JP5790342B2 - Electrophotographic photoreceptor and image forming method - Google Patents
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Description
本発明は、軽印刷分野等に用いられる、極めて高画質なハーフトーン画像を形成することができる電子写真感光体および当該電子写真感光体を用いた画像形成方法に関するものである。 The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member that can be used in the field of light printing and the like and capable of forming an extremely high-quality halftone image, and an image forming method using the electrophotographic photosensitive member.
近年、電子写真法による画像形成装置について、その性能の向上に伴って比較的高画質の画像が得られるようになったことから、比較的少部数のプリントを得る軽印刷分野等において電子写真法による画像形成装置が広く用いられるようになってきた。
その結果として、電子写真法による画像形成装置においては、さらに高いレベルの画質が要求されている。また、従来の電子写真法による画像形成装置においては稀な用途、例えばコート紙へのプリント、高カバレッジ画像のプリント、極めて高精細な画像や微妙なトーン(色調)を有する画像のプリントや、同一画像の大量連続プリント等に電子写真法による画像形成装置が利用されている。これらに伴い、従来は殆どあるいは全く指摘されなかった不具合が生じている。
In recent years, with respect to an image forming apparatus based on electrophotography, it has become possible to obtain a relatively high-quality image as its performance is improved. The image forming apparatus according to has been widely used.
As a result, an image forming apparatus based on electrophotography is required to have a higher level of image quality. Also, it is rarely used in conventional electrophotographic image forming apparatuses, such as printing on coated paper, printing of high-coverage images, printing of extremely high-definition images and images with subtle tones (color tone), and the same An electrophotographic image forming apparatus is used for mass continuous printing of images. Along with these problems, there have been problems that have been hardly or not pointed out in the past.
その不具合の一つとして、高画質の画像形成装置によって中間色の均一性を向上させたハーフトーン画像をコート紙などに出力するといった組み合わせにおいて近年頻発している、画像における斜めスジ状濃度ムラの発生がある。
この斜めスジ状濃度ムラは、いわゆる干渉スジと呼ばれるものであって、電子写真法による画像形成装置において用いられる電子写真感光体(以下、単に「感光体」ともいう。)の円筒状基体の表面には、その外径等の寸法精度を所望のレベルにする、表面の酸化膜を除きフレッシュにする等の目的で、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成されているところ、当該感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期と、スクリーン処理に用いるスクリーンパターン(露光パターン)の周期(ピッチ)との間の干渉に起因して生じるものと推測される。
One of the problems is the occurrence of oblique streak-like density unevenness in images, which has frequently occurred in recent years in the combination of outputting a halftone image with improved uniformity of intermediate colors to coated paper, etc., using a high-quality image forming apparatus. There is.
This oblique stripe-shaped density unevenness is so-called interference streak, and is the surface of a cylindrical substrate of an electrophotographic photosensitive member (hereinafter also simply referred to as “photosensitive member”) used in an electrophotographic image forming apparatus. In order to bring the dimensional accuracy of the outer diameter, etc. to a desired level, and to make it fresh except for the oxide film on the surface, cutting irregularities are periodically formed on the outer peripheral surface in the direction of the central axis. It is presumed that it is caused by interference between the period of the cutting irregularities formed on the surface of the cylindrical substrate of the photoconductor and the period (pitch) of the screen pattern (exposure pattern) used for the screen processing. .
干渉スジの発生を抑制する技術として、従来、感光体を構成する円筒状基体の表面の切削凹凸の形状に工夫をする技術がある(例えば、特許文献1〜3)。すなわち、円筒状基体の表面の切削形状はバイト切削加工によって形成されることが多いが、露光パターンの周期の整数倍ではない周期等、比較的害の少ない周期の切削凹凸を、定速切削によって形成したり、さらに陽極酸化処理やブラスト処理といったコストがかかり弊害が生じやすい追加工を実施して切削凹凸形状の消去を図ることが行われてきた。特許文献1〜3に開示された円筒状基体の中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差ΔLは、具体的には、最大でも4μm程度である。
このような切削凹凸を形成した円筒状基体の感光体を用いた画像形成装置においては、オフィス等において普通紙に出力される一般のハーフトーン画像については、十分な画像品質レベルを有するものとして満足されていた。
As a technique for suppressing the occurrence of interference stripes, there is a technique for devising the shape of the cutting irregularities on the surface of a cylindrical substrate constituting a photoreceptor (for example, Patent Documents 1 to 3). That is, the cutting shape on the surface of the cylindrical substrate is often formed by cutting with a bite, but cutting irregularities with a relatively less harmful cycle such as a cycle that is not an integral multiple of the cycle of the exposure pattern are obtained by constant-speed cutting. It has been practiced to eliminate the uneven shape of the cut by performing additional processing which is costly and harmful, such as anodizing and blasting. Specifically, the difference ΔL between the maximum value and the minimum value of the periodic width of the cutting irregularities in the central axis direction of the cylindrical base body disclosed in Patent Documents 1 to 3 is about 4 μm at the maximum.
In an image forming apparatus using a cylindrical substrate photoconductor having such cut irregularities, a general halftone image output on plain paper in an office or the like is satisfactory as having a sufficient image quality level. It had been.
しかしながら、上述のような軽印刷分野等において用いられる高画質の画像形成装置によって中間色の均一性を向上させたハーフトーン画像をコート紙などに出力したものについては、濃度ムラの視認性が格段に向上されてしまうため、上記の技術では干渉スジの発生の抑制の効果が充分ではない。 However, the density unevenness visibility is marked for the output of a halftone image in which the uniformity of the intermediate color is improved to the coated paper by the high-quality image forming apparatus used in the light printing field as described above. Therefore, the above-described technique is not sufficient in suppressing the occurrence of interference streaks.
一方、以前から感光体の耐摩耗性を改善する試みがなされている。例えば、感光体の最上層に保護層を設けることが行われており、具体的には、熱や光のエネルギーにより硬化性の官能基を有する化合物を硬化反応によって重合させて保護層を形成する技術が検討されている。硬化反応による保護層の形成の技術においては、架橋反応の制御性等の観点により光エネルギーを用いた架橋反応が特に好ましく用いられている(例えば、特許文献4参照)。 On the other hand, attempts have been made to improve the wear resistance of photoconductors. For example, a protective layer is provided on the uppermost layer of the photoreceptor, and specifically, a protective layer is formed by polymerizing a compound having a curable functional group by a heat or light energy by a curing reaction. Technology is being considered. In the technique of forming a protective layer by a curing reaction, a crosslinking reaction using light energy is particularly preferably used from the viewpoint of controllability of the crosslinking reaction (for example, see Patent Document 4).
しかしながら、このような感光体は円筒状基体上に電荷輸送特性を有する感光層が形成されているが、上記のような硬化反応によって形成する保護層には、電荷輸送特性を付与することが難しく、従って、感度の低下が生じるという問題があり、実用には好ましくない。 However, in such a photoreceptor, a photosensitive layer having charge transport characteristics is formed on a cylindrical substrate, but it is difficult to impart charge transport characteristics to the protective layer formed by the curing reaction as described above. Therefore, there is a problem that the sensitivity is lowered, which is not preferable for practical use.
また、従来、長時間複写機を放置した後に形成した1枚目の画像などにおいて、ハーフトーン画像に軽微な画像ムラが稀に発生するという問題もある。 Further, conventionally, there is a problem that minor image unevenness rarely occurs in a halftone image in the first image formed after leaving the copier for a long time.
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、耐摩耗性に優れ、かつ、干渉スジおよび画像ムラの発生が抑制された高画質のハーフトーン画像を得ることができる電子写真感光体および当該電子写真感光体を用いた画像形成方法を提供することにある。 The present invention has been made based on the above circumstances, and an object of the present invention is to obtain a high-quality halftone image having excellent wear resistance and suppressing occurrence of interference streaks and image unevenness. It is an object of the present invention to provide an electrophotographic photosensitive member that can be used and an image forming method using the electrophotographic photosensitive member.
本発明の電子写真感光体は、円筒状基体上に少なくとも電荷発生層および少なくとも2層以上の電荷輸送層がこの順に積層された電子写真感光体であって、
前記円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、下記式(1)の条件を満たす切削加工形状を有し、
前記最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径(Dp)が3〜100nmの無機粒子が含有されていることを特徴とする。
式(1):ΔL≧10μm
〔式(1)中、ΔLは、円筒状基体の外周面の画像領域内における、中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差である。〕
The electrophotographic photoreceptor of the present invention is an electrophotographic photoreceptor in which at least a charge generation layer and at least two charge transport layers are laminated in this order on a cylindrical substrate,
The cylindrical substrate has a cutting shape that satisfies the following formula (1), in which cutting irregularities are periodically formed in the central axis direction on the outer peripheral surface thereof,
The uppermost charge transport layer contains inorganic particles having a number average primary particle size (Dp) of 3 to 100 nm.
Formula (1): ΔL ≧ 10 μm
[In Expression (1), ΔL is the difference between the maximum value and the minimum value of the periodic width of the cutting irregularities in the central axis direction in the image region on the outer peripheral surface of the cylindrical base. ]
本発明の電子写真感光体においては、前記無機粒子がシリカ粒子であることが好ましい。 In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, the inorganic particles are preferably silica particles.
また、本発明の電子写真感光体は、上記の電子写真感光体を用いて画像を形成することを特徴とする。 The electrophotographic photosensitive member of the present invention is characterized in that an image is formed using the above-described electrophotographic photosensitive member.
本発明の電子写真感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。
また、本発明の電子写真感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。
さらに、本発明の電子写真感光体によれば、最上層の電荷輸送層に特定範囲の無機粒子が含有されていることにより、優れた耐摩耗性が得られる。
According to the electrophotographic photosensitive member of the present invention, since the cylindrical substrate has a reduced periodicity of cutting irregularities, the period of the exposure pattern and the cutting formed on the surface of the cylindrical substrate of the electrophotographic photosensitive member. Interference with the period of unevenness is reduced, and therefore, the occurrence of interference streaks in the obtained high-quality halftone image is suppressed.
In addition, according to the electrophotographic photoreceptor of the present invention, the cylindrical substrate has a charge transport layer containing inorganic particles having a particle size in a specific range as well as having a reduced periodicity of cutting irregularities, Since a scattering effect is obtained in the photoreceptor, the occurrence of image unevenness in the obtained image is suppressed.
Furthermore, according to the electrophotographic photosensitive member of the present invention, excellent wear resistance can be obtained by containing a specific range of inorganic particles in the uppermost charge transport layer.
以下、本発明について具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described.
〔感光体〕
本発明の電子写真感光体は、少なくとも電荷発生層および少なくとも2層以上の電荷輸送層がこの順に積層されたものであって、円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、上記式(1)の条件を満たす切削加工形状(以下、「特定の切削加工形状」ともいう。)を有し、最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径(Dp)が3〜100nmの無機粒子(以下、「特定の無機粒子」ともいう。)が含有される、特定の感光体からなることを特徴とするものである。
[Photoconductor]
The electrophotographic photoreceptor of the present invention comprises at least a charge generation layer and at least two charge transport layers laminated in this order, and a cylindrical substrate is periodically cut in the central axis direction on the outer peripheral surface thereof. A number-average primary particle size (having a cutting shape satisfying the condition of the above formula (1) (hereinafter also referred to as “specific cutting shape”) in which irregularities are formed, It is characterized by comprising a specific photoconductor containing Dp) 3 to 100 nm inorganic particles (hereinafter also referred to as “specific inorganic particles”).
具体的な一例を挙げると、例えば図1に示されるように、特定の切削加工形状を有する円筒状基体1a上に、中間層1b、電荷発生層1c、特定の無機粒子を含有しない電荷輸送層(以下、「下層の電荷輸送層」ともいう。)1d、特定の無機粒子を含有する電荷輸送層(以下、「最上層の電荷輸送層」ともいう。)1eがこの順に積層されてなり、電荷発生層1c、下層の電荷輸送層1dおよび最上層の電荷輸送層1eから電子写真感光体の構成に必要不可欠な感光層1αが構成されている。このような感光体1は、電荷発生層1cおよび電荷輸送層1d、1eがそれぞれ公知の有機電荷発生物質および有機電荷輸送物質から構成される有機感光層である、いわゆる有機感光体であることが好ましい。
以下、特定の感光体が有機感光体からなるものとして説明する。
As a specific example, for example, as shown in FIG. 1, an
In the following description, it is assumed that the specific photoreceptor is an organic photoreceptor.
(円筒状基体)
特定の感光体を構成する円筒状基体は、導電性を有し、その外周面に特定の切削加工形状が形成された円筒形状のものである。
特定の切削加工形状を示す上記式(1)の条件において、ΔLは、切削凹凸の周期の変動の幅を示し、具体的には、円筒状基体の外周面の画像領域内における、切削凹凸の周期幅(図3においてWで示す。)の最大値と最小値との差である。
(Cylindrical substrate)
The cylindrical substrate constituting the specific photoconductor is conductive and has a cylindrical shape in which a specific cutting shape is formed on the outer peripheral surface thereof.
In the condition of the above formula (1) indicating a specific cutting shape, ΔL indicates the width of the fluctuation of the cutting unevenness, specifically, the cutting unevenness in the image area of the outer peripheral surface of the cylindrical substrate. It is the difference between the maximum value and the minimum value of the period width (indicated by W in FIG. 3).
上記式(1)が導き出された理由は、以下の通りである。
本発明において課題とされる、形成された画像に現れる干渉スジを図2に示す。このように、干渉スジは、画面r上に感光体の周方向、すなわち画像支持体Pの搬送方向sに沿った方向に伸びる斜めのスジ状の濃度ムラとして現われるものであり、一様な画像において目立ち、特に、滑面画像で軽印刷の如く大画面の高画質なハーフトーン画像において明確に視認されてしまう。
The reason why the above formula (1) is derived is as follows.
FIG. 2 shows interference streaks appearing in the formed image, which is a problem in the present invention. Thus, the interference streaks appear on the screen r as oblique stripe-shaped density unevenness extending in the circumferential direction of the photosensitive member, that is, in the direction along the conveying direction s of the image support P, and a uniform image. In particular, it is clearly visible in a high-quality halftone image of a large screen such as a light print on a smooth surface image.
発明者の検討によれば、本発明にて問題視される干渉スジの発生原因は、下記の通りである。 According to the inventor's investigation, the cause of the occurrence of the interference streak which is regarded as a problem in the present invention is as follows.
図3は、感光体の断面における部分拡大図である。
干渉スジは、円筒状基体の切削凹凸自体に起因するものではなく、当該切削凹凸を反映して感光体1の感度が周期を有することに起因して生じる。
すなわち、図3に示すように、当該円筒状基体1aの表面の切削凹凸の形状が中間層1bを介して電荷発生層(CGL)1cの膜厚に反映され、具体的には円筒状基体1aの切削凹凸の深さの大小に対応して膜厚が厚い部分βや膜厚の薄い部分α等が生じ、その結果、感光体1が、電荷発生層1cの膜厚が規則的な周期に従って変動するものとなる。
そして、感光体1の感度は、電荷発生層1cの膜厚に従って変動するので、当該感光体1の感度の周期と、レーザー光やLED光源等による露光が行われるときの当該露光に係るスクリーンパターンの周期とが干渉して静電潜像に周期性を有する電位ムラが生じ、当該静電潜像が現像、転写および定着されて得られた画像において、当該画像が高画質なものとされる場合に、周期的な濃度ムラ、すなわち干渉スジとして可視化される。
FIG. 3 is a partially enlarged view of the cross section of the photoconductor.
The interference streaks are not caused by the cutting irregularities of the cylindrical substrate itself, but are caused by the sensitivity of the photoreceptor 1 having a period reflecting the cutting irregularities.
That is, as shown in FIG. 3, the shape of the cutting irregularities on the surface of the cylindrical substrate 1a is reflected in the film thickness of the charge generation layer (CGL) 1c through the
Since the sensitivity of the photoreceptor 1 varies according to the film thickness of the
本発明においては、円筒状基体の表面に切削により生じる切削凹凸の周期幅をある程度以上変動させることが、干渉スジの発生の抑制に極めて有効であることを見いだし、さらに、その変動の幅の下限値を見いだしたものである。 In the present invention, it has been found that changing the periodic width of the cutting irregularities generated by cutting on the surface of the cylindrical base body to some extent is extremely effective in suppressing the occurrence of interference streaks, and further, the lower limit of the width of the fluctuation The value is found.
ΔLが10μm未満である場合は、円筒状基体が切削凹凸の周期性の十分に低減されたものとならず、露光パターンの周期と感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間に干渉が生じて高画質なハーフトーン画像を形成した場合に当該画像に干渉スジが発生することがある。 When ΔL is less than 10 μm, the periodicity of the cutting irregularities is not sufficiently reduced in the cylindrical substrate, and the period of the exposure pattern and the period of the cutting irregularities formed on the surface of the cylindrical substrate of the photosensitive member. When a high-quality halftone image is formed due to interference between the two, an interference streak may occur in the image.
ΔLの上限値は、現時点では切削加工形状を形成するための加工機の性能によって限定されているが、発明の効果による限界は存在しないと思われる。ただし、加工機の特性によっては、加工機の速度プログラムをΔLを大きくするための設定にすることにより、速度変動が急激に起こって加工面に段差が発生し、これに起因して画像にスジが生じることがある。そのため、ΔLは、好ましくは300μm≧ΔL≧10μmであり、より好ましくは150μm≧ΔL≧10μmである。 The upper limit value of ΔL is currently limited by the performance of the processing machine for forming the cutting shape, but there seems to be no limit due to the effect of the invention. However, depending on the characteristics of the processing machine, if the speed program of the processing machine is set to increase ΔL, the speed fluctuation will suddenly occur and a step will be generated on the processed surface. May occur. Therefore, ΔL is preferably 300 μm ≧ ΔL ≧ 10 μm, and more preferably 150 μm ≧ ΔL ≧ 10 μm.
(円筒状基体の作製方法)
円筒状基体は、例えば円筒管よりなる素管の表面にバイト切削加工によって特定の切削加工形状を形成させることにより、作製することができる。
素管としては、特に限定されず、例えば、アルミニウム、銅、クロム、ニッケル、亜鉛およびステンレスなどの金属をドラム状に成形したものなどが挙げられる。
(Method for producing cylindrical substrate)
The cylindrical base body can be manufactured by forming a specific cutting shape on the surface of a raw pipe made of, for example, a cylindrical pipe by a cutting tool.
The raw tube is not particularly limited, and examples thereof include a tube formed from a metal such as aluminum, copper, chromium, nickel, zinc, and stainless steel.
特定の切削加工形状は、具体的には、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに、素管を円筒軸を中心として回転させると共に切削バイトを非定速的に移動させながら当接させることにより形成することができる。
以下、本発明に係る特定の切削加工形状を形成するためのバイト切削加工について、さらに説明する。
Specifically, when shaping the surface of the tube by cutting with a cutting tool, the specific cutting shape abuts while rotating the tube around the cylindrical axis and moving the cutting tool at a non-constant speed. Can be formed.
Hereinafter, the cutting tool for forming the specific cutting shape according to the present invention will be further described.
円筒状基体のバイト切削加工は、円筒状基体の外径等の寸法精度を所望のレベルにする、円筒状基体の表面の酸化膜を除きフレッシュにする、円筒状基体の表面を所望の形状にする等の目的で行われる。従来のバイト切削加工で仕上げられた円筒状基体は、その中心軸方向に極めて規則的に切削凹凸が形成された形状を有するものとなり、円筒状基体上に形成された感光層の膜厚分布は、当該形状を反映した周期性を有し、その反映は間に中間層を介するなど、層を重ねても容易には消失しない。 The cutting of the cylindrical substrate is carried out by bringing the cylindrical substrate surface to a desired shape, making the dimensional accuracy such as the outer diameter of the cylindrical substrate a desired level, and excluding the oxide film on the surface of the cylindrical substrate. This is done for the purpose. The cylindrical substrate finished by the conventional cutting tool has a shape in which cutting irregularities are formed regularly in the central axis direction, and the film thickness distribution of the photosensitive layer formed on the cylindrical substrate is as follows: It has a periodicity reflecting the shape, and the reflection does not disappear easily even if the layers are stacked, such as through an intermediate layer.
図示の例のように、円筒状基体上に中間層(UCL)が設けられ、当該中間層上に電荷発生層が形成される場合には、当該電荷発生層の下地となる形状は中間層の表面形状になるが、当該中間層の表面形状は、円筒状基体の表面の形状と中間層の組成によって主に決定される。 In the case where an intermediate layer (UCL) is provided on a cylindrical substrate and a charge generation layer is formed on the intermediate layer as in the example shown in the figure, the shape that forms the foundation of the charge generation layer is the intermediate layer. Although it becomes a surface shape, the surface shape of the intermediate layer is mainly determined by the shape of the surface of the cylindrical substrate and the composition of the intermediate layer.
切削凹凸の周期の不規則性の指標であるΔLを10μm以上とするためには、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに、素管の表面に対する切削バイトの移動速度を加工途中で頻繁に変える指示を加えればよい。 In order to set ΔL, which is an index of irregularity of the cutting irregularities, to 10 μm or more, when the surface of the blank tube is shaped by cutting tooling, the moving speed of the cutting bit with respect to the surface of the blank tube is changed during the machining. Add instructions to change frequently.
例えば、切削バイトの移動速度Xn (mm/回転)とその指示位置Yn (mm)とを指示するCNC旋盤を用いる場合には、(X1 、Y1 )、(X2 、Y2 )、…(Xn 、Yn )のようにnブロックのプログラムを行うことになる。例えば第mブロックにおいて、(Ym+1 −Ym )/Xm が特定数とならない場合に、そのブロック終点で切り替えを可能とするために切削バイトの移動速度の減速が生じ、次の第m+1ブロックでは指示速度Xm+1 までの増速が行われる。この場合、例えばXm とXm+1 が同じ速度の指示であっても、(Ym+1 −Ym )/Xm が特定数とならない場合には、減速、増速が起こるため、これを用いて切削バイトの移動速度を変化させることが可能である。また、同じプログラムでも主軸回転数(素管の回転数)を変えるとΔLは変わることがある。この原因は、切削バイトの移動を観測した結果に基づいて行われるプログラムの速度切り換え判断がデジタル回路によって間欠的に行われ、その間隔が加工速度に対して充分短くはないためと考えられる。特定数が必ずしも自然数ではないのも同様の理由によると考えられる。 For example, when using a CNC lathe that indicates the moving speed X n (mm / rotation) of the cutting tool and its indicated position Y n (mm), (X 1 , Y 1 ), (X 2 , Y 2 ) ,... (X n , Y n ), n blocks are programmed. For example, in the m-th block, when (Y m + 1 −Y m ) / X m does not reach a specific number, the cutting tool moving speed is reduced to enable switching at the end of the block, and In the m + 1 block, the speed is increased to the designated speed Xm + 1 . In this case, for example, even if X m and X m + 1 are instructions of the same speed, if (Y m + 1 −Y m ) / X m is not a specific number, deceleration and acceleration occur. Using this, it is possible to change the moving speed of the cutting tool. Moreover, even if the same program is used, ΔL may change if the spindle speed (the number of revolutions of the tube) is changed. This is considered to be because the program speed switching judgment performed based on the result of observing the movement of the cutting tool is intermittently performed by the digital circuit, and the interval is not sufficiently short with respect to the machining speed. It is thought that the specific number is not necessarily a natural number for the same reason.
言い換えると、特定数は旋盤の設計および設定と主軸回転数に依存する。 In other words, the specific number depends on the design and setting of the lathe and the spindle speed.
また、CNC旋盤ではなくアナログ旋盤を用いる場合には、切削バイトの移動速度を制御しているモーター電圧を、例えば複数の抵抗をスイッチングする回路を通して出力させることにより切削バイトの移動速度を変化させることが可能である。また例えば、指定した波形の電圧を出力することができる電源を用いて切削バイトの移動を行わせることによってもその移動速度を変化させることが可能である。 When an analog lathe is used instead of a CNC lathe, the moving speed of the cutting tool is changed by outputting a motor voltage that controls the moving speed of the cutting tool, for example, through a circuit that switches a plurality of resistors. Is possible. Further, for example, the moving speed can be changed by moving the cutting tool using a power source capable of outputting a voltage having a specified waveform.
切削凹凸の周期性をより低減させるために、切削バイトの移動速度を変える指示間隔は一定にしないことが望ましい。これは例えば、上記のCNC旋盤を用いる場合はYn −Yn-1 を一定にしないことで、また上記のアナログ旋盤を用いる場合はスイッチングするタイマーを複数用いること、或いは出力波形を異なる波形の重畳等で複雑化することが可能な電源を用いること等で達成することができる。 In order to further reduce the periodicity of the cutting irregularities, it is desirable that the instruction interval for changing the moving speed of the cutting tool is not constant. This is because, for example, when using the above CNC lathe, Y n −Y n−1 is not constant, and when using the above analog lathe, a plurality of switching timers are used, or the output waveform has a different waveform. This can be achieved by using a power source that can be complicated by superposition or the like.
また、ΔLを10μm以上とすることは、バイト切削加工時の素管の回転数(主軸回転数)を適宜変動させることにより実現することも可能である。これは例えば、上記のアナログ旋盤の場合と同様な手段で達成することができる。 In addition, setting ΔL to 10 μm or more can also be realized by appropriately varying the number of rotations of the raw tube (the number of rotations of the main shaft) during cutting with a cutting tool. This can be achieved, for example, by means similar to those of the analog lathe described above.
ΔLは切削バイトの移動速度の指示値差よりも大きくなる傾向があるが、それは上記CNC旋盤の場合は上記の減速が入るためであり、上記アナログ旋盤の場合は電圧を変化させる時のオーバーシュートのためと考えられる。 ΔL tends to be larger than the indicated value difference in the moving speed of the cutting tool because the above-mentioned deceleration is introduced in the case of the CNC lathe, and the overshoot when the voltage is changed in the case of the analog lathe. It is thought because of.
また、素管の回転数(主軸回転数)が大きいほどΔLが大きくなる傾向があるが、それは回転体の振れやワウの影響であると考えられる。 Further, ΔL tends to increase as the number of rotations of the tube (the number of rotations of the main shaft) increases, and this is considered to be due to the influence of wobbling or wah of the rotating body.
以上のように、素管の表面をバイト切削加工によって整形するときに素管の表面に対して切削バイトを変則的に移動させながら当接させることにより、ΔLを10以上にすることができる。 As described above, ΔL can be set to 10 or more by bringing the cutting bite into contact with the surface of the blank tube while irregularly moving the surface of the blank tube by biting cutting.
(ΔLの測定方法)
本発明における円筒状基体の外周面の画像領域内における、切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差ΔLは、例えば図4に例示するように、当該外周面の画像領域の断面曲線から読み取られたものである。具体的には、図4(a)の断面曲線から、繰り返し形状および周期に目ぼしをつけ、図4(b)の断面曲線に示すように適切な倍率に上げてその周期幅を読み取ったものである。なお、図4(b)の断面曲線は、横倍率を図4(a)の断面曲線の4倍にしたものである。
(Measurement method of ΔL)
The difference ΔL between the maximum value and the minimum value of the periodic width of the cutting irregularities in the image region on the outer peripheral surface of the cylindrical substrate in the present invention is, for example, a cross-sectional curve of the image region on the outer peripheral surface as illustrated in FIG. Is read from. Specifically, from the cross-sectional curve of FIG. 4A, the repetitive shape and period are focused, and the period width is read by increasing to an appropriate magnification as shown in the cross-sectional curve of FIG. 4B. Is. In addition, the cross-sectional curve of FIG.4 (b) makes lateral magnification 4 times the cross-sectional curve of Fig.4 (a).
切削凹凸の周期幅の最大値および最小値を読み取るために測定される切削凹凸の周期数は、5周期以上であればよい。 The number of periods of the cutting unevenness measured for reading the maximum value and the minimum value of the periodic width of the cutting unevenness may be 5 or more.
断面曲線の測定箇所は、円筒状基体の外周面の画像領域内の任意の箇所でよく、1箇所であっても複数箇所であってもよい。測定箇所が1箇所である場合は、当該測定箇所から連続した、あるいは断続した5周期以上の切削凹凸の周期幅から最大値および最小値を読み取ればよく、測定箇所が複数箇所である場合は、当該複数の測定箇所から任意に5周期以上の切削凹凸の周期幅を選択し、これらから最大値および最小値を読み取ればよい。 The measurement location of the cross-sectional curve may be an arbitrary location in the image area on the outer peripheral surface of the cylindrical substrate, and may be one location or a plurality of locations. When the measurement location is one location, it is only necessary to read the maximum value and the minimum value from the periodic width of the cutting irregularities of 5 cycles or more that are continuous or intermittent from the measurement location, and when the measurement location is a plurality of locations, It is only necessary to select a periodic width of the cutting irregularities of 5 cycles or more from the plurality of measurement points and read the maximum value and the minimum value from these.
断面曲線の測定箇所としては、例えば円筒状基体の中心軸方向の中央付近が選定されることが好ましい。 As the measurement location of the cross-sectional curve, for example, the vicinity of the center of the cylindrical base in the central axis direction is preferably selected.
断面曲線の測定長さは、切削凹凸の周期幅を読み取ることができれば任意の長さでよいが、測定箇所が1箇所である場合は、切削凹凸の周期幅が少なくとも5周期以上読み取れる長さであることが好ましく、10周期以上読み取れる長さであることが特に好ましい。
断面曲線の測定長さは、具体的には例えば4mmとされる。
The measurement length of the cross-sectional curve may be any length as long as the period width of the cutting irregularities can be read. However, when the number of measurement points is one, the period width of the cutting irregularities is a length that can be read by at least five cycles. It is preferable that the length is readable for 10 cycles or more.
The measurement length of the cross-sectional curve is specifically 4 mm, for example.
円筒状基体の外周面の画像領域の断面曲線は、触針式の表面粗さ測定器「サーフコム1400D」((株)東京精密製)を用いて下記の測定条件において得られたものである。 The cross-sectional curve of the image region on the outer peripheral surface of the cylindrical substrate is obtained under the following measurement conditions using a stylus type surface roughness measuring instrument “Surfcom 1400D” (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.).
−測定条件−
・測定モード:粗さ測定(JIS’01規格)
・測定長:4.0mm
・カットオフ:0.8mm(ガウシアン)
・測定速度:0.3mm/sec
-Measurement conditions-
・ Measurement mode: Roughness measurement (JIS'01 standard)
・ Measurement length: 4.0mm
・ Cutoff: 0.8mm (Gaussian)
・ Measurement speed: 0.3mm / sec
(中間層)
中間層は、円筒状基体と有機感光層との間にバリアー機能と接着機能とを付与するものである。種々の故障防止などの観点から、このような中間層を設けることが好ましい。
(Middle layer)
The intermediate layer provides a barrier function and an adhesive function between the cylindrical substrate and the organic photosensitive layer. From the viewpoint of preventing various failures, it is preferable to provide such an intermediate layer.
中間層は、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸コポリマー、ポリアミド、ポリウレタン、アルキッド−メラミン、エポキシおよびゼラチンなどのバインダー樹脂を公知の溶媒に溶解して塗布液を調製し、この塗布液を、円筒状基体の外周面に浸漬塗布などによって塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を乾燥することにより形成することができる。
中間層を形成するバインダー樹脂としては、アルコール可溶性のポリアミド樹脂を用いることが好ましい。
For the intermediate layer, a coating solution is prepared by dissolving a binder resin such as casein, polyvinyl alcohol, nitrocellulose, ethylene-acrylic acid copolymer, polyamide, polyurethane, alkyd-melamine, epoxy and gelatin in a known solvent. Can be formed by coating the outer peripheral surface of the cylindrical substrate by dip coating or the like to form a coating film and drying the coating film.
As the binder resin for forming the intermediate layer, it is preferable to use an alcohol-soluble polyamide resin.
また、中間層には抵抗調整や粗さ付与等の目的で金属酸化物粒子等の各種の微粒子を含有させることができる。
中間層に各種の微粒子が含有された特定の感光体によれば、中間層の表面形状が円筒状基体の表面の切削凹凸に加えて当該微粒子の形状に由来するランダムな凸形状を反映したものとなるために、円筒状基体の表面の形状に由来の感度の周期性を減ずることができ、干渉スジの発生を極めて有効に抑制することができる。
Further, the intermediate layer may contain various fine particles such as metal oxide particles for the purpose of adjusting resistance and imparting roughness.
According to a specific photoconductor in which various fine particles are contained in the intermediate layer, the surface shape of the intermediate layer reflects a random convex shape derived from the shape of the fine particles in addition to the cutting irregularities on the surface of the cylindrical substrate. Therefore, the periodicity of the sensitivity derived from the shape of the surface of the cylindrical substrate can be reduced, and the generation of interference streaks can be extremely effectively suppressed.
金属酸化物粒子としては、例えば、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズおよび酸化ジルコニウムなどの微粒子が挙げられる。 Examples of the metal oxide particles include fine particles such as alumina, zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, bismuth oxide, tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, and zirconium oxide. It is done.
これらの金属酸化物粒子は、2種類以上を混合して用いてもよい。2種類以上混合した場合には、固溶体または融着の形をとってもよい。このような金属酸化物粒子の平均粒径は好ましくは0.3μm以下、より好ましくは0.1μm以下である。また、これらの金属酸化物粒子は、無機化合物や有機化合物で一重または多重に表面処理されていてもよい。 These metal oxide particles may be used in combination of two or more. When two or more types are mixed, it may take the form of a solid solution or fusion. The average particle size of such metal oxide particles is preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.1 μm or less. These metal oxide particles may be surface-treated with an inorganic compound or an organic compound in a single or multiple manner.
中間層を形成するバインダー樹脂を溶解させる溶媒としては、公知のものを挙げることができるが、例えばバインダー樹脂としてアルコール可溶性ポリアミドを用いる場合、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、t−ブタノール、sec−ブタノール等の炭素数1〜4のアルコール類が、ポリアミドの溶解性と塗布性能に優れるために好ましい。また、塗布性や保存性、微粒子の分散性等を向上するために、溶媒と共に助溶媒を用いることが好ましく、好ましい効果を得られる助溶媒としては、ベンジルアルコール、トルエン、メチレンクロライド、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。 Examples of the solvent that dissolves the binder resin that forms the intermediate layer include known ones. For example, when alcohol-soluble polyamide is used as the binder resin, methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, and n-butanol are used. C1-C4 alcohols such as t-butanol and sec-butanol are preferred because of excellent solubility and coating performance of polyamide. Further, in order to improve coating properties, storage stability, fine particle dispersibility, etc., it is preferable to use a co-solvent together with a solvent. Examples of co-solvents that can obtain a preferable effect include benzyl alcohol, toluene, methylene chloride, cyclohexanone, tetrahydrofuran. Etc.
中間層を形成するための塗布液におけるバインダー樹脂の濃度は、中間層の膜厚や生産速度に合わせて適宜選択される。 The concentration of the binder resin in the coating solution for forming the intermediate layer is appropriately selected according to the film thickness and production rate of the intermediate layer.
中間層に微粒子を含有させる場合のバインダー樹脂に対する微粒子の混合割合は、バインダー樹脂100体積部に対して微粒子20〜400体積部が好ましく、さらに好ましくは40〜200体積部である。 When the intermediate layer contains fine particles, the mixing ratio of the fine particles with respect to the binder resin is preferably 20 to 400 parts by volume, more preferably 40 to 200 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the binder resin.
微粒子の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサー等が使用することができるが、これらに限定されるものではない。平均粒径0.1〜0.5mmのビーズを用いたビーズミルを好ましいものとして挙げることができる。 As a means for dispersing fine particles, an ultrasonic disperser, a ball mill, a sand grinder, a homomixer, or the like can be used, but is not limited thereto. A preferred example is a bead mill using beads having an average particle diameter of 0.1 to 0.5 mm.
なお、中間層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。 The intermediate layer coating solution can prevent the occurrence of image defects by filtering foreign matter and aggregates before coating.
中間層の乾燥方法は、バインダー樹脂や溶媒の種類、膜厚に応じて適宜選択することができるが、熱乾燥が好ましい。 Although the drying method of an intermediate | middle layer can be suitably selected according to the kind of binder resin and a solvent, and a film thickness, heat drying is preferable.
中間層の膜厚は、0.1〜30μmであることが好ましく、0.3〜15μmであることがより好ましい。 The film thickness of the intermediate layer is preferably 0.1 to 30 μm, and more preferably 0.3 to 15 μm.
(電荷発生層)
特定の感光体を構成する電荷発生層は、バインダー樹脂中に電荷発生物質が含有されたものである。
(Charge generation layer)
The charge generation layer constituting a specific photoconductor is a binder resin containing a charge generation material.
電荷発生物質は、スーダンレッドおよびダイアンブルーなどのアゾ顔料、ピレンキノンやアントアントロンなどのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴおよびチオインジゴなどのインジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの電荷発生物質は単独、もしくは公知の樹脂中に分散する形態で使用することができる。 Examples of charge generation materials include azo pigments such as Sudan Red and Diane Blue, quinone pigments such as pyrenequinone and anthanthrone, quinocyanine pigments, perylene pigments, indigo pigments such as indigo and thioindigo, and phthalocyanine pigments. It is not something. These charge generating substances can be used alone or in a form dispersed in a known resin.
電荷発生層を形成するバインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、並びにこれらの樹脂の内2つ以上を含む共重合体樹脂(例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂)およびポリビニルカルバゾール樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 As the binder resin for forming the charge generation layer, known resins can be used. For example, polystyrene resin, polyethylene resin, polypropylene resin, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyvinyl butyral resin, epoxy Resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin, silicone resin, melamine resin, and copolymer resin containing two or more of these resins (for example, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin) , Vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer resin) and polyvinyl carbazole resin, but are not limited thereto.
電荷発生層は、バインダー樹脂を溶媒に溶解させた溶液中に分散機を用いて電荷発生物質を分散して塗布液を調製し、当該塗布液を、中間層の外周面に塗布機で一定の膜厚に塗布し、乾燥して塗布膜を作製することが好ましい。 The charge generation layer is prepared by dispersing a charge generation material in a solution in which a binder resin is dissolved in a solvent using a disperser to prepare a coating solution, and the coating solution is fixed on the outer peripheral surface of the intermediate layer by a coating device. It is preferable to apply to a film thickness and dry to produce a coating film.
電荷発生層に使用するバインダー樹脂を溶解し塗布するための溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、1,2−ジクロロエタン、メチルエチルケトン、4−メトキシ−4−メチル−2−ペンタノン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Solvents for dissolving and coating the binder resin used in the charge generation layer include, for example, toluene, xylene, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, methyl ethyl ketone, 4-methoxy-4-methyl-2-pentanone, cyclohexane, Examples include, but are not limited to, ethyl acetate, butyl acetate, methanol, ethanol, propanol, butanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrahydrofuran, 1-dioxane, 1,3-dioxolane, pyridine, and diethylamine.
電荷発生物質の分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンドグラインダーおよびホモミキサー等が使用することができるが、これらに限定されるものではない。 As a means for dispersing the charge generating substance, an ultrasonic disperser, a ball mill, a sand grinder, a homomixer, or the like can be used, but is not limited thereto.
バインダー樹脂に対する電荷発生物質の混合割合は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷発生物質10〜600質量部が好ましく、さらに好ましくは50〜500質量部である。
電荷発生層の膜厚は、電荷発生物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合等により異なるが好ましくは0.01〜5μm、より好ましくは0.05〜3μmである。なお、電荷発生層用の塗布液は塗布前に異物や凝集物を濾過することで画像欠陥の発生を防ぐことができる。前記顔料を真空蒸着することによって形成することもできる。
The mixing ratio of the charge generating material to the binder resin is preferably 10 to 600 parts by mass, more preferably 50 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
The thickness of the charge generation layer varies depending on the characteristics of the charge generation material, the characteristics of the binder resin, the mixing ratio, and the like, but is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.05 to 3 μm. It should be noted that the coating solution for the charge generation layer can prevent the occurrence of image defects by filtering foreign matter and aggregates before coating. It can also be formed by vacuum deposition of the pigment.
(下層の電荷輸送層)
特定の感光体を構成する下層の電荷輸送層は、バインダー樹脂中に電荷輸送物質(CTM)が含有されたものである。
(Lower charge transport layer)
The lower charge transport layer constituting the specific photoconductor is a binder resin containing a charge transport material (CTM).
電荷輸送物質としては、例えば、カルバゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−ビニルピレンおよびポリ−9−ビニルアントラセン、トリフェニルアミン誘導体等が挙げられ、これらは2種以上混合して使用してもよい。 Examples of charge transport materials include carbazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, imidazolone derivatives, imidazolidine derivatives, bisimidazolidine derivatives, styryl compounds, hydrazone compounds, pyrazolines. Compound, oxazolone derivative, benzimidazole derivative, quinazoline derivative, benzofuran derivative, acridine derivative, phenazine derivative, aminostilbene derivative, triarylamine derivative, phenylenediamine derivative, stilbene derivative, benzidine derivative, poly-N-vinylcarbazole, poly-1 -Vinylpyrene, poly-9-vinylanthracene, triphenylamine derivatives, etc. Mixed and may also be used.
バインダー樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリルニトリル共重合体樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂およびスチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂等が挙げられるが、ポリカーボネート樹脂を用いることが好ましい。また、BPA、BPZ、ジメチルBPA、BPA−ジメチルBPA共重合体等を用いることが、耐クラック、耐磨耗性、帯電特性の点で好ましい。 As the binder resin, known resins can be used, such as polycarbonate resin, polyarylate resin, polyester resin, polystyrene resin, styrene-acrylonitrile copolymer resin, polymethacrylic ester resin, and styrene-methacrylic ester copolymer. Examples of the resin include polycarbonate resin. In addition, it is preferable to use BPA, BPZ, dimethyl BPA, BPA-dimethyl BPA copolymer and the like in terms of crack resistance, wear resistance, and charging characteristics.
下層の電荷輸送層は、バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶媒に溶解させて塗布液を調製し、当該塗布液を、電荷発生層の外周面に塗布機によって一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。 The lower charge transport layer is prepared by dissolving a binder resin and a charge transport material in a solvent to prepare a coating solution, and coating the coating solution on the outer peripheral surface of the charge generation layer with a coating film to a certain thickness. It is preferable to prepare by drying.
バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶解するための溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、1,2−ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、ピリジンおよびジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the solvent for dissolving the binder resin and the charge transport material include toluene, xylene, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, methanol, ethanol, propanol, butanol, tetrahydrofuran, Examples include, but are not limited to, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, pyridine, and diethylamine.
バインダー樹脂に対する電荷輸送物質の混合割合は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷輸送物質10〜500質量部が好ましく、さらに好ましくは20〜100質量部である。 The mixing ratio of the charge transport material to the binder resin is preferably 10 to 500 parts by mass, more preferably 20 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
下層の電荷輸送層の膜厚は、電荷輸送物質の特性、バインダー樹脂の特性および混合割合等により異なるが好ましくは5〜40μmであり、さらに好ましくは10〜30μmである。 The film thickness of the lower charge transport layer varies depending on the characteristics of the charge transport material, the characteristics of the binder resin, the mixing ratio, and the like, but is preferably 5 to 40 μm, and more preferably 10 to 30 μm.
下層の電荷輸送層中には酸化防止剤、電子導電剤、安定剤等が添加されていてもよい。酸化防止剤については特開2000−305291号公報に記載のものが挙げられ、電子導電剤については特開昭50−137543号公報、同58−76483号公報等に記載のものが挙げられる。 An antioxidant, an electronic conductive agent, a stabilizer and the like may be added to the lower charge transport layer. Examples of the antioxidant include those described in JP-A No. 2000-305291, and examples of the electronic conductive agent include those described in JP-A Nos. 50-137543 and 58-76483.
(最上層の電荷輸送層)
特定の感光体を構成する最上層の電荷輸送層は、バインダー樹脂中に電荷輸送物質(CTM)および特定の無機粒子が含有されたものである。
特定の感光体において、2層の電荷輸送層を有する理由は、電位特性と耐摩耗性とを両立して得るためである。
(Top charge transport layer)
The uppermost charge transport layer constituting the specific photoreceptor is a binder resin containing a charge transport material (CTM) and specific inorganic particles.
The reason for having two charge transport layers in a specific photoreceptor is to obtain both potential characteristics and wear resistance.
最上層の電荷輸送層を構成するバインダー樹脂および電荷輸送物質としては、下層の電荷輸送層と同様のものを用いることができる。 As the binder resin and the charge transport material constituting the uppermost charge transport layer, the same materials as those of the lower charge transport layer can be used.
最上層の電荷輸送層は、バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶媒に溶解させ、この溶解液に特定の無機粒子を分散させて塗布液を調製し、当該塗布液を、下層の電荷輸送層の外周面に塗布機によって一定の膜厚に塗布し、塗布膜を乾燥して作製することが好ましい。 The uppermost charge transport layer is prepared by dissolving a binder resin and a charge transport material in a solvent, and dispersing specific inorganic particles in the solution to prepare a coating solution. It is preferable that the surface is coated with a coating film by a coating machine, and the coating film is dried.
バインダー樹脂および電荷輸送物質を溶解するための溶媒としては、下層の電荷輸送層を形成するための溶媒と同様のものを用いることができる。 As the solvent for dissolving the binder resin and the charge transport material, the same solvents as those for forming the lower charge transport layer can be used.
バインダー樹脂に対する電荷輸送物質の混合割合は、バインダー樹脂100質量部に対して電荷輸送物質10〜500質量部が好ましく、さらに好ましくは20〜100質量部である。 The mixing ratio of the charge transport material to the binder resin is preferably 10 to 500 parts by mass, more preferably 20 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
また、バインダー樹脂に対する特定の無機粒子の使用割合は、バインダー樹脂100質量部に対して2.5〜40質量部であることが好ましく、さらに好ましくは5〜35質量部である。 Moreover, it is preferable that the usage-amount of the specific inorganic particle with respect to binder resin is 2.5-40 mass parts with respect to 100 mass parts of binder resin, More preferably, it is 5-35 mass parts.
最上層の電荷輸送層の膜厚は、電荷輸送物質の特性、バインダー樹脂の特性、特定の無機粒子の特性および混合割合等により異なるが好ましくは2〜12μmであり、さらに好ましくは5〜9μmである。 The film thickness of the uppermost charge transport layer varies depending on the characteristics of the charge transport material, the characteristics of the binder resin, the characteristics of the specific inorganic particles, the mixing ratio, etc., but is preferably 2 to 12 μm, more preferably 5 to 9 μm. is there.
最上層の電荷輸送層中には、下層の電荷輸送層と同様に、酸化防止剤、電子導電剤、安定剤等が添加されていてもよい。 In the uppermost charge transport layer, an antioxidant, an electronic conductive agent, a stabilizer and the like may be added in the same manner as the lower charge transport layer.
(特定の無機粒子)
最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子としては、金属酸化物粒子を用いることができる。
金属酸化物粒子としては、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉛、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化コバルト、酸化銅、酸化マンガン、酸化セレン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化ゲルマニウム、酸化錫、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化モリブデン、酸化バナジウム等を例示することができるが、これらの中でも、酸化チタン、アルミナ、酸化亜鉛、酸化錫等の粒子が好ましい。
特定の無機粒子としては、シリカ粒子を用いることもできる。
以上の無機粒子の中でも、シリカ粒子を用いることが特に好ましい。
(Specific inorganic particles)
As the specific inorganic particles contained in the uppermost charge transport layer, metal oxide particles can be used.
As metal oxide particles, magnesium oxide, zinc oxide, lead oxide, aluminum oxide, tantalum oxide, indium oxide, bismuth oxide, yttrium oxide, cobalt oxide, copper oxide, manganese oxide, selenium oxide, iron oxide, zirconium oxide, oxidation Examples thereof include germanium, tin oxide, titanium oxide, niobium oxide, molybdenum oxide, vanadium oxide, and among these, particles such as titanium oxide, alumina, zinc oxide, and tin oxide are preferable.
Silica particles can also be used as the specific inorganic particles.
Among the above inorganic particles, it is particularly preferable to use silica particles.
また、上記の金属酸化物粒子は、公知の方法、例えば気相法、塩素法、硫酸法、プラズマ法、電解法等の一般的な製造法で作製されたものであることが好ましい。 The metal oxide particles are preferably prepared by a known method such as a general method such as a gas phase method, a chlorine method, a sulfuric acid method, a plasma method, or an electrolytic method.
本発明の感光体の最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子は、その数平均一次粒径(Dp)が3〜100nmの範囲のものである。
最上層の電荷輸送層に含有される無機粒子の数平均一次粒径(Dp)が3nm未満である場合は、耐摩耗性について十分な効果が得られないおそれがあり、また、最上層の電荷輸送層に含有される無機粒子の数平均一次粒径(Dp)が100nmを超える場合は、当該無機粒子が塗布液中において沈殿しやすく、凝集物が発生するおそれがある。
The specific inorganic particles contained in the uppermost charge transport layer of the photoreceptor of the present invention have a number average primary particle size (Dp) in the range of 3 to 100 nm.
When the number average primary particle size (Dp) of the inorganic particles contained in the uppermost charge transport layer is less than 3 nm, there is a possibility that a sufficient effect on the wear resistance may not be obtained. When the number average primary particle size (Dp) of the inorganic particles contained in the transport layer exceeds 100 nm, the inorganic particles are likely to precipitate in the coating liquid, and aggregates may be generated.
特定の無機粒子の数平均一次粒径(Dp)は、走査型電子顕微鏡(日本電子製)により10,000倍の拡大写真を撮影し、当該写真画像を、凝集粒子は除いてランダムに300個の粒子を選択してこれらが含まれるようスキャナーにより取り込んみ、自動画像処理解析装置「LUZEX AP」(ニレコ社製)ソフトウエアバージョン Ver.1.32を使用して画像解析を行い、フェレ方向の平均径として算出した値である。 The number average primary particle size (Dp) of the specific inorganic particles was taken at 10,000 times with a scanning electron microscope (manufactured by JEOL Ltd.), and 300 of these photographic images were randomly removed except for aggregated particles. Are selected by a scanner so that they are included, and an automatic image processing analyzer “LUZEX AP” (manufactured by Nireco) software version Ver. This is a value calculated as an average diameter in the ferret direction by performing image analysis using 1.32.
本発明の感光体の最上層の電荷輸送層に含有される特定の無機粒子は、疎水化処理されたものであることが好ましい。
特定の無機粒子が疎水化処理されたものであることにより、当該特定の無機粒子を最上層の電荷輸送層中に均一な分散状態で分散させることができる。
The specific inorganic particles contained in the uppermost charge transport layer of the photoreceptor of the present invention are preferably those subjected to a hydrophobic treatment.
When the specific inorganic particles have been subjected to a hydrophobic treatment, the specific inorganic particles can be dispersed in a uniform dispersed state in the uppermost charge transport layer.
(疎水化処理された無機粒子の作製方法)
疎水化処理された無機粒子は、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等の表面処理剤を用いて材料となる無機粒子を表面処理することにより、得ることができる。
(Method for producing hydrophobized inorganic particles)
Hydrophobized inorganic particles can be obtained by surface-treating inorganic particles as a material using a surface treatment agent such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent.
疎水化処理された無機粒子の具体的な作製方法として、表面処理剤としてシランカップリング剤の1種である反応性有機ケイ素化合物を用いる場合は有機溶剤や水に対して反応性有機ケイ素化合物を溶解または懸濁させた処理剤溶液に材料となる無機粒子を添加した無機粒子分散液を、数分から1時間程度撹拌し、そして場合によっては当該無機粒子分散液に加熱処理を施した後に、濾過等の工程を経た後乾燥させることによって、表面を有機ケイ素化合物によって被覆された特定の無機粒子を作製することができる。無機粒子分散液は、有機溶剤や水に対して材料となる無機粒子を添加した後に反応性有機ケイ素化合物を添加しても構わない。 As a specific method for producing the hydrophobized inorganic particles, when a reactive organosilicon compound that is one of silane coupling agents is used as a surface treatment agent, a reactive organosilicon compound is used against an organic solvent or water. The inorganic particle dispersion obtained by adding inorganic particles as a material to the dissolved or suspended treatment agent solution is stirred for several minutes to 1 hour, and in some cases, the inorganic particle dispersion is subjected to heat treatment and then filtered. The specific inorganic particles whose surface is coated with the organosilicon compound can be produced by drying after passing through the above-described steps. In the inorganic particle dispersion liquid, a reactive organosilicon compound may be added after adding inorganic particles as a material to an organic solvent or water.
この疎水化処理に用いられる反応性有機ケイ素化合物の量は、仕込量で材料となる無機粒子100質量部に対して、0.1〜50質量部、さらに好ましくは1〜10質量部であることが好ましい。 The amount of the reactive organosilicon compound used for the hydrophobization treatment is 0.1 to 50 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic particles used as the material in the charged amount. Is preferred.
反応性有機ケイ素化合物としては、下記一般式(A)で表される化合物が挙げられるが、材料となる無機粒子の表面の水酸基等の反応性基と縮合反応する化合物であれば、下記の化合物に限定されない。 Examples of the reactive organosilicon compound include compounds represented by the following general formula (A), and the following compounds can be used as long as they are compounds that undergo a condensation reaction with a reactive group such as a hydroxyl group on the surface of the inorganic particles used as the material. It is not limited to.
一般式(A):(R)n −Si−(X)4-n
〔一般式(A)中、Rは1価の有機基、Xは加水分解性基を表し、nは0〜3の整数を表す。〕
Formula (A): (R) n —Si— (X) 4-n
[In General Formula (A), R represents a monovalent organic group, X represents a hydrolyzable group, and n represents an integer of 0 to 3. ]
一般式(A)で表される反応性有機ケイ素化合物において、Rで示される有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、ナフチル基、ビフェニル基等のアリール基;γ−グリシドキシプロピル基、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基等の含エポキシ基;γ−アクリロキシプロピル基、γ−メタアクリロキシプロピル基等の含(メタ)アクリロイル基;γ−ヒドロキシプロピル基、2,3−ジヒドロキシプロピルオキシプロピル基等の含水酸基、ビニル、プロペニル等の含ビニル基、γ−メルカプトプロピル等の含メルカプト基;γ−アミノプロピル基、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピル基等の含アミノ基;γ−クロロプロピル基、1,1,1−トリフルオロプロピル基、ノナフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチルエチル基等の含ハロゲン基;その他ニトロ基、シアノ置換アルキル基等が挙げられる。
また、Xで示される加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;ハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。
In the reactive organosilicon compound represented by the general formula (A), examples of the organic group represented by R include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, and a dodecyl group. Alkyl group; aryl group such as phenyl group, tolyl group, naphthyl group and biphenyl group; epoxy-containing group such as γ-glycidoxypropyl group and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group; γ-acryloxypropyl Group, (meth) acryloyl group such as γ-methacryloxypropyl group; hydroxyl group such as γ-hydroxypropyl group and 2,3-dihydroxypropyloxypropyl group, vinyl group such as vinyl and propenyl, γ-mercapto Mercapto groups such as propyl; amino-containing groups such as γ-aminopropyl group, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyl group; Chloropropyl group, 1,1,1-trifluoropropyl group, nonafluorohexyl group, a halogen-containing group, such as perfluorooctyl ethyl group; and other nitro group and a cyano-substituted alkyl group.
Examples of the hydrolyzable group represented by X include alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group; halogen groups and acyloxy groups.
一般式(A)で表される反応性有機ケイ素化合物において、nが2以上である場合、複数のRは互いに同一であっても異なっていてもよい。同様に、nが2以下の場合、複数のXは互いに同一であっても異なっていてもよい。 In the reactive organosilicon compound represented by the general formula (A), when n is 2 or more, a plurality of R may be the same as or different from each other. Similarly, when n is 2 or less, the plurality of X may be the same or different from each other.
nが0の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、テトラクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、テトラメトキシシラン、フェノキシトリクロロシラン、テトラアセトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラアリロキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラキス(2−メトキシエトキシ)シラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラキス(2−エチルブトキシ)シラン、テトラキス(2−エチルヘキシロキシ)シラン等が挙げられる。 Specific examples of reactive organosilicon compounds in which n is 0 include tetrachlorosilane, diethoxydichlorosilane, tetramethoxysilane, phenoxytrichlorosilane, tetraacetoxysilane, tetraethoxysilane, tetraallyloxysilane, tetrapropoxysilane, tetraiso Examples include propoxysilane, tetrakis (2-methoxyethoxy) silane, tetrabutoxysilane, tetraphenoxysilane, tetrakis (2-ethylbutoxy) silane, tetrakis (2-ethylhexyloxy) silane, and the like.
nが1の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、n−プロピルトリクロロシラン、n−ブチルトリクロロシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、トリメトキシビニルシラン、エチルトリメトキシシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノエチルアミノメチルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラン、メチルトリアセトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、3−アリルチオプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−ブロモプロピルトリエトキシシラン、3−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビス(エチルメチルケトオキシム)メトキシメチルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Specific examples of the reactive organosilicon compound in which n is 1 include trichlorosilane, methyltrichlorosilane, vinyltrichlorosilane, ethyltrichlorosilane, allyltrichlorosilane, n-propyltrichlorosilane, n-butyltrichlorosilane, chloromethyltriethoxy. Silane, methyltrimethoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, trimethoxyvinylsilane, ethyltrimethoxysilane, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyltrichlorosilane, phenyltrichlorosilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, triethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 2-amino Tylaminomethyltrimethoxysilane, benzyltrichlorosilane, methyltriacetoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, ethyltriacetoxysilane, phenyltrimethoxysilane, 3-allylthiopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane 3-bromopropyltriethoxysilane, 3-allylaminopropyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, bis (ethylmethylketo Oxime) methoxymethylsilane, pentyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, dodecyltriethoxysilane and the like.
nが2の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、ジメチルジクロロシラン、ジメトキシメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジエトキシシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、3−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、クロロメチルジエトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキシ−3−メルカプトプロピルメチルシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジクロロシラン、3−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、3−(2−アミノエチルアミノプロピル)ジメトキシメチルシラン、t−ブチルフェニルジクロロシラン、3−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、3−(3−シアノプロピルチオプロピル)ジメトキシメチルシラン、3−(2−アセトキシエチルチオプロピル)ジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−2−ピペリジノエチルシラン、ジブトキシジメチルシラン、3−ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシ−3−グリシドキシプロピルメチルシラン、3−(3−アセトキシプロピルチオ)プロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−3−ピペリジノプロピルシラン、ジエトキシメチルオクタデシルシラン等が挙げられる。 Specific examples of the reactive organosilicon compound in which n is 2 include dimethyldichlorosilane, dimethoxymethylsilane, dimethoxydimethylsilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldichlorosilane, diethoxysilane, diethoxymethylsilane, Dimethoxymethyl-3,3,3-trifluoropropylsilane, 3-chloropropyldimethoxymethylsilane, chloromethyldiethoxysilane, diethoxydimethylsilane, dimethoxy-3-mercaptopropylmethylsilane, 3,3,4,4 5,5,6,6,6-nonafluorohexylmethyldichlorosilane, methylphenyldichlorosilane, diacetoxymethylvinylsilane, diethoxymethylvinylsilane, 3-methacryloxypropylmethyldichlorosilane, 3-aminopropyldiet Cymethylsilane, 3- (2-aminoethylaminopropyl) dimethoxymethylsilane, t-butylphenyldichlorosilane, 3-methacryloxypropyldimethoxymethylsilane, 3- (3-cyanopropylthiopropyl) dimethoxymethylsilane, 3- (2 -Acetoxyethylthiopropyl) dimethoxymethylsilane, dimethoxymethyl-2-piperidinoethylsilane, dibutoxydimethylsilane, 3-dimethylaminopropyldiethoxymethylsilane, diethoxymethylphenylsilane, diethoxy-3-glycidoxypropyl Examples include methylsilane, 3- (3-acetoxypropylthio) propyldimethoxymethylsilane, dimethoxymethyl-3-piperidinopropylsilane, and diethoxymethyloctadecylsilane.
nが3の反応性有機ケイ素化合物の具体例としては、トリメチルクロロシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、メトキシジメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、3−クロロプロピルメトキシジメチルシラン、メトキシ−3−メルカプトプロピルメチルメチルシラン等が挙げられる。 Specific examples of the reactive organosilicon compound in which n is 3 include trimethylchlorosilane, methoxytrimethylsilane, ethoxytrimethylsilane, methoxydimethyl-3,3,3-trifluoropropylsilane, 3-chloropropylmethoxydimethylsilane, methoxy- Examples include 3-mercaptopropylmethylmethylsilane.
一般式(A)で表される反応性有機ケイ素化合物は、1種を単独で使用してもよく、また、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
一般式(A)で表される反応性有機ケイ素化合物を2種以上を組み合わせて用いるとき、RおよびXはそれぞれの化合物間で同一でもよく、異なっていてもよい。
The reactive organosilicon compound represented by the general formula (A) may be used alone or in combination of two or more.
When two or more reactive organosilicon compounds represented by the general formula (A) are used in combination, R and X may be the same or different between the respective compounds.
一般式(A)で表される反応性有機ケイ素化合物としては、下記一般式(B)で示される化合物を用いることが好ましい。 As the reactive organosilicon compound represented by the general formula (A), it is preferable to use a compound represented by the following general formula (B).
一般式(B):R’−Si−(X’)3
〔一般式(B)中、R’はアルキル基またはアリール基、X’はメトキシ基、エトキシ基またはハロゲン基を表す。〕
Formula (B): R′—Si— (X ′) 3
[In general formula (B), R ′ represents an alkyl group or an aryl group, and X ′ represents a methoxy group, an ethoxy group, or a halogen group. ]
一般式(B)で表される反応性有機ケイ素化合物としては、さらに、R’が炭素数4〜8のアルキル基である有機ケイ素化合物がより好ましく、具体的には、トリメトキシn−ブチルシラン、トリメトキシi−ブチルシラン、トリメトキシヘキシルシラン、トリメトキシオクチルシラン等が挙げられる。 As the reactive organic silicon compound represented by the general formula (B), an organic silicon compound in which R ′ is an alkyl group having 4 to 8 carbon atoms is more preferable. Specifically, trimethoxy n-butylsilane, trimethoxy Examples include i-butylsilane, trimethoxyhexylsilane, trimethoxyoctylsilane, and the like.
また、反応性有機ケイ素化合物としてはハイドロジェンポリシロキサン化合物を挙げることもできる。ハイドロジェンポリシロキサン化合物としては、分子量が1000〜20000のものを用いることが、一般に入手しやすく、また、黒ポチ発生防止機能も良好であるために、好ましい。特に、メチルハイドロジェンポリシロキサンを最後の疎水化処理(表面処理)に用いることにより、良好な効果が得られる。 Moreover, a hydrogen polysiloxane compound can also be mentioned as a reactive organosilicon compound. It is preferable to use a hydrogen polysiloxane compound having a molecular weight of 1000 to 20000 because it is generally easily available and has a good function to prevent black spots. In particular, good effects can be obtained by using methylhydrogenpolysiloxane for the final hydrophobization treatment (surface treatment).
また、反応性有機ケイ素化合物としてはフッ素原子を有する有機ケイ素化合物を挙げることもできる。 In addition, examples of the reactive organosilicon compound include an organosilicon compound having a fluorine atom.
フッ素原子を有する有機ケイ素化合物としては、具体的には、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジメトキシメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン等が挙げられる。 Specific examples of the organosilicon compound having a fluorine atom include 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyltrichlorosilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxy. Silane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldichlorosilane, dimethoxymethyl-3,3,3-trifluoropropylsilane, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluoro Examples include hexylmethyldichlorosilane.
また、表面処理剤としては、チタンカップリング剤の一種である反応性有機チタン化合物を用いることもできる。反応性有機チタン化合物としては、例えば、テトラプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等の金属アルコキシド化合物やジイソプロポキシチタニウムビス(アセチルアセテート)、ジイソプロポキシチタニウムビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタニウムビス(ラクテート)、ジブトキシチタニウムビス(オクチレングリコレート)、ジイソプロポキシチタニウムビス(トリエタノールアミナート)等の金属キレート化合物が挙げられる。 Moreover, as the surface treatment agent, a reactive organic titanium compound which is a kind of titanium coupling agent can also be used. Examples of the reactive organic titanium compound include metal alkoxide compounds such as tetrapropoxy titanium and tetrabutoxy titanium, diisopropoxy titanium bis (acetyl acetate), diisopropoxy titanium bis (ethyl acetoacetate), diisopropoxy titanium bis ( Metal chelate compounds such as lactate), dibutoxytitanium bis (octylene glycolate), diisopropoxytitanium bis (triethanolaminate), and the like.
また、表面処理剤としては、反応性有機ジルコニウム化合物を用いることもできる。反応性有機ジルコニウム化合物としては、例えば、テトラブトキシジルコニウムやブトキシジルコニウムトリ(アセチルアセテート)等の金属アルコキシド化合物や金属キレート化合物が挙げられる。 Further, as the surface treating agent, a reactive organic zirconium compound can also be used. Examples of the reactive organic zirconium compound include metal alkoxide compounds such as tetrabutoxyzirconium and butoxyzirconium tri (acetylacetate), and metal chelate compounds.
また、疎水化処理された無機粒子の別の作製方法としては、湿式メディア分散型装置を使用する方法を採用することもできる。
具体的には、例えば材料となる無機粒子としてアルミナ粒子を用いる場合、アルミナ粒子と表面処理剤とを含むスラリー(固体粒子の懸濁液)を湿式粉砕することにより、アルミナ粒子を微細化すると同時にアルミナ粒子の表面の疎水化処理が進行する。その後、スラリーの溶媒を除去することにより均一でしかもより微細に粉体化され、その表面がシラン化合物などの表面処理剤に由来の化合物により疎水化されたアルミナ粒子を得ることができる。
In addition, as another method for producing the hydrophobized inorganic particles, a method using a wet media dispersion type apparatus may be employed.
Specifically, for example, when alumina particles are used as inorganic particles as a material, a slurry (a suspension of solid particles) containing alumina particles and a surface treatment agent is wet-pulverized to simultaneously refine the alumina particles. Hydrophobization of the surface of the alumina particles proceeds. Thereafter, by removing the solvent from the slurry, it is possible to obtain alumina particles that are made uniform and finer and whose surface is hydrophobized by a compound derived from a surface treatment agent such as a silane compound.
湿式メディア分散型装置は、容器内にメディアとしてビーズが充填され、さらに回転軸と垂直に取り付けられた攪拌ディスクを高速回転させることにより、アルミナの凝集粒子を砕いて粉砕・分散する機能を有する装置であり、その具体的な構成としては、アルミナ粒子を十分に分散させ、かつ疎水化処理することができる形式であれば問題なく、例えば、縦型・横型、連続式・回分式など、種々の様式が採用することができる。具体的にはサンドグラインダーミル、ウルトラビスコミル、パールミル、グレンミル、ダイノミル、アジテータミル、ダイナミックミル等が使用することができる。これらの湿式メディア分散型装置において、ボール、ビーズ等の粉砕媒体(メディア)を使用して衝撃圧壊、摩擦、専断、ズリ応力等により微粉砕、分散が行われる。 The wet media dispersion type device has a function of crushing and pulverizing and dispersing alumina agglomerated particles by filling beads in the container as media and rotating the stirring disk mounted perpendicular to the rotation axis at a high speed. As its specific configuration, there is no problem as long as the alumina particles are sufficiently dispersed and can be hydrophobized, for example, various types such as a vertical type, a horizontal type, a continuous type, a batch type, etc. Styles can be adopted. Specifically, a sand grinder mill, an ultra visco mill, a pearl mill, a glen mill, a dyno mill, an agitator mill, a dynamic mill and the like can be used. In these wet media dispersion type apparatuses, pulverization and dispersion are performed by impact crushing, friction, cutting, shear stress, etc., using a grinding medium (media) such as balls and beads.
サンドグラインダーミルで用いるビーズとしては、ガラス、アルミナ、ジルコン、ジルコニア、スチール、フリント石などを原材料としたボールが使用可能であるが、特にジルコニア製やジルコン製のものを用いることが好ましい。また、ビーズの大きさとしては、通常、直径1〜2mm程度のものを使用するが、本発明では0.1〜1.0mm程度のものを用いることが好ましい。 As the beads used in the sand grinder mill, balls made of glass, alumina, zircon, zirconia, steel, flint stone and the like can be used, but those made of zirconia or zircon are particularly preferable. Further, as the size of the beads, those having a diameter of about 1 to 2 mm are usually used, but in the present invention, those having a diameter of about 0.1 to 1.0 mm are preferably used.
湿式メディア分散型装置におけるディスクや容器内壁としては、ステンレス製、ナイロン製、セラミック製など種々の素材のものが使用することができるが、特にジルコニアまたはシリコンカーバイドといったセラミック製のものを用いることが好ましい。 Various materials such as stainless steel, nylon, and ceramic can be used as the disk and container inner wall in the wet media dispersion type apparatus, but it is particularly preferable to use a ceramic material such as zirconia or silicon carbide. .
この疎水化処理に用いられる表面処理剤の量は、仕込量で材料となるアルミナ粒子100質量部に対して、0.1〜100質量部であることが好ましい。
また、スラリーの溶媒は、仕込量で材料となるアルミナ粒子100質量部に対して、50〜5000質量部であることが好ましい。
The amount of the surface treatment agent used for the hydrophobization treatment is preferably 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of alumina particles as a material in the charged amount.
Moreover, it is preferable that the solvent of a slurry is 50-5000 mass parts with respect to 100 mass parts of alumina particles used as a material with preparation amount.
以上のような感光体によれば、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。
また、円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。
さらに、最上層の電荷輸送層に特定範囲の無機粒子が含有されていることにより、優れた耐摩耗性が得られる。
According to the photoreceptor as described above, the periodicity of the cutting unevenness is reduced by the cylindrical substrate, so that the period of the exposure pattern and the cutting unevenness formed on the surface of the cylindrical substrate of the electrophotographic photosensitive member. Interference with the period is reduced, and accordingly, the occurrence of interference streaks in the obtained high-quality halftone image is suppressed.
In addition, since the cylindrical substrate has a charge transport layer containing inorganic particles having a particle size in a specific range, with the periodicity of the cutting irregularities being reduced, a scattering effect is obtained in the photoreceptor. Occurrence of image unevenness in the obtained image is suppressed.
Furthermore, excellent wear resistance can be obtained by containing a specific range of inorganic particles in the uppermost charge transport layer.
〔画像形成装置〕
図5は、本発明の電子写真感光体が搭載された画像形成装置の構成の一例を示す説明用断面図である。
この画像形成装置は、タンデム型のカラー画像形成装置と称せられるもので、それぞれイエロー、マゼンタ、シアンまたは黒のトナー像を形成する画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkと、これらの画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkにおいて形成された各色のトナー像を画像支持体P上に転写する中間転写ユニット7と、画像支持体Pに対してトナー像を定着させる定着手段24とを備える画像形成装置本体Aを有し、当該画像形成装置本体Aの上部に、原稿を光学的に走査して画像情報をデジタルデータ(原稿画像データ)として読み取るための原稿画像読み取り装置SCが配置されている。
[Image forming apparatus]
FIG. 5 is an explanatory sectional view showing an example of the configuration of an image forming apparatus on which the electrophotographic photosensitive member of the present invention is mounted.
This image forming apparatus is called a tandem type color image forming apparatus. Each of the
画像形成ユニット10Yについて、以下に詳細に説明する。
画像形成ユニット10M、10C、10Bkは、各々、イエロートナーに代えて、マゼンタトナー、シアントナー、黒トナーによってトナー像を形成するものであり、基本的には画像形成ユニット10Yと同様の構成を有するものである。
The
Each of the
画像形成ユニット10Yは、像形成体であるドラム状の感光体1Yの周囲に、当該感光体1Yの表面に一様な電位を与える帯電手段2Y、一様に帯電された感光体1Y上に露光用画像データ信号(イエロー)に基づいて露光を行い、イエローの画像に対応する静電潜像を形成する露光手段3Y、カラートナーを感光体1Y上に搬送して静電潜像を顕像化する現像手段4Y、一次転写後に感光体1Y上に残留した残留トナーを回収するクリーニング手段6Yが配置されてなり、感光体1Y上にイエロー(Y)のトナー像を形成するものである。
The
帯電手段2Yとしては、コロナ放電型の帯電器が用いられている。 As the charging means 2Y, a corona discharge type charger is used.
露光手段3Yとしては、露光光源として発光ダイオードを用いた、例えば感光体1Yの軸方向にアレイ状に発光ダイオードからなる発光素子が配列されたLED部と結像素子とから構成される光照射装置、あるいは、露光光源として半導体レーザーを用いた、レーザー光学系のレーザ照射装置等よりなり、図5の画像形成装置においては、レーザー照射装置が用いられている。
As the
露光手段3Yにおいては、発振波長が350〜850nmの半導体レーザーまたは発光ダイオードを、露光光源として用いた装置からなることが望ましい。このような露光光源を、書き込みの主査方向の露光ドット径を10〜100μmに絞り込んで用い、感光体1Y上にデジタル露光を行うことにより、600dpiから2400dpi、あるいはそれ以上の高解像度の電子写真画像を得ることができる。 The exposure means 3Y is preferably composed of an apparatus using a semiconductor laser or light emitting diode having an oscillation wavelength of 350 to 850 nm as an exposure light source. By using such an exposure light source with an exposure dot diameter of 10 to 100 μm narrowed down in the writing direction, and performing digital exposure on the photoreceptor 1Y, a high-resolution electrophotographic image of 600 to 2400 dpi or more is provided. Can be obtained.
露光手段3Yにおける露光方法としては、半導体レーザーを用いた走査光学系であってもよく、LEDによる固体型であってもよい。光強度分布についても、ガウス分布およびローレンツ分布等があるがそれぞれのピーク強度の1/e2 以上の領域を露光ドット径とすればよい。 The exposure method in the exposure means 3Y may be a scanning optical system using a semiconductor laser or a solid type using an LED. Regarding the light intensity distribution, there are a Gaussian distribution, a Lorentz distribution, etc., but an area of 1 / e 2 or more of each peak intensity may be set as the exposure dot diameter.
この例の画像形成装置においては、画像形成ユニット10Yにおける感光体1Y、帯電手段2Y、現像手段4Y、クリーニング手段6Yが一体化されたプロセスカートリッジとして設けられている。
In the image forming apparatus of this example, the photosensitive member 1Y, the charging unit 2Y, the developing
以上のような画像形成装置は、一の画像形成ユニットにおける感光体と、現像手段、クリーニング手段等の構成要素とをプロセスカートリッジとして一体に結合させて構成し、このプロセスカートリッジが画像形成装置本体に対して着脱自在とされるよう構成されていてもよい。また、一の画像形成ユニットにおける帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段または図示しない分離手段、およびクリーニング手段の少なくとも1つを感光体と共に一体に支持してプロセスカートリッジを形成し、レールなどの案内手段を用いて画像形成装置本体に対して着脱自在とされるよう構成してもよい。 The image forming apparatus as described above is configured by integrally coupling a photosensitive member in one image forming unit and components such as a developing unit and a cleaning unit as a process cartridge, and this process cartridge is attached to the main body of the image forming apparatus. On the other hand, it may be configured to be detachable. In addition, a process cartridge is formed by integrally supporting at least one of a charging unit, an exposure unit, a developing unit, a transfer unit or a separation unit (not shown), and a cleaning unit in one image forming unit together with a photosensitive member. It may be configured to be detachable from the main body of the image forming apparatus using a guide means.
中間転写ユニット7は、複数の支持ローラ71〜74により張架され、循環移動可能に支持された無端ベルト状の中間転写体70と、それぞれ画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkによって形成されたトナー像を中間転写体70に転写するための一次転写ローラ5Y、5M、5C、5Bkと、一次転写ローラ5Y、5M、5C、5Bkによって中間転写体70上に転写されたトナー像を画像支持体P上に転写する二次転写ローラ5bと、中間転写体70上に残留した残留トナーを回収するクリーニング手段6bとを有する。
The
中間転写ユニット7における一次転写ローラ5Bkは、画像形成処理中の常時、感光体1Bkに当接されており、他の一次転写ローラ5Y、5M、5Cは、カラー画像を形成する場合にのみ、それぞれ対応する感光体1Y、1M、1Cに当接される。
The primary transfer roller 5Bk in the
また、二次転写ローラ5bは、ここを画像支持体Pが通過して二次転写が行われるときにのみ、中間転写体70に当接される。
Further, the
この画像形成装置においては、画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkにおけるプロセスカートリッジのそれぞれと、中間転写ユニット7の二次転写ローラ5b以外のものが筐体8に収納されており、当該筐体8が、画像形成装置本体Aから支持レール82L、82Rを介して引き出し可能に構成されている。
In this image forming apparatus, each of the process cartridges in the
この画像形成装置においては、全ての画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Bkの感光体1Y、1M、1C、1Bkのうち、全ての感光体1Y、1M、1C、1Bkが上記の特定の切削加工形状を有する特定の感光体からなるものであることが好ましいが、感光体1Y、1M、1C、1Bkのうち少なくとも1つが上記の特定の感光体から構成されていれば、干渉スジの発生が抑制された高画質な画像を形成する効果を得ることができる。
In this image forming apparatus, among the
本発明の電子写真感光体が搭載された画像形成装置は、電子写真複写機、レーザープリンター、LEDプリンターおよび液晶シャッター式プリンター等の電子写真装置一般に適応するが、更に、電子写真技術を応用したディスプレー、記録、軽印刷、製版およびファクシミリ等の装置にも幅広く適用することができる。 The image forming apparatus on which the electrophotographic photosensitive member of the present invention is mounted is generally applicable to electrophotographic apparatuses such as electrophotographic copying machines, laser printers, LED printers, and liquid crystal shutter printers. It can be widely applied to apparatuses such as recording, light printing, plate making and facsimile.
〔画像形成方法〕
本発明の電子写真感光体が搭載された以上のような画像形成装置においては、感光体1Y、1M、1C、1Bkの表面が帯電手段2Y、2M、2C、2Bkより帯電され、露光手段3Y、3M、3C、3Bkが原稿画像読み取り装置SCによって得られた原稿画像データに各種の画像処理等が施されて得られた各色の露光用画像データ信号に従って動作され、具体的には当該露国用画像データ信号に対応して変調されたレーザー光が露光光源から出力され、このレーザー光によって当該感光体1Y、1M、1C、1Bkが走査露光されることにより、原稿画像読み取り装置SCにより読み取られた原稿に対応したイエロー、マゼンタ、シアン、黒の各色に対応した静電潜像が各感光体1Y、1M、1C、1Bk上にそれぞれ形成される。
(Image forming method)
In the above image forming apparatus equipped with the electrophotographic photoreceptor of the present invention, the surfaces of the
次いで、感光体1Y、1M、1C、1Bk上に形成された静電潜像が、現像手段4Y、4M、4C、4Bkにおいて各色のトナーによって現像されることにより各色のトナー像が形成され、一次転写ローラ5Y、5M、5C、5Bkにより各色のトナー像が中間転写体70上に逐次転写されて重ね合わされて合成され、カラートナー像が形成される。
さらに、カラートナー像の形成に同期して、給紙カセット20内に収容された普通紙や透明シート等の画像支持体Pが、給紙手段21により給紙され、複数の中間ローラ22A、22B、22C、22Dおよびレジストローラ23を経て、二次転写ローラ5bに搬送され、当該画像支持体P上に、二次転写ローラ5bによって中間転写体70上に転写されたカラートナー像が一括して転写される。
画像支持体P上に転写されたカラートナー像は、定着手段24において例えば加熱および加圧により定着されて可視画像が形成され、その後、可視画像が形成された画像支持体Pが、排紙ローラ25によって機外に排出されて排紙トレイ26上に載置される。
Next, the electrostatic latent images formed on the
Further, in synchronism with the formation of the color toner image, the image support P such as plain paper or transparent sheet accommodated in the
The color toner image transferred onto the image support P is fixed by, for example, heating and pressurization in the fixing
各色のトナー像を中間転写体70に転写させた後の感光体1Y、1M、1C、1Bkは、それぞれクリーニング手段6Y、6M、6C、6Bkにより当該感光体1Y、1M、1C、1Bkに残留したトナーを除去した後に、次の各色のトナー像の形成に供される。
一方、二次転写ローラ5bにより画像支持体P上にカラートナー像を転写し、画像支持体Pが曲率分離された後の中間転写体70は、クリーニング手段6bにより当該中間転写体70上に残留したトナーを除去した後に、次のトナー像の中間転写に供される。
The
On the other hand, the
〔トナーおよび現像剤〕
本発明の画像形成方法に用いられるトナーは、粉砕トナーであっても重合トナーであってもよいが、本発明の画像形成方法においては、安定した粒度分布を得られる観点から、重合法で作製された重合トナーを用いることが好ましい。
[Toner and developer]
The toner used in the image forming method of the present invention may be a pulverized toner or a polymerized toner. However, the image forming method of the present invention is prepared by a polymerization method from the viewpoint of obtaining a stable particle size distribution. It is preferable to use the polymerized toner.
重合トナーとは、トナーを形成するバインダー樹脂の生成とトナー粒子形状の形成が、バインダー樹脂を得るための原料モノマーの重合と、必要によりその後の化学的処理とにより並行して行われて得られるトナーを意味する。 A polymerized toner is obtained by generating a binder resin for forming a toner and forming a toner particle shape by performing polymerization of raw material monomers to obtain a binder resin and, if necessary, subsequent chemical treatment in parallel. Means toner.
より具体的には、懸濁重合、乳化重合等の重合反応により樹脂微粒子を得る工程と、必要によりその後に行われる樹脂微粒子同士を融着させる工程を経て形成されるトナーを意味する。 More specifically, it means a toner formed through a step of obtaining resin fine particles by a polymerization reaction such as suspension polymerization or emulsion polymerization, and a step of fusing the resin fine particles performed thereafter if necessary.
トナーの体積平均粒径、すなわち、上記50%体積粒径(Dv50)は2〜9μm、より好ましくは3〜7μmであることが望ましい。この範囲とすることにより、解像度を高くすることができる。さらに上記の範囲と組み合わせることにより、小粒径トナーでありながら、微細な粒径のトナーの存在量を少なくすることができ、長期に亘ってドット画像の再現性が改善され、鮮鋭性の良好な、安定した画像を形成することができる。 The volume average particle diameter of the toner, that is, the 50% volume particle diameter (Dv50) is preferably 2 to 9 μm, more preferably 3 to 7 μm. By setting this range, the resolution can be increased. In addition, by combining with the above range, the amount of toner having a fine particle diameter can be reduced while being a small particle diameter toner, the dot image reproducibility is improved over a long period of time, and the sharpness is excellent. In addition, a stable image can be formed.
本発明に係るトナーは、それのみで一成分現像剤として用いてもよく、キャリアと混合して二成分現像剤として用いてもよい。 The toner according to the present invention may be used alone as a one-component developer, or may be mixed with a carrier and used as a two-component developer.
一成分現像剤として用いる場合は、非磁性一成分現像剤、あるいはトナー中に0.1〜0.5μm程度の磁性粒子を含有させ磁性一成分現像剤としたものが挙げられ、いずれも使用することができる。 When used as a one-component developer, a non-magnetic one-component developer or a magnetic one-component developer containing about 0.1 to 0.5 μm of magnetic particles in the toner can be used. be able to.
また、キャリアと混合して二成分現像剤として用いる場合は、キャリアの磁性粒子として、鉄、フェライト、マグネタイト等の金属、それらの金属とアルミニウム、鉛等の金属との合金等の従来から公知の材料を用いることができ。特にフェライト粒子が好ましい。上記磁性粒子は、その体積平均粒径としては15〜100μm、より好ましくは25〜80μmのものがよい。 In addition, when used as a two-component developer by mixing with a carrier, conventionally known magnetic particles of the carrier, such as metals such as iron, ferrite and magnetite, alloys of these metals with metals such as aluminum and lead, etc. Material can be used. Ferrite particles are particularly preferable. The magnetic particles preferably have a volume average particle size of 15 to 100 μm, more preferably 25 to 80 μm.
キャリアの体積平均粒径の測定は、代表的には湿式分散機を備えたレーザー回折式粒度分布測定装置「ヘロス(HELOS)」(シンパティック(SYMPATEC)社製)により測定することができる。 The volume average particle diameter of the carrier can be typically measured by a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus “HELOS” (manufactured by SYMPATEC) equipped with a wet disperser.
キャリアは、磁性粒子が更に樹脂により被覆されているもの、あるいは樹脂中に磁性粒子を分散させたいわゆる樹脂分散型キャリアが好ましい。コーティング用の樹脂組成としては、特に限定はないが、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、スチレン−アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、エステル系樹脂或いはフッ素含有重合体系樹脂等が用いられる。また、樹脂分散型キャリアを構成するための樹脂としては、特に限定されず公知のものを使用することができ、例えば、スチレン−アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素系樹脂、フェノール樹脂等を使用することができる。 The carrier is preferably a carrier in which magnetic particles are further coated with a resin, or a so-called resin dispersion type carrier in which magnetic particles are dispersed in a resin. The resin composition for coating is not particularly limited, and for example, olefin resin, styrene resin, styrene-acrylic resin, silicone resin, ester resin, fluorine-containing polymer resin, or the like is used. In addition, the resin for constituting the resin-dispersed carrier is not particularly limited, and a known resin can be used. For example, a styrene-acrylic resin, a polyester resin, a fluorine resin, a phenol resin, or the like is used. be able to.
本発明の画像形成方法によれば、感光体の円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであることにより、露光パターンの周期と電子写真感光体の円筒状基体の表面に形成された切削凹凸の周期との間の干渉が低減され、従って、得られた高画質のハーフトーン画像における干渉スジの発生が抑制される。
また、感光体の円筒状基体が切削凹凸の周期性の低減されたものであると共に特定範囲の粒径の無機粒子が含有された電荷輸送層を有することにより、感光体において散乱効果が得られるために、得られた画像における画像ムラの発生が抑制される。
According to the image forming method of the present invention, since the cylindrical substrate of the photosensitive member has a reduced periodicity of cutting irregularities, the exposure pattern cycle and the surface of the cylindrical substrate of the electrophotographic photosensitive member are formed. Interference with the period of the cut irregularities is reduced, and accordingly, the occurrence of interference streaks in the obtained high-quality halftone image is suppressed.
In addition, since the cylindrical substrate of the photoreceptor has a charge transport layer containing inorganic particles having a specific range of particle diameters and having a reduced periodicity of cutting irregularities, a scattering effect can be obtained in the photoreceptor. Therefore, occurrence of image unevenness in the obtained image is suppressed.
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明の実施形態は上記の例に限定されるものではなく、種々の変更を加えることができる。
例えば、感光体の具体的な層構成は、上記の構成に限定されるものではない。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described concretely, embodiment of this invention is not limited to said example, A various change can be added.
For example, the specific layer structure of the photoreceptor is not limited to the above structure.
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、ΔLは、円筒状基体の外周面の中央付近における断面曲線を、「サーフコム1400D」((株)東京精密製)を用い、JIS’01規格において、測定長4.0mm、カットオフ0.8mm(ガウシアン)、測定速度0.3mm/secの測定条件で行った粗さ測定によって得、この断面曲線を用いて上述の通りに測定した。
また、Rzは、上記の断面曲線の測定においてカットオフを0.25mmとした他は同様にして得た断面曲線から算出した。
Hereinafter, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.
ΔL is a cross-sectional curve in the vicinity of the center of the outer peripheral surface of the cylindrical substrate using “Surfcom 1400D” (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.). It was obtained by roughness measurement performed under measurement conditions of 8 mm (Gaussian) and a measurement speed of 0.3 mm / sec, and was measured as described above using this cross-sectional curve.
Rz was calculated from the cross-sectional curve obtained in the same manner except that the cut-off was 0.25 mm in the measurement of the cross-sectional curve.
<感光体基体の作製例1>
長さ362mmのアルミニウム合金製の素管を、CNC旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、外径59.95mm、表面のRzが0.75μmになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔1〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を6000rpmに設定し、バイトの移動速度(バイト送り速度)を、0.340〜0.360mm/回転の間を、加工距離1.5mm毎に0.005mm/回転ずつ変化するよう、送り速度の増減を繰り返させるプログラムによって変速させながら行った。
円筒状基体〔1〕の外周面におけるΔLを測定したところ、50μmであった。
<Photosensitive substrate base production example 1>
A base tube made of aluminum alloy having a length of 362 mm is mounted on a CNC lathe, and is cut with a diamond sintered cutting tool under the following conditions so that the outer diameter is 59.95 mm and the surface Rz is 0.75 μm. Thus, a cylindrical substrate [1] was produced.
In the cutting of the cutting tool, the rotation speed of the main spindle of the lathe is set to 6000 rpm, and the moving speed of the cutting tool (the cutting tool feed speed) is set to 0.005 mm for every processing distance of 1.5 mm between 0.340 and 0.360 mm / rotation. / The speed was changed by a program that repeatedly increased and decreased the feed rate so as to change every rotation.
When ΔL on the outer peripheral surface of the cylindrical substrate [1] was measured, it was 50 μm.
<感光体基体の作製例2>
感光体基体の作製例1において、バイト切削加工の旋盤の主軸回転数を2000rpmに設定したことの他は同様にして、円筒状基体〔2〕を得た。この円筒状基体〔2〕の外周面のΔLを測定したところ、30μmであった。
<Photosensitive substrate base production example 2>
A cylindrical substrate [2] was obtained in the same manner as in Preparation Example 1 of the photoreceptor substrate, except that the spindle speed of the lathe for cutting by cutting was set to 2000 rpm. It was 30 micrometers when (DELTA) L of the outer peripheral surface of this cylindrical base | substrate [2] was measured.
<感光体基体の作製例3>
感光体基体の作製例2において、バイト切削加工のバイト送り速度を、0.340mm/回転と0.345mm/回転の間を加工距離1.5mm毎にスイッチするプログラムにより行ったことの他は同様にして、円筒状基体〔3〕を得た。この円筒状基体〔3〕の外周面のΔLを測定したところ、10μmであった。
<Photosensitive substrate base production example 3>
The same as in Example 2 for producing the photosensitive member substrate except that the cutting speed of the cutting tool is changed by a program that switches between 0.340 mm / rotation and 0.345 mm / rotation every processing distance of 1.5 mm. Thus, a cylindrical substrate [3] was obtained. It was 10 micrometers when (DELTA) L of the outer peripheral surface of this cylindrical base | substrate [3] was measured.
<感光体基体の作製例4>
長さ362mmのアルミニウム合金製の素管を、CNC旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のRzが0.75μmになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔4〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を4000rpmに設定し、バイト送り速度値は400μm/回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が1.43mm、2.28mm、1.64mm、2.49mm、1.85mm、2.71mm、2.06mm、2.92mm、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。
円筒状基体〔4〕の外周面のΔLを測定したところ、20μmであった。
<Photosensitive substrate base production example 4>
A cylindrical base body is prepared by mounting a 362 mm long aluminum alloy tube on a CNC lathe and performing cutting with a diamond sintered cutting tool under the following conditions so that the surface Rz is 0.75 μm. [4] was prepared.
In the cutting of the cutting tool, the turning speed of the main spindle of the lathe is set to 4000 rpm, the cutting tool feed speed value is constant at 400 μm / rotation, and the processing distance is 1.43 mm, 2.28 mm, 1.64 mm, starting from the end of the tube. 2.49 mm, 1.85 mm, 2.71 mm, 2.06 mm, 2.92 mm, and the program set to repeat.
The ΔL of the outer peripheral surface of the cylindrical substrate [4] was measured and found to be 20 μm.
<感光体基体の作製例5>
長さ362mmのアルミニウム合金製の素管を、CNC旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のRzが0.75μmになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔5〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を3160rpmに設定し、バイト送り速度値は400μm/回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が2.20mm、2.21mm、2.22mm、2.23mm、2.24mm、2.23mm、2.22mm、2.21mm、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。
円筒状基体〔5〕の外周面のΔLを測定したところ、65μmであった。
<Photosensitive substrate base production example 5>
A cylindrical base body is prepared by mounting a 362 mm long aluminum alloy tube on a CNC lathe and performing cutting with a diamond sintered cutting tool under the following conditions so that the surface Rz is 0.75 μm. [5] was prepared.
In the cutting of the cutting tool, the rotation speed of the main spindle of the lathe is set to 3160 rpm, the cutting tool feed speed value is kept constant at 400 μm / rotation, and the processing distance is 2.20 mm, 2.21 mm, 2.22 mm, starting from the end of the tube. , 2.23 mm, 2.24 mm, 2.23 mm, 2.22 mm, and 2.21 mm.
The ΔL of the outer peripheral surface of the cylindrical substrate [5] was measured and found to be 65 μm.
<感光体基体の作製例6>
長さ362mmのアルミニウム合金製の素管を、アナログ旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のRzが0.75μmになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔6〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を3160rpmに設定し、加工距離に対するバイト送り速度の指示値(加工距離−速度指示値)が、
0.5mm−380μm/回転、1.6mm−390μm/回転、2.8mm−380μm/回転、1.1mm−390μm/回転、2.5mm−380μm/回転、3.2mm−390μm/回転、の繰り返しになるように、タイマーと抵抗等を組み合わせた回路を介した電圧をバイト移動モータに入力して行った。
円筒状基体〔6〕の外周面のΔLを測定したところ、25μmであった。
<Photosensitive substrate base production example 6>
A cylindrical base body is prepared by mounting a 362 mm long aluminum alloy tube on an analog lathe and cutting with a diamond sintered tool under the following conditions so that the surface Rz is 0.75 μm. [6] was produced.
In the tool cutting process, the spindle rotation speed of the lathe is set to 3160 rpm, and the tool feed speed instruction value (working distance-speed instruction value) relative to the processing distance
0.5 mm-380 μm / revolution, 1.6 mm-390 μm / revolution, 2.8 mm-380 μm / revolution, 1.1 mm-390 μm / revolution, 2.5 mm-380 μm / revolution, 3.2 mm-390 μm / revolution In order to achieve this, a voltage through a circuit in which a timer and a resistor were combined was input to the bite moving motor.
It was 25 micrometers when (DELTA) L of the outer peripheral surface of the cylindrical base | substrate [6] was measured.
<感光体基体の作製例7>
感光体基体の作製例1において、バイト切削加工の旋盤の主軸回転数を3000rpmに設定すると共に、バイト送り速度を0.350mm/回転に固定したことの他は同様にして、円筒状基体〔7〕を得た。この円筒状基体〔7〕の外周面のΔLを測定したところ、3μmであった。
<Photoconductor substrate production example 7>
In the photoconductor substrate manufacturing example 1, the cylindrical substrate [7 is similarly manufactured except that the rotation speed of the spindle of the cutting tool is set to 3000 rpm and the cutting speed is fixed to 0.350 mm / rotation. ] Was obtained. The ΔL of the outer peripheral surface of this cylindrical substrate [7] was measured and found to be 3 μm.
<感光体基体の作製例8>
長さ362mmのアルミニウム合金製の素管を、CNC旋盤に装着し、ダイヤモンド焼結バイトにて、表面のRzが0.75μmになるように下記条件でバイト切削加工を行うことにより、円筒状基体〔8〕を作製した。
バイト切削加工は、旋盤の主軸回転数を4000rpmに設定し、バイト送り速度値は400μm/回転で一定にし、素管端部をスタートとして、加工距離が1.47mm、2.32mm、1.68mm、2.53mm、1.89mm、2.75mm、2.10mm、2.96mm、を繰り返すように設定したプログラムによって行った。
円筒状基体〔8〕の外周面のΔLを測定したところ、8μmであった。
<Photosensitive substrate base production example 8>
A cylindrical base body is prepared by mounting a 362 mm long aluminum alloy tube on a CNC lathe and performing cutting with a diamond sintered cutting tool under the following conditions so that the surface Rz is 0.75 μm. [8] was prepared.
In the cutting of the cutting tool, the turning speed of the main spindle of the lathe is set to 4000 rpm, the cutting tool feed speed value is constant at 400 μm / rotation, the starting distance is 1.47 mm, 2.32 mm, 1.68 mm , 2.53 mm, 1.89 mm, 2.75 mm, 2.10 mm, 2.96 mm.
It was 8 micrometers when (DELTA) L of the outer peripheral surface of cylindrical base | substrate [8] was measured.
〔実施例1:感光体の製造例1〕
(1)中間層の形成
下記式(N−1)で表されるバインダー樹脂1質量部を、エタノールとn−プロピルアルコールとテトラヒドロフランの混合溶媒(体積比=45:20:35)20質量部に加え、撹拌して溶解させた後、質量比で5%のメチルハイドロジェンポリシロキサンによって表面処理をしたルチル型酸化チタン粒子4.2質量部を混合し、この混合液をビーズミルを用いて、平均粒径0.5mmのジルコニアビーズを用い、充填率80%、周速設定4m/sec、ミル滞留時間3時間の条件で分散することにより、中間層塗布液〔1〕を調製した。この中間層塗布液〔1〕を、濾過精度5μmのポリプロピレン製の濾材を用いたフィルタによって濾過し、これを、上記の円筒状基体〔1〕を洗浄した後の外周面に浸漬塗布法によって塗布し、120℃で20分間乾燥することにより、円筒状基体〔1〕上に乾燥膜厚2μmの中間層〔1〕を形成した。
[Example 1: Photoconductor Production Example 1]
(1) Formation of intermediate layer 1 part by mass of a binder resin represented by the following formula (N-1) is mixed with 20 parts by mass of a mixed solvent of ethanol, n-propyl alcohol and tetrahydrofuran (volume ratio = 45: 20: 35). In addition, after stirring and dissolving, 4.2 parts by mass of rutile-type titanium oxide particles surface-treated with 5% by weight of methylhydrogenpolysiloxane were mixed, and this mixture was averaged using a bead mill. An intermediate layer coating solution [1] was prepared by using zirconia beads having a particle diameter of 0.5 mm and dispersing under conditions of a filling rate of 80%, a peripheral speed setting of 4 m / sec, and a mill residence time of 3 hours. This intermediate layer coating solution [1] is filtered through a filter using a polypropylene filter medium having a filtration accuracy of 5 μm, and this is applied to the outer peripheral surface after washing the cylindrical substrate [1] by dip coating. Then, an intermediate layer [1] having a dry film thickness of 2 μm was formed on the cylindrical substrate [1] by drying at 120 ° C. for 20 minutes.
(2)電荷発生層の形成
次いで、下記成分を混合し、サンドミル分散機を用いて分散することにより、電荷発生層塗布液を調製した。
この電荷発生層塗布液を浸漬塗布法によって中間層〔1〕上に塗布して、乾燥膜厚0.3μmの電荷発生層〔1〕を形成した。
・Y−チタニルフタロシアニン(Cu−Kα特性X線によるX線回折のスペクトルでブラッグ角(2θ±0.2°)27.3°に最大回折ピークを有するチタニルフタロシン顔料)
20質量部
・ポリビニルブチラール(「BX−1」(積水化学(株)製)) 10質量部
・メチルエチルケトン 700質量部
・シクロヘキサノン 300質量部
(2) Formation of charge generation layer Next, the following components were mixed and dispersed using a sand mill disperser to prepare a charge generation layer coating solution.
This charge generation layer coating solution was applied onto the intermediate layer [1] by a dip coating method to form a charge generation layer [1] having a dry film thickness of 0.3 μm.
Y-titanyl phthalocyanine (a titanyl phthalosine pigment having a maximum diffraction peak at a Bragg angle (2θ ± 0.2 °) of 27.3 ° in an X-ray diffraction spectrum by Cu-Kα characteristic X-ray)
20 parts by mass-polyvinyl butyral ("BX-1" (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)) 10 parts by mass-700 parts by mass of methyl ethyl ketone-300 parts by mass of cyclohexanone
(3)電荷輸送層(下層)の形成
次いで、下記成分を混合し、溶解させることにより、電荷輸送層(下層)塗布液を調製した。
この電荷輸送層(下層)塗布液を浸漬塗布法によって電荷発生層〔1〕上に塗布し、120℃で70分間乾燥することにより、乾燥膜厚20μmの下層の電荷輸送層〔1a〕を形成した。
・下記式(CTM)で表される電荷輸送物質 50質量部
・ポリカーボネート樹脂「ユーピロン−Z300」(三菱ガス化学社製) 100質量部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール) 8質量部
・テトラヒドロフラン/トルエン(体積比8/2) 750質量部
(3) Formation of charge transport layer (lower layer) Next, the following components were mixed and dissolved to prepare a charge transport layer (lower layer) coating solution.
The charge transport layer (lower layer) coating solution is applied onto the charge generation layer [1] by dip coating and dried at 120 ° C. for 70 minutes to form a lower charge transport layer [1a] having a dry film thickness of 20 μm. did.
-50 parts by mass of a charge transport material represented by the following formula (CTM)-100 parts by mass of polycarbonate resin "Iupilon-Z300" (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company)-Antioxidant (2,6-di-t-butyl-4 -Methylphenol) 8 parts by mass / tetrahydrofuran / toluene (volume ratio 8/2) 750 parts by mass
(4)電荷輸送層(最上層)の形成
次いで、下記成分を混合、撹拌することにより、電荷輸送層(最上層)塗布液を調製した。
この電荷輸送層(最上層)塗布液を浸漬塗布法によって電荷輸送層〔1a〕上に塗布し、120℃で70分間乾燥することにより、乾燥膜厚5μmの最上層の電荷輸送層〔1b〕を形成し、これにより、感光体〔1〕を得た。
・上記式(CTM)で表される電荷輸送物質 1.2質量部
・ポリカーボネート樹脂「ユーピロン−Z300」(三菱ガス化学社製) 2.7質量部
・(酸化チタンの質量の25質量%のメチルハイドロジェンポリシロキサン(表面処理剤)で表面処理した個数基準の50%粒径が31nmの酸化チタン) 1.0質量部
・酸化防止剤(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール) 0.1質量部
・テトラヒドロフラン/トルエン(体積比8/2)混合液 30質量部
・シリコーンオイル「KF−96」(信越シリコーン(株)製) 0.005質量部
(4) Formation of charge transport layer (uppermost layer) Subsequently, the following components were mixed and stirred to prepare a charge transport layer (uppermost layer) coating solution.
The charge transport layer (uppermost layer) coating solution is applied onto the charge transport layer [1a] by a dip coating method and dried at 120 ° C. for 70 minutes, whereby the uppermost charge transport layer [1b] having a dry film thickness of 5 μm is obtained. As a result, a photoreceptor [1] was obtained.
-1.2 parts by mass of charge transport material represented by the above formula (CTM)-2.7 parts by mass of polycarbonate resin "Iupilon-Z300" (Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.)-(methyl of 25% by mass of titanium oxide) Titanium oxide having a 50% particle size of 31 nm, surface-treated with hydrogen polysiloxane (surface treatment agent) 1.0 parts by mass, antioxidant (2,6-di-t-butyl-4-methylphenol ) 0.1 part by mass-tetrahydrofuran / toluene (volume ratio 8/2) mixed solution 30 parts by mass-silicone oil "KF-96" (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) 0.005 part by mass
〔実施例2〜11:比較例1〜3:感光体の製造例2〜14〕
感光体の製造例1において、円筒状基体の種類、並びに最上層の電荷輸送層に含有させる無機粒子の種類および当該無機粒子の表面処理剤を表1に従って変更したことの他は同様にして、感光体〔2〕〜〔14〕を得た。
表1において、表面処理剤「SH−1」、「SH−2」、「SH−3」、「SH−4」は以下のものを表す。
[Examples 2-11: Comparative Examples 1-3: Photoconductor Production Examples 2-14]
In Production Example 1 of the photoreceptor, the type of cylindrical substrate, the type of inorganic particles contained in the uppermost charge transport layer, and the surface treatment agent of the inorganic particles were changed in the same manner as in Table 1, Photoconductors [2] to [14] were obtained.
In Table 1, the surface treatment agents “SH-1”, “SH-2”, “SH-3”, and “SH-4” represent the following.
「SH−1」:メチルハイドロジェンポリシロキサン
「SH−2」:オクチルトリメトキシシラン
「SH−3」:メチルトリメトキシシラン
「SH−4」:ジイソプロポキシチタニウムビス(アセチルアセテート)
“SH-1”: methyl hydrogen polysiloxane “SH-2”: octyltrimethoxysilane “SH-3”: methyltrimethoxysilane “SH-4”: diisopropoxytitanium bis (acetylacetate)
〔画質評価A〕
画像形成装置「bizhub PRO C6501」(コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製)に以上の感光体〔1〕〜〔14〕のいずれかを搭載して、下記のテスト画像A〜Cをコート紙「PODグロスコート(100g/m2 )」(王子製紙社製)上に出力し、得られたテスト画像A〜Cについて、干渉スジおよび感光体周方向スジについての画質評価を行った。結果を表1に示す。
[Image quality evaluation A]
One of the above photoconductors [1] to [14] is mounted on an image forming apparatus “bizhub PRO C6501” (manufactured by Konica Minolta Business Technologies), and the following test images A to C are coated with “POD gloss coat”. (100 g / m 2 ) ”(manufactured by Oji Paper Co., Ltd.), and the obtained test images A to C were subjected to image quality evaluation for interference streaks and photosensitive member circumferential direction streaks. The results are shown in Table 1.
テスト画像Aは、黒(Bk)位置において、下記の露光パターンAを用いて濃度指示値を0/255、15/255、31/255・・・と16おきに255/255までの17諧調に振って出力したハーフトーン画像である。 In the test image A, at the black (Bk) position, using the exposure pattern A below, the density instruction values are 17 gradations up to 255/255 every 0/255, 15/255, 31/255. This is a halftone image output by shaking.
露光パターンA:「bizhub PRO C6501」内部搭載パターン No.53 Dot1、規則性を有するドット状に形成された露光パターンの代表的なもの。 Exposure pattern A: “bizhub PRO C6501” internal mounting pattern no. 53 Dot1, a typical exposure pattern formed in a regular dot pattern.
テスト画像Bは、黒(Bk)位置において、下記の露光パターンBを用いて濃度指示値を0/255、15/255、31/255・・・と16おきに255/255までの17諧調に振って出力したハーフトーン画像である。 In the test image B, at the black (Bk) position, using the following exposure pattern B, the density instruction values are changed to 0/255, 15/255, 31/255... And 17 gradations up to 255/255 every 16th. This is a halftone image output by shaking.
露光パターンB:「bizhub PRO C6501」内部搭載パターン No.7 Contnoe、感光体軸方向に対し直角方向に連続的に形成されている露光パターンの代表的なもの。 Exposure pattern B: “bizhub PRO C6501” internal mounting pattern no. 7 Contonne, a typical exposure pattern formed continuously in a direction perpendicular to the photosensitive body axis direction.
テスト画像Cは、黒(Bk)位置において、下記の露光パターンCを用いて濃度指示値を0/255、15/255、31/255・・・と16おきに255/255までの17諧調に振って出力したハーフトーン画像である。 In the test image C, at the black (Bk) position, the following exposure pattern C is used, and the density instruction values are changed to 0/255, 15/255, 31/255... This is a halftone image output by shaking.
露光パターンC:「bizhub PRO C6501」内部搭載パターン No.1 Line1、感光体軸方向に対し平行な方向に連続的に形成されている露光パターンの代表的なもの。 Exposure pattern C: “bizhub PRO C6501” internal mounting pattern no. 1 Line1, a typical exposure pattern formed continuously in a direction parallel to the axial direction of the photoreceptor.
(画質評価1)斜めスジ状濃度ムラ(干渉スジ)
露光パターンAによるテスト画像Aおよび露光パターンBによるテスト画像Bについて、下記の評価基準に従って画質評価を行った。画質評価は、濃度指示値が異なる画像部分中、最悪水準の画像部分で評価した。
−評価基準−
○:斜めスジ状濃度ムラが全く見られない。
△:斜めスジ状濃度ムラが僅かに見られるが、実使用上は問題ない。
×:斜めスジ状濃度ムラが見られ、実使用上問題あり。
(Image quality evaluation 1) Diagonal stripe density unevenness (interference lines)
The test image A based on the exposure pattern A and the test image B based on the exposure pattern B were evaluated according to the following evaluation criteria. The image quality evaluation was performed on the worst-level image portion among image portions having different density instruction values.
-Evaluation criteria-
○: No oblique stripe density unevenness is observed.
Δ: Slight stripe-like density unevenness is slightly observed, but there is no problem in actual use.
X: Oblique stripe-like density unevenness is observed, and there is a problem in actual use.
(画質評価2)感光体周方向スジ
露光パターンCによるテスト画像Cについて画質評価を行った。画質評価は、濃度指示値が異なる画像部分中、最悪水準の画像部分で評価した。
−評価基準−
○:感光体周方向スジが全く見られない。
△:感光体周方向スジが僅かに見られるが、実使用上は問題ない。
×:感光体周方向スジが見られ、実使用上問題あり。
(Image quality evaluation 2) Photoconductor circumferential direction streak Image quality evaluation was performed on the test image C by the exposure pattern C. The image quality evaluation was performed on the worst-level image portion among image portions having different density instruction values.
-Evaluation criteria-
○: No stripes in the circumferential direction of the photoreceptor are observed.
Δ: Slight streaks in the circumferential direction of the photoconductor are seen, but there is no problem in actual use.
X: Photoreceptor circumferential direction streaks are observed, and there is a problem in actual use.
〔画質評価B:画像ムラ〕
画像形成装置「bizhub PRO C6501」(コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製)に以上の感光体〔1〕〜〔14〕のいずれかを搭載して、下記のテスト画像Dをコート紙「PODグロスコート(100g/m2 )」(王子製紙社製)上に出力したテストプリントを100枚形成し、得られた100枚のテストプリントについて、画像ムラについて下記の評価基準に従って画質評価を行った。結果を表1に示す。
[Image quality evaluation B: Image unevenness]
One of the above photoconductors [1] to [14] is mounted on the image forming apparatus “bizhub PRO C6501” (manufactured by Konica Minolta Business Technologies), and the following test image D is applied to the coated paper “POD gloss coat (100 g). / M 2 ) ”(manufactured by Oji Paper Co., Ltd.) 100 test prints were formed, and the resulting 100 test prints were evaluated for image unevenness according to the following evaluation criteria. The results are shown in Table 1.
テスト画像Dは、黒(Bk)位置において、上記の露光パターンAを用いて濃度指示値を75/255として出力したハーフトーン画像である。 The test image D is a halftone image output at a black (Bk) position using the exposure pattern A as a density instruction value of 75/255.
−評価基準−
○:100枚のテストプリント全てに画像ムラの発生がない。
△:100枚のテストプリント中、僅かに画像ムラが見られるものもあるが、実使用上は問題無し。
×:100枚のテストプリント中、画像ムラが見られものもあり、そのレベルは実使用上問題あるレベルである。
-Evaluation criteria-
○: Image unevenness does not occur in all 100 test prints.
Δ: Some image unevenness is seen in 100 test prints, but there is no problem in actual use.
X: Some of the 100 test prints show image unevenness, and the level is problematic in practical use.
〔耐摩耗性の評価〕
画像形成装置「bizhub PRO C6501」(コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製)に以上の感光体〔1〕〜〔14〕のいずれかを搭載して50万枚の耐刷試験を行い、耐刷試験前後の感光層の膜厚の差を膜厚減耗量として、耐摩耗性を評価した。結果を表1に示す。なお、膜厚減耗量が4.0μm以下である場合を、実用上問題なく合格であると判断することができる。
[Evaluation of wear resistance]
One of the above photoconductors [1] to [14] is mounted on the image forming apparatus “bizhub PRO C6501” (manufactured by Konica Minolta Business Technologies), and a printing durability test is performed for 500,000 sheets before and after the printing durability test. The abrasion resistance was evaluated using the difference in film thickness of the photosensitive layer as the amount of film thickness reduction. The results are shown in Table 1. In addition, it can be judged that it is a pass without a problem practically when the amount of film thickness wear is 4.0 micrometers or less.
表1から明らかなように、ΔL≧10である円筒状基体を有すると共に最上層に特定の無機粒子を含有させた電荷輸送層が形成されてなる感光体(特定の感光体)を用いて画像を形成した場合においては、干渉スジおよび画像ムラの発生の抑制された良好な画像が得られたのに対し、比較例1〜3のようにΔLが小さい円筒状基体による感光体を用いて画像を形成した場合においては、円筒状基体の切削凹凸の周期と露光パターンの周期との間の干渉に起因すると推定される干渉スジと、感光体における散乱効果が小さいことに起因すると推定される画像ムラとが発生した。また、比較例3のように最上層の電荷輸送層に特定の無機粒子が含有されていない感光体は、膜厚減耗量が大きく、耐摩耗性が低いことが確認された。 As is apparent from Table 1, an image is formed using a photoconductor (specific photoconductor) having a cylindrical substrate with ΔL ≧ 10 and a charge transport layer containing specific inorganic particles in the uppermost layer. In the case of forming an image, a good image in which the occurrence of interference streaks and image unevenness was suppressed was obtained, whereas an image was obtained using a photoconductor with a cylindrical substrate having a small ΔL as in Comparative Examples 1 to 3. Is formed, the interference streaks estimated to be caused by the interference between the period of the cutting irregularities of the cylindrical substrate and the period of the exposure pattern, and the image estimated to be caused by the small scattering effect on the photoconductor Unevenness occurred. In addition, it was confirmed that a photoconductor in which specific inorganic particles are not contained in the uppermost charge transport layer as in Comparative Example 3 has a large film thickness loss and low wear resistance.
1、1Y、1M、1C、1Bk 感光体
1a 円筒状基体
1b 中間層
1c 電荷発生層
1d 下層の電荷輸送層
1e 最上層の電荷輸送層
1α 感光層
2Y、2M、2C、2Bk 帯電手段
3Y、3M、3C、3Bk 露光手段
4Y、4M、4C、4Bk 現像手段
5Y、5M、5C、5Bk 一次転写ローラ
5b 二次転写ローラ
6Y、6M、6C、6Bk クリーニング手段
6b クリーニング手段
7 中間転写ユニット
8 筐体
10Y、10M、10C、10Bk 画像形成ユニット
20 給紙カセット
21 給紙手段
22A、22B、22C、22D 中間ローラ
23 レジストローラ
24 定着手段
25 排紙ローラ
26 排紙トレイ
70 中間転写体
71〜74 支持ローラ
82L、82R 支持レール
A 画像形成装置本体
P 画像支持体
SC 原稿画像読み取り装置
1, 1Y, 1M, 1C, 1Bk Photoconductor
Claims (3)
前記円筒状基体が、その外周面に中心軸方向に周期的に切削凹凸が形成された、下記式(1)の条件を満たす切削加工形状を有し、
前記最上層の電荷輸送層に、数平均一次粒径(Dp)が3〜100nmの無機粒子が含有されていることを特徴とする電子写真感光体。
式(1):ΔL≧10μm
〔式(1)中、ΔLは、円筒状基体の外周面の画像領域内における、中心軸方向の切削凹凸の周期幅の最大値と最小値との差である。〕 An electrophotographic photoreceptor in which at least a charge generation layer and at least two charge transport layers are laminated in this order on a cylindrical substrate,
The cylindrical substrate has a cutting shape that satisfies the following formula (1), in which cutting irregularities are periodically formed in the central axis direction on the outer peripheral surface thereof,
The electrophotographic photoreceptor, wherein the uppermost charge transport layer contains inorganic particles having a number average primary particle size (Dp) of 3 to 100 nm.
Formula (1): ΔL ≧ 10 μm
[In Expression (1), ΔL is the difference between the maximum value and the minimum value of the periodic width of the cutting irregularities in the central axis direction in the image region on the outer peripheral surface of the cylindrical base. ]
An image forming method comprising forming an image using the electrophotographic photosensitive member according to claim 1.
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