JP5867080B2

JP5867080B2 - Liquid purification device

Info

Publication number: JP5867080B2
Application number: JP2011290264A
Authority: JP
Inventors: 香川　謙吉; 謙吉香川; 政弥西村
Original assignee: Daikin Industries Ltd
Current assignee: Daikin Industries Ltd
Priority date: 2011-12-29
Filing date: 2011-12-29
Publication date: 2016-02-24
Anticipated expiration: 2031-12-29
Also published as: JP2013138987A

Description

本発明は、液浄化装置に関するものである。 The present invention relates to a liquid purification apparatus.

従来、液浄化装置には、特許文献１に示すように、容器内に一対の電極を設けると共に、容器に食塩水を供給し、電解水を生成して次亜塩素酸を発生させる。そして、上記液浄化装置は、容器内に収納した義歯を次亜塩素酸によって洗浄するようにしている。 Conventionally, as shown in Patent Document 1, a liquid purification apparatus is provided with a pair of electrodes in a container and supplies saline to the container to generate electrolyzed water to generate hypochlorous acid. And the said liquid purification apparatus wash | cleans the dentures accommodated in the container with hypochlorous acid.

また、上記液浄化装置は、容器内の次亜塩素酸の濃度を制御する濃度制御手段を設け、例えば、電解時間を制御するようにしている。 Further, the liquid purification apparatus is provided with a concentration control means for controlling the concentration of hypochlorous acid in the container so as to control the electrolysis time, for example.

特開２００１−０７７８９号公報JP 2001-07789 A

しかしながら、従来の液浄化装置においては、次亜塩素酸の濃度制御手段を設けて電解時間を単に制御しているのであった。つまり、従来の液浄化装置は、次亜塩素酸の濃度が高い場合、電解時間を短くし、次亜塩素酸の濃度が低い場合、電解時間を長くしているに過ぎない。したがって、従来の液浄化装置のように、次亜塩素酸の濃度に応じて電解時間を制御するのみでは、必ずしも信頼性の高い浄化が行われているとはいえず、且つ必ずしも省エネルギ化が図られているとはいえないという問題があった。 However, in the conventional liquid purification apparatus, the concentration control means for hypochlorous acid is provided to simply control the electrolysis time. That is, the conventional liquid purification apparatus shortens the electrolysis time when the concentration of hypochlorous acid is high, and only lengthens the electrolysis time when the concentration of hypochlorous acid is low. Therefore, as in the conventional liquid purification apparatus, simply controlling the electrolysis time according to the concentration of hypochlorous acid does not necessarily mean that highly reliable purification is performed, and energy saving is not necessarily achieved. There was a problem that it could not be said.

本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、信頼性の高い浄化を行うと共に、省エネルギ化を図ることを目的とする。 This invention is made | formed in view of such a point, and aims at achieving energy saving while performing highly reliable purification | cleaning.

本願発明は、除菌能力が液温の変化にしたがって変化することから、液温にしたがって浄化運転を制御するものである。 The invention of the present application controls the purification operation according to the liquid temperature since the sterilization ability changes according to the change of the liquid temperature.

つまり、放電ユニット（62）の除菌能力は、水温にしたがって変化する。具体的に、過酸化水素の濃度を一定とした場合、水温が上昇するにしたがって９０％除菌運転時間が短くなる。つまり、過酸化水素濃度が一定である場合の除菌能力は、水温が上昇するにしたがって高くなる。 That is, the disinfection ability of the discharge unit (62) changes according to the water temperature. Specifically, when the concentration of hydrogen peroxide is constant, the 90% sterilization operation time is shortened as the water temperature rises. That is, the sterilization ability when the hydrogen peroxide concentration is constant increases as the water temperature increases.

また、放電ユニット（62）に起因する過酸化水素の発生量は、水温が上昇するにしたがって高くなる。 Further, the amount of hydrogen peroxide generated due to the discharge unit (62) increases as the water temperature increases.

そこで、本願発明は、水温にしたがって浄化運転を制御するようにした。 Therefore, the present invention controls the purification operation according to the water temperature.

具体的に、第１の発明は、液体を貯留する貯留タンク（41）と、該貯留タンク（41）内に設けられ、上記貯留タンク（41）における貯留液中で放電を生起する電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）と、該電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に電圧を印加する電源（70,70a,70b,70c）とを有し、上記放電によって上記貯留液中に水酸ラジカルを生成して上記貯留液を浄化する放電ユニット（62）と、上記貯留タンク（41）内の上記貯留液に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する上記貯留液中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部（94）と、上記貯留タンク（41）内の貯留液の温度を検出する温度検出部（Se1〜Se3）と、該温度検出部（Se1〜Se3）が検出した貯留液の温度にしたがって上記放電ユニット（62）の浄化運転を制御する運転制御部（81）とを備え、上記運転制御部（81）は、貯留液の温度にしたがって上記放電ユニット（62）の放電時間を制御するように構成され、上記運転制御部（81）は、貯留液の温度が高くなるにしたがって上記放電ユニット（62）の放電時間を短くするように構成されている。 Specifically, the first invention is a storage tank (41) for storing a liquid, and an electrode pair (in the storage tank (41), which generates a discharge in the stored liquid in the storage tank (41)). 64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) and a power source (70, 70a, 70b, 70c) for applying a voltage to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y), Generated by irradiating the stored liquid in the storage tank (41) with ultrasonic waves to the discharge unit (62) that generates hydroxyl radicals in the stored liquid by the discharge and purifies the stored liquid An ultrasonic generator (94) that converts hydrogen peroxide in the stored liquid generated by changing hydroxyl radicals into hydroxyl radicals, and temperature detection that detects the temperature of the stored liquid in the storage tank (41) The purifying operation of the discharge unit (62) is controlled in accordance with the temperature of the stored liquid detected by the section (Se1 to Se3) and the temperature detection section (Se1 to Se3) And a rolling controller (81), the operation control unit (81), as the temperature of the reservoir fluid is configured to control the discharge time of the discharge unit (62), the operation control unit (81) The discharge time of the discharge unit (62) is shortened as the temperature of the stored liquid increases .

上記第１の発明では、液温にしたがって浄化運転を制御し、除菌能力を変更させることにより、信頼性を向上させ、省エネルギ化を図る。また、本発明は、貯留液に超音波を照射する超音波発生部（94）を備えているため、超音波発生部から貯留液に対して超音波を照射することにより水酸ラジカルから変化した過酸化水素を、除菌能力がより高い水酸ラジカルに再び変換できる。その結果、より効果的な浄化運転を可能とする。 In the first aspect of the invention, the purification operation is controlled according to the liquid temperature, and the sterilization capability is changed, thereby improving the reliability and saving energy. Moreover, since this invention is equipped with the ultrasonic wave generation part (94) which irradiates a stored liquid with an ultrasonic wave, it changed from the hydroxyl radical by irradiating an ultrasonic wave with respect to the stored liquid from an ultrasonic wave generation part. Hydrogen peroxide can be converted back into hydroxyl radicals with higher sterilization capabilities. As a result, more effective purification operation is possible.

上記第１の発明では、貯留液の温度にしたがって放電時間を制御し、除菌能力を変更する。 In the said 1st invention, discharge time is controlled according to the temperature of a stored liquid, and disinfection capability is changed.

上記第１の発明では、貯留液の温度が高くなるにしたがって放電時間を短くし、逆に、貯留液の温度が低くなるにしたがって放電時間を長くし、除菌能力を変更する。 In the first aspect of the invention, the discharge time is shortened as the temperature of the stored liquid increases, and conversely, the discharge time is lengthened as the temperature of the stored liquid decreases to change the sterilization ability.

第２の発明は、液体を貯留する貯留タンク（41）と、該貯留タンク（41）内に設けられ、上記貯留タンク（41）における貯留液中で放電を生起する電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）と、該電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に電圧を印加する電源（70,70a,70b,70c）とを有し、上記放電によって上記貯留液中に水酸ラジカルを生成して上記貯留液を浄化する放電ユニット（62）と、上記貯留タンク（41）内の上記貯留液に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する上記貯留液中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部（94）と、上記貯留タンク（41）内の貯留液の温度を検出する温度検出部（Se1〜Se3）と、該温度検出部（Se1〜Se3）が検出した貯留液の温度にしたがって上記放電ユニット（62）の浄化運転を制御する運転制御部（81）とを備え、該運転制御部（81）は、貯留液の温度にしたがって上記放電ユニット（62）の電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に供給する電力を制御するように構成され、上記運転制御部（81）は、貯留液の温度が高くなるにしたがって上記放電ユニット（62）の電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に供給する電力を低下するように構成されている。According to a second aspect of the present invention, there is provided a storage tank (41) for storing a liquid, and an electrode pair (64, 64x, 64) provided in the storage tank (41) and causing discharge in the stored liquid in the storage tank (41). 64y, 65,65x, 65y) and a power source (70,70a, 70b, 70c) for applying a voltage to the electrode pair (64,64x, 64y, 65,65x, 65y) A discharge unit (62) for generating hydroxyl radicals in the stored liquid to purify the stored liquid, and irradiating the stored liquid in the storage tank (41) with ultrasonic waves, An ultrasonic generator (94) that converts hydrogen peroxide in the stored liquid generated by change into hydroxyl radicals, and a temperature detector (Se1 to Se1) that detects the temperature of the stored liquid in the storage tank (41) Se3) and an operation control unit for controlling the purification operation of the discharge unit (62) according to the temperature of the stored liquid detected by the temperature detection unit (Se1 to Se3) 81), and the operation control unit (81) controls the power supplied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) of the discharge unit (62) according to the temperature of the stored liquid. The operation control unit (81) is configured to supply electric power to the electrode pairs (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) of the discharge unit (62) as the temperature of the stored liquid increases. It is configured to decrease.

上記第２の発明では、貯留液の温度にしたがって供給電力を制御し、除菌能力を変更する。 In the said 2nd invention, supply electric power is controlled according to the temperature of stored liquid, and disinfection capability is changed.

上記第２の発明では、貯留液の温度が高くなるにしたがって供給電力を低下し、逆に、貯留液の温度が低くなるにしたがって供給電力を増加し、除菌能力を変更する。 In the second aspect of the invention, the supply power is decreased as the temperature of the stored liquid increases, and conversely, the supply power is increased as the temperature of the stored liquid decreases to change the sterilization ability.

第３の発明は、第１又は第２の発明において、上記温度検出部（Se1〜Se3）は、貯留タンク（41）の複数箇所に設けられる一方、上記運転制御部（81）は、複数の温度検出部（Se1〜Se3）が検出した貯留液の温度のうち、最も低い温度にしたがって上記放電ユニット（62）の浄化運転を制御するように構成されたものである。 According to a third invention, in the first or second invention, the temperature detection units (Se1 to Se3) are provided at a plurality of locations of the storage tank (41), while the operation control unit (81) includes a plurality of It is comprised so that the purification | cleaning driving | operation of the said discharge unit (62) may be controlled according to the lowest temperature among the temperature of the stored liquid which the temperature detection part (Se1-Se3) detected.

上記第３の発明では、貯留タンク（41）の最も低い貯留液の温度にしたがって浄化運転を制御し、必要な除菌能力が確保する。 In the third aspect of the invention, the purification operation is controlled according to the temperature of the lowest stored liquid in the storage tank (41) to ensure the necessary sterilization capability.

第４の発明は、第３の発明において、上記電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に印加する電圧のオン又はオフを制御する第１制御部（1）と、上記超音波発生部（94）の動作を制御する第２制御部（5）とをさらに備え、上記第１制御部（1）及び上記第２制御部（5）は、上記貯留タンク（41）内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に印加する電圧のオン又はオフ及び上記超音波発生部（94）の動作をそれぞれ制御するように構成されたものである。 According to a fourth invention, in the third invention, the first control unit (1) for controlling on or off of the voltage applied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y), and the above super A second control unit (5) for controlling the operation of the sound wave generation unit (94), and the first control unit (1) and the second control unit (5) are provided in the storage tank (41). On / off of the voltage applied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) and the ultrasonic wave so that the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid does not exceed a predetermined upper limit value. The operation of the generation unit (94) is configured to be controlled.

上記第４の発明では、浄化装置から外部へと供給される液体中の過酸化水素の濃度が上限値以下に抑えられるので、過酸化水素を除去するための処理が容易になる。 In the fourth aspect of the invention, the concentration of hydrogen peroxide in the liquid supplied from the purification apparatus to the outside is suppressed to the upper limit value or less, so that the treatment for removing the hydrogen peroxide becomes easy.

第５の発明は、第４の発明において、上記貯留タンク（41）内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ（7）をさらに備え、上記第１制御部（1）は、上記センサ（7）によるモニタ結果に応じて上記電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に印加する電圧のオン又はオフを制御し、上記第２制御部（5）は、上記センサ（7）によるモニタ結果に応じて上記超音波発生部（94）の動作を制御するように構成されたものである。 According to a fifth invention, in the fourth invention, the sensor further comprises a sensor (7) for monitoring the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid in the storage tank (41), and the first control unit (1) Controls on / off of the voltage applied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) according to the monitoring result by the sensor (7), and the second control unit (5) The operation of the ultrasonic wave generator (94) is controlled in accordance with the monitoring result by the sensor (7).

第６の発明は、第５の発明において、少なくとも上記貯留液中の過酸化水素の濃度が上記上限値を越えた場合には、上記第１制御部（1）が、上記電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に印加する電圧をオフにして上記放電を停止させるとともに、上記第２制御部（5）が、上記超音波発生部（94）を動作させるように構成されたものである。 In a sixth aspect based on the fifth aspect , when at least the concentration of hydrogen peroxide in the stored liquid exceeds the upper limit, the first control unit (1) 64x, 64y, 65, 65x, 65y) is turned off to stop the discharge, and the second control unit (5) is configured to operate the ultrasonic wave generation unit (94). It is a thing.

第７の発明は、第４乃至６の発明の何れか１つにおいて、上記第２制御部（5）は、上記貯留タンク（41）内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部（94）をオン状態にするように構成されたものである。 In a seventh aspect based on any one of the fourth to sixth aspects, the second control unit (5) is configured such that the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid in the storage tank (41) is During the period exceeding a predetermined lower limit value lower than the upper limit value, the ultrasonic generator (94) is turned on.

上記第７の発明では、超音波発生部（94）は液体の過酸化水素濃度が下限値以上である場合にオン状態にされるので、液中の過酸化水素から効率的且つ継続的に水酸ラジカルを生成することができる。 In the seventh aspect of the invention, since the ultrasonic generator (94) is turned on when the hydrogen peroxide concentration in the liquid is equal to or higher than the lower limit value, the water is efficiently and continuously removed from the hydrogen peroxide in the liquid. Acid radicals can be generated.

第８の発明は、第１又は第２の発明において、上記電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に印加する電圧のオン又はオフの制御、及び上記超音波発生部（94）の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、上記制御部は、上記貯留タンク（41）内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、上記電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に印加する電圧のオン又はオフ、及び上記超音波発生部（94）の動作を制御するように構成されたものである。 According to an eighth aspect of the present invention, in the first or second aspect, the on / off control of the voltage applied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) and the ultrasonic generator (94 ), And the control unit is configured to prevent the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid in the storage tank (41) from exceeding a predetermined upper limit value. The voltage applied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) is turned on or off, and the operation of the ultrasonic wave generator (94) is controlled.

第９の発明は、第８の発明において、上記制御部は、上記貯留タンク（41）内の上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、上記電極対（64,64x,64y,65,65x,65y）に印加する電圧をオフにして上記放電を停止させ、上記貯留液に含まれる過酸化水素の濃度が上記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、上記超音波発生部（94）をオン状態にするように構成されたものである。 In a ninth aspect based on the eighth aspect , the control unit is configured such that when the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid in the storage tank (41) exceeds a predetermined upper limit, The voltage applied to the pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) is turned off to stop the discharge, and a predetermined lower limit value in which the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid is lower than the upper limit value is set. The ultrasonic generator (94) is turned on during the exceeding period.

第１０の発明は、第１乃至第９の発明の何れか１つの発明において、上記貯留タンク（41）内の貯留液中に泡を吐出する吐出手段（119）と、上記吐出手段（119）に気体を送る送出手段（99）とをさらに備え、上記電極対（64,65）は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、上記電源（70b）は、上記電極対（64,65）にパルス電圧を印加し、上記吐出手段（119）は、上記電極対（64,65）の間であって、上記貯留タンク（41）の底部に配置されている。 According to a tenth aspect , in any one of the first to ninth aspects, the discharge means (119) for discharging bubbles into the stored liquid in the storage tank (41); and the discharge means (119) The electrode pair (64, 65) is plate-shaped and arranged to face each other, and the power source (70b) is connected to the electrode pair (64, 65). 64, 65), a pulse voltage is applied, and the discharge means (119) is disposed between the electrode pair (64, 65) and at the bottom of the storage tank (41).

本発明によれば、水温にしたがって放電ユニット（62）の浄化運転を制御するようにしたために、信頼性の高い浄化を行うことができると共に、省エネルギ化を図ることができる。また、本発明は貯留液に超音波を照射する超音波発生部（94）を備えている。このため、超音波発生部から貯留液に対して超音波を照射することにより水酸ラジカルから変化した過酸化水素を、除菌能力がより高い水酸ラジカルに再び変換できる。その結果、より効果的な浄化を可能とする。 According to the present invention, since the purification operation of the discharge unit (62) is controlled in accordance with the water temperature, highly reliable purification can be performed and energy saving can be achieved. Further, the present invention includes an ultrasonic wave generation unit (94) for irradiating the stored liquid with ultrasonic waves. For this reason, the hydrogen peroxide changed from the hydroxyl radical by irradiating the stored liquid with ultrasonic waves from the ultrasonic generator can be converted again into the hydroxyl radical having higher sterilization ability. As a result, more effective purification is possible.

つまり、上記第１の発明によれば、水温が高い場合には放電ユニット（62）による除菌能力が高いので、浄化運転を短くすることができることから、過剰な除菌運転を防止することができると共に、運転時間の短縮による省エネルギ化を図ることができる。 That is, according to the first aspect of the present invention, when the water temperature is high, the discharge unit (62) has a high sterilization capability, so that the purification operation can be shortened, so that an excessive sterilization operation can be prevented. In addition, energy saving can be achieved by shortening the operation time.

また逆に、水温が低い場合には放電ユニット（62）による除菌能力が低いので、浄化運転を長くすることができることから、除菌運転の不足を防止することができる。 Conversely, when the water temperature is low, the sterilization capability of the discharge unit (62) is low, so that the purification operation can be lengthened, so that the shortage of the sterilization operation can be prevented.

また、上記第２の発明によれば、水温が高い場合には放電ユニット（62）による除菌能力が高いので、放電ユニット（62）の供給電力を低下することができることから、過剰な除菌運転を防止することができると共に、供給電力の低下による省エネルギ化を図ることができる。 In addition, according to the second aspect , since the sterilization capability of the discharge unit (62) is high when the water temperature is high, the power supplied to the discharge unit (62) can be reduced. Operation can be prevented and energy saving can be achieved by reducing the power supply.

また逆に、水温が低い場合には放電ユニット（62）による除菌能力が低いので、放電ユニット（62）の供給電力を増大することができることから、除菌運転の不足を防止することができる。 Conversely, when the water temperature is low, the sterilization ability of the discharge unit (62) is low, so that the power supplied to the discharge unit (62) can be increased, so that lack of sterilization operation can be prevented. .

また、上記第３の発明によれば、上記放電ユニット（62）に３つの温度検出部（Se1〜Se3）を設け、この３つの温度検出部（Se1〜Se3）が検出した水温のうち、最も低い温度を選択し、最も低い温度を給湯タンク（41）の水温と決定するので、除菌運転の不足及び過剰を確実に防止することができる。 According to the third invention, the discharge unit (62) is provided with three temperature detectors (Se1 to Se3), and the water temperature detected by the three temperature detectors (Se1 to Se3) is the highest. Since the low temperature is selected and the lowest temperature is determined as the water temperature of the hot water supply tank (41), the shortage and excess of the sterilization operation can be surely prevented.

上記第４の発明によれば、液浄化装置から外部へと供給される液体中の過酸化水素の濃度が上限値以下に抑えられるので、過酸化水素を除去するための処理が容易になる。 According to the fourth aspect of the invention, the concentration of hydrogen peroxide in the liquid supplied from the liquid purification apparatus to the outside is suppressed to the upper limit value or less, so that the treatment for removing hydrogen peroxide is facilitated.

上記第５の発明によれば、第１制御部（1）及び第２制御部（5）が、貯留タンク（41）内の液体の過酸化水素濃度に応じて放電の制御及び超音波照射の制御をそれぞれ行うので、液体の過酸化水素濃度が所望の範囲内になるよう制御しつつ、浄化処理を行うことができる。 According to the fifth aspect , the first control unit (1) and the second control unit (5) perform discharge control and ultrasonic irradiation according to the hydrogen peroxide concentration of the liquid in the storage tank (41). Since each control is performed, the purification treatment can be performed while controlling the hydrogen peroxide concentration of the liquid to be within a desired range.

上記第６の発明によれば、液体中の過酸化水素の濃度が上限値を超えた場合に放電を停止させて過酸化水素の生成を停止させるので、液体の過酸化水素濃度を上限値以下にすることができ、処理後の液体からの過酸化水素の除去を容易にすることができる。 According to the sixth aspect of the invention, when the concentration of hydrogen peroxide in the liquid exceeds the upper limit value, the discharge is stopped and the generation of hydrogen peroxide is stopped. The removal of hydrogen peroxide from the liquid after the treatment can be facilitated.

上記第７の発明によれば、液体の過酸化水素濃度を下限値以上に制御することができるので、超音波を照射した場合に水酸ラジカルを効率良く発生させることが可能となる。 According to the seventh aspect, since the concentration of hydrogen peroxide in the liquid can be controlled to the lower limit value or more, it is possible to efficiently generate hydroxyl radicals when irradiated with ultrasonic waves.

上記第８の発明によれば、液体中の過酸化水素の濃度が上限値を超えないように制御部によって制御されるので、過酸化水素を除去するための処理を容易にすることができる。 According to the eighth aspect of the invention, since the control unit controls the concentration of hydrogen peroxide in the liquid so as not to exceed the upper limit value, the treatment for removing the hydrogen peroxide can be facilitated.

上記第９の発明によれば、液体の過酸化水素濃度を下限値以上に制御することができるので、超音波を照射した場合に水酸ラジカルを効率良く発生させることが可能となる。 According to the ninth aspect, since the concentration of hydrogen peroxide in the liquid can be controlled to the lower limit value or higher, it is possible to efficiently generate hydroxyl radicals when irradiated with ultrasonic waves.

上記第１０の発明によれば、電極対（64,65）にパルス電圧を印加する場合であっても放電を生起させることができるので、液中で水酸ラジカルを効率的に発生させ、超音波照射と組み合わせることでより高い浄化効果を得ることができる。 According to the tenth aspect of the invention, even when a pulse voltage is applied to the electrode pair (64, 65), a discharge can be generated. A higher purification effect can be obtained by combining with sound wave irradiation.

図１は、実施形態１に係る給湯システムの全体構成を示す配管系統図である。FIG. 1 is a piping system diagram showing an overall configuration of a hot water supply system according to Embodiment 1. 図２は、実施形態１に係る水浄化ユニットの全体構成図であり、水浄化動作を開始する前の状態を示すものである。FIG. 2 is an overall configuration diagram of the water purification unit according to the first embodiment, and shows a state before the water purification operation is started. 図３は、実施形態１に係る絶縁ケーシングの斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of the insulating casing according to the first embodiment. 図４（ａ）、図４（ｂ）は、超音波発生部の具体例を示す拡大断面図である。FIG. 4A and FIG. 4B are enlarged cross-sectional views showing a specific example of the ultrasonic wave generation unit. 図５は、実施形態１における水浄化ユニットによる液体処理の基本サイクルを示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a basic cycle of liquid treatment by the water purification unit according to the first embodiment. 図６は、実施形態１に係る水浄化ユニットの全体構成図であり、水浄化動作を開始して気泡が形成された状態を示すものである。FIG. 6 is an overall configuration diagram of the water purification unit according to the first embodiment, and shows a state in which bubbles are formed by starting the water purification operation. 図７は、放電運転を示す制御フロー図である。FIG. 7 is a control flowchart showing the discharge operation. 図８は、液体中の過酸化水素の濃度を用いてフィードバック制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。FIG. 8 is a time chart showing an example of operation control when feedback control is performed using the concentration of hydrogen peroxide in the liquid. 図９は、実施形態１の変形例に係る水浄化ユニットの全体構成図である。FIG. 9 is an overall configuration diagram of a water purification unit according to a modification of the first embodiment. 図１０は、実施形態１の変形例に係る絶縁ケーシングの斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of an insulating casing according to a modification of the first embodiment. 図１１は、実施形態２に係る水浄化ユニットの全体構成図であり、水浄化動作を開始する前の状態を示すものである。FIG. 11 is an overall configuration diagram of a water purification unit according to Embodiment 2, and shows a state before the water purification operation is started. 図１２は、実施形態２に係る水浄化ユニットの全体構成図であり、水浄化動作を開始して気泡が形成された状態を示すものである。FIG. 12 is an overall configuration diagram of the water purification unit according to the second embodiment, and shows a state in which air purification is started and bubbles are formed. 図１３は、実施形態２の変形例に係る絶縁ケーシングの蓋部の平面図である。FIG. 13 is a plan view of the lid portion of the insulating casing according to the modification of the second embodiment. 図１４は、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いてフィードフォワード制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。FIG. 14 is a time chart showing an example of operation control in the case where feedforward control is performed using the measured value of the change in the concentration of hydrogen peroxide. 図１５は、本発明の実施形態４における水浄化ユニットを示す構成図である。FIG. 15 is a configuration diagram illustrating a water purification unit according to Embodiment 4 of the present invention. 図１６は、本発明の実施形態５における水浄化ユニットを示す構成図である。FIG. 16 is a configuration diagram illustrating a water purification unit according to Embodiment 5 of the present invention. 図１７は、本発明の実施形態６における水浄化ユニットを示す構成図である。FIG. 17 is a configuration diagram illustrating a water purification unit according to Embodiment 6 of the present invention.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

〈発明の実施形態１〉
図１に示すように、本実施形態は、給湯システム（10）に液浄化装置を設けたものである。上記給湯システム（10）は、浴槽（U1）及びシャワー（U2）へ温水を供給するシステムである。給湯システム（10）は、いわゆるヒートポンプ式の給湯器であり、熱源ユニット（30）と給湯ユニット（40）とを有している。 <Embodiment 1>
As shown in FIG. 1, in the present embodiment, a liquid purification device is provided in a hot water supply system (10). The hot water supply system (10) is a system for supplying hot water to the bathtub (U1) and the shower (U2). The hot water supply system (10) is a so-called heat pump type hot water heater, and includes a heat source unit (30) and a hot water supply unit (40).

上記熱源ユニット（30）は、圧縮機（31）と加熱熱交換器（32）と膨張弁（33）と室外熱交換器（34）とを備えている。そして、上記圧縮機（31）と加熱熱交換器（32）と膨張弁（33）と室外熱交換器（34）とが冷媒配管を介して順に接続され、閉回路の冷媒回路（11）が構成されている。上記冷媒回路（11）には、冷媒として二酸化炭素が充填されている。 The heat source unit (30) includes a compressor (31), a heating heat exchanger (32), an expansion valve (33), and an outdoor heat exchanger (34). Then, the compressor (31), the heating heat exchanger (32), the expansion valve (33), and the outdoor heat exchanger (34) are sequentially connected through the refrigerant pipe, and the closed circuit refrigerant circuit (11) is connected. It is configured. The refrigerant circuit (11) is filled with carbon dioxide as a refrigerant.

上記加熱熱交換器（32）は、一次側伝熱部（32a）と二次側伝熱部（32b）とを有している。一次側伝熱部（32a）は、圧縮機（31）と膨張弁（33）との間の高圧ラインに接続されている。二次側伝熱部（32b）は、給湯ユニット（40）の第１循環流路（13）に接続されている。加熱熱交換器（32）は、一次側伝熱部（32a）を流れる冷媒と、二次側伝熱部（32b）を流れる水とを熱交換させている。室外熱交換器（34）の近傍には、ファン（35）が設けられている。 The heating heat exchanger (32) includes a primary heat transfer section (32a) and a secondary heat transfer section (32b). The primary heat transfer section (32a) is connected to a high-pressure line between the compressor (31) and the expansion valve (33). The secondary heat transfer section (32b) is connected to the first circulation channel (13) of the hot water supply unit (40). The heating heat exchanger (32) exchanges heat between the refrigerant flowing through the primary heat transfer section (32a) and the water flowing through the secondary heat transfer section (32b). A fan (35) is provided in the vicinity of the outdoor heat exchanger (34).

上記冷媒回路（11）は、圧縮機（31）を運転して冷媒を循環させて蒸気圧縮式の冷凍サイクルが行われる。即ち、上記圧縮機（31）で圧縮された冷媒が、一次側伝熱部（32a）で放熱し、膨張弁（33）で減圧される。減圧された冷媒は、室外熱交換器（34）で蒸発し、圧縮機（31）に吸入される。この冷凍サイクルは、冷媒としての二酸化炭素を臨界圧力以上まで圧縮する、いわゆる超臨界サイクルである。 The refrigerant circuit (11) operates the compressor (31) to circulate the refrigerant to perform a vapor compression refrigeration cycle. That is, the refrigerant compressed by the compressor (31) radiates heat at the primary side heat transfer section (32a) and is decompressed by the expansion valve (33). The decompressed refrigerant evaporates in the outdoor heat exchanger (34) and is sucked into the compressor (31). This refrigeration cycle is a so-called supercritical cycle in which carbon dioxide as a refrigerant is compressed to a critical pressure or higher.

上記給湯ユニット（40）は、貯留タンクである給湯タンク（41）と内部熱交換器（42）とを備えている。該給湯タンク（41）は、縦長の円筒状の密閉容器で構成されている。給湯タンク（41）は、円筒形の周壁部（41a）と、周壁部（41a）の上側を閉塞する頂壁部（41b）と、周壁部（41a）の下側を閉塞する底壁部（41c）とを備えている。給湯タンク（41）には、第１循環流路（13）と第２循環流路（14）と供給流路（15）とが接続されている。また、給湯タンク（41）には、該給湯タンク（41）内へ水道水を適宜補給する給水流路（20）も接続されている。これらの流路（13，14，15，20）は、給湯タンク（41）と連通する水流路（12）を構成している。 The hot water supply unit (40) includes a hot water supply tank (41) that is a storage tank and an internal heat exchanger (42). The hot water tank (41) is a vertically long cylindrical sealed container. The hot water supply tank (41) includes a cylindrical peripheral wall portion (41a), a top wall portion (41b) that closes the upper side of the peripheral wall portion (41a), and a bottom wall portion that closes the lower side of the peripheral wall portion (41a) ( 41c). A first circulation channel (13), a second circulation channel (14), and a supply channel (15) are connected to the hot water supply tank (41). The hot water supply tank (41) is also connected with a water supply channel (20) for appropriately supplying tap water to the hot water supply tank (41). These flow paths (13, 14, 15, 20) constitute a water flow path (12) communicating with the hot water supply tank (41).

上記第１循環流路（13）の始端は、給湯タンク（41）の下部に接続され、第１循環流路（13）の終端は、給湯タンク（41）の上部に接続されている。そして、第１循環流路（13）には、第１ポンプ（43）が設けられている。第１ポンプ（43）は、第１循環流路（13）の始端側から終端側の方向へ水を搬送する搬送機構である。第１循環流路（13）には、第１ポンプ（43）の下流側に二次側伝熱部（32b）が接続されている。 The starting end of the first circulation channel (13) is connected to the lower part of the hot water supply tank (41), and the end of the first circulation channel (13) is connected to the upper part of the hot water supply tank (41). The first circulation channel (13) is provided with a first pump (43). The first pump (43) is a transport mechanism that transports water from the start end side to the end end side of the first circulation channel (13). A secondary heat transfer section (32b) is connected to the first circulation channel (13) on the downstream side of the first pump (43).

上記第２循環流路（14）の始端は、給湯タンク（41）の下部に接続され、第２循環流路（14）の終端は、給湯タンク（41）の頂壁部（41b）に接続されている。そして、第２循環流路（14）には、第２ポンプ（44）が設けられている。第２ポンプ（44）は、第２循環流路（14）の始端側から終端側の方向へ水を搬送する搬送機構である。第２循環流路（14）には、第２ポンプ（44）の下流側に内部熱交換器（42）の第１伝熱管（42a）が接続されている。 The starting end of the second circulation channel (14) is connected to the lower part of the hot water supply tank (41), and the end of the second circulation channel (14) is connected to the top wall (41b) of the hot water supply tank (41). Has been. A second pump (44) is provided in the second circulation channel (14). The second pump (44) is a transport mechanism that transports water from the start end side to the end end side of the second circulation channel (14). The first heat transfer pipe (42a) of the internal heat exchanger (42) is connected to the second circulation channel (14) on the downstream side of the second pump (44).

上記内部熱交換器（42）は、第１伝熱管（42a）と第２伝熱管（42b）とを有している。第１伝熱管（42a）は、第２循環流路（14）に接続されている。第２伝熱管（42b）は、供給流路（15）の第３循環流路（16）に接続されている。 The internal heat exchanger (42) has a first heat transfer tube (42a) and a second heat transfer tube (42b). The first heat transfer tube (42a) is connected to the second circulation channel (14). The second heat transfer tube (42b) is connected to the third circulation channel (16) of the supply channel (15).

上記供給流路（15）は、主供給路（17）と第１分岐路（18）と第２分岐路（19）と第３循環流路（16）とを備えている。 The supply channel (15) includes a main supply channel (17), a first branch channel (18), a second branch channel (19), and a third circulation channel (16).

上記主供給路（17）の始端は、給湯タンク（41）の頂壁部（41b）に接続され、主供給路（17）の終端側は、第１分岐路（18）と第２分岐路（19）とに分岐している。そして、主供給路（17）には、第３ポンプ（45）が設けられている。第３ポンプ（45）は、主供給路（17）の始端側から終端側の方向へ水を搬送する搬送機構である。 The starting end of the main supply path (17) is connected to the top wall (41b) of the hot water supply tank (41), and the terminal side of the main supply path (17) is the first branch path (18) and the second branch path. Branch to (19). The main supply path (17) is provided with a third pump (45). The third pump (45) is a transport mechanism that transports water from the start end side to the end end side of the main supply path (17).

上記第１分岐路（18）の終端は、第３循環流路（16）を介して浴槽（U1）と連通している。つまり、第１分岐路（18）は、浴槽（U1）側へ温水を供給するための浴槽側供給路を構成している。第１分岐路（18）には、第１開閉弁（46）が設けられている。第２分岐路（19）の終端は、シャワー（U2）に接続されている。つまり、第２分岐路（19）は、シャワー（U2）に温水を供給するシャワー側供給路を構成している。第２分岐路（19）には、第２開閉弁（47）が設けられている。 The terminal end of the first branch channel (18) communicates with the bathtub (U1) through the third circulation channel (16). That is, the 1st branch channel (18) comprises the bathtub side supply path for supplying warm water to the bathtub (U1) side. The first branch path (18) is provided with a first on-off valve (46). The terminal end of the second branch path (19) is connected to the shower (U2). That is, the second branch path (19) constitutes a shower side supply path that supplies hot water to the shower (U2). The second branch passage (19) is provided with a second on-off valve (47).

上記第３循環流路（16）は、浴槽（U1）内の水を循環させる浴槽循環流路を構成している。第３循環流路（16）は、供給循環路（16a）と返送循環路（16b）とを有している。供給循環路（16a）の流出端は、浴槽（U1）の内部における上方寄りに開口している。返送循環路（16b）の流入端は、浴槽（U1）の内部における下方寄りに開口している。供給循環路（16a）には、第４ポンプ（48）が設けられている。第４ポンプ（48）は、主供給路（17）側の水、又は返送循環路（16b）側の水を浴槽（U1）内へ供給する搬送機構である。返送循環路（16b）には、内部熱交換器（42）の第２伝熱管（42b）が接続され、該第２伝熱管（42b）の下流側に第３開閉弁（49）が設けられている。 The third circulation channel (16) constitutes a bathtub circulation channel for circulating water in the bathtub (U1). The third circulation channel (16) has a supply circuit (16a) and a return circuit (16b). The outflow end of the supply circuit (16a) opens toward the upper side in the bathtub (U1). The inflow end of the return circuit (16b) opens toward the lower side in the bathtub (U1). A fourth pump (48) is provided in the supply circuit (16a). The fourth pump (48) is a transport mechanism that supplies water on the main supply path (17) side or water on the return circulation path (16b) side into the bathtub (U1). A second heat transfer pipe (42b) of the internal heat exchanger (42) is connected to the return circuit (16b), and a third on-off valve (49) is provided downstream of the second heat transfer pipe (42b). ing.

上記内部熱交換器（42）は、第１伝熱管（42a）を流れる水と、第２伝熱管（42b）を流れる水とを熱交換させている。給湯ユニット（40）では、返送循環路（16b）を流れる水と比較すると、第２循環流路（14）を流れる水の温度の方が高くなる。このため、内部熱交換器（42）では、第１伝熱管（42a）を流れる水の熱が、第２伝熱管（42b）を流れる水へ付与される。つまり、第２伝熱管（42b）は、第３循環流路（16）を流れる水を加熱する加熱部を構成している。 The internal heat exchanger (42) exchanges heat between water flowing through the first heat transfer tube (42a) and water flowing through the second heat transfer tube (42b). In the hot water supply unit (40), the temperature of the water flowing through the second circulation channel (14) is higher than that of the water flowing through the return circulation channel (16b). For this reason, in an internal heat exchanger (42), the heat of the water which flows through a 1st heat exchanger tube (42a) is provided to the water which flows through a 2nd heat exchanger tube (42b). That is, the 2nd heat exchanger tube (42b) comprises the heating part which heats the water which flows through the 3rd circulation channel (16).

一方、上記給湯タンク（41）には、３つの温度センサ（Se1〜Se3）が設けられている。該温度センサ（Se1〜Se3）は、給湯タンク（41）に貯留された水（液体）の温度（水温）を検出する温度検出部を構成している。そして、第１温度センサ（Se1）は、給湯タンク（41）の下部に設けられ、給湯タンク（41）の下部の水温を検出している。第２温度センサ（Se2）は、給湯タンク（41）の中央部に設けられ、給湯タンク（41）の中央部の水温を検出している。第３温度センサ（Se3）は、給湯タンク（41）の上部に設けられ、給湯タンク（41）の上部の水温を検出している。 On the other hand, in the hot water supply tank (41), three temperature sensors (Se1 to Se3) are provided. The temperature sensors (Se1 to Se3) constitute a temperature detection unit that detects the temperature (water temperature) of water (liquid) stored in the hot water supply tank (41). And the 1st temperature sensor (Se1) is provided in the lower part of the hot water supply tank (41), and has detected the water temperature of the lower part of the hot water supply tank (41). The second temperature sensor (Se2) is provided at the center of the hot water supply tank (41) and detects the water temperature at the center of the hot water supply tank (41). The third temperature sensor (Se3) is provided at the upper part of the hot water supply tank (41) and detects the water temperature at the upper part of the hot water supply tank (41).

〈水浄化ユニットの詳細構造〉
上記給湯タンク（41）には、放電ユニット（62）及び超音波発生部（94）が設けられている。つまり、上記給湯タンク（41）と放電ユニット（62）と超音波発生部（94）によって液浄化装置である水浄化ユニット（60）が構成されている。 <Detailed structure of water purification unit>
The hot water supply tank (41) is provided with a discharge unit (62) and an ultrasonic generator (94). That is, the water purification unit (60) which is a liquid purification apparatus is comprised by the said hot water supply tank (41), the discharge unit (62), and the ultrasonic wave generation part (94).

上記水浄化ユニット（60）は、貯留タンク（41）の貯留水の水中で放電と超音波照射を行って水中に水酸ラジカル及び過酸化水素等の浄化成分を生成し、この浄化成分によって貯留水の浄化を行うものである。 The water purification unit (60) performs discharge and ultrasonic irradiation in the water stored in the storage tank (41) to generate purification components such as hydroxyl radicals and hydrogen peroxide in the water, which are stored by the purification components. It purifies water.

上記水浄化ユニット（60）は、図２に示すように、貯留タンク（41）における内部の底部に高電圧発生部（70）を含む放電ユニット（62）と、超音波発生部（94）とが設けられて構成されている。さらに、水浄化ユニット（60）は、高電圧発生部(70)に接続された放電波形発生部（3）と、電極対（64,65）に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部(1)と、増幅器（9）を介して超音波発生部（94）に所定の周波数の交流電圧を供給する超音波波形発生部（8）と、超音波波形発生部（8）を介して超音波発生部（94）の動作を制御する制御部（5）と、貯留タンク（41）内の液体の過酸化水素濃度をモニタするセンサ（7）とを備えている。なお、図示しないが、センサ（7）のモニタ結果に基づいて制御部（1,5）を制御する中央演算装置（ＣＰＵ）が設けられていてもよい。制御部（1,5）による放電ユニット（62）及び超音波発生部（94）の制御方法については、後に説明する。なお、後述のいわゆるフィードフォワード制御を行う場合、センサ（7）は必ずしも設けられなくてもよい。 As shown in FIG. 2, the water purification unit (60) includes a discharge unit (62) including a high voltage generator (70) at the bottom inside the storage tank (41), an ultrasonic generator (94), Is provided. Furthermore, the water purification unit (60) includes a discharge waveform generator (3) connected to the high voltage generator (70), and a controller that controls on / off of the voltage applied to the electrode pair (64, 65). (1), an ultrasonic waveform generator (8) for supplying an AC voltage of a predetermined frequency to the ultrasonic generator (94) via the amplifier (9), and an ultrasonic waveform generator (8) A control unit (5) for controlling the operation of the ultrasonic wave generation unit (94) and a sensor (7) for monitoring the hydrogen peroxide concentration of the liquid in the storage tank (41) are provided. Although not shown, a central processing unit (CPU) that controls the control units (1, 5) based on the monitoring result of the sensor (7) may be provided. A method for controlling the discharge unit (62) and the ultrasonic wave generation unit (94) by the control unit (1, 5) will be described later. In addition, when performing so-called feedforward control described later, the sensor (7) is not necessarily provided.

上記放電ユニット（62）は、電極Ａ（64）及び電極Ｂ（65）とからなる電極対（64，65）と、この電極対（64，65）に電圧を印加する高電圧発生部（70）と、電極Ａ（64）を内部に収容する絶縁ケーシング（71）とを備えている。 The discharge unit (62) includes an electrode pair (64, 65) composed of an electrode A (64) and an electrode B (65), and a high voltage generator (70) that applies a voltage to the electrode pair (64, 65). ) And an insulating casing (71) for accommodating the electrode A (64) therein.

上記電極対（64，65）は、水中で放電を生起するためのものである。上記電極Ａ（64）は、絶縁ケーシング（71）の内部に配置されている。電極Ａ（64）は、上下に扁平な板状に形成されている。電極Ａ（64）は、高電圧発生部（70）に接続されている。上記電極Ａ（64）は、例えば、ステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。 The electrode pair (64, 65) is for causing discharge in water. The electrode A (64) is disposed inside the insulating casing (71). The electrode A (64) is formed in a plate shape that is flat vertically. The electrode A (64) is connected to the high voltage generator (70). The electrode A (64) is made of, for example, a conductive metal material such as stainless steel or copper.

上記電極Ｂ（65）は、絶縁ケーシング（71）の外部に配置されている。上記電極Ｂ（65）は、電極Ａ（64）の上方に設けられている。電極Ｂ（65）は、上下に扁平な板状であって、且つ上下に複数の貫通孔（66）を有するメッシュ形状ないしパンチングメタル形状に構成されている。電極Ｂ（65）は、電極Ａ（64）と略平行に配設されている。電極Ｂ（65）は、高電圧発生部（70）に接続されている。電極Ｂ（65）は、例えば、ステンレス、真鍮等の導電性の金属材料で構成されている。 The electrode B (65) is disposed outside the insulating casing (71). The electrode B (65) is provided above the electrode A (64). The electrode B (65) has a flat plate shape in the vertical direction, and is configured in a mesh shape or a punching metal shape having a plurality of through holes (66) in the vertical direction. The electrode B (65) is disposed substantially parallel to the electrode A (64). The electrode B (65) is connected to the high voltage generator (70). The electrode B (65) is made of a conductive metal material such as stainless steel or brass.

上記高電圧発生部（70）は、例えば電極対（64，65）に所定の電圧を印加する電源で構成されていてもよい。即ち、高電圧発生部（70）は、電極対（64，65）に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源ではなく、電極対（64，65）に対して常に数キロボルトの電圧を印加する電源であってもよい。また、高電圧発生部（70）には、電極対（64，65）の放電電力を一定に制御する定電力制御部が設けられている（図示省略）。 The high voltage generation unit (70) may be constituted by, for example, a power source that applies a predetermined voltage to the electrode pair (64, 65). That is, the high voltage generator (70) is not a pulse power source that repeatedly applies a high voltage instantaneously to the electrode pair (64, 65), but is always several kilovolts to the electrode pair (64, 65). The power supply which applies the voltage of may be sufficient. The high voltage generator (70) is provided with a constant power controller (not shown) that controls the discharge power of the electrode pair (64, 65) to be constant.

上記絶縁ケーシング（71）は、貯留タンク（41）の底部に設置されている。絶縁ケーシング（71）は、例えば、セラミックス等の絶縁材料で構成されている。絶縁ケーシング（71）は、一面（上面）が開放された容器状のケース本体（72）と、該ケース本体（72）の上方の開放部を閉塞する板状の蓋部（73）とを有している。 The insulating casing (71) is installed at the bottom of the storage tank (41). The insulating casing (71) is made of an insulating material such as ceramics. The insulating casing (71) has a container-like case body (72) whose one surface (upper surface) is open, and a plate-like lid (73) that closes the open portion above the case body (72). doing.

上記ケース本体（72）は、角型筒状の側壁部（72a）と、該側壁部（72a）の底面を閉塞する底部（72b）とを有している。電極Ａ（64）は、底部（72b）の上側に敷設されている。絶縁ケーシング（71）では、蓋部（73）と底部（72b）との間の上下方向の距離が、電極Ａ（64）の厚さよりも長くなっている。つまり、電極Ａ（64）と蓋部（73）との間には、所定の間隔が確保されている。これにより、絶縁ケーシング（71）の内部では、電極Ａ（64）とケース本体（72）と蓋部（73）との間に空間（S）が形成される。 The case body (72) has a square cylindrical side wall (72a) and a bottom (72b) that closes the bottom of the side wall (72a). The electrode A (64) is laid on the upper side of the bottom (72b). In the insulating casing (71), the vertical distance between the lid (73) and the bottom (72b) is longer than the thickness of the electrode A (64). That is, a predetermined interval is secured between the electrode A (64) and the lid portion (73). Thereby, inside the insulating casing (71), a space (S) is formed between the electrode A (64), the case main body (72), and the lid portion (73).

上記絶縁ケーシング（71）の蓋部（73）には、図２及び図３に示すように、該蓋部（73）を厚さ方向に貫通する１つの開口（74）が形成されている。この開口（74）により、電極Ａ（64）と電極Ｂ（65）との間の電界の形成が許容されている。蓋部（73）の開口（74）の内径は、０．０２ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であることが好ましい。以上のような開口（74）は、電極対（64，65）の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。 As shown in FIGS. 2 and 3, the opening (74) penetrating the lid (73) in the thickness direction is formed in the lid (73) of the insulating casing (71). The opening (74) allows formation of an electric field between the electrode A (64) and the electrode B (65). The inner diameter of the opening (74) of the lid (73) is preferably 0.02 mm or more and 0.5 mm or less. The opening (74) as described above constitutes a current density concentration portion that increases the current density of the current path between the electrode pair (64, 65).

以上のように、絶縁ケーシング（71）は、電極対（64，65）のうちの一方の電極（電極Ａ（64））のみを内部に収容し、且つ電流密度集中部としての開口（74）を有する絶縁部材を構成している。 As described above, the insulating casing (71) accommodates only one electrode (electrode A (64)) of the electrode pair (64, 65) inside, and the opening (74) as a current density concentration portion. The insulating member which has this is comprised.

加えて、絶縁ケーシング（71）の開口（74）内では、電流経路の電流密度が上昇することで、水がジュール熱によって気化して気泡（B）が形成される。つまり、絶縁ケーシング（71）の開口（74）は、該開口（74）に気相部としての気泡（B）を形成する気相形成部として機能する。 In addition, in the opening (74) of the insulating casing (71), the current density of the current path increases, so that water is vaporized by Joule heat and bubbles (B) are formed. That is, the opening (74) of the insulating casing (71) functions as a gas phase forming part that forms bubbles (B) as a gas phase part in the opening (74).

超音波発生部（94）は、板状の圧電セラミックス（95）と、間に圧電セラミックス（95）を挟むように設けられた一対の金属板（96a,96b）とで構成される。超音波発生部（94）を封入するケース（97）は密閉され、貯留タンク（41）の底部に配置されている。超音波発生部（94）は、電極対（64,65）よりも、貯留タンク（41）の給水口に近い位置（言い換えれば、注水口から遠い位置）に配置される。 The ultrasonic wave generator (94) includes a plate-shaped piezoelectric ceramic (95) and a pair of metal plates (96a, 96b) provided so as to sandwich the piezoelectric ceramic (95) therebetween. The case (97) enclosing the ultrasonic wave generation unit (94) is sealed and disposed at the bottom of the storage tank (41). The ultrasonic generator (94) is disposed at a position closer to the water supply port of the storage tank (41) than the electrode pair (64, 65) (in other words, a position far from the water injection port).

金属板（96a,96b）には、増幅器（9）によって増幅された超音波波形発生部（8）の出力信号（交流電圧）が供給される。これにより、超音波発生部（94）は任意の周波数の超音波を貯留タンク（41）内の液体に照射する。 The metal plate (96a, 96b) is supplied with the output signal (AC voltage) of the ultrasonic waveform generator (8) amplified by the amplifier (9). Thereby, an ultrasonic wave generation part (94) irradiates the liquid in a storage tank (41) with the ultrasonic wave of arbitrary frequencies.

なお、超音波発生部（94）は、貯留タンク（41）内の液体に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてもよい。例えば、図４（ａ）に示すように、超音波発生部（94）が貯留タンク（41）の底部外側に設置されていてもよく、貯留タンク（41）の内部において、電極対（64,65）よりも注水口に近い位置に設置されていてもよい。超音波発生部（94）が貯留タンク（41）の底部外側に設置されている場合、超音波は貯留タンク（41）の壁面を介して液体に伝達される。 In addition, the ultrasonic wave generation part (94) may be installed at an arbitrary position within a range in which ultrasonic waves can be applied to the liquid in the storage tank (41). For example, as shown to Fig.4 (a), the ultrasonic wave generation part (94) may be installed in the bottom outer side of the storage tank (41), and inside a storage tank (41), electrode pair (64, It may be installed at a position closer to the water inlet than 65). When the ultrasonic generator (94) is installed outside the bottom of the storage tank (41), the ultrasonic wave is transmitted to the liquid via the wall surface of the storage tank (41).

また、超音波発生部（94）の構成は、図２に示す例に限られない。例えば、図４（ｂ）に示すように、金属ケース（97a）の上部と金属板（96）とで板状の圧電セラミックス（95）を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよい。 Moreover, the structure of an ultrasonic wave generation part (94) is not restricted to the example shown in FIG. For example, as shown in FIG. 4B, a plate-shaped piezoelectric ceramic (95) is sandwiched between the upper part of the metal case (97a) and the metal plate (96), and an AC voltage is supplied between the two. May be.

一方、上記放電ユニット（62）には、コントローラ（80）が接続されている。該コントローラ（80）は、３つの温度センサ（Se1〜Se3）が接続されると共に、運転制御部（81）が設けられている。 On the other hand, a controller (80) is connected to the discharge unit (62). The controller (80) is connected to three temperature sensors (Se1 to Se3) and is provided with an operation control unit (81).

該運転制御部（81）は、温度センサ（Se1〜Se3）が検出した水温にしたがって上記放電ユニット（62）の浄化運転を制御している。つまり、上記運転制御部（81）は、温度センサ（Se1〜Se3）が検出した水温にしたがって上記放電ユニット（62）の放電時間を制御している。 The operation control unit (81) controls the purification operation of the discharge unit (62) according to the water temperature detected by the temperature sensors (Se1 to Se3). That is, the said operation control part (81) controls the discharge time of the said discharge unit (62) according to the water temperature which the temperature sensor (Se1-Se3) detected.

具体的に、上記運転制御部（81）は、水温が高くなるにしたがって上記放電ユニット（62）の放電時間を短くするように構成されている。また、上記運転制御部（81）は、３つの温度センサ（Se1〜Se3）が検出した水温のうち、最も低い温度にしたがって上記放電ユニット（62）の放電時間を制御している。 Specifically, the operation control unit (81) is configured to shorten the discharge time of the discharge unit (62) as the water temperature increases. Moreover, the said operation control part (81) controls the discharge time of the said discharge unit (62) according to the lowest temperature among the water temperature which three temperature sensors (Se1-Se3) detected.

そこで、水温にしたがって放電時間を制御する基本的原理について説明する。 Therefore, the basic principle of controlling the discharge time according to the water temperature will be described.

先ず、上記水浄化ユニット（60）の除菌能力は、水温にしたがって変化する。水浄化ユニット（60）の過酸化水素の濃度を一定とし、水温を変化させた場合、水温が上昇するにしたがって９０％除菌運転時間が短くなる。つまり、過酸化水素濃度が一定である水浄化ユニット（60）の除菌能力は、水温が上昇するにしたがって高くなる。 First, the sterilization capacity of the water purification unit (60) changes according to the water temperature. When the concentration of hydrogen peroxide in the water purification unit (60) is constant and the water temperature is changed, the 90% sterilization operation time is shortened as the water temperature rises. That is, the sterilization ability of the water purification unit (60) having a constant hydrogen peroxide concentration increases as the water temperature increases.

また、水浄化ユニット（60）の過酸化水素の発生量は、水温が上昇するにしたがって高くなる。 Further, the amount of hydrogen peroxide generated in the water purification unit (60) becomes higher as the water temperature rises.

そこで、本実施形態では、上述したように、上記運転制御部（81）は、水温が高くなるにしたがって上記放電ユニット（62）の放電時間を短くする。 Therefore, in the present embodiment, as described above, the operation control unit (81) shortens the discharge time of the discharge unit (62) as the water temperature increases.

そして、上記運転制御部（81）は、図示しないが、水温決定部と放電時間算出部と放電実行部とを備えている。 The operation control unit (81) includes a water temperature determination unit, a discharge time calculation unit, and a discharge execution unit (not shown).

上記水温決定部は、３つの温度センサ（Se1〜Se3）が検出した水温のうち、最も低い温度を選択し、最も低い温度を給湯タンク（41）の水温と決定する。 The said water temperature determination part selects the lowest temperature among the water temperature which three temperature sensors (Se1-Se3) detected, and determines the lowest temperature as the water temperature of a hot water supply tank (41).

上記放電時間算出部は、過酸化水素の濃度を一定した場合の除菌能力と水温との関係及び過酸化水素の発生量と水温との関係を示すデータを予め記憶し、水温決定部が決定した水温に基づき放電時間を算出する。 The discharge time calculation unit stores in advance data indicating the relationship between the sterilization ability and the water temperature when the concentration of hydrogen peroxide is constant, and the relationship between the generation amount of hydrogen peroxide and the water temperature, and the water temperature determination unit determines The discharge time is calculated based on the water temperature.

上記放電実行部は、放電時間算出部が算出した放電時間が経過するまで放電ユニット（62）の放電を実行し、放電時間が経過すると放電ユニット（62）の放電を停止する。 The discharge execution unit executes the discharge of the discharge unit (62) until the discharge time calculated by the discharge time calculation unit elapses, and stops the discharge of the discharge unit (62) when the discharge time elapses.

なお、図２では、コントローラ（80）は高電圧発生部（70）に接続されており、運転制御部（81）は高電圧発生部（70）の電極対（64,65）に対する電圧の印可をオン又はオフ制御するが、放電ユニット（62）の放電時間を制御できれば、これに限られない。例えばコントローラ（80）が制御部（1）等に接続されて、運転制御部（81）は制御部（1）を介して高電圧発生部（70）の電極対（64,65）に対する電圧の印可をオン又はオフ制御をしてもよい。また、制御部（1）がコントローラ（80）を含んでもよい。 In FIG. 2, the controller (80) is connected to the high voltage generator (70), and the operation controller (81) applies voltage to the electrode pair (64,65) of the high voltage generator (70). However, the present invention is not limited to this as long as the discharge time of the discharge unit (62) can be controlled. For example, the controller (80) is connected to the control unit (1), etc., and the operation control unit (81) transmits the voltage to the electrode pair (64, 65) of the high voltage generation unit (70) via the control unit (1). Application may be controlled on or off. Further, the control unit (1) may include a controller (80).

−給湯システムの運転動作−
次に、上記給湯システム（10）の基本的な運転動作について図１を参照しながら説明する。この給湯システム（10）は、浴槽内へ温水を供給する「給湯運転」と、浴槽内の水を循環させながら加熱する「追い炊き運転」とが行われる。 -Operation of hot water supply system-
Next, the basic operation of the hot water supply system (10) will be described with reference to FIG. In the hot water supply system (10), a “hot water supply operation” for supplying hot water into the bathtub and a “refreshing operation” for heating while circulating the water in the bathtub are performed.

〈給湯運転〉
給湯運転では、熱源ユニット（30）の圧縮機（31）が運転され、冷媒回路（11）で冷凍サイクルが行われる。給湯ユニット（40）では、第１ポンプ（43）及び第３ポンプ（45）が運転され、第２ポンプ（44）及び第４ポンプ（48）が停止状態となる。また、第１開閉弁（46）、第２開閉弁（47）が開放状態となり、第３開閉弁（49）は閉鎖状態となる。 <Hot-water supply operation>
In the hot water supply operation, the compressor (31) of the heat source unit (30) is operated, and the refrigeration cycle is performed in the refrigerant circuit (11). In the hot water supply unit (40), the first pump (43) and the third pump (45) are operated, and the second pump (44) and the fourth pump (48) are stopped. Further, the first on-off valve (46) and the second on-off valve (47) are opened, and the third on-off valve (49) is closed.

上記第１ポンプ（43）を運転すると、給湯タンク（41）内の水が第１循環流路（13）へ流出する。この水は、加熱熱交換器（32）の二次側伝熱部（32b）を流れる。加熱熱交換器（32）では、一次側伝熱部（32a）を流れる冷媒の熱が、二次側伝熱部（32b）を流れる水へ放出され、この水が所定温度まで加熱される。加熱された水は、第１循環流路（13）を経由して給湯タンク（41）内に流入する。これにより、給湯タンク（41）内部には、所定温度の温水が蓄えられる。 When the first pump (43) is operated, the water in the hot water supply tank (41) flows out to the first circulation channel (13). This water flows through the secondary heat transfer section (32b) of the heating heat exchanger (32). In the heating heat exchanger (32), the heat of the refrigerant flowing through the primary heat transfer section (32a) is released to the water flowing through the secondary heat transfer section (32b), and this water is heated to a predetermined temperature. The heated water flows into the hot water supply tank (41) via the first circulation channel (13). Thereby, warm water of a predetermined temperature is stored in the hot water supply tank (41).

第３ポンプ（45）を運転すると、給湯タンク（41）内の水（温水）は、主供給路（17）に流出し、第１分岐路（18）と第２分岐路（19）とに分流する。第１分岐路（18）を流れた水は、第３循環流路（16）の供給循環路（16a）に流入する。この水は、供給循環路（16a）を通過した後、浴槽（U1）内へ放出される。これにより、浴槽（U1）内に所定温度の温水が供給される。一方、第２分岐路（19）を流れた水は、シャワー（U2）側に供給される。 When the third pump (45) is operated, the water (hot water) in the hot water supply tank (41) flows out to the main supply channel (17) and enters the first branch channel (18) and the second branch channel (19). Divide. The water that has flowed through the first branch passage (18) flows into the supply circulation passage (16a) of the third circulation passage (16). This water is discharged into the bathtub (U1) after passing through the supply circuit (16a). Thereby, the warm water of predetermined temperature is supplied in the bathtub (U1). On the other hand, the water that has flowed through the second branch path (19) is supplied to the shower (U2) side.

〈追い炊き運転〉
追い炊き運転では、熱源ユニット（30）の圧縮機（31）が運転され、冷媒回路（11）で冷凍サイクルが行われる。給湯ユニット（40）では、第１ポンプ（43）、第２ポンプ（44）、及び第４ポンプ（48）が運転される。また、第１開閉弁（46）が閉鎖状態となり、第２開閉弁（47）及び第３開閉弁（49）が開放状態となる。 <Cooking operation>
In the additional cooking operation, the compressor (31) of the heat source unit (30) is operated, and the refrigeration cycle is performed in the refrigerant circuit (11). In the hot water supply unit (40), the first pump (43), the second pump (44), and the fourth pump (48) are operated. Further, the first on-off valve (46) is in a closed state, and the second on-off valve (47) and the third on-off valve (49) are in an open state.

上記第１ポンプ（43）を運転すると、給湯タンク（41）内の水が第１循環流路（13）を流れる。これにより、第１循環流路（13）の水は、加熱熱交換器（32）で加熱されて給湯タンク（41）へ返送される。 When the first pump (43) is operated, water in the hot water supply tank (41) flows through the first circulation channel (13). Thus, the water in the first circulation channel (13) is heated by the heating heat exchanger (32) and returned to the hot water supply tank (41).

上記第２ポンプ（44）を運転すると、給湯タンク（41）内の水は、第２循環流路（14）へ流出する。この水は、内部熱交換器（42）の第１伝熱管（42a）を流れる。内部熱交換器（42）では、第１伝熱管（42a）を流れる水の熱が、第２伝熱管（42b）を流れる水へ放出される。第１伝熱管（42a）で放熱した水は、第２循環流路（14）を経由して給湯タンク（41）内に流入する。 When the second pump (44) is operated, the water in the hot water supply tank (41) flows out to the second circulation channel (14). This water flows through the first heat transfer tube (42a) of the internal heat exchanger (42). In the internal heat exchanger (42), the heat of the water flowing through the first heat transfer tube (42a) is released to the water flowing through the second heat transfer tube (42b). The water radiated by the first heat transfer pipe (42a) flows into the hot water supply tank (41) via the second circulation channel (14).

上記第４ポンプ（48）を運転すると、浴槽（U1）の水は第３循環流路（16）の返送循環路（16b）へ吸い込まれる。返送循環路（16b）を流れた水は、内部熱交換器（42）で加熱された後、浴槽（U1）へ供給される。これにより、浴槽（U1）内の水の温度が徐々に高くなる。 When the fourth pump (48) is operated, the water in the bathtub (U1) is sucked into the return circuit (16b) of the third circuit (16). The water flowing through the return circuit (16b) is heated by the internal heat exchanger (42) and then supplied to the bathtub (U1). Thereby, the temperature of the water in a bathtub (U1) becomes high gradually.

−水浄化ユニットの運転動作−
本実施形態の給湯システム（10）では、水浄化ユニット（60）を運転して給湯タンク（41）の貯留水の浄化が行われる。 -Operation of water purification unit-
In the hot water supply system (10) of the present embodiment, the water purification unit (60) is operated to purify the stored water in the hot water supply tank (41).

図５は、本実施形態の液浄化ユニット（60）による液体処理の基本サイクルを示す図である。同図に示すように、貯留タンク（41）内に溜められた水等の液体は、まず、電極対（64,65）間に生起される放電によって浄化される。この際には、放電によって液体中に水酸ラジカル等の活性種が生成し、有機物等の分解や殺菌などが行われる（図５中のステップSt1、St2）。水酸ラジカルは短時間で過酸化水素に変化する（ステップSt3）。 FIG. 5 is a diagram showing a basic cycle of liquid treatment by the liquid purification unit (60) of the present embodiment. As shown in the figure, the liquid such as water stored in the storage tank (41) is first purified by the discharge generated between the electrode pair (64, 65). At this time, active species such as hydroxyl radicals are generated in the liquid by discharge, and decomposition or sterilization of organic substances or the like is performed (steps St1 and St2 in FIG. 5). Hydroxyl radicals change to hydrogen peroxide in a short time (step St3).

次に、超音波発生部（94）から液体へと任意の周波数の超音波を伝搬させ、液体中の過酸化水素を分解し、水酸ラジカルに変化させる（ステップSt4）。ただし、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数が、１００ｋＨｚ以上程度であれば特に好ましい。超音波照射により発生した水酸ラジカルは、再度過酸化水素に変化する。ただし、除菌等、液体の浄化反応に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は低下してゆくことになる。 Next, an ultrasonic wave having an arbitrary frequency is propagated from the ultrasonic wave generation unit (94) to the liquid, hydrogen peroxide in the liquid is decomposed, and changed into hydroxyl radicals (step St4). However, in order to decompose hydrogen peroxide and efficiently generate hydroxyl radicals, it is particularly preferable that the frequency of the ultrasonic wave is about 100 kHz or more. Hydroxyl radicals generated by ultrasonic irradiation are changed to hydrogen peroxide again. However, since hydroxyl radicals used in liquid purification reactions such as sterilization change to water, the concentration of hydrogen peroxide decreases when the discharge is stopped and only ultrasonic irradiation is performed. It will be.

なお、上記の液体浄化は、１回ごとに貯留タンク（41）内の液体を全て入れ替える、いわゆるバッチ処理によって行ってもよい。あるいは、貯留タンク（41）への注水と貯留タンク（41）からの液体の流出を連続的に行う連続処理によって浄化を行ってもよい。 In addition, you may perform said liquid purification | cleaning by what is called batch processing which replaces | exchanges all the liquid in a storage tank (41) for every time. Or you may purify | clean by the continuous process which performs the injection | pouring of the water to a storage tank (41), and the outflow of the liquid from a storage tank (41) continuously.

まず、放電ユニット（62）の運転動作について説明する。 First, the operation of the discharge unit (62) will be described.

上記水浄化ユニット（60）の運転の開始時には、図２に示すように、絶縁ケーシング（71）の内の空間（S）が浸水した状態となっている。高電圧発生部（70）から電極対（64，65）に所定の電圧（例えば１ｋＶ）が印加されると、電極対（64，65）の間に電界が形成される。電極Ａ（64）の周囲は、絶縁ケーシング（71）で覆われている。このため、電極対（64，65）の間での漏れ電流が抑制されるとともに、開口（74）内の電流経路の電流密度が上昇した状態となる。 At the start of the operation of the water purification unit (60), as shown in FIG. 2, the space (S) in the insulating casing (71) is in a flooded state. When a predetermined voltage (for example, 1 kV) is applied from the high voltage generator (70) to the electrode pair (64, 65), an electric field is formed between the electrode pair (64, 65). The periphery of the electrode A (64) is covered with an insulating casing (71). For this reason, the leakage current between the electrode pair (64, 65) is suppressed, and the current density of the current path in the opening (74) is increased.

上記開口（74）内の電流密度が上昇すると、開口（74）内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング（71）では、開口（74）の近傍において、水の気化が促進されて気泡（B）が形成される。この気泡（B）は、図６に示すように、開口（74）のほぼ全域を覆う状態となり、電極Ｂ（65）側の水と、電極Ａ（64）との間に気泡（B）が介在する。従って、この状態では、気泡（B）が、電極Ａ（64）と電極Ｂ（65）との間での水を介した導電を阻止する抵抗として機能する。これにより、電極Ａ（64）と電極Ｂ（65）との間の漏れ電流が抑制され、電極対（64，65）間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡（B）内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。 As the current density in the opening (74) increases, the Joule heat in the opening (74) increases. As a result, in the insulating casing (71), the vaporization of water is promoted in the vicinity of the opening (74) to form bubbles (B). As shown in FIG. 6, the bubble (B) covers almost the entire area of the opening (74), and the bubble (B) is formed between the water on the electrode B (65) side and the electrode A (64). Intervene. Therefore, in this state, the bubble (B) functions as a resistance that prevents conduction between the electrode A (64) and the electrode B (65) via water. Thereby, the leakage current between the electrode A (64) and the electrode B (65) is suppressed, and a desired potential difference is maintained between the electrode pair (64, 65). Then, in the bubble (B), discharge is generated due to dielectric breakdown.

以上のようにして、気泡（B）で放電が行われると、給湯タンク（41）内の水中では、水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素等が生成される。水酸ラジカル等の活性種や過酸化水素は、放電に伴う熱によって給湯タンク（41）内を対流する。これにより、水中での活性種や過酸化水素の拡散が促される。また、気泡（B）で放電が行われると、この放電に伴ってこの気泡（B）でイオン風を生成し易くなる。よって、給湯タンク（41）内では、このイオン風を利用して、活性種や過酸化水素の拡散効果を更に向上できる。 As described above, when discharge is performed with the bubbles (B), active species such as hydroxyl radicals, hydrogen peroxide, and the like are generated in the water in the hot water supply tank (41). Active species such as hydroxyl radicals and hydrogen peroxide are convected in the hot water supply tank (41) by the heat accompanying the discharge. This promotes diffusion of active species and hydrogen peroxide in water. Further, when the discharge is performed with the bubbles (B), an ion wind is easily generated with the bubbles (B) along with the discharge. Therefore, in the hot water supply tank (41), the diffusion effect of active species and hydrogen peroxide can be further improved by using this ion wind.

また、上述したように、給湯タンク（41）には、第１循環流路（13）に銅配管を用いると、銅イオンが供給される。過酸化水素と銅イオンの存在下では、フェントン反応により、銅イオンが触媒的に作用して水酸ラジカルの生成が促進される。これにより、水酸ラジカルによる水の浄化効率が向上する。加えて、銅イオンは菌の繁殖を抑制する効果があるため、水中での殺菌作用も高くなる。 Further, as described above, copper ions are supplied to the hot water supply tank (41) when copper piping is used for the first circulation channel (13). In the presence of hydrogen peroxide and copper ions, copper ions act catalytically by the Fenton reaction to promote the generation of hydroxyl radicals. Thereby, the purification efficiency of the water by a hydroxyl radical improves. In addition, since copper ions have the effect of suppressing the growth of bacteria, the bactericidal action in water also increases.

以上のようにして、水中に拡散した水酸ラジカル等の活性種は、水中に含まれる被処理成分（例えばアンモニア等）を酸化分解して水の浄化に利用される。また、水中に拡散した過酸化水素は、水の殺菌に利用される。これにより、本実施形態の給湯システム（10）では、浴槽（U1）内の清浄度が保たれる。 As described above, active species such as hydroxyl radicals diffused in water are used to purify water by oxidizing and decomposing components to be treated (for example, ammonia) contained in water. In addition, hydrogen peroxide diffused in water is used for water sterilization. Thereby, in the hot water supply system (10) of this embodiment, the cleanliness in the bathtub (U1) is maintained.

次に、上記放電ユニット（62）の放電時間の制御について説明する。 Next, control of the discharge time of the discharge unit (62) will be described.

先ず、上記コントローラ（80）には、３つの温度センサ（Se1〜Se3）が検出した水温データの入力されている。この水温データに基づきコントローラ（80）が図７に示すように放電ユニット（62）を制御する。 First, water temperature data detected by three temperature sensors (Se1 to Se3) is input to the controller (80). Based on the water temperature data, the controller (80) controls the discharge unit (62) as shown in FIG.

上記放電ユニット（62）による除菌運転が開始されると、ステップＳ１において、水温センサが給湯タンク（41）の水温を検出する。そして、ステップＳ２において、水温決定部が、３つの温度センサ（Se1〜Se3）が検出した水温のうち、最も低い温度を選択し、最も低い温度を給湯タンク（41）の水温と決定する。 When the sterilization operation by the discharge unit (62) is started, in step S1, the water temperature sensor detects the water temperature of the hot water supply tank (41). And in step S2, a water temperature determination part selects the lowest temperature among the water temperature which three temperature sensors (Se1-Se3) detected, and determines the lowest temperature as the water temperature of a hot water supply tank (41).

続いて、ステップＳ３において、放電時間算出部は、過酸化水素の濃度を一定した場合の除菌能力と水温との関係及び過酸化水素の発生量と水温との関係を示すデータを予め記憶し、水温決定部が決定した水温に基づき放電時間を算出する。 Subsequently, in step S3, the discharge time calculation unit stores in advance data indicating the relationship between the sterilization ability and the water temperature when the concentration of hydrogen peroxide is constant, and the relationship between the amount of hydrogen peroxide generated and the water temperature. The discharge time is calculated based on the water temperature determined by the water temperature determination unit.

その後、ステップＳ４において、放電実行部は、放電時間算出部が算出した放電時間が経過するまで放電ユニット（62）の放電を実行し、放電時間が経過すると放電ユニット（62）の放電を停止し、除菌運転を終了する。 Thereafter, in step S4, the discharge execution unit executes the discharge of the discharge unit (62) until the discharge time calculated by the discharge time calculation unit elapses, and stops the discharge of the discharge unit (62) when the discharge time elapses. The sterilization operation is terminated.

このようにすると、水温にしたがって放電ユニット（62）の浄化運転を制御するようにしたために、信頼性の高い浄化を行うことができると共に、省エネルギ化を図ることができる。 In this way, since the purification operation of the discharge unit (62) is controlled according to the water temperature, highly reliable purification can be performed and energy saving can be achieved.

本実施形態では、コントローラ（80）は、放電ユニット（62）の放電時間を制御しているが、コントローラ（80）は、放電ユニット（62）だけでなく、超音波発生部（94）の貯留液に対する超音波照射のオン又はオフを制御するように、例えば超音波発生部（94）等に接続されていてもよい。このようにすると、水温にしたがって、超音波発生部（94）の超音波照射時間を制御できる。例えば、水温が低い際に、放電ユニット（62）の放電時間を長くするのと共に、超音波発生部（94）の超音波照射時間を長くすることにより、効果的に水酸ラジカルを生成することができる。 In this embodiment, the controller (80) controls the discharge time of the discharge unit (62). However, the controller (80) stores not only the discharge unit (62) but also the ultrasonic generator (94). For example, it may be connected to an ultrasonic wave generation unit (94) or the like so as to control on or off of ultrasonic irradiation with respect to the liquid. If it does in this way, the ultrasonic irradiation time of an ultrasonic wave generation part (94) can be controlled according to water temperature. For example, when the water temperature is low, the discharge time of the discharge unit (62) is lengthened, and the ultrasonic wave irradiation time of the ultrasonic wave generator (94) is lengthened to effectively generate hydroxyl radicals. Can do.

次に、放電と超音波処理を組み合わせた液浄化装置の運転制御の具体例について説明する。図８は、液体中の過酸化水素の濃度を用いてフィードバック制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。以下の方法では、液体中の過酸化水素はセンサ（7）によって検知される。 Next, a specific example of operation control of the liquid purification apparatus combining discharge and ultrasonic treatment will be described. FIG. 8 is a time chart showing an example of operation control when feedback control is performed using the concentration of hydrogen peroxide in the liquid. In the following method, hydrogen peroxide in the liquid is detected by the sensor (7).

この方法において、まず貯留タンク（41）内に液体が溜まった状態で運転を開始する。制御部（1）は、電極対(64,65)間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部（94）はオフ状態にしておく。これにより、液体が浄化されるとともに、液体中の過酸化水素の濃度が上昇する。 In this method, first, the operation is started in a state where liquid is accumulated in the storage tank (41). The controller (1) applies a predetermined voltage between the electrode pair (64, 65) to cause discharge. At this time, the ultrasonic wave generator (94) is turned off. As a result, the liquid is purified and the concentration of hydrogen peroxide in the liquid increases.

次いで、液体の過酸化水素濃度があらかじめ設定された下限値を超えた場合、制御部（1）は電極対（64,65）への電圧供給を継続させ、制御部(5)は、超音波発生部（94）をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって液体が浄化される。放電によって生成される過酸化水素の量は超音波によって分解される過酸化水素の量よりも多いので、この期間中も液中の過酸化水素の濃度は上昇する。 Next, when the hydrogen peroxide concentration in the liquid exceeds a preset lower limit, the control unit (1) continues to supply voltage to the electrode pair (64, 65), and the control unit (5) The generator (94) is turned on to irradiate the liquid with ultrasonic waves. As a result, the liquid is purified by the hydroxyl radicals generated by the discharge and the hydroxyl radicals generated from the hydrogen peroxide. Since the amount of hydrogen peroxide generated by the discharge is larger than the amount of hydrogen peroxide decomposed by the ultrasonic wave, the concentration of hydrogen peroxide in the liquid increases during this period.

次に、液体の過酸化水素濃度があらかじめ設定された上限値を超えた場合、制御部（1）は電極対（64,65）への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部（5）は、引き続き超音波発生部（94）をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって液体が浄化される。この期間中、超音波によって過酸化水素が分解されるので、液中の過酸化水素の濃度は減少する。 Next, when the hydrogen peroxide concentration of the liquid exceeds a preset upper limit value, the control unit (1) stops the voltage supply to the electrode pair (64, 65) and stops the discharge. The controller (5) continues to turn on the ultrasonic generator (94) to irradiate the liquid with ultrasonic waves. Thereby, the liquid is purified by hydroxyl radicals generated from hydrogen peroxide. During this period, since the hydrogen peroxide is decomposed by the ultrasonic wave, the concentration of hydrogen peroxide in the liquid decreases.

次いで、液体の過酸化水素濃度が上述の下限値を下回った時点で、制御部（1）は電極対（64,65）への電圧供給を再開する。これにより、液中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間と超音波照射と放電とを組み合わせる期間とを繰り返すことで、液体の過酸化水素濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、液体を浄化する。 Next, when the hydrogen peroxide concentration in the liquid falls below the lower limit value, the control unit (1) resumes the voltage supply to the electrode pair (64, 65). Thereby, the concentration of hydrogen peroxide in the liquid rises again. Thereafter, by repeating the period of performing only the ultrasonic irradiation and the period of combining the ultrasonic irradiation and the discharge in the same manner, while controlling the hydrogen peroxide concentration of the liquid within the range of the lower limit value and the upper limit value, Purify the liquid.

−実施形態１の効果−
以上のように、本実施形態１によれば、水温にしたがって放電ユニット（62）の浄化運転を制御するようにしたために、信頼性の高い浄化を行うことができると共に、省エネルギ化を図ることができる。 -Effect of Embodiment 1-
As described above, according to the first embodiment, since the purification operation of the discharge unit (62) is controlled in accordance with the water temperature, highly reliable purification can be performed and energy saving can be achieved. Can do.

つまり、水温が高い場合には放電ユニット（62）による除菌能力が高いので、浄化運転を短くすることができることから、過剰な除菌運転を防止することができると共に、運転時間の短縮による省エネルギ化を図ることができる。 That is, when the water temperature is high, the sterilization capability of the discharge unit (62) is high, so that the purification operation can be shortened, so that excessive sterilization operation can be prevented and the operation time can be shortened. Energy can be achieved.

また、上記放電ユニット（62）に３つの温度センサ（Se1〜Se3）を設け、この３つの温度センサ（Se1〜Se3）が検出した水温のうち、最も低い温度を選択し、最も低い温度を給湯タンク（41）の水温と決定するので、除菌運転の不足及び過剰を確実に防止することができる。 The discharge unit (62) is provided with three temperature sensors (Se1 to Se3), and the water temperature detected by the three temperature sensors (Se1 to Se3) is selected, and the lowest temperature is selected. Since it determines with the water temperature of a tank (41), the shortage and excess of disinfection operation | movement can be prevented reliably.

さらに、本実施形態１によれば、制御部（1）は、動作開始後に液体の過酸化水素濃度が上限値に達するまでは放電を生起させて水酸ラジカルを発生させ、液体を浄化することができる。また、制御部（5）は、液体の過酸化水素濃度が所定の下限値を超える期間中に超音波発生部（94）をオン状態にする、言い換えれば、過酸化水素濃度が所定の下限値を下回る期間中には超音波発生部（94）をオフ状態にする。つまり、液中に十分な過酸化水素が存在する場合に超音波によって水酸ラジカルを発生させているので、液体を効果的に浄化することができる。さらに、十分な濃度の過酸化水素の存在下で超音波を継続的に照射することで、継続的に水酸ラジカルを生成することができるので、強い浄化能力を所定の期間中維持することができる。 Further, according to the first embodiment, the control unit (1) purifies the liquid by generating discharge and generating hydroxyl radicals until the hydrogen peroxide concentration of the liquid reaches the upper limit after the operation is started. Can do. Further, the control unit (5) turns on the ultrasonic wave generation unit (94) during a period in which the liquid hydrogen peroxide concentration exceeds the predetermined lower limit value, in other words, the hydrogen peroxide concentration is set to the predetermined lower limit value. The ultrasonic wave generation unit (94) is turned off during the period less than. That is, when sufficient hydrogen peroxide is present in the liquid, the hydroxyl radicals are generated by ultrasonic waves, so that the liquid can be effectively purified. Furthermore, by continuously irradiating with ultrasonic waves in the presence of a sufficient concentration of hydrogen peroxide, hydroxyl radicals can be continuously generated, so that a strong purification ability can be maintained for a predetermined period. it can.

さらに、上述の方法によれば、貯留タンク（41）から供給される液体中の過酸化水素の濃度を上限値以下に抑えることができるので、過酸化水素を除去するための工程を容易にすることができる。 Furthermore, according to the above-described method, the concentration of hydrogen peroxide in the liquid supplied from the storage tank (41) can be suppressed to the upper limit value or less, so that the process for removing hydrogen peroxide is facilitated. be able to.

本実施形態の液浄化装置によれば、上述のように、液中での放電と、液体への超音波照射とを組み合わせることで、液体の過酸化水素濃度を上昇させずに浄化能力の向上とを併せて図ることが可能になる。 According to the liquid purification apparatus of the present embodiment, as described above, the purification capability is improved without increasing the hydrogen peroxide concentration of the liquid by combining discharge in the liquid and ultrasonic irradiation of the liquid. It becomes possible to plan together.

なお、液体を連続処理する場合には、超音波発生部（94）を電極対（64,65）よりも給水口側に配置することにより、放電によって生じた過酸化水素から超音波照射により効果的に水酸ラジカルを発生させることができる。 When liquid is continuously processed, the ultrasonic wave generator (94) is placed closer to the water supply port than the electrode pair (64, 65), and is effective by irradiating ultrasonic waves from hydrogen peroxide generated by discharge. Thus, hydroxyl radicals can be generated.

また、図２では、電極対（64,65）に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部（1）と、超音波発生部（94）の動作を制御する制御部（5）とを別個に設けたが、１つの制御部で電極対（64,65）に印加する電圧のオン又はオフと超音波発生部（94）の動作とを制御することもできる。 Moreover, in FIG. 2, the control part (1) which controls ON / OFF of the voltage applied to an electrode pair (64,65), and the control part (5) which controls operation | movement of an ultrasonic wave generation part (94) are included. Although provided separately, it is also possible to control the on / off of the voltage applied to the electrode pair (64, 65) and the operation of the ultrasonic wave generator (94) by one control unit.

なお、本実施形態の液浄化装置では、放電及び超音波照射によって生じる水酸ラジカルによって、液体の浄化処理と同時に貯留タンク（41）内に繁殖する細菌等を効果的に殺菌することもできる。 In the liquid purification apparatus of the present embodiment, bacteria and the like that propagate in the storage tank (41) can be effectively sterilized simultaneously with the liquid purification process by the hydroxyl radical generated by the discharge and ultrasonic irradiation.

〈実施形態１の変形例〉
上記実施形態１は、絶縁ケーシング（71）の蓋部（73）に１つの開口（74）が形成されている。しかしながら、例えば、図９及び図１０に示すように、絶縁ケーシング（71）の蓋部（73）に複数の開口（74）を形成してもよい。なお、図９では、図の簡略化のために、実施形態１と異なる部分である電極Ｂ（65）及び蓋部（73）等を示し、超音波発生部（94）及び高電圧発生部（70）等の実施形態１と同一である部分については省略している。この変形例では、絶縁ケーシング（71）の蓋部（73）が、略正方形板状に形成され、この蓋部（73）に複数の開口（74）が等間隔を置きながら碁盤目状に配列されている。一方、電極Ａ（64）及び電極Ｂ（65）は、全ての開口（74）に跨るような正方形板状に形成されている。 <Modification of Embodiment 1>
In the first embodiment, one opening (74) is formed in the lid (73) of the insulating casing (71). However, for example, as shown in FIGS. 9 and 10, a plurality of openings (74) may be formed in the lid (73) of the insulating casing (71). For simplification of the drawing, FIG. 9 shows an electrode B (65), a lid (73), etc., which are different from the first embodiment, and an ultrasonic generator (94) and a high voltage generator ( 70) etc., which are the same as those in Embodiment 1, are omitted. In this modification, the lid portion (73) of the insulating casing (71) is formed in a substantially square plate shape, and a plurality of openings (74) are arranged in a grid pattern in the lid portion (73) at regular intervals. Has been. On the other hand, the electrode A (64) and the electrode B (65) are formed in a square plate shape over all the openings (74).

この変形例においても、各開口（74）が、電流密度集中部、及び気相形成部として機能する。これにより、高電圧発生部（70）から電極対（64，65）に電圧が印加されると、各開口（74）の電流密度が上昇し、各開口（74）で気泡（B）が形成される。その結果、各気泡（B）でそれぞれ放電が生起され、水酸ラジカル等の活性種や、過酸化水素が生成される。 Also in this modification, each opening (74) functions as a current density concentration part and a gas phase formation part. As a result, when a voltage is applied from the high voltage generator (70) to the electrode pair (64, 65), the current density of each opening (74) increases, and bubbles (B) are formed in each opening (74). Is done. As a result, an electric discharge is generated in each bubble (B), and active species such as hydroxyl radicals and hydrogen peroxide are generated.

〈発明の実施形態２〉
実施形態２の給湯システム（10）は、上述した実施形態１と放電ユニット（62）の構成が異なるものである。以下には、上記実施形態１と異なる点を主として説明する。なお、図１１及び図１２では、図の簡略化のために、実施形態１と異なる部分について示し、超音波発生部（94）及び高電圧発生部（70）等の実施形態１と同一である部分については省略している。 <Embodiment 2 of the invention>
The hot water supply system (10) of the second embodiment is different from the first embodiment described above in the configuration of the discharge unit (62). In the following, differences from the first embodiment will be mainly described. In FIGS. 11 and 12, for the sake of simplification of the drawings, portions different from those in the first embodiment are shown, and are the same as those in the first embodiment such as the ultrasonic generator (94) and the high voltage generator (70). The part is omitted.

図１１に示すように、実施形態２の放電ユニット（62）は、給湯タンク（41）の外側から内部に向かって挿入されて固定される、いわゆるフランジユニット式に構成されている。また、実施形態２の放電ユニット（62）は、電極Ａ（64）と電極Ｂ（65）と絶縁ケーシング（71）とが一体的に組立てられている。 As shown in FIG. 11, the discharge unit (62) of Embodiment 2 is configured as a so-called flange unit type that is inserted and fixed from the outside to the inside of the hot water supply tank (41). In the discharge unit (62) of the second embodiment, the electrode A (64), the electrode B (65), and the insulating casing (71) are integrally assembled.

上記絶縁ケーシング（71）は、大略の外形が円筒状に形成されている。絶縁ケーシング（71）は、ケース本体（72）と蓋部（73）とを有している。 The insulating casing (71) has a substantially outer shape that is cylindrical. The insulating casing (71) has a case body (72) and a lid (73).

上記ケース本体（72）は、ガラス質又は樹脂製の絶縁材料で構成されている。ケース本体（72）は、円筒状の基部（76）と、該基部（76）から給湯タンク（41）側に向かって突出する筒状壁部（77）と、該筒状壁部（77）の外縁部から更に給湯タンク（41）側に向かって突出する環状凸部（78）とを有している。また、ケース本体（72）には、環状凸部（78）の先端側に先端筒部（79）が一体に形成されている。基部（76）の軸心部には、円柱状の挿入口（76a）が軸方向に延びて貫通形成されている。筒状壁部（77）の内側には、挿入口（76a）と同軸となり、且つ挿入口（76a）よりも大径となる円柱状の空間（S）が形成されている。 The case body (72) is made of an insulating material made of glass or resin. The case body (72) includes a cylindrical base portion (76), a cylindrical wall portion (77) projecting from the base portion (76) toward the hot water supply tank (41), and the cylindrical wall portion (77). And an annular convex portion (78) protruding further toward the hot water supply tank (41) side. The case body (72) is integrally formed with a distal end cylindrical portion (79) on the distal end side of the annular convex portion (78). A cylindrical insertion port (76a) is formed in the axial center portion of the base portion (76) so as to extend in the axial direction. A cylindrical space (S) that is coaxial with the insertion port (76a) and has a larger diameter than the insertion port (76a) is formed inside the cylindrical wall (77).

上記蓋部（73）は、略円板状に形成されて環状凸部（78）の内側に嵌合している。蓋部（73）は、セラミックス材料で構成されている。蓋部（73）の軸心には、実施形態１と同様、蓋部（73）を上下に貫通する円形状の１つの開口（74）が形成されている。 The said cover part (73) is formed in the substantially disc shape, and is fitted inside the annular convex part (78). The lid (73) is made of a ceramic material. As in the first embodiment, one circular opening (74) penetrating the lid (73) up and down is formed at the axis of the lid (73).

上記電極Ａ（64）は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極で構成されている。電極Ａ（64）は、基部（76）の挿入口（76a）に嵌合している。これにより、電極Ａ（64）は、絶縁ケーシング（71）の内部に収容されている。実施形態２では、電極Ａ（64）のうち給湯タンク（41）とは反対側の端部が、給湯タンク（41）の外部に露出される状態となる。このため、給湯タンク（41）の外部に配置される電源部（70）と、電極Ａ（64）とを電気配線によって容易に接続することができる。 The electrode A (64) is a vertically long rod-shaped electrode having a circular cross section perpendicular to the axis. The electrode A (64) is fitted in the insertion opening (76a) of the base (76). Thereby, the electrode A (64) is accommodated in the insulating casing (71). In the second embodiment, the end of the electrode A (64) opposite to the hot water tank (41) is exposed to the outside of the hot water tank (41). For this reason, the power supply part (70) arrange | positioned outside the hot water supply tank (41) and the electrode A (64) can be easily connected by electrical wiring.

上記電極Ａ（64）のうち給湯タンク（41）側の端部（64a）は、絶縁ケーシング（71）の内部の空間（S）に臨んでいる。なお、図１１に示す例では、上記電極Ａ（64）の端部（64a）が、挿入口（76a）の開口面よりも上側（給湯タンク（41）側）に突出しているが、この端部（64a）の先端面を挿入口（76a）の開口面と略面一としてもよいし、端部（64a）を挿入口（76a）の開口面よりも下側に陥没させてもよい。また、電極Ａ（64）は、実施形態１と同様、開口（74）を有する蓋部（73）との間に所定の間隔が確保されている。 The end (64a) on the hot water tank (41) side of the electrode A (64) faces the space (S) inside the insulating casing (71). In the example shown in FIG. 11, the end portion (64a) of the electrode A (64) protrudes above the opening surface of the insertion port (76a) (on the hot water supply tank (41) side). The tip surface of the portion (64a) may be substantially flush with the opening surface of the insertion port (76a), or the end portion (64a) may be recessed below the opening surface of the insertion port (76a). In addition, the electrode A (64) has a predetermined gap between the electrode A (64) and the lid (73) having the opening (74), as in the first embodiment.

上記電極Ｂ（65）は、円筒状の電極本体（65a）と、該電極本体（65a）から径方向外方へ突出する鍔部（65b）とを有している。電極本体（65a）は、絶縁ケーシング（71）のケース本体（72）に外嵌している。鍔部（65b）は、給湯タンク（41）の壁部に固定されて放電ユニット（62）を保持する固定部を構成している。放電ユニット（62）が給湯タンク（41）に固定された状態では、電極Ｂ（65）の電極本体（65a）の一部が浸水された状態となる。 The electrode B (65) includes a cylindrical electrode body (65a) and a flange portion (65b) projecting radially outward from the electrode body (65a). The electrode body (65a) is externally fitted to the case body (72) of the insulating casing (71). The flange part (65b) constitutes a fixed part that is fixed to the wall part of the hot water supply tank (41) and holds the discharge unit (62). In a state where the discharge unit (62) is fixed to the hot water supply tank (41), a part of the electrode body (65a) of the electrode B (65) is immersed.

上記電極Ｂ（65）は、電極本体（65a）よりも小径の内側筒部（65c）と、該内側筒部（65c）と電極本体（65a）との間に亘って形成される連接部（65d）とを有している。内側筒部（65c）及び連接部（65d）は、給湯タンク（41）内の水中に浸漬している。内側筒部（65c）は、その内部に円柱空間（67）を形成している。内側筒部（65c）の軸方向の一端は、蓋部（73）と当接して該蓋部（73）を保持する保持部を構成している。また、電極本体（65a）と内側筒部（65c）と連接部（65d）の間には、ケース本体（72）の先端筒部（79）が内嵌している。内側筒部（65c）の軸方向の他端側には、円柱空間（67）を覆うようにメッシュ状の漏電防止材（68）が設けられている。この漏電防止材（68）は、電極Ｂ（65）と接触することで、実質的にアースされている。これにより、漏電防止材（68）は、給湯タンク（41）の内部の空間（水中）のうち、円柱空間（67）の内側から外側への漏電を防止している。 The electrode B (65) includes an inner cylindrical portion (65c) having a smaller diameter than the electrode main body (65a), and a connecting portion (between the inner cylindrical portion (65c) and the electrode main body (65a)). 65d). The inner cylinder part (65c) and the connecting part (65d) are immersed in the water in the hot water supply tank (41). The inner cylinder part (65c) forms the cylindrical space (67) in the inside. One end of the inner cylinder portion (65c) in the axial direction constitutes a holding portion that contacts the lid portion (73) and holds the lid portion (73). Further, the tip cylinder part (79) of the case body (72) is fitted between the electrode body (65a), the inner cylinder part (65c), and the connecting part (65d). On the other end side in the axial direction of the inner cylinder portion (65c), a mesh-shaped leakage preventing material (68) is provided so as to cover the cylindrical space (67). The leakage preventing material (68) is substantially grounded by being in contact with the electrode B (65). Thereby, the leakage preventive material (68) prevents the leakage from the inside to the outside of the cylindrical space (67) in the space (underwater) inside the hot water supply tank (41).

上記電極Ｂ（65）は、電極本体（65a）の一部が給湯タンク（41）の外部に露出される状態となる。このため、高電圧発生部（70）と電極Ｂ（65）とを電気配線によって容易に接続することができる。その他、超音波発生部（94）及び運転制御部（81）などの構成は、実施形態１と同様である。 The electrode B (65) is in a state in which a part of the electrode body (65a) is exposed to the outside of the hot water supply tank (41). For this reason, the high voltage generation part (70) and the electrode B (65) can be easily connected by electric wiring. Other configurations such as the ultrasonic generator (94) and the operation controller (81) are the same as those in the first embodiment.

−水浄化ユニットの運転動作−
実施形態２の給湯システム（10）においても、水浄化ユニット（60）が運転されることで、水流路（12）を流れる水の浄化がなされる。 -Operation of water purification unit-
Also in the hot water supply system (10) of Embodiment 2, the water purification unit (60) is operated to purify the water flowing through the water flow path (12).

水浄化ユニット（60）の運転の開始時には、図１１に示すように、絶縁ケーシング（71）の内の空間（S）が浸水した状態となっている。電源部（70）から電極対（64，65）に所定の電圧（例えば１ｋＶ）が印加されると、開口（74）の内部の電流密度が上昇していく。 At the start of operation of the water purification unit (60), as shown in FIG. 11, the space (S) in the insulating casing (71) is in a flooded state. When a predetermined voltage (for example, 1 kV) is applied from the power supply unit (70) to the electrode pair (64, 65), the current density inside the opening (74) increases.

図１１に示す状態から、電極対（64，65）へ更に電圧が継続して印加されると、開口（74）内の水が気化されて気泡（B）が形成される（図１２を参照）。この状態では、気泡（B）が開口（74）のほぼ全域を覆う状態となり、円柱空間（67）内の負極側の水と、電極Ａ（64）との間に気泡（B）による抵抗が付与される。これにより、電極Ａ（64）と電極Ｂ（65）との間の電位差が保たれ、気泡（B）で放電が発生する。その結果、水中では、水酸ラジカルや過酸化水素を生成され、これらの成分が水の浄化に利用される。その他、超音波発生部（94）及び運転制御部（81）などの動作及び効果は、上記実施形態１と同様である。 When a voltage is continuously applied to the electrode pair (64, 65) from the state shown in FIG. 11, water in the opening (74) is vaporized to form bubbles (B) (see FIG. 12). ). In this state, the bubble (B) covers almost the entire area of the opening (74), and the resistance due to the bubble (B) is between the negative electrode side water in the cylindrical space (67) and the electrode A (64). Is granted. As a result, the potential difference between the electrode A (64) and the electrode B (65) is maintained, and discharge occurs in the bubbles (B). As a result, hydroxyl radicals and hydrogen peroxide are generated in water, and these components are used for water purification. In addition, operations and effects of the ultrasonic wave generation unit (94) and the operation control unit (81) are the same as those in the first embodiment.

〈実施形態２の変形例〉
上記実施形態２では、円板状の蓋部（73）の軸心に１つの開口（74）を形成しているが、この蓋部（73）に複数の開口（74）を形成してもよい。図１３に示す例では、蓋部（73）の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、５つの開口（74）が等間隔置きに配列されている。このように蓋部（73）に複数の開口（74）を形成することで、各開口（74）の近傍でそれぞれ放電を生起させることができる。 <Modification of Embodiment 2>
In the second embodiment, one opening (74) is formed in the axis of the disc-shaped lid (73). However, even if a plurality of openings (74) are formed in the lid (73). Good. In the example shown in FIG. 13, five openings (74) are arranged at equal intervals on a virtual pitch circle centered on the axis of the lid (73). Thus, by forming a plurality of openings (74) in the lid part (73), it is possible to cause a discharge in the vicinity of each opening (74).

〈発明の実施形態３〉
以下、本発明の実施形態３に係る液浄化装置の運転動作について説明する。なお、本実施形態の液状化装置の構成は実施形態１と同様の構成である。 Embodiment 3 of the Invention
Hereinafter, the operation of the liquid purification apparatus according to the third embodiment of the present invention will be described. In addition, the structure of the liquefaction apparatus of this embodiment is the same structure as Embodiment 1.

図１４は、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いてフィードフォワード制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。 FIG. 14 is a time chart showing an example of operation control in the case where feedforward control is performed using the measured value of the change in the concentration of hydrogen peroxide.

ここで用いられる液浄化装置には、必ずしもセンサ（7）が設けられていなくてもよい。ただし、放電のみを行った場合に貯留タンク（41）内の液体の過酸化水素濃度が０から下限値に達するまでに要する時間Ｔ１、放電と超音波照射とを同時に行った場合に液体の過酸化水素濃度が下限値から上限値になるまでに要する時間Ｔ２、超音波照射のみを行った場合に上限値から下限値に達するのに要する時間Ｔ３を、それぞれあらかじめ測定しておき、それらの測定データを制御部（1,5）内部又は外部に設けられたメモリ（図示せず）に記憶させておく。制御部（1,5）は測定データに基づいて以下の制御を行う。制御部（1,5）の内部又は外部には、時間をカウントするタイマを設けておく。 The liquid purification device used here is not necessarily provided with the sensor (7). However, when only the discharge is performed, the time T1 required for the hydrogen peroxide concentration of the liquid in the storage tank (41) to reach the lower limit from 0, the excess of the liquid when the discharge and the ultrasonic irradiation are performed simultaneously. The time T2 required for the hydrogen oxide concentration to reach the upper limit value from the lower limit value and the time T3 required to reach the lower limit value from the upper limit value when only ultrasonic irradiation is performed are measured in advance. Data is stored in a memory (not shown) provided inside or outside the control unit (1, 5). The control unit (1, 5) performs the following control based on the measurement data. A timer for counting time is provided inside or outside the control unit (1, 5).

本実施形態に係る方法において、まず制御部（1）は、電極対(64,65)間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部（94）はオフ状態にしておく。これにより、液体が浄化されるとともに、液体中の過酸化水素の濃度が上昇する。 In the method according to the present embodiment, first, the control unit (1) applies a predetermined voltage between the electrode pair (64, 65) to cause discharge. At this time, the ultrasonic wave generator (94) is turned off. As a result, the liquid is purified and the concentration of hydrogen peroxide in the liquid increases.

次いで、運転開始から時間Ｔ１が経過した時点で、制御部（1）は電極対（64,65）への電圧供給を継続させ、制御部(5)は、超音波発生部（94）をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって液体が浄化される。この期間中も液中の過酸化水素の濃度は上昇する。 Next, when time T1 elapses from the start of operation, the control unit (1) continues to supply voltage to the electrode pair (64, 65), and the control unit (5) turns on the ultrasonic wave generation unit (94). The liquid is irradiated with ultrasonic waves. As a result, the liquid is purified by the hydroxyl radicals generated by the discharge and the hydroxyl radicals generated from the hydrogen peroxide. Even during this period, the concentration of hydrogen peroxide in the liquid increases.

次に、時間Ｔ２が経過した時点で、制御部（1）は電極対（64,65）への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部（5）は、引き続き超音波発生部（94）をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって液体が浄化される。この期間中、液中の過酸化水素の濃度は減少する。 Next, when the time T2 has elapsed, the control unit (1) stops the voltage supply to the electrode pair (64, 65) and stops the discharge. The controller (5) continues to turn on the ultrasonic generator (94) to irradiate the liquid with ultrasonic waves. Thereby, the liquid is purified by hydroxyl radicals generated from hydrogen peroxide. During this period, the concentration of hydrogen peroxide in the liquid decreases.

次いで、さらに時間Ｔ３が経過した時点で、制御部（1）は電極対（64,65）への電圧供給を再開し、この状態を時間Ｔ２の間継続する。これにより、液中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間（時間Ｔ３）と超音波照射と放電とを組み合わせる期間（時間Ｔ２）とを繰り返すことで、液体の過酸化水素濃度を下限値以上且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、液体を浄化する。 Next, when the time T3 further elapses, the control unit (1) resumes the voltage supply to the electrode pair (64, 65) and continues this state for the time T2. Thereby, the concentration of hydrogen peroxide in the liquid rises again. Thereafter, similarly, by repeating a period in which only ultrasonic irradiation is performed (time T3) and a period in which ultrasonic irradiation and discharge are combined (time T2), the hydrogen peroxide concentration of the liquid is not less than the lower limit and not more than the upper limit. The liquid is purified while being controlled within the range.

以上の方法によっても液体中の過酸化水素の濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、液体を浄化することができる。なお、これは運転動作の一実施形態であって、他の方法によっても液体の浄化を行うことができる。 Also by the above method, it is possible to purify the liquid while controlling the concentration of hydrogen peroxide in the liquid within the range of the lower limit value and the upper limit value. This is an embodiment of the operation, and the liquid can be purified by other methods.

〈発明の実施形態４〉
図１５は、本発明の実施形態４における液浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態１に係る液浄化装置と同様の構成については同一の符号を付している。また、放電波形発生部（3）、制御部（1,5）、増幅器（9）及びセンサ（7）は図１５では図示を省略しているが、実際には本実施形態の液浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態１に係る液浄化装置と異なる点について説明する。 <Embodiment 4 of the Invention>
FIG. 15 is a configuration diagram illustrating a liquid purification apparatus according to Embodiment 4 of the present invention. In the same figure, the same code | symbol is attached | subjected about the structure similar to the liquid purification apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. The discharge waveform generator (3), the controller (1,5), the amplifier (9), and the sensor (7) are not shown in FIG. 15, but are actually included in the liquid purification apparatus of this embodiment. Is provided. Below, a different point from the liquid purification apparatus mainly concerning Embodiment 1 is demonstrated.

本実施形態の液浄化装置は、貯留タンク（41）と、貯留タンク（41）内に配置された電極対（64x,65x）と、電極対（64x,65x）に接続された高電圧発生部（電源部）（70a）と、貯留タンク（41）の底部に設置された超音波発生部（94）とを備えている。 The liquid purification apparatus of the present embodiment includes a storage tank (41), an electrode pair (64x, 65x) disposed in the storage tank (41), and a high voltage generator connected to the electrode pair (64x, 65x) (Power supply part) (70a) and the ultrasonic wave generation part (94) installed in the bottom part of the storage tank (41) are provided.

電極（64x）は絶縁ケーシング（71a）の内部に収納され、電極（65x）は絶縁ケーシング（71b）の内部に収納されている。電極（64x）及び電極（65x）は、それぞれ扁平な板状に形成されている。また、電極（64x）及び電極（65x）はステンレス、銅等の導電性の金属材料で構成されている。高電圧発生部（70a）は、数キロボルト程度の電圧を電極対（64x,65x）に供給する。 The electrode (64x) is housed inside the insulating casing (71a), and the electrode (65x) is housed inside the insulating casing (71b). The electrode (64x) and the electrode (65x) are each formed in a flat plate shape. The electrode (64x) and the electrode (65x) are made of a conductive metal material such as stainless steel or copper. The high voltage generator (70a) supplies a voltage of several kilovolts to the electrode pair (64x, 65x).

絶縁ケーシング（71a,71b）は、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されており、図２に示す絶縁ケーシング（71）と同様の構成を有している。 The insulating casings (71a, 71b) are made of, for example, an insulating material such as ceramics, and have the same configuration as the insulating casing (71) shown in FIG.

すなわち、絶縁ケーシング（71a）は、一面（図１５では右側の面）が開放された容器状のケース本体（180a）と、該ケース本体（180a）の上記開放部を閉塞する板状の蓋部（73a）とを有している。また、絶縁ケーシング（71b）は、一面（図１５では左側の面）が開放された容器状のケース本体（180b）と、該ケース本体（180b）の上記開放部を閉塞する板状の蓋部（73b）とを有している。 That is, the insulating casing (71a) includes a container-like case body (180a) whose one surface (right surface in FIG. 15) is opened, and a plate-like lid portion that closes the open portion of the case body (180a). (73a). The insulating casing (71b) includes a container-like case body (180b) whose one surface (left surface in FIG. 15) is open, and a plate-like lid portion that closes the open portion of the case body (180b). (73b).

絶縁ケーシング（71a）の蓋部（73a）には、該蓋部（73a）を厚さ方向に貫通する１つの開口（74a）が形成されている。絶縁ケーシング（71b）の蓋部（73b）にも、該蓋部（73b）を厚さ方向に貫通する１つの開口（74b）が形成されている。これらの開口（74a,74b）により、電極（64x）と電極（65x）との間の電界の形成が許容されている。開口（74a,74b）の内径は、０．０２ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であることが好ましい。以上のような開口（74a,74b）は、電極対（64x,65x）の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。 One opening (74a) that penetrates the lid (73a) in the thickness direction is formed in the lid (73a) of the insulating casing (71a). One opening (74b) penetrating the lid (73b) in the thickness direction is also formed in the lid (73b) of the insulating casing (71b). These openings (74a, 74b) allow formation of an electric field between the electrode (64x) and the electrode (65x). The inner diameter of the openings (74a, 74b) is preferably 0.02 mm or more and 0.5 mm or less. The openings (74a, 74b) as described above constitute a current density concentration portion that increases the current density of the current path between the electrode pair (64x, 65x).

絶縁ケーシング（71a,71b）は、貯留タンク（41）内の互いに対向する側面に、蓋部（73a,73b）同士が対向するように設置されている。言い換えれば、電極（64x）と電極（65x）とは互いに対向するよう配置されている。 The insulating casings (71a, 71b) are installed on the side surfaces facing each other in the storage tank (41) so that the lid portions (73a, 73b) face each other. In other words, the electrode (64x) and the electrode (65x) are arranged to face each other.

絶縁ケーシング（71a,71b）の開口（74a,74b）内では、電流経路の電流密度が上昇することで、液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。つまり、絶縁ケーシング（71a,71b）の開口（74a,74b）は、該開口（74a,74b）に気相部としての気泡を形成する気相形成部として機能する。この構成により、電圧が電極対（64x,65x）に供給された場合に電極対（64x,65x）間の気泡内に放電を生起させることができる。 In the openings (74a, 74b) of the insulating casing (71a, 71b), the current density in the current path increases, so that the liquid is vaporized by Joule heat and bubbles are formed. That is, the opening (74a, 74b) of the insulating casing (71a, 71b) functions as a gas phase forming part that forms bubbles as a gas phase part in the opening (74a, 74b). With this configuration, when a voltage is supplied to the electrode pair (64x, 65x), discharge can be generated in the bubbles between the electrode pair (64x, 65x).

なお、超音波発生部（94）の具体的な構成は実施形態１に係る液浄化装置と同様である。 The specific configuration of the ultrasonic generator (94) is the same as that of the liquid purification apparatus according to the first embodiment.

本実施形態の液浄化装置を、図８又は図１４に示す方法で運転することにより、液中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、貯留タンク（41）内の液体を効果的に浄化することができる。 By operating the liquid purification apparatus of the present embodiment by the method shown in FIG. 8 or FIG. 14, the liquid in the storage tank (41) is maintained while maintaining the concentration of hydrogen peroxide in the liquid within a predetermined range. It can be effectively purified.

〈発明の実施形態５〉
図１６は、本発明の実施形態５における液浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態１に係る液浄化装置と同様の構成については同一の符号を付している。また、放電波形発生部（3）、制御部（1,5）、増幅器（9）及びセンサ（7）は図１６では図示を省略しているが、実際には本実施形態の液浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態１に係る液浄化装置と異なる点について説明する。 <Embodiment 5 of the Invention>
FIG. 16 is a configuration diagram illustrating a liquid purification apparatus according to Embodiment 5 of the present invention. In the same figure, the same code | symbol is attached | subjected about the structure similar to the liquid purification apparatus which concerns on Embodiment 1. FIG. The discharge waveform generator (3), the controller (1,5), the amplifier (9), and the sensor (7) are not shown in FIG. 16, but are actually included in the liquid purification apparatus of this embodiment. Is provided. Below, a different point from the liquid purification apparatus mainly concerning Embodiment 1 is demonstrated.

本実施形態の液浄化装置は、貯留タンク（41）と、貯留タンク（41）内に配置された電極対（64,65）と、電極対（64,65）に接続された高電圧発生部（電源部）（70b）と、貯留タンク（41）の底部に設置された超音波発生部（94）とを備えている。 The liquid purification apparatus of this embodiment includes a storage tank (41), an electrode pair (64, 65) disposed in the storage tank (41), and a high voltage generator connected to the electrode pair (64, 65). (Power supply part) (70b) and the ultrasonic wave generation part (94) installed in the bottom part of the storage tank (41) are provided.

本実施形態の液浄化装置においては、電極Ａ（64）及び電極Ｂ（65）がそれぞれ高電圧発生部（70b）の正極側及び負極側にそれぞれ接続され、高電圧発生部（70b）から電極対（64,65）に高電圧のパルス電圧が供給される点が実施形態１に係る液浄化装置と異なっている。 In the liquid purification apparatus of the present embodiment, the electrode A (64) and the electrode B (65) are respectively connected to the positive electrode side and the negative electrode side of the high voltage generator (70b), and the electrode from the high voltage generator (70b) to the electrode The difference from the liquid purification apparatus according to the first embodiment is that a high voltage pulse voltage is supplied to the pair (64, 65).

また、電極Ａ（64）を囲む絶縁ケーシング(71)は設けられない。電極Ａ（64）及び電極Ｂ（65）は共に板状であり、貯留タンク（41）内の側面に、互いに対向するように設置される。 Further, the insulating casing (71) surrounding the electrode A (64) is not provided. The electrode A (64) and the electrode B (65) are both plate-shaped and are installed on the side surfaces in the storage tank (41) so as to face each other.

さらに、液浄化装置には、例えば貯留タンク（41）の底部など、少なくとも電極対（64,65）の間であって、電極対（64,65）よりも低い位置に設けられたノズル（吐出手段）（119）と、ノズル（119）に空気等の気体を送るエアポンプ（送出手段）（99）とが設けられている。エアポンプ（99）によって貯留タンク（41）内の気体は、ノズル（119）を介して循環される。ただし、エアポンプ（99）によって貯留タンク（41）内に外部から気体を供給してもよい。 Further, the liquid purification apparatus includes, for example, a nozzle (discharge) provided at a position at least between the electrode pair (64, 65) and lower than the electrode pair (64, 65), such as the bottom of the storage tank (41). (Means) (119) and an air pump (sending means) (99) for sending a gas such as air to the nozzle (119). The gas in the storage tank (41) is circulated through the nozzle (119) by the air pump (99). However, gas may be supplied from the outside into the storage tank (41) by the air pump (99).

超音波発生部（94）の構成は実施形態１に係る液浄化装置と同様であり、貯留タンク（41）の底部に設置されていてもよいが、貯留タンク（41）内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。 The configuration of the ultrasonic generator (94) is the same as that of the liquid purification apparatus according to the first embodiment, and may be installed at the bottom of the storage tank (41). Can be placed at any position as long as it can be irradiated.

少なくとも放電処理を行う期間中、ノズル（119）から液体中へと泡が吐出される。液中に泡が存在する状態で電極対（64,65）にパルス電圧を供給することにより、泡の内部で放電が生起され、水酸ラジカルが生成する。 Bubbles are discharged from the nozzle (119) into the liquid at least during the period during which the discharge treatment is performed. By supplying a pulse voltage to the electrode pair (64, 65) in a state where bubbles are present in the liquid, a discharge is generated inside the bubbles and hydroxyl radicals are generated.

本実施形態の液浄化装置では、実施形態１に係る液浄化装置と基本的に同じ方法、すなわち図８又は図１４に示す方法で、放電と超音波照射とを組み合わせた液体浄化が行われる。ただし、図８又は図１４に示す放電処理の期間中は、高電圧発生部（70b）から電極対（64,65）へとパルス電圧が間欠的に供給され、電極対（64,65）間に間欠的に放電が生起される。 In the liquid purification apparatus according to the present embodiment, liquid purification that combines discharge and ultrasonic irradiation is performed by basically the same method as the liquid purification apparatus according to the first embodiment, that is, the method illustrated in FIG. However, during the discharge process shown in FIG. 8 or FIG. 14, a pulse voltage is intermittently supplied from the high voltage generator (70b) to the electrode pair (64, 65), and between the electrode pair (64, 65). Discharge occurs intermittently.

以上の構成及び方法によれば、電極対（64,65）間にパルス放電を発生させる場合でも、効率良く水酸ラジカルを発生させることができるので、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。 According to the above configuration and method, even when a pulse discharge is generated between the electrode pair (64, 65), hydroxyl radicals can be generated efficiently. High purification ability can be exhibited without increasing the concentration.

〈発明の実施形態６〉
図１７は、本発明の実施形態６における液浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態１、実施形態４に係る液浄化装置と同様の構成については同一の符号を付している。また、放電波形発生部（3）、制御部（1,5）、増幅器（9）及びセンサ（7）は図１７では図示を省略しているが、実際には本実施形態の液浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態４に係る液浄化装置と異なる点について説明する。 <Sixth Embodiment of the Invention>
FIG. 17 is a configuration diagram illustrating a liquid purification apparatus according to Embodiment 6 of the present invention. In the same figure, the same code | symbol is attached | subjected about the structure similar to the liquid purification apparatus which concerns on Embodiment 1, Embodiment 4. FIG. The discharge waveform generator (3), the controller (1,5), the amplifier (9), and the sensor (7) are not shown in FIG. 17, but are actually included in the liquid purification apparatus of this embodiment. Is provided. Hereinafter, differences from the liquid purification apparatus according to the fourth embodiment will be mainly described.

本実施形態の液浄化装置は、貯留タンク（41）と、貯留タンク（41）内に配置された電極対（64y,65y）と、電極対（64y,65y）に接続された高電圧発生部（電源部）（70c）と、貯留タンク（41）の底部に設置された超音波発生部（94）とを備えている。 The liquid purification apparatus of the present embodiment includes a storage tank (41), an electrode pair (64y, 65y) disposed in the storage tank (41), and a high voltage generator connected to the electrode pair (64y, 65y) (Power supply unit) (70c) and an ultrasonic wave generation unit (94) installed at the bottom of the storage tank (41).

電極（64y）と電極（65y）とは、それぞれ貯留タンク（41）内の側面に、互いに対向するように設置されている。 The electrode (64y) and the electrode (65y) are respectively installed on the side surfaces in the storage tank (41) so as to face each other.

電極（64y）は、少なくとも１つの導電部（164）と、導電部（164）を囲む絶縁部（165）とを有している。 The electrode (64y) has at least one conductive part (164) and an insulating part (165) surrounding the conductive part (164).

電極（65y）は、少なくとも１つの導電部（166）と、導電部（166）を囲む絶縁部（167）とを有している
以上のように、電極（64y）における導電部（164）の露出面、及び電極（65y）における導電部（166）の露出面の面積は小さいので、電圧を電極対（64y,65y）に供給した場合には導電部（164,166）の表面で電流密度の集中部が形成される。そのため、導電部（164,166）の表面では液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。この泡によって導電部（164,166）の露出面が覆われた状態で高電圧発生部（70c）からの電圧供給を継続することにより、泡の内部で放電が生起される。 The electrode (65y) has at least one conductive portion (166) and an insulating portion (167) surrounding the conductive portion (166). As described above, the conductive portion (164) of the electrode (64y) Since the area of the exposed surface and the exposed surface of the conductive portion (166) in the electrode (65y) is small, when voltage is supplied to the electrode pair (64y, 65y), the current density is concentrated on the surface of the conductive portion (164,166). Part is formed. Therefore, on the surface of the conductive portion (164, 166), the liquid is vaporized by Joule heat to form bubbles. By continuing the voltage supply from the high voltage generator (70c) in a state where the exposed surfaces of the conductive parts (164, 166) are covered with the bubbles, a discharge is generated inside the bubbles.

以上の構成によっても、電極対（64y,65y）間での放電と、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度を上昇させずに、高い浄化能力を発揮することができる。 Even with the above configuration, by combining discharge between the electrode pair (64y, 65y) and ultrasonic irradiation, high purification ability can be exhibited without increasing the hydrogen peroxide concentration.

〈その他の実施形態〉
本発明は、上記各実施形態について、以下のような構成としてもよい。 <Other embodiments>
The present invention may be configured as follows for each of the above embodiments.

上記各実施形態において、運転制御部（81）は、放電ユニット（62）の放電時間を制御するように構成した。しかしながら、上記運転制御部（81）は、上記放電ユニット（62）の電極対（64，65）に供給する電力を制御するように構成してもよい。つまり、上記運転制御部（81）は、貯留液の温度が高くなるにしたがって上記放電ユニット（62）の電極対（64，65）に供給する電力を低下するように構成してもよい。 In each of the above embodiments, the operation control unit (81) is configured to control the discharge time of the discharge unit (62). However, the operation control unit (81) may be configured to control the power supplied to the electrode pair (64, 65) of the discharge unit (62). That is, the operation control unit (81) may be configured to reduce the power supplied to the electrode pair (64, 65) of the discharge unit (62) as the temperature of the stored liquid increases.

例えば、上記運転制御部（81）は、水温決定部と、実施形態１の放電時間算出部に代わる電力算出部と、放電実行部とを備えている。 For example, the said operation control part (81) is provided with the water temperature determination part, the electric power calculation part replaced with the discharge time calculation part of Embodiment 1, and the discharge execution part.

上記水温決定部は、例えば、３つの温度センサ（Se1〜Se3）が検出した水温のうち、最も低い温度を選択し、最も低い温度を給湯タンク（41）の水温と決定する。 The said water temperature determination part selects the lowest temperature among the water temperatures which three temperature sensors (Se1-Se3) detected, for example, and determines the lowest temperature as the water temperature of a hot water supply tank (41).

上記電力算出部は、過酸化水素の濃度を一定した場合の除菌能力と水温との関係及び過酸化水素の発生量と水温との関係を示すデータを予め記憶し、水温決定部が決定した水温に基づき電極対（64，65）に供給する電力、例えば、供給電流または印加電圧を算出する。 The power calculation unit previously stores data indicating the relationship between the sterilization ability and the water temperature when the concentration of hydrogen peroxide is constant, and the relationship between the amount of hydrogen peroxide generated and the water temperature, and the water temperature determination unit determines Based on the water temperature, power supplied to the electrode pair (64, 65), for example, supply current or applied voltage is calculated.

上記放電実行部は、電力算出部が算出した電流値または電圧値に放電ユニット（62）を制御する。 The discharge execution unit controls the discharge unit (62) to the current value or the voltage value calculated by the power calculation unit.

この結果、水温が高い場合には放電ユニット（62）による除菌能力が高いので、放電ユニット（62）の供給電力を低下することができることから、過剰な除菌運転を防止することができると共に、供給電力の低下による省エネルギ化を図ることができる。 As a result, when the water temperature is high, the sterilization capability of the discharge unit (62) is high, so that the power supplied to the discharge unit (62) can be reduced, so that excessive sterilization operation can be prevented. Thus, it is possible to save energy by reducing the supply power.

また逆に、水温が低い場合には放電ユニット（62）による除菌能力が低いので、放電ユニット（62）の供給電力を増大することができることから、除菌運転の不足を防止することができる。その他の構成、作用及び効果は実施形態１と同じである。 Conversely, when the water temperature is low, the sterilization ability of the discharge unit (62) is low, so that the power supplied to the discharge unit (62) can be increased, so that lack of sterilization operation can be prevented. . Other configurations, operations, and effects are the same as those of the first embodiment.

また、上記各実施形態は、放電ユニット（62）を備えた給湯システム（10）について説明したが、本発明が浄化する液体は、給湯水に限られず、水耕栽培の水は各種の溶液であってもよいことは勿論である。 Moreover, although each said embodiment demonstrated the hot water supply system (10) provided with the discharge unit (62), the liquid which this invention purifies is not restricted to hot water supply water, The water of hydroponics is various solutions. Of course there may be.

また、温度検出部は、３つの温度センサ（Se1〜Se3）に限られず、１つの温度センサであってもよく、さらに、３つ以上の温度センサであってもよい。 Further, the temperature detection unit is not limited to three temperature sensors (Se1 to Se3), and may be one temperature sensor, or may be three or more temperature sensors.

尚、以上の実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。 In addition, the above embodiment is an essentially preferable illustration, Comprising: It does not intend restrict | limiting the range of this invention, its application thing, or its use.

以上説明したように、本発明は、各種の液体を浄化する液浄化装置について有用である。 As described above, the present invention is useful for a liquid purifier that purifies various liquids.

１、５制御部
３放電波形発生部
７センサ
８超音波波形発生部
９増幅器
１０給湯システム
４１給湯タンク（貯留タンク）
６０水浄化ユニット（液浄化装置）
６２放電ユニット
６４、１７８電極Ａ
６４ｘ、６４ｙ電極
６５、１７０電極Ｂ
６５ｘ、６５ｙ電極
７０高電圧発生部（電源）
Ｓｅ１〜Ｓｅ３水温センサ（温度検出部）
８０コントローラ
８１運転制御部
９４超音波発生部
９５圧電セラミックス
９６、９６ａ、９６ｂ金属板
９７ケース
９９エアポンプ（送出手段）
１１９ノズル（吐出手段） DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 5 Control part 3 Discharge waveform generation part 7 Sensor 8 Ultrasonic waveform generation part 9 Amplifier 10 Hot-water supply system 41 Hot-water supply tank (storage tank)
60 Water purification unit (liquid purification device)
62 Discharge unit 64, 178 Electrode A
64x, 64y electrode 65, 170 electrode B
65x, 65y electrode 70 high voltage generator (power supply)
Se1 to Se3 Water temperature sensor (temperature detector)
80 controller 81 operation control unit 94 ultrasonic generation unit 95 piezoelectric ceramic 96, 96a, 96b metal plate 97 case 99 air pump (feeding means)
119 Nozzle (Discharging means)

Claims

A storage tank (41) for storing liquid;
An electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) provided in the storage tank (41) and causing discharge in the stored liquid in the storage tank (41), and the electrode pair (64, 64x , 64y, 65, 65x, 65y) and a power source (70, 70a, 70b, 70c) for applying a voltage, and the discharge generates a hydroxyl radical in the stored liquid to purify the stored liquid. A discharge unit (62);
An ultrasonic generator that converts hydrogen peroxide in the stored liquid generated by changing the generated hydroxyl radicals into hydroxyl radicals by irradiating the stored liquid in the storage tank (41) with ultrasonic waves. (94)
A temperature detector (Se1 to Se3) for detecting the temperature of the stored liquid in the storage tank (41);
An operation control unit (81) for controlling the purification operation of the discharge unit (62) according to the temperature of the stored liquid detected by the temperature detection unit (Se1-Se3),
The operation control unit (81) is configured to control the discharge time of the discharge unit (62) according to the temperature of the stored liquid,
The liquid purification apparatus, wherein the operation control unit (81) is configured to shorten the discharge time of the discharge unit (62) as the temperature of the stored liquid increases .

A storage tank (41) for storing liquid;
An electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) provided in the storage tank (41) and causing discharge in the stored liquid in the storage tank (41), and the electrode pair (64, 64x , 64y, 65, 65x, 65y) and a power source (70, 70a, 70b, 70c) for applying a voltage, and the discharge generates a hydroxyl radical in the stored liquid to purify the stored liquid. A discharge unit (62);
An ultrasonic generator that converts hydrogen peroxide in the stored liquid generated by changing the generated hydroxyl radicals into hydroxyl radicals by irradiating the stored liquid in the storage tank (41) with ultrasonic waves. (94)
A temperature detector (Se1 to Se3) for detecting the temperature of the stored liquid in the storage tank (41);
An operation control unit (81) for controlling the purification operation of the discharge unit (62) according to the temperature of the stored liquid detected by the temperature detection unit (Se1-Se3),
The operation control unit (81) is configured to control the power supplied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) of the discharge unit (62) according to the temperature of the stored liquid,
The operation control unit (81) is configured to reduce the power supplied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) of the discharge unit (62) as the temperature of the stored liquid increases. Has been
A liquid purification apparatus characterized by that.

In claim 1 or 2 ,
While the temperature detectors (Se1 to Se3) are provided at a plurality of locations in the storage tank (41),
The operation control unit (81) is configured to control the purification operation of the discharge unit (62) according to the lowest temperature among the temperatures of the stored liquid detected by the plurality of temperature detection units (Se1 to Se3). A liquid purification apparatus characterized by comprising:

In claim 1 or 2 ,
A first controller (1) for controlling on or off of a voltage applied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y);
A second controller (5) for controlling the operation of the ultrasonic generator (94),
The first control unit (1) and the second control unit (5) are configured so that the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid in the storage tank (41) does not exceed a predetermined upper limit value. A liquid purification apparatus characterized by controlling on / off of a voltage applied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) and the operation of the ultrasonic wave generation unit (94), respectively.

In claim 4 ,
A sensor (7) for monitoring the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid in the storage tank (41);
The first control unit (1) controls on or off of a voltage applied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) according to a monitoring result by the sensor (7),
The liquid control apparatus, wherein the second control unit (5) controls the operation of the ultrasonic wave generation unit (94) in accordance with a monitoring result by the sensor (7).

In claim 5 ,
When at least the concentration of hydrogen peroxide in the stored liquid exceeds the upper limit, the first control unit (1) applies the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y). The liquid purifying apparatus is characterized in that the discharge is stopped by turning off the voltage to be operated, and the second control unit (5) operates the ultrasonic wave generation unit (94).

In any one of Claims 4 thru | or 6 ,
The second control unit (5) includes the ultrasonic generator (during the period when the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid in the storage tank (41) exceeds a predetermined lower limit value lower than the upper limit value. 94) A liquid purifying apparatus characterized by turning on an on-state.

In claim 1 or 2 ,
A control unit for controlling on or off of the voltage applied to the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) and controlling the operation of the ultrasonic wave generation unit (94);
The controller controls the electrode pairs (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y so that the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid in the storage tank (41) does not exceed a predetermined upper limit value. The liquid purifying apparatus is characterized by controlling on / off of a voltage applied to the first and second ultrasonic generators (94) and operation of the ultrasonic generator (94).

In claim 8 ,
When the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid in the storage tank (41) exceeds a predetermined upper limit value, the control unit determines that the electrode pair (64, 64x, 64y, 65, 65x, 65y) is turned off to stop the discharge, and during the period in which the concentration of hydrogen peroxide contained in the stored liquid exceeds a predetermined lower limit value lower than the upper limit value, the ultrasonic wave generator (94) A liquid purification apparatus characterized by turning on the liquid.

In any one of Claims 1 thru | or 9 ,
Discharge means (119) for discharging bubbles into the stored liquid in the storage tank (41);
A delivery means (99) for sending gas to the discharge means (119);
The electrode pair (64, 65) is plate-shaped and arranged to face each other.
The power source (70b) applies a pulse voltage to the electrode pair (64, 65),
The liquid purifier according to claim 1, wherein the discharge means (119) is disposed between the electrode pair (64, 65) and at the bottom of the storage tank (41).