JP5757228B2 - Anisotropic conductive adhesive, manufacturing method thereof, connection structure and manufacturing method thereof - Google Patents

Anisotropic conductive adhesive, manufacturing method thereof, connection structure and manufacturing method thereof Download PDF

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Description

本発明は、絶縁性接着剤中に絶縁被覆磁性導電粒子が分散されてなる異方性導電接着剤に関する。   The present invention relates to an anisotropic conductive adhesive in which insulating coated magnetic conductive particles are dispersed in an insulating adhesive.

異方性導電接着剤は、絶縁性接着剤に導電粒子を分散させて製造されており、ペースト状あるいはフィルム状の態様で使用されている。この場合、導電粒子として、粒径的には、配線のファインピッチ化に応じて粒径が1〜5μm程度の従来に比して非常に小さなものが使用されるようになっており、また、材質的には、異方性導電接続に適した導電性と変形性とを示し、しかも比較的入手コストが低いものとして、樹脂粒子の表面に無電解ニッケルメッキ層を形成した樹脂コアニッケルメッキ粒子が広く使用されている(特許文献1)。   An anisotropic conductive adhesive is manufactured by dispersing conductive particles in an insulating adhesive, and is used in a paste or film form. In this case, as the conductive particles, particles that are very small compared to the conventional one having a particle size of about 1 to 5 μm according to the fine pitch of the wiring are used. Resin core nickel plated particles with electroless nickel plated layer formed on the surface of the resin particles as a material that exhibits conductivity and deformability suitable for anisotropic conductive connection and has relatively low cost. Is widely used (Patent Document 1).

また、異方性導電接着剤について、良好な異方性導電接続を実現するためには、異方性導電接続時の接続方向(異方性導電接続方向)に直交する方向の絶縁性を向上させることが必要となるが、その手法として、導線粒子の表面に絶縁樹脂の被覆層を設けることが行われている。   In addition, for anisotropic conductive adhesives, in order to achieve good anisotropic conductive connection, the insulation in the direction orthogonal to the connection direction (anisotropic conductive connection direction) during anisotropic conductive connection is improved. However, as a method for that, providing a coating layer of an insulating resin on the surface of the conductive wire particles has been performed.

特開2009−259787号公報JP 2009-259787 A

しかしながら、異方性導電接着剤の導電粒子として、比較的変形し易い樹脂コアニッケルメッキ粒子を小径化し、更に絶縁樹脂の被覆層を設けたものを使用した場合、絶縁被覆された樹脂コアニッケルメッキ粒子の、異方性導電接続すべき電極の表面への食い込み量が減少し、その結果、不導体化膜が付き破られ難くなり、異方性導電接続の際の接続抵抗値を増大させかねないという問題があった。   However, if the resin core nickel plating particles, which are relatively easily deformed, are used as the conductive particles of the anisotropic conductive adhesive and are further provided with an insulating resin coating layer, the resin core nickel plating with insulation coating is used. The amount of particles penetrating into the surface of the electrode to be anisotropically conductive decreases, and as a result, the non-conductive film becomes difficult to break and may increase the connection resistance value during anisotropic conductive connection. There was no problem.

本発明の目的は、以上の従来の技術の問題点を解決することであり、異方性導電接続方向に直交する方向での絶縁性を低下させることなく、金属酸化物膜等の不導体化膜を突き破れるように異方性導電接続すべき電極の表面へ食い込ませることができ、接続抵抗値を増大させない絶縁被覆磁性導電粒子を含有する異方性導電接着剤を提供することである。   An object of the present invention is to solve the above-described problems of the conventional technology, and to make a metal oxide film or the like nonconductive without reducing insulation in a direction orthogonal to the anisotropic conductive connection direction. It is an object of the present invention to provide an anisotropic conductive adhesive containing insulating-coated magnetic conductive particles that can penetrate into the surface of an electrode to be anisotropically conductively connected so as to break through the film and does not increase the connection resistance value.

本発明者は、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を含有する絶縁性接着剤中に、比較的大きな粒径の絶縁被覆磁性導電粒子に加えて、脱磁処理後に着磁処理した比較的小さな粒径の磁性導電微粒子を特定の量範囲で含有させて異方性導電接着剤を構成すると、異方性導電接続の際に絶縁性接着剤が流動するに伴い、着磁した磁性導電微粒子がその磁性により絶縁被覆磁性導電粒子の表面に、異方性導電接続の際に脱落しない程度に強固に付着し、磁性導電微粒子が粒子全体として凹凸形状を有するものとなることを見出した。   In addition to insulating coating magnetic conductive particles having a relatively large particle size, the inventor demagnetized in an insulating adhesive containing a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and a silane coupling agent. If an anisotropic conductive adhesive is constituted by containing magnetic conductive fine particles having a relatively small particle diameter that has been magnetized after the treatment in a specific amount range, the insulating adhesive flows during anisotropic conductive connection. Along with this, the magnetically conductive magnetic particles are strongly adhered to the surface of the insulating coated magnetic conductive particles by their magnetism to the extent that they do not fall off during anisotropic conductive connection, and the magnetic conductive fine particles have an uneven shape as a whole. I found out that

更に、本発明者は、そのような表面凹凸の絶縁被覆磁性導電粒子を含有する異方性導電接着剤を使用する異方性導電接続の際の熱圧着により、異方性導電接続方向に直交する方向の絶縁抵抗を低下させることなく、絶縁被覆磁性導電粒子の絶縁被覆と異方性導電接続すべき電極表面の不導体化膜とがそれぞれ絶縁被覆磁性導電粒子の表面凸部となる磁性導電微粒子で突き破られ、良好な異方性導電接続(低い接続抵抗値)が可能となることも見出した。   Furthermore, the present inventor has orthogonally crossed the anisotropic conductive connection direction by thermocompression bonding in the anisotropic conductive connection using the anisotropic conductive adhesive containing the insulating conductive magnetic conductive particles having such surface irregularities. Magnetic insulation in which the insulation coating of the insulation coated magnetic conductive particles and the non-conductive film on the electrode surface to be anisotropically conductive become the surface protrusions of the insulation coated magnetic conductive particles without reducing the insulation resistance in the direction It has also been found that a good anisotropic conductive connection (low connection resistance value) can be achieved by breaking through with fine particles.

本発明者は、これらの知見に基づき、以下の本発明を完成させるに至った。   Based on these findings, the present inventor has completed the following present invention.

即ち、本発明は、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を含有する絶縁性接着剤中に、絶縁被覆磁性導電粒子が分散されてなる異方性導電接着剤であって、絶縁被覆磁性導電粒子が脱磁処理されたものであり、更に、脱磁処理後に着磁処理された磁性導電微粒子を、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤の合計100質量部に対し5〜70質量部含有しており、該磁性導電微粒子は、0.05〜0.5μmの平均粒子径を有し且つその平均粒子径は、該絶縁被覆磁性導電粒子の平均粒子径の1〜10%であることを特徴とする異方性導電接着剤を提供する。   That is, the present invention provides an anisotropic conductive adhesive in which insulating coated magnetic conductive particles are dispersed in an insulating adhesive containing a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and a silane coupling agent. Insulating coated magnetic conductive particles are demagnetized, and magnetic conductive fine particles magnetized after demagnetization are formed into a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and silane. It is contained in an amount of 5 to 70 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the coupling agent, and the magnetic conductive fine particles have an average particle diameter of 0.05 to 0.5 μm, and the average particle diameter is the insulating coating. An anisotropic conductive adhesive characterized by being 1 to 10% of the average particle diameter of magnetic conductive particles is provided.

また、本発明は、上述の異方性導電接着剤の製造方法であって、以下の工程(A)及び(B):
工程(A)
絶縁被覆磁性導電粒子を脱磁処理し、他方、磁性導電微粒子を脱磁処理した後に着磁処理する工程;及び
工程(B)
成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を含有する絶縁性接着剤に、脱磁処理された絶縁被覆磁性導電粒子及び脱磁処理後に着磁処理された磁性導電微粒子を混合分散する工程
を有する製造方法を提供する。
Moreover, this invention is a manufacturing method of the above-mentioned anisotropic conductive adhesive, Comprising: The following processes (A) and (B):
Process (A)
A step of demagnetizing the insulating coated magnetic conductive particles, and a step of magnetizing the magnetic conductive fine particles after demagnetizing; and step (B)
Insulating coated magnetic conductive particles demagnetized to an insulating adhesive containing a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent and a silane coupling agent, and magnetic conductive fine particles magnetized after the demagnetization treatment The manufacturing method which has the process of mixing and dispersing is provided.

この本発明の製造方法においては、異方性導電接着剤がフィルムである場合に、工程(B)に続き以下の工程(C):
工程(C)
異方性導電接着剤を、剥離基材の片面に塗布し、乾燥することにより異方性導電フィルムを形成する工程
を有することが好ましい。
In the production method of the present invention, when the anisotropic conductive adhesive is a film, the following step (C) follows the step (B):
Process (C)
It is preferable to have the process of forming an anisotropic conductive film by apply | coating an anisotropic conductive adhesive to the single side | surface of a peeling base material, and drying.

更に、本発明は、第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子とが、前述の本発明の異方性導電接着剤により異方性導電接続されていることを特徴とする接続構造体を提供する。   Further, according to the present invention, the terminal of the first electronic component and the terminal of the second electronic component are anisotropically conductively connected by the above-described anisotropic conductive adhesive of the present invention. Provide a structure.

加えて、本発明は、第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子とが接続されてなる接続構造体の製造方法であって、第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子との間に、前述の発明の異方性導電接着剤を配し、異方性導電接着剤を加熱しながら第1の電子部品を第2の電子部品に押圧することにより、端子同士を異方性導電接続することを特徴とする接続構造体の製造方法を提供する。   In addition, the present invention is a method for manufacturing a connection structure in which a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component are connected, the terminal of the first electronic component and the second electronic component By placing the anisotropic conductive adhesive of the invention described above between the terminals of the component and pressing the first electronic component against the second electronic component while heating the anisotropic conductive adhesive, the terminal Provided is a method of manufacturing a connection structure characterized by anisotropically connecting each other.

本発明の異方性導電接着剤は、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を含有する絶縁性接着剤中に、絶縁被覆磁性導電粒子が分散されてなる異方性導電接着剤であって、絶縁被覆磁性導電粒子が脱磁処理されたものであり、更に、脱磁処理後に着磁処理された磁性導電微粒子を、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤の合計100質量部に対し5〜70質量部含有している。しかも、磁性導電微粒子として、0.05〜0.5μmの平均粒子径を有し且つその平均粒子径が、絶縁被覆磁性導電粒子の平均粒子径の1〜10%であるものを使用する。このため、脱磁処理後に着磁処理した比較的小さな粒径の磁性導電微粒子は、相対的に粒径の大きな絶縁被覆磁性導電粒子の表面に付着する。この結果、絶縁被覆磁性導電粒子は全体として凹凸形状を有する粒子と同様の挙動をすることになる。よって、異方性導電接着剤を使用する異方性導電接続の際の熱圧着により、異方性導電接続方向に直交する方向の絶縁抵抗を低下させることなく、絶縁被覆磁性導電粒子の絶縁被覆と異方性導電接続すべき電極表面の不導体化膜とがそれぞれ絶縁被覆磁性導電粒子の表面凸部となる磁性導電微粒子で突き破られ、良好な異方性導電接続(低い接続抵抗値)が可能となる。   The anisotropic conductive adhesive of the present invention is different from the insulating conductive magnetic conductive particles dispersed in an insulating adhesive containing a film forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and a silane coupling agent. An isotropic conductive adhesive in which insulating coated magnetic conductive particles are demagnetized, and magnetic conductive fine particles magnetized after demagnetization are formed into film-forming resin, liquid epoxy compound, epoxy 5 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the curing agent and the silane coupling agent. In addition, magnetic conductive fine particles having an average particle diameter of 0.05 to 0.5 μm and an average particle diameter of 1 to 10% of the average particle diameter of the insulating coated magnetic conductive particles are used. For this reason, the magnetic conductive fine particles having a relatively small particle diameter magnetized after the demagnetization process adhere to the surface of the insulating coated magnetic conductive particles having a relatively large particle diameter. As a result, the insulating coated magnetic conductive particles behave in the same manner as particles having an uneven shape as a whole. Therefore, the insulation coating of the magnetic coating particles of the insulating coating without reducing the insulation resistance in the direction orthogonal to the direction of the anisotropic conductive connection by thermocompression bonding in the anisotropic conductive connection using the anisotropic conductive adhesive And the non-conductive film on the surface of the electrode to be anisotropically conductive are pierced by the magnetic conductive fine particles that form the convex portions of the surface of the insulation-coated magnetic conductive particles, so that a good anisotropic conductive connection (low connection resistance value) Is possible.

図1は、フィルム状に成形された本発明の異方性導電接着剤の概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the anisotropic conductive adhesive of the present invention formed into a film. 図2は、磁性導電微粒子を脱磁するための脱磁装置の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a demagnetizing device for demagnetizing magnetic conductive fine particles. 図3は、磁性導電微粒子を脱磁するための脱磁装置の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a demagnetizing device for demagnetizing magnetic conductive fine particles.

以下、本発明の異方性導電接着剤をフィルム状に成形した異方性導電フィルムを例に取り詳細に説明する。なお、本発明の異方性導電接着剤は異方性導電フィルムに限定されることなく、異方性導電ペーストも含むものである。   Hereinafter, an anisotropic conductive film obtained by forming the anisotropic conductive adhesive of the present invention into a film will be described in detail. In addition, the anisotropic conductive adhesive of this invention is not limited to an anisotropic conductive film, An anisotropic conductive paste is also included.

図1に示すように、本発明のフィルム状の異方性導電接着剤10は、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を含有する絶縁性接着剤1中に絶縁被覆磁性導電粒子2が分散したものであり、更に、絶縁被覆磁性導電粒子の平均粒子径に対して1〜10%の平均粒子径を有し且つ脱磁処理後に着磁処理された磁性導電微粒子3を、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤の合計100質量部に対し5〜70質量部含有するものである。   As shown in FIG. 1, the film-like anisotropic conductive adhesive 10 of the present invention is in an insulating adhesive 1 containing a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and a silane coupling agent. Insulating coated magnetic conductive particles 2 are dispersed. Further, the magnetic conductive material having an average particle diameter of 1 to 10% with respect to the average particle diameter of the insulating coated magnetic conductive particles and magnetized after demagnetizing treatment The fine particles 3 are contained in an amount of 5 to 70 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the film-forming resin, the liquid epoxy compound, the epoxy curing agent, and the silane coupling agent.

脱磁処理後に着磁処理された磁性導電微粒子3は、異方性導電接着剤10をフィルム状に形成する際に使用する液状の異方性導電フィルム形成用組成物中で、もしくは異方性導電接続の熱圧着の際に流動した絶縁性接着剤中で、絶縁被覆磁性導電粒子2の表面に磁力により付着し、導電性の突起物となる。この結果、異方性導電接着剤10の異方性導電接続の際の熱圧着により、異方性導電接続すべき電極の表面に十分に食い込み、絶縁被覆磁性導電粒子2の絶縁被覆と異方性導電接続すべき電極の表面の不動体化膜を突き破ることができる。よって、異方性導電接続の接続抵抗を下げることができる。   The magnetic conductive fine particles 3 magnetized after the demagnetization treatment are used in the liquid composition for forming an anisotropic conductive film used when forming the anisotropic conductive adhesive 10 into a film shape, or anisotropically. In the insulating adhesive that flows during the thermocompression bonding of the conductive connection, it adheres to the surface of the insulating coated magnetic conductive particles 2 by a magnetic force to form a conductive protrusion. As a result, the anisotropic conductive bonding of the anisotropic conductive adhesive 10 sufficiently penetrates into the surface of the electrode to be anisotropically conductive by thermocompression bonding. It is possible to break through the immobilization film on the surface of the electrode to be electrically conductively connected. Therefore, the connection resistance of the anisotropic conductive connection can be lowered.

他方、異方性導電接続方向に直交する方向(即ち、異方性導電フィルム平面方向)の絶縁抵抗は、磁性導電微粒子3の大きさと配合量とを調整し、しかも絶縁被覆磁性導電粒子2の表面に局在化することになるので、異方性導電接続方向に直交する方向(即ち、異方性導電フィルム平面方向)の絶縁抵抗値の低下を防止することができる。   On the other hand, the insulation resistance in the direction orthogonal to the anisotropic conductive connection direction (that is, the plane direction of the anisotropic conductive film) adjusts the size and blending amount of the magnetic conductive fine particles 3, and the insulation coated magnetic conductive particles 2 Since it is localized on the surface, it is possible to prevent a decrease in the insulation resistance value in the direction orthogonal to the anisotropic conductive connection direction (that is, the plane direction of the anisotropic conductive film).

<異方性導電接着剤を構成する磁性導電微粒子3>
磁性導電微粒子3の磁性材料としては、フェロ磁性体(キュリー温度)としては、Co(1115℃)、Fe(770℃)、Ni(350℃)、MnBi(357℃)、MnSb(314℃)等が挙げられる。フェリ磁性体としては、CrO(130℃)、FeOFe(585℃)、NiOFe(585℃)、CuOFe(455℃)、MgOFe(440℃)、MnOFe(300℃)等が挙げられる。また、永久磁石として称されているMK磁石、アルニコ磁石、希土類磁石等も使用することができる。その他、常磁性体であるTiやセラミック、Zn、W等も使用することができる。
<Magnetic conductive fine particles 3 constituting anisotropic conductive adhesive>
Examples of magnetic materials for the magnetic conductive fine particles 3 include ferromagnets (Curie temperatures) such as Co (1115 ° C.), Fe (770 ° C.), Ni (350 ° C.), MnBi (357 ° C.), MnSb (314 ° C.), etc. Is mentioned. As ferrimagnetic materials, CrO 2 (130 ° C.), FeOFe 2 O 3 (585 ° C.), NiOFe 2 O 3 (585 ° C.), CuOFe 2 O 3 (455 ° C.), MgOFe 2 O 3 (440 ° C.), MnOFe 2 O 3 (300 ° C.) and the like. Also, MK magnets, alnico magnets, rare earth magnets, etc., which are referred to as permanent magnets, can be used. In addition, Ti, ceramic, Zn, W, etc. which are paramagnetic substances can also be used.

これらの磁性導電微粒子3は、異方性導電接続条件下で、導通性を示す限り、微粒子表面に絶縁膜を形成してもよい。その場合、絶縁性の樹脂や金属酸化物の皮膜を絶縁膜とすることができる。これらの絶縁膜の形成は、公知の手法により形成することができる。中でも、磁性導電微粒子が磁性金属又は合金系微粒子である場合、その金属又は合金の酸化被膜を微粒子表面に形成してもよい。この場合、磁性導電微粒子を酸素含有環境下で加熱することで、酸化皮膜の形成を促進させることができる。   These magnetic conductive fine particles 3 may form an insulating film on the surface of the fine particles as long as they exhibit conductivity under anisotropic conductive connection conditions. In that case, an insulating resin or metal oxide film can be used as the insulating film. These insulating films can be formed by a known method. In particular, when the magnetic conductive fine particles are magnetic metal or alloy fine particles, an oxide film of the metal or alloy may be formed on the surface of the fine particles. In this case, the formation of the oxide film can be promoted by heating the magnetic conductive fine particles in an oxygen-containing environment.

このような磁性導電微粒子3の特に好ましい例としては、強磁性を示し、元素安定性に優れ、しかも脱磁の容易さの点からニッケル微粒子を挙げることができる。この場合、強磁性導電微粒子3に絶縁膜として酸化ニッケル膜を形成してもよく、そのような酸化ニッケル膜厚は、過度に厚いと、異方性導電接続の際に導電性を確保できなくなるので、好ましくは3nm以下である。   Particularly preferable examples of such magnetic conductive fine particles 3 include nickel fine particles in view of ferromagnetism, excellent element stability, and ease of demagnetization. In this case, a nickel oxide film may be formed on the ferromagnetic conductive fine particles 3 as an insulating film. If such a nickel oxide film is excessively thick, conductivity cannot be ensured in anisotropic conductive connection. Therefore, it is preferably 3 nm or less.

また、磁性導電微粒子3の平均粒子径は、絶縁被覆磁性導電粒子2との相対的な大小関係に大きく依存しており、小さすぎると異方性導電接続させるべき電極の表面への食い込みが小さくなり、接続抵抗値が上昇することが懸念され、他方、大きすぎると、異方性導電接続方向に直交する方向(異方性導電フィルムの平面方向)の絶縁抵抗値が低下する傾向があるので、絶縁被覆磁性導電粒子2の平均粒子径の1〜10%、好ましくは2〜6%である。具体的な平均粒子径の範囲は、好ましくは0.05〜0.5μm、より好ましくは0.1〜0.3μmである。   Further, the average particle diameter of the magnetic conductive fine particles 3 greatly depends on the relative size relationship with the insulating coated magnetic conductive particles 2, and if it is too small, the bite into the surface of the electrode to be anisotropically conductive is small. Therefore, there is a concern that the connection resistance value is increased. On the other hand, if it is too large, the insulation resistance value in the direction perpendicular to the anisotropic conductive connection direction (the plane direction of the anisotropic conductive film) tends to decrease. The average particle diameter of the insulating coated magnetic conductive particles 2 is 1 to 10%, preferably 2 to 6%. The specific range of the average particle diameter is preferably 0.05 to 0.5 μm, more preferably 0.1 to 0.3 μm.

磁性導電微粒子3の異方性導電接着剤における含有量は、少なすぎると絶縁被覆磁性導電粒子2の導電性突起が少なくなって、異方性導電接続の際の接続抵抗値が増大する傾向があり、他方、多すぎても絶縁被覆磁性導電粒子2の表面全体が磁性導電微粒子3で覆われるようになって、結果的に導電性突起が少なくなるので、異方性導電接続の際の接続抵抗値が増大する傾向があり、しかも異方性導電接続方向に直交する方向(異方性導電フィルムの平面方向)の絶縁抵抗値が低下する傾向があるので、後述するような成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤の合計100質量部に対し、好ましくは5〜70質量部、より好ましくは20〜50質量部である。   If the content of the magnetic conductive fine particles 3 in the anisotropic conductive adhesive is too small, the conductive protrusions of the insulating coated magnetic conductive particles 2 are reduced, and the connection resistance value during anisotropic conductive connection tends to increase. On the other hand, even if the amount is too large, the entire surface of the insulating coated magnetic conductive particle 2 is covered with the magnetic conductive fine particles 3, and as a result, there are fewer conductive protrusions. Since the resistance value tends to increase and the insulation resistance value in the direction perpendicular to the anisotropic conductive connection direction (the plane direction of the anisotropic conductive film) tends to decrease, a film-forming resin as will be described later The total amount of the liquid epoxy compound, the epoxy curing agent and the silane coupling agent is preferably 5 to 70 parts by mass, more preferably 20 to 50 parts by mass.

本発明において、磁性導電微粒子3は、異方性導電接着剤を調整する前に予め脱磁処理した後に着磁処理したものである。まず、最初に脱磁処理を施す理由は、予め脱磁しておくと、磁性導電微粒子3を着磁した際に、磁性導電微粒子3内の磁区の磁気モーメントを一定方向に容易に揃えることができるので効率よく磁化させることができるからである。また、着磁処理しておく理由は、絶縁被覆磁性導電粒子2の表面に磁性により付着させるためである。   In the present invention, the magnetic conductive fine particles 3 are those that have been demagnetized and then magnetized before adjusting the anisotropic conductive adhesive. First, the reason why the demagnetization process is performed first is that when the magnetic conductive fine particles 3 are magnetized in advance, the magnetic moments of the magnetic domains in the magnetic conductive fine particles 3 can be easily aligned in a certain direction. This is because it can be efficiently magnetized. The reason why the magnetizing process is performed is to adhere to the surface of the insulating coated magnetic conductive particles 2 by magnetism.

なお、磁性導電微粒子3の脱磁処理の手法としては、特に制限はなく、公知の手法を使用することができる。例えば、磁性導電微粒子3を、そのキュリー温度以上に加熱することにより脱磁してもよい。   In addition, there is no restriction | limiting in particular as a method of the demagnetization process of the magnetic electroconductive fine particles 3, A well-known method can be used. For example, the magnetic conductive fine particles 3 may be demagnetized by heating to the Curie temperature or higher.

なお、キュリー温度未満で脱磁処理する場合には、磁性導電微粒子3同士の相対的位置関係が変動しないように脱磁処理することが好ましい。具体的には、図2に示すように、磁性導電微粒子21を、開口部22aを有する容器22に投入し、次いで、容器22の開口部22aから容器22内に挿入された押圧手段23で押圧して容器22内に仮固定し、その容器22を、脱磁コイル24により形成された脱磁用磁場の中を、磁界強度を減衰させながら矢印の方向に、少なくとも1回脱磁コイルから遠ざけるように移動させることにより脱磁処理することができる。また、脱磁処理の効率を高めるために、容器22を往復運動(複数回の移動)させてもよい。なお、容器22は開口部を有する容器に限定されるものではなく、例えば、容器に磁性導電微粒子を充填後、真空封止を行って開口部を封止した場合も、好適に使用することができる。   In addition, when demagnetizing treatment is performed at a temperature lower than the Curie temperature, it is preferable to perform demagnetizing treatment so that the relative positional relationship between the magnetic conductive fine particles 3 does not fluctuate. Specifically, as shown in FIG. 2, the magnetic conductive fine particles 21 are put into a container 22 having an opening 22 a, and then pressed by a pressing means 23 inserted into the container 22 from the opening 22 a of the container 22. Then, the container 22 is temporarily fixed, and the container 22 is moved away from the demagnetizing coil at least once in the direction of the arrow while attenuating the magnetic field strength in the demagnetizing magnetic field formed by the demagnetizing coil 24. Thus, the demagnetization process can be performed. In order to increase the efficiency of the demagnetization process, the container 22 may be reciprocated (moved a plurality of times). The container 22 is not limited to a container having an opening. For example, the container 22 is preferably used even when the container is filled with magnetic conductive fine particles and then the opening is sealed by vacuum sealing. it can.

脱磁方法で使用する容器22としては、非磁性材料、透磁率の低い材料等から形成されたものであり、例えば、ガラス容器、アルミナ容器、磁器容器等を挙げることができる。容器の形状としては、筒型形、特に円筒形が好ましいが、多角筒形でもよい。底部はラウンド型になっていることが好ましい。また、底部が開閉可能となっていてもよい。   The container 22 used in the demagnetization method is formed from a nonmagnetic material, a material with low magnetic permeability, or the like, and examples thereof include a glass container, an alumina container, and a porcelain container. The shape of the container is preferably a cylindrical shape, particularly a cylindrical shape, but may be a polygonal cylindrical shape. The bottom is preferably round. Moreover, the bottom part may be openable and closable.

押圧手段23としては、特に制限はなく、例えば、硬質あるいは弾性を示す平板23aをプッシャ23bで押しつける構成でもよい。押圧のレベルは、脱磁すべき磁性粉体にダメージを与えないように且つ脱磁処理の際に磁性粉体の動きを抑制できるレベルであり、磁性粉体の種類、大きさ、形状、脱磁条件などに応じて決めることができる。   There is no restriction | limiting in particular as the press means 23, For example, the structure which presses the flat plate 23a which shows hard or elasticity with the pusher 23b may be sufficient. The level of pressing is a level that does not damage the magnetic powder to be demagnetized and can suppress the movement of the magnetic powder during the demagnetization process. The type, size, shape, and demagnetization of the magnetic powder. It can be determined according to the magnetic conditions.

また、キュリー温度未満で脱磁処理する場合、図3に示すように、磁性導電微粒子31を、容器32中の液体33に投入し、次いで、その液体33を凝固させ、凝固物中に仮固定し、その容器32を、脱磁コイル34により形成された脱磁用磁場の中を、磁界強度を減衰させながら矢印の方向に少なくとも1回脱磁コイルから遠ざけるように移動させることにより脱磁処理することもできる。また、脱磁処理の効率を高めるために、容器32を往復運動(複数回の移動)させてもよい。この場合、通常、容器32中で液体33を凝固させるが、凝固させた後の脱磁処理の際には、容器を取り除くことができる。また、磁性導電微粒子を液体に投入した後、脱泡処理した後に液体を凝固させることが好ましい。これは、脱泡していないと、液体を凝固させたときに泡も凝固物の中に取り込まれ、泡近傍の磁性導電微粒子31が動きやすくなるからである。   When the demagnetization treatment is performed at a temperature lower than the Curie temperature, as shown in FIG. 3, the magnetic conductive fine particles 31 are put into a liquid 33 in a container 32, and then the liquid 33 is solidified and temporarily fixed in a solidified product. The demagnetizing process is performed by moving the container 32 in the demagnetizing magnetic field formed by the demagnetizing coil 34 so as to move away from the demagnetizing coil at least once in the direction of the arrow while attenuating the magnetic field strength. You can also Further, the container 32 may be reciprocated (moved a plurality of times) in order to increase the efficiency of the demagnetization process. In this case, the liquid 33 is usually solidified in the container 32, but the container can be removed in the demagnetization process after the solidification. Moreover, it is preferable to solidify the liquid after introducing the magnetic conductive fine particles into the liquid and then performing a defoaming treatment. This is because if the bubbles are not defoamed, the bubbles are also taken into the coagulated product when the liquid is coagulated, and the magnetic conductive fine particles 31 in the vicinity of the bubbles can easily move.

液体を凝固させる具体的な手法としては、液体を、その凝固点以下に冷却することにより凝固させる方法がある。液体としては、水、エタノール等のアルコール類、ヘキサン、シクロヘキサン等のアルカン類、トルエン、ナフタレン等のアリール類などを使用することができる。凝固の具体例としては、液体として水を使用した場合には、0℃以下に冷却することにより凝固させることができる。シクロヘキサン(融点7℃)を使用した場合には、7℃以下、好ましくは−10℃に冷却することが挙げられる。この場合、脱磁処理後に、凝固物を液体の凝固点以上になるまで放置又は加熱し、脱磁処理した磁性導電微粒子31を常法により液体から分離すればよい。   As a specific method for solidifying the liquid, there is a method of solidifying the liquid by cooling it below its freezing point. As the liquid, water, alcohols such as ethanol, alkanes such as hexane and cyclohexane, aryls such as toluene and naphthalene, and the like can be used. As a specific example of solidification, when water is used as the liquid, it can be solidified by cooling to 0 ° C. or lower. When cyclohexane (melting point: 7 ° C.) is used, cooling to 7 ° C. or less, preferably −10 ° C. can be mentioned. In this case, after the demagnetization treatment, the solidified material is allowed to stand or be heated until it reaches the solidification point of the liquid or more, and the demagnetized magnetic conductive fine particles 31 may be separated from the liquid by a conventional method.

また、液体を凝固させる他の手法としては、液体に、その液体を凝固させ得る凝固剤を更に配合し、磁性粉体が投入されたあとで、その凝固剤で液体を凝固処理する方法がある。例えば、凝固剤として液体のゲル化剤を使用する方法である。具体的には、液体が水である場合に、凝固剤としてゼラチンを使用し、ゼラチンを水に加熱溶解し、それに磁性粉体を投入し、必要に応じて脱泡処理し、次いで冷却してゲル化させることが挙げられる。この場合、ゼラチン由来のゲルは加熱により消失する可逆的なものであるので、脱磁処理後に、凝固物をゲルが消失する温度にまで加熱し、脱磁処理した磁性導電微粒子31を常法により液体から分離すればよい。   As another method for coagulating the liquid, there is a method in which a coagulant capable of coagulating the liquid is further blended into the liquid, and after the magnetic powder is charged, the liquid is coagulated with the coagulant. . For example, a method of using a liquid gelling agent as a coagulant. Specifically, when the liquid is water, gelatin is used as a coagulant, the gelatin is heated and dissolved in water, magnetic powder is added to it, defoamed as necessary, and then cooled. Gelation is mentioned. In this case, since the gelatin-derived gel is reversible that disappears by heating, after the demagnetization treatment, the solidified material is heated to a temperature at which the gel disappears, and the demagnetized magnetic conductive fine particles 31 are obtained by a conventional method. What is necessary is just to isolate | separate from a liquid.

また、本発明において、磁性導電微粒子3(21、31)を着磁処理する場合、その手法には特に制限はなく、従来公知の着磁方法を適用して行うことができる。また、脱磁コイルを着磁コイルとして機能させることにより、図2又は図3の脱磁装置を着磁装置として使用することもできる。   In the present invention, when the magnetic conductive fine particles 3 (21, 31) are magnetized, the method is not particularly limited, and can be performed by applying a conventionally known magnetization method. Further, the demagnetizing device of FIG. 2 or 3 can be used as the magnetizing device by causing the demagnetizing coil to function as the magnetizing coil.

<異方性導電フィルムを構成する絶縁被覆磁性導電粒子2>
本発明において使用する絶縁被覆磁性導電粒子2は、その少なくとも一部が磁性材料(例えば、強磁性材料、常磁性材料)から構成されている磁化し得る導電粒子である。従って、絶縁被覆磁性導電粒子2には、着磁されている場合も脱磁されている場合も含まれる。このような絶縁被覆磁性導電粒子2としては、導電粒子全体が単一の磁性材料から形成されている場合のみならず、導電粒子又は絶縁粒子の表面に磁性材料の薄膜が形成されている粒子、そのような磁性薄膜上に更に非磁性金属膜が形成されている粒子、これらの磁性粉体の最表面に更に非磁性の絶縁性樹脂の薄膜が形成されている粒子などを挙げることができる。
<Insulation-coated magnetic conductive particles 2 constituting an anisotropic conductive film>
The insulating coated magnetic conductive particles 2 used in the present invention are magnetizable conductive particles, at least a part of which is made of a magnetic material (for example, a ferromagnetic material or a paramagnetic material). Therefore, the insulating coated magnetic conductive particles 2 include cases where they are magnetized and demagnetized. Such insulating coated magnetic conductive particles 2 include not only the case where the entire conductive particles are formed of a single magnetic material, but also particles in which a thin film of magnetic material is formed on the surface of the conductive particles or insulating particles, Examples thereof include particles in which a nonmagnetic metal film is further formed on such a magnetic thin film, and particles in which a thin film of a nonmagnetic insulating resin is further formed on the outermost surface of these magnetic powders.

絶縁被覆磁性導電粒子2として使用できる磁性粉体の具体例としては、ニッケル、鉄、酸化鉄、酸化クロム、フェライト、コバルト、センダストなどの磁性金属あるいは磁性合金の粉体、ハンダ、銅等の非磁性導電粒子や絶縁樹脂コア粒子の表面に磁性材料の薄膜が形成された金属被覆樹脂粒子などの粉体、それらの表面に更に金メッキ薄膜が形成された粉体、あるいは絶縁性樹脂層で被覆された粉体などを挙げることができる。   Specific examples of magnetic powders that can be used as the insulating coated magnetic conductive particles 2 include powders of magnetic metals or magnetic alloys such as nickel, iron, iron oxide, chromium oxide, ferrite, cobalt, and sendust, solder, copper, and the like. Powders such as metal-coated resin particles with a thin film of magnetic material formed on the surface of magnetic conductive particles or insulating resin core particles, powders with a gold-plated thin film formed on those surfaces, or an insulating resin layer The powder etc. can be mentioned.

これらの中でも、絶縁被覆磁性導電粒子2としては、製造コスト、接続時の加熱加圧での変形等を考慮すると、コアとなる樹脂粒子の表面にニッケルメッキ層が形成され、更に絶縁性樹脂で被覆された樹脂コアニッケルメッキ粒子を好ましく挙げることができる。   Among these, the insulating coated magnetic conductive particles 2 include a nickel plating layer formed on the surface of the resin particles as the core, considering the manufacturing cost, deformation due to heating and pressurization at the time of connection, and an insulating resin. Preferred examples include coated resin core nickel plated particles.

コアになる樹脂粒子としては、特に制限はないが、耐熱性、耐薬品性を備えた有機材料、例えば、ポリアミド、ポリグアナミン、ポリスチレン、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を好ましく使用することができる。   The resin particles to be the core are not particularly limited, but organic materials having heat resistance and chemical resistance, for example, thermoplastic resins such as polyamide, polyguanamine, polystyrene, and acrylic resin can be preferably used.

また、絶縁被覆用の絶縁性樹脂としては、この種の絶縁被覆導電粒子に使用されている公知の絶縁性熱可塑性樹脂、例えば、ポリオレフィン、ポリエステル、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を適用することができる。このような絶縁被覆樹脂層の厚みは、薄すぎると絶縁性が低下する傾向があり、厚すぎると導通性が低下する傾向があるので、好ましくは0.05〜0.5μm、より好ましくは0.1〜0.4μmである。   Further, as the insulating resin for insulating coating, a known insulating thermoplastic resin used for this kind of insulating coated conductive particles, for example, polyolefin, polyester, acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, etc. is applied. be able to. If the thickness of such an insulating coating resin layer is too thin, the insulating property tends to decrease, and if it is too thick, the conductivity tends to decrease. Therefore, the thickness is preferably 0.05 to 0.5 μm, more preferably 0. .1 to 0.4 μm.

樹脂コアニッケルメッキ粒子のニッケルメッキ層の厚さは、薄すぎると異方性導電接続の際の熱圧着時に破損し、異方性導電フィルムの接続信頼性が低下する傾向があり、厚すぎると異方性導電フィルム作成の際に絶縁被覆磁性導電粒子2の凝集が生じる傾向があるので、好ましくは10〜300nm、より好ましくは50〜200nmである。   If the thickness of the nickel plating layer of the resin core nickel plating particles is too thin, it will be damaged during thermocompression bonding during anisotropic conductive connection, and the connection reliability of the anisotropic conductive film tends to be reduced. Since the insulating coated magnetic conductive particles 2 tend to aggregate when the anisotropic conductive film is formed, the thickness is preferably 10 to 300 nm, more preferably 50 to 200 nm.

本発明で使用する絶縁被覆磁性導電粒子2の平均粒子径は、小さすぎると磁性導電粒子全体における磁性金属の割合が高くなるため磁気の影響を受け易くなり、そのため絶縁被覆磁性導電粒子の凝集塊が生じてショートが発生したり、また、導電粒子の異方性導電機能が低下し、電子部品の端子の高さのバラツキに追随できなくなり接続信頼性に不具合が生じたりする傾向があり、他方、大きすぎると導電粒子により配線間の絶縁性が低下し、ファインピッチ接続自体に対応できなくなる傾向があるために、好ましくは0.5〜10μm、より好ましくは2〜5μmである。   If the average particle diameter of the insulating coated magnetic conductive particles 2 used in the present invention is too small, the ratio of the magnetic metal in the entire magnetic conductive particles becomes high, so that it is easily affected by magnetism. May occur, or the anisotropic conductive function of the conductive particles may be reduced, and the variation in the height of the terminal of the electronic component may not be followed. If it is too large, the insulating property between the wirings is lowered by the conductive particles, and the fine pitch connection itself tends not to be supported. Therefore, the thickness is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 2 to 5 μm.

なお、絶縁被覆磁性導電粒子2は、異方性導電接着剤あるいは異方性導電フィルム形成用組成物中での凝集を防止するために、磁性導電微粒子3と同様な手法により脱磁処理しておくことが好ましい。   The insulating coated magnetic conductive particles 2 are demagnetized by the same method as the magnetic conductive fine particles 3 in order to prevent aggregation in the anisotropic conductive adhesive or the anisotropic conductive film forming composition. It is preferable to keep it.

絶縁被覆磁性導電粒子2の異方性導電接着剤における含有量は、少なすぎると異方性導電接着剤の接続信頼性が低下する傾向があり、多すぎると増粘や凝集により異方性導電接続の際にハンドリング性が低下し、異方性導電フィルムの製造に支障が生じる傾向があるので、後述するような成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤の合計100質量部に対し、好ましくは10〜80質量部、より好ましくは20〜50質量部である。   If the content of the insulating coated magnetic conductive particles 2 in the anisotropic conductive adhesive is too small, the connection reliability of the anisotropic conductive adhesive tends to decrease. If the content is too large, the anisotropic conductive is caused by thickening or aggregation. Since there is a tendency for handling properties to deteriorate during connection and the production of anisotropic conductive films tends to be hindered, the total of film-forming resins, liquid epoxy compounds, epoxy curing agents and silane coupling agents as described below Preferably it is 10-80 mass parts with respect to 100 mass parts, More preferably, it is 20-50 mass parts.

また、絶縁被覆磁性導電粒子2と磁性導電微粒子3との質量配合比は、磁性導電微粒子3に対する絶縁被覆磁性導電粒子2の量が多すぎると絶縁被覆磁性導電粒子の周りに磁性導電微粒子が付着し難くなり、導通性が低下する傾向があり、少なすぎると絶縁被覆磁性導電粒子の周りに磁性導電微粒子が多く付着しすぎるため、絶縁性が低下する傾向があるので、好ましくは、20:1〜7:8(=[絶縁被覆磁性導電粒子:磁性導電微粒子])、より好ましくは18:1〜7:5(=[絶縁被覆磁性導電粒子:磁性導電微粒子])である。   Further, the mass blending ratio of the insulating coated magnetic conductive particles 2 and the magnetic conductive fine particles 3 is such that if the amount of the insulating coated magnetic conductive particles 2 is too large relative to the magnetic conductive fine particles 3, the magnetic conductive fine particles adhere around the insulating coated magnetic conductive particles. However, if the amount is too small, too much magnetic conductive fine particles adhere to the periphery of the insulating coated magnetic conductive particles, so that the insulating property tends to decrease. To 7: 8 (= [insulation-coated magnetic conductive particles: magnetic conductive fine particles]), more preferably 18: 1 to 7: 5 (= [insulation-coated magnetic conductive particles: magnetic conductive fine particles]).

<異方性導電接着剤を構成する絶縁性接着剤1>
本発明の異方性導電接着剤を構成する絶縁性接着剤1は、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を含有する。
<Insulating adhesive 1 constituting anisotropic conductive adhesive>
The insulating adhesive 1 constituting the anisotropic conductive adhesive of the present invention contains a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and a silane coupling agent.

成膜性樹脂としては、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ブタジエン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂等を挙げることができ、これらの2種以上を併用することができる。これらの中でも、製膜性、加工性、接続信頼性の観点から、フェノキシ樹脂を好ましく使用することができる。   Examples of the film-forming resin include phenoxy resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, urethane resin, butadiene resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin resin, and the like. can do. Among these, a phenoxy resin can be preferably used from the viewpoint of film forming property, workability, and connection reliability.

液状エポキシ化合物としては、エポキシ当量(g/eq)が通常100〜4000程度であって、分子中に2以上のエポキシ基を有するものが好ましい。例えば、ビスフェノールA型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、エステル型エポキシ化合物、脂環型エポキシ化合物等を好ましく使用することができる。また、これらの化合物にはモノマーやオリゴマーが含まれる。これらの2種以上を併用することができる。   As the liquid epoxy compound, those having an epoxy equivalent (g / eq) of usually about 100 to 4000 and having two or more epoxy groups in the molecule are preferable. For example, a bisphenol A type epoxy compound, a phenol novolac type epoxy compound, a cresol novolac type epoxy compound, an ester type epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, or the like can be preferably used. These compounds include monomers and oligomers. Two or more of these can be used in combination.

液状エポキシ化合物の絶縁性接着剤中の含有量は、少なすぎると異方性導電接続の際に異方性導電接着剤の硬化が不十分になる傾向があり、多すぎてもフィルム形成能が低下する傾向があるので、好ましくは成膜性樹脂100質量部に対し、好ましくは20〜60質量部、より好ましくは40〜60質量部である。   If the content of the liquid epoxy compound in the insulating adhesive is too small, the anisotropic conductive adhesive tends to be insufficiently cured during anisotropic conductive connection. Since there exists a tendency to fall, Preferably it is 20-60 mass parts with respect to 100 mass parts of film forming resin, More preferably, it is 40-60 mass parts.

エポキシ用硬化剤としては、ポリアミン、イミダゾール等のアニオン系硬化剤やスルホニウム塩などのカチオン系硬化剤、フェノール系硬化剤等の潜在性硬化剤を挙げることができる。   Examples of epoxy curing agents include anionic curing agents such as polyamines and imidazoles, cationic curing agents such as sulfonium salts, and latent curing agents such as phenolic curing agents.

エポキシ用硬化剤の絶縁性接着剤中の含有量は、少なすぎると異方性導電接続の際に異方性導電接着剤の硬化が不十分になる傾向があり、多すぎてもフィルム形成能が低下する傾向があるので、好ましくは液状エポキシ化合物100質量部に対し、好ましくは20〜60質量部、より好ましくは30〜50質量部である。   If the content of the epoxy curing agent in the insulating adhesive is too small, the anisotropic conductive adhesive tends to be insufficiently cured during anisotropic conductive connection. Therefore, it is preferably 20 to 60 parts by mass, more preferably 30 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the liquid epoxy compound.

シランカップリング剤としては、エポキシ系シランカップリング剤、アクリル系シランカップリング剤等を挙げることができる。これらのシランカップリング剤は、主としてアルコキシシラン誘導体である。   Examples of the silane coupling agent include an epoxy silane coupling agent and an acrylic silane coupling agent. These silane coupling agents are mainly alkoxysilane derivatives.

シランカップリング剤の絶縁性接着剤中の含有量は、少なすぎると異方性導電接続の際の異方性導電接着剤の接着性が低下する傾向があり、多すぎてもフィルム形成能が低下する傾向があるので、好ましくは成膜用樹脂と液状エポキシ化合物の合計100質量部に対し、好ましくは0.5〜5質量部、より好ましくは0.5〜2質量部である。   If the content of the silane coupling agent in the insulating adhesive is too small, the adhesive property of the anisotropic conductive adhesive during anisotropic conductive connection tends to decrease. Since there exists a tendency to fall, Preferably it is 0.5-5 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of film forming resin and a liquid epoxy compound, More preferably, it is 0.5-2 mass parts.

絶縁性接着剤には、必要に応じてシリカ、マイカなどの充填剤、軟化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤(顔料、染料)、帯電防止剤、防腐剤、架橋剤、有機溶剤、イオンキャッチャー剤などを配合することができる。   Insulating adhesives include silica, mica and other fillers, softeners, accelerators, anti-aging agents, colorants (pigments, dyes), antistatic agents, preservatives, crosslinking agents, organic solvents, An ion catcher agent etc. can be mix | blended.

<異方性導電接着剤の製造>
成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を含有する絶縁性接着剤中に、絶縁被覆磁性導電粒子が分散されてなる異方性導電接着剤であって、絶縁被覆磁性導電粒子が脱磁処理されたものであり、更に、脱磁処理後に着磁処理された磁性導電微粒子を、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤の合計100質量部に対し5〜70質量部含有しており、該磁性導電微粒子は、0.05〜0.5μmの平均粒子径を有し且つその平均粒子径は、該絶縁被覆磁性導電粒子の平均粒子径の1〜10%であることを特徴とする本発明の異方性導電接着剤は、以下の工程(A)及び(B)を有する製造方法により製造することができる。以下に工程毎に説明する。
<Manufacture of anisotropic conductive adhesive>
An anisotropic conductive adhesive in which insulating coating magnetic conductive particles are dispersed in an insulating adhesive containing a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and a silane coupling agent. The magnetic conductive particles are demagnetized, and the magnetic conductive fine particles magnetized after the demagnetization treatment are combined into a total of 100 of a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and a silane coupling agent. 5 to 70 parts by mass with respect to parts by mass, the magnetic conductive fine particles have an average particle size of 0.05 to 0.5 μm, and the average particle size is the average particle of the insulating coated magnetic conductive particles The anisotropic conductive adhesive of the present invention, which is 1 to 10% of the diameter, can be produced by a production method having the following steps (A) and (B). Below, it demonstrates for every process.

工程(A)
まず、絶縁被覆磁性導電粒子を脱磁処理し、他方、磁性導電微粒子を脱磁処理した後に着磁処理する。脱磁処理や着磁処理の手法としては、公知の手法を適用することができる。また、磁性導電微粒子が磁性金属又は合金微粒子である場合に、キュリー温度以上への加熱で脱磁してもよく、また図2又は図3に提示したような脱磁・着磁装置を用いて脱磁や着磁を行うこともできる。なお、絶縁被覆磁性導電粒子が、樹脂コアニッケルメッキ粒子である場合には、キュリー温度以上への加熱ではなく、他の手法により脱磁処理すべきである。
Process (A)
First, the insulating coated magnetic conductive particles are demagnetized, and the magnetic conductive fine particles are demagnetized and then magnetized. A known method can be applied as a method of demagnetization treatment or magnetization treatment. Further, when the magnetic conductive fine particles are magnetic metal or alloy fine particles, they may be demagnetized by heating to a temperature higher than the Curie temperature, or using a demagnetization / magnetization device as shown in FIG. 2 or FIG. Demagnetization and magnetization can also be performed. In addition, when the insulating coating magnetic conductive particles are resin core nickel plating particles, they should be demagnetized by other methods rather than heating above the Curie temperature.

工程(B)
次に、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を含有する絶縁性接着剤に、脱磁処理された絶縁被覆磁性導電粒子及び脱磁処理後に着磁処理された磁性導電微粒子、並びに必要に応じて有機溶媒を公知の手法により混合分散する。これにより異方性導電接着剤を得ることができる。ここで、多くの場合、この混合分散過程で、磁性導電微粒子が絶縁被覆磁性導電粒子の表面に付着する。また、脱磁処理された絶縁被覆磁性導電粒子表面に、脱磁処理後に着磁処理された磁性導電微粒子を付着させておき、それを絶縁性接着剤に混合してもよい。
Process (B)
Next, an insulating adhesive containing a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and a silane coupling agent was subjected to demagnetization-treated insulating coated magnetic conductive particles and magnetized after demagnetization. Magnetic conductive fine particles and, if necessary, an organic solvent are mixed and dispersed by a known method. Thereby, an anisotropic conductive adhesive can be obtained. Here, in many cases, in this mixing and dispersing process, the magnetic conductive fine particles adhere to the surface of the insulating coated magnetic conductive particles. Alternatively, the magnetically conductive fine particles magnetized after the demagnetization treatment may be adhered to the surface of the insulating coated magnetic conductive particles subjected to the demagnetization treatment, and then mixed with the insulating adhesive.

なお、磁性導電微粒子が絶縁被覆磁性導電粒子の表面に付着している様子は、電子顕微鏡により観察することができる。   The appearance of the magnetic conductive fine particles adhering to the surface of the insulating coated magnetic conductive particles can be observed with an electron microscope.

絶縁性接着剤は、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を予め混合して調製しておいてもよく、これらの成分と絶縁被覆磁性導電粒子及び磁性導電微粒子、更に必要に応じて有機溶剤とを同時に混合して調製してもよい。混合の手法としては、公知の混合手法を利用することができる。   The insulating adhesive may be prepared by previously mixing a film-forming resin, a liquid epoxy compound, a curing agent for epoxy, and a silane coupling agent. These components and the insulating coated magnetic conductive particles and magnetic conductive fine particles may be prepared. Further, if necessary, it may be prepared by mixing with an organic solvent at the same time. As a mixing method, a known mixing method can be used.

有機溶剤としては、公知の異方性導電接着剤、異方性導電フィルム形成用組成物に用いられているトルエンなどの溶剤を使用することができる。その使用量は、必要とする粘度等に応じて適宜決定される。   As the organic solvent, a solvent such as toluene used in a known anisotropic conductive adhesive or anisotropic conductive film forming composition can be used. The amount used is appropriately determined according to the required viscosity and the like.

なお、異方性導電接着剤がフィルムである場合に、工程(B)に続き以下の工程(C)を実施することが好ましい。   In addition, when an anisotropic conductive adhesive is a film, it is preferable to implement the following processes (C) following a process (B).

工程(C)
フィルム形成用に有機溶媒を配合して粘度調整した異方性導電接着剤を、剥離基材の片面に、やはり公知の成膜方法に従って塗布し、乾燥する。これにより異方性導電フィルムを形成することができる。
Process (C)
An anisotropic conductive adhesive whose viscosity is adjusted by blending an organic solvent for film formation is applied to one side of the release substrate according to a known film formation method and dried. Thereby, an anisotropic conductive film can be formed.

剥離基材としては、シリコーン剥離処理してポリテレフタレートフィルムを好ましく使用することができる。塗布・乾燥の操作並びに条件については、従来の異方性導電フィルムの作製の際の塗布・乾燥の操作並びに条件を採用することができる。   As the release substrate, a polyterephthalate film can be preferably used after a silicone release treatment. About the operation and conditions of application | coating and drying, the operation and conditions of application | coating and drying in the case of preparation of the conventional anisotropic conductive film are employable.

<接続構造体>
以上説明した本発明の異方性導電接着剤、好ましくは異方性導電フィルムは、第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子とを異方性導電接続する際に、好ましく適用することができる。この異方性導電接続により第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子とが異方性導電接続されてなる接続構造体が得られる。このような接続構造体も本発明の一態様である。
<Connection structure>
The anisotropic conductive adhesive of the present invention described above, preferably the anisotropic conductive film, is preferably applied when anisotropically conductively connecting the terminal of the first electronic component and the terminal of the second electronic component. can do. By this anisotropic conductive connection, a connection structure in which the terminals of the first electronic component and the terminals of the second electronic component are anisotropically conductive connected is obtained. Such a connection structure is also one embodiment of the present invention.

第1の電子部品及び第2の電子部品としては、発光素子、半導体チップ、半導体モジュールなどの公知の電気素子、フレキシブルプリント配線基板、ガラス配線基板、ガラスエポキシ基板等を適用することができる。また、端子は、銅、金、アルミ、ITOなどの公知の材料から形成された配線や電極パッドあるいはバンプであってもよく、そのサイズにも特に制限はない。   As the first electronic component and the second electronic component, known electric elements such as light emitting elements, semiconductor chips, and semiconductor modules, flexible printed wiring boards, glass wiring boards, glass epoxy boards, and the like can be applied. The terminal may be a wiring, an electrode pad, or a bump formed from a known material such as copper, gold, aluminum, or ITO, and the size is not particularly limited.

なお、本発明の接続構造体の具体例として、COG(chip on glass)、COF(chip on film)、FOG(film on glass)、FOB(Film on Board)等と称されるものを好ましく挙げることができる。   As specific examples of the connection structure of the present invention, what is referred to as COG (chip on glass), COF (chip on film), FOG (film on glass), FOB (Film on Board), or the like is preferably cited. Can do.

<接続構造体の製造方法>
以上説明した接続構造体は、第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子との間に、上述の異方性導電接着剤、好ましくは異方性導電フィルムを配し、異方性導電フィルムを加熱しながら第1の電子部品を第2の電子部品に押圧することにより、それらの端子同士を異方性導電接続することにより製造することができる。この場合、押圧は、金属製加圧ボンダーや弾性ボンダーなどを使用して行うことができる。加熱については、第1の電子部品又は第2の電子部品が載置されるステージに加熱手段を設けて加熱してもよく、ボンダーに加熱手段を設けて加熱してもよい。
<Method for manufacturing connection structure>
The connection structure described above is anisotropic by arranging the above-mentioned anisotropic conductive adhesive, preferably an anisotropic conductive film, between the terminal of the first electronic component and the terminal of the second electronic component. By pressing the first electronic component against the second electronic component while heating the conductive conductive film, the terminals can be manufactured by anisotropic conductive connection. In this case, the pressing can be performed using a metal pressure bonder or an elastic bonder. About heating, a heating means may be provided in the stage in which the 1st electronic component or the 2nd electronic component is mounted, and it may heat by providing a heating means in a bonder.

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.

参照例、実施例1〜9、比較例1〜10
<異方性導電フィルムの作製>
樹脂コアに100nm厚の無電解ニッケルメッキ層が形成された磁性導電粒子(平均粒子径4μm(ブライト20GNR、日本化学工業(株)))と、成膜成分としてビスフェノールA型フェノキシ樹脂(YP50、新日鐵化学(株))と、液状エポキシ化合物成分としてビスフェノールAエポキシ化合物(EP828、三菱化学(株))と、イミダゾール系硬化剤(ノバキュア3941HP、旭化成ケミカル(株))と、シランカップリング剤(A−187、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ合同会社)と、磁性導電微粒子(ニッケル微粒子)とを、表1及び表2に示す配合割合で、トルエンで固形分が50質量%となるように混合することにより異方性導電フィルム形成用組成物を調製した。この組成物を、剥離処理した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムに乾燥厚25μmとなるようにバーコータで塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥することにより、異方性導電フィルムを作成した。
Reference examples, Examples 1-9, Comparative Examples 1-10
<Preparation of anisotropic conductive film>
Magnetic conductive particles (average particle diameter of 4 μm (Bright 20GNR, Nippon Chemical Industry Co., Ltd.)) with a 100 nm thick electroless nickel plating layer formed on the resin core, and bisphenol A type phenoxy resin (YP50, new) Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), a bisphenol A epoxy compound (EP828, Mitsubishi Chemical Co., Ltd.), an imidazole-based curing agent (Novacure 3941HP, Asahi Kasei Chemical Co., Ltd.), and a silane coupling agent (liquid epoxy compound component) A-187, Momentive Performance Materials LLC) and magnetic conductive fine particles (nickel fine particles) are mixed at a blending ratio shown in Tables 1 and 2 so that the solid content is 50% by mass with toluene. Thus, a composition for forming an anisotropic conductive film was prepared. This composition was applied to a peeled polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm with a bar coater so as to have a dry thickness of 25 μm, and dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes to prepare an anisotropic conductive film.

なお、参照例は、磁性導電微粒子を使用しないこと以外は、実施例1と同様に異方性導電フィルム、接続構造体を作製した例である。   In addition, a reference example is an example which produced the anisotropic conductive film and the connection structure similarly to Example 1 except not using magnetic electroconductive fine particles.

<磁性導電粒子の前処理>
なお、母粒子である磁性導電粒子(ブライト20GNR)について、以下に説明するように絶縁被覆をしたものと、絶縁被覆していないものとを用意し、表1、表2に示すように、実施例・比較例に応じて使い分けた。
<Pretreatment of magnetic conductive particles>
For the magnetic conductive particles (Bright 20GNR) which are the mother particles, those having an insulating coating as described below and those not having an insulating coating are prepared, as shown in Tables 1 and 2, They were used properly according to examples and comparative examples.

(磁性導電粒子に対する絶縁被覆の形成)
粒子用樹脂コーティング装置(ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)製)を用い、磁性導電粒子の表面を、アクリル酸・スチレン共重合体(PP−2000S、大日本インキ化学工業株式会社)で被覆した。熱硬化後の絶縁被覆厚は0.2μmであった。
(Formation of insulation coating on magnetic conductive particles)
Using a resin coating device for particles (manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd.), the surface of the magnetic conductive particles was coated with acrylic acid / styrene copolymer (PP-2000S, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.). The insulating coating thickness after thermosetting was 0.2 μm.

また、絶縁被覆磁性導電粒子については、脱磁処理を施したものと、施していないものとを用意し、表1、表2に示すように、実施例・比較例に応じて使い分けた。   Insulating coated magnetic conductive particles were prepared with and without demagnetization treatment, and were used properly according to Examples and Comparative Examples as shown in Tables 1 and 2.

(絶縁被覆磁性導電粒子の脱磁処理)
図1に示す着磁・脱磁装置(ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)製)を用い、脱磁速度1mm/秒、磁界強度400Gにて脱磁処理を行った。
(Demagnetization treatment of insulating coated magnetic conductive particles)
Demagnetization processing was performed at a demagnetization speed of 1 mm / second and a magnetic field strength of 400 G using the magnetizing / demagnetizing apparatus (manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd.) shown in FIG.

<磁性導電微粒子の前処理>
子粒子である磁性導電微粒子(Ni微粒子)について、以下に説明するように絶縁被覆をしたものと、絶縁被覆していないものとを用意し、表1、表2に示すように、実施例・比較例に応じて使い分けた。
<Pretreatment of magnetic conductive fine particles>
For the magnetic conductive fine particles (Ni fine particles) that are the child particles, those having an insulating coating as described below and those not having an insulating coating are prepared, and as shown in Tables 1 and 2, Examples and It was used properly according to the comparative example.

(磁性導電微粒子に対する絶縁被覆の形成)
粒子用樹脂コーティング装置(ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)製)を用い、磁性導電微粒子の表面を、アクリル酸・スチレン共重合体(PP−2000S、大日本インキ化学工業株式会社)で被覆した。絶縁被覆厚は5nmであった。
(Formation of insulation coating on magnetic conductive fine particles)
Using a resin coating device for particles (manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd.), the surface of the magnetic conductive fine particles was coated with an acrylic acid / styrene copolymer (PP-2000S, Dainippon Ink & Chemicals, Inc.). The insulating coating thickness was 5 nm.

また、絶縁被覆された又はされていない磁性導電微粒子については、以下に説明するように、脱磁処理を施した後、着磁処理したものと、脱磁処理を施すことなく、着磁処理をしたものとを用意し、表1、表2に示すように、実施例・比較例に応じて使い分けた。   Further, as described below, the magnetic conductive fine particles with or without insulation coating are subjected to demagnetization treatment and then subjected to magnetization treatment without demagnetization treatment. As shown in Table 1 and Table 2, they were properly used according to the examples and comparative examples.

(磁性導電微粒子の脱磁処理・着磁処理)
図1に示す着磁・脱磁装置(ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)製)を用い、脱磁速度1mm/秒、磁界強度400Gにて脱磁処理を行った。その後、同着磁・脱磁装置を用い、磁界強度400Gにて粒子を移動させず10秒間放置後、脱磁装置の電源を切断することで、着磁処理を行った。
(Demagnetization treatment / magnetization treatment of magnetic conductive fine particles)
Demagnetization processing was performed at a demagnetization speed of 1 mm / second and a magnetic field strength of 400 G using the magnetizing / demagnetizing apparatus (manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd.) shown in FIG. Thereafter, using the same magnetizing / demagnetizing device, the particles were left for 10 seconds without moving at a magnetic field strength of 400 G, and then the power of the demagnetizing device was turned off to perform the magnetizing process.

(磁性導電微粒子の着磁処理)
図1に示す着磁・脱磁装置(ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)製)を用い、脱磁処理を行うことなく、磁界強度400Gにて粒子を移動させず10秒間放置後、脱磁装置の電源を切断することで、着磁処理を行った。
(Magnetic treatment of magnetic conductive fine particles)
Using the magnetizing / demagnetizing device shown in FIG. 1 (manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd.), without demagnetizing, leaving the particles at a magnetic field strength of 400 G for 10 seconds, leaving the magnet The magnetizing process was performed by cutting off the power source.

<接続構造体の作成>
更に、得られた異方性導電フィルムを、以下の電極を有するガラス配線基板の電極と、金バンプ(長さ85μm×幅30μm×高さ15μm、バンプピッチ:35μm、バンプ間スペース10μm)が形成されたICチップ(1.8mm×20mm、0.5mm厚)のバンプとの間に配置し、フリップチップボンダーで190℃、60MPaで10秒間加熱加圧することにより接続構造体を得た。
<Creating a connection structure>
Further, the obtained anisotropic conductive film is formed with a glass wiring board electrode having the following electrodes and a gold bump (length 85 μm × width 30 μm × height 15 μm, bump pitch: 35 μm, space between bumps 10 μm). The connection structure was obtained by placing between the bumps of the IC chip (1.8 mm × 20 mm, 0.5 mm thickness) and heating and pressing with a flip chip bonder at 190 ° C. and 60 MPa for 10 seconds.

(ガラス配線基板の電極材料)
ITO: ポリ(インジウムスズ酸化物)、表面粗さRa=約10.0nm、表面抵抗=10Ω/□
α−ITO:アモルファス(インジウムスズ酸化物)、表面粗さRa=約1.0nm、表面抵抗=10Ω/□
IZO:インジウム亜鉛酸化物、表面粗さRa=約2.0nm、表面抵抗=10Ω/□
Ti:ニオブ添加二酸化チタン、表面粗さRa=約10.0nm、表面抵抗=5Ω/□
(Glass wiring board electrode material)
ITO: Poly (indium tin oxide), surface roughness Ra = about 10.0 nm, surface resistance = 10Ω / □
α-ITO: amorphous (indium tin oxide), surface roughness Ra = about 1.0 nm, surface resistance = 10Ω / □
IZO: Indium zinc oxide, surface roughness Ra = about 2.0 nm, surface resistance = 10Ω / □
Ti: Niobium-added titanium dioxide, surface roughness Ra = about 10.0 nm, surface resistance = 5Ω / □

<評価>
得られた接続構造体について、「接続抵抗」及び「絶縁抵抗」を以下に説明するように測定し評価した。また、絶縁被覆磁性導電粒子のガラス基板の電極への食い込み量を以下のように求めた。得られた結果を表1及び表2に示す。
<Evaluation>
About the obtained connection structure, the "connection resistance" and the "insulation resistance" were measured and evaluated as described below. Further, the amount of the insulating coated magnetic conductive particles biting into the electrode of the glass substrate was determined as follows. The obtained results are shown in Tables 1 and 2.

(接続抵抗評価)
得られた接続構造体の導通抵抗値を、4端子法(インプット電流1mA)により測定し、以下の評価基準に従って評価した。実用上、評価ランクがA又はBであることが望まれる。
(Connection resistance evaluation)
The conduction resistance value of the obtained connection structure was measured by a four-terminal method (input current 1 mA) and evaluated according to the following evaluation criteria. In practice, the evaluation rank is desirably A or B.

ランク 内容
A: 接続抵抗値が10Ω未満
B: 接続抵抗値が10Ω以上50Ω未満
C: 接続抵抗値が50Ω以上100Ω未満
D: 接続抵抗値が100Ω以上
Rank Contents A: Connection resistance value is less than 10Ω B: Connection resistance value is 10Ω or more and less than 50Ω C: Connection resistance value is 50Ω or more and less than 100Ω D: Connection resistance value is 100Ω or more

(絶縁抵抗評価)
得られた接続構造体の隣接ライン間の抵抗値を絶縁抵抗値を測定(印加電圧30V)し、以下の評価基準に従って評価した。実用上、評価ランクがA又はBであることが望まれる。
(Insulation resistance evaluation)
The resistance value between adjacent lines of the obtained connection structure was measured by measuring the insulation resistance value (applied voltage: 30 V) and evaluated according to the following evaluation criteria. In practice, the evaluation rank is desirably A or B.

ランク 内容
A: 絶縁抵抗値が1×10Ω以上
B: 絶縁抵抗値が1×10Ω以上1×10Ω未満
C: 絶縁抵抗値が1×10Ω以上1×10Ω未満
D: 絶縁抵抗値が1×10Ω未満
Rank Contents A: Insulation resistance value is 1 × 10 9 Ω or more B: Insulation resistance value is 1 × 10 8 Ω or more and less than 1 × 10 9 Ω C: Insulation resistance value is 1 × 10 7 Ω or more and less than 1 × 10 8 Ω D: Insulation resistance value is less than 1 × 10 7 Ω

(食い込み量測定)
異方性導電接着後、絶縁被覆磁性導電粒子の表面に付着した磁性導電微粒子の、ガラス基板側の電極への食い込み量(nm)を、走査型電子顕微鏡(S−4700、(株)日立製作所)を用いて観察し、観察画像から読み取った。なお、観察サンプルは実装品サンプルを断面カット処理することにより調製した。実用上、食い込み量は、材料により異なるが、30nm以上であることが望まれる。
(Measurement of bite amount)
After anisotropic conductive adhesion, the amount (nm) of magnetic conductive fine particles adhering to the surface of the insulating coated magnetic conductive particles to the electrode on the glass substrate side was measured with a scanning electron microscope (S-4700, Hitachi, Ltd.). ) And read from the observed image. In addition, the observation sample was prepared by carrying out the cross-section cutting process of the mounting product sample. Practically, the amount of bite varies depending on the material, but is desirably 30 nm or more.

Figure 0005757228
Figure 0005757228

Figure 0005757228
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表1からわかるように、磁性導電微粒子を配合していない参照例の異方性導電フィルムを使用した接続構造体の絶縁抵抗評価はA評価であったが、ガラス基板の電極への食い込み量(5又は10nm)が小さく、接続抵抗評価がC又はD評価であった。   As can be seen from Table 1, the insulation resistance evaluation of the connection structure using the anisotropic conductive film of the reference example not containing the magnetic conductive fine particles was A evaluation, but the amount of biting into the electrode of the glass substrate ( 5 or 10 nm) was small, and the connection resistance evaluation was C or D evaluation.

それに対し、本願発明の実施例1〜9の異方性導電フィルムを使用した接続構造体の場合、接続抵抗評価及び絶縁抵抗評価はいずれもA又はB評価であった。また、いずれも食い込み量が35nm以上あった。   On the other hand, in the case of the connection structure using the anisotropic conductive films of Examples 1 to 9 of the present invention, the connection resistance evaluation and the insulation resistance evaluation were both A or B evaluation. Moreover, all bite amount was 35 nm or more.

一方、磁性導電微粒子の配合量が、絶縁性接着剤成分100質量部に対し、80質量部以上と比較的多くなっている比較例1及び2の異方性導電フィルムを使用した接続構造体の場合、接続抵抗評価がA又はB評価であったが、絶縁抵抗評価がC又はD評価であった。   On the other hand, the connection structure using the anisotropic conductive films of Comparative Examples 1 and 2 in which the blending amount of the magnetic conductive fine particles is relatively large with 80 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the insulating adhesive component. In this case, the connection resistance evaluation was A or B evaluation, but the insulation resistance evaluation was C or D evaluation.

磁性導電微粒子の平均粒径が、0.7μm以上と比較的大きくなっている比較例3及び4の異方性導電フィルムを使用した接続構造体の場合、接続抵抗評価にA評価はなく、絶縁抵抗評価がC又はD評価であった。また、食い込み量も実施例に比べると減少していた。   In the case of the connection structure using the anisotropic conductive films of Comparative Examples 3 and 4 in which the average particle diameter of the magnetic conductive fine particles is relatively large as 0.7 μm or more, there is no A evaluation in connection resistance evaluation, and insulation Resistance evaluation was C or D evaluation. Moreover, the amount of biting was also reduced compared to the examples.

磁性導電粒子が絶縁被覆されていない異方性導電フィルムを使用した比較例5及び6の異方性導電フィルムを使用した接続構造体の場合、絶縁抵抗評価はいずれもD評価であった。   In the case of the connection structure using the anisotropic conductive film of Comparative Examples 5 and 6 using the anisotropic conductive film in which the magnetic conductive particles are not coated with insulation, the insulation resistance evaluation was D evaluation.

脱磁処理を施さずに着磁処理を施した磁性導電微粒子を使用した比較例7及び8の異方性導電フィルムを使用した接続構造体の場合、絶縁抵抗評価はいずれもC評価であった。   In the case of the connection structure using the anisotropic conductive films of Comparative Examples 7 and 8 using the magnetic conductive fine particles subjected to the magnetizing process without performing the demagnetizing process, the insulation resistance evaluation was C evaluation. .

脱磁処理を施していない絶縁被覆磁性導電粒子を使用した比較例8〜10の異方性導電フィルムを使用した接続構造体の絶縁抵抗評価は、いずれもC評価であった。   The insulation resistance evaluation of the connection structures using the anisotropic conductive films of Comparative Examples 8 to 10 using the insulating coated magnetic conductive particles not subjected to demagnetization treatment was C evaluation.

本発明による異方性導電接着剤は、良好な接続信頼性及び絶縁信頼性を示す。従って、電子部品を基板へ異方性導電接続する際に有用である。   The anisotropic conductive adhesive according to the present invention exhibits good connection reliability and insulation reliability. Therefore, it is useful when an electronic component is anisotropically conductively connected to a substrate.

1 絶縁性接着剤
2 絶縁被覆磁性導電粒子
3、21、31 磁性導電微粒子
10 異方性導電接着剤(異方性導電フィルム)
22、32 容器
22a 開口部
23 押圧手段
23a 平板
23b プッシャ
24、34 脱磁コイル
33 液体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating adhesive 2 Insulation covering magnetic conductive particle 3, 21, 31 Magnetic conductive fine particle 10 Anisotropic conductive adhesive (anisotropic conductive film)
22, 32 Container 22a Opening 23 Pressing means 23a Flat plate 23b Pushers 24, 34 Demagnetizing coil 33 Liquid

Claims (12)

成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を含有する絶縁性接着剤中に、絶縁被覆磁性導電粒子が分散されてなる異方性導電接着剤であって、絶縁被覆磁性導電粒子が脱磁処理されたものであり、更に、脱磁処理後に着磁処理された磁性導電微粒子を、成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤の合計100質量部に対し5〜70質量部含有しており、該磁性導電微粒子は、0.05〜0.5μmの平均粒子径を有し且つその平均粒子径は、該絶縁被覆磁性導電粒子の平均粒子径の1〜10%であることを特徴とする異方性導電接着剤。   An anisotropic conductive adhesive in which insulating coating magnetic conductive particles are dispersed in an insulating adhesive containing a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and a silane coupling agent. The magnetic conductive particles are demagnetized, and the magnetic conductive fine particles magnetized after the demagnetization treatment are combined into a total of 100 of a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent, and a silane coupling agent. 5 to 70 parts by mass with respect to parts by mass, the magnetic conductive fine particles have an average particle size of 0.05 to 0.5 μm, and the average particle size is the average particle of the insulating coated magnetic conductive particles An anisotropic conductive adhesive characterized by being 1 to 10% of the diameter. 絶縁被覆磁性導電粒子が、コアとなる樹脂粒子の表面にニッケルメッキ層が形成され、更に絶縁性樹脂で被覆された粒子である請求項1記載の異方性導電接着剤。   The anisotropic conductive adhesive according to claim 1, wherein the insulating coated magnetic conductive particles are particles in which a nickel plating layer is formed on the surface of the resin particles serving as a core and are further coated with an insulating resin. 絶縁被覆磁性導電粒子の平均粒子径が2〜5μmである請求項1又は2記載の異方性導電接着剤。   The anisotropic conductive adhesive according to claim 1 or 2, wherein the insulating coated magnetic conductive particles have an average particle diameter of 2 to 5 µm. 絶縁被覆磁性導電粒子のニッケルメッキ層の厚さが50〜200μmである請求項2記載の異方性導電接着剤。   The anisotropic conductive adhesive according to claim 2, wherein the thickness of the nickel plating layer of the insulating coating magnetic conductive particles is 50 to 200 μm. 磁性導電微粒子がニッケル微粒子である請求項1〜4のいずれかに記載の異方性導電接着剤。   The anisotropic conductive adhesive according to claim 1, wherein the magnetic conductive fine particles are nickel fine particles. 成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤の合計100質量部に対し、絶縁被覆磁性導電粒子を10〜80質量部含有する請求項1〜4のいずれかに記載の異方性導電接着剤。   The insulating coating magnetic conductive particles are contained in 10 to 80 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the film-forming resin, the liquid epoxy compound, the epoxy curing agent and the silane coupling agent. Anisotropic conductive adhesive. 絶縁被覆磁性導電粒子と磁性導電微粒子の質量配合比が、20:1〜7:8(=[絶縁被覆磁性導電粒子: 磁性導電微粒子])である請求項1〜6のいずれかに記載の異方性導電接着剤。   The mass blending ratio of the insulating coated magnetic conductive particles and the magnetic conductive fine particles is 20: 1 to 7: 8 (= [insulating coated magnetic conductive particles: magnetic conductive fine particles]). Isotropic conductive adhesive. 請求項1〜7記載の異方性導電接着剤の製造方法であって、以下の工程(A)及び(B):
工程(A)
絶縁被覆磁性導電粒子を脱磁処理し、他方、磁性導電微粒子を脱磁処理した後に着磁処理する工程;及び
工程(B)
成膜性樹脂、液状エポキシ化合物、エポキシ用硬化剤及びシランカップリング剤を含有する絶縁性接着剤に、脱磁処理された絶縁被覆磁性導電粒子及び脱磁処理後に着磁処理された磁性導電微粒子を混合分散する工程
を有する製造方法。
It is a manufacturing method of the anisotropic conductive adhesive of Claims 1-7, Comprising: The following processes (A) and (B):
Process (A)
A step of demagnetizing the insulating coated magnetic conductive particles, and a step of magnetizing the magnetic conductive fine particles after demagnetizing; and step (B)
Insulating coated magnetic conductive particles demagnetized to an insulating adhesive containing a film-forming resin, a liquid epoxy compound, an epoxy curing agent and a silane coupling agent, and magnetic conductive fine particles magnetized after the demagnetization treatment The manufacturing method which has the process of mixing and dispersing.
異方性導電接着剤がフィルムである場合に、工程(B)に続き以下の工程(C):
工程(C)
異方性導電接着剤を、剥離基材の片面に塗布し、乾燥することにより異方性導電フィルムを形成する工程
を有する請求項8記載の製造方法。
When the anisotropic conductive adhesive is a film, following the step (B), the following step (C):
Process (C)
The manufacturing method of Claim 8 which has a process of apply | coating an anisotropic conductive adhesive to the single side | surface of a peeling base material, and forming an anisotropic conductive film by drying.
磁性導電微粒子が磁性金属又は合金の微粒子である場合に、その脱磁処理が、磁性金属又は合金微粒子をキュリー温度以上に加熱処理することである請求項8又は9記載の製造方法。   10. The method according to claim 8, wherein when the magnetic conductive fine particles are fine particles of a magnetic metal or alloy, the demagnetization treatment is a heat treatment of the magnetic metal or alloy fine particles to a Curie temperature or higher. 第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子とが、請求項1〜7のいずれかに記載の異方性導電剤により異方性導電接続されていることを特徴とする接続構造体。   A connection structure in which a terminal of the first electronic component and a terminal of the second electronic component are anisotropically conductively connected by the anisotropic conductive agent according to any one of claims 1 to 7. body. 第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子とが接続されてなる接続構造体の製造方法であって、第1の電子部品の端子と第2の電子部品の端子との間に、請求項1〜7のいずれかに記載の異方性導電剤を配し、異方性導電剤を加熱しながら第1の電子部品を第2の電子部品に押圧することにより、端子同士を異方性導電接続することを特徴とする接続構造体の製造方法。   A method for manufacturing a connection structure in which a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component are connected, wherein the terminal is connected between the terminal of the first electronic component and the terminal of the second electronic component. By arranging the anisotropic conductive agent according to any one of claims 1 to 7 and pressing the first electronic component against the second electronic component while heating the anisotropic conductive agent, the terminals are connected to each other. A method for manufacturing a connection structure, characterized by anisotropic conductive connection.
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