JP5655770B2 - Electronic component and method of manufacturing the electronic component - Google Patents

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Description

本発明は、電子部品及び電子部品の製造方法に関する。より詳しくは、本発明は、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品であって、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田からのウィスカの成長が抑制された電子部品及び当該電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to an electronic component and a method for manufacturing the electronic component. More specifically, the present invention relates to an electronic component including a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on the surface of a base material, and suppresses whisker growth from the lead-free plating layer and the lead-free solder. The present invention relates to a manufactured electronic component and a method for manufacturing the electronic component.

近年、例えばICチップをリードフレームに搭載した半導体装置等の電子部品において一層の小型化が求められており、電子部品の端子間の間隔は数百μm程度まで狭くなってきている。かかる電子部品の端子の母材としては、黄銅、銅合金、「42アロイ」と称される鉄ニッケル合金(Fe−Ni)等が用いられることが多いが、母剤の素地が露出したままの状態では端子の表面が酸化し、例えば半田付け不良等による導通不良を引き起こす虞があるため、端子の表面に保護膜としてめっき層を形成し、端子の表面の酸化を防止することが一般的に行われている。めっき層の材料としては、主に錫(Sn)や錫合金が使用される。   In recent years, for example, electronic components such as a semiconductor device in which an IC chip is mounted on a lead frame have been required to be further miniaturized, and the interval between terminals of the electronic component has been reduced to about several hundred μm. As a base material for terminals of such electronic parts, brass, copper alloy, iron nickel alloy (“Fe—Ni”) called “42 alloy” or the like is often used, but the base material base is still exposed. Since the surface of the terminal is oxidized in the state, there is a risk of causing a conduction failure due to, for example, a soldering failure. Therefore, a plating layer is generally formed as a protective film on the surface of the terminal to prevent oxidation of the surface of the terminal. Has been done. As a material for the plating layer, tin (Sn) or a tin alloy is mainly used.

尚、めっき層の材料としては、鉛(Pb)を含む合金が従来使用されてきたが、近年、環境負荷を軽減する観点から鉛フリー化が求められるようになり、上記のような電子部品の端子のめっき層の材料としても、例えば、錫(Sn)、錫銅合金(Sn−Cu)、錫銀合金(Sn−Ag)、錫ビスマス合金(Sn−Bi)等、鉛を含まない材料を使用することが求められている。しかしながら、鉛フリーの材料を使用して電子部品の端子の表面をめっき処理するとウィスカが発生することが知られており、上記のように端子間の間隔が数百μm程度と狭い場合、ウィスカの発生によって電子部品の端子間において短絡(ショート)が発生する虞がある。   In addition, although the alloy containing lead (Pb) has been conventionally used as a material for the plating layer, in recent years, lead-free has been demanded from the viewpoint of reducing the environmental load. As the material of the terminal plating layer, for example, a material that does not contain lead, such as tin (Sn), tin copper alloy (Sn—Cu), tin silver alloy (Sn—Ag), tin bismuth alloy (Sn—Bi), or the like. It is sought to use. However, it is known that when the surface of the terminal of an electronic component is plated using a lead-free material, whiskers are generated, and when the distance between the terminals is as narrow as several hundred μm as described above, There is a possibility that a short circuit occurs between the terminals of the electronic component due to the occurrence.

上記問題を回避するための対策として、当該技術分野においては、例えば、錫又は錫系合金による電解めっき処理によって電子部品の端子の表面に鉛フリーめっき層を形成し、エポキシ樹脂等の皮膜層を当該表面に形成することにより、めっき層から発生したウィスカを当該皮膜層の内側に抑え込み、ウィスカが電子部品の端子間において短絡を発生するような大きさにまで外部に向けて成長するのを抑制することが提案されている(例えば、特許文献1を参照)。しかしながら、上記のように電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層を樹脂製の皮膜層によって覆うだけでは、ウィスカの成長を完全に抑制することは困難であり、ウィスカが皮膜層の外部にまで到達して電子部品の端子間における短絡を引き起こす可能性を払拭することはできない。   As a measure for avoiding the above problem, in this technical field, for example, a lead-free plating layer is formed on the surface of the terminal of an electronic component by electrolytic plating with tin or a tin-based alloy, and a coating layer such as an epoxy resin is formed. By forming on the surface, whiskers generated from the plating layer are suppressed inside the coating layer, and the whisker is prevented from growing outward to such a size as to cause a short circuit between the terminals of the electronic component. Has been proposed (see, for example, Patent Document 1). However, it is difficult to completely suppress whisker growth by simply covering the lead-free plating layer formed on the surface of the terminal of the electronic component with a resin film layer as described above. The possibility of reaching the outside and causing a short circuit between the terminals of the electronic component cannot be wiped out.

そこで、当該技術分野においては、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層を形成し、当該めっき層の表面に、鉛フリーめっき層から発生するウィスカよりも高い機械的強度を持つ硬質薄膜(DLC(ダイヤモンド・ライク・カーボン)薄膜、窒化シリコン薄膜、又は窒化炭素薄膜)を形成することが提案されている(例えば、特許文献2を参照)。しかしながら、上記硬質薄膜は、電子部品の端子の半田付けの前に、例えばスパッタ処理等の手法によって形成されるため、半田の濡れ性を阻害する虞がある。加えて、当該提案に係る技術においては、微小な端子(リードフレームの端部)にスパッタ処理を施す必要があるため精度保障が難しく、製造コストや製造期間の増大に繋がる虞がある。   Therefore, in this technical field, a lead-free plating layer formed on the surface of the terminal of the electronic component is formed, and the surface of the plating layer is hard with higher mechanical strength than the whisker generated from the lead-free plating layer. It has been proposed to form a thin film (DLC (diamond-like carbon) thin film, silicon nitride thin film, or carbon nitride thin film) (see, for example, Patent Document 2). However, since the hard thin film is formed by a technique such as sputtering before soldering the terminals of the electronic component, there is a possibility that the wettability of the solder may be hindered. In addition, in the technique according to the proposal, since it is necessary to perform a sputtering process on a minute terminal (the end portion of the lead frame), it is difficult to guarantee accuracy, which may lead to an increase in manufacturing cost and manufacturing period.

また、当該技術分野においては、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層を形成し、当該めっき層の表面を、80〜85°のスプリング硬さを有する防湿用の樹脂コーティング層で被覆することが提案されている(例えば、特許文献3を参照)。しかしながら、当該提案に係る技術においては、樹脂コーティング層の硬化に時間を要することに起因する製造効率の低下、硬化中の液だれに起因する樹脂コーティング層の厚みのバラツキ等の製造上の問題に加え、樹脂コーティング層が硬いため、樹脂コーティング層と金属製の端子(リードフレーム)との熱膨張係数の差に起因する樹脂コーティングの端子からの剥離が起こる虞がある。   Moreover, in the said technical field, the lead-free plating layer formed in the surface of the terminal of an electronic component is formed, and the surface of the said plating layer is a moisture-proof resin coating layer which has a spring hardness of 80-85 degrees. It is proposed to coat (see, for example, Patent Document 3). However, in the technology according to the proposal, there are problems in manufacturing such as a decrease in manufacturing efficiency due to the time required for curing the resin coating layer and a variation in thickness of the resin coating layer due to dripping during curing. In addition, since the resin coating layer is hard, there is a possibility that the resin coating layer may be peeled off from the terminal due to a difference in thermal expansion coefficient between the resin coating layer and the metal terminal (lead frame).

更に、当該技術分野においては、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層を形成し、当該めっき層の表面に、異なる熱膨張係数を有する複数種の樹脂材料からなる層状構造又は海島構造を有するコーティング層を形成することが提案されている。当該提案に係る技術によれば、電子部品に温度変化が生じた際に、上記コーティング層を形成する複数種の樹脂材料が、それぞれ異なる熱膨張係数に基づいて異なる大きさの膨張と収縮とを反復することにより、上記コーティング層の内部に成長したウィスカに対して剪断応力が作用し、当該剪断応力によりウィスカが分断されて導通性を失い、結果として、電子部品の端子間におけるウィスカに起因する短絡を回避することが提案されている。   Furthermore, in this technical field, a lead-free plating layer formed on the surface of a terminal of an electronic component is formed, and a layered structure or sea island made of a plurality of types of resin materials having different thermal expansion coefficients is formed on the surface of the plating layer. It has been proposed to form a coating layer having a structure. According to the technology related to the proposal, when a temperature change occurs in the electronic component, the plurality of types of resin materials forming the coating layer expand and contract in different sizes based on different thermal expansion coefficients. By repeating, a shear stress acts on the whisker grown inside the coating layer, the whisker is divided by the shear stress and loses conductivity, and as a result, the whisker is caused between the terminals of the electronic component. It has been proposed to avoid short circuits.

しかしながら、上記提案に係る技術においては、上記コーティング層を形成する複数種の樹脂材料が互いに強固には結合していないことから、コーティング層の強度や堅牢性が不十分となる虞がある。また、上記コーティングを構成する樹脂材料に無機フィラー等を混入して当該樹脂材料の熱膨張係数を変更する場合、当該コーティング層の内部に成長したウィスカが当該フィラーに接触すると、当該フィラーを避けるように成長方向を変更する傾向があるため、結果としてウィスカが当該コーティングの外部にまで成長してくる虞がある。更に、層状構造を有するコーティング層を採用する場合は、コーティング層の塗布工程が多重となり、電子部品の製造工程の複雑化に繋がる虞がある。   However, in the technique according to the above proposal, since the plurality of types of resin materials forming the coating layer are not firmly bonded to each other, the strength and the robustness of the coating layer may be insufficient. In addition, when an inorganic filler or the like is mixed into the resin material constituting the coating to change the thermal expansion coefficient of the resin material, if the whisker grown inside the coating layer contacts the filler, the filler should be avoided. As a result, the whisker may grow to the outside of the coating. Furthermore, when a coating layer having a layered structure is employed, there is a possibility that the coating layer application process is multiplexed and the manufacturing process of the electronic component is complicated.

以上のように、当該技術分野においては、樹脂系コーティング材料、無機系硬質薄膜、フィラー含有コーティング等によるウィスカの抑制が試みられているものの、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田からのウィスカの成長を効果的且つ実用的に抑制することができる方法は未だ確立されていない。従って、当該技術分野においては、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田からのウィスカの成長を効果的且つ実用的に抑制することができる技術に対する要求が存在する。   As described above, in this technical field, a lead-free plating layer formed on the surface of a terminal of an electronic component, although suppression of whiskers is attempted by using a resin-based coating material, an inorganic hard thin film, a filler-containing coating, or the like In addition, a method capable of effectively and practically suppressing whisker growth from lead-free solder has not yet been established. Therefore, in this technical field, there is a need for a technique that can effectively and practically suppress the growth of whiskers from the lead-free plating layer and lead-free solder formed on the surface of the terminal of the electronic component.

特開2005−302575号公報JP 2005-302575 A 特開2008−147589号公報JP 2008-147589 A 特開2009−038075号公報JP 2009-038075 A

前述のように、当該技術分野においては、樹脂系コーティング材料、無機系硬質薄膜、フィラー含有コーティング等によるウィスカの抑制が試みられているものの、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田からのウィスカの成長を効果的且つ実用的に抑制することができる方法は未だ確立されていない。従って、当該技術分野においては、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田からのウィスカの成長を効果的且つ実用的に抑制することができる技術に対する要求が存在する。   As described above, in the technical field, lead-free plating layers formed on the surface of the terminals of electronic components, although attempts have been made to suppress whiskers by using resin-based coating materials, inorganic hard thin films, filler-containing coatings, etc. In addition, a method capable of effectively and practically suppressing whisker growth from lead-free solder has not yet been established. Therefore, in this technical field, there is a need for a technique that can effectively and practically suppress the growth of whiskers from the lead-free plating layer and lead-free solder formed on the surface of the terminal of the electronic component.

本発明は、かかる要求に応えるために為されたものである。より具体的には、本発明は、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田からのウィスカの成長を効果的且つ実用的に抑制することを1つの目的とする。   The present invention has been made to meet such a demand. More specifically, an object of the present invention is to effectively and practically suppress the growth of whiskers from a lead-free plating layer and lead-free solder formed on the surface of a terminal of an electronic component.

本発明の上記1つの目的は、
鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品であつて、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面がコーティング層によって覆われており、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された第2材料と、を含んでなり、
前記第2材料が、前記第1材料及び前記第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触によって硬化を開始する材料である、
電子部品によって達成される。
One object of the present invention is to
An electronic component comprising a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on the surface of a base material,
At least an exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder is covered with a coating layer;
The coating layer comprises a first material and a second material dispersed in the first material;
The second material is a material that starts curing by contact with a third substance different from any of the first material and the second material.
Achieved by electronic components.

また、本発明の上記1つの目的は、
鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品の製造方法であつて、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面をコーティング層によって被覆すること、
を含み、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された第2材料と、を含んでなり、
前記第2材料が、前記第1材料及び前記第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触によって硬化を開始する材料である、
電子部品の製造方法によっても達成される。
Also, the above one object of the present invention is to
A method for manufacturing an electronic component comprising a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on the surface of a base material,
Covering at least an exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder with a coating layer;
Including
The coating layer comprises a first material and a second material dispersed in the first material;
The second material is a material that starts curing by contact with a third substance different from any of the first material and the second material.
This is also achieved by a method for manufacturing an electronic component.

本発明によれば、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田からのウィスカの成長を効果的且つ実用的に抑制することができる。より具体的には、本発明によれば、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品において、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面を、第1材料と第1材料中に分散された第2材料とを含んでなるコーティング層であって、第2材料が第1材料及び第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触によって硬化を開始する材料であるコーティング層によって覆うことにより、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田から発生するウィスカの成長を第2材料によって抑制し、コーティング層の外部にまでウィスカが成長することを回避することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the growth of the whisker from the lead-free plating layer and lead-free solder formed in the surface of the terminal of an electronic component can be suppressed effectively and practically. More specifically, according to the present invention, in an electronic component comprising a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on the surface of a base material, at least the lead-free plating layer and the lead-free solder The exposed surface is a coating layer comprising a first material and a second material dispersed in the first material, wherein the second material is different from the first material and the third material. By covering with a coating layer, which is a material that begins to harden upon contact, the growth of whiskers generated from the lead-free plating layer and the lead-free solder is suppressed by the second material, so that the whisker can reach the outside of the coating layer. You can avoid growing.

本発明の1つの実施態様に係る電子部品が備える端子の表面におけるウィスカの発生状況を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the generation | occurrence | production state of the whisker in the surface of the terminal with which the electronic component which concerns on one embodiment of this invention is provided. 本発明のもう1つの実施態様に係る電子部品が備える端子の表面におけるウィスカの発生状況を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the generation | occurrence | production state of the whisker in the surface of the terminal with which the electronic component which concerns on another embodiment of this invention is provided. 本発明の1つの実施態様に係る電子部品の製造方法におけるコーティング層の塗布方法を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the coating method of the coating layer in the manufacturing method of the electronic component which concerns on one embodiment of this invention. 本発明の1つの実施態様に係る電子部品の製造方法によって電子部品に塗布されたコーティング層を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the coating layer apply | coated to the electronic component by the manufacturing method of the electronic component which concerns on one embodiment of this invention. 本発明のもう1つの実施態様に係る電子部品の製造方法におけるコーティング層の塗布方法を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining the coating method of the coating layer in the manufacturing method of the electronic component which concerns on another embodiment of this invention. 本発明の1つの実施態様に係るコーティング層における第2材料の配合率に対するウィスカの検出本数の関係を表すグラフである。It is a graph showing the relationship of the detection number of the whisker with respect to the compounding rate of the 2nd material in the coating layer which concerns on one embodiment of this invention. 本発明のもう1つの実施態様に係るコーティング層における第2材料の配合率に対するウィスカの検出本数の関係を表すグラフである。It is a graph showing the relationship of the detection number of the whisker with respect to the compounding rate of the 2nd material in the coating layer which concerns on another embodiment of this invention.

前述のように、本発明は、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田からのウィスカの成長を効果的且つ実用的に抑制することを1つの目的とする。本発明者は、かかる目的を達成すべく鋭意研究の結果、電子部品の端子の表面に形成された鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田を、第3の物質との接触により徐々に硬化が進行する第2材料が分散された第1材料からなるコーティング層によって覆うことにより、当該鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田から発生するウィスカが当該コーティング層を貫通して当該コーティング層の外部にまで成長することを抑制することができることを見出し、本発明を想到するに至ったものである。   As described above, an object of the present invention is to effectively and practically suppress the growth of whiskers from a lead-free plating layer and lead-free solder formed on the surface of a terminal of an electronic component. As a result of diligent research to achieve the above object, the present inventor gradually cures the lead-free plating layer and the lead-free solder formed on the surface of the terminal of the electronic component by contact with the third substance. The whisker generated from the lead-free plating layer and lead-free solder grows through the coating layer to the outside of the coating layer by covering with the coating layer made of the first material in which the second material is dispersed. As a result, the present invention has been conceived.

即ち、本発明の第1の実施態様は、
鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品であつて、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面がコーティング層によって覆われており、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された第2材料と、を含んでなり、
前記第2材料が、前記第1材料及び前記第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触によって硬化を開始する材料である、
電子部品である。
That is, the first embodiment of the present invention is:
An electronic component comprising a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on the surface of a base material,
At least an exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder is covered with a coating layer;
The coating layer comprises a first material and a second material dispersed in the first material;
The second material is a material that starts curing by contact with a third substance different from any of the first material and the second material.
It is an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品は、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品であって、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面が、第1材料と当該第1材料中に分散された第2材料からなる中空粒子とを含んでなるコーティング層によって覆われた電子部品である。   As described above, the electronic component according to this embodiment is an electronic component including a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on a surface of a base material, and the lead-free plating layer and the lead At least an exposed surface of the free solder is an electronic component covered with a coating layer including a first material and hollow particles made of a second material dispersed in the first material.

本実施態様に係る電子部品は、特定の種類の電子部品に限定されるものではなく、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品であれば、如何なる種類の電子部品であってもよい。かかる電子部品の例としては、例えば、各種電子制御装置(ECU:Electronic Control Unit)を構成する半導体素子、抵抗チップ、コンデンサ等を含む電子部品等を挙げることができる。また、これらの電子部品が備える端子の例としては、例えば、半導体素子を支持固定し、外部配線との接続をする部品としてのリードフレームの端子部分等を挙げることができる。   The electronic component according to the present embodiment is not limited to a specific type of electronic component, as long as the electronic component includes a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on the surface of the base material. Any kind of electronic component may be used. Examples of such electronic components include, for example, electronic components including semiconductor elements, resistor chips, capacitors, and the like that constitute various electronic control units (ECUs). Examples of terminals provided in these electronic components include a lead frame terminal portion as a component that supports and fixes a semiconductor element and connects to an external wiring.

また、本実施態様に係る電子部品は、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品である。尚、フリーめっき層は、例えば、例えば、前述のように、本実施態様に係る電子部品が備える端子の表面の酸化に起因する半田付け不良等による導通不良を防止するために、端子の母剤の表面に配設される。また、鉛フリー半田は、例えば、本実施態様に係る電子部品を構成する回路素子同士の間又は回路素子と回路基板との間の電気的接続を達成するために、これらの構成要素が備える端子上に配設される。   In addition, the electronic component according to this embodiment is an electronic component including a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on the surface of the base material. The free plating layer is, for example, as described above, in order to prevent poor conduction due to poor soldering due to oxidation of the surface of the terminal included in the electronic component according to the present embodiment. It is arrange | positioned on the surface of this. In addition, for example, lead-free solder is a terminal provided in these components in order to achieve electrical connection between circuit elements constituting the electronic component according to the present embodiment or between the circuit elements and the circuit board. Arranged above.

鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田を構成する材料としては、例えば、鉛(Pb)を含有しない(鉛フリーの)錫(Sn)系合金又は亜鉛(Zn系)合金等を挙げることができる。尚、本明細書において、「鉛を含有しない(鉛フリー)」材料とは、理想的には鉛を全く含有しない材料を指すが、例えば環境保護の観点から定められた特定の含有率を超えない範囲で微量の鉛を含有する材料を排除するものではないことを、念のため申し添えておく。   Examples of the material constituting the lead-free plating layer and the lead-free solder include a lead (Pb) -free (lead-free) tin (Sn) -based alloy or zinc (Zn-based) alloy. In this specification, “lead-free (lead-free)” material ideally refers to a material that does not contain lead at all, but exceeds a specific content rate determined from the viewpoint of environmental protection, for example. I would like to remind you that it does not exclude materials that contain trace amounts of lead to the extent that they do not.

鉛フリーめっき層を構成する材料は純錫又は純亜鉛であってもよく、鉛フリー半田を構成する材料は純錫であってもよい。好ましくは、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田を構成する材料は錫系合金であり、具体的には、錫銅合金(Sn−Cu)、錫銀合金(Sn−Ag)、錫ビスマス合金(Sn−Bi)、錫亜鉛合金(Sn−Zn)、及び錫インジウム合金(Sn−In)等を挙げることができる。更に、本実施態様に係る電子部品が備える端子の母材としては、従来の電子部品において用いられてきた金属材料を用いることができ、例えば、黄銅、銅合金、「42アロイ」と称される鉄ニッケル合金(Fe−Ni)等を挙げることができる。これらの材料は、電子部品の種類や設計仕様に応じて、適宜選択することができる。   The material constituting the lead-free plating layer may be pure tin or pure zinc, and the material constituting the lead-free solder may be pure tin. Preferably, the material constituting the lead-free plating layer and the lead-free solder is a tin-based alloy, specifically, a tin-copper alloy (Sn—Cu), a tin-silver alloy (Sn—Ag), a tin bismuth alloy (Sn). -Bi), a tin zinc alloy (Sn-Zn), a tin indium alloy (Sn-In), etc. can be mentioned. Furthermore, as a base material of a terminal included in the electronic component according to the present embodiment, a metal material that has been used in a conventional electronic component can be used, for example, called brass, copper alloy, or “42 alloy”. An iron-nickel alloy (Fe-Ni) can be used. These materials can be appropriately selected according to the type of electronic component and design specifications.

上記のように、本実施態様に係る電子部品は、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品であって、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面が、第1材料と当該第1材料中に分散された第2材料からなる中空粒子とを含んでなるコーティング層によって覆われた電子部品である。即ち、本実施態様に係る電子部品は、電子部品の全体が上記コーティング層によって覆われていてもよく、又は電子部品が備える端子の母材の表面における上述のような鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域のみが上記コーティング層によって覆われていてもよい。   As described above, the electronic component according to this embodiment is an electronic component including a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on a surface of a base material, and the lead-free plating layer and the lead At least an exposed surface of the free solder is an electronic component covered with a coating layer including a first material and hollow particles made of a second material dispersed in the first material. That is, in the electronic component according to this embodiment, the entire electronic component may be covered with the coating layer, or the lead-free plating layer and the lead-free layer as described above on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component. Only the region where at least one of the solder is disposed may be covered with the coating layer.

本実施態様に係る電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域を覆うコーティング層の厚みは特に限定されるものではなく、ウィスカの成長を効果的に抑制することが可能である限りにおいて、例えば、電子部品及び電子部品の製造工程の設計仕様、製造コスト等に応じて、適宜定めることができる。具体的には、上記コーティング層の厚みは、従来技術に係る電子部品における防湿用樹脂コーティング層の厚みと同等であってもよく、例えば、10μm乃至300μmの範囲とすることができる。   The thickness of the coating layer covering at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component according to this embodiment is not particularly limited, and the whisker As long as it is possible to effectively suppress the growth, it can be determined as appropriate according to, for example, the design specifications of the electronic component and the manufacturing process of the electronic component, the manufacturing cost, and the like. Specifically, the thickness of the coating layer may be equal to the thickness of the moisture-proof resin coating layer in the electronic component according to the related art, and may be, for example, in the range of 10 μm to 300 μm.

上述のように、本実施態様に係るコーティング層は、第1材料と第1材料中に分散された第2材料とを含んでなり、第2材料は、第1材料及び第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触によって硬化を開始する材料である。これにより、本実施態様に係るコーティング層においては、本実施態様に係る電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域に塗布された際に、先ず第1材料が硬化し、その後、第3の物質との接触により、第2材料が徐々に硬化する。即ち、本実施態様に係るコーティング層においては、時間の経過に伴い、コーティング層の内部において、硬化した第2材料の比率が徐々に増加してゆく。   As described above, the coating layer according to the present embodiment includes the first material and the second material dispersed in the first material, and the second material includes both the first material and the second material. It is a material that initiates curing upon contact with a different third substance. Thus, in the coating layer according to the present embodiment, at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder is applied to the surface of the base material of the terminal included in the electronic component according to the present embodiment. In this case, the first material is first cured, and then the second material is gradually cured by contact with the third substance. That is, in the coating layer according to this embodiment, the ratio of the cured second material gradually increases in the coating layer as time passes.

一方、ウィスカも、本実施態様に係る電子部品が製造された時点では発生しておらず、その後の時間の経過に伴い、当該電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方から発生し、徐々に成長してゆく。即ち、本実施態様に係るコーティング層における第2材料の硬化と、ウィスカの発生及び成長とが、並行して進行する。これにより、本実施態様に係るコーティング層によれば、ウィスカの発生及び成長に伴って第2材料が徐々に硬化し、硬化した第2材料にウィスカが接触することにより、ウィスカの成長をより効率的に抑制することができる。   On the other hand, whiskers are not generated at the time when the electronic component according to this embodiment is manufactured, and with the passage of time thereafter, at least the lead-free plating layer on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component and It is generated from at least one of the lead-free solders and grows gradually. That is, the curing of the second material in the coating layer according to this embodiment and the generation and growth of whiskers proceed in parallel. Thereby, according to the coating layer which concerns on this embodiment, a 2nd material is hardened | cured gradually with the generation | occurrence | production and growth of a whisker, and a whisker contacts a hardened 2nd material, and thereby the growth of a whisker is made more efficient. Can be suppressed.

尚、上記のように本実施態様に係るコーティング層における第2材料の硬化によりウィスカの成長を抑制するためには、硬化後の第2材料の硬さが、少なくともウィスカの成長方向を変更するのに十分な程度に大きいことが必要である。一方、本実施態様に係るコーティング層を構成するもう1つの成分である第1材料については、硬化後に第2材料と同様に大きな硬さを有すると、コーティング層全体の硬さが過大となり、例えば、電子部品の動作に伴う温度変化により、コーティング層と電子部品の端子(例えば、金属製リードフレーム等)との熱膨張係数の差に起因して、コーティング層が端子から剥離したり、コーティング層が割れたりする虞がある。   In order to suppress whisker growth by curing the second material in the coating layer according to this embodiment as described above, the hardness of the second material after curing at least changes the whisker growth direction. It must be large enough. On the other hand, if the first material, which is another component constituting the coating layer according to the present embodiment, has a large hardness like the second material after curing, the hardness of the entire coating layer becomes excessive, for example, Due to the temperature change accompanying the operation of the electronic component, the coating layer may be peeled off from the terminal due to the difference in thermal expansion coefficient between the coating layer and the terminal of the electronic component (for example, metal lead frame). May break.

従って、本実施態様に係る電子部品においては、コーティング層を構成する第1材料の硬化後の硬さが第2材料の硬化後の硬さよりも小さいことが望ましい。逆に言うと、本実施態様に係る電子部品においては、コーティング層を構成する第2材料の硬化後の硬さが第1材料の硬化後の硬さよりも大きいことが望ましい。   Therefore, in the electronic component according to the present embodiment, it is desirable that the hardness after curing of the first material constituting the coating layer is smaller than the hardness after curing of the second material. In other words, in the electronic component according to this embodiment, it is desirable that the hardness after curing of the second material constituting the coating layer is larger than the hardness after curing of the first material.

従って、本発明の第2の実施態様は、
本発明の前記第1の実施態様に係る電子部品であって、
前記第2材料の硬化後の硬さが、前記第1材料の硬化後の硬さよりも大きい、
電子部品である。
Accordingly, the second embodiment of the present invention provides:
An electronic component according to the first embodiment of the present invention,
The hardness of the second material after curing is greater than the hardness of the first material after curing;
It is an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品においては、前記第2材料の硬化後の硬さが前記第1材料の硬化後の硬さよりも大きい。従って、例えば、電子部品の動作に伴う温度変化が生じた際にも、コーティング層と電子部品の端子(例えば、金属製リードフレーム等)との熱膨張係数の差に起因して、コーティング層が端子から剥離したり、コーティング層が割れたりする問題を抑制することができる。これにより、本実施態様に係る電子部品においては、コーティング層による封止機能(防湿機能)を犠牲にすること無く、ウィスカの成長を効果的に抑制して、前述のような電子部品の端子間における短絡(ショート)等の問題を生ずることを効果的に抑制することができる。   As described above, in the electronic component according to this embodiment, the hardness of the second material after curing is greater than the hardness of the first material after curing. Therefore, for example, even when a temperature change occurs due to the operation of the electronic component, the coating layer is not formed due to the difference in thermal expansion coefficient between the coating layer and the terminal of the electronic component (for example, a metal lead frame). The problem of peeling from the terminal or cracking of the coating layer can be suppressed. Thereby, in the electronic component according to the present embodiment, whisker growth is effectively suppressed without sacrificing the sealing function (moisture proofing function) by the coating layer, and the terminals of the electronic component as described above It is possible to effectively suppress problems such as a short circuit.

尚、第1材料及び第2材料の硬化後の硬さは、種々の測定方法によって測定することができる。第1材料及び第2材料の硬化後の硬さを測定する方法の具体例としては、例えば、JIS K6253(ISO48)に準拠するスプリング硬さ(Hs)A型のデュロメータを使用して測定する方法が挙げられる。   In addition, the hardness after hardening of 1st material and 2nd material can be measured with various measuring methods. As a specific example of the method of measuring the hardness of the first material and the second material after curing, for example, a method of measuring using a spring hardness (Hs) A type durometer according to JIS K6253 (ISO48) Is mentioned.

ところで、前述のように、本発明に係る電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域は、第1材料及び第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触により徐々に硬化が進行する第2材料が分散された第1材料からなるコーティング層によって覆われる。当該第3の物質との接触により徐々に硬化が進行する第2材料としては、例えば、水分や金属(金属イオンを含む)との接触により重合反応や架橋反応が開始されて硬化する樹脂等の材料が挙げられる。かかる材料の具体例としては、例えば、水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂、及び金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤等を挙げることができる。   By the way, as described above, at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component according to the present invention is formed of the first material and the second material. It is covered with a coating layer made of the first material in which the second material, which is gradually cured by contact with a third substance different from any other, is dispersed. Examples of the second material that is gradually cured by contact with the third substance include a resin that is cured by a polymerization reaction or a crosslinking reaction that is initiated by contact with moisture or metal (including metal ions). Materials. Specific examples of such materials include a humidity curable resin that begins to cure by contact with moisture, an anaerobic sealant that initiates curing by contact with metal, and the like.

従って、本発明の第3の実施態様は、
本発明の前記第1又は前記第2の実施態様の何れか1つに係る電子部品であって、
前記第2材料が、前記第3の物質としての水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂である、
電子部品である。
Therefore, the third embodiment of the present invention
An electronic component according to any one of the first or second embodiments of the present invention,
The second material is a humidity curable resin that starts to cure by contact with moisture as the third substance.
It is an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品においては、前記第2材料が、前記第3の物質としての水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂である。従って、本実施態様に係る電子部品においては、当該電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域に上記コーティング層が塗布されると、先ず第1材料が硬化し、その後、例えば、空気中に含まれている水分との接触により、当該コーティング層の外表面(即ち、当該電子部品が備える端子とは反対側の表面)から、第2材料が徐々に硬化する。即ち、本実施態様に係るコーティング層においては、時間の経過に伴い、コーティング層の内部において、当該コーティング層の外表面側から、硬化した第2材料の比率が徐々に増加してゆく。   As described above, in the electronic component according to this embodiment, the second material is a humidity curable resin that starts to be cured by contact with moisture as the third substance. Therefore, in the electronic component according to this embodiment, the coating layer is applied to a region where at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder is disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component. First, the first material is cured, and then, for example, from the outer surface of the coating layer (that is, the surface opposite to the terminal included in the electronic component) by contact with moisture contained in the air. The second material is gradually cured. That is, in the coating layer according to this embodiment, the ratio of the cured second material gradually increases from the outer surface side of the coating layer in the coating layer as time passes.

一方、ウィスカは、本実施態様に係る電子部品においても、当該電子部品が製造された時点では発生しておらず、その後の時間の経過に伴い、当該電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方から発生し、徐々に成長してゆく。即ち、本実施態様に係るコーティング層においても、前述のように、第2材料の硬化と、ウィスカの発生及び成長とが、並行して進行する。これにより、本実施態様に係るコーティング層によれば、ウィスカの発生及び成長に伴って、第2材料が、水分との接触によって徐々に硬化し、硬化した第2材料にウィスカが接触することにより、ウィスカの成長をより効率的に抑制することができる。   On the other hand, the whisker is not generated at the time when the electronic component is manufactured even in the electronic component according to the present embodiment, and the surface of the base material of the terminal included in the electronic component with the passage of time thereafter. At least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder is generated and gradually grows. That is, also in the coating layer according to this embodiment, as described above, the curing of the second material and the generation and growth of whiskers proceed in parallel. Thereby, according to the coating layer which concerns on this embodiment, with the generation | occurrence | production and growth of a whisker, a 2nd material is hardened | cured gradually by contact with a water | moisture content, and a whisker contacts the hardened 2nd material. The growth of whiskers can be more efficiently suppressed.

上記に加えて、本実施態様に係る電子部品においては、上述のように、第2材料が水分との接触によって徐々に硬化することから、上記コーティング層内に侵入した水分が第2材料の重合反応や架橋反応を開始させるのに消費される。これにより、上記コーティング層内に侵入した水分が、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層や鉛フリー半田に到達して、これらの金属を腐食することを抑制することができる。また、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層や鉛フリー半田からのウィスカの発生そのものをも抑制することができる。   In addition to the above, in the electronic component according to the present embodiment, as described above, since the second material is gradually cured by contact with moisture, moisture that has penetrated into the coating layer is polymerized by the second material. Consumed to initiate reaction or crosslinking reaction. This prevents moisture that has penetrated into the coating layer from reaching the lead-free plating layer or lead-free solder on the surface of the base material of the terminals of the electronic component and corroding these metals. can do. In addition, it is possible to suppress the occurrence of whiskers from the lead-free plating layer or lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal provided in the electronic component.

上記第2材料として採用される湿度硬化型樹脂としては、当該技術分野において、種々のタイプのものが知られている。具体的には、湿度硬化型樹脂としては、例えば、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂等を挙げることができる。   Various types of humidity curable resins employed as the second material are known in the art. Specifically, examples of the humidity curable resin include a cyanoacrylate resin, a phenol resin, a silicone resin, and a polyurethane resin.

即ち、本発明の第4の実施態様に係る電子部品は、
本発明の前記第3の実施態様に係る電子部品であって、
前記湿度硬化型樹脂が、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品である。
That is, the electronic component according to the fourth embodiment of the present invention is
An electronic component according to the third embodiment of the present invention,
The humidity curable resin comprises at least one of a cyanoacrylate resin, a phenol resin, a silicone resin, and a polyurethane resin.
It is an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品においては、前記湿度硬化型樹脂が、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる。即ち、本実施態様に係るコーティングにおいては、第2材料が、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂の何れか1種のみを含んでいてもよく、あるいは、これらの材料のうち2種以上を含んでいてもよい。   As described above, in the electronic component according to this embodiment, the humidity curable resin includes at least one of a cyanoacrylate resin, a phenol resin, a silicone resin, and a polyurethane resin. That is, in the coating according to this embodiment, the second material may contain only one of a cyanoacrylate resin, a phenol resin, a silicone resin, and a polyurethane resin, or these Two or more kinds of materials may be included.

一方、前述のように、本発明に係る電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域に塗布されるコーティング層においては、第1材料中に分散される第2材料として、金属(金属イオンを含む)との接触により重合反応や架橋反応が開始されて硬化する樹脂等の材料を使用することもできる。かかる材料の具体例としては、前述のように、例えば、金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤等を挙げることができる。   On the other hand, as described above, in the coating layer applied to at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component according to the present invention, the first As the second material dispersed in one material, a material such as a resin that is cured by a polymerization reaction or a crosslinking reaction initiated by contact with a metal (including metal ions) can also be used. Specific examples of such a material include an anaerobic sealant that initiates curing upon contact with a metal as described above.

従って、本発明の第5の実施態様は、
本発明の前記第1又は前記第2の実施態様の何れか1つに係る電子部品であって、
前記第2材料が、前記第3の物質としての金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤である、
電子部品である。
Accordingly, the fifth embodiment of the present invention provides:
An electronic component according to any one of the first or second embodiments of the present invention,
The second material is an anaerobic sealant that initiates curing upon contact with a metal as the third substance;
It is an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品においては、前記第2材料が、前記第3の物質としての金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤である。従って、本実施態様に係る電子部品においては、当該電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域に上記コーティング層が塗布されると、先ず第1材料が硬化し、その後、例えば、当該電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方との接触により、当該コーティング層と当該電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田との界面から、第2材料が徐々に硬化する。即ち、本実施態様に係るコーティング層においては、時間の経過に伴い、コーティング層の内部において、当該コーティング層の上記界面側から、硬化した第2材料の比率が徐々に増加してゆく。   As described above, in the electronic component according to the present embodiment, the second material is an anaerobic sealant that starts to be cured by contact with a metal as the third substance. Therefore, in the electronic component according to this embodiment, the coating layer is applied to a region where at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder is disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component. First, the first material is cured, and then, for example, the coating layer and the electronic component are brought into contact with at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component. The second material is gradually cured from the interface with the lead-free plating layer or the lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal included in the terminal. That is, in the coating layer according to this embodiment, the ratio of the cured second material gradually increases from the interface side of the coating layer inside the coating layer as time passes.

一方、ウィスカは、本実施態様に係る電子部品においても、当該電子部品が製造された時点では発生しておらず、その後の時間の経過に伴い、当該電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方から発生し、徐々に成長してゆく。即ち、本実施態様に係るコーティング層においても、前述のように、第2材料の硬化と、ウィスカの発生及び成長とが、並行して進行する。しかも、本実施態様に係る電子部品においては、上記のように、当該コーティング層と当該電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田との界面から第2材料の硬化が始まる。当該界面は、正にウィスカが発生する箇所である。従って、本実施態様に係る電子部品においては、ウィスカの発生箇所において重点的に第2材料が硬化し、且つウィスカの成長に伴って第2材料が徐々に硬化する。このように硬化した第2材料にウィスカが接触することにより、ウィスカの発生及び成長を、より効率的に抑制することができる。   On the other hand, the whisker is not generated at the time when the electronic component is manufactured even in the electronic component according to the present embodiment, and the surface of the base material of the terminal included in the electronic component with the passage of time thereafter. At least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder is generated and gradually grows. That is, also in the coating layer according to this embodiment, as described above, the curing of the second material and the generation and growth of whiskers proceed in parallel. In addition, in the electronic component according to the present embodiment, as described above, the coating layer and the lead-free plating layer disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component or the lead-free solder interface The curing of the two materials begins. The interface is exactly where whiskers are generated. Therefore, in the electronic component according to this embodiment, the second material is intensively cured at the location where the whisker is generated, and the second material is gradually cured as the whisker grows. When the whisker comes into contact with the second material thus cured, generation and growth of the whisker can be more efficiently suppressed.

上記に加えて、本実施態様に係る電子部品においては、第2材料が、上記のように鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田との接触によって硬化を開始・進行するのみならず、ウィスカとの接触によっても硬化を開始・進行する。即ち、本実施態様に係る電子部品においては、ウィスカの発生箇所である上記界面近傍において硬化した第2材料を突き破って、本実施態様に係るコーティング層の内部にウィスカが更に進入した場合、当該ウィスカが未硬化の第2材料と接触すると、当該未硬化の第2材料が当該ウィスカとの接触により硬化を開始する。このように、本実施態様に係るコーティング層においては、ウィスカの成長によって、第2材料の硬化が更に促進される。結果として、本実施態様に係るコーティング層によれば、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層や鉛フリー半田からのウィスカの発生及び成長を、より一層効果的に抑制することができる。   In addition to the above, in the electronic component according to the present embodiment, the second material not only initiates and progresses by contact with the lead-free plating layer or lead-free solder as described above, but also contacts with the whisker. Curing starts and progresses. That is, in the electronic component according to this embodiment, when the whisker further penetrates into the coating layer according to this embodiment by breaking through the second material cured in the vicinity of the interface where the whisker is generated, Comes into contact with the uncured second material, the uncured second material starts to be cured by contact with the whisker. Thus, in the coating layer according to this embodiment, the hardening of the second material is further promoted by the growth of the whisker. As a result, according to the coating layer according to the present embodiment, the generation and growth of whiskers from the lead-free plating layer and lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component are further effective. Can be suppressed.

上記第2材料として採用される嫌気性封着剤としては、当該技術分野において、種々のタイプのものが知られている。具体的には、湿度硬化型樹脂としては、例えば、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂(例えば、ナイロン等)、及びエポキシ系樹脂等を挙げることができる。   Various types of anaerobic sealants employed as the second material are known in the art. Specifically, examples of the humidity curable resin include a vinyl acetate resin, an acrylic resin, a polyamide resin (for example, nylon), and an epoxy resin.

即ち、本発明の第6の実施態様は、
本発明の前記第5の実施態様に係る電子部品であって、
前記嫌気性封着剤が、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びエポキシ系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品である。
That is, the sixth embodiment of the present invention
An electronic component according to the fifth embodiment of the present invention,
The anaerobic sealant comprises at least one of vinyl acetate resin, acrylic resin, polyamide resin, and epoxy resin;
It is an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品においては、前記嫌気性封着剤が、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂(例えば、ナイロン等)、及びエポキシ系樹脂の少なくとも1種を含んでなる。即ち、本実施態様に係るコーティングにおいては、第2材料が、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びエポキシ系樹脂の何れか1種のみを含んでいてもよく、あるいは、これらの材料のうち2種以上を含んでいてもよい。   As described above, in the electronic component according to this embodiment, the anaerobic sealant is at least one of a vinyl acetate resin, an acrylic resin, a polyamide resin (for example, nylon), and an epoxy resin. Comprising. That is, in the coating according to this embodiment, the second material may contain only one of vinyl acetate resin, acrylic resin, polyamide resin, and epoxy resin, or these Two or more kinds of materials may be included.

尚、本発明に係る電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域は、前述のように、第1材料及び第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触により徐々に硬化が進行する第2材料が分散された第1材料からなるコーティング層によって覆われる。当該第3の物質との接触により徐々に硬化が進行する第2材料は、必ずしも1種類の材料によって構成されるものでなくてもよく、第1材料及び第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触により徐々に硬化が進行する複数種の材料によって構成されるものであってもよい。例えば、かかる第2材料は、水分との接触により重合反応や架橋反応が開始されて硬化する樹脂と、金属(金属イオンを含む)との接触により重合反応や架橋反応が開始されて硬化する樹脂との混合物であってもよい。かかる混合物の具体例としては、例えば、水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂と、金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤との混合物を挙げることができる。   The region where at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder is disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component according to the present invention is, as described above, the first material and the second material. It is covered with a coating layer made of the first material in which the second material, which is gradually cured by contact with a third substance different from any other, is dispersed. The second material that is gradually cured by contact with the third substance does not necessarily have to be composed of one kind of material, and is different from the first material and the second material. You may be comprised by the multiple types of material which hardening progresses gradually by contact with a substance. For example, the second material is a resin that cures when a polymerization reaction or crosslinking reaction is initiated by contact with moisture and a resin that cures when a polymerization reaction or crosslinking reaction is initiated by contact with a metal (including metal ions). And a mixture thereof. As a specific example of such a mixture, for example, a mixture of a humidity curable resin that starts curing by contact with moisture and an anaerobic sealant that starts curing by contact with metal can be given.

従って、本発明の第7の実施態様は、
本発明の前記第1又は前記第2の実施態様の何れか1つに係る電子部品であって、
前記第2材料が、前記第3の物質としての水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂と前記第3の物質としての金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤との混合物である、
電子部品である。
Accordingly, the seventh embodiment of the present invention provides:
An electronic component according to any one of the first or second embodiments of the present invention,
The second material comprises a humidity curable resin that starts to be cured by contact with moisture as the third substance and an anaerobic sealant that starts to be cured by contact with the metal as the third substance. A mixture,
It is an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品においては、前記第2材料が、前記第3の物質としての水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂と前記第3の物質としての金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤との混合物である。従って、本実施態様に係る電子部品においては、当該電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域に上記コーティング層が塗布されると、先ず第1材料が硬化する。その後、例えば、空気中に含まれている水分との接触により、当該コーティング層の外表面(即ち、当該電子部品が備える端子とは反対側の表面)から、第2材料を構成する一方の成分である湿度硬化型樹脂が徐々に硬化すると共に、例えば、当該電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方との接触により、当該コーティング層と当該電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田との界面から、第2材料を構成する他方の成分である嫌気性封着剤が徐々に硬化する。即ち、本実施態様に係るコーティング層においては、時間の経過に伴い、コーティング層の内部において、当該コーティング層の外表面側から、硬化した湿度硬化型樹脂の比率が徐々に増加し、且つ当該コーティング層の上記界面側から、硬化した嫌気性封着剤の比率が徐々に増加してゆく。   As described above, in the electronic component according to the present embodiment, the second material includes a humidity curable resin that starts to be cured by contact with moisture as the third substance, and a metal as the third substance. It is a mixture with the anaerobic sealing agent which starts hardening by contact with. Therefore, in the electronic component according to this embodiment, the coating layer is applied to a region where at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder is disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component. First, the first material is cured. Thereafter, for example, one component constituting the second material from the outer surface of the coating layer (that is, the surface opposite to the terminal included in the electronic component) by contact with moisture contained in the air. For example, the coating layer and the electronic component are cured by the contact with at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component. The anaerobic sealant, which is the other component constituting the second material, gradually cures from the interface with the lead-free plating layer or lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal provided in the component. That is, in the coating layer according to this embodiment, the ratio of the cured moisture curable resin gradually increases from the outer surface side of the coating layer in the coating layer as time passes, and the coating layer From the interface side of the layer, the ratio of the cured anaerobic sealant gradually increases.

一方、ウィスカは、本実施態様に係る電子部品においても、当該電子部品が製造された時点では発生しておらず、その後の時間の経過に伴い、当該電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方から発生し、徐々に成長してゆく。即ち、本実施態様に係るコーティング層においても、前述のように、第2材料の硬化と、ウィスカの発生及び成長とが、並行して進行する。これにより、本実施態様に係るコーティング層によれば、ウィスカの発生及び成長に伴って、第2材料が、水分との接触によって徐々に硬化し、硬化した第2材料にウィスカが接触することにより、ウィスカの成長をより効率的に抑制することができる。   On the other hand, the whisker is not generated at the time when the electronic component is manufactured even in the electronic component according to the present embodiment, and the surface of the base material of the terminal included in the electronic component with the passage of time thereafter. At least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder is generated and gradually grows. That is, also in the coating layer according to this embodiment, as described above, the curing of the second material and the generation and growth of whiskers proceed in parallel. Thereby, according to the coating layer which concerns on this embodiment, with the generation | occurrence | production and growth of a whisker, a 2nd material is hardened | cured gradually by contact with a water | moisture content, and a whisker contacts the hardened 2nd material. The growth of whiskers can be more efficiently suppressed.

上記に加えて、本実施態様に係る電子部品においては、上述のように、湿度硬化型樹脂が水分との接触によって徐々に硬化することから、上記コーティング層内に侵入した水分が湿度硬化型樹脂の重合反応や架橋反応を開始させるのに消費される。これにより、上記コーティング層内に侵入した水分が、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層や鉛フリー半田に到達して、これらの金属を腐食することを抑制することができる。また、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層や鉛フリー半田からのウィスカの発生そのものをも抑制することができる。一方、本実施態様に係る電子部品においては、上述のように、ウィスカの発生箇所である上記界面近傍において硬化した嫌気性封着剤を突き破って、本実施態様に係るコーティング層の内部にウィスカが更に進入した場合、当該ウィスカが未硬化の嫌気性封着剤と接触すると、当該未硬化の嫌気性封着剤が当該ウィスカとの接触により硬化を開始する。このように、本実施態様に係るコーティング層においては、ウィスカの成長によって、嫌気性封着剤の硬化が更に促進される。結果として、本実施態様に係るコーティング層によれば、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層や鉛フリー半田からのウィスカの発生及び成長を、更により一層効果的に抑制することができる。   In addition to the above, in the electronic component according to the present embodiment, as described above, since the humidity curable resin is gradually cured by contact with moisture, the moisture that has entered the coating layer is moisture curable resin. It is consumed to initiate the polymerization reaction and crosslinking reaction. This prevents moisture that has penetrated into the coating layer from reaching the lead-free plating layer or lead-free solder on the surface of the base material of the terminals of the electronic component and corroding these metals. can do. In addition, it is possible to suppress the occurrence of whiskers from the lead-free plating layer or lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal provided in the electronic component. On the other hand, in the electronic component according to the present embodiment, as described above, whiskers are formed inside the coating layer according to the present embodiment by breaking through the anaerobic sealant cured in the vicinity of the interface where the whisker is generated. When further entering, when the whisker comes into contact with an uncured anaerobic sealant, the uncured anaerobic sealant starts to cure upon contact with the whisker. Thus, in the coating layer which concerns on this embodiment, hardening of an anaerobic sealing agent is further accelerated | stimulated by the growth of a whisker. As a result, according to the coating layer according to the present embodiment, the generation and growth of whiskers from the lead-free plating layer and the lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component are even more effective. Can be suppressed.

尚、上述のように、上記第2材料を構成する一方の成分である湿度硬化型樹脂としては、当該技術分野において、種々のタイプのものが知られている。具体的には、湿度硬化型樹脂としては、例えば、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂等を挙げることができる。また、上記第2材料を構成する他方の成分である嫌気性封着剤としては、当該技術分野において、種々のタイプのものが知られている。具体的には、湿度硬化型樹脂としては、例えば、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂(例えば、ナイロン等)、及びエポキシ系樹脂等を挙げることができる。   As described above, various types of humidity curable resins, which are one component constituting the second material, are known in the technical field. Specifically, examples of the humidity curable resin include a cyanoacrylate resin, a phenol resin, a silicone resin, and a polyurethane resin. In addition, various types of anaerobic sealants that are the other component constituting the second material are known in the technical field. Specifically, examples of the humidity curable resin include a vinyl acetate resin, an acrylic resin, a polyamide resin (for example, nylon), and an epoxy resin.

従って、本発明の第8の実施態様は、
本発明の前記第7の実施態様に係る電子部品であって、
前記湿度硬化型樹脂が、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂の少なくとも1種を含んでなり、
前記嫌気性封着剤が、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びエポキシ系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品である。
Accordingly, the eighth embodiment of the present invention provides:
An electronic component according to the seventh embodiment of the present invention,
The humidity curable resin comprises at least one of a cyanoacrylate resin, a phenol resin, a silicone resin, and a polyurethane resin,
The anaerobic sealant comprises at least one of vinyl acetate resin, acrylic resin, polyamide resin, and epoxy resin;
It is an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品においては、前記湿度硬化型樹脂が、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる。即ち、本実施態様に係るコーティングにおいては、第2材料を構成する一方の成分である湿度硬化型樹脂が、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂の何れか1種のみを含んでいてもよく、あるいは、これらの材料のうち2種以上を含んでいてもよい。また、上記のように、本実施態様に係る電子部品においては、前記嫌気性封着剤が、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂(例えば、ナイロン等)、及びエポキシ系樹脂の少なくとも1種を含んでなる。即ち、本実施態様に係るコーティングにおいては、第2材料を構成する他方の成分である嫌気性封着剤が、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びエポキシ系樹脂の何れか1種のみを含んでいてもよく、あるいは、これらの材料のうち2種以上を含んでいてもよい。   As described above, in the electronic component according to this embodiment, the humidity curable resin includes at least one of a cyanoacrylate resin, a phenol resin, a silicone resin, and a polyurethane resin. That is, in the coating according to this embodiment, the humidity curable resin that is one component constituting the second material is any one of a cyanoacrylate resin, a phenol resin, a silicone resin, and a polyurethane resin. May be included, or two or more of these materials may be included. Further, as described above, in the electronic component according to this embodiment, the anaerobic sealant is at least one of vinyl acetate resin, acrylic resin, polyamide resin (for example, nylon), and epoxy resin. Comprising one species. That is, in the coating according to the present embodiment, the anaerobic sealant as the other component constituting the second material is any one of vinyl acetate resin, acrylic resin, polyamide resin, and epoxy resin. It may contain only seeds, or it may contain two or more of these materials.

ところで、当該技術分野においては、例えば、空気中の水分が電子部品の内部に侵入して、電子部品を構成する各種回路素子が備える端子の間での絶縁不良や端子等の金属部分の腐食に伴う導通不良等の問題を生ずることを回避することを目的として、例えば、電子部品の端子部分の近傍や電子部品の全体を防湿コーティング層によって封止することが広く行われている。従って、本発明に係る電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域を覆うコーティング層が、ウィスカの成長を抑制する中空粒子を分散させる役割のみならず、上記防湿コーティング層の役割をも果たすことができれば、当該電子部品の製造工程の複雑化を回避することができるので望ましい。   By the way, in this technical field, for example, moisture in the air penetrates into the interior of the electronic component, resulting in poor insulation between terminals of various circuit elements constituting the electronic component and corrosion of metal parts such as the terminal. For the purpose of avoiding problems such as poor conduction, for example, the vicinity of the terminal portion of an electronic component or the entire electronic component is widely sealed with a moisture-proof coating layer. Therefore, the coating layer covering at least one region of the lead-free plating layer and the lead-free solder on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component according to the present invention is a hollow particle that suppresses whisker growth. If not only the role of dispersing but also the role of the moisture-proof coating layer can be achieved, it is possible to avoid complication of the manufacturing process of the electronic component.

従って、本発明の第9の実施態様は、
本発明の前記第1乃至前記第8の実施態様の何れか1つに係る電子部品であって、
前記第1材料が防湿性材料である、
電子部品である。
Accordingly, the ninth embodiment of the present invention provides:
An electronic component according to any one of the first to eighth embodiments of the present invention,
The first material is a moisture-proof material;
It is an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品においては、前記第1材料が防湿性材料である。従って、本実施態様に係る電子部品においては、上述のように当該技術分野に係る電子部品の製造工程において広く行われている防湿コーティング層の塗布工程において、従来技術に係る防湿コーティング層に代えて、本発明に係るコーティング層を塗布することにより、電子部品の製造工程を複雑化すること無く、電子部品に防湿性を付与するのみならず、前述のようなウィスカの成長を抑制する効果をも得ることができる。   As described above, in the electronic component according to this embodiment, the first material is a moisture-proof material. Therefore, in the electronic component according to the present embodiment, in the application process of the moisture-proof coating layer that is widely performed in the manufacturing process of the electronic component according to the technical field as described above, instead of the moisture-proof coating layer according to the prior art. The application of the coating layer according to the present invention not only complicates the manufacturing process of the electronic component, but also imparts moisture resistance to the electronic component, and also has the effect of suppressing the growth of whiskers as described above. Can be obtained.

ところで、当該技術分野において、上述の防湿コーティング層を形成する材料としては、例えば、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂コーティング層の硬さは、例えば、これらの材料に添加される架橋剤の量を調整すること等によって調節することができる。しかしながら、上述のように、本発明に係るコーティング層を構成する第1材料及び第2材料において、第1材料の硬さは第2材料の硬さよりも小さいことがより望ましい。従って、本発明に係るコーティング層に含まれる第1材料としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂等、比較的小さい硬さを容易に達成することができる材料を使用することが望ましい。   By the way, in the said technical field, as a material which forms the above-mentioned moisture-proof coating layer, thermosetting resins, such as an epoxy resin, polyolefin resin, acrylic resin, polyurethane resin, silicone resin, etc. are mentioned, for example. Can do. The hardness of these resin coating layers can be adjusted, for example, by adjusting the amount of the crosslinking agent added to these materials. However, as described above, in the first material and the second material constituting the coating layer according to the present invention, it is more desirable that the hardness of the first material is smaller than the hardness of the second material. Therefore, as the first material included in the coating layer according to the present invention, for example, a relatively small hardness such as a polyolefin resin, an acrylic resin, a polyurethane resin, and a silicone resin can be easily achieved. It is desirable to use materials.

従って、本発明の第10の実施態様は、
本発明の前記第9の実施態様に係る電子部品であって、
前記防湿性材料が、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品である。
Accordingly, the tenth embodiment of the present invention provides:
An electronic component according to the ninth embodiment of the present invention,
The moisture-proof material comprises at least one of a polyolefin resin, an acrylic resin, a polyurethane resin, and a silicone resin.
It is an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品においては、前記第1材料が、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる。これらの材料は、当該技術分野において上述のような防湿コーティング層を形成する材料として広く使用されているものである。従って、本実施態様に係る電子部品が備える端子の母材の表面における少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域を覆うコーティング層は、ウィスカの成長を抑制する役割のみならず、上述のような防湿コーティング層の役割をも果たすことができる。更に、これらの材料は、上述のように、比較的小さい硬さを容易に達成することができる。従って、本発明に係るコーティング層に含まれる第1材料として、これらの材料を使用することがより望ましい。尚、これらの材料からなる第1材料の硬化後の硬さは、例えば、これらの材料に添加される架橋剤の量を調整すること等によって調節することができる。また、上記のように、本実施態様に係るコーティング層に含まれる第1材料は、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂の何れか1種のみからなっていてもよく、あるいは、これらの材料のうち2種以上を含んでなっていてもよい。   As described above, in the electronic component according to this embodiment, the first material includes at least one of a polyolefin resin, an acrylic resin, a polyurethane resin, and a silicone resin. These materials are widely used as materials for forming the moisture-proof coating layer as described above in the technical field. Therefore, the coating layer that covers at least a region where at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder is provided on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component according to the present embodiment has only a role of suppressing whisker growth. In addition, it can also serve as a moisture-proof coating layer as described above. Furthermore, these materials can easily achieve a relatively small hardness as described above. Therefore, it is more desirable to use these materials as the first material included in the coating layer according to the present invention. In addition, the hardness after hardening of the 1st material which consists of these materials can be adjusted, for example by adjusting the quantity of the crosslinking agent added to these materials. In addition, as described above, the first material included in the coating layer according to this embodiment may be composed of only one of a polyolefin resin, an acrylic resin, a polyurethane resin, and a silicone resin. Alternatively, two or more of these materials may be included.

以上、本発明に係る電子部品の幾つかの実施態様について説明してきたが、本発明の範囲は、これらの電子部品に留まるものではなく、これらの電子部品の製造方法もまた、本発明の範囲に含まれる。これらの電子部品の製造方法については、これまでに説明してきた各実施態様に係る電子部品についての説明から明らかである事項については、ここでは改めて説明せず、新たに説明を必要とする事項についてのみ説明する。本発明に係る電子部品の製造方法の幾つかの実施態様につき以下に列挙する。   Although several embodiments of the electronic component according to the present invention have been described above, the scope of the present invention is not limited to these electronic components, and the manufacturing method of these electronic components is also within the scope of the present invention. include. About the manufacturing method of these electronic components, the matter that is clear from the description of the electronic component according to each embodiment described so far will not be described here again, and the matter that needs to be newly described Only explained. Several embodiments of the method for manufacturing an electronic component according to the present invention will be listed below.

先ず、本発明の第11の実施態様は、
鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品の製造方法であって、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面をコーティング層によって被覆すること、
を含み、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された第2材料と、を含んでなり、
前記第2材料が、前記第1材料及び前記第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触によって硬化を開始する材料である、
電子部品の製造方法である。
First, the eleventh embodiment of the present invention is
A method of manufacturing an electronic component comprising a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on the surface of a base material,
Covering at least an exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder with a coating layer;
Including
The coating layer comprises a first material and a second material dispersed in the first material;
The second material is a material that starts curing by contact with a third substance different from any of the first material and the second material.
It is a manufacturing method of an electronic component.

次に、本発明の第12の実施態様は、
本発明の前記第11の実施態様に係る電子部品の製造方法であって、
前記第2材料の硬化後の硬さが、前記第1材料の硬化後の硬さよりも大きい、
電子部品の製造方法である。
Next, a twelfth embodiment of the present invention includes
An electronic component manufacturing method according to the eleventh embodiment of the present invention, comprising:
The hardness of the second material after curing is greater than the hardness of the first material after curing;
It is a manufacturing method of an electronic component.

また、本発明の第13の実施態様は、
本発明の前記第11又は前記第12の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
前記第2材料が、前記第3の物質としての水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂である、
電子部品の製造方法である。
The thirteenth embodiment of the present invention provides
An electronic component manufacturing method according to any one of the eleventh or twelfth embodiments of the present invention,
The second material is a humidity curable resin that starts to cure by contact with moisture as the third substance.
It is a manufacturing method of an electronic component.

更に、本発明の第14の実施態様は、
本発明の前記第13の実施態様に係る電子部品の製造方法であって、
前記湿度硬化型樹脂が、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品の製造方法である。
Furthermore, the fourteenth embodiment of the present invention provides
An electronic component manufacturing method according to the thirteenth embodiment of the present invention, comprising:
The humidity curable resin comprises at least one of a cyanoacrylate resin, a phenol resin, a silicone resin, and a polyurethane resin.
It is a manufacturing method of an electronic component.

また更に、本発明の第15の実施態様は、
本発明の前記第11又は前記第12の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
前記第2材料が、前記第3の物質としての金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤である、
電子部品の製造方法である。
Still further, the fifteenth embodiment of the present invention provides:
An electronic component manufacturing method according to any one of the eleventh or twelfth embodiments of the present invention,
The second material is an anaerobic sealant that initiates curing upon contact with a metal as the third substance;
It is a manufacturing method of an electronic component.

次いで、本発明の第16の実施態様は、
本発明の前記第15の実施態様に係る電子部品の製造方法であって、
前記嫌気性封着剤が、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びエポキシ系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品の製造方法である。
Then, the sixteenth embodiment of the present invention is
An electronic component manufacturing method according to the fifteenth embodiment of the present invention, comprising:
The anaerobic sealant comprises at least one of vinyl acetate resin, acrylic resin, polyamide resin, and epoxy resin;
It is a manufacturing method of an electronic component.

次に、本発明の第17の実施態様は、
本発明の前記第11又は前記第12の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
前記第2材料が、前記第3の物質としての水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂と前記第3の物質としての金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤との混合物である、
電子部品の製造方法である。
Next, the seventeenth embodiment of the present invention provides
An electronic component manufacturing method according to any one of the eleventh or twelfth embodiments of the present invention,
The second material comprises a humidity curable resin that starts to be cured by contact with moisture as the third substance and an anaerobic sealant that starts to be cured by contact with the metal as the third substance. A mixture,
It is a manufacturing method of an electronic component.

また、本発明の第18の実施態様は、
本発明の前記第17の実施態様に係る電子部品の製造方法であって、
前記湿度硬化型樹脂が、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂の少なくとも1種を含んでなり、
前記嫌気性封着剤が、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びエポキシ系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品の製造方法である。
The eighteenth embodiment of the present invention provides
An electronic component manufacturing method according to the seventeenth embodiment of the present invention, comprising:
The humidity curable resin comprises at least one of a cyanoacrylate resin, a phenol resin, a silicone resin, and a polyurethane resin,
The anaerobic sealant comprises at least one of vinyl acetate resin, acrylic resin, polyamide resin, and epoxy resin;
It is a manufacturing method of an electronic component.

更に、本発明の第19の実施態様は、
本発明の前記第11乃至前記第18の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
前記第1材料が防湿性材料である、
電子部品の製造方法である。
Furthermore, the nineteenth embodiment of the present invention provides
An electronic component manufacturing method according to any one of the eleventh to eighteenth embodiments of the present invention,
The first material is a moisture-proof material;
It is a manufacturing method of an electronic component.

また更に、本発明の第20の実施態様は、
本発明の前記第19の実施態様に係る電子部品の製造方法であって、
前記防湿性材料が、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂の少なくとも1種を含んでなる、
電子部品の製造方法である。
Still further, the twentieth embodiment of the present invention provides:
An electronic component manufacturing method according to the nineteenth embodiment of the present invention, comprising:
The moisture-proof material comprises at least one of a polyolefin resin, an acrylic resin, a polyurethane resin, and a silicone resin.
It is a manufacturing method of an electronic component.

ところで、本発明に係るコーティング層を、電子部品が備える端子の母材の表面における、少なくとも鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方が配設された領域に塗布する方法は、特定の塗布方法に限定されるものではなく、当該技術分野において広く使用されている種々の塗布方法から適宜選択することができる。かかる塗布方法としては、例えば、スプレーコーティング法、ディップコーティング法等を挙げることができる。   By the way, a method of applying the coating layer according to the present invention to at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component is a specific application method. It is not limited to these, and can be appropriately selected from various coating methods widely used in the technical field. Examples of such an application method include a spray coating method and a dip coating method.

即ち、本発明の第21の実施態様は、
本発明の前記第11乃至前記第20の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
スプレーコーティング法により、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する、
電子部品の製造方法である。
That is, the twenty-first embodiment of the present invention
An electronic component manufacturing method according to any one of the eleventh to twentieth embodiments of the present invention,
Covering at least the exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder with the coating layer by a spray coating method,
It is a manufacturing method of an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品の製造方法においては、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する際に、スプレーコーティング法を採用する。スプレーコーティング法とは、当業者には周知であるように、スプレー(噴霧器)を用いて、コーティング層を形成する液体を、圧縮空気や高圧ガス等によって霧や泡等の状態とし、塗布対象物に対して噴霧する方法である。上記圧縮空気や高圧ガス等は、例えば、圧縮空気や高圧ガス等が充填されたボンベによって供給することもでき、あるいは電動ポンプ等のコンプレッサによって供給することもできる。   As described above, in the method of manufacturing an electronic component according to this embodiment, a spray coating method is employed when at least the exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder is covered with the coating layer. As is well known to those skilled in the art, the spray coating method uses a spray (atomizer) to change the liquid forming the coating layer into a state of mist, foam, etc. with compressed air or high-pressure gas, etc. It is the method of spraying with respect to. The compressed air, high-pressure gas, or the like can be supplied by, for example, a cylinder filled with compressed air, high-pressure gas, or the like, or can be supplied by a compressor such as an electric pump.

尚、本実施態様に係る電子部品の製造方法においては、本発明に係るコーティング層を構成する第1材料及び第2材料を、上記塗布に先だって予め混合しておいてもよく、又は上記塗布の際若しくは上記塗布の直前に混合してもよい。   In the method for manufacturing an electronic component according to this embodiment, the first material and the second material constituting the coating layer according to the present invention may be mixed in advance before the application, or the application of the application You may mix at the time or just before the said application | coating.

一方、本発明の第22の実施態様は、
本発明の前記第11乃至前記第20の実施態様の何れか1つに係る電子部品の製造方法であって、
ディップコーティング法により、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する、
電子部品の製造方法である。
On the other hand, the twenty-second embodiment of the present invention
An electronic component manufacturing method according to any one of the eleventh to twentieth embodiments of the present invention,
By the dip coating method, at least the exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder is covered with the coating layer,
It is a manufacturing method of an electronic component.

上記のように、本実施態様に係る電子部品の製造方法においては、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する際に、ディップコーティング法を採用する。ディップコーティング法とは、当業者には周知であるように、コーティング層を形成する液体中に塗布対象物を浸漬し、塗布対象物を液体から引き上げることにより、塗布対象物の表面に付着した液体の皮膜を形成させる方法である。当該塗布方法においては、例えば、コーティング層を形成する液体の粘度、表面張力、及び塗布対象物の表面に付着した液体の重力による流下を考慮して、塗布対象物を液体から引き上げる速度を調節することにより、塗布対象物の表面に付着した液体の皮膜の厚みを制御することができる。   As described above, in the method of manufacturing an electronic component according to this embodiment, a dip coating method is employed when at least the exposed surfaces of the lead-free plating layer and the lead-free solder are covered with the coating layer. As is well known to those skilled in the art, the dip coating method is a liquid that adheres to the surface of an application object by immersing the application object in a liquid that forms a coating layer and pulling up the application object from the liquid. This is a method of forming a film. In the coating method, for example, the viscosity of the liquid forming the coating layer, the surface tension, and the flow of the liquid adhering to the surface of the coating object due to gravity flow are adjusted to adjust the speed of lifting the coating object from the liquid. Thus, the thickness of the liquid film attached to the surface of the application object can be controlled.

尚、本実施態様に係る電子部品の製造方法においても、本発明に係るコーティング層を構成する第1材料及び第2材料を、上記塗布に先だって予め混合しておいてもよく、又は上記塗布の際若しくは上記塗布の直前に混合してもよい。   In the method for manufacturing an electronic component according to this embodiment, the first material and the second material constituting the coating layer according to the present invention may be mixed in advance before the application, or the application of the application You may mix at the time or just before the said application | coating.

以上のように、本発明の種々の実施態様に係る電子部品及び当該電子部品の製造方法によれば、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品において、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面を、第1材料と第1材料中に分散された第2材料とを含んでなるコーティング層であって、第2材料が第1材料及び第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触によって硬化を開始する材料であるコーティング層によって覆うことにより、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田からのウィスカの発生及び成長に伴って、第2材料が徐々に硬化し、当該コーティング層内に進入したウィスカが硬化した第2材料に接触することにより、ウィスカの成長をより効率的に抑制することができる。   As described above, according to the electronic component and the method for manufacturing the electronic component according to various embodiments of the present invention, the electronic component including the terminal having at least one of the lead-free plating layer and the lead-free solder on the surface of the base material. The lead-free plating layer and the lead-free solder at least the exposed surface is a coating layer comprising a first material and a second material dispersed in the first material, wherein the second material is the first material. Generation and growth of whiskers from the lead-free plating layer and the lead-free solder by covering with a coating layer that is a material that begins to harden upon contact with a third substance different from either the first material or the second material Accordingly, the second material is gradually cured, and the whisker that has entered the coating layer comes into contact with the cured second material so that the whisker grows more efficiently. It can be suppressed to.

本発明の幾つかの実施態様に関して、添付図面等を参照しつつ以下に説明する。但し、以下に述べる説明はあくまでも例示を目的とするものであり、本発明の範囲が以下の説明に限定されるものと解釈されるべきではない。   Several embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. However, the following description is for illustrative purposes only, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following description.

1.本発明に係るコーティングによるウィスカの成長抑制(1)
図1は、前述のように、本発明の1つの実施態様に係る電子部品が備える端子の表面におけるウィスカの発生状況を説明する模式図である。図1において、(a)、(b)、及び(c)は、この順に時間が経過していることを表す。より具体的には、図1(a)は、本実施例に係るコーティング層10が、電子部品の端子の母材の表面上に設けられた鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43の上に配設された直後の状態に該当する。図1(a)に示すように、コーティング層10は、第1材料11と、第1材料11中に分散された第2材料12と、を含んでなる。尚、本実施例においては、水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂を第2材料12として採用した。また、本実施例においては、第2材料12によって形成される円形(球形)のドメインが第1材料11中に海島状に分散されているが、本発明に係るコーティング層における第1材料中での第2材料の分散形態は、かかる形態に限定されるものではない。
1. Suppression of whisker growth by coating according to the present invention (1)
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the occurrence of whiskers on the surface of a terminal provided in an electronic component according to one embodiment of the present invention as described above. In FIG. 1, (a), (b), and (c) represent that time has passed in this order. More specifically, FIG. 1A shows that the coating layer 10 according to the present embodiment is formed on a lead-free plating layer or lead-free solder 43 provided on the surface of the base material of the terminal of the electronic component. This corresponds to the state immediately after the placement. As shown in FIG. 1A, the coating layer 10 includes a first material 11 and a second material 12 dispersed in the first material 11. In the present embodiment, a humidity curable resin that starts curing upon contact with moisture is used as the second material 12. Further, in this embodiment, the circular (spherical) domains formed by the second material 12 are dispersed in the shape of sea islands in the first material 11, but in the first material in the coating layer according to the present invention. The dispersion form of the second material is not limited to such a form.

次に、図1(b)は、図1(a)に示す状態から時間が経過し、空気中の水分14が、本実施例に係るコーティング層10の外表面側(図1における向かって上側)から、コーティング層10の内部に侵入し、これに伴って、コーティング層10の外表面近傍に存在する第2材料12のドメインが硬化を開始した状態を表している。尚、図1において、黒塗りの円形によって示される部分は、水分14との接触により硬化した第2材料12のドメインを表す。また、黒塗りの円形同士を結ぶ直線は、第2材料12を構成する物質(モノマー)が水分14との接触により重合反応又は架橋反応を開始して、ネットワーク13を形成したことを表す。また、図1(b)に示すように、この時点で、鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43からウィスカ21が発生している。   Next, in FIG. 1B, time has elapsed from the state shown in FIG. 1A, and the moisture 14 in the air is on the outer surface side of the coating layer 10 according to this example (upper side in FIG. 1). To the inside of the coating layer 10, and accordingly, the domain of the second material 12 existing in the vicinity of the outer surface of the coating layer 10 has started to be cured. In FIG. 1, a portion indicated by a black circle represents a domain of the second material 12 cured by contact with the moisture 14. A straight line connecting the black circles indicates that the substance (monomer) constituting the second material 12 has started the polymerization reaction or the crosslinking reaction by contact with the moisture 14 to form the network 13. Further, as shown in FIG. 1B, whiskers 21 are generated from the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 at this time.

次に、図1(c)は、図1(b)に示す状態から更に時間が経過し、コーティング層10の内部に侵入した水分14との接触による第2材料12の硬化が更に進むと共に、鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43から発生したウィスカ21が更に成長し、コーティング層10の内部に更に進入し、硬化した第2材料12のドメインに接触しようとしている状態を表す。図1(c)に示すように、この時点では、第2材料12の硬化が更に進み、硬化した第2材料12のドメインが更に増加しているため、ウィスカ21は硬化した第2材料12のドメインに接触して、更に成長することが困難となる。   Next, in FIG. 1C, the time elapses further from the state shown in FIG. 1B, and the curing of the second material 12 by the contact with the moisture 14 that has entered the coating layer 10 further proceeds. The whisker 21 generated from the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 further grows and further enters the inside of the coating layer 10, and represents a state in which the whisker 21 tries to contact the domain of the cured second material 12. As shown in FIG. 1C, at this point, the second material 12 is further cured, and the domain of the cured second material 12 is further increased. It becomes difficult to grow further in contact with the domain.

上記のように、本実施例に係る電子部品においては、当該電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田43から発生したウィスカ21が成長して、コーティング層10の内部に進入する際には、コーティング層10の内部に侵入した水分14との接触により、第1材料11中に分散された第2材料12のドメインの硬化が進行しており、ウィスカ21が更に成長することを妨げる。これにより、本実施例に係る電子部品においては、当該電子部品が備える端子の表面に形成された鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田43から発生したウィスカ21がコーティング層10の外部にまで成長して、前述のような電子部品の端子間における短絡(ショート)等の問題を生ずることを効果的に抑制することができる。加えて、本実施例においては、上述のように、コーティング層10の内部に侵入した水分14が、第1材料11中に分散された第2材料12の重合反応や架橋反応を開始させるのに消費される。これにより、コーティング層10の内部に侵入した水分14が、鉛フリーめっき層や鉛フリー半田43に到達して、これらの金属を腐食することを抑制することができる。また、鉛フリーめっき層や鉛フリー半田43からのウィスカ21の発生そのものをも抑制することができる。   As described above, in the electronic component according to the present embodiment, the whisker 21 generated from the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component grows, When entering the inside of the coating layer 10, hardening of the domains of the second material 12 dispersed in the first material 11 proceeds by contact with the moisture 14 that has entered the inside of the coating layer 10. It prevents the whisker 21 from growing further. Thereby, in the electronic component according to the present embodiment, the whisker 21 generated from the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 formed on the surface of the terminal included in the electronic component grows to the outside of the coating layer 10. It is possible to effectively suppress problems such as a short circuit (short circuit) between the terminals of the electronic component as described above. In addition, in the present embodiment, as described above, the moisture 14 that has entered the coating layer 10 starts the polymerization reaction and the crosslinking reaction of the second material 12 dispersed in the first material 11. Is consumed. Thereby, it can suppress that the water | moisture content 14 which penetrate | invaded the inside of the coating layer 10 arrives at a lead free plating layer and the lead free solder 43, and corrodes these metals. In addition, the generation of whiskers 21 from the lead-free plating layer and the lead-free solder 43 can be suppressed.

2.本発明に係るコーティングによるウィスカの成長抑制(2)
図2は、前述のように、本発明のもう1つの実施態様に係る電子部品が備える端子の表面におけるウィスカの発生状況を説明する模式図である。図2において、(a)、(b)、及び(c)は、この順に時間が経過していることを表す。より具体的には、図2(a)は、本実施例に係るコーティング層10が、電子部品の端子の母材の表面上に設けられた鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43の上に配設された直後の状態に該当する。図2(a)に示すように、コーティング層10は、第1材料11と、第1材料11中に分散された第2材料12と、を含んでなる。尚、本実施例においては、金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤を第2材料12として採用した。また、本実施例においては、第2材料12によって形成される円形(球形)のドメインが第1材料11中に海島状に分散されているが、本発明に係るコーティング層における第1材料中での第2材料の分散形態は、かかる形態に限定されるものではない。
2. Suppression of whisker growth by coating according to the present invention (2)
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the occurrence of whiskers on the surface of the terminal provided in the electronic component according to another embodiment of the present invention as described above. In FIG. 2, (a), (b), and (c) represent that time has passed in this order. More specifically, FIG. 2A shows that the coating layer 10 according to this embodiment is formed on a lead-free plating layer or lead-free solder 43 provided on the surface of the base material of the terminal of the electronic component. This corresponds to the state immediately after the placement. As shown in FIG. 2A, the coating layer 10 includes a first material 11 and a second material 12 dispersed in the first material 11. In the present embodiment, an anaerobic sealant that starts curing upon contact with a metal is employed as the second material 12. Further, in this embodiment, the circular (spherical) domains formed by the second material 12 are dispersed in the shape of sea islands in the first material 11, but in the first material in the coating layer according to the present invention. The dispersion form of the second material is not limited to such a form.

次に、図2(b)は、図2(a)に示す状態から時間が経過し、コーティング層10の鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43との界面近傍に存在する第2材料12のドメインが硬化を開始した状態を表している。尚、図2において、黒塗りの円形によって示される部分は、鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43との接触により硬化した第2材料12のドメインを表す。また、黒塗りの円形同士を結ぶ直線は、第2材料12を構成する物質(モノマー)が鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43との接触により重合反応又は架橋反応を開始して、ネットワーク13を形成したことを表す。このように、本実施例に係るコーティング層10においては、鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43との接触により、コーティング層10の鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43との界面近傍において重点的に第2材料12の硬化が進行するので、鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43からのウィスカ21の発生そのものが抑制される。但し、図2(b)に示すように、硬化した第2材料12のドメインが形成されていない領域においては、鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43からウィスカ21が発生することができる。また、硬化した第2材料12のドメインが形成されている領域においても、鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43からウィスカ21が発生し、コーチング層10の内部に進入する場合もある。   Next, FIG. 2B shows the second material 12 existing in the vicinity of the interface with the lead-free plating layer of the coating layer 10 or the lead-free solder 43 after a lapse of time from the state shown in FIG. This represents a state in which the domain has started to harden. In FIG. 2, a portion indicated by a black circle represents a domain of the second material 12 cured by contact with the lead-free plating layer or the lead-free solder 43. Further, the straight line connecting the black circles starts the polymerization reaction or the crosslinking reaction when the substance (monomer) constituting the second material 12 contacts the lead-free plating layer or the lead-free solder 43, and the network 13 Represents the formation of As described above, in the coating layer 10 according to the present embodiment, the contact with the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 causes an emphasis in the vicinity of the interface between the coating layer 10 and the lead-free plating layer or the lead-free solder 43. In particular, since the hardening of the second material 12 proceeds, the generation of the whisker 21 from the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 is suppressed. However, as shown in FIG. 2B, whiskers 21 can be generated from the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 in the region where the domain of the cured second material 12 is not formed. Even in the region where the domain of the cured second material 12 is formed, the whisker 21 may be generated from the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 and may enter the inside of the coating layer 10.

次に、図2(c)は、図2(b)に示す状態から更に時間が経過し、コーティング層10の内部における第2材料12の硬化が更に進むと共に、鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43から発生したウィスカ21が更に成長し、コーティング層10の内部に更に進入し、未硬化の第2材料12のドメインに接触して、当該第2材料12のドメインを硬化させた状態を表す。図2(c)に示すように、この時点では、鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田43との接触により第2材料12の硬化が更に進むと共に、上記のようにコーティング層10の内部に進入したウィスカ21との接触によっても第2材料12の硬化が更に進む。結果として、この時点では、硬化した第2材料12のドメインが更に増加しているため、ウィスカ21は硬化した第2材料12のドメインに拘束されて、更に成長することが困難となる。   Next, in FIG. 2C, as time elapses further from the state shown in FIG. 2B, the curing of the second material 12 in the coating layer 10 further progresses, and a lead-free plating layer or lead-free The whisker 21 generated from the solder 43 further grows, further enters the inside of the coating layer 10, contacts the domain of the uncured second material 12, and represents a state where the domain of the second material 12 is cured. . As shown in FIG. 2 (c), at this point, the second material 12 is further cured by contact with the lead-free plating layer or the lead-free solder 43, and enters the coating layer 10 as described above. The second material 12 is further cured by contact with the whisker 21. As a result, at this point, since the domains of the cured second material 12 are further increased, the whisker 21 is constrained by the domains of the cured second material 12 and is difficult to grow further.

上記のように、本実施例に係る電子部品においては、当該電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田43とのコーティング層10との界面近傍における第2材料12の硬化により、鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田43からのウィスカ21の発生そのものが抑制される。これに加えて、本実施例に係る電子部品においては、鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田43から発生したウィスカ21が成長して、コーティング層10の内部に進入しても、第1材料11中に分散された未硬化の第2材料12のドメインと接触すると、当該第2材料12の硬化が始まり、ウィスカ21が更に成長することを妨げる。これにより、本実施例に係る電子部品においては、当該電子部品が備える端子の表面に形成された鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田43から発生したウィスカ21がコーティング層10の外部にまで成長して、前述のような電子部品の端子間における短絡(ショート)等の問題を生ずることを効果的に抑制することができる。   As described above, in the electronic component according to the present embodiment, in the vicinity of the interface with the coating layer 10 with the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component. Due to the hardening of the second material 12, the generation of the whisker 21 from the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 is suppressed. In addition, in the electronic component according to the present embodiment, even if the whisker 21 generated from the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 grows and enters the inside of the coating layer 10, Contact with the domains of the uncured second material 12 dispersed in the second material 12 begins to cure, preventing further growth of the whisker 21. Thereby, in the electronic component according to the present embodiment, the whisker 21 generated from the lead-free plating layer or the lead-free solder 43 formed on the surface of the terminal included in the electronic component grows to the outside of the coating layer 10. It is possible to effectively suppress problems such as a short circuit (short circuit) between the terminals of the electronic component as described above.

3.本発明に係るコーティングの塗布方法(1)
図3は、前述のように、本発明の1つの実施態様に係る電子部品の製造方法におけるコーティング層の塗布方法を説明する模式図である。より具体的には、図3は、スプレーコーティング法により、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーのめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも露出面を本発明の1つの実施態様に係るコーティング層によって被覆する手順を模式的に説明する。図3に示すように、本実施例に係る電子部品の製造方法においては、端子42を備える回路素子41が配設された基板44を含んでなる電子部品40を、スプレー(噴霧器)33から噴出される霧状のコーティング材料34によって被覆する。
3. Coating application method (1) according to the present invention
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a coating layer applying method in the method of manufacturing an electronic component according to one embodiment of the present invention as described above. More specifically, FIG. 3 shows an embodiment of the present invention in which at least an exposed surface of a lead-free plating layer and lead-free solder disposed on a surface of a base material of a terminal included in an electronic component is formed by spray coating. A procedure for coating with the coating layer according to the embodiment will be schematically described. As shown in FIG. 3, in the method of manufacturing an electronic component according to this embodiment, an electronic component 40 including a substrate 44 on which a circuit element 41 including a terminal 42 is disposed is ejected from a spray (atomizer) 33. The mist-like coating material 34 is covered.

本実施例に係る電子部品の製造方法においては、本実施例に係るコーティング層を構成する第1材料を含む液体31と第2材料を含む液体32とを混合し、スプレー(噴霧器)35から噴出することにより、第1材料及び第2材料を含む霧状のコーティング材料34による電子部品40を被覆する。これにより、本実施例に係る電子部品の製造方法においては、第1材料を含む液体31と第2材料を含む液体32との混合と、第1材料及び第2材料を含む霧状のコーティング材料34の電子部品40への噴霧とを、同時に行う。   In the method for manufacturing an electronic component according to this embodiment, the liquid 31 containing the first material and the liquid 32 containing the second material constituting the coating layer according to this embodiment are mixed and ejected from the spray (sprayer) 35. Thus, the electronic component 40 is coated with the mist-like coating material 34 including the first material and the second material. Thereby, in the manufacturing method of the electronic component which concerns on a present Example, the mixing of the liquid 31 containing a 1st material and the liquid 32 containing a 2nd material, and the mist-like coating material containing a 1st material and a 2nd material 34 spraying to the electronic component 40 is performed simultaneously.

図4は、上記のようにして本実施例に係るコーティング層10によって被覆された電子部品40を示す模式図である。即ち、図4は、前述のように、本発明の1つの実施態様に係る電子部品の製造方法によって電子部品に塗布されたコーティング層を示す模式図である。図4に示すように、端子42を備える回路素子41が配設された基板44を含んでなる電子部品40において、端子42を含む回路素子41の全体が、本実施例に係るコーティング層10によって覆われている。従って、電子部品40においては、図1及び図2を参照しながら説明したように、コーティング層10に含まれる第1材料中に分散された第2材料が徐々に硬化することによって、端子42の表面に形成された鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田からのウィスカの発生及び成長が抑制される。これにより、本実施例に係る製造方法によって製造される電子部品40においても、ウィスカがコーティング層10の外部にまで成長して、前述のような電子部品の端子間における短絡(ショート)等の問題を生ずることを効果的に抑制することができる。   FIG. 4 is a schematic diagram showing the electronic component 40 covered with the coating layer 10 according to the present embodiment as described above. That is, FIG. 4 is a schematic diagram showing the coating layer applied to the electronic component by the method for manufacturing the electronic component according to one embodiment of the present invention as described above. As shown in FIG. 4, in the electronic component 40 including the substrate 44 on which the circuit element 41 including the terminal 42 is disposed, the entire circuit element 41 including the terminal 42 is formed by the coating layer 10 according to the present embodiment. Covered. Therefore, in the electronic component 40, as described with reference to FIGS. 1 and 2, the second material dispersed in the first material contained in the coating layer 10 is gradually cured, so that The generation and growth of whiskers from the lead-free plating layer or lead-free solder formed on the surface is suppressed. Thereby, also in the electronic component 40 manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment, the whisker grows to the outside of the coating layer 10, and there is a problem such as a short circuit between the terminals of the electronic component as described above. Can be effectively suppressed.

4.本発明に係るコーティングの塗布方法(2)
図5は、前述のように、本発明のもう1つの実施態様に係る電子部品の製造方法におけるコーティング層の塗布方法を説明する模式図である。より具体的には、図5は、ディップコーティング法により、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーのめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも露出面を本発明の1つの実施態様に係るコーティング層によって被覆する手順を模式的に説明する。図5に示すように、本実施例に係る電子部品の製造方法においては、端子42を備える回路素子41が配設された基板44を含んでなる電子部品40を、塗布液浴槽52内に収容された第1材料及び第2材料を含む液体51に浸漬し、電子部品40を第1材料及び第2材料を含む液体51から引き上げることにより、電子部品40の表面に付着した第1材料及び第2材料を含む液体51の皮膜を形成させ、(例えば、第1材料及び第2材料を含む液体51に含まれる溶剤の蒸発等により)当該皮膜を硬化させることにより、本発明に係るコーティング層を電子部品40の表面に形成させる。前述のように、当該塗布方法においては、例えば、第1材料及び第2材料を含む液体51の粘度、表面張力、及び電子部品40の表面に付着した第1材料及び第2材料を含む液体51の重力による流下を考慮して、電子部品40を第1材料及び第2材料を含む液体51から引き上げる速度を調節することにより、電子部品40の表面に形成される皮膜の厚みを制御することができる。
4). Coating method according to the present invention (2)
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a coating layer coating method in the method of manufacturing an electronic component according to another embodiment of the present invention as described above. More specifically, FIG. 5 shows an embodiment of the present invention in which at least an exposed surface of a lead-free plating layer and lead-free solder disposed on a surface of a base material of a terminal included in an electronic component is formed by dip coating. A procedure for coating with the coating layer according to the embodiment will be schematically described. As shown in FIG. 5, in the method for manufacturing an electronic component according to this embodiment, an electronic component 40 including a substrate 44 on which a circuit element 41 including a terminal 42 is disposed is accommodated in a coating liquid bath 52. The first material and the second material adhering to the surface of the electronic component 40 are dipped in the liquid 51 containing the first material and the second material and the electronic component 40 is pulled up from the liquid 51 containing the first material and the second material. The coating layer according to the present invention is formed by forming a coating of the liquid 51 containing two materials and curing the coating (for example, by evaporation of the solvent contained in the liquid 51 containing the first material and the second material). It is formed on the surface of the electronic component 40. As described above, in the coating method, for example, the viscosity and surface tension of the liquid 51 including the first material and the second material, and the liquid 51 including the first material and the second material attached to the surface of the electronic component 40. The thickness of the film formed on the surface of the electronic component 40 can be controlled by adjusting the speed at which the electronic component 40 is pulled up from the liquid 51 containing the first material and the second material in consideration of the downward flow due to gravity. it can.

尚、当該塗布方法によれば、上記のように、端子42を備える回路素子41が配設された基板44を含んでなる電子部品40の全体が、本実施例に係るコーティング層によって覆われる。従って、本実施例においても、図1及び図2を参照しながら説明したように、本発明に係るコーティング層に含まれる第1材料中に分散された第2材料が徐々に硬化することによって、端子42の表面に形成された鉛フリーめっき層又は鉛フリー半田からのウィスカの発生及び成長が抑制される。これにより、本実施例に係る製造方法によって製造される電子部品40においても、ウィスカが本発明に係るコーティング層の外部にまで成長して、前述のような電子部品の端子間における短絡(ショート)等の問題を生ずることを効果的に抑制することができる。   In addition, according to the said application | coating method, as mentioned above, the whole electronic component 40 including the board | substrate 44 with which the circuit element 41 provided with the terminal 42 was arrange | positioned is covered with the coating layer which concerns on a present Example. Accordingly, also in this embodiment, as described with reference to FIGS. 1 and 2, the second material dispersed in the first material included in the coating layer according to the present invention is gradually cured, Generation and growth of whiskers from the lead-free plating layer or lead-free solder formed on the surface of the terminal 42 are suppressed. Thereby, also in the electronic component 40 manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment, the whisker grows to the outside of the coating layer according to the present invention, and the short circuit (short) between the terminals of the electronic component as described above. The occurrence of such problems can be effectively suppressed.

5.本発明に係るコーティングによるウィスカの成長抑制効果の評価(1)
(1)評価用サンプル用のコーティング材料
本発明に係る第1材料としては、前述のように、例えば、防湿性材料を使用することができ、防湿性材料としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂等を使用することができる。本実施例においては、各種評価用サンプルとしてのコーティング層を構成する第1材料として、アクリル系樹脂を採用した。一方、本発明に係る第2材料としては、前述のように、例えば、湿度硬化型樹脂を使用することができ、湿度硬化型樹脂としては、例えば、シアノアクリレート系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、及びポリウレタン系樹脂等を使用することができる。本実施例においては、各種評価用サンプルとしてのコーティング層を構成する第2材料として、シアノアクリレート系樹脂を採用した。加えて、一般的な防湿コーティング層として使用されるアクリル系樹脂を第1材料として採用し、第2材料を全く配合しない、対照標準としての比較用サンプルも調製した。更に、第1材料を全く配合せず、第2材料としてのシアノアクリレート系樹脂のみを使用する、更なる比較用サンプルをも調製した。各種評価用サンプルの詳細については、表1を参照しつつ、以下に詳細に説明する。
5. Evaluation of Whisker Growth Suppression Effect by Coating According to the Present Invention (1)
(1) Coating material for evaluation sample As described above, for example, a moisture-proof material can be used as the first material according to the present invention, and examples of the moisture-proof material include polyolefin resins and acrylics. Resin, polyurethane resin, silicone resin and the like can be used. In this example, an acrylic resin was used as the first material constituting the coating layer as various evaluation samples. On the other hand, as described above, for example, a humidity curable resin can be used as the second material according to the present invention. Examples of the humidity curable resin include a cyanoacrylate resin, a phenol resin, and a silicone resin. Resins, polyurethane resins, and the like can be used. In this example, a cyanoacrylate resin was used as the second material constituting the coating layer as various evaluation samples. In addition, an acrylic resin used as a general moisture-proof coating layer was adopted as the first material, and a comparative sample was prepared as a reference standard in which the second material was not blended at all. Furthermore, a further comparative sample was prepared without using any first material and using only the cyanoacrylate resin as the second material. Details of the various samples for evaluation will be described in detail below with reference to Table 1.

(2)評価用サンプルの調製
表1に示すように、対照標準サンプルとしての比較例1に係る評価用サンプルにおいては、第1材料としてアクリル系樹脂を採用し、第2材料を全く配合しなかった。一方、実施例1乃至4並びに比較例2に係る評価用サンプルにおいては、第1材料としてアクリル系樹脂を採用し、第2材料としてシアノアクリレート系樹脂を採用した。尚、これらの評価用サンプルにおいて、コーティング材料全体(即ち、第1材料と第2材料との和)における第2材料の配合率[質量%]は、それぞれ、20質量%、40質量%、60質量%、80質量%、及び100質量%とした。
(2) Preparation of sample for evaluation As shown in Table 1, in the sample for evaluation according to Comparative Example 1 as a control sample, an acrylic resin was adopted as the first material, and no second material was blended. It was. On the other hand, in the samples for evaluation according to Examples 1 to 4 and Comparative Example 2, an acrylic resin was employed as the first material, and a cyanoacrylate resin was employed as the second material. In these evaluation samples, the blending ratio [% by mass] of the second material in the entire coating material (that is, the sum of the first material and the second material) is 20% by mass, 40% by mass, and 60%, respectively. The mass%, 80 mass%, and 100 mass% were set.

上述の各材料を混合して各種コーティング材料を調製し、鉛フリーめっき層を母材の表面に有する端子を備える電子部品に塗布した。各種コーティング材料の塗布方法としては、前述のように、例えば、スプレーコーティング法、ディップコーティング法等を採用することができる。本実施例においては、スプレーコーティング法によって各種コーティング材料を上記電子部品に塗布し、その後、80℃の温度において30分間以上に亘って乾燥することによってコーティング層を硬化させた。   Various coating materials were prepared by mixing the above-described materials, and applied to an electronic component having a terminal having a lead-free plating layer on the surface of the base material. As a method for applying various coating materials, for example, a spray coating method, a dip coating method, or the like can be employed as described above. In this example, various coating materials were applied to the electronic component by spray coating, and then the coating layer was cured by drying at 80 ° C. for 30 minutes or more.

(3)評価用サンプルの加速劣化処理
上記のようにして調製した各種評価用サンプルを、85℃の温度及び85%の相対湿度において200時間に亘って放置した後に25℃の温度及び50%の相対湿度において24時間に亘って放置するという環境変化に対して、5サイクルに亘って暴露した。
(3) Accelerated aging treatment of evaluation sample The various evaluation samples prepared as described above were allowed to stand for 200 hours at a temperature of 85 ° C and a relative humidity of 85%, and then a temperature of 25 ° C and 50%. It was exposed for 5 cycles to the environmental change of standing for 24 hours at relative humidity.

(4)評価用サンプルの解析
上記加速劣化試験後の各種評価用サンプルにつき、それぞれの評価用サンプルにおけるコーティング層の表面を電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscopy)によって観察し、コーティング層を突き抜けて表面に突き出たウィスカを観察し、一定の面積において観察されたウィスカの本数を数えた。また、目視により、それぞれの評価用サンプルにおけるコーティング層の表面における割れ(亀裂)の有無を調べた。各種評価用サンプルにおける材料構成と共に、これらの解析結果を以下の表1に列挙する。また、上記SEM観察において検出されたウィスカの本数をコーティング層における第2材料の配合率に対してプロットした結果を図6に示す。即ち、図6は、前述のように、本発明の1つの実施態様に係るコーティング層における第2材料の配合率に対するウィスカの検出本数の関係を表すグラフである。
(4) Analysis of evaluation sample For each of the evaluation samples after the accelerated degradation test, the surface of the coating layer in each evaluation sample was observed with an electron microscope (SEM), and the surface penetrated through the coating layer. The whiskers protruding in the area were observed, and the number of whiskers observed in a certain area was counted. Moreover, the presence or absence of the crack (crack) in the surface of the coating layer in each sample for evaluation was investigated visually. These analysis results are listed in Table 1 below together with the material configurations of various evaluation samples. Moreover, the result of having plotted the number of the whisker detected in the said SEM observation with respect to the compounding ratio of the 2nd material in a coating layer is shown in FIG. That is, FIG. 6 is a graph showing the relationship between the number of whiskers detected and the blending ratio of the second material in the coating layer according to one embodiment of the present invention as described above.

Figure 0005655770
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(5)まとめ
表1に示すように、第2材料として採用したシアノアクリレート系樹脂を、それぞれ、20質量%、40質量%、60質量%、及び80質量%含有するコーティング層を有する実施例1、2、3、及び4に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の表面へのウィスカの突き抜け及びコーティング層の表面における割れは、何れも認めらなかった。即ち、実施例1乃至4に係る評価用サンプルにおいては、防湿性を犠牲にすること無く、ウィスカの成長が効果的に抑制された。
(5) Summary As shown in Table 1, Example 1 having a coating layer containing 20% by mass, 40% by mass, 60% by mass, and 80% by mass of the cyanoacrylate resin employed as the second material, respectively. In the evaluation samples according to 2, 3, and 4, neither whisker penetration into the surface of the coating layer nor cracking on the surface of the coating layer was observed. That is, in the evaluation samples according to Examples 1 to 4, whisker growth was effectively suppressed without sacrificing moisture resistance.

上記に加えて、実施例1、2、3、及び4に係る評価用サンプルにおいては、前述のように、第2材料として採用したシアノアクリレート系樹脂が水分との接触によって徐々に硬化することから、コーティング層内に侵入した水分が第2材料の重合反応や架橋反応を開始させるのに消費される。これにより、コーティング層内に侵入した水分が、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層や鉛フリー半田に到達して、これらの金属を腐食することを抑制することができる。また、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層や鉛フリー半田からのウィスカの発生そのものをも抑制することができる。   In addition to the above, in the samples for evaluation according to Examples 1, 2, 3, and 4, as described above, the cyanoacrylate resin employed as the second material is gradually cured by contact with moisture. The water that has entered the coating layer is consumed for initiating the polymerization reaction or the crosslinking reaction of the second material. This prevents moisture that has entered the coating layer from reaching the lead-free plating layer or lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal of the electronic component and corroding these metals. be able to. In addition, it is possible to suppress the occurrence of whiskers from the lead-free plating layer or lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal provided in the electronic component.

一方、第1材料として採用したアクリル系樹脂のみからなるコーティング層を有する対照標準としての比較例1に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の表面における割れは認めらなかったものの、コーティング層の表面に突き出たウィスカが一定の面積当たり10本認められた。これは、比較例1に係る評価用サンプルにおいては、第2材料が配合されていないため、コーティング層内に進入したウィスカの成長を抑制することができなかったものと考えられる。   On the other hand, in the sample for evaluation according to Comparative Example 1 as a reference having a coating layer composed only of the acrylic resin employed as the first material, no cracks were observed on the surface of the coating layer, but the surface of the coating layer Ten whiskers protruding in the area were recognized per certain area. This is probably because the evaluation sample according to Comparative Example 1 did not contain the second material, and thus could not suppress the growth of whiskers that entered the coating layer.

逆に、第2材料として採用したシアノアクリレート系樹脂のみからなるコーティング層を有する比較例2に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の表面に突き出たウィスカが一定の面積当たり3本認められ、しかも、コーティング層の表面における割れも認められた。これは、比較例5に係る評価用サンプルにおいては、第2材料のみによってコーティング層が構成されているため、コーティング層が硬く、柔軟性に乏しくなり、前述の加速劣化処理におけるコーティング層と電子部品の端子との熱膨張係数の差に起因して、コーティング層が割れ、結果としてウィスカの成長を抑制する機能も低下したものと考えられる。   On the contrary, in the sample for evaluation according to Comparative Example 2 having the coating layer composed only of the cyanoacrylate resin adopted as the second material, three whiskers protruding on the surface of the coating layer were recognized per certain area, and Cracks on the surface of the coating layer were also observed. This is because, in the sample for evaluation according to Comparative Example 5, since the coating layer is constituted only by the second material, the coating layer is hard and lacks flexibility, and the coating layer and the electronic component in the above-described accelerated deterioration treatment It is considered that the coating layer was cracked due to the difference in coefficient of thermal expansion from the terminal of this, and as a result, the function of suppressing the growth of whiskers was also lowered.

以上のように、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品において、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面を、第1材料と第1材料中に分散された第2材料とを含んでなるコーティング層であって、第2材料が第1材料及び第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触によって硬化を開始する材料(本実施例においては、湿度硬化性樹脂)であるコーティング層によって覆うことにより、コーティング層の割れによって防湿性を犠牲にすること無く、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田から発生するウィスカの成長を効果的に抑制することができることが確認された。   As described above, in an electronic component including a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on a surface of a base material, at least an exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder is formed on the first material. And a second material dispersed in the first material, wherein the second material initiates curing upon contact with a third substance that is different from either the first material or the second material. Covering with a coating layer, which is a material (in this embodiment, a humidity curable resin), is generated from the lead-free plating layer and the lead-free solder without sacrificing moisture resistance due to cracking of the coating layer. It was confirmed that whisker growth can be effectively suppressed.

尚、本実施例において採用した材料構成においては、上記評価結果から、上記コーティング層における第2材料の好適な配合率は、コーティング層を構成する第1材料と第2材料との和に対して20質量%以上、80質量%以下であると判断されたが、当該好適な配合率の範囲は普遍的なものではない。即ち、コーティング層における第2材料の好適な配合率は、例えば、コーティング層を構成する第1材料及び第2材料として採用する材料の種類や電子部品の使用環境等の種々の条件によって変動する。しかしながら、コーティング層における第2材料の好適な配合率は、例えば、コーティング層を構成する第1材料及び第2材料として採用する材料の種類や電子部品の使用環境等、本発明を適用する際の種々の条件に応じて適宜定めることができる。   In addition, in the material structure employ | adopted in the present Example, from the said evaluation result, the suitable mixture rate of the 2nd material in the said coating layer is with respect to the sum of the 1st material and 2nd material which comprise a coating layer. Although it was judged that it was 20 mass% or more and 80 mass% or less, the range of the said suitable mixture rate is not universal. That is, the suitable blending ratio of the second material in the coating layer varies depending on various conditions such as the type of material employed as the first material and the second material constituting the coating layer and the usage environment of the electronic component. However, the suitable blending ratio of the second material in the coating layer is, for example, the kind of material employed as the first material and the second material constituting the coating layer, the usage environment of the electronic component, and the like when the present invention is applied. It can be appropriately determined according to various conditions.

6.本発明に係るコーティングによるウィスカの成長抑制効果の評価(2)
(1)評価用サンプル用のコーティング材料
本発明に係る第1材料としては、前述のように、例えば、防湿性材料を使用することができ、防湿性材料としては、例えば、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、及びシリコーン系樹脂等を使用することができる。本実施例においては、各種評価用サンプルとしてのコーティング層を構成する第1材料として、アクリル系樹脂を採用した。一方、本発明に係る第2材料としては、前述のように、例えば、嫌気性封着剤を使用することができ、嫌気性封着剤としては、例えば、酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、及びエポキシ系樹脂等を使用することができる。本実施例においては、各種評価用サンプルとしてのコーティング層を構成する第2材料として、酢酸ビニル系樹脂を採用した。加えて、一般的な防湿コーティング層として使用されるアクリル系樹脂を第1材料として採用し、第2材料を全く配合しない、対照標準としての比較用サンプルも調製した。また、第1材料を全く配合せず、第2材料としての酢酸ビニル系樹脂のみを使用する、更なる比較用サンプルをも調製した。更に、酢酸ビニル系樹脂に代えて無機フィラーを第2材料として採用した各種評価用サンプルも調製した。また更に、硬質樹脂であるエポキシ系樹脂のみを使用する、更なる比較用サンプルをも調製した。各種評価用サンプルの詳細については、表1を参照しつつ、以下に詳細に説明する。
6). Evaluation of Whisker Growth Suppression Effect by Coating According to the Present Invention (2)
(1) Coating material for evaluation sample As described above, for example, a moisture-proof material can be used as the first material according to the present invention, and examples of the moisture-proof material include polyolefin resins and acrylics. Resin, polyurethane resin, silicone resin and the like can be used. In this example, an acrylic resin was used as the first material constituting the coating layer as various evaluation samples. On the other hand, as described above, as the second material according to the present invention, for example, an anaerobic sealant can be used. Examples of the anaerobic sealant include a vinyl acetate resin, an acrylic resin, Polyamide resins and epoxy resins can be used. In this example, vinyl acetate resin was employed as the second material constituting the coating layer as various evaluation samples. In addition, an acrylic resin used as a general moisture-proof coating layer was adopted as the first material, and a comparative sample was prepared as a reference standard in which no second material was blended. In addition, a further comparative sample was prepared, in which the first material was not blended at all and only the vinyl acetate resin as the second material was used. Further, various samples for evaluation using inorganic filler as the second material instead of the vinyl acetate resin were also prepared. Furthermore, a further comparative sample using only an epoxy resin which is a hard resin was also prepared. Details of the various samples for evaluation will be described in detail below with reference to Table 1.

(2)評価用サンプルの調製
表1に示すように、対照標準サンプルとしての比較例1に係る評価用サンプルにおいては、第1材料としてアクリル系樹脂を採用し、第2材料を全く配合しなかった。一方、実施例1乃至3並びに比較例2及び3に係る評価用サンプルにおいては、第1材料としてアクリル系樹脂を採用し、第2材料として酢酸ビニル系樹脂を採用した。尚、これらの評価用サンプルにおいて、コーティング材料全体(即ち、第1材料と第2材料との和)における第2材料の配合率[質量%]は、それぞれ、20質量%、40質量%、60質量%、80質量%、及び100質量%とした。
(2) Preparation of sample for evaluation As shown in Table 1, in the sample for evaluation according to Comparative Example 1 as a control sample, an acrylic resin was adopted as the first material, and no second material was blended. It was. On the other hand, in the evaluation samples according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 2 and 3, an acrylic resin was adopted as the first material, and a vinyl acetate resin was adopted as the second material. In these evaluation samples, the blending ratio [% by mass] of the second material in the entire coating material (that is, the sum of the first material and the second material) is 20% by mass, 40% by mass, and 60%, respectively. The mass%, 80 mass%, and 100 mass% were set.

一方、比較例4に係る評価用サンプルにおいては、酢酸ビニル系樹脂に代えて、無機フィラーを第2材料として採用し、上記第1材料に配合したコーティング材料を用いた。尚、比較例3に係る評価用サンプルにおいては、コーティング材料全体(即ち、第1材料と第2材料としての無機フィラーとの和)に対する第2材料としての無機フィラーの配合率[質量%]は50質量%とした。更に、比較例5に係る評価用サンプルにおいては、上述のように、硬質樹脂であるエポキシ系樹脂のみを使用した。   On the other hand, in the sample for evaluation which concerns on the comparative example 4, it replaced with vinyl acetate type resin, the inorganic filler was employ | adopted as a 2nd material, and the coating material mix | blended with the said 1st material was used. In the sample for evaluation according to Comparative Example 3, the blending ratio [% by mass] of the inorganic filler as the second material with respect to the entire coating material (that is, the sum of the first material and the inorganic filler as the second material) is It was 50 mass%. Furthermore, in the evaluation sample according to Comparative Example 5, as described above, only an epoxy resin that is a hard resin was used.

上述の各材料を混合して各種コーティング材料を調製し、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田を母材の表面に有する端子を備える電子部品に塗布した。各種コーティング材料の塗布方法としては、前述のように、例えば、スプレーコーティング法、ディップコーティング法等を採用することができる。本実施例においては、スプレーコーティング法によって各種コーティング材料を上記電子部品に塗布し、その後、80℃の温度において30分間以上に亘って乾燥することによってコーティング層を硬化させた。   Various coating materials were prepared by mixing the above-described materials, and applied to an electronic component having terminals having a lead-free plating layer and lead-free solder on the surface of the base material. As a method for applying various coating materials, for example, a spray coating method, a dip coating method, or the like can be employed as described above. In this example, various coating materials were applied to the electronic component by spray coating, and then the coating layer was cured by drying at 80 ° C. for 30 minutes or more.

(3)評価用サンプルの加速劣化処理
上記のようにして調製した各種評価用サンプルを、85℃の温度及び85%の相対湿度において200時間に亘って放置した後に25℃の温度及び50%の相対湿度において24時間に亘って放置するという環境変化に対して、5サイクルに亘って暴露した。
(3) Accelerated aging treatment of evaluation sample The various evaluation samples prepared as described above were allowed to stand for 200 hours at a temperature of 85 ° C and a relative humidity of 85%, and then a temperature of 25 ° C and 50%. It was exposed for 5 cycles to the environmental change of standing for 24 hours at relative humidity.

(4)評価用サンプルの解析
上記加速劣化試験後の各種評価用サンプルにつき、それぞれの評価用サンプルにおけるコーティング層の表面を電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscopy)によって観察し、コーティング層を突き抜けて表面に突き出たウィスカを観察し、一定の面積において観察されたウィスカの本数を数えた。また、目視により、それぞれの評価用サンプルにおけるコーティング層の硬化状態を観察した。更に、目視により、それぞれの評価用サンプルにおけるコーティング層の表面における割れ(亀裂)の有無を調べた。また更に、目視により、それぞれの評価用サンプルにおけるコーティング層の周辺部材への影響についても観察した。
(4) Analysis of evaluation sample For each of the evaluation samples after the accelerated degradation test, the surface of the coating layer in each evaluation sample was observed with an electron microscope (SEM), and the surface penetrated through the coating layer. The whiskers protruding in the area were observed, and the number of whiskers observed in a certain area was counted. Moreover, the hardening state of the coating layer in each sample for evaluation was observed visually. Furthermore, the presence or absence of a crack (crack) on the surface of the coating layer in each sample for evaluation was examined visually. Furthermore, the influence on the peripheral member of the coating layer in each evaluation sample was also observed visually.

各種評価用サンプルにおける材料構成と共に、これらの解析結果を以下の表2に列挙する。また、比較例1及び2並びに実施例1乃至3に係る評価用サンプルについては、上記SEM観察において検出されたウィスカの本数をコーティング層における第2材料の配合率に対してプロットした結果を図7に示す。即ち、図7は、前述のように、本発明のもう1つの実施態様に係るコーティング層における第2材料の配合率に対するウィスカの検出本数の関係を表すグラフである。   These analysis results are listed in Table 2 below together with the material configurations of the various samples for evaluation. For the samples for evaluation according to Comparative Examples 1 and 2 and Examples 1 to 3, the results of plotting the number of whiskers detected in the SEM observation against the blending ratio of the second material in the coating layer are shown in FIG. Shown in That is, as described above, FIG. 7 is a graph showing the relationship between the number of whiskers detected and the blending ratio of the second material in the coating layer according to another embodiment of the present invention.

Figure 0005655770
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(5)まとめ
表2に示すように、第2材料として採用した酢酸ビニル系樹脂を、それぞれ、20質量%、40質量%、及び60質量%含有するコーティング層を有する実施例1、2、及び3に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の表面へのウィスカの突き抜けは全く認められないか、あるいは許容可能な程度(2本未満)であった。また、これらの評価用サンプルにおいては、コーティング層の割れは、何れも認めらなかった。即ち、実施例1乃至3に係る評価用サンプルにおいては、防湿性を犠牲にすること無く、ウィスカの成長が効果的に抑制された。但し、これらの評価用サンプルの中で第2材料としての酢酸ビニル系樹脂の配合率が最も高い(即ち、60質量%)実施例3に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の硬化がやや不十分であり、ゲル状のコーティング層が形成されたが、液だれによる汚染等の周辺部材への影響は認められなかった。
(5) Summary As shown in Table 2, Examples 1 and 2 having coating layers containing 20% by mass, 40% by mass, and 60% by mass of the vinyl acetate resin employed as the second material, respectively. In the evaluation sample according to No. 3, whisker penetration through the surface of the coating layer was not observed at all, or was acceptable (less than 2). Moreover, in these samples for evaluation, no cracks in the coating layer were observed. That is, in the samples for evaluation according to Examples 1 to 3, whisker growth was effectively suppressed without sacrificing moisture resistance. However, among these evaluation samples, the coating rate of the vinyl acetate resin as the second material is the highest (that is, 60% by mass). It was sufficient and a gel-like coating layer was formed, but no influence on peripheral members such as contamination due to dripping was observed.

尚、実施例1、2、及び3に係る評価用サンプルにおいては、前述のように、第2材料として採用した酢酸ビニル系樹脂が、コーティング層の塗布直後に電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田と接触して硬化を開始し、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田からのウィスカの発生そのものを抑制する。これに加えて、実施例1、2、及び3に係る評価用サンプルにおいては、前述のように、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田からウィスカが発生し、上記のように硬化した第2材料としての嫌気性封着剤を突き破ってコーティング層内に進入しても、コーティング層内に分散された未硬化の第2材料にウィスカが接触すると、当該ウィスカとの接触により当該未硬化の第2材料の硬化が始まる。このように、実施例1、2、及び3に係る評価用サンプルにおいては、前述のように、ウィスカの成長に伴って嫌気性封着剤の硬化が更に促進され、ウィスカ抑制効果が長期間に亘って維持される。結果として、実施例1、2、及び3に係る評価用サンプルにおいては、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層や鉛フリー半田からのウィスカの発生及び成長を、更により一層効果的に抑制することができる。   In the evaluation samples according to Examples 1, 2, and 3, as described above, the vinyl acetate resin employed as the second material is the base material of the terminal provided in the electronic component immediately after the coating layer is applied. Curing is started by contact with the lead-free plating layer and lead-free solder disposed on the surface, and the generation of whiskers from the lead-free plating layer and lead-free solder is suppressed. In addition to this, in the samples for evaluation according to Examples 1, 2, and 3, as described above, whiskers are generated from the lead-free plating layer and the lead-free solder, and the second material is cured as described above. When the whisker comes into contact with the uncured second material dispersed in the coating layer even if it breaks through the anaerobic sealant and enters the coating layer, the uncured second material is brought into contact with the whisker. Curing begins. Thus, in the samples for evaluation according to Examples 1, 2, and 3, as described above, the curing of the anaerobic sealant is further promoted with the growth of the whiskers, and the whisker suppressing effect is maintained over a long period of time. Maintained over time. As a result, in the samples for evaluation according to Examples 1, 2, and 3, the generation and growth of whiskers from the lead-free plating layer or lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component Further, it can be further effectively suppressed.

一方、第1材料として採用したアクリル系樹脂のみからなるコーティング層を有する対照標準としての比較例1に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の硬化状態は良好であり、コーティング層の割れや周辺部材への影響は認めらなかったものの、コーティング層の表面に突き出たウィスカが一定の面積当たり12本認められた。これは、比較例1に係る評価用サンプルにおいては、第2材料が配合されていないため、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリーめっき層や鉛フリー半田からのウィスカの発生及び成長を抑制することができなかったものと考えられる。   On the other hand, in the evaluation sample according to Comparative Example 1 as a reference having a coating layer composed only of an acrylic resin employed as the first material, the cured state of the coating layer is good and cracks in the coating layer and peripheral members 12 whisker protruding on the surface of the coating layer per certain area was recognized. This is because, in the sample for evaluation according to Comparative Example 1, since the second material is not blended, a whisker from a lead-free plating layer or a lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component It is considered that the generation and growth of sucrose could not be suppressed.

逆に、第2材料として採用した酢酸ビニル系樹脂が80質量%配合されたコーティング層を有する比較例2に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の表面に突き出たウィスカは認められなかったものの、コーティング層が硬化が不十分であり、液だれによる周辺部材の汚染が認められた。これは、比較例2に係る評価用サンプルにおいては、空気との接触により硬化が困難となる嫌気性封着剤が第2材料として過剰に配合されているため、コーチング層が硬化することができなかったものと考えられる。   Conversely, in the sample for evaluation according to Comparative Example 2 having a coating layer containing 80% by mass of the vinyl acetate resin employed as the second material, whiskers protruding on the surface of the coating layer were not recognized, The coating layer was insufficiently cured, and contamination of peripheral members due to dripping was observed. This is because, in the sample for evaluation according to Comparative Example 2, an anaerobic sealant that is difficult to be cured by contact with air is excessively blended as the second material, so that the coating layer can be cured. It is thought that there was not.

更に、第2材料として採用した酢酸ビニル系樹脂が100質量%配合された(即ち、第1材料として採用したアクリル系樹脂が全く配合されていない)コーティング層を有する比較例3に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層が硬化が極めて不十分であり、コーティング層の表面に突き出たウィスカの観察を行うことができなかった。また、比較例2に係る評価用サンプルと同様に、液だれによる周辺部材の汚染が認められた。   Furthermore, the evaluation sample according to Comparative Example 3 having a coating layer containing 100% by mass of the vinyl acetate resin employed as the second material (that is, containing no acrylic resin employed as the first material). The coating layer was not sufficiently cured, and whiskers protruding on the surface of the coating layer could not be observed. Further, as in the evaluation sample according to Comparative Example 2, contamination of peripheral members due to dripping was observed.

第2材料として採用した無機フィラーを50質量%含有するコーティング層を有する比較例4に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の硬化状態は良好であり、コーティング層の表面に突き出たウィスカが一定の面積当たり12本認められた。許容可能な範囲(2本未満)を超える2本のウィスカがコーティング層の表面に認められたものの、ある程度のウィスカ抑制効果を呈した。しかしながら、比較例4に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の割れの発生が認められた。即ち、第2材料として無機フィラーを採用した場合、ウィスカ抑制性能と防湿性能とを両立することは困難であることが示唆された。これは、比較例4に係る評価用サンプルにおいて大量に配合された無機フィラーが、コーティング層の割れの起点となる固形分として作用したためと考えられる。このようにコーティング層の割れが発生した比較例4に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の塗布直後と同等のウィスカ抑制交換を経時後においても維持することは困難であることが懸念される。   In the sample for evaluation according to Comparative Example 4 having the coating layer containing 50% by mass of the inorganic filler adopted as the second material, the cured state of the coating layer is good and the whisker protruding to the surface of the coating layer is constant. 12 lines were recognized per area. Although two whiskers exceeding the allowable range (less than two) were observed on the surface of the coating layer, some whisker suppressing effects were exhibited. However, in the evaluation sample according to Comparative Example 4, the occurrence of cracks in the coating layer was observed. That is, it was suggested that when an inorganic filler is employed as the second material, it is difficult to achieve both whisker suppression performance and moisture proof performance. This is presumably because the inorganic filler blended in a large amount in the evaluation sample according to Comparative Example 4 acted as a solid content serving as a starting point for cracking of the coating layer. As described above, in the sample for evaluation according to Comparative Example 4 in which the crack of the coating layer occurred, there is a concern that it is difficult to maintain the whisker suppression exchange equivalent to that immediately after the coating layer is applied even after the lapse of time.

また、硬質樹脂であるエポキシ系樹脂のみからなるコーティング層を有する比較例5に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の表面へのウィスカの突き抜けは全く認められず、コーティング層の硬化状態も良好であった。しかしながら、比較例5に係る評価用サンプルにおいては、コーティング層の割れが認められた。加えて、比較例5に係る評価用サンプルにおいては、電子部品が備える端子の母材の表面に配設された鉛フリー半田に亀裂が認められた。これは、比較例5に係る評価用サンプルにおいては、硬質樹脂であるエポキシ系樹脂のみによってコーティング層が構成されているため、コーティング層が硬く、柔軟性に乏しくなり、前述の加速劣化処理におけるコーティング層と電子部品の端子との熱膨張係数の差に起因してコーティング層と電子部品の端子との間に非常に大きい応力が発生し、コーティング層が割れると共に、鉛フリー半田に亀裂が発生したものと考えられる。結果として、比較例5に係る評価用サンプルにおいては、電子部品における導通不良や断線等の問題が懸念されると共に、コーティング層の割れが発生したことから、コーティング層の塗布直後と同等のウィスカ抑制交換を経時後においても維持することが困難であることが懸念される。   Moreover, in the sample for evaluation which has the coating layer which consists only of epoxy resin which is hard resin, the penetration of the whisker to the surface of a coating layer is not recognized at all, and the hardening state of a coating layer is also favorable. there were. However, in the evaluation sample according to Comparative Example 5, cracking of the coating layer was observed. In addition, in the sample for evaluation according to Comparative Example 5, cracks were observed in the lead-free solder disposed on the surface of the base material of the terminal included in the electronic component. This is because, in the sample for evaluation according to Comparative Example 5, since the coating layer is constituted only by the epoxy resin that is a hard resin, the coating layer is hard and lacks flexibility, and the coating in the accelerated deterioration treatment described above is performed. Due to the difference in coefficient of thermal expansion between the layer and the terminal of the electronic component, a very large stress was generated between the coating layer and the terminal of the electronic component, the coating layer cracked, and cracks occurred in the lead-free solder It is considered a thing. As a result, in the sample for evaluation according to Comparative Example 5, problems such as poor conduction and disconnection in electronic parts are concerned, and cracking of the coating layer has occurred, so that whisker suppression equivalent to that immediately after application of the coating layer has occurred. There is concern that it is difficult to maintain the exchange even after time.

以上のように、鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品において、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面を、第1材料と第1材料中に分散された第2材料とを含んでなるコーティング層であって、第2材料が第1材料及び第2材料の何れとも異なる第3の物質との接触によって硬化を開始する材料(本実施例においては、湿度硬化性樹脂)であるコーティング層によって覆うことにより、コーティング層の割れによって防湿性を犠牲にすること無く、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田から発生するウィスカの成長を効果的に抑制することができることが確認された。   As described above, in an electronic component including a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on a surface of a base material, at least an exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder is formed on the first material. And a second material dispersed in the first material, wherein the second material initiates curing upon contact with a third substance that is different from either the first material or the second material. Covering with a coating layer, which is a material (in this embodiment, a humidity curable resin), is generated from the lead-free plating layer and the lead-free solder without sacrificing moisture resistance due to cracking of the coating layer. It was confirmed that whisker growth can be effectively suppressed.

尚、本実施例において採用した材料構成においては、上記コーティング層における第2材料の好適な配合率は、上記評価結果から、コーティング層を構成する第1材料と第2材料との和に対して20質量%以上、70質量%以下であると判断されたが、当該好適な配合率の範囲は普遍的なものではない。即ち、コーティング層における第2材料の好適な配合率は、例えば、コーティング層を構成する第1材料及び第2材料として採用する材料の種類や電子部品の使用環境等の種々の条件によって変動する。しかしながら、コーティング層における第2材料の好適な配合率は、例えば、コーティング層を構成する第1材料及び第2材料として採用する材料の種類や電子部品の使用環境等、本発明を適用する際の種々の条件に応じて適宜定めることができる。   In addition, in the material structure employ | adopted in a present Example, the suitable compounding rate of the 2nd material in the said coating layer is with respect to the sum of the 1st material and 2nd material which comprise a coating layer from the said evaluation result. Although it was judged that it was 20 mass% or more and 70 mass% or less, the range of the said suitable mixture rate is not universal. That is, the suitable blending ratio of the second material in the coating layer varies depending on various conditions such as the type of material employed as the first material and the second material constituting the coating layer and the usage environment of the electronic component. However, the suitable blending ratio of the second material in the coating layer is, for example, the kind of material employed as the first material and the second material constituting the coating layer, the usage environment of the electronic component, and the like when the present invention is applied. It can be appropriately determined according to various conditions.

以上、本発明を説明することを目的として、特定の構成を有する幾つかの実施態様について説明してきたが、本発明の範囲は、これらの例示的な実施態様に限定されるものではなく、特許請求の範囲及び明細書に記載された事項の範囲内で、適宜修正を加えることができることは言うまでも無い。   Although several embodiments having specific configurations have been described above for the purpose of illustrating the present invention, the scope of the present invention is not limited to these exemplary embodiments, and patents Needless to say, modifications can be made as appropriate within the scope of the claims and the description of the specification.

10…コーティング層、11…第1材料、12…第2材料、13…ネットワーク、14…水分、21…ウィスカ、31…第1材料を含む液体、32…第2材料を含む液体、33…スプレー(噴霧器)、34…霧状のコーティング材料、40…電子部品、41…回路素子、42…端子、43…鉛フリーのめっき層又は鉛フリー半田、44…基板、51…第1材料及び第2材料を含む液体、並びに52…塗布液浴槽。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Coating layer, 11 ... 1st material, 12 ... 2nd material, 13 ... Network, 14 ... Moisture, 21 ... Whisker, 31 ... Liquid containing 1st material, 32 ... Liquid containing 2nd material, 33 ... Spray (Sprayer), 34 ... mist-like coating material, 40 ... electronic component, 41 ... circuit element, 42 ... terminal, 43 ... lead-free plating layer or lead-free solder, 44 ... substrate, 51 ... first material and second Liquid containing material, as well as 52 ... application liquid bath.

Claims (6)

鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品であって、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面がコーティング層によって覆われており、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された第2材料と、を含んでなり、
前記第1材料が、防湿性材料であるアクリル系樹脂であり、
前記第2材料が、水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂であるシアノアクリレート系樹脂及び金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤である酢酸ビニル系樹脂の何れか一方又は両方である、
電子部品。
An electronic component comprising a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on the surface of a base material,
At least an exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder is covered with a coating layer;
The coating layer comprises a first material and a second material dispersed in the first material;
The first material is an acrylic resin that is a moisture-proof material,
The second material is either a cyanoacrylate-based resin that is a moisture-curable resin that begins to cure by contact with moisture, or a vinyl acetate-based resin that is an anaerobic sealant that initiates curing by contact with a metal Or both
Electronic components.
請求項1に記載の電子部品であって、
前記第2材料の硬化後の硬さが、前記第1材料の硬化後の硬さよりも大きい、
電子部品。
The electronic component according to claim 1,
The hardness of the second material after curing is greater than the hardness of the first material after curing;
Electronic components.
鉛フリーめっき層及び鉛フリー半田の少なくとも一方を母材の表面に有する端子を備える電子部品の製造方法であって、
前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面をコーティング層によって被覆すること、
を含み、
前記コーティング層が、第1材料と、当該第1材料中に分散された第2材料と、を含んでなり、
前記第1材料が、防湿性材料であるアクリル系樹脂であり、
前記第2材料が、水分との接触によって硬化を開始する湿度硬化型樹脂であるシアノアクリレート系樹脂及び金属との接触によって硬化を開始する嫌気性封着剤である酢酸ビニル系樹脂の何れか一方又は両方である、
電子部品の製造方法。
A method of manufacturing an electronic component comprising a terminal having at least one of a lead-free plating layer and a lead-free solder on the surface of a base material,
Covering at least an exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder with a coating layer;
Including
The coating layer comprises a first material and a second material dispersed in the first material;
The first material is an acrylic resin that is a moisture-proof material,
The second material is either a cyanoacrylate-based resin that is a moisture-curable resin that begins to cure by contact with moisture, or a vinyl acetate-based resin that is an anaerobic sealant that initiates curing by contact with a metal Or both
Manufacturing method of electronic components.
請求項に記載の電子部品の製造方法であって、
前記第2材料の硬化後の硬さが、前記第1材料の硬化後の硬さよりも大きい、
電子部品の製造方法。
It is a manufacturing method of the electronic component according to claim 3 ,
The hardness of the second material after curing is greater than the hardness of the first material after curing;
Manufacturing method of electronic components.
請求項3又は4に記載の電子部品の製造方法であって、
スプレーコーティング法により、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する、
電子部品の製造方法。
A method of manufacturing an electronic component according to claim 3 or 4 ,
Covering at least the exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder with the coating layer by a spray coating method,
Manufacturing method of electronic components.
請求項3又は4に記載の電子部品の製造方法であって、
ディップコーティング法により、前記鉛フリーのめっき層及び前記鉛フリー半田の少なくとも露出面を前記コーティング層によって被覆する、
電子部品の製造方法。
A method of manufacturing an electronic component according to claim 3 or 4 ,
By the dip coating method, at least the exposed surface of the lead-free plating layer and the lead-free solder is covered with the coating layer,
Manufacturing method of electronic components.
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