JP5701602B2 - ウエハーを検査するように構成される装置 - Google Patents
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Description
なお、本発明は、以下の態様で実現することもできる。
適用例1
ウエハーを検査するように構成される装置であって、
斜めの入射角で前記ウエハーに光を向けることにより前記ウエハー上の区域を照明するように構成される照明の下位組織と、
前記照明される区域の中の異なる地点から散乱される光を同時に集め、そして前記異なる地点から集められる前記光を映像面の対応する位置に焦点を結ばせるように構成される集光の下位組織と、
前記映像面の前記対応する位置に焦点を結ぶ前記光を別々に検出し、そして、前記映像面の前記対応する位置に焦点を結ぶ前記光に応答する出力を別々に生成するように構成される検出の下位組織であって、前記出力が前記ウエハー上の欠陥の検出に用いられることができる、下位組織と、を含むことを特徴とする、装置。
適用例2
前記照明される区域の中の前記異なる地点が前記照明される区域の中で重なり合わない、
適用例1の装置。
適用例3
前記ウエハー上の前記異なる地点の各々の大きさがおよそ等しい、
適用例1の装置。
適用例4
前記異なる地点から散乱される前記光の相当な量が前記ウエハーの表面から散乱されるものではないように前記ウエハー上の前記異なる地点の各々の大きさが選ばれる、
適用例1の装置。
適用例5
前記異なる地点の各々から集められるヘイズの量が前記ウエハー上の前記照明される区域に付随するヘイズの量より著しくより少ないように前記異なる地点の各々が構成される、
適用例1の装置。
適用例6
前記異なる地点の各々から集められるヘイズによる直流の光量が前記ウエハー上の前記照明される区域に付随するヘイズによる直流の光量より著しくより少ないように前記異なる地点の各々が構成される、
適用例1の装置。
適用例7
前記ウエハーの粗さによる前記異なる地点の各々から集められる空間雑音が前記ウエハーの前記粗さによる前記ウエハー上の前記照明される区域に付随する空間雑音より著しくより少ないように前記異なる地点の各々が構成される、
適用例1の装置。
適用例8
集光の下位組織が前記異なる地点から散乱される前記光を同時に集めるように構成される光学要素を含み、照明の下位組織が前記斜めの入射角で前記ウエハー上の前記区域に区分を通して前記光を向けることができるように前記光学要素の前記区分が除去される、
適用例1の装置。
適用例9
前記ウエハーがパターン化されないウエハーを含む、
適用例1の装置。
適用例10
前記ウエハーがパターン化されるウエハーを含み、前記装置がさらにxとy方向に前記パターン化されるウエハーにわたり前記パターン化されるウエハーに向けられる前記光を走査するように構成される、
適用例1の装置。
適用例11
前記集光の下位組織が前記異なる地点から散乱される前記光を同時に集めるように構成される小型の屈折光学要素を含む、
適用例1の装置。
適用例12
前記集光の下位組織が前記異なる地点から散乱される前記光を同時に集めるように構成される小型の屈折光学要素を含み、前記屈折光学要素が前記装置が前記集光の下位組織の焦点の変化に応答して前記ウエハーにわたる前記光の走査の間に前記屈折光学要素を動かすことができる大きさを持つ、
適用例1の装置。
適用例13
前記異なる地点から散乱する前記光が既定の点広がり関数を持って前記映像面の前記対応する位置に画像を結ぶように前記集光の下位組織が修正される、
適用例1の装置。
適用例14
前記装置が前記ウエハーを同時に回転し平行移動することにより前記ウエハーにわたり前記ウエハーに向けられる前記光を走査するようにさらに構成される、
適用例1の装置。
適用例15
前記検出の下位組織が前記映像面の前記対応する位置に焦点を結ぶ前記光を別々に検出するように構成される検出器の配列を含む、
適用例1の装置。
適用例16
検出の下位組織が前記映像面の前記対応する位置からの前記光を前記検出の下位組織の異なる検出器に別々に伝送するように構成される一組の光ファイバーを含む、
適用例1の装置。
適用例17
パターン化されるウエハーを検査するように構成される装置であって、
大体垂直な入射角で前記パターン化されるウエハー上の複数の地点を同時に照明するように構成される照明の下位組織と、
前記複数の地点からの光を別々に集めるように、そして前記複数の地点から集められる前記光が映像面の対応する位置に焦点を結ぶように、構成される集光の下位組織と、
前記映像面の前記対応する位置に焦点を結ぶ前記光を別々に検出し、そして、前記映像面の前記対応する位置に焦点を結ぶ前記光に応答する出力を別々に生成するように構成される検出の下位組織であって、前記出力が前記パターン化されるウエハー上の欠陥の検出に用いられることができる、下位組織と、
を含むことを特徴とする、装置。
適用例18
前記複数の地点が前記パターン化されるウエハー上でお互いに重なり合わない、
適用例17の装置。
適用例19
前記複数の地点からの前記光が散乱光を含む、
適用例17の装置。
適用例20
前記複数の地点からの前記光が反射光を含む、
適用例17の装置。
適用例21
前記パターン化されるウエハー上の前記複数の地点の各々の大きさがおよそ等しい、
適用例17の装置。
適用例22
前記複数の地点から集められる前記光の相当量が前記パターン化されるウエハーの表面から散乱ではないように前記パターン化されるウエハー上の前記複数の地点の各々の大きさが選ばれる、
適用例17の装置。
適用例23
前記複数の地点の各々から集められるヘイズの量が前記パターン化されるウエハー上の前記複数の地点の全部により覆われる区域に付随するヘイズの量より著しくより少ないように前記複数の地点の各々が構成される、
適用例17の装置。
適用例24
前記複数の地点の各々から集められるヘイズによる直流の光量が前記パターン化されるウエハー上の前記複数の地点の全部により覆われる区域に付随する直流の光量より著しくより少ないように前記複数の地点の各々が構成される、
適用例17の装置。
適用例25
前記パターン化されるウエハーの粗さによる前記複数の地点の各々から集められる空間雑音が前記パターン化されるウエハーの粗さによる前記パターン化されるウエハー上の前記複数の地点の全部により覆われる区域に付随する空間雑音より著しくより少ないように前記複数の地点の各々が構成される、
適用例17の装置。
適用例26
前記集光の下位組織が前記複数の地点からの前記光を集めるように構成される小型の屈折光学要素を含む、
適用例17の装置。
適用例27
前記集光の下位組織が前記複数の地点からの前記光を集めるように構成される屈折光学要素を含み、前記集光の下位組織の焦点の変化に応答して前記パターン化されるウエハーの走査の間に前記屈折光学要素を前記装置が動かすことができる大きさを前記屈折光学要素が持つ、
適用例17の装置。
適用例28
前記複数の地点からの光が規定の点広がり関数を持って前記映像面の前記対応する位置に像を結ぶように前記集光の下位組織が修正される、
適用例17の装置。
適用例29
前記装置が前記パターン化されるウエハーを同時に回転し平行移動することにより前記パターン化されるウエハーにわたり前記パターン化されるウエハー上の前記複数の地点に向けられる光を走査するようにさらに構成される、
適用例17の装置。
適用例30
検出の下位組織が前記映像面の前記対応する位置に焦点を結ぶ前記光を別々に検出するように構成される検出器の配列を含む、
適用例17の装置。
適用例31
検出の下位組織が前記映像面の前記対応する位置からの前記光を前記検出の下位組織の異なる検出器に別々に伝送するように構成される光ファイバーの一組を含む、
適用例17の装置。
Claims (15)
- ウエハーを検査するように構成される装置であって、
斜めの入射角で前記ウエハーに光を向けることにより前記ウエハー上の区域を照明するように構成される照明サブシステムと、
前記照明される区域の中の異なる地点であってそれぞれ所定の大きさを有する領域である地点から散乱される光を同時に集め、前記照明される区域の中の前記異なる地点以外の区域から散乱される光を集めず、そして前記異なる地点から集められる前記光を映像面の対応する位置に焦点を結ばせるように構成される集光サブシステムであって、前記異なる地点が前記ウエハー上の前記照明される区域の中で互いに空間的に離れている、集光サブシステムと、
前記映像面の前記対応する位置に焦点を結ぶ前記光を別々に検出し、そして、前記映像面の前記対応する位置に焦点を結ぶ前記光に応答する出力を別々に生成するように構成される検出サブシステムであって、前記出力が前記ウエハー上の欠陥の検出に用いられることができる、検出サブシステムと、を含み、
前記異なる地点の各々から集められるヘイズの量が前記ウエハー上の前記照明される区域に付随するヘイズの量より少ないように前記異なる地点の各々が構成される、装置。 - 前記ウエハー上の前記異なる地点の各々の大きさがおよそ等しい、
請求項1に記載の装置。 - 前記異なる地点から散乱される前記光の相当な量が前記ウエハーの表面から散乱されるものではないように前記ウエハー上の前記異なる地点の各々の大きさが選ばれる、
請求項1に記載の装置。 - 前記異なる地点の各々から集められる前記ヘイズによる光量であって、前記検出サブシステムの前記出力の直流成分に対応する光量が、前記ウエハー上の前記照明される区域に付随する前記ヘイズによる光量であって、前記検出サブシステムの前記出力の直流成分に対応する光量より少ないように、前記異なる地点の各々が、さらに構成される、
請求項1に記載の装置。 - 前記ウエハーの粗さによる前記異なる地点の各々から集められる空間雑音が前記ウエハーの前記粗さによる前記ウエハー上の前記照明される区域に付随する空間雑音より少ないように、前記異なる地点の各々が、さらに構成される、
請求項1に記載の装置。 - 集光サブシステムが前記異なる地点から散乱される前記光を同時に集めるように構成される光学要素を含み、照明サブシステムが前記斜めの入射角で前記ウエハー上の前記区域に前記光学要素の開口部を通して前記光を向けることができるように、前記光学要素の一部が除去される、
請求項1に記載の装置。 - 前記ウエハーがパターン化されないウエハーを含む、
請求項1に記載の装置。 - 前記ウエハーがパターン化されるウエハーを含み、前記装置がさらにxとy方向に前記パターン化されるウエハーにわたり前記パターン化されるウエハーに向けられる前記光を走査するように構成される、
請求項1に記載の装置。 - 前記集光サブシステムが前記異なる地点から散乱される前記光を同時に集めるように構成される小型の屈折光学要素を含む、
請求項1に記載の装置。 - 前記集光サブシステムが、前記異なる地点から散乱される前記光を同時に集めるように構成される小型の屈折光学要素を含み、
前記屈折光学要素が、前記装置が前記集光サブシステムの焦点の変化に応答して前記ウエハーにわたる前記光の走査の間に前記屈折光学要素を動かすことができる大きさを持つ、
請求項1に記載の装置。 - 前記異なる地点から散乱する前記光が既定の点広がり関数を持って前記映像面の前記対応する位置に画像を結ぶように、前記集光サブシステムが補正される、
請求項1に記載の装置。 - 前記装置が、前記ウエハーを回転しつつ移動することにより前記ウエハーにわたり前記ウエハーに向けられる前記光を走査するように、さらに構成される、
請求項1に記載の装置。 - 前記検出サブシステムが前記映像面の前記対応する位置に焦点を結ぶ前記光を別々に検出するように構成される検出器の配列を含む、
請求項1に記載の装置。 - 検出サブシステムが前記映像面の前記対応する位置からの前記光を前記検出サブシステムの異なる検出器に別々に伝送するように構成される一組の光ファイバーを含む、
請求項1に記載の装置。 - 前記照明される区域の中の前記異なる地点が前記照明される区域の中で重なり合わない、
請求項1の装置。
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