JP5778411B2 - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、液晶層を挟持して対向配置された一対の基板がシール材を介して貼着された液晶セルを備えた液晶表示装置とその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal display device including a liquid crystal cell in which a pair of substrates disposed opposite to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween is bonded via a sealing material, and a method for manufacturing the same.

液晶表示装置(LCD)として、画素スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、TFT)を用いたアクティブマトリックス型の液晶表示装置が広く用いられている。
TFT-LCDは、マトリックス状に形成された複数の画素電極と複数のTFT等が形成されたTFT基板(素子基板)と、カラーフィルタ(色材層、CF)、遮光層(BM)、及び共通電極等が形成されたCF基板とが、液晶層を挟持して対向配置された液晶セルを基本構成としている。通常、TFT-LCDでは、CF基板が視認側に配置される。
As a liquid crystal display device (LCD), an active matrix liquid crystal display device using a thin film transistor (TFT) as a pixel switching element is widely used.
A TFT-LCD is a TFT substrate (element substrate) on which a plurality of pixel electrodes and a plurality of TFTs formed in a matrix are formed, a color filter (color material layer, CF), a light shielding layer (BM), and a common The basic configuration is a liquid crystal cell in which a CF substrate on which an electrode or the like is formed is disposed to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. Usually, in the TFT-LCD, the CF substrate is arranged on the viewing side.

近年、1つのLCDにおいて視覚方向の異なる方向に同時に異なる画像を表示することが可能なLCDの開発が進んでいる。
上記LCDとしては、左方と右方に異なる画像を表示する左右2画面LCD、左方と右方に表示する画像をわずかにずらして3次元表示を行う3D-LCDなどがある。
視覚方向の異なる方向に同時に異なる画像を表示する方式としては、レンチキュラレンズを用いる方式、及び視差バリア層を用いる方式などが提案されている。
In recent years, development of an LCD capable of simultaneously displaying different images in different directions of visual direction on one LCD has been progressing.
Examples of the LCD include a left and right two-screen LCD that displays different images on the left and right, and a 3D-LCD that performs three-dimensional display by slightly shifting the images displayed on the left and right.
As a method for displaying different images simultaneously in different visual directions, a method using a lenticular lens, a method using a parallax barrier layer, and the like have been proposed.

視差バリア方式のLCDは、特許文献1〜3等に開示されている。
左方と右方に異なる表示を行うことが可能な2画面LCDあるいは3D-LCDを例として、視差バリア方式について説明する。
A parallax barrier LCD is disclosed in Patent Documents 1 to 3 and the like.
The parallax barrier method will be described by taking a two-screen LCD or a 3D-LCD capable of different displays on the left and right as an example.

左方と右方に異なる表示を行う視差バリア方式では、マトリックス状に配置された複数の画素は、左視野用のデータを表示する画素と、右視野用のデータを表示する画素とに振り分けられる。また、CF基板に形成された隣接する画素間を遮光する遮光層(CF-BM)から所定間隔離間し、かつ、CF-BMの遮光部とは平面視位置が異なる遮光部を有する視差バリア層が設けられる。   In the parallax barrier method that performs different display on the left side and the right side, a plurality of pixels arranged in a matrix are divided into a pixel that displays data for left visual field and a pixel that displays data for right visual field. . Also, a parallax barrier layer having a light-shielding portion that is spaced apart from a light-shielding layer (CF-BM) that shields adjacent pixels formed on the CF substrate and has a different planar view position from the light-shielding portion of the CF-BM. Is provided.

CF-BMの開口部を透過した光のうち正面方向に進む光は視差バリア層によって遮光され、斜め方向(左方向及び右方向)に進む光のみが視差バリア層を透過して、視認される。
左視野用のデータを表示する画素からの表示は左方にのみ出射され、右視野用のデータを表示する画素からの表示は右方にのみ出射されるよう、画素電極とCF-BMと視差バリア層のパターンやこれらの離間距離が設計される。
Of the light transmitted through the opening of the CF-BM, the light traveling in the front direction is blocked by the parallax barrier layer, and only the light traveling in the oblique direction (left direction and right direction) is transmitted through the parallax barrier layer and visually recognized. .
The pixel electrode, the CF-BM, and the parallax so that the display from the pixel displaying the data for the left visual field is emitted only to the left and the display from the pixel displaying the data for the right visual field is emitted only to the right. The pattern of the barrier layer and the distance between them are designed.

特開2007-072476号公報JP 2007-072476 特開2008-089630号公報JP 2008-089630 国際公開第2007/007552号International Publication No. 2007/007552 特開2002-229008号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-229008

視差バリア方式のLCDでは、視差を確保するために、CF-BMと視差バリア層とはある程度離間している必要がある。
そのため、視差バリア方式のLCDでは通常、隣接する画素間を遮光するCF-BMはCF基板の内面(液晶層側の面)に形成され、視差バリア層はCF基板の外面(液晶層側と反対側の面)に形成される。
In a parallax barrier LCD, the CF-BM and the parallax barrier layer need to be separated to some extent in order to ensure parallax.
Therefore, in a parallax barrier type LCD, the CF-BM that shields light between adjacent pixels is usually formed on the inner surface (surface on the liquid crystal layer side) of the CF substrate, and the parallax barrier layer is opposite to the outer surface (the liquid crystal layer side) of the CF substrate. Side surface).

CF基板の内面に形成されるCF-BMについては、これが液晶を封止するシール材の形成領域に存在すると、液晶注入法の一つであるODF(One Drop Filling)法においてシール材の光硬化処理の際の光(通常UV光)照射の妨げとなる。そのため、TFT基板側からシール材硬化のための光照射を行う必要がある。多数の配線等が形成されたTFT基板側からの光照射では、TFT基板に形成された配線等によって、シール材への光照射が妨げられる恐れがある。
また、CF-BMとして樹脂材料を用いる場合、これが液晶を封止するシール材の形成領域に存在すると、シール材の密着力低下、及びこれによる水分の液晶セル内侵入あるいは液晶漏れなどの信頼性低下の原因となる恐れがある。
When CF-BM formed on the inner surface of the CF substrate is present in the formation region of the sealing material that seals the liquid crystal, the photocuring of the sealing material is performed in an ODF (One Drop Filling) method, which is one of liquid crystal injection methods. This hinders light (usually UV light) irradiation during processing. Therefore, it is necessary to perform light irradiation for curing the sealing material from the TFT substrate side. In the light irradiation from the TFT substrate side on which a large number of wirings are formed, there is a possibility that the light irradiation to the sealing material may be hindered by the wirings formed on the TFT substrate.
Further, when a resin material is used as CF-BM, if it is present in the formation region of the sealing material that seals the liquid crystal, the adhesive strength of the sealing material is reduced, and reliability such as intrusion of moisture into the liquid crystal cell or liquid crystal leakage due to this May cause a drop.

以上の理由から、CF-BMは、シール材の形成領域が部分的に除去されることが好ましい。しかしながら、単にCF-BMのシール材の形成領域を除くだけでは、周辺額縁領域からの光漏れの問題が発生してしまう。   For the above reasons, it is preferable that the formation region of the sealing material is partially removed from the CF-BM. However, simply removing the CF-BM sealing material formation region causes a problem of light leakage from the peripheral frame region.

上記ODF法の問題を避けて、別の液晶注入法である真空注入法を用いた場合、基板貼合わせ後に液晶注入が実施される。LCDは低コスト製造のため、通常、大判のマザー基板を用いて多数の液晶セルを一括製造する。そのため、内面に電極等の必要な要素が形成された一対のマザー基板を貼り合わせ、マザーCF基板を研磨あるいはエッチングにより薄板化し、その外面に視差バリア層を形成し、個々の液晶セルに分割切断し、液晶注入を実施している。視差バリア層の形成は、遮光膜の成膜とパターニングが必要であり、これらの工程は個々の液晶セルに分割切断された後では実施が困難であり、効率も悪いことから、大判のマザー基板の状態で実施する必要がある。そのため、視差バリア方式のLCDでは、少なくともマザー基板の分割前、即ち、マザー基板の分割後に行われる液晶注入前にマザーCF基板の薄板化と視差バリア層の形成を実施しなければならない。   When the vacuum injection method which is another liquid crystal injection method is used while avoiding the problem of the ODF method, the liquid crystal injection is performed after the substrates are bonded. Since the LCD is manufactured at low cost, a large number of liquid crystal cells are usually manufactured at once using a large mother substrate. Therefore, a pair of mother substrates with electrodes and other necessary elements formed on the inner surface are bonded together, the mother CF substrate is thinned by polishing or etching, a parallax barrier layer is formed on the outer surface, and divided into individual liquid crystal cells. Liquid crystal injection is performed. The formation of the parallax barrier layer requires the formation and patterning of a light-shielding film, and these processes are difficult to implement after being divided and cut into individual liquid crystal cells, and the efficiency is poor. It is necessary to carry out in the state of. Therefore, in the parallax barrier LCD, the mother CF substrate must be thinned and the parallax barrier layer must be formed at least before the mother substrate is divided, that is, before the liquid crystal is injected after the mother substrate is divided.

上記方法では、液晶注入時のCF基板が薄いため、CF基板(通常ガラス基板)の割れ防止として、液晶注入時にCF基板に保護ガラス等の保護材を取り付けている。この保護材は液晶注入後に取外しが必要である。そのため、製品には直接使われない保護材の部材コストが余分にかかり、保護材の取付け・取外しによる工程数が増加して、製造コストが高くついてしまう。
視差バリア方式のLCD(2画面LCDあるいは3D-LCD)では、CF基板に視差バリア層を形成する分、一般的な1画面2D-LCDに比べて製造工程が多く、製造コストが高いため、それ以上の製造コスト増は好ましくない。
ODF法では、液晶注入後にマザーCF基板の薄板化と視差バリア層の形成が可能なため、液晶注入時の保護材は必要なく、低コストである。
In the above method, since the CF substrate at the time of liquid crystal injection is thin, a protective material such as protective glass is attached to the CF substrate at the time of liquid crystal injection to prevent cracking of the CF substrate (usually a glass substrate). This protective material needs to be removed after liquid crystal injection. For this reason, the cost of the protective material that is not directly used in the product is excessive, and the number of processes due to the attachment / detachment of the protective material increases, resulting in high manufacturing costs.
Since a parallax barrier LCD (two-screen LCD or 3D-LCD) has a larger number of manufacturing steps and higher manufacturing costs compared to a general single-screen 2D-LCD, the parallax barrier layer is formed on the CF substrate. The above manufacturing cost increase is not preferable.
In the ODF method, since the mother CF substrate can be thinned and a parallax barrier layer can be formed after liquid crystal injection, a protective material for liquid crystal injection is not necessary and the cost is low.

視認側の基板がTFT基板である場合もある。この場合にも、通常TFT基板の外面に視差バリア層が設けられる。この場合も事情は上記と同様である。   The viewing side substrate may be a TFT substrate. Also in this case, a parallax barrier layer is usually provided on the outer surface of the TFT substrate. In this case, the situation is the same as above.

特許文献3には、視差バリア層のシール材の形成領域における剥離を抑制するために、シール材の形成領域に視差バリア層を形成しないようにした表示装置が開示されている(請求項1、図1等)。しかしながら、特許文献3には、CF-BMのシール材の形成領域における課題及び解決については記載がない。   Patent Document 3 discloses a display device in which a parallax barrier layer is not formed in a sealing material formation region in order to suppress separation of the parallax barrier layer in a sealing material formation region. FIG. 1 etc.). However, Patent Document 3 does not describe problems and solutions in the formation region of the CF-BM sealing material.

特許文献4には、CF-BMのシール材の形成領域に開口部を設け、その対応する位置に外部遮光膜を設けた構造が記載されている(図9等)。しかしながら、特許文献4では、視差バリア方式のLCDへの適用については記載がなく、一般のLCDにおいて外部遮光膜を設けることはコスト増になると記載されている(段落0008−0009)。   Patent Document 4 describes a structure in which an opening is provided in a CF-BM sealing material formation region and an external light shielding film is provided at the corresponding position (FIG. 9 and the like). However, Patent Document 4 does not describe application to a parallax barrier type LCD, and describes that providing an external light shielding film in a general LCD increases costs (paragraphs 0008-0009).

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、周辺額縁領域からの光漏れが抑制され、シール材の密着性が良好で信頼性が良好であり、低コスト製造が可能な視差バリア方式の液晶表示装置を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a parallax barrier system that suppresses light leakage from the peripheral frame region, has good adhesion of the sealing material, has good reliability, and can be manufactured at low cost. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device.

本発明の第1の液晶表示装置は、
液晶層を挟持して対向配置された一対の基板がシール材を介して貼着された液晶セルを備え、
前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側の内面に、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層が形成され、前記一対の基板のうち視認側の基板の外面に、前記画素間遮光層と異なる遮光パターンを有する視差バリア層が形成された液晶表示装置であって、
前記画素間遮光層は前記シール材の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、
前記視差バリア層が、前記シール材の形成領域において前記画素間遮光層が形成されていない領域を覆う外部遮光層を兼ねたものである。
The first liquid crystal display device of the present invention comprises:
A pair of substrates disposed opposite to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween includes a liquid crystal cell attached via a sealing material,
An inter-pixel light-shielding layer that shields between adjacent pixels is formed on the inner surface of one of the pair of substrates on the liquid crystal layer side, and the inter-pixel is disposed on the outer surface of the viewing-side substrate of the pair of substrates. A liquid crystal display device in which a parallax barrier layer having a light shielding pattern different from the light shielding layer is formed,
The inter-pixel light shielding layer is not formed in at least a part of the formation region of the sealing material,
The parallax barrier layer also serves as an external light-shielding layer that covers a region where the inter-pixel light-shielding layer is not formed in the sealing material formation region.

本発明の第1の液晶表示装置の好ましい態様としては、
前記一対の基板のうち一方がマトリックス状に形成された複数の画素電極と複数の画素スイッチング素子とを備えた素子基板であり、他方が前記画素間遮光層を備えた対向基板である態様が挙げられる。
As a preferable aspect of the first liquid crystal display device of the present invention,
An aspect in which one of the pair of substrates is an element substrate including a plurality of pixel electrodes formed in a matrix and a plurality of pixel switching elements, and the other is a counter substrate including the inter-pixel light shielding layer. It is done.

本発明の第1の液晶表示装置の他の好ましい態様としては、
前記一対の基板のうち一方が、マトリックス状に形成された複数の画素電極と複数の画素スイッチング素子と前記画素間遮光層とを備えた素子基板である態様が挙げられる。
As another preferable aspect of the first liquid crystal display device of the present invention,
An embodiment in which one of the pair of substrates is an element substrate including a plurality of pixel electrodes formed in a matrix, a plurality of pixel switching elements, and the inter-pixel light-shielding layer.

本発明の第1の液晶表示装置の他の好ましい態様としては、
前記一対の基板のうち一方が、マトリックス状に形成された複数の画素電極と複数の画素スイッチング素子とを備えた素子基板であり、
前記素子基板に前記画素間遮光層の一部が形成され、前記視差バリア層が前記画素間遮光層の一部を兼ねた態様が挙げられる。
As another preferable aspect of the first liquid crystal display device of the present invention,
One of the pair of substrates is an element substrate including a plurality of pixel electrodes and a plurality of pixel switching elements formed in a matrix,
A mode in which a part of the inter-pixel light-shielding layer is formed on the element substrate and the parallax barrier layer also serves as a part of the inter-pixel light-shielding layer is exemplified.

上記態様としては、
前記画素スイッチング素子が薄膜トランジスタであり、
前記素子基板に形成された前記画素間遮光層の一部がソース配線側の画素間を遮光し、
前記外部遮光層が兼ねた前記画素間遮光層の一部がゲート配線側の画素間を遮光する態様が挙げられる。
As said aspect,
The pixel switching element is a thin film transistor;
A part of the inter-pixel light-shielding layer formed on the element substrate shields light between pixels on the source wiring side,
A mode in which a part of the inter-pixel light-shielding layer also serving as the external light-shielding layer shields light between the pixels on the gate wiring side can be mentioned.

上記態様としては、
前記素子基板に形成された前記画素間遮光層の一部が、ゲート配線と略平行に配置されたコモン配線を分岐して、ソース配線下及び画素電極に一部掛かる領域まで延設したコモン配線枝部である態様が挙げられる。
As said aspect,
Common wiring in which a part of the inter-pixel light-shielding layer formed on the element substrate branches from the common wiring arranged substantially in parallel with the gate wiring and extends to a region under the source wiring and partially covering the pixel electrode The aspect which is a branch part is mentioned.

本発明の第2の液晶表示装置は、
液晶層を挟持して対向配置された一対の基板がシール材を介して貼着された液晶セルを備え、
前記一対の基板のうち一方の基板の前記液晶層側の内面に、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層が形成され、前記一対の基板のうち一方の基板の内面に、前記画素間遮光層と異なる遮光パターンを有する視差バリア層が形成された液晶表示装置であって、
前記画素間遮光層及び前記視差バリア層は前記シール材の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、
前記液晶セルの視認側の外面に、前記シール材の形成領域において前記画素間遮光層及び前記視差バリア層がいずれも形成されていない領域を覆う外部遮光層が形成されたものである。
The second liquid crystal display device of the present invention comprises:
A pair of substrates disposed opposite to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween includes a liquid crystal cell attached via a sealing material,
An inter-pixel light-shielding layer that shields between adjacent pixels is formed on the inner surface of one of the pair of substrates on the liquid crystal layer side, and the inter-pixel light-shielding is formed on the inner surface of one of the pair of substrates. A liquid crystal display device in which a parallax barrier layer having a light shielding pattern different from the layer is formed,
The inter-pixel light-shielding layer and the parallax barrier layer are not formed in at least a part of the formation region of the sealing material,
An external light shielding layer is formed on an outer surface on the viewing side of the liquid crystal cell to cover a region where neither the inter-pixel light shielding layer nor the parallax barrier layer is formed in the sealing material formation region.

本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記の本発明の液晶表示装置の製造方法であって、
前記外部遮光層を形成する前の前記一対の基板に対して、ODF(One Drop Filling)法による液晶注入と基板貼合わせとを実施する工程後に、前記外部遮光層を形成する工程を有するものである。
ここで言う「基板貼合わせ」には、1個の液晶セルが形成される一対の基板だけでなく、複数の液晶セルが一括形成される一対のマザー基板の貼合わせも含まれるものとする。
A manufacturing method of a liquid crystal display device of the present invention is a manufacturing method of the above-described liquid crystal display device of the present invention,
The method includes a step of forming the external light-shielding layer after a step of performing liquid crystal injection by ODF (One Drop Filling) method and substrate bonding to the pair of substrates before forming the external light-shielding layer. is there.
Here, “substrate bonding” includes not only a pair of substrates on which one liquid crystal cell is formed but also a bonding of a pair of mother substrates on which a plurality of liquid crystal cells are formed in a lump.

本発明によれば、周辺額縁領域からの光漏れが抑制され、シール材の密着性が良好で信頼性が良好であり、低コスト製造が可能な視差バリア方式の液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a parallax barrier liquid crystal display device in which light leakage from the peripheral frame region is suppressed, the sealing material has good adhesion and reliability, and can be manufactured at low cost. it can.

第1実施形態のLCDの要部分解斜視図である。It is a principal part disassembled perspective view of LCD of 1st Embodiment. 第1実施形態のLCDの全体平面図(透視図)である。It is a whole top view (perspective view) of LCD of 1st Embodiment. 第1実施形態のLCDの表示領域の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the display area of LCD of 1st Embodiment. 第1実施形態のLCDのシール材及びその近傍の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the sealing material of LCD of 1st Embodiment, and its vicinity. 第1実施形態のLCDの製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of LCD of 1st Embodiment. 第1実施形態のLCDの製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of LCD of 1st Embodiment. 第2実施形態のLCDのシール材及びその近傍の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the sealing material of LCD of 2nd Embodiment, and its vicinity. 第2実施形態のLCDの表示領域の要部平面図(透視図)である。It is a principal part top view (perspective view) of the display area of LCD of 2nd Embodiment. 図6Aの変更例である。It is the example of a change of FIG. 6A. 第3実施形態のLCDのシール材及びその近傍の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the sealing material of LCD of 3rd Embodiment, and its vicinity.

「第1実施形態」
図面を参照して、本発明に係る第1実施形態の視差バリア方式の液晶表示装置(LCD)について説明する。
本実施形態は、左方と右方に異なる画像を表示する左右2画面LCD、左方と右方に表示する画像をわずかにずらして3次元表示を行う3D-LCDとして利用できるものである。
本実施形態では、縦電界駆動方式の透過型TFT-LCDを例として、説明する。
“First Embodiment”
A parallax barrier liquid crystal display (LCD) according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
The present embodiment can be used as a left and right two-screen LCD that displays different images on the left and right, and a 3D-LCD that performs three-dimensional display by slightly shifting the images displayed on the left and right.
In the present embodiment, a transmissive TFT-LCD of a vertical electric field drive method will be described as an example.

図1は本実施形態のLCDの要部分解斜視図である。図2は本実施形態のLCDの全体平面図(透視図)である。図3は本実施形態のLCDの表示領域の要部断面図である。図4は本実施形態のLCDのシール材及びその近傍の要部断面図(図2のIV-IV断面図)である。
視認しやすくするため、各構成要素の縮尺や位置等は適宜実際のものとは異ならせてあり、一部の構成要素の図示を省略してある。断面図においては適宜ハッチングを省略してある。
FIG. 1 is an exploded perspective view of a main part of the LCD of this embodiment. FIG. 2 is an overall plan view (perspective view) of the LCD of this embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view of the main part of the display area of the LCD of this embodiment. FIG. 4 is a cross-sectional view (IV-IV cross-sectional view of FIG. 2) of the main part of the sealing material of the LCD of this embodiment and the vicinity thereof.
In order to facilitate visual recognition, the scale and position of each component are appropriately different from the actual ones, and some components are not shown. In the cross-sectional view, hatching is omitted as appropriate.

図1に示すように、本実施形態のLCD1は、光源及び導光板等からなるバックライト(BL)101を備えた透過型LCDである。図3に示すように、液晶セル1Aは、マトリックス状に配置された複数の画素PL、PRを有している。   As shown in FIG. 1, the LCD 1 of this embodiment is a transmissive LCD including a backlight (BL) 101 including a light source and a light guide plate. As shown in FIG. 3, the liquid crystal cell 1A has a plurality of pixels PL and PR arranged in a matrix.

図1及び図3に示すように、液晶セル1Aは、BL101側のTFT基板(素子基板)104と、視認側のCF基板(対向基板)106と、これら一対の基板間に挟持された液晶層105とを備えている。図2に示すように、TFT基板104とCF基板106とは、これら基板間の周縁部に塗布されたシール材109を介して貼着されており、シール材109の内側に液晶層105が封入されている。   As shown in FIGS. 1 and 3, the liquid crystal cell 1A includes a TFT substrate (element substrate) 104 on the BL 101 side, a CF substrate (opposite substrate) 106 on the viewing side, and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates. 105. As shown in FIG. 2, the TFT substrate 104 and the CF substrate 106 are attached via a sealing material 109 applied to the peripheral portion between these substrates, and the liquid crystal layer 105 is enclosed inside the sealing material 109. Has been.

TFT基板104は、ガラス基板等の透光性基板の内面(液晶層側の面)に画素毎に画素電極114(図1〜図4では省略)及び画素スイッチング素子としてのTFT115(Thin Film Transistor、図1〜図4では省略)が形成され、さらに画素毎に駆動するために複数のゲート配線(走査信号配線)111(図1〜図4では省略)と複数のソース配線(表示信号配線)112とからなる複数の信号配線及び複数の信号配線に接続された複数の引出配線(図示略)等が形成され、液晶層105側の最表面に配向膜(図示略)が形成された基板である。
ソース配線112については、図3及び図6Bを参照されたい。画素電極114、TFT115、及びゲート配線111については、図6Bを参照されたい。
The TFT substrate 104 has a pixel electrode 114 (not shown in FIGS. 1 to 4) for each pixel on the inner surface (surface on the liquid crystal layer side) of a light-transmitting substrate such as a glass substrate, and a TFT 115 (Thin Film Transistor, 1 to 4 are formed, and a plurality of gate lines (scanning signal lines) 111 (not shown in FIGS. 1 to 4) and a plurality of source lines (display signal lines) 112 for driving each pixel. And a plurality of lead wires (not shown) connected to the plurality of signal wires, and an alignment film (not shown) is formed on the outermost surface on the liquid crystal layer 105 side. .
See FIG. 3 and FIG. 6B for the source wiring 112. For the pixel electrode 114, the TFT 115, and the gate wiring 111, refer to FIG. 6B.

図3に示すように、CF基板106は、ガラス基板等の透光性基板の内面(液晶層側の面)に、共通電極(図示略)と、赤(R)/緑(G)/青(B)のカラーフィルタ(色材層、CF、図示略)と、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層(CF-BM)107とが形成され、液晶層105側の最表面に配向膜(図示略)が形成された基板である。
CF基板106において、CF-BM107の互いに隣接した遮光部107Aの間が画素開口部107Bとなっている。
CF基板106の外面(液晶層105と反対側の面、視認側の面)には、CF-BM107と異なる遮光パターンを有する視差バリア層108が設けられている。視差バリア層108は、遮光部108Aと開口部108Bとを有している。
As shown in FIG. 3, the CF substrate 106 has a common electrode (not shown) and red (R) / green (G) / blue on the inner surface (surface on the liquid crystal layer side) of a translucent substrate such as a glass substrate. A color filter (color material layer, CF, not shown) in (B) and an inter-pixel light-shielding layer (CF-BM) 107 that shields light between adjacent pixels are formed, and an alignment film is formed on the outermost surface on the liquid crystal layer 105 side. This is a substrate on which (not shown) is formed.
In the CF substrate 106, a pixel opening 107 </ b> B is formed between adjacent light shielding portions 107 </ b> A of the CF-BM 107.
A parallax barrier layer 108 having a light shielding pattern different from that of the CF-BM 107 is provided on the outer surface of the CF substrate 106 (the surface opposite to the liquid crystal layer 105 and the surface on the viewing side). The parallax barrier layer 108 includes a light shielding part 108A and an opening part 108B.

図3に示すように、液晶セル1Aにおいて、マトリックス状に配置された複数の画素は、表示画面に対して左視野用のデータを表示する画素PLと、表示画面に対して右視野用のデータを表示する画素PRとに振り分けられている。
本実施形態において、断面視、左視野用の画素PLと右視野用の画素PRとが交互に配置されている。
左視野用の画素PLと右視野用の画素PRとの平面パターンは特に制限されない。例えば、平面視、ライン状に一列に配置された複数の左視野用の画素PLからなるライン状の左視野用画素群と、ライン状に一列に配置された複数の右視野用の画素PRからなるライン状の右視野用画素群とが、ストライプ状に交互に配置される。
As shown in FIG. 3, in the liquid crystal cell 1 </ b> A, a plurality of pixels arranged in a matrix form a pixel PL that displays data for the left visual field on the display screen, and data for the right visual field on the display screen. Are assigned to the pixels PR for displaying the image.
In the present embodiment, the cross-sectional view, the left-view pixel PL and the right-view pixel PR are alternately arranged.
The plane pattern of the left-view pixel PL and the right-view pixel PR is not particularly limited. For example, in a plan view, a line-shaped left-view pixel group consisting of a plurality of left-view pixel pixels PL arranged in a line in a line and a plurality of right-view pixels PR arranged in a line in a line The line-shaped right-view pixel groups are alternately arranged in stripes.

視差バリア層108は、LCD1をなす個々の画素PL、PRからの表示データがそれぞれ特定の角度範囲の視野領域に選択的に出射されるよう調整し、異なる角度範囲の複数の視野領域に異なる表示画像を表示するよう調整するものである。
LCD1において、CF-BM107に形成された画素開口部107Bと、視差バリア層108の開口部108Bとは、開口位置がずれている。具体的には、互いに隣接した左視野用の画素PLの画素開口部107Bと右視野用の画素PRの画素開口部107Bとの間に、視差バリア層108の開口部108Bが位置している。
The parallax barrier layer 108 is adjusted so that display data from the individual pixels PL and PR constituting the LCD 1 is selectively emitted to a visual field region of a specific angular range, and different displays are performed in a plurality of visual field regions of different angular ranges. It is adjusted to display an image.
In the LCD 1, the opening positions of the pixel opening 107 </ b> B formed in the CF-BM 107 and the opening 108 </ b> B of the parallax barrier layer 108 are shifted. Specifically, the opening 108B of the parallax barrier layer 108 is located between the pixel opening 107B of the left-view pixel PL and the pixel opening 107B of the right-view pixel PR that are adjacent to each other.

LCD1では、左視野用の画素PLからの表示データは、左視野用の画素PLの画素開口部107B及び視差バリア層108の開口部108Bを通って、表示画面に対して左方に選択的に出射される。これによって、表示画面に対して左方にいる観察者に、左視野用の表示画像ILが観察される。例えば正面から左方に20〜50°程度視角を振った範囲に表示画像ILが観察される。
同様に、右視野用の画素PRからの表示データは、右視野用の画素PRの画素開口部107B及び視差バリア層108の開口部108Bを通って、表示画面に対して右方に選択的に出射される。これによって、表示画面に対して右方にいる観察者に、右視野用の表示画像IRが観察される。例えば正面から右方に20〜50°程度視角を振った範囲に表示画像IRが観察される。
In the LCD 1, display data from the left viewing pixel PL is selectively transmitted to the left with respect to the display screen through the pixel opening 107 B of the left viewing pixel PL and the opening 108 B of the parallax barrier layer 108. Emitted. As a result, the display image IL for the left visual field is observed by the observer who is on the left with respect to the display screen. For example, the display image IL is observed in a range in which the viewing angle is shifted from the front to the left by about 20 to 50 °.
Similarly, display data from the right-view pixel PR is selectively transmitted to the right with respect to the display screen through the pixel opening 107B of the right-view pixel PR and the opening 108B of the parallax barrier layer 108. Emitted. As a result, the display image IR for the right visual field is observed by an observer on the right side of the display screen. For example, the display image IR is observed in a range in which the viewing angle is shifted from the front to the right by about 20 to 50 °.

LCD1では、上記のように左視野用の画素PLからの表示データと右視野用の画素PRからの表示データとが角度分離されて出射されるよう、画素電極114とCF-BM107と視差バリア層108のパターンやこれらの離間距離が設計されている。   In the LCD 1, as described above, the pixel electrode 114, the CF-BM 107, and the parallax barrier layer are emitted so that the display data from the left-view pixel PL and the display data from the right-view pixel PR are emitted with angle separation. 108 patterns and their separation distances are designed.

本実施形態において、図1に示すように、視差バリア層108は、ドット市松状に複数の開口部108Bが形成され、その他の領域が遮光部108Aである平面パターンを有している。
視差バリア層108の平面パターンは上記例に限らず、表示画面に対して左方にいる観察者に左視野用の表示画像ILが観察され、表示画面に対して右方にいる観察者に右視野用の表示画像IRが観察されるよう、遮光部108Aと開口部108Bとのパターンが設計されたものであればよい。
具体的には、互いに隣接した左視野用の画素PLの画素開口部107Bと右視野用の画素PRの画素開口部107Bとの間に、視差バリア層108の開口部108Bが位置していればよい。例えば、視差バリア層108は、ストライプ状に複数の開口部108Bが形成され、その他の領域が遮光部108Aであるパターンを有していてもよい。
In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the parallax barrier layer 108 has a planar pattern in which a plurality of openings 108 </ b> B are formed in a dot checkered pattern and the other regions are light shielding portions 108 </ b> A.
The planar pattern of the parallax barrier layer 108 is not limited to the above example, and the display image IL for the left visual field is observed by the observer who is on the left with respect to the display screen, and the observer who is on the right with respect to the display screen Any pattern may be used as long as the pattern of the light shielding part 108A and the opening part 108B is designed so that the display image IR for the visual field is observed.
Specifically, if the opening 108B of the parallax barrier layer 108 is positioned between the pixel opening 107B of the pixel PL for the left visual field and the pixel opening 107B of the pixel PR for the right visual field that are adjacent to each other. Good. For example, the parallax barrier layer 108 may have a pattern in which a plurality of openings 108B are formed in a stripe shape and the other regions are light shielding portions 108A.

図1に示すように、本実施形態のLCD1はさらに、BL101と液晶セル1Aとの間に、偏光子102aと視野角を広げるように補償する視野角補償フィルム(Wide Viewing(WV)フィルム)103aとを順次備えている。
本実施形態のLCD1はまた、液晶セル1Aの視認側に、液晶セル1A側から、視野角を広げるように補償する視野角補償フィルム(Wide Viewing(WV)フィルム、位相差補償素子)103bと偏光子102bとを順次備えている。
As shown in FIG. 1, the LCD 1 of the present embodiment further includes a viewing angle compensation film (Wide Viewing (WV) film) 103a that compensates between the BL 101 and the liquid crystal cell 1A so as to widen the viewing angle with the polarizer 102a. Are sequentially provided.
The LCD 1 of the present embodiment also has a viewing angle compensation film (Wide Viewing (WV) film, phase difference compensation element) 103b for compensating for widening the viewing angle from the liquid crystal cell 1A side on the viewing side of the liquid crystal cell 1A and the polarization. A child 102b is sequentially provided.

図4に示すように、本実施形態のLCD1において、CF-BM107及び視差バリア層108はシール材109内部のみならず、シール材109外部まで形成されている。
ここで、シール材109の形成領域とその外部、及びシール材109内部のシール材109近傍部分は表示が行われない非表示領域(周辺額縁領域)である。
本実施形態において、CF-BM107はシール材109の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、液晶セル1Aの視認側の外面に形成された視差バリア層108の一部が、シール材109の形成領域においてCF-BM107が形成されていない領域を覆う外部遮光層となっている。
本実施形態では、視差バリア層108が外部遮光層を兼ねているので、特許文献4の図9のように別途外部遮光層を設ける必要がなく、コスト増とならなない。
As shown in FIG. 4, in the LCD 1 of the present embodiment, the CF-BM 107 and the parallax barrier layer 108 are formed not only inside the seal material 109 but also outside the seal material 109.
Here, the formation area of the sealing material 109 and the outside thereof, and the vicinity of the sealing material 109 inside the sealing material 109 are non-display areas (peripheral frame areas) where no display is performed.
In the present embodiment, the CF-BM 107 is not formed in at least a part of the formation region of the sealing material 109, and a part of the parallax barrier layer 108 formed on the outer surface on the viewing side of the liquid crystal cell 1A is the sealing material. In the formation region 109, an external light shielding layer is formed to cover a region where the CF-BM 107 is not formed.
In this embodiment, since the parallax barrier layer 108 also serves as an external light shielding layer, it is not necessary to separately provide an external light shielding layer as shown in FIG. 9 of Patent Document 4, and the cost does not increase.

本実施形態のLCD1においては、CF基板106の内面に形成された画素間遮光層であるCF-BM107はシール材109の形成領域の少なくとも一部には形成されていないので、液晶注入法の一つであるODF(One Drop Filling)法においてシール材109の光硬化処理の際の光(通常UV光)照射を妨げない。ODF法は、真空注入法に比べて低コストな製造方法である。
従来のLCDでは、周辺額縁領域からの光漏れを防ぐためにシール材の形成領域にCF-BMを設けているため、ODF法を用いる場合にはTFT基板側からシール材硬化のための光照射を行う必要がある。多数の配線等が形成されたTFT基板側からの光照射では、TFT基板に形成された配線等によって、シール材への光照射が妨げられる恐れがあり、シール材の硬化が容易ではない。
本実施形態では、CF基板106側からシール材109硬化のための光照射を行うことができるので、ODF法においてシール材109の硬化を容易に実施できる。
In the LCD 1 of the present embodiment, the CF-BM 107 that is the inter-pixel light-shielding layer formed on the inner surface of the CF substrate 106 is not formed in at least a part of the region where the sealing material 109 is formed. In the ODF (One Drop Filling) method, light (normally UV light) irradiation during the photocuring treatment of the sealing material 109 is not hindered. The ODF method is a low-cost manufacturing method compared to the vacuum injection method.
In conventional LCDs, CF-BM is provided in the sealing material formation region to prevent light leakage from the peripheral frame region. Therefore, when the ODF method is used, light irradiation for curing the sealing material is performed from the TFT substrate side. There is a need to do. In light irradiation from the TFT substrate side on which a large number of wirings and the like are formed, there is a possibility that light irradiation to the sealing material may be hindered by the wirings and the like formed on the TFT substrate, and the sealing material is not easily cured.
In this embodiment, since light irradiation for curing the sealing material 109 can be performed from the CF substrate 106 side, the sealing material 109 can be easily cured in the ODF method.

また、従来のLCDにおいてCF-BMとして樹脂材料を用いる場合、これがシール材の形成領域に存在すると、シール材の密着力低下、及びこれによる水分の液晶セル内侵入あるいは液晶漏れなどの信頼性低下の原因となる恐れがある。
本実施形態のLCD1においては、CF基板106の内面に形成された画素間遮光層であるCF-BM107はシール材109の形成領域の少なくとも一部には形成されていないので、CF-BMとして樹脂材料を用いる場合においても、シール材109の密着性が良好となる。
そのため、CF-BMとして樹脂材料を用いる場合においても、シール材の密着性低下による液晶セル内への水分侵入及び液晶漏れが抑制され、信頼性が良好となる。
In addition, when a resin material is used as CF-BM in a conventional LCD, if this is present in the sealing material forming region, the adhesion of the sealing material is reduced, and reliability such as intrusion of moisture into the liquid crystal cell or liquid crystal leakage is thereby reduced. There is a risk of causing.
In the LCD 1 of the present embodiment, the CF-BM 107 that is the inter-pixel light-shielding layer formed on the inner surface of the CF substrate 106 is not formed in at least a part of the formation region of the sealing material 109. Even when a material is used, the adhesiveness of the sealing material 109 is improved.
Therefore, even when a resin material is used as CF-BM, moisture intrusion and liquid crystal leakage due to a decrease in the adhesion of the sealing material are suppressed, and reliability is improved.

従来のLCDにおいて、単にCF-BMのシール材の形成領域を除くだけでは、周辺額縁領域からの光漏れの問題が発生してしまう。
本実施形態では、液晶セル1Aの視認側の外面に形成された視差バリア層108の一部が、シール材109の形成領域においてCF-BM107が形成されていない領域を覆う外部遮光層となっているので、周辺額縁領域からの光漏れが抑制される。
In a conventional LCD, simply removing the CF-BM sealing material forming region causes a problem of light leakage from the peripheral frame region.
In the present embodiment, a part of the parallax barrier layer 108 formed on the outer surface on the viewing side of the liquid crystal cell 1A serves as an external light shielding layer that covers a region where the CF-BM 107 is not formed in the region where the sealing material 109 is formed. Therefore, light leakage from the peripheral frame area is suppressed.

上記したように、本実施形態においてCF基板106の内面に形成された画素間遮光層であるCF-BM107はシール材109の形成領域の少なくとも一部には形成されていない。
CF-BM107はシール材109の形成領域に1つの開口部を有していてもよいし、複数の開口部を有していてもよいし、多数の開口部を有するメッシュ状でもよい。
いずれにせよ、シール材109の形成領域におけるCF-BM107の開口幅(複数の開口部を有する場合は合計開口幅)は、CF基板106側からの光照射によってシール材109が充分に硬化できる範囲であればよい。未硬化のシール材が残った場合には、未硬化のシール材が液晶層105に混入する恐れがあり、好ましくない。
具体的には、シール材109の幅が0.7mmの場合、CF-BM107とシール材109との重なり幅(複数の開口部を有する場合は合計の重なり幅)は150μm以下であることが好ましい。この程度の重なり幅であれば、照射光(通常UV光)の周り込みも含めてCF-BM107下のシール材109に対しても実用的な光照射処理時間でシール材109全体を良好に硬化することが可能である。
As described above, in this embodiment, the CF-BM 107 that is the inter-pixel light shielding layer formed on the inner surface of the CF substrate 106 is not formed in at least a part of the formation region of the sealing material 109.
The CF-BM 107 may have one opening in the region where the sealant 109 is formed, may have a plurality of openings, or may have a mesh shape having a large number of openings.
In any case, the opening width of the CF-BM 107 in the region where the sealing material 109 is formed (the total opening width in the case of having a plurality of openings) is a range in which the sealing material 109 can be sufficiently cured by light irradiation from the CF substrate 106 side. If it is. If an uncured sealing material remains, the uncured sealing material may be mixed into the liquid crystal layer 105, which is not preferable.
Specifically, when the width of the sealing material 109 is 0.7 mm, the overlapping width of CF-BM 107 and the sealing material 109 (the total overlapping width in the case of having a plurality of openings) is preferably 150 μm or less. . With this overlapping width, the entire sealing material 109 can be cured well in a practical light irradiation processing time even for the sealing material 109 under the CF-BM 107 including the wrapping of irradiation light (normally UV light). Is possible.

本実施形態では、シール材109外部にCF-BM107が形成されているが、シール材109外部にはCF-BM107を形成せず、周辺額縁領域からの光漏れが抑制されるよう、シール材109の形成領域及びその外部に視差バリア層108が兼ねた外部遮光層を形成する構成としてもよい。   In this embodiment, the CF-BM 107 is formed outside the sealing material 109, but the CF-BM 107 is not formed outside the sealing material 109, and the sealing material 109 is controlled so that light leakage from the peripheral frame region is suppressed. An external light shielding layer that is also used as the parallax barrier layer 108 may be formed outside of the formation region.

本実施形態では、CF基板106側からシール材109硬化のための光照射を行うことができるので、TFT基板104にシール材109硬化のための光照射用の開口領域確保(シール材に重なる配線等の幅を150μm以下に設計するなど)が必要なくなる。それ故にTFT基板104の配線設計の自由度が向上する。そのため、狭額縁化等の設計がしやすくなる。   In this embodiment, light irradiation for curing the sealing material 109 can be performed from the CF substrate 106 side, so that an opening area for light irradiation for curing the sealing material 109 is secured on the TFT substrate 104 (wiring overlapping the sealing material). Etc.) is not required. Therefore, the degree of freedom in wiring design of the TFT substrate 104 is improved. Therefore, it becomes easy to design a narrow frame.

上記のように、本実施形態では、画素間遮光層であるCF-BM層107はシール材109の形成領域の少なくとも一部には形成されていないため、CF基板106側からのシール材109への光照射が妨げられず、ODF法による製造が容易である。
したがって、本実施形態のLCD1は、真空注入法とODF法のいずれを用いても製造可能である。
ここで、「発明が解決しようとする課題」の項で説明したように、真空注入法では、CF基板の薄板化と視差バリア層の形成後に液晶注入を実施する必要があり、液晶注入時に保護ガラス等の保護材が必要である。ODF法では、液晶注入後にCF基板の薄板化と視差バリア層の形成を実施するため、液晶注入時の保護ガラス等の保護材が必要なく、低コスト化が可能である。したがって、ODF法を用いることが好ましい。
As described above, in the present embodiment, the CF-BM layer 107 that is the inter-pixel light-shielding layer is not formed in at least a part of the formation region of the sealing material 109, so that the sealing material 109 from the CF substrate 106 side is transferred to. Therefore, the production by the ODF method is easy.
Therefore, the LCD 1 of this embodiment can be manufactured using either the vacuum injection method or the ODF method.
Here, as explained in the section “Problems to be solved by the invention”, in the vacuum injection method, it is necessary to perform liquid crystal injection after thinning the CF substrate and forming the parallax barrier layer. A protective material such as glass is necessary. In the ODF method, the CF substrate is thinned and the parallax barrier layer is formed after the liquid crystal is injected, so that a protective material such as a protective glass at the time of liquid crystal injection is not necessary, and the cost can be reduced. Therefore, it is preferable to use the ODF method.

以下に好適な製造方法の一例について説明する。
TFT基板104及びCF基板106の内面(液晶層105側となる面)に必要な電極等の要素を形成する。この時点で、視差バリア層108は未形成である。
次に、図5Aに示すように、視差バリア層108を形成する前の一対の基板104、106に対して、ODF法による液晶注入と基板貼合わせとを実施する。その後、CF基板106を研磨あるいはエッチング等により薄板化する。
次いで図5Bに示すように、CF基板106の外面に視差バリア層108を形成する。
図5Aはシール材109の硬化工程を示している。図中、「UV」はシール材109の硬化に用いる光(通常UV光)を示している。
以上のようにして、液晶セル1Aが製造される。
An example of a suitable manufacturing method will be described below.
Necessary elements such as electrodes are formed on the inner surfaces (surfaces on the liquid crystal layer 105 side) of the TFT substrate 104 and the CF substrate 106. At this time, the parallax barrier layer 108 is not formed.
Next, as shown in FIG. 5A, liquid crystal injection and substrate bonding by the ODF method are performed on the pair of substrates 104 and 106 before the parallax barrier layer 108 is formed. Thereafter, the CF substrate 106 is thinned by polishing or etching.
Next, as shown in FIG. 5B, a parallax barrier layer 108 is formed on the outer surface of the CF substrate 106.
FIG. 5A shows a curing process of the sealing material 109. In the drawing, “UV” indicates light (normally UV light) used for curing the sealing material 109.
The liquid crystal cell 1A is manufactured as described above.

上記の説明では、説明を簡略化するため、単に「TFT基板104」、「CF基板106」と記載しているが、実際の製造では一対のマザー基板を用いて複数の液晶セルを一括製造することがなされる。
具体的には、内面(液晶層側となる面側)に電極等の必要な要素が形成され、視差バリア層108が未形成の一対のマザー基板に対して、ODF法による液晶注入と基板貼合わせとを実施し、マザーCF基板を薄板化し、マザーCF基板の外面に視差バリア層108を形成し、その後、個々の液晶セル1Aに分割切断することで、複数の液晶セル1Aが一括製造される。
In the above description, in order to simplify the description, “TFT substrate 104” and “CF substrate 106” are simply described. However, in actual manufacture, a plurality of liquid crystal cells are manufactured collectively using a pair of mother substrates. Things are done.
Specifically, a required element such as an electrode is formed on the inner surface (the surface on the liquid crystal layer side), and liquid crystal injection by ODF method and substrate pasting are performed on a pair of mother substrates on which the parallax barrier layer 108 is not formed. The mother CF substrate is thinned, the parallax barrier layer 108 is formed on the outer surface of the mother CF substrate, and then divided into individual liquid crystal cells 1A, whereby a plurality of liquid crystal cells 1A are manufactured collectively. The

液晶セル1Aに対して、視野角補償フィルム103a、103b、及び偏光子102a、102bが取り付けられて、LCD1が製造される。   Viewing angle compensation films 103a and 103b and polarizers 102a and 102b are attached to liquid crystal cell 1A, and LCD 1 is manufactured.

以上説明したように、本実施形態によれば、周辺額縁領域からの光漏れが抑制され、シール材109の密着性が良好で信頼性が良好であり、低コスト製造が可能な視差バリア方式のLCD1を提供することができる。
本実施形態では特にODF法を用いることで、LCD1を低コストに製造することができる。
As described above, according to the present embodiment, the light leakage from the peripheral frame region is suppressed, the adhesiveness of the sealing material 109 is good, the reliability is good, and the parallax barrier method that can be manufactured at low cost. An LCD 1 can be provided.
In the present embodiment, the LCD 1 can be manufactured at a low cost by using the ODF method.

上記の第1実施形態では、CF基板106が視認側の基板であり、その外面に視差バリア層108が設けられた態様について説明した。
TFT基板104を視認側の基板とし、その外面に視差バリア層108を設けてもよい(後記第2実施形態においても同様)。この場合には、視差バリア層108を形成する前の一対の基板104、106に対して、ODF法による液晶注入と基板貼合わせとを実施し、TFT基板104を薄板化し、TFT基板104の外面に視差バリア層108を形成すれば、第1実施形態と同様に製造できる。
In the first embodiment, the aspect in which the CF substrate 106 is the viewing-side substrate and the parallax barrier layer 108 is provided on the outer surface thereof has been described.
The TFT substrate 104 may be a viewing-side substrate, and the parallax barrier layer 108 may be provided on the outer surface thereof (the same applies to the second embodiment described later). In this case, liquid crystal injection and substrate bonding by the ODF method are performed on the pair of substrates 104 and 106 before the parallax barrier layer 108 is formed, the TFT substrate 104 is thinned, and the outer surface of the TFT substrate 104 If the parallax barrier layer 108 is formed on the substrate, it can be manufactured in the same manner as in the first embodiment.

「第2実施形態」
本発明に係る第2実施形態の視差バリア方式のLCDについて説明する。
本実施形態の基本構成は第1実施形態と同様であり、同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明は省略する。
図6Aは第1実施形態の図4に対応した要部断面図、図6Bは表示領域内の要部平面図(透視図)である。
“Second Embodiment”
A parallax barrier LCD according to a second embodiment of the present invention will be described.
The basic configuration of the present embodiment is the same as that of the first embodiment, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
6A is a cross-sectional view of main parts corresponding to FIG. 4 of the first embodiment, and FIG. 6B is a plan view (perspective view) of main parts in the display area.

本実施形態の液晶セル2A及びLCD2には、第1実施形態のCF-BM107が設けられていない。
その代わり、本実施形態では、シール材109内部は、TFT基板104に設けられた画素間遮光層110とCF基板106の視差バリア層108とで、隣接する画素間を遮光している。
具体的には、シール材109内部は、TFT基板104にソース配線112側の画素間を遮光する画素間遮光層110が形成されている。また、シール材109内部は、視差バリア層108が、ゲート配線111側の画素間を遮光する画素間遮光層を兼ねている。
また、CF-BM107及びTFT基板104の画素間遮光層110がないシール材109の形成領域及びその近傍部分は、視差バリア層108に遮光部108Aを設けて、遮光している。
The liquid crystal cell 2A and the LCD 2 of the present embodiment are not provided with the CF-BM 107 of the first embodiment.
Instead, in this embodiment, the inside of the sealing material 109 shields light between adjacent pixels by the inter-pixel light-shielding layer 110 provided on the TFT substrate 104 and the parallax barrier layer 108 of the CF substrate 106.
Specifically, an inter-pixel light shielding layer 110 that shields light between pixels on the source wiring 112 side is formed on the TFT substrate 104 inside the sealing material 109. In addition, in the sealant 109, the parallax barrier layer 108 also serves as an inter-pixel light-shielding layer that shields light between the pixels on the gate wiring 111 side.
In addition, the formation region of the sealing material 109 without the inter-pixel light shielding layer 110 on the CF-BM 107 and the TFT substrate 104 and the vicinity thereof are shielded by providing a light shielding portion 108A on the parallax barrier layer 108.

図6B中、各符号は以下の構成要素を示している。
符号111:ゲート配線、符号112:ソース配線、符号113:コモン配線、符号114:画素電極、符号115:TFT。
図中、各層の形成領域を視認しやすくするため、視差バリア層108のハッチングとその下方の層のハッチングとを重ねて図示してある。
In FIG. 6B, each symbol indicates the following component.
Reference numeral 111: gate wiring, reference numeral 112: source wiring, reference numeral 113: common wiring, reference numeral 114: pixel electrode, reference numeral 115: TFT.
In the drawing, the hatching of the parallax barrier layer 108 and the hatching of the layer below the hatching are overlapped to make the formation region of each layer easy to see.

本実施形態において、TFT基板104に形成された画素間遮光層110は、いわゆるシールドCs構造により形成されている。TFT基板104に形成された画素間遮光層110は、ゲート配線111と略平行に配置されたコモン配線113を分岐して、ソース配線112下及び画素電極114に一部掛かる領域まで延設したコモン配線枝部である。
かかる構成では、ゲート配線111及びコモン配線113を形成するゲートレイヤー工程で、画素間遮光層110を同時に形成することができ、別途画素間遮光層110を形成するよりも工程数を少なくでき、好ましい。
工程数が増えても差し支えなければ、画素間遮光層110は、コモン配線113とは独立して設けても構わない。
In this embodiment, the inter-pixel light shielding layer 110 formed on the TFT substrate 104 is formed by a so-called shield Cs structure. The inter-pixel light-shielding layer 110 formed on the TFT substrate 104 branches a common wiring 113 arranged substantially in parallel with the gate wiring 111 and extends to a region partially under the source wiring 112 and the pixel electrode 114. It is a wiring branch.
In such a configuration, the inter-pixel light shielding layer 110 can be formed at the same time in the gate layer process for forming the gate wiring 111 and the common wiring 113, and the number of processes can be reduced as compared with the case where the inter-pixel light shielding layer 110 is separately formed. .
The inter-pixel light-shielding layer 110 may be provided independently from the common wiring 113 as long as the number of processes can be increased.

本実施形態の液晶セル2Aは、第1実施形態と同様、真空注入法とODF法のいずれを用いて製造してもよい。
第1実施形態と同様、ODF法では、液晶注入後に基板貼合わせを実施するため、液晶注入時の保護ガラス等が必要なく低コスト化が可能なことから、ODF法を用いることが好ましい。
本実施形態の液晶セル2Aは、第1実施形態と同様、視差バリア層108を形成する前の一対の基板104、106に対して、ODF法による液晶注入と基板貼合わせとを実施し、CF基板106を薄板化し、その後、CF基板106の外面に視差バリア層108を形成することで製造できる。
上記の説明では、説明を簡略化するため第1実施形態と同様に、単に「TFT基板104」、「CF基板106」と記載しているが、実際の製造では一対のマザー基板を用いて複数の液晶セルを一括製造することがなされる。
The liquid crystal cell 2A of the present embodiment may be manufactured using either the vacuum injection method or the ODF method, as in the first embodiment.
As in the first embodiment, in the ODF method, since the substrates are bonded after the liquid crystal is injected, it is preferable to use the ODF method because a protective glass or the like at the time of liquid crystal injection is not necessary and the cost can be reduced.
As in the first embodiment, the liquid crystal cell 2A of the present embodiment performs liquid crystal injection and substrate bonding by the ODF method on the pair of substrates 104 and 106 before forming the parallax barrier layer 108, and CF It can be manufactured by thinning the substrate 106 and then forming the parallax barrier layer 108 on the outer surface of the CF substrate 106.
In the above description, in order to simplify the description, the “TFT substrate 104” and the “CF substrate 106” are simply described as in the first embodiment. However, in actual manufacture, a plurality of mother substrates are used. The liquid crystal cell is manufactured in batch.

通常のTFT-LCDでは、基板貼合わせ工程において基板位置合わせのためのアライメントマークを、CF-BMに設けることが一般的である。
本実施形態では、CF-BMがないため、別途アライメントマークを形成する必要がある。例えば、図6Aに示すように、視差バリア層108に開口部108Mを設けてアライメントマークとすることができる。
あるいは図6Cに示すように、CF基板に設けられた赤(R)、緑(G)、及び青(B)の色材層を有するCF(図示略)にカラー表示用の色材層とは別に色材部118M(赤、緑、あるいは青)を設けてアライメントマークとするなどが考えられる。
In an ordinary TFT-LCD, an alignment mark for substrate alignment is generally provided on the CF-BM in the substrate bonding step.
In this embodiment, since there is no CF-BM, it is necessary to form an alignment mark separately. For example, as shown in FIG. 6A, an opening 108M can be provided in the parallax barrier layer 108 to form an alignment mark.
Alternatively, as shown in FIG. 6C, what is a color material layer for color display on a CF (not shown) having red (R), green (G), and blue (B) color material layers provided on a CF substrate? It is conceivable that a color material portion 118M (red, green, or blue) is provided as an alignment mark.

本実施形態によれば、第1実施形態と同様、周辺額縁領域からの光漏れが抑制され、シール材の密着性が良好で信頼性が良好であり、低コスト製造が可能な視差バリア方式のLCD2を提供することができる。
本実施形態では、CF-BM形成工程を省略できるので、第1実施形態よりも工程数を低減でき、より低コストに製造することができる。
According to the present embodiment, as in the first embodiment, the light leakage from the peripheral frame region is suppressed, the adhesiveness of the sealing material is good, the reliability is good, and the parallax barrier method that can be manufactured at low cost. An LCD 2 can be provided.
In the present embodiment, since the CF-BM formation step can be omitted, the number of steps can be reduced as compared with the first embodiment, and the manufacturing can be performed at a lower cost.

本実施形態では、TFT基板104側で画素間遮光を行っているので、一対の基板104、106の重ね位置精度の問題で、本来遮光すべき領域が遮光されない問題が低減される。
より詳しくは、重ね位置精度の問題で、CF基板106側で適切に遮光できない部分が生じることが抑制され、光漏れによる表示品位の低下が防げる。また、基板の位置ずれによる光漏れを抑制するために、必要以上に遮光領域を大きくする必要がないので、画素開口率をより大きく確保できる。
In this embodiment, since the inter-pixel light shielding is performed on the TFT substrate 104 side, the problem that the region that should originally be shielded is not shielded due to the accuracy of the overlapping position of the pair of substrates 104 and 106 is reduced.
More specifically, it is possible to prevent a portion that cannot be properly shielded from light on the CF substrate 106 due to the problem of the overlay position accuracy, and it is possible to prevent display quality from being deteriorated due to light leakage. In addition, since it is not necessary to increase the light shielding area more than necessary in order to suppress light leakage due to the positional deviation of the substrate, a larger pixel aperture ratio can be ensured.

本実施形態では、シール材109内部は、TFT基板104に設けた画素間遮光層110でソース配線112側の画素間を遮光し、CF基板106の視差バリア層108でゲート配線111側の画素間を遮光する態様について説明した。
シール材109内部は、TFT基板104に設けた画素間遮光層110でゲート配線111側の画素間を遮光し、CF基板106の視差バリア層108でソース配線112側の画素間を遮光するようにしてもよい。
シール材109内部は、TFT基板104に形成する画素間遮光層110がゲート配線111側の画素間とソース配線112側の画素間の双方を遮光し、視差バリア層108が画素間遮光層として機能を有さないようにしてもよい。
例えば、反射型あるいは半透過型半反射型であれば、反射板あるいは反射電極等の反射材を利用して、ゲート配線111側の画素間及び/又はソース配線112側の画素間を遮光する画素間遮光層を形成することができる。
In this embodiment, the inside of the sealing material 109 shields light between the pixels on the source wiring 112 side by the inter-pixel light shielding layer 110 provided on the TFT substrate 104, and between the pixels on the gate wiring 111 side by the parallax barrier layer 108 of the CF substrate 106. The mode of shielding the light has been described.
Inside the sealing material 109, the inter-pixel light shielding layer 110 provided on the TFT substrate 104 shields light between the pixels on the gate wiring 111 side, and the parallax barrier layer 108 of the CF substrate 106 shields light between the pixels on the source wiring 112 side. May be.
Inside the sealing material 109, the inter-pixel light-shielding layer 110 formed on the TFT substrate 104 shields light between the pixels on the gate wiring 111 side and between the pixels on the source wiring 112 side, and the parallax barrier layer 108 functions as an inter-pixel light-shielding layer. You may make it not have.
For example, in the case of a reflective type or a transflective type, a pixel that shields light between pixels on the gate wiring 111 side and / or between pixels on the source wiring 112 side using a reflective material such as a reflective plate or a reflective electrode. An intermediate light shielding layer can be formed.

「第3実施形態」
本発明に係る第3実施形態の視差バリア方式のLCDについて説明する。
本実施形態のLCDは基本構成が第1実施形態と同様であり、同じ構成要素については同じ参照符号を付して、説明は省略する。
図7は第1実施形態の図4に対応した要部断面図である。
“Third Embodiment”
A parallax barrier LCD according to a third embodiment of the present invention will be described.
The basic configuration of the LCD of the present embodiment is the same as that of the first embodiment, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
FIG. 7 is a cross-sectional view of a main part corresponding to FIG. 4 of the first embodiment.

本実施形態の液晶セル3A及びLCD3においては、CF基板104の内面に画素間遮光層であるCF-BM107と視差バリア層108とが設けられている。視差バリア層108はCF-BM107の視認側に設けられ、CF-BM107と視差バリア層108との間には絶縁層116が設けられている。
CF-BM107と視差バリア層108とは、シール材109の形成領域の少なくとも一部には形成されていない。
本実施形態では、CF基板104の外面に、シール材109の形成領域において画素間遮光層であるCF-BM107及び視差バリア層108がいずれも形成されていない領域を覆うよう形成された外部遮光層117が設けられている。
In the liquid crystal cell 3 </ b> A and the LCD 3 of the present embodiment, the inter-pixel light-shielding layer CF-BM 107 and the parallax barrier layer 108 are provided on the inner surface of the CF substrate 104. The parallax barrier layer 108 is provided on the viewing side of the CF-BM 107, and an insulating layer 116 is provided between the CF-BM 107 and the parallax barrier layer 108.
The CF-BM 107 and the parallax barrier layer 108 are not formed in at least a part of the formation region of the sealing material 109.
In the present embodiment, an external light shielding layer formed on the outer surface of the CF substrate 104 so as to cover a region where neither the inter-pixel light shielding layer CF-BM 107 nor the parallax barrier layer 108 is formed in the formation region of the sealing material 109. 117 is provided.

図示する例では、CF-BM107と視差バリア層108とは、シール材109内部にのみ形成され、シール材109の形成領域及びその外部には形成されていない。そして、外部遮光層117は、シール材109の形成領域及びシール材109外部に形成されている。   In the example shown in the figure, the CF-BM 107 and the parallax barrier layer 108 are formed only inside the sealing material 109 and are not formed in the formation region of the sealing material 109 and outside thereof. The external light shielding layer 117 is formed on the sealing material 109 forming region and outside the sealing material 109.

本実施形態の液晶セル3Aは、第1実施形態と同様、真空注入法とODF法のいずれを用いて製造してもよい。
本実施形態では、CF-BM107と視差バリア層108間の距離を絶縁層116により形成することから、基板106の薄板化は特に不要であり、真空注入法とODF法のいずれの液晶注入の際にも保護ガラス等が必要なく、低コスト化が可能である。
本実施形態の液晶セル3Aは、第1実施形態と同様、外部遮光層117を形成する前の一対の基板104、106に対して、ODF法による液晶注入と基板貼合わせとを実施し、その後、CF基板106の外面に外部遮光層117を形成することで製造できる。
The liquid crystal cell 3A of the present embodiment may be manufactured using either the vacuum injection method or the ODF method, as in the first embodiment.
In this embodiment, since the distance between the CF-BM 107 and the parallax barrier layer 108 is formed by the insulating layer 116, it is not particularly necessary to reduce the thickness of the substrate 106. When liquid crystal is injected by either the vacuum injection method or the ODF method, In addition, no protective glass or the like is required, and the cost can be reduced.
As in the first embodiment, the liquid crystal cell 3A of the present embodiment performs liquid crystal injection and substrate bonding by the ODF method on the pair of substrates 104 and 106 before forming the external light shielding layer 117, and thereafter It can be manufactured by forming the external light shielding layer 117 on the outer surface of the CF substrate 106.

本発明は、視差バリア層を液晶セルの内側に設ける場合にも適用可能である。
本実施形態では、液晶セル3A内部に設けられたCF-BM107と視差バリア層108とは、シール材109の形成領域の少なくとも一部には形成されていないので、第1実施形態と同様の効果が得られる。
本実施形態によっても、周辺額縁領域からの光漏れが抑制され、シール材109の密着性が良好で信頼性が良好な視差バリア方式のLCD3を提供することができる。
本実施形態では、視差バリア層108が外部遮光層を兼ねていないので、外部遮光層117を別途形成する分、コスト増になるが、真空注入法とODF法のいずれの液晶注入の際にも保護ガラス等が必要なく、低コスト化が図られる。
The present invention is also applicable when a parallax barrier layer is provided inside a liquid crystal cell.
In the present embodiment, the CF-BM 107 and the parallax barrier layer 108 provided inside the liquid crystal cell 3A are not formed in at least a part of the formation region of the sealing material 109, and thus the same effects as in the first embodiment. Is obtained.
Also according to this embodiment, it is possible to provide the parallax barrier type LCD 3 in which light leakage from the peripheral frame region is suppressed, the adhesiveness of the sealing material 109 is good, and the reliability is good.
In this embodiment, since the parallax barrier layer 108 does not serve as an external light shielding layer, the cost is increased because the external light shielding layer 117 is separately formed. However, both the liquid crystal injection methods of the vacuum injection method and the ODF method are used. There is no need for protective glass or the like, and the cost can be reduced.

「設計変更」
本発明は上記実施形態に限らず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、設計変更可能である。
上記実施形態では、縦電界駆動方式の透過型TFT-LCDを例として説明したが、任意のLCDに適用可能である。
本発明は、横電界駆動方式にも適用可能である。
本発明は、反射型あるいは半透過半反射型にも適用可能である。
本発明は、TFD等の他の画素スイッチング素子を用いたアクティブマトリックス型にも適用可能である。
本発明は、画素スイッチング素子を使用しないパッシブマトリックス型にも適用可能である。
"Design changes"
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and the design can be changed without departing from the spirit of the present invention.
In the above embodiment, the transmissive TFT-LCD of the vertical electric field driving method has been described as an example, but the present invention can be applied to any LCD.
The present invention can also be applied to a lateral electric field driving method.
The present invention can also be applied to a reflective type or a semi-transmissive / semi-reflective type.
The present invention is also applicable to an active matrix type using other pixel switching elements such as TFD.
The present invention is also applicable to a passive matrix type that does not use a pixel switching element.

1〜3 液晶表示装置(LCD)
1A〜3A液晶セル
102a、102b 偏光子
103a、103b 視野角補償フィルム
104 TFT基板(素子基板)
105 液晶層
106 CF基板(対向基板)
107 CF-BM(画素間遮光層)
107A 遮光部
107B 画素開口部
108 視差バリア層
108A 遮光部
108B 開口部
108M アライメントマーク
109 シール材
110 画素間遮光層
111 ゲート配線
112 ソース配線
113 コモン配線
114 画素電極
115 TFT
116 絶縁層
117 外部遮光層
118M アライメントマーク
1-3 Liquid crystal display (LCD)
1A to 3A liquid crystal cells 102a and 102b Polarizers 103a and 103b Viewing angle compensation film 104 TFT substrate (element substrate)
105 Liquid crystal layer 106 CF substrate (counter substrate)
107 CF-BM (inter-pixel shading layer)
107A Light-shielding portion 107B Pixel opening 108 Parallax barrier layer 108A Light-shielding portion 108B Opening 108M Alignment mark 109 Sealing material 110 Inter-pixel light-shielding layer 111 Gate wiring 112 Source wiring 113 Common wiring 114 Pixel electrode 115 TFT
116 Insulating layer 117 External light shielding layer 118M Alignment mark

Claims (6)

液晶層を挟持して対向配置された一対の基板が光照射によって硬化されるシール材を介して貼着された液晶セルを備え、
前記一対の基板は、マトリクス状に形成された複数のスイッチング素子と複数の画素電極とを備えた素子基板と、前記素子基板よりも視認側に配置された対向基板とを備え、
前記対向基板の前記液晶層側の内面に、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層が形成され、前記対向基板の外面に、前記画素間遮光層と異なる遮光パターンを有する視差バリア層が形成された液晶表示装置であって、
前記画素間遮光層は前記シール材の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、
前記シール材の形成領域に配置される前記画素間遮光層には、前記シール材との前記画素間遮光層の重なり幅を前記対向基板の外面側からの光照射によって前記シール材が十分に硬化できる程度の幅以下とする開口部が形成されており、
前記視差バリア層が、前記シール材の形成領域において前記画素間遮光層が形成されていない領域を全て覆う外部遮光層を兼ねた液晶表示装置。
A pair of substrates disposed opposite to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween is provided with a liquid crystal cell attached via a sealing material that is cured by light irradiation,
The pair of substrates includes an element substrate including a plurality of switching elements and a plurality of pixel electrodes formed in a matrix, and a counter substrate disposed on the viewing side of the element substrate,
An inter-pixel light-shielding layer that shields between adjacent pixels is formed on the inner surface of the counter substrate on the liquid crystal layer side, and a parallax barrier layer having a light-shielding pattern different from the inter-pixel light-shielding layer is formed on the outer surface of the counter substrate. A liquid crystal display device,
The inter-pixel light shielding layer is not formed in at least a part of the formation region of the sealing material,
In the inter-pixel light-shielding layer disposed in the sealing material formation region, the width of the inter-pixel light-shielding layer overlapped with the seal material is sufficiently cured by light irradiation from the outer surface side of the counter substrate. An opening that is less than or equal to the width possible is formed,
The liquid crystal display device in which the parallax barrier layer also serves as an external light-shielding layer that covers the entire region where the inter-pixel light-shielding layer is not formed in the sealing material formation region.
液晶層を挟持して対向配置された一対の基板が光照射によって硬化されるシール材を介して貼着された液晶セルを備え、
前記一対の基板は、マトリクス状に形成された複数のスイッチング素子と複数の画素電極とを備えた素子基板と、前記素子基板よりも視認側に配置された対向基板とを備え、
前記素子基板の前記液晶層側の内面に、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層が形成され、前記対向基板の外面に、前記画素間遮光層と異なる遮光パターンを有する視差バリア層が形成された液晶表示装置であって、
前記画素間遮光層は前記シール材の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、
前記シール材の形成領域に配置される前記画素間遮光層には、前記シール材との前記画素間遮光層の重なり幅を前記対向基板の外面側からの光照射によって前記シール材が十分に硬化できる程度の幅以下とする開口部が形成されており、
前記視差バリア層が、前記シール材の形成領域において前記画素間遮光層が形成されていない領域を全て覆う外部遮光層を兼ねた液晶表示装置。
A pair of substrates disposed opposite to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween is provided with a liquid crystal cell attached via a sealing material that is cured by light irradiation,
The pair of substrates includes an element substrate including a plurality of switching elements and a plurality of pixel electrodes formed in a matrix, and a counter substrate disposed on the viewing side of the element substrate,
An inter-pixel light-shielding layer that shields between adjacent pixels is formed on the inner surface of the element substrate on the liquid crystal layer side, and a parallax barrier layer having a light-shielding pattern different from the inter-pixel light-shielding layer is formed on the outer surface of the counter substrate. A liquid crystal display device,
The inter-pixel light shielding layer is not formed in at least a part of the formation region of the sealing material,
In the inter-pixel light-shielding layer disposed in the sealing material formation region, the width of the inter-pixel light-shielding layer overlapped with the seal material is sufficiently cured by light irradiation from the outer surface side of the counter substrate. An opening that is less than or equal to the width possible is formed,
The liquid crystal display device in which the parallax barrier layer also serves as an external light-shielding layer that covers the entire region where the inter-pixel light-shielding layer is not formed in the sealing material formation region.
液晶層を挟持して対向配置された一対の基板が光照射によって硬化されるシール材を介して貼着された液晶セルを備え、
前記一対の基板は、マトリクス状に形成された複数のスイッチング素子と複数の画素電極とを備えた素子基板と、前記素子基板よりも視認側に配置された対向基板とを備え、
前記素子基板の前記液晶層側の内面に、隣接する画素間を遮光する画素間遮光層の一部が形成され、前記対向基板の外面に、前記画素間遮光層と異なる遮光パターンを有する視差バリア層が形成された液晶表示装置であって、
前記画素間遮光層は前記シール材の形成領域の少なくとも一部には形成されておらず、
前記シール材の形成領域に配置される前記画素間遮光層には、前記シール材との前記画素間遮光層の重なり幅を前記対向基板の外面側からの光照射によって前記シール材が十分に硬化できる程度の幅以下とする開口部が形成されており、
前記視差バリア層が、前記シール材の形成領域において前記画素間遮光層が形成されていない領域を全て覆う外部遮光層を兼ねており、
前記視差バリア層が前記画素間遮光層の一部を兼ねた液晶表示装置。
A pair of substrates disposed opposite to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween is provided with a liquid crystal cell attached via a sealing material that is cured by light irradiation,
The pair of substrates includes an element substrate including a plurality of switching elements and a plurality of pixel electrodes formed in a matrix, and a counter substrate disposed on the viewing side of the element substrate,
A parallax barrier in which a part of an inter-pixel light-shielding layer that shields between adjacent pixels is formed on the inner surface of the element substrate on the liquid crystal layer side, and has a light-shielding pattern different from the inter-pixel light-shielding layer on the outer surface of the counter substrate A liquid crystal display device in which a layer is formed,
The inter-pixel light shielding layer is not formed in at least a part of the formation region of the sealing material,
In the inter-pixel light-shielding layer disposed in the sealing material formation region, the width of the inter-pixel light-shielding layer overlapped with the seal material is sufficiently cured by light irradiation from the outer surface side of the counter substrate. An opening that is less than or equal to the width possible is formed,
The parallax barrier layer also serves as an external light-shielding layer that covers the entire area where the inter-pixel light-shielding layer is not formed in the sealing material formation area,
A liquid crystal display device in which the parallax barrier layer also serves as a part of the inter-pixel light shielding layer.
前記スイッチング素子が薄膜トランジスタであり、
前記素子基板に形成された前記画素間遮光層の一部がソース配線側の画素間を遮光し、
前記外部遮光層が兼ねた前記視差バリア層の一部がゲート配線側の画素間を遮光する請求項に記載の液晶表示装置。
The switching element is a thin film transistor;
A part of the inter-pixel light-shielding layer formed on the element substrate shields light between pixels on the source wiring side,
The liquid crystal display device according to claim 3 , wherein a part of the parallax barrier layer also serving as the external light shielding layer shields light between pixels on a gate wiring side.
前記素子基板に形成された前記画素間遮光層の一部が、ゲート配線と略平行に配置されたコモン配線を分岐して、ソース配線下及び画素電極に一部掛かる領域まで延設したコモン配線枝部である請求項に記載の液晶表示装置。 Common wiring in which a part of the inter-pixel light-shielding layer formed on the element substrate branches from the common wiring arranged substantially in parallel with the gate wiring and extends to a region under the source wiring and partially covering the pixel electrode The liquid crystal display device according to claim 4 , wherein the liquid crystal display device is a branch. 前記一対の基板の貼合わせの位置合わせのためのアライメントマークが、前記視差バリア層に設けられた開口部、若しくは、前記一対の基板のうち一方の基板に形成されたカラーフィルタにカラー表示用の色材層とは別に設けられた色材部である請求項1〜5のいずれかに記載の液晶表示装置。 An alignment mark for positioning the pair of substrates is used for color display in an opening provided in the parallax barrier layer or a color filter formed on one of the pair of substrates. The liquid crystal display device according to claim 1 , which is a color material portion provided separately from the color material layer.
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