JP5692724B2 - Near-field light generating element manufacturing method, near-field light generating element, near-field light head, and information recording / reproducing apparatus - Google Patents

Near-field light generating element manufacturing method, near-field light generating element, near-field light head, and information recording / reproducing apparatus Download PDF

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Description

本発明は、光束を集光した近接場光を利用して磁気記録媒体に各種の情報を記録再生する近接場光発生素子の製造方法、近接場光発生素子、近接場光ヘッド、及び情報記録再生装置に関するものである。   The present invention relates to a manufacturing method of a near-field light generating element that records and reproduces various kinds of information on a magnetic recording medium using near-field light collected from a light beam, a near-field light generating element, a near-field light head, and information recording The present invention relates to a playback device.

近年、コンピュータ機器におけるハードディスク等の容量増加に伴い、単一記録面内における情報の記録密度が増加している。例えば、磁気ディスクの単位面積当たりの記録容量を多くするためには、面記録密度を高くする必要がある。ところが、記録密度が高くなるにつれて、記録媒体上で1ビット当たりの占める記録面積が小さくなっている。このビットサイズが小さくなると、1ビットの情報が持つエネルギーが、室温の熱エネルギーに近くなり、記録した情報が熱揺らぎ等のために反転したり、消えてしまったりする等の熱減磁の問題が生じてしまう。   In recent years, the recording density of information within a single recording surface has increased as the capacity of hard disks and the like in computer equipment has increased. For example, in order to increase the recording capacity per unit area of the magnetic disk, it is necessary to increase the surface recording density. However, as the recording density increases, the recording area occupied by one bit on the recording medium decreases. When this bit size is reduced, the energy of 1-bit information is close to that of room temperature, and the recorded information is reversed or lost due to thermal fluctuation, etc. Will occur.

一般的に用いられてきた面内記録方式では、磁化の方向が記録媒体の面内方向に向くように磁気を記録する方式であるが、この方式では上述した熱減磁による記録情報の消失等が起こり易い。そこで、このような不具合を解消するために、近年では記録媒体に対して垂直な方向に磁化信号を記録する垂直記録方式が採用されている。この方式は、記録媒体に対して、単磁極を近づける原理で磁気情報を記録する方式である。この方式によれば、記録磁界が記録膜に対してほぼ垂直な方向を向く。垂直な磁界で記録された情報は、記録膜面内においてN極とS極とがループを作り難いため、エネルギー的に安定を保ち易い。そのため、この垂直記録方式は、面内記録方式に対して熱減磁に強くなっている。   In the in-plane recording method that has been generally used, the magnetism is recorded so that the direction of magnetization is in the in-plane direction of the recording medium. In this method, the recorded information is lost due to the thermal demagnetization described above. Is likely to occur. Therefore, in order to solve such problems, in recent years, a perpendicular recording method for recording a magnetization signal in a direction perpendicular to the recording medium has been adopted. This method is a method for recording magnetic information on the principle of bringing a single magnetic pole closer to a recording medium. According to this method, the recording magnetic field is directed substantially perpendicular to the recording film. Information recorded by a perpendicular magnetic field is easy to maintain in energy stability because it is difficult for the N pole and the S pole to form a loop in the recording film surface. Therefore, this perpendicular recording method is more resistant to thermal demagnetization than the in-plane recording method.

しかしながら、近年の記録媒体は、より大量且つ高密度情報の記録再生を行いたい等のニーズを受けて、さらなる高密度化が求められている。そのため、隣り合う磁区同士の影響や、熱揺らぎを最小限に抑えるために、保磁力の強いものが記録媒体として採用され始めている。そのため、上述した垂直記録方式であっても、記録媒体に情報を記録することが困難になっていた。   However, recent recording media are required to have a higher density in response to the need to record and reproduce a larger amount and higher density information. For this reason, in order to minimize the influence of adjacent magnetic domains and thermal fluctuations, those having a strong coercive force have begun to be adopted as recording media. For this reason, it is difficult to record information on a recording medium even in the above-described perpendicular recording system.

そこで、上述した不具合を解消するために、光を集光したスポット光、若しくは、近接場光を利用して磁区を局所的に加熱して一時的に保磁力を低下させ、その間に記録媒体への書き込みを行うハイブリッド磁気記録方式の記録再生ヘッドが提供されている。
このような記録再生ヘッドのうち、近接場光を利用した記録再生ヘッド(近接場光ヘッド)は、スライダと、スライダ上に配置された主磁極及び補助磁極を有する記録素子と、照射されたレーザ光から近接場光を発生させる近接場光発生素子と、近接場光発生素子に向けてレーザ光を照射するレーザ光源と、レーザ光源から発せられたレーザ光を近接場光発生素子まで導く光導波路と、を主に備えている(例えば、特許文献1参照)。近接場光発生素子は、レーザ光を反射させながら伝播させるコア、及びコアに密着してコアを封止するクラッドを有する光束伝播素子と、コア及びクラッド間に配置されてレーザ光から近接場光を発生させる金属膜と、を有している。コアは、一端側(光入射側)から他端側(光出射側)に向かうレーザ光の伝播方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形されており、レーザ光を集光させながら他端側に向けて伝播させるようになっている。そして、コアにおける他端側の側面に上述した金属膜が配置されている。
Therefore, in order to eliminate the above-described problems, the magnetic domain is locally heated using spot light that has collected light or near-field light to temporarily reduce the coercive force, and to the recording medium in the meantime. A hybrid magnetic recording type recording / reproducing head is provided.
Among such recording / reproducing heads, a recording / reproducing head (near-field optical head) using near-field light includes a slider, a recording element having a main magnetic pole and an auxiliary magnetic pole disposed on the slider, and an irradiated laser. A near-field light generating element that generates near-field light from light, a laser light source that irradiates laser light toward the near-field light generating element, and an optical waveguide that guides the laser light emitted from the laser light source to the near-field light generating element (See, for example, Patent Document 1). The near-field light generating element includes a core that propagates the laser light while reflecting it, a light flux propagation element that has a clad that is in close contact with the core and seals the core, and a near-field light that is disposed between the core and the clad. And a metal film for generating. The core is drawn so that the cross-sectional area perpendicular to the propagation direction of the laser beam from one end side (light incident side) to the other end side (light emitting side) gradually decreases, and the laser beam is condensed It propagates toward the other end side. And the metal film mentioned above is arrange | positioned at the side surface of the other end side in a core.

このように構成された記録再生ヘッドを利用する場合には、近接場光を発生させると同時に記録磁界を印加することで、記録媒体に各種の情報を記録している。すなわち、レーザ光源から出射されたレーザ光は光導波路を介して光束伝播素子内に入射する。そして、光束伝播素子に入射したレーザ光は、コア内を伝播して金属膜に達する。すると、金属膜では、レーザ光によって内部の自由電子が一様に振動させられるのでプラズモンが励起され、コアの他端側に近接場光を局在化させた状態で発生させる。その結果、磁気記録媒体の磁気記録層は、近接場光によって局所的に加熱され、一時的に保磁力が低下する。
また、上述したレーザ光の照射と同時に記録素子に駆動電流を供給することで、主磁極の先端に近接する磁気記録媒体の磁気記録層に対して記録磁界を局所的に印加する。その結果、保磁力が一時的に低下した磁気記録層に各種の情報を記録することができる。つまり、近接場光と磁場との協働により、磁気記録媒体への記録を行うことができる。
When the recording / reproducing head configured as described above is used, various information is recorded on the recording medium by generating a near-field light and simultaneously applying a recording magnetic field. That is, the laser light emitted from the laser light source enters the light flux propagation element via the optical waveguide. The laser light incident on the light flux propagation element propagates through the core and reaches the metal film. Then, in the metal film, the internal free electrons are uniformly oscillated by the laser beam, so that the plasmon is excited, and the near-field light is generated in a localized state on the other end side of the core. As a result, the magnetic recording layer of the magnetic recording medium is locally heated by near-field light, and the coercive force temporarily decreases.
Further, by supplying a drive current to the recording element simultaneously with the laser light irradiation described above, a recording magnetic field is locally applied to the magnetic recording layer of the magnetic recording medium close to the tip of the main magnetic pole. As a result, various kinds of information can be recorded on the magnetic recording layer whose coercive force has temporarily decreased. That is, recording on the magnetic recording medium can be performed by the cooperation of the near-field light and the magnetic field.

特開2008−152897号公報JP 2008-152897 A

ところで、記録媒体のさらなる高密度化を図るためには、近接場光のスポットサイズを縮小して、磁気記録媒体の磁気記録層をより局所的に加熱し、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制する必要がある。近接場光のスポットサイズを縮小するためには、金属膜の幅(レーザ光の伝播方向から見てコアとの界面の幅)を縮小することが考えられる。   By the way, in order to further increase the density of the recording medium, the spot size of the near-field light is reduced, the magnetic recording layer of the magnetic recording medium is heated more locally, and the influence of the above-described thermal fluctuation phenomenon, etc. It is necessary to suppress it. In order to reduce the spot size of the near-field light, it is conceivable to reduce the width of the metal film (the width of the interface with the core as seen from the propagation direction of the laser light).

しかしながら、金属膜(及びコア)は、非常に微細なパターン(それぞれ寸法が数十nm程度)であり、それぞれの位置合わせした上で、このような微細パターンを形成するためには高価な製造装置を用いる必要がある。そのため、装置コストの増加に起因して、製造コストの増加に繋がるという問題がある。   However, the metal film (and the core) is a very fine pattern (each having a dimension of about several tens of nanometers), and an expensive manufacturing apparatus is required to form such a fine pattern after the respective positions are aligned. Must be used. Therefore, there is a problem that the manufacturing cost is increased due to the increase in apparatus cost.

そこで、本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、製造コストの増加を抑制した上で、所望のスポットサイズの近接場光を発生させることができる近接場光発生素子の製造方法、近接場光発生素子、近接場光ヘッド、及び情報記録再生装置を提供することである。   Therefore, the present invention has been made in view of such circumstances, and its purpose is to suppress near-field light having a desired spot size while suppressing an increase in manufacturing cost. A production method of a generation element, a near-field light generation element, a near-field light head, and an information recording / reproducing apparatus are provided.

本発明は、上述した課題を解決するために以下の手段を提供する。
本発明に係る近接場光発生素子の製造方法は、端側に導入された光束を他端側に向けて集光しながら伝播するコアと、前記コアの側面に密着して前記コアを封止するクラッドと、前記コア及び前記クラッド間に配置され、前記コアとの界面に沿って前記光束を伝播させて、前記光束から近接場光を発生させる近接場光発生部と、を有する近接場光発生素子の製造方法であって、前記クラッドのうち、第1クラッドを形成する第1クラッド形成工程と、前記第1クラッド上に前記近接場光発生部の母材を形成する近接場光発生部形成工程と、前記近接場光発生部の母材を覆うように前記コアの母材を形成するコア形成工程と、前記コアの母材、及び前記近接場光発生部の母材をパターニングして、前記コア及び前記近接場光発生部を形成するパターニング工程と、前記第1クラッドとの間で前記コアを挟み込むように、前記クラッドのうち、第2クラッドを形成する第2クラッド形成工程と、を有し、前記パターニング工程は、前記一端側から前記他端側に向かうに従い先細る本体部、及び前記本体部から前記他端側へ一定幅で延びる舌部が残存するように前記コアの母材をパターニングする第1パターニング工程と、前記第1パターニング工程でパターニングされた前記コアの母材、及び前記近接場光発生部の母材を一括してエッチングし、前記コアの母材及び前記近接場光発生部の母材をパターニングする第2パターニング工程と、を有し、前記コアの母材は、前記近接場光発生部の母材よりもエッチングレートが大きい材料からなり、前記第2パターニング工程では、前記コアの母材と、前記近接場光発生部の母材とでのエッチングレートの差を利用して、前記コアの母材、及び前記近接場光発生部の母材をパターニングすることを特徴としている。
The present invention provides the following means in order to solve the above-described problems.
The method for manufacturing a near-field light generating element according to the present invention includes a core that propagates while converging a light beam introduced to an end side toward the other end side, and seals the core in close contact with a side surface of the core A near-field light, comprising: a clad, and a near-field light generator disposed between the core and the clad, wherein the light flux propagates along the interface with the core and generates near-field light from the light flux. A generation method of a generation element, wherein a first clad forming step of forming a first clad among the clads, and a near-field light generating part for forming a base material of the near-field light generating part on the first clad Forming a core, forming a core of the core so as to cover the base of the near-field light generator, patterning the core of the core, and the base of the near-field light generator , The core forming the core and the near-field light generating part A second cladding forming step of forming a second cladding of the cladding so as to sandwich the core between the first cladding and the first cladding, and the patterning step is performed from the one end side. A first patterning step of patterning the base material of the core so that a main body portion that tapers toward the other end side and a tongue portion extending from the main body portion to the other end side with a constant width remain; and Second patterning is performed by collectively etching the base material of the core and the base material of the near-field light generating unit patterned in the patterning step, and patterning the core material and the base material of the near-field light generating unit. A core material of the core is made of a material having an etching rate larger than that of the base material of the near-field light generating unit, and in the second patterning step, the core And the base material, by utilizing the difference in etching rate in the base material of the near-field light generating part, and characterized in that the base material, and patterning the base material of the near-field light generating portion of the core.

この構成によれば、第2パターニング工程において、コアの母材と近接場光発生部の母材とを一括してエッチングする際に、コアの母材と近接場光発生部の母材との構成材料の違いに起因するエッチングレートの差を利用するため、エッチング時間の管理のみで近接場光発生部を所望の形状に形成することができる。これにより、コアや近接場光発生部の微細パターンの形成に高価な装置を用いる必要がない。したがって、製造コストの増加を抑制した上で、所望のスポットサイズの近接場光を発生させることができる。   According to this configuration, in the second patterning step, when the core base material and the near-field light generating portion base material are etched together, the core base material and the near-field light generating portion base material Since the difference in the etching rate due to the difference in the constituent materials is used, the near-field light generating part can be formed in a desired shape only by managing the etching time. Thereby, it is not necessary to use an expensive apparatus for forming a fine pattern of the core and the near-field light generating part. Accordingly, it is possible to generate near-field light having a desired spot size while suppressing an increase in manufacturing cost.

また、前記第1パターニング工程では、前記一端側から前記他端側に向かう前記光束の伝播方向から見て矩形状になるようにパターニングし、前記第2パターニング工程では、前記コアの母材、及び前記近接場光発生部の母材に対してプラズマ中でスパッタエッチングを行い、前記コアの母材における前記舌部を除去し、前記舌部に相当する領域における前記近接場光発生部に、前記コアよりも前記他端側に向けて一定幅で延びる延在部と、前記延在部における前記伝播方向から見て前記コア側に向けて突出する頂部と、を形成することを特徴としている。   Further, in the first patterning step, patterning is performed so as to have a rectangular shape when viewed from the propagation direction of the light beam from the one end side toward the other end side, and in the second patterning step, the core material of the core, and Sputter etching is performed in plasma on the base material of the near-field light generating unit, the tongue of the core base material is removed, and the near-field light generating unit in a region corresponding to the tongue is An extending part extending with a constant width toward the other end side from the core and a top part protruding toward the core side when viewed from the propagation direction in the extending part are formed.

この構成によれば、第2パターニング工程においてスパッタエッチングを行うと、第1パターニング工程後におけるコアの母材の各角部が選択的にエッチングされていく。そして、この状態でさらにエッチングを続け、コアの母材が相似形を保ちながら外形が縮小していくと、コアの母材に覆われていた近接場光発生部の母材が露出する。
この際、舌部の領域では、舌部の外周縁に近接場光発生部の母材が露出する。その後、さらにスパッタエッチングを継続することで、近接場光発生部の母材は、舌部から露出した部分(外周縁の角部)から除々にエッチングが行われる。そして、最終的には、舌部が完全に除去されることで、舌部に覆われていた近接場光発生部の母材のみが残存する。これにより、舌部に相当する領域における近接場光発生部に、舌部と同一幅で延びる延在部が形成される。この際、上述したように舌部から露出した近接場光発生部の母材は、外周縁の角部から内側に向けて除々にエッチングされるため、延在部のうち、舌部により最後まで覆われていた部分に、コア側に向けて突出する頂部が残存することになる。
このように形成された近接場光発生部では、コア内を伝播する光束が入射することで、表面プラズモンが励起される。励起された表面プラズモンは、近接場光発生部上を他端側に向けて伝播し、頂部において光強度の強い近接場光となり、外部に漏れ出す。
このように、頂部を形成することで、光束の伝播方向から見てコアとの界面の幅よりも狭いスポットサイズを有する近接場光を発生させることができる。
According to this configuration, when sputter etching is performed in the second patterning step, each corner of the core base material after the first patterning step is selectively etched. In this state, when the etching is further continued and the outer shape is reduced while the core base material maintains a similar shape, the base material of the near-field light generating portion covered by the core base material is exposed.
At this time, in the region of the tongue portion, the base material of the near-field light generating portion is exposed at the outer peripheral edge of the tongue portion. Thereafter, by further continuing the sputter etching, the base material of the near-field light generating portion is gradually etched from the portion exposed from the tongue portion (corner portion of the outer peripheral edge). Finally, the tongue portion is completely removed, so that only the base material of the near-field light generating portion covered with the tongue portion remains. As a result, an extending portion extending in the same width as the tongue portion is formed in the near-field light generating portion in the region corresponding to the tongue portion. At this time, as described above, the base material of the near-field light generating portion exposed from the tongue portion is gradually etched inward from the corner portion of the outer peripheral edge, so that the end portion of the extending portion is extended to the end by the tongue portion. The top part which protrudes toward the core side remains in the covered part.
In the near-field light generating part formed in this way, surface plasmons are excited by the incidence of a light beam propagating through the core. The excited surface plasmon propagates toward the other end side on the near-field light generating portion, becomes near-field light having a high light intensity at the top, and leaks to the outside.
Thus, by forming the apex, near-field light having a spot size narrower than the width of the interface with the core as viewed from the propagation direction of the light beam can be generated.

また、本発明の近接場光発生素子は、上記本発明の近接場光発生素子の製造方法を用いて製造された近接場光発生素子であって、前記近接場光発生部は、前記本体部に相当する領域において、前記一端側から前記他端側に向かう前記光束の伝播方向に沿う前記コアの一側面上に配置された基部と、前記舌部に相当する領域において、前記基部の前記他端側から前記コアよりも前記伝播方向の前記他端側に向けて一定幅で延びる延在部と、を有していることを特徴としている。
この構成によれば、上記本発明の近接場光発生素子の製造方法を用いて製造することで、延在部の幅を所望の幅に形成することができるため、製造コストの増加を抑制した上で、所望のスポットサイズの近接場光を発生させることができる。
Further, the near-field light generating element of the present invention is a near-field light generating element manufactured using the method for manufacturing a near-field light generating element of the present invention, wherein the near-field light generating part is the main body part. A base portion disposed on one side surface of the core along the direction of propagation of the light beam from the one end side toward the other end side, and a region corresponding to the tongue portion in the region corresponding to the one end side. And an extending portion extending at a constant width from the end side toward the other end side in the propagation direction from the core.
According to this configuration, since the width of the extending portion can be formed to a desired width by manufacturing using the method for manufacturing a near-field light generating element of the present invention, an increase in manufacturing cost is suppressed. Above, near-field light of a desired spot size can be generated.

また、本発明に係る近接場光ヘッドは、一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱するとともに、前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与えることで磁化反転を生じさせ、情報を記録させる近接場光ヘッドであって、前記磁気記録媒体の表面に対向配置されたスライダと、前記スライダの先端側に配置され、前記記録磁界を発生させる主磁極及び補助磁極を有する記録素子と、前記他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記記録素子に隣接して固定された、上記本発明の近接場光発生素子と、前記スライダに固定され、前記一端側から前記コア内に前記光束を導入させる光束導入手段と、を備えていることを特徴としている。
この構成によれば、上記本発明の近接場光発生素子を備えているので、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、近接場光ヘッド自体の書き込みの信頼性を高めることができ、高品質化を図ることができる。
The near-field optical head according to the present invention heats a magnetic recording medium rotating in a fixed direction and applies a recording magnetic field to the magnetic recording medium to cause magnetization reversal and record information. An optical head, a slider disposed opposite to the surface of the magnetic recording medium, a recording element disposed on the leading end side of the slider and having a main magnetic pole and an auxiliary magnetic pole for generating the recording magnetic field, and the other end side The near-field light generating element of the present invention, which is fixed adjacent to the recording element in the state where the magnetic recording medium is directed to the magnetic recording medium side, and the slider is fixed to the light flux into the core from the one end side. And a light beam introducing means to be introduced.
According to this configuration, since the near-field light generating element of the present invention is provided, stable recording can be performed while suppressing the influence of the above-described thermal fluctuation phenomenon or the like. Therefore, the writing reliability of the near-field optical head itself can be improved, and the quality can be improved.

また、本発明に係る情報記録再生装置は、上記本発明の近接場光ヘッドと、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する2軸回りに回動自在な状態で前記近接場光ヘッドを先端側で支持するビームと、前記光束伝播素子に対して前記光束を入射させる光源と、前記ビームの基端側を支持するとともに、前記ビームを前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと、前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、前記記録素子及び前記光源の作動を制御する制御部と、を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、上記本発明の近接場光ヘッドを備えているので、書き込みの信頼性を高めることができ、高品質化を図ることができる。
An information recording / reproducing apparatus according to the present invention is movable in a direction parallel to the surface of the magnetic recording medium and the near-field optical head of the present invention, and is parallel to the surface of the magnetic recording medium and orthogonal to each other. A beam that supports the near-field light head on the tip side while being rotatable about two axes, a light source that makes the light beam incident on the light beam propagation element, and a base end side of the beam , An actuator for moving the beam in a direction parallel to the surface of the magnetic recording medium, a rotation driving unit for rotating the magnetic recording medium in the fixed direction, and a control for controlling the operation of the recording element and the light source. And a section.
According to this configuration, since the near-field optical head according to the present invention is provided, the reliability of writing can be improved and the quality can be improved.

本発明に係る近接場光発生素子の製造方法、及び近接場光発生素子によれば、製造コストの増加を抑制した上で、所望のスポットサイズの近接場光を発生させることができる。
本発明に係る近接場光ヘッド及び情報記録再生装置によれば、上述した熱揺らぎ現象等の影響を抑制して、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性が高く、高密度記録化に対応することができ、高品質化を図ることができる。
According to the method for manufacturing a near-field light generating element and the near-field light generating element according to the present invention, it is possible to generate near-field light having a desired spot size while suppressing an increase in manufacturing cost.
According to the near-field optical head and the information recording / reproducing apparatus of the present invention, stable recording can be performed while suppressing the influence of the above-described thermal fluctuation phenomenon. Therefore, writing reliability is high, high density recording can be supported, and high quality can be achieved.

本発明の実施形態における情報記録再生装置の構成図である。It is a block diagram of the information recording / reproducing apparatus in embodiment of this invention. 記録再生ヘッドを上向きにした状態でサスペンションを記録再生ヘッド側から見た斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of the suspension as viewed from the recording / reproducing head side with the recording / reproducing head facing upward. 記録再生ヘッドを上向きにした状態でジンバルを見た平面図である。It is the top view which looked at the gimbal in the state where the recording and reproducing head was faced up. 図3のA−A’線に沿う断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 3. 記録再生ヘッドの拡大断面図である。It is an expanded sectional view of a recording / reproducing head. 記録再生ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図である。3 is an enlarged cross-sectional view of a side surface on the outflow end side of a recording / reproducing head. コア及び金属膜の斜視図である。It is a perspective view of a core and a metal film. コア及び金属膜の断面図である。It is sectional drawing of a core and a metal film. 図7のE部拡大図である。It is the E section enlarged view of FIG. 図6の要部拡大図である。It is a principal part enlarged view of FIG. 図10のF矢視図である。It is F arrow line view of FIG. 情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図6に相当する図である。It is explanatory drawing at the time of recording / reproducing information with an information recording / reproducing apparatus, Comprising: It is a figure equivalent to FIG. 情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図11に相当する図である。It is explanatory drawing at the time of recording / reproducing information with an information recording / reproducing apparatus, Comprising: It is a figure equivalent to FIG. 近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、コア母材の平面図である。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of a near-field light generating element, Comprising: It is a top view of a core base material. 近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、図14(a)のG−G線に沿う断面図である。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of a near-field light generating element, Comprising: It is sectional drawing which follows the GG line of Fig.14 (a). 近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、(a)は図14(c)のI−I線に沿う断面図、(b)は図14(c)のH−H線に沿う断面図である。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of a near-field light generating element, (a) is sectional drawing which follows the II line | wire of FIG.14 (c), (b) is H- of FIG.14 (c). It is sectional drawing which follows a H line. 近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、図14(c)のI−I線に相当する断面図である。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of a near-field light generating element, Comprising: It is sectional drawing equivalent to the II line | wire of FIG.14 (c). 第2実施形態における記録再生ヘッドの前側を拡大した断面図である。It is sectional drawing to which the front side of the recording / reproducing head in 2nd Embodiment was expanded. 第2実施形態における近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、図16に相当する断面図である。It is process drawing for demonstrating the manufacturing method of the near-field light generating element in 2nd Embodiment, Comprising: It is sectional drawing equivalent to FIG. 近接場光発生素子の他の製造方法を説明するための工程図であって、図17に相当する断面図である。FIG. 18 is a process diagram for explaining another manufacturing method of the near-field light generating element, and a sectional view corresponding to FIG. 17. 近接場光発生素子の他の製造方法を説明するための工程図であって、図17に相当する断面図である。FIG. 18 is a process diagram for explaining another manufacturing method of the near-field light generating element, and a sectional view corresponding to FIG. 17.

次に、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、本実施形態の情報記録再生装置1は、垂直記録層d2を有するディスク(磁気記録媒体)Dに対して、近接場光Rと記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式によりディスクDに記録再生を行う装置である(図2参照)。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
Note that the information recording / reproducing apparatus 1 of the present embodiment uses the hybrid magnetic recording method in which the near-field light R and the recording magnetic field cooperate with the disk D (magnetic recording medium) D having the perpendicular recording layer d2. This is an apparatus for recording and reproducing (see FIG. 2).

(第1実施形態)
(情報記録再生装置)
図1は情報記録再生装置の構成図である。
本実施形態の情報記録再生装置1は、図1に示すように、キャリッジ11と、キャリッジ11の先端側に支持されたヘッドジンバルアセンブリ(HGA)12と、ヘッドジンバルアセンブリ12をディスク面D1(ディスクDの表面)に平行なXY方向に向けてスキャン移動させるアクチュエータ5と、ディスクDを所定の方向に向けて回転させるスピンドルモータ6と、情報に応じて変調した電流をヘッドジンバルアセンブリ12の記録再生ヘッド(近接場光ヘッド)2に対して供給する制御部8と、これら各構成品を内部に収容するハウジング9と、を備えている。
(First embodiment)
(Information recording / reproducing device)
FIG. 1 is a block diagram of an information recording / reproducing apparatus.
As shown in FIG. 1, the information recording / reproducing apparatus 1 of the present embodiment includes a carriage 11, a head gimbal assembly (HGA) 12 supported on the front end side of the carriage 11, and a head gimbal assembly 12 on a disk surface D1 (disc Recording / reproducing of the head gimbal assembly 12 with a current modulated according to the information, an actuator 5 that scans and moves in an XY direction parallel to the surface of D), a spindle motor 6 that rotates the disk D in a predetermined direction, and the like. A control unit 8 that supplies the head (near-field light head) 2 and a housing 9 that accommodates these components are provided.

ハウジング9は、アルミニウム等の金属材料により、上面視四角形状に形成されているとともに、内側に各構成品を収容する凹部9aが形成されている。また、このハウジング9には、凹部9aの開口を塞ぐように図示しない蓋が着脱可能に固定されるようになっている。凹部9aの略中心には、スピンドルモータ6が取り付けられ、スピンドルモータ6に中心孔を嵌め込むことでディスクDが着脱自在に固定される。なお、本実施形態では、3枚のディスクDがスピンドルモータ6に固定されている場合を例に挙げて説明している。但し、ディスクDの数は3枚に限定されるものではない。   The housing 9 is made of a metal material such as aluminum and has a quadrangular shape when viewed from above, and a recess 9a for accommodating each component is formed inside. Further, a lid (not shown) is detachably fixed to the housing 9 so as to close the opening of the recess 9a. A spindle motor 6 is attached to substantially the center of the recess 9a, and the disc D is detachably fixed by fitting a center hole into the spindle motor 6. In the present embodiment, the case where three disks D are fixed to the spindle motor 6 is described as an example. However, the number of disks D is not limited to three.

凹部9aの隅角部には、アクチュエータ5が取り付けられている。このアクチュエータ5には、ピボット軸10を介してキャリッジ11が取り付けられている。キャリッジ11は、基端部から先端部に向けてディスク面D1に沿って延設されたアーム部14と、基端部を介してアーム部14を片持ち状に支持する基部15とが、削り出し加工等により一体形成されたものである。
基部15は、直方体形状に形成されたものであり、ピボット軸10まわりを回動可能に支持されている。つまり、基部15はピボット軸10を介してアクチュエータ5に連結されており、このピボット軸10がキャリッジ11の回転中心となっている。
An actuator 5 is attached to the corner of the recess 9a. A carriage 11 is attached to the actuator 5 via a pivot shaft 10. The carriage 11 has an arm portion 14 extending along the disk surface D1 from the base end portion toward the tip portion, and a base portion 15 that supports the arm portion 14 in a cantilever manner via the base end portion. It is integrally formed by a drawing process or the like.
The base portion 15 is formed in a rectangular parallelepiped shape, and is supported so as to be rotatable around the pivot shaft 10. That is, the base portion 15 is connected to the actuator 5 via the pivot shaft 10, and the pivot shaft 10 is the rotation center of the carriage 11.

アーム部14は、基部15におけるアクチュエータ5が取り付けられた側面15aと反対側の側面(隅角部の反対側の側面)15bにおいて、基部15の上面の面方向(XY方向)と平行に延出する平板状のものであり、基部15の高さ方向(Z方向)に沿って3枚延出している。具体的には、アーム部14は、基端部から先端部に向かうにつれ先細るテーパ形状に形成され、各アーム部14間に、ディスクDが挟み込まれるように配置されている。つまり、アーム部14とディスクDとが、互い違いになるように配されており、アクチュエータ5の駆動によってアーム部14がディスクDの表面に平行な方向(XY方向)に移動可能とされている。なお、キャリッジ11及びヘッドジンバルアセンブリ12は、ディスクDの回転停止時にアクチュエータ5の駆動によって、ディスクD上から退避するようになっている。   The arm portion 14 extends in parallel with the surface direction (XY direction) of the upper surface of the base portion 15 on a side surface 15b opposite to the side surface 15a to which the actuator 5 is attached in the base portion 15 (side surface opposite to the corner portion). 3 pieces extending along the height direction (Z direction) of the base portion 15. Specifically, the arm portion 14 is formed in a tapered shape that tapers from the proximal end portion toward the distal end portion, and is arranged so that the disk D is sandwiched between the arm portions 14. That is, the arm portion 14 and the disk D are arranged so as to alternate with each other, and the arm portion 14 can be moved in a direction parallel to the surface of the disk D (XY direction) by driving the actuator 5. The carriage 11 and the head gimbal assembly 12 are retracted from the disk D by driving the actuator 5 when the rotation of the disk D is stopped.

(ヘッドジンバルアセンブリ)
ヘッドジンバルアセンブリ12は、後述する近接場光発生素子(光束伝播素子)26を有する近接場光ヘッドである記録再生ヘッド2を支持するものである。
(Head gimbal assembly)
The head gimbal assembly 12 supports the recording / reproducing head 2 which is a near-field light head having a near-field light generating element (light beam propagation element) 26 described later.

図2は、記録再生ヘッドを上向きにした状態でサスペンションを記録再生ヘッド側から見た斜視図である。図3は、記録再生ヘッドを上向きにした状態でジンバルを見た平面図である。図4は図3のA−A’線に沿う断面図であり、図5は記録再生ヘッドの拡大断面図である。
図2〜5に示すように、本実施形態のヘッドジンバルアセンブリ12は、上述した記録再生ヘッド2をディスクDから浮上させる機能を有しており、記録再生ヘッド2と、金属性材料により薄い板状に形成され、ディスク面D1に平行なXY方向に移動可能なサスペンション3と、記録再生ヘッド2を、ディスク面D1に平行で且つ互いに直交する2軸(X軸、Y軸)回りに回動自在な状態、すなわち2軸を中心として捻れることができるようにサスペンション3の下面に固定させるジンバル手段16と、を備えている。
FIG. 2 is a perspective view of the suspension as viewed from the recording / reproducing head side with the recording / reproducing head facing upward. FIG. 3 is a plan view of the gimbal with the recording / reproducing head facing upward. 4 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 3, and FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of the recording / reproducing head.
As shown in FIGS. 2 to 5, the head gimbal assembly 12 of the present embodiment has a function of floating the recording / reproducing head 2 from the disk D. The recording / reproducing head 2 and a thin plate made of a metallic material are used. The suspension 3 that is formed in a shape and is movable in the XY directions parallel to the disk surface D1 and the recording / reproducing head 2 are rotated about two axes (X axis, Y axis) that are parallel to the disk surface D1 and orthogonal to each other. Gimbal means 16 that is fixed to the lower surface of the suspension 3 so as to be twisted about the two axes in a free state is provided.

(サスペンション)
図2〜4に示すように、上述したサスペンション3は、上面視略四角状に形成されたベースプレート51と、ベースプレート51の先端側にヒンジ板52を介して連結された平面視略三角状のロードビーム53と、で構成されている。
(suspension)
As shown in FIGS. 2 to 4, the suspension 3 described above includes a base plate 51 formed in a substantially square shape in a top view and a load in a substantially triangular shape in a plan view connected to the front end side of the base plate 51 via a hinge plate 52. And a beam 53.

ベースプレート51は、ステンレス等の厚みの薄い金属材料によって構成されており、基端側には厚さ方向に貫通する開口51aが形成されている。そして、この開口51aを介してベースプレート51がアーム部14の先端に固定されている。
ベースプレート51の下面には、ステンレス等の金属材料により構成されたシート状のヒンジ板52が配置されている。このヒンジ板52は、ベースプレート51の下面の全面に亘って形成された平板状の板材であり、その先端部分はベースプレート51の先端からベースプレート51の長手方向(X方向)に沿って延出する延出部52aとして形成されている。この延出部52aは、ヒンジ板52の幅方向(Y方向)両端部から2本延出しており、その先端部分にロードビーム53が連結されている。
The base plate 51 is made of a thin metal material such as stainless steel, and an opening 51a penetrating in the thickness direction is formed on the base end side. And the base plate 51 is being fixed to the front-end | tip of the arm part 14 through this opening 51a.
A sheet-like hinge plate 52 made of a metal material such as stainless steel is disposed on the lower surface of the base plate 51. The hinge plate 52 is a flat plate material formed over the entire lower surface of the base plate 51, and its tip portion extends from the tip of the base plate 51 along the longitudinal direction (X direction) of the base plate 51. It is formed as a protruding portion 52a. Two extending portions 52a extend from both end portions in the width direction (Y direction) of the hinge plate 52, and a load beam 53 is connected to the tip portion.

ロードビーム53は、ベースプレート51と同様にステンレス等の厚みの薄い金属材料によって形成されており、その基端がベースプレート51の先端との間に間隙を有した状態でヒンジ板52に連結されている。
これにより、サスペンション3は、ベースプレート51とロードビーム53との間を中心に屈曲して、ディスク面D1に垂直なZ方向に向けて撓み易くなっている。
The load beam 53 is formed of a thin metal material such as stainless steel like the base plate 51, and the base end thereof is connected to the hinge plate 52 with a gap between the base end of the load beam 53 and the base plate 51. .
Thus, the suspension 3 is bent around the base plate 51 and the load beam 53, and is easily bent in the Z direction perpendicular to the disk surface D1.

また、サスペンション3上には、フレクシャ54が設けられている。
このフレクシャ54は、ステンレス等の金属材料により形成されたシート状のものであり、シート状に形成されることで厚さ方向に撓み変形可能に構成されている。また、このフレクシャ54は、ロードビーム53の先端側に固定され、外形が上面視略五角形状に形成されたジンバル17と、ジンバル17より幅狭に形成され、ジンバル17の基端からサスペンション3上に沿って延在する支持体18と、で構成されている。
A flexure 54 is provided on the suspension 3.
The flexure 54 is a sheet-like material formed of a metal material such as stainless steel, and is configured to be able to bend and deform in the thickness direction by being formed in a sheet shape. Further, the flexure 54 is fixed to the distal end side of the load beam 53, and the outer shape of the gimbal 17 is formed in a substantially pentagonal shape when viewed from above, and is formed narrower than the gimbal 17. And a support 18 extending along the line.

ジンバル17は、中間付近から先端にかけてディスク面D1に向けて厚さ方向に僅かながら反るように形成されている。そして、この反りが加わった先端側がロードビーム53に接触しないように、基端側から略中間付近にかけてロードビーム53に固定されている。また、この浮いた状態のジンバル17の先端側には、周囲がコ形状に刳り貫かれた切欠部59が形成され、この切欠部59に囲まれた部分には連結部17aによって片持ち状に支持されたパッド部17bが形成されている。
つまり、このパッド部17bは、連結部17aによってジンバル17の先端側から基端側に向けて張出し形成されており、その周囲に切欠部59を備えている。
The gimbal 17 is formed so as to slightly warp in the thickness direction from the vicinity of the middle to the tip toward the disk surface D1. Then, the warped end is fixed to the load beam 53 from the base end side to the vicinity of the middle so as not to contact the load beam 53. Further, a notch 59 having a U-shaped perforation is formed on the tip side of the floating gimbal 17, and a portion surrounded by the notch 59 is cantilevered by a connecting portion 17 a. A supported pad portion 17b is formed.
That is, the pad portion 17b is formed so as to project from the distal end side to the proximal end side of the gimbal 17 by the connecting portion 17a, and is provided with a notch 59 around the periphery.

これにより、パッド部17bはジンバル17の厚さ方向に撓みやすくなっており、このパッド部17bのみがサスペンション3の下面と平行になるように角度調整されている。そして、このパッド部17b上に上述した記録再生ヘッド2が載置固定されている。つまり、記録再生ヘッド2は、パッド部17bを介してロードビーム53にぶら下がった状態となっている。   Accordingly, the pad portion 17 b is easily bent in the thickness direction of the gimbal 17, and the angle is adjusted so that only the pad portion 17 b is parallel to the lower surface of the suspension 3. The recording / reproducing head 2 described above is placed and fixed on the pad portion 17b. That is, the recording / reproducing head 2 is hung from the load beam 53 via the pad portion 17b.

また、図3,4に示すように、ロードビーム53の先端には、パッド部17b及び記録再生ヘッド2の略中心に向かって突出する突起部19が形成されている。この突起部19の先端は、丸みを帯びた状態となっている。そして突起部19は、記録再生ヘッド2がディスクDから受ける風圧によりロードビーム53側に浮上したときに、パッド部17bの表面(上面)に点接触するようになっている。
つまり、突起部19は、ジンバル17のパッド部17bを介して、記録再生ヘッド2を支持するとともに、ディスク面D1に向けて(Z方向に向けて)記録再生ヘッド2に荷重を付与するようになっている。
なお、これら突起部19とパッド部17bを有するジンバル17とが、ジンバル手段16を構成している。
As shown in FIGS. 3 and 4, a protrusion 19 is formed at the tip of the load beam 53 so as to protrude toward the approximate center of the pad 17 b and the recording / reproducing head 2. The tip of the projection 19 is rounded. The protrusion 19 is in point contact with the surface (upper surface) of the pad portion 17b when the recording / reproducing head 2 floats to the load beam 53 side by the wind pressure received from the disk D.
That is, the protrusion 19 supports the recording / reproducing head 2 via the pad portion 17b of the gimbal 17 and applies a load to the recording / reproducing head 2 toward the disc surface D1 (toward the Z direction). It has become.
The protrusions 19 and the gimbal 17 having the pad portions 17b constitute the gimbal means 16.

(記録再生ヘッド)
図6は記録再生ヘッドの流出端側の側面を拡大した断面図である。
記録再生ヘッド2は、ディスクDとサスペンション3との間に配置された状態で、サスペンション3の下面にジンバル17を挟んで支持されている。
具体的に、記録再生ヘッド2は、図5,6に示すように、レーザ光Lから生成した近接場光Rを利用して回転するディスクDに各種の情報を記録再生するヘッドである。記録再生ヘッド2は、ディスク面D1から所定距離Hだけ浮上した状態でディスクDに対向配置されたスライダ20と、ディスクDに情報を記録する記録素子21と、ディスクDに記録されている情報を再生する再生素子22と、レーザ光Lを集光しながら伝播するとともに、近接場光Rに生成した後に外部に発する近接場光発生素子26と、近接場光発生素子26に向けてレーザ光Lを出射するレーザ光源29と、を備えている。
(Recording / reproducing head)
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of the side surface on the outflow end side of the recording / reproducing head.
The recording / reproducing head 2 is supported between the disk D and the suspension 3 with a gimbal 17 sandwiched between the lower surface of the suspension 3.
Specifically, as shown in FIGS. 5 and 6, the recording / reproducing head 2 is a head that records and reproduces various information on a rotating disk D using near-field light R generated from laser light L. The recording / reproducing head 2 includes a slider 20 that is opposed to the disk D in a state of floating a predetermined distance H from the disk surface D1, a recording element 21 that records information on the disk D, and information recorded on the disk D. The reproducing element 22 that reproduces the laser beam L while condensing the laser beam L, generates the near-field light R, emits the near-field light generating element 26 to the outside, and the laser light L toward the near-field light generating element 26. And a laser light source 29 that emits light.

スライダ20は、石英ガラス等の光透過性材料や、AlTiC(アルチック)等のセラミック等によって直方体状に形成されている。このスライダ20は、ディスクDに対向する対向面20aを有しており、後述するレーザマウント43を介して上述したパッド部17bに支持されている。   The slider 20 is formed in a rectangular parallelepiped shape from a light transmissive material such as quartz glass, a ceramic such as AlTiC (altic), or the like. The slider 20 has a facing surface 20a facing the disk D, and is supported by the pad portion 17b described above via a laser mount 43 described later.

また対向面20aには、回転するディスクDによって生じた空気流の粘性から、浮上するための圧力を発生させる凸条部20bが形成されている。この凸条部20bは、長手方向(X方向)に沿って延びるように形成され、レール状に並ぶように間隔を空けて左右(Y方向)に2つ形成されている。但し、凸条部20bはこの場合に限定されるものではなく、スライダ20をディスク面D1から離そうとする正圧と、スライダ20をディスク面D1に引き付けようとする負圧と、を調整して、スライダ20を最適な状態で浮上させるように設計されていれば、どのような凹凸形状でも構わない。なお、この凸条部20bの表面はABS(AIR BEARING SURFACE)20cと呼ばれている。   Further, on the facing surface 20a, there is formed a ridge portion 20b that generates a pressure for rising from the viscosity of the air flow generated by the rotating disk D. The ridges 20b are formed so as to extend along the longitudinal direction (X direction), and two are formed on the left and right (Y direction) at intervals so as to be arranged in a rail shape. However, the ridge portion 20b is not limited to this case, and adjusts the positive pressure for separating the slider 20 from the disk surface D1 and the negative pressure for attracting the slider 20 to the disk surface D1. As long as the slider 20 is designed to float in an optimal state, any uneven shape may be used. In addition, the surface of this protruding item | line part 20b is called ABS (AIR BEARING SURFACE) 20c.

そしてスライダ20は、この2つの凸条部20bによってディスク面D1から浮上する力を受けている。一方、サスペンション3はディスク面D1に垂直なZ方向に撓むようになっており、スライダ20の浮上力を吸収している。つまり、スライダ20は、浮上した際にサスペンション3によってディスク面D1側に押さえ付けられる力を受けている。よってスライダ20は、この両者の力のバランスによって、上述したようにディスク面D1から所定距離H離間した状態で浮上するようになっている。しかもスライダ20は、ジンバル手段16によってX軸回り及びY軸回りに回動するようになっているので、常に姿勢が安定した状態で浮上するようになっている。
なお、ディスクDの回転に伴って生じる空気流は、スライダ20の流入端側(サスペンション3のX方向基端側)から流入した後、ABS20cに沿って流れ、スライダ20の流出端側(サスペンション3のX方向先端側)から抜けている。
以下、スライダ20の流入端側(リーディングエッジ側)、つまり図5におけるX方向右側を「後方」とし、スライダ20の流出端側(トレイリングエッジ側)、つまり図5におけるX方向左側を「前方」とする。また、記録再生ヘッド2に対してディスク面D1側、つまり図5におけるZ方向下側を「下方」とし、その反対側、つまり図5におけるZ方向上側を「上方」とする。
The slider 20 receives a force that rises from the disk surface D1 by the two ridges 20b. On the other hand, the suspension 3 bends in the Z direction perpendicular to the disk surface D1, and absorbs the flying force of the slider 20. That is, the slider 20 receives a force pressed against the disk surface D1 side by the suspension 3 when it floats. Therefore, the slider 20 floats in a state of being separated from the disk surface D1 by a predetermined distance H as described above due to the balance between the forces of the two. Moreover, since the slider 20 is rotated around the X axis and the Y axis by the gimbal means 16, it always floats in a state where the posture is stable.
The air flow generated along with the rotation of the disk D flows from the inflow end side of the slider 20 (X direction base end side of the suspension 3), then flows along the ABS 20c, and flows out of the slider 20 (suspension 3 side). From the X direction tip side).
Hereinafter, the inflow end side (leading edge side) of the slider 20, that is, the right side in the X direction in FIG. 5 is “rear”, and the outflow end side (trailing edge side) of the slider 20, that is, the left side in the X direction in FIG. " Further, the disk surface D1 side with respect to the recording / reproducing head 2, that is, the lower side in the Z direction in FIG. 5 is defined as “lower”, and the opposite side, that is, the upper side in the Z direction in FIG.

記録素子21は、図5に示すディスク面D1に対向する対向面21aから記録磁界を発生させ、その記録磁界をディスクDに作用させて情報を記録する素子であり、図6に示すように、スライダ20の前方の端部に保持されている。この記録素子21には、スライダ20の前方の端面(前端面)に固定された補助磁極31と、補助磁極31の前方に配設されて磁気回路32を介して補助磁極31に接続された主磁極33と、磁気回路32を中心として磁気回路32の周囲を螺旋状に巻回するコイル34と、が備えられている。つまり、スライダ20の前端面から前方に向かって、補助磁極31、磁気回路32、コイル34、及び主磁極33の順で並べて配置されている。   The recording element 21 is an element that records information by generating a recording magnetic field from the facing surface 21a facing the disk surface D1 shown in FIG. 5 and acting on the disk D, as shown in FIG. It is held at the front end of the slider 20. The recording element 21 includes an auxiliary magnetic pole 31 fixed to the front end surface (front end surface) of the slider 20, and a main magnetic pole 32 disposed in front of the auxiliary magnetic pole 31 and connected to the auxiliary magnetic pole 31 via a magnetic circuit 32. A magnetic pole 33 and a coil 34 spirally wound around the magnetic circuit 32 around the magnetic circuit 32 are provided. That is, the auxiliary magnetic pole 31, the magnetic circuit 32, the coil 34, and the main magnetic pole 33 are arranged in this order from the front end surface of the slider 20 toward the front.

両磁極31,33及び磁気回路32は、磁束密度が高い高飽和磁束密度(Bs)材料(例えば、CoNiFe合金、CoFe合金等)により形成されている。また、コイル34は、ショートしないように、隣り合うコイル線間、磁気回路32との間、両磁極31,33との間に隙間が空くように配置されており、この状態で絶縁体35によってモールドされている。そして、コイル34は、情報に応じて変調された電流が制御部8(図1参照)から供給されるようになっている。すなわち、磁気回路32及びコイル34は、全体として電磁石を構成している。また、上述した主磁極33、補助磁極31及び絶縁体35のディスク面D1に対向する各対向面33a,31a,35a(Z方向端面)は、スライダ20のABS20cとそれぞれ面一に形成されている。上述した構成の記録素子21では、コイル34に電流が供給されることで、磁力線が主磁極33の対向面33aから出て補助磁極31の対向面31aに入る記録磁界が発生する。   Both the magnetic poles 31 and 33 and the magnetic circuit 32 are made of a high saturation magnetic flux density (Bs) material (for example, CoNiFe alloy, CoFe alloy, etc.) having a high magnetic flux density. Further, the coil 34 is arranged so that there is a gap between adjacent coil wires, between the magnetic circuit 32 and between the magnetic poles 31 and 33 so as not to be short-circuited. Molded. The coil 34 is supplied with a current modulated according to information from the control unit 8 (see FIG. 1). That is, the magnetic circuit 32 and the coil 34 constitute an electromagnet as a whole. Further, the opposing surfaces 33a, 31a, and 35a (Z direction end surfaces) facing the disk surface D1 of the main magnetic pole 33, the auxiliary magnetic pole 31, and the insulator 35 described above are formed flush with the ABS 20c of the slider 20, respectively. . In the recording element 21 configured as described above, when a current is supplied to the coil 34, a recording magnetic field is generated from the opposing surface 33 a of the main magnetic pole 33 and entering the opposing surface 31 a of the auxiliary magnetic pole 31.

図6に示すように、近接場光発生素子26は、ディスク面D1に対向する対向面26aから近接場光Rを発生させる素子であり、記録素子21の前方(図6に示す主磁極33に対する補助磁極31と反対側)に配設されている。この近接場光発生素子26は、先端をディスク面D1に向けて上下に延設されたコア23と、コア23の下端部における主磁極33側の側面(側面23g)に密着して配置された金属膜(近接場光発生部)71と、コア23の下端部を被覆する遮光膜27と、コア23の側面に密着してコア23を封止するクラッド24と、を備えている。   As shown in FIG. 6, the near-field light generating element 26 is an element that generates near-field light R from the facing surface 26a facing the disk surface D1, and is in front of the recording element 21 (with respect to the main magnetic pole 33 shown in FIG. 6). It is disposed on the side opposite to the auxiliary magnetic pole 31. The near-field light generating element 26 is disposed in close contact with the core 23 that extends upward and downward with the front end facing the disk surface D1, and the side surface (side surface 23g) on the main magnetic pole 33 side at the lower end of the core 23. A metal film (near-field light generating part) 71, a light shielding film 27 that covers the lower end of the core 23, and a clad 24 that is in close contact with the side surface of the core 23 and seals the core 23 are provided.

図7はコア及び金属膜の斜視図、図8はコア及び金属膜の断面図であり、(a)は図7のB−B線、(b)は図7のC−C線、(c)は図6のD−D線に沿う断面図である。
図7,8に示すように、コア23は、上端側(一端側)から入射されたレーザ光Lを下端側(他端側)に向けて集光しながら伝播させる光束伝播部材である。このコア23は、上端側から下端側にかけて漸次絞り成形され、レーザ光Lを内部で徐々に集光させながら伝播させることができるようになっている。具体的に説明すると、コア23は、上側から光束集光部23aと、近接場光生成部23bと、を有している。
7 is a perspective view of the core and the metal film, FIG. 8 is a cross-sectional view of the core and the metal film, (a) is a BB line in FIG. 7, (b) is a CC line in FIG. ) Is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG.
As shown in FIGS. 7 and 8, the core 23 is a light flux propagating member that propagates the laser light L incident from the upper end side (one end side) while condensing it toward the lower end side (the other end side). The core 23 is gradually drawn from the upper end side to the lower end side so that the laser beam L can be propagated while gradually condensing inside. More specifically, the core 23 includes a light beam condensing unit 23a and a near-field light generating unit 23b from the upper side.

光束集光部23aは、上端側から下端側に向かうZ方向に直交する断面積(XY方向の断面積)が漸次減少するように絞り成形された部分であり、導入されたレーザ光Lを集光させながら下方に向けて伝播させている。つまり、光束集光部23aに導入されたレーザ光Lのスポットサイズを、徐々に小さいサイズに絞ることができるようになっている。具体的に、光束集光部23aは、上端側においてZ方向から見た断面形状(入射側端面)が台形状に形成された台形部41(図8(c)参照)と、台形部41の下端部に一体的に連設されZ方向から見た断面形状が三角形状に形成された三角形部42(図8(b)参照)と、で構成されている。   The light beam condensing unit 23a is a portion formed by drawing so that a cross-sectional area (cross-sectional area in the XY direction) perpendicular to the Z direction from the upper end side toward the lower end side gradually decreases, and collects the introduced laser light L. The light is propagated downward while shining. That is, the spot size of the laser beam L introduced into the light beam condensing unit 23a can be gradually reduced to a smaller size. Specifically, the light beam condensing unit 23a includes a trapezoidal part 41 (see FIG. 8C) having a trapezoidal cross-sectional shape (incident side end surface) viewed from the Z direction on the upper end side, and a trapezoidal part 41 A triangular portion 42 (see FIG. 8B) that is integrally connected to the lower end portion and has a triangular cross-sectional shape viewed from the Z direction.

図7,図8(c)に示すように、台形部41は、左右方向を長手方向(Y方向)、前後方向(X方向)を短手方向とした扁平形状に形成されている。具体的に、台形部41は、後側の側面23gと、側面23gの左右両端(Y方向両端)から再生素子22に向かって先細るように延在する一対の側面23kと、側面23gと平行に延在するとともに、一対の側面23k同士を掛け渡す側面23jと、で構成されている。台形部41は、下端側に向かうに従い両底面(後側の側面23g及び前側の側面23j)の長さ(Y方向における幅)が漸次減少するように形成されている。また、台形部41の上端面41a(コア23の上端面)は、スライダ20の上面と面一に形成され、外部に向けて露出している。   As shown in FIGS. 7 and 8C, the trapezoidal portion 41 is formed in a flat shape in which the left-right direction is the longitudinal direction (Y direction) and the front-rear direction (X direction) is the short direction. Specifically, the trapezoidal portion 41 is parallel to the rear side surface 23g, a pair of side surfaces 23k extending from the left and right ends (Y direction both ends) of the side surface 23g so as to taper toward the reproducing element 22, and the side surface 23g. And a side surface 23j that spans a pair of side surfaces 23k. The trapezoidal portion 41 is formed such that the length (width in the Y direction) of both bottom surfaces (the rear side surface 23g and the front side surface 23j) gradually decreases toward the lower end side. The upper end surface 41a of the trapezoidal portion 41 (the upper end surface of the core 23) is formed flush with the upper surface of the slider 20, and is exposed to the outside.

図7,図8(b)に示すように、三角形部42は、底面及び一対の斜面が上述した側面23g及び側面23kにより構成されている。三角形部42は、下端側に向けて底面(側面23g)の長さ、及び斜面(側面23k)の長さが漸次減少するように形成されている。   As shown in FIGS. 7 and 8 (b), the triangular portion 42 has a bottom surface and a pair of inclined surfaces constituted by the side surface 23g and the side surface 23k described above. The triangular portion 42 is formed so that the length of the bottom surface (side surface 23g) and the length of the inclined surface (side surface 23k) gradually decrease toward the lower end side.

図9は図7のE部拡大図である。また、図10は図6の要部拡大図であり、図11は図10のF矢視図である。
図7〜11に示すように、近接場光生成部23bは、光束集光部23aにおける三角形部42の下端部から下方に向けてさらに絞り成形された部分である。近接場光生成部23bはZ方向から見た断面形状が三角形状に形成されている。具体的に、近接場光生成部23bは、底面が側面23gにより構成され、この側面23gが主磁極33の先端部分33bに密着している。近接場光生成部23bは、側面23gの両端(Y方向両端)から再生素子22に向かって(X方向に向かって)一対の側面23dが形成されている。側面23dは、レーザ光Lの光軸(Z方向)に対して傾斜した状態で延在しており、これにより近接場光生成部23bは下端側が尖形した状態となっている。そして、近接場光生成部23bの下端は、スライダ20のABS20cよりも上方に位置しており、クラッド24により覆われて、外部には露出していない。このように、コア23において、台形部41の上端面41aがレーザ光源29から出射されるレーザ光Lの入射端を、近接場光生成部23bの下端部がレーザ光Lの出射端を構成している。
FIG. 9 is an enlarged view of a portion E in FIG. 10 is an enlarged view of the main part of FIG. 6, and FIG. 11 is a view taken in the direction of arrow F in FIG.
As shown in FIGS. 7-11, the near-field light generation part 23b is a part further drawn from the lower end part of the triangular part 42 in the light beam condensing part 23a downward. The near-field light generator 23b has a triangular cross-section when viewed from the Z direction. Specifically, the near-field light generator 23 b has a bottom surface constituted by a side surface 23 g, and the side surface 23 g is in close contact with the tip portion 33 b of the main magnetic pole 33. The near-field light generator 23b is formed with a pair of side surfaces 23d from both ends (both ends in the Y direction) of the side surface 23g toward the reproducing element 22 (in the X direction). The side surface 23d extends in a state inclined with respect to the optical axis (Z direction) of the laser light L, whereby the near-field light generating unit 23b is in a state of being pointed on the lower end side. The lower end of the near-field light generator 23b is located above the ABS 20c of the slider 20, is covered with the clad 24, and is not exposed to the outside. Thus, in the core 23, the upper end surface 41a of the trapezoidal portion 41 constitutes the incident end of the laser light L emitted from the laser light source 29, and the lower end portion of the near-field light generating portion 23b constitutes the emission end of the laser light L. ing.

クラッド24は、図6,7に示すように、コア23よりも屈折率が低い材料で形成され、側面23d,23g,23j,23kに密着して、コア23を封止するモールド部材である。また、クラッド24は、コア23の上端面41aを外部に露出させる一方、コア23の下端を内部に封止している。具体的に、クラッド24は、コア23と記録素子21(主磁極33)との間でコア23を後側から覆うように形成された第1クラッド24aと、コア23と再生素子22との間でコア23を前側から覆うように形成された第2クラッド24bと、を備えている。このように、第1クラッド24a及び第2クラッド24bがコア23の側面23d,23g,23j,23kに密着しているので、コア23とクラッド24との間に隙間が生じないようになっている。   As shown in FIGS. 6 and 7, the clad 24 is a mold member that is formed of a material having a lower refractive index than the core 23, is in close contact with the side surfaces 23 d, 23 g, 23 j, and 23 k and seals the core 23. The clad 24 exposes the upper end surface 41a of the core 23 to the outside, and seals the lower end of the core 23 inside. Specifically, the clad 24 includes a first clad 24 a formed so as to cover the core 23 from the rear side between the core 23 and the recording element 21 (main magnetic pole 33), and between the core 23 and the reproducing element 22. And a second clad 24b formed so as to cover the core 23 from the front side. Thus, since the first clad 24 a and the second clad 24 b are in close contact with the side surfaces 23 d, 23 g, 23 j, and 23 k of the core 23, no gap is generated between the core 23 and the clad 24. .

なお、クラッド24及びコア23として使用される材料の組み合わせの一例を記載すると、例えば、石英(SiO2)でコア23を形成し、フッ素をドープした石英でクラッド24を形成する組み合わせが考えられる。この場合には、レーザ光Lの波長が400nmのときに、コア23の屈折率が1.47となり、クラッド24の屈折率が1.47未満となるので好ましい組み合わせである。
また、ゲルマニウムをドープした石英でコア23を形成し、石英(SiO2)でクラッド24を形成する組み合わせも考えられる。この場合には、レーザ光Lの波長が400nmのときに、コア23の屈折率が1.47より大きくなり、クラッド24の屈折率が1.47となるのでやはり好ましい組み合わせである。
特に、コア23とクラッド24との屈折率差が大きいほど、コア23内にレーザ光Lを閉じ込める力が大きくなるので、コア23に酸化タンタル(Ta25:波長が550nmのときに屈折率が2.16)を用い、クラッド24に石英やアルミナ(Al)等を用いて、両者の屈折率差を大きくすることがより好ましい。また、赤外領域のレーザ光Lを利用する場合には、赤外光に対して透明な材料であるシリコン(Si:屈折率が約4)でコア23を形成することも有効である。
An example of a combination of materials used for the clad 24 and the core 23 is described, for example, a combination in which the core 23 is formed of quartz (SiO 2 ) and the clad 24 is formed of quartz doped with fluorine. In this case, when the wavelength of the laser beam L is 400 nm, the refractive index of the core 23 is 1.47 and the refractive index of the clad 24 is less than 1.47, which is a preferable combination.
A combination in which the core 23 is formed of quartz doped with germanium and the clad 24 is formed of quartz (SiO 2 ) is also conceivable. In this case, when the wavelength of the laser beam L is 400 nm, the refractive index of the core 23 becomes larger than 1.47 and the refractive index of the cladding 24 becomes 1.47, which is also a preferable combination.
In particular, as the difference in refractive index between the core 23 and the clad 24 increases, the force for confining the laser light L in the core 23 increases. Therefore, when the core 23 has tantalum oxide (Ta 2 O 5 : wavelength is 550 nm) 2.16) and quartz or alumina (Al 2 O 3 ) or the like is used for the clad 24 to increase the refractive index difference between the two. In addition, when using the laser light L in the infrared region, it is also effective to form the core 23 with silicon (Si: refractive index is about 4) which is a material transparent to infrared light.

図7〜11に示すように、コア23と第1クラッド24aとの間には、金属膜71が形成されている。金属膜71は、コア23内を伝播してきたレーザ光Lから近接場光Rを発生させ、近接場光Rを近接場光発生素子26の下端側とディスクDとの間に局在化させるものであり、例えば金(Au)や白金(Pt)等により構成されている。また、金属膜71における後側の側面71a(図10参照)は、第1クラッド24aから露出する主磁極33の先端部分33bに接している。   As shown in FIGS. 7 to 11, a metal film 71 is formed between the core 23 and the first cladding 24 a. The metal film 71 generates near-field light R from the laser light L propagating through the core 23 and localizes the near-field light R between the lower end side of the near-field light generating element 26 and the disk D. For example, it is composed of gold (Au), platinum (Pt), or the like. Further, the rear side surface 71a (see FIG. 10) of the metal film 71 is in contact with the tip portion 33b of the main magnetic pole 33 exposed from the first cladding 24a.

ここで、金属膜71は、コア23における近接場光生成部23bの側面23g上に配置された基部72と、基部72から下方に向けて延在する延在部73と、を有している。
基部72は、X方向から見て三角形状のものであり、Y方向における幅がコア23よりも広く形成された第1基部74と、第1基部74の中央部から段差部78を介して前方(コア23側)に向けて立設された第2基部75と、が連設されている。
第1基部74は、図7,9に示すように、Z方向において、上端側が近接場光生成部23bと光束集光部23aとの境界部分に位置するとともに、下端側がコア23の下端と同位置に位置している。また、第1基部74は、前方に向かうに従いY方向における幅が漸次小さくなるように形成されている。具体的に、第1基部74におけるY方向両側の側面74a(図9参照)は、コア23の側面23dと平行な傾斜面に形成されている。すなわち、第1基部74におけるY方向両端部の角度(側面71aと側面74aとのなす角度)は、近接場光生成部23bにおけるY方向両端部の角度(側面23gと側面23dとのなす角度)と同等に形成されている。
Here, the metal film 71 has a base portion 72 disposed on the side surface 23g of the near-field light generating portion 23b in the core 23, and an extending portion 73 extending downward from the base portion 72. .
The base portion 72 has a triangular shape as viewed from the X direction, and a first base portion 74 having a width in the Y direction wider than that of the core 23, and a front portion through a stepped portion 78 from the center portion of the first base portion 74. A second base 75 that is erected toward the core 23 side is continuously provided.
As shown in FIGS. 7 and 9, the first base 74 is located at the boundary between the near-field light generator 23 b and the light beam collector 23 a in the Z direction, and the lower end is the same as the lower end of the core 23. Located in position. Further, the first base 74 is formed so that the width in the Y direction gradually decreases toward the front. Specifically, side surfaces 74a (see FIG. 9) on both sides in the Y direction of the first base portion 74 are formed in inclined surfaces parallel to the side surface 23d of the core 23. That is, the angle between both ends in the Y direction in the first base 74 (the angle formed between the side surface 71a and the side surface 74a) is the angle between both ends in the Y direction in the near-field light generating unit 23b (the angle formed between the side surface 23g and the side surface 23d). It is formed in the same way.

段差部78は、XY方向に沿う平坦面であり、そのY方向の内側に第2基部75が形成されている。
第2基部75は、Z方向における長さが第1基部74と同等に形成されるとともに、Y方向における幅が第1基部74よりも小さく形成され、XY方向における外形が近接場光生成部23bの側面23gと同等に形成されている。また、第2基部75は、前方に向かうに従いY方向における幅が漸次小さくなるように形成されている。具体的に、第2基部75におけるY方向両側の側面75a(図9参照)は、コア23の側面23dと同一面上に配置された傾斜面に形成されている。すなわち、第2基部75におけるY方向両端部の角度(側面71aと側面75aとのなす角度)は、近接場光生成部23bにおけるY方向両端部の角度(側面23gと側面23dとのなす角度)と同等に形成されている。
The stepped portion 78 is a flat surface along the XY direction, and a second base 75 is formed inside the Y direction.
The second base 75 is formed to have a length in the Z direction equivalent to that of the first base 74, a width in the Y direction smaller than that of the first base 74, and an outer shape in the XY direction having a near-field light generation unit 23b. It is formed equivalent to the side surface 23g. Further, the second base 75 is formed so that the width in the Y direction gradually becomes smaller toward the front. Specifically, the side surfaces 75a (see FIG. 9) on both sides in the Y direction of the second base portion 75 are formed on inclined surfaces arranged on the same plane as the side surface 23d of the core 23. That is, the angle between both ends in the Y direction in the second base 75 (the angle formed between the side surface 71a and the side surface 75a) is the angle between both ends in the Y direction in the near-field light generating unit 23b (the angle formed between the side surface 23g and the side surface 23d). It is formed in the same way.

図7〜11に示すように、延在部73は、X方向における厚さが第1基部74と同等に形成され、第1基部74の下端部(第1基部74の頂部)から下方に向けて延在するX方向から見て長方形状のものであり、その下端部が近接場光発生素子26の対向面26aにおいて外部に露出している。すなわち、延在部73は、Z方向において、上端部が近接場光生成部23bの下端と同位置に配置され、下端部がスライダ20のABS20cと面一に形成されている。また、延在部73は、Y方向における幅が主磁極33の先端部分33bよりも狭く形成されている。   As shown in FIGS. 7 to 11, the extending portion 73 has a thickness in the X direction that is equal to that of the first base portion 74, and extends downward from the lower end portion of the first base portion 74 (the top portion of the first base portion 74). The lower end portion is exposed to the outside on the facing surface 26 a of the near-field light generating element 26. That is, the extending portion 73 has an upper end portion disposed at the same position as the lower end of the near-field light generating portion 23 b in the Z direction, and the lower end portion is formed flush with the ABS 20 c of the slider 20. Further, the extending portion 73 is formed so that the width in the Y direction is narrower than the tip portion 33 b of the main magnetic pole 33.

延在部73におけるY方向の中央部には、前方(コア23側)に向けて立設された突起部76が形成されている。突起部76は、Z方向から見て前方に向かうに従い先細る三角形状に形成され、その頂部77の位置が上述したコア23の後側の側面23gとX方向において同位置に配置されている。
また、突起部76は、Z方向において、延在部73の全域に亘って形成されている。具体的に、突起部76は、上端部が第2基部75の下端部に連設されるとともに、下端部がスライダ20のABS20cと面一に形成されて、外部に露出している。したがって、上述した頂部77は、第2基部75の下端部からZ方向に沿って稜線状に延在している。また、頂部77の稜線は、X方向から見て近接場光生成部23bの稜線(側面23d同士のなす稜線)と同一直線上に配置されている。
A protruding portion 76 that is erected toward the front (on the core 23 side) is formed at the center of the extending portion 73 in the Y direction. The projecting portion 76 is formed in a triangular shape that tapers toward the front as viewed from the Z direction, and the position of the top portion 77 is arranged at the same position in the X direction as the side surface 23g on the rear side of the core 23 described above.
Further, the protruding portion 76 is formed over the entire extending portion 73 in the Z direction. Specifically, the protrusion 76 has an upper end continuous to the lower end of the second base 75 and a lower end formed flush with the ABS 20 c of the slider 20 and exposed to the outside. Therefore, the top 77 described above extends from the lower end of the second base 75 in a ridgeline shape along the Z direction. Further, the ridgeline of the top portion 77 is arranged on the same straight line as the ridgeline of the near-field light generating unit 23b (ridgeline formed by the side surfaces 23d) when viewed from the X direction.

遮光膜27は、外部から近接場光生成部23bに入射される光を遮断するとともに、コア23内を伝播するレーザ光Lがコア23から漏れるのを防止するためのものであり、アルミニウム(Al)等の高反射率の材料からなる。この遮光膜27は、近接場光生成部23bの側面23dを覆うように形成されている。すなわち、近接場光生成部23bは、側面23gが上述した金属膜71に覆われ、側面23dが遮光膜27に覆われている。すなわち、上述した金属膜71は、X方向から見て基部72が遮光膜27に覆われており、延在部73は遮光膜27の下端部よりも下方に延在している。なお、遮光膜27は、X方向から見て金属膜71の全域を覆うように形成しても構わない。   The light shielding film 27 blocks light incident on the near-field light generation unit 23b from the outside and prevents the laser light L propagating through the core 23 from leaking from the core 23. Aluminum (Al ) And the like. The light shielding film 27 is formed so as to cover the side surface 23d of the near-field light generating unit 23b. That is, the near-field light generating unit 23 b has the side surface 23 g covered with the metal film 71 described above and the side surface 23 d covered with the light shielding film 27. That is, in the metal film 71 described above, the base portion 72 is covered with the light shielding film 27 when viewed from the X direction, and the extending portion 73 extends below the lower end portion of the light shielding film 27. The light shielding film 27 may be formed so as to cover the entire region of the metal film 71 when viewed from the X direction.

図5,6に示すように、再生素子22は、ディスクDの垂直記録層d2(図5参照)から漏れ出ている磁界の大きさに応じて電気抵抗が変換する磁気抵抗効果膜であり、近接場光発生素子26を間に挟んで記録素子21とは反対側のクラッド24(第2クラッド24b)の前端面に形成されている。この再生素子22には、後述する電気配線56を介して制御部8からバイアス電流が供給されている。これにより制御部8は、ディスクDから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することでき、この電圧の変化から信号の再生を行うことができるようになっている。   As shown in FIGS. 5 and 6, the reproducing element 22 is a magnetoresistive film whose electric resistance is converted according to the magnitude of the magnetic field leaking from the perpendicular recording layer d2 (see FIG. 5) of the disk D. It is formed on the front end face of the clad 24 (second clad 24 b) opposite to the recording element 21 with the near-field light generating element 26 interposed therebetween. A bias current is supplied to the reproducing element 22 from the control unit 8 via an electric wiring 56 described later. Thus, the control unit 8 can detect a change in the magnetic field leaking from the disk D as a change in voltage, and can reproduce a signal from the change in voltage.

図5,6に示すように、上述した記録再生ヘッド2のスライダ20には、レーザ光源29が搭載されている。レーザ光源29は、スライダ20の上面に固定されたレーザマウント43と、レーザマウント43の前端面43aに固定された半導体レーザチップ44と、を有している。   As shown in FIGS. 5 and 6, a laser light source 29 is mounted on the slider 20 of the recording / reproducing head 2 described above. The laser light source 29 has a laser mount 43 fixed to the upper surface of the slider 20 and a semiconductor laser chip 44 fixed to the front end surface 43 a of the laser mount 43.

レーザマウント43は、例えばスライダ20と同一材料により構成され、XY方向における外形がスライダ20と同等に形成された板状の部材であり、上面側がジンバル17の後述するパッド部17bに固定されている。すなわち、スライダ20は、パッド部17bとの間にレーザマウント43を挟持した状態でパッド部17bに固定されている。なお、図示しないがレーザマウント43には、後述する電気配線56(図5参照)が固定されており、レーザマウント43の前端面43aに形成された図示しない電極パッドに電気的に接続されている。   The laser mount 43 is a plate-like member made of, for example, the same material as that of the slider 20 and having an outer shape in the XY directions that is equivalent to that of the slider 20, and the upper surface side is fixed to a pad portion 17 b described later of the gimbal 17. . That is, the slider 20 is fixed to the pad portion 17b with the laser mount 43 sandwiched between the slider 20 and the pad portion 17b. Although not shown, an electrical wiring 56 (see FIG. 5), which will be described later, is fixed to the laser mount 43, and is electrically connected to an electrode pad (not shown) formed on the front end surface 43a of the laser mount 43. .

半導体レーザチップ44は、レーザマウント43の前端面43aに形成された図示しない電極パッド上に実装されている。この場合、半導体レーザチップ44は、レーザ光Lの出射側端面44aを下方に向けた状態で、かつコア23の台形部41の上端面41aに対向するように配置されている。なお、本実施形態の半導体レーザチップ44は、スポット形状がX方向を短軸方向、Y方向を長軸方向とした楕円形状のレーザ光Lを出射する。また、半導体レーザチップ44の出射側端面44aと、台形部41の上端面41aとの間に間隔Kを有しているが、この間隔K内にコア23と同等の屈折率を有するオイル等を介在させても構わない。なお、上述した台形部41の上端面41aの形状は、半導体レーザチップ44から出射されて上端面41aに入射する時点のレーザ光Lのスポット形状に合わせて形成されている。   The semiconductor laser chip 44 is mounted on an electrode pad (not shown) formed on the front end face 43 a of the laser mount 43. In this case, the semiconductor laser chip 44 is disposed so that the emission-side end face 44 a of the laser light L faces downward and faces the upper end face 41 a of the trapezoidal portion 41 of the core 23. The semiconductor laser chip 44 of the present embodiment emits an elliptical laser beam L having a spot shape in which the X direction is the minor axis direction and the Y direction is the major axis direction. In addition, there is a gap K between the emission side end face 44a of the semiconductor laser chip 44 and the upper end face 41a of the trapezoidal portion 41. Oil or the like having a refractive index equivalent to that of the core 23 is placed in this gap K. It may be interposed. The shape of the upper end surface 41a of the trapezoidal portion 41 described above is formed in accordance with the spot shape of the laser light L when it is emitted from the semiconductor laser chip 44 and incident on the upper end surface 41a.

なお、本実施形態のディスクDは、図5に示すように、ディスク面D1に垂直な方向に磁化容易軸を有する垂直記録層d2と、高透磁率材料からなる軟磁性層d3との少なくとも2層で構成される垂直2層膜ディスクDを使用する。このようなディスクDとしては、例えば、基板d1上に、軟磁性層d3と、中間層d4と、垂直記録層d2と、保護層d5と、潤滑層d6とを順に成膜したものを使用する。
基板d1としては、例えば、アルミ基板やガラス基板等である。軟磁性層d3は、高透磁率層である。中間層d4は、垂直記録層d2の結晶制御層である。垂直記録層d2は、垂直異方性磁性層となっており、例えばCoCrPt系合金が使用される。保護層d5は、垂直記録層d2を保護するためのもので、例えばDLC(ダイヤモンド・ライク・カーボン)膜が使用される。潤滑層d6は、例えば、フッ素系の液体潤滑材が使用される。
As shown in FIG. 5, the disk D of the present embodiment has at least two of a perpendicular recording layer d2 having an easy axis of magnetization in a direction perpendicular to the disk surface D1 and a soft magnetic layer d3 made of a high magnetic permeability material. A vertical two-layer film disc D composed of layers is used. As such a disk D, for example, a disk in which a soft magnetic layer d3, an intermediate layer d4, a perpendicular recording layer d2, a protective layer d5, and a lubricating layer d6 are sequentially formed on a substrate d1 is used. .
Examples of the substrate d1 include an aluminum substrate and a glass substrate. The soft magnetic layer d3 is a high magnetic permeability layer. The intermediate layer d4 is a crystal control layer of the perpendicular recording layer d2. The perpendicular recording layer d2 is a perpendicular anisotropic magnetic layer, and for example, a CoCrPt alloy is used. The protective layer d5 is for protecting the perpendicular recording layer d2, and for example, a DLC (Diamond Like Carbon) film is used. For the lubrication layer d6, for example, a fluorine-based liquid lubricant is used.

ところで、図1に示すように、キャリッジ11の基部15における側面15cには、ターミナル基板55が配置されている。このターミナル基板55は、ハウジング9に設けられた制御部8と記録再生ヘッド2とを電気的に接続する際の中継点となるものであり、その表面には、各種制御回路(不図示)が形成されている。
制御部8とターミナル基板55とは、可撓性を有するフラットケーブル4により電気的に接続されている一方、ターミナル基板55と記録再生ヘッド2とは、電気配線56により接続されている。この電気配線56は、各キャリッジ11毎に設けられた記録再生ヘッド2に対応して3組設けられており、フラットケーブル4を介して制御部8から出力された信号に情報に応じて変調した電流が、電気配線56を介して記録再生ヘッド2に供給されるようになっている。
By the way, as shown in FIG. 1, a terminal substrate 55 is disposed on the side surface 15 c of the base portion 15 of the carriage 11. The terminal board 55 serves as a relay point when the control unit 8 provided in the housing 9 and the recording / reproducing head 2 are electrically connected. Various control circuits (not shown) are provided on the surface of the terminal board 55. Is formed.
The controller 8 and the terminal board 55 are electrically connected by a flexible flat cable 4, while the terminal board 55 and the recording / reproducing head 2 are connected by an electric wiring 56. Three sets of the electrical wiring 56 are provided corresponding to the recording / reproducing heads 2 provided for each carriage 11, and a signal output from the control unit 8 via the flat cable 4 is modulated in accordance with information. An electric current is supplied to the recording / reproducing head 2 via the electric wiring 56.

電気配線56は、ターミナル基板55の表面からアーム部14の側面を通って、アーム部14上に引き回されている。具体的には、図2〜4に示すように、電気配線56は、アーム部14及びサスペンション3上において、フレクシャ54の支持体18上に配置されており、支持体18を間に挟んだ状態でサスペンション3の先端まで引き回されている。   The electrical wiring 56 is routed on the arm portion 14 from the surface of the terminal board 55 through the side surface of the arm portion 14. Specifically, as shown in FIGS. 2 to 4, the electrical wiring 56 is disposed on the support 18 of the flexure 54 on the arm portion 14 and the suspension 3, and the support 18 is sandwiched therebetween. Thus, the suspension 3 is routed to the tip.

そして、電気配線56は、サスペンション3の先端(ジンバル17の中間位置)において再生素子22及び記録素子21に電流を供給するための第1電気配線57と、レーザ光源29に電流を供給するための第2電気配線58と、に分岐している。
具体的に、第1電気配線57は、電気配線56の先端側における分岐地点において、ジンバル17の外周部分に向けて屈曲されており、ジンバル17の外周部分(切欠部59の外側)から引き回されている。そして、切欠部59の外側から引き回された第1電気配線57は、連結部17a上を通って記録再生ヘッド2の前端面側に接続されている。すなわち、第1電気配線57は、スライダ20の前端面側に設けられた再生素子22と記録素子21とのそれぞれに対して、記録再生ヘッド2の外部から直接接続されている。
The electric wiring 56 includes a first electric wiring 57 for supplying a current to the reproducing element 22 and the recording element 21 at the tip of the suspension 3 (an intermediate position of the gimbal 17), and a current for supplying a current to the laser light source 29. Branches to the second electrical wiring 58.
Specifically, the first electric wiring 57 is bent toward the outer peripheral portion of the gimbal 17 at a branch point on the distal end side of the electric wiring 56, and is routed from the outer peripheral portion of the gimbal 17 (outside the notch 59). Has been. The first electrical wiring 57 routed from the outside of the notch 59 is connected to the front end face side of the recording / reproducing head 2 through the connecting portion 17a. That is, the first electric wiring 57 is directly connected from the outside of the recording / reproducing head 2 to the reproducing element 22 and the recording element 21 provided on the front end face side of the slider 20.

一方、第2電気配線58は、上述した分岐地点からジンバル17の長手方向(X方向)に沿って延在しており、ジンバル17の切欠部59を跨いで記録再生ヘッド2の後端面側から、レーザマウント43に直接接続されている。そして、第2電気配線58は、レーザマウント43の前端面43aに形成された電極パッドに接続され、この電極パッドを介して半導体レーザチップ44に電流を供給するようになっている。また、第2電気配線58は、分岐地点においてジンバル17の下面から離間されており、分岐地点から記録再生ヘッド2の前端面側に向かうにつれ、パッド部17bとジンバル17との間を架け渡すように僅かながら浮いた状態で延在している。つまり、ジンバル17の下面において、第2電気配線58は略直線的(曲率半径が略無限大)に延在した状態で、記録再生ヘッド2の幅方向(Y方向)中央部から記録再生ヘッド2の後側に引き回されている。   On the other hand, the second electric wiring 58 extends along the longitudinal direction (X direction) of the gimbal 17 from the branch point described above, and straddles the notch 59 of the gimbal 17 from the rear end surface side of the recording / reproducing head 2. The laser mount 43 is directly connected. The second electrical wiring 58 is connected to an electrode pad formed on the front end surface 43a of the laser mount 43, and supplies a current to the semiconductor laser chip 44 through this electrode pad. Further, the second electric wiring 58 is separated from the lower surface of the gimbal 17 at the branch point, and spans between the pad portion 17b and the gimbal 17 as it goes from the branch point toward the front end surface side of the recording / reproducing head 2. It extends in a slightly floating state. That is, on the lower surface of the gimbal 17, the second electric wiring 58 extends substantially linearly (the radius of curvature is substantially infinite), and the recording / reproducing head 2 from the center in the width direction (Y direction) of the recording / reproducing head 2. It is drawn to the back side.

(情報記録再生方法)
次に、このように構成された情報記録再生装置1により、ディスクDに各種の情報を記録再生する場合について以下に説明する。
まず、図1に示すように、スピンドルモータ6を駆動させてディスクDを一定方向に回転させる。次いで、アクチュエータ5を作動させて、キャリッジ11を介してサスペンション3をXY方向にスキャンさせる。これにより、ディスクD上の所望する位置に記録再生ヘッド2を位置させることができる。この際、記録再生ヘッド2は、スライダ20の対向面20aに形成された2つの凸条部20bによって浮上する力を受けるとともに、サスペンション3等によってディスクD側に所定の力で押さえ付けられる。記録再生ヘッド2は、この両者の力のバランスによって、図2に示すようにディスクD上から所定距離H離間した位置に浮上する。
(Information recording and playback method)
Next, a case where various kinds of information is recorded / reproduced on / from the disk D by the information recording / reproducing apparatus 1 configured as described above will be described below.
First, as shown in FIG. 1, the spindle motor 6 is driven to rotate the disk D in a certain direction. Next, the actuator 5 is actuated to scan the suspension 3 in the XY directions via the carriage 11. Thereby, the recording / reproducing head 2 can be positioned at a desired position on the disk D. At this time, the recording / reproducing head 2 receives a force that rises by the two ridges 20b formed on the opposed surface 20a of the slider 20, and is pressed against the disk D by a predetermined force by the suspension 3 or the like. The recording / reproducing head 2 floats to a position separated from the disk D by a predetermined distance H as shown in FIG.

また、記録再生ヘッド2は、ディスクDのうねりに起因して発生する風圧を受けたとしても、サスペンション3によってZ方向の変位が吸収されるとともに、ジンバル17によってXY軸回りに変位することができるようになっているので、うねりに起因する風圧を吸収することができる。そのため、記録再生ヘッド2を安定した状態で浮上させることができる。   Further, even if the recording / reproducing head 2 receives the wind pressure generated due to the undulation of the disk D, the suspension 3 can absorb the displacement in the Z direction and can be displaced around the XY axis by the gimbal 17. Therefore, wind pressure caused by swell can be absorbed. Therefore, the recording / reproducing head 2 can be floated in a stable state.

図12,13は情報記録再生装置により情報を記録再生する際の説明図であって、図12は図6に相当する図であり、図13は図11に相当する図である。
ここで、情報の記録を行う場合、図12,13に示すように、制御部8はレーザ光源29を作動させてレーザ光Lを出射させるとともに、情報に応じて変調した電流をコイル34に供給して記録素子21を作動させる。
まず、レーザ光源29からレーザ光Lを出射し、このレーザ光Lをコア23の上端面41aからコア23の光束集光部23a内に入射させる。光束集光部23aを伝播するレーザ光Lは、ディスクD側に位置する下端側に向かってコア23とクラッド24との間で全反射を繰り返しながら伝播する。特に、コア23の側面23k,23dにはクラッド24が密着しているので、コア23の外部に光が漏れることはない。よって、導入されたレーザ光Lを無駄にすることなく絞りながら下端側に伝播させて、近接場光生成部23bに入射させることができる。
この際、コア23は、Z方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形されている。そのため、レーザ光Lは光束集光部23a内を伝播するにしたがって徐々に絞り込まれてスポットサイズが小さくなる。
12 and 13 are explanatory diagrams when information is recorded / reproduced by the information recording / reproducing apparatus. FIG. 12 is a diagram corresponding to FIG. 6, and FIG. 13 is a diagram corresponding to FIG.
Here, when recording information, as shown in FIGS. 12 and 13, the control unit 8 operates the laser light source 29 to emit the laser light L, and supplies the coil 34 with a current modulated according to the information. Then, the recording element 21 is operated.
First, the laser light L is emitted from the laser light source 29, and the laser light L is incident from the upper end surface 41 a of the core 23 into the light beam condensing unit 23 a of the core 23. The laser light L propagating through the light beam condensing part 23a propagates while repeating total reflection between the core 23 and the clad 24 toward the lower end side located on the disk D side. In particular, since the clad 24 is in close contact with the side surfaces 23k and 23d of the core 23, light does not leak outside the core 23. Therefore, the introduced laser beam L can be propagated to the lower end side without being wasted and made incident on the near-field light generating unit 23b without being wasted.
At this time, the core 23 is drawn so that the cross-sectional area perpendicular to the Z direction gradually decreases. Therefore, the laser beam L is gradually narrowed as it propagates in the light beam condensing part 23a, and the spot size is reduced.

スポットサイズが小さくなったレーザ光Lは、続いて、近接場光生成部23bに入射する。この近接場光生成部23bは、下端側に向けてさらに絞り成形されており、光の波長以下のサイズとされている。この場合、近接場光生成部23bの2つの側面23dは、遮光膜27によって遮光されている。よって、近接場光生成部23bに入射したレーザ光Lは、第2クラッド24b側に漏れることなく、遮光膜27と近接場光生成部23bとの界面で反射されながら伝播する。   Subsequently, the laser beam L having a reduced spot size is incident on the near-field light generator 23b. The near-field light generating part 23b is further drawn toward the lower end side, and has a size equal to or smaller than the wavelength of light. In this case, the two side surfaces 23 d of the near-field light generating unit 23 b are shielded from light by the light shielding film 27. Therefore, the laser light L incident on the near-field light generation unit 23b propagates while being reflected at the interface between the light shielding film 27 and the near-field light generation unit 23b without leaking to the second cladding 24b side.

そして、近接場光生成部23bを下端側まで伝播したレーザ光Lは、金属膜71に入射する。すると、金属膜71には、表面プラズモンが励起される。励起された表面プラズモンは、金属膜71上を下方に向けて伝播する。そして、金属膜71上を伝播する表面プラズモンが延在部73まで伝播すると、突起部76の頂部77において光強度の強い近接場光Rとなる。そして、頂部77で発生した近接場光Rは、頂部77を下方に向かって伝播した後、下端(近接場光発生素子26の対向面26a)で外部に漏れ出す。つまり、近接場光発生素子26の下端側とディスクDとの間に近接場光Rを局在化させることができる。するとディスクDは、この近接場光Rによって局所的に加熱されて一時的に保磁力が低下する。   Then, the laser light L that has propagated through the near-field light generating unit 23 b to the lower end side enters the metal film 71. Then, surface plasmon is excited in the metal film 71. The excited surface plasmon propagates downward on the metal film 71. Then, when the surface plasmon propagating on the metal film 71 propagates to the extending portion 73, the near-field light R having a high light intensity is obtained at the top portion 77 of the protruding portion 76. The near-field light R generated at the top 77 propagates downward through the top 77, and then leaks to the outside at the lower end (opposing surface 26a of the near-field light generating element 26). That is, the near-field light R can be localized between the lower end side of the near-field light generating element 26 and the disk D. Then, the disk D is locally heated by the near-field light R, and the coercive force is temporarily reduced.

一方、制御部8によってコイル34に電流が供給されると、電磁石の原理により電流磁界が磁気回路32内に磁界が発生するので、主磁極33と補助磁極31との間にディスクDに対して垂直方向の記録磁界を発生させることができる。すると、主磁極33側から発生した磁束が、ディスクDの垂直記録層d2を真直ぐ通り抜けて軟磁性層d3に達する。これによって、垂直記録層d2の磁化をディスク面D1に対して垂直に向けた状態で記録を行うことができる。また、軟磁性層d3に達した磁束は、軟磁性層d3を経由して補助磁極31に戻る。この際、補助磁極31に戻るときには磁化の方向に影響を与えることはない。これは、ディスク面D1に対向する補助磁極31の面積が、主磁極33よりも大きいので磁束密度が大きく磁化を反転させるほどの力が生じないためである。つまり、主磁極33側でのみ記録を行うことができる。   On the other hand, when a current is supplied to the coil 34 by the control unit 8, a current magnetic field is generated in the magnetic circuit 32 by the principle of the electromagnet, so that the disk D is interposed between the main magnetic pole 33 and the auxiliary magnetic pole 31. A perpendicular recording magnetic field can be generated. Then, the magnetic flux generated from the main magnetic pole 33 side passes straight through the perpendicular recording layer d2 of the disk D and reaches the soft magnetic layer d3. As a result, recording can be performed in a state where the magnetization of the perpendicular recording layer d2 is directed perpendicular to the disk surface D1. The magnetic flux reaching the soft magnetic layer d3 returns to the auxiliary magnetic pole 31 via the soft magnetic layer d3. At this time, when returning to the auxiliary magnetic pole 31, the direction of magnetization is not affected. This is because the area of the auxiliary magnetic pole 31 facing the disk surface D1 is larger than that of the main magnetic pole 33, so that the magnetic flux density is large and a force sufficient to reverse the magnetization does not occur. That is, recording can be performed only on the main magnetic pole 33 side.

その結果、近接場光Rと両磁極31,33で発生した記録磁界とを協働させたハイブリッド磁気記録方式により情報の記録を行うことができる。しかも垂直記録方式で記録を行うので、熱揺らぎ現象等の影響を受け難く、安定した記録を行うことができる。よって、書き込みの信頼性を高めることができる。   As a result, information can be recorded by a hybrid magnetic recording method in which the near-field light R and the recording magnetic fields generated by the magnetic poles 31 and 33 cooperate. In addition, since the recording is performed by the vertical recording method, it is difficult to be affected by the thermal fluctuation phenomenon and the like, and stable recording can be performed. Therefore, writing reliability can be improved.

また、ディスクDに記録された情報を再生する場合には、ディスクDの保磁力が一時的に低下している時に、再生素子22がディスクDの垂直記録層d2から漏れ出ている磁界を受けて、その大きさに応じて電気抵抗が変化する。よって、再生素子22の電圧が変化する。これにより制御部8は、ディスクDから漏れ出た磁界の変化を電圧の変化として検出することができる。そして制御部8は、この電圧の変化から信号の再生を行うことで、ディスクDに記録されている情報の再生を行うことができる。   Further, when reproducing information recorded on the disk D, the reproducing element 22 receives a magnetic field leaking from the perpendicular recording layer d2 of the disk D when the coercive force of the disk D is temporarily reduced. Thus, the electrical resistance changes according to the size. Therefore, the voltage of the reproducing element 22 changes. Thereby, the control unit 8 can detect a change in the magnetic field leaking from the disk D as a change in voltage. The control unit 8 can reproduce information recorded on the disk D by reproducing a signal from the change in voltage.

(記録再生ヘッドの製造方法)
次に、上述した近接場光発生素子26を有する記録再生ヘッド2の製造方法について説明する。図14は近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、コア母材の平面図である。また、図15は図14(a)のG−G線に沿う断面図である。なお、以下の説明では、記録再生ヘッド2の製造工程のうち、主として近接場光発生素子の製造工程について具体的に説明する。
本実施形態では、複数のスライダ20がX方向及びY方向に沿って連なってなる基板120(例えば、AlTiC(アルチック)等)を用意し、この基板120における記録再生ヘッド2の各形成領域上にそれぞれ記録素子21、近接場光発生素子26、及び再生素子22を順に形成した後、記録再生ヘッド2の形成領域毎にダイシングすることで、記録再生ヘッド2を製造する。
(Method for manufacturing recording / reproducing head)
Next, a manufacturing method of the recording / reproducing head 2 having the above-described near-field light generating element 26 will be described. FIG. 14 is a process diagram for explaining the manufacturing method of the near-field light generating element, and is a plan view of the core base material. FIG. 15 is a cross-sectional view taken along line GG in FIG. In the following description, the manufacturing process of the near-field light generating element among the manufacturing processes of the recording / reproducing head 2 will be specifically described.
In the present embodiment, a substrate 120 (for example, AlTiC (AlTiC) or the like) in which a plurality of sliders 20 are connected along the X direction and the Y direction is prepared, and on each formation region of the recording / reproducing head 2 on the substrate 120. The recording element 21, the near-field light generating element 26, and the reproducing element 22 are formed in this order, and then the recording / reproducing head 2 is manufactured by dicing for each formation area of the recording / reproducing head 2.

まず図15(a)に示すように、基板120上に記録素子21(図6参照)を形成し、絶縁体35でモールドする。その後、絶縁体35上に近接場光発生素子26の母材を成膜する(第1クラッド形成工程、及びコア形成工程)。具体的には、基板120(絶縁体35)上に第1クラッド母材124a、金属膜母材171(例えば、20nm程度)、コア母材123(数μm程度)の順で成膜する。なお、各母材124a,171,123の成膜後には、CMP(Chemical Mechanical Polishing)等でそれぞれの表面を研磨して、平坦面とする。   First, as shown in FIG. 15A, the recording element 21 (see FIG. 6) is formed on the substrate 120 and molded with the insulator 35. Thereafter, a base material of the near-field light generating element 26 is formed on the insulator 35 (first cladding forming step and core forming step). Specifically, the first clad base material 124a, the metal film base material 171 (for example, about 20 nm), and the core base material 123 (about several μm) are formed in this order on the substrate 120 (insulator 35). In addition, after film-forming of each base material 124a, 171, 123, each surface is grind | polished by CMP (Chemical Mechanical Polishing) etc., and it is set as a flat surface.

また、金属膜母材171は、第1クラッド母材124a上の全面に成膜した後、所定の領域のみ残存するように予めパターニングしておくことが好ましい。この場合、本実施形態では、Z方向において、少なくともコア母材123における光束集光部23a(図6参照)に相当する領域の金属膜母材171を除去するようにパターニングしている。この場合には、近接場光生成部23bに相当する領域では、コア母材123と第1クラッド母材124aとの間に金属膜母材171が挟持され、それ以外の領域(例えば、光束集光部23aに相当する領域)では、コア母材123と第1クラッド母材124aとが密着することになる。これにより、少なくとも光束集光部23aに相当する領域では、コア母材123と、金属膜母材171よりもコア母材123との密着性が高い第1クラッド母材124aと、が密着することになる。これにより、製造途中における膜剥がれを抑制できる。なお、金属膜母材171は、上述した金属膜71の形成領域のみに残存するようにパターニングすることが、より好ましい。   The metal film base material 171 is preferably patterned in advance so that only a predetermined region remains after the film is formed on the entire surface of the first clad base material 124a. In this case, in this embodiment, patterning is performed so as to remove at least the metal film base material 171 in the region corresponding to the light beam condensing portion 23a (see FIG. 6) in the core base material 123 in the Z direction. In this case, in a region corresponding to the near-field light generating unit 23b, the metal film base material 171 is sandwiched between the core base material 123 and the first clad base material 124a, and other regions (for example, a light flux collecting point) In the region corresponding to the optical part 23a), the core base material 123 and the first clad base material 124a are in close contact with each other. As a result, at least in the region corresponding to the light beam condensing portion 23a, the core base material 123 and the first clad base material 124a having higher adhesion to the core base material 123 than the metal film base material 171 are in close contact with each other. become. Thereby, film peeling in the middle of manufacture can be suppressed. It is more preferable that the metal film base material 171 be patterned so as to remain only in the region where the metal film 71 is formed.

続いて、図15(b)に示すように、フォトリソグラフィ技術を用い、コア母材123を除去すべき領域が開口したマスクパターン(不図示)をコア母材123上に形成し、このマスクパターンを介して反応性イオンエッチング(RIE)を行う(第1パターニング工程)。これにより、マスクパターンが開口した領域のコア母材123が垂直(X方向に沿って)にエッチングされ、Z方向から見て矩形状のコア母材123が形成される。また、図14(a),15(b)に示すように、コア母材123は、X方向から見て上端側から下端側にかけて先細る台形状に形成された第1母材(本体部)123aと、第1母材123aの下端側から下方に向けてさらに先細る第2母材(本体部)123bと、第2母材123bの下端側から下方に向けて一定幅で延在する第3母材(舌部)123cと、により構成される。なお、第1パターニング工程においては、マスクパターンが開口した領域のコア母材123は、完全に除去せず僅かに残存させることが好ましい(図15(b)中残存部160参照)。   Subsequently, as shown in FIG. 15B, a photolithography technique is used to form a mask pattern (not shown) having an opening in a region where the core base material 123 is to be removed on the core base material 123, and this mask pattern. Reactive ion etching (RIE) is performed through the first step (first patterning step). As a result, the core base material 123 in the region where the mask pattern is opened is etched vertically (along the X direction) to form a rectangular core base material 123 as viewed from the Z direction. Further, as shown in FIGS. 14A and 15B, the core base material 123 is a first base material (main body part) formed in a trapezoidal shape that tapers from the upper end side to the lower end side when viewed from the X direction. 123a, a second base material (main body portion) 123b that tapers further downward from the lower end side of the first base material 123a, and a first base that extends with a constant width downward from the lower end side of the second base material 123b. 3 base materials (tongues) 123c. In the first patterning step, it is preferable that the core base material 123 in the region where the mask pattern is opened is left without being completely removed (see the remaining portion 160 in FIG. 15B).

次に、図14(b),15(c)に示すように、アルゴン(Ar)等のプラズマ中でコア母材123及び金属膜母材171をスパッタエッチングする(第2パターニング工程)。第2パターニング工程において、上述した断面矩形状のコア母材123をスパッタエッチングすると、コア母材123の各角部が選択的にエッチングされて斜面が形成される。そして、この状態でさらにエッチングを続けると、斜面が底面(図7中側面23gに相当)に対して一定の角度を保ちながらエッチングされる。なお、第1母材123aのうち、上側が光束集光部23aの台形部41、下側が光束集光部23aの三角形部42となり、また第2母材123bが近接場光生成部23bとなる。この場合、第3母材123cは、Y方向の両側の角部が除去されてZ方向から見て三角形状に残存している。   Next, as shown in FIGS. 14B and 15C, the core base material 123 and the metal film base material 171 are sputter-etched in a plasma such as argon (Ar) (second patterning step). In the second patterning step, when the core base material 123 having a rectangular cross section described above is sputter-etched, each corner of the core base material 123 is selectively etched to form a slope. If etching is further continued in this state, the inclined surface is etched while maintaining a certain angle with respect to the bottom surface (corresponding to the side surface 23g in FIG. 7). Of the first base material 123a, the upper side is the trapezoidal part 41 of the light beam condensing part 23a, the lower side is the triangular part 42 of the light beam condensing part 23a, and the second base material 123b is the near-field light generating part 23b. . In this case, the third base material 123c remains in a triangular shape when viewed from the Z direction with the corners on both sides in the Y direction removed.

そして、第2パターニング工程において、エッチングを継続すると、コア母材123は相似形を保ちながら幅(Y方向における幅)、及び高さ(X方向における高さ)が縮小して、コア母材123の外形が縮小する。すると、コア母材123に覆われていた金属膜母材171が露出する。   When the etching is continued in the second patterning step, the core base material 123 is reduced in width (width in the Y direction) and height (height in the X direction) while maintaining the similar shape, and the core base material 123 is reduced. The outer shape of is reduced. Then, the metal film base material 171 covered with the core base material 123 is exposed.

図16は、近接場光発生素子の製造方法を説明するための工程図であって、(a)は図14(c)のI−I線に沿う断面図、(b)は図14(c)のH−H線に沿う断面図である。
図14(c),16に示すように、金属膜母材171が露出した状態からさらにスパッタエッチングを継続すると、コア母材123は相似形を保ったままエッチングされるとともに、金属膜母材171の角部がエッチングされる。
16A and 16B are process diagrams for explaining a manufacturing method of the near-field light generating element, in which FIG. 16A is a cross-sectional view taken along the line II of FIG. 14C, and FIG. It is sectional drawing which follows the HH line | wire of ().
As shown in FIGS. 14C and 16, when the sputter etching is further continued from the state where the metal film base material 171 is exposed, the core base material 123 is etched while maintaining the similar shape, and the metal film base material 171 is also etched. Are etched.

ここで、上述したコア母材123(コア23)に用いる材料(例えば、石英)と、金属膜母材171(金属膜71)に用いる材料(例えば、金)と、は異種材料であるため、スパッタエッチング時におけるエッチングレートに差が生じる。本実施形態の場合、コア母材123に用いる材料は、金属膜母材171に用いる材料に比べてエッチングレートが大きいため、金属膜母材171に比べてコア母材123が積極的にエッチングされることになる。   Here, since the material (for example, quartz) used for the core base material 123 (core 23) and the material (for example, gold) used for the metal film base material 171 (metal film 71) are different materials, A difference occurs in the etching rate during sputter etching. In the case of the present embodiment, the material used for the core base material 123 has a higher etching rate than the material used for the metal film base material 171, so that the core base material 123 is more actively etched than the metal film base material 171. Will be.

そのため、図14(c),16(a)に示すように、コア母材123と金属膜母材171とがX方向で重なる領域のうち、第2母材123bの領域では、第2母材123bの外周縁(Y方向の両側)に金属膜母材171が露出する。これにより、第2母材123bの領域では、第2母材123bよりもY方向における幅が広い基部72が形成される。その後、さらにスパッタエッチングを継続することで、基部72は、第2母材123bから露出した部分(外周縁の角部)から除々にエッチングが行われるため、図9に示すように近接場光生成部23bの側面23dと平行な側面74aを有する第1基部74と、側面23dと同一面上の側面75aを有する第2基部75と、が段差部78を介して形成されることになる。   Therefore, as shown in FIGS. 14C and 16A, in the region of the second base material 123b in the region where the core base material 123 and the metal film base material 171 overlap in the X direction, the second base material is used. The metal film base material 171 is exposed at the outer peripheral edge of 123b (both sides in the Y direction). As a result, in the region of the second base material 123b, a base portion 72 that is wider in the Y direction than the second base material 123b is formed. Thereafter, the sputter etching is further continued, so that the base 72 is gradually etched from the portion exposed from the second base material 123b (corner portion of the outer peripheral edge), so that near-field light generation is performed as shown in FIG. A first base portion 74 having a side surface 74a parallel to the side surface 23d of the portion 23b and a second base portion 75 having a side surface 75a on the same plane as the side surface 23d are formed via the stepped portion 78.

一方で、図14(c),16(b)に示すように、第3母材123c(図14(b)参照)の領域では、第3母材123cの外周縁から金属膜母材171が露出する。その後、さらにスパッタエッチングを継続することで、金属膜母材171は、第3母材123cから露出した部分(外周縁の角部)から内側に向けて除々にエッチングが行われる。そして、最終的には、第3母材123cが完全に除去されることで、第3母材123cに覆われていた金属膜母材171のみが残存する。これにより、第3母材123cの領域では、第3母材123cと同一幅で延びる延在部73が形成される。この際、第3母材123cから露出した金属膜母材171が、外周縁の角部から内側に向けて除々にエッチングされるため、延在部73のうち、第3母材123cにより最後まで覆われていた部分が、頂部77を有する突起部76として残存することになる。
以上により、第1クラッド母材124a(第1クラッド24a)上に、金属膜71及びコア23が一括して形成される。
On the other hand, as shown in FIGS. 14C and 16B, in the region of the third base material 123c (see FIG. 14B), the metal film base material 171 is formed from the outer peripheral edge of the third base material 123c. Exposed. Thereafter, the sputter etching is further continued, so that the metal film base material 171 is gradually etched inward from the portion exposed from the third base material 123c (the corner portion of the outer peripheral edge). Finally, the third base material 123c is completely removed, so that only the metal film base material 171 covered with the third base material 123c remains. Thereby, in the region of the third base material 123c, an extending portion 73 extending with the same width as the third base material 123c is formed. At this time, since the metal film base material 171 exposed from the third base material 123c is gradually etched inward from the corners of the outer peripheral edge, the third base material 123c in the extending portion 73 is used until the end. The covered portion remains as a protrusion 76 having a top 77.
As described above, the metal film 71 and the core 23 are collectively formed on the first cladding base material 124a (the first cladding 24a).

図17は図14(c)のI−I線に相当する断面図である。
次に、図17(a)に示すように、コア23(コア母材123)を覆うように遮光膜27を形成する(遮光膜形成工程)。具体的には、コア23の側面23dにおける近接場光生成部23bに相当する領域に、遮光膜27が残存するようにパターニングする。
そして、図17(b)に示すように、コア23及び遮光膜27を覆うように、第2クラッド24bを形成する(第2クラッド形成工程)。その後、CMP等で第2クラッド24bの表面を研磨して、平坦面に形成する。そして、第2クラッド24b上に再生素子22を形成する。これにより、基板120上に記録素子21、近接場光発生素子26、及び再生素子22が形成される。
FIG. 17 is a cross-sectional view corresponding to the line II in FIG.
Next, as shown in FIG. 17A, a light shielding film 27 is formed so as to cover the core 23 (core base material 123) (light shielding film forming step). Specifically, patterning is performed so that the light shielding film 27 remains in a region corresponding to the near-field light generation unit 23 b on the side surface 23 d of the core 23.
Then, as shown in FIG. 17B, the second cladding 24b is formed so as to cover the core 23 and the light shielding film 27 (second cladding forming step). Thereafter, the surface of the second cladding 24b is polished by CMP or the like to form a flat surface. Then, the reproducing element 22 is formed on the second cladding 24b. As a result, the recording element 21, the near-field light generating element 26, and the reproducing element 22 are formed on the substrate 120.

続いて、基板120をY方向に沿ってダイシングして、一方向(Y方向)に沿って複数のスライダ20が連なった状態のバー(不図示)を形成する。その後、ダイシングしたバーの側面(切断面)を研磨する(研磨工程)。これにより、基板120とともに近接場光発生素子26におけるZ方向の両端面が平坦面に形成される。   Subsequently, the substrate 120 is diced along the Y direction to form a bar (not shown) in which a plurality of sliders 20 are connected along one direction (Y direction). Thereafter, the side surface (cut surface) of the diced bar is polished (polishing step). Thereby, both end surfaces in the Z direction of the near-field light generating element 26 together with the substrate 120 are formed as flat surfaces.

その後、各スライダ20ごとの大きさになるようにバーをZ方向に沿って切断する(スライダ工程)。
最後に、スライダ20の上面にレーザ光源29を搭載する。具体的には、半導体レーザチップ44が、レーザ光Lの出射側端面を下方に向けた状態で、かつコア23の台形部41の上端面41aに対向するように配置する。
以上により、上述した近接場光発生素子26を有する記録再生ヘッド2が完成する。
Thereafter, the bar is cut along the Z direction so as to have a size for each slider 20 (slider process).
Finally, a laser light source 29 is mounted on the upper surface of the slider 20. Specifically, the semiconductor laser chip 44 is disposed so that the emission-side end face of the laser light L faces downward and faces the upper end face 41 a of the trapezoidal portion 41 of the core 23.
Thus, the recording / reproducing head 2 having the above-mentioned near-field light generating element 26 is completed.

このように、本実施形態では、金属膜71の基部72からコア23よりも下方に延びる延在部73を形成し、この延在部73に頂部77を有する突起部76を形成する構成とした。
この構成によれば、延在部73に突起部76を形成することで、金属膜71の基部72で励起された表面プラズモンが金属膜71上を伝播し、突起部76の頂部77において光強度の強い近接場光Rとなる。そのため、Z方向から見てコア23との界面の幅よりも狭い近接場光Rを発生させることができる。
そして、本発明の情報記録再生装置1(記録再生ヘッド2)は、上述した近接場光発生素子26を備えているので、情報の記録再生を正確且つ高密度に行うことができ、高品質化を図ることができる。
As described above, in the present embodiment, the extending portion 73 extending downward from the core 23 from the base portion 72 of the metal film 71 is formed, and the protruding portion 76 having the top portion 77 is formed in the extending portion 73. .
According to this configuration, by forming the protrusion 76 in the extending portion 73, the surface plasmon excited by the base 72 of the metal film 71 propagates on the metal film 71, and the light intensity at the top 77 of the protrusion 76. Strong near-field light R. Therefore, near-field light R that is narrower than the width of the interface with the core 23 when viewed from the Z direction can be generated.
Since the information recording / reproducing apparatus 1 (recording / reproducing head 2) of the present invention includes the near-field light generating element 26 described above, information can be recorded / reproduced accurately and with high density, and the quality can be improved. Can be achieved.

また、コア23の側面23dを覆うように遮光膜27を形成することで、コア23に入射したレーザ光Lは、クラッド24側に漏れることなく、遮光膜27とコア23との界面で反射されながら伝播する。これにより、レーザ光を効率的に金属膜71に入射させることができ、近接場光Rの発生効率を向上できる。   Further, by forming the light shielding film 27 so as to cover the side surface 23d of the core 23, the laser light L incident on the core 23 is reflected at the interface between the light shielding film 27 and the core 23 without leaking to the clad 24 side. Propagate while. Thereby, a laser beam can be efficiently incident on the metal film 71, and the generation efficiency of the near-field light R can be improved.

しかも、本実施形態では、コア23と金属膜71とを一括してパターニングする際に、コア23と金属膜71との構成材料の違いに起因するエッチングレートの差を利用して突起部76を形成する構成とした。
この構成によれば、エッチング時間の管理のみで金属膜71を微細パターンに形成することができるため、コア23や金属膜71の微細パターンの形成に高価な装置を用いる必要がない。これにより、製造コストの増加を抑制した上で、近接場光Rのスポットサイズを縮小できる。
また、コア23と金属膜71とを一括してパターニングすることで、コア23と金属膜71とをそれぞれ別工程でパターニングする場合と異なり、金属膜71とコア23とを精度良く位置決めすることができる。よって、コア23の下端側まで伝播したレーザ光Lを漏れなく金属膜71の基部72に入射させることができるので、近接場光Rの発生効率を向上させることができる。
さらに、コア23よりも下方に延びる延在部73に突起部76を形成することで、コア23の形状やコア23との位置精度に関わらず、延在部73(突起部76)のみを所望の形状に形成できるため、製造が容易であり、また設計の自由度を向上させることもできる。
In addition, in the present embodiment, when the core 23 and the metal film 71 are patterned at once, the protrusion 76 is formed using the difference in etching rate due to the difference in the constituent materials of the core 23 and the metal film 71. It was set as the structure to form.
According to this configuration, since the metal film 71 can be formed into a fine pattern only by managing the etching time, it is not necessary to use an expensive apparatus for forming the fine pattern of the core 23 and the metal film 71. Thereby, the spot size of the near-field light R can be reduced while suppressing an increase in manufacturing cost.
Also, by patterning the core 23 and the metal film 71 together, unlike the case where the core 23 and the metal film 71 are patterned in separate processes, the metal film 71 and the core 23 can be positioned with high accuracy. it can. Therefore, since the laser beam L propagated to the lower end side of the core 23 can be incident on the base portion 72 of the metal film 71 without leakage, the generation efficiency of the near-field light R can be improved.
Furthermore, by forming the protruding portion 76 in the extending portion 73 extending below the core 23, only the extending portion 73 (the protruding portion 76) is desired regardless of the shape of the core 23 and the positional accuracy with the core 23. Therefore, the manufacturing is easy and the degree of freedom in design can be improved.

(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について説明する。図18は、第2実施形態における記録再生ヘッドの前側を拡大した断面図である。なお、以下の説明では、上述した第1実施形態と同様の構成については同様の符号を付し、説明は省略する。本実施形態では、コア23の下端側を2層構造とした点で上述した第1実施形態と相違している。
図18に示すように、本実施形態の記録再生ヘッド202(近接場光発生素子26)におけるコア223の下端側は、Z方向から見て三角形状の第1コア223aと、第1コア223aを覆うように形成された第2コア223bと、で構成されている。この場合、第1コア223aは、上述した第1実施形態のコア23と同様の構成からなり、上端側がスライダ20の上面と面一に形成され、外部に向けて露出している。一方で、第1コア223a(近接場光生成部23b)の下端側は、スライダ20のABS20cよりも上方に位置しており、クラッド24により覆われて、外部には露出していない。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 18 is an enlarged cross-sectional view of the front side of the recording / reproducing head in the second embodiment. In the following description, the same components as those in the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. This embodiment is different from the first embodiment described above in that the lower end side of the core 23 has a two-layer structure.
As shown in FIG. 18, the lower end side of the core 223 in the recording / reproducing head 202 (near-field light generating element 26) of this embodiment includes a triangular first core 223a and a first core 223a as viewed from the Z direction. And a second core 223b formed to cover the second core 223b. In this case, the first core 223a has the same configuration as the core 23 of the first embodiment described above, and the upper end side is formed flush with the upper surface of the slider 20 and is exposed to the outside. On the other hand, the lower end side of the first core 223a (near-field light generator 23b) is located above the ABS 20c of the slider 20, is covered by the clad 24, and is not exposed to the outside.

第2コア223bは、Y方向において、第1コア223a及び金属膜71を覆うように形成されている。そのため、Z方向から見て、第2コア223bにおけるY方向の外側端部が、第1基部74の外側端部よりも外側に位置することになる。すなわち、本実施形態のコア223全体のY方向における幅は、第1基部74の幅よりも広く形成されている。
また、第2コア223bは、Z方向において、第1コア223aの下端側を覆うように形成され、第1コア223aとともに光束集光部23aの下端側、及び近接場光生成部23bを構成している。さらに、第2コア223bは、第1コア223aの下端側よりも下方に向けて延びている。具体的に、第2コア223bは、遮光膜27と金属膜71との間から金属膜71の延在部73を覆うように延在しており、スライダ20のABS20cと面一に形成されて外部に露出している。
The second core 223b is formed so as to cover the first core 223a and the metal film 71 in the Y direction. Therefore, when viewed from the Z direction, the outer end portion in the Y direction of the second core 223 b is positioned outside the outer end portion of the first base portion 74. That is, the width of the entire core 223 of this embodiment in the Y direction is formed wider than the width of the first base portion 74.
The second core 223b is formed so as to cover the lower end side of the first core 223a in the Z direction, and constitutes the lower end side of the light beam condensing unit 23a and the near-field light generating unit 23b together with the first core 223a. ing. Further, the second core 223b extends downward from the lower end side of the first core 223a. Specifically, the second core 223 b extends from between the light shielding film 27 and the metal film 71 so as to cover the extending portion 73 of the metal film 71, and is formed flush with the ABS 20 c of the slider 20. Exposed outside.

なお、第2コア223bの形成領域は、上述した範囲に限られず、第1コア223a全体を覆うように形成してもよく、また下端位置を第1コア223aの下端位置と同位置に形成してもよい。   The formation region of the second core 223b is not limited to the above-described range, and may be formed so as to cover the entire first core 223a, and the lower end position is formed at the same position as the lower end position of the first core 223a. May be.

また、第2コア223bの製作は、図19に示すように、上述した第2パターニング工程(図16参照)と遮光膜形成工程(図17参照)との間で、第1コア223a(コア母材123)及び金属膜71を覆うように第2コア223bとなるコア母材をパターニングすることで形成できる。なお、図19は、図16に相当する断面図である。   Further, as shown in FIG. 19, the second core 223b is manufactured between the first patterning step (see FIG. 16) and the light shielding film forming step (see FIG. 17) described above. The core base material to be the second core 223b may be patterned so as to cover the material 123) and the metal film 71. FIG. 19 is a cross-sectional view corresponding to FIG.

この構成によれば、第1コア223aを覆うように第2コア223bを形成することで、コア223全体(第1コア223a及び第2コア223b)のY方向における幅を、金属膜71のY方向における幅に比べて広く形成できる。そのため、コア23内を伝播するレーザ光Lの伝播効率の低下を抑制した上で、近接場光Rのスポットサイズの縮小化を図ることができる。これにより、光量を確保した上で、近接場光Rのスポットサイズを縮小できるので、ディスクDをより局所的に加熱することができる。   According to this configuration, by forming the second core 223b so as to cover the first core 223a, the width of the entire core 223 (the first core 223a and the second core 223b) in the Y direction is set to the Y of the metal film 71. It can be formed wider than the width in the direction. Therefore, it is possible to reduce the spot size of the near-field light R while suppressing a decrease in the propagation efficiency of the laser light L propagating through the core 23. As a result, the spot size of the near-field light R can be reduced while securing the amount of light, so that the disk D can be heated more locally.

なお、本発明の技術範囲は、上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、上述した実施形態で挙げた構成等はほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
例えば、上述の実施形態では、記録再生ヘッドを浮上させた空気浮上タイプの情報記録再生装置を例に挙げて説明したが、この場合に限られず、ディスク面に対向配置されていればディスクと記録再生ヘッドとが接触していても構わない。つまり、本発明の記録再生ヘッドは、コンタクトスライダタイプの記録再生ヘッドであっても構わない。この場合であっても、同様の作用効果を奏することができる。
また、各実施形態を適宜組み合わせても構わない。
The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes those in which various modifications are made to the above-described embodiments without departing from the spirit of the present invention. In other words, the configuration described in the above-described embodiment is merely an example, and can be changed as appropriate.
For example, in the above-described embodiment, the air floating type information recording / reproducing apparatus in which the recording / reproducing head is levitated has been described as an example. However, the present invention is not limited to this case. The reproducing head may be in contact. That is, the recording / reproducing head of the present invention may be a contact slider type recording / reproducing head. Even in this case, the same effects can be achieved.
Moreover, you may combine each embodiment suitably.

また、上述した第1パターニング工程において、コア23の残存部60を形成する方法について説明したが、残存部60を残さずにコア23の形成領域以外のコア23を全て除去しても構わない。
さらに、上述した実施形態では、第1コア54及び第2コア55の2層によりコア23を構成したが、これに限らず3層以上で構成しても構わない。
In the first patterning process described above, the method for forming the remaining portion 60 of the core 23 has been described. However, all the cores 23 other than the formation region of the core 23 may be removed without leaving the remaining portion 60.
Furthermore, in the above-described embodiment, the core 23 is configured by the two layers of the first core 54 and the second core 55. However, the core 23 is not limited to this and may be configured by three or more layers.

また、上述した実施形態では、第1パターニング工程及び第2パターニング工程によりコア23及び金属膜71の形状を調整する場合について説明したが、これに限らず、金属膜71が所望の外形になった時点で、コア23のみをエッチングしてコア23の外形を調整することも可能である。この方法を以下に詳述する。   In the above-described embodiment, the case where the shapes of the core 23 and the metal film 71 are adjusted by the first patterning process and the second patterning process has been described. However, the present invention is not limited thereto, and the metal film 71 has a desired outer shape. At that time, it is also possible to adjust the outer shape of the core 23 by etching only the core 23. This method is described in detail below.

図20,21は、近接場光発生素子の他の製造方法を説明するための工程図であって、図17に相当する断面図である。
具体的には、図20に示すように、上述した第2パターニング工程と同様に、コア母材123及び金属膜母材171をエッチングして、金属膜母材171をY方向において所望の幅になるように形成する。なお、図20では、コア母材123におけるY方向の両側面と、金属膜母材171におけるY方向の両側面と、がほぼ面一になった時点でエッチングを停止している。
次に、図21に示すように、フッ酸(HF)等を用いたウェットエッチングを行い、コア母材123のみをエッチングする(第3パターニング工程)。これにより、コア母材123のみの外形が縮小される。なお、図21では、図20(b)に示す第3母材123cが完全に除去されるまで、エッチングを継続する。
20 and 21 are process diagrams for explaining another method of manufacturing the near-field light generating element, and are sectional views corresponding to FIG.
Specifically, as shown in FIG. 20, similarly to the second patterning step described above, the core base material 123 and the metal film base material 171 are etched so that the metal film base material 171 has a desired width in the Y direction. It forms so that it may become. In FIG. 20, the etching is stopped when the both side surfaces in the Y direction of the core base material 123 and the both side surfaces in the Y direction of the metal film base material 171 are substantially flush with each other.
Next, as shown in FIG. 21, wet etching using hydrofluoric acid (HF) or the like is performed to etch only the core base material 123 (third patterning step). Thereby, the external shape of only the core base material 123 is reduced. In FIG. 21, the etching is continued until the third base material 123c shown in FIG. 20B is completely removed.

この構成によれば、コア23及び金属膜71をそれぞれ所望の外形に形成することができるため、近接場光Rのスポットサイズを所望の大きさに調整することができる。なお、この際、第2パターニング工程におけるエッチング時間を管理することで、図20に示す状態に限らず、金属膜71を所望の外形に形成した後、第3パターニング工程においてコア23のみの外形を調整できる。   According to this configuration, since the core 23 and the metal film 71 can be formed in desired shapes, the spot size of the near-field light R can be adjusted to a desired size. At this time, by controlling the etching time in the second patterning step, not only the state shown in FIG. 20 but also after forming the metal film 71 in a desired outer shape, the outer shape of only the core 23 is formed in the third patterning step. Can be adjusted.

また、上述した実施形態では、本発明の記録再生ヘッド2をディスクDに対して垂直な記録磁界を与える垂直磁気記録方式に採用する場合について説明したが、これに限らず、ディスクDに対して水平な記録磁界を与える面内記録方式に採用しても構わない。   In the above-described embodiment, the case where the recording / reproducing head 2 of the present invention is employed in a perpendicular magnetic recording system that applies a recording magnetic field perpendicular to the disk D has been described. You may employ | adopt for the in-plane recording system which gives a horizontal recording magnetic field.

また、上述した実施形態における近接場光発生素子26(図6等参照)では、Z方向において金属膜71がコア23における近接場光生成部23bのみと重なるように形成したが、金属膜71の形成範囲は、少なくとも頂部77が外部に露出していれば、これに限られない。例えば、コア23のZ方向の全域(光束集光部23a及び近接場光生成部23b)に亘って金属膜71を形成しても構わない。
但し、光束集光部23aと重なる領域にも金属膜71が形成されていると、光束集光部23aを伝播するレーザ光Lが金属膜71で吸収されて損失となり、レーザ光Lの伝播効率が低下する虞がある。これに対して、上述した実施形態のように、近接場光生成部23bに相当する領域にのみ金属膜71を形成することで、近接場光生成部23bまではコア23とクラッド24との間でレーザ光Lを全反射条件で伝播させることができる。そのため、より多くのレーザ光Lを近接場光生成部23bまで導くことができ、レーザ光Lの伝播効率を向上できる。
In the near-field light generating element 26 (see FIG. 6 and the like) in the above-described embodiment, the metal film 71 is formed so as to overlap only the near-field light generating unit 23b in the core 23 in the Z direction. The formation range is not limited to this as long as at least the top 77 is exposed to the outside. For example, the metal film 71 may be formed over the entire area of the core 23 in the Z direction (light flux condensing unit 23a and near-field light generating unit 23b).
However, if the metal film 71 is also formed in the region overlapping the light beam condensing part 23a, the laser light L propagating through the light beam condensing part 23a is absorbed by the metal film 71 and lost, and the propagation efficiency of the laser light L May decrease. On the other hand, as in the embodiment described above, the metal film 71 is formed only in the region corresponding to the near-field light generation unit 23b, so that the near-field light generation unit 23b is between the core 23 and the clad 24. The laser beam L can be propagated under total reflection conditions. Therefore, more laser light L can be guided to the near-field light generation unit 23b, and the propagation efficiency of the laser light L can be improved.

1…情報記録再生装置 2…記録再生ヘッド(近接場光ヘッド) 3…ビーム 5…アクチュエータ 6…スピンドルモータ(回転駆動部) 8…制御部 20…スライダ 21…記録素子 23,223…コア 23d…側面(他側面) 23g…側面(一側面) 24…クラッド 24a…第1クラッド 24b…第2クラッド 26…近接場光発生素子 27…遮光膜 29…レーザ光源(光源) 31…補助磁極 33…主磁極 71…金属膜(近接場光発生部) 72…基部 73…延在部 123a…第1母材(本体部) 123b…第2母材(本体部) 123c…第3母材(舌部)D…ディスク(磁気記録媒体) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Information recording / reproducing apparatus 2 ... Recording / reproducing head (near-field optical head) 3 ... Beam 5 ... Actuator 6 ... Spindle motor (rotation drive part) 8 ... Control part 20 ... Slider 21 ... Recording element 23,223 ... Core 23d ... Side surface (other side surface) 23g ... Side surface (one side surface) 24 ... Cladding 24a ... First cladding 24b ... Second cladding 26 ... Near-field light generating element 27 ... Light shielding film 29 ... Laser light source (light source) 31 ... Auxiliary magnetic pole 33 ... Main Magnetic pole 71 ... Metal film (near-field light generating part) 72 ... Base 73 ... Extension part 123a ... First base material (main body part) 123b ... Second base material (main body part) 123c ... Third base material (tongue part) D ... Disk (magnetic recording medium)

Claims (5)

一端側に導入された光束を他端側に向けて集光しながら伝播するコアと、
前記コアの側面に密着して前記コアを封止するクラッドと、
前記コア及び前記クラッド間に配置され、前記コアとの界面に沿って前記光束を伝播させて、前記光束から近接場光を発生させる近接場光発生部と、を有する近接場光発生素子の製造方法であって、
前記クラッドのうち、第1クラッドを形成する第1クラッド形成工程と、
前記第1クラッド上に前記近接場光発生部の母材を形成する近接場光発生部形成工程と、
前記近接場光発生部の母材を覆うように前記コアの母材を形成するコア形成工程と、
前記コアの母材、及び前記近接場光発生部の母材をパターニングして、前記コア及び前記近接場光発生部を形成するパターニング工程と、
前記第1クラッドとの間で前記コアを挟み込むように、前記クラッドのうち、第2クラッドを形成する第2クラッド形成工程と、を有し、
前記パターニング工程は、
前記一端側から前記他端側に向かうに従い先細る本体部、及び前記本体部から前記他端側へ一定幅で延びる舌部が残存するように前記コアの母材をパターニングする第1パターニング工程と、
前記第1パターニング工程でパターニングされた前記コアの母材、及び前記近接場光発生部の母材を一括してエッチングし、前記コアの母材及び前記近接場光発生部の母材をパターニングする第2パターニング工程と、を有し、
前記コアの母材は、前記近接場光発生部の母材よりもエッチングレートが大きい材料からなり、
前記第2パターニング工程では、前記コアの母材と、前記近接場光発生部の母材とでのエッチングレートの差を利用して、前記コアの母材、及び前記近接場光発生部の母材をパターニングすることを特徴とする近接場光発生素子の製造方法。
A core that propagates while converging the light beam introduced to one end side toward the other end side;
A clad that seals the core in close contact with the side surface of the core;
Producing a near-field light generating element, which is disposed between the core and the clad, and has a near-field light generating unit that propagates the light flux along an interface with the core and generates near-field light from the light flux. A method,
A first cladding forming step of forming a first cladding of the cladding;
A near-field light generating part forming step of forming a base material of the near-field light generating part on the first cladding;
A core forming step of forming a base material of the core so as to cover the base material of the near-field light generating unit;
Patterning the base material of the core and the base material of the near-field light generating unit to form the core and the near-field light generating unit; and
A second clad forming step of forming a second clad of the clads so as to sandwich the core with the first clad,
The patterning step includes
A first patterning step of patterning the base material of the core so that a main body portion that tapers from the one end side toward the other end side and a tongue portion extending from the main body portion to the other end side with a constant width remain; ,
The core base material patterned in the first patterning step and the base material of the near-field light generating portion are collectively etched to pattern the core base material and the near-field light generating portion of the base material. A second patterning step,
The core base material is made of a material having a higher etching rate than the base field light generating portion base material,
In the second patterning step, using the difference in etching rate between the core material of the core and the base material of the near-field light generating unit, the core material of the core and the mother of the near-field light generating unit are used. A method for producing a near-field light generating element, comprising patterning a material.
前記第1パターニング工程では、前記一端側から前記他端側に向かう前記光束の伝播方向から見て矩形状になるようにパターニングし、
前記第2パターニング工程では、前記コアの母材、及び前記近接場光発生部の母材に対してプラズマ中でスパッタエッチングを行い、前記コアの母材における前記舌部を除去し、前記舌部に相当する領域における前記近接場光発生部に、前記コアよりも前記他端側に向けて一定幅で延びる延在部と、前記延在部における前記伝播方向から見て前記コア側に向けて突出する頂部と、を形成することを特徴とする請求項1記載の近接場光発生素子の製造方法。
In the first patterning step, patterning is performed so as to form a rectangular shape when viewed from the propagation direction of the light beam from the one end side toward the other end side,
In the second patterning step, sputter etching is performed on the base material of the core and the base material of the near-field light generating portion in plasma, and the tongue portion of the base material of the core is removed. In the near-field light generating portion in the region corresponding to the above, the extending portion extending with a constant width toward the other end side from the core, and toward the core side when viewed from the propagation direction in the extending portion The method for manufacturing a near-field light generating element according to claim 1, wherein a protruding top portion is formed.
請求項1または請求項2記載の近接場光発生素子の製造方法を用いて製造された近接場光発生素子であって、
前記近接場光発生部は、
前記本体部に相当する領域において、前記一端側から前記他端側に向かう前記光束の伝播方向に沿う前記コアの一側面上に配置された基部と、
前記舌部に相当する領域において、前記基部の前記他端側から前記コアよりも前記伝播方向の前記他端側に向けて一定幅で延びる延在部と、を有していることを特徴とする近接場光発生素子。
A near-field light generating element manufactured using the method for manufacturing a near-field light generating element according to claim 1 or 2,
The near-field light generator is
In a region corresponding to the main body portion, a base portion disposed on one side surface of the core along the propagation direction of the light flux from the one end side toward the other end side;
The region corresponding to the tongue includes an extending portion extending from the other end side of the base portion with a constant width from the core toward the other end side in the propagation direction. Near-field light generating element.
一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱するとともに、前記磁気記録媒体に対して記録磁界を与えることで磁化反転を生じさせ、情報を記録させる近接場光ヘッドであって、
前記磁気記録媒体の表面に対向配置されたスライダと、
前記スライダの先端側に配置され、前記記録磁界を発生させる主磁極及び補助磁極を有する記録素子と、
前記他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記記録素子に隣接して固定された、請求項3記載の近接場光発生素子と、
前記スライダに固定され、前記一端側から前記コア内に前記光束を導入させる光束導入手段と、を備えていることを特徴とする近接場光ヘッド。
A near-field optical head for recording information by heating a magnetic recording medium rotating in a certain direction and causing magnetization reversal by applying a recording magnetic field to the magnetic recording medium,
A slider disposed opposite to the surface of the magnetic recording medium;
A recording element having a main magnetic pole and an auxiliary magnetic pole for generating the recording magnetic field, disposed on the tip side of the slider;
The near-field light generating element according to claim 3, wherein the near-field light generating element is fixed adjacent to the recording element with the other end side facing the magnetic recording medium.
A near-field optical head, comprising: a light beam introducing unit that is fixed to the slider and introduces the light beam into the core from the one end side.
請求項4記載の近接場光ヘッドと、
前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能とされ、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する2軸回りに回動自在な状態で前記近接場光ヘッドを先端側で支持するビームと、
前記光束導入手段に対して前記光束を入射させる光源と、
前記ビームの基端側を支持するとともに、前記ビームを前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に向けて移動させるアクチュエータと、
前記磁気記録媒体を前記一定方向に回転させる回転駆動部と、
前記記録素子及び前記光源の作動を制御する制御部と、を備えていることを特徴とする情報記録再生装置。
A near-field optical head according to claim 4,
The near-field optical head is supported on the front end side so as to be movable in a direction parallel to the surface of the magnetic recording medium and rotatable about two axes parallel to the surface of the magnetic recording medium and orthogonal to each other. With the beam,
A light source for making the light beam incident on the light beam introducing means;
An actuator for supporting the base end side of the beam and moving the beam in a direction parallel to the surface of the magnetic recording medium;
A rotation drive unit for rotating the magnetic recording medium in the fixed direction;
An information recording / reproducing apparatus comprising: a control unit that controls operations of the recording element and the light source.
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