JP5804968B2 - Processing equipment - Google Patents

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Description

本発明は、加工が終了した方形板状のワーク(以下、「ワーク」という。)を、長手方向を垂直方向(板厚方向は水平方向)にして(以下、「立て」るという。)ストッカに搬入・搬出する搬入・搬出装置を備える加工装置に関する。   In the present invention, a rectangular plate-like workpiece (hereinafter referred to as “work”) having been processed is set to a vertical direction (the thickness direction is a horizontal direction) (hereinafter referred to as “standing”). The present invention relates to a processing apparatus provided with a loading / unloading apparatus for loading / unloading.

以下、図面を参照しながら従来の技術を説明する。図8は、特許文献1の搬入・搬出装置を備える加工装置100の左側面図である。スライダ1はリフタ2により表面の加工が終了したワークwを吸着保持し、紙面奥側から手前側に移動してワークwを待機位置(ワーク載置面が水平な状態)にある回転テーブル3上に載置する。回転テーブル3が載置されたワークwを図示しない回転テーブル3上に設けられたクランパにより保持すると、スライダ1は回転テーブル3と干渉しない位置に移動する。スライダ1が回転テーブル3と干渉しない位置に移動すると、回転テーブル3はワークwをクランパで保持した状態で反時計回りに90度回転(動作位置)してワークwを垂直方向に立てる。ハンガー4は、ハンガー4に設けられた図示しないクランパを閉じて回転テーブル3上のワークwを保持する。ワークwがハンガー4に保持されると、回転テーブル3に設けられたクランパはワークwの保持状態を解除した後、時計回りに90度回転して待機位置に戻る。回転テーブル3が待機位置に戻ると、ハンガー4が下降して、ストッカ5の収納部にワークwを収納する。収納部にワークwが収納されたストッカ5は、次の空の収納部がハンガー4に対向する位置に位置決めされる。ストッカ5に予め定める数のワークwが収納されたら、昇降自在のターンテーブル6により、ストッカ5を水平方向に180度回転させる。そして、上記とは逆の手順でストッカ5に収納されたワークwを加工テーブルに移動させ、ワークwの裏面を加工する。この加工装置100によれば、ワークwを1枚ずつあるいはまとめて上下に反転させる反転装置を設ける必要がないので、装置全体を小型化することができた。また、ワークwの両面を連続して加工することができるので、加工能率を向上させることができた。   Hereinafter, a conventional technique will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a left side view of the processing apparatus 100 including the carry-in / carry-out apparatus of Patent Document 1. The slider 1 sucks and holds the workpiece w whose surface has been processed by the lifter 2, moves from the back side to the near side of the page, and moves the workpiece w to the standby position (the workpiece placement surface is horizontal) on the rotary table 3. Placed on. When the work w on which the rotary table 3 is placed is held by a clamper provided on the rotary table 3 (not shown), the slider 1 moves to a position where it does not interfere with the rotary table 3. When the slider 1 moves to a position where it does not interfere with the rotary table 3, the rotary table 3 rotates 90 degrees counterclockwise (operating position) with the workpiece w held by the clamper to stand the workpiece w in the vertical direction. The hanger 4 holds a work w on the rotary table 3 by closing a clamper (not shown) provided on the hanger 4. When the workpiece w is held on the hanger 4, the clamper provided on the rotary table 3 releases the holding state of the workpiece w, and then rotates 90 degrees clockwise to return to the standby position. When the rotary table 3 returns to the standby position, the hanger 4 is lowered and the work w is stored in the storage portion of the stocker 5. The stocker 5 in which the work w is stored in the storage portion is positioned at a position where the next empty storage portion faces the hanger 4. When a predetermined number of works w are stored in the stocker 5, the stocker 5 is rotated 180 degrees in the horizontal direction by the turntable 6 which can be moved up and down. Then, the work w stored in the stocker 5 is moved to the processing table by the reverse procedure to the above, and the back surface of the work w is processed. According to this processing apparatus 100, since it is not necessary to provide a reversing device for reversing the workpieces w one by one or collectively, the entire apparatus can be reduced in size. Moreover, since both surfaces of the workpiece w can be processed continuously, the processing efficiency could be improved.

ここで、加工装置100のストッカ5へのワーク導入部についてさらに説明する。図9は図8におけるB部の詳細断面図、図10は図9におけるC矢視図、図11はワークwの平面図である。図11に示すように、ワークwは斜線を付して示す加工領域Ekの周りに非加工領域Enが設けられている。図示のワークwの場合、クランパに保持される側(長手方向の上側)の非加工領域の幅fuは他の非加工領域の幅f(通常、15mm程度)よりも大きくなっている。   Here, the work introduction part to the stocker 5 of the processing apparatus 100 will be further described. 9 is a detailed cross-sectional view of a portion B in FIG. 8, FIG. 10 is a view taken along arrow C in FIG. 9, and FIG. 11 is a plan view of the workpiece w. As shown in FIG. 11, the workpiece w is provided with a non-working region En around a working region Ek indicated by hatching. In the case of the illustrated workpiece w, the width fu of the non-processed area on the side held by the clamper (the upper side in the longitudinal direction) is larger than the width f (usually about 15 mm) of the other non-processed areas.

図9に示すように、搬入・搬出装置の台座20は加工装置100のベッドに固定され、加工装置100と一体である。
回転テーブル3は、回転プレート3aと回転プレート3aに固定された載置テーブル3bとから構成されている。載置テーブル3bにはワークWをクランプするための図示しないクランプ手段が設けられている。回転テーブル3は両端を台座20に支持された軸6の回りに回転自在である。回転テーブル3は載置テーブル3bの表面3bsが実線で示す水平位置(待機位置)から、垂直の位置(動作位置)までの90度の範囲を回転自在である。載置テーブル3bの載置面の長さLは最も長いワークの長さに等しく、軸6側の端部のX座標(図の左右方向)は軸6の中心のX座標と同じである。ハンガー4のクランパの垂直方向の位置決めを確実にするため、また、長さの異なるワークwに対して同じ回転テーブル3を使用するため、待機状態(上昇端)におけるクランパの位置は不変とする。そして、ワークwのクランパに保持される側の端部(以下、「上端」という。)を、ワークwの長さに関わらず常に同じ位置に位置決めする。したがって、最も長いワークの場合、軸6側の端部(以下、「下端」という。)のXZ座標(図の左右方向)は軸6の中心のX座標と同じになる。以下、X軸方向を前後方向と言い、図9における右方を前方、左方を後方という。
As shown in FIG. 9, the pedestal 20 of the loading / unloading apparatus is fixed to the bed of the processing apparatus 100 and is integrated with the processing apparatus 100.
The rotary table 3 includes a rotary plate 3a and a mounting table 3b fixed to the rotary plate 3a. The mounting table 3b is provided with a clamping means (not shown) for clamping the workpiece W. The rotary table 3 is rotatable around a shaft 6 supported at both ends by the pedestal 20. The rotary table 3 is rotatable within a range of 90 degrees from the horizontal position (standby position) indicated by the solid line on the surface 3bs of the mounting table 3b to the vertical position (operation position). The length L of the mounting surface of the mounting table 3b is equal to the length of the longest workpiece, and the X coordinate (left and right direction in the drawing) of the end on the shaft 6 side is the same as the X coordinate of the center of the shaft 6. In order to ensure the vertical positioning of the clamper of the hanger 4 and because the same rotary table 3 is used for the workpiece w having a different length, the position of the clamper in the standby state (ascending end) is not changed. Then, the end portion of the workpiece w held by the clamper (hereinafter referred to as “upper end”) is always positioned at the same position regardless of the length of the workpiece w. Therefore, in the case of the longest workpiece, the XZ coordinate (the left-right direction in the drawing) of the end on the shaft 6 side (hereinafter referred to as “lower end”) is the same as the X coordinate of the center of the shaft 6. Hereinafter, the X-axis direction is referred to as the front-rear direction, the right side in FIG. 9 is referred to as the front, and the left side is referred to as the rear.

回転プレート3aの後端には面3aiが形成されている。ここで、回転テーブル3を動作位置に位置決めしたときの載置テーブル3bの表面3bsを含む面を「基準面A」とすると、待機位置にある回転テーブル3の面3abは、基準面Aと対向し、クランパと対向する部分を除き、基準面Aから5mm程度離れるように構成されている。ストッカ5のY方向の両側上部にはワーク保持溝5hに接続するV字形の案内溝5aが形成されている。ワーク保持溝5hはワーク種によりX方向16mm、18mm、25mm等、様々な間隔で配置されている。   A surface 3ai is formed at the rear end of the rotating plate 3a. Here, when the surface including the surface 3bs of the mounting table 3b when the rotating table 3 is positioned at the operating position is referred to as “reference surface A”, the surface 3ab of the rotating table 3 at the standby position is opposed to the reference surface A. However, it is configured to be separated from the reference plane A by about 5 mm except for the portion facing the clamper. V-shaped guide grooves 5a connected to the work holding grooves 5h are formed on both upper sides in the Y direction of the stocker 5. The workpiece holding grooves 5h are arranged at various intervals such as 16 mm, 18 mm, and 25 mm in the X direction depending on the workpiece type.

回転テーブル3が待機位置にある場合、基準面Aを挟んで面3abと対向する位置には、軸8の回りに回転自在のローラ7が配置されている。ここで、図10を参照すると、回転テーブル3の幅方向(Y方向)の中心線を含む垂直な面を面Moとすると、ローラ7は前端7aが基準面Aから5mm程度離れるようにして、Y方向は面Moに近い側の端面7iの長さが、前端7aと対向するワークWの非加工領域Enを越えないように、また、Z方向は回転中心のZ座標が面3aiの下端と同じになるようにして台座20の開口部20aの左右両側に支持されている。   When the turntable 3 is in the standby position, a roller 7 that is rotatable around the shaft 8 is disposed at a position facing the surface 3ab across the reference surface A. Here, referring to FIG. 10, when a vertical surface including the center line in the width direction (Y direction) of the rotary table 3 is a surface Mo, the roller 7 has a front end 7 a separated from the reference surface A by about 5 mm, In the Y direction, the length of the end surface 7i on the side close to the surface Mo does not exceed the non-working area En of the workpiece W facing the front end 7a. In the Z direction, the Z coordinate of the rotation center is the lower end of the surface 3ai. It is supported on both the left and right sides of the opening 20a of the base 20 so as to be the same.

回転テーブル3、ローラ7とストッカ5との間には軸10の回りに回転自在の2組のローラ9F、9Bが配置されている。ローラ9F、9Bは、それぞれのX方向の基準面Aに近い側の端部9Fa、9Baが基準面AからX方向に2〜3mmにの距離を隔てて、Y方向は面Moに近い側の端面9Ri、9Liが対向する非加工領域を越えないようにして、開口部20aの左右両側に回転自在に支持されている。
なお、ストッカ5のワーク収納部の高さは、最も長いワークwの上端がストッカ5の上端面5sの高さになるように定められている。そして、長さが短いワークwを収納する場合は、予めストッカ5の底部に当該ワークの長さと最も長いワークの長さとの差に等しい厚さのスペーサを配置することにより、ストッカ5に収納されたワークwの上端の高さを常に同じになるようにしている。
Between the rotary table 3, the roller 7 and the stocker 5, two sets of rollers 9 </ b> F and 9 </ b> B that are rotatable around the shaft 10 are arranged. The rollers 9F and 9B have end portions 9Fa and 9Ba on the side close to the reference plane A in the X direction at a distance of 2 to 3 mm in the X direction from the reference plane A, and the Y direction in the side close to the surface Mo. The end faces 9Ri and 9Li are rotatably supported on both the left and right sides of the opening 20a so as not to exceed the opposing non-working regions.
The height of the work storage portion of the stocker 5 is determined such that the upper end of the longest work w is the height of the upper end surface 5s of the stocker 5. When a workpiece w having a short length is stored, a spacer having a thickness equal to the difference between the length of the workpiece and the length of the longest workpiece is previously stored in the stocker 5 at the bottom of the stocker 5. The height of the upper end of the workpiece w is always the same.

ワークwの板厚は0.1〜1mmである。載置テーブル3b上のクランプ手段によるクランプ状態が解除されると、ハンガー4に設けられたクランプ手段によってハンガー4に保持されたワークwはX方向に自由に動くことが可能になるが、ストッカ5の内部で折れ曲がることなく自立できる剛性を備えているので、下端がX方向に振れることはない。また、何らかの原因でワークwの下端がX方向に振れた場合であっても、ワークwの下端をローラ9F、9Bにより案内溝5aに誘導することができた。   The plate | board thickness of the workpiece | work w is 0.1-1 mm. When the clamping state by the clamping means on the mounting table 3b is released, the workpiece w held by the hanger 4 by the clamping means provided on the hanger 4 can freely move in the X direction. Since it has the rigidity which can become independent without bending inside, the lower end does not swing in the X direction. Further, even when the lower end of the workpiece w was swung in the X direction for some reason, the lower end of the workpiece w could be guided to the guide groove 5a by the rollers 9F and 9B.

特開2005−153048号公報JP 2005-153048 A

近年、プリント基板の多層化が進み、板厚が2mmを越えるワークwも実用化されている。多層プリント基板では製造工程に起因する反りが発生することが多く、例えば、長さが600mmのプリント基板の場合、ワークwの状態を示す図12に示すように、長さ方向の両端が中心部に対して30mm程度反るワークwがある。例えばワークwの長さがLの場合、回転テーブル3が待機位置にある場合、ハンガー4に設けられたクランパに保持されたワークwの下端は面3abとローラ7の間に位置する。したがって、回転テーブル3が待機位置に移動した後もワークwの下端は面3abとローラ7の間にあるので、ワークwを容易にストッカ5に挿入することができる。しかし、長さが短いワークwの中には、ワークWの反り等の原因により回転テーブル3が待機位置にある時に、ハンガー4のクランパに保持されたワークwの下端が面3abとローラ7との間から外れるものがある。このような場合、反りが大きいワークwをストッカ5に挿入することができないだけでなく、ハンガー4を下降させることによりワークwやローラ7あるいは回転テーブル3を損傷させてしまう場合があった。   In recent years, the number of printed circuit boards has been increased, and a workpiece w having a thickness exceeding 2 mm has been put into practical use. In a multi-layer printed circuit board, warping due to the manufacturing process often occurs. For example, in the case of a printed circuit board having a length of 600 mm, both ends in the length direction are centered as shown in FIG. There is a workpiece w that warps about 30 mm. For example, when the length of the workpiece w is L and the rotary table 3 is in the standby position, the lower end of the workpiece w held by the clamper provided on the hanger 4 is positioned between the surface 3ab and the roller 7. Therefore, even after the rotary table 3 is moved to the standby position, the lower end of the work w is between the surface 3ab and the roller 7, so that the work w can be easily inserted into the stocker 5. However, among the workpieces w having a short length, when the rotary table 3 is in the standby position due to the warp of the workpiece W or the like, the lower end of the workpiece w held by the clamper of the hanger 4 is the surface 3ab and the roller 7. There are things that fall out of between. In such a case, not only the workpiece w having a large warp cannot be inserted into the stocker 5, but also the workpiece w, the roller 7 or the rotary table 3 may be damaged by lowering the hanger 4.

本発明の目的は、反りが発生したワークwであってもストッカ5に円滑に収納することができる加工装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a machining apparatus that can be smoothly housed in the stocker 5 even if the workpiece w has warped.

上記課題を解決するため、本発明は、水平方向を待機位置とし、水平方向と直角の垂直方向を動作位置とする回転テーブルと、ワークの上端を保持して上下方向に移動自在の移動手段と、を備え、前記回転テーブルにより水平方向の前記ワークを垂直方向に立て、前記移動手段により前記ワークを立てた状態でストッカに収納するようにした加工装置において、案内面を備える第1のガイド装置と、案内面を備える第2のガイド装置を支持し、支持した前記第2のガイド装置を水平面内の予め定める第1の位置と第2の位置とに位置決めする回転装置と、を設け、前記第1のガイド装置を、当該前記案内面が動作位置に位置決めされた前記回転テーブルのワーク載置面と予め定める距離を隔てて対向するように配置し、前記回転装置を、前記第1の位置は、当該前記案内面が前記第2のガイド装置が垂直方向に立てられた前記ワークを挟み、前記第1のガイド装置と予め定める距離で対向する位置、前記第2の位置は、前記第2のガイド装置が前記回転テーブルと干渉しない位置、となるように配置し、前記第1のガイド装置と前記第2のガイド装置の前記案内面により、前記ワークを垂直方向に案内することを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a rotary table having a horizontal direction as a standby position and a vertical direction perpendicular to the horizontal direction as an operating position, and a moving means that holds the upper end of the workpiece and is movable in the vertical direction. A first guide device provided with a guide surface in a processing device in which a horizontal work piece is stood in a vertical direction by the rotary table and the work piece is stowed by the moving means. And a rotating device that supports a second guide device having a guide surface and positions the supported second guide device at a predetermined first position and a second position in a horizontal plane, The first guide device is disposed so as to face the work placing surface of the rotary table, the guide surface being positioned at the operating position, with a predetermined distance therebetween, and the rotating device is The position of 1 is a position where the guide surface sandwiches the workpiece on which the second guide device stands in a vertical direction and faces the first guide device at a predetermined distance, and the second position is: The second guide device is disposed at a position where it does not interfere with the rotary table, and the workpiece is guided in the vertical direction by the guide surfaces of the first guide device and the second guide device. It is characterized by.

この場合、前記第2のガイド装置と前記回転装置との間に直線案内装置を設け、前記第2のガイド装置を直線方向に移動自在に構成するとさらに効果的である。   In this case, it is more effective if a linear guide device is provided between the second guide device and the rotating device, and the second guide device is configured to be movable in the linear direction.

また、直径が同じ複数の回転体(ローラまたは球体)を垂直方向に整列させ、前記回転体の総ての頂点を含む面を前記案内面とするとさらに効果的である。   It is more effective if a plurality of rotating bodies (rollers or spheres) having the same diameter are aligned in the vertical direction, and a plane including all the apexes of the rotating bodies is used as the guide surface.

ワークWに反りが発生しても、ワークWやローラ7あるいは回転テーブル3を傷つけることなく円滑にワークWをストッカ5に収納することができる。   Even if the workpiece W is warped, the workpiece W can be smoothly stored in the stocker 5 without damaging the workpiece W, the roller 7 or the rotary table 3.

本発明に係る加工装置の要部平面図である。(実施例1)It is a principal part top view of the processing apparatus which concerns on this invention. (Example 1) 本発明に係る加工装置の要部側面図である。(実施例1)It is a principal part side view of the processing apparatus which concerns on this invention. (Example 1) 本発明に係る加工装置の平面図である。(実施例2)It is a top view of the processing apparatus which concerns on this invention. (Example 2) 本発明に係る加工装置の側面図である。(実施例2)It is a side view of the processing apparatus which concerns on this invention. (Example 2) 本発明に係る加工装置の平面図である。(実施例3)It is a top view of the processing apparatus which concerns on this invention. (Example 3) 動作時における図5のK矢視図である。(実施例3)FIG. 6 is a view taken in the direction of arrow K in FIG. 5 during operation. (Example 3) 効果を説明するためのワークの図である。It is a figure of the work for explaining an effect. 従来技術の説明図である。It is explanatory drawing of a prior art. 従来技術の説明図である。It is explanatory drawing of a prior art. 従来技術の説明図である。It is explanatory drawing of a prior art. ワークの平面図である。It is a top view of a workpiece | work. ワークの説明図である。It is explanatory drawing of a workpiece | work.

図1は、本発明に係る加工装置の要部平面図、図2は要部側面図であり、図9、10と同じものまたは同一機能のものは同一の符号を付して重複する説明を省略する。
第1のガイド装置11は、右側ガイド装置11Rと、右側ガイド装置11Rと勝手違いの左側ガイド装置11Lと、から構成されている。右側ガイド装置11Rと左側ガイド装置11Lは、面11Ra、面11Laが基準面A(動作位置に位置決めされた回転テーブル3のワーク載置面3bsを含む面)と平行で、X方向は基準面Aから距離ms、また、Y方向は面Moに近い端部が対向するワークwの側部の非加工領域Enを越えないようにして台座20に固定されている。ここで、板厚が最も厚いワークwの板厚をtmaxとすると、距離msは、tmax<ms≦5である。また、面11Ra、面11Laの台座20からの高さH1はH1=1〜10mm、H2はH2=L/3である。
FIG. 1 is a plan view of a main part of a processing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a side view of the main part, and the same or the same functions as those in FIGS. Omitted.
The first guide device 11 includes a right guide device 11R and a left guide device 11L that is different from the right guide device 11R. In the right guide device 11R and the left guide device 11L, the surfaces 11Ra and 11La are parallel to the reference surface A (the surface including the work placement surface 3bs of the rotary table 3 positioned at the operation position), and the X direction is the reference surface A. From the distance ms, and in the Y direction, the end close to the surface Mo is fixed to the pedestal 20 so as not to exceed the non-working region En on the side of the workpiece w facing to it. Here, when the plate thickness of the workpiece w having the largest plate thickness is tmax, the distance ms is tmax <ms ≦ 5. The height H1 of the surface 11Ra and the surface 11La from the pedestal 20 is H1 = 1 to 10 mm, and H2 is H2 = L / 3.

第2のガイド装置12は、右側ガイド装置12Rと、右側ガイド装置12Rと構成および動作が勝手違いの左側ガイド装置12Lと、から構成されている。
右側ガイド装置12Rは、ガイド13Rとガイド13Rを水平方向に180度回転させるロータリーアクチュエータ14Rとから構成されている。ロータリーアクチュエータ14Rは台座20に支持されている。ロータリーアクチュエータ14Rは動作位置において、ガイド13Rの面13Raを基準面Aと平行、かつ、基準面Aからの距離mb(例えば、3〜5mm)、Y方向は面Moに近い端部が対向する非加工領域Enを面Mo方向に越えない位置に位置決めする。また、ロータリーアクチュエータ14Rの待機位置は図1に二点鎖線で示す動作位置から180度回転した位置である。面13Raの台座20からの高さH1、H2は面11Raと同じである。
左側ガイド装置12Lは、ガイド13Lとガイド13Lを水平方向に回転させるロータリーアクチュエータ14Lとから構成されている。ロータリーアクチュエータ14Lは台座20に支持されている。ロータリーアクチュエータ14Lは動作位置において、面13Laを基準面Aと平行、かつ、基準面Aからの距離mb、Y方向は面Moに近い端部が対向する非加工領域Enを面Mo方向に越えない位置に位置決めする。また、ロータリーアクチュエータ14Lの待機位置は図2に二点鎖線で示す動作位置から180度回転した位置である。面13Ra、面13Laとロータリーアクチュエータ14R、14Lの回転中心O1r、O1lとの距離はp、また、回転中心O1r、O1lの基準面Aからの距離はqである。面13Laの台座20からの高さH1、H2は面11Raと同じである。
The second guide device 12 includes a right guide device 12R and a left guide device 12L that is different in configuration and operation from the right guide device 12R.
The right guide device 12R includes a guide 13R and a rotary actuator 14R that rotates the guide 13R in the horizontal direction by 180 degrees. The rotary actuator 14R is supported by the pedestal 20. In the operating position, the rotary actuator 14R has a surface 13Ra of the guide 13R parallel to the reference surface A and a distance mb (for example, 3 to 5 mm) from the reference surface A, and the end close to the surface Mo is opposite in the Y direction. The machining area En is positioned at a position not exceeding the surface Mo direction. Further, the standby position of the rotary actuator 14R is a position rotated 180 degrees from the operation position indicated by the two-dot chain line in FIG. Heights H1 and H2 of the surface 13Ra from the pedestal 20 are the same as the surface 11Ra.
The left guide device 12L includes a guide 13L and a rotary actuator 14L that rotates the guide 13L in the horizontal direction. The rotary actuator 14L is supported by the base 20. At the operating position, the rotary actuator 14L has the surface 13La parallel to the reference surface A, the distance mb from the reference surface A, and the Y direction does not exceed the non-working region En facing the end close to the surface Mo in the surface Mo direction. Position to position. Further, the standby position of the rotary actuator 14L is a position rotated 180 degrees from the operation position indicated by a two-dot chain line in FIG. The distances between the surfaces 13Ra and 13La and the rotation centers O1r and O1l of the rotary actuators 14R and 14L are p, and the distances from the reference surface A of the rotation centers O1r and O1l are q. Heights H1 and H2 of the surface 13La from the pedestal 20 are the same as the surface 11Ra.

次に、この実施形態における動作を説明する。なお、回転テーブル3にはワークwが吸着・保持されており、ロータリーアクチュエータ14R、14Lは待機位置に位置決めされている。
手順1:回転テーブル3を待機位置から動作位置に位置決めする。
手順2:クランパによりワークwを保持する。
手順3:載置テーブル3aのクランプを解除する。載置テーブル3aのクランプを解除すると、ワークwはX方向にフリーになるが、ワークwの右方向の曲がりは第1のガイド装置11により規制される。
手順4:回転テーブル3を動作位置から待機位置に移動させる。
手順5:ロータリーアクチュエータ14R、14Lを動作位置に位置決めする。すると、ワークwの左方向の曲がりは第2のガイド装置12により規制される。
手順6:ハンガー4を下降させ、ワークwをストッカ5に挿入する。
手順7:ワークwをストッカ5に挿入したら、クランパを開いた後、ハンガー4を上昇させる。
手順8:動作位置にあるロータリーアクチュエータ14R、14Lを待機位置に位置決めする。
手順9:ストッカ5をX方向に移動させ、クランパの下部にワークwが挿入されていない案内溝5hを位置決めする。
以下、新しいワークwが回転テーブル3に載置される毎に上記の手順1〜手順9を繰り返す。
Next, the operation in this embodiment will be described. The rotary table 3 attracts and holds the workpiece w, and the rotary actuators 14R and 14L are positioned at the standby position.
Procedure 1: Position the rotary table 3 from the standby position to the operating position.
Procedure 2: Hold the work w by the clamper.
Procedure 3: Release the clamp of the mounting table 3a. When the clamping of the mounting table 3a is released, the workpiece w becomes free in the X direction, but the rightward bending of the workpiece w is restricted by the first guide device 11.
Procedure 4: The rotary table 3 is moved from the operating position to the standby position.
Procedure 5: Position the rotary actuators 14R, 14L at the operating position. Then, the bending of the workpiece w in the left direction is restricted by the second guide device 12.
Procedure 6: The hanger 4 is lowered and the workpiece w is inserted into the stocker 5.
Procedure 7: When the workpiece w is inserted into the stocker 5, the clamper is opened, and then the hanger 4 is raised.
Procedure 8: Position the rotary actuators 14R and 14L in the operating position at the standby position.
Procedure 9: The stocker 5 is moved in the X direction, and the guide groove 5h where the workpiece w is not inserted is positioned below the clamper.
Thereafter, each time a new work w is placed on the turntable 3, the above-described procedure 1 to procedure 9 are repeated.

この実施例では、ワークwを第1のガイド装置11と第2のガイド装置12により挟むので、ワークwの長さが短く、下端が面3abとローラ7の上方に位置する場合であっても、ワークwの下端は面3abとローラ7との間に確実に位置決めされる。したがって、確実にワークwをストッカ5に挿入することができる。   In this embodiment, since the workpiece w is sandwiched between the first guide device 11 and the second guide device 12, the length of the workpiece w is short and the lower end is located above the surface 3ab and the roller 7. The lower end of the workpiece w is reliably positioned between the surface 3ab and the roller 7. Therefore, the workpiece w can be reliably inserted into the stocker 5.

なお、面11Ra、面11Laおよび面13Ra、面13Laとワークwとの摩擦を小さくするため、それぞれの表面に摩擦係数が小さい材質の膜(例えば、六弗化エチレンの膜)を配置すると、何らかの原因でワークwが当接した場合にワークwの移動を妨げないようにすることができる。   In addition, in order to reduce the friction between the surface 11Ra, the surface 11La, the surface 13Ra, the surface 13La, and the work w, if a film made of a material having a small friction coefficient (for example, a film of ethylene hexafluoride) is disposed on each surface, When the work w comes into contact with the cause, the movement of the work w can be prevented from being hindered.

また、面11Ra、面11Laおよび面13Ra、面13Laの台座20からの高さH2を最も長いワークの長さの1/3としたが、さらに高くしても良い。   Further, the height H2 of the surface 11Ra, the surface 11La, the surface 13Ra, and the surface 13La from the pedestal 20 is set to 1/3 of the length of the longest workpiece, but may be further increased.

図3は本発明に係る第2の実施例の平面図、図4は側面図であり、図1と同じものまたは同一機能のものは同一の符号を付して重複する説明を省略する。軌道30aとベアリング30bとからなる直線案内装置30の軌道30aは、ロータリーアクチュエータ14Lの出力軸に固定されている。また、ベアリング30bは面13Raが移動方向に対して垂直になるようにしてガイド13Lの下部に固定されている。図示を省略したガイド13Rは面Moに関して対称である。ガイド13R、ガイド13Lは図示を省略する駆動装置により軌道30a上を往復移動及び位置決め自在である。面13Ra、面13Laとロータリーアクチュエータ14R、14Lの回転中心O1r、O1lとの距離はpであり、回転中心O1r、O1lの基準面Aからの距離は(q+c)である。そして、ガイド13R、ガイド13Lの待機位置は、上記第1の実施例1と同じく、面13Ra、面13Laがロータリーアクチュエータ14R、14Lの回転中心から距離pの位置である。   FIG. 3 is a plan view of a second embodiment according to the present invention, FIG. 4 is a side view, and the same or the same functions as those in FIG. The track 30a of the linear guide device 30 including the track 30a and the bearing 30b is fixed to the output shaft of the rotary actuator 14L. The bearing 30b is fixed to the lower portion of the guide 13L so that the surface 13Ra is perpendicular to the moving direction. The guide 13R (not shown) is symmetric with respect to the surface Mo. The guide 13R and the guide 13L can be reciprocated and positioned on the track 30a by a driving device (not shown). The distances between the surfaces 13Ra and 13La and the rotation centers O1r and O1l of the rotary actuators 14R and 14L are p, and the distances from the reference plane A of the rotation centers O1r and O1l are (q + c). The standby positions of the guide 13R and the guide 13L are positions where the surface 13Ra and the surface 13La are at a distance p from the rotation center of the rotary actuators 14R and 14L, as in the first embodiment.

次に、この実施形態の動作を説明する。
手順A:上記第1の実施例の手順1〜手順4を順番に実施する。
手順B:ロータリーアクチュエータ14R、14Lを動作させ、待機位置にあるガイド13Rとガイド13Lを90度回転させる。
手順C:図示を省略する駆動装置を動作させ、ガイド13Rとガイド13Lを動作位置に位置決めする(図3に矢印で示すように、距離cだけ面11Ra、面11Laに向けて移動させる)。すると、ガイド13Rの面13Raと面11Raおよびガイド13Lの面13Laと面11Laの距離はいずれも第1の実施例の場合と同じ距離mbになり、ワークwの左方向の曲がりは第2のガイド装置12により規制される。
手順D:上記第1の実施例の手順6〜手順7を順番に実施する。
手順E:図示を省略する駆動装置を動作させ、ガイド13Rとガイド13Lを待機位置に移動させる。
手順F:上記第1の実施例の手順8〜手順9を順番に実施する。
Next, the operation of this embodiment will be described.
Procedure A: Procedures 1 to 4 in the first embodiment are performed in order.
Procedure B: The rotary actuators 14R and 14L are operated to rotate the guide 13R and the guide 13L at the standby position by 90 degrees.
Procedure C: A driving device (not shown) is operated, and the guide 13R and the guide 13L are positioned at operating positions (as shown by arrows in FIG. 3, they are moved toward the surface 11Ra and the surface 11La by a distance c). Then, the distances between the surfaces 13Ra and 11Ra of the guide 13R and the surfaces 13La and 11La of the guide 13L are the same distance mb as in the first embodiment, and the left turn of the workpiece w is the second guide. It is regulated by the device 12.
Step D: Steps 6 to 7 of the first embodiment are performed in order.
Procedure E: A driving device (not shown) is operated to move the guide 13R and the guide 13L to the standby position.
Step F: Steps 8 to 9 of the first embodiment are performed in order.

ワークwの反りが大きい場合、上記第1の実施例ではガイド13Rとガイド13Lが待機位置から動作位置に移動(回転)する際、ガイド13R、ガイド13Lがワークwと干渉してワークwを損傷させる場合がある。すなわち、例えば図1においてガイド13Rを反時計回りに回転させる場合は、ガイド13Rがワークwの端部に衝突してワークwを損傷させる場合がある。また、ガイド13Rを時計回りに回転させる場合は、ガイド13Rがワークwの加工領域Ekに衝突してワークwを損傷させる(擦過傷をつける)場合がある。
これに対して、この実施例の場合、ワークwの曲がりが大きい場合であっても、ガイド13Rとガイド13Lが待機位置から動作位置に移動(回転)する際にワークwと干渉することはない。なお、距離cは必要最小限の値に定めればよい。
When the warp of the work w is large, in the first embodiment, when the guide 13R and the guide 13L move (rotate) from the standby position to the operating position, the guide 13R and the guide 13L interfere with the work w and damage the work w. There is a case to let you. That is, for example, when the guide 13R is rotated counterclockwise in FIG. 1, the guide 13R may collide with the end of the workpiece w and damage the workpiece w. When the guide 13R is rotated clockwise, the guide 13R may collide with the machining area Ek of the workpiece w and damage the workpiece w (scratch it).
On the other hand, in the case of this embodiment, even when the bending of the workpiece w is large, the guide 13R and the guide 13L do not interfere with the workpiece w when moving (rotating) from the standby position to the operating position. . The distance c may be set to the minimum necessary value.

図5は、本発明に係る第3の実施例の平面図、図6は動作時における図5のK矢視図であり、図1、図2と同じものまたは同一機能のものは同一の符号を付して重複する説明を省略する。
第1のガイド装置15は、右側ガイド装置15Rと、右側ガイド装置15Rと勝手違いの左側ガイド装置15Lとから構成されている。右側ガイド装置15Rと左側ガイド装置15Lには、軸17の回りに回転自在である直径が同じ複数のローラ16(図示の場合は6個)が、回転の中心を垂直方向にして整列配置されている。
右側ガイド装置15Rと左側ガイド装置15Lは、総てのローラ16の前端に接する面Bが基準面Aと平行かつ基準面Aから距離msとなるように、また、Y方向は、ローラ16の面Moに近い側が対向するワークwの非加工領域Enの面Moに近い側を越えないようにして、それぞれ台座20に固定されている。すなわち、面Bは、上記実施例1における右側ガイド装置11Rの面11Raと同じ面である。同様に、右側ガイド装置15Lに支持された総てのローラ16の後端に接する面は右側ガイド装置11Lの面11Laと同じ面である。
FIG. 5 is a plan view of a third embodiment according to the present invention, FIG. 6 is a view taken in the direction of arrow K in FIG. 5 during operation, and the same reference numerals denote the same or the same functions as those in FIGS. A duplicate description is omitted.
The first guide device 15 includes a right guide device 15R and a left guide device 15L that is different from the right guide device 15R. In the right guide device 15R and the left guide device 15L, a plurality of rollers 16 (six in the illustrated example) that have the same diameter and are rotatable around the shaft 17 are aligned and arranged with the center of rotation in the vertical direction. Yes.
The right guide device 15R and the left guide device 15L are arranged so that the surface B in contact with the front ends of all the rollers 16 is parallel to the reference surface A and at a distance ms from the reference surface A, and the Y direction is the surface of the roller 16 The side close to Mo is fixed to the pedestal 20 so as not to exceed the side close to the surface Mo of the non-working region En of the workpiece w facing each other. That is, the surface B is the same surface as the surface 11Ra of the right guide device 11R in the first embodiment. Similarly, the surface in contact with the rear end of all the rollers 16 supported by the right guide device 15L is the same surface as the surface 11La of the right guide device 11L.

第2のガイド装置18は、右側ガイド装置18Rと、右側ガイド装置18Rと勝手違いの左側ガイド装置18Lとから構成されている。右側ガイド装置18Rと左側ガイド装置18Lには、軸17の回りに回転自在である直径が同じ複数のローラ16(図示の場合は6個)が、回転の中心を垂直方向に整列配置されている。右側ガイド装置18Rと左側ガイド装置18Lは、動作位置において、総てのローラの後端を含む面Cが基準面Aと平行、かつ、基準面Aから距離mb、また、Y方向は、ローラ16の面Moに近い側が対向するワークwの非加工領域Enの面Moに近い側を越えないようにして、それぞれ配置されている。
なお、動作は上記実施例2の動作と実質的に同じであるので、重複する説明を省略する。
The second guide device 18 includes a right guide device 18R and a right guide device 18R and a left guide device 18L that is different from the right guide device 18R. In the right guide device 18R and the left guide device 18L, a plurality of rollers 16 (six in the illustrated example) having the same diameter that are rotatable around the shaft 17 are arranged in the vertical direction at the center of rotation. . The right guide device 18R and the left guide device 18L are configured such that, in the operating position, the surface C including the rear end of all the rollers is parallel to the reference surface A, and the distance mb from the reference surface A. The side close to the surface Mo is arranged so as not to exceed the side close to the surface Mo of the non-working area En of the workpiece w facing each other.
Since the operation is substantially the same as the operation of the second embodiment, a duplicate description is omitted.

次に、この実施例の効果を説明する。
曲がりを矯正されたワークwは、例えば、図7に示すようになる場合がある。
第1の実施例あるいは第2の実施例の場合、ワークwの凸部の頂点Fは常に面11La、11Raに接して下降するため、頂点Fに摩擦痕が付く場合がある。これに対して、この実施例の場合は、頂点Fはローラ16と間隔をおいて当接するだけでなく、ローラ16が回転するので、頂点Fに摩擦痕が付くことはほとんどない。したがって、例えば、第1のガイド装置15Rを面Mo上に、第2のガイド装置15Rの動作位置における面15Laが面Mo上となるようにすると、第1のガイド装置15Lと第2のガイド装置16Lが不要になり、装置を簡略化することができる。
Next, the effect of this embodiment will be described.
The workpiece w whose curvature is corrected may be as shown in FIG. 7, for example.
In the case of the first embodiment or the second embodiment, the vertex F of the convex portion of the workpiece w always descends in contact with the surfaces 11La and 11Ra, so that the vertex F may have a friction mark. On the other hand, in this embodiment, the vertex F not only contacts the roller 16 with a gap, but also the roller 16 rotates. Therefore, for example, when the first guide device 15R is on the surface Mo and the surface 15La at the operating position of the second guide device 15R is on the surface Mo, the first guide device 15L and the second guide device 16L becomes unnecessary, and the apparatus can be simplified.

なお、図示を省略するが、ローラ16に代えて、球体を配置し、球体の頂点で面B、面Cを形成するようにしても良い。   In addition, although illustration is abbreviate | omitted, it replaces with the roller 16 and a spherical body may be arrange | positioned and you may make it form the surface B and the surface C by the vertex of a spherical body.

3 回転テーブル
3bs ワーク載置面
11R ガイド装置
11L ガイド装置
11Ra 案内面
11La 案内面
13R ガイド装置
13L ガイド装置
13Ra 案内面
13La 案内面
14R ロータリーアクチュエータ
14L ロータリーアクチュエータ
w ワーク
mb 基準面Aからの距離
3 rotary table 3bs work placement surface 11R guide device 11L guide device 11Ra guide surface 11La guide surface 13R guide device 13L guide device 13Ra guide surface 13La guide surface 14R rotary actuator 14L rotary actuator w work mb distance from reference surface A

Claims (3)

水平方向を待機位置とし、水平方向と直角の垂直方向を動作位置とする回転テーブルと、ワークの上端を保持して上下方向に移動自在の移動手段と、を備え、
前記回転テーブルにより水平方向の前記ワークを垂直方向に立て、前記移動手段により前記ワークを立てた状態でストッカに収納するようにした加工装置において、
案内面を備える第1のガイド装置と、
案内面を備える第2のガイド装置を支持し、支持した前記第2のガイド装置を水平面内の予め定める第1の位置と第2の位置とに位置決めする回転装置と、を設け、
前記第1のガイド装置を、当該前記案内面が動作位置に位置決めされた前記回転テーブルのワーク載置面と予め定める距離を隔てて対向するように配置し、
前記回転装置を、
前記第1の位置は、当該前記案内面が前記第2のガイド装置が垂直方向に立てられた前記ワークを挟み、前記第1のガイド装置と予め定める距離で対向する位置、
前記第2の位置は、前記第2のガイド装置が前記回転テーブルと干渉しない位置、
となるように配置し、
前記第1のガイド装置と前記第2のガイド装置の前記案内面により、前記ワークを垂直方向に案内する
ことを特徴とする加工装置。
A rotary table having a horizontal direction as a standby position and a vertical direction perpendicular to the horizontal direction as an operating position, and a moving means that is movable in the vertical direction while holding the upper end of the workpiece,
In the processing apparatus configured to stand the workpiece in the horizontal direction in the vertical direction by the rotary table, and store the workpiece in the stocker in a state of standing the workpiece by the moving unit,
A first guide device comprising a guide surface;
A rotating device that supports a second guide device including a guide surface and positions the supported second guide device at a predetermined first position and a second position in a horizontal plane;
The first guide device is disposed so as to face the work placement surface of the rotary table, the guide surface being positioned at the operation position, with a predetermined distance therebetween,
The rotating device;
The first position is a position in which the guide surface faces the first guide device at a predetermined distance across the workpiece in which the second guide device is vertically set.
The second position is a position where the second guide device does not interfere with the rotary table,
Arranged so that
A processing apparatus for guiding the workpiece in a vertical direction by the guide surfaces of the first guide device and the second guide device.
前記第2のガイド装置と前記回転装置との間に直線案内装置を設け、前記第2のガイド装置を水平方向に移動自在に構成する
ことを特徴とする請求項1に記載の加工装置。
The processing apparatus according to claim 1, wherein a linear guide device is provided between the second guide device and the rotating device, and the second guide device is configured to be movable in a horizontal direction.
直径が同じ複数の回転体を垂直方向に整列させ、前記回転体の総ての頂点を含む面を前記案内面とすることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれかに記載の加工装置。   3. The processing according to claim 1, wherein a plurality of rotating bodies having the same diameter are aligned in a vertical direction, and a surface including all apexes of the rotating bodies is used as the guide surface. apparatus.
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