JP5865270B2 - ミクロンギャップ熱光起電力の大型サブミクロンギャップ方法および装置 - Google Patents
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Description
本出願は、参照によって本明細書に援用される、2010年に2月28日に出願された、米国仮特許出願第61/308,972号の利益を主張する。
〔態様1〕
熱伝導シェルの内側表面から放射線放出層の収集表面によって熱エネルギを収集する工程であって、当該シェルの外側表面を高温熱エネルギ源に晒させる、工程と、
前記放射線放出層の放出表面から光起電力セルの受信表面までの距離を1ミクロン未満に維持する工程と、
前記放出表面からの電磁波放射を前記受信表面によって受信して、前記光起電力セルによって電力を生成する工程と、
加圧された熱伝導性変形可能膜によって前記光起電力セルに圧力を供給して、前記放射線放出層の前記収集表面を前記シェルの前記内側表面と密着して接触させ、冷却効果を最大限に発揮させる工程と、
前記熱伝導性変形可能膜に接触するヒートシンクに圧力を供給して、冷却効果を最大限に発揮させる工程と、
を含む、サブミクロンギャップ熱光起電力技術を使用して熱エネルギを電気エネルギに変換する方法。
〔態様2〕
態様1記載の方法において、
前記放出表面と前記受信表面との間に真空を生成して、熱伝導効率を最低にする工程を更に含む方法。
〔態様3〕
態様2記載の方法において、
前記真空は10 -3 トール未満である方法。
〔態様4〕
態様1記載の方法において、
前記シェルの内側を真空に維持する工程を更に含む方法。
〔態様5〕
態様1記載の方法において、
前記光起電力セルの前記受信表面と前記放射線放出層の前記放出表面との間の距離は、おおよそ0.10ミクロンから0.30ミクロンの間である方法。
〔態様6〕
態様1記載の方法において、
前記光起電力セルの前記受信表面と前記放射線放出層の前記放出表面との間の距離を、断熱スペーサの使用によって維持する工程をさらに含む方法。
〔態様7〕
態様1記載の方法において、
前記変形可能膜は、リニアアクチュエータおよび液体金属充填空洞によって加圧される方法。
〔態様8〕
態様1記載の方法において、
放射線放出層の前記収集表面と前記熱伝導シェルの前記内側表面との間に熱界面を挿入する工程を更に含む方法。
〔態様9〕
態様8記載の方法において、
前記熱界面は、熱伝導グラファイトを含む方法。
〔態様10〕
態様1記載の方法において、
冷却液をヒートシンク空洞に通過させて循環させて、前記光起電力セル、前記ヒートシンク、液体金属チャンバおよび前記変形可能膜の温度を下げる工程をさらに含む方法。
〔態様11〕
態様10記載の方法において、
弾性ベローズおよび配水ハウジングを使用して冷却液を分配する工程を更に含む方法。
〔態様12〕
熱伝導シェルの内側表面からの熱エネルギを収集するための放射線放出層の収集表面であって、当該シェルの外側表面が高温熱エネルギ源に晒される収集表面と、
前記放射線放出層の放出表面から1ミクロン未満の距離に維持された光起電力セルの受信表面と、
前記光起電力セルによって電力を生成するために、前記放出表面から前記受信表面によって受信される電磁波放射と、
前記放射線放出層の前記収集表面を前記シェルの前記内側表面と密着して接触させ、冷却効果を最大限に発揮するために、加圧された熱伝導性変形可能膜によって加圧された前記光起電力セルと、
冷却効果を最大限に発揮するために、前記熱伝導性変形可能膜に接触するように加圧されたヒートシンクと、
を含む、サブミクロンギャップ熱光起電力技術を使用して熱エネルギを電気エネルギに変換する装置。
〔態様13〕
態様12記載の装置において、
放射線放出層の前記収集表面と前記熱伝導シェルの前記内側表面との間に熱界面を挿入させる装置。
〔態様14〕
態様12記載の装置において、
前記熱界面は、熱伝導グラファイトを含む装置。
〔態様15〕
態様12記載の装置において、
前記放出表面と前記受信表面との間で真空が維持される装置。
〔態様16〕
態様12記載の装置において、
前記シェルの内部が真空に維持される装置。
〔態様17〕
態様12記載の装置において、
前記光起電力セルの前記受信表面と前記放射線放出層の前記放出表面との距離を維持する断熱スペーサを更に含む装置。
〔態様18〕
態様12記載の装置において、
前記変形可能膜がリニアアクチュエータおよび液体金属充填空洞によって加圧される装置。
〔態様19〕
態様12記載の装置において、
弾性ベローズおよび配水ハウジングを使用して分配される冷却液を更に含む装置。
〔態様20〕
サブミクロンギャップ熱光起電力技術を使用して、熱エネルギを電気エネルギに変換する装置であって、カッドの要素を囲い込むためのシェルを含み、当該シェルは、
グラファイト熱界面を介して前記シェルと緊密な熱接触が維持された放出チップアレイと、
前記放出チップアレイから断熱スペーサによって空間を置いて離れる膜および光起電力アレイ組み立て部品と、
前記シェルと緊密な熱接触が維持された前記放出チップアレイを維持するための前記膜と接触している液体金属チャンバと、
前記膜、前記液体金属チャンバおよび前記光起電力アレイを冷却するための冷却液を受容するヒートシンク組み立て部品と、
ベローズ組み立て部品を介して前記ヒートシンク組み立て部品に冷却液を分配するための配水ハウジングと、
前記ヒートシンクが前記液体金属冷却剤および前記光起電力アレイに密着することを維持する空気圧組み立て部品と、
前記空気圧組み立て部品の圧力を維持するためのリニアアクチュエータ圧力アクチュエータと、を含む装置。
〔態様21〕
態様20記載の装置において、
前記シェル内は真空に維持される装置。
〔態様22〕
態様20記載の装置において、
前記膜は、前記リニアアクチュエータおよび液体金属充填空洞によって加圧される装置。
〔態様23〕
態様20記載の装置において、
前記カッドは、複数の光起電力および放出チップアレイを含む装置。
〔態様24〕
態様20記載の装置において、
シェルはM×Nアレイのカッドであり、ここでMおよびNは1以上である装置。
〔態様25〕
態様20記載の装置において、
冷却制御モジュール、真空制御モジュールおよび空気圧制御モジュールを更に含む装置。
Claims (19)
- 熱伝導シェル(210)の内側表面(208)から放射線放出層(215)の収集表面(212)によって熱エネルギを収集する工程であって、当該熱伝導シェル(210)の外側表面(203)を熱エネルギ源に晒させる、工程と、
前記放射線放出層(215)の放出表面(218)から光起電力セル(225)の受信表面(222)までの距離をマイクロギャップ内のスペーサ(220)で1ミクロン未満に維持する工程と、
前記放出表面(218)からの電磁波放射を前記受信表面(222)によって受信する工程と、
液体金属を含む加圧されたチャンバ(235)の壁を形成する熱伝導性変形可能箔膜(230)によって前記光起電力セル(225)に圧力を供給して、前記放射線放出層(215)の前記収集表面(212)を前記熱伝導シェル(210)の前記内側表面(208)と密着して接触させ、当該光起電力セル(225)の冷却効果を発揮させる工程と、
制御された圧力に維持された空気圧チャンバ(260)によって、冷却剤チャンバ(245)と、前記液体金属を含む加圧されたチャンバ(235)に接触するヒートシンク(240)と、前記光起電力セル(225)と、前記放射線放出層(215)と、前記熱伝導シェル(210)とに圧力を供給して、当該光起電力セル(225)の冷却効果を更に発揮させる工程と、
伸縮自在のベローズと冷却液分配ハウジング(270)とを使用して、前記ヒートシンク(240)の内部ボイド及び前記冷却剤チャンバ(245)を通して冷却液を循環させる工程と、
を含む、サブミクロンギャップ熱光起電力技術を使用して熱エネルギを電気エネルギに変換する方法。 - 請求項1記載の方法において、
前記放射線放出層(215)の前記放出表面(218)と前記光起電力セル(225)の前記受信表面(222)との間に真空を生成して、過剰な熱伝導を避ける工程を更に含む方法。 - 請求項2記載の方法において、
前記真空は10-3トール未満である方法。 - 請求項1記載の方法において、
前記熱伝導シェル(210)の内側を真空に維持する工程を更に含む方法。 - 請求項1記載の方法において、
前記光起電力セル(225)の前記受信表面(222)と前記放射線放出層(215)の前記放出表面(218)との間の距離は、0.10ミクロンから0.30ミクロンの間である方法。 - 請求項1記載の方法において、
前記光起電力セル(225)の前記受信表面(222)と前記放射線放出層(215)の前記放出表面(218)との間の距離を、断熱スペーサ(220)の使用によって維持する工程をさらに含む方法。 - 請求項1記載の方法において、
前記放射線放出層(215)の前記収集表面(212)と前記熱伝導シェル(210)の前記内側表面(208)との間に熱界面を挿入する工程を更に含む方法。 - 請求項7記載の方法において、
前記熱界面は、熱伝導グラファイトを含む方法。 - 熱伝導シェル(210)の内側表面(208)からの熱エネルギを収集するための放射線放出層(215)の収集表面(212)であって、当該熱伝導シェル(210)の外側表面(203)が熱エネルギ源に晒される収集表面(212)と、
前記放射線放出層(215)の放出表面(218)からマイクロギャップ内のスペーサ(220)で1ミクロン未満の距離に維持された光起電力セル(225)の受信表面(222)と、
前記放出表面(218)から前記受信表面(222)によって受信される電磁波放射と、
前記放射線放出層(215)の前記収集表面(212)を前記熱伝導シェル(210)の前記内側表面(208)と密着して接触させた状態を維持して前記光起電力セル(225)の冷却効果を発揮するために、液体金属を含む加圧されたチャンバ(235)の壁を形成する熱伝導性変形可能箔膜(230)によって制御された圧力が印加される前記光起電力セル(225)と、
前記光起電力セル(225)の冷却効果を更に発揮するために、冷却剤チャンバ(245)と、当該光起電力セル(225)に圧力を印加するための前記液体金属を含む加圧されたチャンバ(235)に接触するヒートシンク(240)と、前記放射線放出層(215)と、前記熱伝導シェル(210)とを、制御された圧力に維持する空気圧チャンバ(260)と、
前記ヒートシンク(240)内の内部ボイド及び前記冷却剤チャンバ(245)を通して冷却液を循環させる伸縮自在のべローズ及び冷却液分配ハウジング(270)と、
を含む、サブミクロンギャップ熱光起電力技術を使用して熱エネルギを電気エネルギに変換する装置。 - 請求項9記載の装置において、
前記放射線放出層(215)の前記収集表面(212)と前記熱伝導シェル(210)の前記内側表面(208)との間に挿入させた熱界面を更に備える装置。 - 請求項9記載の装置において、
高温に晒されるハウジング(210)と熱伝導グラファイトから構成される高温側放出部(215)との間に熱界面を更に備える装置。 - 請求項9記載の装置において、
高温側放出部(215)の前記放出表面(218)と低温側の前記光起電力セル(225)の前記受信表面(222)との間で真空が維持される装置。 - 請求項9記載の装置において、
前記熱伝導シェル(210)の内部が真空に維持される装置。 - 請求項9記載の装置において、
前記光起電力セル(225)の前記受信表面(222)と前記放射線放出層(215)の前記放出表面(218)との距離を維持する断熱スペーサ(220)を更に含む装置。 - サブミクロンギャップ熱光起電力技術を使用して熱エネルギを電気エネルギに変換する装置であって、ミクロンギャップ熱光起電力(MTPV)デバイス(800)の要素を囲い込むためのシェル(910)を含み、
グラファイト熱界面(410)を介して前記シェル(910)と緊密な熱接触が維持された放出チップアレイ(420)と、
前記放出チップアレイ(420)から断熱スペーサ(430)によって空間を置いて離れる膜(450)および光起電力組み立て部品(440,710)と、
前記放出チップアレイ(420)が前記シェル(910)と熱接触するのを維持するために、前記膜(450)と接触している液体金属チャンバ(460)と、
前記膜(450)、前記液体金属チャンバ(460)および前記光起電力組み立て部品(440,710)を冷却するために、冷却液を受容するヒートシンク組み立て部品(470)と、
入口側のベローズ組み立て部品(560,570)を介して前記ヒートシンク組み立て部品(470)の冷却液入り口に冷却液を分配し、出口側のべローズ組み立て部品(560,570)を介して当該ヒートシンク組み立て部品(470)の冷却液出口を受容するための配水ハウジング(510,740)であって、当該入口側のべローズ組み立て部品(560,570)が当該ヒートシンク組み立て部品(470)上で当該出口側のべローズ組み立て部品(560,570)から離れて配置されている、配水ハウジング(510,740)と、
前記シェル(910)の熱膨張及び熱収縮を可能にし、前記ヒートシンク組み立て部品(470)を当該シェル(910)の方向に押圧する前記ベローズ組み立て部品(560,570)と、
前記ヒートシンク組み立て部品(470)が前記液体金属チャンバ(460)および前記光起電力組み立て部品(440,710)に接触することを維持する空気圧組み立て部品(530,540,550)と、
前記空気圧組み立て部品(530,540,550)から離れて配置され、当該空気圧組み立て部品(530,540,550)の圧力を維持するための圧力調節機と、を含む装置。 - 請求項15記載の装置において、
前記シェル(910)内は真空に維持される装置。 - 請求項15記載の装置において、
前記MTPVデバイス(800)は、複数の光起電力組み立て部品(440,710)および放出チップアレイ(420)を含む装置。 - 請求項15記載の装置において、
シェル(910)はM×NアレイのMTPVデバイス(800)を含み、ここでMおよびNは1以上である装置。 - 請求項15記載の装置において、
冷却制御モジュール(1310)、真空制御モジュール(1320)および空気圧制御モジュール(1330)を更に含む装置。
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