JP5719709B2 - Band position control apparatus and method for solution casting equipment - Google Patents
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Description
本発明は、溶液製膜設備のバンド位置制御装置及び方法に関する。 The present invention relates to a band position control apparatus and method for solution casting equipment.
長尺の光学フィルムの代表的な製造方法としては、連続方式の溶液製膜方法がある。溶液製膜方法は、周知のように、ポリマが溶剤に溶解している溶液(ドープ)を、走行する流延支持体の上に流延し、流延により膜状になったドープ、すなわち流延膜を流延支持体から剥がして乾燥することによりフィルムを製造する方法である。 As a typical method for producing a long optical film, there is a continuous solution casting method. As is well known, in the solution casting method, a solution (dope) in which a polymer is dissolved in a solvent is cast on a running casting support, and the dope is formed into a film by casting. This is a method for producing a film by peeling a cast film from a casting support and drying it.
流延支持体には金属製のバンドやドラムがある。ドラムの場合には流延から剥がされるまでの距離がバンドに比べて短くなるため、流延膜が支持体から剥がせる程度の自己支持性を備えるように乾燥させる場合には不利である。このため、流延膜を長い距離で支持することができるバンド方式が多く利用されている。ところで、製造することができるフィルムの幅はバンドの幅に制約される。より広い幅のフィルムを製造するには、より広い幅のバンドが必要となる。しかし、これまで、バンドの製造技術上の問題から、幅が2m程度までのバンドしか得られていないのが現状である。 Casting supports include metal bands and drums. In the case of a drum, since the distance from casting to peeling is shorter than that of the band, it is disadvantageous when drying so that the casting film has a self-supporting property that can be peeled off from the support. For this reason, a band system that can support the cast film at a long distance is often used. By the way, the width of the film that can be manufactured is limited by the width of the band. To produce a wider film, a wider band is required. However, up to now, only a band with a width of up to about 2 m has been obtained due to problems in the manufacturing technology of the band.
特許文献1では、以下のようにしてフィルム製造装置における蛇行を制御している。先ず、エンドレスベルト(バンド)が正規走行路より右方に位置ずれを起こした際に、この位置ずれを第1検知手段で検知する。第1検知手段は位置ずれを検出したときに、右側修正指令信号を出力して右側伸縮手段により右側軸受部材を固定する。この状態では左側軸受部材はフリー状態が維持されるため、位置ずれを起こしたバンドからの張力により、ターンプーリ(ターンドラム)の回転軸が傾斜する。この傾斜によりバンドが張力の小さい方に移動し、バンドの位置ずれが修正される。同様にして、バンドが正規走行路より左方に位置ずれを起こした際にも、第2検知手段がこれを検知して同様の動作を行うことにより、位置ずれが修正される。
In
特許文献2では、エンドレスベルトを保持する第1ドラムの近くに、ベルトエッジの位置を検出する第1ベルト位置検出手段と、第2ドラムの近くにベルトエッジの位置を検出する第2ベルト位置検出手段とを設け、各検出手段の位置検出情報と基準位置との差に応じて、ベルト位置調整機構を制御する。ベルト位置調整機構は、第2ドラムの一端部をシリンダによって変位させてドラム軸を傾斜させ、特許文献1と同様に蛇行を抑えている。
In
ところで、従来は広幅の要求がなかったため、バンドの蛇行量としてはバンドの幅方向に、例えば2mのバンド幅の場合に50mm程度は許されていた。したがって、上記のような蛇行制御方法によっても対応が可能である。しかしながら、広幅化の要請によって、上記非流延領域を狭くしていくと、例えば2mのバンド幅の場合にはその蛇行量を2mm程度に抑える必要が出てくる。このため、例えば先行文献1,2に記載のように、一方の軸端部を変位させてターンドラム軸を傾斜させ、バンドの張力を利用しターンドラム上でバンドを移動させて位置ずれを修正する方法では、迅速に且つ精度良く位置ずれを修正することができず、広幅化の要請に対応することができないという問題がある。
By the way, since there was no requirement for a wide width conventionally, the meandering amount of the band was allowed to be about 50 mm in the band width direction, for example, in the case of a band width of 2 m. Therefore, it is possible to cope with the meandering control method as described above. However, if the non-casting region is narrowed due to a demand for widening, for example, in the case of a bandwidth of 2 m, it becomes necessary to suppress the meandering amount to about 2 mm. For this reason, for example, as described in the
また、流延ダイのバンド走行方向上流側には、流延ダイからバンドに至るドープ流れであるビードを安定させるために、内部を負圧にした減圧チャンバを設けている。この減圧チャンバにおいて、負圧を一定に保つためには、バンドとの隙間を一定に保つ必要がある。したがって、バンドの蛇行量が大きくなると、減圧チャンバ内にバンドの側縁が位置してしまうこともある。この場合には、バンドの厚み分の隙間が減圧チャンバの側縁部にできてしまい、負圧の急激な変動が発生してビードが不安定になってしまうという問題がある。 Further, a decompression chamber having a negative pressure inside is provided on the upstream side in the band running direction of the casting die in order to stabilize the bead that is a dope flow from the casting die to the band. In this decompression chamber, in order to keep the negative pressure constant, it is necessary to keep the gap with the band constant. Therefore, when the amount of meandering of the band increases, the side edge of the band may be located in the decompression chamber. In this case, there is a problem that a gap corresponding to the thickness of the band is formed at the side edge of the decompression chamber, and a sudden fluctuation of the negative pressure occurs and the bead becomes unstable.
さらに、溶液製膜設備において、長期間のバンドの使用によってフィルムに厚みムラや表面特性ムラが発生することがある。鋭意研究を重ねた結果、この厚みムラ等はバンドを長期間使用することによって発生すること、特にバンドのドラム上における蛇行に起因するストレスによることが判明した。すなわち、バンドが蛇行する場合には、例えばドラムの周面上で、バンドがドラムの回転軸方向に滑って移動する。このドラム周面上におけるドラム回転軸方向への移動によって、バンドにはストレスがかかり、主に裏面に、走行方向に長い筋状の厚みムラ(ピーク)が発生し、このバンドの厚みムラは、バンド上の流延膜に転写され、フィルムの厚みムラ、表面特性ムラとなって現れることが判った。このため、バンドへのストレスを軽減するために、バンドの蛇行を効果的に抑える必要がある。 Furthermore, in a solution casting apparatus, the use of a band for a long time may cause unevenness in thickness or surface characteristics on the film. As a result of intensive studies, it has been found that this unevenness in thickness and the like is caused by long-term use of the band, particularly due to stress caused by meandering on the drum of the band. That is, when the band meanders, the band slides and moves in the direction of the rotation axis of the drum, for example, on the circumferential surface of the drum. Due to the movement in the drum rotation axis direction on the drum peripheral surface, stress is applied to the band, and a stripe-like thickness unevenness (peak) that is long in the running direction occurs mainly on the back surface. It was transferred to the casting film on the band, and it was found that the film appeared as uneven thickness and surface characteristics. For this reason, in order to reduce stress on the band, it is necessary to effectively suppress the meandering of the band.
しかしながら、従来の蛇行制御では、流延位置でのバンドの振れを小さくするという観点のみに着目しているため、流延位置の振れを小さくすることはできるものの、フィルムの厚みムラを無くすということには着目されていなかった。このため、経年変化による厚みムラ対策が不十分であり、厚みムラを少なくすることが望まれていた。 However, the conventional meandering control focuses only on the viewpoint of reducing the fluctuation of the band at the casting position, so that the fluctuation of the casting position can be reduced, but the film thickness unevenness is eliminated. Did not pay attention to. For this reason, measures against thickness unevenness due to secular change are insufficient, and it has been desired to reduce thickness unevenness.
そこで、本発明は、バンドへのストレスを極力抑えてバンドの長寿命化と筋状の厚みムラを無くすようにし、しかも広幅化にも対応可能な溶液製膜設備のバンド位置制御装置及び方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a band position control device and method for a solution film-forming facility that suppresses stress on the band as much as possible to eliminate band unevenness and streak-like thickness unevenness, and can also cope with widening. The purpose is to provide.
上記課題を解決するために、本発明は、第1ドラムと第2ドラムとの間に掛け渡されて、前記第1ドラムから前記第2ドラムに向かう第1方向に走行するバンド上に、ポリマが溶剤に溶解したドープを流延ダイから流延して前記バンドに流延膜を形成し、前記流延膜を前記バンドから剥がして乾燥させフィルムにする溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御装置であって、前記第2ドラムの両軸端部の両軸受を前記第1方向に個別に移動させる右側移動機構及び左側移動機構と、前記第2ドラムの両軸受の前記第1方向における位置を検出する第2ドラム右側位置センサ及び第2ドラム左側位置センサと、前記バンドの幅方向である第2方向におけるバンドエッジ位置を前記第2ドラムにて検出する第2ドラムバンドエッジ位置センサと、前記第2ドラムバンドエッジ位置センサからのバンドエッジ位置信号に基づき前記第2ドラムの前記第2方向におけるバンドエッジの移動速度を検出し、このバンドエッジ移動速度に基づき前記第2ドラムの傾きを求め、前記右側移動機構及び前記左側移動機構を作動させて、前記第2ドラムの傾きに基づき前記バンドエッジ移動速度を0にする方向に前記第2ドラムを傾斜させ、バンドエッジ位置の変動を抑えるバンドエッジ位置コントローラとを有する。 In order to solve the above problems, the present invention provides a polymer on a band that runs between a first drum and a second drum and travels in a first direction from the first drum toward the second drum. A band edge position control device for a solution casting apparatus in which a dope dissolved in a solvent is cast from a casting die to form a casting film on the band, and the casting film is peeled off from the band and dried to form a film. A right side moving mechanism and a left side moving mechanism for individually moving both bearings at both shaft end portions of the second drum in the first direction, and positions of both bearings of the second drum in the first direction. a second drum right position sensor and the second drum left position sensor for detecting a second drum band edge position sensor for detecting a band edge position in the second drum in the second direction is the width direction of the band, the A band edge moving speed in the second direction of the second drum is detected based on a band edge position signal from a two-drum band edge position sensor, and an inclination of the second drum is obtained based on the band edge moving speed; A band edge position that operates the right side moving mechanism and the left side moving mechanism to incline the second drum in a direction that makes the band edge moving speed zero based on the inclination of the second drum, and suppresses fluctuations in the band edge position. And a controller.
前記バンドエッジ位置コントローラは、前記第2ドラムの前記第2方向におけるバンドエッジの移動速度を検出する第2ドラムバンドエッジ移動速度検出部と、前記第2ドラムバンドエッジ移動速度検出部からの第2ドラムバンドエッジ位置移動速度に基づき第2ドラムの傾きを求める第2ドラム傾き演算部と、前記第2ドラム傾き演算部からの第2ドラムの傾きに基づき、前記右側移動機構及び左側移動機構のドラム位置差を求めるドラム位置差演算部とを有し、前記ドラム位置差に基づき前記右側移動機構及び左側移動機構を作動させ、前記バンドエッジ移動速度を0に収束させることが好ましい。 The band edge position controller includes a second drum band edge moving speed detector that detects a moving speed of the band edge in the second direction of the second drum, and a second drum band edge moving speed detector from the second drum band edge moving speed detector. A second drum tilt calculating unit for determining the tilt of the second drum based on the moving speed of the drum band edge position, and drums of the right moving mechanism and the left moving mechanism based on the tilt of the second drum from the second drum tilt calculating unit. It is preferable that a drum position difference calculation unit for obtaining a position difference is provided, the right side movement mechanism and the left side movement mechanism are operated based on the drum position difference, and the band edge movement speed is converged to zero.
本発明は、第1ドラムにおける前記バンドの前記第2方向におけるエッジ位置を検出する第1ドラムバンドエッジ位置センサを有し、前記バンドエッジ位置コントローラは、前記第1ドラムバンドエッジ位置センサからの第1エッジ位置信号及び第1ドラムバンドエッジ位置センサにおける目標エッジ位置信号との差をフィードバックして、前記第2ドラムの前記軸受の位置を前記第1方向で変える第2ドラムの軸受位置補正信号を出力し、第1ドラムエッジ位置センサでのバンドエッジ位置を前記第2方向で一定にすることが好ましい。 The present invention includes a first drum band edge position sensor that detects an edge position of the band in the second drum in the second direction, and the band edge position controller is configured to output a first drum band edge position sensor from the first drum band edge position sensor. A second drum bearing position correction signal that feeds back a difference between the first edge position signal and the target edge position signal in the first drum band edge position sensor to change the position of the bearing of the second drum in the first direction. Preferably, the band edge position of the first drum edge position sensor is constant in the second direction.
また、バンドエッジ位置コントローラは、バンドエッジ位置補償器を有し、前記バンドエッジ位置補償器は、前記第2ドラムバンドエッジ位置センサ、前記第1ドラムバンドエッジ位置センサの各信号と前記バンドの走行速度信号とに基づき、第1ドラムにおける前記バンドの前記第2方向でのエッジ位置を予測し、このエッジ位置予測値により前記差を補正することが好ましい。 The band edge position controller includes a band edge position compensator, and the band edge position compensator includes signals from the second drum band edge position sensor and the first drum band edge position sensor and travel of the band. It is preferable that an edge position in the second direction of the band in the first drum is predicted based on the speed signal, and the difference is corrected based on the predicted edge position value.
本発明の溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御方法では、第1ドラムと第2ドラムとの間に掛け渡されて、前記第1ドラムから前記第2ドラムに向かう第1方向に走行するバンド上に、ポリマが溶剤に溶解したドープを流延ダイから流延して前記バンドに流延膜を形成し、前記流延膜を前記バンドから剥がして乾燥させフィルムにする溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御方法であって、前記第2ドラムの両軸受の前記第1方向における位置を、第2ドラム右側位置センサ及び第2ドラム左側位置センサにより検出し、前記バンドの幅方向である第2方向におけるバンドエッジ位置を前記第2ドラムにて、第2ドラムバンドエッジ位置センサにより検出し、バンドエッジ位置コントローラにより、前記第2ドラムバンドエッジ位置センサからのバンドエッジ位置信号に基づき前記第2ドラムの前記第2方向におけるバンドエッジの移動速度を検出し、このバンドエッジ移動速度に基づき前記第2ドラムの傾きを求め、前記第2ドラムの両軸端部の両軸受を前記第1方向に個別に移動させる右側移動機構及び左側移動機構を作動させて、前記第2ドラムの傾きに基づき前記バンドエッジ移動速度を0にする方向に前記第2ドラムを傾斜させる。 In the band edge position control method of the solution casting apparatus of the present invention, the band is stretched between the first drum and the second drum and travels in the first direction from the first drum toward the second drum. In addition, a dope in which a polymer is dissolved in a solvent is cast from a casting die to form a casting film on the band, and the casting film is peeled off from the band and dried to form a film. In the position control method, a position in the first direction of both bearings of the second drum is detected by a second drum right position sensor and a second drum left position sensor, and a second direction which is a width direction of the band. The band edge position at the second drum is detected by the second drum band edge position sensor, and the band edge position controller detects the band edge position from the second drum band edge position sensor. Detecting a moving speed of the band edge in said second direction of said second drum on the basis of the band edge position signal, determine the slope of the second drum based on the band edge moving speed, both axial end portions of the second drum By actuating the right side moving mechanism and the left side moving mechanism that individually move both the bearings in the first direction, the second drum is inclined in a direction that makes the band edge moving speed zero based on the inclination of the second drum. Let
本発明によれば、バンドの位置制御が精度良く行え、例えば2000mm幅のバンドに対して2〜3mm程度の振れ幅に抑えることができる。したがって、バンドのドラム軸方向での移動量が少なくなる。これにより、バンドの両側縁と流延膜の両側縁との間の非流延領域の幅を狭くすることができ、広幅の長尺フィルムを効率良く製造することができる。しかも、迅速且つ精度良くバンドの蛇行を抑えることができ、蛇行制御時のドラム上でのバンドシフト量も小さくなる。したがって、バンドの蛇行に起因する経年変化によって、バンドに筋状のピークが発生することが抑えられる。これにより、バンドの長寿命化と、製膜されるフィルムの厚みムラを無くすことができる。 According to the present invention, the position control of the band can be performed with high accuracy, and can be suppressed to a deflection width of about 2 to 3 mm for a band of 2000 mm width, for example. Accordingly, the amount of movement of the band in the drum axis direction is reduced. Thereby, the width | variety of the non-casting area | region between the both-sides edge of a band and the both-sides edge of a casting film can be narrowed, and a wide elongate film can be manufactured efficiently. In addition, the meandering of the band can be suppressed quickly and accurately, and the amount of band shift on the drum during meandering control is also reduced. Therefore, the occurrence of a streak-like peak in the band due to the secular change caused by the meandering of the band can be suppressed. Thereby, the lifetime improvement of a band and the thickness nonuniformity of the film formed can be eliminated.
図1に示すように、溶液製膜設備10は、流延装置11と、第1テンタ12と、ローラ乾燥装置13と、第2テンタ14と、スリッタ15と、巻取装置16とを上流側から順に直列に接続して構成される。
As shown in FIG. 1, the
流延装置11は、ドラム21,22に掛け巡らされたバンド23と、流延ダイ24と、ダクト25と、減圧チャンバ26と、剥ぎ取りローラ27と、バンドエッジ位置(BEP)の制御装置(以下、BEP制御装置という)28とを備える。バンド23は、環状に形成されたエンドレスの流延支持体であり、第1ドラム21と第2ドラム22との周面に巻き掛けられる。第1ドラム21はモータ(図2参照)29により回転駆動され、これによりバンド23が矢印Aで示す第1方向に走行する。
The casting apparatus 11 includes a
第1ドラム21の上方には流延ダイ24が配置される。流延ダイ24は、走行しているバンド23に対し、ドープ30を連続的に流す。これにより、バンド23上には流延膜31が形成される。ドープ30は、例えばセルロースアシレートを溶剤に溶解したものであり、図示しないドープ製造ラインで製造され、流延ダイ24に供給される。
A casting die 24 is disposed above the
流延ダイ24からのビード34に対して、バンド23の走行方向における上流には、減圧チャンバ26が設けられる。この減圧チャンバ26は、ビード34の上流側エリアの雰囲気を吸引して前記エリアを減圧し、ビード34の振動を減少させる。
A
製造速度を向上するために、剥ぎ取りローラ27に向かう流延膜31は、第2ドラム22及びバンド23により加熱される。また、流延位置では、バンド23が過度に昇温することがないように、第1ドラム21によりバンド23が冷却される。このため、各ドラム21,22は図示しない温度調節装置を有する。
In order to improve the manufacturing speed, the casting film 31 toward the peeling
ダクト25はバンド23の走行路に沿って、複数が並べて設けられる。各ダクト25はそれぞれ送風機を有する温風コントローラ(共に図示無し)に接続され、流出口から乾燥風を吹き出す。温風コントローラは、乾燥風の温度、湿度、流量を独立して制御する。乾燥風の温度及び流量の制御と、ドラム21,22自体の温度調節装置による温度制御とにより、流延膜31の温度が調節され、流延膜31の乾燥が進行する。そして、第1テンタ12での搬送が可能な程度にまで流延膜31が固化されて自己支持性が付与される。
A plurality of
第1ドラム21の流延ダイ24の走行方向上流側には、剥ぎ取りローラ27が設けられる。剥ぎ取りローラ27は、溶剤を含む状態の乾燥が進行した流延膜31をバンド23から剥がす際に、流延膜31を支持する。剥ぎ取られた流延膜31、すなわちフィルム32は、第1テンタ12に案内される。
A stripping
第1テンタ12では、クリップ33によりフィルム32の両側縁部を把持して、フィルム32を搬送しながら、矢印Bで示す第2方向(フィルム幅方向)への張力を付与し、フィルム32の幅を拡げる。第1テンタ12には、上流側から順に、予熱エリア、延伸エリア、及び緩和エリアが形成される。なお、緩和エリアは必要に応じて設けられる。
In the first tenter 12, the side edges of the film 32 are gripped by the
第1テンタ12は、1対のレール及びチェーン(共に図示無し)を有する。レールはフィルム32の搬送路の両側に、所定の間隔で離間して配される。このレール間隔は、予熱エリアでは一定であり、延伸エリアでは下流に向かうに従って次第に広くなり、緩和エリアでは一定、または下流に向かうに従って次第に狭くなっている。チェーンには一定間隔でクリップ33が取り付けられる。
The first tenter 12 has a pair of rails and a chain (both not shown). The rails are arranged on both sides of the conveyance path of the film 32 so as to be separated at a predetermined interval. This rail interval is constant in the preheating area, gradually becomes wider in the extension area as it goes downstream, and constant in the relaxation area, or becomes gradually narrower as it goes downstream.
予熱エリア、延伸エリア、緩和エリアは、ダクト35からの乾燥風の送り出しによって空間として形成されるもので、これら各エリアの間に明確な境界はない。ダクト35のスリットからは、所定の温度や湿度に調整した乾燥風がフィルム32に向けて送られる。
The preheating area, the extension area, and the relaxation area are formed as spaces by sending dry air from the
ローラ乾燥装置13では、多数のローラ36にフィルム32が巻き掛けられて搬送される。ローラ乾燥装置13の内部の雰囲気は、温度や湿度などが図示しない温調機により調節されており、フィルム32が搬送されている間に、フィルム32から溶剤が蒸発する。
In the
第2テンタ14は、第1テンタ12と同様の構造であり、クリップ38及びダクト39を有する。第2テンタ14は、フィルム32をクリップ38により保持して延伸する。この延伸により、所望の光学特性を有するフィルム32となる。得られるフィルム32は、例えば液晶ディスプレイ用の位相差フィルムとして利用することができる。なお、フィルム32の光学特性によっては、第2テンタ14は用いなくてもよい。
The second tenter 14 has the same structure as the first tenter 12 and includes a
スリッタ15は、第1テンタ12や第2テンタ14の各クリップ33,38による保持跡を含む側部を切除する。側部が切除されたフィルム32は、巻取装置16によりロール状に巻き取られる。
The
図2及び図3に示すように、BEP制御装置28は、第2ドラム22のドラム軸22aの両端部に設けられる軸受40R,40Lと、シフト機構41R,41Lと、第2ドラム22の軸受位置センサ42R,42Lと、テンションセンサ43R,43Lと、第1ドラムバンドエッジ位置センサ(以下、第1ドラムBEPセンサという)44、第2ドラムバンドエッジ位置センサ(以下、第2ドラムBEPセンサという)45、中間部テンションセンサ46、バンドエッジ位置コントローラ(以下、BEPコントローラという)47とを備える。なお、図2において、バンド23の走行方向である第1方向Aに向かったときを基準にして、右側にある部材には各部材の符号に「R」が付してあり,左側にある部材には各部材の符号に「L」が付してある。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
第1ドラム21は軸受51によってドラム軸21aの両端部が回転自在に保持される。また、一端部にはドラム回転モータ29が接続される。ドラム回転モータ29にはTG(タコジェネレータ)50が接続され、このTG50は第1ドラム21の回転速度を検出する。ドラム回転モータ29はドライバ49を介してシステムコントローラ48に接続される。また、TG50もシステムコントローラ48に接続される。システムコントローラ48は、バンド23が一定速度で回転するように、ドラム回転モータ29の回転を制御する。なお、システムコントローラ48は、製膜条件に応じてバンド23の走行速度や乾燥温度を変更する。
The
第2ドラム22のドラム軸22a(回転軸)の両端部は、軸受40R,40Lによって回転自在に保持される。これら軸受40R,40Lは各ドラム軸21a,22aを含む水平面内で、第1ドラム21に向かう第1方向に移動自在に設けられる。そして、シフト機構41R,41Lによって、それぞれ独自に第1方向Aに変位する。各軸受40R,40Lはシフト機構41R,41Lに水平面内で回転自在に取り付けられる。図7に示すように、第1方向への各軸受40R,40Lの独立した変位により、第2ドラム22の中心線CL2は水平面内において、基準線BL1に対して任意のドラム角度θ1で傾斜する。この傾斜によって、第1ドラム21におけるバンド23の蛇行が修正されるとともに、バンド23の張り(テンション)が調節される。しかも、左右両側で、個別に各軸受40R,40Lの位置を変更することができるため、第2方向(バンド幅方向)Bにおけるテンションムラも解消することができる。
Both end portions of the
シフト機構41R,41Lは、各軸受40R,40Lを移動させることができるものであればよく、油圧シリンダを用いたものや、ウォーム軸の回転駆動によるものなどが、適宜選択される。
The
右側軸受40Rには右側軸受位置センサ42Rが、また左側軸受40Lには左側軸受位置センサ42Lが取り付けられる。これら軸受位置センサ42R,42Lは、各軸受40R,40Lの第1方向Aでの位置を検出し、この位置信号を出力し、第2ドラム右側位置センサ及び第2ドラム左側位置センサとして機能する。なお、軸受位置センサ42R,42Lにより各軸受位置を検出する代わりに、第2ドラム22の軸端部の変位を第1方向で検出することができるものであればよく、検出位置や検出方法については、特に限定されない。
A right
各軸受40R,40Lとシフト機構41R,41Lとの間には、右側テンションセンサ43R及び左側テンションセンサ43Lが取り付けられる。これら右側テンションセンサ43R及び左側テンションセンサ43Lは、バンド23のテンションをそれぞれ検出し、テンション信号として出力する。
A
第1ドラム21近傍には第1ドラムバンドエッジ位置センサセンサ(以下、第1ドラムBEPセンサという)44が設けられる。また、第2ドラム22上には第2ドラムバンドエッジ位置センサ(以下、第2ドラムBEPセンサという)45が設けられる。これら第1及び第2ドラムBEPセンサ44,45は、バンド23の一方の側縁、例えば左エッジ位置をフィルム幅方向(第2方向B)において検出し、第1バンドエッジ位置信号(以下、第1BEP信号という)、第2バンドエッジ位置信号(以下、第2BEP信号という)として出力する。
A first drum band edge position sensor sensor (hereinafter referred to as a first drum BEP sensor) 44 is provided in the vicinity of the
第1ドラム21と第2ドラム22との中間位置で下側のバンド23の左側縁部近くには、中間部テンションセンサ46が設けられる。この中間部テンションセンサ46は、バンド23のテンションを下側バンド23の中央位置での懸垂量から求める。バンド23のテンションと懸垂量との間には、テンションが大きくなると懸垂量が小さくなる関係がある。式(1)はこの関係を表すもので、Tはバンドのテンション(N)、Ldはドラム中心間の距離(m)、Wbはバンドの幅(mm)、tはバンドの厚み(mm)、γはバンドの密度(kg/dm3 )、gは重力加速度(9.81m/s2 )、Dはドラム中間位置における自然な懸垂量(mm)である。
T=(Ld2 ・Wb・t・γ・g)/(8・D) ・・・・(1)
An
T = (Ld 2 · Wb · t · γ · g) / (8 · D) (1)
なお、バンド中央部の懸垂量は、上記のように、バンド自体の重みによる自然な懸垂量であってもよいし、または押さえローラなどにより下方に付勢した状態での懸垂量であってもよい。この場合には上記(1)式で求めたものに押圧力に応じた補正量を加味して算出する。この中間部テンションセンサ46からのテンション信号が一定になるように、各軸受40R,40Lの変位量を変化させることにより、常に一定範囲内に懸垂量を収めることができ、バンド23のテンションも略一定に保つことができる。
As described above, the suspension amount at the center of the band may be a natural suspension amount due to the weight of the band itself, or may be a suspension amount in a state of being biased downward by a pressing roller or the like. Good. In this case, the calculation is performed by adding a correction amount corresponding to the pressing force to the value obtained by the above equation (1). By changing the displacement amount of each of the
各センサ42R,42L,43R,43L,44〜46からの信号はバンドエッジ位置コントローラ(以下、BEPコントローラという)47に送られる。BEPコントローラ47は、各センサ42R,42L,43R,43L,44,45からの各信号及びシステムコントローラ48からの第1バンドエッジ位置指令信号(以下、第1BEP指令信号という)、速度指令信号、テンション指令信号に基づき、第2ドラム22の各軸受40R,40Lの位置信号を出力し、第1ドラム21におけるバンド23のエッジが第2方向で常に一定範囲内に収まるようにバンドエッジ位置を制御する。
Signals from the
図4に示すように、BEPコントローラ47は、第1ドラムバンドエッジ位置補償器(以下、第1ドラムBEP補償器という)56、第2ドラムバンドエッジ位置指令制御器(以下、第2ドラムBEP指令制御器という)57、第2ドラム位置指令制御器58、テンション制御器59、第1加算器61、第2加算器62、第3加算器63R,63L、第4加算器64、第2ドラムバンドエッジ移動速度検出部65(以下、第2ドラムBE移動速度検出部という)、テンション制御器59を備えている。
As shown in FIG. 4, the
第1ドラムBEP補償器56は、第1ドラムBEPセンサ44からの第1ドラムバンドエッジ位置信号と、第2ドラムBEPセンサ45からの第2ドラムバンドエッジ位置信号と、システムコントローラ48からのバンド走行速度指令信号との入力を受ける。まず、第2ドラムバンドエッジ位置の変動量から第2ドラムにおける第2方向Bでのバンドエッジ移動速度Ve1を求め、図5の移動速度図を作成する。バンドエッジ移動速度Ve1は、バンド23の走行速度に比例して変化するので、バンド走行速度指令信号も用いる。このバンドエッジ移動速度Ve1は、バンドが例えば1周する程度の長い期間における移動速度である。
The first
図5は、第1・第2バンド相対位置とバンドエッジ移動速度Veとの関係を表している。ここで、第1・第2バンド相対位置とは、(第1ドラムBEP−第2ドラムBEP)/バンド走行速度から求められるもので、第2ドラム22から見たバンド23の傾斜角度を示している。実線SLで表示する比例式Y=a1・Xは予め実機における実験やシミュレーションで求められている。平衡状態では、第1・第2バンド相対位置が基準位置「0」にあり、BE移動速度Veは「0」となる。この平衡状態から温度上昇によるバンドの温度分布ムラなどに起因し、平衡状態が崩れると、破線BRLで示すように、比例関係が例えば上方にY成分b1だけシフトする。そして、第1・第2バンド相対位置が例えば右側に変化すると、この変化に応じてBE移動速度Veも比例係数a1の比例関係で増加し、第1・第2バンド相対位置が左側に変化すると、第1・第2バンド相対位置が同じく比例関係で減少する。
FIG. 5 shows the relationship between the relative positions of the first and second bands and the band edge moving speed Ve. Here, the first and second band relative positions are obtained from (first drum BEP−second drum BEP) / band travel speed, and indicate the inclination angle of the
第1ドラムBEP補償器56には、第1及び第2ドラムBEPセンサ44,45から第1BEP信号、第2BEP信号が入力されており、またシステムコントローラ48からはバンド23の走行速度が入力されている。そして、第2ドラムBEPセンサ45からのBEP信号の変動量から現時点での第2ドラムバンドエッジ移動速度Ve1を求め、求めた第2ドラムバンドエッジ移動速度Ve1を、実線SLに対するシフト量b1として、Y=a1・X+b1の比例式からなる破線BRLを作成する。この破線BRLから、BE移動速度Veが「0」となる第1・第2相対位置、例えば図5の場合では「−0.2」を求める。
The first
次に、求めた第1・第2相対位置信号「−0.2」に基づき、現時点の速度指令と、第1ドラムBEPセンサ44からの第1ドラムBEP信号と、第2ドラムBEPセンサ45からの第2ドラムBEP信号とから、現時点の第1BEP信号に対し目標とする第2BEP信号を求める。これは、
(第1・第2バンド相対位置)=(第1ドラムBEP−第2ドラムBEP)/バンド走行速度・・・(2)
の式に、第1・第2バンド相対位置の「−0.2」と、現在のバンド走行速度と、現時点の第1ドラムBEP信号とを代入し、目標とする第2ドラムBEP信号を得る。そして、得られた第2BEP信号を第2ドラムにおける目標BEP信号とする。次に、この目標BEP信号と第2ドラムBEPセンサからの実際のBEP信号との偏差を求め、この偏差を位置補償値として、第2ドラムBEP指令制御器57に出力する。
Next, based on the obtained first and second relative position signals “−0.2”, the current speed command, the first drum BEP signal from the first
(Relative position of first and second bands) = (first drum BEP−second drum BEP) / band running speed (2)
Substituting “−0.2” of the relative position between the first and second bands, the current band traveling speed, and the current first drum BEP signal into the formula, the target second drum BEP signal is obtained. . Then, the obtained second BEP signal is set as a target BEP signal in the second drum. Next, a deviation between the target BEP signal and the actual BEP signal from the second drum BEP sensor is obtained, and this deviation is output to the second drum
第1加算器61は、第1ドラムBEPセンサ44からの第1BEP信号とシステムコントローラ48からの目標値としての位置指令信号との偏差を求め、この偏差を第2ドラムBEP指令制御器57に入力する。
The
第2ドラムBEP指令制御器57は、第1加算器61から入力された偏差信号をPID制御信号とし、このPID制御信号に第1ドラムBEP補償器56からの補償値を加算し、第2ドラムBEP指令信号として加算器62に出力する。
The second drum
第2加算器62は、第2ドラムBEPセンサ45からの第2BEP信号と、第2ドラムBEP指令制御器57からの第2BEP指令信号とを加算する。この加算後の信号は、第2ドラム位置指令制御器58に入力される。
The
第2ドラムBE移動速度検出部65は、第2ドラムBEPセンサ45からのBEP信号に基づき、第2ドラム22におけるバンドエッジの第2方向における移動速度Ve2を求める。求めたBE移動速度Ve2は、第2ドラム位置指令制御器58に送られる。なお、ここで求めるBE移動速度Ve2は、第1ドラムBEP補償器56で求めたBE移動速度Ve1に比較して、より短時間における移動速度であり、例えば第2ドラム1回転毎のデータに基づき算出される。
Based on the BEP signal from the second
第2ドラム位置指令制御器58は、BE移動速度Ve2と、各軸受位置センサ42R,42Lからの軸受位置信号に基づき、このBE移動速度Ve2を「0」にする方向に、第2ドラムの回転軸を傾斜させる各軸受位置信号をシフト機構41R,41Lに出力する。
The second drum
このため、第2ドラム位置指令制御器58は、第2ドラム傾き演算部58Aとドラム位置差演算部58Bとを有する。第2ドラム傾き演算部58Aは、図6に示すようなドラム角度θ1とBE移動速度Ve2との関係を示すテーブルを記憶している。上記テーブルの比例式からなる実線SLの比例係数a2は、予め実機による実験やシミュレーションなどにより求められる。この実線SLは、ドラム角度θ1が変化するときの、ドラム角度θ1に対応するBE移動速度Ve2の関係を表すものである。この実線SLを用いて、BE移動速度Ve2からこのBE移動速度Veを「0」に収束させるための目標ドラム角度θ1を求める。そして、求めた目標ドラム角度θ1をドラム位置差演算部58Bに送る。
For this reason, the second drum
図6において、平衡状態では、第2ドラム22のドラム角度θ1が「0」のときにBE移動速度Ve2も「0」となる。この平衡状態から温度上昇によるバンドの温度分布ムラなどに起因し、平衡状態が崩れると、破線BRLで示すように、比例関係が例えば上方にY成分b2だけシフトする。そして、ドラム角度θ1が例えば右側に変化すると、この変化に応じてBE移動速度Ve2も比例係数a2の比例関係で増加し、ドラム角度θ1が左側に変化すると、BE移動速度Ve2が同じく比例関係で減少する。
In FIG. 6, in the equilibrium state, when the drum angle θ1 of the
そこで、図6に示すように、実線SLに対するシフト量をb2とするY=a2・X+b2の比例式からなる破線BRLを作成する。この破線BRLから、BE移動速度Ve2が「0」となるドラム角度θ1、例えば図6の場合では「−0.2」を求める。この求めたドラム角度θ1を目標ドラム角度信号として、ドラム位置差演算部58Bに出力する。
Therefore, as shown in FIG. 6, a broken line BRL including a proportional expression of Y = a2 · X + b2 in which the shift amount with respect to the solid line SL is b2 is created. From this broken line BRL, the drum angle θ1 at which the BE moving speed Ve2 becomes “0”, for example, “−0.2” in the case of FIG. 6 is obtained. The obtained drum angle θ1 is output to the drum position
ドラム位置差演算部58Bは、目標ドラム角度θ1(=−0.2)に基づき両側の軸受の位置差に基づく補正量を算出する。この場合に、本実施形態では、第2ドラムBEPセンサ45のある位置を基準にして、それぞれ右側軸受位置差補正量MR1と、左側軸受位置差補正量ML1を求め、これらを第3加算器63R,63Lに出力する。具体的には、図7に示すように、第2ドラムBEPセンサ45を基準にして右側軸受の位置差補正量MR1を(MR1=LR1・tanθ1)から求める。同様にして、左側軸受の位置差補正量ML1を(ML1=LL1・tanθ1)から求める。なお、本実施形態では、第2ドラムBEPセンサ45の取り付け位置を基準にして各軸受の位置差補正量MR1,ML1を求めているが、第2ドラム22の第2方向における中央部を基準として、各位置差補正量MR1,ML1を求めてもよい。
The drum
第3加算器63R,63Lは、テンション制御器59のテンションを一定にするための補償信号を各位置差補正量MR1,ML1に加算する。第4加算器64は、右側テンションセンサ43R及び左側テンションセンサ43Lからの左右のテンション信号の加算値と、システムコントローラ48からの目標値としてのテンション指令信号との差を求め、この信号をテンション制御器59に出力する。
The
テンション制御器59はドラム位置補償器59aから構成され、テンション変動を打ち消すドラム位置補償値を出力する。このため、ドラム位置補償器59aには、右側軸受位置センサ42Rから右側軸受位置信号PR1が、左側軸受位置センサ42Lから左側軸受位置信号PL1が、また第4加算器64からテンション指令差信号T1がそれぞれ入力される。
The
テンション制御器59は、図8に示すようなドラム位置PとテンションTとの関係を示すテーブルを記憶している。上記テーブルの比例式からなる実線SLの比例係数a3は、予め実機による実験やシミュレーションなどにより求められる。この実線SLは、ドラム位置Pが変化するときの、ドラム位置Pに対応するテンションTの変動を示している。この比例式SLを用いて、テンション指令差信号T1に対応するドラム位置差補正量MR2,ML2を求める。
The
図8において、平衡状態では、第2ドラム22のドラム位置Pが「0」のときにテンションTも「0」となる。この平衡状態から温度上昇によるバンドの温度分布ムラなどに起因し、平衡状態が崩れると、破線BRLで示すように、比例関係が例えば上方にY成分b3だけシフトする。そして、ドラム位置Pが例えば右側に変化すると、この変化に応じてテンションTも比例係数a3の比例関係で増加し、ドラム位置Pが左側に変化すると、テンションTが同じく比例関係で減少する。
In FIG. 8, in the equilibrium state, the tension T is also “0” when the drum position P of the
そこで、図8に示すように、実線SLに対するシフト量をbとするY=a3・X+b3の比例式からなる破線BRLを作成する。この破線BRLから、テンションTが「0」となるドラム位置P、例えば図8の場合では「−0.1」を求め、この求めたドラム位置Pを目標ドラム位置差補正量とする。そして、右側軸受位置センサ42Rの位置信号PR1に対しドラム位置差補正量MR2,ML2を加算して右側軸受の補償値信号(PR1+MR2),左側軸受の補償値信号(PL1+ML2)として、第3加算器63R,63Lに出力する。
Therefore, as shown in FIG. 8, a broken line BRL made of a proportional expression of Y = a3 · X + b3 where b is the shift amount with respect to the solid line SL is created. From this broken line BRL, the drum position P at which the tension T becomes “0”, for example, “−0.1” in the case of FIG. 8, is obtained, and this obtained drum position P is set as the target drum position difference correction amount. Then, the drum position difference correction amounts MR2 and ML2 are added to the position signal PR1 of the right
第3加算器63R,63Lは、第2ドラム位置指令制御器58からの右側軸受位置差補正量MR1、左側軸受位置差補正量ML1がそれぞれ出力されるから、各シフト機構41R,41Lには、右側軸受位置信号(PR1+MR1+MR2)と、左側軸受位置信号(PL1+ML1+ML2)とが出力される。
Since the
各シフト機構41R,41Lは、右側軸受位置信号(PR1+MR1+MR2)と、左側軸受位置信号(PL1+ML1+ML2)とに基づき各軸受40R,40L(図2参照)を移動させる。これにより、第2ドラム22のドラム軸22aが水平面において基準線BL1に対してドラム角度θ1で傾斜し、これに対応してバンド23が傾斜分だけ第2ドラム22上で変位し、第1ドラムBEPセンサ44におけるバンドエッジ位置が目標位置に変更される。このように、左右のシフト機構41R,41Lを用いて、第2ドラム22のドラム軸を瞬時に変更させることができるため、バンド23の走行が高速度であっても、迅速且つ確実に蛇行を抑えることができる。
The
以上の一連の動作によって、第2ドラム22のドラム軸22aの両端部が各信号に見合った位置に変化するため、第1ドラム21におけるバンドエッジ位置が常に一定した範囲内に保持される。したがって、第1ドラムにおけるバンドエッジ位置の変動を抑えることができ、ビードを精度良くバンドの一定位置に流延させることができる。バンドエッジ位置の変動が抑えられるため、バンド23のエッジ近くまで流延することができ、フィルム32の広幅化に容易に対応することができる。
As a result of the series of operations described above, both end portions of the
特に、第1ドラムBEPセンサ44、第2ドラムBEPセンサ45を設け、第1ドラムBEP補償器56により、第2ドラムBEPセンサ45、第1ドラムBEPセンサ44の信号と前記バンド23の走行速度信号とに基づき、第1ドラム21におけるバンド23の第2方向におけるエッジを予測し、この予測値により前記差を補償しているので、蛇行が実際に発生する前に蛇行を抑えることができ、且つ蛇行幅も小さく抑えることができる。したがって、第1ドラム21におけるバンド23のエッジを範囲の狭い一定位置に保持させることができる。
In particular, a first
さらに、第2ドラム22のドラム軸22aの両端部にそれぞれ設けられ、バンド23のテンションを右側及び左側でそれぞれ検出する右側テンションセンサ43R及び左側テンションセンサ43Lと、テンション制御器59とを設け、テンション制御器59により、右側テンションセンサ43R及び左側テンションセンサ43Lの各テンション信号と目標テンションとに基づき目標テンションになるように第2ドラム22の軸受位置補正信号を出力するので、テンション変動も加味した蛇行制御が可能になり、第1ドラム21におけるバンド23のエッジをほぼ一定位置に、さらに精度良く位置させることができる。
Further, a
また、テンション制御器59によって、バンド23の温度分布が不安定な時期でのテンション変動が効率良く抑えられるため、流延開始時や、流延速度の変更、流延膜の乾燥温度の変更などにおいてバンドの蛇行が効率よく抑えられる。このようにテンション変動も考慮した多重ループによって、流延開始時などのバンドの温度分布が変化しやすい時期であっても、第1ドラム21上のバンドエッジ位置のフィルム幅方向における変動幅を従来のものに比べて小さい一定範囲、例えばバンド幅が2000mmの場合に、2mmの変動幅に抑えることができ、この分だけ蛇行制御が精度良く行われる。
In addition, the
以上のように、テンション変動に対する蛇行補正制御は、流延開始時に特に有効である。流延開始時は定常時と異なり、バンド23の幅方向温度分布が均一になっていないため、この温度分布の不均一によりバンド23の第1方向長さが第2方向において部分的に変動しやすい。この部分的なテンション変動を左右のテンションセンサ43R,43Lによって、蛇行要因成分としてとらえることができ、バンド23の温度分布むらに起因する蛇行を効果的に取り除くことができる。したがって、流延開始時の蛇行制御を精度良く行うことができる。
As described above, meandering correction control for tension fluctuation is particularly effective at the start of casting. At the beginning of casting, unlike the steady state, the temperature distribution in the width direction of the
なお、上記実施形態では、第2ドラム角度θそのものを用いることなく、制御因子として直接利用可能な軸受位置センサ42R,42Lの位置信号を用いて、蛇行を抑える制御を行っているが、用いる制御因子としては第2ドラム角度θを変更することができるものであればよく、第2ドラム角度θをそのまま用いて、蛇行を抑える制御を行ってもよい。
In the above embodiment, the control for suppressing meandering is performed using the position signals of the
上記実施形態では、図5、図6、図8において、各関係を直線で表した比例関係で説明したが、この関係は比例関係に限られず、各種曲線で表される関係であってもよい。 In the above-described embodiment, the relationship is described as a proportional relationship in which each relationship is represented by a straight line in FIGS. 5, 6, and 8. However, this relationship is not limited to a proportional relationship, and may be a relationship represented by various curves. .
上記実施形態では、第2ドラム22のドラム軸22aに設けたテンションセンサ43R,43Lからのテンション信号によって、バンド23の左右でのテンション変動も加味した蛇行制御を行っているが、これに代えて、バンド走行方向の中間位置における下側バンドの懸垂量に基づくテンションセンサ46からの信号に基づき、テンション変動を加味させた蛇行制御をしてもよい。この場合には、図4において、右側及び左側のテンションセンサ43R,43Lを省略して、これらからのテンション信号の代わりに、中間部テンションセンサ46のテンション信号を第4加算器64に入力する。
In the above-described embodiment, meandering control is performed in consideration of tension fluctuations on the left and right of the
さらには、右側及び左側のテンションセンサ43R,43Lのテンション信号の他に、中間部テンションセンサ46のテンション信号を第4加算器64に入力し、中間部テンションセンサ46のテンション信号を加味して蛇行制御してもよい。この場合には、右側及び左側のテンションセンサ43R,43Lのテンション信号と、中間部テンションセンサ46のテンション信号との重み付けを変えて、加算することで、蛇行制御をより精度よく行うことができる。
Further, in addition to the tension signals of the right and left
図9に示すように、第2ドラムBEPが一定範囲の不感帯Z1に入っている場合には、上記各軸受位置信号を変化させないように設定する。したがって、不感帯Z1から第2ドラムBEPが出たときに、ドラム傾き制御(両側の軸受位置の個別移動によるドラム傾き制御)を開始する。このような不感帯Z1内での変動に対し、いちいち制御を行っていたのでは、さらに大きな変動を誘発してしまうこともあるので、不感帯Z1を超えたものに対してのみ制御を行う。これにより、大きな変動が誘発されることがなく、精度よく所定の制御幅内にバンドエッジ位置を抑えることができる。 As shown in FIG. 9, when the second drum BEP is in a certain range of the dead zone Z1, the bearing position signals are set so as not to change. Therefore, when the second drum BEP comes out from the dead zone Z1, drum tilt control (drum tilt control by individual movement of the bearing positions on both sides) is started. If control is performed for each variation in the dead zone Z1, even greater variation may be induced. Therefore, control is performed only for the variation exceeding the dead zone Z1. As a result, a large fluctuation is not induced, and the band edge position can be accurately suppressed within a predetermined control width.
上記のようにして、流延開始時の他に、乾燥条件変更時、流延速度変更、ドープ成分切り換え時などの各種変化に対応させて蛇行制御を精度よく行うことができる。なお、流延開始や条件変更から一定時間が経過して、バンド23の温度むらや乾燥風の温度むらなどが少なくなると、蛇行も少なくなり、バンド23の走行も安定してくる。このような場合には、バンドの温度むらや乾燥風の温度むらに起因するテンション変動が無くなるため、テンション変動に起因する蛇行制御は停止してもよい。テンション変動に起因する蛇行制御を停止することにより、シフト機構の長寿命化が図れる。
As described above, meandering control can be performed with high accuracy in response to various changes such as when the drying conditions are changed, when the casting speed is changed, and when the dope component is switched, in addition to when casting starts. In addition, when a certain period of time has elapsed from the start of casting or the condition change and the temperature unevenness of the
この場合には、図10に示すように、流延開始時や製膜条件の変更時に行う第1条件蛇行制御ステップS1から、テンション変動に起因する蛇行制御を不実施とし、第1ドラムBEPセンサ44、第2ドラムBEPセンサ45の信号に基づくBEP制御のみを実施する第2条件蛇行制御ステップS2に、自動的に切り替える。この切り換えは、バンド23の温度分布などが均一となって定常状態に移行した後に行う。定常状態への移行の検出は、経験値に基づく定常状態への移行時間に基づき行う。この第2条件蛇行制御ステップS2では、バンド23へのストレスを小さくする蛇行制御が行われる。
In this case, as shown in FIG. 10, from the first condition meandering control step S1 performed at the start of casting or at the time of changing the film forming conditions, the meandering control due to the tension variation is not performed, and the first
第1条件蛇行制御ステップS1から、第2条件蛇行制御ステップS2への切り換えは、一定時間を経過したか否かに代えて、または加えて、蛇行の振幅Wm1(図11参照)が一定範囲内に収束し、この収束している時間が一定時間を経過したときに、第2条件蛇行制御ステップS2に切り換えてもよい。 Switching from the first condition meandering control step S1 to the second condition meandering control step S2 is performed in place of or in addition to whether or not a certain time has passed, and the meandering amplitude Wm1 (see FIG. 11) is within a certain range. When the convergence time has passed a predetermined time, the second condition meandering control step S2 may be switched.
バンド23にかかるストレスはK・Wm/Tm2 で求めることができる。Kは補正係数、Wmは蛇行の振幅、Tmは蛇行の周期である(図11参照)。上記式から明らかなように、振幅Wmが大きくなるとそれに比例してストレスが増加する。また、周期Tmが長くなると、周期Tmの二乗に反比例してストレスは減少する。
The stress applied to the
本実施形態では、定常状態では、テンション変動に起因する蛇行制御を停止するため、テンション変動を抑えるような軸受位置変更を発生させることがなくなるため、その分だけBEPの変動周期が長くなり、バンド23へのストレスを軽減することができる。したがって、バンド23の蛇行に起因する経年変化によって、バンド23に筋状のピークが発生することを抑えることができ、寿命を長くすることができる。
In the present embodiment, since the meandering control due to the tension fluctuation is stopped in the steady state, the bearing position change that suppresses the tension fluctuation is not generated. 23 can be reduced. Accordingly, it is possible to suppress the occurrence of a streak-like peak in the
図11は流延開始時のBEP信号に基づく蛇行周期Tm1と振幅Wm1とを示している。また、図12は定常状態に移行した後のBEP信号に基づく蛇行周期Tm2と振幅Wm1とを示している。このように、定常状態では蛇行周期Tm2が流延開始時の蛇行周期Tm1よりも長くなっており、ストレスが軽減される。図13は、流延開始時に従来方法と本実施形態方法とを実施した際のBEPによる蛇行の一例を示している。従来方法では、テンションを加味したBEP制御を行っていないため、バンド23の温度分布ムラによるテンション変動分が加わり、振幅が大きくなっていることがわかる。これに対して、本実施形態のように、テンションを加味したBEP制御を行うことによって、バンド23の温度分布ムラによるテンション変動分が効果的に抑えられ、振幅幅が狭い範囲に抑えられている。
FIG. 11 shows the meander period Tm1 and the amplitude Wm1 based on the BEP signal at the start of casting. FIG. 12 shows the meandering period Tm2 and the amplitude Wm1 based on the BEP signal after shifting to the steady state. Thus, in a steady state, the meandering cycle Tm2 is longer than the meandering cycle Tm1 at the start of casting, and stress is reduced. FIG. 13 shows an example of meandering by BEP when the conventional method and the method of the present embodiment are performed at the start of casting. In the conventional method, since the BEP control in consideration of the tension is not performed, it is understood that the tension fluctuation due to the temperature distribution unevenness of the
上記実施態様では、流延位置が第1ドラム21に対するバンド23の巻き掛け領域上になるように流延ダイ24を設けたが、流延ダイ24の位置は適宜変更してよい。例えば、流延位置が第1ドラム21から第2ドラム22に向かうバンド23上になるように、両ドラム21,22の間に流延ダイ24を設けてもよい。この場合には、ドラム21からドラム22へ向かうバンド23の下に支持ローラを設け、支持ローラ上のバンド23に対向するように流延ダイ24を配置することが好ましい。この場合に、第1ドラムBEPセンサ44を第1ドラム21近くに設ける代わりに、流延位置近くに設けてもよい。
In the above embodiment, the casting die 24 is provided so that the casting position is on the region where the
バンド23の幅は特に限定されるものではないが、幅Wbが1500mm以上2100mm以下のものが好ましく用いられ、製造するフィルム32の広幅化の要請からは幅が広いものが用いられる。バンド23の長さは、流延速度や乾燥条件などに応じて決定される。
The width of the
バンド23上に流延されるドープは溶液製膜が可能なポリマを溶剤に溶解させたドープであればよいが、セルロースアシレートが好ましく用いられる。セルロースアシレートのアシル基は1種類だけでも良いし、あるいは2種類以上のアシル基を有していても良い。アシル基が2種以上であるときは、その1つがアセチル基であることが好ましい。セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、すなわち、アシル基の置換度が下記式(I)〜(III)の全てを満足するものが好ましい。なお、以下の式(I)〜(III)において、A及びBは、アシル基の置換度を表わし、Aはアセチル基の置換度、またBは炭素原子数3〜22のアシル基の置換度である。
The dope cast on the
(I) 2.0≦A+B≦3.0
(II) 1.0≦ A ≦3.0
(III) 0 ≦ B ≦2.0
(I) 2.0 ≦ A + B ≦ 3.0
(II) 1.0 ≦ A ≦ 3.0
(III) 0 ≦ B ≦ 2.0
アシル基の全置換度A+Bは、2.20以上2.90以下であることがより好ましく、2.40以上2.88以下であることが特に好ましい。また、炭素原子数3〜22のアシル基の置換度Bは、0.30以上であることがより好ましく、0.5以上であることが特に好ましい。中でも、セルロースアシレートとしてセルロースジアセテート(DAC)が好ましく用いられる。 The total substitution degree A + B of the acyl group is more preferably 2.20 or more and 2.90 or less, and particularly preferably 2.40 or more and 2.88 or less. Further, the substitution degree B of the acyl group having 3 to 22 carbon atoms is more preferably 0.30 or more, and particularly preferably 0.5 or more. Among these, cellulose diacetate (DAC) is preferably used as the cellulose acylate.
10 溶液製膜設備
11 流延装置
21 第1ドラム
22 第2ドラム
21a ドラム軸
23 バンド
30 ドープ
31 流延膜
32 フィルム
40R,40L 軸受
41R,41L シフト機構
42R,42L 軸受位置センサ
43R,43L テンションセンサ
44 第1ドラムBEPセンサ
45 第2ドラムBEPセンサ
46 中間部テンションセンサ
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記第2ドラムの両軸端部の両軸受を前記第1方向に個別に移動させる右側移動機構及び左側移動機構と、
前記第2ドラムの両軸受の前記第1方向における位置を検出する第2ドラム右側位置センサ及び第2ドラム左側位置センサと、
前記バンドの幅方向である第2方向におけるバンドエッジ位置を前記第2ドラムにて検出する第2ドラムバンドエッジ位置センサと、
前記第2ドラムバンドエッジ位置センサからのバンドエッジ位置信号に基づき前記第2ドラムの前記第2方向におけるバンドエッジの移動速度を検出し、このバンドエッジ移動速度に基づき前記第2ドラムの傾きを求め、前記右側移動機構及び前記左側移動機構を作動させて、前記第2ドラムの傾きに基づき前記バンドエッジ移動速度を0にする方向に前記第2ドラムを傾斜させ、バンドエッジ位置の変動を抑えるバンドエッジ位置コントローラと
を有することを特徴とする溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御装置。 A dope, in which a polymer is dissolved in a solvent, is flowed from a casting die on a band that is stretched between a first drum and a second drum and travels in a first direction from the first drum toward the second drum. In the band edge position control device of the solution casting equipment for forming a cast film on the band, peeling the cast film from the band and drying to form a film,
A right side moving mechanism and a left side moving mechanism for individually moving both bearings at both shaft end portions of the second drum in the first direction;
A second drum right side position sensor and a second drum left side position sensor for detecting positions of both bearings of the second drum in the first direction;
A second drum band edge position sensor for detecting a band edge position in a second direction which is a width direction of the band by the second drum;
A band edge moving speed in the second direction of the second drum is detected based on a band edge position signal from the second drum band edge position sensor, and an inclination of the second drum is obtained based on the band edge moving speed. The band that suppresses the fluctuation of the band edge position by operating the right side moving mechanism and the left side moving mechanism to incline the second drum in a direction to make the band edge moving speed 0 based on the inclination of the second drum. An edge position controller, and a band edge position control apparatus for a solution casting apparatus.
前記第2ドラムの前記第2方向におけるバンドエッジの移動速度を検出する第2ドラムバンドエッジ移動速度検出部と、
前記第2ドラムバンドエッジ移動速度検出部からの第2ドラムバンドエッジ位置移動速度に基づき前記第2ドラムの傾きを求める第2ドラム傾き演算部と、
前記第2ドラム傾き演算部からの前記第2ドラムの傾きに基づき、前記右側移動機構及び前記左側移動機構のドラム位置差を求めるドラム位置差演算部とを有し、
前記ドラム位置差に基づき前記右側移動機構及び前記左側移動機構を作動させ、前記バンドエッジ移動速度を0に収束させることを特徴とする請求項1記載の溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御装置。 The band edge position controller is
A second drum band edge moving speed detector that detects a moving speed of the band edge in the second direction of the second drum;
A second drum tilt calculating unit for determining the tilt of the second drum based on the second drum band edge position moving speed from the second drum band edge moving speed detecting unit;
A drum position difference calculation unit that obtains a drum position difference between the right side movement mechanism and the left side movement mechanism based on the inclination of the second drum from the second drum inclination calculation unit;
2. The band edge position control device for a solution casting apparatus according to claim 1, wherein the right side moving mechanism and the left side moving mechanism are operated based on the drum position difference to converge the band edge moving speed to zero.
前記バンドエッジ位置コントローラは、前記第1ドラムバンドエッジ位置センサからの第1エッジ位置信号及び前記第1ドラムバンドエッジ位置センサにおける目標エッジ位置信号との差をフィードバックして、前記第2ドラムの前記軸受の位置を前記第1方向で変える第2ドラムの軸受位置補正信号を出力し、第1ドラムエッジ位置センサでのバンドエッジ位置を前記第2方向で一定にすることを特徴とする請求項1または2記載の溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御装置。 A first drum band edge position sensor for detecting an edge position in the second direction of the band in the first drum;
The band edge position controller feeds back a difference between a first edge position signal from the first drum band edge position sensor and a target edge position signal in the first drum band edge position sensor, and 2. A bearing position correction signal for a second drum that changes a bearing position in the first direction is output, and a band edge position in a first drum edge position sensor is made constant in the second direction. Or the band edge position control apparatus of the solution film-forming equipment of 2.
前記バンドエッジ位置補償器は、前記第2ドラムバンドエッジ位置センサ、前記第1ドラムバンドエッジ位置センサの各信号と前記バンドの走行速度信号とに基づき、前記第1ドラムにおける前記バンドの前記第2方向でのエッジ位置を予測し、このエッジ位置予測値により前記差を補正することを特徴とする請求項3記載の溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御装置。 The band edge position controller has a band edge position compensator,
The band edge position compensator is configured to control the second band of the first drum based on each signal of the second drum band edge position sensor and the first drum band edge position sensor and a traveling speed signal of the band. 4. The band edge position control device for a solution casting apparatus according to claim 3, wherein an edge position in a direction is predicted, and the difference is corrected based on the predicted edge position value.
前記第2ドラムの両軸受の前記第1方向における位置を、第2ドラム右側位置センサ及び第2ドラム左側位置センサにより検出し、
前記バンドの幅方向である第2方向におけるバンドエッジ位置を前記第2ドラムにて、第2ドラムバンドエッジ位置センサにより検出し、
バンドエッジ位置コントローラにより、前記第2ドラムバンドエッジ位置センサからのバンドエッジ位置信号に基づき前記第2ドラムの前記第2方向におけるバンドエッジの移動速度を検出し、このバンドエッジ移動速度に基づき前記第2ドラムの傾きを求め、前記第2ドラムの両軸端部の両軸受を前記第1方向に個別に移動させる右側移動機構及び左側移動機構を作動させて、前記第2ドラムの傾きに基づき前記バンドエッジ移動速度を0にする方向に前記第2ドラムを傾斜させ、バンドエッジ位置の変動を抑え
ることを特徴とする溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御方法。 A dope, in which a polymer is dissolved in a solvent, is flowed from a casting die on a band that is stretched between a first drum and a second drum and travels in a first direction from the first drum toward the second drum. In the band edge position control method of the solution casting equipment to form a cast film on the band, peel the cast film from the band and dry to form a film,
Detecting positions of both bearings of the second drum in the first direction by a second drum right position sensor and a second drum left position sensor;
A band edge position in a second direction which is a width direction of the band is detected by the second drum band edge position sensor in the second drum;
A band edge position controller detects a moving speed of the band edge in the second direction of the second drum based on a band edge position signal from the second drum band edge position sensor, and based on the band edge moving speed, 2 tilts of the two drums are obtained, and a right side moving mechanism and a left side moving mechanism that individually move both bearings at both shaft end portions of the second drum in the first direction are operated, and based on the tilt of the second drum A method of controlling a band edge position of a solution casting apparatus, wherein the second drum is inclined in a direction in which a band edge moving speed is set to 0 to suppress fluctuations in the band edge position.
検出した前記バンドエッジの移動速度信号に基づき、前記第2ドラムの第2方向における基準線に対する第2ドラムの傾きを第2ドラム傾き検出部により求め、求めた第2ドラム傾きに基づき、前記右側移動機構及び前記左側移動機構を作動させ、前記バンドエッジ移動速度を0に収束させることを特徴とする請求項5記載の溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御方法。 A second drum band edge moving speed detector detects a moving speed of the band edge in the second direction on the second drum;
Based on the detected movement speed signal of the band edge, a second drum inclination detector determines an inclination of the second drum with respect to a reference line in the second direction of the second drum, and the right side is determined based on the obtained second drum inclination. 6. The method for controlling the band edge position of a solution casting apparatus according to claim 5, wherein the moving mechanism and the left moving mechanism are operated to converge the band edge moving speed to zero.
前記バンドエッジ位置コントローラにより、前記第1ドラムバンドエッジ位置センサからの第1バンドエッジ位置信号及び前記第1ドラムバンドエッジ位置センサにおける目標エッジ位置信号との差をフィードバックし、前記第2ドラムの前記軸受の位置を前記第1方向で変え、前記第2ドラムの軸受位置補正信号を出力し、前記第1ドラムバンドエッジ位置センサでのバンドエッジ位置を前記第2方向で一定に保持することを特徴とする請求項5または6記載の溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御方法。 An edge position in the second direction of the band in the first drum is detected by a first drum band edge position sensor;
The band edge position controller feeds back a difference between a first band edge position signal from the first drum band edge position sensor and a target edge position signal in the first drum band edge position sensor, and The bearing position is changed in the first direction, a bearing position correction signal for the second drum is output, and the band edge position in the first drum band edge position sensor is held constant in the second direction. The band edge position control method of the solution casting apparatus according to claim 5 or 6.
前記バンドエッジ位置補償器により、前記第2ドラム右側位置センサ、第2ドラム左側位置センサ、第2ドラムバンドエッジ位置センサ、第1ドラムバンドエッジ位置センサの各信号と前記バンドの走行速度信号とに基づき、第1ドラムにおける前記バンドの前記第2方向でのバンドエッジ位置を予測し、このエッジ位置予測値により前記差を補正することを特徴とする請求項7記載の溶液製膜設備のバンドエッジ位置制御方法。 The band edge position controller has a band edge position compensator;
By means of the band edge position compensator, the second drum right position sensor, the second drum left position sensor, the second drum band edge position sensor, the first drum band edge position sensor and the traveling speed signal of the band. 8. The band edge of the solution casting apparatus according to claim 7, wherein a band edge position in the second direction of the band on the first drum is predicted, and the difference is corrected by the predicted edge position value. Position control method.
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