JP5655341B2 - Cyclohexane compound - Google Patents
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Description
本発明は、絶縁性液体として有用なシクロヘキサン化合物に関する。 The present invention relates to a cyclohexane compound useful as an insulating liquid.
近年、情報化社会の進展に伴い、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ、電子手帳等のデジタルデータ処理装置において、ディスプレイ画面上に設置され、パネル表面の所望位置をオペレータがペンや指で押圧することにより、ディスプレイ上の二次元座標データを入力指示するパネル型入力装置が、タッチパネルの呼称で広く利用されている。 In recent years, with the progress of the information society, digital data processing devices such as personal computers, word processors, electronic notebooks, etc. are installed on the display screen, and the operator presses the desired position on the panel surface with a pen or finger, thereby A panel type input device that instructs to input the above two-dimensional coordinate data is widely used as a touch panel.
一般にタッチパネルは、透明な絶縁基板と絶縁基板表面に設けられる透明な導電膜とを各々に有した一対の板状の検出素子を備えて構成される。それら検出素子は、隙間を介して導電膜同士を対向させた状態で、両絶縁基板の外周縁に沿って帯状に延設される接着剤層を介して、互いに重ね合わせて固定される。両検出素子の間の隙間は、この接着剤層の厚みにより確保される。なお通常、オペレータが押圧操作する上側の検出素子の絶縁基板は、可撓性が要求されるので樹脂フィルムから形成され、他方、ディスプレイ画面に隣接配置される下側の検出素子の絶縁基板は、ガラス板、プラスチック板、樹脂フィルム等から形成される。 In general, a touch panel includes a pair of plate-like detection elements each having a transparent insulating substrate and a transparent conductive film provided on the surface of the insulating substrate. These detection elements are fixed to each other with an adhesive layer extending in a strip shape along the outer peripheral edges of both insulating substrates with the conductive films facing each other with a gap therebetween. A gap between the two detection elements is secured by the thickness of the adhesive layer. Normally, the insulating substrate of the upper detection element pressed by the operator is formed of a resin film because flexibility is required, while the insulating substrate of the lower detection element arranged adjacent to the display screen is It is formed from a glass plate, a plastic plate, a resin film or the like.
この種のタッチパネルにおいて、ディスプレイ画面の視認性を改善するために、一対の検出素子の間に形成される隙間に、各検出素子の屈折率と同等の屈折率を有する透明な絶縁性液体を封入して、光の透過率を向上させたものが知られている。このタッチを例えばペンでなぞることにより、上下の検出素子が接触し、その位置情報がデータ処理装置へと送られる。このため、絶縁性液体の抵抗が低いと異常感知等の不具合を惹き起こす。このような液体封入型のタッチパネルは、一般的な液晶ディスプレイ(LCD)における液晶セルに類似した構成を有するものであり、従来、液晶セルの作製方法と同様の方法で作製されている。 In this type of touch panel, in order to improve the visibility of the display screen, a transparent insulating liquid having a refractive index equivalent to the refractive index of each detection element is enclosed in a gap formed between the pair of detection elements. And what improved the transmittance | permeability of light is known. By tracing this touch with, for example, a pen, the upper and lower detection elements come into contact with each other, and the position information is sent to the data processing device. For this reason, when the resistance of the insulating liquid is low, problems such as abnormal sensing are caused. Such a liquid-sealed touch panel has a configuration similar to a liquid crystal cell in a general liquid crystal display (LCD) and has been conventionally manufactured by a method similar to the method for manufacturing a liquid crystal cell.
従来のLCD製造工程における一般的な液晶セル作製方法では、絶縁基板及び絶縁基の一表面に形成した導電膜を各々に有する一対の電極板が、隙間を介して導電膜同士を対向させた状態で、一方の電極板の外周縁に沿って帯状に塗布された接着剤により相互に固着される。接着剤は初期流動性を有するので、接着剤が硬化するまでの間、一対の電極板の間隔を一定に保持するために、所定粒径の多数のガラスビーズが導電膜上に散布され、かつ接着剤に混入される。両電極板の間に帯状に塗布される接着剤は、局部的な欠落部分を有し、接着剤硬化後にはその欠落部分が液晶注入口として機能する。液晶材料は、液晶注入口を介して両電極板間の隙間に注入されて充填され、充填完了後、封止材により液晶注入口が封止される。このようにして、液晶材料を充填した両電極板間の隙間は、硬化した接着剤及び封止材により、外部環境に対し気密封止される。 In a general liquid crystal cell manufacturing method in a conventional LCD manufacturing process, a pair of electrode plates each having a conductive film formed on one surface of an insulating substrate and an insulating group are in a state in which the conductive films are opposed to each other through a gap. Thus, they are fixed to each other by an adhesive applied in a strip shape along the outer peripheral edge of one of the electrode plates. Since the adhesive has an initial fluidity, a large number of glass beads having a predetermined particle diameter are dispersed on the conductive film in order to keep the distance between the pair of electrode plates constant until the adhesive is cured. Mixed with adhesive. The adhesive applied in a strip shape between the two electrode plates has a local missing portion, and after the adhesive is cured, the missing portion functions as a liquid crystal injection port. The liquid crystal material is injected and filled in the gap between the two electrode plates through the liquid crystal injection port, and after the completion of filling, the liquid crystal injection port is sealed with a sealing material. In this way, the gap between the two electrode plates filled with the liquid crystal material is hermetically sealed with respect to the external environment by the cured adhesive and the sealing material.
絶縁性液体の種類としては、電気的に絶縁性を持つ材料で、タッチパネル中の他の構成材料を侵さない液体であることが必要であり、シリコン系液体材料やヨウ化メチレン(特許文献1参照)、又はペルフルオロ化合物(特許文献2参照)などが知られている。しかしながら、当該引用文献記載の絶縁性液体は、低温での粘度が大きく、また十分な絶縁性があるとは言えなかった。 The type of insulating liquid must be an electrically insulating material that does not attack other components in the touch panel, such as silicon-based liquid materials and methylene iodide (see Patent Document 1). ) Or perfluoro compounds (see Patent Document 2) and the like are known. However, the insulating liquid described in the cited document has a large viscosity at a low temperature and cannot be said to have sufficient insulating properties.
更に、ペン入力タイプのタッチパネルの場合、入力時の書き味も重要な要素となる。タッチパネルに使用される絶縁性液体の粘度が高いと硬い硝子盤に文字を書くようで書き味が悪く、また加重を除去しても直ちに元の状態へ戻らないため、筆跡に由来する表示ムラが生じてしまう。タッチパネルは搭載される端末によって極めて低温の状況下でも使用される。このためこの絶縁性液体は低温下においても適当な粘度を保つ必要があるため、低温でも固体や液晶とはならず流動性を保たなければならない。 Furthermore, in the case of a pen input type touch panel, writing quality at the time of input is also an important factor. If the viscosity of the insulating liquid used in the touch panel is high, characters will be written on a hard glass board and the writing quality will be poor, and even if the weight is removed, it will not return immediately to the original state. It will occur. The touch panel is used even under extremely low temperatures depending on the terminal on which it is mounted. For this reason, since this insulating liquid needs to maintain an appropriate viscosity even at a low temperature, it must maintain fluidity without becoming a solid or a liquid crystal even at a low temperature.
例えばトランスシクロヘキサン化合物などが液晶材料として広く一般的に用いられており(特許文献3参照)、これらの電気化学的に安定な性質を利用した絶縁性液体としての検討も行われている。しかしながら、液晶状態の液晶材料は、液体状態に比べて粘度が大きく、光学的に等方性で無くなるなど、タッチパネル用の絶縁性液体として十分な特性を有しておらず、タッチパネル用の絶縁性液体としては使用することはできない。 For example, transcyclohexane compounds and the like are widely used as liquid crystal materials (see Patent Document 3), and studies on insulating liquids using these electrochemically stable properties are also being conducted. However, the liquid crystal material in the liquid crystal state does not have sufficient characteristics as an insulating liquid for touch panels, such as having a higher viscosity than the liquid state and is not optically isotropic. It cannot be used as a liquid.
また、タッチパネル用の絶縁性液体の材料としてシスシクロヘキサン化合物も検討されたが、これらは含窒素化合物(特許文献4参照)又はエステル化合物(非特許文献1参照)であり極性基を持つことから、絶縁性が十分とは言えなかった。 Further, cis-cyclohexane compounds were also examined as materials for insulating liquids for touch panels, but these are nitrogen-containing compounds (see Patent Document 4) or ester compounds (see Non-Patent Document 1) and have polar groups, The insulation was not sufficient.
本発明が解決しようとする課題は、絶縁性液体として有用な化合物を提供することであり、また、タッチパネルを構成させた場合に広い温度範囲、特に低温域で使用することが可能であり、更にタッチパネル中の他の構成材料を侵さない化合物を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a compound useful as an insulating liquid, and when a touch panel is constructed, it can be used in a wide temperature range, particularly in a low temperature range. It is to provide a compound that does not attack other constituent materials in the touch panel.
本願発明者らは、絶縁性液体として、種々の構造について検討を行った結果、特定の構造を有するシクロヘキサン化合物を見出し、及び当該化合物を用いた組成物が前述の課題を解決することを見出し、本願発明を完成するに至った。 As a result of examining various structures as the insulating liquid, the present inventors have found a cyclohexane compound having a specific structure, and found that a composition using the compound solves the above-described problems, The present invention has been completed.
即ち本願発明は、一般式(I) That is, the present invention relates to the general formula (I)
(式中、R及びR’は、それぞれ独立的に分岐していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数1〜18のアルコキシル基、炭素数2〜18のアルケニルオキシ基又はフッ素原子を表し、それぞれの1個以上の水素原子は独立的にフッ素原子に置換されていてもよく、また任意の-CH2-基は独立的に-O-、-CH=CH-、-C≡C-で置き換えられてもよく、Lは-CH2CH2-、-CH=CH-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-又は単結合を表し、Aは、トランス-1,4-シクロへキシレン基、シス-1,4-シクロへキシレン基、1,4-シクロヘキセニレン基又は1,4-フェニレン基であり、1,4-フェニレン基中の任意の水素原子はハロゲン又は炭素数1〜4のアルキル基で置き換えられてもよい。)で表されるシスシクロヘキサン化合物及び当該化合物を用いた組成物を提供する。 (In the formula, R and R ′ each independently represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 2 carbon atoms. To 18 alkenyloxy groups or fluorine atoms, each one or more hydrogen atoms may be independently substituted with fluorine atoms, and any —CH 2 — group is independently —O—, -CH = CH-, -C≡C- may be substituted, and L is -CH 2 CH 2- , -CH = CH-, -CH 2 O-, -OCH 2- , -CF 2 O-, —OCF 2 — represents a single bond, and A represents a trans-1,4-cyclohexylene group, a cis-1,4-cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexenylene group, or a 1,4-phenylene group. And any hydrogen atom in the 1,4-phenylene group may be replaced by halogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) And a composition using the compound. provide.
本願発明のシスシクロヘキサン化合物は、絶縁性液体を製造するのに有用であり、また、それを用いた組成物は、タッチパネル中の他の構成材料を侵さないことからタッチパネルの構成部材として有用である。 The cis-cyclohexane compound of the present invention is useful for producing an insulating liquid, and a composition using the cis-cyclohexane compound is useful as a constituent member of a touch panel because it does not attack other constituent materials in the touch panel. .
一般式(I)において、Rが結合しているシクロヘキサンはシス体である。これにより、一般式(I)で表される化合物の融点は大幅に低下している。 In general formula (I), cyclohexane to which R is bonded is a cis isomer. Thereby, the melting point of the compound represented by the general formula (I) is greatly reduced.
R及びR’は、それぞれ独立的に分岐していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数1〜18のアルコキシル基、炭素数2〜18のアルケニルオキシ基又はフッ素原子を表し、それぞれの1個以上の水素原子は独立的にフッ素原子に置換されていてもよく、また任意の-CH2-基は独立的に-O-、-CH=CH-、-C≡C-で置き換えられてもよいが、分岐していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、炭素数2〜8のアルケニルオキシ基又はフッ素原子が好ましく、分岐していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシル基又はフッ素原子がより好ましい。 R and R ′ each independently represents an optionally branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 18 carbon atoms, and an alkenyl having 2 to 18 carbon atoms. Represents an oxy group or a fluorine atom, each one or more hydrogen atoms may be independently substituted with fluorine atoms, and any —CH 2 — group is independently —O—, —CH═CH -, -C≡C- may be substituted, but may be branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms, carbon number A 2 to 8 alkenyloxy group or a fluorine atom is preferable, and an optionally branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorine atom is more preferable.
Lは-CH2CH2-、-CH=CH-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-又は単結合を表すが、-CH2CH2-、-CH2O-又は単結合が好ましい。 L represents -CH 2 CH 2- , -CH = CH-, -CH 2 O-, -OCH 2- , -CF 2 O-, -OCF 2 -or a single bond, but -CH 2 CH 2- , —CH 2 O— or a single bond is preferred.
Aは、トランス-1,4-シクロへキシレン基、シス-1,4-シクロへキシレン基、1,4-シクロヘキセニレン基又は1,4-フェニレン基であり、1,4-フェニレン基中の任意の水素原子はフッ素原子又は炭素数1〜4のアルキル基で置き換えられてもよいが、トランス-1,4-シクロへキシレン基、シス-1,4-シクロへキシレン基又は1,4-フェニレン基が好ましい。 A is trans-1,4-cyclohexylene group, cis-1,4-cyclohexylene group, 1,4-cyclohexenylene group or 1,4-phenylene group, Any of the hydrogen atoms may be replaced by a fluorine atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, but may be a trans-1,4-cyclohexylene group, a cis-1,4-cyclohexylene group, or 1,4 A -phenylene group is preferred.
一般式(I)で表される化合物は、具体的には下記の一般式(I-1)〜一般式(I-7)で表される化合物が特に好ましい。 Specifically, the compounds represented by the general formula (I) are particularly preferably compounds represented by the following general formulas (I-1) to (I-7).
(式中、R1及びR2はお互いに独立して分岐していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、炭素数2〜8のアルケニルオキシ基又はフッ素原子を表すが、分岐していても良い炭素数1〜8のアルキル基又はフッ素原子がより好ましく、nは0〜2の整数を表すが、0又は1がより好ましい。)
本発明において、一般式(I)で表される化合物について、製造例を以下に挙げる。勿論本発明の主旨、及び適用範囲は、これら製造例により制限されるものではない。
(Wherein R 1 and R 2 may be independently branched from each other, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the number of carbon atoms. An alkenyloxy group having 2 to 8 carbon atoms or a fluorine atom, which may be branched, is more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorine atom, and n represents an integer of 0 to 2, but 0 or 1 is More preferred.)
In the present invention, production examples of the compound represented by the general formula (I) will be given below. Of course, the gist and scope of the present invention are not limited by these production examples.
本発明の一般式(I-1)の化合物は、例えば、以下のようにして製造することができる。 The compound of the general formula (I-1) of the present invention can be produced, for example, as follows.
一般式(II-1) Formula (II-1)
(式中、R2は一般式(I)におけるRと同じ意味を表す。)で表される化合物に、ハロゲン化メトキシメチルトリフェニルホスホニウム(III-1) (Wherein R 2 represents the same meaning as R in the general formula (I)), and the compound represented by the methoxymethyltriphenylphosphonium halide (III-1)
(式中、Xは塩素、臭素又はヨウ素原子を表す。)と、t-ブトキシカリウム又はブチルリチウムなどの塩基から調製したイリドを作用させた後、酸を用いて加水分解することにより一般式(IV-1) (Wherein X represents a chlorine, bromine, or iodine atom) and an ylide prepared from a base such as t-butoxypotassium or butyllithium, followed by hydrolysis with an acid to give a general formula ( IV-1)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(IV-1)に、ハロゲン化アルキルトリフェニルホスホニウム(III-2) (Wherein R 2 represents the same meaning as in formula (II-1)). The resulting compound (IV-1) was converted to an alkyltriphenylphosphonium halide (III-2).
(式中、R3は炭素数1〜8のアルキル基又は水素原子を表し、Xは塩素、臭素又はヨウ素原子を表す。)と、t-ブトキシカリウム又はブチルリチウムなどの塩基から調製したイリドを作用させることにより一般式(V-1) (Wherein R 3 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a hydrogen atom, X represents a chlorine, bromine or iodine atom) and an ylide prepared from a base such as t-butoxy potassium or butyl lithium. General formula (V-1)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(V-1)に、パラジウム炭素、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、スポンジニッケルなどの触媒存在下、接触水素還元することにより、一般式(VI-1) (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). By subjecting the obtained compound (V-1) to catalytic hydrogen reduction in the presence of a catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, platinum carbon, sponge nickel, etc., general formula (VI-1)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VI-1)を蒸留、カラム、再結晶などにより精製することにより、一般式(I-1)で表される化合物を得ることができる。 (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). By purifying the obtained compound (VI-1) by distillation, column, recrystallization or the like, a compound represented by the general formula (I-1) can be obtained.
あるいは、化合物(IV-1)に、有機金属試薬(III-3) Alternatively, compound (IV-1) is converted to organometallic reagent (III-3)
(式中、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表し、Zは塩化マグネシウム、塩化亜鉛、リチウム、銅、銅リチウム、トリアルキルケイ素、ホウ酸等の金属又は金属塩を表す。)を作用させることにより、一般式(VII-1) (Wherein R 3 represents the same meaning as in formula (III-2), Z represents a metal or a metal salt such as magnesium chloride, zinc chloride, lithium, copper, copper lithium, trialkyl silicon, boric acid, etc. )), The compound represented by the general formula (VII-1)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VII-1)を硫酸、p-トルエンスルホン酸などの酸触媒存在下、又は塩化チオニル／ピリジン、塩化ホスホリル／ピリジンなどの酸／塩基共存下、脱水することにより、一般式(V-2) (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). The obtained compound (VII-1) is dehydrated in the presence of an acid catalyst such as sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid, or in the presence of an acid / base such as thionyl chloride / pyridine, phosphoryl chloride / pyridine, etc. V-2)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される混合物を得る。得られた混合物(V-2)に、パラジウム炭素、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、スポンジニッケルなどの触媒存在下、接触水素還元することにより、一般式(VI-1)で表される化合物を得ることもできる。 (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). The resulting mixture (V-2) is subjected to catalytic hydrogen reduction in the presence of a catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, platinum carbon, sponge nickel, and the like, and the compound represented by the general formula (VI-1) You can also get
あるいは、一般式(II-2) Or general formula (II-2)
(式中、R1は一般式(I)におけるRと同じ意味を表す。)で表される化合物に、ハロゲン化メトキシメチルトリフェニルホスホニウム(III-1)と、t-ブトキシカリウム又はブチルリチウムなどの塩基から調製したイリドを作用させた後、酸を用いて加水分解することにより一般式(IV-2) (Wherein R 1 represents the same meaning as R in formula (I)), methoxymethyltriphenylphosphonium halide (III-1), t-butoxypotassium, butyllithium, etc. After reacting the ylide prepared from the base of the above, it is hydrolyzed with an acid to give a general formula (IV-2)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(IV-2)を、蒸留、カラム、再結晶などの手段により一般式(IV-3)で表される化合物を単離するか又は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、t-ブトキシカリウムなどの塩基を作用させることにより、一般式(IV-3) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2)). The obtained compound (IV-2) is isolated from the compound represented by the general formula (IV-3) by means of distillation, column, recrystallization or the like, or sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxy By reacting a base such as potassium and t-butoxypotassium, general formula (IV-3)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(IV-3)に、ハロゲン化アルキルトリフェニルホスホニウム(III-2)と、t-ブトキシカリウム又はブチルリチウムなどの塩基から調製したイリドを作用させることにより一般式(V-3) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2)). By reacting the resulting compound (IV-3) with an ylide prepared from a halogenated alkyltriphenylphosphonium (III-2) and a base such as t-butoxypotassium or butyllithium, the general formula (V-3)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(V-3)に、パラジウム炭素、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、スポンジニッケルなどの触媒存在下、接触水素還元することにより、一般式(I-1)で表される化合物を得ることができる。 (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). The compound represented by the general formula (I-1) is obtained by catalytic hydrogen reduction to the obtained compound (V-3) in the presence of a catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, platinum carbon and sponge nickel. Can be obtained.
あるいは、化合物(II-1)に有機金属試薬(III-3)を作用させることにより、一般式(VII-2) Alternatively, by reacting compound (II-1) with organometallic reagent (III-3), general formula (VII-2)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VII-2)を硫酸、p-トルエンスルホン酸などの酸触媒存在下、又は塩化チオニル／ピリジン、塩化ホスホリル／ピリジンなどの酸／塩基共存下、脱水することにより、一般式(V-4) (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). The obtained compound (VII-2) is dehydrated in the presence of an acid catalyst such as sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid or in the presence of an acid / base such as thionyl chloride / pyridine, phosphoryl chloride / pyridine, etc. V-4)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される混合物を得る。得られた混合物(V-4)をパラジウム炭素、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、スポンジニッケルなどの触媒存在下、接触水素還元することにより、一般式(VI-2) (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). The obtained mixture (V-4) is subjected to catalytic hydrogen reduction in the presence of a catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, platinum carbon, sponge nickel, etc.
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VI-2)を蒸留、カラム、再結晶などにより精製することにより、一般式(I-1)で表される化合物を得ることもできる。 (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). By purifying the obtained compound (VI-2) by distillation, column, recrystallization or the like, a compound represented by the general formula (I-1) can also be obtained.
化合物(IV-2)に、ハロゲン化アルキルトリフェニルホスホニウム(III-2)と、t-ブトキシカリウム又はブチルリチウムなどの塩基から調製したイリドを作用させることにより一般式(V-5) By reacting compound (IV-2) with an ylide prepared from alkyltriphenylphosphonium (III-2) halide and a base such as t-butoxypotassium or butyllithium, general formula (V-5)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(V-5)にパラジウム炭素、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、スポンジニッケルなどの触媒存在下、接触水素還元することにより、一般式 (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). The obtained compound (V-5) is subjected to catalytic hydrogen reduction in the presence of a catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, platinum carbon, sponge nickel, etc.
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VI-2)を蒸留、カラム、再結晶などにより精製することにより、一般式(I-2)で表される化合物を得ることができる。 (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). The compound represented by the general formula (I-2) can be obtained by purifying the obtained compound (VI-2) by distillation, column, recrystallization or the like.
あるいは、化合物(IV-2)に、有機金属試薬(III-3)を作用させることにより、一般式(VII-3) Alternatively, by reacting compound (IV-2) with organometallic reagent (III-3), general formula (VII-3)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VII-3)を硫酸、p-トルエンスルホン酸などの酸触媒存在下、又は塩化チオニル／ピリジン、塩化ホスホリル／ピリジンなどの酸／塩基共存下、脱水することにより、一般式(V-6) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). The obtained compound (VII-3) is dehydrated in the presence of an acid catalyst such as sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid or in the presence of an acid / base such as thionyl chloride / pyridine, phosphoryl chloride / pyridine, etc. V-6)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R3は一般式(III-2)におけると同じ意味を表す。)で表される混合物を得る。得られた混合物(V-6)に、パラジウム炭素、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、スポンジニッケルなどの触媒存在下、接触水素還元することにより、一般式(VI-2)で表される化合物を得ることもできる。 (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), and R 3 represents the same meaning as in general formula (III-2)). The resulting mixture (V-6) is subjected to catalytic hydrogen reduction in the presence of a catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, platinum carbon, sponge nickel, etc., to give a compound represented by the general formula (VI-2) You can also get
一般式(II-1)に代えて、一般式(II-3) Instead of general formula (II-1), general formula (II-3)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を用いることにより、一般式(I-3)で表される化合物を得ることができる。 (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1)), a compound represented by general formula (I-3) can be obtained.
あるいは、一般式(II-2)に代えて、一般式(II-4) Alternatively, instead of the general formula (II-2), the general formula (II-4)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を用いることにより、一般式(I-3)及び一般式(I-4)で表される化合物を得ることができる。 (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2)). By using a compound represented by general formula (I-3) and general formula (I-4), Can be obtained.
あるいは、一般式(IV-4) Or general formula (IV-4)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物に、一般式(III-4) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2)), and the compound represented by general formula (III-4)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、Xは塩素、臭素又はヨウ素原子を表す。)と、t-ブトキシカリウム又はブチルリチウムなどの塩基から調製したイリドを作用させることにより、一般式(V-7) (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), X represents a chlorine, bromine or iodine atom) and an ylide prepared from a base such as t-butoxypotassium or butyllithium. By acting, the general formula (V-7)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(V-7)をパラジウム炭素、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、スポンジニッケルなどの触媒存在下、接触水素還元することにより、一般式(VI-3) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), and R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1)). By subjecting the obtained compound (V-7) to catalytic hydrogen reduction in the presence of a catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, platinum carbon, sponge nickel, etc., the general formula (VI-3)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VI-3)を蒸留、カラム、再結晶などにより精製することにより、一般式(I-3)で表される化合物を得ることもできる。 (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), and R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1)). The compound represented by the general formula (I-3) can also be obtained by purifying the obtained compound (VI-3) by distillation, column, recrystallization or the like.
あるいは、化合物(IV-4)に、一般式(III-5) Alternatively, the compound (IV-4) is substituted with the general formula (III-5)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、Zは塩化マグネシウム、塩化亜鉛、リチウム、銅、銅リチウム、トリアルキルケイ素、ホウ酸等の金属又は金属塩を表す。)を作用させることにより、一般式(VII-4) (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), Z represents a metal or a metal salt such as magnesium chloride, zinc chloride, lithium, copper, copper lithium, trialkyl silicon, boric acid, etc. .) Is allowed to act to give a general formula (VII-4)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VII-4)を硫酸、p-トルエンスルホン酸などの酸触媒存在下、又は塩化チオニル／ピリジン、塩化ホスホリル／ピリジンなどの酸／塩基共存下、脱水することにより、一般式(V-8) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), and R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1)). The obtained compound (VII-4) is dehydrated in the presence of an acid catalyst such as sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid or in the presence of an acid / base such as thionyl chloride / pyridine, phosphoryl chloride / pyridine, etc. V-8)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた混合物(V-8)に、パラジウム炭素、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、スポンジニッケルなどの触媒存在下、接触水素還元することにより、一般式(VI-3)で表される化合物を得ることもできる。 (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), and R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1)). The resulting mixture (V-8) is subjected to catalytic hydrogen reduction in the presence of a catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, platinum carbon, sponge nickel, and the like, and the compound represented by the general formula (VI-3) You can also get
シクロヘキサノン(I-5) Cyclohexanone (I-5)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表す。)に、一般式(III-6) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2)), and general formula (III-6)
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、nは0〜4の整数を表し、Zは塩化マグネシウム、塩化亜鉛、リチウム、銅、銅リチウム、トリアルキルケイ素、ホウ酸等の金属又は金属塩を表す。)で表される化合物を作用させることにより、一般式(VII-4) (Wherein R 2 represents the same meaning as in formula (II-1), n represents an integer of 0 to 4, Z is magnesium chloride, zinc chloride, lithium, copper, copper lithium, trialkyl silicon, (Represents a metal or a metal salt such as boric acid).
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、nは一般式(III-6)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VII-5)を硫酸、p-トルエンスルホン酸などの酸触媒存在下、又は塩化チオニル／ピリジン、塩化ホスホリル／ピリジンなどの酸／塩基共存下、脱水することにより、一般式(V-9) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and n represents the same as in general formula (III-6)). Which represents the same meaning). The obtained compound (VII-5) is dehydrated in the presence of an acid catalyst such as sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid or in the presence of an acid / base such as thionyl chloride / pyridine, phosphoryl chloride / pyridine, etc. V-9)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、nは一般式(III-6)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(V-9)に、パラジウム炭素、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、スポンジニッケルなどの触媒存在下、接触水素還元することにより、一般式(VI-4) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and n represents the same as in general formula (III-6)). Which represents the same meaning). By subjecting the obtained compound (V-9) to catalytic hydrogen reduction in the presence of a catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, platinum carbon, sponge nickel, etc., general formula (VI-4)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、nは一般式(III-6)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VI-4)を蒸留、カラム、再結晶などにより精製することにより、一般式(I-5)で表される化合物を得ることができる。 (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and n represents the same as in general formula (III-6)). Which represents the same meaning). By purifying the obtained compound (VI-4) by distillation, column, recrystallization or the like, a compound represented by the general formula (I-5) can be obtained.
一般式(IV-5) Formula (IV-5)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物に、化合物(III-6)を作用させることにより、一般式(VII-6) (In the formula, R 1 has the same meaning as in general formula (II-2).) By reacting compound (III-6) with the compound represented by general formula (VII-6)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、nは一般式(III-6)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VII-6)を硫酸、p-トルエンスルホン酸などの酸触媒存在下、又は塩化チオニル／ピリジン、塩化ホスホリル／ピリジンなどの酸／塩基共存下、脱水することにより、一般式(V-10) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and n represents the same as in general formula (III-6)). Which represents the same meaning). The obtained compound (VII-6) is dehydrated in the presence of an acid catalyst such as sulfuric acid or p-toluenesulfonic acid or in the presence of an acid / base such as thionyl chloride / pyridine, phosphoryl chloride / pyridine, etc. V-10)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、nは一般式(III-6)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(V-10)に、パラジウム炭素、ロジウム炭素、ルテニウム炭素、白金炭素、スポンジニッケルなどの触媒存在下、接触水素還元することにより、一般式(VI-5) (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and n represents the same as in general formula (III-6)). Which represents the same meaning). By subjecting the obtained compound (V-10) to catalytic hydrogen reduction in the presence of a catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon, ruthenium carbon, platinum carbon, sponge nickel, etc., the general formula (VI-5)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、nは一般式(III-6)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VI-5)を蒸留、カラム、再結晶などにより精製することにより、一般式(I-6)で表される化合物を得ることができる。 (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and n represents the same as in general formula (III-6)). Which represents the same meaning). The compound represented by the general formula (I-6) can be obtained by purifying the obtained compound (VI-5) by distillation, column, recrystallization or the like.
一般式(VIII-1) Formula (VIII-1)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、Xは塩素、臭素又はヨウ素原子を表す。)で表される化合物に、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、金属ナトリウム、t-ブトキシカリウムなどの塩基存在下、一般式(VII-7) (Wherein R 1 represents the same meaning as in formula (II-2), and X represents a chlorine, bromine or iodine atom), sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate General formula (VII-7) in the presence of a base such as potassium carbonate, sodium hydride, sodium metal, potassium t-butoxy
(式中、R2は一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、nは一般式(III-6)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を作用させることにより、一般式(VI-6) (Wherein R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and n represents the same meaning as in general formula (III-6)). Formula (VI-6)
(式中、R1は一般式(II-2)におけると同じ意味を表し、R2は、一般式(II-1)におけると同じ意味を表し、nは一般式(III-6)におけると同じ意味を表す。)で表される化合物を得る。得られた化合物(VI-6)を蒸留、カラム、再結晶などにより精製することにより、一般式(I-7)で表される化合物を得ることができる。 (Wherein R 1 represents the same meaning as in general formula (II-2), R 2 represents the same meaning as in general formula (II-1), and n represents the same as in general formula (III-6)). Which represents the same meaning). By purifying the obtained compound (VI-6) by distillation, column, recrystallization or the like, a compound represented by the general formula (I-7) can be obtained.
本願発明における絶縁性液体は、一般式(I)の化合物を単独で用いるか、任意の量を混合して用いることを特徴とする。また、その物性値を調整するために、一般式(I)で表される化合物に加えて、その他の化合物と任意の量を混合して用いることもできる。このとき用いられる他の化合物としては、下記の一般式(IX-1)〜一般式(IX-6)で表される化合物が好ましい。 The insulating liquid in the present invention is characterized in that the compound of the general formula (I) is used alone or in an arbitrary amount mixed. Moreover, in order to adjust the physical property value, in addition to the compound represented by the general formula (I), other compounds and arbitrary amounts can be mixed and used. As other compounds used at this time, compounds represented by the following general formulas (IX-1) to (IX-6) are preferable.
式中、R1及びR2はお互いに独立して分岐していてもよい炭素数1〜8のアルキル基、炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数1〜8のアルコキシル基、炭素数2〜8のアルケニルオキシ基又はフッ素原子が好ましく、分岐していても良い炭素数1〜8のアルキル基又はフッ素原子がより好ましく、nは0〜2の整数が好ましく、0又は1がより好ましい。 In the formula, R 1 and R 2 may be independently branched from each other, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms, and 2 carbon atoms. -8 alkenyloxy groups or fluorine atoms are preferred, optionally branched alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms or fluorine atoms, n is preferably an integer of 0 to 2, and 0 or 1 is more preferred.
また、本願発明の絶縁性液体には、その保存安定性を向上させるために安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β-ナフチルアミン類、β-ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、液晶組成物に対して0.005〜1％の範囲が好ましく、0.02〜0.5％がさらに好ましい。 In addition, a stabilizer can be added to the insulating liquid of the present invention in order to improve its storage stability. Examples of the stabilizer that can be used include hydroquinone, hydroquinone monoalkyl ethers, tert-butylcatechols, pyrogallols, thiophenols, nitro compounds, β-naphthylamines, β-naphthols, and nitroso compounds. . When the stabilizer is used, the addition amount is preferably 0.005 to 1%, more preferably 0.02 to 0.5% with respect to the liquid crystal composition.
また、タッチパネルへの帯電を防止するための帯電防止剤や粘度を調節するための重合体又は重合性化合物を更に添加することもできる。 In addition, an antistatic agent for preventing charging of the touch panel and a polymer or polymerizable compound for adjusting the viscosity can be further added.
更に、本願発明の化合物及びその組成物は、絶縁性液体としての性質を備えているため、車両用トランスやコンデンサーの絶縁油、OF(Oil Filled)ケーブルの絶縁油、トランジスターなどの電子部品の封入絶縁油、ファンカップリングオイルやビスカスカップリングオイルなどの液体継手のカップリングオイル、サーキットブレイカー、ディーゼルエンジン、ドアチェッカー、電子ばかりや車両及び航空機計器などのダンパー油、カメラなどの光学機械、ミシン、編機などの精密機械用潤滑油、燒結合金やプラスチック製の無給油軸受の含浸油、化学プラントや化学実験室などの油浴、ゴム・プラスチック成形時の離型、シェルモールドの鋳型の製造、ダイカスト成形時の離型剤、PPC複写機のトナー付着防止オイル等の目的に使用することができる。 Further, since the compound of the present invention and the composition thereof have properties as an insulating liquid, insulating oil for vehicle transformers and capacitors, insulating oil for OF (Oil Filled) cables, encapsulation of electronic components such as transistors, etc. Insulating oil, coupling oil for liquid coupling such as fan coupling oil and viscous coupling oil, circuit breaker, diesel engine, door checker, electronic oil, damper oil such as vehicle and aircraft instrument, optical machine such as camera, sewing machine, Lubricating oils for precision machines such as knitting machines, impregnating oils for non-lubricated bearings made of rivets and plastics, oil baths for chemical plants and chemical laboratories, mold release for rubber and plastic molding, manufacture of molds for shell molds, It can be used for the purpose of mold release agent for die casting and toner adhesion prevention oil for PPC copier. .
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is further explained in full detail, this invention is not limited to these Examples.
なお、相転移温度の測定は温度調節ステージを備えた偏光顕微鏡及び示差走査熱量計(DSC)を併用して行った。また、化合物の構造は核磁気共鳴スペクトル(NMR)、赤外共鳴スペクトル(IR)、ガスクロマトグラフ質量分析(GC-MS)等により確認した。各化合物の比抵抗値は、各化合物を測定用セルに入れ、電圧(DC)1V印加時の抵抗値を測定して得た。 The phase transition temperature was measured using a polarizing microscope equipped with a temperature control stage and a differential scanning calorimeter (DSC). The structure of the compound was confirmed by nuclear magnetic resonance spectrum (NMR), infrared resonance spectrum (IR), gas chromatograph mass spectrometry (GC-MS) and the like. The specific resistance value of each compound was obtained by placing each compound in a measurement cell and measuring the resistance value when a voltage (DC) of 1 V was applied.
以下の略語を用いた。
THF：テトラヒドロフラン
(実施例1) シス-1-エチル-4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン(I-A)の製造
The following abbreviations were used:
THF: tetrahydrofuran
Example 1 Production of cis-1-ethyl-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexane (IA)
(実施例1-1) 4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルカルバルデヒドの製造
塩化メトキシメチルトリフェニルホスホニウム(170 g)をTHF(700 ml)中、懸濁している中に、t-ブトキシカリウム(58 g)を、内温5〜10℃に保ちながら少しずつ加えた後、そのままの温度で30分間撹拌した。4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサノン(100 g)のTHF(200 ml)溶液を、内温5〜10℃に保ちながら滴下して加えた後、そのままの温度で30分間撹拌し、さらに室温で30分間撹拌を続けた。反応液を氷水とヘキサンの混合物に滴下して、反応を終了させた。析出した固体を濾別した後、固体をヘキサンで洗浄した。有機相を合わせ、50%メタノール水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。溶媒を留去し、減圧乾燥することにより、淡黄色液体(114 g)を得た。得られた液体をTHF(570 ml)中、攪拌している中に、10%塩酸水溶液(200 ml)を加えた後、60℃で4時間撹拌した。ヘキサンを加えた後、有機相を分離した。有機相を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。溶媒を留去し、減圧乾燥することにより、微黄色液体の目的物(104 g)を得た。
(実施例1-2) 1-ビニル-4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサンの製造
臭化メチルトリフェニルホスホニウム(173 g)をTHF(700 ml)中、懸濁している中に、t-ブトキシかリム(57 g)を、内温5〜10℃に保ちながら少しずつ加えた後、そのままの温度で30分間撹拌した。(実施例1-1)で得られた4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルカルバルデヒド(104 g)のTHF(200 ml)溶液を、内温5〜10℃に保ちながら滴下して加えた後、そのままの温度で30分間撹拌し、さらに室温で30分間撹拌を続けた。反応液を氷水とヘキサンの混合物に滴下して、反応を終了させた。析出した固体を濾別した後、固体をヘキサンで洗浄した。有機相を合わせ、50%メタノール水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。溶媒を留去し、カラム(シリカゲル／ヘキサン)で精製することにより、無色透明液体の目的物(99 g)を得た。
(実施例1-3) シス-1-エチル-4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン(I-A)の製造
(実施例1-2)で得られた1-ビニル-4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン(99 g)のエタノール／酢酸エチル混合溶液(250 ml/250 ml)に、5%パラジウム炭素(50%含水品、5 g)を加えた後、水素圧下(0.5 MPa)、室温で4時間攪拌した。触媒を濾別し、溶媒を留去し、1-エチル-4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサンのシス／トランス比８／２の混合物を得た。得られた混合物を再結晶(ジクロロメタン＋アセトン)し、結晶側にシス／トランス比５／９５の混合物、母液側にシス／トランス比９／１の混合物を得た。得られた母液を、カラム(シリカゲル＋アルミナ／ヘキサン)を用いて精製し、さらに減圧蒸留することにより、無色の液体(20 g)を得た。この化合物は-20℃においても液体状態を保っていた。
1H NMR (CDCl3) δ 0.96 (t,CH3, 6H), 0.84-1.46 (m,CH+CH2, 21H), 1.54-1.96 (m, CH, 5H)、GC-MS(EI) 236(M+)
また、化合物(I-A)の20℃における比抵抗値を測定したところ、1.0×1012Ωm以上の高い値を示した。
(実施例2) シス,トランス-ビス(4-プロピルシクロヘキシルメチル)エタン(I-B)の製造
Example 1-1 Preparation of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexyl carbaldehyde Methoxymethyltriphenylphosphonium chloride (170 g) was suspended in THF (700 ml) in t-butoxy. Potassium (58 g) was added little by little while keeping the internal temperature at 5 to 10 ° C., and then stirred at the same temperature for 30 minutes. A solution of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexanone (100 g) in THF (200 ml) was added dropwise while maintaining the internal temperature at 5 to 10 ° C., and the mixture was stirred at that temperature for 30 minutes. Stirring was continued for 30 minutes at room temperature. The reaction solution was added dropwise to a mixture of ice water and hexane to complete the reaction. The precipitated solid was filtered off, and the solid was washed with hexane. The organic phases were combined, washed with 50% aqueous methanol solution, water and saturated brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off and dried under reduced pressure to obtain a pale yellow liquid (114 g). While the obtained liquid was stirred in THF (570 ml), 10% aqueous hydrochloric acid solution (200 ml) was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 4 hours. After adding hexane, the organic phase was separated. The organic phase was washed with water, a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine in that order, and then dried using anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off and the residue was dried under reduced pressure to obtain the desired product (104 g) as a slightly yellow liquid.
Example 1-2 Preparation of 1-vinyl-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexane While methyltriphenylphosphonium bromide (173 g) was suspended in THF (700 ml), t -Butoxy or rim (57 g) was added little by little while keeping the internal temperature at 5 to 10 ° C., and then stirred at that temperature for 30 minutes. A solution of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexylcarbaldehyde (104 g) obtained in (Example 1-1) in THF (200 ml) was added dropwise while maintaining the internal temperature at 5 to 10 ° C. After that, the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes, and further stirred at room temperature for 30 minutes. The reaction solution was added dropwise to a mixture of ice water and hexane to complete the reaction. The precipitated solid was filtered off, and the solid was washed with hexane. The organic phases were combined, washed with 50% aqueous methanol solution, water and saturated brine, and then dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off and the residue was purified with a column (silica gel / hexane) to obtain the desired product (99 g) as a colorless transparent liquid.
Example 1-3 Production of cis-1-ethyl-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexane (IA)
To 1-vinyl-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexane (99 g) obtained in (Example 1-2) in an ethanol / ethyl acetate mixed solution (250 ml / 250 ml), 5% palladium carbon was added. (50% water-containing product, 5 g) was added, followed by stirring at room temperature for 4 hours under hydrogen pressure (0.5 MPa). The catalyst was filtered off and the solvent was distilled off to obtain a mixture of 1-ethyl-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexane with a cis / trans ratio of 8/2. The obtained mixture was recrystallized (dichloromethane + acetone) to obtain a mixture having a cis / trans ratio of 5/95 on the crystal side and a mixture having a cis / trans ratio of 9/1 on the mother liquor side. The obtained mother liquor was purified using a column (silica gel + alumina / hexane) and further distilled under reduced pressure to obtain a colorless liquid (20 g). This compound remained in a liquid state even at -20 ° C.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.96 (t, CH 3 , 6H), 0.84-1.46 (m, CH + CH 2 , 21H), 1.54-1.96 (m, CH, 5H), GC-MS (EI) 236 (M + )
Further, when the specific resistance value of the compound (IA) at 20 ° C. was measured, it showed a high value of 1.0 × 10 12 Ωm or more.
Example 2 Production of cis, trans-bis (4-propylcyclohexylmethyl) ethane (IB)
(実施例2-1) 4-プロピルシクロヘキシルカルバルデヒドの製造
(実施例1-1)における4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサノンに代えて、4-プロピルシクロヘキサノンを用いることにより、目的物を得た。
(実施例2-2) 1-(トランス-4-プロピルシクロヘキシルメチル)-2-(4-プロピルシクロヘキシルメチル)エテンの製造
(実施例1-2)における4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルカルバルデヒドに代えて、(実施例2-1)で得られた4-プロピルシクロヘキシルカルバルデヒドを用い、臭化メチルトリフェニルホスホニウムに代えて、臭化(トランス-4-プロピルシクロヘキシルメチル)トリフェニルホスホニウムを用いることにより目的物を得た。
(実施例2-3) シス,トランス-ビス(4-プロピルシクロヘキシルメチル)エタン(I-B)の製造
(実施例1-3)における1-ビニル-4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサンに代えて、(実施例2-2)で得られた1-(トランス-4-プロピルシクロヘキシルメチル)-2-(4-プロピルシクロヘキシルメチル)エテンを用いることにより目的物を得た。この化合物は-20℃においても液体状態を保っていた。
1H NMR (CDCl3) δ 0.96 (t,CH3, 6H), 0.80-1.46 (m,CH+CH2, 27H), 1.54-1.96 (m, CH, 5H)、GC-MS(EI) 250(M+)
また、化合物(I-B)の20℃における比抵抗値を測定したところ、1.0×1012Ωm以上の高い値を示した。
(実施例3) シス-1-プロピル-4-トリルシクロヘキサン(I-C)の製造
(Example 2-1) Production of 4-propylcyclohexylcarbaldehyde
The desired product was obtained by using 4-propylcyclohexanone instead of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexanone in Example 1-1.
Example 2-2 Production of 1- (trans-4-propylcyclohexylmethyl) -2- (4-propylcyclohexylmethyl) ethene
Instead of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexyl carbaldehyde in (Example 1-2), 4-propylcyclohexyl carbaldehyde obtained in (Example 2-1) was used, and methyltriphenyl bromide was used. The desired product was obtained by using (trans-4-propylcyclohexylmethyl) triphenylphosphonium bromide instead of phosphonium.
Example 2-3 Production of cis, trans-bis (4-propylcyclohexylmethyl) ethane (IB)
Instead of 1-vinyl-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexane in (Example 1-3), 1- (trans-4-propylcyclohexylmethyl)-obtained in (Example 2-2) The desired product was obtained by using 2- (4-propylcyclohexylmethyl) ethene. This compound remained in a liquid state even at -20 ° C.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.96 (t, CH 3 , 6H), 0.80-1.46 (m, CH + CH 2 , 27H), 1.54-1.96 (m, CH, 5H), GC-MS (EI) 250 (M + )
Further, when the specific resistance value of Compound (IB) at 20 ° C. was measured, it showed a high value of 1.0 × 10 12 Ωm or more.
Example 3 Production of cis-1-propyl-4-tolylcyclohexane (IC)
(実施例3-1) 1-ヒドロキシ-4-プロピル-1-トリルシクロヘキサンの製造
(以下、窒素雰囲気下で行う。)マグネシウム末(20 g)をTHF(100 ml)中、激しく攪拌している中に、4-ブロモトルエン(134 g)のTHF溶液(540 ml)を自発的に還流する速度で、滴下して加えた。滴下後、室温で1時間攪拌し続けた後、4-プロピルシクロヘキサノン(100 g)のTHF溶液(200 ml)を滴下して加えた。滴下後、室温で1時間攪拌し続けた後、濃塩酸と氷の混合物に滴下して加えて反応を停止させた。反応液の有機相を分離し、水層からトルエンで抽出した。有機相を集めた後、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗條し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、微黄色の液体(164 g)を得た。
(実施例3-2) 1-トリル-4-プロピルシクロヘキセンの製造
(実施例3-1)で得られた1-ヒドロキシ-4-プロピル-1-トリルシクロヘキサン(164 g)のトルエン溶液(640 ml)に、4-トルエンスルホン酸一水和物(8 g)を加えた後、留去する水分を除去しながら4時間加熱還流した。室温まで冷却した後、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗條し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、カラム(シリカゲル／トルエン)を用いて精製することにより、微黄色の液体(118 g)を得た。
(実施例3-3) シス-1-プロピル-4-トリルシクロヘキサン(I-C)の製造
(実施例1-3)における1-ビニル-4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサンに代えて、(実施例3-2)で得られた1-トリル-4-プロピルシクロヘキセンを用いることにより目的物を得た。この化合物は-20℃においても液体状態を保っていた。
1H NMR (CDCl3) δ 0.96 (t,CH3, 3H), 1.16-1.50 (m,CH+CH2, 12H), 1.90-2.20 (m, CH, 2H), 2.34 (s, CH3, 3H), 6.96 (d, ArH, 2H), 7.02 (d, ArH, 2H)、GC-MS(EI) 216(M+)
また、化合物(I-C)の20℃における比抵抗値を測定したところ、1.0×1012Ωm以上の高い値を示した。
(実施例4) シス-1-[2-(4-フルオロフェニル)エチル]-4-プロピルシクロヘキサン(I-D)の製造
Example 3-1 Production of 1-hydroxy-4-propyl-1-tolylcyclohexane
(Hereafter, under a nitrogen atmosphere.) While magnesium powder (20 g) was vigorously stirred in THF (100 ml), a THF solution (540 ml) of 4-bromotoluene (134 g) was spontaneously added. Was added dropwise at a rate to reflux. After the dropwise addition, stirring was continued for 1 hour at room temperature, and then a THF solution (200 ml) of 4-propylcyclohexanone (100 g) was added dropwise. After the dropwise addition, stirring was continued for 1 hour at room temperature, and the reaction was stopped by adding dropwise to a mixture of concentrated hydrochloric acid and ice. The organic phase of the reaction solution was separated and extracted from the aqueous layer with toluene. The organic phase was collected, washed with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine in that order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off to obtain a slightly yellow liquid (164 g).
Example 3-2 Production of 1-tolyl-4-propylcyclohexene
4-Toluenesulfonic acid monohydrate (8 g) was added to a toluene solution (640 ml) of 1-hydroxy-4-propyl-1-tolylcyclohexane (164 g) obtained in (Example 3-1). After the addition, the mixture was heated to reflux for 4 hours while removing the distilled water. After cooling to room temperature, the mixture was washed with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine in that order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off and the residue was purified using a column (silica gel / toluene) to obtain a slightly yellow liquid (118 g).
Example 3-3 Production of cis-1-propyl-4-tolylcyclohexane (IC)
By using 1-tolyl-4-propylcyclohexene obtained in (Example 3-2) instead of 1-vinyl-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexane in (Example 1-3) The desired product was obtained. This compound remained in a liquid state even at -20 ° C.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.96 (t, CH 3 , 3H), 1.16-1.50 (m, CH + CH 2 , 12H), 1.90-2.20 (m, CH, 2H), 2.34 (s, CH 3 , 3H), 6.96 (d, ArH, 2H), 7.02 (d, ArH, 2H), GC-MS (EI) 216 (M + )
Further, when the specific resistance value at 20 ° C. of the compound (IC) was measured, it showed a high value of 1.0 × 10 12 Ωm or more.
Example 4 Production of cis-1- [2- (4-fluorophenyl) ethyl] -4-propylcyclohexane (ID)
(実施例4-1) (4-プロピルシクロヘキシル)アセトアルデヒドの製造
(実施例1-1)における4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサノンに代えて、(実施例2-1)で得られた4-プロピルシクロヘキシルカルバルデヒドを用いることにより、目的物を得た。
(実施例4-2) 1-(4-フルオロフェニル)-2-(4-プロピルシクロヘキシル)エタノールの製造
(実施例3-1)における4-ブロモトルエンに代えて、1-ブロモ-4-フルオロベンゼンを、4-プロピルシクロヘキサノンに代えて、(実施例4-1)で得られた(4-プロピルシクロヘキシル)アセトアルデヒドを用いることにより目的物を得た。
(実施例4-3) 1-(4-フルオロフェニル)-2-(4-プロピルシクロヘキシル)エテンの製造
(実施例3-2)における1-ヒドロキシ-4-プロピル-1-トリルシクロヘキサンに代えて、(実施例4-2)で得られた1-(4-フルオロフェニル)-2-(4-プロピルシクロヘキシル)エタノールを用いることにより目的物を得た。
(実施例4-4) シス-1-[2-(4-フルオロフェニル)エチル]-4-プロピルシクロヘキサン(I-D)の製造
(実施例1-3)における1-ビニル-4-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)シクロヘキサンに代えて、(実施例4-3)で得られた1-(4-フルオロフェニル)-2-(4-プロピルシクロヘキシル)エテンを用いることにより目的物を得た。この化合物は-20℃においても液体状態を保っていた。
1H NMR (CDCl3) δ 0.96 (t,CH3, 3H), 1.08-1.50 (m,CH+CH2, 15H), 1.90-1.98 (m, CH, 1H), 2.54 (t, CH2, 2H), 6.86-6.90 (dm, ArH, 2H), 7.08-7.12 (dm, ArH, 2H)、GC-MS(EI) 248(M+)
また、化合物(I-D)の20℃における比抵抗値を測定したところ、1.0×1012Ωm以上の高い値を示した。
(実施例5) シス-1-(3,4-ジフルオロフェノキシメチル)-4-プロピルシクロヘキサン(I-E)の製造
Example 4-1 Production of (4-propylcyclohexyl) acetaldehyde
The desired product was obtained by using 4-propylcyclohexylcarbaldehyde obtained in (Example 2-1) instead of 4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexanone in (Example 1-1). .
Example 4-2 Production of 1- (4-fluorophenyl) -2- (4-propylcyclohexyl) ethanol
Instead of 4-bromotoluene in (Example 3-1), 1-bromo-4-fluorobenzene was replaced with 4-propylcyclohexanone and (4-propylcyclohexyl) obtained in (Example 4-1) The desired product was obtained by using acetaldehyde.
Example 4-3 Production of 1- (4-fluorophenyl) -2- (4-propylcyclohexyl) ethene
Instead of 1-hydroxy-4-propyl-1-tolylcyclohexane in (Example 3-2), 1- (4-fluorophenyl) -2- (4-propyl) obtained in (Example 4-2) The target product was obtained by using (cyclohexyl) ethanol.
Example 4-4 Production of cis-1- [2- (4-fluorophenyl) ethyl] -4-propylcyclohexane (ID)
Instead of 1-vinyl-4- (trans-4-propylcyclohexyl) cyclohexane in Example 1-3, 1- (4-fluorophenyl) -2- (obtained in Example 4-3) The target product was obtained by using 4-propylcyclohexyl) ethene. This compound remained in a liquid state even at -20 ° C.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.96 (t, CH 3 , 3H), 1.08-1.50 (m, CH + CH 2 , 15H), 1.90-1.98 (m, CH, 1H), 2.54 (t, CH 2 , 2H), 6.86-6.90 (dm, ArH, 2H), 7.08-7.12 (dm, ArH, 2H), GC-MS (EI) 248 (M + )
Further, when the specific resistance value at 20 ° C. of the compound (ID) was measured, it showed a high value of 1.0 × 10 12 Ωm or more.
Example 5 Production of cis-1- (3,4-difluorophenoxymethyl) -4-propylcyclohexane (IE)
(実施例5-1) 4-プロピルシクロヘキシルメタノールの製造
(実施例2-1)で得られた4-プロピルシクロヘキシルカルバルデヒド(80 g)のエタノール溶液(400 ml)を激しく攪拌している中に、水素化ホウ素ナトリウム(8 g)を少量ずつ溶媒が穏やかに還流する速度で加えた。その混合物を1時間加熱還流した後、水を加えた。室温まで放冷した後、反応液が半量になるまで溶媒を減圧留去した。3 M塩酸を加えた後、酢酸エチルで抽出し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗條し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去することにより、微黄色の液体(64 g)を得た。
(実施例5-2) 1-ブロモメチル-4-プロピルシクロヘキサンの製造
(実施例5-1)で得られた4-プロピルシクロヘキシルメタノール(64 g)のジクロロメタン(240 ml)溶液に、水冷下、メタンスルホニルクロリド(52 g)を滴下して加えた後、さらにその温度を保ったままピリジン(38 g)を滴下して加えた。続けて4-ジメチルアミノピリジン(5.9 g)を加えた後、室温で8時間攪拌を続けた。反応液に水を加えて反応を停止させた後、有機相を分離し、水層からジクロロメタンで抽出した(2回)。集めた有機相を3 M塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、薄黄色の固体(95 g)を得た。得られた固体をアセトン(400 ml)に溶解し、臭化リチウム(52 g)を加えた後、4時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮した後、酢酸エチルを加え、さらに水を加えて析出した塩を溶解させた。有機相を分離し、水層から酢酸エチルで抽出し、集めた有機相を3 M塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、減圧蒸留することにより、微黄色の液体(72 g)を得た。
(実施例5-3) シス-1-(3,4-ジフルオロフェノキシメチル)-4-プロピルシクロヘキサン(I-E)の製造
(実施例5-2)で得られた1-ブロモメチル-4-プロピルシクロヘキサン(72 g)、3,4-ジフルオロフェノール(32 g)、無水炭酸カリウム(51 g)のN,N-ジメチルホルムアミド(360 ml)混合液を6時間加熱還流した後、室温まで冷却し、水を滴下して加えて反応を停止させた。トルエンで抽出し(3回)、集めた有機相を、3 M塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、そのままの溶液をカラム(シリカゲル＋アルミナ、トルエン)を用いて精製し、1-(3,4-ジフルオロフェノキシメチル)-4-プロピルシクロヘキサンのシス／トランス比８／２の混合物を得た。得られた混合物を再結晶(アセトン＋メタノール)し、結晶側にシス／トランス比５／９５の混合物、母液側にシス／トランス比９／１の混合物を得た。得られた母液を、カラム(シリカゲル＋アルミナ／ヘキサン)を用いて精製し、さらに減圧蒸留することにより、無色の液体(17 g)を得た。この化合物は-20℃においても液体状態を保っていた。
1H NMR (CDCl3) δ 0.96 (t,CH3, 3H), 1.04-1.50 (m,CH+CH2, 13H), 1.90-1.98 (m, CH, 1H), 3.86-3.98 (m, CH2O, 2H), 6.42-6.54 (m, ArH, 2H), 6.80-6.84 (m, ArH, 1H)、GC-MS(EI) 268(M+)
また、化合物(I-E)の20℃における比抵抗値を測定したところ、1.0×1012Ωm以上の高い値を示した。
(実施例6)
(実施例1)で得られた化合物(I-A)を用いて、組成物(M-0)
(Example 5-1) Production of 4-propylcyclohexylmethanol
While the ethanol solution (400 ml) of 4-propylcyclohexylcarbaldehyde (80 g) obtained in (Example 2-1) was vigorously stirred, sodium borohydride (8 g) was added in small portions. It was added at a gentle reflux rate. The mixture was heated at reflux for 1 hour and water was added. After allowing to cool to room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure until the reaction solution became half. After adding 3 M hydrochloric acid, the mixture was extracted with ethyl acetate, washed with water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine in that order, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off to obtain a slightly yellow liquid (64 g).
Example 5-2 Production of 1-bromomethyl-4-propylcyclohexane
Methanesulfonyl chloride (52 g) was added dropwise to a solution of 4-propylcyclohexylmethanol (64 g) obtained in (Example 5-1) in dichloromethane (240 ml) under water cooling, and the temperature was further increased. While maintaining the pyridine (38 g) was added dropwise. Subsequently, 4-dimethylaminopyridine (5.9 g) was added, and stirring was continued at room temperature for 8 hours. Water was added to the reaction solution to stop the reaction, and then the organic phase was separated and extracted from the aqueous layer with dichloromethane (twice). The collected organic phase was washed with 3 M hydrochloric acid, water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine in that order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off to obtain a pale yellow solid (95 g). The obtained solid was dissolved in acetone (400 ml), lithium bromide (52 g) was added, and the mixture was heated to reflux for 4 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, ethyl acetate was added, and water was further added to dissolve the precipitated salt. The organic phase was separated, extracted from the aqueous layer with ethyl acetate, and the collected organic phase was washed with 3 M hydrochloric acid, water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine in that order, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off and distilled under reduced pressure to obtain a slightly yellow liquid (72 g).
Example 5-3 Production of cis-1- (3,4-difluorophenoxymethyl) -4-propylcyclohexane (IE)
N, N-dimethylformamide (1-bromomethyl-4-propylcyclohexane (72 g), 3,4-difluorophenol (32 g), anhydrous potassium carbonate (51 g) obtained in (Example 5-2) ( The mixture was heated to reflux for 6 hours, cooled to room temperature, and water was added dropwise to stop the reaction. Extracted with toluene (3 times), and the collected organic phase was washed with 3M hydrochloric acid, water, saturated aqueous sodium bicarbonate and saturated brine in this order, and the solution was used as it was on a column (silica gel + alumina, toluene). To obtain a mixture of 1- (3,4-difluorophenoxymethyl) -4-propylcyclohexane having a cis / trans ratio of 8/2. The obtained mixture was recrystallized (acetone + methanol) to obtain a mixture having a cis / trans ratio of 5/95 on the crystal side and a mixture having a cis / trans ratio of 9/1 on the mother liquor side. The obtained mother liquor was purified using a column (silica gel + alumina / hexane) and further distilled under reduced pressure to obtain a colorless liquid (17 g). This compound remained in a liquid state even at -20 ° C.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 0.96 (t, CH 3 , 3H), 1.04-1.50 (m, CH + CH 2 , 13H), 1.90-1.98 (m, CH, 1H), 3.86-3.98 (m, CH 2 O, 2H), 6.42-6.54 (m, ArH, 2H), 6.80-6.84 (m, ArH, 1H), GC-MS (EI) 268 (M + )
Further, when the specific resistance value of the compound (IE) at 20 ° C. was measured, it showed a high value of 1.0 × 10 12 Ωm or more.
(Example 6)
Using compound (IA) obtained in (Example 1), composition (M-0)
を調製した。組成物(M-0)を-40℃で1晩放置したところ、析出は見られず液体状態を維持していた。また、組成物(M-0)の20℃における比抵抗値を測定したところ、1.0×1012Ωm以上の高い値を示した。
(参考例1)
(実施例1)で得られた化合物(I-A)を用いて、組成物(M-1)
Was prepared. When the composition (M-0) was allowed to stand at −40 ° C. overnight, no precipitation was observed and the liquid state was maintained. Further, when the specific resistance value at 20 ° C. of the composition (M-0) was measured, it showed a high value of 1.0 × 10 12 Ωm or more.
(Reference Example 1)
Using the compound (IA) obtained in (Example 1), the composition (M-1)
を調製した。組成物(M-1)を-40℃で1晩放置したところ、析出は見られず液体状態を維持していた。また、組成物(M-1)の20℃における比抵抗値を測定したところ、1.0×1012Ωm以上の高い値を示した。 Was prepared. When the composition (M-1) was allowed to stand at −40 ° C. overnight, no precipitation was observed and the liquid state was maintained. Further, when the specific resistance value at 20 ° C. of the composition (M-1) was measured, it showed a high value of 1.0 × 10 12 Ωm or more.
またこの組成物(M-1)を用いて、タッチパネルを作成したところ、表示ムラ等の不具合を起こすことなく良好な特性を示した。
(参考例2)
(実施例5)で得られた化合物(I-E)を用いて、組成物(M-2)
Further, when a touch panel was prepared using this composition (M-1), it showed good characteristics without causing problems such as display unevenness.
(Reference Example 2)
Using the compound (IE) obtained in (Example 5), composition (M-2)
を調製した。組成物(M-2)を-40℃で1晩放置したところ、析出は見られず液体状態を維持していた。また、組成物(M-2)の20℃における比抵抗値を測定したところ、1.0×1012Ωm以上の高い値を示した。 Was prepared. When the composition (M-2) was allowed to stand at −40 ° C. overnight, no precipitation was observed and the liquid state was maintained. Further, when the specific resistance value at 20 ° C. of the composition (M-2) was measured, it showed a high value of 1.0 × 10 12 Ωm or more.
またこの組成物(M-1)を用いて、タッチパネルを作成したところ、表示ムラ等の不具合を起こすことなく良好な特性を示した。
(参考比較例1)
(参考例1)における化合物(I-A)に代えて、化合物(I-A)を含まない組成物(M-3)
Further, when a touch panel was prepared using this composition (M-1), it showed good characteristics without causing problems such as display unevenness.
(Reference Comparative Example 1)
Instead of the compound (IA) in (Reference Example 1), a composition not containing the compound (IA) (M-3)
を調製した。組成物(M-3)の20℃における比抵抗値を測定したところ、1.0×1012Ωm以上の値を示した。しかし組成物(M-3)を-40℃で1晩放置したところ、液晶状態を示した。このため、タッチパネルに使用すると低温域で液晶へ相転移することに伴う、粘度上昇が起こり、表示不良等の問題を惹き起こすため使用することができない。 Was prepared. When the specific resistance value at 20 ° C. of the composition (M-3) was measured, it showed a value of 1.0 × 10 12 Ωm or more. However, when the composition (M-3) was left at -40 ° C. overnight, it showed a liquid crystal state. For this reason, when it is used for a touch panel, the viscosity increases due to the phase transition to the liquid crystal in a low temperature range, which causes problems such as display defects and cannot be used.
このことから、本願特許の化合物(I-A)は低温において液体状態を維持するため、絶縁性液体用の化合物として有用である。
(参考比較例2)
(参考例2)における化合物(I-E)に代えて、類似の化合物(J-E)
Therefore, the compound (IA) of the present patent is useful as a compound for an insulating liquid because it maintains a liquid state at a low temperature.
(Reference Comparative Example 2)
Instead of the compound (IE) in (Reference Example 2), a similar compound (JE)
を用いて組成物(M-4) Composition with (M-4)
を調製した。この組成物(M-4)を-40℃で1晩放置したところ、析出は見られず液体状態を示した。しかし、組成物(M-4)の20℃における比抵抗値を測定したところ、1.0×1010Ωmを示し、十分な絶縁性を示さなかった。このことから、本願特許の化合物(I-E)は高比抵抗値を維持することから絶縁性液体用の化合物として有用である。 Was prepared. When this composition (M-4) was allowed to stand at −40 ° C. overnight, no precipitation was observed, indicating a liquid state. However, when the specific resistance value at 20 ° C. of the composition (M-4) was measured, it showed 1.0 × 10 10 Ωm and did not show sufficient insulation. Accordingly, the compound (IE) of the present patent is useful as a compound for an insulating liquid because it maintains a high specific resistance value.
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