JP5750101B2 - connector - Google Patents

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    • H01R13/24Contacts for co-operating by abutting resilient; resiliently-mounted
    • H01R13/2407Contacts for co-operating by abutting resilient; resiliently-mounted characterized by the resilient means
    • H01R13/2414Contacts for co-operating by abutting resilient; resiliently-mounted characterized by the resilient means conductive elastomers

Description

本発明は、電子機器に使用される回路基板どうしの間、回路基板と電子部品との間、又は回路基板と導電性を有する電子機器の筐体との間で、電気的に接続するために用いられ、且つ、リフロー炉での実装用途に適したコネクタに関する。   The present invention provides an electrical connection between circuit boards used in an electronic device, between a circuit board and an electronic component, or between a circuit board and a casing of a conductive electronic device. The present invention relates to a connector that is used and suitable for mounting in a reflow furnace.

回路基板どうしの間や回路基板と電子部品との間などの電気的な接続、又は回路基板と導電性を有する電子機器の筐体との間の接地を行うコネクタとして、ゴム状弾性体でなる絶縁性の弾性シートにその厚み方向へ貫通する導電部が設けられている構成のコネクタシートが知られている。   It is made of a rubber-like elastic body as a connector for electrical connection between circuit boards or between a circuit board and electronic components, or for grounding between a circuit board and a casing of a conductive electronic device. A connector sheet having a configuration in which an insulating elastic sheet is provided with a conductive portion penetrating in the thickness direction is known.

コネクタシートとともに電子機器に内蔵される抵抗器、コンデンサ、IC、LSIなどの電子部品は、回路基板に対してリフロー炉を用いて実装される。このハンダリフロー工程は、回路基板の回路パターンに塗布されたペースト状のはんだの上に電子部品を配置し、リフロー炉でそのはんだを溶解して回路パターンと電子部品とを電気的に接続固定する実装工程である。しかしながらコネクタシートは、他の電子機器と同時にハンダリフロー工程にて固定することができなかったため、回路基板に嵌合部を設けてコネクタシートを固定したり、あるいは両面テープや粘着剤を用いて固定していた。これらの固定方法は、他の電子部品とは別の取付け工程で行われるため、工程数の減少の観点から、コネクタシートの取付けもハンダリフロー工程において他の電子素子の実装と同時にできることが望まれている。   Electronic components such as resistors, capacitors, ICs, and LSIs built in the electronic device together with the connector sheet are mounted on the circuit board using a reflow furnace. In this solder reflow process, an electronic component is placed on a paste-like solder applied to a circuit pattern on a circuit board, and the solder is melted in a reflow furnace to electrically connect and fix the circuit pattern and the electronic component. It is a mounting process. However, the connector sheet could not be fixed at the same time as other electronic devices in the solder reflow process, so the connector sheet was fixed by providing a fitting part on the circuit board, or fixed using double-sided tape or adhesive. Was. Since these fixing methods are performed in a separate mounting process from other electronic components, from the viewpoint of reducing the number of processes, it is desirable that the connector sheet can be mounted simultaneously with mounting of other electronic elements in the solder reflow process. ing.

そこで、例えば特開2001−266975号公報には、弾性シートの少なくとも片面に回路基板の金属箔と熱融着が可能な熱融着粉を露出形成したコネクタシートが開示されている。また、特開2000−149665号公報には、回路基板との接点となる電極表面に金属部材を備えるコネクタシートが開示されている。   In view of this, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-266975 discloses a connector sheet in which a thermal fusion powder capable of thermal fusion with a metal foil of a circuit board is exposed on at least one side of an elastic sheet. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-149665 discloses a connector sheet having a metal member on the surface of an electrode serving as a contact point with a circuit board.

特開2001−266975号公報JP 2001-266975 A 特開2000−149665号公報JP 2000-149665 A

ところが、特開2001−266975号公報(特許文献1)に開示されたコネクタシートは、ハンダリフロー工程において熱融着粉が回路基板の電極に融着してコネクタシートを電気的に接続して固定できるものの、導電部と熱融着粉が剥れ易いため熱融着粉が回路基板に固着したままコネクタシートの絶縁弾性体が脱離してしまうおそれがある。また、特開2000−149665号公報(特許文献2)に開示されたコネクタシートは、樹脂フィルムに設けた穴部に導電部となる樹脂を注入して配向するため、導電部が微細であると穴部の中に空気が溜まり易く導通不良を起こし易いという問題がある。   However, the connector sheet disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-266975 (Patent Document 1) is fixed by electrically connecting the connector sheet by fusing the heat-bonding powder to the electrode of the circuit board in the solder reflow process. Although it is possible, the insulating elastic body of the connector sheet may be detached while the heat fusion powder is fixed to the circuit board because the conductive part and the heat fusion powder are easily peeled off. Moreover, since the connector sheet disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-149665 (Patent Document 2) is oriented by injecting a resin serving as a conductive part into a hole provided in the resin film, the conductive part is fine. There is a problem that air easily accumulates in the hole and easily causes poor conduction.

以上のような技術を背景としてなされたのが本発明である。すなわち、本発明の目的は、ハンダリフロー工程で回路基板に固着でき、しかも電極が剥れ難くて電気的な接続の信頼性が高いコネクタを提供することにある。   The present invention has been made against the background of the above technique. That is, an object of the present invention is to provide a connector that can be fixed to a circuit board in a solder reflow process, and that the electrode is difficult to peel off and has high electrical connection reliability.

上記目的を達成すべく以下の構成を提供する。
すなわち、ゴム状弾性体でなるベースゴムと樹脂フィルムでなるベースフィルムとからなる絶縁性のベース部材に、該ベース部材の肉厚を貫通する導電路を設けて接続対象部材どうしを相互に導電接続するコネクタであって、ベースゴムは、ゴム状弾性体中に含まれる導電粒子で通電する粒子導電部を有しており、ベースフィルムは、該ベースフィルムを貫通する貫通孔の周縁にベースフィルムの一方表面に沿って鍔状に広がるはんだ側表面金属部と、該貫通孔の周縁にベースフィルムの他方表面に沿って鍔状に広がるゴム側表面金属部と、はんだ側表面金属部とゴム側表面金属部とを前記貫通孔内を通じて連結する連結金属部と、でなる金属導電部を有しており、ベースゴムの粒子導電部とベースフィルムの金属導電部が連通して前記導電路を形成するコネクタである。
In order to achieve the above object, the following configuration is provided.
In other words, a conductive path that penetrates the thickness of the base member is provided in an insulating base member composed of a base rubber made of a rubber-like elastic body and a base film made of a resin film, and the members to be connected are electrically connected to each other. The base rubber has a particle conductive portion that is energized with conductive particles contained in the rubber-like elastic body, and the base film is formed on the periphery of the through-hole that penetrates the base film. Solder side surface metal part spreading in a bowl shape along one surface, rubber side surface metal part spreading in a bowl shape along the other surface of the base film at the periphery of the through hole, solder side surface metal part and rubber side surface And a metal conductive part that connects the metal part through the through-hole, and the conductive particle part of the base rubber and the metal conductive part of the base film communicate with each other. A connector to form.

ベースゴムとベースフィルムとからなるベース部材と、該ベース部材の肉厚を貫通する導電路と、を備えており、この導電路はベースゴムの粒子導電部とベースフィルムの金属導電部が連通して形成されている。ベースゴムの粒子導電部は、ゴム状弾性体中に含まれる導電粒子で通電するため、ゴム状弾性を有しており圧縮状態で導電接続することができる。よって接続対象部材どうしの間で圧縮挟持できるコネクタを実現することができる。
またベースフィルムの金属導電部は、はんだ側表面金属部とゴム側表面金属部、及び連結金属部を有している。そして、はんだ側表面金属部は、ベースフィルムにおける貫通孔の周縁にベースフィルムの一方表面に沿って表出し鍔状に広がっている。金属部がベースフィルムの表面に沿って鍔状に広がるため、はんだ側表面金属部を介してコネクタをはんだで容易に固定することができ、ハンダリフロー工程で回路基板に固着できるコネクタを実現することができる。さらに、はんだ側表面金属部やゴム側表面金属部はベースフィルムにおけるそれぞれの表面に沿って鍔状に広がっているため、ベースフィルムに対して十分な固着面積を有することができ、ベースフィルムから剥れ難い。
A base member composed of a base rubber and a base film, and a conductive path penetrating through the thickness of the base member. The conductive path communicates with the particle conductive part of the base rubber and the metal conductive part of the base film. Is formed. Since the particle conductive portion of the base rubber is energized by the conductive particles contained in the rubber-like elastic body, it has rubber-like elasticity and can be conductively connected in a compressed state. Therefore, it is possible to realize a connector that can be compressed and clamped between members to be connected.
The metal conductive portion of the base film has a solder side surface metal portion, a rubber side surface metal portion, and a connecting metal portion. And the solder side surface metal part spreads out in the shape of an eaves along the one surface of the base film around the periphery of the through hole in the base film. Since the metal part spreads in a bowl shape along the surface of the base film, the connector can be easily fixed with solder via the solder side surface metal part, and a connector that can be fixed to the circuit board in the solder reflow process is realized. Can do. Furthermore, since the solder-side surface metal part and the rubber-side surface metal part spread in a bowl shape along the respective surfaces of the base film, the solder-side surface metal part and the rubber-side surface metal part can have a sufficient fixing area with respect to the base film. It's difficult.

さらに金属導電部は、はんだ側表面金属部とゴム側表面金属部とが連結金属部で連結されてベースフィルムを挟む構成であるため、H形状の金属導電部の凹部にベースフィルムを係合させることになり、ベースフィルムから金属導電部を脱離し難くすることができる。また、はんだ側表面金属部とゴム側表面金属部とを連結金属部によって電気的に接続することができ、ゴム側表面金属部の粒子導電部とはんだ側表面金属部とを確実に導通することができる。そして、接続信頼性の高いコネクタを実現することができる。
ベースゴムの粒子導電部は、ゴム状弾性体に導電粒子を添加して形成するほかに、絶縁性のゴム状弾性体内に導電粒子を均一分散した構成や、絶縁性のゴム状弾性体の一部に導電粒子を厚み方向に数珠繋ぎにした構成などとすることができる。
Furthermore, since the metal conductive portion is configured such that the solder-side surface metal portion and the rubber-side surface metal portion are connected by the connecting metal portion and sandwich the base film, the base film is engaged with the concave portion of the H-shaped metal conductive portion. As a result, it is possible to make it difficult to remove the metal conductive portion from the base film. Moreover, the solder side surface metal part and the rubber side surface metal part can be electrically connected by the connecting metal part, and the particle conductive part of the rubber side surface metal part and the solder side surface metal part can be reliably conducted. Can do. And a connector with high connection reliability is realizable.
The particle rubber conductive portion of the base rubber is formed by adding conductive particles to a rubber-like elastic body, as well as a structure in which conductive particles are uniformly dispersed in an insulating rubber-like elastic body, or a part of an insulating rubber-like elastic body. It can be set as the structure etc. which connected the conductive particle to the part in the thickness direction.

ゴム側表面金属部は粒子導電部よりもベースフィルムの平面方向に幅広に形成することができる。ゴム側表面金属部の方が粒子導電部よりも幅広なため、粒子導電部の端を確実にゴム側表面金属部に接触させることができる。ベースフィルムとベースゴムの多少の位置ずれがあっても、粒子導電部の端がゴム側表面金属部と接触できない部分が生じることがないため、粒子導電部の導電路が細くなることを防止して、金属部でなる導電路に比べて導電性が劣る粒子導電部に十分に幅広な導電路を確保することができる。また、ゴム側表面金属部の方が粒子導電部よりも幅広なことから、ゴム側表面金属部のベースフィルムに対する固着面積を粒子導電部の端面よりも大きくすることができ、ベースフィルムから剥れ難くすることができる。   The rubber-side surface metal part can be formed wider in the plane direction of the base film than the particle conductive part. Since the rubber side surface metal part is wider than the particle conductive part, the end of the particle conductive part can be reliably brought into contact with the rubber side surface metal part. Even if there is a slight misalignment between the base film and the base rubber, there will be no portion where the end of the particle conductive part cannot contact the metal part on the rubber side surface, thus preventing the conductive path of the particle conductive part from becoming narrow. Thus, it is possible to secure a sufficiently wide conductive path in the particle conductive part which is inferior in conductivity compared to the conductive path made of the metal part. In addition, since the rubber-side surface metal part is wider than the particle conductive part, the fixing area of the rubber-side surface metal part with respect to the base film can be made larger than the end surface of the particle conductive part and peel off from the base film. Can be difficult.

粒子導電部は連結金属部よりもベースフィルムの平面方向に幅広に形成することができる。粒子導電部の方が連結金属部よりも幅広なため、金属でなる連結金属部よりも導電性が劣り易い粒子導電部に対して十分に幅広な導電路を確保することができる。
また、粒子導電部と接続対象部材との接触面積を連結金属部の端部よりも広くすることができ、ベースゴム側の接続対象部材に対して確実に導通接続することができる。
The particle conductive part can be formed wider than the connecting metal part in the plane direction of the base film. Since the particle conductive part is wider than the connecting metal part, a sufficiently wide conductive path can be secured for the particle conductive part whose conductivity is likely to be inferior to that of the connecting metal part made of metal.
Further, the contact area between the particle conductive portion and the connection target member can be made wider than the end portion of the connecting metal portion, and the conductive connection can be reliably established with the connection target member on the base rubber side.

連結金属部が円筒形状であり、粒子導電部の一部がその連結金属部の円筒内を埋めるように形成することができる。連結金属部がベースフィルムの貫通孔内に円筒状に形成されており、この円筒内を粒子導電部で埋めるようにすれば、ベースゴムと金属導電部との固着面積を広げることができ、ベースゴムと金属導電部との固着力を高めることができる。また、連結金属部の円筒内も粒子導電部と金属導電部との接触面となることから、粒子導電部と金属導電部との接触面積を広げることができ、粒子導電部と金属導電部とを確実に導通接続することができる。   The connecting metal part has a cylindrical shape, and a part of the particle conductive part can be formed so as to fill the cylinder of the connecting metal part. The connecting metal part is formed in a cylindrical shape in the through hole of the base film, and if the inside of this cylinder is filled with the particle conductive part, the fixing area between the base rubber and the metal conductive part can be increased, and the base The adhesion force between the rubber and the metal conductive portion can be increased. Further, since the inside of the cylinder of the connecting metal part also becomes a contact surface between the particle conductive part and the metal conductive part, the contact area between the particle conductive part and the metal conductive part can be increased, and the particle conductive part and the metal conductive part Can be securely connected.

ゴム側表面金属部を有するベースフィルムの表面に、ベースフィルムを覆う絶縁性のゴム状弾性体でなる弾性膜を備えることができる。ベースフィルムを弾性膜で覆うため、弾性膜がベースゴムと一体になり、ベースゴムとベースフィルムとの固着強度を高められる。
こうした弾性膜は薄肉に形成することが好ましい。ハンダリフロー工程では、回路基板上にコネクタを配置した後に、高温で溶融したはんだを冷却過程を経て固化することで回路基板にコネクタを固着する。この冷却過程の際、はんだが固化する温度でも200℃〜250℃と高温である。樹脂フィルムでなるベースフィルムの表面にゴム状弾性体でなる弾性膜が積層した状態でこうした高温雰囲気に置かれると、ベースフィルムと弾性膜との熱膨張程度の相違により、ベースフィルムが反った状態になる。すると、この反った状態でコネクタが回路基板に固定されてしまうおそれがある。そこで、弾性膜を薄肉に形成することで、高温の雰囲気中における弾性膜の応力を小さくし、ベースフィルムを反り難くすることができる。
An elastic film made of an insulating rubber-like elastic body covering the base film can be provided on the surface of the base film having the rubber-side surface metal part. Since the base film is covered with the elastic film, the elastic film is integrated with the base rubber, and the fixing strength between the base rubber and the base film can be increased.
Such an elastic film is preferably formed thin. In the solder reflow process, after placing the connector on the circuit board, the connector is fixed to the circuit board by solidifying the solder melted at a high temperature through a cooling process. During this cooling process, the temperature at which the solder solidifies is as high as 200 ° C. to 250 ° C. When placed in such a high-temperature atmosphere with an elastic film made of a rubber-like elastic layer laminated on the surface of the base film made of a resin film, the base film is warped due to the difference in thermal expansion between the base film and the elastic film. become. Then, the connector may be fixed to the circuit board in this warped state. Therefore, by forming the elastic film thin, it is possible to reduce the stress of the elastic film in a high-temperature atmosphere and make it difficult to warp the base film.

はんだ側表面金属部を有するベースフィルムの表面に、ベースフィルムを覆う絶縁性のゴム状弾性体でなる弾性膜を備えることができる。はんだ側表面金属部を有する側のベースフィルムに弾性膜を設けたため、ハンダリフロー工程での高温雰囲気において、ベースフィルムを反り難くすることができる。
さらに、ベースフィルムの両面に弾性膜を設ければ、ベースフィルムの上面側と下面側における熱膨張の応力バランスを取ることができるので、さらにベースフィルムを反り難くすることができる。
An elastic film made of an insulating rubber-like elastic body covering the base film can be provided on the surface of the base film having the solder side surface metal part. Since the elastic film is provided on the base film on the side having the solder-side surface metal portion, the base film can be hardly warped in a high-temperature atmosphere in the solder reflow process.
Furthermore, if an elastic film is provided on both surfaces of the base film, it is possible to balance the thermal expansion stress on the upper surface side and the lower surface side of the base film, so that the base film can be further prevented from warping.

本発明のコネクタによれば、はんだ側表面金属部をはんだで固定することができ、ハンダリフロー工程で回路基板に固着できる。また、ベースフィルムから金属導電部が脱落し難いコネクタである。さらに、ベースフィルム側の金属部とベースゴムの粒子導電部とが確実に広面積で導通接続した接続信頼性の高いコネクタである。   According to the connector of the present invention, the solder side surface metal part can be fixed with solder, and can be fixed to the circuit board in the solder reflow process. Moreover, it is a connector from which a metal electroconductive part does not fall easily from a base film. Furthermore, it is a connector with high connection reliability in which the metal part on the base film side and the particle conductive part of the base rubber are securely connected in a large area.

第1実施形態のコネクタを示す平面図。The top view which shows the connector of 1st Embodiment. 図1のSA−SA線断面図。FIG. 3 is a sectional view taken along line SA-SA in FIG. 1. 第1実施形態のコネクタの変形例を示す拡大断面図。The expanded sectional view which shows the modification of the connector of 1st Embodiment. 第1実施形態のコネクタの別の変形例を示す拡大断面図。The expanded sectional view which shows another modification of the connector of 1st Embodiment. 第2実施形態のコネクタを示す図2相当断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 illustrating a connector according to a second embodiment. 第2実施形態のコネクタを示す下面図。The bottom view which shows the connector of 2nd Embodiment. 第2実施形態のコネクタの変形例を示す下面図。The bottom view which shows the modification of the connector of 2nd Embodiment. 第3実施形態のコネクタを示す図2相当断面図。Sectional drawing equivalent to FIG. 2 which shows the connector of 3rd Embodiment. 第4実施形態のコネクタを示す図2相当断面図。Sectional drawing equivalent to FIG. 2 which shows the connector of 4th Embodiment. 第4実施形態のコネクタの変形例を示す図2相当断面図。Sectional drawing equivalent to FIG. 2 which shows the modification of the connector of 4th Embodiment. 第4実施形態のコネクタの別の変形例を示す図2相当断面図。Sectional drawing equivalent to FIG. 2 which shows another modification of the connector of 4th Embodiment. 第5実施形態のコネクタを示す平面図。The top view which shows the connector of 5th Embodiment. 図12のSB−SB線断面図。SB-SB sectional view taken on the line of FIG. コネクタのさらに別の変形例を示す図2相当断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 2 showing still another modification of the connector.

図面を参照して本発明をさらに詳しく説明する。なお、以下の各実施形態において、共通する構造、材料、製造方法等については重複説明を省略する。また、本明細書では説明の便宜上、図面の上下に対応させてコネクタの上下を定義するが、実際の用いられ方においては、上下が逆転し、また半転することなどがあり得る。   The present invention will be described in more detail with reference to the drawings. In each of the following embodiments, a duplicate description is omitted for common structures, materials, manufacturing methods, and the like. Further, in the present specification, for convenience of explanation, the upper and lower sides of the connector are defined corresponding to the upper and lower sides of the drawing. However, in the actual usage, the upper and lower sides may be reversed or half-turned.

第1実施形態〔図1,図2〕
第1実施形態のコネクタ11を図1,図2に示す。図1はコネクタ11の平面図であり、図2はコネクタ11のSA−SA線断面図である。コネクタ11は、絶縁性のベース部材12を複数の導電路13が上下方向に貫通し、コネクタ11の上下に各々設けた接続対象部材(図示せず)どうしを導電接続する際に用いられる。
First Embodiment (FIGS. 1 and 2) :
A connector 11 of the first embodiment is shown in FIGS. 1 is a plan view of the connector 11, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the connector 11 taken along the line SA-SA. The connector 11 is used when a plurality of conductive paths 13 penetrate the insulating base member 12 in the vertical direction and conductively connect connection target members (not shown) provided on the upper and lower sides of the connector 11.

コネクタ11を構成するベース部材12は、ゴム状弾性体であるベースゴム15と樹脂フィルムであるベースフィルム16である。このうちベースゴム15はコネクタ11にクッション性を付与し、ベースフィルム16はコネクタ11に形状保持性を付与している。   The base member 12 constituting the connector 11 is a base rubber 15 that is a rubber-like elastic body and a base film 16 that is a resin film. Of these, the base rubber 15 imparts cushioning properties to the connector 11, and the base film 16 imparts shape retention to the connector 11.

ベースフィルム16は、絶縁性の樹脂フィルムでなり、その肉厚を貫通する方向に形成された貫通孔16cには金属導電部17が貫入している。
また、ベースゴム15は、ベースフィルム16の厚み方向へ略円柱状に突出した突出部14とベースフィルム16の下面(他方表面)16bを覆う弾性膜15cとを形成している。突出部14は、導電粒子によって通電する粒子導電部15aと、その粒子導電部15aの側面を被覆して保護する保護部15bとを有している。そして、金属導電部17と粒子導電部15aとが連通して導電路13を形成している。
The base film 16 is made of an insulating resin film, and a metal conductive portion 17 penetrates through a through hole 16c formed in a direction penetrating the thickness.
Further, the base rubber 15 forms a protruding portion 14 that protrudes in a substantially cylindrical shape in the thickness direction of the base film 16 and an elastic film 15 c that covers the lower surface (the other surface) 16 b of the base film 16. The protruding portion 14 includes a particle conductive portion 15a that is energized by conductive particles, and a protective portion 15b that covers and protects the side surface of the particle conductive portion 15a. The metal conductive portion 17 and the particle conductive portion 15a communicate with each other to form a conductive path 13.

導電路13を形成する金属導電部17と粒子導電部15aについてさらに詳しく説明する。
ベースフィルム16に設けられた金属導電部17は、ベースフィルム16の貫通孔16cの周縁にベースフィルム16の上面16aに沿って鍔状に広がるはんだ側表面金属部17aと、貫通孔16cの周縁にベースフィルム16の下面16bに沿って鍔状に広がるゴム側表面金属部17bと、はんだ側表面金属部17aとゴム側表面金属部17bとを貫通孔16c内を通じて連結する連結金属部17cとを有している。即ち金属導電部17は、ベースフィルム16を上下面から挟むように形成されている。
The metal conductive portion 17 and the particle conductive portion 15a that form the conductive path 13 will be described in more detail.
The metal conductive portion 17 provided in the base film 16 has a solder side surface metal portion 17a that spreads in a bowl shape along the upper surface 16a of the base film 16 and a periphery of the through hole 16c. A rubber-side surface metal portion 17b that spreads in a bowl shape along the lower surface 16b of the base film 16, and a connecting metal portion 17c that connects the solder-side surface metal portion 17a and the rubber-side surface metal portion 17b through the through-hole 16c. doing. That is, the metal conductive portion 17 is formed so as to sandwich the base film 16 from the upper and lower surfaces.

はんだ側表面金属部17aは、はんだが固着する部分であり、ゴム側表面金属部17bはベースゴム15の粒子導電部15aが固着する部分である。このようなはんだ側表面金属部17aとゴム側表面金属部17bは、ベースフィルム16の上面16aと下面16bにそれぞれ固着する「金属箔」と、これら金属箔の各外面に固着する「めっき層」と、の積層構造である。
連結金属部17cはベースフィルム16の上面16a側と下面16b側を電気的に接続する部分である。本実施形態の連結金属部17cでは、貫通孔16cの壁面に沿う円筒形状であり、ベースフィルム16の上面16a側ではんだ側表面金属部17aに連結し、ベースフィルム16の下面16b側でゴム側表面金属部17bに連結している。このような連結金属部17cは、めっき処理によって形成される「めっき層」である。
金属導電部17を構成する連結金属部17cの「めっき層」とはんだ側表面金属部17aやゴム側表面金属部17bの「めっき層」とは一体物であり、この「めっき層」によってベースフィルム16の上面16a側と下面16b側を電気的に接続している。
The solder side surface metal part 17a is a part to which the solder is fixed, and the rubber side surface metal part 17b is a part to which the particle conductive part 15a of the base rubber 15 is fixed. Such solder-side surface metal portion 17a and rubber-side surface metal portion 17b are each “metal foil” fixed to the upper surface 16a and lower surface 16b of the base film 16, and “plating layer” fixed to each outer surface of these metal foils. And a laminated structure.
The connecting metal portion 17 c is a portion that electrically connects the upper surface 16 a side and the lower surface 16 b side of the base film 16. The connecting metal portion 17c of the present embodiment has a cylindrical shape along the wall surface of the through hole 16c, is connected to the solder side surface metal portion 17a on the upper surface 16a side of the base film 16, and is on the rubber side on the lower surface 16b side of the base film 16 It is connected to the surface metal part 17b. Such a connecting metal portion 17c is a “plating layer” formed by plating.
The “plating layer” of the connecting metal portion 17c constituting the metal conductive portion 17 and the “plating layer” of the solder-side surface metal portion 17a and the rubber-side surface metal portion 17b are integrated, and the “plating layer” serves as a base film. The upper surface 16a side and the lower surface 16b side of 16 are electrically connected.

金属導電部17の材質には、導電性に優れ、簡単にはんだが固着する金属を用いることができる。例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、これらの合金などが挙げられる。これらのなかでも、はんだの密着性、加工性、導電率などから銅を用いることが好ましい。また腐食し難く耐候性の高い金をめっき層に用いることも好ましい。   As the material of the metal conductive portion 17, a metal that is excellent in conductivity and to which solder can be easily fixed can be used. Examples thereof include gold, silver, copper, iron, nickel, and alloys thereof. Among these, it is preferable to use copper from the viewpoint of solder adhesion, workability, conductivity, and the like. It is also preferable to use gold having a high weather resistance for the plating layer, which is difficult to corrode.

はんだ側表面金属部17aとゴム側表面金属部17bの厚みは、5μm〜100μmが好ましい。厚みが5μmより薄いと、はんだ側表面金属部17aとゴム側表面金属部17bが割れ易く導通不良になるおそれがある。厚みが100μmより厚いと電気特性上の問題はないが、はんだ側表面金属部17aとゴム側表面金属部17bをエッチング工程で形成する際に厚いはんだ側表面金属部17aとゴム側表面金属部17bをエッチングする必要からコスト高になる問題や、厚みが厚くなると微細な形状のエッチングが難しくなる問題がある。   The thickness of the solder side surface metal part 17a and the rubber side surface metal part 17b is preferably 5 μm to 100 μm. If the thickness is less than 5 μm, the solder-side surface metal part 17a and the rubber-side surface metal part 17b are liable to break and there is a risk of poor conduction. When the thickness is larger than 100 μm, there is no problem in electrical characteristics, but when the solder side surface metal portion 17a and the rubber side surface metal portion 17b are formed in the etching process, the thick solder side surface metal portion 17a and the rubber side surface metal portion 17b are formed. There is a problem that the cost is high because it is necessary to etch the film, and that a fine shape is difficult to etch when the thickness is large.

一方、ベースゴム15に設けられた粒子導電部15aは、ベースゴム15を貫くとともに、その一部は金属導電部17における連結金属部17cの円筒内を埋めており、その端部はベースフィルム16の上面(一方表面)16a側に露出している。
粒子導電部15aは、絶縁性のゴム状弾性体に導電粒子を添加して形成されるもので、絶縁性のゴム状弾性体の一部に導電粒子を厚み方向に数珠繋ぎにした構成や、絶縁性のゴム状弾性体内に導電粒子を均一分散した構成とすることができる。
On the other hand, the particle conductive portion 15 a provided in the base rubber 15 penetrates the base rubber 15, and a part of the particle conductive portion 15 a fills the cylinder of the connecting metal portion 17 c in the metal conductive portion 17, and an end portion thereof is the base film 16. Is exposed on the upper surface (one surface) 16a side.
The particle conductive portion 15a is formed by adding conductive particles to an insulating rubber-like elastic body, and a configuration in which conductive particles are connected to a part of the insulating rubber-like elastic body in the thickness direction. The conductive particles can be uniformly dispersed in the elastic rubber-like elastic body.

粒子導電部15中の導電粒子の材質には、カーボンブラックや金属粒子などを用いることができる。絶縁性のゴム状弾性体の一部に導電粒子を厚み方向に数珠繋ぎにした構成では、導電粒子に磁性導電体を用いて、磁場配向によって粒子導電部15aを形成する。また、絶縁性のゴム状弾性体内に導電粒子を均一分散した構成では、粒子導電部15aと保護部15bとを同材質で形成し、粒子導電部15aと保護部15bとを簡単に一体化することができる。   Carbon black or metal particles can be used as the material of the conductive particles in the particle conductive portion 15. In a configuration in which conductive particles are connected to a part of an insulating rubber-like elastic body in the thickness direction, the particle conductive portion 15a is formed by magnetic field orientation using a magnetic conductor as the conductive particles. In the configuration in which the conductive particles are uniformly dispersed in the insulating rubber-like elastic body, the particle conductive portion 15a and the protective portion 15b are formed of the same material, and the particle conductive portion 15a and the protective portion 15b are easily integrated. be able to.

導電粒子に用いる磁性導電体の材質としては、例えば、ニッケル、コバルト、鉄、フェライト、又はこれらの合金が挙げられ、これらの形状としては、粒子状、繊維状、細片状、細線状などが挙げられる。さらに良電性の金属、樹脂、セラミックに磁性導電体を被覆したもの、磁性導電体に良電性の金属を被覆したものも用いることができる。良電性の金属には、金、銀、白金、アルミニウム、銅、鉄、パラジウム、クロム、ステンレスなどが挙げられる。磁性導電体の平均粒径が1μm〜200μmであれば、磁場配向によって連鎖状態を形成し易くすることができ、効率よく粒子導電部15aを形成することができる。   Examples of the material of the magnetic conductor used for the conductive particles include nickel, cobalt, iron, ferrite, or an alloy thereof. Examples of these shapes include particles, fibers, strips, and fine wires. Can be mentioned. Further, a material having a good electrical property, a resin, a ceramic coated with a magnetic conductor, or a material in which a magnetic conductor is coated with a electrically conductive metal can also be used. Examples of the electroconductive metal include gold, silver, platinum, aluminum, copper, iron, palladium, chromium, and stainless steel. When the average particle diameter of the magnetic conductor is 1 μm to 200 μm, it is possible to easily form a chain state by magnetic field orientation, and the particle conductive portion 15a can be efficiently formed.

磁場配向によって粒子導電部15aを形成する場合のゴム状弾性体には、液状ゴムを用いる。磁性導電体を分散させた液状ゴムを磁場配向することによって、磁性導電体が数珠繋ぎに形成された粒子導電部15aを形成することができる。この際の液状ゴムの粘度は、1Pa・s〜250Pa・sが好ましく、10Pa・s〜50Pa・sがより好ましい。1Pa・sより粘度が低いと、磁性導電体が沈殿する速度が速く、磁性導電体が弾性部の下方に偏るおそれがある。250Pa・sより粘度が高いと、磁性導電体の液状ゴム内での移動抵抗が大きくなり、配向時間が長くなってしまう。このような液状ゴムの材質は、例えば、シリコーンゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、1,2−ポリブタジエン、スチレン・ブタジエンゴム、ニトリルゴム、ブチルゴム、エチレン・プロピレンゴム、ウレタンゴムなどが挙げられる。
ゴム状弾性体としては液状ゴムを用い、導電粒子としては磁性導電体を用いて、磁場配向によって形成した粒子導電部15aは、磁性導電体の配合量が少なくても導通抵抗を低くすることができ、低硬度の粒子導電部15aとすることができる。よって低荷重で圧縮できるコネクタ11を実現することができる。
Liquid rubber is used for the rubber-like elastic body when the particle conductive portion 15a is formed by magnetic field orientation. By orienting the liquid rubber in which the magnetic conductor is dispersed in a magnetic field, the particle conductive portion 15a in which the magnetic conductors are connected in a daisy chain can be formed. In this case, the viscosity of the liquid rubber is preferably 1 Pa · s to 250 Pa · s, more preferably 10 Pa · s to 50 Pa · s. When the viscosity is lower than 1 Pa · s, the magnetic conductor is precipitated at a high rate, and the magnetic conductor may be biased downward of the elastic portion. If the viscosity is higher than 250 Pa · s, the movement resistance of the magnetic conductor in the liquid rubber increases, and the alignment time becomes longer. Examples of the material of the liquid rubber include silicone rubber, natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, 1,2-polybutadiene, styrene / butadiene rubber, nitrile rubber, butyl rubber, ethylene / propylene rubber, and urethane rubber. .
Liquid rubber is used as the rubber-like elastic body, magnetic conductor is used as the conductive particles, and the particle conductive portion 15a formed by magnetic field orientation can lower the conduction resistance even if the blending amount of the magnetic conductor is small. In other words, the particle conductive portion 15a having a low hardness can be obtained. Therefore, the connector 11 that can be compressed with a low load can be realized.

次に、ベース部材12について説明する。
ベースフィルム16の厚みは、10μm〜200μmであることが好ましい。この範囲であれば、ベースフィルム16の剛性によりコネクタ11の形状保持性が高められ取り扱いが容易である。10μmより薄いとベースフィルム16にコシがなく十分な形状保持性を発揮することができない。また200μmより厚いと全体的にコネクタの厚みが厚くなり薄型化が要求されるコネクタ11としては好ましくない。
ベースフィルム16における貫通孔16cの直径は、0.05mm〜0.3mmとすることが好ましい。0.05mmより小さいと、金属導電部17を形成するめっき処理工程において、めっき液が貫通孔16c内に浸入し難く「めっき層」を形成できなくなるおそれがあり、導通不良を招きやすい。0.3mmより大きいと、金属導電部17のベースフィルム16に対する固着面積が小さくなるため、固着強度も小さくなるおそれがあり、金属導電部17の脱離の原因となりやすい。こうした貫通孔16cは、レーザー加工あるいはドリル加工で形成することができる。
Next, the base member 12 will be described.
The thickness of the base film 16 is preferably 10 μm to 200 μm. Within this range, the shape retention of the connector 11 is enhanced by the rigidity of the base film 16, and the handling is easy. If the thickness is less than 10 μm, the base film 16 is not stiff and sufficient shape retention cannot be exhibited. On the other hand, when the thickness is larger than 200 μm, the thickness of the connector is increased as a whole, which is not preferable as the connector 11 that is required to be thin.
The diameter of the through hole 16c in the base film 16 is preferably 0.05 mm to 0.3 mm. If it is smaller than 0.05 mm, in the plating process for forming the metal conductive portion 17, the plating solution may not easily enter the through-hole 16 c and a “plating layer” may not be formed, which tends to cause poor conduction. If it is larger than 0.3 mm, the fixing area of the metal conductive portion 17 to the base film 16 becomes small, so that the fixing strength may be reduced, and the metal conductive portion 17 is likely to be detached. Such through holes 16c can be formed by laser processing or drilling.

ベースフィルム16の材質には、ハンダリフロー工程で変形し難い耐熱性を有する樹脂フィルムを用いる。具体的には、220℃〜290℃の雰囲気中に20〜30秒置かれても変形しない樹脂フィルムが好ましい。例えば、ポリイミドフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、エポキシ樹脂フィルムなどが挙げられる。これらのなかでも、可とう性、耐熱性、入手容易性などからポリイミドフィルムが好ましい。   As the material of the base film 16, a resin film having heat resistance that is difficult to be deformed in the solder reflow process is used. Specifically, a resin film that does not deform even when placed in an atmosphere of 220 ° C. to 290 ° C. for 20 to 30 seconds is preferable. Examples thereof include a polyimide film, a polyethylene naphthalate film, a polyphenylene sulfide film, and an epoxy resin film. Among these, a polyimide film is preferable from the viewpoint of flexibility, heat resistance, availability, and the like.

ベースゴム15の材質には、ハンダリフロー工程に耐える耐熱性を有するゴム状弾性体を用いることができる。具体的には、220℃〜290℃の雰囲気下に20秒〜30秒晒されても変形や変質などが起き難い熱硬化性ゴムが好ましい。例えば、シリコーンゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、1,2−ポリブタジエン、スチレン・ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、ブチルゴム、エチレン・プロピレンゴム、クロロスルホンゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴム等のポリエチレンゴム、アクリルゴム、エピクロルヒドリンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴムなどが挙げられる。なかでも、成形加工性、電気絶縁性、耐候性などが優れるシリコーンゴムが好ましい。   As the material of the base rubber 15, a rubber-like elastic body having heat resistance that can withstand the solder reflow process can be used. Specifically, a thermosetting rubber that is not easily deformed or deteriorated even when exposed to an atmosphere of 220 ° C. to 290 ° C. for 20 seconds to 30 seconds is preferable. For example, silicone rubber, natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile butadiene rubber, 1,2-polybutadiene, styrene / butadiene rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, butyl rubber, ethylene / propylene rubber, chlorosulfone rubber, chlorosulfonated polyethylene Examples thereof include polyethylene rubber such as rubber, acrylic rubber, epichlorohydrin rubber, fluorine rubber, and urethane rubber. Of these, silicone rubber is preferred because of its excellent moldability, electrical insulation, weather resistance, and the like.

コネクタ11の製造方法について説明する。
先ず、両面(上下面)に金属箔を有する樹脂フィルムを準備する。この樹脂フィルムに、金属箔ごと肉厚を貫通する貫通孔を形成する。そして、この樹脂フィルムに無電解めっき処理をして、金属箔の表面及び貫通孔の壁面に無電解めっき層を形成する。さらに、この無電解めっき層の表面に電気めっき処理を行い、電解めっき層を形成する。その後、金属導電部を形成するめっき層の上にレジスト層を設け、エッチング処理して不要な金属箔とめっき層を除去し後、レジスト層も剥離する。こうして、金属導電部17を備えるベースフィルム16を得る。
A method for manufacturing the connector 11 will be described.
First, a resin film having metal foil on both surfaces (upper and lower surfaces) is prepared. A through hole penetrating the thickness of the metal foil is formed in the resin film. And the electroless-plating process is performed to this resin film, and the electroless-plating layer is formed in the surface of metal foil and the wall surface of a through-hole. Further, an electroplating process is performed on the surface of the electroless plating layer to form an electrolytic plating layer. Thereafter, a resist layer is provided on the plating layer that forms the metal conductive portion, and after etching to remove unnecessary metal foil and the plating layer, the resist layer is also peeled off. In this way, the base film 16 provided with the metal conductive part 17 is obtained.

次に、ベースゴム15を成形する金型を準備する。成形用の金型は非磁性体で形成されており、粒子導電部15aを形成するために強磁性体でなる配向ピンが埋め込んである。この配向ピンの一端は粒子導電部15aを形成する位置のキャビティー面に露出している。この成形用の金型に、金属導電部17を備えるベースフィルム16をセットする。この時、金型の配向ピンの位置と金属導電部17の位置が重なるようにベースフィルム16をセットする。その後、金型内に磁性導電体の導電粒子を配合した液状ゴムを注入し、磁場を印加する。この際、配向ピンに挟まれた部分に磁性導電体が引寄せられ、配向ピンの間に磁性導電体が数珠繋ぎに配向する。そして、液状ゴムを硬化して保護部15bと弾性膜15c、粒子導電部15aを一体に形成してコネクタ11を得る。なお、ベースフィルム16を金型にセットする際に、ベースフィルム16にプライマーを塗布して、ベースフィルム16と弾性膜15cの固着力を高めることができる。   Next, a mold for forming the base rubber 15 is prepared. The molding die is made of a non-magnetic material, and an orientation pin made of a ferromagnetic material is embedded in order to form the particle conductive portion 15a. One end of the orientation pin is exposed on the cavity surface where the particle conductive portion 15a is to be formed. A base film 16 having a metal conductive portion 17 is set in the molding die. At this time, the base film 16 is set so that the position of the orientation pin of the mold and the position of the metal conductive portion 17 overlap. Thereafter, liquid rubber containing conductive particles of a magnetic conductor is injected into the mold, and a magnetic field is applied. At this time, the magnetic conductor is attracted to the portion sandwiched between the orientation pins, and the magnetic conductors are aligned in a chain between the orientation pins. Then, the liquid rubber is cured to integrally form the protective portion 15b, the elastic film 15c, and the particle conductive portion 15a to obtain the connector 11. In addition, when setting the base film 16 to a metal mold | die, a primer can be apply | coated to the base film 16 and the adhesive force of the base film 16 and the elastic film 15c can be raised.

こうして得られたコネクタ11によれば、次のような作用、効果を奏することができる。
ベースゴム15に設けた粒子導電部15aはゴム状弾性を有しており、接続対象部材どうしを圧縮状態で導電接続することができる。そして粒子導電部15aは、はんだ側表面金属部17aに連通しており、このはんだ側表面金属部17aは、粒子導電部15aの幅よりも幅広にベースフィルム16の表面16aに広がっているため、はんだで固定することができる。即ち、幅狭な粒子導電部15aを有していてもハンダリフロー工程で回路基板に固着できるコネクタ11を実現することができる。
According to the connector 11 thus obtained, the following operations and effects can be achieved.
The particle conductive portion 15a provided on the base rubber 15 has rubber-like elasticity, and can electrically connect the connection target members in a compressed state. The particle conductive portion 15a communicates with the solder side surface metal portion 17a, and the solder side surface metal portion 17a extends on the surface 16a of the base film 16 wider than the particle conductive portion 15a. Can be fixed with solder. That is, it is possible to realize the connector 11 that can be fixed to the circuit board in the solder reflow process even if the narrow particle conductive portion 15a is provided.

また、ベースフィルム16に形成したはんだ側表面金属部17aやゴム側表面金属部17bが、ベースフィルム16表面に鍔状に広がり、さらに連結金属部17cと連通してH字状に金属導電部17が形成されるので、両表面金属部17a,17bがベースフィルム16に対して十分な固着面積を実現するとともに、金属導電部17にベースフィルム16が嵌着されるように結合して、ベースフィルム16と金属導電部17との固着力を高めることができる。したがって、金属導電部17がベースフィルム16から離脱し難く、接続対象部材から外れにくいコネクタ11を実現することができる。   Further, the solder side surface metal portion 17a and the rubber side surface metal portion 17b formed on the base film 16 spread in a bowl shape on the surface of the base film 16, and further communicate with the connecting metal portion 17c to form an H-shaped metal conductive portion 17. Thus, both the surface metal parts 17a and 17b realize a sufficient fixing area with respect to the base film 16, and the base film 16 is joined to the metal conductive part 17 so as to be fitted. It is possible to increase the adhesion between the metal 16 and the metal conductive portion 17. Therefore, it is possible to realize the connector 11 in which the metal conductive portion 17 is not easily detached from the base film 16 and is not easily detached from the connection target member.

さらに、ベースゴム15に設けた粒子導電部15aよりもベースフィルム16に設けたゴム側表面金属部17bの方が幅広に形成しているため、ベースゴム15とベースフィルム16との接触面での導電路13を幅広に形成でき、接続信頼性の高いコネクタ11を実現することができる。
ベースゴム15には、ベースフィルム16の下面16bを覆う弾性膜15cを有するため、ベースフィルム16とベースゴム15との固着力の大きなコネクタ11を実現することができる。
また、ベースゴム15に設けられた粒子導電部15aの一部が、連結金属部17cの円筒内を埋めて嵌合していることから、ベースゴム15と金属導電部17との固着力も高めることができる。連結金属部17cの円筒内も粒子導電部15aと金属導電部17との接触面となることから、粒子導電部15aと金属導電部17との接触面積を広げることができ、粒子導電部15aと金属導電部17とを確実に導通接続することができる。
Furthermore, since the rubber-side surface metal portion 17b provided on the base film 16 is wider than the particle conductive portion 15a provided on the base rubber 15, the contact surface between the base rubber 15 and the base film 16 is larger. The conductive path 13 can be formed wide, and the connector 11 with high connection reliability can be realized.
Since the base rubber 15 has the elastic film 15c that covers the lower surface 16b of the base film 16, the connector 11 having a large fixing force between the base film 16 and the base rubber 15 can be realized.
Further, since a part of the particle conductive portion 15a provided on the base rubber 15 is fitted in the cylinder of the connecting metal portion 17c, the adhesion between the base rubber 15 and the metal conductive portion 17 is also increased. be able to. Since the inside of the cylinder of the connecting metal portion 17c also becomes a contact surface between the particle conductive portion 15a and the metal conductive portion 17, the contact area between the particle conductive portion 15a and the metal conductive portion 17 can be increased, and the particle conductive portion 15a The metal conductive part 17 can be reliably connected to the conductive part.

第1実施形態の変形例1〔図3〕
先に例示したコネクタ11では、粒子導電部15aの一部が連結金属部17cの円筒内を埋めていたが、連結金属部17cの円筒内を中空にすることができる。こうしたコネクタ11aを図3で示す。
ベースフィルム16に設けた貫通孔16c内を中空にしても、はんだ側表面金属部17aとゴム側表面金属部17bとを連結金属部17cによって電気的に接続することができる。そして、貫通孔16c内が中空であっても、粒子導電部15aをゴム側表面金属部17bに接触させることができるため、コネクタ11aに導電路13を形成することができる。
貫通孔16c内を中空としたコネクタ11aは、中空にした分だけ軽くでき、大きな貫通孔16cが形成される大型のコネクタ11aを製造する場合に好ましい。
Modification 1 of the first embodiment (FIG. 3) :
In the connector 11 exemplified above, a part of the particle conductive portion 15a fills the cylinder of the connecting metal portion 17c, but the inside of the connecting metal portion 17c can be made hollow. Such a connector 11a is shown in FIG.
Even if the inside of the through hole 16c provided in the base film 16 is hollow, the solder-side surface metal part 17a and the rubber-side surface metal part 17b can be electrically connected by the connecting metal part 17c. And even if the inside of the through-hole 16c is hollow, since the particle | grain conductive part 15a can be made to contact the rubber | gum side surface metal part 17b, the conductive path 13 can be formed in the connector 11a.
The connector 11a in which the inside of the through hole 16c is hollow can be lightened by the amount of the hollow, and is preferable when manufacturing a large connector 11a in which a large through hole 16c is formed.

第1実施形態の変形例2〔図4〕
先に例示したコネクタ11では、粒子導電部15aの一部が連結金属部17cの円筒内を埋める例を示したが、連結金属部17cを金属で中実に形成することができる。こうしたコネクタ11bを図4で示す。
コネクタ11bでは、連結金属部17cをめっきで形成する際に、ベースフィルム16の貫通孔16c内をめっき層で埋めることで中実に形成することができる。
貫通孔16c内を金属で埋めた連結金属部17cを設けても、コネクタ11aに導電路13を形成することができる。
貫通孔16c内を金属で中実としたコネクタ11bは、はんだ側表面金属部17aと連結金属部17c、およびゴム側表面金属部17bと連結金属部17cとの接触面積を大きくすることができ、はんだ側表面金属部17aとゴム側表面金属部17bと連結金属部17cとをより強固に一体化することができる。
Modification 2 of the first embodiment (FIG. 4) :
In the connector 11 exemplified above, an example in which a part of the particle conductive portion 15a fills the cylinder of the connecting metal portion 17c has been shown. However, the connecting metal portion 17c can be made of solid metal. Such a connector 11b is shown in FIG.
In the connector 11b, when the connecting metal portion 17c is formed by plating, it can be formed solid by filling the through hole 16c of the base film 16 with a plating layer.
Even if the connecting metal part 17c in which the inside of the through hole 16c is filled with metal is provided, the conductive path 13 can be formed in the connector 11a.
The connector 11b in which the inside of the through hole 16c is solid with metal can increase the contact area between the solder side surface metal portion 17a and the connection metal portion 17c, and between the rubber side surface metal portion 17b and the connection metal portion 17c. The solder-side surface metal portion 17a, the rubber-side surface metal portion 17b, and the connecting metal portion 17c can be more firmly integrated.

第2実施形態〔図5〜図7〕
第2実施形態のコネクタ21を図5〜図7に示す。図5はコネクタ21の断面図であり、図6及び図7はコネクタ21の下面図である。
コネクタ21では、ベースフィルム16を覆うゴム状弾性体でなる弾性膜25cが、その外縁部分を除いて薄肉に形成されている。
Second Embodiment [FIGS. 5 to 7] :
The connector 21 of 2nd Embodiment is shown in FIGS. FIG. 5 is a sectional view of the connector 21, and FIGS. 6 and 7 are bottom views of the connector 21.
In the connector 21, an elastic film 25 c made of a rubber-like elastic body that covers the base film 16 is formed thin except for an outer edge portion thereof.

弾性膜25cは、先の実施形態で示した弾性膜15cと同様に、ベースフィルム16の下面16bに固着している。しかしながら、突出部14の周囲は肉厚が薄い薄肉部25dとして形成され、コネクタ21の外縁部分は肉厚が厚い厚肉部25eとして形成されている。
薄肉部25dの形状は、図6で示すように、突出部14の形状に合わせた形成とする他に、図7で示すように、格子状に形成することができる。
薄肉部25dの厚みは、ベースフィルム16より薄く形成することが好ましく、5μm以下であることがより好ましい。
The elastic film 25c is fixed to the lower surface 16b of the base film 16 in the same manner as the elastic film 15c shown in the previous embodiment. However, the periphery of the protruding portion 14 is formed as a thin portion 25d having a small thickness, and the outer edge portion of the connector 21 is formed as a thick portion 25e having a large thickness.
As shown in FIG. 6, the thin portion 25d can be formed in a lattice shape as shown in FIG. 7, in addition to being formed in accordance with the shape of the protruding portion 14, as shown in FIG.
The thin portion 25d is preferably formed thinner than the base film 16 and more preferably 5 μm or less.

コネクタ21によれば、薄肉部25dが形成されているため、高温の雰囲気中で弾性膜25cにかかる曲げ方向の応力を小さくすることができ、ベースフィルム16の反りを抑えることができる。
また、厚肉部25eが形成されているため、ベースフィルム16の外縁を捲れ難くすることができ、コネクタ21を取扱い易くすることができる。
According to the connector 21, since the thin portion 25d is formed, the stress in the bending direction applied to the elastic film 25c in a high temperature atmosphere can be reduced, and the warp of the base film 16 can be suppressed.
Moreover, since the thick part 25e is formed, the outer edge of the base film 16 can be made difficult to bend and the connector 21 can be easily handled.

第3実施形態〔図8〕
第3実施形態のコネクタ31を図8に示す。図8はコネクタ31の断面図である。
コネクタ31では、ベースゴム15に弾性膜が形成されておらず、ベースフィルム16の下面16b側でもベースフィルム16が表出している。
また、ベースフィルム16の下面16bには、その外縁の形状を保持する外周リブ37がゴム状弾性体で環状に形成されている。
Third Embodiment (FIG. 8) :
A connector 31 of the third embodiment is shown in FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view of the connector 31.
In the connector 31, no elastic film is formed on the base rubber 15, and the base film 16 is exposed on the lower surface 16 b side of the base film 16.
Further, on the lower surface 16b of the base film 16, an outer peripheral rib 37 that holds the shape of the outer edge thereof is formed in a ring shape with a rubber-like elastic body.

コネクタ31によれば、ベースフィルム16に積層する弾性膜が無いため、弾性膜が存在する際にハンダリフロー工程で生じるベースフィルム16の反りを無くすことができる。
また外周リブ37によって、ベースフィルム16の外縁を捲れ難くすることができ、コネクタ31を取扱い易くすることができる。
According to the connector 31, since there is no elastic film laminated | stacked on the base film 16, when the elastic film exists, the curvature of the base film 16 which arises at a solder reflow process can be eliminated.
Further, the outer peripheral rib 37 makes it difficult for the outer edge of the base film 16 to be drawn, and the connector 31 can be easily handled.

第4実施形態〔図9〕
第4実施形態のコネクタ41を図9に示す。図9はコネクタ41の断面図である。コネクタ41では、ベースフィルム16の上面16a側にも弾性膜45cが設けられている。
弾性膜45cは、金属導電部17におけるはんだ側表面金属部17aの周囲でベースフィルム16の上面16a側を覆って固着している。
Fourth Embodiment (FIG. 9) :
A connector 41 of the fourth embodiment is shown in FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view of the connector 41. In the connector 41, an elastic film 45 c is also provided on the upper surface 16 a side of the base film 16.
The elastic film 45 c covers and adheres to the upper surface 16 a side of the base film 16 around the solder side surface metal portion 17 a in the metal conductive portion 17.

コネクタ41の製造では、コネクタ11を製造した後に、弾性膜45cを形成する金型を用いて弾性膜45cをあとから固着してコネクタ41を製造することができる。即ち、コネクタ11を金型にセットした後、絶縁性の液状ゴムを注入し硬化して弾性膜45cを形成しコネクタ41を得る。   In the manufacture of the connector 41, after the connector 11 is manufactured, the connector 41 can be manufactured by fixing the elastic film 45c later using a mold for forming the elastic film 45c. That is, after the connector 11 is set in a mold, an insulating liquid rubber is injected and cured to form the elastic film 45c to obtain the connector 41.

コネクタ41によれば、ベースフィルム16の下面16bと上面16aを弾性膜15cあるいは弾性膜45cで積層するため、ハンダリフロー工程の高温の雰囲気中において、ベースフィルム16の下面16b側と上面16a側で弾性膜15c,44の応力を受けることができ、ベースフィルム16を反り難くすることができる。
弾性膜45cの厚みを弾性膜15cの厚みよりも薄くすれば、弾性膜45cの材質に弾性膜15cより熱膨張の大きいゴム状弾性体を用いることで、ベースフィルム16の下面16b側と上面16a側における応力バランスを取ることが好ましい。
According to the connector 41, since the lower surface 16b and the upper surface 16a of the base film 16 are laminated with the elastic film 15c or the elastic film 45c, the lower surface 16b side and the upper surface 16a side of the base film 16 are used in the high temperature atmosphere of the solder reflow process. The stress of the elastic films 15c and 44 can be received, and the base film 16 can be made difficult to warp.
If the thickness of the elastic film 45c is made thinner than the thickness of the elastic film 15c, a rubber-like elastic body having a thermal expansion larger than that of the elastic film 15c is used as the material of the elastic film 45c, whereby the lower surface 16b side and the upper surface 16a of the base film 16 are used. It is preferable to balance the stress on the side.

第4実施形態の変形例1〔図10〕
第4実施形態のコネクタ41では弾性膜45cの厚みが弾性膜15cの厚みよりも薄い例を示したが、図10で示すように、変形例1のコネクタ41aではベースフィルム16の下面16bに、弾性膜45cと同等の厚みの薄肉部25dを有する弾性膜25cを設けることができる。
このようすれば、ベースフィルム16の上面16a側と下面16b側における熱膨張の応力バランスを取ることができ、ベースフィルム16を反り難くすることができる。
Modification 1 of the fourth embodiment (FIG. 10) :
In the connector 41 of the fourth embodiment, an example in which the thickness of the elastic film 45c is thinner than the thickness of the elastic film 15c has been shown. However, in the connector 41a of the first modification, as shown in FIG. An elastic film 25c having a thin portion 25d having a thickness equivalent to that of the elastic film 45c can be provided.
If it does in this way, the stress balance of the thermal expansion in the upper surface 16a side and the lower surface 16b side of the base film 16 can be taken, and the base film 16 can be made difficult to warp.

第4実施形態の変形例2〔図11〕
第4実施形態のコネクタ41では弾性膜15cと弾性膜45cを別々に設ける例を示したが、図11で示すように、変形例2のコネクタ41bではベースフィルム16に対して貫通孔16aの他に透孔16dを設け、この透孔16dを通して弾性膜15cと弾性膜45cとを一体に形成することができる。
このように弾性膜15cと弾性膜45cとを一体に形成すれば、ベースフィルム16に対してベースゴム15の固着力が高まり、ベースフィルム16から剥れ難くすることができる。また、コネクタ41の製造では、透孔16dを通じて液状ゴムをベースフィルム16の上面16a側と下面16b側に注入できるため、コネクタ41を簡単に製造することができる。
Modification 2 of the fourth embodiment (FIG. 11) :
In the connector 41 of the fourth embodiment, an example in which the elastic film 15c and the elastic film 45c are separately provided has been shown. However, in the connector 41b of the second modification example, the through-hole 16a and the base film 16 are provided as shown in FIG. A through hole 16d is provided in the elastic film 15c, and the elastic film 15c and the elastic film 45c can be integrally formed through the through hole 16d.
If the elastic film 15c and the elastic film 45c are integrally formed in this way, the fixing force of the base rubber 15 to the base film 16 is increased, and it can be made difficult to peel from the base film 16. Further, in the manufacture of the connector 41, the liquid rubber can be injected into the upper surface 16a side and the lower surface 16b side of the base film 16 through the through holes 16d, so that the connector 41 can be easily manufactured.

第5実施形態〔図12,図13〕
第5実施形態のコネクタ51を図12、図13に示す。図12はコネクタ51の平面図であり、図13はコネクタ51のSB−SB線断面図である。
コネクタ51では、ベースフィルム16の外縁付近に金属でなる補強枠57が設けられている。
Fifth embodiment (FIGS. 12 and 13) :
A connector 51 of the fifth embodiment is shown in FIGS. 12 is a plan view of the connector 51, and FIG. 13 is a cross-sectional view of the connector 51 taken along line SB-SB.
In the connector 51, a reinforcing frame 57 made of metal is provided near the outer edge of the base film 16.

補強枠57は、ベースフィルム16の反りを抑えようとする部材であり、導通路13の周囲を環状に囲むようにしてベースフィルム16の上面16aと下面16bに固着されている。この補強枠57は金属導電部17のはんだ側表面金属部17aやゴム側表面金属部17bと同様に、ベースフィルム16の上面16aと下面16bにそれぞれ固着する「金属箔」と、これら金属箔の各外面に固着する「めっき層」と、の積層構造である。
こうした補強枠57を設ける場合には、ゴム側表面金属部17bの厚みは、25μm〜100μmとすることがより好ましい。厚みが25μm以上であれば、剛性を高めることができ、ハンダリフロー工程においてコネクタ51の反りを大きく軽減することができる。
The reinforcing frame 57 is a member for suppressing warpage of the base film 16 and is fixed to the upper surface 16a and the lower surface 16b of the base film 16 so as to surround the conduction path 13 in an annular shape. This reinforcing frame 57 is similar to the solder side surface metal portion 17a and the rubber side surface metal portion 17b of the metal conductive portion 17, and "metal foil" fixed to the upper surface 16a and the lower surface 16b of the base film 16, respectively. It is a laminated structure of “plating layer” that is fixed to each outer surface.
When such a reinforcing frame 57 is provided, the thickness of the rubber-side surface metal portion 17b is more preferably 25 μm to 100 μm. If thickness is 25 micrometers or more, rigidity can be improved and the curvature of the connector 51 can be reduced greatly in a solder reflow process.

コネクタ51の製造ではコネクタ11の製造と異なり、弾性膜15cとベースゴム15を成形する金型に、金属導電部17と補強枠57を備えるベースフィルム16をセットする。即ち、めっき層を形成した金属箔を有する樹脂フィルムに対し、金属導電部17と補強枠57を形成するめっき層の上にレジスト層を設けてエッチング処理を進め、金属導電部17と補強枠57を同時に形成する。こうして金属導電部17と補強枠57を備えるベースフィルム16に弾性膜15cとベースゴム15を形成してコネクタ51を得る。   In the manufacture of the connector 51, unlike the manufacture of the connector 11, the base film 16 including the metal conductive portion 17 and the reinforcing frame 57 is set in a mold for forming the elastic film 15c and the base rubber 15. That is, for the resin film having a metal foil on which a plating layer is formed, a resist layer is provided on the plating layer that forms the metal conductive portion 17 and the reinforcing frame 57, and an etching process is performed. Are formed at the same time. Thus, the connector 51 is obtained by forming the elastic film 15 c and the base rubber 15 on the base film 16 including the metal conductive portion 17 and the reinforcing frame 57.

コネクタ51によれば、補強枠57の剛性によってベースフィルム16の反りを抑えるため、ハンダリフロー工程において弾性膜15cからベースフィルム16に対し反りを起こすような応力がかかっても、ベースフィルム16を反り難くすることができる。   According to the connector 51, since the warp of the base film 16 is suppressed by the rigidity of the reinforcing frame 57, the base film 16 is warped even if stress is applied to the base film 16 from the elastic film 15c in the solder reflow process. Can be difficult.

補強枠57は、ベースフィルム16の上面16aと下面16bに設けることが好ましいが、ベースフィルム16の片面にのみ設けることもできる。
ベースフィルム16の上面16cに補強枠57を設けた場合は、補強枠57をはんだ固定用の部位として利用することができる。
ベースフィルム16の下面16bに補強枠57を設けた場合は、ベースフィルム16の上面16a側に金属でなる補強枠57が露出しないため、はんだ固定する回路基板と補強枠57との接触を防止することができ、回路基板上の回路と補強枠57の短絡を防ぐことができる。よって回路基板における電極の近傍を高集積化することができる。
The reinforcing frame 57 is preferably provided on the upper surface 16 a and the lower surface 16 b of the base film 16, but may be provided only on one surface of the base film 16.
When the reinforcing frame 57 is provided on the upper surface 16c of the base film 16, the reinforcing frame 57 can be used as a portion for fixing the solder.
When the reinforcing frame 57 is provided on the lower surface 16 b of the base film 16, the reinforcing frame 57 made of metal is not exposed on the upper surface 16 a side of the base film 16, thereby preventing contact between the circuit board to be soldered and the reinforcing frame 57. It is possible to prevent a short circuit between the circuit on the circuit board and the reinforcing frame 57. Therefore, the vicinity of the electrodes on the circuit board can be highly integrated.

各実施形態に共通の変形例
図14で示すように、ベースゴム15に、一部の金属導電部17に対して対応する粒子導電部15aの無い突出部14aを設けることができる。
導電路13を形成しない金属導電部17を回路基板とのはんだ固定用に用いることができる。また、粒子導電部15aの無い突出部14aは、接続対象部材どうしを安定的に弾性保持することができる。
Modification common to each embodiment :
As shown in FIG. 14, the base rubber 15 can be provided with a protruding portion 14 a having no corresponding particle conductive portion 15 a with respect to a part of the metal conductive portion 17.
The metal conductive portion 17 that does not form the conductive path 13 can be used for fixing the solder to the circuit board. Moreover, the protrusion part 14a without the particle | grain conductive part 15a can hold | maintain the connection object members elastically stably.

各コネクタ11,21,31,41,51には任意の数の導電路13を設けることができる。例えば、導電路13を1つだけ設けたり、導電路13をm行n列のように多数設けたりすることができる。また、導電路13を任意の位置に点在して設けることもできる。   Each connector 11, 21, 31, 41, 51 can be provided with an arbitrary number of conductive paths 13. For example, only one conductive path 13 can be provided, or a large number of conductive paths 13 can be provided such as m rows and n columns. Further, the conductive path 13 can be provided in a scattered manner at an arbitrary position.

ベースフィルム16を覆う弾性膜15c,24,44には、線膨張係数がゴム状弾性体より小さい無機粒子を添加することができる。無機粒子の添加で弾性膜15c,24,44の線膨張係数を小さくすることができ、ベースフィルム16の線膨張係数に近づけてハンダリフロー工程におけるベースフィルム16の反りを低減させることができる。線膨張係数がゴム状弾性体より小さい無機粒子には、例えば、シリカ、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素、黒鉛、ガラス繊維、炭素繊維、マイカ、ベーマイト、タルク、あるいはこれらの混合物を用いることができる。これらの中でも線膨張係数が小さく、電気絶縁性に優れ、熱的および化学的に安定なシリカを用いることが好ましい。   To the elastic films 15c, 24, and 44 covering the base film 16, inorganic particles having a linear expansion coefficient smaller than that of the rubber-like elastic body can be added. By adding inorganic particles, the linear expansion coefficient of the elastic films 15c, 24, and 44 can be reduced, and the warpage of the base film 16 in the solder reflow process can be reduced by approaching the linear expansion coefficient of the base film 16. For the inorganic particles having a linear expansion coefficient smaller than that of the rubber-like elastic body, for example, silica, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon nitride, graphite, glass fiber, carbon fiber, mica, boehmite, talc, or a mixture thereof may be used. it can. Among these, it is preferable to use silica having a small linear expansion coefficient, excellent electrical insulation, and thermally and chemically stable.

上記各実施形態は本願発明の例示であり、矛盾が生じない限度において、上記各実施形態で示した構成要素は他の実施形態で示した構成要素に適宜変更することができる。   Each said embodiment is an illustration of this invention, and in the limit which does not produce contradiction, the component shown by each said embodiment can be suitably changed into the component shown by other embodiment.

厚みが50μmのポリイミドフィルムの両面が35μmの厚みの銅箔で被覆された両面銅箔ポリイミドフィルム(16)を準備する。この両面銅箔ポリイミドフィルム(16)に、銅箔とポリイミドフィルムを貫通する直径0.1mmの貫通孔(16c)を形成する。次に、この両面銅箔ポリイミドフィルム(16)に無電解銅めっき処理をして、銅箔の表面及び貫通孔(16c)の壁面に無電解銅めっき層を形成する。さらにこの無電解銅めっき層の表面に、電気銅めっき処理を行い、厚みが10μmの銅めっき層を形成する。   A double-sided copper foil polyimide film (16) in which both sides of a polyimide film having a thickness of 50 μm are coated with a copper foil having a thickness of 35 μm is prepared. The double-sided copper foil polyimide film (16) is formed with a through hole (16c) having a diameter of 0.1 mm that penetrates the copper foil and the polyimide film. Next, the double-sided copper foil polyimide film (16) is subjected to an electroless copper plating process to form an electroless copper plating layer on the surface of the copper foil and the wall surface of the through hole (16c). Furthermore, an electrolytic copper plating process is performed on the surface of the electroless copper plating layer to form a copper plating layer having a thickness of 10 μm.

めっき処理を行った両面銅箔ポリイミドフィルム(16)について、はんだ側表面金属部(17a)やゴム側表面金属部(17b)として残す部分にレジスト層を形成する。なお、はんだ側表面金属部(17a)やゴム側表面金属部(17b)は、直径0.6mmの円形状としてポリイミドフィルム(16)の表裏面に重なるようにした。そして、レジスト層を設けていない部分の銅箔及び銅めっき層をエッチング除去してから、レジスト層を剥離した。さらに、銅の表面に厚み0.5μmの金めっき層を形成して、金属導電部(17)を備えるベースフィルム(16)を得た。   About the double-sided copper foil polyimide film (16) which performed the plating process, a resist layer is formed in the part left as a solder side surface metal part (17a) or a rubber side surface metal part (17b). The solder-side surface metal part (17a) and the rubber-side surface metal part (17b) were formed in a circular shape with a diameter of 0.6 mm so as to overlap the front and back surfaces of the polyimide film (16). And after removing the copper foil and copper plating layer of the part which has not provided the resist layer by etching, the resist layer was peeled. Further, a gold plating layer having a thickness of 0.5 μm was formed on the copper surface to obtain a base film (16) having a metal conductive portion (17).

次にベースゴム(15)を成形するための金型を準備する。この金型は非磁性体で形成されており、粒子導電部(15a)を形成するために強磁性体でなる配向ピンを埋め込んである。この配向ピンの一端は、粒子導電部(15a)を形成する位置のキャビティー面に露出している。この金型に、金属導電部(17)を備えるベースフィルム(16)をセットする。ここで、金型の配向ピンの位置と金属導電部(17)の位置が重なるようにベースフィルム(16)をセットする。そして金型内に、磁性導電体として粒径40μmの銀めっきニッケル粒子を配合した液状シリコーンゴムを注入し、磁場を印加する。この時、強磁性体の配向ピンに挟まれた部分に磁性体を引寄せて、コネクタの厚み方向に磁性導電体が配向した粒子導電部(15a)を形成する。その後、液状シリコーンゴムを硬化して金属導電部(17)を備えたベースフィルム(16)と一体にすることで、導電路(13)を有する第1実施形態のコネクタ(11)を製造した。   Next, a mold for forming the base rubber (15) is prepared. This mold is made of a non-magnetic material, and an orientation pin made of a ferromagnetic material is embedded in order to form the particle conductive portion (15a). One end of the orientation pin is exposed on the cavity surface where the particle conductive portion (15a) is to be formed. A base film (16) having a metal conductive part (17) is set in this mold. Here, the base film (16) is set so that the position of the orientation pin of the mold and the position of the metal conductive portion (17) overlap. And liquid silicone rubber which mix | blended silver plating nickel particle | grains with a particle size of 40 micrometers as a magnetic conductor is inject | poured in a metal mold | die, and a magnetic field is applied. At this time, the magnetic material is attracted to the portion sandwiched between the orientation pins of the ferromagnetic material to form the particle conductive portion (15a) in which the magnetic conductor is oriented in the thickness direction of the connector. Thereafter, the liquid silicone rubber was cured and integrated with the base film (16) provided with the metal conductive portion (17) to manufacture the connector (11) of the first embodiment having the conductive path (13).

11 コネクタ(第1実施形態)
11a コネクタ(第1実施形態の変形例1)
11b コネクタ(第1実施形態の変形例2)
12 ベース部材
13 導電路
14 突出部
14a 突出部
15 ベースゴム
15a 粒子導電部
15b 保護部
15c 弾性膜
16 ベースフィルム
16a 上面(一方表面)
16b 下面(他方表面)
16c 貫通孔
16d 透孔
17 金属導電部
17a はんだ側表面金属部
17b ゴム側表面金属部
17c 連結金属部
21 コネクタ(第2実施形態)
21a コネクタ(第2実施形態の変形例)
25c 弾性膜
25d 薄肉部
25e 厚肉部
31 コネクタ(第3実施形態)
37 外周リブ
41 コネクタ(第4実施形態)
41a コネクタ(第4実施形態の変形例1)
41b コネクタ(第4実施形態の変形例2)
45c 弾性膜
51 コネクタ(第5実施形態)
57 補強枠
61 コネクタ(第1実施形態の変形例3)
11 Connector (first embodiment)
11a Connector (Modification 1 of the first embodiment)
11b Connector (Modification 2 of the first embodiment)
12 Base member 13 Conductive path 14 Protruding portion 14a Protruding portion 15 Base rubber 15a Particle conducting portion 15b Protective portion 15c Elastic film 16 Base film 16a Upper surface (one surface)
16b Lower surface (the other surface)
16c Through-hole 16d Through-hole 17 Metal conductive portion 17a Solder side surface metal portion 17b Rubber side surface metal portion 17c Connection metal portion 21 Connector (second embodiment)
21a connector (modified example of the second embodiment)
25c Elastic membrane 25d Thin part 25e Thick part 31 Connector (3rd Embodiment)
37 outer peripheral rib 41 connector (fourth embodiment)
41a Connector (Modification 1 of 4th Embodiment)
41b Connector (Modification 2 of 4th Embodiment)
45c Elastic membrane 51 connector (fifth embodiment)
57 Reinforcing frame 61 Connector (Modification 3 of the first embodiment)

Claims (8)

ゴム状弾性体でなるベースゴムと樹脂フィルムでなるベースフィルムとからなる絶縁性のベース部材に、該ベース部材の肉厚を貫通する導電路を設けて接続対象部材どうしを相互に導電接続するコネクタであって、
ベースゴムは、ゴム状弾性体中に含まれる導電粒子で通電する粒子導電部を有しており、
ベースフィルムは、該ベースフィルムを貫通する貫通孔の周縁にベースフィルムの一方表面に沿って鍔状に広がるはんだ側表面金属部と、該貫通孔の周縁にベースフィルムの他方表面に沿って鍔状に広がるゴム側表面金属部と、はんだ側表面金属部とゴム側表面金属部とを前記貫通孔内を通じて連結する連結金属部と、でなる金属導電部を有しており、
ベースゴムの粒子導電部とベースフィルムの金属導電部が連通して前記導電路を形成しており、
ゴム側表面金属部を有するベースフィルムの表面に、ベースフィルムを覆う絶縁性のゴム状弾性体でなる弾性膜を備えるコネクタ。
A connector for providing a conductive path that penetrates the thickness of the base member on an insulating base member made of a base rubber made of a rubber-like elastic body and a base film made of a resin film, thereby electrically connecting the connection target members to each other. Because
The base rubber has a particle conductive portion that is energized with conductive particles contained in the rubber-like elastic body,
The base film has a solder-side surface metal portion extending in a bowl shape along one surface of the base film at the periphery of the through hole penetrating the base film, and a bowl shape along the other surface of the base film at the periphery of the through hole. A metal conductive portion comprising: a rubber-side surface metal portion that spreads through; and a connecting metal portion that connects the solder-side surface metal portion and the rubber-side surface metal portion through the through hole;
The conductive conductive path is formed by communicating the particle conductive portion of the base rubber and the metal conductive portion of the base film ,
A connector comprising an elastic film made of an insulating rubber-like elastic body covering a base film on the surface of a base film having a rubber-side surface metal part .
はんだ側表面金属部を有するベースフィルムの表面に、ベースフィルムを覆う絶縁性のゴム状弾性体でなる弾性膜を備える請求項1記載のコネクタ。 The connector according to claim 1 , further comprising an elastic film made of an insulating rubber-like elastic body covering the base film on a surface of the base film having the solder side surface metal part. ゴム側表面金属部を有するベースフィルムの表面を覆う絶縁性のゴム状弾性体でなる弾性膜が、はんだ側表面金属部を有するベースフィルムの表面を覆う絶縁性のゴム状弾性体でなる弾性膜と同等の厚みである請求項2記載のコネクタ。An elastic film made of an insulating rubber-like elastic body covering the surface of a base film having a rubber-side surface metal part, and an elastic film made of an insulating rubber-like elastic body covering the surface of the base film having a solder-side surface metal part The connector according to claim 2, which has a thickness equivalent to that of the connector. ゴム状弾性体でなるベースゴムと樹脂フィルムでなるベースフィルムとからなる絶縁性のベース部材に、該ベース部材の肉厚を貫通する導電路を設けて接続対象部材どうしを相互に導電接続するコネクタであって、
ベースゴムは、ゴム状弾性体中に含まれる導電粒子で通電する粒子導電部を有しており、
ベースフィルムは、該ベースフィルムを貫通する貫通孔の周縁にベースフィルムの一方表面に沿って鍔状に広がるはんだ側表面金属部と、該貫通孔の周縁にベースフィルムの他方表面に沿って鍔状に広がるゴム側表面金属部と、はんだ側表面金属部とゴム側表面金属部とを前記貫通孔内を通じて連結する連結金属部と、でなる金属導電部を有しており、
ベースゴムの粒子導電部とベースフィルムの金属導電部が連通して前記導電路を形成しており、
はんだ側表面金属部を有するベースフィルムの表面に、ベースフィルムを覆う絶縁性のゴム状弾性体でなる弾性膜を備えるコネクタ。
A connector for providing a conductive path that penetrates the thickness of the base member on an insulating base member made of a base rubber made of a rubber-like elastic body and a base film made of a resin film, thereby electrically connecting the connection target members to each other. Because
The base rubber has a particle conductive portion that is energized with conductive particles contained in the rubber-like elastic body,
The base film has a solder-side surface metal portion extending in a bowl shape along one surface of the base film at the periphery of the through hole penetrating the base film, and a bowl shape along the other surface of the base film at the periphery of the through hole. A metal conductive portion comprising: a rubber-side surface metal portion that spreads through; and a connecting metal portion that connects the solder-side surface metal portion and the rubber-side surface metal portion through the through hole;
The conductive conductive path is formed by communicating the particle conductive portion of the base rubber and the metal conductive portion of the base film ,
A connector comprising an elastic film made of an insulating rubber-like elastic body covering a base film on the surface of a base film having a solder side surface metal part .
ゴム側表面金属部が粒子導電部よりもベースフィルムの平面方向に幅広に形成されている請求項1〜請求項4何れか1項記載のコネクタ。 The connector according to any one of claims 1 to 4, wherein the rubber-side surface metal part is formed wider in the planar direction of the base film than the particle conductive part. 粒子導電部が連結金属部よりもベースフィルムの平面方向に幅広に形成されている請求項1〜請求項5何れか1項記載のコネクタ。 The connector according to any one of claims 1 to 5, wherein the particle conductive portion is formed wider in the plane direction of the base film than the connecting metal portion. 連結金属部が円筒形状であり、
粒子導電部の一部がその連結金属部の円筒内を埋めるように形成されている請求項1〜請求項6何れか1項記載のコネクタ。
The connecting metal part is cylindrical,
The connector according to any one of claims 1 to 6, wherein a part of the particle conductive part is formed so as to fill a cylinder of the connecting metal part.
ベースフィルムの外縁に金属でなる補強枠が設けられている請求項1〜請求項7何れか1項記載のコネクタ。The connector according to claim 1, wherein a reinforcing frame made of metal is provided on an outer edge of the base film.
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