JP5778702B2 - Manufacture of synthetic silica glass - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 157
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 36
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 78
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 70
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 70
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 64
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 57
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 52
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 46
- 239000004071 soot Substances 0.000 claims description 40
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims description 26
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 claims description 25
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- -1 siloxane compound Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 11
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 claims description 7
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 claims description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N Decamethylcyclopentasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IUMSDRXLFWAGNT-UHFFFAOYSA-N Dodecamethylcyclohexasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 IUMSDRXLFWAGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052768 actinide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001255 actinides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 30
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 16
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 12
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 11
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 9
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 7
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000007762 w/o emulsion Substances 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000012010 growth Effects 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 4
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trinitrate Chemical compound [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 239000012705 liquid precursor Substances 0.000 description 3
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 3
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000000260 Warts Diseases 0.000 description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 201000010153 skin papilloma Diseases 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- VLYDPWNOCPZGEV-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-[2-[2-[2-methyl-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenoxy]ethoxy]ethyl]azanium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Cl-].CC1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1OCCOCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 VLYDPWNOCPZGEV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PVZMSIQWTGPSHJ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;tantalum Chemical compound [Ta].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO PVZMSIQWTGPSHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000005049 combustion synthesis Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- HDGGAKOVUDZYES-UHFFFAOYSA-K erbium(iii) chloride Chemical compound Cl[Er](Cl)Cl HDGGAKOVUDZYES-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007970 homogeneous dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000004530 micro-emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007772 nodular growth Effects 0.000 description 1
- 230000024121 nodulation Effects 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007764 o/w emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 229910001392 phosphorus oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LFGREXWGYUGZLY-UHFFFAOYSA-N phosphoryl Chemical class [P]=O LFGREXWGYUGZLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012686 silicon precursor Substances 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000000527 sonication Methods 0.000 description 1
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
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- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
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Description
本発明は、純またはドープされていてもよい、合成シリカガラス(石英ガラス)(synthetic silica glass)の製造に関する。特に、本発明は、金属酸化物のような1つの、もしくはもっと多いドーパントと混合されていてもよい、シリカ粒子(たとえばナノ粒子)を与えるために、合成バーナーの火炎内で液体シリカ前駆体材料のスプレーの制御された燃焼による、このようなガラスの製造に関する。粒子は、細孔のないガラスへの、続く焼固(consolidation)のための多孔質スート体(soot body)を与えるように堆積され得、あるいは直接に細孔のないガラスを与えるために、もっと高温で堆積され得る。 The present invention relates to the production of synthetic silica glass, which may be pure or doped. In particular, the present invention provides a liquid silica precursor material within the flame of a synthetic burner to provide silica particles (eg, nanoparticles) that may be mixed with one or more dopants such as metal oxides. Relates to the production of such glasses by controlled combustion of sprays. The particles can be deposited to give a porous soot body for subsequent consolidation to glass without pores, or directly to give glass without pores more It can be deposited at high temperatures.
さらに、制限されるわけではないが、本発明は、実質的に微小気泡もしくは混在物(inclusions)のない、高品質合成ガラス質シリカの製造に関し、1つもしくは2以上の金属酸化物で均一にドープされ得、その酸化物は耐火物であり得、そしてシリカガラスに溶解するのが困難であり得る。その方法は、たとえばホウ素およびリンの酸化物を含む、非金属ドーピング剤でドープされたシリカガラスを与えるのに付加的に使用され得る。 Furthermore, but not limited to, the present invention relates to the production of high quality synthetic vitreous silica, substantially free of microbubbles or inclusions, and uniformly with one or more metal oxides. Being doped, the oxide can be refractory and can be difficult to dissolve in silica glass. The method can additionally be used to provide silica glasses doped with non-metallic dopants, including, for example, oxides of boron and phosphorus.
本発明により製造されるガラス製品は、たとえば光学材料として使用され得る。このような場合、いかなるドーパントも有用な特性を与える。たとえば、セリウム(任意にはチタンも付加される)は、特定波長での調節された光吸収を導入するために用いられ得る:あるいは、ユウロピウム、ネオジム、サマリウム、イッテルビウム等の希土類金属が、望ましいフォトルミネセンス、潜在的なレーザー活性等を導入するのに利用され得る。 The glass product produced according to the invention can be used, for example, as an optical material. In such cases, any dopant will provide useful properties. For example, cerium (optionally also added with titanium) can be used to introduce controlled light absorption at specific wavelengths: or rare earth metals such as europium, neodymium, samarium, ytterbium are desirable photo It can be used to introduce luminescence, potential laser activity, etc.
このようなガラスは、光学繊維または導波路の製造に用いられ得、ともに平面、その他であり、その光学特性のために大規模で使用され得る。特定の希土類金属、たとえばイットリウム、の酸化物でのドーピングは、共ドーパントとしてアルミニウムのような第2金属とともに、または、なしに、半導体製造中にプラズマエッチングプロセスにおいて、フッ素含有ガスによるエッチングへの耐性を付与し得る。チタンでのドーピングは、任意に他の金属種の存在下に、低い(またはゼロさえも)熱膨張係数を有するガラスを製造するのに用いられる。特定の種でのドーピングはガラス等の粘度を増加させるのに使用され得る。このリストは広範なものとは考えられないが、本発明方法により製造されるガラスに関して、光学、半導体および他の産業における潜在的用途が存在する。 Such glasses can be used in the manufacture of optical fibers or waveguides, both planar, etc., and can be used on a large scale due to their optical properties. Doping with oxides of certain rare earth metals, such as yttrium, is resistant to etching with fluorine-containing gases in a plasma etching process during semiconductor manufacturing, with or without a second metal such as aluminum as a co-dopant. Can be granted. Doping with titanium is used to produce glass with a low (or even zero) coefficient of thermal expansion, optionally in the presence of other metal species. Doping with certain species can be used to increase the viscosity of glass and the like. Although this list is not considered broad, there are potential applications in the optics, semiconductor and other industries for the glass produced by the method of the present invention.
近年、蒸着法により合成シリカガラスを製造することは日常的なものとなっており、そこではケイ素化合物の蒸気がバーナーに供給され、任意には1つまたはそれより多いドーパント前駆体と混合され、そして火炎中で酸化物ナノ粒子に転換される。ついで、これらの粒子は、細孔のないガラスに焼成され得る多孔質体(スート体として知られる)として、または比較的高温で直接にガラスを形成する(いわゆる直接石英法)ために、堆積される。 In recent years, it has become routine to produce synthetic silica glass by vapor deposition, where a vapor of a silicon compound is fed to a burner, optionally mixed with one or more dopant precursors, It is then converted to oxide nanoparticles in the flame. These particles are then deposited as porous bodies (known as soot bodies) that can be fired into pore-free glass, or to form glass directly at relatively high temperatures (so-called direct quartz method). The
揮発性前駆体に対する要請は、大多数のシリカ前駆体として四塩化ケイ素、ならびに製品のドーピングが必要な場合には、ドーパントのための前駆体として種々の金属および非金属の塩化物を、広く行渡って使用させている。 The demand for volatile precursors is widespread with silicon tetrachloride as the majority of silica precursors, and various metal and non-metal chlorides as precursors for dopants when product doping is required. It is used across.
しかしながら、四塩化ケイ素の代わりに塩素のない揮発性シリカ前駆体用いることに、いくつかの利点があり、特に流出ガス中に酸性副生物がないことである。アルコキシドの潜在的な使用は、合成シリカについての初期の研究において認識された(たとえばUS2,272,342)が、もっと最近は、シロキサンは非常に高いケイ素含量を有する、可燃性の、塩素のない前駆体として使用されてきた。特に、ヘキサメチルジシロキサン(HMDS)、オクタメチルシクロテトラシロキサン(D4としても知られるOMCTS)およびデカメチルシクロテトラシロキサン(DMCPS、またはD5)である(たとえばEP0,463,045およびUS5,043,002(US RE39535))。 However, using chlorine-free volatile silica precursors instead of silicon tetrachloride has several advantages, especially the absence of acidic by-products in the effluent gas. The potential use of alkoxides was recognized in earlier work on synthetic silica (eg US 2,272,342), but more recently siloxanes have a very high silicon content and are flammable, chlorine-free precursors. Has been used as. In particular, hexamethyldisiloxane (HMDS), octamethylcyclotetrasiloxane (OMCTS, also known as D4) and decamethylcyclotetrasiloxane (DMCPS, or D5) (eg EP0,463,045 and US5,043,002 (US RE39535)) ).
前駆体の蒸気供給は従来のものと考えられるが、合成火炎が発生される多くの例があり、蒸気として前駆体を供給するのではなく、1つもしくはそれより多い前駆体を液滴の噴霧スプレーとして供給するものであり、そこでは火炎中で蒸発し、ついで酸化または加水分解によりシリカナノ粒子に転換される。 Although the precursor vapor supply is considered conventional, there are many examples where a synthetic flame is generated, and instead of supplying the precursor as a vapor, one or more precursors are sprayed into droplets. It is supplied as a spray, where it evaporates in a flame and is then converted to silica nanoparticles by oxidation or hydrolysis.
このように、火炎への前駆体のスプレーからの多孔質堆積物の堆積による、純、およびドープされたシリカの製造は、JP54-142317,JP55-95638およびJP56-14438で提案された。種々の酸水素バーナーの形状は、JP55-95638で提案された。これらの大部分において、シリカ前駆体およびドーパント前駆体の混合物であり得る液体は、ガスブラスト(気送またはベンチュリ)アトマイザーにより酸水素火炎に微粒化され、生成物はガラスに焼成される多孔質スート体として捕集された。シリカ前駆体はテトラエトキシシラン(TEOS)およびテトラメトキシシラン(TMOS)を含み、ドーパント前駆体はPO(OC2H5)3およびB(OC2H5)3を含んでいた。さらに、金属ドーパントが水性もしくはアルコール溶液の別々のスプレーとして導入され、光ファイバープリフォームを製造するために製品ガラスの屈折率を調節するのに用いられ得ることが提案された。他の予測される用途は、ガラスセラミックスおよびレーザー活性ガラス組成物を含んでいた。 Thus, the production of pure and doped silica by deposition of porous deposits from sprays of precursors into a flame was proposed in JP54-142317, JP55-95638 and JP56-14438. Various oxyhydrogen burner shapes were proposed in JP55-95638. In most of these, the liquid, which can be a mixture of silica precursor and dopant precursor, is atomized into an oxyhydrogen flame by a gas blast (air or venturi) atomizer and the product is porous soot that is fired into glass. It was collected as a body. The silica precursor contained tetraethoxysilane (TEOS) and tetramethoxysilane (TMOS), and the dopant precursor contained PO (OC 2 H 5 ) 3 and B (OC 2 H 5 ) 3 . In addition, it has been proposed that the metal dopant can be introduced as a separate spray of an aqueous or alcohol solution and used to adjust the refractive index of the product glass to produce an optical fiber preform. Other anticipated applications included glass ceramics and laser active glass compositions.
高価もしくは不安定な有機金属種としてよりも水性溶液としてドーパント種を供給する能力は、有意のコスト低減を可能にするが、2つの別々のスプレーを火炎に供給することに起因するガラス品質には疑問の余地があるにちがいない。 The ability to supply the dopant species as an aqueous solution rather than as an expensive or labile organometallic species allows for significant cost savings, but the glass quality resulting from supplying two separate sprays to the flame. There must be doubt.
噴霧方法は、さらにJP56-14438で展開され、もし液体前駆体の気送噴霧が超音波噴霧ホーンの使用により代替されるならば、あるいは気送噴霧および超音波噴霧が組み合わされて使用されるならば、増加した堆積速度が可能であると言及された。400g/時間のスート堆積速度が報告されたが、シリカ前駆体およびドーパントの別々の小滴を含むスプレーを転換する有効さは疑わしく、この方法によって製造されるガラスの品質については何ら指摘されていない。 The spraying method is further developed in JP56-14438, if the liquid precursor pneumatic spray is replaced by the use of an ultrasonic spray horn, or if a combination of pneumatic and ultrasonic spray is used. It has been mentioned that increased deposition rates are possible. A soot deposition rate of 400 g / hr was reported, but the effectiveness of converting a spray containing separate droplets of silica precursor and dopant was questionable and no indication was made about the quality of the glass produced by this method. .
純、およびドープされたシリカガラスを発生させるためのスプレー燃焼は、他の研究者により続行された。JP60-96591は、テトラエトキシシラン(TEOS)またはテトラメトキシシラン(TMOS)の気送で生じたスプレーを、共軸環状(co-annular)の酸水素火炎の中心に供給し、ガラスに焼成し得る純シリカの多孔質堆積物を得ることを記載する。もっと最近、US5,110,335は、前駆体液体としてSiCl4またはTEOSを用いる超音波噴霧、ならびに酸メタン火炎中の燃焼、を提案した。塩素のないシロキサン前駆体のスプレー燃焼も、純およびドープされた、両方の合成シリカガラスについて、多くの特許に記載されている(たとえば、EP0,868,401、US6,260,385、US6,588,230、US6,374,642、US6,739,156およびUS6,837,076)。 Spray combustion to generate pure and doped silica glass was continued by other researchers. JP60-96591 can supply the spray generated by the insufflation of tetraethoxysilane (TEOS) or tetramethoxysilane (TMOS) to the center of a co-annular oxyhydrogen flame and fire it into glass. It is described to obtain a porous deposit of pure silica. More recently, US 5,110,335 proposed ultrasonic spraying using SiCl 4 or TEOS as the precursor liquid, as well as combustion in acid methane flames. Spray combustion of chlorine-free siloxane precursors has also been described in many patents for both pure and doped synthetic silica glasses (eg, EP 0,868,401, US 6,260,385, US 6,588,230, US 6,374,642). , US 6,739,156 and US 6,837,076).
液体前駆体のスプレーを供給される火炎からの合成シリカの堆積を記載する文献における多くの特許にもかかわらず、現在まで製造される、大部分の合成ガラス質シリカは蒸気の形態で供給される前駆体の燃焼によりなお製造されていることは注目に値する。それにもかかわらず、これは液体前駆体のスプレー供給への動きから生じるようにみえる利点である。スプレー燃焼について、要求されるようにみえるすべては、液体貯蔵およびハンドリングのシステム、計量ポンプ、ならびに適切な流量コントローラーを有する必要ガス供給、さらには適切なバーナーもしくはバーナーの配列、の設備である。蒸気供給について、シリカおよびドーパントの前駆体のための適切な加熱された蒸発器、およびバーナーへの蒸気供給のための適切な加熱されたラインを追加して備える必要があり、すべては適切な温度監視および調節設備を備える必要がある。しかし、スプレー燃焼による高品質ガラスの製造は、問題がないというわけではない。 Despite many patents in the literature describing the deposition of synthetic silica from flames fed with liquid precursor sprays, most synthetic vitreous silica produced to date is supplied in vapor form. It is noteworthy that it is still produced by combustion of the precursor. Nevertheless, this is an advantage that appears to arise from the movement of the liquid precursor to the spray supply. All that appears to be required for spray combustion is the installation of a liquid storage and handling system, a metering pump, and the necessary gas supply with a suitable flow controller, as well as a suitable burner or burner arrangement. For the steam supply, an appropriate heated evaporator for the silica and dopant precursors and an appropriate heated line for the steam supply to the burner must be additionally provided, all at the appropriate temperature It is necessary to provide monitoring and adjustment facilities. However, the production of high quality glass by spray combustion is not without problems.
US6,260,385(2欄61行〜3欄8行)において、気送(空気ブラスト)微粒化に基づく、簡易な微粒化バーナーは、もし微粒化ガスが高速で供給されなければ、いぼ状(wart-like)成長を伴う、不十分なスート体を与え得ることが記載されている。これは比較的小さな小滴の噴霧を促進し、小滴が基板に衝突する前に不十分な蒸発および燃焼のリスクを減少するが、増加する火炎乱れはスート堆積効率を低下させる不利があり、他の問題を引き起こし得る。この特許において、これらの問題は超音波噴霧を使用することにより克服されることが記載された;しかし、この選択は、いわゆる発泡性噴霧バーナー(effervescent atomization burner)のために放棄された。そこではガスは前駆体液体中に圧力下で溶解し、溶解したガスは現れる小滴中に気泡を形成するので、ノズルから出る液体として、比較的小さな小滴に解体されるとされている。しかし、効率的なシリカスートの堆積のための火炎の十分な閉じ込め(confinement)を達成するように、管状の封じ込め(tubular containment)(「レール」(rail)という)の形態でスプレーを囲む必要があったようにみえる。この概念の適用については何も例示がなかった。
In US 6,260,385 (
シロキサンのスプレー燃焼の間に生じる、さらなる潜在的問題がUS6,374,642で検討された。もし前駆体小滴が大きすぎるならば、スート体に欠陥が生じる。小滴は、十分に蒸発される前に基板に当たり、ついで酸化が基板表面で生じる。あるいは、部分的な蒸発および酸化が飛行中(in flight)に生じるが、ついでシリカの核生成は部分的に蒸発した小滴の周りに生じ得、特大のスート粒子をもたらす。これらの理由から、超音波アトマイザーは、噴霧ガスの余分な流れを必要としないで微細な小滴大きさを達成する手段として、バーナーに結合される。さらに、合成バーナーからの反応プルーム(煙流)(plume)は、2またはそれより多い補助バーナーからの火炎に囲まれ、基板に到達するまえに、前駆体の十分な蒸発および燃焼を確実にするように意図されていた。これらの付加はプロセスの複雑さを大いに増加させる。可能なガス流れおよびバーナーと基板の間の操作距離に関して、いくつかの指摘がなされたが、得られるガスの品質は明りょうではない。ドープされた合成シリカガラスを製造することが要求され、そこではドーパント酸化物が高い融点および/または沸点を有する耐火物である場合、さらには均一にドープされ、しかも気泡および混入物のないガラスを製造することが必要である場合には、火炎に2つの液体を一緒にスプレーする方法は、前駆体が燃焼に先立ち、または燃焼の過程で十分に蒸発され、均一に混合され得なければ、さらに問題を引き起こす。そうでなければ、前駆体の1つまたは両方は、固体または液体粒子に転換され得、その粒子の大きさはスプレー中の小滴の大きさに依存するが、関連するすべての種の蒸発ならびに火炎中の均質な核生成およびドープされたガラスの成長がないと、この方法は原子の大きさで要求される均一性を有するドープされたガラスを生成するのが期待され得ないのが通常である。これらの点は、最近の特許(US7,624,596)に記載されているが、そこで提案されている解決法(ラバル(Laval)ノズルによる超音波膨張)の実用性は不明りょうであり、何らの例も示されなかった。 Further potential problems arising during siloxane spray combustion were discussed in US 6,374,642. If the precursor droplet is too large, the soot body will be defective. The droplet hits the substrate before it is fully evaporated, and then oxidation occurs on the substrate surface. Alternatively, partial evaporation and oxidation occurs in flight, but then silica nucleation can occur around the partially evaporated droplets, resulting in oversized soot particles. For these reasons, an ultrasonic atomizer is coupled to the burner as a means to achieve fine droplet size without the need for an extra flow of atomizing gas. Furthermore, the reaction plume from the synthesis burner is surrounded by a flame from two or more auxiliary burners, ensuring sufficient evaporation and combustion of the precursor before reaching the substrate. Was intended to be. These additions greatly increase the complexity of the process. Some suggestions have been made regarding the possible gas flow and the operating distance between the burner and the substrate, but the quality of the resulting gas is not clear. It is required to produce a doped synthetic silica glass, where if the dopant oxide is a refractory with a high melting point and / or boiling point, a glass that is evenly doped and is free of bubbles and contaminants. If it is necessary to produce, the method of spraying the two liquids together into the flame will further improve if the precursors are sufficiently evaporated prior to combustion or in the course of combustion and cannot be mixed uniformly. Cause problems. Otherwise, one or both of the precursors can be converted to solid or liquid particles, the size of which depends on the size of the droplets in the spray, as well as the evaporation of all relevant species. Without homogeneous nucleation in the flame and growth of the doped glass, this method usually cannot be expected to produce a doped glass with the required uniformity in atomic size. is there. These points are described in a recent patent (US 7,624,596), but the practicality of the proposed solution (ultrasonic expansion with a Laval nozzle) is unclear and there are no examples. Not shown.
噴霧法の明らかな不十分さの、可能性のある1つの理由は、均一なガス流中で均一な小滴大きさの均一スプレーを達成するのが比較的困難であることであり、そして、基板上での捕集のための十分に酸化されたナノ粒子を高濃度で発生し、それらは前駆体の未燃焼粒子、または酸化物もしくは前駆体の熱分解生成物の過大粒子(たとえば炭化ケイ素もしくは酸炭化物であり、製品ガラスにおける欠陥を導き得る)、により混入されていないことが要求されるように、火炎の明確な領域ですべての小滴の蒸発、ついで調節された燃焼を達成するためである。過去において、これらの要求は、蒸気の形態のすべての前駆体種を供給させる合成バーナーの火炎中でもっと容易に達成されてきた。 One possible reason for the apparent lack of atomization is that it is relatively difficult to achieve uniform droplet size uniform spray in a uniform gas stream, and Generate highly oxidized nanoparticles at a high concentration for collection on the substrate, which can be precursor unburned particles, or oversized particles of oxides or precursor pyrolysis products (eg silicon carbide) Or oxycarbide, which can lead to defects in the product glass), to achieve evaporation of all droplets in a well defined area of the flame and then controlled combustion as required It is. In the past, these requirements have been more easily achieved in a flame of a synthetic burner that supplies all precursor species in vapor form.
2つもしくはそれより多い前駆体を用いるドープシリカの堆積について、一定の繰り返し得る割合で、構成種を均一に混合するのを確実にする、付加的な問題がある。前駆体が混和し得、化学的に相溶性のある液体として利用できる場合に、それらは適切な噴霧ノズルに溶液として供給され得、得られるスプレーはスート堆積火炎に導入される。このように、酸化タンタルでドープされたシリカの製造は、増加した屈折率を有するタンタルドープシリカを製造するために、タンタルブトキシドのヘキサメチルジシロキサン(HMDS)の噴霧によって提案されている(US6,546,757)。シロキサンに溶解された有機金属化合物のスプレー燃焼による、希土類酸化物を含む金属酸化物でドープされたシリカスートの製造もUS6,739,156に記載されている。提案されたドーパント化合物は、アルコキシドおよびβ−ジケトネートを含む。相互溶解度は、溶媒(たとえば、エチレングリコールモノメチルエーテル)の添加により向上され得るが、この特許は、提案された有機金属ドーパント前駆体の容易な加水分解により生じる供給ラインの閉塞のために課題が生じ得ることを言及する。これらの課題の可能な解決が提供されたが。高価な有機金属ドーパント前駆体の使用は、この方法が大規模で必要なドープされたガラスを製造する、経済的に実行可能な方法として不十分であること意味する。 For doped silica deposition using two or more precursors, there is an additional problem that ensures uniform mixing of the constituent species at a constant repeatable rate. If the precursors are miscible and can be utilized as chemically compatible liquids, they can be supplied as a solution to a suitable spray nozzle and the resulting spray is introduced into the soot deposition flame. Thus, the production of silica doped with tantalum oxide has been proposed by spraying hexamethyldisiloxane (HMDS) of tantalum butoxide to produce tantalum-doped silica with increased refractive index (US6, 546,757). The production of silica soot doped with metal oxides including rare earth oxides by spray combustion of organometallic compounds dissolved in siloxane is also described in US 6,739,156. Proposed dopant compounds include alkoxides and β-diketonates. Although mutual solubility can be improved by the addition of a solvent (eg, ethylene glycol monomethyl ether), this patent creates challenges due to supply line plugging caused by easy hydrolysis of the proposed organometallic dopant precursor. Mention getting. Although possible solutions to these challenges have been provided. The use of expensive organometallic dopant precursors means that this method is insufficient as an economically viable method for producing the necessary doped glass on a large scale.
さらに、ドープされたガラス質シリカのために数多くの用途があり、そこでは適切な有機金属前駆体は存在せず、またはそのような化合物を用いる高コストは許容し得ないであろう。これらは、プラズマエッチングに抵抗性のある半導体要素、光学フィルター、特別なランプ覆い、レーザー活性ガラス、等を含む。これらの用途のいくつかは、適切に微細化された酸化物粉末と密に混合された天然石英粉末を溶融することにより過去に役立ってきたが、ある用途については、今日、従来使用されてきた方法は不適切であることがわかっている。内部欠陥、微小気泡、未溶解粒子等が全くない、最高の可能な純度を有することが要求される場合、ドープされたシリカガラスは高純度合成原料から製造されのが望ましく、そしてガラスは高度に均一、すなわち原子レベルで均一にドープされているのが好ましい。過去において、多くの潜在的な金属ドーパントについて、許容し得るコストで大規模で達成することは不可能であることがわかった。 Furthermore, there are numerous uses for doped vitreous silica, where no suitable organometallic precursor exists, or the high cost of using such compounds would be unacceptable. These include semiconductor elements that are resistant to plasma etching, optical filters, special lamp covers, laser activated glass, and the like. Some of these applications have served in the past by melting natural quartz powder intimately mixed with appropriately refined oxide powders, but for some applications it has been conventionally used today. The method is known to be inappropriate. If it is required to have the highest possible purity without any internal defects, microbubbles, undissolved particles, etc., the doped silica glass is preferably produced from a high purity synthetic raw material, and the glass is highly Preferably, it is uniformly doped, i.e. uniformly doped at the atomic level. In the past, it has been found that for many potential metal dopants it is impossible to achieve on a large scale at an acceptable cost.
あるもっと多くの耐火性酸化物によるドーピングが要求されるときに、特別な困難さが生じ、そして重大な問題がある遷移金属の酸化物、そして特に希土類金属の酸化物、でのシリカの均一ドーピングに関して見出された。さらに、ガラス質シリカにおける希土類金属の酸化物の終極溶液を得る困難さにより(そのガラスにおける金属イオンの相対的不溶性または「クラスタリング」のためである)、希土類金属の酸化物の溶解度および分散を助けるために酸化アルミニウムでコドープすることが一般的となっている。 Uniform doping of silica with transition metal oxides, and especially rare earth metal oxides, where special difficulties arise and are serious problems when doping with some more refractory oxides is required Was found with respect to. In addition, the difficulty in obtaining an ultimate solution of rare earth metal oxides in vitreous silica (due to the relative insolubility or “clustering” of metal ions in the glass) helps the solubility and dispersion of rare earth metal oxides. Therefore, it is common to dope with aluminum oxide.
前述のように、潜在的に揮発性の希土類金属前駆体は利用できないか、または非常に高価であり、そして取扱いが困難でもある。したがって、適切な金属の比較的安価な塩、または金属の混合物を使用することが可能であれば、もっと費用効果があり、もっと便利であろう。 As mentioned above, potentially volatile rare earth metal precursors are not available or are very expensive and difficult to handle. Thus, it would be more cost effective and more convenient if it was possible to use a relatively inexpensive salt of a suitable metal, or a mixture of metals.
US2008/0039310において、1つの前駆体(四塩化ケイ素)は蒸気として供給され得、そして第2の前駆体がスプレーとして火炎に供給され得る。この場合、ランタンおよびアルミニウムの塩化物の水性エタノール溶液の微粒化スプレーが、四塩化ケイ素蒸気とともに供給され、酸水素バーナーの火炎に供給され、そして基板上に多孔質ガラスとして堆積されたことが報告された。これは、このようなドープされたガラスの製造のためのスート体の溶液−ドーピングの潜在的な代替として提案された。しかし、酸化ランタン種が超微細粒子の形状で発生することを確保するのは困難であろう。すべての前駆体種の完全な蒸発が酸化物への転換前に生じなかったら、酸化物生成は、凝縮相(この場合、溶液の脱水小滴)で始まり、そしてドーパント酸化物は、ガラスにおいて原子レベルの均質性が要求されるような、ナノ粒子の形状では発生されないであろう。そしてドーパント酸化物は、ガラスにおいて原子レベルの均質性が要求されるような、ナノ粒子の形状では発生されないであろう。さらに、シリカ粒子およびドーパント酸化物粒子そしてドーパント酸化物は、火炎の2つの異なる領域で生成されるので、この方法はスート体を与え、そこではドーパント濃度はスート層によって上下し、最も重要な用途において要求される、終極の均一性および/または透明性を与えない。光学的透過率データは、シリカスート多孔質体の溶液ドーピングにより調製された、ドープされたガラスのために上記特許出願において提供されたが、分離されたシリカ合成火炎へのドーパント種溶液のスプレーにより調製された材料について数値は示されていなかった。 In US2008 / 0039310, one precursor (silicon tetrachloride) can be supplied as a vapor and a second precursor can be supplied as a spray to the flame. In this case, an atomized spray of an aqueous ethanol solution of lanthanum and aluminum chloride was supplied with silicon tetrachloride vapor, supplied to the flame of an oxyhydrogen burner, and deposited as porous glass on the substrate. It was done. This has been proposed as a potential alternative to soot body solution-doping for the production of such doped glasses. However, it will be difficult to ensure that the lanthanum oxide species are generated in the form of ultrafine particles. If complete evaporation of all precursor species has not occurred before conversion to oxide, oxide formation begins in the condensed phase (in this case, dehydrated droplets of the solution) and the dopant oxide is atomized in the glass. It will not be generated in the form of nanoparticles, where a level of homogeneity is required. And the dopant oxide will not be generated in the form of nanoparticles, where atomic homogeneity is required in the glass. Furthermore, since silica particles and dopant oxide particles and dopant oxides are produced in two different regions of the flame, this method provides a soot body in which the dopant concentration varies with the soot layer and is the most important application. Does not give the ultimate uniformity and / or transparency required in Optical transmittance data was provided in the above patent application for doped glass prepared by solution doping of silica soot porous material, but prepared by spraying a dopant seed solution onto a separated silica synthetic flame. No numerical values were shown for the materials made.
水性溶液として1つまたはもっと多いドーパントを用意する潜在的な利益は、US6,705,127に示されており、それは非水性シリカ前駆体(たとえばシロキサン)に1つまたはもっと多い溶解性ドーパント(たとえば有機金属化合物)を、必要ならば、さらに第2のバーナーで水性溶液ドーパントからなる第2スプレーと一緒に、1つのバーナーでエーロゾル溶液として付加的溶媒とともに、含でいてもよい。この配置において、シリカスートおよび第2スプレー中に存在するようなドーパントは、連続的層に別々に置かれるが、望ましい密な成分混合物を原子の大きさで導くことはできない。もう1つの態様において、非水性および水性液体は、単一のバーナーに供給され、ついで単一の火炎に噴霧されるが、達成され得るバーナー設計に関して、あるいはその方法が許容し得る品質の均質堆積を与えるのに有効かどうか、指摘はない。 The potential benefit of providing one or more dopants as an aqueous solution is shown in US 6,705,127, which is one or more soluble dopants (eg organometallics) in non-aqueous silica precursors (eg siloxanes). Compound) may optionally be included with an additional solvent as an aerosol solution in one burner, together with a second spray of aqueous solution dopant in a second burner. In this arrangement, the dopants, such as those present in the silica soot and the second spray, are placed separately in the continuous layer, but cannot lead to the desired dense component mixture in atomic size. In another embodiment, the non-aqueous and aqueous liquids are fed into a single burner and then sprayed into a single flame, but with respect to the burner design that can be achieved or of a quality that the method can tolerate. There is no indication whether it is effective to give.
US2006/0001952は、ドーパントが耐火性で、不溶性ドーパント粒子であり、ドーパント酸化物の局在化濃縮(すなわちクラスタリング)を形成しやすい時でさえも、ガラスの終極的均質性に対する必要性に言及した。この理由のために、燃焼合成プロセスの過程において、シリカおよびドーパント前駆体種の両方が十分に蒸発し、ついで混合酸化物粒子のナノ粒子として一緒に凝縮するのが望ましい。これは原子レベルでの密な混合を導くはずである。これは、共軸酸水素バーナーを用いて達成され得ることが提案され、そこでは中心ノズルはアルミニウム、ナトリウムおよびエルビウムの塩化物の水性メタノール溶液の混合物とともに供給され、このスプレーは、水素の高速共軸流により微粒化され、それ自体は四塩化炭素蒸気流で、そして最終的には酸素流で囲まれた。ガス速度は、音速の0.3〜1.5倍の範囲といわれ、火炎の高度の乱れは成分の密な混合を与えるといわれている。しかし、他の特許に報告されているように、このような高速および乱れは、欠陥がなく、かつ欠陥のないガラスに焼成するのに適した、均一多孔質体の形状のスートを効率的に捕集することを伝導するものではない。したがって、その方法は、少量のドープされた生成物の堆積には適切であり得、高い価値の光ファイバープリフォームへ転換し得、それより有用な材料が選定され得るが、比較的大量の、欠陥のないガラスの効率的な製造に適切とは思われない。 US2006 / 0001952 mentions the need for ultimate homogeneity of the glass even when the dopant is refractory, insoluble dopant particles and is prone to form localized enrichment (ie clustering) of the dopant oxide. . For this reason, in the course of the combustion synthesis process, it is desirable that both silica and dopant precursor species evaporate sufficiently and then condense together as nanoparticles of mixed oxide particles. This should lead to close mixing at the atomic level. It has been proposed that this can be achieved using a coaxial oxyhydrogen burner, in which the central nozzle is fed with a mixture of aluminum, sodium and erbium chloride aqueous methanol solutions, and this spray is a high-speed co-axial hydrogen. Atomized by the axial flow, it was itself surrounded by a carbon tetrachloride vapor flow and finally an oxygen flow. The gas velocity is said to be in the range of 0.3 to 1.5 times the speed of sound, and high flame turbulence is said to give intimate mixing of the components. However, as reported in other patents, such high speeds and turbulences can efficiently produce soot in the form of a uniform porous body that is suitable for firing into defect-free and defect-free glass. It does not conduct to collect. Thus, the method may be suitable for the deposition of small amounts of doped products, can be converted to high value optical fiber preforms, and more useful materials can be selected, but relatively large amounts of defects It does not seem appropriate for the efficient production of glass without glass.
火炎に微粒化された水性溶液として供給されるドーパント種の塩の使用は、過去に提案されてきたが、その方法は、特にそれらが比較的揮発しないとき、すべての潜在的前駆体種の全蒸発を導きそうもなく、そのような溶液の小滴は乾燥状態まで蒸発し、ついで固体または液体粒子に分解することが期待されるが、特に関心のあるドーパント酸化物の非常に高い沸点のために、得られる酸化物粒子の少なくともいくつかは大きなサイズに留まり、製品ガラスに許容し得ない欠陥を構成する。 Although the use of salts of dopant species supplied as an atomized aqueous solution to the flame has been proposed in the past, the method is particularly useful when they are relatively non-volatile. It is expected that droplets of such a solution will evaporate to dryness and then decompose into solid or liquid particles, which is unlikely to lead to evaporation, but due to the very high boiling point of the dopant oxide of particular interest In addition, at least some of the resulting oxide particles remain large in size and constitute unacceptable defects in the product glass.
要求されていることは、火炎中におけるドーパント酸化物、または酸化物、の粒子を合成する方法であり、すべての前駆体が実質的に均一な混合物として反応帯域に供給され、一方、各ドーパント酸化物の全粒子が凝縮シリカ粒子の存在下に蒸気種から共凝縮することを確実にし、そうでなければ蒸気からの凝縮によって達成されるのに匹敵する大きさのドーパント酸化物の分散ナノ粒子、すなわちサブミクロン大きさ、として生成される。 What is needed is a method of synthesizing particles of dopant oxide, or oxide, in a flame, where all precursors are fed into the reaction zone as a substantially uniform mixture, while each dopant oxidation Ensure that all particles of the product co-condense from the vapor species in the presence of condensed silica particles, otherwise dispersed nanoparticles of dopant oxide of a size comparable to that achieved by condensation from the vapor, That is, it is generated as a submicron size.
本発明者は、サブミクロンサイズ、すなわち従来の合成火炎から合成された酸化物粒子の大きさに相当する、ナノ粒子の大きさ、のシリカおよびドーパント酸化物の両方の粒子を生成させることを可能にする新しい方法を発明した。さらに、本方法は、純およびドーパントされた合成シリカガラスの両方の製造に適切であることを示し、耐火性で比較的不溶性酸化物の均一配合でさえ可能であることを示す。その結果、今や均一ドーピングが原子スケールで達成され得る。 The inventor is able to produce both silica and dopant oxide particles of sub-micron size, i.e., the size of a nanoparticle equivalent to the size of an oxide particle synthesized from a conventional synthetic flame Invented a new way to: Furthermore, the method has been shown to be suitable for the production of both pure and doped synthetic silica glasses, indicating that even homogeneous blends of refractory and relatively insoluble oxides are possible. As a result, uniform doping can now be achieved on an atomic scale.
このプロセスは、周知のスプレー熱分解方法の新しい変形である。それは、大きな燃焼熱を有する、塩素のないシリカ前躯体とともに使用されるとき、特に有利である。したがって、可能なシリカ前躯体はシロキサンを含み、その最も重要なものは、ヘキサメチルジシロキサン(HMDS)、オクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS、D4としても知られる)、デカメチルシクロペンタシロキサン(DMCPSまたはD5)、およびドデカメチルシクロヘキサシロキサン(DMCHSまたはD6)である。他の塩素のない有機ケイ素化合物も、使用条件下で、許容できない加水分解を受けなければ、この種のプロセスに考慮され得るが、特に関心のある前躯体はシロキサンであり、特にシクロシロキサン、もっと特に、D4,D5、およびD6、ならびにそれらの混合物である。しかしながら、他の環状および鎖状シロキサンが使用され得、同族体、置換体およびそれらの混合物を含む。 This process is a new variant of the well-known spray pyrolysis method. It is particularly advantageous when used with a chlorine-free silica precursor having a large heat of combustion. Thus, possible silica precursors include siloxanes, the most important of which are hexamethyldisiloxane (HMDS), octamethylcyclotetrasiloxane (also known as OMCTS, D4), decamethylcyclopentasiloxane (DMCPS or D5), and dodecamethylcyclohexasiloxane (DMCHS or D6). Other chlorine-free organosilicon compounds can also be considered for this type of process if they do not undergo unacceptable hydrolysis under the conditions of use, but the precursors of particular interest are siloxanes, especially cyclosiloxanes, and more In particular, D4, D5, and D6, and mixtures thereof. However, other cyclic and chain siloxanes can be used, including homologues, substitutions and mixtures thereof.
金属塩の水性またはアルコール性溶液は、通常、シロキサンに混和せず、上述のように、2つの別々の成分(その一方または両方がスプレーであり得る)の混合は、理想的な均質性では今まで達成されていなかった。しかし、もしドーパントが溶液、たとえば水性溶液として供給されるならば、シリカとドーパント前躯体の、要求される終極的に均質な分散体を創り出すことが可能であることが見出され、この溶液はシロキサン中のエマルション、すなわち油中水型エマルションとして供給される。このエマルション(そこでは、終極ガラスのすべての成分が密で均質な混合物中に存在し得る。)は、火炎における分解、加水分解、または酸化によって、終極的な製品ガラスを製造するのに必要な、すべての成分を含むエーロゾルにおける各小滴とともに、合成火炎中にスプレーされる。均一にドープされたシリカ粒子ヒュームは、このように製造され得、スート体として捕集され、ついで(または同時に)ガラスに焼成される。 Aqueous or alcoholic solutions of metal salts are usually not miscible with the siloxane, and as noted above, mixing of two separate components (one or both of which can be a spray) is now at ideal homogeneity. Was not achieved until. However, it has been found that if the dopant is supplied as a solution, for example an aqueous solution, it is possible to create the required ultimately homogeneous dispersion of silica and dopant precursor, Supplied as an emulsion in siloxane, ie a water-in-oil emulsion. This emulsion, where all the components of the ultimate glass may be present in a dense and homogeneous mixture, is necessary to produce the ultimate product glass by flame decomposition, hydrolysis, or oxidation. , Sprayed into a synthetic flame, with each droplet in an aerosol containing all components. Uniformly doped silica particle fumes can be produced in this way, collected as soot and then (or simultaneously) fired into glass.
合成火炎は、適切に設計された燃焼バーナーにより供給されるのが通常であり、そこでは前駆体の酸化は酸素または代替の酸化性ガスにより促進され、そして追加エネルギーは、適切な可燃性燃料ガスの燃焼により供給され得、たとえば水素、メタン、プロパン、ブタン、エチレン、アセチレン、等を含む。しかし、ある態様において、そのような追加エネルギーを、プラズマ加熱のような代替的手段により供給することも有利であり得る。プラズマ加熱は、公知のプラズマ加熱装置により提供され得、誘導プラズマトーチ、アークプラズマトーチおよびマイクロ波プラズマ装置を含む。同様に、一般的な燃焼は、そのような追加の電気的加熱手段によって支持され得る。 Synthetic flames are usually supplied by a suitably designed combustion burner, where precursor oxidation is promoted by oxygen or an alternative oxidizing gas, and the additional energy is supplied by a suitable combustible fuel gas. For example, including hydrogen, methane, propane, butane, ethylene, acetylene, and the like. However, in certain embodiments, it may be advantageous to provide such additional energy by alternative means such as plasma heating. Plasma heating can be provided by known plasma heating devices, including induction plasma torches, arc plasma torches and microwave plasma devices. Similarly, general combustion can be supported by such additional electrical heating means.
したがって、本発明は、1つの態様において、次の段階を含むシリカ系ガラスの製造方法を提供する:非水性液体シリカ前躯体材料中の水性相のエマルションを形成すること;そのエマルションを小滴スプレーとして、合成火炎中に供給し、それにより前躯体材料は火炎中でシリカ含有スートに転換されること;ならびにつづいてガラスに焼固するための多孔質スート体として、または直接に実質的に細孔のないガラスとして、基板上にスートを捕集すること。 Accordingly, the present invention, in one aspect, provides a method for making a silica-based glass comprising the following steps: forming an emulsion of an aqueous phase in a non-aqueous liquid silica precursor material; As a synthetic flame, so that the precursor material is converted into a silica-containing soot in the flame; and subsequently as a porous soot for sintering into glass, or directly as a substantially fine Collect soot on the substrate as glass without holes.
特定の態様において、シリカ系ガラスは、ドープされ、もしくはドープされていない(すなわち、実質的に純)合成ガラス質シリカである。水性相は、エマルションの不連続相を構成し、以下に詳述するように、純(もしくは実質的に純)水または適切な水性溶液から構成され得る。多くの態様において、スプレー中の各小滴は、火炎中の酸化または加水分解によりシリカ系ガラスに転換するために要求される全成分を含む。たとえば、各小滴は、非水性液体シリカ前躯体材料中の水性相エマルション、ならびにいくらかの(もしくは全部の)ドーパントを含む。 In certain embodiments, the silica-based glass is doped or undoped (ie, substantially pure) synthetic vitreous silica. The aqueous phase constitutes the discontinuous phase of the emulsion and can be comprised of pure (or substantially pure) water or a suitable aqueous solution, as detailed below. In many embodiments, each droplet in the spray contains all the components required to convert to silica-based glass by oxidation or hydrolysis in a flame. For example, each droplet contains an aqueous phase emulsion in a non-aqueous liquid silica precursor material, as well as some (or all) dopant.
乳化は、1つまたは2以上の乳化剤の添加により促進され得る。この用途のために乳化剤として幅広い範囲の界面活性剤が存在し、考慮される。2つまたはそれより多い界面活性剤を一緒に用いるのが有利であり得、そこではHLB(親水性親油性比)値を異にするのが有利であり得る。したがって、HLB値が3〜9である界面活性剤が適切であり得るが、この範囲は制限的ではない。適切な乳化剤の例は、金属不純物のない非イオン界面活性剤であり、シリコーンポリマーのアルコキシ化誘導体のようなシリコーン界面活性剤を含み、ポリメチルシロキサン(アルキル置換されていてもよい)とポリエーテル、たとえばポリエチレングリコール(PEG)および/またはポリプロピレングリコール(PPG)、との共重合体を含む。適切な乳化剤は、Tegopren(登録商標)7008、ポリエーテルアルキルポリメチルシロキサン(Evonik Degussa GmbH,Rodenbacher Chaussee 4, 63457 Hanau, ドイツ)およびBC99/012(Basildon Chemical Company Limited, Kimber Road, Abingdon, OX14 1RZ, OX14 1RZ, 英国)を含むが、他に多くのものがあり、種々の製造者から入手できる。
Emulsification can be facilitated by the addition of one or more emulsifiers. A wide range of surfactants exist and are considered as emulsifiers for this application. It may be advantageous to use two or more surfactants together, where it may be advantageous to have different HLB (hydrophilic lipophilic ratio) values. Thus, surfactants with HLB values of 3-9 may be suitable, but this range is not limiting. Examples of suitable emulsifiers are nonionic surfactants free of metal impurities, including silicone surfactants such as alkoxylated derivatives of silicone polymers, polymethylsiloxanes (which may be alkyl substituted) and polyethers For example, a copolymer with polyethylene glycol (PEG) and / or polypropylene glycol (PPG). Suitable emulsifiers are
エマルション中の水性相は、1つまたはそれより多い金属塩水性溶液を含み得、たとえば希土類金属とアルミニウム塩の混合物である。油媒体における調節された大きさの水性溶液微小滴を形成する乳化は、標準的な方法(たとえば、高速ブレンダー、高圧ホモジナイザー、コロイドミル、高せん断ディスパーサー、超音波分解膜ホモジナイザー、等)により達成され得、そして適切な海面活性剤の添加により、温度を調節すること、等により、促進され得る。もしエマルションが十分に安定であれば、その均質化プロセスは、装置への供給の前に、別のプロセスで実施し得る。あるいは、乳化はバーナーの上流の容器内で、直線状に配置され得、またはたとえば2つの液体を供給し、微粒化するのに適合した、超音波ホーンを設けたバーナー(たとえば、Sono-Tek Corporation, Milton, NY 12547, 米国から入手し得る)のような、適切に設計されたバーナー内で実施してもよい。 The aqueous phase in the emulsion may comprise one or more aqueous metal salt solutions, for example a mixture of rare earth metals and aluminum salts. Emulsification to form controlled sized aqueous solution microdroplets in oil media is achieved by standard methods (eg, high speed blender, high pressure homogenizer, colloid mill, high shear disperser, sonication membrane homogenizer, etc.) And can be facilitated by adjusting the temperature, etc. by the addition of a suitable sea surface active agent. If the emulsion is sufficiently stable, the homogenization process can be performed in a separate process prior to feeding to the equipment. Alternatively, the emulsification can be arranged in a straight line in a vessel upstream of the burner or, for example, a burner equipped with an ultrasonic horn adapted to supply and atomize two liquids (eg Sono-Tek Corporation , Milton, NY 12547, available from the United States).
適切な方法によって、(たとえば)シロキサンのエマルション内の水性微小滴は、微粒化されたスプレーの各小滴がミクロエマルションのような水性微小滴を含むシロキサン小滴からなるような大きさである、ことを確実にすることができる。このように、エマルションが20〜100μmの大きさの油滴に微粒化されるとき、それらはそれぞれ著しく小さな大きさの水性微小滴を多く含む。典型的には、水性微小滴の大部分の直径は2μmより小さい。火炎において加熱する際に、水性微小滴中の水は過熱され得、ついで爆発的に蒸発し、そしてこのように、水の蒸発、次の金属塩の分解の際に形成される耐火性ドーパント酸化物の粒子の大きさを低下させるのに役立つと考えられる。火炎中に存在する高温で、ドーパント酸化物種の広範な蒸発が生じ、そしてこのように、要求されるドーパントされたシリカは、構成酸化物種の共凝縮により実際に達成されるであろう。しかし、耐火性ドーパント種が十分には蒸発されなくても、前駆体溶液の微小滴は分裂され、蒸発されて乾固し、ついで飛行中に十分に酸化され、酸化物または混合酸化物のサブミクロン粒子を生成する。これらの粒子は、蒸気からの核生成および成長により達成された大きさに匹敵する大きさであり、火炎の同一領域で発生されるシリカナノ粒子と密に混合される。 By suitable methods, the aqueous microdroplets in the siloxane emulsion (for example) are sized such that each droplet of the atomized spray consists of a siloxane droplet containing an aqueous microdrop such as a microemulsion. You can be sure. Thus, when the emulsion is atomized into oil droplets of 20-100 μm size, they each contain a large number of significantly smaller aqueous droplets. Typically, the majority of aqueous microdroplets have a diameter of less than 2 μm. Upon heating in the flame, the water in the aqueous microdroplets can be superheated and then explosively evaporate, and thus the refractory dopant oxidation formed upon evaporation of the water and subsequent decomposition of the metal salt This is thought to help reduce the particle size of the object. At the high temperatures present in the flame, extensive evaporation of the dopant oxide species occurs, and thus the required doped silica will actually be achieved by co-condensation of the constituent oxide species. However, even if the refractory dopant species is not sufficiently evaporated, the precursor solution microdroplets are split and evaporated to dryness, and then fully oxidized in flight, sub-oxide or mixed oxide. Produces micron particles. These particles are of a size comparable to that achieved by nucleation and growth from steam and are intimately mixed with silica nanoparticles generated in the same region of the flame.
水小滴の崩壊は、シロキサン小滴も砕かれる利点を付与し、シロキサンと酸素のさらに良好な混合、もっと均一な燃焼およびもっとコンパクトな燃焼帯域を確実にし、もっと高い、潜在的捕集効率を導く。これは、微粒化バーナーの前述の不利益を克服する。すなわち、スプレーは、部分酸化の到達に導き得る特大の小滴、基板上の特大粒子、および多孔質体におけるそれらの混入を導き、スート体のこぶ様(wart-like)成長および得られるガラスにおける潜在的な微小気泡をもたらす不利益(US6,260,385に記載されるように)を克服する。 The collapse of water droplets gives the advantage that siloxane droplets are also broken, ensuring better mixing of siloxane and oxygen, more uniform combustion and a more compact combustion zone, and higher potential capture efficiency. Lead. This overcomes the aforementioned disadvantages of atomization burners. That is, spraying leads to oversized droplets that can lead to the arrival of partial oxidation, oversized particles on the substrate, and their incorporation in the porous body, wart-like growth of the soot body and in the resulting glass Overcoming the disadvantages (as described in US 6,260,385) resulting in potential microbubbles.
新しい方法は、ドーパント酸化物が高度に耐火性であるときに、純合成シリカガラスおよびドープされた合成シリカガラスの両方の製造に有利であり得る。したがって、ドープされたシリカガラスを製造するために用いられるとき、蒸気から終極的に凝縮するシリカ粒子は、実際に核生成され、耐火性ドーパント酸化物のナノ粒子上に成長することを確実にする。その結果は、堆積され、ついで乾固されるドープされたスートは、従来提案された方法と異なり、調節され得、かつ予測し得る濃度で、シリカガラスにおける均質なドーパント溶液を生成することである。 The new method can be advantageous for the production of both pure and doped synthetic silica glasses when the dopant oxide is highly refractory. Thus, when used to produce doped silica glass, ensure that silica particles that ultimately condense from the vapor are actually nucleated and grow on the refractory dopant oxide nanoparticles. . The result is that the doped soot that is deposited and then dried, unlike the previously proposed method, produces a homogeneous dopant solution in silica glass at a tunable and predictable concentration. .
このようにして、製品ガラスに幅広いドーパント種を配合することが可能である。このようなドーパント種は、油中水型エマルションの水性相に化合物の水溶性塩として導入され得る。典型的に、これらは、金属の硝酸塩、塩化物、酢酸塩等、またはホウ素、リン等のような非金属元素化合物の溶液を含む。 In this way, it is possible to blend a wide variety of dopant species into the product glass. Such dopant species can be introduced into the aqueous phase of the water-in-oil emulsion as a water-soluble salt of the compound. Typically these include solutions of metal nitrates, chlorides, acetates, etc., or non-metallic elemental compounds such as boron, phosphorus, etc.
シロキサン中の水性エマルションの燃焼の新しい方法は、ドープされたガラスの製造のためのルートとして最初は開発されたが、火炎における燃焼から微粒化されたスプレーとして非水性液体ケイ素前躯体における純水エマルションを供給することにより、純合成シリカガラスを製造するための改良法を提供することも見出された。 A new method of combustion of aqueous emulsions in siloxanes was originally developed as a route for the production of doped glass, but pure water emulsions in non-aqueous liquid silicon precursors as atomized sprays from combustion in flames Has also been found to provide an improved method for producing pure synthetic silica glass.
水性溶液へのイオン種の添加は、エマルションの安定を向上させ、そしてエマルションにおける比較的小さな小滴の達成を可能にすることが見出された。これは、上述のようなドープされたシリカガラスの製造におけるばかりでなく、ドープされていないガラスの製造にも潜在的に有益であり得る。このように、純水エマルションに適切なイオン種を添加することは有利であり得、適切な種は、堆積されるべきシリカスート中に有意の不純物を生じさせないで、火炎中で分解または酸化する種である。潜在的な添加剤は、鉱酸、たとえば塩酸、硝酸および硫酸等;カルボン酸、たとえばギ酸、酢酸、プロピオン酸等;または有機塩基、たとえばメチルアミン、トリメチルアミン等、を含み、適切な対イオン、たとえば塩酸塩;および分解性塩、たとえば塩化アンモニウム、硝酸塩、硫酸塩、ギ酸塩、酢酸塩等、をさらに含んでいてもよい。硝酸アンモニウムまたは他の高結合酸素含量の塩の使用は、特に興味深い。熱分解に際して、有意のガスを発生し、そしてエーロゾル中の前躯体粒子の分解を促進すること、および超微細シリカ粒子への十分な酸化に有利であることにおいて、そのような種は有利であり得、一方、異なる種の残渣をシリカに実質的に残さない。 It has been found that the addition of ionic species to the aqueous solution improves the stability of the emulsion and allows the achievement of relatively small droplets in the emulsion. This can be potentially beneficial not only in the production of doped silica glass as described above, but also in the production of undoped glass. Thus, it may be advantageous to add the appropriate ionic species to the pure water emulsion, which is a species that decomposes or oxidizes in the flame without causing significant impurities in the silica soot to be deposited. It is. Potential additives include mineral acids such as hydrochloric acid, nitric acid and sulfuric acid; carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid and the like; or organic bases such as methylamine, trimethylamine and the like, and suitable counterions such as Hydrochlorides; and degradable salts such as ammonium chloride, nitrates, sulfates, formates, acetates and the like. The use of ammonium nitrate or other high bound oxygen content salts is of particular interest. Such species are advantageous in generating significant gases upon pyrolysis and in favoring the degradation of precursor particles in the aerosol and sufficient oxidation to ultrafine silica particles. While leaving substantially no different species of residue on the silica.
油中水型エマルションの使用は、そこでは水性相は1つまたはそれより多い、溶解された塩の形態でドーパント種前躯体を含むが、予測し得る濃度の、ドープされた合成シリカガラスを大量に製造する、費用効果のよい方法を提供し、そこではドーパント種は、原子の大きさで終極的に分散され、粒子含有物を含まない。それは、高コストおよび有機金属ドーパント前駆体の取り扱いの困難さ;もしドーパント酸化物粒子が十分に溶解していないと、ガラス中の微小気泡および含有物のリスク;ならびにガラス中のドーパントの均一な濃度を達成すること、または堆積条件に基づいて最終ガラス中のドーパントの平均レベルを予測することの困難さ、を含む。 The use of a water-in-oil emulsion, in which the aqueous phase contains one or more dopant species precursors in the form of dissolved salts, but a large amount of doped synthetic silica glass at a predictable concentration. Provides a cost-effective method in which the dopant species are ultimately dispersed in atomic size and are free of particle inclusions. It is expensive and difficult to handle organometallic dopant precursors; if the dopant oxide particles are not sufficiently dissolved, the risk of microbubbles and inclusions in the glass; and the uniform concentration of the dopant in the glass Or the difficulty of predicting the average level of dopant in the final glass based on the deposition conditions.
本発明方法は、希土類金属酸化物および他の耐火性酸化物種でドープされたシリカガラスの製造に特に有用であるが、これらの種に限定されない。実際に、この方法は、周期律表(IUPAC版)1〜16族、ならびにランタニドおよびアクチニド系列から選ばれる、幅広い範囲の金属の酸化物でドープされたガラス製品を生成するのに使用され得る。さらに、たとえばホウ素および/またはリンの酸化物を含む、ある非金属ドーパントの配合にも使用され得る。 The method of the present invention is particularly useful for the production of silica glasses doped with rare earth metal oxides and other refractory oxide species, but is not limited to these species. Indeed, this method can be used to produce glass products doped with a wide range of metal oxides selected from the Periodic Table (IUPAC version) Groups 1-16 and the lanthanide and actinide series. It can also be used to formulate certain non-metallic dopants, including, for example, boron and / or phosphorus oxides.
いくつかの用途で要求されるように、もしガラス中のドーパントレベルに勾配を有することが望まれるならば、これはエマルションに存在する特定のドーパント種の濃度の漸進的変動により達成され得る。いくつかの態様において、非水性相に溶解された、1つまたはそれより多いドーパント種を提供することは適切であり得るが、本発明補法の主要な利点の1つは、シロキサンのような非水性で、塩素のないシリカ前駆体中で安価な塩の形態の溶解ドーパント前駆体を含む、水性エマルションを用いて均質にドープされたガラスを製造する費用効果のよい方法を提供することである。 As required in some applications, if it is desired to have a gradient in the dopant level in the glass, this can be achieved by gradual variation in the concentration of the particular dopant species present in the emulsion. In some embodiments, it may be appropriate to provide one or more dopant species dissolved in a non-aqueous phase, but one of the main advantages of the present complement is that such as siloxane It is to provide a cost-effective method of producing homogeneously doped glass using an aqueous emulsion comprising a non-aqueous, chlorine-free silica precursor and a dissolved dopant precursor in the form of an inexpensive salt. .
上述のように、本発明方法は、ドープされたガラスを生成し得、そこではドーパント種は、最初に製造されたガラスで達成されたよりもはるかに大きな均質性のレベルで達成するのが望ましい用途に関して、原子レベルで実質的に均質に分散される。たとえば、最初に達成されたよりももっと均一なドーパントレベルを達成することが望ましく、あるいは屈折率、熱膨張係数または他の特性、の均一性を改良するために手段を講じることが必要であり得、そしてたとえば最初に製造されたガラスで得られるよりも均一なOHレベルを要求され得る。これらの状況下で、続く均質化プロセスを適用し、ついで適切なアニール操作をすることにより、ガラスの全体的な均一性を改良することができる。いくつかの均質化は、特に比較的大きな断面積を有する、代わりの形状体を与えるガラスのリフロープロセスによって達成され得る。US5,443,607およびUS5,790,315に記載される均質化プロセス(そこでは、ガラス体はツイスティングにより混合される)は、最高の均質性の光学ガラスの製造に特に適している。 As mentioned above, the method of the present invention can produce doped glasses, where the dopant species are desired to be achieved at a much greater level of homogeneity than that achieved with the originally produced glass. With respect to the atomic level, it is substantially homogeneously distributed. For example, it may be desirable to achieve a more uniform dopant level than originally achieved, or it may be necessary to take steps to improve the uniformity of refractive index, thermal expansion coefficient or other properties, And, for example, a more uniform OH level can be required than can be obtained with initially produced glass. Under these circumstances, the overall homogeneity of the glass can be improved by applying a subsequent homogenization process followed by a suitable annealing operation. Some homogenization can be achieved by a glass reflow process that gives an alternative shape, especially with a relatively large cross-sectional area. The homogenization process described in US 5,443,607 and US 5,790,315, where the glass bodies are mixed by twisting, is particularly suitable for the production of optical glass with the highest homogeneity.
エマルションの水性相における溶液として火炎へドーパント種を供給することは、本発明の最も重要な適用の1つとみなされ、ある状況において、水性相に懸濁されて超微粒子の分散体として、または第2のエマルションとして、すなわち非水性の塩素のないシリカ前駆体中に懸濁した微小滴として存在する水中油型エマルションとして、あるドーパントを供給することが望ましい。 Supplying the dopant species to the flame as a solution in the aqueous phase of the emulsion is considered one of the most important applications of the present invention, and in certain circumstances, suspended in the aqueous phase as a dispersion of ultrafine particles or second It is desirable to provide certain dopants as an emulsion of the following, i.e. as an oil-in-water emulsion present as microdroplets suspended in a non-aqueous chlorine-free silica precursor.
本発明の付加的な特徴は、シロキサンスプレー中の水のエマルションの使用は、燃焼特性を変え、その結果、火炎は窒素酸化物の減少したレベルをもたらす。これは、NOx放出が制限される状況下で大規模で用いられるとき、重要な利点を示す。したがって、本発明は、シリカ系ガラスの製造に用いられる微粒化バーナーのNOx放出を減少させる方法を提供し、そこでは微粒化バーナーは、上述のシリカ製造法において、非水性の塩素のない液体シリカ前駆体中の水性相のエマルションを提供される。 An additional feature of the present invention is that the use of an emulsion of water in the siloxane spray changes the combustion characteristics so that the flame results in reduced levels of nitrogen oxides. This represents an important advantage when used on a large scale in situations where NOx emissions are limited. Accordingly, the present invention provides a method for reducing the NOx emissions of atomized burners used in the production of silica-based glasses, wherein the atomized burner is a non-aqueous chlorine-free liquid silica in the above-described silica production process. An emulsion of the aqueous phase in the precursor is provided.
例
実験は、それぞれのシロキサン中または混合物中の水または水性溶液のエマルション群を用いて行われた。適切な組成77% D4、21% D5、2% D6を有する混合物が「D4N」として供給される(Momentive Performance Materials, 22 Corporate Woods Boulevard, Albany, NY 12211, 米国)。この混合物は、室温で冷凍を受けないので、試験に使用されたが、明らかに純シロキサンはこの方法において代替的に使用され得る。
Examples Experiments were carried out with emulsions of water or aqueous solutions in the respective siloxanes or mixtures. A mixture with the appropriate composition 77% D4, 21% D5, 2% D6 is supplied as “D4N” (Momentive Performance Materials, 22 Corporate Woods Boulevard, Albany, NY 12211, USA). This mixture did not undergo freezing at room temperature and was used for testing, but obviously pure siloxane could alternatively be used in this method.
典型的なエマルションは以下のとおりである。
エマルション1.
典型的なエマルションは次のように製造された。920mLのD4Nに、30mLの乳化剤Tegopren(登録商標) 7008が添加された。ついで、水50mLが非水性相に添加され、その混合物は高速ホモジナイザー(Ultra-Turrax, Model No.T125, IKA=Werke GmbH & Co.KG, Janke & Kunkel-Str. 10, 79219Staufen, ドイツ)を用いて、最初に乳化された。乳化は、超音波浴内の容器の強い撹拌により完結された。得られるエマルションの水性相の小滴の大きさ分布は、レーザー回折粒子アナライザー、Model LS230(Beckman-Coulter UK Inc., High Wycombe, HP11 1JU, 英国)により測定された。こお分布は図1に示される。水性相の微小滴の直径は3.5μmより小さいのが通常であり、そのような微小滴の大部分は直径が2μmより小さい。
エマルション2.
脱イオン水(50mL)中の硝酸セリウム(III)(8g)の水性溶液が、30mLのTegopren(登録商標) 7008を含む920mLのD4Nに添加された。その混合物は前記のように乳化され、小滴の大きさ分布が上記のように測定され、図1に示される結果を生じた。水性微小滴の大部分の直径は明らかに1μmより小さい。
エマルション3.
脱イオン水(50mL)中の硝酸セリウム(III)(40g)の水性溶液が、30mLのBC99/012を含む920mLのD4Nに添加された。その混合物は前記のように乳化され、小滴の大きさ分布が上記のように測定され、図1に示される結果を生じた。溶解された塩の高濃度にもかかわらず、水性小滴はすべて直径が1.5μmより小さい。
A typical emulsion is as follows.
Emulsion
A typical emulsion was made as follows. To 920 mL of D4N, 30 mL of emulsifier Tegopren® 7008 was added. Then 50 mL of water is added to the non-aqueous phase and the mixture is used with a high speed homogenizer (Ultra-Turrax, Model No. T125, IKA = Werke GmbH & Co. KG, Janke & Kunkel-Str. 10, 79219 Staufen, Germany). First emulsified. The emulsification was completed by vigorous stirring of the container in the ultrasonic bath. The droplet size distribution of the aqueous phase of the resulting emulsion was measured by a laser diffraction particle analyzer, Model LS230 (Beckman-Coulter UK Inc., High Wycombe, HP11 1JU, UK). This distribution is shown in FIG. The diameter of the aqueous phase microdroplets is usually less than 3.5 μm, and the majority of such microdroplets are less than 2 μm in diameter.
An aqueous solution of cerium (III) nitrate (8 g) in deionized water (50 mL) was added to 920 mL of D4N containing 30 mL of
An aqueous solution of cerium (III) nitrate (40 g) in deionized water (50 mL) was added to 920 mL D4N containing 30 mL BC99 / 012. The mixture was emulsified as described above and the droplet size distribution was measured as described above, yielding the results shown in FIG. Despite the high concentration of dissolved salt, all aqueous droplets are smaller than 1.5 μm in diameter.
これらのようなエマルションが、微粒化バーナーに供給され得、その簡易な例が模式的に図2に示される。バーナーのアセンブリーは、3つの要素、すなわち微粒化ノズル、パイロットバーナーおよび補助バーナーから構成され得る。 Emulsions such as these can be supplied to the atomization burner, a simple example of which is schematically shown in FIG. The burner assembly may consist of three elements: an atomizing nozzle, a pilot burner and an auxiliary burner.
スプレーは、簡易なステンレス鋼微粒化10(Model No.AL/06, Delavan Ltd., Widnes, WA80Rj,英国)により供給され、それはシロキサン混合液体(すなわち、選択された油中水型エマルション)11の流れとともに、パルスなし計量ポンプ(示されていない)により供給され、そして微粒化ガス12、たとえば酸素、の流れとともに微粒化され得る。これは微細な小滴スプレー13を生じさせる。この使用条件下でそのようなノズルからのスプレーについての典型的な平均小滴は20〜100μmの範囲にある。このように、油中水型エマルションで操作されるとき、スプレー中の各小滴は水性相の数多くの微小滴を含み、そして最終的な純またはドープされたシリカスートの全成分を配合すると思われ、実質的に均一な組成のスート粒子を生じさせるのに酸素との反応を要求する。
The spray is supplied by simple stainless steel atomization 10 (Model No. AL / 06, Delavan Ltd., Widnes, WA80Rj, UK), which is a siloxane mixed liquid (ie, selected water-in-oil emulsion) 11 Along with the flow, it can be supplied by a pulseless metering pump (not shown) and atomized with a flow of
ノズル10は、ステンレス鋼パイロットバーナー14の下に配置され得、半径11mmの円上に現れる直径1mmのオリフィスのリング16を組み入れ、そしてバーナーの主軸方向に傾斜されている。水素15とともに供給され、このことはパイロット火炎16の列を備え、シロキサンスプレーの燃焼を安定化させる。空気流17がアトマイザースプレーにより引き起こされ、そしてアトマイザーノズルの表面をシリカの堆積がないように保つのを助ける。このバーナーの代替に、ノズル10とパイロットバーナー14は、密閉して結合され得、そして配置は17で示される環状ギャップにおいて、選択されたガスの制御された流れを供給するようになされ得る。
The
バーナーの合計稼働能力は補助バーナー18を用いて適宜調節され得、それは共軸バーナーの形状で溶融シリカで製造され、ポート19により酸素を、そしてポート20により水素を供給され得る。
The total operating capacity of the burner can be adjusted accordingly with the aid of an
このようなバーナーは、シロキサン中の水性エマルションを純およびドープされたシリカスートに転換するのに用いられ、ついで純およびドープされたシリカガラスに焼成され得る。液体とガスの流れ、および環状ギャップ17の大きさ、ならびにバーナーと基板(示されていない)を分離する距離を調節することにより、所与のスート密度について堆積効率を最適化することが可能である。いくつかの状況下で、堆積効率に限界があることが見出され、それを超える高い堆積効率はスート体の小節のある成長を招き、焼成に際して許容できない欠陥を含むガラスを生成する。この効果は、超微細酸化物粒子ではなく、過大で不十分に酸化された粒子の、スート体への配合のためであると考えられる。小節形成が生じるとき、操作時の火炎周囲の高速写真はこのような過大粒子に対応すると考えられる形跡を明らかにした。これらは、ガラスが焼成されるとき、ガラス中に含有物または微小気泡の領域を生じさせ得、このような欠陥は製品において許容され得ない。
Such burners can be used to convert aqueous emulsions in siloxanes into pure and doped silica soot and then calcined into pure and doped silica glass. By adjusting the liquid and gas flows and the size of the
比較例において、スートの小節成長を導く堆積条件を示すことが可能である。バーナーが、たとえば0.72L/時間の速度で上記混合シロキサンを供給され、酸素(0.70sm3/h(すなわち標準立方メーター/時間))内で微粒化され、0.73sm3/hでパイロットジェットへの水素流を、そして補助バーナーへの2.10sm3/hでの酸素流および1.75sm3/hでの水素流を伴う。バーナーは、その他は類似の条件下で上記エマルションの類似流で供給されるとき、小節のない、許容できるスート堆積が達成され得、得られる純シリカスート体は、1500℃の温度で1時間、真空下で加熱することにより、気泡および含有物のないガラスに焼成され得る。必要ならば、焼成の前に、(たとえば)塩素のない大気中で加熱することによって、脱水および精製プロセスに供され得る。水素またはヘリウム中での焼成も可能である。 In a comparative example, it is possible to show deposition conditions that lead to nodule growth. A burner is fed with the above mixed siloxane at a rate of, for example, 0.72 L / hour, atomized in oxygen (0.70 sm 3 / h (ie standard cubic meter / hour)) and piloted at 0.73 sm 3 / h With hydrogen flow to the jet and oxygen flow to the auxiliary burner at 2.10 sm 3 / h and hydrogen flow at 1.75 sm 3 / h. When the burner is fed with a similar stream of the emulsion under otherwise similar conditions, no-bar acceptable soot deposition can be achieved, and the resulting pure silica soot body is vacuumed at a temperature of 1500 ° C. for 1 hour. By heating under, it can be fired into glass free of bubbles and inclusions. If necessary, it can be subjected to a dehydration and purification process by heating (for example) in a chlorine-free atmosphere prior to calcination. Firing in hydrogen or helium is also possible.
適切な乳化剤の添加は、安定な油中水型エマルションの達成を助けるのに有益であり、そこでは水性小滴は小さな大きさであり、この大きさの分布は長時間にわたって維持され得る。しかし、ある状況において、添加された乳化剤のないエマルションで操作することが可能である。このようなエマルションは、比較的安定ではないようであるが、なお本発明方法において使用され得る。たとえば、超音波微粒化ホーンを組み込んだバーナーに、添加乳化剤なしのシロキサン、および水性相を別々に供給するとき、2つの成分は、ホーンの表面で超音波振動の影響下で溶け合わされる。水性微小滴のエマルションは、それによって、各シロキサン小滴内で形成され、その小滴は火炎に供給され、そして反応して適切な、純またはドープされたシリカスートを形成する。したがって、添加乳化剤の存在は、本質的な特徴ではない。 The addition of a suitable emulsifier is beneficial in helping to achieve a stable water-in-oil emulsion, where the aqueous droplets are small in size and this size distribution can be maintained over time. However, in some situations it is possible to operate with emulsions without added emulsifiers. Such an emulsion does not appear to be relatively stable, but can still be used in the process of the present invention. For example, when separately supplying a siloxane without added emulsifier and an aqueous phase to a burner incorporating an ultrasonic atomizing horn, the two components are melted together under the influence of ultrasonic vibrations at the surface of the horn. An aqueous microdrop emulsion is thereby formed within each siloxane droplet that is fed into a flame and reacts to form a suitable pure or doped silica soot. Thus, the presence of added emulsifier is not an essential feature.
シロキサン前躯体中のドーパント塩の水性溶液のエマルション、たとえば上記のエマルション2または3、を用いて、許容し得るスート堆積を達成すること、そしてこのようにして、原子レベルで、均質にドープされ、気泡および含有物のないガラスに焼成され得る、均一にドープされたスート体を達成すること、は可能である。
Achieving acceptable soot deposition using an emulsion of an aqueous solution of a dopant salt in a siloxane precursor, such as
上記の実験は、本発明方法の実行可能性を示し、さらに非水性(たとえば、シロキサン)前躯体中の、水エマルション、または1つもしくはそれより多い金属塩の水性溶液のエマルション、の燃焼;ならびに続くガラスへの焼成に適切な多孔質体として生成物を捕集すること;により、純およびドープされた合成シリカガラスを達成することが可能であることを示す。適切なバーナーにより、そして基板の温度を上昇させることにより、スート粒子を細孔のないドープされたシリカガラスに直接に焼成することが可能であろう。 The above experiments demonstrate the feasibility of the method of the present invention and further combustion of a water emulsion or an emulsion of an aqueous solution of one or more metal salts in a non-aqueous (eg, siloxane) precursor; By collecting the product as a porous material suitable for subsequent firing into glass, it is shown that pure and doped synthetic silica glass can be achieved. With a suitable burner and by raising the temperature of the substrate, it would be possible to fire the soot particles directly into the doped silica glass without pores.
これらの実験は、最も簡易なバーナーでなされ得るが、もっと洗練されたバーナーがエマルションスプレーを発生させ、これを合成火炎に供給するのに用いられ得ること、さらに微粒化の種々の方法が可能であること、が明らかである。たとえば、エマルションは、気力手段(たとえば、微粒化ガス流)または超音波手段(たとえば、超音波ホーンの使用)により、微粒化され得る。ある態様において、液体供給のその場での乳化を達成することが可能であり、たとえば2つの液体供給を取り扱うのに適合された、超音波ホーン(バーナー内に配置されてもよい)に、成分液体を供給することによる。代替のバーナーは、燃料として、水素、天然ガス、プロパン等を使用する、共軸バーナーを含み得、またはたとえば火炎にジェット流として供給される予備混合ガスを使用し得る。窒素またはアルゴンのような不活性ガスは、代替の微粒化ガスとして、またはバーナー要素の冷却を助けるために、あるいはバーナー等の表面の堆積形成を避けるために、反応ガスと分離するガスとして、使用され得、そしてさらにひつようであれば反応性ガス流における希釈ガスとしても使用され得る。酸素は最も都合のよい酸化性ガスであることが明らかであるが、他のガス(たとえば、空気、オゾン、窒素酸化物等)も原則として可能である。 These experiments can be done with the simplest burner, but a more sophisticated burner can be used to generate an emulsion spray and supply it to a synthetic flame, and various methods of atomization are possible. It is clear that there is. For example, the emulsion may be atomized by pneumatic means (eg, atomized gas stream) or ultrasonic means (eg, use of an ultrasonic horn). In certain embodiments, it is possible to achieve in-situ emulsification of the liquid supply, eg in an ultrasonic horn (which may be placed in a burner) adapted to handle two liquid supplies. By supplying liquid. Alternative burners may include coaxial burners that use hydrogen, natural gas, propane, etc. as the fuel, or may use a premixed gas supplied as a jet stream to the flame, for example. An inert gas such as nitrogen or argon is used as an alternative atomization gas or as a gas that separates from the reaction gas to help cool the burner element or to avoid surface build-up of burners etc. And, if necessary, can also be used as a diluent gas in a reactive gas stream. It is clear that oxygen is the most convenient oxidizing gas, but other gases (eg air, ozone, nitrogen oxides etc.) are possible in principle.
単一の非水性前躯体(たとえばシロキサン)、またはシリカ合成バーナーに供給されるエーロゾルスプレーのような前躯体混合物を用いるとき、純水、または非水性前躯体中のエマルションとして適切なイオン種の水性溶液エマルション、を添加することは、前躯体の燃焼効率を改良し得、さらに潜在的な捕集効率および得られる純シリカガラス製品の品質を改良し得る。さらに、純水を1つもしくはそれより多い金属化合物の水性溶液、またはそのような化合物の水コロイド懸濁液と置換することにより、均質にドープされたシリカスートを堆積でき、したがって気泡および含有物のない、均質にドープされたガラスを得ることができる。 When using a single non-aqueous precursor (eg siloxane) or a precursor mixture such as an aerosol spray supplied to a silica synthesis burner, pure water or an aqueous of an ionic species suitable as an emulsion in the non-aqueous precursor Adding a solution emulsion can improve the combustion efficiency of the precursor, and can further improve the potential collection efficiency and quality of the resulting pure silica glass product. Furthermore, by replacing pure water with an aqueous solution of one or more metal compounds, or a water colloidal suspension of such compounds, it is possible to deposit homogeneously doped silica soot, thus eliminating bubbles and inclusions. No homogeneously doped glass can be obtained.
Claims (27)
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1003468.4 | 2010-03-02 | ||
GB1003468A GB2478307A (en) | 2010-03-02 | 2010-03-02 | Manufacture of silica glass |
PCT/EP2011/052923 WO2011107430A1 (en) | 2010-03-02 | 2011-02-28 | Manufacture of synthetic silica glass |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013521208A JP2013521208A (en) | 2013-06-10 |
JP5778702B2 true JP5778702B2 (en) | 2015-09-16 |
Family
ID=42125854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012555382A Expired - Fee Related JP5778702B2 (en) | 2010-03-02 | 2011-02-28 | Manufacture of synthetic silica glass |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8959957B2 (en) |
JP (1) | JP5778702B2 (en) |
CN (1) | CN102781857B (en) |
DE (1) | DE112011100741T5 (en) |
GB (2) | GB2478307A (en) |
WO (1) | WO2011107430A1 (en) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB201011582D0 (en) | 2010-07-09 | 2010-08-25 | Heraeus Quartz Uk Ltd | High purity synthetic silica and items such as semiconductor jigs manufactured therefrom |
GB201106015D0 (en) | 2011-04-08 | 2011-05-25 | Heraeus Quartz Uk Ltd | Production of silica soot bodies |
DE102011121190A1 (en) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | OMCTS evaporation method |
GB2514118B (en) | 2013-05-13 | 2015-11-11 | Heraeus Quartz Uk Ltd | Froth floatation separation and analysis |
TWI510297B (en) * | 2013-11-14 | 2015-12-01 | Prec Machinery Res & Dev Ct | Ultrasonic spray module and its horn |
GB201409692D0 (en) * | 2014-05-31 | 2014-07-16 | Element Six Gmbh | Thermal spray assembly and method for using it |
US10494291B2 (en) * | 2014-10-23 | 2019-12-03 | Corning Incorporated | Hygroscopic additives for silica soot compacts and methods for forming optical quality glass |
DE102014222919A1 (en) * | 2014-11-11 | 2016-05-12 | Siemens Aktiengesellschaft | Combustion of electropositive metal in a liquid |
WO2016138052A1 (en) | 2015-02-27 | 2016-09-01 | Corning Incorporated | Methods for strengthening silica soot compacts with nanoparticles |
DE102016105519A1 (en) * | 2015-03-24 | 2016-09-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Sintering device and sintering method |
EP3112319A1 (en) * | 2015-06-29 | 2017-01-04 | Evonik Degussa GmbH | Method for the preparation of metal oxide powders using flame spray pyrolysis |
RU2634321C1 (en) * | 2016-08-04 | 2017-10-25 | Акционерное общество "Научно-исследовательский и технологический институт оптического материаловедения Всероссийского научного центра "Государственный оптический институт им. С.И. Вавилова" (АО "НИТИОМ ВНЦ "ГОИ им. С.И. Вавилова") | Method of producing optical quartz glass |
JP7554424B2 (en) | 2020-03-17 | 2024-09-20 | 株式会社オハラ | Europium compound crystals and method for producing the same |
JP7515137B2 (en) | 2020-03-17 | 2024-07-12 | 株式会社オハラ | Composite of silicate-based substrate and rare earth compound, luminescent nanoparticles, cell detection method, animal treatment method, medical device, and method for producing composite of silicate-based substrate and rare earth compound |
Family Cites Families (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US39535A (en) | 1863-08-11 | Improvement in coal-stoves | ||
US2272342A (en) | 1934-08-27 | 1942-02-10 | Corning Glass Works | Method of making a transparent article of silica |
US3883336A (en) * | 1974-01-11 | 1975-05-13 | Corning Glass Works | Method of producing glass in a flame |
JPS54142317A (en) | 1978-04-24 | 1979-11-06 | Hitachi Ltd | Production of optical fibers |
JPS5595638A (en) | 1979-01-10 | 1980-07-21 | Hitachi Ltd | Production of glass soot block |
JPS5614438A (en) | 1979-07-18 | 1981-02-12 | Hitachi Ltd | Manufacture of optical fiber base material |
US4440558A (en) * | 1982-06-14 | 1984-04-03 | International Telephone And Telegraph Corporation | Fabrication of optical preforms by axial chemical vapor deposition |
JPS6096591A (en) | 1983-10-28 | 1985-05-30 | 株式会社金門製作所 | Method of coating ceramic super fine powder on inorganic material |
GB8905966D0 (en) | 1989-03-15 | 1989-04-26 | Tsl Group Plc | Improved vitreous silica products |
US5110335A (en) | 1990-06-25 | 1992-05-05 | At&T Bell Laboratories | Method of glass soot deposition using ultrasonic nozzle |
US5043002A (en) | 1990-08-16 | 1991-08-27 | Corning Incorporated | Method of making fused silica by decomposing siloxanes |
DE4204406C2 (en) | 1992-02-14 | 1995-04-06 | Heraeus Quarzglas | Process for producing a homogeneous, streak-free body from quartz glass or from a high-silica glass by reshaping a rod-shaped starting body |
GB9210327D0 (en) | 1992-05-14 | 1992-07-01 | Tsl Group Plc | Heat treatment facility for synthetic vitreous silica bodies |
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FI115134B (en) | 2002-06-28 | 2005-03-15 | Liekki Oy | A method for producing doped glass material |
FI116619B (en) | 2004-07-02 | 2006-01-13 | Liekki Oy | Method and apparatus for producing optical material and optical waveguide |
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WO2006104178A1 (en) | 2005-03-29 | 2006-10-05 | Asahi Glass Company, Limited | Quartz-type glass and process for its production |
GB0605461D0 (en) | 2006-03-17 | 2006-04-26 | Saint Gobain Quartz Plc | Manufacture of large articles in synthetic vitreous silica |
KR100758019B1 (en) * | 2006-06-29 | 2007-09-11 | 한국산업기술대학교산학협력단 | Preparation of micrsized spherical silica by variation of surfactants and their composition from microemulsion process |
US7677058B2 (en) * | 2007-05-07 | 2010-03-16 | Corning Incorporated | Process and apparatus for making glass sheet |
US20090233105A1 (en) * | 2008-03-13 | 2009-09-17 | Remington Jr Michael P | Composite coatings comprising hollow and/or shell like metal oxide particles deposited via combustion deposition |
KR101027071B1 (en) | 2008-08-28 | 2011-04-11 | 한국과학기술원 | The preparation method of surface-coated particles by emulsion flame spray pyrolysis |
-
2010
- 2010-03-02 GB GB1003468A patent/GB2478307A/en not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-02-28 DE DE112011100741T patent/DE112011100741T5/en not_active Withdrawn
- 2011-02-28 CN CN201180011883.0A patent/CN102781857B/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-02-28 US US13/581,974 patent/US8959957B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-02-28 WO PCT/EP2011/052923 patent/WO2011107430A1/en active Application Filing
- 2011-02-28 JP JP2012555382A patent/JP5778702B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-02-28 GB GB1217297.9A patent/GB2493649B/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB201003468D0 (en) | 2010-04-14 |
GB2493649A (en) | 2013-02-13 |
GB201217297D0 (en) | 2012-11-14 |
CN102781857A (en) | 2012-11-14 |
WO2011107430A1 (en) | 2011-09-09 |
DE112011100741T5 (en) | 2013-03-14 |
CN102781857B (en) | 2016-09-07 |
GB2493649B (en) | 2017-06-07 |
US8959957B2 (en) | 2015-02-24 |
US20130045854A1 (en) | 2013-02-21 |
GB2478307A (en) | 2011-09-07 |
JP2013521208A (en) | 2013-06-10 |
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MXPA01004298A (en) | Methods of manufacturing soot for optical fiber preforms and preforms made bythe methods |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140224 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150507 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150609 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150709 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5778702 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |