JP5846377B2 - Toilet equipment - Google Patents

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Description

本発明の態様は、一般的に、トイレ装置に関する。   Aspects of the invention generally relate to toilet devices.

例えば、便器への汚物の付着を抑制するために、使用者が便器を使用する前に予め便器のボウル面に洗浄水を吐水し、水膜を形成するトイレ装置がある。一方で、洗浄操作がなされ所定時間が経過した後に、機能水をボウル部へ吐水する水洗式大便器がある(特許文献1)。またさらに、結晶性酸化チタンとシリカを含有する層が便器表面に形成された便器がある(特許文献2)。特許文献2に記載された便器は、光触媒の活性に伴う親水化作用と、光触媒の分解活性によって残存する汚物や菌などを分解する分解作用と、を有する。光触媒層が形成されたボウル面は、汚物の付着を抑制したり、汚物の分解を行うため、便器の清掃負担を軽減し、きれいな便器を維持することができる。   For example, in order to suppress adhesion of filth to a toilet bowl, there is a toilet apparatus that forms a water film by discharging water to the bowl surface of the toilet bowl in advance before the user uses the toilet bowl. On the other hand, there is a flush toilet that discharges functional water to the bowl part after a predetermined time has elapsed after a washing operation (Patent Document 1). Furthermore, there is a toilet in which a layer containing crystalline titanium oxide and silica is formed on the toilet surface (Patent Document 2). The toilet bowl described in Patent Document 2 has a hydrophilizing action associated with the activity of the photocatalyst and a decomposing action for decomposing remaining dirt, bacteria, and the like due to the decomposition activity of the photocatalyst. Since the bowl surface on which the photocatalyst layer is formed suppresses the adhesion of filth and decomposes the filth, the cleaning burden on the toilet is reduced and a clean toilet can be maintained.

しかし、便器洗浄を行う洗浄水には、溶性ケイ酸が溶存している。洗浄水が蒸発しボウル面が乾燥すると、ボウル面に水垢が形成される。そのため、光触媒層の表面に水垢が形成されると、光触媒の活性を維持するための紫外線が水垢の下の光触媒層に照射されない。この点においては、改善の余地がある。また、光触媒層の表面に残った残水に紫外線が照射されると、シラノール基の脱水縮合反応が進み水垢が生成されやすくなる。この点においては、改善の余地がある。   However, soluble silicic acid is dissolved in the washing water for performing toilet cleaning. When the washing water evaporates and the bowl surface dries, scale is formed on the bowl surface. For this reason, when scale is formed on the surface of the photocatalyst layer, the photocatalyst layer under the scale is not irradiated with ultraviolet rays for maintaining the activity of the photocatalyst. There is room for improvement in this regard. In addition, when the remaining water remaining on the surface of the photocatalyst layer is irradiated with ultraviolet rays, the dehydration condensation reaction of silanol groups proceeds and scales are easily generated. There is room for improvement in this regard.

これに対して、水垢成分となるカルシウムイオンやマグネシウムイオンなどを予め除く衛生洗浄装置がある(特許文献3)。しかし、特許文献3に記載された衛生洗浄装置では、装置が大掛かりになるという問題がある。   On the other hand, there is a sanitary washing apparatus that removes calcium ions, magnesium ions, and the like, which are scale components, in advance (Patent Document 3). However, the sanitary washing apparatus described in Patent Document 3 has a problem that the apparatus becomes large.

特開2004−92278号公報JP 2004-92278 A 特開平9−78665号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-78665 特許第4358536号公報Japanese Patent No. 4358536

本発明は、かかる課題の認識に基づいてなされたものであり、光触媒層が表面に形成された便器において、水垢を容易に除去することができるトイレ装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made based on recognition of such a problem, and an object of the present invention is to provide a toilet device capable of easily removing scale in a toilet bowl having a photocatalyst layer formed on the surface thereof.

第1の発明は、ボウルを有し前記ボウルの表面に光触媒層が形成された便器と、前記ボウルの表面に洗浄水を供給する給水手段と、前記光触媒層に紫外線を含む光を照射する光照射手段と、前記ボウルの表面に残った洗浄水中のケイ酸成分の重合を抑制するケイ酸成分重合抑制剤を前記ボウルの表面に残った洗浄水に添加するケイ酸成分重合抑制手段と、前記ケイ酸成分重合抑制手段の動作を開始した後に前記紫外線を含む光の照射を開始する制御を実行する制御部と、を備えたことを特徴とするトイレ装置である。   The first invention is a toilet having a bowl and having a photocatalyst layer formed on the surface of the bowl, water supply means for supplying cleaning water to the surface of the bowl, and light for irradiating the photocatalyst layer with light containing ultraviolet light Irradiation means, and a silicic acid component polymerization inhibiting means for adding a silicic acid component polymerization inhibitor that inhibits polymerization of silicic acid components in the washing water remaining on the surface of the bowl to the washing water remaining on the surface of the bowl, and And a control unit that executes control to start irradiation of light including ultraviolet rays after the operation of the silicic acid component polymerization suppressing unit is started.

このトイレ装置によれば、ボウルの表面に光触媒層が形成されているため、ボウルの表面に紫外線を照射すると、光触媒は、励起して酸化還元反応を生ずる。その結果、雑菌や細菌や臭気物質などの有機物を分解する分解作用と、表面が水に濡れやすい親水作用と、を得ることができる。光触媒層が形成されたボウルは、汚物の付着を抑制したり、汚物を分解したり、付着した水垢を容易に除去できるため、便器の清掃負担を軽減し、きれいな便器800を維持することができる。   According to this toilet device, since the photocatalyst layer is formed on the surface of the bowl, when the surface of the bowl is irradiated with ultraviolet rays, the photocatalyst is excited to cause an oxidation-reduction reaction. As a result, it is possible to obtain a decomposing action for decomposing organic substances such as bacteria, bacteria, and odorous substances, and a hydrophilic action in which the surface easily gets wet with water. The bowl in which the photocatalyst layer is formed can suppress the adhesion of filth, decompose the filth, and easily remove the adhered water scale, thereby reducing the burden of cleaning the toilet bowl and maintaining a clean toilet bowl 800. .

光触媒を活性化させるためには、あるいは光触媒の活性を維持するためには、光触媒層が形成されたボウルの表面に紫外線を定期的に照射する必要がある。しかし、光触媒層の表面に水垢が形成されると、紫外線が水垢の下の光触媒層に照射されない。すると、光触媒の活性が著しく低下する場合がある。また、水膜がボウルの表面に形成されている状態で、その水膜に紫外線が照射されると、ケイ酸の重合が促進される。そのため、光触媒層と強固に固着する水垢が形成される。これにより、その部位の光触媒の活性が著しく低下し、復元不能な場合がある。   In order to activate the photocatalyst or maintain the activity of the photocatalyst, it is necessary to periodically irradiate the surface of the bowl on which the photocatalyst layer is formed with ultraviolet rays. However, when scale is formed on the surface of the photocatalyst layer, ultraviolet light is not irradiated to the photocatalyst layer under the scale. Then, the activity of the photocatalyst may be significantly reduced. Further, when the water film is irradiated with ultraviolet rays in a state where the water film is formed on the surface of the bowl, polymerization of silicic acid is promoted. As a result, a scale that firmly adheres to the photocatalyst layer is formed. As a result, the activity of the photocatalyst at that site may be significantly reduced and cannot be restored.

これに対して、この発明によれば、ケイ酸成分重合抑制手段の動作を開始した後に紫外線を含む光の照射を開始する。そのため、ケイ酸の重合を抑制し、生成した水垢を容易に除去することができる。これにより、光触媒の活性が低下することを抑制することができる。また、形成された水垢を清掃で容易に除去することができ、光触媒の活性を回復させることができる。   On the other hand, according to the present invention, irradiation of light containing ultraviolet rays is started after the operation of the silicic acid component polymerization suppressing means is started. Therefore, the polymerization of silicic acid can be suppressed and the generated scale can be easily removed. Thereby, it can suppress that the activity of a photocatalyst falls. Moreover, the formed scale can be easily removed by cleaning, and the activity of the photocatalyst can be recovered.

また、第2の発明は、第1の発明において、前記ケイ酸成分重合抑制剤は、金属イオンを含む酸性水であることを特徴とするトイレ装置である。   The second invention is the toilet apparatus according to the first invention, wherein the silicic acid component polymerization inhibitor is acidic water containing metal ions.

このトイレ装置によれば、残水中のケイ酸成分の重合の進行を抑制することができる。すなわち、通常、ケイ酸が重合しない状態で残水が蒸発しボウルの表面が乾燥すると、中性領域では、コーヒーステイン現象が起きる。その過程で、ケイ酸の重合化が進行する。一方、本発明者らは、酸性領域では、コーヒーステイン現象は起きないという知見を得た。酸性領域では、溶媒が中央方向に流動し、且つケイ酸が重合しない状態となる。これにより、残水中のケイ酸成分の重合の進行を抑制し、生成した水垢を容易に除去できる。   According to this toilet device, the progress of the polymerization of the silicic acid component in the residual water can be suppressed. That is, normally, when residual water evaporates and the surface of the bowl is dried without silicic acid being polymerized, a coffee stain phenomenon occurs in the neutral region. In the process, polymerization of silicic acid proceeds. On the other hand, the present inventors have found that the coffee stain phenomenon does not occur in the acidic region. In the acidic region, the solvent flows in the central direction and silicic acid is not polymerized. Thereby, the progress of the polymerization of the silicic acid component in the residual water can be suppressed, and the generated scale can be easily removed.

また、金属イオンは、酸性水に添加されると、生成した水垢においてケイ酸(SiO)分子の間に介在する。そして、洗浄等により水が供給されると金属イオンが溶出する。すると、ケイ酸凝集体をより脆弱化させ、水垢を容易に除去できるようになる。 Further, when metal ions are added to acidic water, they are interposed between silicic acid (SiO 2 ) molecules in the generated scale. When water is supplied by washing or the like, metal ions are eluted. Then, the silicic acid aggregate is made more brittle and the scale can be easily removed.

また、第3の発明は、第2の発明において、前記酸性水の酸性度は、pH2.5〜5.0であることを特徴とするトイレ装置である。   Moreover, 3rd invention is the toilet apparatus in 2nd invention, The acidity of the said acidic water is pH2.5-5.0.

このトイレ装置によれば、酸性水の酸性度がpH2.5〜5.0であるため、水を電解する電解槽により酸性水の生成が可能である。そのため、例えば薬剤の補充等のメンテナンスが不要となる。また、酸性度がpH2.5〜5.0の酸性水は、ボウルの表面に残った残水の酸性度を例えば約pH2.5〜5.0程度に調整することができる。   According to this toilet apparatus, since the acidity of acidic water is pH 2.5-5.0, acidic water can be generated by an electrolytic bath that electrolyzes water. Therefore, for example, maintenance such as replenishment of medicine becomes unnecessary. Moreover, the acidic water whose acidity is pH2.5-5.0 can adjust the acidity of the residual water which remained on the surface of the bowl, for example to about pH2.5-5.0.

また、第4の発明は、第2または第3の発明において、前記金属イオンは、Al3+およびCu2+の少なくとも1つを含むことを特徴とするトイレ装置である。 In addition, a fourth invention is the toilet device according to the second or third invention, wherein the metal ion includes at least one of Al 3+ and Cu 2+ .

このトイレ装置によれば、Al3+およびCu2+の少なくともいずれかは、生成した水垢においてケイ酸(SiO)分子の間に介在する。そして、洗浄等により水が供給されると、Al3+およびCu2+の少なくともいずれかが溶出する。すると、ケイ酸凝集体をより脆弱化させ、水垢を容易に除去できるようになる。 According to this toilet device, at least one of Al 3+ and Cu 2+ is interposed between silicic acid (SiO 2 ) molecules in the generated scale. When water is supplied by washing or the like, at least one of Al 3+ and Cu 2+ is eluted. Then, the silicic acid aggregate is made more brittle and the scale can be easily removed.

本発明の態様によれば、光触媒層が表面に形成された便器において、水垢を容易に除去することができるトイレ装置が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the aspect of this invention, the toilet apparatus which can remove a scale easily in the toilet bowl in which the photocatalyst layer was formed in the surface is provided.

本発明の実施の形態にかかるトイレ装置を表す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram showing the toilet apparatus concerning embodiment of this invention. 本実施形態にかかるトイレ装置の洗浄動作の一例を例示するグラフ図である。It is a graph which illustrates an example of washing operation of the toilet device concerning this embodiment. 本実施形態にかかるトイレ装置の要部構成を表すブロック図である。It is a block diagram showing the principal part structure of the toilet apparatus concerning this embodiment. 本実施形態の電解槽および金属イオン水生成部を例示する断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which illustrates the electrolytic cell and metal ion water production | generation part of this embodiment. 本実施形態にかかるトイレ装置の動作の具体例を例示するタイミングチャートである。It is a timing chart which illustrates the example of operation of the toilet device concerning this embodiment. 紫外線の照射の有無による水垢生成の比較表である。It is a comparison table of the scale production by the presence or absence of ultraviolet irradiation. 本実験条件を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating this experimental condition. 本実験条件を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating this experimental condition. 金属イオンを含む酸性水の噴霧の有無による水垢除去性の評価結果の一例を例示する表である。It is a table | surface which illustrates an example of the evaluation result of the scale removal property by the presence or absence of spraying of the acidic water containing a metal ion. 本実験条件を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating this experimental condition. 水道水および酸性電解水の水質分析結果を表す表である。It is a table | surface showing the water quality analysis result of tap water and acidic electrolyzed water. 本実験における水垢除去性の評価結果の一例を例示する表である。It is a table | surface which illustrates an example of the evaluation result of the scale removal property in this experiment. 本実験における水垢除去性の評価結果の一例を例示する表である。It is a table | surface which illustrates an example of the evaluation result of the scale removal property in this experiment. 本実験における水垢除去性の評価結果の一例を例示する表である。It is a table | surface which illustrates an example of the evaluation result of the scale removal property in this experiment. 本実験における水垢除去性の評価結果の一例を例示する表である。It is a table | surface which illustrates an example of the evaluation result of the scale removal property in this experiment.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図1は、本発明の実施の形態にかかるトイレ装置を表す断面模式図である。
また、図2は、本実施形態にかかるトイレ装置の洗浄動作の一例を例示するグラフ図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, in each drawing, the same code | symbol is attached | subjected to the same component and detailed description is abbreviate | omitted suitably.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a toilet apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a graph illustrating an example of the cleaning operation of the toilet apparatus according to this embodiment.

図1に表したトイレ装置10は、洋式腰掛便器(以下説明の便宜上、単に「便器」と称する)800と、その上に設けられた衛生洗浄装置100と、を備える。便器800は、ボウル801を有する。便器800には、ボウル801の表面を洗浄する洗浄手段が設けられている。また、便器800には、トラップ803と、ボウル給水口811と、トラップ給水口813と、が設けられている。ボウル801の表面には、光触媒層が形成されている。衛生洗浄装置100は、ケーシング400と、便座200と、便蓋300と、を有する。便座200と便蓋300とは、ケーシング400に対して開閉自在にそれぞれ軸支されている。なお、便蓋300は、必ずしも設けられていなくともよい。   The toilet apparatus 10 shown in FIG. 1 includes a Western-style seat toilet (hereinafter simply referred to as “toilet” for convenience of explanation) 800 and a sanitary washing device 100 provided thereon. The toilet bowl 800 has a bowl 801. The toilet bowl 800 is provided with cleaning means for cleaning the surface of the bowl 801. The toilet bowl 800 is provided with a trap 803, a bowl water supply port 811, and a trap water supply port 813. A photocatalytic layer is formed on the surface of the bowl 801. The sanitary washing device 100 includes a casing 400, a toilet seat 200, and a toilet lid 300. The toilet seat 200 and the toilet lid 300 are pivotally supported with respect to the casing 400 so as to be freely opened and closed. Note that the toilet lid 300 is not necessarily provided.

ケーシング400の内部には、洗浄水を供給する洗浄水供給装置(給水手段)401が設けられている。また、例えばケーシング400の下部には、便器800のボウル801の表面に上水やケイ酸成分重合抑制剤などを噴霧する噴霧ノズル(噴霧部)481と、ボウル801に紫外線(UV:ultraviolet)を照射するUV光源(光照射手段)483と、が設けられている。噴霧ノズル481およびUV光源483は、ケーシング400の内部に設けられていてもよいし、ケーシング400の外部に付設されていてもよい。
なお、本願明細書において「水」という場合には、冷水のみならず、加熱されたお湯も含むものとする。また、ケイ酸成分重合抑制剤については、後に詳述する。
A cleaning water supply device (water supply means) 401 for supplying cleaning water is provided inside the casing 400. Further, for example, in the lower part of the casing 400, a spray nozzle (spray part) 481 for spraying clean water or a silicic acid component polymerization inhibitor on the surface of the bowl 801 of the toilet 800, and ultraviolet (UV) in the bowl 801. And a UV light source (light irradiation means) 483 for irradiation. The spray nozzle 481 and the UV light source 483 may be provided inside the casing 400 or may be attached outside the casing 400.
In the present specification, “water” includes not only cold water but also heated hot water. The silicic acid component polymerization inhibitor will be described in detail later.

図2に表したように、使用者が便器洗浄の操作を行うと、あるいは使用者が便座200から立ち上がって所定時間が経過することで便器洗浄が自動的に実行されると、ボウル給水口811からボウル801へ供給される洗浄水の瞬間流量が増加する。例えば、ボウル給水口811は、ボウル801の上縁に沿って洗浄水を吐出する(リム吐水)。
続いて、所定時間が経過すると、ボウル給水口811から吐出される洗浄水の瞬間流量は減少する一方で、トラップ給水口813からトラップ803へ供給される洗浄水の瞬間流量が増加する。例えば、トラップ給水口813は、トラップ803に向けて洗浄水を吐出する(ジェット吐水)。
このようなリム吐水およびジェット吐水により、ボウル801に吐出された洗浄水は、ボウル801の洗浄を行いつつトラップ803に満たされる。これにより、サイホンが発生する。そして、トラップ803に吐出された洗浄水は、溜水805の中にある汚物などを、トラップ803を通して外へ排出する。
As shown in FIG. 2, when the user performs the toilet cleaning operation, or when the toilet stands up from the toilet seat 200 and the toilet cleaning is automatically performed after a predetermined time has elapsed, the bowl water supply port 811 is operated. The instantaneous flow rate of the cleaning water supplied to the bowl 801 increases. For example, the bowl water supply port 811 discharges cleaning water along the upper edge of the bowl 801 (rim discharge).
Subsequently, when a predetermined time elapses, the instantaneous flow rate of cleaning water discharged from the bowl water supply port 811 decreases while the instantaneous flow rate of cleaning water supplied from the trap water supply port 813 to the trap 803 increases. For example, the trap water supply port 813 discharges cleaning water toward the trap 803 (jet water discharge).
The cleaning water discharged to the bowl 801 by such rim water discharge and jet water discharge fills the trap 803 while cleaning the bowl 801. Thereby, siphon is generated. Then, the cleaning water discharged to the trap 803 discharges dirt and the like in the stored water 805 to the outside through the trap 803.

続いて、所定時間が経過すると、トラップ給水口813からトラップ803へ供給される洗浄水の瞬間流量が減少する一方で、ボウル給水口811からボウル801へ供給される洗浄水の瞬間流量が増加する。これにより、溜水805が確保される。
なお、前述した洗浄動作は、本実施形態にかかるトイレ装置の洗浄動作の一例であり、これだけに限定されるわけではない。
Subsequently, when a predetermined time elapses, the instantaneous flow rate of cleaning water supplied from the trap water supply port 813 to the trap 803 decreases, while the instantaneous flow rate of cleaning water supplied from the bowl water supply port 811 to the bowl 801 increases. . Thereby, the stored water 805 is ensured.
The above-described cleaning operation is an example of the cleaning operation of the toilet apparatus according to the present embodiment, and is not limited thereto.

ここで、前述した洗浄動作が終了した後にボウル801に残った残水が蒸発してボウル801の表面が乾燥すると、水垢がボウル801に付着することがある。通常、残水中の水分が蒸発する過程でケイ酸濃度が増加すると、ケイ酸の重合が促進される。これにより、コーヒーステイン現象(液滴中の溶媒の蒸発によって溶質が液滴の外郭へ流動しリング状に堆積する現象)が起き、強固な水垢が形成される。水垢がボウル801に付着すると、ボウル801が汚れてしまう。また、水垢はボウル801に強固に付着しているため、水垢を取り除くことは難しい。   Here, when the residual water remaining in the bowl 801 evaporates after the above-described cleaning operation is completed and the surface of the bowl 801 is dried, scale may adhere to the bowl 801. Usually, when the concentration of silicic acid increases in the process of evaporating water in the residual water, polymerization of silicic acid is promoted. This causes a coffee stain phenomenon (a phenomenon in which the solute flows to the outer periphery of the droplet due to the evaporation of the solvent in the droplet and accumulates in a ring shape), thereby forming a strong scale. When the water scale adheres to the bowl 801, the bowl 801 becomes dirty. Further, since the scale adheres firmly to the bowl 801, it is difficult to remove the scale.

また、前述したように、本実施形態のボウル801の表面には、光触媒層が形成されている。本願明細書において、「光触媒」とは、光を照射すると、酸化作用および還元作用の少なくともいずれかが促進されるものをいう。あるいは、「光触媒」とは、光を照射すると、親水性が向上するものをいう。   As described above, the photocatalyst layer is formed on the surface of the bowl 801 of the present embodiment. In the present specification, “photocatalyst” refers to a substance that promotes at least one of an oxidizing action and a reducing action when irradiated with light. Alternatively, “photocatalyst” refers to a substance that improves hydrophilicity when irradiated with light.

「光触媒」の材料としては、例えば、金属の酸化物を用いることができる。そのような酸化物としては、例えば、酸化チタン(TiOx)、酸化亜鉛(ZnOx)、酸化スズ(SnOx)などを挙げることができる。これらのうちでも、特に、酸化チタンは、光触媒として活性であり、また、安定性や安全性などの点でも優れる。   As a material for the “photocatalyst”, for example, a metal oxide can be used. Examples of such oxides include titanium oxide (TiOx), zinc oxide (ZnOx), and tin oxide (SnOx). Among these, in particular, titanium oxide is active as a photocatalyst, and is excellent in terms of stability and safety.

光触媒を活性化させるためには、あるいは光触媒の活性を維持するためには、光触媒層が形成されたボウル801の表面に紫外線を定期的に照射する必要がある。すなわち、光触媒は、紫外線を照射されると、励起して酸化還元反応を生ずる。その結果、雑菌や細菌や臭気物質などの有機物を分解する分解作用と、表面が水に濡れやすい親水作用と、を得ることができる。光触媒層が形成されたボウル801は、汚物の付着を抑制したり、汚物を分解したり、付着した水垢を容易に除去できるため、便器800の清掃負担を軽減し、きれいな便器800を維持することができる。   In order to activate the photocatalyst or maintain the activity of the photocatalyst, it is necessary to periodically irradiate the surface of the bowl 801 on which the photocatalyst layer is formed with ultraviolet rays. That is, when the photocatalyst is irradiated with ultraviolet rays, it is excited to cause a redox reaction. As a result, it is possible to obtain a decomposing action for decomposing organic substances such as bacteria, bacteria, and odorous substances, and a hydrophilic action in which the surface easily gets wet with water. The bowl 801 in which the photocatalyst layer is formed can suppress the adhesion of filth, decompose the filth, and easily remove the adhering water scale. Therefore, the cleaning load of the toilet bowl 800 can be reduced and the clean toilet bowl 800 can be maintained. Can do.

なお、本願明細書において、「紫外線」とは、可視光線よも波長が短く、軟X線よりも波長が長い光をいう。具体的には、波長が10ナノメータ〜400ナノメータの光をいう。   In the present specification, “ultraviolet light” refers to light having a shorter wavelength than visible light and a longer wavelength than soft X-rays. Specifically, it means light having a wavelength of 10 nanometers to 400 nanometers.

しかし、光触媒層の表面に水垢が形成されると、紫外線が水垢の下の光触媒層に照射されない。すると、光触媒の活性が著しく低下する場合がある。また、水膜がボウル801の表面に形成されている状態で、その水膜に紫外線が照射されると、ケイ酸の重合が促進される。そのため、光触媒層と強固に固着する水垢が形成される。これにより、その部位の光触媒の活性が著しく低下し、復元不能な場合がある。   However, when scale is formed on the surface of the photocatalyst layer, ultraviolet light is not irradiated to the photocatalyst layer under the scale. Then, the activity of the photocatalyst may be significantly reduced. In addition, when the water film is irradiated with ultraviolet rays in a state where the water film is formed on the surface of the bowl 801, polymerization of silicic acid is promoted. As a result, a scale that firmly adheres to the photocatalyst layer is formed. As a result, the activity of the photocatalyst at that site may be significantly reduced and cannot be restored.

これに対して、本実施形態にかかるトイレ装置10は、ボウル801の表面が乾燥する前にケイ酸成分重合抑制剤をボウル801の表面へ噴霧するケイ酸成分重合抑制手段を備える。ケイ酸成分重合抑制剤は、例えば金属イオンを含む酸性度の高い水溶液(酸性水)である。つまり、本実施形態にかかるトイレ装置10は、ボウル801に残った残水を、金属イオンを含む酸性度の高い水溶液に置き換える。あるいは、本実施形態にかかるトイレ装置10は、ボウル801に残った残水に金属イオンを含む酸性度の高い水溶液を添加する。これによれば、ケイ酸の重合を抑制し、生成した水垢を容易に除去することができる。   On the other hand, the toilet apparatus 10 according to the present embodiment includes a silicic acid component polymerization suppressing unit that sprays a silicic acid component polymerization inhibitor onto the surface of the bowl 801 before the surface of the bowl 801 is dried. The silicic acid component polymerization inhibitor is, for example, a highly acidic aqueous solution (acidic water) containing metal ions. That is, the toilet apparatus 10 according to the present embodiment replaces the remaining water remaining in the bowl 801 with a highly acidic aqueous solution containing metal ions. Alternatively, the toilet apparatus 10 according to the present embodiment adds an aqueous solution having high acidity containing metal ions to the remaining water remaining in the bowl 801. According to this, the polymerization of silicic acid can be suppressed, and the generated scale can be easily removed.

そして、本実施形態にかかるトイレ装置10は、金属イオンを含む酸性水の噴霧を開始した後にUV光源483からの紫外線の照射を開始する。これにより、光触媒の活性が低下することを抑制することができる。また、形成された水垢を清掃で容易に除去することができ、光触媒の活性を回復させることができる。   And the toilet apparatus 10 concerning this embodiment starts irradiation of the ultraviolet-ray from the UV light source 483, after starting spraying of the acidic water containing a metal ion. Thereby, it can suppress that the activity of a photocatalyst falls. Moreover, the formed scale can be easily removed by cleaning, and the activity of the photocatalyst can be recovered.

なお、紫外線の照射のタイミングは、金属イオンを含む酸性水の噴霧のタイミングと重なっていてもよい。具体的には、金属イオンを含む酸性水の噴霧中に、紫外線の照射が開始されてもよい。また、ケイ酸成分の重合が進まない範囲内であれば、紫外線の照射中に、金属イオンを含む酸性水の噴霧が開始されてもよい。   Note that the timing of irradiation with ultraviolet rays may overlap with the timing of spraying acidic water containing metal ions. Specifically, irradiation of ultraviolet rays may be started during spraying of acidic water containing metal ions. Moreover, as long as the polymerization of the silicic acid component does not proceed, spraying of acidic water containing metal ions may be started during irradiation with ultraviolet rays.

ボウル801に残った残水に金属イオンを含む酸性水を添加することで、生成した水垢を容易に除去できる理由は、以下の如くである。但し、これは、本発明者らが得た知見に基づく仮定あるいは仮説であり、本実施形態においてはこれに限定されるわけではない。   The reason why the generated scale can be easily removed by adding acidic water containing metal ions to the residual water remaining in the bowl 801 is as follows. However, this is an assumption or hypothesis based on the knowledge obtained by the present inventors, and is not limited to this in the present embodiment.

残水の酸性度を高くすると、残水中のケイ酸の重合の進行を抑制することができる。すると、水分が蒸発する過程で溶質濃度が増加してもコーヒーステイン現象が起こらず、溶媒が中央方向に流動する現象が観察された。そして、生成した水垢と基材との密着力は小さく、水垢を剥離し易いことが確認された。また、水垢の生成が抑制され、さらに生成した水垢を容易に除去できるという効果は、ケイ酸成分の水垢だけではなく、カルシウムイオン成分またはマグネシウムイオン成分の水垢に対しても得られる。   When the acidity of the residual water is increased, the progress of the polymerization of silicic acid in the residual water can be suppressed. Then, even if the solute concentration increased in the process of evaporating the water, the coffee stain phenomenon did not occur, and the phenomenon of the solvent flowing in the central direction was observed. And it was confirmed that the adhesion between the generated scale and the substrate is small, and the scale is easily peeled off. Further, the effect that the generation of scale is suppressed and the generated scale can be easily removed is obtained not only for the scale of the silicate component but also for the scale of the calcium ion component or the magnesium ion component.

金属イオンを含む酸性水の酸性度は、例えば約pH2.5〜5.0程度である。この範囲の酸性度を有する酸性水であれば、水を電解する電解槽(例えば図3参照)により酸性水の生成が可能である。そのため、例えば薬剤の補充等のメンテナンスが不要となる。また、酸性度が約pH2.5〜5.0程度の金属イオンを含む酸性水は、残水の酸性度を例えば約pH2.5〜5.0(好ましくはpH2.0〜5.0)程度に調整することができる。なお、酸性度としては、pH1.5〜5.5の範囲で調整できればよい。これによれば、ケイ酸の重合が抑制され、生成した水垢を容易に除去することができる。高い酸性度の水中に溶存するSiOは、モノマーまたはダイマーのような重合度の低い状態で主に存在するため、水分が蒸発しても重合が抑制されるものと考えられる。一方、酸性度がpH1.5よりも小さい水溶液および酸性度がpH5.5よりも大きい水溶液の中では、モノマーまたはダイマーの存在率は低い。つまり、ケイ酸は高分子化しているものと考えられる。 The acidity of acidic water containing metal ions is, for example, about pH 2.5 to 5.0. If it is acidic water which has the acidity of this range, the production | generation of acidic water is possible by the electrolytic cell (for example, refer FIG. 3) which electrolyzes water. Therefore, for example, maintenance such as replenishment of medicine becomes unnecessary. The acidic water containing metal ions having an acidity of about pH 2.5 to 5.0 has an acidity of the residual water of, for example, about pH 2.5 to 5.0 (preferably pH 2.0 to 5.0). Can be adjusted. In addition, as acidity, what is necessary is just to be able to adjust in the range of pH1.5-5.5. According to this, the polymerization of silicic acid is suppressed, and the generated scale can be easily removed. Since SiO 2 dissolved in water with high acidity is mainly present in a low degree of polymerization such as a monomer or dimer, it is considered that polymerization is suppressed even when moisture evaporates. On the other hand, in an aqueous solution having an acidity lower than pH 1.5 and an aqueous solution having an acidity higher than pH 5.5, the abundance of monomer or dimer is low. That is, it is considered that silicic acid is polymerized.

酸性水に含まれる金属イオンは、例えば、アルミニウムイオン(Al3+)や銅イオン(Cu2+)などである。このような金属イオンは、酸性水に添加されると、生成した水垢においてケイ酸(SiO)分子の間に介在する。そして、洗浄等により水が供給されると金属イオンが溶出する。すると、ケイ酸凝集体をより脆弱化させ、水垢を容易に除去できるようになると考えられる。金属イオンの添加量は、残水に対し0.1ppm程度とされ、好ましくは1.0〜5.0ppm程度である。 The metal ions contained in the acidic water are, for example, aluminum ions (Al 3+ ) and copper ions (Cu 2+ ). When such metal ions are added to acidic water, they intervene between silicic acid (SiO 2 ) molecules in the generated scale. When water is supplied by washing or the like, metal ions are eluted. Then, it is considered that the silicic acid aggregate becomes more brittle and the scale can be easily removed. The amount of metal ions added is about 0.1 ppm, preferably about 1.0 to 5.0 ppm with respect to the residual water.

次に、本実施形態にかかるトイレ装置10について、図面を参照しつつさらに説明する。
図3は、本実施形態にかかるトイレ装置の要部構成を表すブロック図である。
また、図4は、本実施形態の電解槽および金属イオン水生成部を例示する断面模式図である。
なお、図3は、水路系と電気系の要部構成を併せて表している。また、図4(a)は、本実施形態の電解槽を例示する。図4(b)は、本実施形態の金属イオン水生成部を例示する。
Next, the toilet apparatus 10 according to the present embodiment will be further described with reference to the drawings.
FIG. 3 is a block diagram illustrating a main configuration of the toilet apparatus according to the present embodiment.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view illustrating the electrolytic cell and the metal ion water generator of this embodiment.
In addition, FIG. 3 represents together the principal part structure of the waterway system and the electrical system. Moreover, Fig.4 (a) illustrates the electrolytic cell of this embodiment. FIG.4 (b) illustrates the metal ion water production | generation part of this embodiment.

図3に表したように、本実施形態にかかるトイレ装置10が備える衛生洗浄装置100は、給水手段401から供給された水をおしり洗浄ノズル439や噴霧ノズル481に導く主流路23を有する。主流路23の上流側には、バルブ413および熱交換器ユニット415が設けられている。バルブ413は、開閉可能な電磁バルブであり、ケーシング400の内部に設けられた制御部411からの指令に基づいて水の供給を制御する。熱交換器ユニット415は、図示しない温水ヒータを有し、供給された水を加熱して所定の温水にする。   As illustrated in FIG. 3, the sanitary washing device 100 included in the toilet device 10 according to the present embodiment includes the main flow path 23 that guides the water supplied from the water supply unit 401 to the buttocks washing nozzle 439 and the spray nozzle 481. A valve 413 and a heat exchanger unit 415 are provided on the upstream side of the main flow path 23. The valve 413 is an electromagnetic valve that can be opened and closed, and controls the supply of water based on a command from the control unit 411 provided in the casing 400. The heat exchanger unit 415 has a hot water heater (not shown), and heats the supplied water to make predetermined hot water.

バルブ413および熱交換器ユニット415の下流には、第1の流路切替弁417が設けられている。第1の流路切替弁417は、おしり洗浄ノズル439や噴霧ノズル481への給水の開閉や切替を行う。主流路23は、第1の流路切替弁417により、おしり洗浄ノズル439へ洗浄水などを導く第1の流路25と、噴霧ノズル481へ洗浄水やケイ酸成分重合抑制剤などを導く第2の流路27と、に分岐される。   A first flow path switching valve 417 is provided downstream of the valve 413 and the heat exchanger unit 415. The first flow path switching valve 417 opens, closes and switches water supply to the buttocks washing nozzle 439 and the spray nozzle 481. The main flow path 23 includes a first flow path 25 that guides cleaning water and the like to the buttocks cleaning nozzle 439 by a first flow path switching valve 417, and a first flow path that guides cleaning water and a silicic acid component polymerization inhibitor to the spray nozzle 481. Branches into two flow paths 27.

第2の流路27の上流側には、電解槽(ケイ酸成分重合抑制手段)420が設けられている。電解槽420は、酸性水およびアルカリ水を生成することができる。ここで、電解槽420について、図面を参照しつつさらに説明する。   On the upstream side of the second flow path 27, an electrolytic cell (silicic acid component polymerization suppression means) 420 is provided. The electrolytic cell 420 can generate acidic water and alkaline water. Here, the electrolytic cell 420 will be further described with reference to the drawings.

図4(a)に表したように、本実施形態の電解槽420は、その内部に陽極板424および陰極板425を有し、制御部411からの通電の制御によって、陽極板424と、陰極板425と、の間の空間(流路)を流れる水道水を電気分解できる。この際、陰極板425においては酸(H)が消費され、陰極板425の近傍ではpHが上昇する。すなわち、陰極板425の近傍では、アルカリ水が生成される。一方、陽極板424においてはアルカリ(OH)が消費され、陽極板424の近傍ではpHが下降する。すなわち、陽極板424の近傍では、酸性水が生成される。 As shown in FIG. 4A, the electrolytic cell 420 of this embodiment has an anode plate 424 and a cathode plate 425 inside, and the anode plate 424 and the cathode are controlled by controlling the energization from the control unit 411. The tap water flowing through the space (flow path) between the plate 425 can be electrolyzed. At this time, acid (H + ) is consumed in the cathode plate 425, and the pH increases in the vicinity of the cathode plate 425. That is, alkaline water is generated in the vicinity of the cathode plate 425. On the other hand, alkali (OH ) is consumed in the anode plate 424, and the pH decreases in the vicinity of the anode plate 424. That is, acidic water is generated near the anode plate 424.

図3に戻って説明すると、電解槽420において生成された酸性水およびアルカリ水は、電解槽420の下流に設けられた第2の流路切替弁431へ互いに異なる流路でそれぞれ導かれる。第2の流路切替弁431は、電解槽420から供給された酸性水を、第2の流路切替弁431の下流に設けられた金属イオン水生成部(ケイ酸成分重合抑制手段)440へ導く。一方、第2の流路切替弁417は、電解槽420から供給されたアルカリ水を排水として下水へ流す。あるいは、第2の流路切替弁417は、本実施形態の水垢抑制効果を阻害しない範囲内において電解槽420から供給されたアルカリ水を便器800へ流してもよい。   Returning to FIG. 3, the acidic water and alkaline water generated in the electrolytic cell 420 are respectively guided to the second flow channel switching valve 431 provided downstream of the electrolytic cell 420 through mutually different channels. The second flow path switching valve 431 supplies the acidic water supplied from the electrolytic cell 420 to the metal ion water generation unit (silicic acid component polymerization suppression means) 440 provided downstream of the second flow path switching valve 431. Lead. On the other hand, the second flow path switching valve 417 causes the alkaline water supplied from the electrolytic cell 420 to flow into the sewage as waste water. Or the 2nd flow-path switching valve 417 may flow the alkaline water supplied from the electrolytic cell 420 to the toilet bowl 800 within the range which does not inhibit the scale control effect of this embodiment.

電解槽420において炭酸カルシウムなどのスケールが生成されることを抑制するため、制御部411は、陽極板424および陰極板425を切り替える極性反転(ポールチェンジ(PC))を行うことがある。すると、第2の流路切替弁431が設けられていない場合には、酸性水およびアルカリ水をそれぞれ導く流路が互いに入れ替わり、アルカリ水が金属イオン水生成部へ導かれてしまう。そのため、第2の流路切替弁431は、電解槽420において極性反転が行われた場合に、流路を切り替えて酸性水を金属イオン水生成部へ導く機能を有する。   In order to suppress the generation of scale such as calcium carbonate in the electrolytic cell 420, the control unit 411 may perform polarity reversal (pole change (PC)) for switching between the anode plate 424 and the cathode plate 425. Then, when the second flow path switching valve 431 is not provided, the flow paths for guiding the acidic water and the alkaline water are interchanged with each other, and the alkaline water is guided to the metal ion water generator. Therefore, the second flow path switching valve 431 has a function of switching the flow path to guide the acidic water to the metal ion water generating unit when polarity inversion is performed in the electrolytic cell 420.

ここで、金属イオン水生成部440について、図面を参照しつつ説明する。
本実施形態では、金属イオン水生成部440において溶解する金属イオンがアルミニウムイオン(Al3+)である場合を例に挙げて説明する。
Here, the metal ion water production | generation part 440 is demonstrated, referring drawings.
In the present embodiment, the case where the metal ions dissolved in the metal ion water generating unit 440 are aluminum ions (Al 3+ ) will be described as an example.

図4(b)に表したように、本実施形態の金属イオン水生成部440は、タンク441と、タンク441内に設置されたアルミニウム443と、を有する。電解槽420から第2の流路切替弁431を介して供給された酸性水は、タンク441内に貯留される。そして、タンク441内に設置されたアルミニウム443は、タンク441内に貯留された酸性水により浸漬された状態となっている。   As illustrated in FIG. 4B, the metal ion water generation unit 440 of the present embodiment includes a tank 441 and aluminum 443 installed in the tank 441. Acidic water supplied from the electrolytic cell 420 via the second flow path switching valve 431 is stored in the tank 441. The aluminum 443 installed in the tank 441 is in a state of being immersed in the acid water stored in the tank 441.

すると、酸性水に浸漬されたアルミニウム443は、例えば約1〜2時間かけて溶解(徐溶)する。これにより、タンク441内の酸性水は、アルミニウムイオンを含む酸性水となる。つまり、金属イオン水生成部440において、金属イオン(本実施形態ではAl3+)を含む酸性度の高い水溶液が生成される。 Then, the aluminum 443 immersed in acidic water dissolves (slow dissolution) over, for example, about 1 to 2 hours. Thereby, the acidic water in the tank 441 becomes acidic water containing aluminum ions. That is, in the metal ion water production | generation part 440, the highly acidic aqueous solution containing a metal ion ( Al3 + in this embodiment) is produced | generated.

図3に戻って説明すると、金属イオン水生成部440において生成されたアルミニウムイオンを含む酸性水は、噴霧用ポンプ(ケイ酸成分重合抑制手段)432により吸い上げられバキュームブレーカ(VB)433を介して流量調整弁437へ導かれる。流量調整弁437は、水勢(流量)の調整を行うとともに酸性水の供給先を噴霧ノズル481に設定し、その酸性水を噴霧ノズル481へ導く。噴霧ノズル481は、流量調整弁437から供給された酸性水をボウル801へ噴霧する。   Referring back to FIG. 3, the acidic water containing aluminum ions generated in the metal ion water generation unit 440 is sucked up by the spray pump (silicic acid component polymerization suppression means) 432 and passes through the vacuum breaker (VB) 433. It is guided to the flow rate adjustment valve 437. The flow rate adjustment valve 437 adjusts the water flow (flow rate), sets the supply destination of acidic water to the spray nozzle 481, and guides the acidic water to the spray nozzle 481. The spray nozzle 481 sprays acidic water supplied from the flow rate adjustment valve 437 to the bowl 801.

一方、第1の流路切替弁417において第1の流路25へ導かれた洗浄水は、電磁ポンプ435および流量調整弁437を介しておしり洗浄ノズル439へ導かれる。そして、洗浄水は、おしり洗浄ノズル439に設けられた図示しない吐水口から便座200に着座した使用者の「おしり」などへ向かって噴射される。   On the other hand, the wash water guided to the first flow path 25 by the first flow path switching valve 417 is guided to the wet cleaning nozzle 439 via the electromagnetic pump 435 and the flow rate adjustment valve 437. Then, the washing water is jetted from a water outlet (not shown) provided in the butt washing nozzle 439 toward the “butt” of the user seated on the toilet seat 200.

また、図3に表したように、本実施形態の衛生洗浄装置100は、入室検知センサ(人体検知センサA)451と、人体検知センサ(人体検知センサB)453と、着座検知センサ455と、便蓋開閉検知センサ457と、を有する。   As shown in FIG. 3, the sanitary washing device 100 of the present embodiment includes an entrance detection sensor (human body detection sensor A) 451, a human body detection sensor (human body detection sensor B) 453, a seating detection sensor 455, And a toilet lid opening / closing detection sensor 457.

入室検知センサ451は、トイレ室のドアを開けて入室した直後の使用者や、トイレ室に入室しようとしてドアの前に存在する使用者を検知することができる。つまり、入室検知センサ451は、トイレ室に入室した使用者だけではなく、トイレ室に入室する前の使用者、すなわちトイレ室の外側のドアの前に存在する使用者を検知することができる。このような入室検知センサ451としては、焦電センサや、ドップラーセンサなどのマイクロ波センサなどを用いることができる。マイクロ波のドップラー効果を利用したセンサや、マイクロ波を送信し反射したマイクロ波の振幅(強度)に基づいて被検知体を検出するセンサなどを用いた場合、トイレ室のドア越しに使用者の存在を検知することが可能となる。つまり、トイレ室に入室する前の使用者を検知することができる。   The entrance detection sensor 451 can detect a user immediately after opening a toilet room door or entering a toilet room and a user existing in front of the door. That is, the entrance detection sensor 451 can detect not only the user who entered the toilet room, but also the user before entering the toilet room, that is, the user existing in front of the door outside the toilet room. As such an entrance detection sensor 451, a pyroelectric sensor, a microwave sensor such as a Doppler sensor, or the like can be used. When using a sensor that uses the microwave Doppler effect or a sensor that detects the object to be detected based on the amplitude (intensity) of the microwave transmitted and reflected, the user's The presence can be detected. That is, the user before entering the toilet room can be detected.

人体検知センサ453は、便器800の前方にいる使用者、すなわち便座200から前方へ離間した位置に存在する使用者を検知することができる。つまり、人体検知センサ453は、トイレ室に入室して便座200に近づいてきた使用者を検知することができる。このような人体検知センサ453としては、例えば、赤外線投受光式の測距センサなどを用いることができる。   The human body detection sensor 453 can detect a user who is in front of the toilet bowl 800, that is, a user who is present at a position spaced forward from the toilet seat 200. That is, the human body detection sensor 453 can detect a user who enters the toilet room and approaches the toilet seat 200. As such a human body detection sensor 453, for example, an infrared light projecting / receiving distance measuring sensor or the like can be used.

着座検知センサ455は、使用者が便座200に着座する直前において便座200の上方に存在する人体や、便座200に着座した使用者を検知することができる。すなわち、着座検知センサ455は、便座200に着座した使用者だけではなく、便座200の上方に存在する使用者を検知することができる。このような着座検知センサ455としては、例えば、赤外線投受光式の測距センサなどを用いることができる。   The seating detection sensor 455 can detect a human body existing above the toilet seat 200 immediately before the user sits on the toilet seat 200 and a user seated on the toilet seat 200. That is, the seating detection sensor 455 can detect not only a user seated on the toilet seat 200 but also a user existing above the toilet seat 200. As such a seating detection sensor 455, for example, an infrared light projecting / receiving type distance measuring sensor or the like can be used.

便蓋開閉検知センサ457は、便蓋300の開閉状態を検知することができる。便蓋開閉検知センサ457としては、例えば、ホールICと磁石との組み合わせ、またはマイクロスイッチなどを用いることができる。
制御部411は、入室検知センサ451や、人体検知センサ453や、着座検知センサ455や、便蓋開閉検知センサ457などからの信号に基づいて、電解槽420や、噴霧用ポンプ432や、流量調整弁437などの動作を制御することができる。
The toilet lid opening / closing detection sensor 457 can detect the opened / closed state of the toilet lid 300. As the toilet lid opening / closing detection sensor 457, for example, a combination of a Hall IC and a magnet, a micro switch, or the like can be used.
The control unit 411 controls the electrolytic bath 420, the spray pump 432, and the flow rate adjustment based on the signals from the entrance detection sensor 451, the human body detection sensor 453, the seating detection sensor 455, the toilet lid opening / closing detection sensor 457, and the like. The operation of the valve 437 and the like can be controlled.

次に、本実施形態にかかるトイレ装置10の動作の具体例について、図面を参照しつつ説明する。
図5は、本実施形態にかかるトイレ装置の動作の具体例を例示するタイミングチャートである。
Next, a specific example of the operation of the toilet apparatus 10 according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 5 is a timing chart illustrating a specific example of the operation of the toilet apparatus according to this embodiment.

まず、入室検知センサ(人体検知センサA)451がトイレ室に入室した使用者を検出する前においては、UV光源483が定期的に所定時間だけ紫外線をボウル801に照射する(タイミングt1以前)。これは、前述したように、ボウル801の表面の光触媒を活性化させるため、あるいは光触媒の活性を維持するためである。   First, before the entrance detection sensor (human body detection sensor A) 451 detects a user entering the toilet room, the UV light source 483 periodically irradiates the bowl 801 with ultraviolet rays for a predetermined time (before timing t1). As described above, this is for activating the photocatalyst on the surface of the bowl 801 or maintaining the activity of the photocatalyst.

続いて、入室検知センサ451がトイレ室に入室した使用者を検知すると、便蓋300が開き、バルブ413が開き、第1の流路切替弁417が第2の流路27の側に切り替えられ、第2の流路切替弁431が金属イオン水生成部440の側に切り替えられる(タイミングt1)。また、金属イオン水生成部440のタンク441から洗浄水(上水)あるいは酸性水を吸い上げる噴霧用ポンプ432の動作が開始する(タイミングt1)。これにより、上水がボウル801の表面に噴霧される。このように、使用者が便器800を使用する前に、ボウル801の表面を濡らすことで、ボウル801の表面に付着する汚物を軽減させることができる。   Subsequently, when the room detection sensor 451 detects a user who has entered the toilet room, the toilet lid 300 is opened, the valve 413 is opened, and the first flow path switching valve 417 is switched to the second flow path 27 side. The second flow path switching valve 431 is switched to the metal ion water generator 440 side (timing t1). In addition, the operation of the spray pump 432 that sucks up the cleaning water (clean water) or the acidic water from the tank 441 of the metal ion water generation unit 440 starts (timing t1). Thereby, clean water is sprayed on the surface of the bowl 801. In this way, the filth attached to the surface of the bowl 801 can be reduced by wetting the surface of the bowl 801 before the user uses the toilet bowl 800.

なお、図5に表した「電解槽」の欄の破線のように、入室検知センサ451がトイレ室に入室した使用者を検出したときに、電解槽420への通電が開始され、酸性水が生成されてもよい(タイミングt1)。この場合には、酸性水(あるいは金属イオンを含む酸性水)がボウル801の表面に噴霧される。これによれば、ボウル801の表面に付着する汚物や水垢をさらに軽減させることができる。   As indicated by the broken line in the “electrolysis tank” column shown in FIG. 5, when the room detection sensor 451 detects a user who has entered the toilet room, energization of the electrolysis tank 420 is started, and the acidic water is discharged. It may be generated (timing t1). In this case, acidic water (or acidic water containing metal ions) is sprayed on the surface of the bowl 801. According to this, dirt and scale adhering to the surface of the bowl 801 can be further reduced.

続いて、人体検知センサ(人体検知センサB)453が便器800の前方にいる使用者を検知すると、バルブ413が閉じ、第1の流路切替弁417が第1の流路25の側に切り替えられ、第2の流路切替弁431が排水側に切り替えられる(タイミングt2)。続いて、着座検知センサ455が使用者の便座200からの離座を検知して(タイミングt3)から例えば約5秒程度が経過すると、便器洗浄が開始される(タイミングt5)。便器洗浄の動作は、例えば図2に関して前述した如くである。   Subsequently, when the human body detection sensor (human body detection sensor B) 453 detects a user in front of the toilet bowl 800, the valve 413 is closed and the first flow path switching valve 417 is switched to the first flow path 25 side. The second flow path switching valve 431 is switched to the drain side (timing t2). Subsequently, when about 5 seconds elapse, for example, after the seating detection sensor 455 detects that the user has left the toilet seat 200 (timing t3), toilet cleaning is started (timing t5). The operation of toilet flushing is, for example, as described above with reference to FIG.

続いて、便器洗浄が終了して(タイミングt6)から所定時間Tが経過すると、バルブ413が開き、第1の流路切替弁417が第2の流路27の側に切り替えられ、第2の流路切替弁431が金属イオン水生成部440の側に切り替えられる(タイミングt7)。また、電解槽420への通電が開始され、噴霧用ポンプ432の動作が開始する(タイミングt7)。これにより、金属イオンを含む酸性水がボウル801の表面に噴霧される。   Subsequently, when the predetermined time T has elapsed since the toilet cleaning was completed (timing t6), the valve 413 is opened, the first flow path switching valve 417 is switched to the second flow path 27 side, The flow path switching valve 431 is switched to the metal ion water generator 440 side (timing t7). Further, energization to the electrolytic cell 420 is started, and the operation of the spray pump 432 is started (timing t7). Thereby, acidic water containing metal ions is sprayed on the surface of the bowl 801.

便器洗浄が終了して(タイミングt6)から金属イオンを含む酸性水がボウル801の表面に噴霧される(タイミングt7)までの所定時間Tは、ボウル801の表面が乾燥しない時間、具体的には、例えば約30秒〜30分程度である。本発明者らが得た知見によれば、便器洗浄が終了してから約30分程度の時間の一例は、表面に釉薬層が形成された便器のボウルの表面が乾燥し始める時間である。これによれば、ケイ酸の重合を抑制し、生成した水垢を容易に除去することができる。   The predetermined time T from the end of toilet cleaning (timing t6) to the time when acidic water containing metal ions is sprayed on the surface of the bowl 801 (timing t7) is the time during which the surface of the bowl 801 is not dried. For example, about 30 seconds to 30 minutes. According to the knowledge obtained by the present inventors, an example of the time of about 30 minutes after the toilet cleaning is completed is the time when the surface of the bowl of the toilet bowl on which the glaze layer is formed starts to dry. According to this, the polymerization of silicic acid can be suppressed, and the generated scale can be easily removed.

このように、本具体例では、着座検知センサ455が使用者の便座200からの離座を検知し(タイミングt3)、且つ便器洗浄が終了して(タイミングt6)から所定時間Tが経過したとき(タイミングt7)に、金属イオンを含む酸性水がボウル801の表面に噴霧される。これにより、使用者が便座200に着座しているときに、金属イオンを含む酸性水が噴霧され使用者の臀部にかかることを回避できる。   As described above, in this specific example, when the seating detection sensor 455 detects that the user has left the toilet seat 200 (timing t3), and the predetermined time T has elapsed since the toilet cleaning was completed (timing t6). At (timing t7), acidic water containing metal ions is sprayed on the surface of the bowl 801. Thereby, when the user is seated on the toilet seat 200, it is possible to avoid the acidic water containing metal ions from being sprayed and applied to the user's buttocks.

続いて、人体検知センサ453が便器800の前方にいる使用者を検知しなくなって(タイミングt4)から例えば約90秒程度が経過すると、便蓋300が閉じ、UV光源483が定期的に所定時間だけ紫外線をボウル801に照射する(タイミングt8以降)。このように、本具体例では、金属イオンを含む酸性水の噴霧が開始された(タイミングt7)後に、UV光源483からの紫外線の照射を開始する(タイミングt8)。これによれば、ケイ酸成分の重合を抑制することができる。また、形成された水垢を清掃で容易に除去することができ、光触媒の活性を回復させることができる。   Subsequently, when about 90 seconds elapse, for example, after the human body detection sensor 453 no longer detects the user in front of the toilet 800 (timing t4), the toilet lid 300 is closed and the UV light source 483 is periodically turned on for a predetermined time. Only the ultraviolet ray is irradiated to the bowl 801 (after timing t8). Thus, in this specific example, after spraying of acidic water containing metal ions is started (timing t7), irradiation of ultraviolet rays from the UV light source 483 is started (timing t8). According to this, polymerization of the silicic acid component can be suppressed. Moreover, the formed scale can be easily removed by cleaning, and the activity of the photocatalyst can be recovered.

次に、本発明者らが行った実験について、図面を参照しつつ説明する。
図6は、紫外線の照射の有無による水垢生成の比較表である。
また、図7および図8は、本実験条件を説明するための模式図である。
Next, experiments conducted by the present inventors will be described with reference to the drawings.
FIG. 6 is a comparison table of scale generation depending on the presence or absence of ultraviolet irradiation.
7 and 8 are schematic diagrams for explaining the experimental conditions.

図8に表したように、本発明者らは、まず表面に光触媒層が形成されたタイル511を用意し傾斜させて配置した。続いて、制御部503によりバルブ505を開き、水源501から供給された洗浄水509を洗浄用吐水口507からシャワー状に約5秒間程度吐水させた。これにより、タイル511の表面に水膜が形成される。   As shown in FIG. 8, the present inventors first prepared a tile 511 having a photocatalyst layer formed on the surface, and arranged the tile 511 so as to be inclined. Subsequently, the control unit 503 opened the valve 505, and the cleaning water 509 supplied from the water source 501 was discharged from the cleaning water outlet 507 in a shower shape for about 5 seconds. Thereby, a water film is formed on the surface of the tile 511.

続いて、図7(a)に表したように、表面に水膜が形成された複数のタイル511のうちの第1のタイル511aについては、常温で約30分程度放置し表面を乾燥させた。一方、図7(b)に表したように、表面に水膜が形成された複数のタイル511のうちの第2のタイル511bについては、UV光源513から紫外線を第2のタイル511bの表面に照射させた状態で、常温で約30分程度放置し表面を乾燥させた。   Subsequently, as shown in FIG. 7A, the first tile 511a among the plurality of tiles 511 having a water film formed on the surface was allowed to stand at room temperature for about 30 minutes to dry the surface. . On the other hand, as shown in FIG. 7B, for the second tile 511b of the plurality of tiles 511 having a water film formed on the surface, ultraviolet light is emitted from the UV light source 513 to the surface of the second tile 511b. The surface was dried for about 30 minutes at room temperature in the irradiated state, and the surface was dried.

乾燥させた後の第1のタイル511aおよび第2のタイル511bの表面状態(水垢の生成状態)は、図6に表した如くである。図6に表した「写真」は、図8に表した範囲A1のタイルの表面を撮影したものである。図6に表した「水垢模式図」は、図6に表した「写真」におけるタイルの表面に生成された水垢を模式的に表したものである。   The surface states of the first tile 511a and the second tile 511b after the drying (the generation state of scale) are as shown in FIG. The “photograph” shown in FIG. 6 is a photograph of the surface of the tile in the range A1 shown in FIG. The “scale diagram” shown in FIG. 6 schematically shows the scale generated on the surface of the tile in the “photo” shown in FIG.

これによれば、第2のタイル511bの表面に生成された水垢の範囲は、第1のタイル511aの表面に生成された水垢の範囲よりも広い。そのため、水道水(上水)の水膜が形成されている状態で、その水膜に紫外線が照射されると、ケイ酸の重合が促進される、すなわち水垢が生成されやすいことが分かる。   According to this, the range of the scale produced | generated on the surface of the 2nd tile 511b is wider than the range of the scale produced | generated on the surface of the 1st tile 511a. Therefore, it can be seen that when a water film of tap water (clean water) is formed and the water film is irradiated with ultraviolet rays, the polymerization of silicic acid is promoted, that is, scale is easily generated.

図9は、金属イオンを含む酸性水の噴霧の有無による水垢除去性の評価結果の一例を例示する表である。
また、図10は、本実験条件を説明するための模式図である。
FIG. 9 is a table illustrating an example of the evaluation result of the scale removal property depending on the presence or absence of spraying of acidic water containing metal ions.
FIG. 10 is a schematic diagram for explaining the experimental conditions.

本実験の水垢除去性の試験については、以下の方法で行った。まず、本発明者らは、表面に光触媒層が形成されたタイル511を用意し、タイル511の分解活性の初期値を測定した。分解活性の値の測定については、JIS規格番号R1703−2(JIS規格名称:ファインセラミックス−光触媒材料のセルフクリーニング性能試験方法−第2部:湿式分解性能)で定められた方法により測定した。   The scale removal test of this experiment was conducted by the following method. First, the present inventors prepared a tile 511 having a photocatalytic layer formed on the surface, and measured the initial value of the decomposition activity of the tile 511. About the measurement of the value of decomposition activity, it measured by the method defined by JIS standard number R1703-2 (JIS standard name: Fine ceramics-Self-cleaning performance test method of photocatalyst material-Part 2: Wet decomposition performance).

続いて、図10に表したように、タイル511を傾斜させて配置した。続いて、制御部503により第1のバルブ505を開き、水源501から供給された洗浄水509を洗浄用吐水口507からシャワー状に約5秒間程度吐水させた。これにより、タイル511の表面に水膜が形成される。   Subsequently, as illustrated in FIG. 10, the tiles 511 are arranged to be inclined. Subsequently, the first valve 505 was opened by the control unit 503, and the cleaning water 509 supplied from the water source 501 was discharged from the cleaning water outlet 507 in a shower shape for about 5 seconds. Thereby, a water film is formed on the surface of the tile 511.

それから25秒後に、制御部503により第2のバルブ515を開き、金属イオン含有酸性水生成手段517により生成されたアルミニウムイオンを含む酸性水を噴霧ノズル519から約5秒間程度噴霧させた。これにより、タイル511に残った残水にアルミニウムイオンを含む酸性水が添加される。
続いて、タイル511を約25分程度放置し、タイル511の表面を乾燥させた。
25 seconds later, the second valve 515 was opened by the controller 503, and acidic water containing aluminum ions generated by the metal ion-containing acidic water generating means 517 was sprayed from the spray nozzle 519 for about 5 seconds. Thereby, acidic water containing aluminum ions is added to the residual water remaining on the tile 511.
Subsequently, the tile 511 was allowed to stand for about 25 minutes, and the surface of the tile 511 was dried.

金属イオン含有酸性水生成手段517により生成され噴霧ノズル519から噴霧される酸性水については、酸性度をpH3.5、4、4.5、5に調整した。また、それぞれの酸性度において、アルミニウムイオン濃度を0.5、1、3、5ppmに調整した。   About the acidic water produced | generated by the metal ion containing acidic water production | generation means 517 and sprayed from the spray nozzle 519, the acidity was adjusted to pH 3.5, 4, 4.5, and 5. In each acidity, the aluminum ion concentration was adjusted to 0.5, 1, 3, 5 ppm.

続いて、摺動試験を行う前に、タイル511の分解活性の値を再び測定した。続いて、タイル511を酸性洗剤(サンポール(登録商標):大日本除虫菊株式会社製)に約5分間程度浸漬させた。   Subsequently, before performing the sliding test, the value of the decomposition activity of the tile 511 was measured again. Subsequently, the tile 511 was immersed in an acidic detergent (Sunpaul (registered trademark): manufactured by Dainippon Insect Chrysanthemum Company) for about 5 minutes.

続いて、ラビングテスター(太平理化工業株式会社製)を使用して、以下の方法で摺動試験を行った。不織布スポンジであるスコッチブライト(登録商標)(SS−72K 住友3M株式会社製)を2cm角に切断したものを、両面テープを用いて不織布の部分が摺動面に当たるようにヘッドに接着したあと、蒸留水で濡らした。次いで、荷重50g/cmで10回数摺動させた。なお、荷重条件:50g/cmでの10回数の摺動は、通常の便器掃除の条件に相当する。 Then, the sliding test was done by the following method using the rubbing tester (made by Taihei Rika Kogyo Co., Ltd.). After bonding a non-woven sponge Scotch Bright (registered trademark) (SS-72K manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) to a 2 cm square, using a double-sided tape, adhere the non-woven fabric part to the head so that the non-woven fabric part hits the sliding surface Wet with distilled water. Subsequently, it was slid 10 times with a load of 50 g / cm 2 . In addition, 10 times of sliding at a load condition of 50 g / cm 2 corresponds to a normal toilet cleaning condition.

続いて、摺動試験を行った後に、タイル511の分解活性の値を再び測定した。評価は、以下の通りとした。

○:分解活性の回復率(摺動後の分解活性の値/分解活性の初期値)80%以上
×:分解活性の回復率(摺動後の分解活性の値/分解活性の初期値)80%未満
本実験の水垢除去性の試験結果の一例は、図9に表した如くである。なお、図9に表した表において、酸性度が「pH7」およびアルミニウムイオン濃度が「0ppm」の項目は、アルミニウムイオンを含む酸性水が噴霧されていないタイル511の評価結果を表している。
Subsequently, after performing a sliding test, the value of the decomposition activity of the tile 511 was measured again. Evaluation was as follows.

○: Recovery rate of decomposition activity (value of decomposition activity after sliding / initial value of decomposition activity) 80% or more ×: Recovery rate of decomposition activity (value of decomposition activity after sliding / initial value of decomposition activity) 80 Less than% An example of the test result of scale removal property of this experiment is as shown in FIG. In the table shown in FIG. 9, the items having an acidity of “pH 7” and an aluminum ion concentration of “0 ppm” represent the evaluation results of the tile 511 that is not sprayed with acidic water containing aluminum ions.

これによれば、アルミニウムイオンを含む酸性水が噴霧されていないタイル511の分解活性の回復率は、80%未満である。これに対し、アルミニウムイオンを含む酸性水が噴霧されたタイル511の分解活性の回復率は、80%以上のものを含む。また、アルミニウムイオン濃度が1、3、5ppmである場合には、酸性度がpH3.5である場合を除き、分解活性の回復率が80%以上を示した。これにより、酸性水に金属イオンが添加されると、光触媒層に形成されたケイ酸凝集体をより脆弱化させ、水垢を容易に除去できることが分かる。   According to this, the recovery rate of the decomposition activity of the tile 511 that is not sprayed with acidic water containing aluminum ions is less than 80%. On the other hand, the recovery rate of the decomposition activity of the tile 511 sprayed with acidic water containing aluminum ions includes 80% or more. Further, when the aluminum ion concentration was 1, 3, 5 ppm, the recovery rate of decomposition activity was 80% or more except when the acidity was pH 3.5. Thereby, when metal ion is added to acidic water, it turns out that the silicic acid aggregate formed in the photocatalyst layer becomes weaker, and scale can be removed easily.

図11は、水道水および酸性電解水の水質分析結果を表す表である。
また、図12〜図15は、本実験における水垢除去性の評価結果の一例を例示する表である。
FIG. 11 is a table showing the water quality analysis results of tap water and acidic electrolyzed water.
Moreover, FIGS. 12-15 is a table | surface which illustrates an example of the evaluation result of the scale removal property in this experiment.

以下の実施例では、表面に釉薬層を形成したタイル(5cm×5cm)、および下記に記載するpH調整水を試験液として用い、また対照として酸性電解水を用いて評価した。また、以下の実施例において行った摺動試験は以下の通りとした。   In the following examples, a tile (5 cm × 5 cm) having a glaze layer formed on the surface and pH adjusted water described below were used as test solutions, and acidic electrolyzed water was used as a control. The sliding tests conducted in the following examples were as follows.

通常の水道水に硝酸(試薬特級 和光純薬工業株式会社製)を添加し、pHを1〜6に調整した溶液をpH調整水とした。用いた水道水の水質分析結果を図11に示す。また、下記の組成の酸性電解水は電解水生成装置(TEK511 TOTO株式会社製)で作製した。   A solution prepared by adding nitric acid (reagent special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to normal tap water and adjusting the pH to 1 to 6 was used as pH adjusted water. The water quality analysis result of the used tap water is shown in FIG. Moreover, the acidic electrolyzed water of the following composition was produced with the electrolyzed water production | generation apparatus (made by TEK511 TOTO Corporation).

硝酸アルミニウム九水和物または硝酸銅六水和物(全て試薬特級 和光純薬工業株式会社製)を水道水に溶解し、各金属イオンが1000ppmになるように調整した溶液を金属イオン原液とした。この金属イオン原液を、pH調整水(pH1〜6)で希釈し、金属イオン濃度(0.1,0.5,1,5,10ppm)とpH(pH1〜6)を各々調整した溶液を金属イオン添加pH調整水とした。   A solution prepared by dissolving aluminum nitrate nonahydrate or copper nitrate hexahydrate (all reagent grade Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in tap water and adjusting each metal ion to 1000 ppm was used as the metal ion stock solution. . This metal ion stock solution is diluted with pH-adjusted water (pH 1 to 6), and a solution in which the metal ion concentration (0.1, 0.5, 1, 5, 10 ppm) and pH (pH 1 to 6) are adjusted is converted to metal. Ion added pH adjusted water.

摺動試験については、2.24cm角に切断したスコッチブライトを使用すること、水垢付着部をデジタルマイクロスコープ(VHX―900 株式会社キーエンス製)を用いて倍率100倍で観察を行うこと、および250gの錘を載せて(荷重条件:4.9kPa)10回数摺動させることを除き、図9および図10に関して前述した摺動試験と同様である。   For the sliding test, use a scotch bright cut to 2.24 cm square, observe the scale adhering portion with a digital microscope (VHX-900, manufactured by Keyence Corporation) at a magnification of 100 times, and 250 g. The sliding test is the same as that described above with reference to FIGS. 9 and 10 except that the weight is loaded (loading condition: 4.9 kPa) and is slid 10 times.

なお、荷重条件:4.9kPaでの10回数の摺動は、通常の便器掃除の条件に相当する。評価は以下の通りとした。

○:10回数摺動以内で水垢が除去された
×:50回数摺動でも水垢が残った
pH調整水の水垢除去性を以下の方法で評価した。まず、表面に釉薬層を形成したタイル(5cm×5cm)にpH調整水及び酸性電解水を20μL滴下した後、48時間常温で静置して水垢を乾燥付着させた。その後、摺動試験を行った。その結果は図12に示される通りであった。
In addition, 10 times of sliding at load conditions: 4.9 kPa is equivalent to the conditions for normal toilet cleaning. Evaluation was as follows.

○: Water scale was removed within 10 times sliding ×: Water scale remained even after 50 times sliding The water removability of pH adjusted water was evaluated by the following method. First, 20 μL of pH-adjusted water and acidic electrolyzed water were dropped on a tile (5 cm × 5 cm) having a glaze layer formed on the surface, and then allowed to stand at room temperature for 48 hours to dry and adhere scales. Thereafter, a sliding test was performed. The result was as shown in FIG.

硝酸アルミニウム九水和物を使用して調製したアルミニウムイオン添加pH調整水を試験液とした以外は、図12に関して前述した実施例と同様の方法で水垢除去性を評価した。その結果は図13に示される通りであった。   Scale removal property was evaluated in the same manner as in the example described above with reference to FIG. 12 except that aluminum ion-added pH-adjusted water prepared using aluminum nitrate nonahydrate was used as a test solution. The result was as shown in FIG.

硝酸銅六水和物を使用して調製した銅イオン添加pH調整水を試験液とした以外は、図12に関して前述した実施例と同様の方法で水垢除去性を評価した。その結果は図14に示される通りであった。   Scale removal property was evaluated in the same manner as in the example described above with reference to FIG. 12 except that copper ion-added pH-adjusted water prepared using copper nitrate hexahydrate was used as a test solution. The result was as shown in FIG.

硝酸アルミニウム九水和物または硝酸銅六水和物(全て試薬特級 和光純薬工業株式会社製)を使用して調製した各種金属イオン原液を市販の電解水生成装置(TEK511 TOTO株式会社製)で生成した酸性電解水に適量添加し、狙いの金属イオン濃度(0.1,0.5,1,5,10ppm)に希釈したものを金属イオン添加酸性電解水とする。なお、用いた酸性電解水の水質分析結果を図11に示す。
金属イオン添加酸性電解水を試験液とした以外は、図12に関して前述した実施例と同様の方法で水垢除去性を評価した。その結果は図15に示される通りであった。
Various metal ion stock solutions prepared using aluminum nitrate nonahydrate or copper nitrate hexahydrate (all made by reagent grade Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) can be obtained with a commercially available electrolyzed water generator (TEK511 TOTO Co., Ltd.). An appropriate amount is added to the generated acidic electrolyzed water, and diluted to the target metal ion concentration (0.1, 0.5, 1, 5, 10 ppm) is used as the metal ion-added acidic electrolyzed water. In addition, the water quality analysis result of the used acidic electrolyzed water is shown in FIG.
Except for using metal ion-added acidic electrolyzed water as a test solution, the scale removal property was evaluated in the same manner as in the example described above with reference to FIG. The result was as shown in FIG.

以上、図11〜図15に関して前述した実験結果によれば、pHを約2.0〜5.0程度に調整した酸性水および金属イオン(本実施では、Al3+、Cu2+)を含む酸性水が蒸発して生成された水垢については、水垢除去性が良好であることが分かった。 As described above, according to the experimental results described above with reference to FIGS. 11 to 15, the acidic water containing acid water and metal ions (Al 3+ , Cu 2+ ) whose pH is adjusted to about 2.0 to 5.0 is used. It was found that the scale generated by evaporation of the scale is good in scale removal.

以上、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明はこれらの記述に限定されるものではない。前述の実施の形態に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。例えば、トイレ装置10および衛生洗浄装置100などが備える各要素の形状、寸法、材質、配置などや噴霧ノズル481およびUV光源483の設置形態などは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。
また、本実施形態では、便器が洋式腰掛便器(大便器)である場合を例に挙げて説明したが、本実施形態の便器の範囲には小便器も含まれる。
また、前述した各実施の形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
The embodiment of the present invention has been described. However, the present invention is not limited to these descriptions. As long as the features of the present invention are provided, those skilled in the art appropriately modified the design of the above-described embodiments are also included in the scope of the present invention. For example, the shape, size, material, arrangement, etc. of each element included in the toilet device 10 and the sanitary washing device 100 and the installation form of the spray nozzle 481 and the UV light source 483 are not limited to those illustrated, but may be changed as appropriate. can do.
Further, in the present embodiment, the case where the toilet bowl is a Western-style toilet bowl (toilet bowl) has been described as an example, but the range of the toilet bowl of this embodiment includes a urinal.
Moreover, each element with which each embodiment mentioned above is provided can be combined as long as technically possible, and the combination of these is also included in the scope of the present invention as long as it includes the features of the present invention.

10 トイレ装置、 23 主流路、 25 第1の流路、 27 第2の流路、 100 衛生洗浄装置、 200 便座、 300 便蓋、 400 ケーシング、 401 給水手段、 411 制御部、 413 バルブ、 415 熱交換器ユニット、 417 第1の流路切替弁、 420 電解槽、 424 陽極板、 425 陰極板、 431 第2の流路切替弁、 432 噴霧用ポンプ、 433 バキュームブレーカ、 435 電磁ポンプ、 437 流量調整弁、 439 洗浄ノズル、 440 金属イオン水生成部、 441 タンク、 443 アルミニウム、 451 入室検知センサ、 453 人体検知センサ、 455 着座検知センサ、 457 便蓋開閉検知センサ、 481 噴霧ノズル、 483 UV光源、 501 水源、 503 制御部、 505 バルブ(第1のバルブ)、 507 洗浄用吐水口、 509 洗浄水、 511 タイル、 511a 第1のタイル、 511b 第2のタイル、 513 UV光源、 515 第2のバルブ、 517 金属イオン含有酸性水生成手段、 519 噴霧ノズル、 800 便器、 801 ボウル、 803 トラップ、 805 溜水、 811 ボウル給水口、 813 トラップ給水口   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Toilet apparatus, 23 Main flow path, 25 1st flow path, 27 2nd flow path, 100 Sanitary washing apparatus, 200 Toilet seat, 300 Toilet lid, 400 Casing, 401 Water supply means, 411 Control part, 413 Valve, 415 Heat Exchanger unit, 417 first flow path switching valve, 420 electrolytic cell, 424 anode plate, 425 cathode plate, 431 second flow path switching valve, 432 spray pump, 433 vacuum breaker, 435 electromagnetic pump, 437 flow rate adjustment Valve, 439 Washing nozzle, 440 Metal ion water generation unit, 441 Tank, 443 Aluminum, 451 Entrance detection sensor, 453 Human body detection sensor, 455 Seating detection sensor, 457 Toilet lid opening / closing detection sensor, 481 Spray nozzle, 483 UV light source, 501 Water source, 503 control unit, 505 bar Lub (first bulb), 507 water outlet for washing, 509 washing water, 511 tile, 511a first tile, 511b second tile, 513 UV light source, 515 second bulb, 517 generation of acid water containing metal ions Means, 519 spray nozzle, 800 toilet bowl, 801 bowl, 803 trap, 805 pooled water, 811 bowl water inlet, 813 trap water inlet

Claims (4)

ボウルを有し前記ボウルの表面に光触媒層が形成された便器と、
前記ボウルの表面に洗浄水を供給する給水手段と、
前記光触媒層に紫外線を含む光を照射する光照射手段と、
前記ボウルの表面に残った洗浄水中のケイ酸成分の重合を抑制するケイ酸成分重合抑制剤を前記ボウルの表面に残った洗浄水に添加するケイ酸成分重合抑制手段と、
前記ケイ酸成分重合抑制手段の動作を開始した後に前記紫外線を含む光の照射を開始する制御を実行する制御部と、
を備えたことを特徴とするトイレ装置。
A toilet having a bowl and a photocatalyst layer formed on the surface of the bowl;
Water supply means for supplying cleaning water to the surface of the bowl;
A light irradiation means for irradiating the photocatalyst layer with light containing ultraviolet rays;
A silicic acid component polymerization inhibiting means for adding a silicic acid component polymerization inhibitor that inhibits polymerization of the silicic acid component in the washing water remaining on the surface of the bowl to the washing water remaining on the surface of the bowl;
A control unit that executes control to start irradiation of light including the ultraviolet rays after starting the operation of the silicic acid component polymerization suppressing unit;
A toilet apparatus characterized by comprising:
前記ケイ酸成分重合抑制剤は、金属イオンを含む酸性水であることを特徴とする請求項1記載のトイレ装置。   The toilet apparatus according to claim 1, wherein the silicic acid component polymerization inhibitor is acidic water containing metal ions. 前記酸性水の酸性度は、pH2.5〜5.0であることを特徴とする請求項2記載のトイレ装置。   The toilet apparatus according to claim 2, wherein the acidity of the acidic water is pH 2.5 to 5.0. 前記金属イオンは、Al3+およびCu2+の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項2または3に記載のトイレ装置。 The toilet device according to claim 2 or 3, wherein the metal ions include at least one of Al 3+ and Cu 2+ .
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