JP5820993B2 - Electromagnet device and electromagnetic relay using the same - Google Patents
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Description
本発明は、電磁石装置およびこれを用いた電磁リレーに関する。 The present invention relates to an electromagnet device and an electromagnetic relay using the same.
従来、電磁石装置として、コイルが巻回されたアーマチュアと、アーマチュアの両端部両面に対向して配置された一対の継鉄と、両継鉄間に挟持された永久磁石と、を備えたものが知られている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, as an electromagnet device, an armature provided with an armature around which a coil is wound, a pair of yokes arranged to face both ends of the armature, and a permanent magnet sandwiched between both yokes It is known (see, for example, Patent Document 1).
この特許文献1では、一方の継鉄を当該一方の継鉄の長手方向中央部で2分割するとともに、永久磁石を2分割している。そして、2つの永久磁石により生じる磁力を等しくさせたり異ならせたりすることで、継鉄とアーマチュアの吸引力特性を調整し、ラッチング動作またはシングルステイブル動作を行うことができるようにしている。
In
しかしながら、上記従来の電磁石装置のように、永久磁石の磁力調整によって継鉄とアーマチュアの吸引力特性の調整を行う構造では、多様な吸引力特性を得ることが難しかった。 However, in the structure in which the attractive force characteristics of the yoke and the armature are adjusted by adjusting the magnetic force of the permanent magnet as in the conventional electromagnet device, it is difficult to obtain various attractive force characteristics.
そこで、本発明は、より容易に多様な吸引力特性を得ることのできる電磁石装置およびこれを用いた電磁リレーを得ることを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to obtain an electromagnet device that can easily obtain various attractive force characteristics and an electromagnetic relay using the same.
本発明にあっては、コイルと、前記コイル内部に摺動可能に挿通され、両端部が突き出た状態で保持されたアーマチュアと、前記アーマチュアに対向して配置された一対の継鉄と、前記一対の継鉄に挟持された永久磁石と、を備える電磁石装置であって、前記一対の継鉄のうちいずれか一方の継鉄の前記永久磁石に接触する部分に磁束通過抵抗部を設け、前記一方の継鉄の前記磁束通過抵抗部の一方側における永久磁石との接触面積と他方側における永久磁石との接触面積とが異なるようにし、前記アーマチュアに形成された支点部が前記一対の継鉄にそれぞれ形成された支承部の間に配置されており、前記支点部が常に前記一方の継鉄の支承部に接触し、前記支点部と前記他方の継鉄の支承部との間に所定のギャップが形成されていることを主な特徴とする。
In the present invention, a coil, an armature that is slidably inserted into the inside of the coil, and is held in a state where both ends protrude, a pair of yokes arranged to face the armature, A permanent magnet sandwiched between a pair of yokes, wherein a magnetic flux passage resistance portion is provided in a portion of the pair of yokes that contacts the permanent magnet, The contact area with the permanent magnet on one side of the magnetic flux passage resistance portion of one yoke is different from the contact area with the permanent magnet on the other side , and the fulcrum portion formed on the armature is the pair of yokes. Are arranged between the support portions formed respectively, and the fulcrum portion is always in contact with the support portion of the one yoke, and a predetermined interval is provided between the fulcrum portion and the support portion of the other yoke. that the gap is formed The main feature.
本発明によれば、一対の継鉄のうちいずれか一方の継鉄の永久磁石に接触する部分に磁束通過抵抗部を設け、一方の継鉄の磁束通過抵抗部の一方側における永久磁石との接触面積と他方側における永久磁石との接触面積とが異なるようにした。このように、磁束通過抵抗部の一方側と他方側での永久磁石との接触面積を異ならせることで、継鉄とアーマチュアの吸引力特性の調整を行うことができ、より容易に多様な吸引力特性を得ることができる。 According to the present invention, a magnetic flux passage resistance portion is provided in a portion that contacts the permanent magnet of one of the pair of yokes, and the permanent magnet on one side of the magnetic flux passage resistance portion of one of the yokes The contact area and the contact area with the permanent magnet on the other side were made different. In this way, by adjusting the contact area between the permanent magnets on one side and the other side of the magnetic flux passage resistance part, the attractive force characteristics of the yoke and armature can be adjusted, making it easier and more diverse Force characteristics can be obtained.
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の複数の実施形態には、同様の構成要素が含まれている。よって、以下では、それら同様の構成要素には共通の符号を付与するとともに、重複する説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that similar components are included in the following embodiments. Therefore, in the following, common reference numerals are given to those similar components, and redundant description is omitted.
(第1実施形態)
本実施形態にかかる電磁リレー100は、図1に示すように、電磁石ブロック(電磁石装置)1を用いて形成されている。
(First embodiment)
The
電磁石ブロック1は、細長い直方体状の永久磁石2と、永久磁石2の両極面(N極面とS極面)を挟んで対向配置される第1の継鉄3および第2の継鉄4(一対の継鉄)と、を備えている。さらに、電磁石ブロック1は、第1の継鉄3および第2の継鉄4の両端部間に跨って配置されるアーマチュア(接極子)51と、アーマチュア51が挿通されるコイルブロック52と、を備えている。
The
また、電磁リレー100は、カード115、可動ばね116a、116b、可動接点117a,117bおよび固定接点118a、118bで構成される接点機構部を備えている。そして、これら接点機構部および電磁石ブロック(電磁石装置)1が樹脂製のベース110上に立設されている。なお、本実施形態では、電磁リレー100は、組立後の状態において、図示せぬカバーが被せられた箱体として形成される。
Further, the
コイルブロック52は、樹脂製の絶縁材からなる円筒状のコイルボビン(図示せず)に、コイルを所定回数巻回することで形成されている。そして、内部にアーマチュア51を挿通した状態で所定の電圧を印可することで電磁石を形成し、コイルの巻数とコイルに流れる電流の積に比例した磁束を発生する。
The
アーマチュア51は、電磁軟鉄等の磁性材料により長尺板状に形成されており、両端部が突き出た状態でコイルブロック52の内部に摺動可能に挿通されている(図1および図3参照)。また、アーマチュア51の両端部の両面が、図4に示すように、第1の継鉄3および第2の継鉄4の両端部にそれぞれ対向して配置されている。そして、このアーマチュア51は、コイルブロック52を励磁した際に、第1,第2の継鉄3、4および永久磁石2とともに磁路を形成して、第1の継鉄3または第2の継鉄4に吸引、離反されるものである。
The
具体的には、アーマチュア51の長手方向一端側(図2の左側)に、第1の継鉄3および第2の継鉄4に吸着される吸着部51bが形成されており、他端側(図2の右側)に、第1の継鉄3および第2の継鉄4に支承される支点部51aが形成されている。そして、支点部51aと吸着部51bとが一般部51cによって連結されている。
Specifically, an
本実施形態では、アーマチュア51の吸着部51bと一般部51cとが、ほぼ一定の厚さ(永久磁石2とアーマチュア51との並設方向における厚さ:図2の上下方向の厚さ)w2に形成されている。そして、支点部51aは、第1の支承部32および第2の支承部42の幅(アーマチュア51の長手方向幅)w3に略相当する幅をもって一般部51cよりも厚さ方向(図2の上下方向)両側に突出するように形成されている。このように、本実施形態では、アーマチュア51は、支点部51aから吸着部51bに至る全体形状が細長いT字形となっており、支点部51aの面積は吸着部51bよりも大きくなっている。
In the present embodiment, the attracting
また、アーマチュア51は、第1および第2の支承部32、42と第1および第2の吸引33、43との間に跨って配置される長さに形成されている。すなわち、アーマチュア51の支点部51aが第1の支承部32と第2の支承部42との間に配置されるとともに、吸着部51bが第1の吸引部33と第2の吸引部43との間に配置されるようにアーマチュア51が形成されている。
In addition, the
また、図2に示すように、アーマチュア51の後端部には、他の面より厚くなるような段差Bが形成されている。すなわち、アーマチュア51の支点部51aは、幅(第1,第2の継鉄3、4の並設方向の幅:第1,第2の継鉄3、4が互いに対向する方向の幅)が、吸着部51bおよび一般部51cよりも広くなるように形成されている。このような段差Bを形成することで、後端部における第2の継鉄4との間に大きなエアギャップを形成することができるようになる。なお、段差Bを設けないようにすることも可能である。
Also, as shown in FIG. 2, a step B is formed at the rear end of the
なお、本実施形態では、厚みt2(図4参照)が第1の継鉄3と第2の継鉄4との間の間隔Sよりも所定寸法だけ薄い板材をプレス成形することでアーマチュア51を形成している。
In the present embodiment, the
そして、アーマチュア51は、励磁状態を切り換える(コイルへの通電、遮断を切り替える)ことで、支点部51aを支点に、吸着部51bが第1の吸引部33および第2の吸引部43に交互に吸引されるようになっている。なお、コイルの巻回方向は、図5に示すように、励磁時にアーマチュア51の支点部51aがS極となり、吸着部51bがN極となるように設定されている。
Then, the
さらに、本実施形態では、励磁状態の切り換えによりアーマチュア51の吸着部51bを第1の吸引部33と第2の吸引部43とに交互に吸引させる際に、アーマチュア51の支点部51aが常に第1の支承部32に接触した状態で保持されるようにしている。このとき、支点部51aと第2の支承部42との間には所定のギャップδ1が設けられることになる。また、アーマチュア51の吸着部51bが第1の吸引部33に吸引されて接触した状態では、吸着部51bと第2の吸引部43との間に所定のギャップδ2が設けられる。同様に、吸着部51bが第2の吸引部43に吸引されて接触した状態では、吸着部51bと第1の吸引部33との間にギャップδ2が設けられることになる。
Furthermore, in this embodiment, when the
第1および第2の継鉄3,4は、電磁軟鉄等の磁性材料により略U字状に形成されており、両端部を磁極部としてアーマチュア51の両端部に対向して配置され(図4参照)、コイルブロック52を励磁することで発生する磁束の磁路を形成する。このとき、可動ばね116a,116bのばね負荷力(図6参照)との整合をとることで、両端部でアーマチュア51を吸引して、可動接点117a、117bと固定接点118a,118bの当接、および離隔を行う。
The first and
本実施形態では、第1の継鉄3は、図3(b)に示すように、永久磁石2のS極面に沿って延びるほぼ一定幅w1の第1主幹部31を備えている。さらに、第1の継鉄3は、第1主幹部31の一端部31aからほぼ直角に一方向(図3(b)の上方)に突出する第1の支承部32と、第1主幹部31の他端部31bからほぼ直角に第1の支承部32と同方向に突出する第1の吸引部33と、を備えている。このように、本実施形態では、第1の継鉄3は、第1主幹部31、第1の支承部32および第1の吸引部33とで略U字状に形成されている。また、この第1の継鉄3は、永久磁石2の両極方向に対して直交する方向、つまり、永久磁石2の着磁面に沿った長手方向(図3(b)の左右方向)に長くなっている。
In the present embodiment, the
そして、第2の継鉄4は、第1の継鉄3とほぼ同一の形状をしている。すなわち、第2の継鉄4は、永久磁石2のN極面に沿って延びるほぼ一定幅w1となる第2主幹部41と、この第2主幹部41の一端部41aからほぼ直角に突出する第2の支承部42と、第2主幹部41の他端部41bから同方向に突出する第2の吸引部43とで略U字状に形成されている。
The
なお、第1主幹部31および第2主幹部41の幅w1は、永久磁石2の幅(図5の上下方向寸法)よりも若干大きくなっており、永久磁石2を包含できるようにしている。また、第1および第2の継鉄3、4の吸引部33、43は、それぞれの支承部32、42よりも幅広に形成されている。
The width w1 of the first
そして、永久磁石2の両極を挟んで対向配置した第1の継鉄3と第2の継鉄4との間には、永久磁石2の厚みに相当する一定の間隔S(図5参照)が設けられている。これにより、第1の支承部32と第2の支承部42および第1の吸引部33と第2の吸引部43は、それぞれ間隔Sを隔てて対向配置されることになる。
And between the
永久磁石2は、平板状に形成されて板厚方向に磁化され、第1および第2の継鉄3,4に挟持されている。すなわち、永久磁石2のN、S両極は、図5に示すように、厚みt1方向(第1,第2の継鉄3、4の並設方向)両面に着磁されており、N極面に第1の継鉄3が当接するとともに、S極面に第2の継鉄4が当接している。
The
この永久磁石2の磁束は、第2の継鉄4、アーマチュア51の先端部から後端部、第1の継鉄3を経て再び永久磁石2に至る第1閉磁路と、第2の継鉄4、アーマチュア51の後端部から先端部、第1の継鉄3を経て再び永久磁石2に至る第2閉磁路を形成している。そして、これら第1および第2閉磁路により、コイルブロック52を励磁していないときに、アーマチュア51の先端部と第2の継鉄4との間に吸引保持力を発生させている。
The magnetic flux of the
カード115は、絶縁性を有する合成樹脂により逆U字状に形成されており、その中央部がアーマチュア51に係止され、両端部が可動ばね116a,116bに橋架されている。この構成により、アーマチュア51の動作を可動ばね116a,116bに伝達することができる。
The
可動ばね116a,116bは、洋白等の非磁性薄板ばね材料により長尺状に形成されて、一端にそれぞれ可動接点117a、117bがかしめ固着され、コイルブロック52の長手方向両側で略平行に沿うようにして、他端が図示せぬ可動端子に固定されている。この可動ばね116a、116bは、その長手方向の略中央をカード115によって駆動されることで、可動接点117a、117bを固定接点118a、118bに当接、離隔するものである。
The
本実施形態では、可動ばね116a、116bは、吸着部51bが第1の継鉄3の第1の吸引部33に当接するようにアーマチュア51を付勢している。本実施形態では、可動ばね116a、116bのばね負荷は、図6の破線のようになる。そして、コイルブロック52を励磁していない状態のときには、永久磁石2による第2の吸引部43側への吸引力が可動ばね116a、116bのばね負荷よりも勝るようにすることで、無励磁時には、アーマチュア51の吸着部51bが第2の継鉄4の第2の吸引部43に当接するようにしている。
In the present embodiment, the
可動接点117a、117bは、接触抵抗の低い、例えば銀合金等の接点材料を用いて表面を凸曲面とした円盤状に形成され、それぞれ可動ばね116a、116bの一端にかしめ固着されている。
The
固定接点118a、118bは、可動接点117a、117bと同様の銀合金等の接点材料を用いて表面を平面とした円盤状に形成され、図示せぬ可動端子に固定されている。
The fixed
次に、上記構成とした電磁リレー100の動作について説明する。
Next, the operation of the
まず、図1の状態(無励磁状態)において、コイルブロック52を所定の極性に励磁すると、発生した磁束および永久磁石2の磁束によって、吸着部51bの第2の吸引部43側への吸引力が弱まる。そして、アーマチュア51に係止されたカード115に橋架された可動ばね116a、116bのばね負荷(吸着部51bを第1の吸引部33に当接させようとする力)が、吸着部51bの第2の吸引部43側への吸引力よりも大きくなると、アーマチュア51の先端部(吸着部51b)が第1の継鉄3の先端部端面(第1の吸引部33)に吸引される。すなわち、アーマチュア51に係止されたカード115に橋架された可動ばね116a、116bが変位する。そして、離隔していた可動接点117a、117bがそれぞれ固定接点118a、118bに当接する。
First, when the
一方、コイルブロック52の励磁を断つと、吸着部51bの第2の吸引部43側への吸引力が可動ばね116a、116bのばね負荷に勝り、アーマチュア51の先端部と可動ばね116a、116bは、永久磁石2の磁束による第2の継鉄4側の吸引力により元の状態に復帰し、可動接点117a,117bと固定接点118a、118bはそれぞれ元の離隔状態になる。
On the other hand, when the excitation of the
このように、本実施形態にかかる電磁リレー100は、吸着部51bが第1の継鉄3の第1の吸引部33に当接するようにアーマチュア51を付勢させる可動ばね116a、116bを用い、シングルステイブル動作を行うようにしたものである。
As described above, the
具体的には、電磁リレー100は、無励磁時には、吸着部51bがb接点側(第2の継鉄4の第2の吸引部43側)に吸引される(b接点側で安定する)ようにするとともに、励磁した際に、吸着部51bがa接点側(第1の継鉄3の第1の吸引部33側)に吸引される(a接点側で安定する)ようにしたものである。
Specifically, when the
図6は、アーマチュア51に対する継鉄3、4の吸引力と可動ばね116a、116bのばね負荷力の関係を示す図である。同図において、100%ATで示す曲線は電磁リレー100が安定動作するための吸引力であり、50%ATの曲線は電磁リレー100が動作を開始するための吸引力である。なお、各吸引力はコイルブロック52に流れる電流から計算される起磁力(アンペアターン)の定格に対する割合をパラメータとして表している。
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the attractive force of the
このように、吸引力とばね負荷力との整合をとることによって、電磁リレー100は、可動接点117a,117bと固定接点118a、118bの当接、離隔を行っている。
As described above, by matching the attractive force and the spring load force, the
ここで、本実施形態では、一対の継鉄3、4のうちいずれか一方の継鉄である第1の継鉄3の永久磁石2に接触する部分に磁束通過抵抗部10を設け、第1の継鉄3の磁束通過抵抗部10の永久磁石2の長手方向(永久磁石2の磁極面に沿う方向)一方側における永久磁石2との接触面積と他方側における永久磁石2との接触面積とが異なるようにしている。このように、磁束通過抵抗部10を境にして第1の継鉄3の両側(本実施形態では、永久磁石2の長手方向両側)で、永久磁石2との接触面積を異ならせることで、図6に示すようなばね負荷を持たせた場合に、吸引力とばね負荷力との整合をとれるようにしている。
Here, in this embodiment, the magnetic flux
具体的には、図4および図5に示すように、一対の継鉄3、4のうち一方の継鉄である第1の継鉄3が永久磁石2に接触する部分となる第1主幹部31に、第1主幹部31の両端部31a、31b間の中心から一方の端部(本実施形態では第1の吸引部33)に偏った位置に、磁束通過抵抗部10を設けている。すなわち、本実施形態では、第1主幹部31の磁束通過抵抗部10よりも第1の支承部32側における永久磁石2との接触面積の方が、第1主幹部31の磁束通過抵抗部10よりも第1の吸引部33側における永久磁石2との接触面積よりも大きくなるようにしている。
Specifically, as shown in FIGS. 4 and 5, the first main trunk portion which is a portion where the
さらに、本実施形態では、肉厚t4が第1主幹部31の肉厚t3(図2参照)よりも薄くなるように形成した薄肉部11を磁束通過抵抗部10として機能させている。
Furthermore, in the present embodiment, the
この薄肉部11は、図3(a)に示すように、第1主幹部31の永久磁石2に接触する内側面31c側に形成される。本実施形態では、薄肉部11は、両側11a、11bが内側面31cとほぼ直角となるように形成されており、底面11cと両側11a、11bとの間もほぼ直角となるように形成されている。このとき、底面11cと第1主幹部31の外側面31dとの間の肉厚t4は、薄肉部11の深さd1よりも小さくなっている。
As shown in FIG. 3A, the
なお、第1の継鉄3の第1の支承部32には、内側面31c側に第1の支承部32の突出方向に沿って断面円弧面となる浅い凹溝34が形成されている。また、第2の継鉄4は、薄肉部11が形成されていない第1の継鉄3と同じものが用いられている。したがって、第2の継鉄4の第2の支承部42にも凹溝44が形成されている。この場合、凹溝44は第2の継鉄4の外側面41dに設けられることになる。なお、41cは第2の継鉄4の内側面を示している。
The
(第1変形例)
ところで、上記第1実施形態では、磁束通過抵抗部10を薄肉部11で形成した場合を例示したが、図7および図8に示すように、磁束通過抵抗部10を幅w1方向に凹む凹部12として形成することも可能である。この場合にあっても凹部12は、第1主幹部31の両端部31a、31b間の中心から一方の端部に偏った位置に設けられており、磁束通過抵抗部10を境にして第1の継鉄3の両側(本変形例では、永久磁石2の長手方向両側)で、永久磁石2との接触面積が異なるようにしている。そして、本変形例においても、第1主幹部31の磁束通過抵抗部10よりも第1の支承部32側における永久磁石2との接触面積の方が、第1主幹部31の磁束通過抵抗部10よりも第1の吸引部33側における永久磁石2との接触面積よりも大きくなるようにしている。
(First modification)
By the way, in the said 1st Embodiment, although the case where the magnetic flux
凹部12は、図8(b)に示すように、第1主幹部31の幅w1方向の第1の支承部32や第1の吸引部33が突出する方向(図8(b)の上方側)に開口するように設けられている。すなわち、凹部12は、両側12a、12bが第1主幹部31の上側面31eとほぼ直角となるように形成されており、底面12cと両側12a、12bとの間もほぼ直角となるように形成されている。このとき、底面12cと第1主幹部31の下側面31fとの間の肉厚t5が凹部12の深さd2よりも小さくなるように、凹部12を形成している。
As shown in FIG. 8B, the
(第2変形例)
また、図9および図10に示すように、一方の継鉄である第1の継鉄3を、第1の継鉄部3Aと第2の継鉄部3Bとで構成し、第1の継鉄部3Aと第2の継鉄部3Bとを所定間隔Lだけ離間させるようにすることで形成される空間部13を磁束通過抵抗部10として形成することも可能である。この場合にあっても空間部13は、第1主幹部31の両端部31a、31b間の中心から一方の端部に偏った位置に設けられている。すなわち、磁束通過抵抗部10を境にして第1の継鉄3の両側(本変形例では、永久磁石2の長手方向両側)で、永久磁石2との接触面積が異なるようにしている。そして、本変形例においても、第1主幹部31の磁束通過抵抗部10よりも第1の支承部32側における永久磁石2との接触面積の方が、第1主幹部31の磁束通過抵抗部10よりも第1の吸引部33側における永久磁石2との接触面積よりも大きくなるようにしている。
(Second modification)
Further, as shown in FIGS. 9 and 10, the
第1の継鉄部3Aと第2の継鉄部3Bとは、図10(b)に示すように、対向面13a、13bがそれぞれほぼ面直状態で対向している。
As shown in FIG. 10B, the
次に、上記第1実施形態およびその変形例にかかる電磁リレー100の作用効果について、図11〜図14に基づき説明する。以下では、第2変形例で示す電磁石装置(第1の継鉄3を、第1の継鉄部3Aと第2の継鉄部3Bとで構成したもの)を用いて説明する。
Next, the operation and effect of the
(1)第1の磁気回路(図11参照)
この第1の磁気回路は、アーマチュア51が第2の吸引部43(b接点側)に位置しており、かつ、アーマチュア51が無励磁の場合を示している。
(1) First magnetic circuit (see FIG. 11)
The first magnetic circuit shows a case where the
この第1の磁気回路は、実線で示す磁気回路M1と、破線で示す磁気回路M2とが形成され、それぞれの磁気回路M1、M2は矢印の向きに閉ループが形成されている。 In the first magnetic circuit, a magnetic circuit M1 indicated by a solid line and a magnetic circuit M2 indicated by a broken line are formed, and each of the magnetic circuits M1 and M2 has a closed loop formed in the direction of an arrow.
つまり、磁気回路M1の経路は、N極→第2主幹部41→第2の吸引部43→アーマチュア51→第1の継鉄部3A(第1の支承部32経由)→S極となる閉ループが形成される。一方、磁気回路M2の経路は、N極→第2の支承部42→アーマチュア51→第2の継鉄部3B(第1の吸引部33経由)→S極となる閉ループが形成される。
That is, the path of the magnetic circuit M1 is a closed loop in which N pole → second
このとき、空間部13は第1の継鉄3の中心部から第1の吸引部33側に偏った位置に設けられており、第1の継鉄部3Aの永久磁石2との接触面積の方が第2の継鉄部3Bの永久磁石2との接触面積よりも大きいため、磁気回路M2よりも磁気回路M1の磁束が多くなる。このことは次の第2の磁気回路にあっても同様である。
At this time, the
そして、磁気回路M2は、第2の継鉄4の第2の支承部42とアーマチュア51との間、およびアーマチュア51と第2の継鉄部3Bとの間にギャップδ1、δ2が設けられているため、磁気回路M2よりも磁気回路M1の磁力が大きくなる。このように、アーマチュア51が第2の吸引部43に位置し、無励磁の状態では、アーマチュア51が第2の吸引部43に吸着された状態が維持される。
In the magnetic circuit M2, gaps δ1 and δ2 are provided between the
(2)第2の磁気回路(図12参照)
この第2の磁気回路は、アーマチュア51が第1の吸引部33(a接点側)に位置しており、かつ、アーマチュア51が無励磁の場合を示している。
(2) Second magnetic circuit (see FIG. 12)
This second magnetic circuit shows a case where the
この第2の磁気回路は、第1の磁気回路と同様に実線で示す磁気回路M1と、破線で示す磁気回路M2とが形成され、それぞれの磁気回路M1、M2は第1の磁気回路と同じ経路となる。 As in the first magnetic circuit, the second magnetic circuit includes a magnetic circuit M1 indicated by a solid line and a magnetic circuit M2 indicated by a broken line, and the magnetic circuits M1 and M2 are the same as the first magnetic circuit. It becomes a route.
この場合(アーマチュア51が第1の吸引部33に位置している場合)には、磁気回路M1にはアーマチュア51と第2の吸引部43との間にギャップδ2が設けられる一方、磁気回路M2には第2の支承部42とアーマチュア51との間にギャップδ1が設けられ、双方の磁気回路M1、M2にギャップδ1、δ2が存在することになる。また、第1の継鉄部3Aの永久磁石2との接触面積の方が第2の継鉄部3Bの永久磁石2との接触面積よりも大きい。ここで、磁気回路M1とM2の大きさは、第1の継鉄部3Aと第2の継鉄部3Bの接触面積の差が磁気回路M1とM2に与える影響、および、ギャップδ1、δ2が磁気回路M1とM2に与える影響の大小によって決定される。本実施形態では、ギャップδ2により磁気回路M1の磁力は減少するが、第1の継鉄部3Aの永久磁石2との接触面積の方が第2の継鉄部3Bの永久磁石2との接触面積よりも大きいため、磁気回路M2よりも磁気回路M1の磁力が大きくなる。すなわち、アーマチュア51は、第2の吸引部43側に吸引され、第2の吸引部43に吸着されることとなる。
In this case (when the
なお、接触面積の差およびギャップの大きさを適宜設定することで、吸引特性を、図6の0%AT時の吸引特性にすることができる。また、磁気回路M1よりも磁気回路M2の磁力が大きくなるようにして、アーマチュア51が第1の吸引部33に吸着された状態を維持できるようにすることも可能である。
Note that the suction characteristics can be set to the suction characteristics at 0% AT in FIG. 6 by appropriately setting the difference in contact area and the size of the gap. It is also possible to maintain the state in which the
本実施形態では、可動ばね116a、116bに図6に示すようなばね負荷を持たせているため、図6の0%AT時の吸引特性となるように設定している。
In this embodiment, since the spring loads as shown in FIG. 6 are given to the
そして、アーマチュア51を励磁させると、アーマチュア51により後述する磁気回路M3と同経路の磁気回路が形成される(図18参照)。そのため、アーマチュア51による生じる磁力(アーマチュア51を第1の吸引部33側に移動させる力)および磁気回路M2による磁力(アーマチュア51を第1の吸引部33側に移動させる力)によって磁気回路M1の磁力(アーマチュア51を第2の吸引部43側に移動させる力)を上回るようにすることができる。すなわち、図6の100%AT時の吸引特性とすることができる。
When the
次に、図13および図14に基づき、永久磁石2の位置や大きさの変化や、第1の継鉄3の形状変化が吸引特性に与える影響について説明する。
Next, based on FIG. 13 and FIG. 14, the influence which the change of the position and magnitude | size of the
図13の(A)は、永久磁石2を第1の継鉄部3A方向に移動させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。ここでは、アーマチュア51が第1の吸引部33に位置する場合と第2の吸引部43に位置する場合とに分けて、それぞれの無励磁時と励磁時の磁気回路M1、M2を示している。
FIG. 13A illustrates the effect of moving the
図13の(B)は、永久磁石2を第1の継鉄部3A方向に延長させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。また、(A)と同様にアーマチュア51が第1の吸引部33に位置する場合と第2の吸引部43に位置する場合とに分けて、それぞれの無励磁時と励磁時の磁気回路M1、M2を示している。
FIG. 13B illustrates the effect of extending the
また、図14の(C)は、第2の継鉄部3Bを第1の継鉄部3A側に延長させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。この場合にあっても(A)と同様にアーマチュア51が第1の吸引部33に位置する場合と第2の吸引部43に位置する場合とに分けて、それぞれの無励磁時と励磁時の磁気回路M1、M2を示している。
FIG. 14C illustrates the effect of extending the
図14の(D)は、第1の継鉄部3Aを第2の継鉄部3B側に延長させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。この場合にあっても(A)と同様にアーマチュア51が第1の吸引部33に位置する場合と第2の吸引部43に位置する場合とに分けて、それぞれの無励磁時と励磁時の磁気回路M1、M2を示している。
FIG. 14D illustrates the effect of extending the
なお、図13および図14では、それぞれの表中の右欄に(A)から(D)の場合の吸引力特性を実線で示すとともに、基本特性(永久磁石2の位置や大きさを変化させる前、および第1の継鉄3の形状を変化させる前の電磁石装置が示す吸引力特性)を点線で示してある。
In FIGS. 13 and 14, the attractive force characteristics in the case of (A) to (D) are indicated by solid lines in the right column of each table, and the basic characteristics (the position and size of the
図13の(A)のように永久磁石2を第1の継鉄部3A方向に移動させると、第1の継鉄部3Aの永久磁石2との接触面積が大きくなり、第2の継鉄部3Bの永久磁石2との接触面積が小さくなる。すなわち、第1の継鉄部3Aの永久磁石2との接触面積と第2の継鉄部3Bの永久磁石2との接触面積との差が大きくなる。その結果、アーマチュア51が第1の吸引部33に位置する場合と第2の吸引部43に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路M1の磁力が大きくなり磁気回路M2の磁力が小さくなる。
When the
このように、永久磁石2を第1の継鉄部3A方向に移動させると、移動前に比べてアーマチュア51が第2の吸引部43側に吸引されやすくなる。
As described above, when the
なお、表中、単に吸引力up、吸引力downと記載されているところは、アーマチュア51が位置するところへの吸引されやすくなるか吸引されにくくなるかを示している。
It should be noted that in the table, the term “suction force up” and “suction force down” indicate whether the
例えば、図13の(A)のアーマチュア51が第1の吸引部33側(a接点側)に位置しており、無励磁の状態を示す欄には、吸引力downと記載されているが、これは、アーマチュア51のa接点側へ吸引されにくくなったことを示すものである。このことは、(B)〜(D)でも同様である。
For example, the
次に、図13の(B)のように永久磁石2を第1の継鉄部3A方向に延長させると、第1の継鉄部3Aの永久磁石2との接触面積が大きくなる。すなわち、図13の(B)においても第1の継鉄部3Aの永久磁石2との接触面積と第2の継鉄部3Bの永久磁石2との接触面積との差が大きくなる。その結果、アーマチュア51が第1の吸引部33に位置する場合と第2の吸引部43に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路M1の磁力が大きくなり磁気回路M2の磁力が小さくなる。
Next, when the
このように、永久磁石2を第1の継鉄部3A方向に延長させると、延長前に比べてアーマチュア51が第2の吸引部43側に吸引されやすくなる。
As described above, when the
次に、図14の(C)のように第2の継鉄部3Bを第1の継鉄部3A側に延長させると、第2の継鉄部3Bの永久磁石2との接触面積が大きくなる。すなわち、図14の(C)においては、第1の継鉄部3Aの永久磁石2との接触面積と第2の継鉄部3Bの永久磁石2との接触面積との差が小さくなる。その結果、アーマチュア51が第1の吸引部33に位置する場合と第2の吸引部43に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路M1の磁力が小さくなり磁気回路M2の磁力が大きくなる。
Next, when the
このように、第2の継鉄部3Bを第1の継鉄部3A側に延長させると、延長前に比べてアーマチュア51が第2の吸引部43側に吸引されにくく(第1の吸引部33側に吸引されやすく)なる。
Thus, if the
次に、図14の(D)のように第1の継鉄部3Aを第2の継鉄部3B側に延長させると、第1の継鉄部3Aの永久磁石2との接触面積が大きくなる。すなわち、図14の(D)においては、第1の継鉄部3Aの永久磁石2との接触面積と第2の継鉄部3Bの永久磁石2との接触面積との差が大きくなる。その結果、アーマチュア51が第1の吸引部33に位置する場合と第2の吸引部43に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路M1の磁力が大きくなり磁気回路M2の磁力が小さくなる。
Next, as shown in FIG. 14D, when the
このように、第1の継鉄部3Aを第2の継鉄部3B側に延長させると、延長前に比べてアーマチュア51が第2の吸引部43側に吸引されやすく(第1の吸引部33側に吸引されにくく)なる。
As described above, when the
以上説明したように、本実施形態では、一対の継鉄3,4のうちいずれか一方の継鉄3の永久磁石2に接触する部分に磁束通過抵抗部10を設け、一方の継鉄3の磁束通過抵抗部10の一方側における永久磁石2との接触面積と他方側における永久磁石2との接触面積とが異なるようにした。
As described above, in the present embodiment, the magnetic flux
そして、一方の継鉄3の磁束通過抵抗部10の一方側における永久磁石2との接触面積と他方側における永久磁石2との接触面積とを適宜設定することで、多様な吸引力特性を得られるようにした。
And various attractive force characteristics are acquired by setting suitably the contact area with the
このように、本実施形態によれば、磁束通過抵抗部10の一方側と他方側での永久磁石2との接触面積を異ならせるだけで、継鉄3,4とアーマチュア51の吸引力特性の調整を行うことができ、より容易に多様な吸引力特性を得ることができるようになる。
Thus, according to the present embodiment, the attractive force characteristics of the
そして、吸引力特性を適宜設定することで、吸引力とばね負荷力との整合を容易に行うことができ、電磁リレー100の組立の際の調整を容易に行うことができるようになる。
Then, by appropriately setting the attractive force characteristics, the attractive force and the spring load force can be easily matched, and the adjustment at the time of assembling the
(第2実施形態)
本実施形態にあっても、電磁リレー100は、電磁石ブロック(電磁石装置)1を用いて形成されている。
(Second Embodiment)
Even in this embodiment, the
そして、接点機構部および電磁石ブロック(電磁石装置)1が樹脂製のベース110上に立設されている。なお、本実施形態においても、電磁リレー100は、組立後の状態において、図示せぬカバーが被せられた箱体として形成される。
A contact mechanism and an electromagnet block (electromagnet device) 1 are erected on a
ここで、本実施形態が上記第1実施形態と主に異なる点は、一対の継鉄3、4のうちいずれか一方の継鉄である第2の継鉄4の永久磁石2に接触する部分に磁束通過抵抗部10を設けた点にある。また、第2の継鉄4の磁束通過抵抗部10の永久磁石2の長手方向(永久磁石2の磁極面に沿う方向)一方側における永久磁石2との接触面積と他方側における永久磁石2との接触面積とが異なるようにした点にある。
Here, this embodiment is mainly different from the first embodiment in that the portion of the
具体的には、一方の継鉄である第2の継鉄4を、第1の継鉄部4Aと第2の継鉄部4Bとで構成し、第1の継鉄部4Aと第2の継鉄部4Bとを所定間隔だけ離間させるようにすることで形成される空間部13を磁束通過抵抗部10として形成している。なお、上記第1実施形態のように薄肉部を形成したり、上記第1実施形態の第1変形例のように凹部を設けることで磁束通過抵抗部を設けるようにしてもよい。
Specifically, the
本実施形態では、空間部13は、第2主幹部41の両端部41a、41b間の中心から一方の端部(本実施形態では第2の支承部42)に偏った位置に設けられている。すなわち、磁束通過抵抗部10を境にして第2の継鉄4の両側(本実施形態では、永久磁石2の長手方向両側)で、永久磁石2との接触面積が異なるようにしている。そして、本実施形態においては、第2主幹部41の磁束通過抵抗部10よりも第2の支承部42側における永久磁石2との接触面積の方が、第2主幹部41の磁束通過抵抗部10よりも第2の吸引部43側における永久磁石2との接触面積よりも小さくなるようにしている。
In the present embodiment, the
次に、本実施形態にかかる電磁リレー100の作用効果について、図15〜図18に基づき説明する。
Next, the effect of the
(3)第3の磁気回路(図15参照)
この第3の磁気回路は、アーマチュア51が第2の吸引部43(b接点側)に位置しており、かつ、アーマチュア51が無励磁の場合を示している。
(3) Third magnetic circuit (see FIG. 15)
This third magnetic circuit shows a case where the
この第3の磁気回路は、実線で示す磁気回路M1と、破線で示す磁気回路M2とが形成され、それぞれの磁気回路M1、M2は矢印の向きに閉ループが形成されている。 In the third magnetic circuit, a magnetic circuit M1 indicated by a solid line and a magnetic circuit M2 indicated by a broken line are formed, and each of the magnetic circuits M1 and M2 has a closed loop formed in the direction of an arrow.
つまり、磁気回路M1の経路は、N極→第2の継鉄部4B→アーマチュア51→第1の支承部32→第1主幹部31→S極となる閉ループが形成される。一方、磁気回路M2の経路は、N極→第1の継鉄部4A→第2の支承部42→アーマチュア51→第1の吸引部33→第1主幹部→S極となる閉ループが形成される。
That is, the path of the magnetic circuit M1 forms a closed loop of N pole →
このとき、空間部13は第2の継鉄4の中心部から第2の支承部42側に偏った位置に設けられており、第1の継鉄部4Aの永久磁石2との接触面積の方が第2の継鉄部4Bの永久磁石2との接触面積よりも小さいため、磁気回路M2よりも磁気回路M1の磁束が多くなる。このことは以下で説明する第4から第6の磁気回路にあっても同様である。
At this time, the
そして、磁気回路M2は、第2の支承部42とアーマチュア51との間、およびアーマチュア51と第1の吸引部33との間にそれぞれギャップδ1、δ2が設けられているため、磁気回路M2よりも磁気回路M1の磁力が大きくなる。このように、アーマチュア51が第2の吸引部43に位置し、無励磁の状態では、アーマチュア51が第2の吸引部43に吸着された状態が維持される。
The magnetic circuit M2 has gaps δ1 and δ2 between the
(4)第4の磁気回路(図16参照)
この第4の磁気回路は、アーマチュア51が第2の吸引部43(b接点側)に位置しており、かつ、アーマチュア51が励磁されている場合を示している。
(4) Fourth magnetic circuit (see FIG. 16)
The fourth magnetic circuit shows a case where the
この第4の磁気回路は、第3の磁気回路と同様に実線で示す磁気回路M1と、破線で示す磁気回路M2とが形成され、それぞれの磁気回路M1、M2は第3の磁気回路と同じ経路となる。なお、第3の磁気回路と同様に、磁気回路M2には、第2の支承部42とアーマチュア51との間、およびアーマチュア51と第1の吸引部33との間にそれぞれギャップδ1、δ2が設けられている。
As in the third magnetic circuit, the fourth magnetic circuit includes a magnetic circuit M1 indicated by a solid line and a magnetic circuit M2 indicated by a broken line, and each of the magnetic circuits M1 and M2 is the same as the third magnetic circuit. It becomes a route. Similar to the third magnetic circuit, the magnetic circuit M2 has gaps δ1 and δ2 between the
この第4の磁気回路のように、アーマチュア51が励磁されると、アーマチュア51により磁気回路M2と同経路の磁気回路が形成される。そのため、アーマチュア51による生じる磁力および磁気回路M2による磁力によって磁気回路M1の磁力を上回るようにすることができる(図6の100%AT時の吸引特性とすることができる)。
When the
そして、図6の100%AT時の吸引特性となるようにすれば、可動ばね116a、116bに図6に示すようなばね負荷を持たせている場合に、アーマチュア51を励磁することでアーマチュア51を第1の吸引部33側に切り換えることができるようになる。
If the attraction characteristics at 100% AT in FIG. 6 are obtained, the
(5)第5の磁気回路(図17参照)
この第5の磁気回路は、アーマチュア51が第1の吸引部33(a接点側)に位置しており、かつ、アーマチュア51が無励磁の場合を示している。
(5) Fifth magnetic circuit (see FIG. 17)
This fifth magnetic circuit shows a case where the
この第5の磁気回路は、第3の磁気回路と同様に実線で示す磁気回路M1と、破線で示す磁気回路M2とが形成され、それぞれの磁気回路M1、M2は第3の磁気回路と同じ経路となる。 As in the third magnetic circuit, the fifth magnetic circuit includes a magnetic circuit M1 indicated by a solid line and a magnetic circuit M2 indicated by a broken line. The magnetic circuits M1 and M2 are the same as the third magnetic circuit. It becomes a route.
この場合(アーマチュア51が第1の吸引部33に位置している場合)には、磁気回路M1にはアーマチュア51と第2の吸引部43との間にギャップδ2が設けられる一方、磁気回路M2には第2の支承部42とアーマチュア51との間にギャップδ1が設けられ、双方の磁気回路M1、M2にギャップδ1、δ2が存在することになる。また、第1の継鉄部4Aの永久磁石2との接触面積の方が第2の継鉄部4Bの永久磁石2との接触面積よりも小さい。ここで、磁気回路M1とM2の大きさは、第1の継鉄部4Aと第2の継鉄部4Bの接触面積の差が磁気回路M1とM2に与える影響、および、ギャップδ1、δ2が磁気回路M1とM2に与える影響の大小によって決定される。本実施形態では、ギャップδ2により磁気回路M1の磁力は減少するが、第1の継鉄部4Aの永久磁石2との接触面積の方が第2の継鉄部4Bの永久磁石2との接触面積よりも小さいため、磁気回路M2よりも磁気回路M1の磁力が大きくなる。すなわち、アーマチュア51は、第2の吸引部43側に吸引され、第2の吸引部43に吸着されることとなる。なお、接触面積の差およびギャップの大きさを適宜設定することで、吸引特性を、図6の0%AT時の吸引特性にすることができる。また、磁気回路M1よりも磁気回路M2の磁力が大きくなるようにして、アーマチュア51が第1の吸引部33に吸着された状態を維持できるようにすることも可能である。
In this case (when the
本実施形態では、可動ばね116a、116bに図6に示すようなばね負荷を持たせているため、図6の0%AT時の吸引特性となるように設定している。
In this embodiment, since the spring loads as shown in FIG. 6 are given to the
したがって、アーマチュア51が第1の吸引部33に位置していたとしても、無励磁状態では、アーマチュア51は、第2の吸引部43側に吸引され、第2の吸引部43に吸着されることとなる。
Therefore, even if the
(6)第6の磁気回路(図18参照)
この第6の磁気回路は、アーマチュア51が第1の吸引部33(a接点側)に位置しており、かつ、アーマチュア51が励磁されている場合を示している。
(6) Sixth magnetic circuit (see FIG. 18)
The sixth magnetic circuit shows a case where the
この第6の磁気回路は、第3の磁気回路と同様に実線で示す磁気回路M1と、破線で示す磁気回路M2とが形成され、それぞれの磁気回路M1、M2は第3の磁気回路と同じ経路となる。さらに、第6の磁気回路では、アーマチュア51が励磁されているため、2点鎖線で示す磁気回路M3が形成される。
As in the third magnetic circuit, the sixth magnetic circuit includes a magnetic circuit M1 indicated by a solid line and a magnetic circuit M2 indicated by a broken line, and each of the magnetic circuits M1 and M2 is the same as the third magnetic circuit. It becomes a route. Further, in the sixth magnetic circuit, since the
この新たに形成された磁気回路M3の経路は、アーマチュア51の吸着部51b→第1の吸引部33→第1主幹部31→第1の支承部32→アーマチュア51の支点部51aとなる閉ループとなっている。したがって、アーマチュア51から第1の吸引部33を通過する磁束は、磁気回路M3と磁気回路M2とが合わさったものとなり、その吸引力(アーマチュア51を第1の吸引部33側に移動させる力)が増すことになる。
The path of this newly formed magnetic circuit M3 is a closed loop that becomes the attracting
このとき、図6の100%AT時の吸引特性となるようにすれば、可動ばね116a、116bに図6に示すようなばね負荷を持たせている場合に、アーマチュア51を励磁することでアーマチュア51を第1の吸引部33に吸着した状態を維持することができるようになる。
At this time, if the suction characteristics at 100% AT in FIG. 6 are obtained, the
次に、図19に基づき、第1の継鉄部4Aや第2の継鉄部4Bの長さ変化が吸引特性に与える影響について説明する。
Next, based on FIG. 19, the influence which the length change of the
図19(a)は、第2の継鉄部4Bを第1の継鉄部4A側に延長させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。
FIG. 19A illustrates the effect of extending the
第2の継鉄部4Bを第1の継鉄部4A側に延長させると、第2の継鉄部4Bの永久磁石2との接触面積が大きくなる。すなわち、第1の継鉄部4Aの永久磁石2との接触面積と第2の継鉄部4Bの永久磁石2との接触面積との差が大きくなる。その結果、アーマチュア51が第1の吸引部(a接点側)33に位置する場合と第2の吸引部(b接点側)43に位置する場合、その中央部に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路M1の磁力が大きくなる。
If the
このように、第2の継鉄部4Bを第1の継鉄部4A側に延長させると、延長前に比べてアーマチュア51が第2の吸引部43側に吸引されやすく(第1の吸引部33側に吸引されにくく)なる。
As described above, when the
なお、図19では、吸引力の減少とは、アーマチュア51の位置にかかわらず、アーマチュア51が第2の吸引部43側に吸引されやすく(第1の吸引部33側に吸引されにくく)なることを意味している。また、吸引力の増加とは、アーマチュア51の位置にかかわらず、アーマチュア51が第2の吸引部43側に吸引されにくく(第1の吸引部33側に吸引されやすく)なることを意味している。
In FIG. 19, the decrease in the suction force means that the
また、図19(a)の影響大との記載は、延長前後の吸引力の変化量が大きいことを示している。アーマチュア51が第2の吸引部(b接点側)43に近くなるほど影響が大きくなるのは、アーマチュア51と第2の吸引部(b接点側)43との間のギャップが徐々に少なくなるからである。
In addition, the description “large influence” in FIG. 19A indicates that the amount of change in the suction force before and after the extension is large. The closer the
また、図19(a)の巾とは、延長の前後におけるそれぞれの位置での100%AT時と0%AT時の吸引力の差を示している。このことは、図19(b)でも同様である。 Further, the width of FIG. 19A indicates the difference in suction force between 100% AT and 0% AT at the respective positions before and after extension. The same applies to FIG. 19B.
この巾が増加する(広くなる)と、吸引力とばね負荷力との整合をとりやすくなる。 When this width increases (becomes wider), it becomes easier to match the suction force and the spring load force.
すなわち、図19(a)より、第2の継鉄部4Bを第1の継鉄部4A側に延長させると、吸引力とばね負荷力との整合をとりやすくなることが理解される。
That is, from FIG. 19A, it is understood that when the
図19(b)は、第1の継鉄部4Aを第2の継鉄部4B側に延長させることが吸引特性に与える影響を説明するものである。
FIG. 19B illustrates the influence of extending the
第1の継鉄部4Aを第2の継鉄部4B側に延長させると、第1の継鉄部4Aの永久磁石2との接触面積が大きくなる。すなわち、第1の継鉄部4Aの永久磁石2との接触面積と第2の継鉄部4Bの永久磁石2との接触面積との差が大きくなる。その結果、アーマチュア51が第1の吸引部(a接点側)33に位置する場合と第2の吸引部(b接点側)43に位置する場合、その中央部に位置する場合のいずれでも、無励磁時および励磁時において、磁気回路M2の磁力が大きくなる。
When the
このように、第1の継鉄部4Aを第2の継鉄部4B側に延長させると、延長前に比べてアーマチュア51が第2の吸引部43側に吸引されにくく(第1の吸引部33側に吸引されやすく)なる。
Thus, when the
また、吸引特性の巾は、図19(b)より、アーマチュア51が第1の吸引部(a接点側)33に位置する場合と第2の吸引部(b接点側)43に位置する場合には、延長前に比べて減少する(狭くなる)が、中央部に位置する場合には、増加する(広くなる)ことが理解される。
Further, the width of the suction characteristic is shown in FIG. 19B when the
以上説明したように本実施形態においても、一対の継鉄3,4のうちいずれか一方の継鉄3の永久磁石2に接触する部分に磁束通過抵抗部10を設け、一方の継鉄3の磁束通過抵抗部10の一方側における永久磁石2との接触面積と他方側における永久磁石2との接触面積とが異なるようにした。
As described above, also in the present embodiment, the magnetic flux
そして、一方の継鉄3の磁束通過抵抗部10の一方側における永久磁石2との接触面積と他方側における永久磁石2との接触面積とを適宜設定することで、多様な吸引力特性を得られるようにした。
And various attractive force characteristics are acquired by setting suitably the contact area with the
このように、本実施形態によれば、磁束通過抵抗部10の一方側と他方側での永久磁石2との接触面積を異ならせるだけで、継鉄3,4とアーマチュア51の吸引力特性の調整を行うことができ、より容易に多様な吸引力特性を得ることができるようになる。
Thus, according to the present embodiment, the attractive force characteristics of the
そして、吸引力特性を適宜設定することで、吸引力とばね負荷力との整合を容易に行うことができ、電磁リレー100の組立の際の調整を容易に行うことができるようになる。
Then, by appropriately setting the attractive force characteristics, the attractive force and the spring load force can be easily matched, and the adjustment at the time of assembling the
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。 The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made.
例えば、磁束通過抵抗部は、薄肉部、凹部および空間部に限ることなく、磁束の通過を部分的に減ずる断面形状であればよい。 For example, the magnetic flux passage resistance portion is not limited to the thin wall portion, the concave portion, and the space portion, and may be any cross-sectional shape that partially reduces the passage of magnetic flux.
また、接点機構部、その他細部のスペック(形状、大きさ、レイアウト等)も適宜に変更可能である。 Also, the contact mechanism and other detailed specifications (shape, size, layout, etc.) can be changed as appropriate.
1 電磁石ブロック(電磁石装置)
2 永久磁石
3 第1の継鉄(一方の継鉄、他方の継鉄)
3A 第1の継鉄部
3B 第2の継鉄部
4 第2の継鉄(他方の継鉄、一方の継鉄)
4A 第1の継鉄部
4B 第2の継鉄部
51 アーマチュア
52 コイル
10 磁束通過抵抗部
11 薄肉部
12 凹部
13 空間部
100 電磁リレー
115 カード
116a,116b 可動ばね
117a,117b 可動接点
118a,118b 固定接点
1 Electromagnet block (electromagnet device)
2
3A
4A
Claims (5)
前記アーマチュアに形成された支点部が前記一対の継鉄にそれぞれ形成された支承部の間に配置されており、
前記支点部が常に前記一方の継鉄の支承部に接触し、前記支点部と前記他方の継鉄の支承部との間に所定のギャップが形成されていることを特徴とする電磁石装置。 A coil, an armature that is slidably inserted into the coil, and is held in a state where both ends protrude, a pair of yokes arranged to face the armature, and the pair of yokes A permanent magnet, and a magnetic flux passing resistance portion is provided in a portion of the pair of yokes that contacts the permanent magnet, and the magnetic flux of the one yoke The contact area with the permanent magnet on one side of the passage resistance portion is different from the contact area with the permanent magnet on the other side ,
The fulcrum portion formed on the armature is disposed between the support portions formed on the pair of yokes, respectively.
The electromagnet device, wherein the fulcrum portion is always in contact with the support portion of the one yoke, and a predetermined gap is formed between the fulcrum portion and the support portion of the other yoke .
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