JP5853334B2 - Exposure equipment - Google Patents
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Description
本発明は、マスクホルダーに保持されたフォトマスクのマスクパターンを介して被露光体に露光光を照射し露光する露光装置に関し、特に簡単な構造でフォトマスクの落下を防止し得るようにした露光装置に係るものである。 The present invention relates to an exposure apparatus that irradiates an object to be exposed with exposure light through a mask pattern of a photomask held in a mask holder, and particularly exposure that can prevent the photomask from falling with a simple structure. It concerns the device.
従来の露光装置は、マスクホルダーに保持されたマスクを間にして対向する位置にマスク落下防止手段を少なくとも１組設けて成り、マスク落下防止手段は、先端にマスクの外周縁部のテーパー状の係合部に対応して傾斜面に形成されたマスク受け部を有し且つ下面がマスクの最下面より下方に位置しないように配設されたマスク支承体と、該マスク支承体をそのマスク受け部が係合部に接離し得るように駆動させる駆動機構とからなっていた（例えば、特許文献１参照）。 The conventional exposure apparatus comprises at least one set of mask drop prevention means at positions facing each other with a mask held by a mask holder in between, and the mask drop prevention means has a tapered shape at the outer peripheral edge of the mask at the tip. A mask support body having a mask receiving portion formed on an inclined surface corresponding to the engaging portion and disposed so that the lower surface thereof is not located below the lowermost surface of the mask, and the mask support body in the mask receiver The driving mechanism is configured to drive the part so that the part can come in contact with and away from the engaging part (see, for example, Patent Document 1).
しかし、このような従来の露光装置においては、マスク落下防止手段は、マスク支承体がマスクホルダーの下面に設けられた凹部内に位置してガイド部材によりガイドされて、その先端のマスク受け部がフォトマスクの外周縁部の係合部に接離し得るように移動可能に装着され、駆動機構がエアシリンダ機構よりなり、マスクホルダーの下面に設けられた凹部内に位置してエアシリンダ下面がフォトマスクの最下面より下方に位置しないように配置され、ピストンロッドの先端にマスク支承体の後端部を固定した構造となっているため、マスク落下防止手段の構造が複雑で、装置の製造コストが高くなるという問題がある。 However, in such a conventional exposure apparatus, the mask drop prevention means is configured such that the mask support is located in a recess provided in the lower surface of the mask holder and is guided by the guide member, and the mask receiving portion at the tip thereof is The photomask is movably mounted so as to be able to come in contact with and disengage from the engaging portion of the outer peripheral edge of the photomask. The structure is such that the rear end of the mask support is fixed to the tip of the piston rod so that it is not positioned below the lowermost surface of the mask. There is a problem that becomes high.
また、フォトマスクの外周縁部にテーパー状の係合部を機械加工により形成する必要があるので、機械加工中にフォトマスクのマスク面に傷を付けたり、縁部に欠け等の損傷が生じたりするおそれがある。 In addition, since it is necessary to form a tapered engaging portion on the outer peripheral edge of the photomask by machining, the mask surface of the photomask is scratched during machining, or damage such as chipping occurs at the edge. There is a risk of
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、簡単な構造でフォトマスクの落下を防止し得るようにした露光装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an exposure apparatus that addresses such problems and can prevent the photomask from falling with a simple structure.
上記目的を達成するために、本発明による露光装置は、マスクホルダーに保持されたフォトマスクのマスクパターンを介して、前記フォトマスクに対向して配置された被露光体に露光光を照射し、該被露光体を露光する露光装置であって、前記フォトマスクは、外周端面の互いに対向する位置に対向させて少なくとも１対の突部材を備え、前記マスクホルダーは、中央領域に開口を有する枠体の外側面に前記フォトマスクの前記突部材に対応してチャック手段を備えた構造をなし、前記チャック手段により前記突部材を捕らえて前記マスクホルダーの前記被露光体側の端面に前記フォトマスクを固定するものである。 In order to achieve the above object, an exposure apparatus according to the present invention irradiates an object to be exposed disposed facing a photomask through a mask pattern of a photomask held in a mask holder, An exposure apparatus for exposing the object to be exposed, wherein the photomask includes at least one pair of projecting members opposed to each other at positions facing each other on an outer peripheral end surface, and the mask holder has a frame having an opening in a central region. The outer surface of the body is provided with a chuck means corresponding to the projecting member of the photomask, and the projecting member is captured by the chuck means and the photomask is placed on the end surface of the mask holder on the exposed body side. It is to be fixed.
このような構成により、フォトマスクの外周端面の互いに対向する位置に対向させて備えた少なくとも１対の突部材を、中央領域に開口を有する枠体の外側面に上記突部材に対応してチャック手段を備えて構成されたマスクホルダーの該チャック手段により捕らえてマスクホルダーの被露光体側の端面にフォトマスクを固定し、フォトマスクに対向して配置された被露光体に上記フォトマスクのマスクパターンを介して露光光を照射し、被露光体を露光する。 With such a configuration, at least one pair of projecting members provided to oppose each other on the outer peripheral end surface of the photomask are chucked on the outer surface of the frame having an opening in the central region in correspondence with the projecting members. A mask pattern of the above-mentioned photomask is fixed to the exposed surface of the mask holder that is captured by the chuck means of the mask holder that is provided with the means, and is fixed to the exposed surface of the mask holder. The exposure object is exposed by irradiating exposure light through the.
好ましくは、前記フォトマスクの前記突部材は、磁性材料からなり、前記マスクホルダーの前記チャック手段は、前記突部材を磁力により吸着するマグネットチャックであるのが望ましい。 Preferably, the projecting member of the photomask is made of a magnetic material, and the chuck means of the mask holder is a magnet chuck that attracts the projecting member by magnetic force.
又は、前記マスクホルダーの前記チャック手段は、前記枠体の互いに対向する外側面に上端部を回動可能に軸支されると共に、バネ部材により前記外側面側に付勢されて少なくとも１対設けられ、対向配置された前記突部材を前記フォトマスクの両側方から挟んで留めるクリップであるのが望ましい。 Alternatively, at least one pair of the chuck means of the mask holder is pivotally supported on the outer side surfaces of the frame body so that the upper end portions thereof are rotatable, and is urged toward the outer side surface by a spring member. The clip is preferably a clip that holds the projecting members disposed opposite to each other from both sides of the photomask.
より好ましくは、前記マスクホルダーの前記被露光体側の端面には、別に備えた吸引ポンプに連結させて吸引孔が設けられているのが望ましい。 More preferably, the end face of the mask holder on the exposed object side is provided with a suction hole connected to a separately provided suction pump.
そして、前記被露光体を一方向に搬送する搬送手段をさらに設けるのが望ましい。 It is desirable to further provide a conveying means for conveying the object to be exposed in one direction.
本発明の露光装置によれば、フォトマスクの互いに対向する外周端面に備えた少なくとも１対の突部材を捕らえて固定するチャック手段をマスクホルダーの外側面に設けているので、簡単な構造でフォトマスクの落下を防止することができる。この場合、フォトマスクに何ら機械加工を施す必要がないので、フォトマスクのマスク面を傷つけたり、フォトマスクの縁部に欠け等の損傷を生じさせたりするおそれがない。 According to the exposure apparatus of the present invention, the chuck means for catching and fixing at least one pair of projecting members provided on the outer peripheral end surfaces facing each other of the photomask is provided on the outer surface of the mask holder. The fall of the mask can be prevented. In this case, since it is not necessary to perform any machining on the photomask, there is no possibility of damaging the mask surface of the photomask or causing damage such as chipping on the edge of the photomask.
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明による露光装置の実施形態を示す正面図である。この露光装置は、マスクホルダーに保持されたフォトマスクのマスクパターンを介して被露光体に露光光を照射し露光するもので、搬送手段１と、露光光学系２と、マスクホルダー３と、撮像手段４と、アライメント手段５と、を備えて構成されている。なお、以下の説明においては、被露光体が複数のピクセルを一定の配列ピッチでマトリクス状に備えたカラーフィルタ基板６である場合について述べる。 Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a front view showing an embodiment of an exposure apparatus according to the present invention. This exposure apparatus irradiates an object to be exposed with exposure light via a mask pattern of a photomask held on a mask holder, and exposes the exposure means. The conveying means 1, the exposure optical system 2, the mask holder 3, and the imaging device. Means 4 and alignment means 5 are provided. In the following description, the case where the object to be exposed is the color filter substrate 6 having a plurality of pixels arranged in a matrix at a constant arrangement pitch will be described.
上記搬送手段１は、カラーレジストを塗布したカラーフィルタ基板６を上面に載置して矢印Ａで示す搬送方向に一定速度で搬送するものであり、上面に複数のエア噴出孔及びエア吸引孔を設け、エアの噴出力と吸引力とをバランスさせてカラーフィルタ基板６を一定量浮上させるエアステージと、カラーフィルタ基板６の縁部を保持して搬送する搬送機構とを備えて構成されている。 The transport means 1 places the color filter substrate 6 coated with a color resist on the top surface and transports the color filter substrate 6 at a constant speed in the transport direction indicated by the arrow A, and has a plurality of air ejection holes and air suction holes on the top surface. And an air stage that floats the color filter substrate 6 by a certain amount by balancing the air jet power and the suction force, and a transport mechanism that transports the color filter substrate 6 while holding the edge. .
上記搬送手段１の上方には、露光光学系２が設けられている。この露光光学系２は、後述のフォトマスク７に強度分布の均一な光源光Ｌ１を照射するものであり、紫外線の光源光Ｌ１を放射する光源８と、光源光Ｌ１の強度分布を均一にすると共に平行光にしてフォトマスク７に照射するカップリング光学系９とを備えている。 An exposure optical system 2 is provided above the conveying means 1. This exposure optical system 2 irradiates a photomask 7 described later with light source light L1 having a uniform intensity distribution, and makes the light source 8 that emits ultraviolet light source light L1 and the intensity distribution of the light source light L1 uniform. And a coupling optical system 9 for irradiating the photomask 7 with parallel light.
上記搬送手段１と上記露光光学系２との間には、マスクホルダー３が設けられている。このマスクホルダー３は、矩形状のフォトマスク７を保持するものであり、図２（ａ）に示すように、中央領域に開口１０を有する枠体１１に形成され、該枠体１１の下側（カラーフィルタ基板６側）端面（以下「保持面」という）１１ａには、図示省略の吸引ポンプに連結させて複数の吸引孔１２が設けられてフォトマスク７を上記保持面１１ａに吸着して保持することができるようになっている。この場合、保持面１１ａの外形寸法は、フォトマスク７の外形寸法と許容範囲内で同一に形成されるとよい。さらに、上記枠体１１の外側面１１ｂには、上記矩形状のフォトマスク７の外周端面７ａの互いに対向する位置に対向させて備えられた後述の少なくとも１対の突部材１４（図３参照）に対応してチャック手段１３を設けた構造を成し、同図（ｂ）に示すようにチャック手段１３により突部材１４を捕らえて保持面１１ａにフォトマスク７を固定することができるようになっている。そして、後述のアライメント手段５によって駆動されて、搬送手段１の上面に平行な面内にて矢印Ａで示すカラーフィルタ基板６の搬送方向（以下「Ｘ方向」という）と交差する方向（以下「Ｙ方向」という）に移動できるようになっている。 A mask holder 3 is provided between the transport means 1 and the exposure optical system 2. The mask holder 3 holds a rectangular photomask 7 and is formed in a frame body 11 having an opening 10 in the central region as shown in FIG. A plurality of suction holes 12 are provided on an end surface (hereinafter referred to as “holding surface”) 11a (color filter substrate 6 side) connected to a suction pump (not shown) to adsorb the photomask 7 to the holding surface 11a. It can be held. In this case, the outer dimension of the holding surface 11a is preferably formed to be the same as the outer dimension of the photomask 7 within an allowable range. Further, at least one pair of projecting members 14 (described later) provided on the outer surface 11b of the frame 11 so as to oppose each other on the outer peripheral end surface 7a of the rectangular photomask 7 (see FIG. 3). The chuck means 13 is provided correspondingly, and the projecting member 14 can be captured by the chuck means 13 and the photomask 7 can be fixed to the holding surface 11a as shown in FIG. ing. Then, it is driven by an alignment unit 5 described later, and intersects a direction (hereinafter referred to as “X direction”) of the color filter substrate 6 indicated by an arrow A in a plane parallel to the upper surface of the transport unit 1 (hereinafter referred to as “X direction”). In the Y direction).
上記チャック手段１３は、具体的には、マグネットチャックであり、電磁石を備えて構成されている。この場合、フォトマスク７の上記突部材１４は、角柱状の磁性材料で形成され、図３（ｂ）に示すように下端面１４ａがフォトマスク７のマスク面７ｂ（表面）よりも上側に位置し、上端面１４ｂがフォトマスク７の裏面７ｃと面一となるようにフォトマスク７の外周端面７ａに接合されるとよい。これにより、マスクホルダー３は、マグネットチャックの磁力により突部材１４を吸着し、フォトマスク７をカラーフィルタ基板６の面に近接対向させた状態で保持面１１ａに均一に保持することができる。 Specifically, the chuck means 13 is a magnet chuck and includes an electromagnet. In this case, the protruding member 14 of the photomask 7 is formed of a prismatic magnetic material, and the lower end surface 14a is positioned above the mask surface 7b (front surface) of the photomask 7 as shown in FIG. The upper end surface 14 b may be bonded to the outer peripheral end surface 7 a of the photomask 7 so that the upper end surface 14 b is flush with the back surface 7 c of the photomask 7. Thereby, the mask holder 3 can adsorb the protruding member 14 by the magnetic force of the magnet chuck, and can uniformly hold the photomask 7 on the holding surface 11a in a state of being close to and opposed to the surface of the color filter substrate 6.
ここで、上記フォトマスク７は、図３に示すように、上記チャック手段１３の開口１０内に対応した領域にて、Ｙ方向に複数のマスクパターン１５をカラーフィルタ基板６のピクセルの同方向における配列ピッチの３倍の配列ピッチで形成し、矢印Ａ方向に向かって上記マスクパターン１５の手前側に一定距離はなれた位置にＹ方向に長軸を有する覗き窓１６を形成し、該覗き窓１６内に上記マスクパターン１５と一定の位置関係をなして（例えば、いずれか一つのマスクパターン１５のＸ方向の中心軸に同方向の中心軸を合致させて）マスク側アライメントマーク１７を形成した構成となっている。 Here, as shown in FIG. 3, the photomask 7 has a plurality of mask patterns 15 in the Y direction in the region corresponding to the opening 10 of the chuck means 13 in the same direction of the pixels of the color filter substrate 6. A viewing window 16 having a long axis in the Y direction is formed at a position spaced apart from the mask pattern 15 by a certain distance in the direction of arrow A, with an arrangement pitch three times the arrangement pitch. A mask-side alignment mark 17 is formed in a fixed positional relationship with the mask pattern 15 (for example, by matching the central axis in the same direction with the central axis in the X direction of any one mask pattern 15). It has become.
矢印Ａで示すカラーフィルタ基板６の搬送方向に向かって、上記露光光学系２の手前側には、撮像手段４が設けられている。この撮像手段４は、フォトマスク７の覗き窓１６内に形成されたマスク側アライメントマーク１７と、覗き窓１６を通して観察され、いずれかのピクセルのＸ方向の中心軸と同方向の中心軸を合致させてカラーフィルタ基板６の搬送方向先頭側の位置に形成された基板側アライメントマークとを同時に撮影するもので、複数の受光エレメントをＹ方向に一直線に並べて備えたラインカメラであり、図３に示すように覗き窓１６の長手中心軸と長手中心軸を合致させた状態で配置されている。 An imaging unit 4 is provided on the front side of the exposure optical system 2 in the transport direction of the color filter substrate 6 indicated by an arrow A. This imaging means 4 is observed through a mask-side alignment mark 17 formed in the viewing window 16 of the photomask 7 and the viewing window 16 and coincides with the central axis in the same direction as the central axis in the X direction of any pixel. 3 is a line camera in which a plurality of light receiving elements are arranged in a straight line in the Y direction, and the substrate side alignment mark formed at the position on the leading side in the transport direction of the color filter substrate 6 is simultaneously photographed. As shown, the viewing window 16 is arranged in a state in which the longitudinal central axis and the longitudinal central axis coincide with each other.
上記マスクホルダー３をＹ方向に移動可能にアライメント手段５が設けられている。このアライメント手段５は、撮像手段４によって撮影されたマスク側アライメントマーク１７と基板側アライメントマークとの画像に基づいて検出された両マーク間の位置ずれ量を補正するようにマスクホルダー３を移動させるものであり、例えば電磁アクチュエータを備えて構成されている。 An alignment means 5 is provided so that the mask holder 3 can be moved in the Y direction. The alignment means 5 moves the mask holder 3 so as to correct the amount of misalignment between the marks detected based on the images of the mask side alignment marks 17 and the substrate side alignment marks taken by the imaging means 4. For example, an electromagnetic actuator is provided.
次に、このように構成された露光装置の動作について説明する。
先ず、図示省略のマスクチェンジャーによってフォトマスク７が、搬送手段１の上面とマスクホルダー３の下面との間を搬送手段１のＹ方向側方からマスクホルダー３の下側まで運ばれ、マスクホルダー３の保持面１１ａに対して位置付けられる。
Next, the operation of the exposure apparatus configured as described above will be described.
First, the photomask 7 is transported between the upper surface of the transport means 1 and the lower surface of the mask holder 3 from the side in the Y direction of the transport means 1 to the lower side of the mask holder 3 by a mask changer (not shown). It is positioned with respect to the holding surface 11a.
次に、図示省略の吸引ポンプが起動してフォトマスク７をマスクホルダー３の保持面１１ａに吸着して保持する。 Next, a suction pump (not shown) is activated to adsorb and hold the photomask 7 on the holding surface 11 a of the mask holder 3.
続いて、マスクホルダー３の枠体１１の外側面１１ｂに設けられたチャック手段１３としての電磁石がオン駆動し、電磁石の磁力によってフォトマスク７の外周端面７ａに設けられた磁性材料からなる突部材１４を吸着する。これにより、フォトマスク７のマスクホルダー３への装着が終了する。 Subsequently, the electromagnet as the chuck means 13 provided on the outer surface 11b of the frame 11 of the mask holder 3 is turned on, and the projecting member made of a magnetic material provided on the outer peripheral end surface 7a of the photomask 7 by the magnetic force of the electromagnet. 14 is adsorbed. Thereby, the mounting of the photomask 7 to the mask holder 3 is completed.
一方、搬送手段１のエアステージ上には、表面に所望のカラーレジストを塗布したカラーフィルタ基板６が載置される。そして、カラーフィルタ基板６は、エアステージ上に一定量浮上された状態でＸ方向の中心軸がＸ軸と平行となるように位置合わせされた後、その縁部が搬送機構によって保持される。 On the other hand, a color filter substrate 6 having a surface coated with a desired color resist is placed on the air stage of the conveying means 1. Then, the color filter substrate 6 is aligned so that the center axis in the X direction is parallel to the X axis in a state where the color filter substrate 6 is floated on the air stage, and then the edge is held by the transport mechanism.
次に、露光開始スイッチが投入され、露光光学系２の光源８の発光状態が安定すると、搬送機構によってカラーフィルタ基板６が矢印Ａ方向に一定速度で移動を開始する。 Next, when the exposure start switch is turned on and the light emission state of the light source 8 of the exposure optical system 2 is stabilized, the color filter substrate 6 starts moving at a constant speed in the direction of arrow A by the transport mechanism.
カラーフィルタ基板６が搬送されてカラーフィルタ基板６の矢印Ａで示す搬送方向先頭側に形成された基板側アライメントマークが撮像手段４の下側に達すると、撮像手段４により該基板側アライメントマークとフォトマスク７に形成されたマスク側アライメントマーク１７とが撮影される。さらに、その撮影画像が図示省略の制御手段で画像処理され、Ｙ方向の輝度変化に基づいて基板側アライメントマークの中心位置とマスク側アライメントマーク１７の中心位置とが検出される。そして、両マークのＹ方向の水平距離が演算され、メモリに予め記憶されたアライメントの第１の目標値と比較して該第１の目標値からのずれ量が算出される。 When the color filter substrate 6 is transported and the substrate side alignment mark formed on the leading side in the transport direction indicated by the arrow A of the color filter substrate 6 reaches the lower side of the imaging means 4, the imaging means 4 The mask side alignment mark 17 formed on the photomask 7 is photographed. Further, the photographed image is subjected to image processing by a control means (not shown), and the center position of the substrate side alignment mark and the center position of the mask side alignment mark 17 are detected based on the luminance change in the Y direction. Then, the horizontal distance of both marks in the Y direction is calculated, and the amount of deviation from the first target value is calculated by comparison with the first target value of the alignment stored in advance in the memory.
次いで、アライメント手段５が駆動して上記ずれ量を補正するようにマスクホルダー３がＹ方向に移動され、フォトマスク７とカラーフィルタ基板６とのアライメントが実行される。 Next, the mask holder 3 is moved in the Y direction so that the alignment unit 5 is driven to correct the shift amount, and alignment between the photomask 7 and the color filter substrate 6 is executed.
一方、撮像手段４により基板側アライメントマークが検出された時点からのカラーフィルタ基板６の移動距離が計測され、カラーフィルタ基板６が予め定められた距離だけ移動してカラーフィルタ基板６の搬送方向先頭側に位置するピクセルがフォトマスク７のマスクパターン１５の真下に到達すると、露光光学系２に備えたシャッタが開き、光源光Ｌ１がフォトマスク７に照射される。そして、フォトマスク７のマスクパターン１５を介して露光光Ｌ２がカラーフィルタ基板６の上記ピクセル上に照射し、カラーレジストを露光する。 On the other hand, the moving distance of the color filter substrate 6 from the time point when the substrate side alignment mark is detected by the image pickup means 4 is measured, and the color filter substrate 6 is moved by a predetermined distance, and the leading direction of the color filter substrate 6 in the transport direction. When the pixel located on the side reaches just below the mask pattern 15 of the photomask 7, the shutter provided in the exposure optical system 2 is opened, and the photomask 7 is irradiated with the light source light L <b> 1. Then, the exposure light L2 is irradiated onto the pixel of the color filter substrate 6 through the mask pattern 15 of the photomask 7 to expose the color resist.
以降、露光中常時、撮像手段４により撮影された画像に基づいて、予め定められた特定ピクセルの矢印Ａで示す搬送方向に向かって例えば左側縁部の位置が検出され、該位置とマスク側アライメントマーク１７との間の水平距離が演算される。さらに、該算出された水平距離とメモリに記憶されたアライメントの第２の目標値とが比較され、該第２の目標値からのずれ量が算出される。そして、アライメント手段５が駆動して上記ずれ量を補正するようにマスクホルダー３がＹ方向に移動され、フォトマスク７とカラーフィルタ基板６とのアライメントが実行される。これにより、カラーフィルタ基板６がＹ方向に振れながら搬送されても、カラーフィルタ基板６の横振れにフォトマスク７を追従させながら露光が行われる。 Thereafter, for example, the position of the left edge portion is detected in the conveying direction indicated by the arrow A of a predetermined specific pixel based on the image photographed by the imaging means 4 at all times during exposure, and this position and the mask side alignment are detected. The horizontal distance from the mark 17 is calculated. Further, the calculated horizontal distance is compared with the second target value of alignment stored in the memory, and a deviation amount from the second target value is calculated. Then, the alignment means 5 is driven to move the mask holder 3 in the Y direction so as to correct the shift amount, and the alignment between the photomask 7 and the color filter substrate 6 is executed. Thereby, even if the color filter substrate 6 is conveyed while swinging in the Y direction, exposure is performed while the photomask 7 follows the lateral swing of the color filter substrate 6.
図４は、上記マスクホルダー３に設けられたチャック手段１３の変形例を示す図であり、（ａ）は要部拡大正面図、（ｂ）は要部拡大断面図、（ｃ）はフォトマスク７の保持状態を示す正面図である。
このチャック手段１３は、同図（ａ）に示すように枠体１１の互いに対向する外側面１１ｂに上端部を回動可能に軸支されると共に、同図（ｂ）に示すようにバネ部材１８により上記外側面１１ｂ側に付勢されて少なくとも１対設けられ、同図（ｃ）に示すように対向配置された突部材１４をフォトマスク７の両側方から矢印で示すように挟んで留めるクリップである。
4A and 4B are diagrams showing a modification of the chuck means 13 provided in the mask holder 3, wherein FIG. 4A is an enlarged front view of the main part, FIG. 4B is an enlarged sectional view of the main part, and FIG. 7 is a front view showing a holding state of 7. FIG.
The chuck means 13 is pivotally supported on the outer side surfaces 11b of the frame 11 opposite to each other as shown in FIG. 11A so that the upper end portion thereof is rotatable, and as shown in FIG. At least one pair of biasing members 18 is provided by being biased toward the outer surface 11b by 18 and disposed oppositely as shown in FIG. It is a clip.
詳細には、図４（ｂ）に示すように、チャック手段１３の本体部１９の上記枠体１１の外側面１１ｂ側の側面に溝２０を形成し、該溝２０内にフォトマスク７に設けた突部材１４が収まるようになっている。この場合、上記溝２０の幅寸法Ｗは、フォトマスク７の縁部に沿った突部材１４の長さ寸法ｗ（図３参照）よりも許容範囲内で僅かに大きく形成され、溝２０の深さ寸法Ｄは、突部材１４の突出量ｄ（図３参照）よりも一定量だけ小さく形成されている。また、チャック手段１３の上端部には、上記溝２０内に収まるように枠体１１の外側面１１ｂから突出して設けられた軸受け部２１を貫いて回転軸２２が設けられ、枠体１１の外側面１１ｂ側の隅角部はＲ状に面取り形成されて回転可能になっている。さらに、上記回転軸２２には、一端部をチャック手段１３の本体部１９の上端面１９ａに係止させ、他端部を枠体１１の外側面１１ｂに形成された穴２３に係止させてバネ部材１８が設けられ、チャック手段１３の本体部１９が、常時、枠体１１の外側面１１ｂ側に付勢されている。したがって、チャック手段１３が閉じた状態においては、同図（ｃ）に示すように、フォトマスク７の外周端面７ａに対向配置された突部材１４が上記バネ部材１８の付勢力による一定圧力で１対のチャック手段１３によりフォトマスク７の両側方から挟まれる。こうして、フォトマスク７は、チャック手段１３によってマスクホルダー３に保持されることになる。 Specifically, as shown in FIG. 4B, a groove 20 is formed on the side surface of the main body portion 19 of the chuck means 13 on the outer surface 11b side of the frame body 11, and the photomask 7 is provided in the groove 20. The protruding member 14 is accommodated. In this case, the width dimension W of the groove 20 is slightly larger than the length dimension w (see FIG. 3) of the protruding member 14 along the edge of the photomask 7 within an allowable range. The length D is formed to be smaller than the protrusion amount d (see FIG. 3) of the protrusion member 14 by a certain amount. A rotating shaft 22 is provided at the upper end portion of the chuck means 13 through a bearing portion 21 provided so as to protrude from the outer surface 11 b of the frame body 11 so as to fit in the groove 20. The corner portion on the side surface 11b side is chamfered in an R shape and is rotatable. Further, one end of the rotating shaft 22 is engaged with the upper end surface 19 a of the main body 19 of the chuck means 13, and the other end is engaged with a hole 23 formed in the outer surface 11 b of the frame 11. A spring member 18 is provided, and the main body portion 19 of the chuck means 13 is constantly urged toward the outer surface 11 b side of the frame body 11. Therefore, when the chuck means 13 is closed, as shown in FIG. 5C, the projecting member 14 disposed facing the outer peripheral end surface 7a of the photomask 7 is 1 at a constant pressure by the biasing force of the spring member 18. The photomask 7 is sandwiched by the pair of chuck means 13 from both sides. Thus, the photomask 7 is held on the mask holder 3 by the chuck means 13.
この場合、図５に示すように、突部材１４の下端面１４ａをフォトマスク７の外周端面７ａ側から上端面１４ｂ側に向かって傾斜した斜面に形成して係合面２４とし、チャック手段１３の本体部１９の溝２０の下端部側を前記係合面２４に適合した傾斜面２５に形成すれば、チャック手段１３が閉じた状態においては、上記溝２０内の傾斜面２５が突部材１４の係合面２４に係合するため、チャック手段１３によるフォトマスク７の保持をより確実に行うことができる。 In this case, as shown in FIG. 5, the lower end surface 14 a of the projecting member 14 is formed as a slope inclined from the outer peripheral end surface 7 a side to the upper end surface 14 b side of the photomask 7 to form the engaging surface 24. If the lower end side of the groove 20 of the main body portion 19 is formed on the inclined surface 25 adapted to the engaging surface 24, the inclined surface 25 in the groove 20 is projected into the projecting member 14 when the chuck means 13 is closed. Therefore, the photomask 7 can be more reliably held by the chuck means 13.
なお、上記実施形態においては、被露光体がカラーフィルタ基板６である場合について説明したが、本発明はこれに限られず、被露光体は、ＴＦＴ基板や配線基板等であってもよい。この場合、上記チャック手段１３は、ＴＦＴ基板上にカラーフィルタを形成するためのフォトマスク、ＴＦＴ基板を配向処理するためのフォトマスク、又は配線基板に配線を露光形成するためのフォトマスク等をマスクホルダー３に保持するときに適用することができる。 In the above embodiment, the case where the object to be exposed is the color filter substrate 6 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the object to be exposed may be a TFT substrate, a wiring substrate, or the like. In this case, the chuck means 13 masks a photomask for forming a color filter on the TFT substrate, a photomask for aligning the TFT substrate, or a photomask for exposing and forming wiring on the wiring substrate. It can be applied when held in the holder 3.
１…搬送手段
３…マスクホルダー
６…カラーフィルタ基板（被露光体）
７…フォトマスク
７ａ…外周端面
１０…開口
１１…枠体
１１ａ…保持面（被露光体側の端面）
１１ｂ…外側面
１２…吸引孔
１３…チャック手段
１４…突部材
１５…マスクパターン
１８…バネ部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conveyance means 3 ... Mask holder 6 ... Color filter substrate (to-be-exposed body)
7 ... Photomask 7a ... Peripheral end face 10 ... Opening 11 ... Frame 11a ... Holding surface (end face on the exposed object side)
11b ... Outer surface 12 ... Suction hole 13 ... Chuck means 14 ... Projection member 15 ... Mask pattern 18 ... Spring member
Claims (5)
前記フォトマスクは、外周端面の互いに対向する位置に対向させて少なくとも１対の突部材を備え、
前記マスクホルダーは、中央領域に開口を有する枠体の外側面に前記フォトマスクの前記突部材に対応してチャック手段を備えた構造をなし、
前記チャック手段により前記突部材を捕らえて前記マスクホルダーの前記被露光体側の端面に前記フォトマスクを固定する、
ことを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus that irradiates an object to be exposed disposed facing the photomask through a mask pattern of a photomask held in a mask holder, and exposes the object to be exposed,
The photomask includes at least one pair of projecting members opposed to each other on the outer peripheral end faces.
The mask holder has a structure provided with chuck means corresponding to the projecting member of the photomask on the outer surface of the frame having an opening in a central region,
The projecting member is captured by the chuck means, and the photomask is fixed to an end surface of the mask holder on the exposed body side,
An exposure apparatus characterized by that.
前記マスクホルダーの前記チャック手段は、前記突部材を磁力により吸着するマグネットチャックであることを特徴とする請求項１記載の露光装置。 The protruding member of the photomask is made of a magnetic material,
2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the chuck means of the mask holder is a magnet chuck that attracts the protruding member by magnetic force.
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