフェニレン基であり、前記フェニレン基の1個以上の水素原子は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、スルホ基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基又はヒドロキシル基の塩で置換されていてもよい。Rはアルキリデン基、アルキレン基、酸素原子又は硫黄原子である。)
(2) -Ph 3 -R-Ph 4 -O-
(In the formula, Ph 3 and Ph 4 are each independently a phenylene group, and one or more hydrogen atoms of the phenylene group are each independently an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a sulfo group, a nitro group, or an amino group. , A carboxyl group, a hydroxyl group or a salt of a hydroxyl group, R is an alkylidene group, an alkylene group, an oxygen atom or a sulfur atom.)

(3)−(Ph−O−
(式中、Phはフェニレン基であり、前記フェニレン基の1個以上の水素原子は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、スルホ基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基又はヒドロキシル基の塩で置換されていてもよい。nは1〜5の整数であり、nが2以上である場合、複数存在するPhは、互いに同一でも異なっていてもよい。)
(3) - (Ph 5) n -O-
(In the formula, Ph 5 is a phenylene group, and one or more hydrogen atoms of the phenylene group are each independently an alkyl group, aryl group, halogen atom, sulfo group, nitro group, amino group, carboxyl group, hydroxyl group. Or n may be an integer of 1 to 5, and when n is 2 or more, a plurality of Ph 5 may be the same or different from each other.

Ph〜Phのいずれかで表されるフェニレン基は、p−フェニレン基であってもよいし、m−フェニレン基であってもよいし、o−フェニレン基であってもよいが、p−フェニレン基であることが好ましい。
前記フェニレン基の水素原子を置換していてもよいアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基及びn−デシル基が挙げられ、その炭素数は、1〜10であることが好ましい。
前記フェニレン基の水素原子を置換していてもよいアリール基の例としては、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、1−ナフチル基及び2−ナフチル基が挙げられ、その炭素数は、6〜20であることが好ましい。
前記フェニレン基の水素原子を置換していてもよいハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
前記フェニレン基の水素原子を置換していてもよいヒドロキシル基の塩の例としては、末端フェノール性ヒドロキシル基類における「フェノール性ヒドロキシル基の塩」と同様のものが挙げられる。
前記フェニレン基の水素原子がこれらの基で置換されている場合、その数は、前記フェニレン基毎に、それぞれ独立に好ましくは2個以下、より好ましくは1個であり、2個である場合、これら置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ph〜Phの水素原子の置換基は、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることが好ましい。
The phenylene group represented by any of Ph 1 to Ph 5 may be a p-phenylene group, an m-phenylene group, or an o-phenylene group. -A phenylene group is preferred.
Examples of the alkyl group which may substitute the hydrogen atom of the phenylene group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group and n-decyl group, and the carbon number thereof is 1-10. It is preferable.
Examples of the aryl group which may substitute the hydrogen atom of the phenylene group include phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 1-naphthyl group and 2-naphthyl group. The carbon number is preferably 6-20.
Examples of the halogen atom that may substitute the hydrogen atom of the phenylene group include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Examples of the hydroxyl group salt that may be substituted with a hydrogen atom of the phenylene group include the same “salt of phenolic hydroxyl group” in terminal phenolic hydroxyl groups.
When the hydrogen atoms of the phenylene group are substituted with these groups, the number thereof is preferably preferably 2 or less, more preferably 1 for each phenylene group, and preferably 2. These substituents may be the same as or different from each other.
Substituent of the hydrogen atom of Ph 1 ~Ph 5 is an alkyl group is preferably an aryl group or a halogen atom.

Rである前記アルキリデン基の例としては、メチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基及び1−ブチリデン基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは1〜5である。
Rである前記アルキレン基の例としては、前記フェニレン基の水素原子を置換していてもよいアルキル基から、1個の水素原子を除いてなる基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは1〜5である。
Examples of the alkylidene group that is R include a methylene group, an ethylidene group, an isopropylidene group, and a 1-butylidene group, and the carbon number thereof is preferably 1-5.
Examples of the alkylene group which is R include a group formed by removing one hydrogen atom from an alkyl group which may substitute a hydrogen atom of the phenylene group, and the carbon number thereof is preferably 1 ~ 5.

芳香族ポリスルホン(A)は、これを構成する全繰返し単位の合計量(芳香族ポリスルホン(A)を構成する各繰返し単位の質量をその各繰返し単位の式量で割ることにより、各繰返し単位の物質量相当量(モル)を求め、それらを合計した値)に対して、繰返し単位(1)を50モル%以上有することが好ましく、80モル%以上有することがより好ましく、繰返し単位として実質的に繰返し単位(1)のみを有することがさらに好ましい。なお、芳香族ポリスルホン(A)は、繰返し単位(1)〜(3)を、それぞれ独立に、2種以上有してもよい。   The aromatic polysulfone (A) is obtained by dividing the total amount of all repeating units constituting the aromatic polysulfone (A) by dividing the mass of each repeating unit constituting the aromatic polysulfone (A) by the formula weight of each repeating unit. It is preferable to have 50% by mole or more of repeating unit (1), more preferably 80% by mole or more based on the total amount (mole) of the substance amount (mole), and substantially as a repeating unit. It is more preferable to have only the repeating unit (1). In addition, aromatic polysulfone (A) may have 2 or more types of repeating units (1)-(3) each independently.

芳香族ポリスルホン(A)は、これを構成する繰返し単位に対応するジハロゲノスルホン化合物とジヒドロキシ化合物とを重縮合反応させることにより、製造することができる。
例えば、繰返し単位(1)を有する芳香族ポリスルホン(A)は、前記ジハロゲノスルホン化合物として、下記一般式(4)で表される化合物(以下、「化合物(4)」ということがある。)を用い、前記ジヒドロキシ化合物として下記一般式(5)で表される化合物(以下、「化合物(5)」ということがある。)を用いることにより、製造することができる。
また、繰返し単位(1)と繰返し単位(2)とを有する芳香族ポリスルホン(A)は、前記ジハロゲノスルホン化合物として化合物(4)を用い、前記ジヒドロキシ化合物として下記一般式(6)で表される化合物(以下、「化合物(6)」ということがある。)を用いることにより、製造することができる。
また、繰返し単位(1)と繰返し単位(3)とを有する芳香族ポリスルホン(A)は、前記ジハロゲノスルホン化合物として化合物(4)を用い、前記ジヒドロキシ化合物として下記一般式(7)で表される化合物(以下、「化合物(7)」ということがある。)を用いることにより、製造することができる。
The aromatic polysulfone (A) can be produced by polycondensation reaction between a dihalogenosulfone compound corresponding to the repeating unit constituting the aromatic polysulfone (A) and a dihydroxy compound.
For example, the aromatic polysulfone (A) having the repeating unit (1) is a compound represented by the following general formula (4) as the dihalogenosulfone compound (hereinafter sometimes referred to as “compound (4)”). And a compound represented by the following general formula (5) (hereinafter sometimes referred to as “compound (5)”) as the dihydroxy compound.
The aromatic polysulfone (A) having the repeating unit (1) and the repeating unit (2) is represented by the following general formula (6) using the compound (4) as the dihalogenosulfone compound and the dihydroxy compound. Can be produced by using a compound (hereinafter sometimes referred to as “compound (6)”).
The aromatic polysulfone (A) having the repeating unit (1) and the repeating unit (3) is represented by the following general formula (7) as the dihydroxy compound using the compound (4) as the dihalogenosulfone compound. Can be produced by using a compound (hereinafter sometimes referred to as “compound (7)”).

(4)X−Ph−SO−Ph−X
(式中、X及びXは、それぞれ独立にハロゲン原子である。Ph及びPhは、前記と同義である。)
(4) X 1 -Ph 1 -SO 2 -Ph 2 -X 2
(In the formula, X 1 and X 2 are each independently a halogen atom. Ph 1 and Ph 2 are as defined above.)

(5)HO−Ph−SO−Ph−OH
(式中、Ph及びPhは、前記と同義である。)
(5) HO—Ph 1 —SO 2 —Ph 2 —OH
(In the formula, Ph 1 and Ph 2 are as defined above.)

(6)HO−Ph−R−Ph−OH
(式中、Ph、Ph及びRは、前記と同義である。)
(6) HO-Ph 3 -R -Ph 4 -OH
(In the formula, Ph 3 , Ph 4 and R are as defined above.)

(7)HO−(Ph−OH
(式中、Ph及びnは、前記と同義である。)
(7) HO— (Ph 5 ) n —OH
(Wherein Ph 5 and n are as defined above.)

化合物(4)において、X及びXは、それぞれ独立にハロゲン原子であり、前記フェニレン基の水素原子を置換していてもよいハロゲン原子と同じものが挙げられる。 In the compound (4), X 1 and X 2 are each independently a halogen atom, and examples thereof include the same halogen atoms as may be substituted for the hydrogen atom of the phenylene group.

本発明においては、目的とする芳香族ポリスルホン(A)の種類に応じて、前記ジハロゲノスルホン化合物及びジヒドロキシ化合物は、いずれも、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   In the present invention, the dihalogenosulfone compound and the dihydroxy compound may be used alone or in combination of two or more according to the type of the desired aromatic polysulfone (A). May be.

前記重縮合反応は、塩基性化合物を用いて、溶媒(以下、「重合溶媒」という。)中で行うことが好ましい。塩基性化合物としては、炭酸のアルカリ金属塩が好ましい。炭酸のアルカリ金属塩は、正塩である炭酸アルカリであってもよいし、酸性塩である重炭酸アルカリ(炭酸水素アルカリ)であってもよいし、正塩及び酸性塩の混合物であってもよい。
炭酸アルカリとしては、炭酸ナトリウムや炭酸カリウムが好ましく、重炭酸アルカリとしては、重炭酸ナトリウムや重炭酸カリウムが好ましい。
本発明において、塩基性化合物は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
The polycondensation reaction is preferably performed using a basic compound in a solvent (hereinafter referred to as “polymerization solvent”). The basic compound is preferably an alkali metal carbonate. The alkali metal salt of carbonic acid may be an alkali carbonate that is a normal salt, an alkali bicarbonate that is an acidic salt (alkali hydrogencarbonate), or a mixture of a normal salt and an acidic salt. Good.
As the alkali carbonate, sodium carbonate and potassium carbonate are preferable, and as the alkali bicarbonate, sodium bicarbonate and potassium bicarbonate are preferable.
In this invention, a basic compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

重合溶媒は、原料モノマー(ジハロゲノスルホン化合物、ジヒドロキシ化合物)や芳香族ポリスルホンの溶解性が高く、且つ高沸点であることにより反応温度を高く設定できることから、有機極性溶媒であることが好ましく、求核反応時の溶媒和効果が小さいことから、非プロトン性溶媒であることがより好ましく、その例としては、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド;1−メチル−2−ピロリドン等のアミド;スルホラン(1,1−ジオキソチラン)、ジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジイソプロピルスルホン、ジフェニルスルホン等のスルホン;1,3-ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジエチル−2−イミダゾリジノン等の、窒素原子に結合している水素原子が置換されていてもよい尿素骨格を有する化合物が挙げられる。
本発明において、重合溶媒は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
The polymerization solvent is preferably an organic polar solvent because the raw material monomer (dihalogenosulfone compound, dihydroxy compound) and aromatic polysulfone are highly soluble and the reaction temperature can be set high due to its high boiling point. An aprotic solvent is more preferable because it has a small solvation effect during the nuclear reaction. Examples thereof include sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; amides such as 1-methyl-2-pyrrolidone; sulfolane (1,1 -Sulfone such as dimethylsulfone, diethylsulfone, diisopropylsulfone, diphenylsulfone; 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-diethyl-2-imidazolidinone, etc. Compounds having a urea skeleton in which hydrogen atoms may be substituted. I can get lost.
In this invention, a polymerization solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

前記重縮合反応は、ジハロゲノスルホン化合物とジヒドロキシ化合物との脱ハロゲン化水素重縮合反応であり、仮に副反応が生じなければ、ジハロゲノスルホン化合物とジヒドロキシ化合物とのモル比が1:1に近いほど、塩基性化合物の使用量が多いほど、重縮合の反応温度が高いほど、また、重縮合の反応時間が長いほど、得られる芳香族ポリスルホン(A)は、重合度が高く、還元粘度が高くなり易い。しかし実際には、例えば、塩基性化合物としてアルカリ金属塩を用いた場合に副生する水酸化アルカリ等により、ハロゲノ基のヒドロキシル基への置換反応や解重合等の副反応が生じ、この副反応により、得られる芳香族ポリスルホン(A)は、重合度が低下し、還元粘度が低下し易く、また、末端フェノール性ヒドロキシル基類を有するようになるので、この副反応の度合いを考慮して、所定の還元粘度及び所定量の末端フェノール性ヒドロキシル基類を有する芳香族ポリスルホン(A)が得られるように、ジハロゲノスルホン化合物とジヒドロキシ化合物とのモル比、塩基性化合物の使用量、重縮合の反応温度、及び重縮合の反応時間を調整することが好ましい。   The polycondensation reaction is a dehydrohalogenated polycondensation reaction between a dihalogenosulfone compound and a dihydroxy compound. If no side reaction occurs, the molar ratio of the dihalogenosulfone compound to the dihydroxy compound is close to 1: 1. The higher the amount of the basic compound used, the higher the polycondensation reaction temperature, and the longer the polycondensation reaction time, the higher the degree of polymerization and the reduced viscosity of the resulting aromatic polysulfone (A). It tends to be expensive. However, in practice, for example, when alkali metal salt is used as the basic compound, side reaction such as substitution reaction or depolymerization of halogeno group to hydroxyl group occurs due to alkali hydroxide generated as a by-product. Thus, the resulting aromatic polysulfone (A) has a low degree of polymerization, a reduced reduced viscosity, and has terminal phenolic hydroxyl groups. Therefore, considering the degree of this side reaction, In order to obtain an aromatic polysulfone (A) having a predetermined reduced viscosity and a predetermined amount of terminal phenolic hydroxyl groups, the molar ratio of the dihalogenosulfone compound and the dihydroxy compound, the amount of basic compound used, It is preferable to adjust the reaction temperature and the polycondensation reaction time.

前記ジハロゲノスルホン化合物の例としては、ジハロゲノベンゼノイド化合物が挙げられ、その具体例としては、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン、4−クロロフェニル−3’,4’−ジクロロフェニルスルホン、4,4’−ビス(4−クロロフェニルスルホニル)ジフェニルが挙げられる。
ジハロゲノスルホン化合物としては、ハロゲン原子が、それに対しパラ位に結合したスルホニル基を有するものが好ましい。
Examples of the dihalogenosulfone compounds include dihalogenobenzenoid compounds, and specific examples thereof include 4,4′-dichlorodiphenylsulfone, 4-chlorophenyl-3 ′, 4′-dichlorophenylsulfone, 4,4. And '-bis (4-chlorophenylsulfonyl) diphenyl.
As the dihalogenosulfone compound, a compound in which a halogen atom has a sulfonyl group bonded to the para position thereof is preferable.

前記ジヒドロキシ化合物の例としては、2価フェノール化合物(フェノール骨格を有する2価の化合物)が挙げられ、その具体例としては、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)スルホン、4,4’−スルホニル−2,2’−ジフェニルビスフェノール、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、フェニルヒドロキノン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフロロプロパン、4,4’−ジヒドロキシジフェニル、2,2’−ジヒドロキシジフェニル、3,5,3’,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニル、2,2’−ジフェニル−4,4’−ビスフェノール、4,4’’’−ジヒドロキシ−p−クオターフェニル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、4,4’−オキシジフェノールが挙げられる。   Examples of the dihydroxy compound include a divalent phenol compound (a divalent compound having a phenol skeleton), and specific examples thereof include 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, bis (4-hydroxy-3,5). -Dimethylphenyl) sulfone, 4,4'-sulfonyl-2,2'-diphenylbisphenol, hydroquinone, resorcin, catechol, phenylhydroquinone, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4 -Hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 4,4'-dihydroxydiphenyl, 2,2'-dihydroxydiphenyl, 3,5,3 ', 5'-tetramethyl-4,4'-dihydroxydiphenyl, 2,2'- Diphenyl-4,4′-bisphenol, 4,4 ′ ″-dihydroxy-p Kuo terphenyl, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) sulfide, and 4,4'-oxy diphenol.

ジハロゲノスルホン化合物及びジヒドロキシ化合物は、それぞれ、その一部又は全部に代えて、例えば、4−ヒドロキシ−4’−(4−クロロフェニルスルホニル)ビフェニル等の、フェノール性ヒドロキシル基及びハロゲン原子を有する化合物を用いてもよい。   The dihalogenosulfone compound and the dihydroxy compound are compounds having a phenolic hydroxyl group and a halogen atom, such as 4-hydroxy-4 ′-(4-chlorophenylsulfonyl) biphenyl, instead of part or all of them. It may be used.

ジハロゲノスルホン化合物の使用量は、末端フェノール性ヒドロキシル基類を形成するために、ジヒドロキシ化合物に対して、80〜105モル%であることが好ましく、より高分子量の芳香族ポリスルホン(A)が得られる点から、98〜105モル%であることがより好ましい。   The amount of dihalogenosulfone compound used is preferably 80 to 105 mol% with respect to the dihydroxy compound in order to form terminal phenolic hydroxyl groups, and a higher molecular weight aromatic polysulfone (A) is obtained. From the point which is obtained, it is more preferable that it is 98-105 mol%.

塩基性化合物の使用量は、例えば、塩基性化合物が炭酸のアルカリ金属塩である場合には、芳香族ポリスルホン(A)を高分子量化させ、且つ末端フェノール性ヒドロキシル基類を必要量形成するために、ジヒドロキシ化合物のフェノール性ヒドロキシル基に対して、アルカリ金属として、0.95モル倍以上であることが好ましく、例えば、ジハロゲノスルホン化合物の使用量がジヒドロキシ化合物に対して80〜98モル%である場合には、ジヒドロキシ化合物のフェノール性ヒドロキシル基に対して、アルカリ金属として、0.95〜1.005モル倍であることが好ましく、ジハロゲノスルホン化合物の使用量がジヒドロキシ化合物に対して98〜105モル%である場合には、ジヒドロキシ化合物のフェノール性ヒドロキシル基に対して、アルカリ金属として、1.005〜1.40モル倍であることが好ましい。塩基性化合物が炭酸のアルカリ金属塩以外である場合、その使用量は、上記の使用量を参考にして、適宜調節すればよい。塩基性化合物の使用量が多過ぎると、生成した芳香族ポリスルホン(A)の結合の開裂や分解が生じ易くて低分子量化し易く、少な過ぎると、重縮合反応が十分に進行せず、低分子量の芳香族ポリスルホン(A)しか得られなかったり、末端フェノール性ヒドロキシル基類の量が少なくなる。   For example, when the basic compound is an alkali metal carbonate, the amount of the basic compound used is to increase the molecular weight of the aromatic polysulfone (A) and to form the necessary amount of terminal phenolic hydroxyl groups. In addition, the alkali metal is preferably 0.95 mol times or more with respect to the phenolic hydroxyl group of the dihydroxy compound. For example, the amount of the dihalogenosulfone compound used is 80 to 98 mol% based on the dihydroxy compound. In some cases, the alkali metal is preferably 0.95 to 1.005 mol times with respect to the phenolic hydroxyl group of the dihydroxy compound, and the amount of the dihalogenosulfone compound used is 98 to 98% with respect to the dihydroxy compound. In the case of 105 mol%, the phenolic hydroxyl group of the dihydroxy compound And, as an alkali metal, it is preferably from 1.005 to 1.40 mol times. When the basic compound is other than the alkali metal salt of carbonic acid, the amount used may be appropriately adjusted with reference to the amount used. If the amount of the basic compound used is too large, the bond of the produced aromatic polysulfone (A) is likely to be cleaved or decomposed, and the molecular weight tends to be lowered. If the amount is too small, the polycondensation reaction does not proceed sufficiently, and the low molecular weight Only the aromatic polysulfone (A) is obtained, or the amount of terminal phenolic hydroxyl groups is reduced.

典型的な芳香族ポリスルホン(A)の製造方法(以下、「製造方法1」ということがある。)では、第1段階として、ジハロゲノスルホン化合物と、ジヒドロキシ化合物とを、重合溶媒に溶解させ、第2段階として、第1段階で得られた溶液に塩基性化合物を加えて、ジハロゲノスルホン化合物とジヒドロキシ化合物とを重縮合反応させ、第3段階として、第2段階で得られた反応混合物から、未反応の塩基性化合物、副生成物(塩基性化合物としてアルカリ金属塩を用いた場合には、ハロゲン化アルカリ)、及び重合溶媒を除去して、芳香族ポリスルホン(A)を得る。   In a typical method for producing an aromatic polysulfone (A) (hereinafter sometimes referred to as “Production Method 1”), as a first step, a dihalogenosulfone compound and a dihydroxy compound are dissolved in a polymerization solvent, As the second stage, a basic compound is added to the solution obtained in the first stage to cause a polycondensation reaction between the dihalogenosulfone compound and the dihydroxy compound, and as the third stage, from the reaction mixture obtained in the second stage. Then, the unreacted basic compound, the by-product (an alkali halide when an alkali metal salt is used as the basic compound), and the polymerization solvent are removed to obtain the aromatic polysulfone (A).

第1段階の溶解温度は、好ましくは40〜180℃である。また、第2段階の重縮合の反応温度は、好ましくは180〜400℃である。仮に副反応が生じなければ、反応温度が高いほど、目的とする重縮合反応が速やかに進行するので、得られる芳香族ポリスルホン(A)は、重合度が高くなり、その結果、還元粘度が高くなる傾向にある。しかし、実際には、反応温度が高いほど、上記と同様の副反応が生じ易くなり、この副反応により、得られる芳香族ポリスルホン(A)の重合度が低下する。一方で、反応温度が低過ぎると、重縮合反応が進行し難くなる。そこで、副反応の度合いも考慮して、所定の還元粘度及び所定量の末端フェノール性ヒドロキシル基類を有する芳香族ポリスルホン(A)が得られるように、反応温度を調整することが好ましい。   The melting temperature in the first stage is preferably 40 to 180 ° C. The reaction temperature for the second stage polycondensation is preferably 180 to 400 ° C. If no side reaction occurs, the higher the reaction temperature, the faster the target polycondensation reaction proceeds. Therefore, the resulting aromatic polysulfone (A) has a higher degree of polymerization, resulting in a higher reduced viscosity. Tend to be. However, in fact, the higher the reaction temperature, the easier the side reaction similar to the above occurs, and this side reaction reduces the degree of polymerization of the aromatic polysulfone (A) obtained. On the other hand, when the reaction temperature is too low, the polycondensation reaction hardly proceeds. Therefore, in consideration of the degree of side reaction, it is preferable to adjust the reaction temperature so as to obtain an aromatic polysulfone (A) having a predetermined reduced viscosity and a predetermined amount of terminal phenolic hydroxyl groups.

第2段階の重縮合反応は、副生する水を除去しながら徐々に昇温し、温度が重合溶媒の還流温度に達した後、好ましくは1〜50時間、より好ましくは10〜30時間、さらに保温することにより行うとよい。仮に副反応が生じなければ、重縮合の反応時間が長いほど、目的とする重縮合反応が進行するので、得られる芳香族ポリスルホン(A)は、重合度が高くなり、その結果、還元粘度が高くなる傾向にある。しかし、実際には、反応時間が長いほど、上記と同様の副反応も進行し、この副反応により、得られる芳香族ポリスルホン(A)の重合度が低下する。一方で、反応時間が短過ぎると、重縮合反応が十分に進行しない。そこで、副反応の度合いも考慮して、所定の還元粘度及び所定量の末端フェノール性ヒドロキシル基類を有する芳香族ポリスルホン(A)が得られるように、反応時間を調整することが好ましい。   In the second stage polycondensation reaction, the temperature is gradually raised while removing by-product water, and after the temperature reaches the reflux temperature of the polymerization solvent, preferably 1 to 50 hours, more preferably 10 to 30 hours, Further, it may be performed by keeping warm. If no side reaction occurs, the longer the polycondensation reaction time, the more the target polycondensation reaction proceeds. Therefore, the resulting aromatic polysulfone (A) has a higher degree of polymerization, resulting in a reduced viscosity. It tends to be higher. However, in practice, the longer the reaction time, the more the same side reaction as described above proceeds, and this side reaction reduces the degree of polymerization of the aromatic polysulfone (A) obtained. On the other hand, when the reaction time is too short, the polycondensation reaction does not proceed sufficiently. Therefore, in consideration of the degree of side reaction, it is preferable to adjust the reaction time so that the aromatic polysulfone (A) having a predetermined reduced viscosity and a predetermined amount of terminal phenolic hydroxyl groups can be obtained.

第3段階では、まず、第2段階で得られた反応混合物から、未反応の塩基性化合物及び前記副生成物を、ろ過や遠心分離等で除去することにより、芳香族ポリスルホン(A)が重合溶媒に溶解してなる溶液を得る。次いで、この溶液から、重合溶媒を除去することにより、芳香族ポリスルホン(A)が得られる。重合溶媒の除去は、例えば、前記溶液から直接重合溶媒を留去することにより行ってもよいし、前記溶液を芳香族ポリスルホン(A)の貧溶媒と混合して、芳香族ポリスルホン(A)を析出させ、ろ過や遠心分離等で芳香族ポリスルホン(A)を分離することにより行ってもよい。   In the third stage, first, the aromatic polysulfone (A) is polymerized by removing the unreacted basic compound and the by-product from the reaction mixture obtained in the second stage by filtration or centrifugation. A solution obtained by dissolving in a solvent is obtained. Subsequently, aromatic polysulfone (A) is obtained by removing a polymerization solvent from this solution. The removal of the polymerization solvent may be performed, for example, by directly distilling off the polymerization solvent from the solution, or the solution is mixed with a poor solvent for the aromatic polysulfone (A), and the aromatic polysulfone (A) is removed. You may carry out by depositing and isolate | separating aromatic polysulfone (A) by filtration, centrifugation, etc.

芳香族ポリスルホン(A)の貧溶媒の例としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ヘキサン、ヘプタン及び水が挙げられ、除去し易いことからメタノールが好ましい。   Examples of the poor solvent for the aromatic polysulfone (A) include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, hexane, heptane and water, and methanol is preferable because it is easy to remove.

また、比較的高融点の重合溶媒を用いた場合には、第2段階で得られた反応混合物を冷却固化させた後、これを粉砕し、得られた粉体から、水を用いて、未反応の塩基性化合物及び前記副生成物を抽出除去すると共に、芳香族ポリスルホン(A)の溶解性が低く、かつ重合溶媒の溶解性が高い抽出溶媒を用いて、重合溶媒を抽出除去することで、芳香族ポリスルホン(A)を得てもよい。   When a relatively high melting point polymerization solvent is used, the reaction mixture obtained in the second stage is cooled and solidified, then pulverized, and water is used to remove the powder from the obtained powder. By extracting and removing the basic compound of the reaction and the by-product, the polymerization solvent is extracted and removed using an extraction solvent having a low solubility of the aromatic polysulfone (A) and a high solubility of the polymerization solvent. Aromatic polysulfone (A) may be obtained.

反応混合物を冷却固化及び粉砕して得られた前記粉体は、抽出効率及び抽出時の作業性の点から、中心粒径が好ましくは50〜2000μm、より好ましくは100〜1500μm、さらに好ましくは200〜1000μmである。中心粒径が大き過ぎると抽出効率が悪く、小さ過ぎると抽出時に固結したり、抽出後のろ過時や乾燥時に目詰まりを起こしたりすることがある。なお、ここで「中心粒径」とは、メジアン径D50のことであり、粒径を2極化した際に、それぞれが等量となる数値のことである。   The powder obtained by cooling and solidifying and pulverizing the reaction mixture preferably has a center particle size of 50 to 2000 μm, more preferably 100 to 1500 μm, and even more preferably 200 from the viewpoint of extraction efficiency and workability during extraction. ˜1000 μm. If the center particle size is too large, the extraction efficiency is poor, and if it is too small, it may solidify during extraction, or clogging may occur during filtration after extraction or during drying. Here, the “center particle diameter” refers to the median diameter D50, which is a numerical value that is equal to each other when the particle diameter is bipolarized.

重合溶媒を抽出除去するための抽出溶媒としては、例えば、重合溶媒がジフェニルスルホンである場合には、アセトン及びメタノールの混合溶媒が挙げられる。ここで、アセトン及びメタノールの混合比は、通常、抽出効率と芳香族ポリスルホン(A)の粉体の固着性とから決定できる。   Examples of the extraction solvent for extracting and removing the polymerization solvent include a mixed solvent of acetone and methanol when the polymerization solvent is diphenyl sulfone. Here, the mixing ratio of acetone and methanol can usually be determined from the extraction efficiency and the sticking property of the aromatic polysulfone (A) powder.

別の典型的な芳香族ポリスルホン(A)の製造方法(以下、「製造方法2」ということがある。)では、第1段階として、ジヒドロキシ化合物と塩基性化合物とを、重合溶媒中で反応させ、副生する水を除去し、第2段階として、第1段階で得られた反応混合物に、ジハロゲノスルホン化合物を加えて、重縮合反応を行い、第3段階として、製造方法1の場合と同様に、第2段階で得られた反応混合物から、未反応の塩基性化合物、副生成物(塩基性化合物としてアルカリ金属塩を用いた場合には、ハロゲン化アルカリ)、及び重合溶媒を除去して、芳香族ポリスルホン(A)を得る。
ただし、製造方法2は、ジハロゲノスルホン化合物の使用量がジヒドロキシ化合物に対して、80〜98モル%である場合に適用することが好ましい。ジハロゲノスルホン化合物の使用量がジヒドロキシ化合物に対して、例えば、98〜105モル%である場合に、製造方法2を適用すると、末端フェノール性ヒドロキシル基類の量が少なくなる。
In another typical method for producing aromatic polysulfone (A) (hereinafter sometimes referred to as “Production Method 2”), as a first step, a dihydroxy compound and a basic compound are reacted in a polymerization solvent. The water produced as a by-product is removed, and as the second stage, a dihalogenosulfone compound is added to the reaction mixture obtained in the first stage, and a polycondensation reaction is carried out. Similarly, from the reaction mixture obtained in the second stage, unreacted basic compound, by-product (an alkali halide when an alkali metal salt is used as the basic compound), and the polymerization solvent are removed. Thus, aromatic polysulfone (A) is obtained.
However, production method 2 is preferably applied when the amount of the dihalogenosulfone compound used is 80 to 98 mol% with respect to the dihydroxy compound. When the usage-amount of a dihalogeno sulfone compound is 98-105 mol% with respect to a dihydroxy compound, when the manufacturing method 2 is applied, the quantity of terminal phenolic hydroxyl groups will decrease.

製造方法2においては、第1段階で、副生する水を除去し易くするために、水と共沸する有機溶媒を加えて、共沸脱水を行ってもよい。水と共沸する有機溶媒の例としては、ベンゼン、クロロベンゼン、トルエン、メチルイソブチルケトン、ヘキサン及びシクロヘキサンが挙げられる。共沸脱水の温度は、好ましくは70〜200℃である。   In the production method 2, azeotropic dehydration may be performed by adding an organic solvent azeotropic with water in order to facilitate removal of by-product water in the first stage. Examples of organic solvents that azeotrope with water include benzene, chlorobenzene, toluene, methyl isobutyl ketone, hexane, and cyclohexane. The temperature of azeotropic dehydration is preferably 70 to 200 ° C.

製造方法2において、第2段階の重縮合の反応温度は、好ましくは180〜400℃であり、製造方法1の場合と同様に、副反応の度合いも考慮して、所定の還元粘度及び所定量の末端フェノール性ヒドロキシル基類を有する芳香族ポリスルホン(A)が得られるように、重縮合の反応温度及び反応時間を調整することが好ましい。   In production method 2, the reaction temperature of the second stage polycondensation is preferably 180 to 400 ° C., and in the same manner as in production method 1, considering the degree of side reaction, a predetermined reduced viscosity and a predetermined amount. It is preferable to adjust the reaction temperature and reaction time of the polycondensation so that an aromatic polysulfone (A) having a terminal phenolic hydroxyl group is obtained.

芳香族ポリスルホン(A)の還元粘度は、0.25〜0.60dl/gであることが好ましい。下限値以上であることで、絶縁被覆層の機械強度や耐薬品性が向上し、ガスの発生量が抑制される。また、上限値以下であることで、芳香族ポリスルホン(A)が、末端フェノール性ヒドロキシル基類をより安定して十分な量を有し、溶融粘度が上昇し過ぎず、芳香族ポリスルホン組成物が適度な流動性を有すると共に、物性が安定して、絶縁被覆層の物性がより安定する。そして、これらの効果をバランスよく、より高く得られることから、芳香族ポリスルホン(A)の還元粘度は、より好ましくは0.30〜0.55dl/g、さらに好ましくは0.36〜0.55dl/gである。   The reduced viscosity of the aromatic polysulfone (A) is preferably 0.25 to 0.60 dl / g. By being more than a lower limit, the mechanical strength and chemical resistance of an insulation coating layer will improve, and the amount of gas generation will be controlled. Moreover, by being below the upper limit, the aromatic polysulfone (A) has a sufficient amount of terminal phenolic hydroxyl groups more stably, the melt viscosity does not increase excessively, and the aromatic polysulfone composition is While having an appropriate fluidity | liquidity, a physical property is stabilized and the physical property of an insulating coating layer is stabilized more. And since these effects can be obtained with a good balance, the reduced viscosity of the aromatic polysulfone (A) is more preferably 0.30 to 0.55 dl / g, and still more preferably 0.36 to 0.55 dl. / G.

芳香族ポリスルホン(A)の末端フェノール性ヒドロキシル基類の含有量は、例えば、電位差滴定法により測定できる。そして、芳香族ポリスルホン(A)の末端フェノール性ヒドロキシル基類の含有量の検出限界値は、約4×10−7モル/gである。ここで、末端フェノール性ヒドロキシル基類の含有量が検出限界値未満である芳香族ポリスルホン(A)は、本発明において、末端フェノール性ヒドロキシル基類の影響を無視できるものであり、末端フェノール性ヒドロキシル基類を有しない芳香族ポリスルホン(A)と同様に取り扱うことが可能なものである。 The content of the terminal phenolic hydroxyl groups of the aromatic polysulfone (A) can be measured, for example, by potentiometric titration. And the detection limit value of the content of the terminal phenolic hydroxyl groups of the aromatic polysulfone (A) is about 4 × 10 −7 mol / g. Here, the aromatic polysulfone (A) in which the content of the terminal phenolic hydroxyl groups is less than the detection limit value can ignore the influence of the terminal phenolic hydroxyl groups in the present invention. It can be handled in the same manner as the aromatic polysulfone (A) having no groups.

芳香族ポリスルホン(A)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。例えば、末端フェノール性ヒドロキシル基類の含有量が検出限界値以上である芳香族ポリスルホン(A)(以下、「芳香族ポリスルホン(A2)」ということがある。)の1種又は2種以上を用い、芳香族ポリスルホン(A)全体として、末端フェノール性ヒドロキシル基類が必要量となるように調節することができる。また、末端フェノール性ヒドロキシル基類を有しない、又は末端フェノール性ヒドロキシル基類の含有量が検出限界値未満である芳香族ポリスルホン(A)(以下、「芳香族ポリスルホン(A1)」ということがある。)の1種又は2種以上と、芳香族ポリスルホン(A2)の1種又は2種以上とを併用して、芳香族ポリスルホン(A)全体として、末端フェノール性ヒドロキシル基類が必要量となるように調節してもよい。   Aromatic polysulfone (A) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. For example, one type or two or more types of aromatic polysulfone (A) (hereinafter sometimes referred to as “aromatic polysulfone (A2)”) in which the content of terminal phenolic hydroxyl groups is not less than the detection limit value are used. The aromatic polysulfone (A) as a whole can be adjusted so that the terminal phenolic hydroxyl groups are required. In addition, aromatic polysulfone (A) having no terminal phenolic hydroxyl groups or having a content of terminal phenolic hydroxyl groups below the detection limit (hereinafter, referred to as “aromatic polysulfone (A1)” may be used. .)) And one or more of aromatic polysulfone (A2) are used in combination, and the total amount of terminal phenolic hydroxyl groups is required for aromatic polysulfone (A) as a whole. You may adjust as follows.

芳香族ポリスルホン(A2)の末端フェノール性ヒドロキシル基類の含有量は、好ましくは6×10−5モル/g以上、より好ましくは8×10−5モル/g以上であり、好ましくは2×10−4モル/g以下、より好ましくは1.7×10−4モル/g以下である。下限値以上であることで、芳香族ポリスルホン(A2)を用いたことによる効果がより高くなり、上限値以下であることで、後述する芳香族ポリスルホン組成物の粘度がより高くなり、さらに絶縁被覆層の機械強度がより向上する。なお、ここで示した末端フェノール性ヒドロキシル基類の含有量は、このフェノール性ヒドロキシル基類を有する芳香族ポリスルホン(A2)1g中でのモル数である。芳香族ポリスルホン(A2)の上記のような末端フェノール性ヒドロキシル基類の含有量は、芳香族ポリスルホン(A1)を併用する場合に好適であり、後述するように、芳香族ポリスルホン組成物における芳香族ポリスルホン(A2)の含有量を好ましい範囲に設定する場合に、特に好適である。 The content of the terminal phenolic hydroxyl groups of the aromatic polysulfone (A2) is preferably 6 × 10 −5 mol / g or more, more preferably 8 × 10 −5 mol / g or more, preferably 2 × 10. −4 mol / g or less, more preferably 1.7 × 10 −4 mol / g or less. By being more than a lower limit, the effect by having used aromatic polysulfone (A2) becomes higher, and by being below an upper limit, the viscosity of the aromatic polysulfone composition mentioned later becomes higher, and also insulation coating. The mechanical strength of the layer is further improved. In addition, content of the terminal phenolic hydroxyl group shown here is the mole number in 1 g of aromatic polysulfone (A2) which has this phenolic hydroxyl group. The content of the terminal phenolic hydroxyl groups as described above in the aromatic polysulfone (A2) is suitable when the aromatic polysulfone (A1) is used in combination. As described later, the aromatic polysulfone composition has an aromatic content. This is particularly suitable when the content of polysulfone (A2) is set within a preferred range.

芳香族ポリスルホン(A)としては、市販品を用いてもよい。
例えば、芳香族ポリスルホン(A1)の市販品の例としては、住友化学社製のポリエーテルスルホン「スミカエクセル3600P」、「スミカエクセル4100P」、「スミカエクセル4800P」、「スミカエクセル5200P」が挙げられる。
また、芳香族ポリスルホン(A2)の市販品の例としては、住友化学社製のポリエーテルスルホン「スミカエクセル5003P」が挙げられる。
A commercially available product may be used as the aromatic polysulfone (A).
For example, examples of commercially available products of aromatic polysulfone (A1) include polyethersulfone “Sumika Excel 3600P”, “Sumika Excel 4100P”, “Sumika Excel 4800P”, and “Sumika Excel 5200P” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. .
Moreover, as an example of a commercial item of aromatic polysulfone (A2), Sumitomo Chemical Co., Ltd. polyethersulfone “Sumika Excel 5003P” can be mentioned.

前記フッ素樹脂(B)は、フッ素原子を含有する樹脂であればよく、フルオロカーボン重合体であることが好ましく、その例としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリテトラフルオロエチレン−へキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、ポリトリクロロフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリフッ化ビニル(PVF)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETRE)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTRE)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)等が挙げられ、特に加工時の耐熱性に優れる点から、PTFEが好ましい。   The fluororesin (B) may be a resin containing a fluorine atom, and is preferably a fluorocarbon polymer. Examples thereof include polytetrafluoroethylene (PTFE) and polytetrafluoroethylene-hexafluoropropylene. Copolymer (FEP), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), polytrichlorofluoroethylene, polyvinylidene fluoride (PVDF), polyvinyl fluoride (PVF), ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETRE), ethylene-chloro Examples thereof include trifluoroethylene copolymer (ECTRE) and tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA). PTFE is particularly preferred from the viewpoint of excellent heat resistance during processing.

PTFEは、体積平均粒径が20μm未満の粉末であることが好ましく、このようなものの市販品の例としては、フルオンL169J、フルオンL150J、フルオンL170J、フルオンL172J、フルオンL173J(以上、旭硝子社製)、ルブロンL−2、ルブロンL−5、ルブロンLD−1(以上、ダイキン工業社製)、テフロン(登録商標)TLP−10、テフロン(登録商標)TLP−10F−1(以上、デュポン社製)、セフラルルーブI、セフラルルーブIP、セフラルルーブV(以上、セントラル硝子社製)、ダイニオンTF9205(住友スリーエム社製)等が挙げられる。   PTFE is preferably a powder having a volume average particle size of less than 20 μm. Examples of such commercially available products include Fullon L169J, Fullon L150J, Fullon L170J, Fullon L172J, and Fullon L173J (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.). , Lubron L-2, Lubron L-5, Lubron LD-1 (above, manufactured by Daikin Industries), Teflon (registered trademark) TLP-10, Teflon (registered trademark) TLP-10F-1 (above, manufactured by DuPont) Cefral Lube I, Cefral Lube IP, Cefral Lube V (above, manufactured by Central Glass Co., Ltd.), Dinion TF9205 (manufactured by Sumitomo 3M Limited), and the like.

フッ素樹脂(B)は、その流動開始温度が350℃以下であることが好ましい。このような流動開始温度を発現する程度の低分子量のフッ素樹脂(B)は、芳香族ポリスルホン(A)との相溶性が一層良好であり、それに伴い芳香族ポリスルホン組成物において、芳香族ポリスルホン(A)からなるマトリックス中でのフッ素樹脂(B)の分散性がより向上する。
ここで、フッ素樹脂(B)の流動開始温度とは、内径1mm、長さ10mmのキャピラリーをもつ毛細管レオメーターを用い、9.81MPa(100kgf/cm)の荷重下において、4℃/分の昇温速度で加熱溶融体を昇温しながらノズルから押し出すときに、溶融粘度が4800Pa・s(48000ポイズ)を示す温度のことである。
The fluororesin (B) preferably has a flow start temperature of 350 ° C. or lower. The low molecular weight fluororesin (B) that exhibits such a flow initiation temperature has better compatibility with the aromatic polysulfone (A), and accordingly, in the aromatic polysulfone composition, the aromatic polysulfone ( The dispersibility of the fluororesin (B) in the matrix comprising A) is further improved.
Here, the flow start temperature of the fluororesin (B) is 4 ° C./min under a load of 9.81 MPa (100 kgf / cm 2 ) using a capillary rheometer having a capillary with an inner diameter of 1 mm and a length of 10 mm. It is a temperature at which the melt viscosity exhibits 4800 Pa · s (48000 poise) when the heated melt is extruded from the nozzle while the temperature of the heated melt is raised.

流動開始温度が350℃以下であるPTFEの市販品の例としては、セフラルルーブI、セフラルルーブIP(以上、セントラル硝子社製)、ダイニオンTF9205(住友スリーエム社製)が挙げられる。   Examples of commercially available PTFE products having a flow start temperature of 350 ° C. or lower include Cefral Lube I, Cefral Lube IP (above, manufactured by Central Glass Co., Ltd.) and Dinion TF9205 (manufactured by Sumitomo 3M Limited).

本発明において、芳香族ポリスルホン組成物は、芳香族ポリスルホン(A)及びフッ素樹脂(B)を含むものである。そして、芳香族ポリスルホン組成物において、芳香族ポリスルホン(A)の末端フェノール性ヒドロキシル基類の総含有量は、フッ素樹脂(B)1gに対して3.0×10−5〜10.0×10 −5モルであり、好ましくは4.0×10−5〜9.5×10−5モル、より好ましくは4.0×10−5〜9.0×10−5モルである。下限値以上とすることで、絶縁被覆層は、耐薬品性及び耐擦傷性に優れ、部分放電の開始電圧が高く安定したものとなる。また、上限値以下とすることで、芳香族ポリスルホン組成物の粘度が適度に向上し、芳香族ポリスルホン組成物を溶融加工して成形する際に、滞留安定性が向上して、押出機からの押し出し等をより安定して行うことができる。 In the present invention, the aromatic polysulfone composition contains an aromatic polysulfone (A) and a fluororesin (B). In the aromatic polysulfone composition, the total content of terminal phenolic hydroxyl groups of the aromatic polysulfone (A) is 3.0 × 10 −5 to 10.0 × 10 with respect to 1 g of the fluororesin (B). −5 mol, preferably 4.0 × 10 −5 to 9.5 × 10 −5 mol, and more preferably 4.0 × 10 −5 to 9.0 × 10 −5 mol. By setting it to the lower limit value or more, the insulating coating layer is excellent in chemical resistance and scratch resistance, and has a high partial discharge start voltage and is stable. In addition, by setting the upper limit value or less, the viscosity of the aromatic polysulfone composition is moderately improved, and when the aromatic polysulfone composition is melt processed and molded, the residence stability is improved, Extrusion and the like can be performed more stably.

芳香族ポリスルホン組成物において、芳香族ポリスルホン(A)及びフッ素樹脂(B)の含有量は、末端フェノール性ヒドロキシル基類の総含有量が上記のような範囲であれば、特に限定されず、適宜調節できる。
例えば、芳香族ポリスルホン(A)として、芳香族ポリスルホン(A1)及び(A2)を併用する場合には、芳香族ポリスルホン組成物における芳香族ポリスルホン(A2)の含有量は、芳香族ポリスルホン(A1)100質量部に対して、5質量部以上であることが好ましく、50質量部以下であることが好ましく、20質量部以下であることがより好ましい。
そして、芳香族ポリスルホン組成物におけるフッ素樹脂(B)の含有量は、芳香族ポリスルホン(A1)100質量部に対して、5質量部以上であることが好ましく、45質量部以下であることが好ましく、35質量部以下であることがより好ましく、30質量部以下であることがさらに好ましい。
In the aromatic polysulfone composition, the content of the aromatic polysulfone (A) and the fluororesin (B) is not particularly limited as long as the total content of the terminal phenolic hydroxyl groups is in the above range, and is appropriately limited. Can be adjusted.
For example, when aromatic polysulfone (A1) and (A2) are used in combination as aromatic polysulfone (A), the content of aromatic polysulfone (A2) in the aromatic polysulfone composition is aromatic polysulfone (A1). It is preferably 5 parts by mass or more, preferably 50 parts by mass or less, and more preferably 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass.
The content of the fluororesin (B) in the aromatic polysulfone composition is preferably 5 parts by mass or more and preferably 45 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the aromatic polysulfone (A1). , 35 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less.

芳香族ポリスルホン組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内において、芳香族ポリスルホン(A)及びフッ素樹脂(B)以外に、必要に応じて、充填材、添加剤、並びに芳香族ポリスルホン及びフッ素樹脂以外の樹脂等の他の成分を1種以上含んでいてもよい。また、これら他の成分は、芳香族ポリスルホン組成物の成形体(絶縁被覆層)への加工中に、添加されてもよい。   In the range which does not impair the effect of this invention, an aromatic polysulfone composition is a filler, an additive, and aromatic polysulfone and fluorine other than aromatic polysulfone (A) and a fluororesin (B) as needed. One or more other components such as a resin other than the resin may be included. These other components may be added during processing of the aromatic polysulfone composition into a molded body (insulating coating layer).

前記充填材は、有機充填材及び無機充填材のいずれでもよく、繊維状充填材であってもよいし、板状充填材であってもよいし、繊維状及び板状以外で、粒状充填材であってもよい。   The filler may be either an organic filler or an inorganic filler, may be a fibrous filler, may be a plate-like filler, or may be a granular filler other than a fibrous or plate-like material. It may be.

繊維状無機充填材の例としては、ガラス繊維;パン系炭素繊維、ピッチ系炭素繊維等の炭素繊維;シリカ繊維、アルミナ繊維、シリカアルミナ繊維等のセラミック繊維;ステンレス繊維等の金属繊維が挙げられる。また、チタン酸カリウムウイスカー、チタン酸バリウムウイスカー、ウォラストナイトウイスカー、ホウ酸アルミニウムウイスカー、窒化ケイ素ウイスカー、炭化ケイ素ウイスカー等のウイスカーも挙げられる。
繊維状有機充填材の例としては、ポリエステル繊維、アラミド繊維が挙げられる。
板状無機充填材の例としては、タルク、マイカ、グラファイト、ウォラストナイト、ガラスフレーク、硫酸バリウム、炭酸カルシウムが挙げられる。マイカは、白雲母、金雲母、フッ素金雲母及び四ケイ素雲母のいずれであってもよい。
粒状充填材の例としては、ガラスビーズ、ガラス粉、中空ガラス、カオリン、クレー、バーミキュライト;ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、長石粉、酸性白土、ろう石クレー、セリサイト、シリマナイト、ベントナイト、スレート粉、シラン等のケイ酸塩;炭酸カルシウム、胡粉、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、ドロマイト等の炭酸塩;バライト粉、ブランフィックス、沈降性硫酸カルシウム、焼石膏、硫酸バリウム等の硫酸塩;水和アルミナ等の水酸化物;アルミナ、酸化アンチモン、マグネシア、酸化チタン、亜鉛華、シリカ、珪砂、石英、ホワイトカーボン、珪藻土等の酸化物;二硫化モリブデン等の硫化物;窒化ホウ素等の窒化物;炭化ケイ素等の炭化物;金属粉粒体;有機高分子;臭素化ジフェニルエーテル等の有機低分子量結晶等の材質からなるものが挙げられ、球形フィラーや、アスペクト比が小さい粉粒体も含まれる。
Examples of fibrous inorganic fillers include glass fibers; carbon fibers such as pan-based carbon fibers and pitch-based carbon fibers; ceramic fibers such as silica fibers, alumina fibers and silica-alumina fibers; and metal fibers such as stainless steel fibers. . In addition, whiskers such as potassium titanate whisker, barium titanate whisker, wollastonite whisker, aluminum borate whisker, silicon nitride whisker, and silicon carbide whisker are also included.
Examples of the fibrous organic filler include polyester fibers and aramid fibers.
Examples of the plate-like inorganic filler include talc, mica, graphite, wollastonite, glass flake, barium sulfate, and calcium carbonate. The mica may be any of muscovite, phlogopite, fluorine phlogopite, and tetrasilicon mica.
Examples of granular fillers include glass beads, glass powder, hollow glass, kaolin, clay, vermiculite; calcium silicate, aluminum silicate, feldspar powder, acid clay, wax clay, sericite, sillimanite, bentonite, slate powder. Silicates such as silanes; carbonates such as calcium carbonate, pepper, barium carbonate, magnesium carbonate, dolomite; sulfates such as barite powder, blankfix, precipitated calcium sulfate, calcined gypsum, barium sulfate; hydrated alumina, etc. Hydroxides; alumina, antimony oxide, magnesia, titanium oxide, zinc oxide, silica, silica sand, quartz, white carbon, diatomaceous earth, etc .; sulfides such as molybdenum disulfide; nitrides such as boron nitride; silicon carbide Carbides such as; metal powder; organic polymer; organic such as brominated diphenyl ether Include those made of a material having a molecular weight of crystals or the like, included or spherical fillers, the aspect ratio is smaller powder particles.

前記添加剤としては、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、無機又は有機系着色剤、防錆剤、架橋剤、発泡剤、蛍光剤、表面平滑剤、界面活性剤、表面光沢改良剤、離型改良剤が挙げられる。   Examples of the additive include an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a flame retardant, a lubricant, an antistatic agent, an inorganic or organic colorant, a rust inhibitor, a crosslinking agent, a foaming agent, and a fluorescent agent. , Surface smoothing agents, surfactants, surface gloss improvers, mold release improvers.

前記樹脂の例としては、ポリプロピレン、ポリアミド、液晶ポリエステル、液晶ポリエステル以外のポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルイミド等の熱可塑性樹脂;フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シアネート樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。   Examples of the resin include polypropylene, polyamide, liquid crystal polyester, polyester other than liquid crystal polyester, thermoplastic resin such as polyphenylene sulfide, polyether ketone, polycarbonate, polyphenylene ether, and polyetherimide; phenol resin, epoxy resin, polyimide resin, A thermosetting resin such as cyanate resin may be used.

芳香族ポリスルホン組成物は、芳香族ポリスルホン(A)及びフッ素樹脂(B)を合計で、好ましくは60質量%以上、より好ましくは80質量%以上含み、芳香族ポリスルホン(A)及びフッ素樹脂(B)のみを含むものであってもよい。下限値以上とすることで、本発明の効果をより顕著に有する絶縁被覆層が得られる。   The aromatic polysulfone composition contains the aromatic polysulfone (A) and the fluororesin (B) in total, preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more. The aromatic polysulfone (A) and the fluororesin (B ) Only. By setting the lower limit value or more, an insulating coating layer having the effects of the present invention more remarkably can be obtained.

芳香族ポリスルホン組成物は、芳香族ポリスルホン(A)、フッ素樹脂(B)、及び必要に応じて他の成分を配合して得られ、芳香族ポリスルホン(A)及びフッ素樹脂(B)の含有量が上記の数値範囲となるように、これら成分を配合すればよい。   The aromatic polysulfone composition is obtained by blending the aromatic polysulfone (A), the fluororesin (B), and other components as necessary, and the content of the aromatic polysulfone (A) and the fluororesin (B). These components may be blended so that is in the above numerical range.

芳香族ポリスルホン組成物の製造方法は、公知の方法でよく、特に限定されない。例えば、各配合成分を混合して溶媒に溶解又は分散させた液状物を調製し、この液状物から溶媒を蒸発させて組成物を得る方法や、この液状物を貧溶媒に滴下して組成物を沈澱させて得る方法が挙げられる。そして、工業的見地からは、溶融状態で各配合成分を混練する方法(溶融混練)が好ましい。
溶融混練は、一軸又は二軸の押出機、各種ニーダー等の通常使用される混練装置により行うことができる。なかでも、押出機を用いるのが好ましく、このような押出機としては、シリンダーと、シリンダー内に配置された1本以上のスクリュウと、シリンダーの1箇所以上に設けられた供給口とを備えたものが好ましく、さらにシリンダーの1箇所以上にベント部を備えたものがより好ましく、二軸の高混練押出機が特に好ましい。このような押出機を用いて配合成分を溶融混練し、押出されるストランドを連続的に切断することで、ペレット状の芳香族ポリスルホン組成物が得られる。
The production method of the aromatic polysulfone composition may be a known method and is not particularly limited. For example, a method of obtaining a composition by mixing each compounding component and dissolving or dispersing it in a solvent and evaporating the solvent from the liquid, or dropping the liquid into a poor solvent to form a composition And a method obtained by precipitation. From an industrial point of view, a method of kneading each compounding component in a molten state (melt kneading) is preferable.
The melt-kneading can be performed by a commonly used kneading apparatus such as a single-screw or twin-screw extruder or various kneaders. Among them, it is preferable to use an extruder, and as such an extruder, a cylinder, one or more screws arranged in the cylinder, and a supply port provided at one or more positions of the cylinder are provided. Those having a vent portion at one or more locations of the cylinder are more preferable, and a biaxial high-kneading extruder is particularly preferable. Using such an extruder, the blended components are melt-kneaded, and the extruded strand is continuously cut to obtain a pellet-shaped aromatic polysulfone composition.

芳香族ポリスルホン組成物の製造時において、配合成分の混合又は混練時の添加順序は、特に限定されない。例えば、あらかじめ芳香族ポリスルホン(A)にフッ素樹脂(B)を添加して混合した後に、得られた混合物を混練装置に投入して、溶融混練する方法、混練装置に芳香族ポリスルホン(A)を投入してこれを溶融させたところに、フッ素樹脂(B)を投入して混練する方法が挙げられる。
また、芳香族ポリスルホン(A)として、芳香族ポリスルホン(A1)及び(A2)を併用する場合には、例えば、あらかじめ芳香族ポリスルホン(A1)に芳香族ポリスルホン(A2)及びフッ素樹脂(B)を添加して混合した後に、得られた混合物を混練装置に投入して、溶融混練する方法、混練装置に芳香族ポリスルホン(A1)を投入してこれを溶融させたところに、芳香族ポリスルホン(A2)及びフッ素樹脂(B)を投入して混練する方法、混練装置に芳香族ポリスルホン(A2)を投入してこれを溶融させたところに、芳香族ポリスルホン(A1)及び液晶高分子(B)を投入して混練する方法、混練装置に芳香族ポリスルホン(A1)及び(A2)をはじめに投入し、その後にフッ素樹脂(B)を投入して混練する方法が挙げられる。
In the production of the aromatic polysulfone composition, the order of addition during mixing or kneading of the blending components is not particularly limited. For example, after adding and mixing the fluororesin (B) to the aromatic polysulfone (A) in advance, the resulting mixture is put into a kneader and melt-kneaded, and the aromatic polysulfone (A) is added to the kneader. There is a method in which the fluororesin (B) is added and kneaded in the place where it is charged and melted.
Moreover, when using aromatic polysulfone (A1) and (A2) together as aromatic polysulfone (A), for example, aromatic polysulfone (A2) and fluororesin (B) are previously added to aromatic polysulfone (A1). After the addition and mixing, the resulting mixture is put into a kneading apparatus and melt-kneaded. Aromatic polysulfone (A1) is charged into the kneading apparatus and melted, and then aromatic polysulfone (A2) is added. ) And the fluororesin (B) and kneading the mixture, and the aromatic polysulfone (A2) and the liquid crystal polymer (B) are mixed into the kneading apparatus after the aromatic polysulfone (A2) is charged and melted. A method of charging and kneading, and a method of first charging the aromatic polysulfone (A1) and (A2) into the kneading apparatus and then charging and kneading the fluororesin (B). It is.

絶縁被覆体は、芳香族ポリスルホン組成物を用いて得られた絶縁被覆層で、被覆対象物を被覆することで製造できる。ここで、「被覆対象物」は通常、導体である。
被覆対象物を絶縁被覆層で被覆する方法としては、例えば、芳香族ポリスルホン組成物を用いてあらかじめ成形済みの絶縁被覆層で被覆対象物を被覆する方法(以下、「被覆方法1」という。)、芳香族ポリスルホン組成物で被覆対象物を被覆した後、芳香族ポリスルホン組成物から絶縁被覆層を形成する方法(以下、「被覆方法2」という。)が挙げられる。
The insulating coating can be produced by coating the object to be coated with an insulating coating layer obtained using the aromatic polysulfone composition. Here, the “covering object” is usually a conductor.
As a method of coating a coating object with an insulating coating layer, for example, a method of coating a coating object with an insulating coating layer that has been molded in advance using an aromatic polysulfone composition (hereinafter referred to as “coating method 1”). And a method of forming an insulating coating layer from the aromatic polysulfone composition (hereinafter referred to as “coating method 2”) after coating the object to be coated with the aromatic polysulfone composition.

被覆方法1の例としては、成形済みの絶縁被覆層を、被覆対象物に重ねて加熱プレスすることにより、絶縁被覆層を被覆対象物に圧着させる方法が挙げられる。このときの加熱プレスの条件は、絶縁被覆層及び被覆対象物の種類に応じて適宜調節すればよく、特に限定されない。   As an example of the coating method 1, there is a method in which an insulating coating layer is pressure-bonded to an object to be coated by heating and pressing the formed insulating coating layer on the object to be coated. The conditions for the heating press at this time may be appropriately adjusted according to the types of the insulating coating layer and the coating target, and are not particularly limited.

被覆方法2の例としては、成形前の芳香族ポリスルホン組成物で被覆対象物を被覆した後、芳香族ポリスルホン組成物をプレス成形することで、被覆対象物上で絶縁被覆層を形成する方法が挙げられる。このときのプレス成形の条件は、芳香族ポリスルホン組成物及び被覆対象物の種類に応じて適宜調節すればよく、加熱プレスでもよく、特に限定されない。また、被覆対象物を被覆した後の芳香族ポリスルホン組成物は、必ずしも成形する必要はなく、例えば、各配合成分を溶媒に溶解又は分散させた液状物である芳香族ポリスルホン組成物を用い、これで被覆対象物を被覆した後に、芳香族ポリスルホン組成物から溶媒を蒸発等で除去することで、被覆対象物上で絶縁被覆層を形成する方法が挙げられる。また、溶媒を除去する代わりに、被覆対象物を被覆している芳香族ポリスルホン組成物に貧溶媒を接触させて、被覆対象物上で析出したものを絶縁被覆層とする方法が挙げられる。   As an example of the coating method 2, there is a method of forming an insulating coating layer on a coating object by press-molding the aromatic polysulfone composition after coating the coating object with the aromatic polysulfone composition before molding. Can be mentioned. The press molding conditions at this time may be appropriately adjusted according to the types of the aromatic polysulfone composition and the coating target, and may be a hot press, and are not particularly limited. In addition, the aromatic polysulfone composition after coating the object to be coated does not necessarily need to be molded. For example, an aromatic polysulfone composition that is a liquid obtained by dissolving or dispersing each compounding component in a solvent is used. A method of forming an insulating coating layer on the coating target by removing the solvent from the aromatic polysulfone composition by evaporation or the like after coating the coating target with the above. Further, instead of removing the solvent, a method may be mentioned in which a poor solvent is brought into contact with the aromatic polysulfone composition covering the object to be coated, and the precipitate deposited on the object to be coated is used as an insulating coating layer.

例えば、被覆方法2によって、絶縁被覆体として絶縁被覆電線を製造する方法としては、心線(電線)となる導体を加熱する加熱炉と、押出機を備えた被覆装置とが連続的に配置された電線被覆装置を用い、芳香族ポリスルホン組成物で心線を被覆する工程を有する方法が挙げられる。この場合、被覆装置の押出機において、芳香族ポリスルホン組成物を調製しながら被覆することも可能である。   For example, as a method of manufacturing an insulation-coated electric wire as an insulation coating body by the coating method 2, a heating furnace that heats a conductor that becomes a core wire (electric wire) and a coating device that includes an extruder are continuously arranged. The method which has the process of coat | covering a core wire with an aromatic polysulfone composition using the used electric wire coating apparatus is mentioned. In this case, it is possible to coat while preparing the aromatic polysulfone composition in the extruder of the coating apparatus.

本発明に係る絶縁被覆体は、絶縁被覆層が熱可塑性に加え、十分な耐薬品性、耐熱性、難燃性、耐環境性(耐湿性)及び絶縁性を有し、加えて、部分放電の開始電圧が高い。さらに、耐擦傷性に優れ、柔軟性も有する。したがって、本発明に係る絶縁被覆体は、適用電圧が高い条件下で使用される各種電気機器に組み込まれる、コイル等の絶縁被覆導体への適用に好適である。さらに、絶縁被覆層が耐擦傷性に優れることから、絶縁被覆体の製造や、これら絶縁被覆体を用いた装置等の組み立てを自動で行うのに、特に好適である。   The insulating coating according to the present invention has a sufficient chemical resistance, heat resistance, flame resistance, environmental resistance (moisture resistance) and insulating properties in addition to thermoplasticity in the insulating coating layer, and in addition to partial discharge. The starting voltage is high. Furthermore, it has excellent scratch resistance and flexibility. Therefore, the insulating coating according to the present invention is suitable for application to an insulating coated conductor such as a coil incorporated in various electric devices used under a high applied voltage. Furthermore, since the insulating coating layer is excellent in scratch resistance, it is particularly suitable for automatically manufacturing an insulating coating and assembling an apparatus using the insulating coating.

本発明に係る絶縁被覆体の用途として、具体的には、電気・電子機器;OA機器;パーソナルコンピュータ等の情報端末機器;ゲーム機;テレビ等のディスプレイ装置;プリンター;コピー機;スキャナ;ファックス;電子手帳;PDA;電子式卓上計算機;電子辞書;カメラ;ビデオカメラ;携帯電話;スマートフォン;記録媒体のドライブ又は読取装置;マウス;テンキー;CDプレーヤー、DVDプレーヤー、Blu−rayプレーヤー等のディスクプレーヤー;携帯ラジオ又は携帯オーディオプレーヤーのハウジング、カバー、キーボード、ボタン、スイッチ、ディスクトレイ、ディスクカートリッジ、ディスクチェンジャー用トレイ部材等が挙げられる。また、ヘッドランプ、ヘルメットシールド等の車輌外装・外販部品;インナードアハンドル、センターパネル、インストルメンタルパネル、コンソールボックス、ラゲッジフロアボード、(カーナビゲーション等の)ディスプレイハウジング等の車輌内装部品が挙げられる。また、電気・電子部品として、光ピックアップボビン、トランスボビン等のボビン;リレーケース、リレーベース、リレースプルー、リレーアーマチャー等のリレー部品;各種コネクターのシールド部材;ランプリフレクター、LEDリフレクター等のリフレクター;ランプホルダー、ヒーターホルダー等のホルダー;カメラモジュール部品;スイッチ部品;モーター部品;センサー部品;ハードディスクドライブ部品;オーブンウェア等の食器;車両部品;航空機部品;各種電線、モーター、トランス、インバータ、コンバータ等のコイル部品が挙げられる。   Specific uses of the insulating coating according to the present invention include: electrical / electronic devices; OA devices; information terminal devices such as personal computers; game machines; display devices such as televisions; printers; Electronic notebook; PDA; Electronic desk calculator; Electronic dictionary; Camera; Video camera; Mobile phone; Smartphone; Drive or reading device for recording medium; Mouse: Numeric keypad; Disc player such as CD player, DVD player, Blu-ray player; Examples include a portable radio or portable audio player housing, cover, keyboard, button, switch, disc tray, disc cartridge, disc changer tray member, and the like. Vehicle exterior / external parts such as headlamps and helmet shields; vehicle interior parts such as inner door handles, center panels, instrument panels, console boxes, luggage floor boards, display housings (such as car navigation), and the like. In addition, as electrical / electronic parts, bobbins such as optical pickup bobbins and transformer bobbins; relay parts such as relay cases, relay bases, relay sprues and relay armatures; shield members for various connectors; reflectors such as lamp reflectors and LED reflectors; Holders such as lamp holders and heater holders; camera module parts; switch parts; motor parts; sensor parts; hard disk drive parts; dishware such as ovenware; vehicle parts; aircraft parts; various electric wires, motors, transformers, inverters, converters, etc. Examples include coil parts.

以下、具体的実施例により、本発明についてさらに詳しく説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施例に何ら限定されるものではない。なお、芳香族ポリスルホン(A)の還元粘度、及び芳香族ポリスルホン(A)の末端フェノール性ヒドロキシル基類の含有量は、以下の方法で測定した。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to the following examples. The reduced viscosity of the aromatic polysulfone (A) and the content of terminal phenolic hydroxyl groups of the aromatic polysulfone (A) were measured by the following methods.

(芳香族ポリスルホン(A)の還元粘度の測定)
芳香族ポリスルホン(A)1gをN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に溶解させて、その容量を1dLとすることで、濃度が1%(w/v)の溶液(以下、「PES溶液」という。)を調製し、このPES溶液を用いて、オストワルド粘度計により、25℃の環境で還元粘度を測定した。還元粘度は、次式により求めた。
還元粘度=PES溶液の滴下時間/DMFの滴下時間−1.00
(Measurement of reduced viscosity of aromatic polysulfone (A))
By dissolving 1 g of aromatic polysulfone (A) in N, N-dimethylformamide (DMF) and setting the volume to 1 dL, the solution has a concentration of 1% (w / v) (hereinafter referred to as “PES solution”). The reduced viscosity was measured in an environment of 25 ° C. using an Ostwald viscometer using this PES solution. The reduced viscosity was determined by the following formula.
Reduced viscosity = PES solution dropping time / DMF dropping time−1.00

(芳香族ポリスルホン(A)の末端フェノール性ヒドロキシル基類の含有量の測定)
所定量の芳香族ポリスルホン(A)をジメチルホルムアミドに溶解させ、過剰量のパラトルエンスルホン酸を加えた後、電位差滴定装置を用いて、0.05モル/Lのカリウムメトキシド/トルエン・メタノール溶液で滴定し、残存パラトルエンスルホン酸を中和した後、ヒドロキシル基を中和し、このヒドロキシル基の中和に要したカリウムメトキシドの量(モル数)から、ヒドロキシル基のモル数を求め、これを芳香族ポリスルホン(A)の前記所定量(g)で除することにより求めた。
(Measurement of content of terminal phenolic hydroxyl groups of aromatic polysulfone (A))
A predetermined amount of aromatic polysulfone (A) is dissolved in dimethylformamide, an excess amount of paratoluenesulfonic acid is added, and then a 0.05 mol / L potassium methoxide / toluene / methanol solution is added using a potentiometric titrator. After neutralizing the residual paratoluenesulfonic acid, the hydroxyl group was neutralized, and from the amount (mole number) of potassium methoxide required for neutralization of this hydroxyl group, the number of moles of the hydroxyl group was determined. This was determined by dividing by the predetermined amount (g) of aromatic polysulfone (A).

<芳香族ポリスルホン(A)の製造>
[製造例1]
撹拌機、窒素ガス導入管、温度計、及び先端に受器を付したコンデンサーを備えた、容量が2000mLの重合槽に、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン620.3g(2.16モル)、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン525.0g(2.10モル)、及び重合溶媒としてジフェニルスルホン784.0gを入れ、系内に窒素ガスを流通させながら180℃まで昇温した後、無水炭酸カリウム301.8gを加え、290℃まで徐々に昇温し、290℃で2時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、固化した反応マスを、細かく粉砕した後、温水により洗浄して塩化カリウムを除去した。さらに、アセトンとメタノールの混合溶媒での洗浄を数回行い、重合溶媒であるジフェニルスルホンを除去し、次いで水で洗浄した後、150℃で加熱乾燥を行い、粉末状の芳香族ポリスルホン(A1)として、芳香族ポリスルホン(A1)−1を得た。芳香族ポリスルホン(A1)−1の中心粒径は500μmであり、還元粘度は0.48であった。
<Production of aromatic polysulfone (A)>
[Production Example 1]
In a polymerization tank having a capacity of 2000 mL equipped with a stirrer, a nitrogen gas introduction tube, a thermometer, and a condenser with a receiver at the tip, 620.3 g (2.16 mol) of 4,4′-dichlorodiphenylsulfone, After putting 525.0 g (2.10 mol) of 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone and 784.0 g of diphenyl sulfone as a polymerization solvent, the temperature was raised to 180 ° C. while flowing nitrogen gas through the system, and then anhydrous potassium carbonate 301.8 g was added, the temperature was gradually raised to 290 ° C., and the mixture was reacted at 290 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and the solidified reaction mass was finely pulverized and then washed with warm water to remove potassium chloride. Further, washing with a mixed solvent of acetone and methanol is performed several times to remove diphenylsulfone as a polymerization solvent, followed by washing with water, followed by heating and drying at 150 ° C. to obtain powdered aromatic polysulfone (A1) As a result, aromatic polysulfone (A1) -1 was obtained. The central particle size of the aromatic polysulfone (A1) -1 was 500 μm, and the reduced viscosity was 0.48.

<絶縁被覆体の製造>
[実施例1〜2、比較例1〜6]
(芳香族ポリスルホン組成物の製造)
表1及び2に示す各成分を秤量し、表1及び2に示す割合で配合した後、タンブラーミキサーを用いて25℃で30分ブレンドした後、二軸押出機(池貝鉄工株式会社製「PCM−30」)を用いて、このブレンド物をシリンダー温度340℃で造粒し、芳香族ポリスルホン組成物のペレットを得た。
なお、表1及び2中、配合成分の欄における「−」は、その成分が未配合であることを意味する。また、表1及び2中の「芳香族ポリスルホン(A2)−1」、「フッ素樹脂(B)−1」及び「フッ素樹脂(B)−2」は、それぞれ以下のものを意味する。そして、表1及び2には、芳香族ポリスルホン組成物における、フッ素樹脂(B)1gあたりの前記末端フェノール性ヒドロキシル基類のモル数(モル/g)を「ヒドロキシル基類のモル数/フッ素樹脂(B)量(×10−5モル/g)」として併せて示している。
芳香族ポリスルホン(A2)−1:住友化学社製ポリエーテルスルホン「スミカエクセル5003PS」(末端フェノール性ヒドロキシル基類を8.6×10−5モル/g有し、還元粘度が0.51dl/gであるもの)
フッ素樹脂(B)−1:住友スリーエム社製「ダイニオンTF9205」(流動開始温度330℃)
フッ素樹脂(B)−2:旭硝子社製「フルオンL169J」(流動開始温度352℃)
<Manufacture of insulation coating>
[Examples 1 and 2, Comparative Examples 1 to 6]
(Production of aromatic polysulfone composition)
Each component shown in Tables 1 and 2 was weighed and blended in the proportions shown in Tables 1 and 2, then blended at 25 ° C. for 30 minutes using a tumbler mixer, and then a twin screw extruder (“PCM” manufactured by Ikekai Tekko Co., Ltd.). -30 "), this blend was granulated at a cylinder temperature of 340 ° C to obtain pellets of an aromatic polysulfone composition.
In Tables 1 and 2, “-” in the column of the blending component means that the component is not blended. In Tables 1 and 2, “aromatic polysulfone (A2) -1”, “fluororesin (B) -1” and “fluororesin (B) -2” mean the following, respectively. Tables 1 and 2 show the number of moles (mol / g) of the terminal phenolic hydroxyl groups per gram of the fluororesin (B) in the aromatic polysulfone composition, “number of moles of hydroxyl groups / fluororesin”. It is shown together as “(B) amount (× 10 −5 mol / g)”.
Aromatic polysulfone (A2) -1: polyethersulfone “SUMICA EXCEL 5003PS” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. (having 8.6 × 10 −5 mol / g of terminal phenolic hydroxyl groups, and reduced viscosity of 0.51 dl / g) What is)
Fluororesin (B) -1: “Dinion TF9205” manufactured by Sumitomo 3M Limited (flow start temperature: 330 ° C.)
Fluororesin (B) -2: “Fullon L169J” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. (flow start temperature: 352 ° C.)

(絶縁被覆体の製造)
得られた芳香族ポリスルホン組成物のペレットを120℃で3時間乾燥後、射出成形機(日精樹脂工業社製「UH−1000型」)を用い、シリンダー温度360℃、金型温度150℃でペレットを射出成形して、125mm×13mm×1.6mmの成形体(1)(絶縁被覆層(1))を作製した。そして、125mm×13mmの大きさに切り出した厚さ1mmのアルミ板を250℃に加熱し、その表面に、作製した絶縁被覆層(1)の表面を、向きを揃えて重ねて圧着させることで、絶縁被覆体を製造した。
(Manufacture of insulation coating)
The obtained pellets of the aromatic polysulfone composition were dried at 120 ° C. for 3 hours, and then pelleted at a cylinder temperature of 360 ° C. and a mold temperature of 150 ° C. using an injection molding machine (“UH-1000 type” manufactured by Nissei Plastic Industries). Was molded by injection to produce a molded body (1) (insulating coating layer (1)) of 125 mm × 13 mm × 1.6 mm. Then, a 1 mm thick aluminum plate cut out to a size of 125 mm × 13 mm is heated to 250 ° C., and the surface of the produced insulating coating layer (1) is laminated on the surface thereof in a uniform direction so as to be crimped. An insulating coating was produced.

<絶縁被覆層の評価>
(耐薬品性)
得られた絶縁被覆体をアルミ板が下側となるようにスパン間100mmの治具に装着し、絶縁被覆体の下側から上側に向けて、中央部を20mm変位させ、R=72.5mmの変形を絶縁被覆体に与えて、メチルエチルケトン(MEK)を絶縁被覆層(1)の全面に塗布し、絶縁被覆層(1)の変化を目視観察して、耐薬品性を評価した。結果を表1及び2に示す。なお、表1及び2中、耐薬品性の評価結果の略号は、それぞれ以下のことを意味する。また、評価結果の欄における「−」は、未評価であることを意味する。これは、以降に示す「分散性」、「曲げ弾性率(柔軟性)」についても同様である。
R1S:MEK塗布後、1秒で絶縁被覆層(1)が割れた。
R3S:MEK塗布後、3秒で絶縁被覆層(1)が割れた。
R4S:MEK塗布後、4秒で絶縁被覆層(1)が割れた。
<Evaluation of insulation coating layer>
(chemical resistance)
The obtained insulating coating is mounted on a jig with a span of 100 mm so that the aluminum plate is on the lower side, and the central part is displaced 20 mm from the lower side to the upper side of the insulating coating, and R = 72.5 mm Then, methyl ethyl ketone (MEK) was applied to the entire surface of the insulating coating layer (1), and the change in the insulating coating layer (1) was visually observed to evaluate chemical resistance. The results are shown in Tables 1 and 2. In Tables 1 and 2, the abbreviations of the chemical resistance evaluation results mean the following. In addition, “-” in the evaluation result column means that it has not been evaluated. The same applies to “dispersibility” and “flexural modulus (flexibility)” described below.
R1S: The insulating coating layer (1) cracked in 1 second after applying MEK.
R3S: The insulating coating layer (1) was cracked in 3 seconds after applying MEK.
R4S: The insulating coating layer (1) was cracked 4 seconds after the MEK application.

(分散性)
上記の絶縁被覆体の製造とは別途、下記方法で成形体(2)(絶縁被覆層(2))を作製した。
すなわち、実施例1で得られた芳香族ポリスルホン組成物のペレットを120℃で3時間乾燥後、射出成形機(日精樹脂工業社製「UH−1000型」)を用い、シリンダー温度360℃、金型温度150℃でペレットを射出成形し、試験片となる成形体(2)(絶縁被覆層(2))を作製した。そして、この成形体(2)の外観を目視観察し、芳香族ポリスルホン組成物の分散性を評価した。結果を表1及び2に示す。なお、表1及び2中、芳香族ポリスルホン組成物の分散性の評価結果の略号は、それぞれ以下のことを意味する。
○:成形体(2)の外観が均一であり、芳香族ポリスルホン組成物の分散性が良好であったことを示していた。
×:成形体(2)の外観が不均一であり、芳香族ポリスルホン組成物の分散性が劣っていたことを示していた。
(Dispersibility)
Separately from the production of the insulation coating, a molded body (2) (insulation coating layer (2)) was produced by the following method.
That is, the pellets of the aromatic polysulfone composition obtained in Example 1 were dried at 120 ° C. for 3 hours, and then an injection molding machine (“UH-1000 type” manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd.) was used. Pellets were injection molded at a mold temperature of 150 ° C. to produce a molded body (2) (insulating coating layer (2)) serving as a test piece. And the external appearance of this molded object (2) was observed visually, and the dispersibility of the aromatic polysulfone composition was evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2. In Tables 1 and 2, the abbreviations for the evaluation results of the dispersibility of the aromatic polysulfone composition mean the following.
(Circle): The external appearance of the molded object (2) was uniform, and it has shown that the dispersibility of the aromatic polysulfone composition was favorable.
X: The appearance of the molded body (2) was non-uniform, indicating that the dispersibility of the aromatic polysulfone composition was inferior.

(曲げ弾性率(柔軟性))
また、成形体(2)について、ASTM D790に準拠して、曲げ弾性率(MPa)を求めた。結果を表1及び2に示す。
(Bending elastic modulus (flexibility))
Moreover, the bending elastic modulus (MPa) was calculated | required about the molded object (2) based on ASTMD790. The results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 0005879661
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Figure 0005879661
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上記結果から明らかなように、実施例1〜2の絶縁被覆体は、絶縁被覆層に割れ(クラック)が発生せず、耐薬品性に優れていた。また、成形体(2)の外観は均一であり、フッ素樹脂(B)の凝集等が見られず、芳香族ポリスルホン組成物の分散性が良好であったこと、すなわち、成形体(2)が耐擦傷性に優れることを示していた。また、曲げ弾性率が低く、成形体(2)は柔軟性も有していた。
これに対して、比較例1〜5の絶縁被覆体は、絶縁被覆層に短時間で割れが発生し、絶縁被覆層は耐薬品性に劣っていた。これは、芳香族ポリスルホン組成物において、芳香族ポリスルホン(A1)−1及び(A2)−1を併用していないこと(比較例1〜4)、又はフッ素樹脂(B)の含有量が多過ぎたこと(比較例5)が原因であると考えられた。また、比較例2〜4の成形体(2)の外観は不均一であり、フッ素樹脂(B)の凝集が見られ、芳香族ポリスルホン組成物の分散性が劣っていたこと、すなわち、成形体(2)が耐擦傷性に劣ることを示していた。これは、芳香族ポリスルホン組成物において、芳香族ポリスルホン(A2)−1を用いていないことが原因であると考えられた。また、比較例1及び4の成形体(2)は、曲げ弾性率が高く、柔軟性に劣っていた。これは、芳香族ポリスルホン組成物において、フッ素樹脂(B)を用いていないこと(比較例1)、又はフッ素樹脂(B)の含有量が少な過ぎたこと(比較例4)が原因であると考えられた。
As is clear from the above results, the insulating coatings of Examples 1 and 2 did not generate cracks in the insulating coating layer, and were excellent in chemical resistance. Further, the appearance of the molded body (2) was uniform, no aggregation of the fluororesin (B) was observed, and the dispersibility of the aromatic polysulfone composition was good, that is, the molded body (2) was It showed excellent scratch resistance. Moreover, the bending elastic modulus was low and the molded body (2) also had flexibility.
On the other hand, the insulation coating bodies of Comparative Examples 1 to 5 were cracked in the insulation coating layer in a short time, and the insulation coating layer was inferior in chemical resistance. This is because aromatic polysulfone (A1) -1 and (A2) -1 are not used in combination in the aromatic polysulfone composition (Comparative Examples 1 to 4), or the content of the fluororesin (B) is too large. (Comparative Example 5). Moreover, the external appearances of the molded bodies (2) of Comparative Examples 2 to 4 were uneven, aggregation of the fluororesin (B) was observed, and the dispersibility of the aromatic polysulfone composition was inferior, that is, the molded bodies. (2) was inferior in scratch resistance. This was considered to be caused by not using aromatic polysulfone (A2) -1 in the aromatic polysulfone composition. Moreover, the molded object (2) of the comparative examples 1 and 4 had a high bending elastic modulus, and was inferior to the softness | flexibility. This is because, in the aromatic polysulfone composition, the fluororesin (B) is not used (Comparative Example 1) or the content of the fluororesin (B) is too small (Comparative Example 4). it was thought.

本発明は、適用電圧が高い条件下で使用される各種電気機器に組み込まれる絶縁被覆導体に利用可能である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for an insulation coated conductor incorporated in various electric devices used under a condition where the applied voltage is high.

Claims (5)

芳香族ポリスルホン(A)及びフッ素樹脂(B)を含む芳香族ポリスルホン組成物を用いて得られた絶縁被覆層で、被覆対象物が被覆されてなる絶縁被覆体であって、
前記芳香族ポリスルホン組成物において、前記芳香族ポリスルホン(A)の鎖状構造の末端に存在するフェノール性ヒドロキシル基及びフェノール性ヒドロキシル基の塩の総含有量が、前記フッ素樹脂(B)1gに対して3.0×10−5〜10.0×10 −5モルであることを特徴とする絶縁被覆体。
An insulating coating obtained by coating an object to be coated with an insulating coating layer obtained by using an aromatic polysulfone composition containing an aromatic polysulfone (A) and a fluororesin (B),
In the aromatic polysulfone composition, the total content of phenolic hydroxyl groups and salts of phenolic hydroxyl groups present at the ends of the chain structure of the aromatic polysulfone (A) is 1 g of the fluororesin (B). Insulation covering body characterized by being 3.0 × 10 −5 to 10.0 × 10 −5 mol.
前記フッ素樹脂(B)の流動開始温度が350℃以下であることを特徴とする請求項1に記載の絶縁被覆体。   The insulation coating body according to claim 1, wherein the flow starting temperature of the fluororesin (B) is 350 ° C or lower. 前記芳香族ポリスルホン組成物において、前記芳香族ポリスルホン(A)の鎖状構造の末端に存在するフェノール性ヒドロキシル基及びフェノール性ヒドロキシル基の塩の総含有量が、前記フッ素樹脂(B)1gに対して4.0×10−5〜9.0×10−5モルであることを特徴とする請求項1又は2に記載の絶縁被覆体。 In the aromatic polysulfone composition, the total content of phenolic hydroxyl groups and salts of phenolic hydroxyl groups present at the ends of the chain structure of the aromatic polysulfone (A) is 1 g of the fluororesin (B). insulating coating material according to claim 1 or 2, characterized in that it is 4.0 × 10 -5 ~9.0 × 10 -5 mol Te. 前記芳香族ポリスルホン(A)が、下記一般式(1)で表される繰返し単位を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の絶縁被覆体。
(1)−Ph−SO−Ph−O−
(式中、Ph及びPhはそれぞれ独立にフェニレン基であり、前記フェニレン基の1個以上の水素原子は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。)
The said insulating polysulfone (A) has a repeating unit represented by following General formula (1), The insulation coating body as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
(1) -Ph 1 -SO 2 -Ph 2 -O-
(In the formula, Ph 1 and Ph 2 are each independently a phenylene group, and one or more hydrogen atoms of the phenylene group may be each independently substituted with an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.)
鎖状構造の末端にフェノール性ヒドロキシル基及び/又はフェノール性ヒドロキシル基の塩を有する芳香族ポリスルホン(A2)と、前記芳香族ポリスルホン(A2)に該当しない芳香族ポリスルホン(A1)と、フッ素樹脂(B)と、を配合して芳香族ポリスルホン組成物を調製し、前記芳香族ポリスルホン組成物を用いて形成した絶縁被覆層で、被覆対象物を被覆する絶縁被覆体の製造方法であって、
前記芳香族ポリスルホン組成物において、前記芳香族ポリスルホン(A1)の配合量を100質量部、前記フッ素樹脂(B)の配合量を5〜45質量部とし、前記芳香族ポリスルホン組成物において、鎖状構造の末端に存在する前記フェノール性ヒドロキシル基及びフェノール性ヒドロキシル基の塩の総含有量を、前記フッ素樹脂(B)1gに対して3.0×10−5〜10.0×10 −5モルとすることを特徴とする絶縁被覆体の製造方法。
An aromatic polysulfone (A2) having a phenolic hydroxyl group and / or a salt of a phenolic hydroxyl group at the end of the chain structure, an aromatic polysulfone (A1) not corresponding to the aromatic polysulfone (A2), a fluororesin ( B) and an aromatic polysulfone composition prepared by blending, and an insulating coating layer formed by using the aromatic polysulfone composition, and a method for producing an insulating coating for covering an object to be coated,
In the aromatic polysulfone composition, the blending amount of the aromatic polysulfone (A1) is 100 parts by mass and the blending amount of the fluororesin (B) is 5-45 parts by mass. The total content of the phenolic hydroxyl group and the salt of the phenolic hydroxyl group present at the end of the structure is 3.0 × 10 −5 to 10.0 × 10 −5 mol with respect to 1 g of the fluororesin (B). A method for producing an insulating covering, characterized in that
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