JP5710388B2 - Polyaniline conductive composition - Google Patents

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Description

本発明は、ポリアニリンを含む導電性重合体組成物に関する。   The present invention relates to a conductive polymer composition containing polyaniline.

導電性高分子は、電解コンデンサや電子機器のバックアップ用電池、携帯電話やノート型パソコンに使用されているリチウムイオン電池の電極等に使用されている。
導電性高分子の一種であるポリアニリンは、その電気的な特性に加え、安価なアニリンから比較的簡便に合成でき、且つ導電性を示す状態で酸素等に対して優れた安定性を示すという利点及び特性を有する。また、特許文献1に記載の方法によって簡便に高い導電性のポリアニリンを得ることができる。
しかし、特許文献1に記載の導電性ポリアニリン組成物は、得られる成形品の耐熱性が必ずしも高いとは言えず、125℃の不活性ガス中に10日間放置すると、抵抗値は初期の40倍程度に上昇する。
Conductive polymers are used for electrolytic capacitors, backup batteries for electronic devices, electrodes for lithium ion batteries used in mobile phones and notebook computers, and the like.
In addition to its electrical properties, polyaniline, a kind of conductive polymer, can be synthesized relatively easily from inexpensive aniline, and has the advantage of exhibiting excellent stability against oxygen and the like in a conductive state And having characteristics. In addition, highly conductive polyaniline can be easily obtained by the method described in Patent Document 1.
However, the conductive polyaniline composition described in Patent Document 1 cannot necessarily be said to have high heat resistance of the obtained molded product, and when left in an inert gas at 125 ° C. for 10 days, the resistance value is 40 times the initial value. Rise to the extent.

国際公開第2005/052058号パンフレットInternational Publication No. 2005/052058 Pamphlet

本発明は、得られる成形品の耐熱性が高い導電性組成物を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the electroconductive composition with high heat resistance of the molded article obtained.

本発明によれば、以下の導電性組成物等が提供される。
1.(1)プロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリン
(2)フェノール性化合物
(3)含酸素有機溶剤
(4)酸性基又はその塩を有する高分子化合物
を含む導電性組成物。
2.前記プロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリンの塩素含有量が、0.6重量%以下である1に記載の導電性組成物。
3.前記プロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリンが、有機スルホン酸又はその塩でプロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリンである1又は2に記載の導電性組成物。
4.前記有機スルホン酸又はその塩がスルホコハク酸誘導体である3に記載の導電性組成物。
5.前記有機スルホン酸又はその塩が、下記式(III)で表される3又は4に記載の導電性組成物。

Figure 0005710388
(式中、Mは水素原子、有機遊離基又は無機遊離基であり、m’はMの価数であり、R112及びR113は、それぞれ独立に、炭化水素基又は−(R114O)r−R115基[ここで、R114はそれぞれ独立に炭化水素基又はシリレン基であり、R115は水素原子、炭化水素基又はR116 Si−基(ここで、R116はそれぞれ独立に炭化水素基である)であり、rは1以上の整数である]である。)
6.前記(4)高分子化合物が、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、カルボキシ基又は水酸基を有する高分子化合物である1〜5のいずれかに記載の導電性組成物。
7.前記(4)高分子化合物が、式(A)及び(B)から選択される少なくとも1種の繰り返し単位と、式(C)の繰り返し単位を含む高分子化合物である、1〜5のいずれかに記載の導電性組成物。
Figure 0005710388
(式中、R、R、Rは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、Rはアルキル基であり、A1 はナトリウムイオン、アンモニウムイオン、又は下記式で表されるイオンのいずれかである。
Figure 0005710388
(式中、R’はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシルアルキル基である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシルアルキル基は直鎖でも、分岐していてもよく、R’は同一でも異なっていてもよい。))
8.前記(4)高分子化合物の酸価が1mg/g以上である1〜7のいずれかに記載の導電性組成物。
9.前記(4)高分子化合物の重量平均分子量が2000以上200000以下である1〜8のいずれかに記載の導電性高分子。
10.前記含酸素有機溶剤が、炭素数1〜12のアルコールである1〜9のいずれかに記載の導電性組成物。
11.さらに低分子酸性化合物又はその塩を含む1〜10のいずれかに記載の導電性組成物。
12.前記低分子酸性化合物が、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基又はカルボキシ基を有する化合物である11に記載の導電性組成物。
13.前記低分子酸性化合物が、ナフタレンスルホン酸又はアルキルナフタレンスルホン酸である11又は12に記載の導電性組成物。
14.1〜13のいずれかに記載の導電性組成物を用いて製造されるコンデンサ。
15.1〜13のいずれかに記載の導電性組成物を用いて製造される導電性成形体。
16.1〜13のいずれかに記載の導電性組成物を、基材に塗布してなる表面導電性物品。
17.16に記載の表面導電性物品を用いて製造される導電性物品。
According to the present invention, the following conductive compositions and the like are provided.
1. (1) Protonated substituted or unsubstituted polyaniline (2) Phenolic compound (3) Oxygen-containing organic solvent (4) High molecular compound having acidic group or salt thereof
2. 2. The conductive composition according to 1, wherein the chlorine content of the protonated substituted or unsubstituted polyaniline is 0.6% by weight or less.
3. 3. The conductive composition according to 1 or 2, wherein the protonated substituted or unsubstituted polyaniline is a substituted or unsubstituted polyaniline protonated with an organic sulfonic acid or a salt thereof.
4). 4. The conductive composition according to 3, wherein the organic sulfonic acid or a salt thereof is a sulfosuccinic acid derivative.
5. The conductive composition according to 3 or 4, wherein the organic sulfonic acid or a salt thereof is represented by the following formula (III).
Figure 0005710388
Wherein M is a hydrogen atom, an organic free radical or an inorganic free radical, m ′ is a valence of M, and R 112 and R 113 are each independently a hydrocarbon group or — (R 114 O). r—R 115 group [wherein R 114 is each independently a hydrocarbon group or a silylene group, R 115 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or an R 116 3 Si— group (where R 116 is independently Is a hydrocarbon group), and r is an integer of 1 or more.)
6). The conductive composition according to any one of 1 to 5, wherein the polymer compound (4) is a polymer compound having a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a carboxy group, or a hydroxyl group.
7). Any of 1 to 5, wherein the polymer compound (4) is a polymer compound containing at least one repeating unit selected from the formulas (A) and (B) and a repeating unit of the formula (C). The electroconductive composition as described in.
Figure 0005710388
(In the formula, R a , R b , and R c are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R d is an alkyl group, and A 1 + is a sodium ion, an ammonium ion, or the following formula: Any of the ions to be produced.
Figure 0005710388
(In the formula, each R ′ is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or a hydroxylalkyl group. The alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, or hydroxylalkyl group may be linear or branched, R ′ may be the same or different.))
8). (4) The electrically conductive composition in any one of 1-7 whose acid value of a high molecular compound is 1 mg / g or more.
9. The conductive polymer according to any one of 1 to 8, wherein the polymer compound (4) has a weight average molecular weight of 2,000 to 200,000.
10. The conductive composition according to any one of 1 to 9, wherein the oxygen-containing organic solvent is an alcohol having 1 to 12 carbon atoms.
11. Furthermore, the electroconductive composition in any one of 1-10 containing a low molecular acidic compound or its salt.
12 12. The conductive composition according to 11, wherein the low molecular acid compound is a compound having a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, or a carboxy group.
13. The conductive composition according to 11 or 12, wherein the low molecular acid compound is naphthalenesulfonic acid or alkylnaphthalenesulfonic acid.
14. A capacitor manufactured using the conductive composition according to any one of 1 to 13.
The electroconductive molded object manufactured using the electroconductive composition in any one of 15.1-13.
16. A surface conductive article obtained by applying the conductive composition according to any one of 16.1 to 13 to a substrate.
A conductive article manufactured using the surface conductive article according to 17.16.

本発明によれば、得られる成形品の耐熱性が高い導電性組成物が提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the electrically conductive composition with high heat resistance of the molded article obtained can be provided.

本発明の導電性組成物は以下の成分からなる。
(1)プロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリン
(2)フェノール性化合物
(3)含酸素有機溶剤
(4)酸性基又はその塩を有する高分子化合物
本発明の組成物は成分(4)を含むことにより得られる成形品の耐熱性が高くなる。
以下、各成分について説明する。
The conductive composition of the present invention comprises the following components.
(1) Protonated substituted or unsubstituted polyaniline (2) Phenolic compound (3) Oxygenated organic solvent (4) High molecular compound having acidic group or salt thereof The composition of the present invention comprises component (4) Thus, the heat resistance of the molded product obtained is increased.
Hereinafter, each component will be described.

1.プロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリン(成分(1))
本発明の導電性組成物が含むプロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリンは、置換又は非置換のポリアニリン分子にプロトン供与体がドープしてなる複合体(ポリアニリン複合体)である。
1. Protonated substituted or unsubstituted polyaniline (component (1))
The protonated substituted or unsubstituted polyaniline contained in the conductive composition of the present invention is a complex (polyaniline complex) obtained by doping a substituted or unsubstituted polyaniline molecule with a proton donor.

ポリアニリン分子の重量平均分子量(以下、分子量という)は好ましくは20,000以上である。分子量が20,000未満であると、組成物から得られる導電性物品の強度や延伸性が低下する恐れがある。好ましくは20,000〜500,000であり、より好ましくは50,000〜300,000である。分子量分布は1.5〜10.0以下である。導電率の観点からは分子量分布は小さい方が好ましいが、溶剤への溶解性や成形性の観点では、分子量分布が広い方が好ましい場合もある。
本明細書において、分子量と分子量分布はゲルパーミェションクロマトグラフィ(GPC)によりポリスチレン換算で測定する。
The weight average molecular weight (hereinafter referred to as molecular weight) of the polyaniline molecule is preferably 20,000 or more. If the molecular weight is less than 20,000, the strength and stretchability of the conductive article obtained from the composition may be reduced. Preferably it is 20,000-500,000, More preferably, it is 50,000-300,000. Molecular weight distribution is 1.5-10.0 or less. A smaller molecular weight distribution is preferable from the viewpoint of conductivity, but a wider molecular weight distribution may be preferable from the viewpoint of solubility in solvents and moldability.
In this specification, molecular weight and molecular weight distribution are measured in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC).

ポリアニリン複合体の置換又は非置換のポリアニリン分子は、汎用性及び経済性の観点から、好ましくは非置換のポリアニリンである。
上記置換ポリアニリン分子の置換基としては、例えばメチル基、エチル基、ヘキシル基、オクチル基等の直鎖又は分岐の炭化水素基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;フェノキシ基等のアリールオキシ基;トリフルオロメチル基(−CF基)等のハロゲン化炭化水素が挙げられる。
The substituted or unsubstituted polyaniline molecule of the polyaniline complex is preferably unsubstituted polyaniline from the viewpoint of versatility and economy.
Examples of the substituent of the substituted polyaniline molecule include linear or branched hydrocarbon groups such as methyl group, ethyl group, hexyl group and octyl group; alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group; aryloxy groups such as phenoxy group A halogenated hydrocarbon such as a trifluoromethyl group (—CF 3 group);

置換もしくは非置換のポリアニリン分子は、好ましくは塩素原子を含まない酸の存在下で重合して得られるポリアニリン分子である。塩素原子を含まない酸とは、例えば1族〜16族及び18族に属する原子からなる酸であり、リン酸の存在下で重合して得られるポリアニリン分子が挙げられる。
塩素原子を含まない酸の存在下で得られたポリアニリン分子は、ポリアニリン複合体の塩素含有量をより低くすることができる。
ポリアニリン複合体の塩素含有量は、0.6重量%以下が好ましい。より好ましくは0.1重量%以下であり、さらに好ましくは0.04重量%以下であり、最も好ましくは0.0001重量%以下である。
ポリアニリン複合体の塩素含有量が0.6重量%超の場合、ポリアニリン複合体と接触する金属部分が腐食するおそれがある。
上記塩素含有量は、燃焼−イオンクロマト法によって測定することができる。
The substituted or unsubstituted polyaniline molecule is preferably a polyaniline molecule obtained by polymerization in the presence of an acid containing no chlorine atom. The acid containing no chlorine atom is, for example, an acid composed of atoms belonging to Group 1 to Group 16 and Group 18, and examples thereof include polyaniline molecules obtained by polymerization in the presence of phosphoric acid.
The polyaniline molecule obtained in the presence of an acid containing no chlorine atom can lower the chlorine content of the polyaniline complex.
The chlorine content of the polyaniline complex is preferably 0.6% by weight or less. More preferably, it is 0.1 weight% or less, More preferably, it is 0.04 weight% or less, Most preferably, it is 0.0001 weight% or less.
When the chlorine content of the polyaniline complex is more than 0.6% by weight, the metal part that comes into contact with the polyaniline complex may be corroded.
The chlorine content can be measured by combustion-ion chromatography.

ポリアニリン複合体のプロトン供与体が、置換又は非置換のポリアニリン分子にドープしていることは、紫外・可視・近赤外分光法やX線光電子分光法によって確認することができ、当該プロトン供与体は、ポリアニリン分子にキャリアを発生させるに十分な酸性を有していれば、特に化学構造上の制限なく使用できる。
上記プロトン供与体としては、例えばブレンステッド酸、又はそれらの塩が挙げられ、好ましくは有機酸、又はそれらの塩である。有機酸としては、例えば有機スルホン酸がある。
It can be confirmed by ultraviolet / visible / near-infrared spectroscopy or X-ray photoelectron spectroscopy that the proton donor of the polyaniline complex is doped into a substituted or unsubstituted polyaniline molecule. Can be used without particular chemical structural limitation as long as the polyaniline molecule has sufficient acidity to generate carriers.
Examples of the proton donor include a Bronsted acid or a salt thereof, preferably an organic acid or a salt thereof. Examples of organic acids include organic sulfonic acids.

上記プロトン供与体は、さらに好ましくは、下記式(I)で示されるプロトン供与体である。
M(XARn)m (I)
式(I)のMは、水素原子、有機遊離基又は無機遊離基である。
上記有機遊離基としては、例えば、ピリジニウム基、イミダゾリウム基、アニリニウム基が挙げられる。また、上記無機遊離基としては、例えば、ナトリウム、リチウム、カリウム、セシウム、アンモニウム、カルシウム、マグネシウム、鉄が挙げられる。
式(I)のXは、アニオン基であり、例えば−SO 基、−PO 2−基、−PO(OH)基、−OPO 2−基、−OPO(OH)基、−COO基が挙げられ、好ましくは−SO 基である。
The proton donor is more preferably a proton donor represented by the following formula (I).
M (XARn) m (I)
M in the formula (I) is a hydrogen atom, an organic radical or an inorganic radical.
Examples of the organic free radical include a pyridinium group, an imidazolium group, and an anilinium group. Examples of the inorganic free radical include sodium, lithium, potassium, cesium, ammonium, calcium, magnesium, and iron.
X in the formula (I) is an anionic group, for example, —SO 3 group, —PO 3 2 — group, —PO 4 (OH) 2 , —OPO 3 2 — group, —OPO 2 (OH) —. group, -COO - group, and preferably -SO 3 - is a group.

式(I)のAは(M(XARn)mのAの定義は)、置換又は非置換の炭化水素基である。
上記炭化水素基は、鎖状若しくは環状の飽和脂肪族炭化水素基、鎖状若しくは環状の不飽和脂肪族炭化水素基、又は芳香族炭化水素基である。
鎖状の飽和脂肪族炭化水素としては、直鎖若しくは分岐状のアルキル基が挙げられる。環状の飽和脂肪族炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。ここで環状の飽和脂肪族炭化水素基は、複数の環状の飽和脂肪族炭化水素基が縮合していてもよい。例えば、ノルボルニル基、アダマンチル基、縮合したアダマンチル基が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基が挙げられる。鎖状の不飽和脂肪族炭化水素としては、直鎖若しくは分岐状のアルケニル基が挙げられる。
ここで、Aが置換の炭化水素基である場合の置換基は、アルキル基、シクロアルキル基、ビニル基、アリル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シリル基又はエステル基である。
Aは、これら置換基の対応するn+1価の残基である。
A in formula (I) (the definition of A in M (XARn) m) is a substituted or unsubstituted hydrocarbon group.
The hydrocarbon group is a chain or cyclic saturated aliphatic hydrocarbon group, a chain or cyclic unsaturated aliphatic hydrocarbon group, or an aromatic hydrocarbon group.
Examples of the chain saturated aliphatic hydrocarbon include a linear or branched alkyl group. Examples of the cyclic saturated aliphatic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Here, the cyclic saturated aliphatic hydrocarbon group may be a condensation of a plurality of cyclic saturated aliphatic hydrocarbon groups. Examples thereof include a norbornyl group, an adamantyl group, and a condensed adamantyl group. Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthracenyl group. Examples of the chain unsaturated aliphatic hydrocarbon include a linear or branched alkenyl group.
Here, when A is a substituted hydrocarbon group, the substituent is alkyl group, cycloalkyl group, vinyl group, allyl group, aryl group, alkoxy group, halogen group, hydroxy group, amino group, imino group, nitro group. Group, silyl group or ester group.
A is the corresponding n + 1 valent residue of these substituents.

式(I)のRは、Aと結合しており、それぞれ独立して、−H、−R101、−OR101、−COR101、−COOR101、−(C=O)―(COR101)、又は―(C=O)―(COOR101)であり、R101は、置換基を含んでもよい炭化水素基、シリル基、アルキルシリル基、−(R102O)x−R103基、又は−(OSiR103 )x−OR103(R102はそれぞれ独立にアルキレン基、R103はそれぞれ独立に炭化水素基であり、xは1以上の整数である)である。
101の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、エイコサニル基等が挙げられる。これらの基は直鎖であっても分岐していてもよい。分岐のオクチル基として、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。また、当該炭化水素基の置換基は、例えばアルキル基、シクロアルキル基、ビニル基、アリル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、アミノ基、イミノ基、ニトロ基又はエステル基である。R103の炭化水素基もR101と同様である。
式(I)のnは1以上の整数であり、式(I)のmは、Mの価数/Xの価数である。
R in the formula (I) is bonded to A, and is independently -H, -R 101 , -OR 101 , -COR 101 , -COOR 101 ,-(C = O)-(COR 101 ). Or-(C = O)-(COOR 101 ), wherein R 101 is a hydrocarbon group, silyl group, alkylsilyl group,-(R 102 O) x-R 103 group, which may contain a substituent, or - (OSiR 103 2) x- oR 103 (R 102 are each independently an alkylene group, R 103 are each independently a hydrocarbon group, x is a is an integer of 1 or more) is.
Examples of the hydrocarbon group for R 101 include a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, a pentadecyl group, and an eicosanyl group. These groups may be linear or branched. Examples of the branched octyl group include a 2-ethylhexyl group. The substituent of the hydrocarbon group is, for example, an alkyl group, a cycloalkyl group, a vinyl group, an allyl group, an aryl group, an alkoxy group, a halogen group, a hydroxy group, an amino group, an imino group, a nitro group, or an ester group. . The hydrocarbon group for R 103 is the same as R 101 .
N in the formula (I) is an integer of 1 or more, and m in the formula (I) is a valence of M / a valence of X.

式(I)で示される化合物としては、ジアルキルベンゼンスルフォン酸、ジアルキルナフタレンスルフォン酸、又はエステル結合を2以上含有する化合物が好ましい。
上記エステル結合を2以上含有する化合物は、スルホフタール酸エステル、又は下式(II)で表される化合物がより好ましい。

Figure 0005710388
(式中、M、m及びXは、式(I)と同様である。Xは、−SO 基が好ましい。) As the compound represented by the formula (I), dialkylbenzenesulfonic acid, dialkylnaphthalenesulfonic acid, or a compound containing two or more ester bonds is preferable.
The compound containing two or more ester bonds is more preferably a sulfophthalic acid ester or a compound represented by the following formula (II).
Figure 0005710388
(In the formula, M, m and X are the same as those in formula (I). X is preferably a —SO 3 group.)

式(II)のR104及び2つのR105は、それぞれ独立して水素原子、炭化水素基又はR108 Si−基(ここで、R108は炭化水素基であり、3つのR108は同一又は異なっていてもよい)である。
104及びR105が炭化水素基である場合の炭化水素基としては、炭素数1〜24の直鎖若しくは分岐状のアルキル基、芳香環を含むアリール基、アルキルアリール基等が挙げられる。
108の炭化水素基としては、R104及びR105の場合と同様である。
R 104 and two R 105 in formula (II) are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group or an R 108 3 Si— group (where R 108 is a hydrocarbon group, and three R 108 are the same Or they may be different).
Examples of the hydrocarbon group when R 104 and R 105 are hydrocarbon groups include a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, an aryl group containing an aromatic ring, and an alkylaryl group.
The hydrocarbon group for R 108 is the same as that for R 104 and R 105 .

式(II)のR106及びR107は、それぞれ独立に、炭化水素基又は−(R109O)−R110基[ここで、R109は炭化水素基又はシリレン基であり、R110は水素原子、炭化水素基又はR111 Si−(R111は、炭化水素基であり、3つのR111は同一又は異なっていてもよい)であり、qは1以上の整数である]である。
106及びR107が炭化水素基である場合の炭化水素基としては、炭素数1〜24、好ましくは炭素数4以上の直鎖若しくは分岐状のアルキル基、芳香環を含むアリール基、アルキルアリール基等が挙げられ、R106及びR107が炭化水素基である場合の炭化水素基の具体例としては、例えば、直鎖又は分岐状のブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。分岐のオクチル基として、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。
R 106 and R 107 in formula (II) are each independently a hydrocarbon group or — (R 109 O) q —R 110 group [wherein R 109 is a hydrocarbon group or a silylene group, and R 110 is A hydrogen atom, a hydrocarbon group, or R 111 3 Si— (R 111 is a hydrocarbon group, three R 111 may be the same or different), and q is an integer of 1 or more]. .
When R 106 and R 107 are hydrocarbon groups, the hydrocarbon group is a linear or branched alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, preferably 4 or more carbon atoms, an aryl group containing an aromatic ring, or alkylaryl. Specific examples of the hydrocarbon group when R 106 and R 107 are hydrocarbon groups include, for example, a linear or branched butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group Etc. Examples of the branched octyl group include a 2-ethylhexyl group.

106及びR107における、R109が炭化水素基である場合の炭化水素基としては、炭素数1〜24の直鎖若しくは分岐状のアルキレン基、芳香環を含むアリーレン基、アルキルアリーレン基、アリールアルキレン基等である。また、R106及びR107における、R110及びR111が炭化水素基である場合の炭化水素基としては、R104及びR105の場合と同様であり、qは、1〜10であることが好ましい。 In R 106 and R 107 , when R 109 is a hydrocarbon group, the hydrocarbon group is a linear or branched alkylene group having 1 to 24 carbon atoms, an arylene group containing an aromatic ring, an alkylarylene group, an aryl An alkylene group and the like; The hydrocarbon group in R 106 and R 107 when R 110 and R 111 are hydrocarbon groups is the same as in R 104 and R 105 , and q is 1 to 10. preferable.

106及びR107が−(R109O)n−R110基である場合の式(II)で表わされる化合物の具体例としては、下記式で表わされる2つの化合物である。

Figure 0005710388
(式中、Xは式(I)と同様である。) Specific examples of the compound represented by the formula (II) when R 106 and R 107 are — (R 109 O) n—R 110 group include two compounds represented by the following formulae.
Figure 0005710388
(Wherein X is the same as in formula (I).)

上記式(II)で表わされる化合物は、下記式(III)で示されるスルホコハク酸誘導体であることがさらに好ましい。

Figure 0005710388
(式中、Mは、式(I)と同様である。m’は、Mの価数である。) The compound represented by the above formula (II) is more preferably a sulfosuccinic acid derivative represented by the following formula (III).
Figure 0005710388
(In the formula, M is the same as in formula (I). M ′ is the valence of M.)

式(III)のR112及びR113は、それぞれ独立に、炭化水素基又は−(R114O)r−R115基[ここで、R114はそれぞれ独立に炭化水素基又はシリレン基であり、R115は水素原子、炭化水素基又はR116 Si−基(ここで、R116はそれぞれ独立に炭化水素基である)であり、rは1以上の整数である]である。 R 112 and R 113 in the formula (III) are each independently a hydrocarbon group or — (R 114 O) r—R 115 group [wherein R 114 is each independently a hydrocarbon group or a silylene group; R 115 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or an R 116 3 Si— group (wherein R 116 is each independently a hydrocarbon group), and r is an integer of 1 or more.

112及びR113が炭化水素基である場合の炭化水素基としては、R106及びR107と同様である。
112及びR113において、R114が炭化水素基である場合の炭化水素基としては、上記R109と同様である。また、R112及びR113において、R115及びR116が炭化水素基である場合の炭化水素基としては、上記R104及びR105と同様である。
rは、1〜10であることが好ましい。
The hydrocarbon group when R 112 and R 113 are hydrocarbon groups is the same as R 106 and R 107 .
In R 112 and R 113 , the hydrocarbon group in the case where R 114 is a hydrocarbon group is the same as R 109 described above. In R 112 and R 113 , the hydrocarbon group in the case where R 115 and R 116 are hydrocarbon groups is the same as R 104 and R 105 described above.
r is preferably from 1 to 10.

112及びR113が−(R114O)q−R115基である場合の具体例としては、R106及びR107における−(R109O)n−R110と同様である。
112及びR113の炭化水素基としては、R106及びR107と同様であり、ブチル基、ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、デシル基等が好ましい。
Specific examples when R 112 and R 113 are — (R 114 O) q—R 115 groups are the same as — (R 109 O) n—R 110 in R 106 and R 107 .
The hydrocarbon group for R 112 and R 113 is the same as R 106 and R 107 , and a butyl group, a hexyl group, a 2-ethylhexyl group, a decyl group, and the like are preferable.

上記プロトン供与体はその構造を変えることにより、ポリアニリン複合体の導電性や、溶剤への溶解性をコントロールできることが知られている(特許第3384566号)。本発明においては、用途毎の要求特性によって最適なプロトン供与体を選択できる。   It is known that by changing the structure of the proton donor, the conductivity of the polyaniline complex and the solubility in a solvent can be controlled (Japanese Patent No. 338466). In the present invention, an optimum proton donor can be selected depending on the required characteristics for each application.

ポリアニリン分子に対するプロトン供与体のドープ率は、好ましくは0.35以上0.65以下であり、より好ましくは0.42以上0.60以下であり、さらに好ましくは0.43以上0.57以下であり、特に好ましくは0.44以上0.55以下である。ドープ率が0.35未満である場合、ポリアニリン複合体の有機溶剤への溶解性が高くならないおそれがある。
尚、ドープ率は(ポリアニリン分子にドープしているプロトン供与体のモル数)/(ポリアニリンのモノマーユニットのモル数)で定義される。例えば非置換ポリアニリンとプロトン供与体を含むポリアニリン複合体のドープ率が0.5であることは、ポリアニリンのモノマーユニット分子2個に対し、プロトン供与体が1個ドープしていることを意味する。
尚、ドープ率は、ポリアニリン複合体中のプロトン供与体とポリアニリン分子のモノマーユニットのモル数が測定できれば算出可能である。例えば、プロトン供与体が有機スルホン酸の場合、プロトン供与体由来の硫黄原子のモル数と、ポリアニリンのモノマーユニット由来の窒素原子のモル数を、有機元素分析法により定量し、これらの値の比を取ることでドープ率を算出できる。但し、ドープ率の算出方法は、当該手段に限定されない。
The doping rate of the proton donor with respect to the polyaniline molecule is preferably 0.35 or more and 0.65 or less, more preferably 0.42 or more and 0.60 or less, and further preferably 0.43 or more and 0.57 or less. Yes, and particularly preferably 0.44 or more and 0.55 or less. When the dope rate is less than 0.35, the solubility of the polyaniline complex in the organic solvent may not be increased.
The doping rate is defined by (number of moles of proton donor doped in polyaniline molecule) / (number of moles of monomer unit of polyaniline). For example, a polyaniline complex containing an unsubstituted polyaniline and a proton donor having a doping ratio of 0.5 means that one proton donor is doped with respect to two polyaniline monomer unit molecules.
The dope rate can be calculated if the number of moles of the proton donor in the polyaniline complex and the monomer unit of the polyaniline molecule can be measured. For example, when the proton donor is an organic sulfonic acid, the number of moles of sulfur atoms derived from the proton donor and the number of moles of nitrogen atoms derived from the monomer unit of polyaniline are determined by organic elemental analysis, and the ratio of these values is determined. The dope rate can be calculated by taking However, the calculation method of the dope rate is not limited to the means.

ポリアニリン複合体は、非置換ポリアニリン分子とプロトン供与体であるスルホン酸とを含み、下記式(5)を満たすことが好ましい。
0.42≦S/N≦0.60 (5)
(式中、Sはポリアニリン複合体に含まれる硫黄原子のモル数の合計であり、Nはポリアニリン複合体に含まれる窒素原子のモル数の合計である。
尚、上記窒素原子及び硫黄原子のモル数は、例えば有機元素分析法により測定した値である。)
The polyaniline complex preferably contains an unsubstituted polyaniline molecule and a sulfonic acid that is a proton donor and satisfies the following formula (5).
0.42 ≦ S 5 / N 5 ≦ 0.60 (5)
(In the formula, S 5 is the total number of moles of sulfur atoms contained in the polyaniline complex, and N 5 is the total number of moles of nitrogen atoms contained in the polyaniline complex.
The number of moles of nitrogen and sulfur atoms is a value measured by, for example, an organic elemental analysis method. )

ポリアニリン複合体は、好ましくは組成物中に溶解している。
ここで「溶解している」とは、ポリアニリン複合体が組成物中に分子単位で均一に溶けていることを意味し、例えばポリアニリン複合体を組成物中に溶解し、遠心分離機にて遠心力(1000G、30分)をかけても、組成物中にポリアニリン複合体の濃度勾配が生じないことから確認できる。
溶解しているポリアニリン複合体を含む組成物は、成膜した際に、粒界がない均一なポリアニリン複合体の膜を得ることができる。
The polyaniline complex is preferably dissolved in the composition.
Here, “dissolved” means that the polyaniline complex is uniformly dissolved in molecular units in the composition. For example, the polyaniline complex is dissolved in the composition and centrifuged in a centrifuge. Even when force (1000 G, 30 minutes) is applied, it can be confirmed that a concentration gradient of the polyaniline complex does not occur in the composition.
When a composition containing a dissolved polyaniline complex is formed, a uniform polyaniline complex film having no grain boundary can be obtained.

ポリアニリン複合体は、さらにリンを含んでも含まなくてもよい。
ポリアニリン複合体がリンを含む場合、リンの含有量は例えば10重量ppm以上5000重量ppm以下である。またリンの含有量は、例えば2000重量ppm以下、500重量ppm以下、250重量ppm以下である。
上記リンの含有量は、ICP発光分光分析法で測定することができる。
また、ポリアニリン複合体は、不純物として第12族元素(例えば亜鉛)を含まないことが好ましい。
The polyaniline complex may or may not further contain phosphorus.
When the polyaniline complex contains phosphorus, the phosphorus content is, for example, not less than 10 ppm by weight and not more than 5000 ppm by weight. Moreover, phosphorus content is 2000 weight ppm or less, 500 weight ppm or less, and 250 weight ppm or less, for example.
The phosphorus content can be measured by ICP emission spectrometry.
Moreover, it is preferable that a polyaniline composite does not contain a Group 12 element (for example, zinc) as an impurity.

ポリアニリン複合体は、公知の方法(例えば塩酸存在下でのアニリンの重合)で製造することができるが、好ましくはプロトン供与体、リン酸、及びプロトン供与体とは異なる乳化剤を含み、2つの液相を有する溶液中で、置換又は非置換のアニリンを化学酸化重合することにより製造する。   The polyaniline complex can be produced by a known method (for example, polymerization of aniline in the presence of hydrochloric acid), but preferably contains a proton donor, phosphoric acid, and an emulsifier different from the proton donor. It is produced by chemical oxidative polymerization of substituted or unsubstituted aniline in a solution having a phase.

ここで「2つの液相を有する溶液」とは、溶液中に相溶しない2つの液相が存在する状態を意味する。例えば、溶液中に「高極性溶媒の相」と「低極性溶媒の相」が存在する状態、を意味する。
また、「2つの液相を有する溶液」は、片方の液相が連続相であり、他方の液相が分散相である状態も含む。例えば「高極性溶媒の相」が連続相であり「低極性溶媒の相」が分散相である状態、及び「低極性溶媒の相」が連続相であり「高極性溶媒の相」が分散相である状態が含まれる。
上記ポリアニリン複合体の製造方法に用いる高極性溶媒としては、水が好ましく、低極性溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が好ましい。
Here, the “solution having two liquid phases” means a state in which two liquid phases that are incompatible with each other exist in the solution. For example, it means a state in which a “high polarity solvent phase” and a “low polarity solvent phase” exist in the solution.
Further, “a solution having two liquid phases” includes a state in which one liquid phase is a continuous phase and the other liquid phase is a dispersed phase. For example, a state where the “high polarity solvent phase” is a continuous phase and the “low polarity solvent phase” is a dispersed phase, and the “low polarity solvent phase” is a continuous phase and the “high polarity solvent phase” is a dispersed phase. Is included.
As a highly polar solvent used for the manufacturing method of the said polyaniline composite_body | complex, water is preferable and aromatic hydrocarbons, such as toluene and xylene, are preferable as a low polarity solvent, for example.

上記プロトン供与体は、好ましくは下記式(I)で表わされる化合物であり、より好ましくは下記式(II)で表わされる化合物であり、さらに好ましくは下記式(III)で表わされる化合物である。

Figure 0005710388
(式中、M、X、A、R、R104、R105、R106、R107、R112、R113、n、m及びm’は、ポリアニリン複合体のプロトン供与体で説明した通りである。) The proton donor is preferably a compound represented by the following formula (I), more preferably a compound represented by the following formula (II), and further preferably a compound represented by the following formula (III).
Figure 0005710388
(Wherein M, X, A, R, R 104 , R 105 , R 106 , R 107 , R 112 , R 113 , n, m and m ′ are as described for the proton donor of the polyaniline complex. is there.)

上記乳化剤は、親水性部分がイオン性であるイオン性乳化剤、及び親水性部分が非イオン性である非イオン性乳化剤のどちらでも使用でき、また、1種又は2種以上の乳化剤を混合して使用してもよい。   The emulsifier can be either an ionic emulsifier whose hydrophilic part is ionic or a nonionic emulsifier whose non-ionic hydrophilic part is used, or a mixture of one or more emulsifiers. May be used.

イオン性乳化剤としては、カチオン性乳化剤、アニオン性乳化剤及び双性乳化剤が挙げられる。
アニオン性乳化剤(陰イオン乳化剤)の具体例としては、脂肪酸、不均化ロジン石けん、高級アルコールエステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸、アルケニルコハク酸、ザルコシネート、及びそれらの塩が挙げられる。
カチオン性乳化剤(陽イオン乳化剤)の具体例としては、アルキルジメチルベンジルアンモニウム塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩が挙げられる。
双性乳化剤(両イオン乳化剤)の具体例としては、アルキルベタイン型、アルキルアミドベタイン型、アミノ酸型、アミンオキサイド型が挙げられる。
非イオン乳化剤の具体例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールポリエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレングリセロールボレート脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルが挙げられる。
Examples of the ionic emulsifier include a cationic emulsifier, an anionic emulsifier, and a zwitter emulsifier.
Specific examples of the anionic emulsifier (anionic emulsifier) include fatty acids, disproportionated rosin soaps, higher alcohol esters, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, alkenyl succinic acids, sarcosinates, and salts thereof.
Specific examples of the cationic emulsifier (cationic emulsifier) include alkyl dimethyl benzyl ammonium salt and alkyl trimethyl ammonium salt.
Specific examples of the zwitterionic emulsifier (both ion emulsifier) include alkyl betaine type, alkyl amide betaine type, amino acid type, and amine oxide type.
Specific examples of the nonionic emulsifier include polyoxyethylene alkyl ether, polypropylene glycol polyethylene glycol ether, polyoxyethylene glycerol borate fatty acid ester, and polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester.

上記乳化剤のうち、アニオン性乳化剤及び非イオン乳化剤が好ましい。
アニオン性乳化剤としては、リン酸エステル構造を有するアニオン性乳化剤がさらに好ましい。また、非イオン乳化剤としては、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル構造を有する非イオン乳化剤がさらに好ましい。
Of the above emulsifiers, anionic emulsifiers and nonionic emulsifiers are preferred.
As the anionic emulsifier, an anionic emulsifier having a phosphate ester structure is more preferable. Further, as the nonionic emulsifier, a nonionic emulsifier having a polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester structure is more preferable.

プロトン供与体の使用量は、アニリン単量体1molに対して好ましくは0.1〜0.5molであり、より好ましくは0.3〜0.45molであり、さらに好ましくは0.35〜0.4molである。
プロトン供与体の使用量が当該範囲より多い場合、重合終了後に例えば「高極性溶剤の相」と「低極性溶剤の相」を分離することができないおそれがある。
The amount of the proton donor used is preferably 0.1 to 0.5 mol, more preferably 0.3 to 0.45 mol, and still more preferably 0.35 to 0.005 mol per mol of the aniline monomer. 4 mol.
When the amount of the proton donor used is larger than the above range, for example, there is a possibility that the “high-polar solvent phase” and the “low-polar solvent phase” cannot be separated after completion of the polymerization.

リン酸の使用濃度は、高極性溶媒に対して0.3〜6mol/Lであり、より好ましくは1〜4mol/Lであり、さらに好ましくは1〜2mol/Lである。   The use concentration of phosphoric acid is 0.3 to 6 mol / L, more preferably 1 to 4 mol / L, still more preferably 1 to 2 mol / L with respect to the highly polar solvent.

乳化剤の使用量は、アニリン単量体1molに対して好ましくは0.001〜0.1molであり、より好ましくは0.002〜0.02molであり、さらに好ましくは0.003〜0.01molである。
乳化剤の使用量が当該範囲より多い場合、重合終了後に「高極性溶剤の相」と「低極性溶剤の相」を分離することができないおそれがある。
The amount of the emulsifier used is preferably 0.001 to 0.1 mol, more preferably 0.002 to 0.02 mol, and still more preferably 0.003 to 0.01 mol with respect to 1 mol of the aniline monomer. is there.
When the amount of the emulsifier used is larger than the above range, the “high polar solvent phase” and the “low polar solvent phase” may not be separated after the completion of the polymerization.

化学酸化重合に用いる酸化剤としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素のような過酸化物;二クロム酸アンモニウム、過塩素酸アンモニウム、硫酸カリウム鉄(III)、三塩化鉄(III)、二酸化マンガン、ヨウ素酸、過マンガン酸カリウム、あるいはパラトルエンスルホン酸鉄等が使用でき、好ましくは過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩である。
これら酸化剤は単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
Oxidizing agents used for chemical oxidative polymerization include peroxides such as sodium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, hydrogen peroxide; ammonium dichromate, ammonium perchlorate, potassium iron (III) sulfate, trichloride Iron (III), manganese dioxide, iodic acid, potassium permanganate, iron paratoluenesulfonate, etc. can be used, and persulfates such as ammonium persulfate are preferred.
These oxidizing agents may be used alone or in combination of two or more.

酸化剤の使用量は、アニリン単量体1molに対して好ましくは0.05〜1.8molであり、より好ましくは0.8〜1.6molであり、さらに好ましくは1.2〜1.4molである。酸化剤の使用量を当該範囲とすることで、十分な重合度が得られる。また、アニリンが十分に重合しているので、分液回収が容易であり、また重合体の溶解性が低下するおそれもない。
重合温度は通常−5〜60℃で、好ましくは−5〜40℃である。また、重合温度は重合反応の途中に変えてもよい。重合温度が当該範囲であることで、副反応を回避することができる。
The amount of the oxidizing agent used is preferably 0.05 to 1.8 mol, more preferably 0.8 to 1.6 mol, still more preferably 1.2 to 1.4 mol, relative to 1 mol of the aniline monomer. It is. A sufficient degree of polymerization can be obtained by setting the amount of the oxidizing agent used within the above range. Further, since aniline is sufficiently polymerized, it is easy to recover the liquid separation, and there is no possibility that the solubility of the polymer is lowered.
The polymerization temperature is usually −5 to 60 ° C., preferably −5 to 40 ° C. The polymerization temperature may be changed during the polymerization reaction. Side reactions can be avoided when the polymerization temperature is within this range.

ポリアニリン複合体は、具体的には以下の方法で製造することができる。
プロトン供与体及び乳化剤をトルエンに溶解した溶液を、窒素等の不活性雰囲気の気流下においたセパラブルフラスコに入れ、さらにこの溶液に、置換又は非置換のアニリンを加える。その後、不純物として塩素を含まないリン酸を溶液に添加し、溶液温度を冷却する。
溶液内温を冷却した後、攪拌を行う。過硫酸アンモニウムをリン酸に溶解した溶液を、滴下ロートを用いて滴下し、反応させる。その後、溶液温度を上昇させ、反応を継続する。反応終了後、静置することで二相に分離した水相側を分液する。有機相側にトルエンを追加し、リン酸及びイオン交換水で洗浄を行うことでポリアニリン複合体(プロトネーションされたポリアニリン)トルエン溶液が得られる。
得られた複合体溶液に含まれる若干の不溶物を除去し、ポリアニリン複合体のトルエン溶液を回収する。この溶液をエバポレーターに移し、加温及び減圧することにより、揮発分を蒸発留去し、ポリアニリン複合体が得られる。
Specifically, the polyaniline complex can be produced by the following method.
A solution in which a proton donor and an emulsifier are dissolved in toluene is placed in a separable flask placed in a stream of an inert atmosphere such as nitrogen, and a substituted or unsubstituted aniline is further added to this solution. Thereafter, phosphoric acid containing no chlorine as an impurity is added to the solution, and the solution temperature is cooled.
Stirring is performed after cooling the internal temperature of the solution. A solution in which ammonium persulfate is dissolved in phosphoric acid is dropped using a dropping funnel and reacted. Thereafter, the solution temperature is raised and the reaction is continued. After completion of the reaction, the aqueous phase separated into two phases by standing is separated. Toluene is added to the organic phase side and washed with phosphoric acid and ion-exchanged water to obtain a polyaniline complex (protonated polyaniline) toluene solution.
Some insolubles contained in the obtained complex solution are removed, and a toluene solution of the polyaniline complex is recovered. The solution is transferred to an evaporator, heated and decompressed to evaporate and remove volatile components, whereby a polyaniline complex is obtained.

2.フェノール性化合物(成分(2))
本発明の導電性組成物が含むフェノール性化合物は、フェノール性水酸基を有する化合物であれば特に限定されない。フェノール性水酸基を有する化合物とは、フェノール性水酸基を1つ有する化合物、フェノール性水酸基を複数有する化合物、及びフェノール性水酸基を1つ又は複数有する繰り返し単位から構成される高分子化合物である。
2. Phenolic compounds (component (2))
The phenolic compound contained in the conductive composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a phenolic hydroxyl group. The compound having a phenolic hydroxyl group is a polymer compound composed of a compound having one phenolic hydroxyl group, a compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups, and a repeating unit having one or more phenolic hydroxyl groups.

フェノール性水酸基を1つ有する化合物は、好ましくは下記式(A)、(B)及び(C)で表わされる化合物である。

Figure 0005710388
(式中、nは1〜5の整数であり、好ましくは1〜3であり、より好ましくは1である。
Rは、炭素数1〜20のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基である。) The compound having one phenolic hydroxyl group is preferably a compound represented by the following formulas (A), (B) and (C).
Figure 0005710388
(In formula, n is an integer of 1-5, Preferably it is 1-3, More preferably, it is 1.
R is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkylaryl group, or an arylalkyl group. )

式(A)で表されるフェノール性化合物において、−ORの置換位置はフェノール性水酸基に対し、メタ位、又はパラ位であることが好ましい。−ORの置換位置をメタ位又はパラ位とすることにより、フェノール性水酸基の立体障害が低減され、組成物の導電性をより高めることができる。   In the phenolic compound represented by the formula (A), the substitution position of -OR is preferably a meta position or a para position with respect to the phenolic hydroxyl group. By making the substitution position of —OR the meta position or the para position, the steric hindrance of the phenolic hydroxyl group is reduced, and the conductivity of the composition can be further increased.

式(A)で表わされるフェノール性化合物の具体例としては、メトキシフェノール、エトキシフェノール、プロポキシフェノール、イソプロポキシフェノール、ブチルオキシフェノール、イソブチルオキシフェノール、ターシャルブチルオキシフェノールが挙げられる。   Specific examples of the phenolic compound represented by the formula (A) include methoxyphenol, ethoxyphenol, propoxyphenol, isopropoxyphenol, butyloxyphenol, isobutyloxyphenol, and tertiary butyloxyphenol.

Figure 0005710388
(式中、nは0〜7の整数であり、好ましくは0〜3であり、より好ましくは1である。
Rは、それぞれ炭素数1〜20のアルキル基、アルケニル基、アルキルチオ基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基である。)
Figure 0005710388
(In formula, n is an integer of 0-7, Preferably it is 0-3, More preferably, it is 1.
R is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group, an alkylthio group, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkylaryl group, or an arylalkyl group. )

式(B)で表わされるフェノール性化合物の具体例としては、ヒドロキシナフタレンが挙げられる。   Specific examples of the phenolic compound represented by the formula (B) include hydroxynaphthalene.

Figure 0005710388
(式中、nは1〜5の整数であり、好ましくは1〜3であり、より好ましくは1である。
Rは、それぞれ炭素数1〜20のアルキル基、アルケニル基、アルキルチオ基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基である。)
Figure 0005710388
(In formula, n is an integer of 1-5, Preferably it is 1-3, More preferably, it is 1.
R is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group, an alkylthio group, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkylaryl group, or an arylalkyl group. )

式(C)で表わされる化合物の具体例としては、o−,m−若しくはp−クレゾール、o−,m−若しくはp−エチルフェノール、o−,m−若しくはp−プロピルフェノール、o−,m−若しくはp−ブチルフェノール、o−,m−若しくはp−アミルフェノールが挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the formula (C) include o-, m- or p-cresol, o-, m- or p-ethylphenol, o-, m- or p-propylphenol, o-, m. -Or p-butylphenol, o-, m- or p-amylphenol.

式(A)、(B)及び(C)のRについて、炭素数1〜20のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ターシャルブチル等が挙げられる。
アルケニル基としては、上述したアルキル基の分子内に不飽和結合を有する基が挙げられる。
シクロアルキル基としては、シクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
アリール基としては、フェニル、ナフチル等が挙げられる。
アルキルアリール基、及びアリールアルキル基としては、上述したアルキル基とアリール基を組み合わせて得られる基等が挙げられる。
Regarding R in formulas (A), (B), and (C), examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, and tertiary butyl.
Examples of the alkenyl group include groups having an unsaturated bond in the molecule of the alkyl group described above.
Examples of the cycloalkyl group include cyclopentane and cyclohexane.
Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl.
Examples of the alkylaryl group and the arylalkyl group include groups obtained by combining the above-described alkyl group and aryl group.

上記フェノール性水酸基を1つ有する化合物の例を示したが、置換フェノール類の具体例としてはフェノール、o−,m−若しくはp−クロロフェノール、サリチル酸、ヒドロキシ安息香酸が挙げられる。フェノール性水酸基を複数有する化合物の具体例としてはカテコール、レゾルシノール、下記式(D)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0005710388
(式中、Rは炭化水素基、ヘテロ原子含有炭化水素基、ハロゲン原子、カルボン酸基、アミノ基、SH基、スルホン酸基、又は水酸基であり、複数のRはそれぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。nは0〜6の整数である。) Although the example of the compound which has one said phenolic hydroxyl group was shown, a phenol, o-, m- or p-chlorophenol, a salicylic acid, hydroxybenzoic acid is mentioned as a specific example of substituted phenols. Specific examples of the compound having a plurality of phenolic hydroxyl groups include catechol, resorcinol, and a compound represented by the following formula (D).
Figure 0005710388
(In the formula, R is a hydrocarbon group, a hetero atom-containing hydrocarbon group, a halogen atom, a carboxylic acid group, an amino group, an SH group, a sulfonic acid group, or a hydroxyl group. May be different, n is an integer from 0 to 6.)

式(D)で表わされるフェノール性化合物は、互いに隣接しない2以上の水酸基を有することが好ましい。
また、式(D)で表されるフェノール性化合物の具体例としては、1,6ナフタレンジオール、2,6ナフタレンジオール、2,7ナフタレンジオールが挙げられる。
The phenolic compound represented by the formula (D) preferably has two or more hydroxyl groups that are not adjacent to each other.
Specific examples of the phenolic compound represented by the formula (D) include 1,6 naphthalenediol, 2,6 naphthalenediol, and 2,7 naphthalenediol.

フェノール性水酸基を1つ又は複数有する繰り返し単位から構成される高分子化合物の具体例としては、フェノール樹脂、ポリフェノール、ポリ(ヒドロキシスチレン)が挙げられる。   Specific examples of the polymer compound composed of a repeating unit having one or more phenolic hydroxyl groups include phenol resin, polyphenol, and poly (hydroxystyrene).

組成物中のフェノール性化合物の含有量は、好ましくはポリアニリン複合体1gに対してフェノール性化合物のモル濃度が0.01[mmol/g]以上100[mol/g]以下、より好ましくは0.05[mmol/g]以上1[mol/g]以下、さらに好ましくは0.1[mmol/g]以上500[mmol/g]以下、特に好ましくは0.2[mmol/g]以上80[mmol/g]以下の範囲である。
フェノール性化合物の含有量が少なすぎる場合、電気伝導率の改善効果が得られないおそれがある。一方、フェノール性化合物の含有量が多すぎる場合、膜質が悪くなるおそれがある。また、揮発除去する際に多大な熱や時間等の労力を必要としコスト増となる。
The content of the phenolic compound in the composition is preferably such that the molar concentration of the phenolic compound relative to 1 g of the polyaniline complex is 0.01 [mmol / g] or more and 100 [mol / g] or less, more preferably 0. 05 [mmol / g] or more and 1 [mol / g] or less, more preferably 0.1 [mmol / g] or more and 500 [mmol / g] or less, particularly preferably 0.2 [mmol / g] or more and 80 [mmol] / G] is in the following range.
When there is too little content of a phenolic compound, there exists a possibility that the electrical conductivity improvement effect may not be acquired. On the other hand, when there is too much content of a phenolic compound, there exists a possibility that film quality may worsen. In addition, a large amount of heat, time, and other labor are required to volatilize and remove, which increases costs.

3.含酸素有機溶剤(成分(3))
含酸素有機溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸イソブチル、酢酸n−ブチル等のエステル系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−ペンタノール、ベンジルアルコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等の極性エーテル類、Nメチルピロリドン等の非プロトン性極性溶剤等が挙げられる。
成分(1)及びフェノール性化合物は、イソプロピルアルコール、2−ブタノール、2−ペンタノール、ベンジルアルコール等のアルコールに溶解する。アルコールは、トルエン等と異なり環境負荷低減の観点から好ましい。
これらの中で、炭素数1〜12のアルコールが好ましく、炭素数1〜6のアルコールがより好ましい。
3. Oxygenated organic solvent (component (3))
Examples of the oxygen-containing organic solvent include ester solvents such as ethyl acetate, isobutyl acetate and n-butyl acetate, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, 1-butanol, 2-butanol, 2-pentanol, benzyl alcohol, 2- Alcohols such as methoxyethanol and 2-ethoxyethanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone, polar ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether and cyclopentyl methyl ether, N-methylpyrrolidone and the like And aprotic polar solvents.
Component (1) and the phenolic compound are soluble in alcohols such as isopropyl alcohol, 2-butanol, 2-pentanol, and benzyl alcohol. Alcohol is preferable from the viewpoint of reducing environmental burden unlike toluene.
Among these, a C1-C12 alcohol is preferable and a C1-C6 alcohol is more preferable.

含酸素有機溶剤中の成分(1)の割合は、有機溶剤の種類によるが、通常、0.2g/g以下であり、好ましくは0.01〜0.1g/g以下の範囲である。成分(1)の含有量が多すぎると、溶液状態が保持できなくなり、成形体を成形する際の取り扱いが困難になり、成形体の均一性が損なわれ、ひいては成形体の電気特性や機械的強度、透明性の低下を生じる。一方、成分(1)の含有量が少なすぎると、後述する方法により成膜したとき、非常に薄い膜しか製造できず、均一な導電性膜の製造が難しくなるおそれがある。   The proportion of component (1) in the oxygen-containing organic solvent is usually 0.2 g / g or less, preferably 0.01 to 0.1 g / g or less, depending on the type of organic solvent. If the content of component (1) is too large, the solution state cannot be maintained, and handling during molding becomes difficult, the uniformity of the molded body is impaired, and consequently the electrical properties and mechanical properties of the molded body are impaired. Reduces strength and transparency. On the other hand, when the content of the component (1) is too small, only a very thin film can be produced when the film is formed by the method described later, which may make it difficult to produce a uniform conductive film.

4.酸性基又はその塩を有する高分子化合物(成分(4))
酸性基又はその塩を有する高分子化合物とは、1分子中に繰り返し構造を有する化合物であって、かつそれら繰り返し構造のうち少なくとも1つが酸性基(又は他のイオンと塩を構成している基)を有することにより、1分子中に複数の酸性基(又は他のイオンと塩を構成している基)を有している化合物である。
高分子化合物が含む酸性基は、特に制限されないが、例えば、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、カルボキシ基、水酸基である。好ましくはカルボキシ基である。
また、高分子化合物の構造も特に制限されないが、例えば、ポリスチレン、ポリビニル、(メタ)アクリル系ポリマーである。成分(4)の重量平均分子量(上記ポリアニリンの重量平均分子量と同様、GPCによりポリスチレン換算で測定される)は、1000以上300000以下が好ましく、より好ましくは、2000以上200000以下である。
これらの高分子化合物は、本願の組成物を乾燥して薄膜等を形成した際に、ポリアニリンと共に固形成分を形成する。組成物中の高分子化合物の量を調整することにより、乾燥後の薄膜等の体積を調整することができる。
4). Polymer compound having acidic group or salt thereof (component (4))
The high molecular compound having an acidic group or a salt thereof is a compound having a repeating structure in one molecule, and at least one of the repeating structures is an acidic group (or a group constituting a salt with other ions). ), A compound having a plurality of acidic groups (or groups constituting a salt with other ions) in one molecule.
The acidic group contained in the polymer compound is not particularly limited, and examples thereof include a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a carboxy group, and a hydroxyl group. A carboxy group is preferred.
Further, the structure of the polymer compound is not particularly limited, and examples thereof include polystyrene, polyvinyl, and (meth) acrylic polymers. The weight average molecular weight of the component (4) (measured in terms of polystyrene by GPC as in the case of the weight average molecular weight of the polyaniline) is preferably from 1,000 to 300,000, more preferably from 2,000 to 200,000.
These polymer compounds form a solid component together with polyaniline when the composition of the present application is dried to form a thin film or the like. By adjusting the amount of the polymer compound in the composition, the volume of the thin film after drying can be adjusted.

酸性基又はその塩を有する高分子化合物として、例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリリン酸(商品名:ポリホスマー)、ポリアクリル酸、ポリスチレンアクリル酸共重合体(商品名:アルフォン)、これらの酸のナトリウム塩、アンモニウム塩、アミン塩が挙げられる。   Examples of the polymer compound having an acidic group or a salt thereof include polystyrene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, polyphosphoric acid (trade name: polyphosmer), polyacrylic acid, polystyrene acrylic acid copolymer (trade name: alfone), and the like. Examples include sodium salts, ammonium salts, and amine salts of acids.

酸性基又はその塩を有する高分子化合物は、1分子中に、異なる2種類以上の繰り返し構造を有する化合物であって、かつそれら繰り返し構造のうち少なくとも1つがカルボキシ基を有する化合物が好ましい。   The polymer compound having an acidic group or a salt thereof is preferably a compound having two or more different repeating structures in one molecule, and at least one of these repeating structures having a carboxy group.

酸性基又はその塩を有する高分子化合物は、酸性基又はその塩を有する繰り返し単位として、例えば下記式(A)の繰り返し単位、下記式(B)の繰り返し単位又はその両方を含むことができる。式(A)の繰り返し単位と式(B)の繰り返し単位をそれぞれ2種以上含むこともできる。

Figure 0005710388
(式(A),(B)中、R、Rは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、A1 はナトリウムイオン、アンモニウムイオン、又は下記の構造式で表されるイオンのいずれかである。
Figure 0005710388
式中、R’はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシルアルキル基である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシルアルキル基は直鎖でも、分岐していてもよく、R’は同一でも異なっていてもよい。)
The high molecular compound which has an acidic group or its salt can contain the repeating unit of the following formula (A), the repeating unit of the following formula (B), or both as a repeating unit which has an acidic group or its salt, for example. Two or more repeating units of the formula (A) and the repeating unit of the formula (B) may be included.
Figure 0005710388
(In the formulas (A) and (B), R a and R b are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and A 1 + is represented by a sodium ion, an ammonium ion, or the following structural formula. One of the ions.
Figure 0005710388
In the formula, R ′ is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or a hydroxylalkyl group, respectively. The alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and hydroxylalkyl group may be linear or branched, and R ′ may be the same or different. )

さらに、他の繰り返し単位として、例えば下記式(C)の繰り返し単位を含むことができる。式(C)の繰り返し単位も2種以上含むこともできる。

Figure 0005710388
(式(C)中、Rは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、Rはアルキル基である。)
Furthermore, as another repeating unit, for example, a repeating unit of the following formula (C) can be included. Two or more repeating units of formula (C) can also be included.
Figure 0005710388
(In formula (C), R c is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R d is an alkyl group.)

高分子化合物として、式(A)及び(B)から選択される少なくとも1種の繰り返し単位と、式(C)の繰り返し単位を含む、又はからなる化合物を例示できる。   Examples of the polymer compound include compounds comprising or consisting of at least one repeating unit selected from formulas (A) and (B) and a repeating unit of formula (C).

このような酸性基又はその塩を有する高分子化合物として、下記式(1)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0005710388
(式(1)中、Rはそれぞれ水素原子又はメチル基であり、Rはアルキル基であり、A は下記式のいずれかで表される構造のイオンであり、X,Y,Zは繰り返し数である。)
Figure 0005710388
Examples of the polymer compound having such an acidic group or a salt thereof include a compound represented by the following formula (1).
Figure 0005710388
(In the formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is an alkyl group, A 2 + is an ion having a structure represented by any of the following formulas, and X, Y, Z is the number of repetitions.)
Figure 0005710388

式(A)〜(C),(1)におけるアルキル基は直鎖でも分岐でもよい。   The alkyl group in the formulas (A) to (C) and (1) may be linear or branched.

成分(4)は、成分(1)100質量部に対して、1〜100質量部含まれることが好ましい。より好ましくは、成分(4)は、成分(1)100質量部に対して、1〜80質量部、さらに好ましくは1〜50質量部含まれる。   It is preferable that 1-100 mass parts of component (4) is contained with respect to 100 mass parts of component (1). More preferably, the component (4) is contained in an amount of 1 to 80 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (1).

また、酸性基を有する高分子化合物の酸価は1mg/g以上が好ましい。より好ましくは1mg/g以上1000mg/g以下、さらに好ましくは1mg/g以上800mg/g以下、よりさらに好ましくは1mg/g以上600mg/g以下、最も好ましくは2mg/g以上600mg/g以下である。   The acid value of the polymer compound having an acidic group is preferably 1 mg / g or more. More preferably, they are 1 mg / g or more and 1000 mg / g or less, More preferably, they are 1 mg / g or more and 800 mg / g or less, More preferably, they are 1 mg / g or more and 600 mg / g or less, Most preferably, they are 2 mg / g or more and 600 mg / g or less. .

ここで、酸価値とは、高分子化合物1g中に含まれる酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムのmg数で表される。   Here, the acid value is represented by the number of mg of potassium hydroxide required to neutralize the acidic component contained in 1 g of the polymer compound.

本発明の組成物は、上記成分(1)〜(4)の他、低分子酸性化合物又はその塩(成分(5))を含むことができる。成分(5)を含むことによりさらに組成物の耐熱性を高めることができる。尚、成分(5)の分子量は1500以下である。
低分子酸性化合物又はその塩(低分子耐熱安定化剤)とは、酸性物質又は酸性物質の塩であり、酸性物質は有機酸(有機化合物の酸)、無機酸(無機化合物の酸)のいずれでもよい。また、本発明の導電性組成物は、複数の低分子耐熱安定化剤を含んでいてもよい。
The composition of this invention can contain a low molecular acidic compound or its salt (component (5)) other than the said components (1)-(4). By including the component (5), the heat resistance of the composition can be further increased. In addition, the molecular weight of a component (5) is 1500 or less.
A low molecular acid compound or a salt thereof (low molecular heat stabilizer) is an acidic substance or a salt of an acidic substance, and the acidic substance is either an organic acid (an acid of an organic compound) or an inorganic acid (an acid of an inorganic compound). But you can. In addition, the conductive composition of the present invention may contain a plurality of low molecular heat resistance stabilizers.

本発明の組成物が低分子耐熱安定化剤として酸性物質のみを含む場合には、好ましくは当該酸性物質は、ポリアニリン複合体のプロトン供与体と異なる化合物であり、本発明の組成物が酸性物質の塩のみを含む場合には、好ましくは当該酸性物質の塩は、ポリアニリン複合体のプロトン供与体と異なる化合物である。また、本発明の組成物が低分子耐熱安定化剤として酸性物質及び酸性物質の塩の両方を含む場合には、好ましくは当該酸性物質及び酸性物質の塩のうち、少なくとも1つはプロトン供与体と異なる化合物である。   When the composition of the present invention contains only an acidic substance as a low molecular heat resistance stabilizer, preferably the acidic substance is a compound different from the proton donor of the polyaniline complex, and the composition of the present invention is an acidic substance. In the case where only the salt of is included, the salt of the acidic substance is preferably a compound different from the proton donor of the polyaniline complex. In the case where the composition of the present invention contains both an acidic substance and an acidic substance salt as a low molecular heat resistance stabilizer, preferably at least one of the acidic substance and the acidic substance salt is a proton donor. And a different compound.

本発明の組成物が、低分子耐熱安定化剤として酸性物質のみを含む場合には、好ましくは当該酸性物質は、フェノール性化合物とは異なる。本発明の組成物が、低分子耐熱安定化剤として酸性物質の塩のみを含む場合には、好ましくは当該酸性物質の塩は、フェノール性化合物とは異なる。また、本発明の組成物が、低分子耐熱安定化剤として酸性物質及び酸性物質の塩の両方を含む場合には、好ましくは当該酸性物質及び酸性物質の塩のうち少なくとも1つは、フェノール性化合物と異なる。   When the composition of the present invention contains only an acidic substance as a low molecular heat resistance stabilizer, the acidic substance is preferably different from the phenolic compound. In the case where the composition of the present invention contains only a salt of an acidic substance as a low molecular heat resistance stabilizer, preferably the salt of the acidic substance is different from the phenolic compound. Further, when the composition of the present invention contains both an acidic substance and an acidic substance salt as a low molecular heat resistance stabilizer, preferably at least one of the acidic substance and the acidic substance salt is phenolic. Different from compound.

低分子耐熱安定化剤である酸性物質は、好ましくは有機酸であり、より好ましくはスルホン酸基、カルボキシ基、リン酸基、又はホスホン酸基を1以上有する有機酸であり、さらに好ましくは、スルホン酸基を1以上有する有機酸である。   The acidic substance that is a low-molecular heat-resistant stabilizer is preferably an organic acid, more preferably an organic acid having one or more sulfonic acid groups, carboxy groups, phosphoric acid groups, or phosphonic acid groups, and more preferably, An organic acid having one or more sulfonic acid groups.

上記スルホン酸基を1以上有する有機酸は、好ましくはスルホン酸基を1以上有する、環状、鎖状若しくは分岐のアルキルスルホン酸、置換若しくは非置換の芳香族スルホン酸である。
上記アルキルスルホン酸としては、例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ジ2−エチルヘキシルスルホコハク酸が挙げられる。ここでのアルキル基は、好ましくは炭素数が1〜18の直鎖又は分岐のアルキル基である。
上記芳香族スルホン酸としては、例えば、ベンゼン環を有するスルホン酸、ナフタレン骨格を有するスルホン酸、アントラセン骨格を有するスルホン酸、置換又は非置換のベンゼンスルホン酸、置換又は非置換のナフタレンスルホン酸及び置換又は非置換のアントラセンスルホン酸が挙げられ、好ましくはナフタレンスルホン酸である。具体例としては、ナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、アントラキノンスルホン酸が挙げられる。
ここで置換基は、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アシル基からなる群から選択される置換基であり、1以上置換していてもよい。
The organic acid having one or more sulfonic acid groups is preferably a cyclic, linear or branched alkyl sulfonic acid, substituted or unsubstituted aromatic sulfonic acid having one or more sulfonic acid groups.
Examples of the alkylsulfonic acid include methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, and di-2-ethylhexylsulfosuccinic acid. The alkyl group here is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.
Examples of the aromatic sulfonic acid include a sulfonic acid having a benzene ring, a sulfonic acid having a naphthalene skeleton, a sulfonic acid having an anthracene skeleton, a substituted or unsubstituted benzenesulfonic acid, a substituted or unsubstituted naphthalenesulfonic acid, and a substituted Alternatively, unsubstituted anthracene sulfonic acid may be mentioned, and naphthalene sulfonic acid is preferable. Specific examples include naphthalene sulfonic acid, dodecylbenzene sulfonic acid, and anthraquinone sulfonic acid.
Here, the substituent is, for example, a substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a nitro group, a carboxy group, and an acyl group, and one or more substituents may be substituted.

上記カルボキシ基を1以上有する有機酸は、好ましくはカルボキシ基を1以上有する、環状、鎖状若しくは分岐のアルキルカルボン酸、置換若しくは非置換の芳香族カルボン酸である。
上記アルキルカルボン酸としては、例えばウンデシレン酸、シクロヘキサンカルボン酸、2−エチルヘキサン酸が挙げられる。ここでアルキル基は好ましくは炭素数が1〜18の直鎖又は分岐のアルキル基である。
上記置換若しくは非置換の芳香族カルボン酸としては、例えば、置換又は非置換のベンゼンカルボン酸及びナフタレンカルボン酸が挙げられる。ここで置換基は、例えば、スルホン酸基、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アシル基からなる群から選択される置換基であり、1以上置換していてもよい。具体例としては、サリチル酸、安息香酸、ナフトエ酸、トリメシン酸が挙げられる。
The organic acid having one or more carboxy groups is preferably a cyclic, linear or branched alkyl carboxylic acid or substituted or unsubstituted aromatic carboxylic acid having one or more carboxy groups.
Examples of the alkyl carboxylic acid include undecylenic acid, cyclohexane carboxylic acid, and 2-ethylhexanoic acid. Here, the alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.
Examples of the substituted or unsubstituted aromatic carboxylic acid include substituted or unsubstituted benzene carboxylic acid and naphthalene carboxylic acid. Here, the substituent is, for example, a substituent selected from the group consisting of a sulfonic acid group, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a nitro group, and an acyl group, and one or more substituents may be substituted. Specific examples include salicylic acid, benzoic acid, naphthoic acid, and trimesic acid.

上記リン酸基又はホスホン酸基を1以上有する有機酸は、好ましくはリン酸基又はホスホン酸基を1以上有する環状、鎖状若しくは分岐のアルキルリン酸若しくはアルキルホスホン酸;置換若しくは非置換の芳香族リン酸若しくは芳香族ホスホン酸である。
上記アルキルリン酸又はアルキルホスホン酸としては、例えば、ドデシルリン酸、リン酸水素ビス(2−エチルヘキシル)が挙げられる。ここでアルキル基は好ましくは炭素数が1〜18の直鎖又は分岐のアルキル基である。
上記芳香族リン酸及び芳香族ホスホン酸としては、置換又は非置換のベンゼンスルホン酸又はホスホン酸、及びナフタレンスルホン酸又はホスホン酸等が挙げられる。ここで置換基は、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アシル基からなる群から選択される置換基であり、1以上置換していてもよい。例えば、フェニルホスホン酸が挙げられる。
The organic acid having at least one phosphoric acid group or phosphonic acid group is preferably a cyclic, chain or branched alkylphosphoric acid or alkylphosphonic acid having at least one phosphoric acid group or phosphonic acid group; a substituted or unsubstituted aromatic Group phosphoric acid or aromatic phosphonic acid.
Examples of the alkyl phosphoric acid or alkylphosphonic acid include dodecyl phosphoric acid and bis (2-ethylhexyl) hydrogen phosphate. Here, the alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.
Examples of the aromatic phosphoric acid and aromatic phosphonic acid include substituted or unsubstituted benzenesulfonic acid or phosphonic acid, and naphthalenesulfonic acid or phosphonic acid. Here, the substituent is, for example, a substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a nitro group, a carboxy group, and an acyl group, and one or more substituents may be substituted. An example is phenylphosphonic acid.

本発明の組成物が含む酸性物質の塩としては、上記酸性物質の塩が挙げられる。
本発明の組成物は、低分子耐熱安定化剤である酸性物質及び/又は酸性物質の塩を2つ以上含んでもよい。具体的には、本発明の組成物は、異なる複数の酸性物質及び/又は異なる複数の酸性物質の塩を含んでいてもよい。
Examples of the salt of the acidic substance contained in the composition of the present invention include the salt of the acidic substance.
The composition of the present invention may contain two or more acidic substances and / or salts of acidic substances which are low molecular heat resistance stabilizers. Specifically, the composition of the present invention may include different acidic substances and / or salts of different acidic substances.

ポリアニリン複合体のプロトン供与体がスルホン酸であり、組成物が低分子耐熱安定化剤として酸性物質のみを含む場合には、当該酸性物質がプロトン供与体と同一又は異なるスルホン酸であることが好ましい。また、組成物が低分子耐熱安定化剤として酸性物質の塩のみを含む場合には、その酸性物質の塩が、ポリアニリン複合体のプロトン供与体と同一又は異なるスルホン酸の塩であることが好ましい。
組成物が低分子耐熱安定化剤として酸性物質及び前記酸性物質の塩を含む場合には、酸性物質及び酸性物質の塩のうち少なくとも1つがプロトン供与体と同一又は異なるスルホン酸又はスルホン酸の塩であることが好ましい。
When the proton donor of the polyaniline complex is a sulfonic acid and the composition contains only an acidic substance as a low molecular heat resistance stabilizer, the acidic substance is preferably the same or different sulfonic acid as the proton donor. . In the case where the composition contains only a salt of an acidic substance as a low molecular heat resistance stabilizer, the salt of the acidic substance is preferably the same or different sulfonic acid salt as the proton donor of the polyaniline complex. .
When the composition includes an acidic substance and a salt of the acidic substance as a low-molecular heat-resistant stabilizer, at least one of the acidic substance and the salt of the acidic substance is the same or different from the proton donor or a salt of the sulfonic acid It is preferable that

本発明の組成物が低分子耐熱安定化剤としてスルホン酸のみを含む場合には、好ましくは式(12)を満たすとよく、組成物が低分子耐熱安定化剤としてスルホン酸の塩のみを含む場合には、好ましくは式(13)を満たすとよく、組成物が低分子耐熱安定化剤としてスルホン酸及びスルホン酸の塩を含む場合には、好ましくは式(14)を満たすとよい。
0.01≦S/N≦0.5 (12)
0.01≦S/N≦0.5 (13)
0.01≦S/N≦0.5 (14)
(ここで、Sは組成物に含まれている全ての酸性物質の硫黄原子のモル数の合計であり、Nは組成物に含まれている全てのポリアニリン複合体の窒素原子のモル数の合計を意味し、Sは組成物に含まれている全ての酸性物質の塩の硫黄原子のモル数の合計であり、Nは組成物に含まれている全てのポリアニリン複合体の窒素原子のモル数の合計を意味し、Sは組成物に含まれている全ての酸性物質及び酸性物質の塩の硫黄原子のモル数の合計であり、Nは組成物に含まれている全てのポリアニリン複合体の窒素原子のモル数の合計を意味する。)
When the composition of the present invention contains only sulfonic acid as the low-molecular heat-resistant stabilizer, it is preferable to satisfy the formula (12), and the composition contains only the salt of sulfonic acid as the low-molecular heat-resistant stabilizer. In some cases, the formula (13) is preferably satisfied. When the composition contains a sulfonic acid and a sulfonic acid salt as a low-molecular heat-resistant stabilizer, the formula (14) is preferably satisfied.
0.01 ≦ S 2 / N 2 ≦ 0.5 (12)
0.01 ≦ S 3 / N 3 ≦ 0.5 (13)
0.01 ≦ S 4 / N 4 ≦ 0.5 (14)
(Wherein S 2 is the total number of moles of sulfur atoms of all acidic substances contained in the composition, and N 2 is the number of moles of nitrogen atoms in all polyaniline complexes contained in the composition. S 3 is the total number of moles of sulfur atoms of the salts of all acidic substances contained in the composition, and N 3 is the nitrogen of all the polyaniline complexes contained in the composition. Means the total number of moles of atoms, S 4 is the total number of moles of sulfur atoms of all acidic substances and salts of acidic substances contained in the composition, and N 4 is contained in the composition (It means the total number of moles of nitrogen atoms in all polyaniline complexes.)

本発明の組成物が上記式(12)、(13)又は(14)のいずれかを満たす場合、当該組成物は、好ましくはさらに下記式(11)を満たす。
0.36≦S/N≦1.15 (11)
(ここで、Sは組成物に含まれる硫黄原子のモル数であり、Nは組成物に含まれる窒素原子のモル数を意味する。)
When the composition of the present invention satisfies any of the above formulas (12), (13), or (14), the composition preferably further satisfies the following formula (11).
0.36 ≦ S 1 / N 1 ≦ 1.15 (11)
(Here, S 1 is the number of moles of sulfur atoms contained in the composition, and N 1 is the number of moles of nitrogen atoms contained in the composition.)

本発明の組成物が酸性物質のみを含む場合、当該酸性物質の酸性度(pKa)が5.0以下であることが好ましい。尚、酸性度の下限は特に制限されないが、例えば、酸性度が−4.0以下の酸性物質を含む場合では、ポリアニリン複合体が劣化するおそれがある。
本発明の組成物が酸性物質の塩のみを含む場合、当該酸性物質の塩の酸性度が5.0以下であることが好ましい。酸性度の下限については、上記酸性物質と同様である。
本発明の組成物が酸性物質及び酸性物質の塩の両方を含む場合、当該酸性物質の酸性度が5.0以下及び酸性度が5.0以下の酸性物質の塩のうち、少なくとも1つを満たすことが好ましい。酸性度の下限については、上記と同様である。
When the composition of this invention contains only an acidic substance, it is preferable that the acidity (pKa) of the said acidic substance is 5.0 or less. The lower limit of the acidity is not particularly limited. For example, when an acid substance having an acidity of −4.0 or less is included, the polyaniline complex may be deteriorated.
When the composition of this invention contains only the salt of an acidic substance, it is preferable that the acidity of the salt of the said acidic substance is 5.0 or less. About the minimum of acidity, it is the same as that of the said acidic substance.
When the composition of the present invention includes both an acidic substance and an acidic substance salt, at least one of the acidic substance salts having an acidity of 5.0 or less and an acidity of 5.0 or less is included. It is preferable to satisfy. The lower limit of acidity is the same as described above.

酸性度(pKa)は、計算化学法によって定義される。即ちA.Klamtらが開発した量子化学計算により分子表面の電荷密度を計算し、異種分子間の相互作用を活量係数として算出するJournal of Physical Chemistryの1995年、第99巻、p.2224に記載された方法を用いる。
具体的には、「TURBOMOLE Version 6.1」(COSMO logic社製)を用いて、基底関数にTZVPを用いて構造を最適化し、この構造を用いてCOSMO−RS法計算を「COSMO therm Version C2.1 Release 01.10」(COSMO logic社製)により行う。
ここで、「COSMO therm Version C2.1 Release 01.10」に25℃の水溶媒中との条件と、分子の化学式と、脱プロトンした分子の化学式と、を入力することで、pKaを算出することができる。
Acidity (pKa) is defined by computational chemistry methods. A. Journal of Physical Chemistry 1995, Vol. 99, p. 50, which calculates the charge density on the surface of a molecule by quantum chemical calculation developed by Klamt et al. The method described in 2224 is used.
Specifically, using “TURBOMOLE Version 6.1” (manufactured by COSMO logic), the structure is optimized using TZVP as a basis function, and the COSMO-RS method calculation is performed using this structure using “COSMO therm version C2”. .1 Release 01.10 "(manufactured by COSMO logic).
Here, the pKa is calculated by inputting the conditions of 25 ° C. in an aqueous solvent, the chemical formula of the molecule, and the chemical formula of the deprotonated molecule in “COSMO thermion C2.1 Release 01.10”. be able to.

本発明の組成物において、低分子酸性化合物又はその塩の含有量は、好ましくは成分(1)100質量部に対して1〜1000質量部であり、より好ましくは1〜100、さらに好ましくは1〜50質量部である。   In the composition of the present invention, the content of the low molecular acid compound or a salt thereof is preferably 1 to 1000 parts by mass, more preferably 1 to 100, and still more preferably 1 with respect to 100 parts by mass of the component (1). -50 mass parts.

本発明の組成物は、例えば15%重量以上、50重量%以上、70重量%以上、100重量%が成分(1)〜(4)又は成分(1)〜(5)からなってもよい。
これら成分の他に、本発明の組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、他の樹脂、無機材料、硬化剤、可塑剤等を含んでもよい。
In the composition of the present invention, for example, 15% by weight or more, 50% by weight or more, 70% by weight or more, and 100% by weight may be composed of components (1) to (4) or components (1) to (5).
In addition to these components, the composition of the present invention may contain other resins, inorganic materials, curing agents, plasticizers and the like as long as the effects of the present invention are not impaired.

他の樹脂は、例えば、バインダー基材、可塑剤、マトリックス基材として添加される。
他の樹脂の具体例としては、例えば、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、塩素化ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリビニルアルコールが挙げられる。
また上記樹脂の代わりに、また樹脂と共に、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂、もしくはこれら熱硬化性樹脂を形成し得る前駆体を含んでもよい。
Other resin is added as a binder base material, a plasticizer, and a matrix base material, for example.
Specific examples of other resins include, for example, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, chlorinated polyolefins, polystyrene, polyester, polyamide, polyacetal, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene glycol, polyethylene oxide, polyacrylic acid, polyacrylic acid ester, Examples thereof include polymethacrylic acid ester and polyvinyl alcohol.
Further, instead of the above resin, together with the resin, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a urethane resin, or a phenol resin, or a precursor capable of forming these thermosetting resins may be included.

無機材料は、例えば、強度、表面硬度、寸法安定性その他の機械的物性の向上、あるいは導電性等の電気特性を向上する目的で添加される。
無機材料の具体例としては、例えば、シリカ(二酸化ケイ素)、チタニア(二酸化チタン)、アルミナ(酸化アルミニウム)、Sn含有In(ITO)、Zn含有In、Inの共置換化合物(4価元素及び2価元素が3価のInに置換した酸化物)、Sb含有SnO(ATO)、ZnO、Al含有ZnO(AZO)、Ga含有ZnO(GZO)等が挙げられる。
The inorganic material is added, for example, for the purpose of improving strength, surface hardness, dimensional stability and other mechanical properties, or improving electrical properties such as conductivity.
Specific examples of the inorganic material include, for example, silica (silicon dioxide), titania (titanium dioxide), alumina (aluminum oxide), Sn-containing In 2 O 3 (ITO), Zn-containing In 2 O 3 , and In 2 O 3 . Examples include co-substituted compounds (oxides in which tetravalent elements and divalent elements are substituted with trivalent In), Sb-containing SnO 2 (ATO), ZnO, Al-containing ZnO (AZO), and Ga-containing ZnO (GZO). .

硬化剤は、例えば、強度、表面硬度、寸法安定性その他の機械的物性の向上等の目的で添加される。硬化剤の具体例としては、例えば、フェノール樹脂等の熱硬化剤、アクリレート系モノマーと光重合性開始剤による光硬化剤が挙げられる。   The curing agent is added for the purpose of, for example, improving strength, surface hardness, dimensional stability, and other mechanical properties. Specific examples of the curing agent include a thermosetting agent such as a phenol resin, and a photocuring agent using an acrylate monomer and a photopolymerization initiator.

可塑剤は、例えば、引張強度や曲げ強度等の機械的特性の向上等の目的で添加される。
可塑剤の具体例としては、例えば、フタル酸エステル類やリン酸エステル類が挙げられる。有機導電材料としては、カーボンブラック、カーボンナノチューブのような炭素材料、あるいは、本発明で得られるポリアニリン以外の、導電性高分子等が挙げられる。
For example, the plasticizer is added for the purpose of improving mechanical properties such as tensile strength and bending strength.
Specific examples of the plasticizer include phthalic acid esters and phosphoric acid esters. Examples of the organic conductive material include carbon materials such as carbon black and carbon nanotubes, or conductive polymers other than the polyaniline obtained in the present invention.

本発明の組成物は、各成分を混合して調製することができ、特許文献1に開示の方法等を参照できる。
これら成分の混合方法には、均一な組成物が得られさえすれば何ら制約はないが、例えば成分(1)と成分(2)、成分(3)を混合し溶液を調製した後に、成分(4)を添加、溶解させて均一な導電性組成物を得る方法が挙げられる。
The composition of the present invention can be prepared by mixing each component, and the method disclosed in Patent Document 1 can be referred to.
The mixing method of these components is not limited as long as a uniform composition can be obtained. For example, after preparing a solution by mixing the component (1), the component (2), and the component (3), the component ( 4) is added and dissolved to obtain a uniform conductive composition.

[成形体]
本発明のポリアニリン組成物から、成形体、導電性積層体(表面導電性物品)、導電性物品、導電性フィルムが得られる。
例えば本発明の組成物を乾燥し、溶剤を除去することによって成形体が得られる。当該成形体の形状は板状、棒状、フィルム状等どのような形状であってもよい。例えば、本発明の組成物を、所望の形状を有するガラスや樹脂フィルム、シート、不織布等の基材に塗布し、溶剤を除去することによって、導電性膜を有する導電性積層体を製造することができる。当該導電性積層体を真空成型や圧空成形等の公知の方法により所望の形状に加工することにより、導電性物品を製造することができる。成形の観点からは、基材は樹脂フィルム又はシート、不織布が好ましい。
[Molded body]
From the polyaniline composition of the present invention, a molded product, a conductive laminate (surface conductive article), a conductive article, and a conductive film are obtained.
For example, a molded body can be obtained by drying the composition of the present invention and removing the solvent. The shape of the molded body may be any shape such as a plate shape, a rod shape, or a film shape. For example, a conductive laminate having a conductive film is produced by applying the composition of the present invention to a substrate such as glass, resin film, sheet or nonwoven fabric having a desired shape and removing the solvent. Can do. By processing the conductive laminate into a desired shape by a known method such as vacuum forming or pressure forming, a conductive article can be manufactured. From the viewpoint of molding, the substrate is preferably a resin film, a sheet, or a nonwoven fabric.

本発明の導電性膜(導電性フィルム)の厚さは、通常1mm以下、好ましくは10nm以上50μm以下の範囲である。この範囲の厚みの膜は、成膜時にひび割れが生じにくく、電気特性が均一である等の利点を有する。   The thickness of the conductive film (conductive film) of the present invention is usually 1 mm or less, preferably 10 nm or more and 50 μm or less. A film having a thickness in this range is advantageous in that it does not easily crack during film formation and has uniform electrical characteristics.

組成物の基材への塗布方法としては、キャスト法、スプレー法、ディップコート法、ドクターブレード法、バーコート法、スピンコート法、エレクトロスピニング法、スクリーン印刷、グラビア印刷法等、公知の方法を用いることができる。   As a method for applying the composition to the substrate, known methods such as a casting method, a spray method, a dip coating method, a doctor blade method, a bar coating method, a spin coating method, an electrospinning method, screen printing, and a gravure printing method are used. Can be used.

本発明の組成物は、基材を有しない自己支持型成形体とすることもできる。
自己支持型成形体とする場合には、好ましくは、組成物が上述した他の樹脂を含むようにすると、所望の機械的強度を有する成形体を得ることができる。
The composition of the present invention can also be a self-supporting molded article having no substrate.
In the case of a self-supporting molded body, preferably, a molded body having a desired mechanical strength can be obtained when the composition contains the other resin described above.

[コンデンサ]
本発明の組成物からコンデンサが得られる。
当該コンデンサとしては、具体的には、電解コンデンサ、電気二重層コンデンサが挙げられる。ここで電解コンデンサには、固体電解コンデンサが含まれる。
また、本発明の組成物からめっき下地剤又は防錆剤が得られる。
[Capacitor]
A capacitor is obtained from the composition of the present invention.
Specific examples of the capacitor include an electrolytic capacitor and an electric double layer capacitor. Here, the electrolytic capacitor includes a solid electrolytic capacitor.
Moreover, a plating base agent or a rust preventive agent is obtained from the composition of the present invention.

製造例1
[プロネーションされたポリアニリン(ポリアニリン複合体)の製造]
エーロゾルOT(スルホコハク酸誘導体であるジイソオクチルスルホコハク酸ナトリウム、純度75%以上、和光純薬工業製)5.4g(12mmol)、フォスファノールFP120(東邦化学工業株式会社製)0.66g(0.8mmol)をトルエン100mLに攪拌溶解して調製した溶液を、窒素気流下に置いた30Lのガラス反応器(機械式攪拌器、ジャケット、温度計及び滴下ロート付)に入れた。この溶液に、3.7g(40mmol)の原料アニリンを加え、攪拌溶解した。冷媒によるフラスコの攪拌冷却を開始し、1Mリン酸300mLを溶液にさらに添加した。溶液温度を5℃に保持した状態で、7.3g(32mmol)の薬品過硫酸アンモニウムを1Mリン酸100mLに溶解した溶液を滴下ロートで滴下し、2時間で滴下を完了した。静置により二相に分離した水相(下相)を反応器下部から抜き出し、粗ポリアニリン複合体トルエン溶液を得た。
得られた複合体溶液にイオン交換水100mLを加え攪拌した後、静置して水相を分離し、この操作を再度行った。1Nリン酸水溶液100mLで同様に複合体溶液を洗浄し、静置後、酸性水溶液を分離して、ポリアニリン複合体のトルエン溶液を回収した。この複合体溶液に含まれる若干の不溶物を#5Cの濾紙により除去し、ポリアニリン複合体のトルエン溶液を回収した。この溶液をエバポレーターに移し、60℃の湯浴で加温し、減圧することにより、揮発分を蒸発留去し、7gのポリアニリン複合体を得た。
Production Example 1
[Production of Pronated Polyaniline (Polyaniline Complex)]
Aerosol OT (sodium diisooctyl sulfosuccinate, which is a sulfosuccinic acid derivative, purity 75% or more, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 5.4 g (12 mmol), Phosphanol FP120 (manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.) 0.66 g (0 .8 mmol) was stirred and dissolved in 100 mL of toluene, and placed in a 30 L glass reactor (with mechanical stirrer, jacket, thermometer and dropping funnel) placed under a nitrogen stream. To this solution, 3.7 g (40 mmol) of raw material aniline was added and dissolved by stirring. Stirring and cooling of the flask with the refrigerant was started, and 300 mL of 1M phosphoric acid was further added to the solution. While keeping the solution temperature at 5 ° C., a solution obtained by dissolving 7.3 g (32 mmol) of chemical ammonium persulfate in 100 mL of 1M phosphoric acid was dropped with a dropping funnel, and the dropping was completed in 2 hours. The aqueous phase (lower phase) separated into two phases by standing was withdrawn from the lower part of the reactor to obtain a crude polyaniline complex toluene solution.
After adding 100 mL of ion-exchanged water to the obtained complex solution and stirring, it was allowed to stand to separate the aqueous phase, and this operation was performed again. The complex solution was washed in the same manner with 100 mL of 1N phosphoric acid aqueous solution, allowed to stand, then the acidic aqueous solution was separated, and the toluene solution of the polyaniline complex was recovered. Some insoluble matter contained in the complex solution was removed with # 5C filter paper, and a toluene solution of the polyaniline complex was recovered. This solution was transferred to an evaporator, heated in a hot water bath at 60 ° C., and reduced in pressure to evaporate and remove volatile components to obtain 7 g of a polyaniline complex.

得られたポリアニリン複合体について、揮発分を実質的に取り除いた場合の元素分析結果を以下に示す。アニリン原料に基づく窒素重量%とスルホコハク酸エステルに基づく硫黄重量%の比率から、本複合体中のスルホコハク酸エステル/アニリンモノマーユニットのモル分率は、0.48である。
炭素60.2重量%、水素:7.8重量%、窒素:4.6重量%、硫黄:5.0重量%
このポリアニリン複合体中のポリアニリン骨格の重量平均分子量をGPCにより測定したところ、114,000g/molであった。
また、この方法で調製したポリアニリン複合体の塩素含有量を有機物塩素分−電量滴定法により結果、塩素含有量が10重量ppm定量下限以下であることを確認した。従って、ポリアニリン複合体中の塩素含有量は、10重量ppm以下である。
About the obtained polyaniline composite_body | complex, the elemental analysis result at the time of removing a volatile matter substantially is shown below. From the ratio of the nitrogen weight percent based on the aniline raw material and the sulfur weight percent based on the sulfosuccinate ester, the molar fraction of sulfosuccinate ester / aniline monomer unit in the composite is 0.48.
Carbon 60.2 wt%, Hydrogen: 7.8 wt%, Nitrogen: 4.6 wt%, Sulfur: 5.0 wt%
The weight average molecular weight of the polyaniline skeleton in this polyaniline complex was measured by GPC and found to be 114,000 g / mol.
Moreover, the chlorine content of the polyaniline composite prepared by this method was determined by an organic chlorine content-coulometric titration method, and it was confirmed that the chlorine content was 10 ppm by weight or less. Therefore, the chlorine content in the polyaniline complex is 10 ppm by weight or less.

実施例1
[導電性ポリアニリン組成物の調製]
製造例1で得た導電性ポリアニリン複合体700mgをイソプロピルアルコール4.65g及びp−tert−アミルフェノール(東京化成工業)4.65gに再度溶解し、均一な導電性ポリアニリン複合体溶液を調製した。この複合体溶液にアルフォンUC3080(カルボキシ基を有するアクリル系ポリマー、東亞合成株式会社製、酸価230mg/g、Mw=14000)300mg添加し、均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
Example 1
[Preparation of conductive polyaniline composition]
700 mg of the conductive polyaniline complex obtained in Production Example 1 was dissolved again in 4.65 g of isopropyl alcohol and 4.65 g of p-tert-amylphenol (Tokyo Chemical Industry) to prepare a uniform conductive polyaniline complex solution. To this composite solution, 300 mg of Alfon UC3080 (acrylic polymer having a carboxy group, manufactured by Toagosei Co., Ltd., acid value 230 mg / g, Mw = 14000) was added to obtain a uniform conductive polyaniline composition.

[導電性ポリアニリン薄膜の製造]
得られた導電性ポリアニリン組成物約1mlを、窒素雰囲気下でITOでパターニングされた30mm×30mm角のガラス基板上に展開し、1000rpmで15秒間スピンコートした。これを窒素雰囲気下150℃で5分間乾燥し、ガラス基板上に透明で均質な薄膜を形成した。ロレスターGP(三菱化学社製;四探針法による抵抗率計)を用いて薄膜の抵抗を測定し、その値を初期値(R)とした。
[Production of conductive polyaniline thin film]
About 1 ml of the obtained conductive polyaniline composition was spread on a 30 mm × 30 mm square glass substrate patterned with ITO under a nitrogen atmosphere and spin-coated at 1000 rpm for 15 seconds. This was dried at 150 ° C. for 5 minutes in a nitrogen atmosphere to form a transparent and homogeneous thin film on the glass substrate. The resistance of the thin film was measured using a Lorester GP (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; resistivity meter based on a four-probe method), and the value was defined as an initial value (R 0 ).

[導電性ポリアニリン薄膜の耐熱試験]
得られた導電性ポリアニリン組成物の薄膜をガラス基板のまま、窒素雰囲気、125℃の条件下で所定時間放置した。所定時間経過後に薄膜の温度を室温に戻してから初期値(R)と同様にして抵抗の測定を行った。所定時間経過後の抵抗値(R)と初期値との比(R/R)を算出し、薄膜の経時劣化(抵抗の上昇率)を評価した。結果を表1に示す。表内の値は所定時間経過後の抵抗値Rと初期値Rとの比R/Rを示す。
[Heat resistance test of conductive polyaniline thin film]
The thin film of the obtained conductive polyaniline composition was left as it was for a predetermined time in a nitrogen atmosphere and at 125 ° C. with the glass substrate. The resistance was measured in the same manner as the initial value (R 0 ) after the temperature of the thin film was returned to room temperature after a predetermined time had elapsed. The ratio (R / R 0 ) between the resistance value (R) and the initial value after the lapse of a predetermined time was calculated, and the deterioration with time (resistance increase rate) of the thin film was evaluated. The results are shown in Table 1. The values in the table indicate the ratio R / R 0 between the resistance value R and the initial value R 0 after a predetermined time.

実施例2
アルフォンUC3080(カルボキシ基を有するアクリル系ポリマー、東亞合成株式会社製、酸価230mg/g、Mw=14000)の添加量を500mgに変更した以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 2
Uniform conductive polyaniline composition in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of Alfon UC3080 (acrylic polymer having a carboxy group, manufactured by Toagosei Co., Ltd., acid value 230 mg / g, Mw = 14000) was changed to 500 mg. I got a thing.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例3
アルフォンUC3080の添加量を100mgに変更した以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 3
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the addition amount of Alfon UC3080 was changed to 100 mg.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例4
アルフォンUC3080の代わりにアルフォンUC3910(カルボキシ基を有するアクリル系ポリマー、東亞合成株式会社製、酸価200mg/g、Mw=8500)に変更した以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 4
Uniform conductive polyaniline composition as in Example 1 except that Alfon UC3910 (acrylic polymer having a carboxy group, manufactured by Toagosei Co., Ltd., acid value 200 mg / g, Mw = 8500) is used instead of Alfon UC3080 I got a thing.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例5
アルフォンUC3080の代わりにアルフォンUC3920(カルボキシ基を有するアクリル系ポリマー、東亞合成株式会社製、酸価240mg/g、Mw=15500)に変更した以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 5
Uniform conductive polyaniline composition as in Example 1 except that Alfon UC3920 (acrylic polymer having a carboxy group, manufactured by Toagosei Co., Ltd., acid value 240 mg / g, Mw = 15500) was used instead of Alfon UC3080 I got a thing.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例6
アルフォンUC3080を300mg添加する代わりに下記式のポリホスマーPE201の10%イソプロピルアルコール溶液(DAP株式会社製、酸価311mg/g、Mw=150000)を3g添加した以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。

Figure 0005710388
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。 Example 6
The same as in Example 1 except that 3 g of 10% isopropyl alcohol solution (manufactured by DAP, acid value 311 mg / g, Mw = 150,000) of polyphosmer PE201 of the following formula was added instead of adding 300 mg of Alfon UC3080 A conductive polyaniline composition was obtained.
Figure 0005710388
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例7
実施例1にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 7
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was further added to Example 1.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例8
実施例2にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例2と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 8
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 2 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was further added to Example 2.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例9
実施例3にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例3と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 9
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 3 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to Example 3.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例10
実施例4にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例4と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 10
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to Example 4.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例11
実施例5にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例5と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 11
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 5 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was further added to Example 5.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例12
実施例6にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例6と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 12
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 6 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to Example 6.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例13
アルフォンUC3080の代わりにLC6560(カルボキシ基を有するアクリル系ポリマー、35wt%溶液(溶媒:酢酸エチル)、東栄化成株式会社製、酸価2.2mg/g、Mw=80000)0.28gを用いた以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 13
LC8560 (acrylic polymer having a carboxy group, 35 wt% solution (solvent: ethyl acetate), manufactured by Toei Kasei Co., Ltd., acid value 2.2 mg / g, Mw = 80000) 0.28 g was used instead of Alfon UC3080 Obtained a uniform conductive polyaniline composition in the same manner as in Example 1.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例14
アルフォンUC3080の代わりにYB7003(カルボキシ基を有するアクリル系ポリマー、38wt%溶液(溶媒:酢酸エチル)、東栄化成株式会社製、酸価2.4mg/g、Mw=50000)0.26gを用いた以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 14
Except for using 0.26 g of YB7003 (acrylic polymer having a carboxy group, 38 wt% solution (solvent: ethyl acetate), manufactured by Toei Kasei Co., Ltd., acid value 2.4 mg / g, Mw = 50000) instead of Alfon UC3080 Obtained a uniform conductive polyaniline composition in the same manner as in Example 1.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例15
アルフォンUC3080の代わりにPB7050(カルボキシ基を有するアクリル系ポリマー、38.5wt%溶液(溶媒:酢酸エチル(60%)IPA(40%))、東栄化成株式会社製、酸価2.5mg/g、Mw=80000)0.26gを用いた以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 15
Instead of Alfon UC3080, PB7050 (acrylic polymer having a carboxy group, 38.5 wt% solution (solvent: ethyl acetate (60%) IPA (40%)), manufactured by Toei Kasei Co., Ltd., acid value 2.5 mg / g, Mw = 80000) A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.26 g was used.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例16
アルフォンUC3080の代わりにカルボキシ基を有するアクリル系ポリマーであるアニセットL1000(39.9wt%溶液(溶媒:メタノール)、大阪有機化学工業株式会社製、酸価5mg/g、Mw=80000)0.25gを用いた以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 16
0.25 g of Aniset L1000 (39.9 wt% solution (solvent: methanol), manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., acid value 5 mg / g, Mw = 80000) which is an acrylic polymer having a carboxy group instead of Alfon UC3080 A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was used.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例17
アルフォンUC3080の代わりにカルボキシ基を有するアクリル系ポリマーであるアニセットKB−100H(40.8wt%溶液(溶媒:メタノール)、大阪有機化学工業株式会社製、酸価8mg/g、Mw=60000)0.24gを用いた以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 17
Aniset KB-100H which is an acrylic polymer having a carboxy group instead of Alfon UC3080 (40.8 wt% solution (solvent: methanol), manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., acid value 8 mg / g, Mw = 60000) A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 24 g was used.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例18
アルフォンUC3080の代わりにカルボキシ基を有するアクリル系ポリマーであるアニセットKB―100H未中和(54.8wt%溶液(溶媒:メタノール)、大阪有機化学工業株式会社製、酸価53mg/g、Mw=60000)0.18gを用いた以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 18
Aniset KB-100H, which is an acrylic polymer having a carboxy group instead of Alfon UC3080, is not neutralized (54.8 wt% solution (solvent: methanol), manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., acid value 53 mg / g, Mw = 60000 ) A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.18 g was used.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例19
アルフォンUC3080の代わりにカルボキシ基を有するアクリル系ポリマーであるアニセットNF―1000(40.0wt%溶液(溶媒:メタノール)、大阪有機化学工業株式会社製、酸価5mg/g、Mw=80000)0.25gを用いた以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 19
Anisset NF-1000 (40.0 wt% solution (solvent: methanol), manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., acid value 5 mg / g, Mw = 80000), which is an acrylic polymer having a carboxy group instead of Alfon UC3080 A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 25 g was used.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例20
アルフォンUC3080の代わりにカルボキシ基を有するアクリル系ポリマーであるアニセットHS―3000(30.1wt%溶液(溶媒:メタノール)、大阪有機化学工業株式会社製、酸価3mg/g、Mw=60000)0.33gを用いた以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 20
Aniset HS-3000 (30.1 wt% solution (solvent: methanol), manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., acid value 3 mg / g, Mw = 60000), which is an acrylic polymer having a carboxy group instead of Alfon UC3080 A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 33 g was used.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例21
アルフォンUC3080の代わりにNeocrylB−818(カルボキシ基を有するアクリル系ポリマー、楠本化成株式会社、酸価50mg/g、Mw=38000)1gを用いた以外は実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Example 21
Uniform conductive polyaniline as in Example 1 except that 1 g of Neocryl B-818 (acrylic polymer having a carboxy group, Enomoto Kasei Co., Ltd., acid value 50 mg / g, Mw = 38000) was used instead of Alfon UC3080. A composition was obtained.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

実施例22
実施例16にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例16と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
Example 22
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 16 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was further added to Example 16.

実施例23
実施例17にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例17と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
Example 23
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 17 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was further added to Example 17.

実施例24
実施例18にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例18と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
Example 24
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 18 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to Example 18.

実施例25
実施例19にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例19と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
Example 25
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 19 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was further added to Example 19.

実施例26
実施例20にさらに2−ナフタレンスルホン酸一水和物(東京化成工業株式会社製)を47mg加えた以外は実施例20と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を得た。
Example 26
A uniform conductive polyaniline composition was obtained in the same manner as in Example 20 except that 47 mg of 2-naphthalenesulfonic acid monohydrate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to Example 20.

比較例1
アルフォンUC3080を添加しなかった他は、実施例1と同様にして均一な導電性ポリアニリン組成物を調製した。
得られた導電性ポリアニリン組成物を用いて、実施例1と同様にして薄膜を形成し、得られた薄膜を評価した。結果を表1に示す。
Comparative Example 1
A uniform conductive polyaniline composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that Alfon UC3080 was not added.
Using the obtained conductive polyaniline composition, a thin film was formed in the same manner as in Example 1, and the obtained thin film was evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 0005710388
Figure 0005710388
Figure 0005710388
Figure 0005710388

本発明の組成物から得られる成形体は、パワーエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス分野において、静電及び帯電防止材料、透明電極及び導電性フィルム材料、エレクトロルミネッセンス素子の材料、回路材料、電磁波遮蔽材料、コンデンサの誘電体及び電解質、太陽電池及び二次電池の極材料、燃料電池セパレータ材料等に、又はメッキ下地、防錆剤等に利用できる。   The molded body obtained from the composition of the present invention is used in the fields of power electronics and optoelectronics, for electrostatic and antistatic materials, transparent electrodes and conductive film materials, electroluminescent element materials, circuit materials, electromagnetic wave shielding materials, and capacitor materials. It can be used for dielectrics and electrolytes, electrode materials for solar cells and secondary batteries, fuel cell separator materials, etc., or for plating bases, rust inhibitors and the like.

Claims (15)

(1)プロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリン
(2)フェノール性化合物
(3)含酸素有機溶剤
(4)式(A)及び(B)から選択される少なくとも1種の繰り返し単位と、式(C)の繰り返し単位を含むアクリル系ポリマー、又はリン酸基を有するアクリル系ポリマー、である高分子化合物
を含む導電性組成物。
Figure 0005710388
(式中、R 、R 、R は水素原子又はメチル基であり、R はアルキル基であり、A 1 はナトリウムイオン、又は下記式で表されるイオンのいずれかである。
Figure 0005710388
(式中、R’はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシルアルキル基である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシルアルキル基は直鎖でも、分岐していてもよく、R’は同一でも異なっていてもよい。))
(1) Protonated substituted or unsubstituted polyaniline (2) Phenolic compound (3) Oxygenated organic solvent (4) At least one repeating unit selected from formulas (A) and (B), A conductive composition comprising a polymer compound which is an acrylic polymer containing a repeating unit of C) or an acrylic polymer having a phosphate group .
Figure 0005710388
(Wherein a R a, R b, R c is a hydrogen atom or a methyl group, the R d is an alkyl group, A 1 + is either ion represented by sodium ion, or the following formula.
Figure 0005710388
(In the formula, each R ′ is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or a hydroxylalkyl group. The alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, or hydroxylalkyl group may be linear or branched, R ′ may be the same or different.))
前記プロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリンの塩素含有量が、0.6重量%以下である請求項1に記載の導電性組成物。   The conductive composition according to claim 1, wherein the chlorine content of the protonated substituted or unsubstituted polyaniline is 0.6% by weight or less. 前記プロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリンが、有機スルホン酸又はその塩でプロトネーションされた置換又は非置換ポリアニリンである請求項1又は2に記載の導電性組成物。   The conductive composition according to claim 1 or 2, wherein the protonated substituted or unsubstituted polyaniline is a substituted or unsubstituted polyaniline protonated with an organic sulfonic acid or a salt thereof. 前記有機スルホン酸又はその塩がスルホコハク酸誘導体である請求項3に記載の導電性組成物。   The conductive composition according to claim 3, wherein the organic sulfonic acid or a salt thereof is a sulfosuccinic acid derivative. 前記有機スルホン酸又はその塩が、下記式(III)で表される請求項3又は4に記載の導電性組成物。
Figure 0005710388
(式中、Mは水素原子、有機遊離基又は無機遊離基であり、m’はMの価数であり、R112及びR113は、それぞれ独立に、炭化水素基又は−(R114O)r−R115基[ここで、R114はそれぞれ独立に炭化水素基又はシリレン基であり、R115は水素原子、炭化水素基又はR116 Si−基(ここで、R116はそれぞれ独立に炭化水素基である)であり、rは1以上の整数である]である。)
The conductive composition according to claim 3 or 4, wherein the organic sulfonic acid or a salt thereof is represented by the following formula (III).
Figure 0005710388
Wherein M is a hydrogen atom, an organic free radical or an inorganic free radical, m ′ is a valence of M, and R 112 and R 113 are each independently a hydrocarbon group or — (R 114 O). r-R 115 group [wherein, R 114 are each independently a hydrocarbon group or a silylene group, R 115 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or R 116 3 Si- groups (wherein, R 116 are each independently Is a hydrocarbon group), and r is an integer of 1 or more.)
前記(4)高分子化合物の酸価が1mg/g以上である請求項1〜のいずれかに記載の導電性組成物。 The conductive composition according to any one of claims 1 to 5 , wherein the acid value of the polymer compound (4) is 1 mg / g or more. 前記(4)高分子化合物の重量平均分子量が2000以上200000以下である請求項1〜のいずれかに記載の導電性高分子。 The conductive polymer according to any one of claims 1 to 6 , wherein the polymer compound (4) has a weight average molecular weight of 2,000 to 200,000. 前記含酸素有機溶剤が、炭素数1〜12のアルコールである請求項1〜のいずれかに記載の導電性組成物。 The conductive composition according to any one of claims 1 to 7 , wherein the oxygen-containing organic solvent is an alcohol having 1 to 12 carbon atoms. さらに低分子酸性化合物又はその塩を含む請求項1〜のいずれかに記載の導電性組成物。 Furthermore, the electroconductive composition in any one of Claims 1-8 containing a low molecular acidic compound or its salt. 前記低分子酸性化合物が、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基又はカルボキシ基を有する化合物である請求項に記載の導電性組成物。 The conductive composition according to claim 9 , wherein the low-molecular acid compound is a compound having a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, or a carboxy group. 前記低分子酸性化合物が、ナフタレンスルホン酸又はアルキルナフタレンスルホン酸である請求項又は10に記載の導電性組成物。 The conductive composition according to claim 9 or 10 , wherein the low molecular acid compound is naphthalenesulfonic acid or alkylnaphthalenesulfonic acid. 請求項1〜11のいずれかに記載の導電性組成物を用いて製造されるコンデンサ。 Capacitor produced by using a conductive composition according to any one of claims 1 to 11. 請求項1〜11のいずれかに記載の導電性組成物を用いて製造される導電性成形体。 Conductive moldings produced using the conductive composition according to any one of claims 1 to 11. 請求項1〜11のいずれかに記載の導電性組成物を、基材に塗布してなる表面導電性物品。 The conductive composition according to any one of claims 1 to 11 surface conductive article formed by applying to a substrate. 請求項1に記載の表面導電性物品を用いて製造される導電性物品。 Conductive article manufactured using the surface conductive article of claim 1 4.
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