JP5715134B2 - スペクトル純度フィルタ及びスペクトル純度フィルタの製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2009年8月27日に出願された米国特許仮出願第61/237,610号の利益を主張し、参照によりそれら両出願の全体が本明細書に引用される。
本発明は、スペクトル純度フィルタ、そのようなスペクトル純度フィルタを含むリソグラフィ装置、及びスペクトル純度フィルタを製造する方法に関する。
Claims (12)
- 極端紫外放射を透過させ、かつ第2のタイプの放射の透過を抑制するよう構成された複数のアパーチャを備えるスペクトル純度フィルタの製造方法であって、
第1主要面および第2主要面を有する基材を準備するステップと、
前記基材の第1面に、スペクトル純度フィルタのアパーチャ間に形成される壁に対応するパターンに溝を形成するステップと、
前記溝をグリッド材料で充填し、グリッド材料の壁を形成するステップと、
アパーチャを形成するために、グリッド材料が露出し、グリッド材料の壁間に空間を生じるまで、前記基材の少なくとも一部を選択的に除去するステップと、
を備えることを特徴とするスペクトル純度フィルタの製造方法。 - グリッド材料で前記溝を充填する前に、前記溝の少なくとも表面をエッチングプロセスに耐性を示す材料の層でコーティングするステップと、
前記基材の少なくとも一部を選択的に除去するステップのために、前記エッチングプロセスを用いるステップと、
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のスペクトル純度フィルタの製造方法。 - 前記基材の第2面から前記基材の一部を選択的に除去するために用いられる第1エッチングプロセスとは異なる第2エッチングプロセス用いて、前記基材の少なくとも一部を選択的に除去するステップの後に前記第1エッチングプロセスに耐性を示す材料を除去するステップをさらに備えることを特徴とする請求項2に記載のスペクトル純度フィルタの製造方法。
- 前記溝をグリッド材料で充填するステップは、グリッド材料が前記溝に入るようにグリッド材料層を前記基材の第1面上に堆積させるステップと、グリッド材料が前記溝内にのみ残るように前記基材の第1面を選択的にエッチングするステップと、を備えることを特徴とする請求項1,2,または3に記載のスペクトル純度フィルタの製造方法。
- 前記溝が充填された後に、前記基材の第1面上に保護カバー層が形成されることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタの製造方法。
- 前記第2エッチングプロセスを用いるステップは、前記保護カバー層を除去するために用いられることを特徴とする、請求項3に従属するときの請求項5に記載のスペクトル純度フィルタの製造方法。
- 前記基材は、単結晶シリコンを備え、前記基材の第1面に溝を形成するステップは、リアクティブ・イオンエッチングを備えることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタの製造方法。
- 前記溝の表面をコーティングするために用いられる前記材料は、酸化ケイ素を備え、前記基材の少なくとも一部を選択的に除去するステップは、リアクティブ・イオンエッチングを備えることを特徴とする請求項2および請求項2の従属請求項のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタの製造方法。
- 前記第2エッチングプロセスは、プラズマエッチングを備えることを特徴とする請求項3および請求項3の従属請求項のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタの製造方法。
- 前記第2のタイプの放射に対して反射性である材料で前記アパーチャが形成された後、前記グリッド材料の少なくとも一つの面をコーティングするステップをさらに備えることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタの製造方法。
- 前記基材の第1面に形成された溝は、スペクトル純度フィルタのアパーチャ間に形成される壁に対応する、前記基材の第1面の第1領域にある溝を含み、且つ、前記第1領域に隣接する、前記基材の第1面の第2領域の中に延びる溝を含み、
前記基材の少なくとも一部を選択的に除去するステップは、前記第1面の第2領域に対応する前記第2面の領域からではなく、前記第1面の第1領域に対応する前記基材の第2面の領域から前記基材が除去されるよう構成されていることを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載のスペクトル純度フィルタの製造方法。 - 請求項1から11のいずれかに記載の方法に従って製造されたスペクトル純度フィルタ。
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