JP5659449B2 - Fluorine gas generation method - Google Patents

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この発明はフッ素ガス発生方法に関する。 This invention relates to the fluorine gas generation method.

従来のフッ素ガス発生装置には、いわゆる中温法により、フッ素ガスを発生させるようにしたものがある(例えば、特許文献1参照)。このフッ素ガス発生装置では、電解槽内に、電解槽内を陽極室と陰極室とに分離するための隔壁が設けられ、陽極室内に陽極が設けられ、陰極室内に陰極が設けられている。   Some conventional fluorine gas generators generate fluorine gas by a so-called medium temperature method (see, for example, Patent Document 1). In this fluorine gas generator, a partition for separating the inside of the electrolytic cell into an anode chamber and a cathode chamber is provided in the electrolytic cell, an anode is provided in the anode chamber, and a cathode is provided in the cathode chamber.

そして、陽極と陰極との間に電解電圧が印加されると、電解槽内に収容され、且つ、90℃程度に加熱されることにより液状とされた混合溶融塩(KF・2HF)のうちのHFが電気分解し、陽極室内にF2ガスが発生し、陰極室内にH2ガスが発生する。このうち、F2ガスは工業的に使用され、H2ガスは大気中に放出される。 When an electrolysis voltage is applied between the anode and the cathode, the mixed molten salt (KF · 2HF) contained in the electrolytic bath and heated to about 90 ° C. HF is electrolyzed, F 2 gas is generated in the anode chamber, and H 2 gas is generated in the cathode chamber. Of these, F 2 gas is used industrially, and H 2 gas is released into the atmosphere.

特開平11−106979号公報(図12)Japanese Patent Laid-Open No. 11-106979 (FIG. 12)

ところで、上記のようなフッ素ガス発生装置では、陽極、陰極、その他のパッキン等の部品の交換等のために、定期的にメンテナンスを行なっている。このような場合には、まず、稼働中の装置に対する電圧印加および加熱を停止する。次に、陽極室内にN2ガス等の不活性ガスを供給し、この供給された不活性ガスで残留しているF2ガスを排出させ、F2ガスとの置換を行なう。そして、この状態において、メンテナンスを行なう。メンテナンスが終了したら、停止中の装置に対して加熱および電圧印加を再開する。そして、この再開により陽極室内に発生したF2ガスで残留している不活性ガスを排出させ、不活性ガスとの置換を行なう。以下、通常の稼働状態となる。 By the way, in the fluorine gas generator as described above, maintenance is periodically performed for replacement of parts such as an anode, a cathode, and other packings. In such a case, first, voltage application and heating to the operating apparatus are stopped. Next, an inert gas such as N 2 gas is supplied into the anode chamber, the F 2 gas remaining in the supplied inert gas is discharged, and replacement with F 2 gas is performed. In this state, maintenance is performed. When the maintenance is completed, heating and voltage application are resumed for the stopped apparatus. Then, by this restart, the inert gas remaining in the F 2 gas generated in the anode chamber is discharged and replaced with the inert gas. Hereinafter, a normal operating state is obtained.

しかしながら、上記従来のメンテナンス方法では、メンテナンス終了後に、再開により陽極室内に発生したF2ガスと残留している不活性ガスとの置換に数十時間とかなりの時間がかかるので、メンテナンス終了後から通常の動作を再開するまでにかなりの時間がかかってしまうという問題があった。また、再開により陽極室内に発生した初期のF2ガスはそのF2濃度が低くて使用できないため、この初期発生のF2ガスを廃棄せざるを得ず、原料のHFがある程度無駄になってしまうという問題もあった。 However, in the above conventional maintenance method, it takes several tens of hours to replace the F 2 gas generated in the anode chamber by resuming with the remaining inert gas after the maintenance is completed. There was a problem that it took a considerable time to resume normal operation. In addition, since the initial F 2 gas generated in the anode chamber due to resumption is low in F 2 concentration and cannot be used, this generated F 2 gas must be discarded, and the raw material HF is wasted to some extent. There was also a problem of end.

そこで、この発明は、メンテナンス終了後から通常の動作を再開するまでの時間を短縮することができ、また原料のHFを有効に使用することができるフッ素ガス発生方法を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a fluorine gas generation method capable of shortening the time from the end of maintenance to resuming normal operation and capable of effectively using raw material HF. .

本発明に係るフッ素ガス発生方法は、陽極室内および陰極室内を有し混合溶融塩のKF・2HFが収容された電解槽内の陽極と陰極との間に電解電圧を印加すると共に前記電解槽内の前記KF・2HFを加熱してフッ素ガス発生装置を稼動して、前記電解槽内に収容された前記KF・2HFを電気分解し、これにより前記陽極室内にフッ素ガスを、前記陰極室内に水素ガスを発生するフッ素ガス発生方法において、 前記電解槽内に収容された前記KF・2HFを電気分解した際に、前記陰極室内に発生した水素ガスとHFガスとの混合ガスから、HF除去部を介して水素ガスのみを大気中に放出する工程と、前記電解槽の稼動を停止した後、前記電解槽内のフッ素ガスを排気してから、前記電解槽内に不活性ガスを導入して前記電解槽内の雰囲気を不活性ガスに置換する工程と、前記電解槽内のメンテナンスを行った後、不活性ガスを排気してから、予め貯蔵しておいたフッ素ガスを導入して前記電解槽内の雰囲気をフッ素ガスに置換する工程と、フッ素ガスに置換後、前記電解槽を稼動する工程と、を含み前記電解槽内のフッ素ガスを排気した後、さらに前記陽極室内に残留しているフッ素ガスとHFガスとの混合ガスを前記HF除去部を介して大気中に放出する工程と、前記不活性ガスを排気した後、さらに前記陽極室内に残留している不活性ガスを前記HF除去部を介して大気中に放出する工程の少なくとも何れか一方をさらに含むことを特徴とする。
好ましくは、請求項1に記載の発明において、前記電解槽内には、該電解槽内を陽極室と陰極室とに分離するための隔壁が設けられ、前記陽極室内に設けられた陽極と前記陰極室内に設けられた陰極との間に電解電圧が印加されることにより、前記電解槽内に収容され、且つ、加熱により液状とされたKF・2HFのうちのHFを電気分解し、これにより前記陽極室内にフッ素ガスが発生し、前記陰極室内に水素ガスが発生する。
好ましくは、請求項1に記載の発明において、前記陽極室内に発生したフッ素ガスは、コンプレッサの駆動によりフッ素ガスタンク内に供給される。
好ましくは、請求項に記載の発明において、前記陽極および前記陰極への電圧印加を停止し、且つ、加熱を停止し、加熱により液状とされたKF・2HFをその温度の自然低下により固化させ、次いで前記陽極室内に残留しているフッ素ガスを排出し、前記陽極室内に不活性ガスを供給し、この状態においてメンテナンスを行ない、メンテナンスが終了したら、前記陽極室内に残留している不活性ガスを排出し、前記フッ素ガスタンク内の圧縮フッ素ガスを前記陽極室内に供給し、次いで固化したKF・2HFを加熱により液状とし、次いで前記陽極と前記陰極との間に電解電圧を印加する。
好ましくは、請求項3に記載の発明において、前記陽極室内に残留しているフッ素ガスあるいは前記陽極室内に残留している不活性ガスの排出は前記コンプレッサの駆動により行なう。
好ましくは、請求項5に記載の発明において、前記陽極室内に残留しているフッ素ガスあるいは前記陽極室内に残留している不活性ガス排出、その排出と不活性ガスあるいは圧縮フッ素ガスの供給とを数回繰り返す。
好ましくは、請求項1に記載の発明において、前記陽極室内に残留しているフッ素ガスあるいは前記陽極室内に残留している不活性ガスの排出は真空ポンプの駆動により行なう。
The fluorine gas generation method according to the present invention applies an electrolysis voltage between an anode and a cathode in an electrolytic cell having an anode chamber and a cathode chamber and containing KF · 2HF of a mixed molten salt, and in the electrolytic cell. The KF · 2HF is heated to operate a fluorine gas generator, and the KF · 2HF contained in the electrolytic cell is electrolyzed, whereby fluorine gas is introduced into the anode chamber and hydrogen is introduced into the cathode chamber. In the fluorine gas generation method for generating gas, an HF removal unit is formed from a mixed gas of hydrogen gas and HF gas generated in the cathode chamber when the KF · 2HF accommodated in the electrolytic cell is electrolyzed. Through the process of releasing only hydrogen gas into the atmosphere, and after stopping the operation of the electrolytic cell, after exhausting the fluorine gas in the electrolytic cell, introducing an inert gas into the electrolytic cell, Atmosphere in the electrolytic cell After replacing the atmosphere with an inert gas and performing maintenance in the electrolytic cell, the inert gas is exhausted, and then the fluorine gas stored in advance is introduced to change the atmosphere in the electrolytic cell. Fluorine gas remaining in the anode chamber and HF after exhausting the fluorine gas in the electrolytic cell, including the step of replacing with fluorine gas and the step of operating the electrolytic cell after replacing with fluorine gas A step of releasing a mixed gas with the gas into the atmosphere through the HF removal section; and after exhausting the inert gas, the inert gas remaining in the anode chamber is further removed through the HF removal section. It further includes at least one of steps for releasing into the atmosphere.
Preferably, in the invention according to claim 1, a partition for separating the inside of the electrolytic cell into an anode chamber and a cathode chamber is provided in the electrolytic cell, and the anode provided in the anode chamber and the By applying an electrolysis voltage to the cathode provided in the cathode chamber, HF of KF · 2HF contained in the electrolytic cell and made liquid by heating is electrolyzed, thereby Fluorine gas is generated in the anode chamber, and hydrogen gas is generated in the cathode chamber.
Preferably, in the invention described in claim 1, the fluorine gas generated in the anode chamber is supplied into the fluorine gas tank by driving the compressor.
Preferably, in the invention according to claim 3 , the voltage application to the anode and the cathode is stopped, the heating is stopped, and the KF · 2HF made liquid by heating is solidified by a natural decrease in the temperature. Then, the fluorine gas remaining in the anode chamber is discharged, the inert gas is supplied into the anode chamber, maintenance is performed in this state, and when the maintenance is completed, the inert gas remaining in the anode chamber is The compressed fluorine gas in the fluorine gas tank is supplied into the anode chamber, the solidified KF · 2HF is liquefied by heating, and then an electrolytic voltage is applied between the anode and the cathode.
Preferably, in the invention described in claim 3, the fluorine gas remaining in the anode chamber or the inert gas remaining in the anode chamber is discharged by driving the compressor.
Preferably, in the invention according to claim 5, the discharge of the fluorine gas remaining in the anode chamber or the inert gas remaining in the anode chamber is performed by the discharge and the supply of the inert gas or the compressed fluorine gas. Repeat several times.
Preferably, in the invention described in claim 1, the fluorine gas remaining in the anode chamber or the inert gas remaining in the anode chamber is discharged by driving a vacuum pump.

この発明によれば、電解槽内のメンテナンスを行った後、不活性ガスを排気してから、予め貯蔵しておいたフッ素ガスを導入して電解槽内の雰囲気をフッ素ガスに置換し、フッ素ガスに置換後、電解槽を稼動するようにしているので、電解槽内のメンテナンスを行った後、直ちに通常の動作を再開することができ、したがってメンテナンス終了後から通常の動作を再開するまで の時間を短縮することができ、また原料のHFを有効に使用することも可能となる。 According to the present invention, after the maintenance of the electrolytic cell, after exhausting the inert gas, the atmosphere was the previously pooled in advance fluorine gas is introduced in the electrolytic cell to the fluorine gas, the fluorine After replacing the gas, the electrolytic cell is operated, so that normal operation can be resumed immediately after maintenance inside the electrolytic cell. Therefore, from the end of maintenance until normal operation is resumed. The time can be shortened, and the raw material HF can be used effectively.

(第1実施形態)
図1はこの発明の第1実施形態としてのフッ素ガス発生装置の概略構成図を示す。このフッ素ガス発生装置は電解槽1を備えている。電解槽1の上側には蓋2が設けられている。電解槽1内の中央部において下部を除く部分には、電解槽1内を陽極室3と陰極室4とに分離するための隔壁5が設けられている。陽極室3内には陽極6が設けられ、陰極室4内には陰極7が設けられている。陽極6および陰極7の各上部は蓋2を貫通して蓋2の上側に突出されている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a fluorine gas generator as a first embodiment of the present invention. The fluorine gas generator includes an electrolytic cell 1. A lid 2 is provided on the upper side of the electrolytic cell 1. A partition wall 5 for separating the inside of the electrolytic cell 1 into an anode chamber 3 and a cathode chamber 4 is provided at a portion other than the lower portion in the central portion of the electrolytic cell 1. An anode 6 is provided in the anode chamber 3, and a cathode 7 is provided in the cathode chamber 4. Each upper part of the anode 6 and the cathode 7 passes through the lid 2 and protrudes above the lid 2.

電解槽1内の上部を除く下側には混合溶融塩のKF・2HF8が収容されている。電解槽1の外周部にはヒータ等の加熱手段(図示せず)が設けられている。そして、加熱手段による加熱により、電解槽1内の温度がKF・2HF8の融点71.7℃よりも高い90℃程度になると、KF・2HF8が液状となり、加熱手段による加熱が停止されると、液状のKF・2HFがその温度の自然低下により固化するようになっている。この場合、KF・2HF8が液状であっても固化した状態のいずれであっても、陽極室3および陰極室4の上部は空間となっている。   A mixed molten salt KF · 2HF8 is accommodated on the lower side of the electrolytic cell 1 except for the upper part. A heating means (not shown) such as a heater is provided on the outer periphery of the electrolytic cell 1. When the temperature in the electrolytic cell 1 becomes about 90 ° C. higher than the melting point of 71.7 ° C. of KF · 2HF8 due to heating by the heating means, KF · 2HF8 becomes liquid and when heating by the heating means is stopped, Liquid KF · 2HF is solidified by a natural drop in its temperature. In this case, the upper part of the anode chamber 3 and the cathode chamber 4 is a space whether the KF · 2HF 8 is in a liquid state or in a solidified state.

陰極室4上における蓋2の所定の箇所にはHFガス供給配管11が挿通されている。HFガス供給配管11の一端部は、電解槽1内に収容されたKF・2HF8中に位置させられている。HFガス供給配管11の途中にはHFガス供給用電磁弁12が設けられている。HFガス供給配管11の他端部にはHFガス供給源13が接続されている。   An HF gas supply pipe 11 is inserted into a predetermined portion of the lid 2 on the cathode chamber 4. One end of the HF gas supply pipe 11 is positioned in KF · 2HF 8 accommodated in the electrolytic cell 1. An HF gas supply electromagnetic valve 12 is provided in the middle of the HF gas supply pipe 11. An HF gas supply source 13 is connected to the other end of the HF gas supply pipe 11.

陰極室4上における蓋2の他の所定の箇所にはH2ガス排出配管14が挿通されている。H2ガス排出配管14の一端部は陰極室4の上部空間に連通されている。H2ガス排出配管14の途中にはH2ガス排出用電磁弁15が設けられている。H2ガス排出配管14の他端部にはHFガス除去筒16の一端部が接続されている。HFガス除去筒16内にはNaF等からなるHF吸着剤が収容されている。HFガス除去筒16の他端部は大気中に開放されている。 An H 2 gas discharge pipe 14 is inserted into another predetermined portion of the lid 2 on the cathode chamber 4. One end of the H 2 gas discharge pipe 14 communicates with the upper space of the cathode chamber 4. In the middle of the H 2 gas exhaust pipe 14 is H 2 gas discharge solenoid valve 15 is provided. One end of the HF gas removal cylinder 16 is connected to the other end of the H 2 gas discharge pipe 14. An HF adsorbent made of NaF or the like is accommodated in the HF gas removal cylinder 16. The other end of the HF gas removal cylinder 16 is open to the atmosphere.

陽極室3上における蓋2の所定の箇所にはN2ガス供給配管21が挿通されている。N2ガス供給配管21の一端部は陽極室3の上部空間に連通されている。N2ガス供給配管21の途中にはN2ガス供給用電磁弁22が設けられている。N2ガス供給配管21の他端部にはN2ガス供給源23が接続されている。 An N 2 gas supply pipe 21 is inserted through a predetermined portion of the lid 2 on the anode chamber 3. One end of the N 2 gas supply pipe 21 communicates with the upper space of the anode chamber 3. In the middle of the N 2 gas supply pipe 21 is N 2 gas supplying solenoid valve 22 is provided. The other end of the N 2 gas supply pipe 21 N 2 gas supply source 23 is connected.

陽極室3上における蓋2の他の所定の箇所には共通配管24が挿通されている。共通配管24の一端部は陽極室3の上部空間に連通されている。共通配管24の途中にはコンプレッサ25が設けられている。共通配管24の他端部には第1、第2の配管26、27の各一端部が接続されている。   A common pipe 24 is inserted into another predetermined portion of the lid 2 on the anode chamber 3. One end of the common pipe 24 communicates with the upper space of the anode chamber 3. A compressor 25 is provided in the middle of the common pipe 24. One end of each of the first and second pipes 26 and 27 is connected to the other end of the common pipe 24.

第1の配管26の途中には第1の電磁弁28が設けられている。第1の配管26の他端部にはHFガス除去筒29の一端部が接続されている。HFガス除去筒29内にはNaF等からなるHF吸着剤が収容されている。HFガス除去筒29の他端部には配管30を介してF2ガスタンク31の一端部に接続されている。 A first electromagnetic valve 28 is provided in the middle of the first pipe 26. One end of an HF gas removal cylinder 29 is connected to the other end of the first pipe 26. An HF adsorbent made of NaF or the like is accommodated in the HF gas removal cylinder 29. The other end portion of the HF gas removal cylinder 29 is connected to one end portion of an F 2 gas tank 31 through a pipe 30.

2ガスタンク31の他端部にはF2ガス供給配管32の一端部が接続されている。F2ガス供給配管32の途中にはF2ガス供給用電磁弁33が設けられている。F2ガス供給配管32の他端部は、図示していないが、F2ガスタンク31から圧縮F2ガスの供給を受けて、F2ガスを工業的に使用する装置に接続されている。 One end of an F 2 gas supply pipe 32 is connected to the other end of the F 2 gas tank 31. In the middle of the F 2 gas supply pipe 32 is F 2 gas supplying solenoid valve 33 is provided. The other end portion of the F 2 gas supply pipe 32 is not shown, it is supplied with compressed F 2 gas from the F 2 gas tank 31, is connected to a device for industrial use an F 2 gas.

第2の配管27の途中には第2の電磁弁34が設けられている。第2の配管27の他端部は、H2ガス排出用電磁弁15とHFガス除去筒16との間におけるH2ガス排出配管14の所定の箇所に接続されている。 A second electromagnetic valve 34 is provided in the middle of the second pipe 27. The other end of the second pipe 27 is connected to a predetermined portion of the H 2 gas exhaust pipe 14 between the H 2 gas discharge solenoid valve 15 and the HF gas removal tube 16.

次に、上記構成のフッ素ガス発生装置の通常の動作について説明する。今、H2ガス排出用電磁弁15および第1の電磁弁28は開弁状態にあり、HFガス供給用電磁弁12、N2ガス供給用電磁弁22、第2の電磁弁34およびF2ガス供給用電磁弁33は閉弁状態にあるとする。また、コンプレッサ25は駆動状態にあるとする。 Next, normal operation of the fluorine gas generator configured as described above will be described. Now, the H 2 gas discharge solenoid valve 15 and the first solenoid valve 28 are in an open state, and the HF gas supply solenoid valve 12, the N 2 gas supply solenoid valve 22, the second solenoid valve 34, and the F 2 valve. It is assumed that the gas supply solenoid valve 33 is in a closed state. Further, it is assumed that the compressor 25 is in a driving state.

さて、電解槽1内の温度を加熱手段による加熱によりKF・2HF8の融点71.7℃よりも高い90℃程度に維持すると、KF・2HF8が液状となる。この状態において、陽極6と陰極7との間に電解電圧が印加されると、液状のKF・2HF8のうちのHFが電気分解し、陽極室3内にF2ガスとHFガスとの混合ガスが発生し、陰極室4内にH2ガスとHFガスとの混合ガスが発生する。 When the temperature in the electrolytic cell 1 is maintained at about 90 ° C., which is higher than the melting point of 71.7 ° C. of KF · 2HF8, by heating with heating means, KF · 2HF8 becomes liquid. In this state, when an electrolysis voltage is applied between the anode 6 and the cathode 7, HF of the liquid KF · 2HF 8 is electrolyzed, and a mixed gas of F 2 gas and HF gas is contained in the anode chamber 3. And a mixed gas of H 2 gas and HF gas is generated in the cathode chamber 4.

陽極室3内に発生したF2ガスとHFガスとの混合ガスは、コンプレッサ25の駆動により、共通配管24、コンプレッサ25、第1の配管26および開弁状態の第1の電磁弁28を介してHFガス除去筒29に供給される。HFガス除去筒29では、供給されたF2ガスとHFガスとの混合ガスからHFガスを除去し、F2ガスのみを配管30を介してF2ガスタンク31に供給する。これにより、F2ガスタンク31内にはコンプレッサ25の駆動により圧縮されたF2ガスが一時的に貯蔵される。 The mixed gas of F 2 gas and HF gas generated in the anode chamber 3 is driven by the compressor 25 through the common pipe 24, the compressor 25, the first pipe 26, and the opened first electromagnetic valve 28. To the HF gas removal cylinder 29. In HF gas removal tube 29, the HF gas was removed from the mixed gas of supplied F 2 gas and HF gas is supplied to the F 2 gas tank 31 only F 2 gas through a pipe 30. Thus, the inside F 2 gas tank 31 F 2 gas compressed by driving the compressor 25 is temporarily stored.

そして、閉弁状態にあるF2ガス供給用電磁弁33が開弁状態になると、F2ガスタンク31内に一時的に貯蔵された圧縮F2ガスがF2ガス供給用配管33を介して所定の装置に供給され、工業的に使用される。 Then, when the F 2 gas supply electromagnetic valve 33 in the closed state is opened, the compressed F 2 gas temporarily stored in the F 2 gas tank 31 is predetermined through the F 2 gas supply pipe 33. Supplied to the equipment and used industrially.

一方、陰極室4内に発生したH2ガスとHFガスとの混合ガスは、H2ガス排出配管14および開弁状態のH2ガス排出用電磁弁15を介してHFガス除去筒16に供給される。HFガス除去筒16では、供給されたH2ガスとHFガスとの混合ガスからHFガスを除去し、H2ガスのみを大気中に放出する。 On the other hand, the mixed gas of H 2 gas and HF gas generated in the cathode chamber 4 is supplied to the HF gas removal cylinder 16 through the H 2 gas discharge pipe 14 and the open H 2 gas discharge electromagnetic valve 15. Is done. The HF gas removal cylinder 16 removes the HF gas from the supplied mixed gas of H 2 gas and HF gas, and releases only the H 2 gas into the atmosphere.

上記のような通常の動作時において、電解槽1内の液状のKF・2HF8のHF濃度がある程度低下した場合には、閉弁状態にあるHFガス供給用電磁弁12を開弁状態にすると、HFガス供給源13からHFガスがHFガス供給配管11および開弁状態にあるHFガス供給用電磁弁12を介して電解槽1内の液状のKF・2HF8中に供給される。これにより、上記のような通常の動作が継続される。   In the normal operation as described above, when the HF concentration of the liquid KF · 2HF8 in the electrolytic cell 1 is lowered to some extent, when the HF gas supply electromagnetic valve 12 in the closed state is opened, HF gas is supplied from the HF gas supply source 13 into the liquid KF · 2HF 8 in the electrolytic cell 1 through the HF gas supply pipe 11 and the opened HF gas supply electromagnetic valve 12. Thereby, the normal operation as described above is continued.

次に、上記のような通常の動作を停止してメンテナンスを行なう場合について説明する。この場合には、まず、陽極6および陰極7への電圧印加を停止すると、F2ガスおよびH2ガスの発生が停止される。また、加熱手段による加熱を停止すると、液状のKF・2HFがその温度の自然低下により固化する。また、開弁状態にある第1の電磁弁28を閉弁状態とし、閉弁状態にある第2の電磁弁34を開弁状態とする。また、開弁状態にあるH2ガス排出用電磁弁15を閉弁状態とする。 Next, a case where maintenance is performed after stopping the normal operation as described above will be described. In this case, first, when voltage application to the anode 6 and the cathode 7 is stopped, generation of F 2 gas and H 2 gas is stopped. When heating by the heating means is stopped, liquid KF · 2HF solidifies due to a natural drop in temperature. Further, the first electromagnetic valve 28 in the opened state is closed, and the second electromagnetic valve 34 in the closed state is opened. Further, the H 2 gas discharge electromagnetic valve 15 in the open state is closed.

ここで、コンプレッサ25は一旦停止させて再駆動してもよく、また通常の動作時の駆動をそのまま継続してもよい。いずれにしても、コンプレッサ25の駆動により、陽極室3内に残留しているF2ガスとHFガスとの混合ガスは、共通配管24、コンプレッサ25、第2の配管27、開弁状態にある第2の電磁弁34およびH2ガス排出配管14を介してHFガス除去筒16に供給される。HFガス除去筒16では、供給されたF2ガスとHFガスとの混合ガスからHFガスを除去し、F2ガスのみを大気中に放出する。 Here, the compressor 25 may be temporarily stopped and re-driven, or the driving during normal operation may be continued as it is. In any case, the mixed gas of the F 2 gas and the HF gas remaining in the anode chamber 3 by driving the compressor 25 is in the common pipe 24, the compressor 25, the second pipe 27, and the valve open state. It is supplied to the HF gas removal cylinder 16 via the second electromagnetic valve 34 and the H 2 gas discharge pipe 14. The HF gas removal cylinder 16 removes the HF gas from the supplied mixed gas of F 2 gas and HF gas, and releases only the F 2 gas into the atmosphere.

次に、コンプレッサ25の駆動を停止する。次に、閉弁状態にあるN2ガス供給用電磁弁22を開弁状態とする。すると、N2ガス供給源23からN2ガス(不活性ガス)がN2ガス供給配管21および開弁状態にあるN2ガス供給用電磁弁22を介して陽極室3内に供給され、陽極室3内にN2ガスが大気圧の状態で充満される。次に、開弁状態にあるN2ガス供給用電磁弁22を閉弁状態とする。そして、この状態においてメンテナンスを行なう。 Next, the drive of the compressor 25 is stopped. Next, the N 2 gas supply electromagnetic valve 22 in the closed state is opened. Then, N 2 gas (inert gas) from the N 2 gas supply source 23 is supplied to the anode chamber 3 through the N 2 gas supply solenoid valve 22 in the N 2 gas supply line 21 and the open state, the anode The chamber 3 is filled with N 2 gas at atmospheric pressure. Next, the N 2 gas supply electromagnetic valve 22 in the valve open state is closed. In this state, maintenance is performed.

メンテナンスが終了したら、次に、コンプレッサ25を駆動させる。すると、陽極室3内に残留しているN2ガスは、共通配管24、コンプレッサ25、第2の配管27、開弁状態にある第2の電磁弁34、H2ガス排出配管14およびHFガス除去筒16を介して大気中に放出される。次に、コンプレッサ25の駆動を停止する。 When the maintenance is completed, the compressor 25 is then driven. Then, the N 2 gas remaining in the anode chamber 3 is the common pipe 24, the compressor 25, the second pipe 27, the second electromagnetic valve 34 in the valve open state, the H 2 gas discharge pipe 14 and the HF gas. It is discharged into the atmosphere through the removal cylinder 16. Next, the drive of the compressor 25 is stopped.

次に、開弁状態にある第2の電磁弁34を閉弁状態とし、閉弁状態にある第1の電磁弁28を開弁状態とする。すると、F2ガスタンク31内の圧縮F2ガスは、配管30、HFガス除去筒29、第1の配管26、開弁状態にある第1の電磁弁28、停止状態のコンプレッサ25および共通配管24を介して陽極室3内に供給され、陽極室3内にF2ガスが大気圧の状態で充満される。 Next, the second electromagnetic valve 34 in the opened state is closed, and the first electromagnetic valve 28 in the closed state is opened. Then, the compressed F 2 gas in the F 2 gas tank 31 is supplied from the pipe 30, the HF gas removal cylinder 29, the first pipe 26, the opened first electromagnetic valve 28, the stopped compressor 25 and the common pipe 24. Is supplied into the anode chamber 3 and the anode chamber 3 is filled with F 2 gas at atmospheric pressure.

次に、電解槽1内の温度を加熱手段による加熱によりKF・2HF8の融点71.7℃よりも高い90℃程度に維持すると、固化したKF・2HF8が液状となる。次に、閉弁状態にあるH2ガス排出用電磁弁15を開弁状態とする。次に、陽極6と陰極7との間に電解電圧を印加すると、上記通常の動作が再開される。 Next, when the temperature inside the electrolytic cell 1 is maintained at about 90 ° C., which is higher than the melting point of 71.7 ° C. of KF · 2HF8, by heating with heating means, the solidified KF · 2HF8 becomes liquid. Next, the H 2 gas discharge solenoid valve 15 in the closed state is opened. Next, when an electrolytic voltage is applied between the anode 6 and the cathode 7, the normal operation is resumed.

以上のように、このフッ素ガス発生装置では、メンテナンス終了後に、F2ガスタンク31内の圧縮F2ガスを陽極室3内に供給しているので、陽極6と陰極7との間に電解電圧を印加すると、直ちに上記通常の動作を再開することができ、したがってメンテナンス終了後から通常の動作を再開するまでの時間を短縮することができる。また、上記通常の動作の再開時にF2ガスを無駄に廃棄することがなく、原料のHFを有効に使用することができる。 As described above, in this fluorine gas generator, the compressed F 2 gas in the F 2 gas tank 31 is supplied into the anode chamber 3 after the maintenance is completed, so that an electrolytic voltage is applied between the anode 6 and the cathode 7. When the voltage is applied, the normal operation can be resumed immediately, and therefore the time from the end of maintenance to the resumption of normal operation can be shortened. Further, the raw material HF can be used effectively without wastefully discarding the F 2 gas when the normal operation is resumed.

ところで、コンプレッサ25では、性能上、高真空の排気を行なうことができず、陽極室3内から排出すべきガス濃度を十分に下げることができない。そこで、陽極室3内に残留しているF2ガスとHFガスとの混合ガスあるいはN2ガスを排出するとき、その排出とN2ガスあるいは圧縮F2ガスの供給とを数回繰り返すと、陽極室3内から排出すべきガス濃度を十分に下げることができる。しかしながら、このような方法では、ガス排出とガス供給とを数回繰り返すので、時間がある程度かかってしまう。そこで、次に、より一層の時間短縮を図ることができる実施形態について説明する。 By the way, the compressor 25 cannot perform high vacuum evacuation in terms of performance, and the gas concentration to be discharged from the anode chamber 3 cannot be lowered sufficiently. Therefore, when the mixed gas of F 2 gas and HF gas or N 2 gas remaining in the anode chamber 3 is discharged, the discharge and supply of N 2 gas or compressed F 2 gas are repeated several times. The gas concentration to be discharged from the anode chamber 3 can be sufficiently reduced. However, in such a method, since gas discharge and gas supply are repeated several times, it takes some time. Then, next, an embodiment that can further reduce the time will be described.

(第2実施形態)
図2はこの発明の第2実施形態としてのフッ素ガス発生装置の概略構成図を示す。このフッ素ガス発生装置において、図1に示すフッ素ガス発生装置と異なる点は、第2の電磁弁34とHFガス除去筒16との間における第2の配管27の途中に真空ポンプ35を設けた点である。そして、真空ポンプ35の駆動により、陽極室3内に残留しているF2ガスとHFガスとの混合ガスあるいはN2ガスの排出を行なう。真空ポンプ35は比較的短時間で高真空の排気を行なうことができるので、より一層の時間短縮を図ることができる。
(Second Embodiment)
FIG. 2 shows a schematic configuration diagram of a fluorine gas generator as a second embodiment of the present invention. This fluorine gas generator differs from the fluorine gas generator shown in FIG. 1 in that a vacuum pump 35 is provided in the middle of the second pipe 27 between the second electromagnetic valve 34 and the HF gas removal cylinder 16. Is a point. Then, by driving the vacuum pump 35, the mixed gas of the F 2 gas and the HF gas remaining in the anode chamber 3 or the N 2 gas is discharged. Since the vacuum pump 35 can perform high vacuum evacuation in a relatively short time, the time can be further reduced.

(第3実施形態)
図3はこの発明の第3実施形態としてのフッ素ガス発生装置の概略構成図を示す。このフッ素ガス発生装置において、図2に示すフッ素ガス発生装置と異なる点は、コンプレッサ25を、共通配管24と第1の電磁弁28との間における第1の配管26の途中に設けた点である。このようにした場合には、真空ポンプ35の駆動時に、コンプレッサ25が邪魔にならないようにすることができる。
(Third embodiment)
FIG. 3 shows a schematic configuration diagram of a fluorine gas generator as a third embodiment of the present invention. This fluorine gas generator differs from the fluorine gas generator shown in FIG. 2 in that the compressor 25 is provided in the middle of the first pipe 26 between the common pipe 24 and the first electromagnetic valve 28. is there. In this case, the compressor 25 can be prevented from getting in the way when the vacuum pump 35 is driven.

この発明の第1実施形態としてのフッ素ガス発生装置の概略構成図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The schematic block diagram of the fluorine gas generator as 1st Embodiment of this invention. この発明の第2実施形態としてのフッ素ガス発生装置の概略構成図。The schematic block diagram of the fluorine gas generator as 2nd Embodiment of this invention. この発明の第3実施形態としてのフッ素ガス発生装置の概略構成図。The schematic block diagram of the fluorine gas generator as 3rd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 電解槽
2 蓋
3 陽極室
4 陰極室
5 隔壁
6 陽極
7 陰極
8 KF・2HF
11 HFガス供給配管
12 HFガス供給用電磁弁
13 HFガス供給源
14 H2ガス排出配管
15 H2ガス排出用電磁弁
16 HFガス除去筒
21 N2ガス供給配管
22 N2ガス供給用電磁弁
23 N2ガス供給源
24 共通配管
25 コンプレッサ
26 第1の配管
27 第2の配管
28 第1の電磁弁
29 HFガス除去筒
30 配管
31 F2ガスタンク
32 F2ガス供給配管
33 F2ガス供給用電磁弁
34 第2の電磁弁
35 真空ポンプ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrolytic cell 2 Lid 3 Anode chamber 4 Cathode chamber 5 Partition 6 Anode 7 Cathode 8 KF / 2HF
11 HF gas supply pipe 12 HF gas supply solenoid valve 13 HF gas supply source 14 H 2 gas discharge pipe 15 H 2 gas discharge solenoid valve 16 HF gas removal cylinder 21 N 2 gas supply pipe 22 N 2 gas supply solenoid valve 23 N 2 gas supply source 24 Common pipe 25 Compressor 26 First pipe 27 Second pipe 28 First solenoid valve 29 HF gas removal cylinder 30 Pipe 31 F 2 gas tank 32 F 2 gas supply pipe 33 For F 2 gas supply Solenoid valve 34 Second solenoid valve 35 Vacuum pump

Claims (7)

陽極室内および陰極室内を有し混合溶融塩のKF・2HFが収容された電解槽内の陽極と陰極との間に電解電圧を印加すると共に前記電解槽内の前記KF・2HFを加熱してフッ素ガス発生装置を稼動して、前記電解槽内に収容された前記KF・2HFを電気分解し、これにより前記陽極室内にフッ素ガスを、前記陰極室内に水素ガスを発生するフッ素ガス発生方法において、
前記電解槽内に収容された前記KF・2HFを電気分解した際に、前記陰極室内に発生した水素ガスとHFガスとの混合ガスから、HF除去部を介して水素ガスのみを大気中に放出する工程と、
前記電解槽の稼動を停止した後、前記電解槽内のフッ素ガスを排気してから、前記電解槽内に不活性ガスを導入して前記電解槽内の雰囲気を不活性ガスに置換する工程と、前記電解槽内のメンテナンスを行った後、不活性ガスを排気してから、予め貯蔵しておいたフッ素ガスを導入して前記電解槽内の雰囲気をフッ素ガスに置換する工程と、フッ素ガスに置換後、前記電解槽を稼動する工程と、
を含み
前記電解槽内のフッ素ガスを排気した後、さらに前記陽極室内に残留しているフッ素ガスとHFガスとの混合ガスを前記HF除去部を介して大気中に放出する工程と、前記不活性ガスを排気した後、さらに前記陽極室内に残留している不活性ガスを前記HF除去部を介して大気中に放出する工程の少なくとも何れか一方をさらに含むことを特徴とするフッ素ガス発生方法。
An electrolytic voltage is applied between an anode and a cathode in an electrolytic cell having an anode chamber and a cathode chamber and containing mixed molten salt KF · 2HF, and the KF · 2HF in the electrolytic cell is heated to form fluorine. In a fluorine gas generation method of operating a gas generator to electrolyze the KF · 2HF accommodated in the electrolytic cell, thereby generating fluorine gas in the anode chamber and hydrogen gas in the cathode chamber,
When the KF · 2HF contained in the electrolytic cell is electrolyzed, only hydrogen gas is released into the atmosphere from the mixed gas of hydrogen gas and HF gas generated in the cathode chamber through the HF removal section. And a process of
After the operation of the electrolytic cell is stopped, the fluorine gas in the electrolytic cell is exhausted, an inert gas is introduced into the electrolytic cell, and the atmosphere in the electrolytic cell is replaced with an inert gas; , After performing maintenance in the electrolytic cell, exhausting the inert gas, introducing a pre-stored fluorine gas to replace the atmosphere in the electrolytic cell with fluorine gas, and fluorine gas After replacing, the step of operating the electrolytic cell;
After exhausting the fluorine gas in the electrolytic cell, and further releasing the mixed gas of fluorine gas and HF gas remaining in the anode chamber into the atmosphere through the HF removal section; A method for generating fluorine gas, further comprising at least one of a step of releasing the inert gas remaining in the anode chamber into the atmosphere through the HF removal section after exhausting the active gas .
請求項1に記載の発明において、前記電解槽内には、該電解槽内を陽極室と陰極室とに分離するための隔壁が設けられ、前記陽極室内に設けられた陽極と前記陰極室内に設けられた陰極との間に電解電圧が印加されることにより、前記電解槽内に収容され、且つ、加熱により液状とされたKF・2HFのうちのHFを電気分解し、これにより前記陽極室内にフッ素ガスが発生し、前記陰極室内に水素ガスが発生することを特徴とするフッ素ガス発生方法。   In the invention according to claim 1, a partition for separating the inside of the electrolytic cell into an anode chamber and a cathode chamber is provided in the electrolytic cell, and the anode provided in the anode chamber and the cathode chamber are provided in the electrolytic cell. By applying an electrolysis voltage to the provided cathode, HF of KF · 2HF housed in the electrolytic cell and made liquid by heating is electrolyzed, and thereby the anode chamber A fluorine gas is generated, and hydrogen gas is generated in the cathode chamber. 請求項1に記載の発明において、前記陽極室内に発生したフッ素ガスは、コンプレッサの駆動によりフッ素ガスタンク内に供給されることを特徴とするフッ素ガス発生方法。   2. The fluorine gas generation method according to claim 1, wherein the fluorine gas generated in the anode chamber is supplied into a fluorine gas tank by driving a compressor. 請求項に記載の発明において、前記陽極および前記陰極への電圧印加を停止し、且つ、加熱を停止し、加熱により液状とされたKF・2HFをその温度の自然低下により固化させ、
次いで前記陽極室内に残留しているフッ素ガスを排出し、前記陽極室内に不活性ガスを供給し、この状態においてメンテナンスを行ない、メンテナンスが終了したら、前記陽極室内に残留している不活性ガスを排出し、前記フッ素ガスタンク内の圧縮フッ素ガスを前記陽極室内に供給し、次いで固化したKF・2HFを加熱により液状とし、次いで前記陽極と前記陰極との間に電解電圧を印加することを特徴とするフッ素ガス発生方法。
In the invention according to claim 3 , the voltage application to the anode and the cathode is stopped, the heating is stopped, and the KF · 2HF made liquid by heating is solidified by a natural decrease in the temperature,
Next, the fluorine gas remaining in the anode chamber is discharged, an inert gas is supplied into the anode chamber, maintenance is performed in this state, and when the maintenance is completed, the inert gas remaining in the anode chamber is removed. The compressed fluorine gas in the fluorine gas tank is discharged, supplied into the anode chamber, the solidified KF · 2HF is liquefied by heating, and then an electrolytic voltage is applied between the anode and the cathode. Fluorine gas generation method.
請求項に記載の発明において、前記陽極室内に残留しているフッ素ガスあるいは前記陽極室内に残留している不活性ガスの排出は前記コンプレッサの駆動により行なうことを特徴とするフッ素ガス発生方法。 4. The fluorine gas generation method according to claim 3 , wherein the discharge of the fluorine gas remaining in the anode chamber or the inert gas remaining in the anode chamber is performed by driving the compressor. 請求項5に記載の発明において、前記陽極室内に残留しているフッ素ガスあるいは前記陽極室内に残留している不活性ガス排出、その排出と不活性ガスあるいは圧縮フッ素ガスの供給とを数回繰り返すことを特徴とするフッ素ガス発生方法。 In the invention according to claim 5, the discharge of the fluorine gas remaining in the anode chamber or the inert gas remaining in the anode chamber is a number of the discharge and the supply of the inert gas or the compressed fluorine gas. A method for generating fluorine gas, which is repeated once. 請求項1に記載の発明において、前記陽極室内に残留しているフッ素ガスあるいは前記陽極室内に残留している不活性ガスの排出は真空ポンプの駆動により行なうことを特徴とするフッ素ガス発生方法。 2. The fluorine gas generation method according to claim 1, wherein the fluorine gas remaining in the anode chamber or the inert gas remaining in the anode chamber is discharged by driving a vacuum pump.
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