JP5666468B2 - システインプロテアーゼ阻害剤 - Google Patents
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Description
R1aは、Hであり;そして
R1bはC1−C6アルキルであり、該基は、ハロ、ヒドロキシ、シアノ、アジド、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシ、C1−C4アルコキシカルボニル、C1−C4アルキルカルボニル、アミン、C1−C4アルキルアミン、C1−C4−ジアルキルアミン、C1−C4アルキルスルホニル、C1−C4アルキルスルホニルアミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、カルボシクリル、及びHetより独立して選択される1〜3の置換基で置換されていてもよく;又は
R1bは、カルボシクリル又はHetであり;又は
R1aとR1bは、それらが付くN原子と一緒に、3〜6の環原子を有する飽和環式アミンを規定し;
ここで該カルボシクリル、Het、又は環式アミンは、ハロ、ヒドロキシ、シアノ、アジド、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシ、C1−C4アルコキシカルボニル、C1−C4アルキルカルボニル、アミノ、C1−C4アルキルアミノ、C1−C4ジアルキルアミノ、C1−C4アルキルスルホニル、C1−C4アルキルスルホニルアミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、RxOC(=O)−C0−C2アルキレニル(ここでRxは、H、C1−C4アルキル、又はC1−C4ハロアルキルである)、フェニル、ベンジル、又はC3−C6シクロアルキル−C0−C2アルキレニルより独立して選択される1〜3の置換基で置換されていてもよく;
ここで該フェニル、ベンジル、又はシクロアルキル部分は、ハロ、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、又はC1−C4アルコキシより独立して選択される1〜3の置換基で置換されていてもよく;
R2aとR2bは、H、ハロ、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシより独立して選択され;又は
R2aとR2bは、それらが付く炭素原子と一緒に、C3−C6シクロアルキルを形成し;
R3はC5−C10アルキルであり、該基は、ハロ、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシより独立して選択される1〜3の置換基で置換されていてもよく;又は
R3は、少なくとも2のクロロ又は3のフルオロ置換基があるC2−C4アルキル鎖であり;又は
R3はC3−C7シクロアルキルメチルであり、該基は、C1−C4アルキル、ハロ、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシより選択される1〜3の置換基で置換されていてもよく;
R4は、Het又はカルボシクリルであり、そのいずれも:
ハロ、アジド、シアノ、ヒドロキシ、オキソ、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシ、C1−C4アルコキシカルボニル、C1−C4アルキルカルボニル、C1−C4アルキルスルホニル、C1−C4アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、−NRkRl、−C(=O)NRkRl、−NRkC(=O)Rl、−NRkC(=O)ORl、−NRk(C=O)NRkRlより独立して選択される1〜3の置換基で置換されていてもよく、ここで置換基としてのオキソは、原子価がこのように許容される場合にのみ存在してよく、
ここでRkとRlは、独立して、H、C1−C4アルキルであるか又は、一方がHであって他方が−C(=O)C1−C4アルキルであり;
及び/又は、Het又はカルボシクリル基においては、式:−X−R5の基で置換されていてもよく;
ここでXは、C1−C4アルキレン、又は0〜3のメチレン基を含んでなる1〜4員の連結であり、該連結は、CH(CH3)、C(CH3)2、CF2、エテン、エチン、C0−C4アルキルアミノ、C0−C4アルキルアミド、スルホンアミド、アミノスルホニル、エステル、エーテル、尿素、又はカルバメート官能基に隣接するか又はその片側に配置され;
R5は、H、C1−C4アルキル、又はC3−C6シクロアルキル、C3−C6シクロアルケニル、フェニル、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピペラジニル、インドリニル、ピラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、チオピラニル、フラニル、テトラヒドロフラニル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、テトラゾリル、ピラゾリル、インドリルより選択される単環式環であり、該C1−C4アルキル又は単環式環は:
ハロ、アジド、シアノ、ヒドロキシ、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシ、C1−C4アルコキシカルボニル、C1−C4アルキルカルボニル、アミノ、C1−C4アルキルアミノ、C1−C4−ジアルキルアミノ、C1−C4アルキルスルホニル、C1−C4アルキルスルホニルアミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニルより選択される1〜3の置換基で置換されていてもよく;
Hetは、O、S、及びNより独立して選択される1〜4のヘテロ原子を含有する、安定した、単環式又は二環式、飽和、部分飽和、又は芳香族の環系であり、それぞれの環は、5若しくは6の環原子を有し;
カルボシクリルは、C3−C6シクロアルキル、C5−C6シクロアルケニル、又はフェニルである]の化合物、又はその医薬的に許容される塩、水和物、又はN−オキシドを提供する。
C1−C4アルキル、ハロ、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシ、C1−C4アルコキシカルボニル、C1−C4アルキルカルボニル、アミン、C1−C4アルキルアミン、C1−C4−ジアルキルアミン、C1−C4アルキルスルホニル、C1−C4アルキルスルホニルアミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、RxOOC−C0−C2アルキレン(ここでRxは、H又はC1−C4アルキルである)、又はC3−C6シクロアルキルC0−C2アルキレン、又はベンジル(該シクロアルキル、又は該ベンジルのフェニル環は、C1−C4アルキル、ハロ、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシより選択される1〜3の置換基で置換されていてもよい)より独立して選択される3までの置換基で置換されていてもよい。
他の態様では、R1aがHであり、R1bは、1位においてフェニルのような環式基で置換されるメチル又はエチルであるか、又はR1bは、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピペラジニル、インドリニル、ピラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニル、チオピラニル、フラニル、テトラヒドロフラニル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、テトラゾリル、ピラゾリル、インドリル、等のような単環式ヘテロシクリルである。該フェニル又はヘテロシクリルは、例えば、ヒドロキシ、アミノ、C1−C4アルキル、ハロ、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、アミノ、C1−C4アルキルアミン、C1−C4ジアルキルアミン、等より独立して選択される1〜3の置換基で置換されていてもよい。例示の種は、1−フェニルエチルである。
さらに好ましい態様には、R2aとR2bの一方がHであり、そして他方がCl、F、CF3、又はMeOである化合物が含まれる。
いくつかの態様では、R2aとR2bがともにFである。この側面の化合物は、式:
他の態様では、R2aとR2bの一方がHであり、そして他方がクロロ、フルオロ、トリフルオロメチル、又はメトキシである。
いくつかの態様は、R3を、例えば、ハロ(Fのような)又はアルコキシ(MeOのような)で置換されていてもよいシクロアルキルアルキルとして有する。例示の種には、1−メチルシクロペンチルメチル、1−メチルシクロヘキシルメチル、1−メチルシクロブチルメチル、1−メチル−3,3−ジフルオロシクロブチルメチル、1−メチル−4,4−ジフルオロシクロヘキシルメチル、シクロプロピルメチル、又は1−メチル−3,3−ジフルオロシクロペンチルメチルが含まれる。
ここでRkは、H又はC1−C4アルキルであり;
Rqは、C1−C4アルキル、Het、又はカルボシクリルであり、このいずれも、C1−C4アルキル、ハロ、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシで置換されていてもよく;そして
mは、0、1、又は2である。
いくつかの態様では、R4が、隣接するアミド骨格へ環窒素を介して連結して、それにより尿素官能基を規定する。代表的な種は、モルホリン−4−イルである。さらに代表的な種は、部分構造:
R4’は、H、ハロ、OC1−C4アルキル、C(=O)NRkRl、NRkC(=O)C1−C4アルキル、NRkC(=O)NRkRl、又は−NRkC(=O)OC1−C4アルキル、又はNHC(=O)OMeであり、
RkとRlは、独立して、H、C1−C4アルキル、又はC(=O)C1−C4アルキルであるか、又はRk、Rlとそれらがともに付く隣接N原子は、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリニル、ピペラジニル、又はN−メチルピペラジニルより選択される環式アミンを規定する]のあるものが含まれる。
Rk、Rlとそれらがともに付くN原子は、ピロリジニル、ピペリジニル、モルホリニル、ピペラジニル、又はN−メチルピペラジニルより選択される環式アミンを規定し;
そしてR4”は、H、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロ、シアノ、ヒドロキシル、又はC1−C4アルコキシである]を有する。
好まれる亜集合は、部分構造:
Raは、H又はメチルであり、
Rpは、H、Me、Fであり、
Rxは、Me、F、Cl、CF3、及びOMeより独立して選択され、そしてnは、0、1又は2である]を有し;
特に、部分構造:
WO06/64206に記載される、なおさらなるR4基には:
環窒素は、C1−C4アルキル(メチル、エチル、又はt−ブチルのような)、又はC(=O)C1−C4アルキル(アセチルのような)で置換されていてもよく;そして
Rxは、H、F、Cl、CF3、Me、OMeである]が含まれる。
一方又は両方の環窒素は、C1−C4アルキル(メチル、エチル、又はt−ブチルのような)、又はC(=O)C1−C4アルキル(アセチルのような)で置換されていてもよく;
O’は、非存在である(即ち、2つの水素原子)か又はOである]が含まれる。
式Iの化合物は、種々の有利な医薬特性を特徴として、先行技術の化合物に照らして、少なくとも1つの改善された特性を明示する。特に、本発明の阻害剤は、以下の薬理学に関連した特性、即ち、効力、細胞傷害性の減少、薬物動態の改善、許容される投与量、及び服薬負担(pill burden)の1以上において優れている。
本発明に従って治療可能な現行で好ましい適応症には:
乾癬;
特発性血小板減少性紫斑病(ITP)、慢性関節リウマチ(RA)、多発性硬化症(MS)、重症筋無力症(MG)、シェーグレン症候群、グレイブス病、及び全身性紅斑性狼瘡(SLE)が含まれる自己免疫適応症;
アレルギー性鼻炎、喘息、アテローム性動脈硬化症、慢性閉塞性肺疾患(COPD)、及び慢性疼痛が含まれる非自己免疫適応症が含まれる。
本明細書に使用するように、以下の用語は、下記に定義されるような意味を有する:
それ自身で、又はCm−Cnハロアルキル、Cm−Cnアルキルカルボニル、Cm−Cnアルキルアミン、Cm−Cnアルキルスルホニル、Cm−Cnアルキルスルホニルアミノ、等のような複合表現において使用されるCm−Cnアルキルは、指定の炭素原子数を有する直鎖又は分岐鎖のアルキル残基を表し、例えば、C1−C4アルキルは、1〜4の炭素原子を有するアルキル残基を意味する。本発明における使用に好ましいアルキル残基はC1−C4アルキルであり、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、n−ブチル、及びイソブチルが含まれる。典型的には、メチルとt−ブチルが好ましい。C1−C6アルキルは、対応する意味を有して、ペンチル及びヘキシルのすべての直鎖及び分岐鎖異性体も含まれる。C5−C10アルキルのようなCm−Cnアルキルの他の記述(recitals)も、対応する意味を有する。
C3−C6シクロアルキルC0−C2アルキレンのような複合表現において使用されるC0−C2アルキレンは、メチル又はエチル基より派生する二価の残基を意味するか、又はC0の場合、C0−C2アルキレンいう用語は、結合を意味する。
「オキソ」という用語は、=O(即ち、炭素原子へ結合するときにカルボニル基が形成される)を表す。
Hetは、O、S、及びNより独立して選択される1〜4のヘテロ原子を含有して、各環が5若しくは6の環原子を有する、安定した、単環式又は二環式、飽和、部分飽和、又は芳香族の環系であり;例示の芳香族Hetには、フラン、チオフェン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ピリミジン、キノリン、イソキノリン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、インダゾール、等が含まれる。例示の不飽和Hetには、テトラヒドロフラン、ピラン、ジヒドロピラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、ピペリジン、ピロリジン、モルホリン、テトラヒドロチオピラン、テトラヒドロチオフェン、2H−ピロール、ピロリン、ピラゾリン、イミダゾリン、チアゾリジン、イソオキサゾリジン、等が含まれる。
典型的な第一工程は、式II:
以下の実施例では、典型的には、以下のシステムを利用する:
核磁気共鳴(NMR)スペクトルは、示す溶媒において、Varian Gemini 7 Tesla 300MHz機器、又はBruker Avance 400MHz機器で記録した。化学シフトは、テトラメチルシラン(TMS)からの下方及び上方磁場のppmで示す。共鳴多重性について、s、d、t、m、br、及びappは、それぞれ一重項、二重項、三重項、多重項、ブロード、及びアパレントをそれぞれ示す。質量分析(MS)スペクトルは、Finnigan SSQ7000 TSP又はFinnigan SSQ710 DI/EI機器で報告した。LC−MSは、Waters XterraTM MS C8 2.5μm 2.1x30mmカラム、Waters 996 フォトダイオードアレイ検出器、及びMicromass ZMDを取り付けたWaters 2790LCシステムで得た。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)アッセイは、Zorbax カラムSB−C8(4.6mmx15cm)を取り付けたヒューレット・パッカード 1100シリーズHPLCシステムを使用して実施した。カラムクロマトグラフィーは、シリカゲル60(230〜400メッシュ、ASTM,メルク)を使用して実施して、薄層クロマトグラフィー(TLC)は、TLCプレコートプレート、シリカゲル60 F254(メルク)で実施した。
1−tert−ブトキシカルボニルアミノ−シクロブタンカルボン酸(3g,13.94ミリモル)の乾燥DMF(50mL)溶液へN,O−ジメチルヒドロキシルアミンxHCl(1.36g,13.94ミリモル)とDIEA(9.21mL,55.75ミリモル)を加えた。この反応フラスコを0℃へ冷やして、10分後、この溶液へHATU(5.30g,13.94ミリモル)を加えた(添加時に黄色くなった)。2時間後、減圧でのロータリーエバポレーションによってDMFを除去した。残渣を100mL EtOAcに溶かして10%クエン酸(水溶液)と飽和NaHCO3(水性)溶液で2回洗浄した。有機相をNa2SO4で乾燥させ、濾過して、シリカ上で蒸発させた。この生成物をフラッシュクロマトグラフィー(ヘプタン:酢酸エチル(1:1))によって精製して、ゆっくり結晶化する無色のオイルとして生成物(3.13g)を収率87%で得た。
乾燥ジエチルエーテル(35mL)に溶かしたワインレブアミドBB1−a(1.10g,4.27ミリモル)の溶液へLiAlH4(202mg,5.33ミリモル)を0℃で加えた。この溶液を15分間撹拌した後で、この反応物を酒石酸水素カリウム(飽和水溶液)のゆっくりとした添加で冷まして、10分間撹拌した。この溶液を分離漏斗へ注いで、水相を酢酸エチルで2回抽出した。合わせた有機相を0.5M HCl(3回)、NaHCO3(水溶液)(2回)、及び塩水(1回)で洗浄した。有機相をNa2SO4で乾燥させ、濾過して、シリカ上で蒸発させた。この生成物をフラッシュクロマトグラフィー(ヘプタン:酢酸エチル(4:1→3:1))によって精製して、生成物(0.647g)を白色の結晶として収率76%で得た。
BB1−b(1.75g,8.78ミリモル)をCH2Cl2(18mL)に溶かして、不活性気体下に氷浴で冷やした。ピリジン(2.85mL)に続いてt−ブチルイソシアニド(1.50mL,13.3ミリモル)を加えた。次いで、トリフルオロ酢酸(1.35mL,17.5ミリモル)を30分にわたり滴下した。この黄色の溶液を室温で一晩撹拌した。この混合物を濃縮し、EtOAc(100mL)で希釈して、1N HCl(50mL)、飽和NaHCO3(50mL)、及び飽和NaCl(2x50mL)で連続的に洗浄した。乾燥(Na2SO4)と、真空下での濃縮。得られた粗生成物をTHF(2.5mL)と3/1 MeOH−水中1M LiOH(2.5mL)で、室温で処理した。TLC(3/1 石油エーテル−EtOAc)。45分の反応時間の後で、1N HCl(2.5mL)、水(10mL)、及びEtOAc(20mL)を加えて、層を分離させた。有機相を飽和NaHCO3(20mL)と、次いで飽和NaCl(2x20mL)で洗浄し、乾燥(Na2SO4)させて、濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー(75gシリカ、5/1〜1/1 石油エーテル:EtOAc)によって、白色の固形物(2.36g,89%)を得た。
BB1−c(1.30g,4.33ミリモル)を、アミド加水分解がLCMSによりモニタリングされるように完了するまで、6N HCl(40mL)とともに還流させた。この混合物を蒸発させて、水と数回共沸させた。残渣へ1M NaOH(15mL)を加えて、この塩基性溶液を真空下に15分間撹拌した。pHを10〜11に保ちながら、ジオキサン(10mL)中のBoc2O(1.92g,8.80ミリモル)を加えて、この混合物を室温で一晩撹拌した。この混合物を水(50mL)で希釈し、氷浴において1N HClでpH3へ酸性化してから、EtOAc(2x50mL,次いで30mL)で抽出した。有機相を飽和NaCl(50mL)で洗浄し、乾燥(Na2SO4)させ、蒸発させて、粗製のP1合成断片BB1(0.649g)を得た。
臭化ベンジル(185g,1.08モル)と(1.5g)の塩化水銀の撹拌混合物へエピクロロヒドリン(100g,1.08モル)を加えた。この反応混合物を100℃で12時間加熱した。TLC分析により、生成物の生成を確認した。この生成物を、石油エーテルを溶出液として使用するカラムクロマトグラフィーによって、濃褐色の反応混合物より分離させた。TLCシステム;石油エーテル:酢酸エチル(9:1),RF=0.7。収量;148g,51%。
水素化ナトリウム(22.5g,0.562モル)の800mLの乾燥ジオキサン撹拌懸濁液へマロン酸ジエチル(90g0.562モル)を20分にわたり滴下した。この添加が完了した後で、BB2−a(148g,0.56モル)を20分にわたり滴下した。次いで、この混合物を還流で24時間加熱した。室温へ冷却後、この混合物へ少量のジオキサン(約20mL)中の水素化ナトリウム(22.5g,0.562モル)を加えて、還流での加熱をさらに48時間続けた。溶媒を減圧下に一部除去して、この混合物を800mLの水で処理した。次いで、この混合物を酢酸エチル(500mLx3)で抽出し、抽出物を乾燥(Na2SO4)させて真空で濃縮して、残渣を、石油エーテル:酢酸エチル(10%)を使用するカラムクロマトグラフィーによって精製して、これより表題化合物を得た。TLCシステム;石油エーテル:酢酸エチル(9:1),RF=0.3。収量:100g,58%。
化合物BB2−b(40g)のEtOH(500mL)溶液へ10%パラジウム担持チャコール(4g)を加えて、この混合物を50psiにて室温で3.5時間水素化した。触媒を濾過によって除去し、酢酸エチル、EtOHで洗浄してから、溶媒を減圧下に除去した。ヘキサン/酢酸エチルを溶出液とするシリカゲルクロマトグラフィーによって残渣を精製して、表題化合物を得た。TLCシステム;石油エーテル:酢酸エチル(9:1),RF=0.3。収量:18g,64%。
化合物BB2−c(18g,0.0833モル)のDCM(200mL)溶液へPCC(37g,0.176モル)を加えて、この混合物を室温で4時間撹拌した。この溶液をシリカゲルカラムに通して濾過し、残渣をDCM/MeOH(98/2)で洗浄してから、同様のカラムに通して濾過した。合わせた画分を減圧下に蒸発させて、所望の化合物(11g,62%)を得た。
化合物BB2−d(11g,0.0513モル)の乾燥DCM(150mL)冷却溶液へDAST(18.72g,0.116モル)の溶液を滴下して、この混合物を室温で一晩撹拌した。この混合物を氷水へ加えて、DCMで3回抽出した。この溶液を硫酸ナトリウムで乾燥させて、減圧下に蒸発させた。ヘキサン/酢酸エチルを溶出液として利用するシリカゲルクロマトグラフィーによって残渣を精製して、表題化合物(7.7g,64%)を得た。
化合物BB2−e(7.7g,0.0325モル)を氷冷0.5Mエタノール性水酸化カリウム溶液(30mL)と水(6mL)に溶かした。この混合物を室温で一晩撹拌した。水を加えて、ほとんどのエタノールを減圧下に除去した。この混合物を2M HClで酸性化して、酢酸エチルで3回抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下に蒸発させて、所望の化合物(5.8g,86%)を得た。
化合物BB2−f(5.8g,0.0273モル)の乾燥ジオキサン(100mL)溶液へtert−ブタノール(24.4mL)、DPPA(7.87g,0.027モル)、及びTEA(2.87g,0.0284モル)を加えて、この混合物を5時間還流させた。酢酸エチル(約200mL)を加えて、有機相を5%クエン酸と飽和炭酸水素ナトリウムで2回洗浄した。この溶液を乾燥させて、減圧下に蒸発させた。所望の生成物(4g,51.4%)をヘキサン/酢酸エチルでのシリカゲルクロマトグラフィーによって単離した。
化合物BB2−g(4g,0.0143モル)の乾燥THF(100mL)氷冷溶液へ2Mホウ水素化リチウムの溶液(30mL)をゆっくり加えて、この混合物をそのまま室温まで温めた。この混合物を室温で3時間撹拌した。氷水と5%クエン酸を加えて、この混合物をDCMで3回抽出した。有機相を乾燥(Na2SO4)させ、濾過し、減圧下に蒸発させて、表題化合物(3.1g,91%)を得た。
化合物BB2−h(3.1g,0.0130モル)の乾燥DCM(100mL)溶液へデス・マーチン(Dess Martin)ペルヨージナン(19.9g,0.0470モル)を加えて、この混合物を室温で3時間撹拌した。酢酸エチル(200mL)を加えて、有機相を10%チオ硫酸ナトリウム溶液で2回、0.5M NaOHで2回、そして塩水で洗浄した。有機相を乾燥させて、減圧下に蒸発させた。ヘキサン/酢酸エチルを溶出液とするシリカゲルクロマトグラフィーによって残渣を精製して、これより表題化合物(2.7g,87%)を得た。
化合物BB2−i(1.5g,0.0064モル)の乾燥DCM(100mL)氷冷溶液へtert−ブチルイソシアネート(0.81g,0.009モル)とピリジン(2.04g,0.027モル)を加えた。トリフルオロ酢酸(1.58g,0.015モル)を10分の時間にわたり加えた。この混合物を室温で5時間撹拌した。酢酸エチルを加えて、有機相を5%クエン酸と塩水で2回洗浄した。有機相を蒸発させて、ジオキサン(50mL)に溶かした。1M LiOH溶液(100mL)を加えて、この混合物を室温で一晩撹拌した。5%クエン酸を加えて、この混合物を酢酸エチルで3回抽出した。有機相を塩水で洗浄し、乾燥(Na2SO4)させ、濾過して、減圧下に蒸発させた。この生成物を、ヘキサン/酢酸エチルを溶出液とするシリカゲルクロマトグラフィーによって精製した(1.0g,46%)。
化合物BB2−j(1g)を6N HCl(40mL)に溶かして、加熱して24時間還流させた後で、TLCは、この反応がすでに完了に達したことを示した。この反応混合物を真空で濃縮して、残渣をTHF;H2O(7;3,50mL)に溶かして、TEA(1.8mL,0.012モル)とBoc無水物(2.6g,0.012モル)をともに加えた。この混合物を室温で8時間撹拌したときに、TLCによりこの反応がすでに完了に達したことを確認した。この反応混合物を真空で濃縮して、残渣を、クロロホルム中5%メタノールを使用するカラムクロマトグラフィーによって精製して、これより表題化合物(0.6g,72%)を得た。
合成断片3−代わりのP1合成断片(BB3)の製造
臭化ベンジル(46.0g,0.269モル)及びエピクロロヒドリン(24.9g,0.269モル)及び塩化水銀(0.04g,0.085ミリモル)の混合物を150℃で12時間加熱した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル:60〜120メッシュ、溶出液:石油エーテル中1% EtOAc)によって精製して、これより表題化合物(50g,収率70%)を粘稠な液体として得た。
撹拌子、滴下漏斗、及び還流冷却器を取り付けた3つ首フラスコへ乾燥ジオキサン(150mL)中のNaH(4.6g,0.192モル)を入れた。この撹拌した反応混合物へマロン酸ジエチル(30.75g,0.192モル)を30分にわたり滴下した。この添加が完了した後で、化合物BB3−a(50g,0.19モル)を30分の時間にわたり滴下した。この反応混合物を24時間還流させた。室温へ冷却後、この反応混合物へNaH(4.6g,0.192モル)と乾燥ジオキサン(40mL)を加えて、さらに加熱してさらに48時間還流させた。溶媒を減圧下に一部除去して、この混合物を水(150mL)で処理した。生成物をジエチルエーテル(3x100mL)で抽出し、有機層を塩水で洗浄して、無水Na2SO4で乾燥させた。溶媒を真空で濃縮して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル:60〜120メッシュ、溶出液:石油エーテル中2% EtOAc)によって精製し、これより表題化合物(33g,収率57%)を粘稠な液体として得た。TLCシステム:石油エーテル中15% EtOAc,Rf=0.5。
化合物BB3−b(33g,0.108モル)のEtOH(300mL)溶液へ10%パラジウム担持チャコール(10g)を加えて、この混合物を50psi気圧にて室温で48時間水素化した。触媒をセライトベッドに通す濾過によって除去して、EtOAcで徹底的に洗浄した。溶媒を減圧下に除去した。この生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(シリカゲル:60〜120メッシュ、溶出液:石油エーテル中20% EtOAc)によって精製して、これより生成物(3)(12g,収率51%)を粘稠な液体として得た。TLCシステム:石油エーテル中30% EtOAc,Rf=0.3。
化合物BB3−c(0.8g,0.0037モル)を乾燥DCM(16mL)に溶かして、0℃へ冷やした。この冷たい溶液へDAST(1.8g,0.011モル)を滴下した。この反応混合物を室温へ温めて、12時間撹拌した。この反応混合物を冷たい飽和NaHCO3溶液で冷ました。粗生成物をDCM(100mL)で抽出した。有機層を10% NaHCO3溶液、水に続いて塩水で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥させた。溶媒を真空で濃縮して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル:60〜120メッシュ、溶出液:石油エーテル中1〜2% EtOAc)によって精製して、これより表題化合物(460mg,収率57%)を薄黄色の液体として得た。TLCシステム:石油エーテル中10% EtOAc,Rf=0.4。
化合物BB3−d(0.46g,0.0021モル)をEtOH中の氷冷0.5M水酸化カリウム溶液(4.2mL)と水(1.4mL)に溶かした。この混合物を室温で一晩撹拌した。水を加えて、ほとんどのエタノールを減圧下に除去した。この混合物を2N HClで酸性化して、EtOAc(3x50mL)で抽出した。有機相を無水Na2SO4で乾燥させた。溶媒を真空で濃縮して、粗製の表題化合物(0.35g,粗製)を得て、これをそのまま次の工程に使用した。TLCシステム:石油エーテル中50% EtOAc,Rf=0.3。
化合物BB3−e(0.35g,0.0018モル)の乾燥ジオキサン(6mL)溶液へtert−ブタノール(1.8mL)、ジフェニルホスホリルアジド(0.56g,0.002モル)、及びトリエチルアミン(0.2g,0.002モル)を加えて、この混合物を5時間還流させた。この反応の完了後、この反応混合物へEtOAc(60mL)を加えて、有機層を5%クエン酸(2x20mL)に続いて飽和NaHCO3(50mL)で洗浄した。有機溶媒を減圧下に蒸発させた。残渣へEtOAc(100mL)を加えて、有機層を塩水で洗浄して、無水Na2SO4で乾燥させた。溶媒を真空で濃縮して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル:60〜120メッシュ、溶出液:石油エーテル中5〜10% EtOAc)によって精製し、これより表題化合物(0.27g,収率56%)を白色の結晶として得た。TLCシステム:石油エーテル中20% EtOAc,Rf=0.4。
化合物BB3−f(0.27g,0.001モル)の乾燥THF(10mL)氷冷溶液へ2Mホウ水素化リチウム溶液(2mL,0.004モル)をゆっくり加えて、この混合物をそのまま室温まで温めた。この混合物を室温で3時間撹拌した。この反応混合物を氷水(2mL)と5%クエン酸(5mL)で冷まして、粗生成物をDCM(2x50mL)で抽出した。有機層を塩水で洗浄して、無水Na2SO4で乾燥させた。溶媒を真空で濃縮して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル:60〜120メッシュ、溶出液:石油エーテル中15〜18% EtOAc)によって精製し、これより表題化合物(90mg,収率39%)を白色の固形物として得た。TLCシステム:石油エーテル中50% EtOAc,Rf=0.5。
乾燥DCM(4.5mL)中の化合物BB3−g(90mg,0.0004モル)の脱気溶液へデス・マーチンペルヨージナン(0.21g,0.0005モル)を加えて、この混合物を室温で3時間撹拌した。EtOAc(30mL)を加えて、有機層を10%チオ硫酸ナトリウム溶液(2x10mL)、0.5M NaOH(20mL)、及び塩水で洗浄した。有機層を無水Na2SO4で乾燥させた。溶媒を真空で濃縮して、粗生成物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル:60〜120メッシュ、溶出液:石油エーテル中10〜15% EtOAc)によって精製し、これより表題化合物(75mg,収率87%)を白色の結晶性固形物として得た。TLCシステム:石油エーテル中20% EtOAc,Rf=0.4。
化合物BB3−h(1.3g,0.0059モル)の乾燥DCM(25mL)氷冷溶液へtert−ブチルイソシアニド(0.75g,0.0089モル)と乾燥ピリジン(2.6mL)を加えた。温度を0℃に維持しながら、トリフルオロ酢酸(0.9mL,0.0118モル)を10分の時間にわたり加えた。この反応混合物を室温へゆっくり温めて、16時間撹拌した。EtOAc(50mL)を加えて、有機相を5%クエン酸と塩水で2回洗浄した。有機相を蒸発させて、粗生成物をTHF(25mL)に溶かした。MeOH−H2O(3:2 v/v)中の1M LiOH溶液(2.6mL)を加えて、この混合物を室温で2時間撹拌した。この反応混合物を5%クエン酸で冷まして、この混合物を酢酸エチル(2x25mL)で抽出した。有機層を塩水で洗浄して、無水Na2SO4で乾燥させた。溶媒を真空で蒸発させて、次の工程で使用するのに十分純粋である表題化合物(1.6g,収率84%)を得た。TLCシステム:石油エーテル中20% EtOAc,Rf=0.3。
化合物BB3−i(1.6g,0.005モル)を、アミド加水分解が完了するまで、6N HCl(60mL)とともに16時間還流させた。溶媒を減圧下に蒸発させて、水と数回同時蒸発させた。生成物をTHF:H2O(7:3 v/v,50mL)に溶かし、0℃へ冷やして、Et3N(2.1mL,0.015モル)に続いて二炭酸ジtert−ブチル(2.18g,0.01モル)を加えた。この混合物を室温で一晩撹拌した(この反応を通して、pHを一定間隔でモニタリングして、約11に保った)。この反応混合物を1N HClで中和して、生成物をEtOAc(2x50mL)で抽出した。有機層を塩水で洗浄し、無水Na2SO4で乾燥させた。溶媒を減圧下に蒸発させて、カラムクロマトグラフィーによる精製(シリカゲル:60〜120メッシュ,溶出液:CHCl3中5% MeOH)を続けて、これより表題のP1合成断片(0.65g,収率50%)を固形物として得た。TLCシステム:CHCl3中30% MeOH,Rf=0.3。
合成断片4−例示のP1−プライム側鎖合成断片(BB4)
500mg(1.51ミリモル)の1−((tert−ブチルジメチルシリルオキシ)メチル)−3−ヒドロキシシクロブチルカルバミン酸tert−ブチル(J. Med. Chem., 199033 (10) 2905-2915 に記載のように、1−[[(tert−ブチルオキシ)カルボニル]アミノ]−3−ヒドロキシシクロブタン−1−カルボン酸エチルの還元によって製造する)とプロトンスポンジ(N,N,N’,N’−テトラメチルナフタレン−1,8−ジアミン)(1.63g,6.04ミリモル)をDCM(18ml)に溶かし、0℃へ冷やして、(447mg,3.02ミリモル)の四フッ化ホウ素トリメチルオキソニウムを、激しい撹拌下に、固形物として一度に加えた。この反応混合物を3時間撹拌し、DCM(50ml)で希釈して、20mlの塩水を激しい撹拌下に加えた。有機相を重炭酸ナトリウム、塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させて、短いシリカカラム(DCMを溶出液とする)で精製した。生じる生成物を5mlのTHFに溶かし、フッ化テトラブチルアンモニウムの1M THF溶液(1M)の4.5mlを加えて、室温で4.5時間撹拌した。TLCによってモニタリングし;シリカとともに蒸発させ、シリカ(EtOAc−ヘキサン 1:1〜純正EtOAc)で精製して、これより表題化合物(251mg,72%)を得た。LC/MS 232 (M+1)。
アルコールBB4−aを20mlのDCMに溶かし、デス・マーチンペルヨージナンを一度に加えた。2.5時間撹拌し;50mlのDCMで希釈して、20mlの10% Na2S2O3を加え、撹拌し、重炭酸ナトリウム、塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥させた。シリカ(EtOAc−ヘキサン 1:1〜純正EtOAc)で精製して、これより表題化合物(500mg,59%)を得た。
アルデヒドBB4−b(498mg,1.56ミリモル)を乾燥DCM(8ml)に溶かした。ピリジン(0.52ml)を撹拌条件下に加えて、続いてシクロプロピルイソニトリルを加えた。この反応物を氷浴に入れて、0.25mlのTFAを20分の間滴下した。反応混合物を一晩撹拌した。1M HCl、重炭酸ナトリウム、塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、蒸発させ、ジオキサンに溶かして水酸化リチウムとともに一晩撹拌して、クエン酸で中和した。生じる溶液より、生成物をEtOAcで抽出した。シリカ(EtOAc−ヘキサン 1:3〜1:1)で精製して、これより263mg(54%)の表題化合物を得た。LC/MS 314 (M+1)。
実施例1
DMF(20mL)に溶かした2−(1−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)シクロブチル)−2−ヒドロキシ酢酸(400mg,1.63ミリモル)の溶液へ1−メチル−1H−ピラゾール−3−アミン(158mg,1.63ミリモル)とDIEA(1.08mL,6.52ミリモル)を加えた。この溶液を0℃へ冷やして、10分後にHATU(620mg,1.63ミリモル)を加えた。室温でほぼ2時間後、LC−MSは、生成物を示して出発材料を示さなかったので、溶媒をロータリーエバポレーションによって除去した。粗生成物を40mLのEtOAcに溶かして、25mLの飽和NaHCO3(水溶液)で洗浄した。有機相をNa2SO4で乾燥させ、濾過して、蒸発乾固させた。ヘプタン:酢酸エチル(1:1)の勾配で溶出させるBiotage Flashmasterの25gシリカカラムで粗生成物を精製して、これより表題化合物(488mg,収率92%)を白色の固形物として得た。[M+H]+ = 325。
メタノール及び塩化アセチルの予め作製した9対1混合物(10mL)を化合物1−a(244mg,0.752ミリモル)へ加えて、この溶液を6時間撹拌した。次いで、溶媒をロータリーエバポレーションによって除去して、粗生成物を高真空に一晩置いた。生じる非保護化P1−プライム側鎖合成断片の塩酸塩をDMF(15mL)に溶かして、この溶液へ(S)−2−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)−3−(1−メチルシクロブチル)プロパン酸(193mg,7.52ミリモル)とDIEAを加えた。この溶液を0℃へ冷やして、10分後にHATU(620mg,1.63ミリモル)を加えて、この溶液をそのまま室温へ達せしめた。ほぼ2時間後、溶媒をロータリーエバポレーションによって除去した。粗生成物を40mLのEtOAcに溶かして、25mLの飽和NaHCO3(水溶液)で洗浄した。有機相をNa2SO4で乾燥させ、濾過して、蒸発乾固させた。ヘプタン:酢酸エチルの勾配で溶出させる25gシリカカラムで粗生成物を精製して、これより表題化合物(235mg,67%)を得た。[M+H]+ = 464。
メタノール及び塩化アセチルの予め作製した9対1混合物(8mL)を化合物1−b(100mg,0.216ミリモル)へ加えて、この溶液を6時間撹拌した。次いで、溶媒をロータリーエバポレーションによって除去して、粗生成物を高真空に一晩置いた。生じる脱保護化P2−P1−プライム側鎖単位の塩酸塩をDMF(15mL)に溶かし、4−(フェニルスルホンアミド)安息香酸(193mg,7.52ミリモル)とDIEAを加えて、この溶液を0℃へ冷やした。10分後にHATU(620mg,1.63ミリモル)を加えて、この溶液をそのまま室温へ達せしめた。ほぼ2時間後、溶媒をロータリーエバポレーションによって除去し、粗生成物をEtOAc(40mL)に溶かして、飽和NaHCO3(水溶液)(25mL)で洗浄した。有機相をNa2SO4で乾燥させ、濾過して、蒸発乾固させた。DCM:メタノールの勾配で溶出させるBiotage Flashmasterの25gシリカカラムで粗生成物を精製して、これより表題化合物(112mg,83%)を得た。[M+H]+ = 623。
化合物1−c(112mg,0.180ミリモル)をジクロロメタン(15mL)に溶かして、この溶液へデス・マーチンペルヨージナン(114mg,0.270ミリモル)を加えた。この濁った反応混合物を4時間撹拌した。その後、10% Na2S2O3(水溶液)(15mL)と10% NaHCO3(水溶液)(15mL)を加えて、この溶液が澄明になるまで撹拌した。相分離器によって、有機相を水相より分離した。有機溶媒をロータリーエバポレーションによって除去して、粗生成物を半分取用LC−MSでの精製のために少量のアセトニトリル及びH2Oに溶かした。精製は、移動相A(90:10 H2O:アセトニトリル、10mM NH4Ac)及びB(10:90 H2O:アセトニトリル、10mM NH4Ac)を35〜50% Bより使用するXBridge フェニル(5μm)カラムで実施した。表題生成物を精製して、凍結乾燥によって、収率28%(31mg)の白色の固形物とした。[M+H]+ = 621。
以下の表に図解する化合物は、適正なR1aR1bアミンとP1、P2、及びP3合成断片を使用して、最終生成物のα−ケトアミドへのデス・マーチン酸化を続けて、実施例1で概説した手順と同様に製造した。
実施例50
DMF(約8ml/ミリモル)に溶かしたBB2(1当量、1.63ミリモル)の溶液へシクロプロピルアミン(1当量、1.63ミリモル)とDIEA(4当量、6.52ミリモル)を加えた。この溶液を0℃へ冷やして、10分後にHATU(1当量、1.63ミリモル)を加えた。室温でほぼ2時間後、LC−MSが生成物を示して出発材料を示さなかったので、溶媒をロータリーエバポレーションによって除去した。粗生成物を40mL EtOAcに溶かして、25mL飽和NaHCO3(水溶液)で洗浄した。有機相をNa2SO4で乾燥させ、濾過して、蒸発乾固させた。Biotage Flashmasterの25gシリカカラムで粗生成物を精製して、これより表題生成物(92%)を白色の固形物として得た。
メタノール:塩化アセチル(9:1)の溶液(1.5mL)に化合物50−a(50mg,0.156ミリモル)を0℃で溶かした。この溶液を室温で16時間撹拌してから、濃縮して、DCMと2回同時蒸発させた。得られた残渣を無水DMF(1mL)に溶かしてから、乾燥DMF(2mL)中の(S)−2−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)−3−(1−フルオロシクロペンチル)プロパン酸(WO2006/064286の実施例8に記載のように製造)(45mg,0.165ミリモル)及びHATU(63mg,0.165ミリモル)の冷溶液へ0℃で加えた。DIEA(130μL,0.75ミリモル)を加えて、この反応混合物を0℃で30分間、次いで室温で2時間撹拌した。この溶液を真空下に濃縮し、残渣をDCM(3mL)に溶かして、シリカカラム(10g)へ適用した。この化合物をフラッシュクロマトグラフィー(ヘプタン:酢酸エチル 75:25〜25:75)によって精製して、これより表題化合物(74mg,95%)をジアステレオマーの混合物として得た。MS m/z 478.2 (M+H)+。
実施例1、工程dに記載の方法に従ってα−ヒドロキシアミド50−bを酸化した。フラッシュクロマトグラフィーによる精製によって、表題化合物をジアステレオマーの混合物として得た。MS m/z 476.2 [M+H]+。
メタノール:塩化アセチル(9:1)の溶液(1.5mL)にカルバミン酸エステル50−c(71mg,0.15ミリモル)を0℃で溶かした。この溶液を室温で16時間撹拌してから濃縮して、DCMと2回同時蒸発させた。この粗生成物を乾燥DMF(1mL)に0℃で溶かしてから、乾燥DMF(2mL)中の4−ヒドロキシ−3−フルオロ安息香酸(25mg,0.165ミリモル)及びHATU(63mg,0.165ミリモル)の冷溶液へ加えた。DIEA(130μL,0.75ミリモル)を加えて、この反応混合物を0℃で30分間、次いで室温で2時間撹拌した。この溶液を真空下に濃縮し、残渣をDCM(3mL)に溶かして、(DCM:MeOH 100:0〜92:8)で溶出させるシリカカラム(10g)でのフラッシュクロマトグラフィーによって、次いで分取用クロマトグラフィー(20〜70%勾配、移動相:アセトニトリル−水、1% NH4OH)によって精製し、これより表題化合物(4.2mg,6%)を得た。MS m/z 514.1 494 (M-HF)+。純度91%(分析用LCMSによって評価)。
(S)−2−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)−3−(1−メチルシクロペンチル)プロパン酸(272mg,1ミリモル)をMeOH(1mL)に溶かした。ジオキサン中4M HCl(3mL)を室温で滴下した。ほぼ3時間後、溶媒をロータリーエバポレーションによって除去し、残渣をMeOH(2x)と同時蒸発させて、過剰のHClを除去した。得られた化合物をさらに精製せずに後続の工程に使用した。
化合物123−a(19mg,86マイクロモル)をTHF(1mL)に溶かして、トリエチルアミン(3当量)と塩化ピロリジン−1−カルボニル(1当量)を加えた。この反応物を密封管において50℃まで16時間加熱した。LC/MS分析は、90%の変換を示した。この反応溶液へEtOAcを加えて、有機相を0.1M HCl(水溶液)(3x)で洗浄した。有機層を乾燥(MgSO4)させ、濾過して、溶媒を真空で除去した。生じる粗製のメチルエステルをTHFに溶かして、メタノール中1M LiOH(3当量)を加えた。この溶液を室温で16時間撹拌した。LC/MS分析が完全なエステル加水分解を示したので、溶媒を真空で除去してリチウム塩を得て、これをさらに精製せずに後続の工程に使用した。
2−(1−アミノ−3−フルオロシクロブチル)−2−ヒドロキシ−N−(1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル)アセトアミド(64μモル)のTFA塩をDCM(2mL)に溶かして、室温で10分間予め撹拌した123−b(1.2当量)PyBOP(1.2当量)のDCM(2mL)溶液へ加えた。この混合物を室温で16時間撹拌してから、この反応物へDCMを加えて、有機相を0.1M HCl(水溶液)(2x)と10% NaHCO3(水溶液)(2x)で洗浄した。有機相を乾燥させて真空で濃縮して、残渣を分取用LC/MSによって精製した。得られたアルコールをDCM(1.5mL)に再び溶かして、デス・マーチンペルヨージナン(1.5当量マイクロモル)を室温で、1分量で加えた。この反応物を室温で2時間撹拌すると、その時間の後でLC/MS分析は、完全な酸化を示した。この反応物をDCMで希釈して、この溶液を10% Na2S2O3(水溶液)及び10% NaHCO3(水溶液)の1:1混合物で洗浄した。有機層を疎水性の相分離器(Phase Separator)に通して溶出させて、真空で濃縮した。残渣を分取用LC/MSによって精製して、標的化合物(収量:5.1mg,LC/MS:tR=4.97分、491.14 [M+H]+)を得た。
カテプシンKタンパク分解触媒活性の定量
PDBに記載されるように、ヒトの組換え酵素を使用して、カテプシンKについての簡便なアッセイを行う。
DE ヒトカテプシンK(濃化異骨症)、mRNA(cDNAクローンMGC:23107。
DR RZPD;IRALp962G1234。
DR SWISS−PROT;P43235;
組換えカテプシンKは、大腸菌、ピキア、及びバキュロウイルスの系が含まれる、様々な市販の発現系において発現させることができる。この精製された酵素は、慣用法によるプロ配列の除去によって活性化される。反応速度定数の定量のための標準アッセイ条件では、発蛍光ペプチド基質、典型的には、H−D−Ala−Leu−Lys−AMCを使用して、1mM EDTA及び10mM 2−メルカプトエタノールを含有する100mM Mes/トリス(pH7.0)、又は100mM リン酸Na塩、1mM EDTA、0.1% PEG4000(pH6.5)、又は5mM EDTA及び20mMシステインを含有する100mM 酢酸Na塩(pH5.5)のいずれかで定量して、いずれの場合も1M DTTを安定化剤として含んでもよい。使用した酵素濃度は、5nMであった。ストック基質溶液は、DMSO中10mMで調製した。スクリーニングを60μMの一定基質濃度で行って、綿密な反応速度試験は、250μMからの基質の倍々希釈で行った。アッセイ中の全DMSO濃度は、3%未満に保った。すべてのアッセイを周囲温度で実施した。生成物の蛍光(390nmで励起、460nmで放射)を Labsystems Fluoroskan Ascent 蛍光プレートリーダーでモニタリングした。AMC産物の産生から15分にわたり、産物の進行曲線を作成した。
本アッセイでは、バキュロウイルス発現性のヒトカテプシンSと Bachem より入手可能なboc−Val−Leu−Lys−AMC蛍光基質を384ウェルフォーマットにおいて使用して、ここでは7種の試験化合物を、既知のカテプシンS阻害剤比較薬を含んでなる陽性対照と並行して試験することができる。
280μl/ウェルの12.5% DMSOを96ディープウェル・ポリプロピレンプレートの2列のB〜H行へ加える。70μl/ウェルの基質をA行へ加える。2x250μl/ウェルのアッセイ緩衝液(100mM リン酸Na塩、100mM NaCl,pH6.5)をA行へ加え、混合し、プレートの下方へH行まで倍々希釈する。
96ウェルのV字底ポリプロピレンプレートの4行の2〜5及び7〜12列へ100μl/ウェルのアッセイ緩衝液を加える。
Multidrop384のような分配器を使用して、アッセイプレートの全ウェルへ30μl/ウェルを加えて、Ascentのような蛍光分光光度計で読み取る。
カテプシンLは Ki
カテプシンLのKiの定量には、上記の手順を以下の修正とともに使用する。
上記のアッセイを可変濃度の試験化合物とともに使用して、潜在的な阻害剤をスクリーニングする。基質及び阻害剤の緩衝化溶液への酵素の添加によって反応を開始する。式1:
本発明の化合物の選択物によって明示されるカテプシンS、カテプシンK、及びカテプシンLの阻害を、ナノモル濃度で表現されるKi値として表して、以下の表に提示する。
特許及び特許出願が含まれる、本出願において参照したすべての参考文献は、可能な限り完全な程度まで、参照により本明細書に組み込まれる。
Claims (15)
- 式I:
R1aは、Hであり;
R1bは、メチル、シクロプロピル、1−フェネチル、又はピラゾール−1−イルであり、該シクロプロピル又はフェニルは:C 1 −C 4 アルキル、ハロ、C 1 −C 4 ハロアルキル、C 1 −C 4 アルコキシ、C 1 −C 4 ハロアルコキシ、C 1 −C 4 アルコキシカルボニル、C 1 −C 4 アルキルカルボニル、アミノ、C 1 −C 4 アルキルアミノ、C 1 −C 4 ジアルキルアミノ、C 1 −C 4 アルキルスルホニル、C 1 −C 4 アルキルスルホニルアミノ、アミノカルボニル、アミノスルホニル、RxOC(=O)−C 0 −C 2 アルキレン(ここでRxは、H又はC 1 −C 4 アルキルである)又はC 3 −C 6 シクロアルキル−C 0 −C 2 アルキレン又はベンジル(該シクロアルキル又はベンジルは、C 1 −C 4 アルキル、ハロ、C 1 −C 4 ハロアルキル、C 1 −C 4 アルコキシ、C 1 −C 4 ハロアルコキシより選択される1〜3の置換基で置換されていてもよい)より独立して選択される3までの置換基で置換されていてもよく、該ピラゾール−1−イルは、C 1 −C 4 アルキル、ハロ、C 1 −C 4 ハロアルキル、C 1 −C 4 アルコキシ、又はシクロプロピルで置換されていてもよく;
R 2a とR 2b は、H、ハロ、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシより独立して選択され;
R 3 はC5−C10アルキルであり、該基は、ハロ、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシより独立して選択される1〜3の置換基で置換されていてもよく;又は
R3はC3−C7シクロアルキルメチルであり、該基は、C1−C4アルキル、ハロ、C1−C4ハロアルキル、C1−C4アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシより選択される1〜3の置換基で置換されていてもよく;
R4はカルボシクリルであり;又は
R 4 はモルホリン−4−イルであり;又は
R 4 は、そのいずれも4位で置換されるピペラジン−1−イル又はピペリジン−1−イルであるか、又は1位で置換されるピペリジン−4−イルであり;ここでいずれの場合も、該置換基は、−NHS(=O) 2 カルボシクリル又はNHS(=O)Hetより選択され、ここで該カルボシクリル又はHetは、ハロ、C 1 −C 4 アルキル、C 1 −C 4 ハロアルキル、又はC 1 −C 4 アルコキシで置換されていてもよく;又は
R 4 はチアゾリルであり、該基は、C 1 −C 4 アルキル、ハロ、又はC 1 −C 4 アルコキシで置換されていてもよく;又は
R 4 はフラニルであり;又は
R 4 は、式:
R 4 はフェニルであり、該基は、ハロ、ヒドロキシ、C 1 −C 4 アルキル、C 1 −C 4 ハロアルキル、シアノ、C 1 −C 4 アルキル−C(=O)NH−、及びC 1 −C 4 アルコキシより独立して選択される1〜3の置換基で置換されており;又は
R 4 は、式:
Hetは、O、S、及びNより独立して選択される1〜4のヘテロ原子を含有する、安定した、単環式、飽和、部分飽和、又は芳香族の環系であり、それぞれの環は、5若しくは6の環原子を有し;
カルボシクリルは、C 3 −C 6 シクロアルキル又はフェニルである]
の化合物、又はその医薬的に許容される塩、水和物、又はN−オキシド。 - R2aとR2bがともにFである、請求項1に記載の化合物。
- R2aが、クロロ、フルオロ、トリフルオロメチル、又はメトキシであり、R2bがHである、請求項1に記載の化合物。
- R3が、ネオペンチル、シクロブチルメチル、1−メチルシクロブチルメチル、又は1−メチルシクロペンチルメチルであり、このいずれも、1又は2のF又はOMeで置換されていてもよい、請求項1〜3のいずれかに記載の化合物。
- R3が1−フルオロシクロブチルメチルである、請求項4に記載の化合物。
- R4が、4位で、ハロ、アミノ、又はヒドロキシで置換されるシクロヘキシル又はピペラジン−1−イルである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の化合物。
- R4が、置換されたフェニルである、請求項1〜5のいずれかに記載の化合物。
- 該フェニルが、ハロ、ヒドロキシ、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、シアノ、C1−C4アルキルC(=O)NH−、又はC1−C4アルコキシより独立して選択される1〜3の置換基で置換される、請求項7に記載の化合物。
- 該フェニルが、m−フルオロ、p−フルオロ、p−ヒドロキシ、p−ヒドロキシ−m−クロロ、p−ヒドロキシ−m−フルオロ、p−ヒドロキシ−m−メトキシ、p−ヒドロキシ−m−メチル、ビス−p−クロロ−p−ヒドロキシ、m−シアノ、p−アセトアミド、又はo−フルオロ−p−ヒドロキシで置換される、請求項8に記載の化合物。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の化合物とそのための医薬的に許容される担体を含んでなる、医薬組成物。
- カテプシンSの不適正な発現又は活性化を特徴とする障害の予防又は治療のための医薬組成物であって、請求項1〜9のいずれかに定義される化合物を含む、前記医薬組成物。
- 障害が:
a)乾癬;
b)特発性血小板減少性紫斑病(ITP)、慢性関節リウマチ(RA)、多発性硬化症(MS)、重症筋無力症(MG)、シェーグレン症候群、グレイブス病、及び全身性紅斑性狼瘡(SLE)が含まれる自己免疫適応症;又は
c)アレルギー性鼻炎、喘息、アテローム性動脈硬化症、慢性閉塞性肺疾患(COPD)、及び慢性疼痛が含まれる非自己免疫適応症より選択される、請求項11に記載の医薬組成物。 - カテプシンSの不適正な発現又は活性化を特徴とする障害の予防又は治療のための医薬を製造するための、請求項1〜9のいずれかに定義されるような化合物の使用。
- 障害が:
a)乾癬;
b)特発性血小板減少性紫斑病(ITP)、慢性関節リウマチ(RA)、多発性硬化症(MS)、重症筋無力症(MG)、シェーグレン症候群、グレイブス病、及び全身性紅斑性狼瘡(SLE)からなる群より選択される自己免疫適応症;又は
c)アレルギー性鼻炎、喘息、アテローム性動脈硬化症、慢性閉塞性肺疾患(COPD)、及び慢性疼痛からなる群より選択される非自己免疫適応症である、請求項13に記載の使用。 - 式II:
PGは、H又は以下から選択されるN−保護基であり:ホルミル、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、t−ブチルアセチル、2−クロロアセチル、2−ブロモアセチル、トリフルオロアセチル、トリクロロアセチル、フタリル、o−ニトロフェノキシアセチル、α−クロロブチリル、ベンゾイル、4−クロロベンゾイル、4−ブロモベンゾイル、4−ニトロベンゾイル、ベンゼンスルホニル、p−トルエンスルホニル、ベンジルオキシカルボニル(Cbz)、p−クロロベンジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、p−ブロモベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロ−4,5−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、3,4,5−トリメトキシベンジルオキシカルボニル、1−(p−ビフェニリル)−1−メチルエトキシカルボニル、α,α−ジメチル−3,5−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル(Boc)、ジイソプロピルメトキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、メトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、4−ニトロフェノキシカルボニル、フルオレニル−9−メトキシカルボニル(Fmoc)、シクロペンチルオキシカルボニル、アダマンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、フェニルチオカルボニル、ベンジル、(bz)、トリフェニルメチル、ベンジルオキシメチル、及びトリメチルシリル;
PG*は、H又は以下から選択されるヒドロキシ保護基である:メチル、メトキシメチル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、t−ブトキシメチル、2−メトキシエトキシメチル、トリメチルシリル(TMS)、t−ブチルジメチルシリル(TBDMS)、トリベンジルシリル、トリフェニルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、1−エトキシメチル、1−メチル−1−メトキシエチル、t−ブチル、アリル、ベンジル、p−メトキシベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、トリチル、及びピキシル]の化合物。
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