JP5815304B2 - Optical thin film forming paint and optical thin film - Google Patents

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本発明は、光学薄膜形成用塗料および光学薄膜に関する。
さらに詳しくは、屈折率が高く、透明性、ヘーズ、硬度に優れるとともに集光性に優れた光学薄膜の形成性に優れた光学薄膜形成用塗料および光学薄膜に関する。
The present invention relates to a coating for forming an optical thin film and an optical thin film.
More specifically, the present invention relates to an optical thin film-forming coating material and an optical thin film that have a high refractive index, excellent transparency, haze, and hardness, and excellent optical thin film formability.

従来、液晶表示装置ではバックライトの集光性、光透過性を高めて表示画像の輝度向上、高明度化、高精細化のために高屈折率のプリズム層が設けられている。(図1参照)
また、発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)において、半導体素子を保護するために、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの透明な封止材によって半導体素子を封止している。
Conventionally, in a liquid crystal display device, a prism layer having a high refractive index is provided in order to improve the brightness of a display image, increase the brightness, and increase the definition by enhancing the light condensing property and light transmittance of the backlight. (See Figure 1)
In a light emitting diode (LED), the semiconductor element is sealed with a transparent sealing material such as an epoxy resin or a silicone resin in order to protect the semiconductor element.

しかしながら、LEDの短波長化や高輝度化に伴ってLEDから放出されるエネルギーが増加し、場合によっては蓄熱して封止樹脂が黄変してLEDの輝度が低下する問題があった。   However, there is a problem that energy emitted from the LED increases as the wavelength of the LED becomes shorter and the luminance increases, and in some cases, heat is stored and the sealing resin is yellowed to lower the luminance of the LED.

また、封止材の屈折率が低いためにLEDから放出される光が、封止材によって反射して光透過率が低下する問題、エネルギー効率の低下する問題があった。
このため、熱的安定性に優れ、屈折率を向上させて光透過率を向上させた封止材として、粒子径が1〜20nmの表面修飾したジルコニア粒子をシリコーン樹脂に配合した組成物が提案されている。(特許文献1:特開2009−173757号公報)
Moreover, since the refractive index of the sealing material is low, there is a problem that light emitted from the LED is reflected by the sealing material and the light transmittance is lowered, and energy efficiency is lowered.
For this reason, a composition in which silicone resin is blended with surface-modified zirconia particles having a particle diameter of 1 to 20 nm is proposed as a sealing material that has excellent thermal stability, improved refractive index, and improved light transmittance. Has been. (Patent Document 1: JP 2009-173757 A)

しかしながら、ジルコニア粒子のシリコーン樹脂への分散性を改良するために、一次表面修飾、二次表面修飾をし、さらに残存OH基を無くするためにアルキルシラザン系表面処理剤により三次表面修飾をする必要があることから、生産性が低いことに加え、表面修飾剤の必要量が多く、これら表面処理剤は屈折率が1.4近辺であることから得られる粒子の屈折率が1.6以下であり、これを用いた樹脂硬化物(封止材)の屈折率は必ずしも高くなく、このため光透過率の向上には限界があった。   However, in order to improve the dispersibility of zirconia particles in silicone resin, primary surface modification and secondary surface modification are necessary, and in order to eliminate residual OH group, tertiary surface modification with alkylsilazane surface treatment agent is necessary. Therefore, in addition to low productivity, a large amount of surface modifier is required, and these surface treatment agents have a refractive index of around 1.4. In addition, the refractive index of the cured resin (sealing material) using this is not necessarily high, and thus there has been a limit to improving the light transmittance.

なお、粒子の分散性を向上させて凝集を防止し、塗布液の安定性を向上させるために粒子をシランカップリング剤で表面処理して用いることが公知であり、さらに、粒子にメカノケミカル法、グラフト重合法等で樹脂を被覆してマトリックス成分または分散媒との親和性を高めることが行われている。(特開平3−163172号公報(特許文献2)、特開平6−336558号公報(特許文献3)、特開平6−49251号公報(特許文献4)、特開2000−143230号公報(特許文献5))
また、特開平7−118123号公報(特許文献6)および特開2003−63932号公報(特許文献7)には樹脂で被覆した化粧料用粉体が開示されている。
It is known that particles are surface-treated with a silane coupling agent in order to improve the dispersibility of the particles to prevent aggregation and improve the stability of the coating liquid. A resin is coated by a graft polymerization method or the like to increase the affinity with a matrix component or a dispersion medium. (JP-A-3-163172 (Patent Document 2), JP-A-6-336558 (Patent Document 3), JP-A-6-49251 (Patent Document 4), JP-A 2000-143230 (Patent Document) 5))
JP-A-7-118123 (Patent Document 6) and JP-A-2003-63932 (Patent Document 7) disclose cosmetic powders coated with a resin.

本願出願人は、予め加熱処理した金属酸化物粒子のエーテル類、エステル類、ケトン類を分散媒とする有機溶媒分散液に、アクリル系樹脂を添加し、ついで、メカノケミカル処理すると個々の金属酸化物粒子に均一に樹脂を被覆することができ、有機溶媒を分散媒とする固形分濃度50重量%程度までの高濃度の樹脂被覆金属酸化物粒子分散液が得られることを開示している。特開2010−077409号公報(特許文献8)   The applicant of the present application adds an acrylic resin to an organic solvent dispersion in which ethers, esters, and ketones of metal oxide particles that have been heat-treated in advance are used as a dispersion medium, and then performs mechanochemical treatment to obtain individual metal oxides. It is disclosed that resin particles can be uniformly coated on the product particles, and a high-concentration resin-coated metal oxide particle dispersion liquid having an organic solvent as a dispersion medium and a solid content concentration of up to about 50% by weight can be obtained. JP 2010-077409 (Patent Document 8)

さらに、特開2007−238759号公報(特許文献9)には、少なくともアルミナ等の無機微粒子、第1の熱可塑性樹脂および、第1の有機溶媒を含む第1の混合物を製造する第1の工程、これに力学的負荷を加え、無機微粒子の解膠を生ぜしめる第2の工程、ついで、溶媒のみを留去させる第3の工程とからなる樹脂組成物の製造方法が開示されている。 この樹脂組成物は、自動車等のウインドウシールドをはじめとするガラス部材の樹脂化を目的とし、このとき、透明性を有し、熱に対する膨張を小さくし、曲げ剛性の高い樹脂組成物を得ることが目的であり、このため、小粒子径でアスペクト比の高い針状アルミナ粒子が推奨されている。   Further, JP 2007-238759 A (Patent Document 9) discloses a first step of producing a first mixture containing at least inorganic fine particles such as alumina, a first thermoplastic resin, and a first organic solvent. A method for producing a resin composition comprising a second step in which a mechanical load is applied thereto to cause peptization of inorganic fine particles and then a third step in which only the solvent is distilled off is disclosed. This resin composition is intended for resination of glass members including window shields of automobiles, etc., and at this time, it has transparency, reduces expansion with respect to heat, and obtains a resin composition having high bending rigidity. For this reason, acicular alumina particles having a small particle diameter and a high aspect ratio are recommended.

特開2009−173757号公報JP 2009-173757 A 特開平3−163172号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-163172 特開平6−336558号公報JP-A-6-336558 特開平6−49251号公報JP-A-6-49251 特開2000−143230号公報JP 2000-143230 A 特開平7−118123号公報JP 7-118123 A 特開2003−63932号公報JP 2003-63932 A 特開2010−077409号公報JP 2010-077409 A 特開2007−238759号公報JP 2007-238759 A

このような状況のもと、さらに光透過率が高く、熱的安定性にも優れた封止材や光学薄膜が求められている。また、光学薄膜には膜厚が一定の透明被膜以外にプリズム状、上部表面が凸構造(凸レンズ状)あるいは凹凸構造(波状構造)、さらには上部表面に多数の凸構造を有する膜を形成することで集光性を高める機能を有するものの望まれている。   Under such circumstances, there is a demand for a sealing material and an optical thin film that have higher light transmittance and excellent thermal stability. In addition to the transparent film having a constant film thickness, the optical thin film is formed with a prism shape, a convex structure on the upper surface (convex lens shape) or an uneven structure (wave structure), and a film having a number of convex structures on the upper surface. Thus, it has been desired to have a function of improving the light collecting property.

本発明者等は、以上のような背景をもとに、光透過率の高い、集光性に優れ、熱的安定性にも優れた封止材、プリズムシート等の光学薄膜について鋭意検討した結果、分子量が小さくフルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂とフルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート樹脂と樹脂被覆ジルコニア微粒子とからなる塗料を用いると成形性に優れるとともに、屈折率が高く、透明性、光透過率、集光性等に優れた光学薄膜を形成できることを見出して本発明を完成するに至った。   Based on the background as described above, the present inventors diligently investigated optical thin films such as a sealing material and a prism sheet that have high light transmittance, excellent light condensing properties, and excellent thermal stability. As a result, when using a paint comprising a (meth) acrylate resin having a small molecular weight and not having a fluorene skeleton, a (meth) acrylate resin having a fluorene skeleton and resin-coated zirconia fine particles, the moldability is excellent, and the refractive index is high. The present invention has been completed by finding that an optical thin film excellent in transparency, light transmittance, light condensing property and the like can be formed.

本発明の構成は以下の通りである。
[1]重量平均分子量が86〜3,000の範囲にあるフルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)と、
フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)と、
平均粒子径が5〜50nmの範囲にある樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)とを含んでなる光学薄膜形成用塗料。
[2]フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)が、芳香環および/またはエポキシ環を有するものである[1]の光学薄膜形成用塗料。
[3]樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)が、(メタ)アクリレート系樹脂で被覆されたものであり、該(メタ)アクリレート系樹脂が、芳香族環を有するものである[1]の光学薄膜形成用塗料。
The configuration of the present invention is as follows.
[1] a (meth) acrylate resin (A) having a fluorene skeleton having a weight average molecular weight of 86 to 3,000,
(Meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton,
A coating for forming an optical thin film comprising resin-coated inorganic oxide fine particles (C) having an average particle diameter in the range of 5 to 50 nm.
[2] The coating composition for forming an optical thin film according to [1], wherein the (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton has an aromatic ring and / or an epoxy ring.
[3] The optical fiber according to [1], wherein the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) are coated with a (meth) acrylate resin, and the (meth) acrylate resin has an aromatic ring. Thin film coating.

[4]前記フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)の濃度(CR)が固形分として20〜60重量%の範囲にあり、前記フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)の濃度(CF)が固形分として10〜60重量%の範囲にあり、前記樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の濃度が固形分として20〜70重量%の範囲にあり、有機溶媒の濃度が1000ppm以下である[1]〜[3]の光学薄膜形成用塗料。
[5]前記フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)の濃度(CR)と前記フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)の濃度(CF)の濃度比(CF)/(CR)が0.2〜3.0の範囲にある[1]〜[4]の光学薄膜形成用塗料
[6]前記樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の屈折率が1.7〜2.1の範囲にある[1]〜[5]の光学薄膜形成用塗料。
[4] A (meth) acrylate resin having a concentration of (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton (C R ) in the range of 20 to 60% by weight as a solid content and having the fluorene skeleton. The concentration (C F ) of (B) is in the range of 10 to 60 wt% as the solid content, the concentration of the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) is in the range of 20 to 70 wt% as the solid content, and organic The coating composition for forming an optical thin film according to [1] to [3], wherein the concentration of the solvent is 1000 ppm or less.
[5] Concentration ratio between the concentration (C R ) of the (meth) acrylate resin (A) not having the fluorene skeleton and the concentration (C F ) of the (meth) acrylate resin (B) having the fluorene skeleton ( C F ) / (C R ) [1] to [4] coating for optical thin film formation in the range of 0.2 to 3.0
[6] The coating composition for forming an optical thin film according to [1] to [5], wherein the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) have a refractive index in the range of 1.7 to 2.1.

[7]前記無機酸化物微粒子がジルコニア系微粒子である[1]〜[6]の光学薄膜形成用塗料。
[8]粘度(η)が10〜8,000Pa・sの範囲にある[1]〜[7]の光学薄膜形成用塗料。
[9]屈折率が1.5〜1.8の範囲にある[1]〜[8]の光学薄膜形成用塗料。
[10]前記[1]〜[9]の光学薄膜形成用塗料を用いて形成された光学薄膜。
[11]光透過率が80%以上である[10]の光学薄膜。
[12]屈折率が1.6〜1.8の範囲にある[10]または[11]の光学薄膜。
[13]波型形状、プリズム状、鋸歯状、凸レンズ、凹レンズ状の形状が付与されてなる[9]〜[12]の光学薄膜。
[7] The coating for forming an optical thin film according to [1] to [6], wherein the inorganic oxide fine particles are zirconia-based fine particles.
[8] The coating composition for forming an optical thin film according to [1] to [7], wherein the viscosity (η) is in the range of 10 to 8,000 Pa · s.
[9] The coating composition for forming an optical thin film according to [1] to [8], having a refractive index in the range of 1.5 to 1.8.
[10] An optical thin film formed using the optical thin film forming paint according to [1] to [9].
[11] The optical thin film according to [10], which has a light transmittance of 80% or more.
[12] The optical thin film according to [10] or [11], having a refractive index in the range of 1.6 to 1.8.
[13] The optical thin film according to [9] to [12], which has a wave shape, a prism shape, a sawtooth shape, a convex lens shape, and a concave lens shape.

本発明によれば、屈折率が高く、透明性、光透過率に優れた光学薄膜を形成できる。また、光学薄膜をプリズム構造としたり、凹凸形状(波状液状)を付与することで、集光性等に優れた光学薄膜を形成できる。   According to the present invention, an optical thin film having a high refractive index and excellent transparency and light transmittance can be formed. Moreover, the optical thin film excellent in condensing property etc. can be formed by making an optical thin film into a prism structure, or providing uneven | corrugated shape (wave-like liquid).

本発明の光学薄膜の一適用例の概略図を示す。The schematic of one application example of the optical thin film of this invention is shown. 本発明の光学薄膜の別の一適用例の概略図を示す。The schematic of another application example of the optical thin film of this invention is shown. 本発明の光学薄膜の別の一適用例の概略図を示す。The schematic of another application example of the optical thin film of this invention is shown.

以下、まず、本発明に係る光学薄膜形成用塗料について説明する。
[光学薄膜形成用塗料]
本発明に係る光学薄膜形成用塗料は、重量平均分子量が100〜3,000の範囲にあるフルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)と、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート樹脂(B)と、平均粒子径が5〜50nmの範囲にある樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)とを含んでなることを特徴としている。
なお、本発明での(メタ)アクリレート樹脂とは、アクリレートないしメタアクリレートの単量体(モノマー)やオリゴマーを含む意味である。
Hereinafter, the optical thin film-forming paint according to the present invention will be described first.
[Paint for optical thin film formation]
The coating composition for forming an optical thin film according to the present invention includes a (meth) acrylate resin (A) having a fluorene skeleton having a weight average molecular weight of 100 to 3,000, and a (meth) acrylate resin having a fluorene skeleton. (B) and resin-coated inorganic oxide fine particles (C) having an average particle diameter in the range of 5 to 50 nm.
In addition, the (meth) acrylate resin in this invention is the meaning containing the monomer (monomer) and oligomer of an acrylate thru | or methacrylate.

フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)
本発明に用いるフルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としては、アクリレート構造(アクリル酸エステル)ないしメタクリレート構造(メタクリル酸エステル)を有するものであり、通常モノマーのような単量体が使用されるが、ある程度重合が進んだオリゴマーであってもよい。
(Meth) acrylate resin without fluorene skeleton (A)
The (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton used in the present invention has an acrylate structure (acrylic ester) or a methacrylate structure (methacrylic ester), and is usually a single monomer such as a monomer. However, it may be an oligomer that has undergone polymerization to some extent.

このようなフルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としては、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、n-ステアルルメタクリレート、n-ブトキシエチルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールメタクリレート、ブトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、メトキシトリエチレエングリコールジメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングルコールジグリシジルエーテルアクリレート、ポリエチレングルコールジグリシジルエーテルアクリレート、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルアクリレート、2-エチルヘキシルグリシジルエーテルアクリレート、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルアクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAメタクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジアクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリレート、O-フタル酸ジグリシジルエーテルアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルアクリレート、p−t−ブチルフェニルグリシジルエーテルアクリレート、、O-フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノールA型エポキシアクリレート、フェノールノボラック型エポキシアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。なかでも、芳香族環を少なくとも1個するものが、屈折率や透明性などの点で好ましい。また、硬化性や耐久性の点で、エポキシ環を有するものも好適である。したがって、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としては、芳香族環および/またはエポキシ環を有するものがより好適である。   Examples of the (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, lauryl methacrylate, n-stearyl methacrylate, n-butoxyethyl methacrylate, butoxyethyl acrylate, butoxyethylene glycol methacrylate, butoxydiethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2 -Hydroxyethyl acrylate, 2- Hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, glycidyl methacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, methoxytriethylene glycol dimethacrylate , Ditrimethylolpropane tetraacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, methoxytriethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether acrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether acrylate, dipropylene glycol diglycidyl Ether acrylate, poly Lopylene glycol diglycidyl ether acrylate, 1,6-hexanediol diglycidyl ether acrylate, 2-ethylhexyl glycidyl ether acrylate, pentaerythritol polyglycidyl ether acrylate, neopentyl glycol diglycidyl ether acrylate, ethoxylated bisphenol A diacrylate, ethoxylated bisphenol A methacrylate, ethoxylated cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, propoxylated bisphenol A diacrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A diacrylate, propoxylated bisphenol A diglycidyl ether acrylate, O-phthalic acid diglycidyl ether acrylate, cyclohexane di Methanol diglycidyl ether Acrylate, pt-butylphenylglycidyl ether acrylate, O-phenylphenol glycidyl ether acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, bisphenol A type epoxy acrylate, phenol novolac type epoxy acrylate, cresol novolac type epoxy acrylate, penta Examples include erythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylol methane triacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, tetramethylol methane triacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, and mixtures thereof. Among these, those having at least one aromatic ring are preferable from the viewpoint of refractive index and transparency. Moreover, what has an epoxy ring from the point of sclerosis | hardenability and durability is also suitable. Accordingly, the (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton is more preferably one having an aromatic ring and / or an epoxy ring.

このようなフルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)の重量平均分子量は特に制限はなく、通常、86〜3,000、さらには200〜2,000の範囲にあることが望ましい。   The weight average molecular weight of the (meth) acrylate-based resin (A) having no fluorene skeleton is not particularly limited, and is usually preferably in the range of 86 to 3,000, more preferably 200 to 2,000. .

フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)の重量平均分子量が低いものは、得られる薄膜の屈折率が低く、硬度も低いため高屈折率膜としての機能が不充分となる場合がある。   When the (meth) acrylate-based resin (A) that does not have a fluorene skeleton has a low weight average molecular weight, the resulting thin film has a low refractive index and low hardness, resulting in insufficient function as a high refractive index film. There is.

フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)の重量平均分子量が大きすぎると、該樹脂の配合量にもよるが、光学薄膜形成用塗料の粘度が高くなり過ぎて光学薄膜の形成性が不充分となる場合がある。   If the weight average molecular weight of the (meth) acrylate-based resin (A) that does not have a fluorene skeleton is too large, depending on the amount of the resin, the viscosity of the coating for forming an optical thin film becomes too high, resulting in the formation of an optical thin film. May be insufficient.

光学薄膜形成用塗料中のフルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)の固形分としての濃度(CR)は10〜60重量%、さらには12〜50重量%の範囲にあることが好ましい。CRが少なすぎると、光学薄膜形成用塗料の粘度が高くなり過ぎて光学薄膜の形成性、形成した塗膜の外観が不充分となる場合がある。CRが多すぎると、一方でフルオレン骨格を有するアクリレート樹脂(B)が少なくなり、光学薄膜形成用塗料で形成した塗膜の屈折率が低く、高屈折率膜としての機能が不充分となる場合がある。 The concentration (C R ) as a solid content of the (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton in the coating for forming an optical thin film is in the range of 10 to 60% by weight, more preferably 12 to 50% by weight. It is preferable. When C R is too small, the formation of the optical thin film becomes too high viscosity of the optical thin film-forming coating material, the appearance of the formed coating film becomes insufficient. When C R is too large, while the acrylate resin (B) is reduced with a fluorene skeleton, the refractive index of the coating film formed by an optical thin film-forming coating material is low, the insufficient function as a high refractive index film There is a case.

フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)
フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としては、フルオレン骨格を有する
(Meth) acrylate resin with fluorene skeleton (B)
The (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton has a fluorene skeleton.

Figure 0005815304
(メタ)アクリレート系樹脂(B)であれば特に制限はなく、アクリレート構造(アクリル酸エステル)ないしメタクリレート構造(メタクリル酸エステル)を有するものであり、通常モノマーのような単量体が使用されるが、ある程度重合が進んだオリゴマーであってもよい。
Figure 0005815304
The (meth) acrylate resin (B) is not particularly limited and has an acrylate structure (acrylate ester) or a methacrylate structure (methacrylate ester), and a monomer such as a monomer is usually used. However, it may be an oligomer that has been polymerized to some extent.

このようなフルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂としては、ビスフェノールフルオレン(メタ)アクリレート、ビスクレゾールフルオレン(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレン(メタ)アクリレート、ビスアミノフェルニフルオレン(メタ)アクリレート、ビスアミノプロピルフルオレン(メタ)アクリレート、ビスアミノメチルフルオレン(メタ)アクリレート、ビスヒドロキシメチルプロピルフルオレン、ビスヒドロキシフェニルフルオレン、ビスヒドルキシエトキシフルオレン、ジオクチルフルオレン、ジメチルフルオレン、ビスアクリロイルオキシエトキシフェニルフレオレン、フルオレンアクリレート、フルオレンメタクリレート、フルオレンジアクリレート、フルオレンジメタクリレート等が挙げられる。   Examples of such (meth) acrylate resins having a fluorene skeleton include bisphenol fluorene (meth) acrylate, biscresol fluorene (meth) acrylate, bisphenoxyethanol fluorene (meth) acrylate, bisaminofernifluorene (meth) acrylate, bis Aminopropylfluorene (meth) acrylate, bisaminomethylfluorene (meth) acrylate, bishydroxymethylpropylfluorene, bishydroxyphenylfluorene, bishydroxyethoxyfluorene, dioctylfluorene, dimethylfluorene, bisacryloyloxyethoxyphenylfluorene, fluorene Acrylate, fluorene methacrylate, full orange acrylate, full orange methacrylate And the like.

このようなフルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)を含んでいると、低粘度で成形性に優れた高屈折率な塗料を得ることができ、得られる光学薄膜は高屈折率で、透明性、集光性に優れている。   When the (meth) acrylate-based resin (B) having such a fluorene skeleton is included, it is possible to obtain a high refractive index paint having a low viscosity and excellent moldability, and the obtained optical thin film has a high refractive index. , Excellent in transparency and light collection.

このようなフルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)を前記(メタ)アクリレート系樹脂(A)と組み合わせると、単にフルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)だけでは、粘度が高く成形性が低くなってしまうが、(メタ)アクリレート系樹脂(A)と組み合わせることで、透明性が高くなる。また芳香環を含む(メタ)アクリレート系樹脂(A)と組み合わせれば、屈折率が低下することもなく、凹凸を形成したときの集光性にも優れている。   When such a (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton is combined with the (meth) acrylate resin (A), the viscosity of the (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton alone is low. Although the moldability is high, the transparency increases when combined with the (meth) acrylate resin (A). Further, when combined with the (meth) acrylate resin (A) containing an aromatic ring, the refractive index does not decrease, and the light condensing property is excellent when irregularities are formed.

光学薄膜形成用塗料中の前記フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)の固形分としての濃度(CF)は10〜60重量%、さらには20〜50重量%の範囲にあることが好ましい。CFが低いと、後述する樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の含有量にもよるが、所望の屈折率を有する光学薄膜形成用塗料、光学薄膜を得ることが困難となる場合がある。CFが高すぎても、塗料および光学薄膜の屈折率は高くなるものの、光学薄膜形成用塗料の粘度が高くなりすぎて、光学薄膜の形成性、形成した光学薄膜の外観が不充分となる場合がある。 The concentration (C F ) as a solid content of the (meth) acrylate-based resin (B) having the fluorene skeleton in the coating for forming an optical thin film is in the range of 10 to 60% by weight, more preferably 20 to 50% by weight. Is preferred. When C F is low, depending on the content of the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) described later, it may be difficult to obtain a coating for forming an optical thin film and an optical thin film having a desired refractive index. Even if C F is too high, the refractive index of the paint and the optical thin film becomes high, but the viscosity of the paint for forming the optical thin film becomes too high, and the formability of the optical thin film and the appearance of the formed optical thin film become insufficient. There is a case.

前記フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)の固形分としての濃度(CR)とフルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート樹脂(B)の固形分としての濃度(CF)との比CF/CRは0.2〜3、さらには0.5〜2.0の範囲にあることが好ましい。この比率であれば屈折率が高く、成形性を高く保つことができる。(CF)/(CR)が低いと、屈折率が低くなり、所望の屈折率を有する光学薄膜形成用塗料、光学薄膜を得ることが困難となる場合があり、得られる光学薄膜の硬度、屈折率が不充分となり、充分な集光性が得られない場合がある。(CF)/(CR)が高すぎると塗料および光学薄膜の屈折率は高くなるものの、光学薄膜形成用塗料の粘度が高くなりすぎて、光学薄膜の形成性、形成した塗膜の外観が不充分となる場合がある。 Concentration (C R ) as a solid content of the (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton and a concentration (C F ) as a solid content of the (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton The ratio C F / C R is preferably in the range of 0.2 to 3, more preferably 0.5 to 2.0. With this ratio, the refractive index is high and the moldability can be kept high. If (C F ) / (C R ) is low, the refractive index will be low, and it may be difficult to obtain an optical thin film-forming paint or optical thin film having a desired refractive index. In some cases, the refractive index becomes insufficient and sufficient light condensing performance cannot be obtained. If (C F ) / (C R ) is too high, the refractive index of the paint and the optical thin film will be high, but the viscosity of the paint for forming an optical thin film will be too high. May be insufficient.

樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)
本発明に用いる樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)は、無機酸化物微粒子が樹脂で被覆されている。このような微粒子(C)を含むことで、分散性、安定性、成形性に優れた光学薄膜形成用塗料が得られる。また、膜の強度、硬度に優れるとともに、透明性に優れ、屈折率が高く、集光性にも優れた光学薄膜が得られる。
Resin-coated inorganic oxide fine particles (C)
In the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) used in the present invention, the inorganic oxide fine particles are coated with a resin. By containing such fine particles (C), a coating for forming an optical thin film excellent in dispersibility, stability, and moldability can be obtained. In addition, an optical thin film having excellent film strength and hardness, excellent transparency, high refractive index, and excellent light collecting properties can be obtained.

(i)被覆用樹脂
被覆用樹脂としては、(メタ)アクリレート系樹脂が好ましく、特に芳香族環を有する(メタ)アクリレート系樹脂が好ましい。
(i) Coating resin As the coating resin, a (meth) acrylate resin is preferable, and a (meth) acrylate resin having an aromatic ring is particularly preferable.

このような被覆用樹脂は前記フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート樹脂(B)と同一であっても、異なっていてもよい。   Such a coating resin may be the same as or different from the (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton and the (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton.

芳香族環を有する(メタ)アクリレート系樹脂を用いると、個々の粒子に均一に被覆することができ、また樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)の混合物との親和性が高いため、均一に分散させることができる。したがって、樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)が高分散した、安定性に優れた光学薄膜形成用塗料が得られ、この塗料に硬化剤を添加し、塗布し、乾燥することなく硬化させると、溶媒の飛散がないので塗布時の膜厚がそのまま、あるいは鋳型形状そのままの形状で、高屈折率で緻密な透明性、ヘーズ、硬度、耐擦傷性、集光性に優れた光学薄膜を形成することができる。   When a (meth) acrylate resin having an aromatic ring is used, it is possible to uniformly coat individual particles, and resin-coated inorganic oxide fine particles (C) and (meth) acrylate resins (A) and (B ) Can be dispersed uniformly. Accordingly, a coating for forming an optical thin film excellent in stability in which resin-coated inorganic oxide fine particles (C) are highly dispersed is obtained, and a curing agent is added to the coating, applied, and cured without drying. Forms an optical thin film with high refractive index, high transparency, high transparency, haze, hardness, scratch resistance, and excellent light-collecting properties because the solvent does not scatter and the film thickness at the time of coating is unchanged be able to.

前記無機酸化物微粒子被覆用の(メタ)アクリレート系樹脂は、さらに、水酸基、アミノ基、カルボニル基、カルボキシル基、スルホ基から選ばれる少なくとも1種の官能基を有する(メタ)アクリレート系樹脂が好ましい。   The (meth) acrylate resin for coating the inorganic oxide fine particles is preferably a (meth) acrylate resin having at least one functional group selected from a hydroxyl group, an amino group, a carbonyl group, a carboxyl group, and a sulfo group. .

このような官能基を有するものは、無機酸化物微粒子と親和性が高く、粒子表面に強く吸着し、場合によっては結合し、調製時に、緻密で均一な樹脂被覆層を形成することができる。   Those having such a functional group have high affinity with the inorganic oxide fine particles, and are strongly adsorbed on the surface of the particles and bonded in some cases, so that a dense and uniform resin coating layer can be formed at the time of preparation.

本発明で使用される(メタ)アクリレート系樹脂としては、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジアクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリレート、O-フタル酸ジグリシジルエーテルアクリレート、p−t−ブチルフェニルグリシジルエーテルアクリレート、9.9-ビス4−2−アクリロイルオキシエトキシフェニルフレオレン、ビスフェノールAジグリシジルエーテル(メタ)アクリル酸付加物、O-フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノールA型エポキシアクリレート、フェノールノボラック型エポキシアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート、カルボン酸無水物変成エポキシアクリレートなどの(メタ)アクリレート樹脂等およびこれらの混合物が挙げられる。   Examples of (meth) acrylate resins used in the present invention include ethoxylated bisphenol A diacrylate, propoxylated bisphenol A diacrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A diacrylate, propoxylated bisphenol A diglycidyl ether acrylate, and O-phthalate. Acid diglycidyl ether acrylate, pt-butylphenyl glycidyl ether acrylate, 9.9-bis-4-acryloyloxyethoxyphenyl fluorene, bisphenol A diglycidyl ether (meth) acrylic acid adduct, O-phenylphenol glycidyl Ether acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, bisphenol A type epoxy acrylate, phenol novolac type epoxy acrylate , Cresol novolak epoxy acrylate, mixtures and of these (meth) acrylate resins such as carboxylic acid anhydride-modified epoxy acrylate.

(ii)無機酸化物微粒子
本発明に用いる無機酸化物微粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化錫等およびこれらを主成分とする複合酸化物、これらの混合物を挙げることができる。
(ii) Inorganic oxide fine particles Inorganic oxide fine particles used in the present invention include, for example, zirconium oxide, aluminum oxide, antimony oxide, cerium oxide, zinc oxide, tin oxide and the like, and composite oxides containing these as main components, these Can be mentioned.

なかでも、酸化ジルコニウム微粒子、酸化ジルコニウムを主成分とする複合酸化物微粒子は、屈折率が高く、光活性を有することもなく化学的に、熱的に安定であるので好適に用いることができる。   Among these, zirconium oxide fine particles and composite oxide fine particles mainly composed of zirconium oxide can be preferably used because they have a high refractive index and are chemically and thermally stable without having photoactivity.

無機酸化物微粒子の平均粒子径(一次粒子径)は概ね5〜50nm、さらには8〜40nmの範囲にあることが好ましい。この範囲にあるものは光学用途に好適である。
平均粒子径が小さいと、結晶性が低く、屈折率も低いことに加えて、樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)を調製する際に凝集することがあり、このため樹脂被覆が不均一になり、分散性が不充分になる場合がある。平均粒子径が大きければ、最終的な樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)も大きく、最終的に得られる光学薄膜の透明性、光透過率、ヘーズや耐擦傷性が不充分となる場合がある。
The average particle size (primary particle size) of the inorganic oxide fine particles is preferably in the range of about 5 to 50 nm, more preferably 8 to 40 nm. Those within this range are suitable for optical applications.
If the average particle size is small, the crystallinity is low and the refractive index is low. In addition, the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) may be agglomerated, which makes the resin coating non-uniform. , Dispersibility may be insufficient. If the average particle size is large, the final resin-coated inorganic oxide fine particles (C) are also large, and the transparency, light transmittance, haze and scratch resistance of the final optical thin film may be insufficient. .

前記樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の屈折率は1.70〜2.10、好ましくは1.70〜2.00の範囲にあるものが好ましい。
本発明で用いる粒子の屈折率の測定方法は、標準屈折液としてCARGILL製のSeriesA、AAを用い、以下の方法で測定した。
(1)無機酸化物微粒子あるいは、樹脂被覆無機酸化物微粒子分散液をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させる。
(2)これを80℃で12時間乾燥し、粉末とする。
(3)屈折率が既知の標準屈折液を2、3滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。
(4)上記(3)の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率を無機酸化物微粒子あるいは、樹脂被覆無機酸化物微粒子の屈折率とする。
The resin-coated inorganic oxide fine particles (C) preferably have a refractive index in the range of 1.70 to 2.10, preferably 1.70 to 2.00.
The refractive index of the particles used in the present invention was measured by the following method using Series A and AA manufactured by CARGILL as the standard refractive liquid.
(1) The inorganic oxide fine particles or the resin-coated inorganic oxide fine particle dispersion is taken in an evaporator and the dispersion medium is evaporated.
(2) This is dried at 80 ° C. for 12 hours to obtain a powder.
(3) A standard refraction liquid having a known refractive index is dropped on a glass plate of a few drops, and the above powder is mixed therewith.
(4) The operation of (3) above is performed with various standard refractive liquids, and the refractive index of the standard refractive liquid when the mixed liquid becomes transparent is the refractive index of the inorganic oxide fine particles or resin-coated inorganic oxide fine particles. To do.

樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)における無機酸化物微粒子と被覆樹脂との重量比(粒子/樹脂)は97/3〜20/80、さらには85/15〜50/50、特に70/30〜50/50の範囲にあることが好ましい。   The weight ratio (particle / resin) between the inorganic oxide fine particles and the coating resin in the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) is 97/3 to 20/80, more preferably 85/15 to 50/50, particularly 70/30 to Preferably it is in the range of 50/50.

無機酸化物微粒子の割合が多すぎると、粒子径にもよるが無機酸化物微粒子を完全に、均一に被覆できない場合があり、分散性、安定性、成形性に優れた光学薄膜形成用塗料が得られない場合がある。一方被覆樹脂が多すぎてしまうと、光学薄膜形成用塗料および光学薄膜の屈折率が不充分となり、集光性が不充分となる場合がある。   If the proportion of the inorganic oxide fine particles is too large, although depending on the particle diameter, the inorganic oxide fine particles may not be coated completely and uniformly, and an optical thin film-forming coating material excellent in dispersibility, stability and moldability can be obtained. It may not be obtained. On the other hand, if there is too much coating resin, the refractive index of the coating for forming an optical thin film and the optical thin film may be insufficient, and the light condensing performance may be insufficient.

光学薄膜形成用塗料中の樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の濃度は固形分として10〜80重量%、さらには20〜70重量%の範囲にあることが好ましい。
光学薄膜形成用塗料中の樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の濃度が少ないと、光学薄膜形成用塗料および光学薄膜の屈折率が不充分となり、集光性が不充分となる場合がある。
The concentration of the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) in the coating for forming an optical thin film is preferably 10 to 80% by weight, more preferably 20 to 70% by weight as a solid content.
If the concentration of the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) in the coating for forming an optical thin film is low, the refractive index of the coating for forming an optical thin film and the optical thin film may be insufficient, and the light condensing property may be insufficient.

光学薄膜形成用塗料中の樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の濃度が多すぎると、光学薄膜形成用塗料および光学薄膜の屈折率は高くなるものの、光学薄膜の透明性、光透過率が不充分となる場合がある。
樹脂被覆無機酸化物微粒子の平均粒子径は、5〜50nm、さらには8〜40nmの範囲にあることが好ましい。この範囲にあるものは光学用途に好適である。
If the concentration of the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) in the coating for forming an optical thin film is too high, the refractive index of the coating for forming an optical thin film and the optical thin film is increased, but the transparency and light transmittance of the optical thin film are poor. May be sufficient.
The average particle diameter of the resin-coated inorganic oxide fine particles is preferably in the range of 5 to 50 nm, more preferably 8 to 40 nm. Those within this range are suitable for optical applications.

樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の製造方法
前記した樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)は、例えば以下のような方法によって製造することができるが、以下の方法に限定するものではない。
Production Method of Resin-Coated Inorganic Oxide Fine Particles (C) The above-mentioned resin-coated inorganic oxide fine particles (C) can be produced, for example, by the following method, but is not limited to the following method.

本発明に用いる樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の好適な製造方法は、平均粒子径が5nm〜100μmの範囲にある予め加熱処理した無機酸化物粒子、有機溶媒、被覆用樹脂として前記した(メタ)アクリレート系樹脂の混合物をメカノケミカル処理する。   A preferred method for producing the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) used in the present invention has been described above as inorganic oxide particles, an organic solvent, and a coating resin that have been heat-treated in an average particle diameter range of 5 nm to 100 μm ( A mechanochemical treatment of a mixture of (meth) acrylate resins.

(i)無機酸化物粒子
無機酸化物粒子としては、前記した種類の粒子を用いる。
本発明では酸化ジルコニウム粒子、酸化ジルコニウムを主成分とする複合酸化物粒子が好ましい。なかでも、酸化ジルコニウム粒子は屈折率が高く、予め加熱処理した結晶性の高い粒子をメカノケミカル処理する際に、粒子表面に樹脂を均一に被覆することができ、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)への分散性、分散安定性に優れた樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)を得ることができる。
(i) Inorganic oxide particles As the inorganic oxide particles, the types of particles described above are used.
In the present invention, zirconium oxide particles and composite oxide particles mainly containing zirconium oxide are preferable. Among them, zirconium oxide particles have a high refractive index, and when mechanochemical treatment is performed on particles with high crystallinity that have been heat-treated in advance, the surface of the particles can be uniformly coated with a resin and does not have a fluorene skeleton. Resin-coated inorganic oxide fine particles (C) excellent in dispersibility and dispersion stability in the acrylate resin (A) and the (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton can be obtained.

無機酸化物粒子の平均粒子径は概ね5nm〜100μm、さらには概ね300nmから50μmの範囲にあることが好ましい。
無機酸化物粒子の平均粒子径が小さいと、メカノケミカル処理による粒子の開裂が実質的に生じないためか樹脂被覆が不充分となり、樹脂被覆できたとしても凝集していたり、分散性、安定性が不充分となる場合がある。無機酸化物粒子の平均粒子径が大きいと、無機酸化物粒子の塊砕あるいは粉砕効率が低下したり、粉砕が困難となり、得られる樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の平均粒子径が大きくなり、これを用いた光学薄膜形成用塗料の安定性が不充分となることがある。そして、光学薄膜形成用塗料を用いた光学薄膜の透明性、ヘーズ、光透過率、硬度、耐擦傷性、集光性等が不充分となることがある。
The average particle diameter of the inorganic oxide particles is preferably about 5 nm to 100 μm, more preferably about 300 nm to 50 μm.
If the average particle size of the inorganic oxide particles is small, the cleaving of the particles due to the mechanochemical treatment will not occur substantially, or the resin coating will be insufficient, and even if the resin coating can be achieved, it is agglomerated, dispersibility, stability May be insufficient. If the average particle diameter of the inorganic oxide particles is large, the pulverization or pulverization efficiency of the inorganic oxide particles will be reduced, or pulverization will be difficult, and the average particle diameter of the resulting resin-coated inorganic oxide fine particles (C) will be large. The stability of the optical thin film-forming paint using this may become insufficient. Then, the transparency, haze, light transmittance, hardness, scratch resistance, light condensing property, etc. of the optical thin film using the coating for forming an optical thin film may be insufficient.

なお、使用する無機酸化物粒子の平均粒子径が大きい場合、必要に応じて、粉砕・塊砕によって、所定の平均粒子径にしてもよい。
本発明で用いる無機酸化物粒子の平均粒子径は上記範囲にあれば特に制限はなく、一次粒子であっても、一次粒子の集合体である二次粒子であってもよい。
In addition, when the average particle diameter of the inorganic oxide particle to be used is large, you may make it a predetermined | prescribed average particle diameter by grinding | pulverization and agglomeration as needed.
The average particle diameter of the inorganic oxide particles used in the present invention is not particularly limited as long as it is in the above range, and may be primary particles or secondary particles that are aggregates of primary particles.

用いる無機酸化物粒子は、噴霧乾燥して得られ、平均粒子径が1〜100μm、さらには2〜50μmの範囲にあることが好ましい。
このような無機酸化物粒子は、平均粒子径が5nm〜概ね10μmの範囲にある無機酸化物粒子(一次粒子、二次粒子を含む)の水分散液を常法によって噴霧乾燥することによって得られる。
The inorganic oxide particles to be used are obtained by spray drying, and the average particle diameter is preferably in the range of 1 to 100 μm, more preferably 2 to 50 μm.
Such inorganic oxide particles are obtained by spray-drying an aqueous dispersion of inorganic oxide particles (including primary particles and secondary particles) having an average particle diameter in the range of 5 nm to approximately 10 μm by a conventional method. .

このような噴霧乾燥した無機酸化物粒子を用いると、後述する有機分散媒に容易に分散し、この時増粘することもなく、ついで被覆用樹脂を添加した際にも増粘することなく均一に分散し、ついで、メカノケミカル処理する際に容易にほぐれ、無機酸化物粒子に均一に樹脂を被覆することができる。   When such spray-dried inorganic oxide particles are used, they are easily dispersed in the organic dispersion medium to be described later, and do not thicken at this time, and even when a coating resin is added, it is uniform without thickening. Then, it is easily loosened during mechanochemical treatment, and the inorganic oxide particles can be uniformly coated with the resin.

本発明では、平均一次粒子径は粒子の透過型電子顕微鏡写真(TEM)を撮影し、100個の粒子について粒子径を測定し、その平均値として求める。
また、原料に使用する無機酸化物粒子が凝集粒子(二次粒子)である場合は、動的光散乱法「マイクロトラック粒度分布測定装置」によって求めることができる。
In the present invention, the average primary particle diameter is determined by taking a transmission electron micrograph (TEM) of the particles, measuring the particle diameter of 100 particles, and obtaining the average value.
Moreover, when the inorganic oxide particle used for a raw material is an aggregated particle (secondary particle), it can obtain | require with the dynamic light-scattering method "micro track particle size distribution measuring apparatus".

前記無機酸化物粒子は、予め100〜800℃、さらには105〜500℃で加熱処理されていることが好ましい。
なお、無機酸化物粒子を調製する際に、すでに、前記温度範囲の加熱履歴のある場合は、別途、加熱処理を行う必要はない。また、前記温度範囲の加熱履歴があってもその後に水分散履歴のある場合は加熱処理することが好ましい。
The inorganic oxide particles are preferably preliminarily heat-treated at 100 to 800 ° C., more preferably 105 to 500 ° C.
When preparing the inorganic oxide particles, if there is already a heating history in the above temperature range, it is not necessary to perform a separate heat treatment. In addition, even if there is a heating history in the temperature range, if there is a water dispersion history after that, it is preferable to perform heat treatment.

かかる加熱処理によって、樹脂被覆量を多く、かつ均一に被覆でき、その結果、得られる樹脂被覆無機酸化物粒子、これを用いた光学薄膜形成用塗料の安定性を高めることが可能となる。その理由は明確ではないものの、加熱処理によって、付着水が除去され、無機酸化物粒子表面の活性が高くなるためか、被覆用樹脂の吸着量が増加し、無機酸化物粒子と樹脂との結合を促進することが考えられる。   By such heat treatment, the resin coating amount can be increased and uniformly coated, and as a result, the stability of the resulting resin-coated inorganic oxide particles and the optical thin film forming paint using the same can be enhanced. The reason for this is not clear, but the heat treatment removes the adhering water and increases the activity of the surface of the inorganic oxide particles, which increases the adsorption amount of the coating resin, and binds the inorganic oxide particles to the resin. Can be promoted.

加熱処理温度が低すぎると、付着水が残存する等のために無機酸化物粒子の表面が不活性なためか、樹脂の吸着、粒子と樹脂との結合が不充分となり、樹脂被覆量が不充分となる場合があり、得られる光学薄膜形成用塗料の安定性、成形性が不充分となることがある。   If the heat treatment temperature is too low, the surface of the inorganic oxide particles may be inactive due to residual water remaining, etc., or the resin adsorption and bonding between the particles and the resin will be insufficient, resulting in insufficient resin coating. In some cases, the stability and moldability of the resulting coating for forming an optical thin film may be insufficient.

また加熱処理温度が高すぎても無機酸化物粒子が過度に凝集したり、無機酸化物粒子の種類によっては焼結したり、被覆用樹脂との親和性、吸着性、結合性が大きく低下し、得られる光学薄膜形成用塗料の安定性、成形性が不充分となることがある。   In addition, even if the heat treatment temperature is too high, the inorganic oxide particles are excessively aggregated, or depending on the type of inorganic oxide particles, sintered, and the affinity, adsorbability, and binding properties with the coating resin are greatly reduced. The stability and moldability of the resulting optical thin film-forming paint may be insufficient.

その結果、得られる光学薄膜の透明性、ヘーズ、集光性、硬度、耐擦傷性等が不充分となることがある。   As a result, the transparency, haze, light condensing property, hardness, scratch resistance, etc. of the obtained optical thin film may be insufficient.

(ii)有機溶媒
有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒を用いることができる。
例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等のアルコール類;エチレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプルピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類;酢酸プルピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸2−エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレングリコールモノアセタート等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル等のケトン類;トルエン、キシレン等が挙げられる。
(ii) Organic solvent As the organic solvent, a conventionally known organic solvent can be used.
For example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol; glycols such as ethylene glycol and hexylene glycol; diethyl ether, ethylene glycol Ethers such as monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether; propyl acetate, isobutyl acetate , Butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, 3-methyl acetate Esters such as xylbutyl, 2-ethylbutyl acetate, cyclohexyl acetate, ethylene glycol monoacetate; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl methyl ketone, cyclohexanone, methyl cyclohexanone, dipropyl ketone, methyl pentyl ketone, diisobutyl ketone, isophorone, Ketones such as acetylacetone and acetoacetate; toluene, xylene and the like.

なかでも、前記エーテル類、エステル類、ケトン類は樹脂の被覆効率がよく、得られる樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)に凝集粒子が少なく、分散性に優れ、沈降も起きず安定であるので好ましい。
特にエーテル類はメカノケミカル処理において無機酸化物粒子が凝集しにくく、均一に樹脂被覆できるので好適に用いることができる。
Among them, the ethers, esters, and ketones have good resin coating efficiency, the resulting resin-coated inorganic oxide fine particles (C) have few aggregated particles, are excellent in dispersibility, and are stable without sedimentation. preferable.
In particular, ethers can be suitably used because inorganic oxide particles hardly aggregate in mechanochemical treatment and can be uniformly coated with a resin.

(iii)被覆用樹脂
被覆樹脂としては前記した(メタ)アクリレート系樹脂が好適に用いられる。
芳香族環を有する(メタ)アクリレート系の樹脂を用いると、より分散性が良好で、低粘度で、安定性、成形性に優れた光学薄膜形成用塗料を得ることができる。
(iii) Coating resin As the coating resin, the (meth) acrylate resin described above is preferably used.
When a (meth) acrylate-based resin having an aromatic ring is used, a coating for forming an optical thin film with better dispersibility, low viscosity, and excellent stability and moldability can be obtained.

(iv)メカノケミカル処理
無機酸化物粒子と被覆樹脂とを最終的に得られる前記範囲となるように混合する。
メカノケミカル処理時の無機酸化物粒子と被覆樹脂との全固形分濃度が1〜50重量%、さらには2〜45重量%の範囲にあることが好ましい。全固形分濃度が低すぎると、全部の粒子を均一に処理することが困難であったり長時間を要し、樹脂被覆が不均一になる場合があり、得られる光学薄膜形成用塗料の分散性、安定性が不充分となり、さらに得られる光学薄膜も透明性が低く、ヘーズが高く、集光性が不充分となる場合がある。
(iv) Mechanochemical treatment The inorganic oxide particles and the coating resin are mixed so that the final range is obtained.
The total solid concentration of the inorganic oxide particles and the coating resin during the mechanochemical treatment is preferably in the range of 1 to 50% by weight, more preferably 2 to 45% by weight. If the total solid content is too low, it may be difficult to treat all particles uniformly or may take a long time, and the resin coating may become non-uniform. Dispersibility of the resulting coating for forming an optical thin film In some cases, the stability becomes insufficient, and the obtained optical thin film also has low transparency, high haze, and insufficient light collecting properties.

全固形分濃度が高すぎると、無機酸化物粒子の種類、有機溶媒、被覆樹脂の種類によっては処理の進行に伴い急激に粘度が上昇したり、粒子が凝集することがあり、得られる光学薄膜形成用塗料での分散性、安定性、成形性が不充分となり、さらに得られる光学薄膜も透明性が低く、ヘーズが高く、集光性が不充分となる場合がある。   If the total solid concentration is too high, depending on the type of inorganic oxide particles, organic solvent, and coating resin, the viscosity may suddenly increase or the particles may agglomerate with the progress of the treatment, and the resulting optical thin film In some cases, dispersibility, stability, and moldability in the coating composition are insufficient, and the obtained optical thin film has low transparency, high haze, and insufficient light collecting properties.

本発明のメカノケミカル処理方法は、前記した無機酸化物粒子、被覆用樹脂、有機溶媒、混合比率および濃度を採用する以外は従来公知の方法を採用することができる。
例えば、ヘンシェルミキサー、ホモミキサー、ホモジナイザー、ビーズミル等に有機溶媒、無機酸化物粒子および樹脂被覆材を所定量計量し、高速で撹拌する。
For the mechanochemical treatment method of the present invention, a conventionally known method can be adopted except that the above-described inorganic oxide particles, coating resin, organic solvent, mixing ratio and concentration are adopted.
For example, a predetermined amount of an organic solvent, inorganic oxide particles, and resin coating material are weighed in a Henschel mixer, a homomixer, a homogenizer, a bead mill, etc., and stirred at a high speed.

撹拌速度は使用する装置、方式等によって異なるが、あまりに低速であると、無機酸化物粒子の粒子径が大きい場合には塊砕あるいは粉砕が不充分となり、得られる樹脂被覆無機酸化物粒子の粒子径が大きすぎたり、樹脂被覆量が不足したり、粒子と樹脂との結合が不充分となるためか光学薄膜形成用塗料の安定性、成形性が不充分となることがあり、最終的に得られる光学薄膜の透明性、ヘーズ、集光性、硬度、耐擦傷性等が不充分となることがある。   The stirring speed varies depending on the apparatus and method used, but if it is too slow, if the particle size of the inorganic oxide particles is large, the agglomeration or pulverization becomes insufficient, and the resulting resin-coated inorganic oxide particle particles The diameter may be too large, the amount of resin coating may be insufficient, or the bonding between the particles and the resin may be insufficient, or the stability and moldability of the optical thin film forming paint may be insufficient. The resulting optical thin film may be insufficient in transparency, haze, light collecting property, hardness, scratch resistance and the like.

なお、従来、上記のような方法で樹脂を被覆する際に重合開始剤を添加したり、紫外線照射、プラズマ照射することが行われるが、重合開始剤を添加したり、紫外線照射すると被覆用樹脂が粒子表面を被覆しない場合や、被覆しても樹脂の重合、硬化が進みすぎるためにフルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)との親和性、結合性が低下し、光学薄膜の透明性、光透過率、硬度、耐擦傷性等が低下する傾向がある。   Conventionally, when a resin is coated by the method described above, a polymerization initiator is added, or ultraviolet irradiation or plasma irradiation is performed. However, when a polymerization initiator is added or ultraviolet irradiation is performed, a coating resin is used. Does not cover the particle surface, or even if the resin is coated, the polymerization and curing of the resin proceeds so much that the (meth) acrylate resin (A) not having a fluorene skeleton (A), the (meth) acrylate resin having a fluorene skeleton ( There is a tendency that the affinity and binding properties with B) are lowered, and the transparency, light transmittance, hardness, scratch resistance and the like of the optical thin film are lowered.

こうして得られた樹脂被覆無機酸化物粒子(C)の平均粒子径は5〜50nm、さらには8〜40nmの範囲にあることが好ましい。
樹脂被覆量は前記範囲にあるが、実質的に樹脂被覆前と後の無機酸化物粒子の平均粒子径は同じであってもよく、当然樹脂被覆後の平均粒子径は大きくなっていても良い。得られた粒子の平均粒子径が、上記範囲であれば、透明性やヘーズ、光透過率、硬度、耐擦傷性に優れ、集光性に優れた透明被膜が得られる。
The average particle diameter of the resin-coated inorganic oxide particles (C) thus obtained is preferably 5 to 50 nm, more preferably 8 to 40 nm.
Although the resin coating amount is in the above range, the average particle diameter of the inorganic oxide particles before and after the resin coating may be substantially the same, and the average particle diameter after the resin coating may naturally be large. . When the average particle diameter of the obtained particles is within the above range, a transparent film excellent in transparency, haze, light transmittance, hardness, scratch resistance and light collecting property can be obtained.

本発明では、樹脂被覆無機酸化物粒子(C)の平均粒子径は透過型電子顕微鏡写真(TEM)観察法によった。
メカノケミカル処理の終点は、上記樹脂被覆無機酸化物粒子(C)が得られればよく、一部未反応(被覆に関与しない)樹脂が残存していてもよい。
In the present invention, the average particle diameter of the resin-coated inorganic oxide particles (C) was determined by a transmission electron micrograph (TEM) observation method.
The end point of the mechanochemical treatment is not particularly limited as long as the resin-coated inorganic oxide particles (C) can be obtained, and a part of the unreacted resin (not involved in coating) may remain.

光学薄膜形成用塗料の製造方法
つぎに、本発明に係る光学薄膜形成用塗料は、上記製造方法で得られた樹脂被覆無機酸化物粒子(C)に、(メタ) アクリレート系樹脂を混合する。具体的には、前記樹脂被覆無機酸化物粒子(C)を調製する際に、メカニカル処理後、所定の割合となるように、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)とフルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)と、有機溶媒とを混合した後、含まれている有機溶媒を除去する。
Method for Producing Optical Thin Film Forming Paint Next, in the optical thin film forming paint according to the present invention, a (meth) acrylate resin is mixed with the resin-coated inorganic oxide particles (C) obtained by the above production method. Specifically, when preparing the resin-coated inorganic oxide particles (C), the (meth) acrylate resin (A) and the fluorene having no fluorene skeleton so as to have a predetermined ratio after the mechanical treatment. The (meth) acrylate resin (B) having a skeleton and an organic solvent are mixed, and then the contained organic solvent is removed.

フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)とフルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート樹脂(B)とを混合した後は、各成分が均一に分散するように撹拌すればよいが、必要に応じてメカノケミカル処理を継続することもできる。   After mixing the (meth) acrylate-based resin (A) having no fluorene skeleton and the (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton, the components may be stirred so that they are uniformly dispersed. If necessary, the mechanochemical treatment can be continued.

有機溶媒の除去方法は、有機溶媒の種類、沸点、配合量等によっても異なるが、加熱下、好ましくは加熱・減圧下で行う。加熱温度は樹脂によっても異なるが樹脂の重合が開始する温度未満とし、通常50℃以下が好ましい。装置としては、ロータリーエバポレーター、減圧蒸留装置等が採用される。   The method for removing the organic solvent varies depending on the type, boiling point, blending amount, etc. of the organic solvent, but is performed under heating, preferably under heating and reduced pressure. The heating temperature varies depending on the resin, but is lower than the temperature at which the polymerization of the resin starts, and is usually preferably 50 ° C. or lower. As the apparatus, a rotary evaporator, a vacuum distillation apparatus or the like is employed.

有機溶媒の除去は、得られる光学薄膜形成用塗料中の有機溶媒の残存量が1000ppm以下、さらには500ppm以下となるまで除去することが好ましい。
光学薄膜形成用塗料中に有機溶媒が多く残存していると、光学薄膜形成用塗料の粘度は低くなるものの、光学薄膜形成時に乾燥工程を設けて有機溶媒を除去する必要があり、残存量によっては膜の緻密性、硬度、耐擦傷性等を向上させる効果が充分得られない場合がある。また、残存有機溶媒によって、硬化時に膜の収縮が大きく、成型性を大きく低下させることがある。
It is preferable to remove the organic solvent until the remaining amount of the organic solvent in the resulting optical thin film-forming coating material is 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less.
If a large amount of organic solvent remains in the optical thin film forming paint, the viscosity of the optical thin film forming paint will be low, but it is necessary to provide a drying step during the formation of the optical thin film to remove the organic solvent. In some cases, the effect of improving the denseness, hardness, scratch resistance and the like of the film cannot be sufficiently obtained. In addition, the residual organic solvent causes a large shrinkage of the film during curing, which may greatly reduce the moldability.

以上のようにして調製された光学薄膜形成用塗料の粘度は10〜8,000mPa・s、好ましくは50〜5,000mPa・s、さらに好ましくは100〜3,000mPa・sの範囲にあることが好ましい。この範囲にあれば塗工性、ハンドリング性、光学薄膜形成性等に優れている。   The viscosity of the coating for forming an optical thin film prepared as described above is in the range of 10 to 8,000 mPa · s, preferably 50 to 5,000 mPa · s, more preferably 100 to 3,000 mPa · s. preferable. If it exists in this range, it is excellent in coating property, handling property, optical thin film formation property, etc.

さらに、光学薄膜形成用塗料には必要に応じて、重合開始剤または硬化剤を混合することもできる。具体的には、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、2−ヒドロキシ−メチル−2−メチル−フェニル−プロパン−1−ケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン等が挙げられる。これらの含有量は樹脂の重量の2〜20重量%、好ましくは4〜16重量%の範囲にあることが望ましい。
つぎに、本発明に係る光学薄膜について説明する。
Furthermore, a polymerization initiator or a curing agent can be mixed in the coating for forming an optical thin film, if necessary. Specifically, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) 2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, 2-hydroxy-methyl-2 -Methyl-phenyl-propane-1-ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) Phenyl] -2-morpholinopropan-1-one and the like. These contents are desirably in the range of 2 to 20% by weight, preferably 4 to 16% by weight, based on the weight of the resin.
Next, the optical thin film according to the present invention will be described.

光学薄膜
本発明に係る光学薄膜は、前記した光学薄膜形成用塗料を用いて形成されたことを特徴としている。
Optical thin film The optical thin film according to the present invention is formed by using the optical thin film forming paint described above.

具体的には、上記した光学薄膜形成用塗料をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材、あるいは鋳型剤に塗布し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって光学薄膜を形成することができる。   Specifically, the coating material for forming an optical thin film described above is a base material or a templating agent by a known method such as dipping, spraying, spinner, roll coating, bar coating, gravure printing, or micro gravure printing. An optical thin film can be formed by applying the resin onto the substrate and curing it by an ordinary method such as ultraviolet irradiation or heat treatment.

光学薄膜の形状、大きさは、発光ダイオードの封止材、液晶表示装置のプリズムシート、ハードコート膜等の用途によって異なる。
例えば、膜厚が一定の透明被膜、屈折率が異なる膜厚が一定の透明被膜を複数積層した透明被膜、その他三角柱が並列に連結したプリズムシート状薄膜、上部表面が凸構造(凸レンズ状)あるいは凹凸構造(波状構造)を有する膜、さらには上部表面に多数の凸構造を有する膜等が挙げられる。
The shape and size of the optical thin film vary depending on applications such as a sealing material for a light emitting diode, a prism sheet for a liquid crystal display device, and a hard coat film.
For example, a transparent film having a constant film thickness, a transparent film in which a plurality of transparent films having a constant film thickness and a different refractive index are laminated, a prism sheet-like thin film in which triangular prisms are connected in parallel, and an upper surface having a convex structure (convex lens shape) or Examples thereof include a film having a concavo-convex structure (wave structure), and a film having a number of convex structures on the upper surface.

かかる光学薄膜の使用例を、図1〜3に示す。図1はLEDのプリズムシートに本発明の光学薄膜を適用した一例である。また、図2は、LEDの封止材として屈折率の高い順に本発明の光学薄膜を適用した一例である。図3は、LEDの封止材として本発明の厚膜の光学薄膜を適用した一例である。   Examples of use of such optical thin films are shown in FIGS. FIG. 1 shows an example in which the optical thin film of the present invention is applied to an LED prism sheet. FIG. 2 is an example in which the optical thin film of the present invention is applied in the descending order of refractive index as an LED sealing material. FIG. 3 shows an example in which the thick optical thin film of the present invention is applied as an LED sealing material.

光学薄膜の厚さは特に制限されず、形状に応じて適宜選択される。通常0.01〜10mm、さらには0.02〜8mmの範囲にある。また、波状、プリズムやレンズ状の薄膜を形成する場合、最大厚みが前記範囲にあればよい。この範囲の厚さであれば、膜硬度、耐擦傷性が高く、薄膜にクラックを生じたり、カーリング(湾曲あるいは反り)を生じることもない。
光学薄膜の光透過率が80%以上、さらには85%以上であることが好ましい。
The thickness of the optical thin film is not particularly limited and is appropriately selected according to the shape. Usually, it is in the range of 0.01 to 10 mm, and further 0.02 to 8 mm. Further, when forming a wave-like, prism-like or lens-like thin film, the maximum thickness may be in the above range. When the thickness is within this range, the film hardness and scratch resistance are high, and the thin film does not crack or curl (curve or warp).
The light transmittance of the optical thin film is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more.

なお、本発明で、光学薄膜の光透過率は、厚さが70μmの薄膜を形成したときの光透過率である。光学薄膜の光透過率が低ければ、例えば、LEDの封止材に使用した場合、LEDから放出されるエネルギーが熱エネルギーとして蓄熱し、高温となるため封止樹脂が黄変してLEDの輝度が低下する場合がある。   In the present invention, the light transmittance of the optical thin film is the light transmittance when a thin film having a thickness of 70 μm is formed. If the light transmittance of the optical thin film is low, for example, when used as a sealing material for an LED, the energy emitted from the LED is stored as thermal energy and becomes high temperature, so the sealing resin turns yellow and the brightness of the LED May decrease.

また、光学薄膜の屈折率が1.6〜1.8、さらには1.7〜1.8の範囲にあることが好ましい。
この範囲の屈折率の光学薄膜は、集光性が不充分となり、例えば、LEDの封止材に使用した場合、上記のような蓄熱による封止樹脂の黄変も抑制されるので、LEDなどの輝度が高く保てる。所定の屈折率を有するので封止材による反射も抑えられる。
Moreover, it is preferable that the refractive index of an optical thin film exists in the range of 1.6-1.8, Furthermore, 1.7-1.8.
An optical thin film having a refractive index in this range has insufficient light collecting properties. For example, when used as an LED sealing material, yellowing of the sealing resin due to heat storage as described above is also suppressed. The brightness of can be kept high. Since it has a predetermined refractive index, reflection by the sealing material is also suppressed.

また、光学薄膜は、一態様として、上部面が1つの凸面である薄膜や、上部面が多数の凸面である薄膜、上部面が凹凸(波状)である薄膜、三角柱が並列に連結したプリズムシート状薄膜であってもよい。   The optical thin film has, as one aspect, a thin film whose upper surface is a single convex surface, a thin film whose upper surface is a large number of convex surfaces, a thin film whose upper surface is uneven (wavy), and a prism sheet in which triangular prisms are connected in parallel. It may be a thin film.

本発明の光学薄膜形成用塗料は溶媒を含まず、このため溶媒を除去する乾燥工程が不要で、しかも、溶媒除去による収縮が起きないので、プリズムシート等を鋳型と同じ形状、大きさで形成することができる。したがって、LEDの封止材や光学材料のプリズムシートやプリズム、凸レンズに本発明の光学薄膜形成用塗料を用いることができる。   The coating composition for forming an optical thin film of the present invention does not contain a solvent. Therefore, a drying process for removing the solvent is unnecessary, and shrinkage due to the solvent removal does not occur. Therefore, a prism sheet or the like is formed in the same shape and size as the mold. can do. Therefore, the coating material for forming an optical thin film of the present invention can be used for LED sealing materials, prism sheets, prisms, and convex lenses of optical materials.

[実施例]
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited by these Examples.

[実施例1]
無機酸化物粒子(1)の調製
純水1,300gにオキシ塩化ジルコニウム8水和物(ZrOCl2・8H2O(太陽鉱業(株)製:ZrO2濃度37.2重量%)35gを溶解し、これに濃度10重量%のKOH水溶液123gを添加してジルコニウム水酸化物ヒドロゲル(ZrO2濃度1重量%)を調製した。ついで、限外濾過膜法で電導度が0.5mS/cm以下になるまで洗浄した。
[Example 1]
Preparation of inorganic oxide particles (1 ) 35 g of zirconium oxychloride octahydrate (ZrOCl 2 .8H 2 O (manufactured by Taiyo Mining Co., Ltd .: ZrO 2 concentration 37.2 wt%)) was dissolved in 1,300 g of pure water. A zirconium hydroxide hydrogel (ZrO 2 concentration 1% by weight) was prepared by adding 123 g of a 10% by weight aqueous KOH solution, and the conductivity was reduced to 0.5 mS / cm or less by the ultrafiltration membrane method. Washed until

得られたZrO2として濃度1重量%のジルコニウム水酸化物ヒドロゲル2,000gに濃度10重量%のKOH水溶液400gを加えて十分攪拌した後、濃度35重量%の過酸化水素水溶液200g、酒石酸35gを加えた。このとき、激しく発泡して溶液は透明になり、pHは11.5であった。 After adding 400 g of 10 wt% KOH aqueous solution to 2,000 g of 1 wt% zirconium hydroxide hydrogel as the obtained ZrO 2 , 200 g of 35 wt% hydrogen peroxide aqueous solution and 35 g of tartaric acid were added. added. At this time, the solution foamed vigorously and the solution became transparent, and the pH was 11.5.

この溶液をオートクレーブに充填し、150℃で11時間水熱処理を行った後、取り出し、限外濾過膜を用いて10%まで濃縮した後、純水で電導度が0.2mS/cm以下になるまで洗浄した。ついで、固形分濃度20重量%の分散液とし、入口温度400℃の熱風中に噴霧して噴霧乾燥無機酸化物粒子(1)を調製した。この時、出口温度は150℃であった。   This solution is filled in an autoclave, hydrothermally treated at 150 ° C. for 11 hours, then taken out, concentrated to 10% using an ultrafiltration membrane, and the conductivity is 0.2 mS / cm or less with pure water. Until washed. Subsequently, it was made into the dispersion liquid of 20 weight% of solid content concentration, and it sprayed in the hot air with an inlet temperature of 400 degreeC, and prepared the spray-dried inorganic oxide particle (1). At this time, the outlet temperature was 150 ° C.

ついで、乾燥機で105℃、20時間加熱処理してジルコニアからなる無機酸化物粒子(1)粉末を調製した。
無機酸化物粒子(1)の平均一次粒子径は15nm、平均二次粒子径は10μm、結晶形はX線回折の測定で単斜晶であった。また、屈折率は2.20であった。
Subsequently, it heat-processed with 105 degreeC and 20 hours with the dryer, and prepared the inorganic oxide particle (1) powder which consists of zirconia.
The average primary particle diameter of the inorganic oxide particles (1) was 15 nm, the average secondary particle diameter was 10 μm, and the crystal form was monoclinic as measured by X-ray diffraction. The refractive index was 2.20.

樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液の調製
ついで、無機酸化物粒子(1)粉末125.45g、有機溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)232.99g、被覆用樹脂としてフェノールノボラック型エポキシアクリレート(新中村化学(株)製:NKオリゴEA−6320/PGMAC、固形分濃度80%)105.06gと、ジルコニアビーズ(直径0.05mm)1713.6gを、ビーズミル(カンペ(株)製:BATCH SAND)に充填し、分散させ、PGME溶剤で濃度調製を行って、無機酸化物粒子(1)の固形分濃度20重量%、全固形分濃度(無機酸化物粒子(1)+樹脂)33.4重量%の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液を調製した。無機酸化物微粒子(1)と被覆用樹脂との重量比は60/40であった。
樹脂被覆無機酸化物粒子(1)の平均粒子径、屈折率を測定し、結果を表1に示した。平均粒子径はレーザー粒径解析システム(大塚電子製:FPAR-1000)で測定した。
Resin-coated inorganic oxide particles (1) Preparation of organic solvent dispersion liquid Next, inorganic oxide particles (1) powder 125.45 g, propylene glycol monomethyl ether (PGME) 232.999 g as an organic solvent, phenol novolac type as a coating resin 105.06 g of epoxy acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo EA-6320 / PGMAC, solid content concentration 80%) and 1713.6 g of zirconia beads (diameter 0.05 mm), bead mill (Kampe Co., Ltd.) : BATCH SAND), disperse, adjust the concentration with PGME solvent, inorganic oxide particles (1) solid content concentration 20 wt%, total solid content concentration (inorganic oxide particles (1) + resin) 33.4% by weight of resin-coated inorganic oxide particles (1) An organic solvent dispersion was prepared. The weight ratio of the inorganic oxide fine particles (1) to the coating resin was 60/40.
The average particle diameter and refractive index of the resin-coated inorganic oxide particles (1) were measured, and the results are shown in Table 1. The average particle size was measured with a laser particle size analysis system (Otsuka Electronics: FPAR-1000).

光学薄膜形成用塗料(1)の調製
樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてフェノキシポリエチレングリコールアクリレート(新中村化学(株)製:NKエステル AMP−20GY、分子量:236)12gを加え、十分に攪拌した後、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としてフルオレンアクリレート(大阪ガスケミカル(株)製:オグソールEA-0200)22.5gを加えた。
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (1) Resin-coated inorganic oxide particles (1) Phenoxypolyethylene glycol acrylate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) as (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton in 100 g of organic solvent dispersion KK ester: AMP ester AMP-20GY, molecular weight: 236) After adding 12 g and stirring sufficiently, fluorene acrylate (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd .: as (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton) 22.5 g of Ogsol EA-0200) was added.

ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(1)を調製した。
この時、樹脂被覆無機酸化物粒子(1)(ZrO2+被覆樹脂)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)、(メタ)アクリレート系樹脂(B)との重量比((1)/(A)/(B))は49.2/17.7/33.1であった。また、(CF)/(CR)は1.87であった。
得られた光学薄膜形成用塗料(1)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。なお、安定性、粘度、屈折率は下記の方法、評価基準により評価した。
Subsequently, with a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.), the temperature of the warm bath was increased to 60 ° C., the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (1).
At this time, the weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) (ZrO 2 + coated resin) to the (meth) acrylate-based resin (A) and (meth) acrylate-based resin (B) ((1) / (A ) / (B)) was 49.2 / 17.7 / 33.1. Moreover, (C F ) / (C R ) was 1.87.
The remaining amount and stability of the organic solvent, viscosity, and refractive index of the obtained optical thin film forming paint (1) were measured, and the results are shown in Table 1. The stability, viscosity, and refractive index were evaluated by the following methods and evaluation criteria.

安定性評価
光学薄膜形成用塗料(1)を透明性容器に充填して静置し、容器の下部に沈降粒子の状況を観察し、以下の基準で評価し、結果を表1に示した。
1週間以上粒子の沈降層が認められなかった。:◎
3〜6日で粒子の沈降層が認められた。 :○
1〜2日で粒子の沈降層が認められた。 :△
1日以内に粒子の沈降層が認められた。 :×
Stability Evaluation The optical thin film-forming coating material (1) was filled in a transparent container and allowed to stand, and the state of precipitated particles was observed at the bottom of the container, and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
No sedimentation layer of particles was observed for more than 1 week. : ◎
A sedimentation layer of particles was observed in 3 to 6 days. : ○
A sedimentation layer of particles was observed in 1 to 2 days. : △
Within 1 day, a sedimentation layer of particles was observed. : ×

粘度
光学薄膜形成用塗料(1)の液温を25℃に調整し、E型粘度計(東京計器(株)製:EHD型)で測定した。
The liquid temperature of the viscosity optical thin film-forming coating material (1) was adjusted to 25 ° C. and measured with an E-type viscometer (manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd .: EHD type).

屈折率
光学薄膜形成用塗料(1)の液温を25℃にしてアッベ屈折率計(アタゴ(株)製:NAR-3T型)で測定した。
The liquid temperature of the refractive index optical thin film-forming coating material (1) was set to 25 ° C. and measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd .: NAR-3T type).

光学薄膜(1)の製造
光学薄膜形成用塗料(1)66.8gに、光開始剤として1-ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン(BASF(株)製:イルガキュア184)2.7gを混合して光開始剤を添加した光学薄膜形成用塗料(1)を調製した。
Manufacture of optical thin film (1) 66.8 g of optical thin film forming paint (1) was mixed with 2.7 g of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone (BASF Co., Ltd .: Irgacure 184) as a photoinitiator. An optical thin film forming paint (1) to which an initiator was added was prepared.

光開始剤を添加した光学薄膜形成用塗料(1)を易接着PETフィルム(東洋紡(株)製:コスモシャインA−4300、厚さ:188μm、屈折率:1.65、全光線透過率91.0%、ヘーズ0.8%)にバーコーター法(バー#40)で塗布し、高圧水銀灯(120W/cm)を搭載した紫外線照射装置(日本電池製:UV照射装置CS30L21−3)で1200mJ/cm2の条件で照射して硬化させ、光学薄膜(1)付基材を調製した。このときの光学薄膜(1)の厚さは70μmであった。 An optical thin film-forming paint (1) to which a photoinitiator was added was applied to an easily adhesive PET film (Toyobo Co., Ltd .: Cosmo Shine A-4300, thickness: 188 μm, refractive index: 1.65, total light transmittance 91. 0%, haze 0.8%) by a bar coater method (bar # 40) and 1200 mJ / with an ultraviolet irradiation device (manufactured by Nihon Battery: UV irradiation device CS30L21-3) equipped with a high-pressure mercury lamp (120 W / cm). Irradiation was cured under conditions of cm 2 to prepare a substrate with an optical thin film (1). At this time, the thickness of the optical thin film (1) was 70 μm.

得られた光学薄膜(1)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。全光線透過率およびヘーズをヘーズメーター(日本電色工業(株)製NDH−2000)により測定し、結果を表1に示す。さらに、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を以下の方法および評価基準で評価し、結果を表1に示す。   The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (1) were measured, and the results are shown in Table 1. The total light transmittance and haze were measured with a haze meter (NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), and the results are shown in Table 1. Further, pencil hardness, scratch resistance and adhesion were evaluated by the following methods and evaluation criteria, and the results are shown in Table 1.

鉛筆硬度の測定
JIS−K−5600に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
Measurement of pencil hardness It measured with the pencil hardness tester according to JIS-K-5600.

耐擦傷性の測定
#0000スチールウールを用い、荷重250g/cm2で50回摺動し、膜の表面を目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表1に示す。
評価基準:
筋条の傷が認められない :◎
筋条に傷が僅かに認められる:○
筋条に傷が多数認められる :△
面が全体的に削られている :×
Measurement of Scratch Resistance Using # 0000 steel wool, sliding 50 times at a load of 250 g / cm 2 , visually observing the surface of the film and evaluating it according to the following criteria, the results are shown in Table 1.
Evaluation criteria:
No streak injury is found: ◎
Slightly scratched streak: ○
Many scratches are found in the streak: △
The surface has been cut entirely: ×

塗膜の屈折率
上記PETフィルム基板に代えてシリコンウエハー上に光開始剤を添加した光学薄膜形成用塗料(1)を同様にして塗布、硬化させて厚さ50μmの塗膜を形成し、エリプソメーター(SOPRA社製:ESVG)により屈折率を測定、結果を表1に示す。
Refractive index of coating film In place of the above PET film substrate, an optical thin film forming coating (1) with a photoinitiator added on a silicon wafer is applied and cured in the same manner to form a coating film having a thickness of 50 μm. The refractive index was measured with a meter (manufactured by SOPRA: ESVG), and the results are shown in Table 1.

[実施例2]
光学薄膜形成用塗料(2)の調製
実施例1と同様にして調製した樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてフェノキシポリエチレングリコールアクリレート(新中村化学(株)製:NKエステル AMP−20GY、分子量:206)9.3gを加え、十分に攪拌した後、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としてフルオレンアクリレート(大阪ガスケミカル(株)製:オグソールEA-0200)47.1gを加えた。
ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(2)を調製した。
[Example 2]
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (2) Resin-coated inorganic oxide particles prepared in the same manner as in Example 1 (1) 100 g of organic solvent dispersion (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton 9.3 g of phenoxypolyethylene glycol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK ester AMP-20GY, molecular weight: 206), and after sufficiently stirring, (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton 47.1 g of fluorene acrylate (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd .: Ogsol EA-0200) was added.
Subsequently, the temperature of the warm bath was changed to 60 ° C. with a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.), the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (2).

塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は31.6/23.8/44.6であった。また、(CF)/(CR)は1.87であった。
得られた光学薄膜形成用塗料(2)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) and the (meth) acrylate resins (A) and (B) in the paint was 31.6 / 23.8 / 44.6. Moreover, (C F ) / (C R ) was 1.87.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film-forming paint (2) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(2)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(2)を用いた以外は同様にして光学薄膜(2)付基材を調製した。このときの光学薄膜(2)の厚さは70μmであった。
得られた光学薄膜(2)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (2) A substrate with an optical thin film (2) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating for forming an optical thin film (2) was used. At this time, the thickness of the optical thin film (2) was 70 μm.
The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (2) were measured, and the results are shown in Table 1.

[実施例3]
光学薄膜形成用塗料(3)の調製
実施例1と同様にして調製した樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてフェノキシポリエチレングリコールアクリレート(新中村化学(株)製:NKエステル AMP−20GY、分子量:236)9.3gを加え、十分に攪拌した後、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としてフルオレンアクリレート(大阪ガスケミカル(株)製:オグソールEA-0200)17.5gを加えた。
[Example 3]
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (3) Resin-coated inorganic oxide particles prepared in the same manner as in Example 1 (1) 100 g of organic solvent dispersion (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton 9.3 g of phenoxypolyethylene glycol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK ester AMP-20GY, molecular weight: 236), and after sufficiently stirring, (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton 17.5 g of fluorene acrylate (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd .: Ogsol EA-0200) was added.

ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(3)を調製した。
塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は55.5/15.5/29である。また、(CF)/(CR)は1.87である。
得られた光学薄膜形成用塗料(3)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
Subsequently, with a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.), the temperature of the warm bath was changed to 60 ° C., the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (3).
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) to the (meth) acrylate resins (A) and (B) in the paint is 55.5 / 15.5 / 29. Further, (C F ) / (C R ) is 1.87.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film-forming paint (3) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(3)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(3)を用いた以外は同様にして光学薄膜(3)付基材を調製した。このときの光学薄膜(3)の厚さは90μmであった。得られた光学薄膜(3)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (3) A substrate with an optical thin film (3) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating for forming an optical thin film (3) was used. At this time, the thickness of the optical thin film (3) was 90 μm. The total optical transmittance, haze, scratch resistance and refractive index of the obtained optical thin film (3) were measured, and the results are shown in Table 1.

[実施例4]
光学薄膜形成用塗料(4)の調製
実施例1と同様にして調製した樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてフェノキシポリエチレングリコールアクリレート(新中村化学(株)製:NKエステル AMP−20GY、分子量:236)11.1gを加え、十分に攪拌した後、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としてフルオレンアクリレート(大阪ガスケミカル(株)製:オグソールEA-0200)23.4gを加えた。
ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(4)を調製した。
[Example 4]
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (4) Resin-coated inorganic oxide particles prepared in the same manner as in Example 1 (1) 100 g of organic solvent dispersion (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton As a (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton after adding 11.1 g of phenoxypolyethylene glycol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK ester AMP-20GY, molecular weight: 236) and stirring sufficiently 23.4 g of fluorene acrylate (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd .: Ogsol EA-0200) was added.
Subsequently, with a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.), the temperature of the warm bath was changed to 60 ° C., the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (4).

塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は49.2/16.4/34.4である。また、(CF)/(CR)は2.1である。
得られた光学薄膜形成用塗料(4)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) to the (meth) acrylate-based resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 16.4 / 34.4. Further, (C F ) / (C R ) is 2.1.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film-forming paint (4) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(4)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(4)を用いた以外は同様にして光学薄膜(4)付基材を調製した。このときの光学薄膜(4)の厚さは70μmであった。
得られた光学薄膜(4)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (4) In Example 1, a substrate with an optical thin film (4) was prepared in the same manner except that the coating for forming an optical thin film (4) was used. At this time, the thickness of the optical thin film (4) was 70 μm.
The optical thin film (4) obtained was measured for total light transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index, and the results are shown in Table 1.

[実施例5]
光学薄膜形成用塗料(4)の調製
実施例1と同様にして調製した樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてフェノキシポリエチレングリコールアクリレート(新中村化学(株)製:NKエステル AMP−20GY、分子量:236)17.2gを加え、十分に攪拌した後、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としてフルオレンアクリレート(大阪ガスケミカル(株)製:オグソールEA-0200)17.2gを加えた。
ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(4)を調製した。
[Example 5]
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (4) Resin-coated inorganic oxide particles prepared in the same manner as in Example 1 (1) 100 g of organic solvent dispersion (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton After adding 17.2 g of phenoxypolyethylene glycol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK ester AMP-20GY, molecular weight: 236) and stirring sufficiently, (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton is added. 17.2 g of fluorene acrylate (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd .: Ogsol EA-0200) was added.
Subsequently, with a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.), the temperature of the warm bath was changed to 60 ° C., the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (4).

塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は、49.2/25.4/25.4である。また、(CF)/(CR)は1.0である。
得られた光学薄膜形成用塗料(5)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) to the (meth) acrylate resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 25.4 / 25.4. Further, (C F ) / (C R ) is 1.0.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film-forming paint (5) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(5)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(5)を用いた以外は同様にして光学薄膜(5)付基材を調製した。このときの光学薄膜(5)の厚さは70μmであった。
得られた光学薄膜(5)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (5) In Example 1, a substrate with an optical thin film (5) was prepared in the same manner except that the coating for forming an optical thin film (5) was used. The thickness of the optical thin film (5) at this time was 70 μm.
The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (5) were measured, and the results are shown in Table 1.

[実施例6]
光学薄膜形成用塗料(6)の調製
実施例1において、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてフェノキシエチルメタクリレート(新中村化学(株)製:NKエステル PHE−1G、分子量:206)12gを加えた以外は同様にして光学薄膜形成用塗料(6)を調製した。
[Example 6]
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (6) In Example 1, phenoxyethyl methacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK ester PHE-1G, molecular weight) as (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton 206) A coating material for forming an optical thin film (6) was prepared in the same manner except that 12 g was added.

塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は、49.2/17.7/33.1である。また、(CF)/(CR)は1.87である。 The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) to the (meth) acrylate resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 17.7 / 33.1. Further, (C F ) / (C R ) is 1.87.

光学薄膜(6)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(6)を用いた以外は同様にして光学薄膜(6)付基材を調製した。このときの光学薄膜(6)の厚さは70μmであった。得られた光学薄膜(6)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (6) A substrate with an optical thin film (6) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating for forming an optical thin film (6) was used. At this time, the thickness of the optical thin film (6) was 70 μm. The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (6) were measured, and the results are shown in Table 1.

[実施例7]
光学薄膜形成用塗料(7)の調製
実施例1において、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)として2-メタクリロイロキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート(共栄社化学(株)製:ライトエステル HO−MPP、分子量:336)12gを加えた以外は同様にして光学薄膜形成用塗料(7)を調製した。
[Example 7]
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (7) In Example 1, 2-methacryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as the (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton : Light ester HO-MPP, molecular weight: 336) A coating for optical thin film formation (7) was prepared in the same manner except that 12 g was added.

塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は49.2/17.7/33.1である。また、(CF)/(CR)は1.87である。 The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) to the (meth) acrylate-based resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 17.7 / 33.1. Further, (C F ) / (C R ) is 1.87.

光学薄膜(7)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(7)を用いた以外は同様にして光学薄膜(7)付基材を調製した。このときの光学薄膜(7)の厚さは70μmであった。
得られた光学薄膜(7)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率、を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (7) A substrate with an optical thin film (7) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating for forming an optical thin film (7) was used. The thickness of the optical thin film (7) at this time was 70 μm.
The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (7) were measured, and the results are shown in Table 1.

[実施例8]
無機酸化物粒子(2)の調製
実施例1において、オートクレーブに充填し、150℃で11時間水熱処理を行った後、取り出し、限外濾過膜を用いて10%まで濃縮した後、純水で電導度が0.2mS/cm以下になるまで洗浄した。その後、乾燥機で105℃、20時間乾燥した後、乳鉢で粉砕し、ついで44μmの金網で篩って、ジルコニアからなる無機酸化物粒子(2)粉末を調製した。
無機酸化物粒子(2)の平均一次粒子径は15nm、平均二次粒子径は35μm、結晶形はX線回折の測定で単斜晶であった。また、屈折率は2.20であった。
[Example 8]
Preparation of inorganic oxide particles (2) In Example 1, after filling in an autoclave and hydrothermally treating at 150 ° C. for 11 hours, it was taken out, concentrated to 10% using an ultrafiltration membrane, and then purified water. Washing was performed until the electrical conductivity was 0.2 mS / cm or less. Then, after drying with a dryer at 105 ° C. for 20 hours, the mixture was pulverized with a mortar and then sieved with a 44 μm wire mesh to prepare inorganic oxide particle (2) powder composed of zirconia.
The average primary particle diameter of the inorganic oxide particles (2) was 15 nm, the average secondary particle diameter was 35 μm, and the crystal form was monoclinic as measured by X-ray diffraction. The refractive index was 2.20.

樹脂被覆無機酸化物粒子(2)有機溶媒分散液の調製
実施例1において、無機酸化物粒子(2)粉末125.45gを用いた以外は同様にして無機酸化物粒子(2)の固形分濃度20重量%、全固形分濃度(無機酸化物粒子(1)+樹脂)33.4重量%の樹脂被覆無機酸化物粒子(2)有機溶媒分散液を調製した。
樹脂被覆無機酸化物粒子(1)の平均粒子径、屈折率を測定し、結果を表1に示した。
Preparation of Resin Coated Inorganic Oxide Particles (2) Organic Solvent Dispersion In Example 1, the solid content concentration of inorganic oxide particles (2) was the same as in Example 1, except that 125.45 g of inorganic oxide particles (2) was used. A resin-coated inorganic oxide particle (2) organic solvent dispersion of 20% by weight and a total solid content (inorganic oxide particle (1) + resin) of 33.4% by weight was prepared.
The average particle diameter and refractive index of the resin-coated inorganic oxide particles (1) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜形成用塗料(8)の調製
実施例1において、樹脂被覆無機酸化物粒子(2)を用いた以外は同様にして光学薄膜形成用塗料(8)を調製した。
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (8) An optical thin film forming paint (8) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin-coated inorganic oxide particles (2) were used.

塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(2)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は、49.2/17.7/33.1である。また、(CF)/(CR)は1.87である。
得られた光学薄膜形成用塗料(8)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (2) to the (meth) acrylate resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 17.7 / 33.1. Further, (C F ) / (C R ) is 1.87.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film forming paint (8) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(8)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(8)を用いた以外は同様にして光学薄膜(8)付基材を調製した。このときの光学薄膜(8)の厚さは70μmであった。
得られた光学薄膜(8)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (8) A substrate with an optical thin film (8) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating for forming an optical thin film (8) was used. The thickness of the optical thin film (8) at this time was 70 μm.
The optical thin film (8) thus obtained was measured for total light transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index, and the results are shown in Table 1.

[実施例9]
樹脂被覆無機酸化物粒子(3)有機溶媒分散液の調製
実施例1において、無機酸化物粒子(1)粉末125.45g、有機溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)232.99g、被覆用樹脂としてフェノールノボラック型エポキシアクリレート(新中村化学(株)製:NKオリゴEA−6320/PGMAC、固形分濃度80%)67.2gと、ジルコニアビーズ(直径0.05mm)1713.6gを、ビーズミル(カンペ(株)製:BATCH SAND)に充填し、分散させ、PGME溶剤で濃度調製を行って、無機酸化物粒子(1)の固形分濃度20重量%、全固形分濃度(無機酸化物粒子(1)+樹脂)28.6重量%の樹脂被覆無機酸化物粒子(3)有機溶媒分散液を調製した。無機酸化物微粒子(1)と被覆樹脂との重量比は70/30であった。
樹脂被覆無機酸化物粒子(3)の平均粒子径、屈折率を測定し、結果を表1に示した。
[Example 9]
Preparation of Resin-Coated Inorganic Oxide Particles (3) Organic Solvent Dispersion In Example 1, 125.45 g of inorganic oxide particles (1 ) powder, 232.99 g of propylene glycol monomethyl ether (PGME) as an organic solvent, and as a coating resin 67.2 g of phenol novolac epoxy acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo EA-6320 / PGMAC, solid content concentration 80%) and 1713.6 g of zirconia beads (diameter 0.05 mm) were mixed with a bead mill (campe ( Co., Ltd .: BATCH SAND), dispersed and adjusted with a PGME solvent, the solid content concentration of inorganic oxide particles (1) is 20% by weight, the total solid content concentration (inorganic oxide particles (1) + Resin) 28.6 wt% of resin-coated inorganic oxide particles (3) An organic solvent dispersion was prepared. The weight ratio of the inorganic oxide fine particles (1) to the coating resin was 70/30.
The average particle diameter and refractive index of the resin-coated inorganic oxide particles (3) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜形成用塗料(9)の調製
樹脂被覆無機酸化物粒子(3)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてフェノキシポリエチレングリコールアクリレート(新中村化学(株)製:NKエステル AMP−20GY、分子量:236)10.3gを加え、十分に攪拌した後、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としてフルオレンアクルレート(大阪ガスケミカル(株)製:オグソールEA-0200)19.2gを加えた。
Preparation of coating material for forming optical thin film (9) Resin-coated inorganic oxide particles (3) In 100 g of organic solvent dispersion, phenoxypolyethylene glycol acrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) as (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton KK ester: NK ester AMP-20GY, molecular weight: 236) 10.3 g was added and stirred sufficiently, and then fluorene acrylate (Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) was used as (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton. 19.2 g): manufactured by Ogsol EA-0200).

ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(9)を調製した。
塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(3)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は49.2/17.7/33.1である。また、(CF)/(CR)は1.87である。
得られた光学薄膜形成用塗料(9)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
Subsequently, the temperature of the warm bath was changed to 60 ° C. with a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.), the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (9).
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (3) and the (meth) acrylate-based resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 17.7 / 33.1. Further, (C F ) / (C R ) is 1.87.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film forming paint (9) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(9)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(9)を用いた以外は同様にして光学薄膜(9)付基材を調製した。このときの光学薄膜(9)の厚さは70μmであった。
得られた光学薄膜(9)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (9) A substrate with an optical thin film (9) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating for forming an optical thin film (9) was used. The thickness of the optical thin film (9) at this time was 70 μm.
The optical thin film (9) obtained was measured for total light transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index, and the results are shown in Table 1.

[実施例10]
樹脂被覆無機酸化物粒子(4)有機溶媒分散液の調製
実施例1において、無機酸化物粒子(1)粉末125.45g、有機溶媒としてアセトン232.99g、被覆用樹脂としてフェノールノボラック型エポキシアクリレート(新中村化学(株)製:NKオリゴEA−6320/PGMAC、固形分濃度80%)156.8gと、ジルコニアビーズ(直径0.05mm)1713.6gを、ビーズミル(カンペ(株)製:BATCH SAND)に充填し、分散させ、PGME溶剤で濃度調製を行って、無機酸化物粒子(1)の固形分濃度20重量%、全固形分濃度(無機酸化物粒子(1)+樹脂)40重量%の樹脂被覆無機酸化物粒子(4)有機溶媒分散液を調製した。無機酸化物微粒子(1)と被覆樹脂との重量比は50/50であった。
樹脂被覆無機酸化物粒子(4)の平均粒子径、屈折率を測定し、結果を表1に示した。
[Example 10]
Preparation of Resin Coated Inorganic Oxide Particles (4) Organic Solvent Dispersion In Example 1, 125.45 g of the inorganic oxide particle (1) powder, 232.99 g of acetone as the organic solvent, and a phenol novolac epoxy acrylate (as the coating resin) Shin Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo EA-6320 / PGMAC, solid content concentration 80%) 156.8 g and zirconia beads (diameter 0.05 mm) 1713.6 g, beads mill (Kampe Co., Ltd. product: BATCH SAND) ), The concentration is adjusted with a PGME solvent, the solid content concentration of the inorganic oxide particles (1) is 20% by weight, the total solid content concentration (inorganic oxide particles (1) + resin) is 40% by weight. Resin-coated inorganic oxide particles (4) An organic solvent dispersion was prepared. The weight ratio of the inorganic oxide fine particles (1) to the coating resin was 50/50.
The average particle diameter and refractive index of the resin-coated inorganic oxide particles (4) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜形成用塗料(10)の調製
実施例1において、樹脂被覆無機酸化物粒子(4)を用いた以外は同様にして光学薄膜形成用塗料(10)を調製した。
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (10) An optical thin film forming paint (10) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin-coated inorganic oxide particles (4) were used.

塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(4)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は50/18/32である。また、(CF)/(CR)は1.8である。得られた光学薄膜形成用塗料(10)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。 The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (4) and the (meth) acrylate resins (A) and (B) in the paint is 50/18/32. Further, (C F ) / (C R ) is 1.8. The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film forming paint (10) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(10)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(10)を用いた以外は同様にして光学薄膜(10)付基材を調製した。このときの光学薄膜(10)の厚さは70μmであった。得られた光学薄膜(10)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (10) A substrate with an optical thin film (10) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating material for forming an optical thin film (10) was used. The thickness of the optical thin film (10) at this time was 70 μm. The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (10) were measured, and the results are shown in Table 1.

[実施例11]
光学薄膜形成用塗料(11)の調製
実施例1において、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を55℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(12)を調製した。
[Example 11]
Preparation of optical thin film-forming coating material (11) In Example 1, the temperature of the warm bath was changed to 55 ° C. with a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.), the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours. A thin film-forming paint (12) was prepared.

塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は49.2/17.7/33.1である。また、(CF)/(CR)は1.87である。得られた光学薄膜形成用塗料(11)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。 The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) to the (meth) acrylate-based resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 17.7 / 33.1. Further, (C F ) / (C R ) is 1.87. The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film forming paint (11) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(11)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(11)を用いた以外は同様にして光学薄膜(11)付基材を調製した。このときの光学薄膜(11)の厚さは30μmであった。得られた光学薄膜(12)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (11) A substrate with an optical thin film (11) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating material for forming an optical thin film (11) was used. At this time, the thickness of the optical thin film (11) was 30 μm. The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (12) were measured, and the results are shown in Table 1.

[比較例1]
光学薄膜形成用塗料(R1)の調製
樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてフェノキシポリエチレングリコールアクリレート(新中村化学(株)製:NKエステル AMP−20GY、分子量:236)34.5gを加え、十分に攪拌した。
[Comparative Example 1]
Preparation of paint for optical thin film formation (R1) Resin-coated inorganic oxide particles (1) In 100 g of organic solvent dispersion, phenoxypolyethylene glycol acrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) as (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton Co., Ltd .: NK ester AMP-20GY, molecular weight: 236) 34.5 g was added and sufficiently stirred.

ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(R1)を調製した。
塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は49.2/50.8/0である。また、(CF)/(CR)は0である。
得られた光学薄膜形成用塗料(R1)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
Next, a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.) was used to set the temperature of the warm bath to 60 ° C., gradually increasing the degree of vacuum and removing the solvent in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (R1).
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) to the (meth) acrylate resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 50.8 / 0. Further, (C F ) / (C R ) is zero.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film forming paint (R1) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(R1)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(R1)を用いた以外は同様にして光学薄膜(R1)付基材を調製した。このときの光学薄膜(R1)の厚さは70μmであった。得られた光学薄膜(R1)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of Optical Thin Film (R1) A substrate with an optical thin film (R1) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the optical thin film forming paint (R1) was used. At this time, the thickness of the optical thin film (R1) was 70 μm. The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (R1) were measured, and the results are shown in Table 1.

[比較例2]
光学薄膜形成用塗料(R2)の調製
樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としてフルオレンアクリレート(大阪ガスケミカル(株)製:オグソールEA-0200)34.5gを加え、十分に攪拌した。
[Comparative Example 2]
Preparation of paint for forming optical thin film (R2) Resin-coated inorganic oxide particles (1) In 100 g of organic solvent dispersion, fluorene acrylate (made by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) as (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton : Ogsol EA-0200) 34.5 g was added and stirred thoroughly.

ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(R2)を調製した。
塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は49.2/0/50.8である。
得られた光学薄膜形成用塗料(R2)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
Next, a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.) was used to set the temperature of the warm bath to 60 ° C., gradually increasing the degree of vacuum and removing the solvent in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (R2).
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) to the (meth) acrylate resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 0 / 50.8.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film-forming paint (R2) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(R2)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(R2)を用いた以外は同様にして光学薄膜(R2)付基材を調製した。このときの光学薄膜(R2)の厚さは150μmであった。
得られた光学薄膜(R2)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (R2) A substrate with an optical thin film (R2) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating material for forming an optical thin film (R2) was used. At this time, the thickness of the optical thin film (R2) was 150 μm.
The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (R2) were measured, and the results are shown in Table 1.

[比較例3]
無機酸化物粒子(R1)の調製
純水1,300gにオキシ塩化ジルコニウム8水和物(ZrOCl2・8H2O(太陽鉱業(株)製:ZrO2濃度37.2重量%)35gを溶解し、これに濃度10重量%のKOH水溶液123gを添加してジルコニウム水酸化物ヒドロゲル(ZrO2濃度1重量%)を調製した。ついで、限外濾過膜法で電導度が0.5mS/cm以下になるまで洗浄した。
[Comparative Example 3]
Preparation of inorganic oxide particles (R1 ) 35 g of zirconium oxychloride octahydrate (ZrOCl 2 .8H 2 O (manufactured by Taiyo Mining Co., Ltd .: ZrO 2 concentration 37.2 wt%)) was dissolved in 1,300 g of pure water. A zirconium hydroxide hydrogel (ZrO 2 concentration 1% by weight) was prepared by adding 123 g of a 10% by weight aqueous KOH solution, and the conductivity was reduced to 0.5 mS / cm or less by the ultrafiltration membrane method. Washed until

得られたZrO2として濃度1重量%のジルコニウム水酸化物ヒドロゲル2,000gに濃度10重量%のKOH水溶液400gを加えて十分攪拌した後、濃度35重量%の過酸化水素水溶液200g、酒石酸10gを加えた。このとき、激しく発泡して溶液は透明になり、pHは11.5であった。 After adding 400 g of 10 wt% aqueous KOH solution to 2,000 g of 1 wt% zirconium hydroxide hydrogel as ZrO 2 obtained, 200 g of hydrogen peroxide aqueous solution of 35 wt% and 10 g of tartaric acid were added. added. At this time, the solution foamed vigorously and the solution became transparent, and the pH was 11.5.

この溶液をオートクレーブに充填し、150℃で11時間水熱処理を行った後、取り出し、限外濾過膜を用いて10%まで濃縮した後、純水で電導度が0.2mS/cm以下になるまで洗浄した。ついで、固形分濃度20重量%の分散液とし、入口温度400℃の熱風中に噴霧して噴霧乾燥無機酸化物粒子(R1)を調製した。この時、出口温度は150℃であった。   This solution is filled in an autoclave, hydrothermally treated at 150 ° C. for 11 hours, then taken out, concentrated to 10% using an ultrafiltration membrane, and the conductivity is 0.2 mS / cm or less with pure water. Until washed. Next, a dispersion having a solid content concentration of 20% by weight was sprayed into hot air having an inlet temperature of 400 ° C. to prepare spray-dried inorganic oxide particles (R1). At this time, the outlet temperature was 150 ° C.

ついで、乾燥機で105℃、20時間加熱処理してジルコニアからなる無機酸化物粒子(R1)粉末を調製した。
無機酸化物粒子(R1)の平均一次粒子径は60nm、平均二次粒子径は15μm、結晶形はX線回折の測定で単斜晶であった。また、屈折率は2.20であった。
Subsequently, it heat-processed with 105 degreeC and 20 hours with the dryer, and prepared the inorganic oxide particle (R1) powder which consists of zirconia.
The average primary particle diameter of the inorganic oxide particles (R1) was 60 nm, the average secondary particle diameter was 15 μm, and the crystal form was monoclinic as measured by X-ray diffraction. The refractive index was 2.20.

樹脂被覆無機酸化物粒子(R1)有機溶媒分散液の調製
ついで、無機酸化物粒子(R1)粉末125.45g、有機溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)232.99g、被覆用樹脂としてフェノールノボラック型エポキシアクリレート(新中村化学(株)製:NKオリゴEA−6320/PGMAC、固形分濃度80%)105.06gと、ジルコニアビーズ(直径0.05mm)1713.6gを、ビーズミル(カンペ(株)製:BATCH SAND)に充填し、分散させ、PGME溶剤で濃度調製を行って、無機酸化物粒子(R2)の固形分濃度20重量%、全固形分濃度(無機酸化物粒子(R1)+樹脂)33.4重量%の樹脂被覆無機酸化物粒子(R1)有機溶媒分散液を調製した。無機酸化物微粒子(R1)と被覆用樹脂との重量比は60/40であった。
樹脂被覆無機酸化物粒子(R1)の平均粒子径を測定し、結果を表1に示した。
Preparation of Resin-Coated Inorganic Oxide Particles (R1) Organic Solvent Dispersion Next, 125.45 g of inorganic oxide particles (R1) powder, 232.99 g of propylene glycol monomethyl ether (PGME) as an organic solvent, and phenol novolac type as a coating resin 105.06 g of epoxy acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo EA-6320 / PGMAC, solid content concentration 80%) and 1713.6 g of zirconia beads (diameter 0.05 mm), bead mill (Kampe Co., Ltd.) : BATCH SAND), disperse, adjust the concentration with PGME solvent, solid content concentration of inorganic oxide particles (R2) 20 wt%, total solid content concentration (inorganic oxide particles (R1) + resin) 33.4% by weight of resin-coated inorganic oxide particles (R1) in an organic solvent dispersion was prepared. The weight ratio of the inorganic oxide fine particles (R1) to the coating resin was 60/40.
The average particle diameter of the resin-coated inorganic oxide particles (R1) was measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜形成用塗料(R3)の調製
実施例1において、全固形分濃度33.4重量%の樹脂被覆無機酸化物粒子(R1)有機溶媒分散液を用いた以外は同様にして光学薄膜形成用塗料(R3)を調製した。
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (R3) In Example 1, the same procedure was used for forming an optical thin film except that a resin-coated inorganic oxide particle (R1) organic solvent dispersion having a total solid concentration of 33.4% by weight was used. A paint (R3) was prepared.

塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(R1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は49.2/17.7/33.1である。また、(CF)/(CR)は1.87である。
得られた光学薄膜形成用塗料(R3)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (R1) to the (meth) acrylate resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 17.7 / 33.1. Further, (C F ) / (C R ) is 1.87.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film-forming paint (R3) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(R3)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(R4)を用いた以外は同様にして光学薄膜(R4)付基材を調製した。このときの光学薄膜(R4)の厚さは120μmであった。
得られた光学薄膜(R3)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (R3) A substrate with an optical thin film (R4) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating material for forming an optical thin film (R4) was used. The thickness of the optical thin film (R4) at this time was 120 μm.
The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (R3) were measured, and the results are shown in Table 1.

[実施例12]
光学薄膜形成用塗料(12)の調製
実施例1と同様にして調製した樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてアクリル酸メチル(和光純薬工業(株)製:分子量:86)12gを加え、十分に攪拌した後、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としてフルオレンアクリレート(大阪ガスケミカル(株)製:オグソールEA-0200)22.5gを加えた。
[Example 12]
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (12) Resin-coated inorganic oxide particles (1) prepared in the same manner as in Example 1 (Meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton in 100 g of organic solvent dispersion After adding 12 g of methyl acrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: molecular weight: 86) and stirring sufficiently, fluorene acrylate (Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) was used as the (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton. ): Ogsol EA-0200) 22.5 g was added.

ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(12)を調製した。
塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は49.2/17.7/33.1である。また、(CF)/(CR)は1.87である。
得られた光学薄膜形成用塗料(12)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
Subsequently, the temperature of the warm bath was set to 60 ° C. with a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.), the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (12).
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) to the (meth) acrylate-based resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 17.7 / 33.1. Further, (C F ) / (C R ) is 1.87.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film forming paint (12) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(12)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(12)を用いた以外は同様にして光学薄膜(12)付基材を調製した。このときの光学薄膜(12)の厚さは70μmであった。
得られた光学薄膜(12)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of Optical Thin Film (12) A substrate with an optical thin film (12) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating for forming an optical thin film (12) was used. The thickness of the optical thin film (12) at this time was 70 μm.
The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (12) were measured, and the results are shown in Table 1.

[比較例4]
光学薄膜形成用塗料(R5)の調製
実施例1と同様にして調製した樹脂被覆無機酸化物粒子(1)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてポリグリセリンポリエチレングリコールポリアクリレート(新中村化学(株)製:NK ECONOMER A-PG5054E、分子量:3400)12gを加え、十分に攪拌した後、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としてフルオレンアクリレート(大阪ガスケミカル(株)製:オグソールEA-0200)22.5gを加えた。
ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(R5)を調製した。
[Comparative Example 4]
Preparation of paint for forming optical thin film (R5) Resin-coated inorganic oxide particles prepared in the same manner as in Example 1 (1) 100 g of organic solvent dispersion (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton After adding 12 g of polyglycerin polyethylene glycol polyacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK ECONOMER A-PG5054E, molecular weight: 3400) and stirring sufficiently, (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton is added. 22.5 g of fluorene acrylate (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd .: Ogsol EA-0200) was added.
Subsequently, the temperature of the warm bath was set to 60 ° C. with a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.), the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (R5).

塗料中の樹脂被覆無機酸化物粒子(1)と(メタ)アクリレート系樹脂(A)および(B)との重量比は49.2/17.7/33.1である。また、(CF)/(CR)は1.87である。
得られた光学薄膜形成用塗料(R5)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
The weight ratio of the resin-coated inorganic oxide particles (1) to the (meth) acrylate-based resins (A) and (B) in the paint is 49.2 / 17.7 / 33.1. Further, (C F ) / (C R ) is 1.87.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film-forming paint (R5) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(R5)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(R5)を用いた以外は同様にして光学薄膜(R5)付基材を調製した。このときの光学薄膜(R5)の厚さは130μmであった。
得られた光学薄膜(R5)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (R5) A substrate with an optical thin film (R5) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating for forming an optical thin film (R5) was used. The thickness of the optical thin film (R5) at this time was 130 μm.
The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (R5) were measured, and the results are shown in Table 1.

[実施例13]
無機酸化物粒子(13)の調製
純水8060gに硝酸アンモニウム13gと15%アンモニア水20gを入れ攪拌し、50℃に昇温した。この中に純水4290gに錫酸カリウム1519gを溶解した液を10時間かけてローラーポンプで添加した。このときpHコントローラーでpHを8.8に保つよう濃度10重量%の硝酸を添加して調整した。添加終了後1時間50℃をキープした後、濃度10重量%の硝酸を添加しpHを3.0まで下げた。次に限外濾過膜で濾水電導度が10μS/cmになるまで純水で洗浄した後、限外濾過膜で濃縮し取り出した。このとき取り出した液量は6000gで固形分(SnO2)濃度は12重量%であった。このスラリーの中に濃度16重量%のリン酸水溶液264gを添加し、0.5時間攪拌した。
[Example 13]
Preparation of inorganic oxide particles (13) 13 g of ammonium nitrate and 20 g of 15% ammonia water were added to 8060 g of pure water and stirred, and the temperature was raised to 50 ° C. A solution obtained by dissolving 1519 g of potassium stannate in 4290 g of pure water was added with a roller pump over 10 hours. At this time, nitric acid having a concentration of 10% by weight was added and adjusted so as to maintain the pH at 8.8 with a pH controller. After the addition was completed, the temperature was kept at 50 ° C. for 1 hour, and then 10% by weight nitric acid was added to lower the pH to 3.0. Next, it was washed with pure water until the filtered water conductivity reached 10 μS / cm with an ultrafiltration membrane, and then concentrated with an ultrafiltration membrane. The amount of liquid taken out at this time was 6000 g, and the solid content (SnO 2 ) concentration was 12% by weight. To this slurry, 264 g of a phosphoric acid aqueous solution having a concentration of 16% by weight was added and stirred for 0.5 hour.

これを105℃で2時間乾燥し、ついで700℃で2時間焼成して、Pドープ酸化錫(PTO)からなる無機酸化物粒子(13)粉末を調製した。無機酸化物粒子(13)粉末の平均一次粒子径は15nm、平均二次粒子径は0.45μm、体積抵抗値は5000Ω・cmであった。また、屈折率は1.90であった。   This was dried at 105 ° C. for 2 hours and then calcined at 700 ° C. for 2 hours to prepare inorganic oxide particle (13) powder made of P-doped tin oxide (PTO). The average primary particle diameter of the inorganic oxide particle (13) powder was 15 nm, the average secondary particle diameter was 0.45 μm, and the volume resistance value was 5000 Ω · cm. The refractive index was 1.90.

樹脂被覆無機酸化物粒子(13)有機溶媒分散液の調製
ついで、無機酸化物粒子(13)粉末125.45g、有機溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)232.99g、被覆用樹脂としてフェノールノボラック型エポキシアクリレート(新中村化学(株)製:NKオリゴEA−6320/PGMAC、固形分濃度80%)67.2gと、ジルコニアビーズ(直径0.05mm)1713.6gを、ビーズミル(カンペ(株)製:BATCH SAND)に充填し、分散させ、PGME溶剤で濃度調製を行って、無機酸化物粒子(13)の固形分濃度20重量%、全固形分濃度(無機酸化物粒子(13)+樹脂)28.6重量%の樹脂被覆無機酸化物粒子(13)有機溶媒分散液を調製した。無機酸化物微粒子(13)と被覆用樹脂との重量比は70/30であった。
樹脂被覆無機酸化物粒子(13)の平均粒子径、屈折率を測定し、結果を表1に示した。
Preparation of Resin-Coated Inorganic Oxide Particles (13) Organic Solvent Dispersion Next, 125.45 g of inorganic oxide particles (13) powder, 232.99 g of propylene glycol monomethyl ether (PGME) as an organic solvent, and phenol novolac type as a coating resin 67.2 g of epoxy acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo EA-6320 / PGMAC, solid content concentration 80%) and 1713.6 g of zirconia beads (diameter 0.05 mm), bead mill (manufactured by Campe Co., Ltd.) : BATCH SAND), disperse, adjust the concentration with PGME solvent, solid content concentration of inorganic oxide particles (13) 20% by weight, total solid content concentration (inorganic oxide particles (13) + resin) 28.6% by weight of resin-coated inorganic oxide particles (13) An organic solvent dispersion was prepared. The weight ratio of the inorganic oxide fine particles (13) to the coating resin was 70/30.
The average particle diameter and refractive index of the resin-coated inorganic oxide particles (13) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜形成用塗料(13)の調製
樹脂被覆無機酸化物粒子(13)有機溶媒分散液100gに、フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)としてフェノキシポリエチレングリコールアクリレート(新中村化学(株)製:NKエステル AMP−20GY、分子量:236)10.3gを加え、十分に攪拌した後、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)としてフルオレンアクリレート(大阪ガスケミカル(株)製:オグソールEA-0200)19.2gを加えた。
Preparation of coating material for optical thin film formation (13) Resin-coated inorganic oxide particles (13) Phenoxypolyethylene glycol acrylate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) as a (meth) acrylate resin (A) having no fluorene skeleton in 100 g of organic solvent dispersion KK ester: NK ester AMP-20GY, molecular weight: 236) 10.3 g was added and stirred well, then fluorene acrylate (Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) as a (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton. 19.2 g of Ogsol EA-0200).

ついで、ロータリーエバポレーター(柴田化学(株)製)で、温浴の温度を60℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶剤を除去して光学薄膜形成用塗料(13)を調製した。
この時、樹脂被覆無機酸化物粒子(13)(PTO+被覆樹脂)とフルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)との重量比((13)/(A)/(B))は49.2/17.7/33.1である。また、(CF)/(CR)は1.87である。
得られた光学薄膜形成用塗料(13)の有機溶媒の残量および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
Subsequently, with a rotary evaporator (manufactured by Shibata Chemical Co., Ltd.), the temperature of the warm bath was increased to 60 ° C., the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare an optical thin film forming paint (13).
At this time, the weight of the resin-coated inorganic oxide particles (13) (PTO + coated resin), the (meth) acrylate resin (A) not having a fluorene skeleton, and the (meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton The ratio ((13) / (A) / (B)) is 49.2 / 17.7 / 33.1. Further, (C F ) / (C R ) is 1.87.
The remaining amount and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film forming paint (13) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(13)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(13)を用いた以外は同様にして光学薄膜(13)付基材を調製した。このときの光学薄膜(13)の厚さは70μmであった。得られた光学薄膜(13)の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (13) A substrate with an optical thin film (13) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating for forming an optical thin film (13) was used. At this time, the thickness of the optical thin film (13) was 70 μm. The total optical transmittance, haze, pencil hardness, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (13) were measured, and the results are shown in Table 1.

[参考実施例14]
光学薄膜形成用塗料(14)の調製
実施例1と同様にして光学薄膜形成用塗料(1)を調製し、これに有機溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)を塗料中の濃度が5重量%となるように添加して光学薄膜形成用塗料(14)を調製した。
得られた光学薄膜形成用塗料(14)の有機溶媒の濃度および安定性、粘度および屈折率を測定し、結果を表1に示した。
[Reference Example 14]
Preparation of Optical Thin Film Forming Paint (14) An optical thin film forming paint (1) was prepared in the same manner as in Example 1, and propylene glycol monomethyl ether (PGME) as an organic solvent was added to the paint at a concentration of 5% by weight. An optical thin film forming paint (14) was prepared.
The concentration and stability of the organic solvent, the viscosity and the refractive index of the obtained optical thin film forming paint (14) were measured, and the results are shown in Table 1.

光学薄膜(14)の製造
実施例1において、光学薄膜形成用塗料(14)を用い、塗布したのち80℃、5分間乾燥した以外は同様にして光学薄膜(14)付基材を調製した。このときの光学薄膜(14)の厚さは8μmであった。
得られた光学薄膜(12)の全光線透過率、ヘーズ、耐擦傷性、屈折率を測定し、結果を表1に示す。
Production of optical thin film (14) A substrate with an optical thin film (14) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the optical thin film forming paint (14) was applied and dried at 80 ° C for 5 minutes. The thickness of the optical thin film (14) at this time was 8 μm.
The total optical transmittance, haze, scratch resistance, and refractive index of the obtained optical thin film (12) were measured, and the results are shown in Table 1.

Figure 0005815304
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Claims (11)

重量平均分子量が86〜3,000の範囲にあるフルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)と、
フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)と、
無機酸化物微粒子が、フェノールノボラック型エポキシアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシアクリレートから選ばれる芳香族環を有する(メタ)アクリレート系樹脂で、(粒子/樹脂)の重量比で97/3〜20/80で被覆された平均粒子径が5〜50nmの範囲にある樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)とを含み、
前記フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)の濃度(CR)が固形分として10〜60重量%の範囲にあり、前記フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)の濃度(CF)が固形分として10〜60重量%の範囲にあり、前記樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の濃度が固形分として20〜70重量%の範囲にあり、有機溶媒の濃度が800ppm以下であることを特徴とする光学薄膜形成用塗料。
A (meth) acrylate resin (A) having a fluorene skeleton having a weight average molecular weight of 86 to 3,000, and
(Meth) acrylate resin (B) having a fluorene skeleton,
The inorganic oxide fine particle is a (meth) acrylate resin having an aromatic ring selected from phenol novolac type epoxy acrylate and cresol novolac type epoxy acrylate , and the weight ratio of (particle / resin) is 97/3 to 20/80. Coated resin-coated inorganic oxide fine particles (C) having an average particle diameter in the range of 5 to 50 nm,
The concentration (C R ) of the (meth) acrylate resin (A) not having the fluorene skeleton is in the range of 10 to 60% by weight as the solid content, and the (meth) acrylate resin (B) having the fluorene skeleton. The concentration (C F ) of the resin is in the range of 10 to 60% by weight as the solid content, the concentration of the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) is in the range of 20 to 70% by weight as the solid content, and the concentration of the organic solvent A coating for forming an optical thin film, characterized by having a water content of 800 ppm or less.
フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)が、芳香環および/またはエポキシ環を有するものであることを特徴とする請求項1に記載の光学薄膜形成用塗料。   The paint for forming an optical thin film according to claim 1, wherein the (meth) acrylate-based resin (A) having no fluorene skeleton has an aromatic ring and / or an epoxy ring. 前記フルオレン骨格を有さない(メタ)アクリレート系樹脂(A)の濃度(CR)と前記フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート系樹脂(B)の濃度(CF)の濃度比(CF)/(CR)が0.2〜3.0の範囲にあることを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載の光学薄膜形成用塗料 Concentration ratio (C F ) between the concentration (C R ) of the (meth) acrylate resin (A) not having the fluorene skeleton and the concentration (C F ) of the (meth) acrylate resin (B) having the fluorene skeleton 3. The coating composition for forming an optical thin film according to claim 1, wherein / (C R ) is in the range of 0.2 to 3.0. 前記樹脂被覆無機酸化物微粒子(C)の屈折率が1.7〜2.1の範囲にあることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光学薄膜形成用塗料。   The optical thin film-forming coating material according to any one of claims 1 to 3, wherein the resin-coated inorganic oxide fine particles (C) have a refractive index in the range of 1.7 to 2.1. 前記無機酸化物微粒子がジルコニア系微粒子であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光学薄膜形成用塗料。   The coating material for forming an optical thin film according to any one of claims 1 to 4, wherein the inorganic oxide fine particles are zirconia-based fine particles. 粘度(η)が10〜8,000Pa・sの範囲にあることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光学薄膜形成用塗料。   6. The coating composition for forming an optical thin film according to claim 1, wherein the viscosity (η) is in the range of 10 to 8,000 Pa · s. 屈折率が1.5〜1.8の範囲にあることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の光学薄膜形成用塗料。   Refractive index exists in the range of 1.5-1.8, The coating material for optical thin film formation in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜7のいずれかに記載の光学薄膜形成用塗料を用いて形成されたことを特徴とする光学薄膜。   An optical thin film formed using the optical thin film-forming paint according to claim 1. 光透過率が80%以上であることを特徴とする請求項8に記載の光学薄膜。   The optical thin film according to claim 8, wherein the optical transmittance is 80% or more. 屈折率が1.6〜1.8の範囲にあることを特徴とする請求項8または9に記載の光学薄膜。   The optical thin film according to claim 8 or 9, wherein a refractive index is in a range of 1.6 to 1.8. 波型形状、プリズム状、鋸歯状、凸レンズ、凹レンズ状の形状が付与されてなることを特徴とする請求項8〜10のいずれかに記載の光学薄膜。   The optical thin film according to any one of claims 8 to 10, wherein a wave shape, a prism shape, a sawtooth shape, a convex lens shape, and a concave lens shape are provided.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101525286B1 (en) * 2012-09-03 2015-06-02 (주)엘지하우시스 Coating composition for high refractive layer and transparent conductive film including the same
KR102007501B1 (en) * 2013-01-28 2019-08-06 (주)켐옵틱스 Inorganic-organic hybrid resin composition with high refractive index and manufacturing method thereof and optical film including the same
JP6582993B2 (en) * 2013-12-24 2019-10-02 横浜ゴム株式会社 Hard coat layer forming composition
JP6507683B2 (en) * 2015-02-02 2019-05-08 日立化成株式会社 Resin composition and optical member
EP3572396A4 (en) * 2017-01-17 2020-11-18 Nikon Corporation (meth)acrylate compound, additive for optical resin, optical element, and optical device
JP7002237B2 (en) * 2017-07-19 2022-02-10 関東電化工業株式会社 Photocurable high refractive index resin composition
JP7023203B2 (en) * 2018-08-31 2022-02-21 大阪ガスケミカル株式会社 Self-healing material using fluorene compound
WO2022025071A1 (en) * 2020-07-28 2022-02-03 三井化学株式会社 Compound, resin, polycarbonate resin, and optical molded body

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009133880A (en) * 2006-03-10 2009-06-18 Toyo Ink Mfg Co Ltd Resin composition
JP4853630B2 (en) * 2006-04-10 2012-01-11 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 Curable resin composition
JP2008081726A (en) * 2006-08-30 2008-04-10 Sanyo Electric Co Ltd Material for forming organic-inorganic composite, organic-inorganic composite, and optical element using it
JP4952906B2 (en) * 2006-11-15 2012-06-13 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 Encapsulating resin composition and light emitting device
JP5171018B2 (en) * 2006-11-29 2013-03-27 大阪瓦斯株式会社 Zirconium oxide-containing resin composition and molded article thereof
JP4315195B2 (en) * 2006-12-21 2009-08-19 ソニー株式会社 Curable resin material-particulate composite material and method for producing the same, optical material, and light emitting device
JP2009046658A (en) * 2007-07-23 2009-03-05 Sony Corp Curable resin material-fine particle composite material, method for producing the same, optical material, and light emitting device
JP2010007004A (en) * 2008-06-30 2010-01-14 Sanyo Chem Ind Ltd Active energy ray-curable resin composition
JP5587573B2 (en) * 2008-08-26 2014-09-10 日揮触媒化成株式会社 Process for producing resin-coated metal oxide particle-dispersed sol, coating liquid for forming transparent film containing resin-coated metal oxide particles, and substrate with transparent film
JP2010053173A (en) * 2008-08-26 2010-03-11 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd Method of producing dispersion of resin-coated metal oxide particles, coating liquid for forming transparent coating film containing the resin-coated metal oxide particles, and base material coated with transparent coating film
KR20130132990A (en) * 2011-02-25 2013-12-05 쇼와 덴코 가부시키가이샤 Curable composition and cured substance thereof
JP5922341B2 (en) * 2011-05-09 2016-05-24 大阪ガスケミカル株式会社 Composition comprising fluorene compound and metal oxide

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