JP5875548B2 - ガス分離方法 - Google Patents
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Description
そこで、本発明の目的は、混合ガスに含まれる目的ガス成分を効率的に分離することができるガス分離方法を提供することにある。
仮に、吸着工程にある吸着塔において発生した吸着熱を脱着工程にある吸着塔に効率的に伝達させることができれば、吸着工程にある吸着塔に充填された吸着剤の温度を低下させて吸着量を増加させ、脱着工程にある吸着塔に充填された吸着剤の温度を上昇させて、脱着量を増加させることができる。
しかしながら、特許文献1に記載された技術をはじめとして、異なる吸着塔の間で、吸着工程において発生した吸着熱を脱着工程にある吸着塔の吸着剤に速やかに伝達することは、現実的には困難である。
そこで、発明者らは、吸着工程において発生した吸着熱を脱着工程にある吸着塔の吸着剤に与える別の方途について鋭意検討した。その結果、複数の隣接するガス分離室を有し、隣接するガス分離室が気密性を有するとともに隣接するガス分離室間で熱を伝える仕切部材で仕切られ、該仕切部材の両面に目的ガス成分を吸着する吸着剤層を有する吸着塔において、混合ガスを吸着剤層に接触させて目的ガス成分を吸着剤層に吸着させる吸着工程と、吸着剤層に吸着した目的ガス成分からなる脱着ガスを脱着させる脱着工程とからなり、それぞれの工程を、吸着塔における隣接する2つのガス分離室の内、一方のガス分離室において吸着工程を行うと同時に、他方のガス分離室において脱着工程を行い、吸着工程と脱着工程を交互に繰り返すことが有効であることを見出し、本発明を完成させるに到った。
(1)圧力スイング吸着法により混合ガスから目的ガス成分を分離するに際し、前記混合ガスを前記吸着剤層に接触させて前記目的ガス成分を前記吸着剤層に吸着させる吸着工程と、前記吸着剤層に吸着した目的ガス成分からなる脱着ガスを脱着させる脱着工程と、を交互に繰り返す方法であって、複数の隣接するガス分離室を有し、隣接するガス分離室が気密性を有するとともに前記隣接するガス分離室間で熱を伝える仕切部材で仕切られ、該仕切部材の両面に前記目的ガス成分を吸着する吸着剤層を有する吸着塔において、前記隣接する2つのガス分離室の内、一方のガス分離室において前記吸着工程を行うと同時に、他方のガス分離室において前記脱着工程を行い、前記仕切部材を通して、吸着工程側から脱着工程側に熱を伝えて吸着工程側の吸着剤層の温度上昇および脱着工程側の吸着剤層の温度低下を抑制し、前記吸着剤層の厚さが50μm以下であることを特徴とするガス分離方法。
図2(a)は、本発明に係るガス分離方法に用いる吸着塔の模式図を示しており、図2(b)はこの吸着塔におけるガス分離処理の工程表を示している。図2(a)に示した吸着塔1は、筐体11と、該筐体11の内部に、少なくとも1つの仕切部材12とを備え、この仕切部材12は、筐体11の内部を複数のガス分離室(図示例では4つのガス分離室14a〜14d)に仕切る。本発明に係る吸着塔1は、図3(a)に示すように、仕切部材12は、該仕切部材12に隣接する2つのガス分離室間で熱を伝え、該仕切部材12の両面に吸着剤層13が形成されている。そして、図2(b)の工程表に示すように、混合ガスを吸着剤層13に接触させて目的ガス成分を吸着剤層13に吸着させる吸着工程と、吸着剤層13に吸着した目的ガス成分からなる脱着ガスを脱着させる脱着工程とを、吸着塔1における隣接する2つのガス分離室の内、一方のガス分離室において前記吸着工程を行うと同時に、他方のガス分離室において前記脱着工程を行い、前記吸着工程と前記脱着工程を交互に繰り返すように構成されている。その結果、吸着塔1は、吸着工程で供給する混合ガスおよび脱着工程で脱着させる、目的ガス成分からなる脱着ガスの2種類のガスの内、一方のガスを流通させるガス分離室に隣接するガス分離室には他方のガスを流通させる、2系統のガス流路を有する。このような構成により、一方のガス分離室(例えば14aおよび14c)において吸着工程を行なう際に、隣接するガス分離室(例えば14bおよび14d)では脱着工程を行い、際に吸着工程側において発生した吸着熱を、仕切部材12を通して脱着工程側に伝えることにより、吸着工程側のガス分離室14の温度上昇を抑制するとともに脱着工程側のガス分離室(例えば14bおよび14d)の温度低下を抑制することができる。
なお、図には示されていないが、各ガス分離室14a〜14dに混合ガスを供給し、吸着塔1の内部から吸着剤層13に吸着されなかった成分からなる吸着オフガスを排気する配管や自動弁等が適切に接続されている。
1mmの板厚の金属で成型した箱型のステンレス製容器(内面が縦25cm×横25cm×高さ2cm)、および、ステンレス製粒子と樹脂粒子の混合材を成型焼結して作製した多孔質金属板(縦25cm×横25cm×厚0.7cm、比重:0.7g/cm3、表面積/体積比:10000m−1、孔径:200μm)を用意し、金属製容器の上下両面に多孔質金属板を貼り付けた。これを図5(d)に示すように、開口を有する側面、つまりガスの流通方向が互いに直交するように10層積層させた。積層体を、微粉砕Na置換されたY型ゼオライト粉末をバインダーとともに懸濁させた水溶液に浸漬して、積層体を構成する金属製容器の内部(ガス分離室)に塗布し、積層体外面に塗布された吸着剤を除去した後に、200℃で5時間乾燥、300℃で24時間焼成した。ゼオライト塗布前後の積層体の重量変化から、積層体を構成する金属製容器の内部に塗布された吸着剤の量は267gであり、これより計算される平均塗布厚みは47μmであった。
発明例のガス分離装置を使用し、同じ組成の混合ガスを使用し、図14に示すように、混合ガスの吸着塔への導入流量を上記発明例1での一定流量で導入する場合を1として、時間0〜40secまでを流量0.15、40〜70secまでを流量2.3、70〜100secを流量1と変化させた。温度変化を図15に示す。グラフの横軸は吸着工程の開始時間を0secとした。温度は24.5〜25.5℃の間で変化し、温度変化幅は1.0℃であった。99体積%濃度のCO2ガスが75%の回収率で得られた。
発明例のガス分離装置を使用し、同じ組成の混合ガスを使用し、全てのガス分離室において同じ工程が行われるようにガスの流れを自動弁で制御して混合ガスからCO2ガスを分離する処理を行った。その他、原料である混合ガス流通量および吸着、脱着工程における圧力は上記発明例と同じ条件とした。その結果、温度変化を図16に示す。グラフの横軸は吸着工程の開始時間を0secとした。0〜100secは吸着工程にあたり、ガス分離装置には混合ガスは一定流量で導入される。そして、吸着剤に吸着するガスの量も混合ガス中の吸着するガスの比率に応じて吸着剤に吸着するために、吸着熱の発生は吸着工程を通してほぼ一定となり、図16の時間のように直線的に温度が上昇した。一方、100〜200secの脱着工程では、排気手段によってガス分離室内部のガスが排気され、ガス分離室内の圧力が低下するに従って脱着するガスの量も変化する。脱着工程は100〜200secであるが、100〜140secではガス分離室内に残留したガスが排気され、ガス分離室の圧力がある程度低下するまでは脱着するガス量はそれほど多くない。140〜170secでは脱着するガス量が最も多くなり、170〜200secでは脱着するガス量は徐々に減少する。そのため、ガス成分の脱着による吸熱にともなう温度変化は図16の時間100〜200secのような非直線的に温度が下降する傾向を示した。結果として、温度は19〜31℃の間で変化し、温度変化幅は12℃であった。99体積%濃度のCO2ガスが58%の回収率で得られた。このように、本発明によって温度変化が抑制されることでガスの回収率が向上し、混合ガスから所定のガス成分を効率的に分離できることが分かる。
11,21,31 筐体
12 仕切部材
13,27,38 吸着剤
14,14a,14b,14c,14d ガス分離室
15 多孔質層
22 箱部材積層体
23,23a,23b ガス導入管
24,24a,24b ガス排出管
25 箱部材
25a 上面
25b 下面
25c,25d,25e,25f 側面
26 内部
28,36 シール部材
29 支持体
32 プレート積層体
33,33a,33b ガス導入口
34,34a,34b ガス排出口
35 仕切プレート
35a,35b,35c,35d ガス流通孔
37 空間
50,60 ガス分離装置
51,61 送風手段
53,63 排気手段
101 吸着ガス分子
G0 混合ガス
G1 吸着オフガス
G2 脱着ガス
AV1,AV2,AV3,AV4,AV5,AV6 自動弁
F1,F4 流量計
BVP 背圧弁
Claims (5)
- 圧力スイング吸着法により混合ガスから目的ガス成分を分離するに際し、前記混合ガスを前記吸着剤層に接触させて前記目的ガス成分を前記吸着剤層に吸着させる吸着工程と、前記吸着剤層に吸着した目的ガス成分からなる脱着ガスを脱着させる脱着工程と、を交互に繰り返す方法であって、複数の隣接するガス分離室を有し、隣接するガス分離室が気密性を有するとともに前記隣接するガス分離室間で熱を伝える仕切部材で仕切られ、該仕切部材の両面に前記目的ガス成分を吸着する吸着剤層を有する吸着塔において、前記隣接する2つのガス分離室の内、一方のガス分離室において前記吸着工程を行うと同時に、他方のガス分離室において前記脱着工程を行い、前記仕切部材を通して、吸着工程側から脱着工程側に熱を伝えて吸着工程側の吸着剤層の温度上昇および脱着工程側の吸着剤層の温度低下を抑制し、前記吸着剤層の厚さが50μm以下であることを特徴とするガス分離方法。
- 前記脱着工程の脱着速度に合わせて吸着工程で導入する混合ガス流量を定めることを特徴とする請求項1に記載のガス分離方法。
- ガス分離室の温度変化をモニターして、温度変化が小さくなる様に、吸着工程で導入する混合ガスの流量を制御することを特徴とする請求項1に記載のガス分離方法。
- 前記仕切部材が熱伝導率50W・m-1・K-1以上である金属または炭素材料の板であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のガス分離方法。
- 前記吸着剤層は、前記仕切部材の上に形成された、金属または炭素材料からなる多孔質材の層の表面に吸着剤を担持したことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガス分離方法。
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