JP5654735B2 - Imaging optical instrument and projection exposure apparatus including the imaging optical instrument - Google Patents

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Description

本発明は、請求項1又は請求項20に記載の結像光学器械に関する。   The present invention relates to an imaging optical instrument according to claim 1 or claim 20.

そのような結像光学器械は、例えば、フラットパネルディスプレイの生産に関して用いられる。最初に言及した型の結像光学器械は、US6、512、573B2から公知である。Wynne−Dyson型の結像光学器械は、US2004/0001191A1から公知である。他の結像光学器械は、US5、078、502及びUS2005/0237505A1から公知である。   Such imaging optics are used, for example, for the production of flat panel displays. An imaging optical instrument of the type mentioned at the beginning is known from US 6,512,573 B2. A Wynne-Dyson type imaging optical instrument is known from US 2004/0001191 A1. Other imaging optics are known from US 5,078,502 and US 2005/0237505 A1.

US6、512、573B2US6, 512, 573B2 US2004/0001191A1US2004 / 0001191A1 US5、078、502US5, 078, 502 US2005/0237505A1US2005 / 0237505A1

本発明の目的は、非常に大きい光学面を有するミラーを含む必要がなく、及び/又は平面折り返しミラーを含む必要がないコンパクトな結像光学器械を開発することである。更に、本発明による結像光学器械を用いると、像収差の良好な制御が可能であるはずである。   An object of the present invention is to develop a compact imaging optic that does not need to include a mirror with a very large optical surface and / or does not need to include a planar folding mirror. Furthermore, good control of image aberration should be possible using the imaging optics according to the invention.

この目的は、請求項1に記載の結像光学器械、及び請求項20に記載の結像光学器械によって達成される。
請求項1に記載の結像光学器械は、偶数回の反射により、対物面と像面の自動的な分離をもたらす。公知の設計においてそのような分離に用いられる平面折り返しミラーは、省略することができる。
請求項2に記載の4ミラー光学器械は、反射回数の好ましい低減をもたらす。例えば、US2004/0001191A1による2つの折り返しミラーを有するWynne−Dyson設計では、5回の反射が必要である。
This object is achieved by an imaging optical instrument according to claim 1 and an imaging optical instrument according to claim 20.
The imaging optics according to claim 1 provides an automatic separation of the object plane and the image plane by an even number of reflections. Planar folding mirrors used for such separation in known designs can be omitted.
The four-mirror optical instrument according to claim 2 provides a favorable reduction in the number of reflections. For example, in a Wynne-Dyson design with two folding mirrors according to US 2004/0001191 A1, five reflections are required.

請求項3に記載の設計は、最も大きいミラーの製造に関するコストの低減をもたらす。
相応の利点は、請求項4の設計に対しても成り立つ。
請求項5から請求項7に記載の設計は、良好な収差制御の可能性を与える。
特定の視野高さが与えられると、請求項8の設計は、小さいミラーを有利に用いる。最も大きい光学構成要素の最大光学面寸法は、特に、最大視野寸法の1.4倍よりも小さく、1.3倍よりも小さく、1.2倍よりも小さく、又は更に1.15倍よりも小さいものとすることができる。
The design as claimed in claim 3 results in a reduction in costs for the production of the largest mirror.
Corresponding advantages also hold for the design of claim 4.
The designs according to claims 5 to 7 give the possibility of good aberration control.
Given a specific field height, the design of claim 8 advantageously uses small mirrors. The largest optical surface dimension of the largest optical component is in particular less than 1.4 times the largest field dimension, less than 1.3 times, less than 1.2 times, or even more than 1.15 times. It can be small.

請求項9に記載の作業距離は、物体、例えばマスクを保持する台、及び像担体、例えばフラットパネルディスプレイのための基板を保持する台に関する設置要件を緩和する。対物面と像面が光学構成要素に関して対向する側に位置する結像光学器械では、全トラック長は、これらの平面の間の距離であり、又はこれらの平面が平行ではない場合は、物体視野と像視野の間の距離である。対物面と像面が光学構成要素の同じ側に位置する結像光学器械では、全トラック長は、これらの平面の一方と最も遠くの光学構成要素との間の最大距離として定められる。   The working distance according to claim 9 relaxes the installation requirements for a table holding an object, for example a mask, and a table for holding a substrate for an image carrier, for example a flat panel display. For imaging optics where the object plane and image plane are located on opposite sides with respect to the optical component, the total track length is the distance between these planes, or the object field if these planes are not parallel And the distance between the image field. In imaging optics where the object plane and image plane are on the same side of the optical component, the total track length is defined as the maximum distance between one of these planes and the farthest optical component.

請求項10に記載の開口数は、良好な構造的像分解能を達成するのに役立つ。
請求項11に記載の結像光学器械は、色収差を回避する。
請求項12に記載の点対称設計は、両方とも結像光学器械に用いることができるミラー対を製造する可能性を与える。
請求項13に記載の2つの中間像面は、これらの像面の少なくとも一方に位置する要素を通じて像視野の大きさ及び形状の付加的な制御の可能性を与える。
The numerical aperture according to claim 10 helps to achieve good structural image resolution.
The imaging optical instrument according to claim 11 avoids chromatic aberration.
The point-symmetric design according to claim 12 offers the possibility of producing mirror pairs, both of which can be used in imaging optics.
The two intermediate image planes according to claim 13 give the possibility of additional control of the size and shape of the image field through elements located in at least one of these image planes.

請求項14に記載の視野半径を有する像視野は、結像される複数のダイを一度に用いることを可能にする。本発明による像環状視野半径は、更に大きいものとすることができ、500mmの範囲のものとすることができる。
請求項15に記載の非対称設計は、一方で物体側、更に他方で像側における独立した収差制御の可能性を提供する。
請求項16に記載の中間像面の利点は、請求項13のものに対応する。
請求項17に記載の瞳ミラーは、瞳補正及び従って照明角度分散の補正の可能性を与える。瞳ミラーの瞳面までの距離は、50mmよりも小さく、又は10mmよりも小さいものとすることができる。
An image field having a field radius according to claim 14 makes it possible to use a plurality of dies to be imaged at once. The image ring field radius according to the invention can be even larger, in the range of 500 mm.
The asymmetric design according to claim 15 offers the possibility of independent aberration control on the object side on the one hand and on the image side on the other hand.
The advantage of the intermediate image plane according to claim 16 corresponds to that of claim 13.
The pupil mirror according to claim 17 provides the possibility of pupil correction and thus correction of illumination angle dispersion. The distance to the pupil plane of the pupil mirror can be less than 50 mm or less than 10 mm.

多くの場合に、瞳ミラーは、結像光学器械の設計の最も大きいミラーである。瞳ミラーが極めて大きい公知のWynne−Dyson手法では、これは明らかに真である。これらの公知の設計と比較すると、請求項18に記載の瞳ミラー寸法は、比較的低コストで製造することができる。更に、瞳ミラーの光学面の最大標準寸法は、最大視野寸法の0.7倍よりも大きくなく、0.5倍よりも大きくなく、更には0.4倍よりも大きくないものとすることができる。
請求項19に記載の非球面瞳ミラーは、良好な収差制御をもたらす。
In many cases, the pupil mirror is the largest mirror in the design of the imaging optics. This is clearly true in the known Wynne-Dyson approach where the pupil mirror is very large. Compared to these known designs, the pupil mirror dimensions according to claim 18 can be produced at a relatively low cost. Further, the maximum standard size of the optical surface of the pupil mirror may not be greater than 0.7 times the maximum field size, not greater than 0.5 times, and even not greater than 0.4 times. it can.
The aspherical pupil mirror according to claim 19 provides good aberration control.

請求項20に記載の結像光学器械の視野に関連した対は、比較的小さい光学面の大きさを有するミラーを用いる可能性を与える。本発明による視野関連ミラー対は、ビーム経路に関して視野平面、特に結像光学器械の対物面又は像面の次のミラーであるミラー対であり、このミラー対は、関連視野から、結像光学器械の全トラック長の60%よりも小さい距離のところに配列される。そのような視野関連ミラー対は、結像光学器械の製造コストを低減する。これらの結像光学器械設計では、結像光のビーム経路が対物面及び像面を横断する場所が、一方においては物体視野のみ、他方においては像視野のみであるという事実に起因して、そのような結像光学器械の統合は、物体及び基板を保持及び/又は平行移動するための構成要素が結像光学器械の光学構成要素と干渉しないところで可能である。そのような干渉は、US2005/0237505A1の実施形態に関する場合であると考えられる。視野対面ミラーを有するミラー対の関連視野からの距離は、結像光学器械の全トラック長の50%よりも小さく、40%よりも小さく、30%よりも小さく、20%よりも小さく、又は10%よりも小さいものとすることができる。ミラー結像光学器械のある一定の実施形態に関して、共通光軸を定めることができ、ミラーのそれぞれの反射面の全ての対称中心は、この光軸上に位置する。視野対面ミラーを有するミラー対を形成するミラーは、両方のミラーの用いられる反射面がこの光軸の同じ側に位置し、すなわち、視野関連ミラー対を形成するこれらの2つのミラーの間のビーム経路内で光軸を横断する結像光線が存在しないように設計することができる。   The pair associated with the field of view of the imaging optics according to claim 20 gives the possibility to use mirrors with relatively small optical surface dimensions. A field-related mirror pair according to the invention is a mirror pair that is the next mirror of the field plane, in particular the object plane or image plane of the imaging optic with respect to the beam path, which mirror pair is Are arranged at a distance smaller than 60% of the total track length. Such a field-related mirror pair reduces the manufacturing costs of the imaging optics. In these imaging optics designs, due to the fact that the beam path of the imaging light traverses the object plane and the image plane is on the one hand only the object field and on the other hand only the image field. Such integration of imaging optics is possible where components for holding and / or translating objects and substrates do not interfere with the optical components of the imaging optics. Such interference is considered to be the case for the embodiment of US2005 / 0237505A1. The distance from the associated field of view of the mirror pair with field facing mirror is less than 50%, less than 40%, less than 30%, less than 20% or 10% of the total track length of the imaging optics. % Can be smaller. For certain embodiments of the mirror imaging optics, a common optical axis can be defined, and all the centers of symmetry of each reflective surface of the mirror are located on this optical axis. The mirrors forming a mirror pair with field-facing mirrors are such that the used reflective surface of both mirrors is located on the same side of this optical axis, ie the beam between these two mirrors forming a field-related mirror pair. It can be designed such that there are no imaging rays traversing the optical axis in the path.

請求項21から請求項25の主題の利点は、請求項3から請求項7のものに対応する。
請求項26及び請求項27に記載の物体視野関連の対、並びに請求項29及び請求項30に記載の像視野関連の対は、これらに続く結像光学器械の光学構成要素の大きさを縮小するのに役立つ。物体関連のミラー対の最初のミラーは、600mmよりも小さい焦点距離を有することができる。像関連のミラー対の最後のミラーは、600mmよりも小さい焦点距離を有することができる。
The advantages of the subject matter of claims 21 to 25 correspond to those of claims 3 to 7.
An object field-related pair according to claim 26 and claim 27 and an image field-related pair according to claim 29 and claim 30 reduce the size of the optical components of the imaging optics that follow them. To help. The first mirror of the object-related mirror pair can have a focal length of less than 600 mm. The last mirror of the image-related mirror pair can have a focal length of less than 600 mm.

請求項28の主題の利点は、請求項3及び請求項4のものに対応する。
請求項31の主題の利点は、請求項3及び請求項4のものに対応する。
大きい視野高さが与えられる場合には、請求項32に記載の設計は、コンパクトである。
請求項33の主題の利点は、請求項8のものに対応する。
請求項34の主題の利点は、請求項9のものに対応する。
請求項35及び請求項36の主題の利点は、請求項10及び請求項11のものに対応する。
The advantages of the subject matter of claim 28 correspond to those of claims 3 and 4.
The advantages of the subject matter of claim 31 correspond to those of claims 3 and 4.
Given the large field height, the design of claim 32 is compact.
The advantages of the subject matter of claim 33 correspond to those of claim 8.
The advantages of the subject matter of claim 34 correspond to those of claim 9.
The advantages of the subject matter of claims 35 and 36 correspond to those of claims 10 and 11.

請求項37に記載の瞳面に近い屈折要素の群は、結像光学器械の高感度瞳制御の可能性を与える。これは、請求項39の主題において特に成り立つ。
請求項40から請求項42の主題の利点は、請求項17から請求項19のものに対応する。
請求項43及び請求項44に記載の設計は、対称な設置の可能性を与える。
請求項45に記載の対称設計は、請求項12に記載の対称設計のものに対応する利点を有する。
The group of refractive elements close to the pupil plane according to claim 37 gives the possibility of sensitive pupil control of the imaging optics. This is particularly true in the subject matter of claim 39.
Advantages of the subject matter of claims 40 to 42 correspond to those of claims 17 to 19.
The designs according to claims 43 and 44 provide the possibility of symmetrical installation.
The symmetrical design according to claim 45 has advantages corresponding to those of the symmetrical design according to claim 12.

請求項46に記載の偶数回の反射は、折り返しミラーの必要なく、物体と像の自動的な分離をもたらす。
請求項47に記載の倍率は、結像される非常に大きい物体に対する必要性を省く。
請求項48に記載の投影露光装置の利点は、請求項1から請求項47に記載の結像光学器械に関して上述したものに対応する。
これより本発明の例示的な実施形態を図面を参照して説明する。これらは、以下に示されている。
The even number of reflections according to claim 46 provides an automatic separation of the object and the image without the need for a folding mirror.
The magnification according to claim 47 eliminates the need for very large objects to be imaged.
The advantages of the projection exposure apparatus according to claim 48 correspond to those described above with respect to the imaging optics according to claims 1 to 47.
An exemplary embodiment of the present invention will now be described with reference to the drawings. These are shown below.

結像光学器械を有するフラットパネルディスプレイの製造のための投影露光装置の略側立面図である。1 is a schematic side elevational view of a projection exposure apparatus for the manufacture of a flat panel display with imaging optics. 子午断面内に示す図1の投影露光装置において用いることができる結像光学器械の実施形態の図である。FIG. 2 is a diagram of an embodiment of an imaging optics that can be used in the projection exposure apparatus of FIG. 1 shown in a meridional section. 子午断面内に示す図1の投影露光装置において用いることができる結像光学器械の別の実施形態の図である。FIG. 6 is a diagram of another embodiment of an imaging optic that can be used in the projection exposure apparatus of FIG. 1 shown in a meridional section. 子午断面内に示す図1の投影露光装置において用いることができる結像光学器械の別の実施形態の図である。FIG. 6 is a diagram of another embodiment of an imaging optic that can be used in the projection exposure apparatus of FIG. 1 shown in a meridional section. 図4の結像光学器械の走査を行うスリット像視野及び走査される4つの基板ダイの平面図である。FIG. 5 is a plan view of a slit image field for scanning of the imaging optics of FIG. 4 and four substrate dies scanned. 子午断面内に示す図1の投影露光装置において用いることができる結像光学器械の別の実施形態の図である。FIG. 6 is a diagram of another embodiment of an imaging optic that can be used in the projection exposure apparatus of FIG. 1 shown in a meridional section. 子午断面内に示す図1の投影露光装置において用いることができる結像光学器械の別の実施形態の図である。FIG. 6 is a diagram of another embodiment of an imaging optic that can be used in the projection exposure apparatus of FIG. 1 shown in a meridional section. 図7の結像光学器械の走査を行うスリット像視野の平面図である。It is a top view of the slit image field which scans the imaging optical instrument of FIG. 子午断面内に示す図1の投影露光装置において用いることができる結像光学器械の別の実施形態の図である。FIG. 6 is a diagram of another embodiment of an imaging optic that can be used in the projection exposure apparatus of FIG. 1 shown in a meridional section. 子午断面内に示す図1の投影露光装置において用いることができる結像光学器械の別の実施形態の図である。FIG. 6 is a diagram of another embodiment of an imaging optic that can be used in the projection exposure apparatus of FIG. 1 shown in a meridional section. 子午断面内に示す図1の投影露光装置において用いることができる結像光学器械の別の実施形態の図である。FIG. 6 is a diagram of another embodiment of an imaging optic that can be used in the projection exposure apparatus of FIG. 1 shown in a meridional section. 子午断面内に示す図1の投影露光装置において用いることができる結像光学器械の別の実施形態の図である。FIG. 6 is a diagram of another embodiment of an imaging optic that can be used in the projection exposure apparatus of FIG. 1 shown in a meridional section. 像視野の外形及びそれに対応する標準寸法を示す物体視野の概略平面図である。It is a schematic plan view of the object field showing the outer shape of the image field and the corresponding standard dimensions.

図面に対する構成要素の相対位置を示すために、直交xyz−座標系を用いる。図1では、x軸は、水平に左に向いている。y軸は、作図面に対して垂直であり、閲覧者から作図面に向いている。図1では、z軸は垂直に下に向いている。
投影露光装置1は、対物面3内の物体視野を照明するための照明システム2を含む。物体視野は、部分環又はピッチ円視野であり、これに対しては、下記により詳細に説明する。投影露光装置1は、走査システムである。投影露光装置1によって結像されることになる構造を保持するマスク4は、物体視野を通じて走査される。図1では、走査方向は、y軸に対して平行である。マスク4は、マスク台7の横方向の保持構成要素5、6の間に保持される。投影露光装置1のフラットパネルディスプレイ製造用途では、物体視野は、走査方向に対して垂直な寸法に数十又は数百ミリメートルの標準幅を有する。走査方向に対して平行に、物体視野は、数ミリメートルの標準スリット幅を有する。
An orthogonal xyz-coordinate system is used to indicate the relative positions of the components with respect to the drawing. In FIG. 1, the x-axis is horizontally directed to the left. The y-axis is perpendicular to the drawing and faces the drawing from the viewer. In FIG. 1, the z-axis is vertically downward.
The projection exposure apparatus 1 includes an illumination system 2 for illuminating an object field in the object plane 3. The object field is a partial ring or pitch circle field, which will be described in more detail below. The projection exposure apparatus 1 is a scanning system. The mask 4 holding the structure to be imaged by the projection exposure apparatus 1 is scanned through the object field. In FIG. 1, the scanning direction is parallel to the y-axis. The mask 4 is held between horizontal holding components 5, 6 of the mask table 7. In the flat panel display manufacturing application of the projection exposure apparatus 1, the object field has a standard width of tens or hundreds of millimeters in a dimension perpendicular to the scanning direction. Parallel to the scanning direction, the object field has a standard slit width of a few millimeters.

結像光学器械8により、対物面3内の物体視野は、像面9内の像視野内に結像される。図1は、2の倍率βを有する結像光学器械8を略示している。下記に説明するように、この倍率は、例えば1と3の間の範囲で異なる値を有することができる。
像面9内では、投影露光装置1の結像光に敏感なコーティングを有するフラットパネルディスプレイのための基板11の表面10が、y軸に対して平行に、すなわち、マスク4の走査方向に対して平行に走査される。基板11は、基板台12上に保持される。
投影露光装置1は、投影露光装置の線状アレイの一部とすることができ、これに対しては、US6、512、573B2に詳細に説明されている。
The object field in the object plane 3 is imaged in the image field in the image plane 9 by the imaging optics 8. FIG. 1 schematically shows an imaging optics 8 having a magnification β of 2. As explained below, this magnification can have different values, for example in the range between 1 and 3.
Within the image plane 9, the surface 10 of the substrate 11 for a flat panel display having a coating sensitive to the imaging light of the projection exposure apparatus 1 is parallel to the y-axis, ie to the scanning direction of the mask 4. Are scanned in parallel. The substrate 11 is held on the substrate table 12.
The projection exposure apparatus 1 can be part of a linear array of projection exposure apparatuses, which are described in detail in US Pat. No. 6,512,573 B2.

図2は、投影露光装置1において用いることができる結像光学器械13の例を示している。図1に示している結像光学器械8とは対照的に、結像光学器械13は、1の倍率βを有する。結像光学器械13は、物体視野14から始まるミラーM1、M2、M3、及びM4を含むミラー配列を有する。従って、結像光学器械13は、4つのミラーM1からM4を有する。図2に5つの代表的な結像光線16を含む束として示している結像光15は、偶数回の反射を受ける。
結像光学器械13は、開口数0.10を有する。
物体視野14及びそれに対応する像視野17は、500mmの半径及び数ミリメートル、例えば、1mm、2mm、3mmのスリット幅を有するピッチ円の形状を有する。
FIG. 2 shows an example of an imaging optical instrument 13 that can be used in the projection exposure apparatus 1. In contrast to the imaging optics 8 shown in FIG. 1, the imaging optics 13 has a magnification β of 1. The imaging optics 13 has a mirror array including mirrors M1, M2, M3, and M4 starting from the object field 14. Accordingly, the imaging optical instrument 13 has four mirrors M1 to M4. The imaging light 15 shown in FIG. 2 as a bundle containing five representative imaging rays 16 is subjected to an even number of reflections.
The imaging optical instrument 13 has a numerical aperture of 0.10.
The object field 14 and the corresponding image field 17 have the shape of a pitch circle having a radius of 500 mm and a slit width of several millimeters, for example 1 mm, 2 mm, 3 mm.

全てのミラーM1からM4は、湾曲反射面を有する。ミラーM1及びM4は、凹ミラーである。ミラーM2及びM3は、凸ミラーである。全てのミラーM1からM4は、非球面ミラーである。これらの非球面ミラーは、1つのパラメータだけに依存し、すなわち、光軸までの距離rに依存する数学的定義、すなわち、非球面公式に従う母表面の一部として説明することができる反射面を有する。従って、ミラーM1からM4は、回転対称非球面ミラーである。代替的に、ミラーM1からM4のうちで選択されたミラー又はこれらのミラーの全てを回転非対称非球面ミラー、すなわち、1つよりも多くのパラメータに依存する自由形状表面とすることができる。   All the mirrors M1 to M4 have a curved reflecting surface. The mirrors M1 and M4 are concave mirrors. The mirrors M2 and M3 are convex mirrors. All the mirrors M1 to M4 are aspherical mirrors. These aspheric mirrors depend on only one parameter, ie a mathematical definition that depends on the distance r to the optical axis, ie a reflective surface that can be described as part of the mother surface according to the aspheric formula. Have. Therefore, the mirrors M1 to M4 are rotationally symmetric aspherical mirrors. Alternatively, the mirror selected from mirrors M1 to M4 or all of these mirrors can be rotationally asymmetric aspherical mirrors, ie free-form surfaces that depend on more than one parameter.

図13は、物体視野14、及び大きさのみが異なり、形状は異ならない像視野17の外形を示している。視野14、17のx寸法をS(x)で表している。y寸法をS(y)で表している。
物体視野14及び像視野17は、ほぼ半円形状を有する。従って、x方向に沿って測定された光学視野14及び像視野17の最大視野寸法は、視野半径Rと同程度、すなわち、500mmと同程度である。
ミラーM1及びM4の最大光学面寸法Dx、Dyは、このx方向の最大視野寸法S(x)の1.5倍よりも小さい。寸法Dx、Dyを図13及びそれに続く表に関して下記に定める。
FIG. 13 shows the outer shape of the object field 14 and the image field 17 that differs only in size but not in shape. The x dimension of the visual fields 14 and 17 is represented by S (x). The y dimension is represented by S (y).
The object field 14 and the image field 17 have a substantially semicircular shape. Therefore, the maximum field size of the optical field 14 and the image field 17 measured along the x direction is about the same as the field radius R, that is, about 500 mm.
The maximum optical surface dimensions Dx and Dy of the mirrors M1 and M4 are smaller than 1.5 times the maximum field size S (x) in the x direction. Dimensions Dx and Dy are defined below with respect to FIG. 13 and the following table.

図2、3、4、6、7、9、10、11、及び12による結像光学器械実施形態のミラーは、結像光15が当たるこれらのミラーの光学面の寸法を意味する受光域寸法Dx、Dyを有する。これらのそれぞれの受光域寸法をDx及びDyで表している。Dxは、xz面に対して平行に測定されるそれぞれのミラーの受光域寸法である。受光域寸法Dyは、これらの図内に示している子午面、すなわち、y−z面内で測定される受光域寸法である。図2、3、4、6、7、9、10、11、12には、受光域寸法Dyの例を提供している。   2, 3, 4, 6, 7, 9, 10, 11, and 12, the mirrors of the imaging optical instrument embodiment have light receiving area dimensions that mean the dimensions of the optical surfaces of these mirrors that the imaging light 15 strikes. Dx, Dy. The respective light receiving area dimensions are represented by Dx and Dy. Dx is the light receiving area dimension of each mirror measured in parallel to the xz plane. The light receiving area dimension Dy is a light receiving area dimension measured in the meridian plane shown in these drawings, that is, in the yz plane. 2, 3, 4, 6, 7, 9, 10, 11, and 12 provide examples of the light receiving area dimension Dy.

以下の表は、図2、3、4、6、7、8、10、11、及び12の結像光学器械の実施形態のミラーに対して、像視野17における寸法R、S(y)及びS(x)、並びに受光域寸法Dy、Dxも示している。   The following table shows the dimensions R, S (y) and image field 17 for the mirrors of the imaging optics embodiment of FIGS. 2, 3, 4, 6, 7, 8, 10, 11, and 12: S (x) and the light receiving area dimensions Dy and Dx are also shown.

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

結像光学器械13は、2、000mmのトラック長、すなわち、対物面3と像面9の間の距離を有する。像面9と、それに隣接する最も近いミラーM1の光学面との間の作業距離Wは、約800mmであり、従って、結像光学器械13の全トラック長Tの約40%である。
結像光学器械13では、結像光15は、反射手段だけにより、すなわち、ミラーM1からM4だけによって誘導される。
The imaging optics 13 has a track length of 2,000 mm, i.e. a distance between the object plane 3 and the image plane 9. The working distance W between the image plane 9 and the optical surface of the nearest mirror M1 adjacent to it is about 800 mm and is therefore about 40% of the total track length T of the imaging optical instrument 13.
In the imaging optics 13, the imaging light 15 is guided only by reflecting means, i.e. only by the mirrors M1 to M4.

結像光学器械13では、光学構成要素、すなわち、ミラーM1からM4の配列、結像光15の誘導は、中心主光線16cの中間点に関して点対称である。この中間点Pは、物体視野14から始まって像視野17で終わるこの中心主光線16cの結像光学器械13の光路の半分に達する点によって定められる。また、中間点Pは、結像光学器械13の瞳面内に位置する。この点対称性により、一方でミラーM1とM4、他方でミラーM2とM3が等しい光学面を有する。中間点Pは、xz−ミラー面MPを定める。図2の子午断面内では、ミラーM1及びM2は、ミラー面MPより上に位置し、ミラーM3及びM4は、このミラー面MPより下に位置する。
結像光学器械13は、テレセントリックである。結像光学器械13の対称性により、このテレセントリック性は、結像光学器械13の物体側と像側の両方で成り立つ。
結像光学器械13では、物体視野14と像視野17は、付加的な折り返しミラーを採用せずに分離することができる。
In the imaging optical instrument 13, the optical components, i.e. the arrangement of the mirrors M1 to M4, the guiding of the imaging light 15 are point symmetric with respect to the midpoint of the central principal ray 16c. This intermediate point P is defined by the point reaching half of the optical path of the imaging optical instrument 13 of this central principal ray 16c starting at the object field 14 and ending at the image field 17. The intermediate point P is located in the pupil plane of the imaging optical instrument 13. Due to this point symmetry, the mirrors M1 and M4 on the one hand and the mirrors M2 and M3 on the other hand have equal optical surfaces. The intermediate point P defines the xz-mirror surface MP. In the meridional section of FIG. 2, the mirrors M1 and M2 are located above the mirror surface MP, and the mirrors M3 and M4 are located below the mirror surface MP.
The imaging optical instrument 13 is telecentric. Due to the symmetry of the imaging optical instrument 13, this telecentricity is established on both the object side and the image side of the imaging optical instrument 13.
In the imaging optics 13, the object field 14 and the image field 17 can be separated without employing an additional folding mirror.

以下に続く2つの表は、結像光学器械13の設計パラメータを示している。「半径」(r)は、それぞれの表面の曲率の逆数値を意味する。「厚み」は、問題とする表面のそれに続く表面までのミリメートルでの距離を意味する。「モードREFL」は、それぞれの表面が反射ミラー表面であることを意味する。係数K、A、B、C、D、E、F、及びGは、次の非球面公式の係数である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)22)]+A*4+B*6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.1;|β|=1.0
The following two tables show the design parameters of the imaging optics 13. “Radius” (r) means the reciprocal value of the curvature of each surface. “Thickness” means the distance in millimeters of the surface in question to the subsequent surface. “Mode REFL” means that each surface is a reflecting mirror surface. The coefficients K, A, B, C, D, E, F, and G are coefficients of the following aspheric formula.
p (h) = [((1 / r) h 2 ) / (1 + SQRT (1− (1 + K) (1 / r) 2 h 2 )] + A * h 4 + B * h 6 +.
p (h) represents the sagittal or rising height in the z direction of each surface. h 2 = x 2 + y 2
NA = 0.1; | β | = 1.0

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

図3は、投影露光装置1において用いることができる別の実施形態の結像光学器械18を示している。これまでに解説した結像光学器械に関して既に説明したこの結像光学器械の構成要素は、同じ参照番号を有し、再度詳細に説明しないことにする。
結像光学器械18も同様に、1の倍率βを有する。結像光学器械18は、物体視野14から始まって光路内で連続して番号が振られた6つのミラーM1、M2、M3、M4、M5、及びM6を有する。従って、結像光学器械18においても、結像光15は、偶数回の反射を受ける。全てのミラーM1からM6は、湾曲反射面を有する。ミラーM1及びM6は、凹面である。ミラーM2及びM5は、凸面である。ミラーM1及びM6は、球面反射面を有し、すなわち、球面ミラーである。全ての他のミラーM2からM5は、回転対称非球面ミラーである。
FIG. 3 shows another embodiment of the imaging optics 18 that can be used in the projection exposure apparatus 1. The components of this imaging optic already described with respect to the imaging optic described so far have the same reference numerals and will not be described again in detail.
The imaging optics 18 likewise has a magnification β of 1. The imaging optics 18 has six mirrors M1, M2, M3, M4, M5 and M6, which are numbered sequentially in the optical path starting from the object field 14. Therefore, also in the imaging optical instrument 18, the imaging light 15 receives an even number of reflections. All the mirrors M1 to M6 have a curved reflecting surface. The mirrors M1 and M6 are concave surfaces. The mirrors M2 and M5 are convex surfaces. The mirrors M1 and M6 have a spherical reflecting surface, that is, a spherical mirror. All other mirrors M2 to M5 are rotationally symmetric aspherical mirrors.

結像光学器械18も同様に、中間点Pに関して点対称である。図3の子午断面では、ミラーM1からM3は、ミラー面MPより上に位置する。ミラーM4からM6は、ミラー面MPよりも下に位置する。
ミラーM1及びM6の最大光学面寸法Dは、それぞれ333mmである。
結像光学器械18は、約2、500mmの全トラック長Tを有する。像面9と、それに隣接する最も近いミラーM3との間の作業距離Wは、約970mmである。従って、作業距離Wは、結像光学器械18の全トラック長Tの約40%である。
結像光学器械18では、結像光15は、反射手段だけによって誘導される。
Similarly, the imaging optical instrument 18 is point-symmetric with respect to the intermediate point P. In the meridional section of FIG. 3, the mirrors M1 to M3 are located above the mirror surface MP. The mirrors M4 to M6 are located below the mirror surface MP.
The maximum optical surface dimensions D of the mirrors M1 and M6 are 333 mm, respectively.
The imaging optics 18 has a total track length T of about 2,500 mm. The working distance W between the image plane 9 and the nearest mirror M3 adjacent to it is about 970 mm. Therefore, the working distance W is about 40% of the total track length T of the imaging optical instrument 18.
In the imaging optical instrument 18, the imaging light 15 is guided only by reflecting means.

以下に続く2つの表は、結像光学器械13の設計パラメータを示している。「半径」(r)は、それぞれの表面の曲率の逆数値を意味する。「厚み」は、問題とする表面のそれに続く表面までのミリメートルでの距離を意味する。「モードREFL」は、それぞれの表面が反射ミラー表面であることを意味する。係数K、A、B、C、D、E、F、及びGは、次の非球面公式の係数である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)22)]+A*4+B*6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.1;|β|=1.0
The following two tables show the design parameters of the imaging optics 13. “Radius” (r) means the reciprocal value of the curvature of each surface. “Thickness” means the distance in millimeters of the surface in question to the subsequent surface. “Mode REFL” means that each surface is a reflecting mirror surface. The coefficients K, A, B, C, D, E, F, and G are coefficients of the following aspheric formula.
p (h) = [((1 / r) h 2 ) / (1 + SQRT (1− (1 + K) (1 / r) 2 h 2 )] + A * h 4 + B * h 6 +.
p (h) represents the sagittal or rising height in the z direction of each surface. h 2 = x 2 + y 2
NA = 0.1; | β | = 1.0

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

図4は、結像光学器械の別の実施形態を示している。これまでに解説した結像光学器械に関して既に説明したこの結像光学器械の構成要素は、同じ参照番号を有し、再度詳細に説明しないことにする。
結像光学器械(19)は、1の倍率βを有する。結像光学器械19は、物体視野14から始まって結像光15の光路に従って連続して番号が振られた8つのミラーM1、M2、M3、M4、M5、M6、M7、及びM8を有する。
FIG. 4 shows another embodiment of the imaging optics. The components of this imaging optic already described with respect to the imaging optic described so far have the same reference numerals and will not be described again in detail.
The imaging optics (19) has a magnification β of 1. The imaging optical instrument 19 has eight mirrors M1, M2, M3, M4, M5, M6, M7 and M8, which are numbered sequentially according to the optical path of the imaging light 15 starting from the object field 14.

図4では、結像光15の光路を物体点20、21から始まる2つの光線束16を用いて例示しており、これらの物体点20、21のy−方向の距離は、物体視野14のスリット幅に対応する。これらの物体点20、21の各々から、物体視野14の10個の異なる照明角度を表す10個の光線16が始まる。
結像光学器械19では、ミラーM1からM8の配列は、結像光15が、偶数回の反射を受けるようなものである。
In FIG. 4, the optical path of the imaging light 15 is illustrated using two light bundles 16 starting from the object points 20 and 21, and the distance in the y-direction of these object points 20 and 21 is Corresponds to the slit width. From each of these object points 20, 21 begins 10 rays 16 representing 10 different illumination angles of the object field 14.
In the imaging optical instrument 19, the arrangement of the mirrors M1 to M8 is such that the imaging light 15 receives an even number of reflections.

ミラーM1からM8の全ては、湾曲反射面を有する。
結像光学器械18では、ミラーM1及びM6は、最も大きい最大光学面寸法を有する。
全てのミラーM1からM8は、回転対称非球面ミラーである。
ミラーM1とミラーM2の間の光路には、瞳面22が配列される。この面は、必ずしも平面である必要はなく、湾曲面とすることができる。
ミラーM2とミラーM3の間の光路には、中間像面23が配列される。また中間像面23も同様に、必ずしも平面である必要はなく、湾曲面とすることができる。
All of the mirrors M1 to M8 have a curved reflecting surface.
In imaging optics 18, mirrors M1 and M6 have the largest maximum optical surface dimensions.
All the mirrors M1 to M8 are rotationally symmetric aspherical mirrors.
A pupil plane 22 is arranged in the optical path between the mirror M1 and the mirror M2. This surface does not necessarily have to be a flat surface and can be a curved surface.
An intermediate image plane 23 is arranged in the optical path between the mirror M2 and the mirror M3. Similarly, the intermediate image surface 23 is not necessarily a flat surface, and can be a curved surface.

ミラーM1からM8の配列も同様に、中間点Pに関して点対称である。この中間点Pは、xzミラー面MP上に位置し、更にxy面である別の瞳平面24上にも位置する。図4に示している子午断面では、ミラーM1の大部分及びミラーM5からM7は、ミラー面MPよりも上に位置する。この子午断面では、ミラーM2からM4及びミラーM8の大部分は、ミラー面MPよりも下に位置する。ミラーM1、M3、M6、及びM8は、凹面である。ミラーM2、M4、M5、及びM7は、凸面である。   The arrangement of the mirrors M1 to M8 is also point symmetric with respect to the intermediate point P. This intermediate point P is located on the xz mirror plane MP, and is also located on another pupil plane 24 that is the xy plane. In the meridional section shown in FIG. 4, most of the mirror M1 and the mirrors M5 to M7 are located above the mirror surface MP. In this meridional section, most of the mirrors M2 to M4 and the mirror M8 are located below the mirror surface MP. The mirrors M1, M3, M6, and M8 are concave. The mirrors M2, M4, M5, and M7 are convex surfaces.

結像光学器械19の点対称により、別の中間像面25は、ミラーM6とミラーM7の間の光路内に位置する。同様に、別の瞳面26は、ミラーM7とミラーM8の間の光路内に位置する。
結像光学器械19は、約1、000mmの全トラック長Tを有する。物体視野14の環状視野半径Rは、約50mmである。結像光学器械19による結像は、約1nmRMS(二乗平均平方根)の最大波面誤差で可能である。
結像光学器械19の開口数は、NA=0.3である。
Due to the point symmetry of the imaging optics 19, another intermediate image plane 25 is located in the optical path between the mirror M6 and the mirror M7. Similarly, another pupil plane 26 is located in the optical path between the mirror M7 and the mirror M8.
The imaging optics 19 has a total track length T of about 1,000 mm. An annular field radius R of the object field 14 is about 50 mm. Imaging with imaging optics 19 is possible with a maximum wavefront error of about 1 nm RMS (root mean square).
The numerical aperture of the imaging optical instrument 19 is NA = 0.3.

以下に続く2つの表は、結像光学器械19の設計パラメータを示している。「半径」(r)は、それぞれの表面の曲率の逆数値を意味する。「厚み」は、問題とする表面のそれに続く表面までのミリメートルでの距離を意味する。「モードREFL」は、それぞれの表面が反射ミラー表面であることを意味する。係数K、A、B、C、D、E、F、及びGは、次の非球面公式の係数である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)22)]+A*4+B*6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.3;|β|=1.0
The two tables that follow show the design parameters of the imaging optics 19. “Radius” (r) means the reciprocal value of the curvature of each surface. “Thickness” means the distance in millimeters of the surface in question to the subsequent surface. “Mode REFL” means that each surface is a reflecting mirror surface. The coefficients K, A, B, C, D, E, F, and G are coefficients of the following aspheric formula.
p (h) = [((1 / r) h 2 ) / (1 + SQRT (1− (1 + K) (1 / r) 2 h 2 )] + A * h 4 + B * h 6 +.
p (h) represents the sagittal or rising height in the z direction of each surface. h 2 = x 2 + y 2
NA = 0.3; | β | = 1.0

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

図5は、結像光学器械19の物体視野14を平面図で示している。約60mmの環状視野半径Rにより、物体視野14のx寸法、すなわち、走査方向に対して垂直な寸法は、約100mmである。従って、図5に示しているように、約25mmのx寸法を有する4つのマスク又はウェーハダイ4及びそれに応じて4つの基板11を並行して走査することができる。それによって単一のマスク4を走査することしかできない投影露光装置と比較して、それぞれの処理機能の改善がもたらされる。   FIG. 5 shows in plan view the object field 14 of the imaging optics 19. With an annular field radius R of about 60 mm, the x dimension of the object field 14, i.e. the dimension perpendicular to the scanning direction, is about 100 mm. Thus, as shown in FIG. 5, four masks or wafer dies 4 having an x dimension of about 25 mm and correspondingly four substrates 11 can be scanned in parallel. As a result, the respective processing functions are improved compared to a projection exposure apparatus which can only scan a single mask 4.

図6は、投影露光装置1において用いることができる別の実施形態の結像光学器械27を示している。これまでに解説した結像光学器械に関して既に説明したこの結像光学器械の構成要素は、同じ参照番号を有し、再度詳細に説明しないことにする。
結像光学器械27は、1の倍率βを有する。
結像光学器械27は、6つのミラー、すなわち、物体視野14から始まって光路に沿って連続して番号が振られたM1、M2、M3、M4、M5、及びM6を有する。2つの物体点20、21から始まる結像光15の光線16を図6に示している。各物体点20、21から、3つの異なる照明角度に応じて、3つの光線16が始まる。
FIG. 6 shows another embodiment of the imaging optical instrument 27 that can be used in the projection exposure apparatus 1. The components of this imaging optic already described with respect to the imaging optic described so far have the same reference numerals and will not be described again in detail.
The imaging optical instrument 27 has a magnification β of 1.
The imaging optics 27 has six mirrors, namely M1, M2, M3, M4, M5, and M6, which are numbered sequentially along the optical path starting from the object field 14. A ray 16 of the imaging light 15 starting from the two object points 20 and 21 is shown in FIG. From each object point 20, 21, three rays 16 begin according to three different illumination angles.

結像光学器械27は、結像光15が偶数回の反射を受けるようなミラー配列を有する。全てミラーのM1からM6は、光軸OAを定める湾曲反射面を有する。全てのミラーM1からM6は、非球面反射面を有する。
ミラーM1、M3、及びM6は、凹面である。ミラーM2、M4、及びM5は、凸面である。
結像光学器械27は、約1000mmの全トラック長Tを有する。像平面9と、それに隣接する最も近いミラーM5との間の作業距離Wは、約110mmである。従って、作業距離Wは、結像光学器械27の全トラック長Tの約10%である。
The imaging optical instrument 27 has a mirror array that allows the imaging light 15 to receive an even number of reflections. All mirrors M1 to M6 have curved reflective surfaces that define an optical axis OA. All the mirrors M1 to M6 have aspherical reflecting surfaces.
The mirrors M1, M3, and M6 are concave surfaces. The mirrors M2, M4, and M5 are convex surfaces.
The imaging optics 27 has a total track length T of about 1000 mm. The working distance W between the image plane 9 and the nearest mirror M5 adjacent to it is about 110 mm. Accordingly, the working distance W is about 10% of the total track length T of the imaging optical instrument 27.

結像光学器械27は、0.16の開口数を有する。
物体視野14及び像視野17は、両方ともに3mmの環幅を有する。
結像光学器械27の物体視野14及び像視野17の寸法は、図5に示している結像光学器械19の物体視野14の視野領域に対応する。
結像光学器械27の環状視野半径は55mmである。
結像光学器械27では、結像光15は、反射手段だけによって誘導される。
結像光学器械27における光学構成要素の配列は、点対称性又は図6の作図面である子午面以外のミラー面に対する鏡面対称性のいずれも持たず、従って、結像光15をもたらす光学構成要素の配列、すなわち、ミラーM1からM6の配列は、中心主光線の中間点Pに関して非対称である。
The imaging optics 27 has a numerical aperture of 0.16.
Both the object field 14 and the image field 17 have a ring width of 3 mm.
The dimensions of the object field 14 and the image field 17 of the imaging optical instrument 27 correspond to the field area of the object field 14 of the imaging optical instrument 19 shown in FIG.
The annular field radius of the imaging optical instrument 27 is 55 mm.
In the imaging optical instrument 27, the imaging light 15 is guided only by reflecting means.
The arrangement of the optical components in the imaging optical instrument 27 has neither point symmetry nor specular symmetry with respect to a mirror surface other than the meridian plane as drawn in FIG. The arrangement of elements, ie the arrangement of mirrors M1 to M6, is asymmetric with respect to the midpoint P of the central chief ray.

結像光学器械27は、ミラーM1とミラーM2の間に瞳面28を有する。結像光学器械27は、ミラーM2とミラーM3の間に中間像面29を有する。結像光学器械27は、隣接するミラーM5に別の瞳面30を有する。従って、ミラーM5は、結像光学器械27の瞳ミラーである。
瞳ミラーM5は、図6に示しているように、子午面に、物体視野14の最大視野寸法の65%である約65mmの最大標準寸法、及びx−方向に100mmの像視野17を有する。
結像光学器械27の別の実施形態では、ミラーM3は、凸面であり、ミラーM4は、凹面である。結像光学器械27のこの別の実施形態の全ての他の設計パラメータは、ほぼ同じに留まる。
The imaging optical instrument 27 has a pupil plane 28 between the mirror M1 and the mirror M2. The imaging optical instrument 27 has an intermediate image plane 29 between the mirror M2 and the mirror M3. The imaging optical instrument 27 has another pupil plane 30 on the adjacent mirror M5. Therefore, the mirror M5 is a pupil mirror of the imaging optical instrument 27.
The pupil mirror M5 has a maximum standard dimension of about 65 mm, which is 65% of the maximum field dimension of the object field 14, and an image field 17 of 100 mm in the x-direction on the meridian plane, as shown in FIG.
In another embodiment of the imaging optics 27, the mirror M3 is convex and the mirror M4 is concave. All other design parameters of this alternative embodiment of imaging optics 27 remain approximately the same.

以下に続く2つの表は、結像光学器械27の設計パラメータを示している。「半径」(r)は、それぞれの表面の曲率の逆数値を意味する。「厚み」は、問題とする表面のそれに続く表面までのミリメートルでの距離を意味する。「モードREFL」は、それぞれの表面が反射ミラー表面であることを意味する。係数K、A、B、C、D、E、F、及びGは、次の非球面公式の係数である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)22)]+A*4+B*6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.16;|β|=1.0
The following two tables show the design parameters of the imaging optics 27. “Radius” (r) means the reciprocal value of the curvature of each surface. “Thickness” means the distance in millimeters of the surface in question to the subsequent surface. “Mode REFL” means that each surface is a reflecting mirror surface. The coefficients K, A, B, C, D, E, F, and G are coefficients of the following aspheric formula.
p (h) = [((1 / r) h 2 ) / (1 + SQRT (1− (1 + K) (1 / r) 2 h 2 )] + A * h 4 + B * h 6 +.
p (h) represents the sagittal or rising height in the z direction of each surface. h 2 = x 2 + y 2
NA = 0.16; | β | = 1.0

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

図7は、投影露光装置1において用いることができる別の実施形態の結像光学器械31を示している。
結像光学器械31は、物体側及び結像側でテレセントリックである。
結像光学器械31は、物体視野14から始まって連続して番号が振られた5つのミラーM1、M2、M3、M4、M5を有する。全てのミラーM1からM5は、湾曲反射面を有する。ミラーM1及びM5は、凹面である。ミラーM2及びM4は、凸面である。
FIG. 7 shows an imaging optical instrument 31 of another embodiment that can be used in the projection exposure apparatus 1.
The imaging optical instrument 31 is telecentric on the object side and the imaging side.
The imaging optical instrument 31 has five mirrors M1, M2, M3, M4, M5 which are numbered consecutively starting from the object field 14. All the mirrors M1 to M5 have a curved reflecting surface. The mirrors M1 and M5 are concave surfaces. The mirrors M2 and M4 are convex surfaces.

結像光学器械31は、結像光15をもたらす2つの視野関連湾曲ミラー対35、36、すなわち、ミラーM1及びM2を含む第1の視野関連の対35、並びにミラーM4及びM5を含む第2の視野関連の対36を有する。これらの視野関連の対35、36の各々は、それぞれ、関連視野、すなわち、ミラー対35の場合は物体視野14、及びミラー対36の場合は像視野17から、約720mmである距離DPのところに配列された最初のミラー又は視野対面ミラーM1及びM5を有する。結像光学器械31の全トラック長T、すなわち、視野面14、16の一方と最も分離した光学構成要素であるミラーM3との間の最大距離は、約1、150mmである。ミラーM2、M4の視野面14、16までの作業距離Wは、約570mmであり、従って、結像光学器械の全トラック長Tの約50%である。
ミラーM1、M2、M4、及びM5は、球面ミラーである。ミラーM3は、非球面ミラーである。
Imaging optics 31 includes two field-related curved mirror pairs 35, 36 that provide imaging light 15, ie, a first field-related pair 35 that includes mirrors M1 and M2, and a second that includes mirrors M4 and M5. Field of view pairs 36. Each of these field-related pairs 35, 36 is a distance D P that is approximately 720 mm from the associated field, ie, object field 14 for mirror pair 35 and image field 17 for mirror pair 36, respectively. There are first mirrors or field facing mirrors M1 and M5 arranged there. The total track length T of the imaging optical instrument 31, that is, the maximum distance between one of the field planes 14 and 16 and the mirror M3, which is the most separated optical component, is about 1,150 mm. The working distance W to the field planes 14 and 16 of the mirrors M2 and M4 is about 570 mm, and therefore about 50% of the total track length T of the imaging optics.
The mirrors M1, M2, M4, and M5 are spherical mirrors. The mirror M3 is an aspherical mirror.

結像光学器械31の物体視野14及び像視野17の各々は、500mmの環状視野半径R及び10mmのスリット幅sを有するピッチ円形状を有する。結像光学器械31の物体視野14及び像視野17のx方向の最大視野寸法は、約850mmである。従って、結像光学器械31を用いると、非常に大きいマスク4及び/又は多数の並列レチクル又はダイ4を走査することができる。
物体視野14のこの大きいx寸法とトラック長Tとは、850対1、150の関係、すなわち、約0.74の関係を有する。従って、結像光学器械31は、その視野高さとの相関から非常にコンパクトである。
Each of the object field 14 and the image field 17 of the imaging optical instrument 31 has a pitch circle shape having an annular field radius R of 500 mm and a slit width s of 10 mm. The maximum field size in the x direction of the object field 14 and the image field 17 of the imaging optical instrument 31 is about 850 mm. Thus, with the imaging optics 31, a very large mask 4 and / or a large number of parallel reticles or dies 4 can be scanned.
This large x dimension of the object field 14 and the track length T have a relationship of 850 to 1,150, ie about 0.74. Therefore, the imaging optical instrument 31 is very compact due to its correlation with the field height.

図7の子午面では、最も大きいy寸法を有するミラーは、ミラーM3である。ミラーM3の光学面のこのy寸法は、約250mmである。この寸法は、物体視野14の最大x寸法の約29%である。
結像光学器械31は、0.12の開口数を有する。
結像光学器械31は、ミラーM3の光学面に対応する瞳面38の近くに屈折要素群37を有する。
この群37の焦点距離は、結像光学器械31のトラック長Tよりも大きい。
In the meridian plane of FIG. 7, the mirror having the largest y dimension is the mirror M3. This y dimension of the optical surface of the mirror M3 is about 250 mm. This dimension is about 29% of the maximum x dimension of the object field 14.
The imaging optical instrument 31 has a numerical aperture of 0.12.
The imaging optical instrument 31 has a refractive element group 37 near the pupil plane 38 corresponding to the optical surface of the mirror M3.
The focal length of this group 37 is larger than the track length T of the imaging optical instrument 31.

群37は、3つのレンズ39、40、41を含む。レンズ39は両凸である。レンズ39と41の間に位置するレンズ40は両凹である。レンズ41は、レンズ40とミラーM3の間に配列され、ミラーM3に非常の近く配列される。レンズ39のミラーM2及びM4に対面する表面は、非球面表面である。レンズ39から41の他の表面は球面である。
結像光学器械31は、1の倍率βを有する。
The group 37 includes three lenses 39, 40 and 41. The lens 39 is biconvex. The lens 40 located between the lenses 39 and 41 is biconcave. The lens 41 is arranged between the lens 40 and the mirror M3, and is arranged very close to the mirror M3. The surface of the lens 39 facing the mirrors M2 and M4 is an aspheric surface. The other surfaces of the lenses 39 to 41 are spherical.
The imaging optical instrument 31 has a magnification β of 1.

結像光学器械31の光学構成要素の配列は、対称面MPに関して鏡面対称である。この面MPは、対物面14に対して垂直であり、また、図7の作図面である子午面に対しても垂直である。この子午面は、結像光学器械31の結像光15の中心主光線16cの中間点Pを有する。この中間点Pは、ミラーM3の光学面の中心に配列される。結像光学器械31のこの鏡面対称性の結果として、一方でミラーM1及びM5と、他方でミラーM2及びM4とが等しい曲率を有する。また、ミラー面MPは、屈折群37の要素の中心を通る。
結像光学器械31のミラーM1の焦点距離は、608.6mmである。
図7に破線で示している2つの付加的な折り返しミラー41aを用いると、結像光学器械31を図1に実線で示している投影露光装置1内に収まるような方式で修正することができる。この場合には、対物面3及び像面9は、折り返しに起因して分離した平行な面として配列される。
The arrangement of the optical components of the imaging optical instrument 31 is mirror-symmetric with respect to the symmetry plane MP. This plane MP is perpendicular to the object plane 14 and also perpendicular to the meridian plane which is the drawing of FIG. This meridian plane has an intermediate point P of the central principal ray 16c of the imaging light 15 of the imaging optical instrument 31. This intermediate point P is arranged at the center of the optical surface of the mirror M3. As a result of this mirror symmetry of the imaging optics 31, the mirrors M1 and M5 on the one hand and the mirrors M2 and M4 on the other hand have equal curvature. The mirror surface MP passes through the center of the elements of the refraction group 37.
The focal length of the mirror M1 of the imaging optical instrument 31 is 608.6 mm.
If two additional folding mirrors 41a shown in broken lines in FIG. 7 are used, the imaging optical instrument 31 can be corrected in such a way as to fit within the projection exposure apparatus 1 shown in solid lines in FIG. . In this case, the object plane 3 and the image plane 9 are arranged as parallel planes separated due to folding.

以下に続く3つの表は、結像光学器械42の設計パラメータを示している。「半径」(r)は、それぞれの表面の曲率の逆数値を意味する。「厚み」は、問題とする表面のそれに続く表面までのミリメートルでの距離を意味する。「モードREFL」は、それぞれの表面が反射ミラー表面であることを意味する。係数K、A、B、C、D、E、F、及びGは、次の非球面公式の係数である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)22)]+A*4+B*6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
The following three tables show the design parameters of the imaging optics 42. “Radius” (r) means the reciprocal value of the curvature of each surface. “Thickness” means the distance in millimeters of the surface in question to the subsequent surface. “Mode REFL” means that each surface is a reflecting mirror surface. The coefficients K, A, B, C, D, E, F, and G are coefficients of the following aspheric formula.
p (h) = [((1 / r) h 2 ) / (1 + SQRT (1− (1 + K) (1 / r) 2 h 2 )] + A * h 4 + B * h 6 +.
p (h) represents the sagittal or rising height in the z direction of each surface. h 2 = x 2 + y 2

連続する第3の表は、レンズ39、40、41のガラス種類の屈折率を表す(連続する第1の表の「モード」と比較されたい)。連続する第1の表では、各レンズは、2つの表面、すなわち、入射表面及び出射表面によって特徴付けられる。
NA=0.12;|β|=1.0
The third consecutive table represents the refractive index of the glass type of the lenses 39, 40, 41 (compare the “mode” of the first continuous table). In the first continuous table, each lens is characterized by two surfaces: an entrance surface and an exit surface.
NA = 0.12; | β | = 1.0

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

図9は、図1に示している投影露光装置1において用いることができる別の実施形態の結像光学器械42を示している。これまでに解説した結像光学器械に関して既に説明したこの結像光学器械の構成要素は、同じ参照番号を有し、再度詳細に説明しないことにする。
結像光学器械42も同様に、物体側及び像側でテレセントリックである。
ミラーの構成に関しては、結像光学器械42は、図7の結像光学器械31のものに対応する。結像光学器械42も同様に、5つのミラーM1、M2、M3、M4、及びM5を有する。
FIG. 9 shows another embodiment of the imaging optical instrument 42 that can be used in the projection exposure apparatus 1 shown in FIG. The components of this imaging optic already described with respect to the imaging optic described so far have the same reference numerals and will not be described again in detail.
The imaging optics 42 is likewise telecentric on the object side and the image side.
Regarding the mirror configuration, the imaging optics 42 corresponds to that of the imaging optics 31 of FIG. The imaging optics 42 likewise has five mirrors M1, M2, M3, M4 and M5.

原理的には、ミラーM2及びM4は、1つの同じミラー基板によって保持することができるが、これは必要ではない。
ミラーM1からM5の全ては、湾曲反射面を有する。ミラーM1、M3、及びM5は、凹面である。ミラーM2及びM4は、凸面である。結像光学器械42も、それぞれ、ミラーM1、M2及びM4、M5の2つの視野関連の対35、36を有する。これらの対35、36の配列は、結像光学器械31のものに対応する。
In principle, the mirrors M2 and M4 can be held by one and the same mirror substrate, but this is not necessary.
All of the mirrors M1 to M5 have a curved reflecting surface. The mirrors M1, M3, and M5 are concave surfaces. The mirrors M2 and M4 are convex surfaces. Imaging optics 42 also has two field-related pairs 35, 36 of mirrors M1, M2 and M4, M5, respectively. The arrangement of these pairs 35, 36 corresponds to that of the imaging optics 31.

対35の最初のミラーM1及び対36の最初のミラーM5は、約540mmの距離DPのところに配列される。
結像光学器械31の全トラック長Tは、約1、900mmである。従って、関係DP/Tは、約28%である。
ミラーM1及びM5は、球面である。ミラーM2、M3、及びM4は、回転対称非球面ミラーである。
結像光学器械31のミラーM1の焦点距離は、555mmである。
The first mirror M5 of the first mirror M1 and the counter 36 of the pair 35 is arranged at a distance D P of about 540 mm.
The total track length T of the imaging optical instrument 31 is about 1,900 mm. Therefore, the relationship DP / T is about 28%.
The mirrors M1 and M5 are spherical. The mirrors M2, M3, and M4 are rotationally symmetric aspherical mirrors.
The focal length of the mirror M1 of the imaging optical instrument 31 is 555 mm.

図9の結像光学器械42の物体視野14及び像視野17のxy−形状は、図8から見ることができる。最大視野高さ、すなわち、x軸に対して平行な最大視野寸法は、約850mmである。図9の作図面である子午面では、ミラーM3は、約620mmの最大光学面寸法を有する。この寸法は、最大視野寸法の約73%である。
像平面16と、それに隣接する最も近いミラーM4との間の作業距離Wは、約400mmである。この距離は、結像光学器械42の全トラック長Tの約21%である。
The xy-shapes of the object field 14 and image field 17 of the imaging optics 42 of FIG. 9 can be seen from FIG. The maximum field height, i.e. the maximum field dimension parallel to the x-axis, is about 850 mm. In the meridian plane, which is the drawing of FIG. 9, the mirror M3 has a maximum optical surface dimension of about 620 mm. This dimension is about 73% of the maximum field size.
The working distance W between the image plane 16 and the nearest mirror M4 adjacent to it is about 400 mm. This distance is about 21% of the total track length T of the imaging optical instrument 42.

結像光学器械42は、0.12の開口数を有する。
結像光学器械42では、結像光15は、反射手段だけによって誘導される。従って、結像光学器械31と比較すると、結像光学器械42では屈折要素群が存在しない。
ミラーM3の光学面は、結像光学器械42の瞳面43内に位置する。従って、ミラーM3は、結像光学器械42の瞳ミラーである。
The imaging optical instrument 42 has a numerical aperture of 0.12.
In the imaging optical instrument 42, the imaging light 15 is guided only by reflecting means. Therefore, as compared with the imaging optical instrument 31, the imaging optical instrument 42 has no refractive element group.
The optical surface of the mirror M3 is located in the pupil plane 43 of the imaging optical instrument. Therefore, the mirror M3 is a pupil mirror of the imaging optical instrument 42.

結像光学器械42は、ミラー面MPに関して図7の結像光学器械31と同じ鏡面対称配列を有する。結像光学器械42の中間点Pは、ミラーM3の中心に位置する。
図7の実施形態における折り返しミラー41aと同様に配列することができる2つの付加的な折り返しミラーを用いると、結像光学器械42を図1に実線で示している投影露光装置1内に収まるような方式で修正することができる。
The imaging optical instrument 42 has the same mirror symmetry arrangement as the imaging optical instrument 31 of FIG. The intermediate point P of the imaging optical instrument 42 is located at the center of the mirror M3.
Using two additional folding mirrors that can be arranged in the same way as the folding mirror 41a in the embodiment of FIG. 7, the imaging optics 42 can be accommodated within the projection exposure apparatus 1 shown in solid lines in FIG. Can be corrected in a simple manner.

以下に続く2つの表は、結像光学器械42の設計パラメータを示している。「半径」(r)は、それぞれの表面の曲率の逆数値を意味する。「厚み」は、問題とする表面のそれに続く表面までのミリメートルでの距離を意味する。「モードREFL」は、それぞれの表面が反射ミラー表面であることを意味する。係数K、A、B、C、D、E、F、及びGは、次の非球面公式の係数である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)22)]+A*4+B*6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.12;|β|=1.0
The following two tables show the design parameters of the imaging optics 42. “Radius” (r) means the reciprocal value of the curvature of each surface. “Thickness” means the distance in millimeters of the surface in question to the subsequent surface. “Mode REFL” means that each surface is a reflecting mirror surface. The coefficients K, A, B, C, D, E, F, and G are coefficients of the following aspheric formula.
p (h) = [((1 / r) h 2 ) / (1 + SQRT (1− (1 + K) (1 / r) 2 h 2 )] + A * h 4 + B * h 6 +.
p (h) represents the sagittal or rising height in the z direction of each surface. h 2 = x 2 + y 2
NA = 0.12; | β | = 1.0

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

図10は、図1に示している投影露光装置1において用いることができる別の実施形態の結像光学器械44を端から端まで引かれた線で示している。これまでに解説した結像光学器械に関して既に説明したこの結像光学器械の構成要素は、同じ参照番号を有し、再度詳細に説明しないことにする。
結像光学器械44は、物体側及び像側でテレセントリックである。
結像光学器械44は、約1.8の倍率βを有する。従って、像は、物体に比較して約1.8の係数で拡大される。
結像光学器械44の開口数は、0.10である。
FIG. 10 shows another embodiment of the imaging optical instrument 44 that can be used in the projection exposure apparatus 1 shown in FIG. 1 as a line drawn from end to end. The components of this imaging optic already described with respect to the imaging optic described so far have the same reference numerals and will not be described again in detail.
The imaging optics 44 is telecentric on the object side and the image side.
The imaging optics 44 has a magnification β of about 1.8. Thus, the image is magnified by a factor of about 1.8 compared to the object.
The numerical aperture of the imaging optical instrument 44 is 0.10.

結像光学器械44は、物体視野14から始まって連続して番号が振られた6つのミラー、M1、M2、M3、M4、M5、M6を有する。ミラーM1、M2、M3、及びM4は、光軸OAを定める回転対称非球面ミラーである。ミラーM1、M3、及びM6は、凹面である。ミラーM2及びM4は、凸面である。ミラーM5は、平面である。ミラーM6は、球面ミラーである。
ミラーM1及びM2は、結像光学器械44の物体視野関連の対45を構成する。この物体対45の最初のミラーM1の対物面3までの距離DPは、約270mmである。結像光学器械44の場合には、対物面3と像面9の間の距離である全トラック長Tは、約640mmである。従って、物体対45に関する距離DPは、全トラック長Tの約42%である。
The imaging optics 44 has six mirrors, M1, M2, M3, M4, M5, M6, which are numbered sequentially starting from the object field 14. The mirrors M1, M2, M3, and M4 are rotationally symmetric aspherical mirrors that define the optical axis OA. The mirrors M1, M3, and M6 are concave surfaces. The mirrors M2 and M4 are convex surfaces. The mirror M5 is a plane. The mirror M6 is a spherical mirror.
The mirrors M 1 and M 2 constitute an object field related pair 45 of the imaging optics 44. Distance D P to the object plane 3 of the first mirror M1 of the object-to-45 is about 270 mm. In the case of the imaging optical instrument 44, the total track length T, which is the distance between the object plane 3 and the image plane 9, is about 640 mm. Accordingly, the distance D P for the object pair 45 is about 42% of the total track length T.

更に、結像光学器械44は、ミラーM5及びM6から成る像視野関連の対46を含む。この像対46のミラーM6の像面9までのそれぞれの距離DPは、約525mmである。この距離は、全トラック長Tの約82%である。
結像光学器械44の像視野17は、図8に関して解説したものに対応する形状を有する。従って、結像光学器械44の像視野17の最大x寸法は、850mmである。従って、この大きい視野寸法は、全トラック長Tよりも1.33倍大きい。
ミラーM3は、図10に示している子午面内に、約420mmの最大光学面寸法を有する。この寸法は、像視野17の最大寸法の約50%である。
結像光学器械44では、結像光15は、反射手段だけによって誘導される。
In addition, the imaging optics 44 includes an image field related pair 46 consisting of mirrors M5 and M6. Each distance D P to the image plane 9 of the mirror M6 of the image pair 46 is about 525 mm. This distance is about 82% of the total track length T.
The image field 17 of the imaging optics 44 has a shape corresponding to that described with respect to FIG. Therefore, the maximum x dimension of the image field 17 of the imaging optical instrument 44 is 850 mm. Therefore, this large field size is 1.33 times larger than the total track length T.
The mirror M3 has a maximum optical surface dimension of about 420 mm in the meridian plane shown in FIG. This dimension is about 50% of the maximum dimension of the image field 17.
In the imaging optical instrument 44, the imaging light 15 is guided only by reflecting means.

以下に続く2つの表は、結像光学器械44の設計パラメータを示している。「半径」(r)は、それぞれの表面の曲率の逆数値を意味する。「厚み」は、問題とする表面のそれに続く表面までのミリメートルでの距離を意味する。「モードREFL」は、それぞれの表面が反射ミラー表面であることを意味する。係数K、A、B、C、D、E、F、及びGは、次の非球面公式の係数である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)22)]+A*4+B*6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.1;|β|=1.8
The following two tables show the design parameters of the imaging optics 44. “Radius” (r) means the reciprocal value of the curvature of each surface. “Thickness” means the distance in millimeters of the surface in question to the subsequent surface. “Mode REFL” means that each surface is a reflecting mirror surface. The coefficients K, A, B, C, D, E, F, and G are coefficients of the following aspheric formula.
p (h) = [((1 / r) h 2 ) / (1 + SQRT (1− (1 + K) (1 / r) 2 h 2 )] + A * h 4 + B * h 6 +.
p (h) represents the sagittal or rising height in the z direction of each surface. h 2 = x 2 + y 2
NA = 0.1; | β | = 1.8

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

図11は、図1に示している投影露光装置1において用いることができる別の実施形態の結像光学器械47を端から端まで引かれた線で示している。これまでに解説した結像光学器械に関して既に説明したこの結像光学器械の構成要素は、同じ参照番号を有し、再度詳細に説明しないことにする。
結像光学器械47は、物体側及び像側でテレセントリックである。
結像光学器械47は、物体視野14から始まって連続して番号が振られた6つのミラー、M1、M2、M3、M4、M5、及びM6を有する。全てのミラーM1からM6は、湾曲反射面を有するミラーM1及びM4は、凹面である。ミラーM3は、凸面である。
FIG. 11 shows another embodiment of the imaging optical instrument 47 that can be used in the projection exposure apparatus 1 shown in FIG. 1 by a line drawn from end to end. The components of this imaging optic already described with respect to the imaging optic described so far have the same reference numerals and will not be described again in detail.
The imaging optical instrument 47 is telecentric on the object side and the image side.
The imaging optics 47 has six mirrors, M1, M2, M3, M4, M5 and M6, which are numbered sequentially starting from the object field 14. All the mirrors M1 to M6 have curved reflecting surfaces, and the mirrors M1 and M4 have concave surfaces. The mirror M3 is a convex surface.

結像光学器械47は、ミラーM5、M6から成る像視野関連の対48を含む。この像対48の最初のミラーM6の像面9までの距離DPは、約150mmである。結像光学器械47の全トラック長Tは、約1、850mmである。従って、DPは、全トラック長Tの約8.1%である。
ミラーM1、M2、M3、及びM4は、光軸OAを定める回転対称非球面ミラーである。ミラーM5及びM6は、両方ともに球面ミラーである。
Imaging optics 47 includes an image field related pair 48 consisting of mirrors M5, M6. Distance D P to the image plane 9 of the first mirror M6 of the image pair 48 is about 150 mm. The total track length T of the imaging optical instrument 47 is about 1,850 mm. Therefore, DP is about 8.1% of the total track length T.
The mirrors M1, M2, M3, and M4 are rotationally symmetric aspherical mirrors that define the optical axis OA. Both mirrors M5 and M6 are spherical mirrors.

結像光学器械47のミラーM6の焦点距離は、502.5mmである。
結像光学器械47の像視野17は、図8に関して解説したものと同様の形状を有する。従って、像視野17の最大x寸法は、約850mmである。この最大視野寸法は、全トラック長Tの約46%である。
結像光学器械47では、ミラーM1は、図11に示している子午面内に約450mmの最大寸法を有する。この寸法は、像視野17の最大x寸法の約53%である。
結像光学器械47は、約2の倍率βを有する。結像光学器械47は、0.10の開口数を有する。
結像光学器械47では、結像光15は、反射手段だけによって誘導される。
ミラーM2の対物面3までの作業距離Wは、約360mmである。この距離は、結像光学器械47の全トラック長Tの約19%である。
The focal length of the mirror M6 of the imaging optical instrument 47 is 502.5 mm.
The image field 17 of the imaging optics 47 has a shape similar to that described with respect to FIG. Therefore, the maximum x dimension of the image field 17 is about 850 mm. This maximum field size is about 46% of the total track length T.
In imaging optics 47, mirror M1 has a maximum dimension of about 450 mm in the meridian plane shown in FIG. This dimension is about 53% of the maximum x dimension of the image field 17.
The imaging optics 47 has a magnification β of about 2. The imaging optical instrument 47 has a numerical aperture of 0.10.
In the imaging optical instrument 47, the imaging light 15 is guided only by the reflecting means.
The working distance W to the objective surface 3 of the mirror M2 is about 360 mm. This distance is approximately 19% of the total track length T of the imaging optics 47.

以下に続く2つの表は、結像光学器械47の設計パラメータを示している。「半径」(r)は、それぞれの表面の曲率の逆数値を意味する。「厚み」は、問題とする表面のそれに続く表面までのミリメートルでの距離を意味する。「モードREFL」は、それぞれの表面が反射ミラー表面であることを意味する。係数K、A、B、C、D、E、F、及びGは、次の非球面公式の係数である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)22)]+A*4+B*6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
NA=0.1;|β|=2.0
The following two tables show the design parameters of the imaging optics 47. “Radius” (r) means the reciprocal value of the curvature of each surface. “Thickness” means the distance in millimeters of the surface in question to the subsequent surface. “Mode REFL” means that each surface is a reflecting mirror surface. The coefficients K, A, B, C, D, E, F, and G are coefficients of the following aspheric formula.
p (h) = [((1 / r) h 2 ) / (1 + SQRT (1− (1 + K) (1 / r) 2 h 2 )] + A * h 4 + B * h 6 +.
p (h) represents the sagittal or rising height in the z direction of each surface. h 2 = x 2 + y 2
NA = 0.1; | β | = 2.0

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

図12は、図1に示している投影露光装置1において用いることができる別の実施形態の結像光学器械49を端から端まで引かれた線で示している。これまでに解説した結像光学器械に関して既に説明したこの結像光学器械の構成要素は、同じ参照番号を有し、再度詳細に説明しないことにする。
結像光学器械49は、像側及び物体側でテレセントリックである。
結像光学器械49は、物体視野14から始まって連続して番号が振られた4つのミラー、M1、M2、M3、M4を有する。ミラーM1からM4の全ては、湾曲反射面を有する。ミラーM1及びM4は、凹面である。ミラーM2及びM3は、凸面である。
FIG. 12 shows another embodiment of the imaging optical instrument 49 that can be used in the projection exposure apparatus 1 shown in FIG. 1 by a line drawn from end to end. The components of this imaging optic already described with respect to the imaging optic described so far have the same reference numerals and will not be described again in detail.
The imaging optical instrument 49 is telecentric on the image side and the object side.
The imaging optical instrument 49 has four mirrors, M1, M2, M3, M4, which are numbered sequentially starting from the object field 14. All of the mirrors M1 to M4 have a curved reflecting surface. The mirrors M1 and M4 are concave surfaces. The mirrors M2 and M3 are convex surfaces.

ミラーM1及びM2は、物体視野関連の対50を構成する。
この物体対50の最初のミラーM1の物体視野3までの距離DPは、約220mmである。結像光学器械49の全トラック長Tは、約1、335mmである。従って、DPは、全トラック長Tの約16%である。ミラーM1、M2、及びM3は、回転対称非球面ミラーである。
ミラーM1、M2、及びM3は、回転対称非球面ミラーである。ミラーM4は、球面である。これらの回転対称表面は、光軸OAを定める。
The mirrors M1 and M2 constitute an object field related pair 50.
Distance D P to the object field 3 of the first mirror M1 of the object-to-50 is about 220 mm. The total track length T of the imaging optical instrument 49 is about 1,335 mm. Therefore, D P is about 16% of the total track length T. The mirrors M1, M2, and M3 are rotationally symmetric aspherical mirrors.
The mirrors M1, M2, and M3 are rotationally symmetric aspherical mirrors. The mirror M4 is a spherical surface. These rotationally symmetric surfaces define the optical axis OA.

ミラーM3及びM4は、像視野関連ミラー対51を構成する。像視野17に対面するミラーM4は、像面9までの約750mmの距離DPを有する。この距離は、結像光学器械49の全トラック長Tの約56%である。
結像光学器械49のミラーM1の焦点距離は、310.6mmである。結像光学器械49のミラーM4の焦点距離は、512.4mmである。
像視野17の形状は、図8に関して解説したものである。従って、像視野の最大x寸法は、約850mmである。この寸法は、全トラック長Tの約63%である。
The mirrors M3 and M4 constitute an image field related mirror pair 51. Mirror M4 facing the image field 17 has a distance D P of about 750mm to the image plane 9. This distance is about 56% of the total track length T of the imaging optics 49.
The focal length of the mirror M1 of the imaging optical instrument 49 is 310.6 mm. The focal length of the mirror M4 of the imaging optical instrument 49 is 512.4 mm.
The shape of the image field 17 is as described with respect to FIG. Accordingly, the maximum x dimension of the image field is about 850 mm. This dimension is about 63% of the total track length T.

ミラーM4は、図12に示している子午面内に最も大きい光学面寸法を有する。この最大寸法は、約240mmである。この寸法は、最大視野寸法の約28%である。ミラーM2と対物面3の間の作業距離Wは、約125mmである。この距離は、結像光学器械49の全トラック長Tの約9%である。
ミラーM3と像面9の間の作業距離Wは、約610mmである。この距離は、結像光学器械49の全トラック長Tの約46%である。
結像光学器械49は、0.12の開口数を有する。
The mirror M4 has the largest optical surface dimension in the meridian plane shown in FIG. This maximum dimension is about 240 mm. This dimension is about 28% of the maximum field size. The working distance W between the mirror M2 and the object surface 3 is about 125 mm. This distance is about 9% of the total track length T of the imaging optics 49.
The working distance W between the mirror M3 and the image plane 9 is about 610 mm. This distance is about 46% of the total track length T of the imaging optics 49.
The imaging optical instrument 49 has a numerical aperture of 0.12.

結像光学器械49は、ミラーM2とミラーM3の間の瞳面の近くに屈折要素群52を有する。この群52は、ミラーM2から始まって光路内で連続して番号が振られた5つのレンズ、53、54、55、56、57を含む。レンズ53は、両凸面である。レンズ54は、両凹面である。レンズ55は凹凸面である。レンズ56は両凹面である。レンズ57は両凸面である。
結像光学器械49のレンズ群52の全焦点距離は、543mmである。
結像光学器械49の瞳面は、レンズ55の物体側表面に配列される。
レンズ53及び55の物体側表面及びレンズ57の像側表面は、非球面表面である。レンズ53から57の他の表面は、球面である。
The imaging optical instrument 49 has a refractive element group 52 near the pupil plane between the mirror M2 and the mirror M3. This group 52 includes five lenses, 53, 54, 55, 56, 57, which are numbered consecutively in the optical path starting from the mirror M2. The lens 53 is a biconvex surface. The lens 54 is a biconcave surface. The lens 55 is an uneven surface. The lens 56 is a biconcave surface. The lens 57 is a biconvex surface.
The total focal length of the lens group 52 of the imaging optical instrument 49 is 543 mm.
The pupil plane of the imaging optical instrument 49 is arranged on the object side surface of the lens 55.
The object side surfaces of the lenses 53 and 55 and the image side surface of the lens 57 are aspheric surfaces. The other surfaces of the lenses 53 to 57 are spherical.

以下に続く3つの表は、結像光学器械49の設計パラメータを示している。「半径」(r)は、それぞれの表面の曲率の逆数値を意味する。「厚み」は、問題とする表面のそれに続く表面までのミリメートルでの距離を意味する。「モードREFL」は、それぞれの表面が反射ミラー表面であることを意味する。係数K、A、B、C、D、E、F、及びGは、次の非球面公式の係数である。
p(h)=[((1/r)h2)/(1+SQRT(1−(1+K)(1/r)22)]+A*4+B*6+...
p(h)は、それぞれの表面のz方向の矢状又は立ち上がり高さを表している。h2=x2+y2
連続する第3の表は、レンズ39、40、41のガラス種類の屈折率を表す(連続する第1の表の「モード」と比較されたい)。連続する第1の表では、各レンズは、2つの表面、すなわち、入射表面及び出射表面によって特徴付けられる。
NA=0.12;|β|=2.0
The following three tables show the design parameters of the imaging optics 49. “Radius” (r) means the reciprocal value of the curvature of each surface. “Thickness” means the distance in millimeters of the surface in question to the subsequent surface. “Mode REFL” means that each surface is a reflecting mirror surface. The coefficients K, A, B, C, D, E, F, and G are coefficients of the following aspheric formula.
p (h) = [((1 / r) h 2 ) / (1 + SQRT (1− (1 + K) (1 / r) 2 h 2 )] + A * h 4 + B * h 6 +.
p (h) represents the sagittal or rising height in the z direction of each surface. h 2 = x 2 + y 2
The third consecutive table represents the refractive index of the glass type of the lenses 39, 40, 41 (compare the “mode” of the first continuous table). In the first continuous table, each lens is characterized by two surfaces: an entrance surface and an exit surface.
NA = 0.12; | β | = 2.0

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

(表)

Figure 0005654735
(table)
Figure 0005654735

図7、9、10、11、及び12による結像光学器械実施形態は、物体側及び像側の両方でテレセントリックである。   The imaging optics embodiments according to FIGS. 7, 9, 10, 11, and 12 are telecentric on both the object side and the image side.

1 投影露光装置
8 結像光学器械
1 Projection Exposure Device 8 Imaging Optical Instrument

Claims (26)

対物面(3)の物体視野(14)を像面(9)の像視野(17)内に結像するための結像光学器械(13;18;19;27)であって、
−像視野(17)が、小さい方の視野寸法(y)及び垂直な大きい方の視野寸法(x)によって形成され、該大きい方の視野寸法(x)は、75mmよりも大きく、
−倍率βが1であり、
−結像光(15)が偶数回の反射を受けるようなミラー配列を有し、
−全てのミラー(M1からM4;M1からM6;M1からM8)が、湾曲反射面を有し、
−前記結像光学器械(13;18;19;27)が、2つの凹面ミラー(M1,M4;M1,M6;M3,M6)及び2つの凸面ミラー(M2,M3;M2,M5;M4,M5)を備え、
−前記結像光(15)を誘導する光学構成要素の前記配列は、前記物体視野(14)から始まる中心主光線(16c)の結像光学器械の光路の半分に達する点によって定められる該中心主光線(16c)の中間点(P)に関して点対称である、
ことを特徴とする結像光学器械。
An imaging optic (13; 18; 19; 27) for imaging the object field (14) of the object plane (3) into the image field (17) of the image plane (9),
The image field (17) is formed by a smaller field dimension (y) and a vertical larger field dimension (x), the larger field dimension (x) being greater than 75 mm;
The magnification β is 1,
A mirror array in which the imaging light (15) is subjected to an even number of reflections;
- All mirrors (from M1 M4;; M1 from M6 from M8 M1), have a curved reflecting surface,
The imaging optics (13; 18; 19; 27) comprises two concave mirrors (M1, M4; M1, M6; M3, M6) and two convex mirrors (M2, M3; M2, M5; M4) M5)
The center of the optical component for guiding the imaging light (15) is defined by a point reaching the half of the optical path of the imaging optics of the central principal ray (16c) starting from the object field (14); Symmetric with respect to the midpoint (P) of the chief ray (16c),
An imaging optical instrument characterized by that.
少なくとも4つのミラーを有することを特徴とする請求項1に記載の結像光学器械。   2. An imaging optical instrument according to claim 1, comprising at least four mirrors. 最も大きい最大光学面寸法を有する前記ミラー(M1)は、球面であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の結像光学器械。   Imaging optics according to claim 1 or 2, characterized in that the mirror (M1) having the largest maximum optical surface dimension is a spherical surface. 前記ミラー(M1、M6)のうちの少なくとも2つは、球面ミラーであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の結像光学器械。   The imaging optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein at least two of the mirrors (M1, M6) are spherical mirrors. 前記ミラー(M1からM4;M2からM5;M1からM8;M1からM6)のうちの少なくとも1つは、非球面ミラーであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の結像光学器械。   5. At least one of the mirrors (M1 to M4; M2 to M5; M1 to M8; M1 to M6) is an aspherical mirror. The imaging optics described. 前記ミラーのうちの少なくとも1つは、回転非対称非球面ミラーであることを特徴とする請求項5に記載の結像光学器械。   6. An imaging optical instrument according to claim 5, wherein at least one of the mirrors is a rotationally asymmetric aspherical mirror. 全てのミラー(M1からM4;M1からM8;M1からM6)が、非球面ミラーであることを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の結像光学器械。   7. Imaging optics according to claim 5 or 6, characterized in that all mirrors (M1 to M4; M1 to M8; M1 to M6) are aspherical mirrors. 前記結像光(15)は、反射手段だけによって誘導されることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の結像光学器械。   8. Imaging optics according to any one of claims 1 to 7, characterized in that the imaging light (15) is guided only by reflecting means. 前記対物面(3)と前記像面(9)の間に2つの中間像面(23、25)を有することを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の結像光学器械。   9. Imaging according to one of claims 1 to 8, characterized in that it has two intermediate image planes (23, 25) between the object plane (3) and the image plane (9). Optical instrument. 対物面(3)の物体視野(14)を像面(9)の像視野(17)内に結像するための結像光学器械(8;31;42;44;47;49)であって、
−像視野(17)が、小さい方の視野寸法(y)及び垂直な大きい方の視野寸法(x)によって形成され、該大きい方の視野寸法(x)は、75mmよりも大きく、
−テレセントリックであり、
−結像光(15)を誘導する少なくとも最初のミラー(M1)及び最後のミラー(M5;M6;M4)が、湾曲反射面を有し、
−前記結像光(15)を誘導する湾曲ミラーの視野関連の対(35、36;45、46;48;50、51)を有し、
−前記湾曲ミラーの視野関連の対(35、36;45、46;48;50、51)が、凹面ミラー(M1,M5)及び凸面ミラー(M2,M4)からなり、
−前記ミラー対は、結像光学器械の全トラック長(T)の60%よりも小さい前記関連視野(14、17)からの距離(DP)のところに配列された視野対面ミラー(M1、M5;M1、M6;M6;M1、M4)を有し、
−前記結像光(15)のビーム経路が前記対物面(3)又は前記像面(9)と交差する唯一の位置が、一方では前記物体視野(14)及び他方では前記像視野(17)であるように設計され
−前記結像光学器械(8;31;42;44;47;49)が1の倍率を有し、
−前記結像光(15)を誘導する光学構成要素の前記配列は、前記対物面(3)に対して垂直であると同時に結像光学器械の子午面(yz)に対して垂直であって前記物体視野(14)から始まる中心主光線(16c)の結像光学器械の光路の半分に達する点によって定められる該主光線(16c)の中間点(P)を有する対称面(MP)に関して鏡面対称であり、
−前記結像光学器械(8;31;42;44;47;49)が前記中間点(P)にミラー(M3)を備える、
ことを特徴とする結像光学器械。
An imaging optic (8; 31; 42; 44; 47; 49) for imaging the object field (14) of the object plane (3) in the image field (17) of the image plane (9), ,
The image field (17) is formed by a smaller field dimension (y) and a vertical larger field dimension (x), the larger field dimension (x) being greater than 75 mm;
-Is telecentric,
At least the first mirror (M1) and the last mirror (M5; M6; M4) for guiding the imaging light (15) have curved reflective surfaces;
-Having field-related pairs (35, 36; 45, 46; 48; 50, 51) of curved mirrors for guiding said imaging light (15);
The field-related pair of curved mirrors (35, 36; 45, 46; 48; 50, 51) comprises a concave mirror (M1, M5) and a convex mirror (M2, M4);
The mirror pair is a field-to-face mirror (M1, M,) arranged at a distance (D P ) from the associated field of view (14, 17) less than 60% of the total track length (T) of the imaging optics M5; M1, M6; M6; M1, M4)
The only position where the beam path of the imaging light (15) intersects the object plane (3) or the image plane (9) is on the one hand the object field (14) and on the other hand the image field (17). it is designed to be in,
The imaging optics (8; 31; 42; 44; 47; 49) have a magnification of 1;
The array of optical components for guiding the imaging light (15) is perpendicular to the object plane (3) and at the same time perpendicular to the meridian plane (yz) of the imaging optics; Specular with respect to a symmetry plane (MP) having an intermediate point (P) of the principal ray (16c) defined by a point reaching the optical path of the imaging optics of the central principal ray (16c) starting from the object field (14) Is symmetric,
The imaging optics (8; 31; 42; 44; 47; 49) comprise a mirror (M3) at the intermediate point (P);
An imaging optical instrument characterized by that.
ミラーの光学面の最も大きい最大寸法を有する前記ミラー(M4)は、球面であることを特徴とする請求項10に記載の結像光学器械。   Imaging optics according to claim 10, characterized in that the mirror (M4) having the largest maximum dimension of the optical surface of the mirror is a spherical surface. 前記ミラー(M1、M5)のうちの少なくとも2つは、球面ミラーであることを特徴とする請求項10に記載の結像光学器械。   Imaging optics according to claim 10, characterized in that at least two of the mirrors (M1, M5) are spherical mirrors. 前記ミラー(M3、M2からM4、M1からM4、M1からM3)のうちの少なくとも1つは、非球面ミラーであることを特徴とする請求項10から請求項12のいずれか1項に記載の結像光学器械。   13. At least one of the mirrors (M3, M2 to M4, M1 to M4, M1 to M3) is an aspherical mirror, according to any one of claims 10 to 12. Imaging optics. 前記ミラーのうちの少なくとも1つは、回転非対称非球面ミラーであることを特徴とする請求項13に記載の結像光学器械。   The imaging optical instrument of claim 13, wherein at least one of the mirrors is a rotationally asymmetric aspherical mirror. 全てのミラーが、非球面ミラーであることを特徴とする請求項13又は請求項14に記載の結像光学器械。   15. The imaging optical apparatus according to claim 13, wherein all the mirrors are aspherical mirrors. 湾曲ミラーの前記視野関連の対は、前記物体視野(14)から来る前記結像光(15)を誘導するミラーの物体関連の対(35;45;50)であり、この物体関連の対は、結像光学器械の前記全トラック長(T)の60%よりも小さい該物体視野からの距離(DP)のところに配列された物体視野対面ミラー(M1)を有することを特徴とする請求項11から請求項15のいずれか1項に記載の結像光学器械。 The field-related pair of curved mirrors is an object-related pair of mirrors (35; 45; 50) that guides the imaging light (15) coming from the object field (14), which is the object-related pair An object field facing mirror (M1) arranged at a distance (D P ) from the object field less than 60% of the total track length (T) of the imaging optics. The imaging optical instrument according to any one of claims 11 to 15. ミラーの前記物体関連の対のうちの少なくとも一方のミラー(M1)は、球面ミラーであることを特徴とする請求項16に記載の結像光学器械。   Imaging optics according to claim 16, characterized in that at least one mirror (M1) of said object-related pair of mirrors is a spherical mirror. 湾曲ミラーの前記視野関連の対は、前記像視野(17)に前記結像光(15)を誘導するミラーの像関連の対(36;46;48;51)であり、ミラーの該像関連の対は、結像光学器械の前記全トラック長(T)の60%よりも小さい該像視野(17)からの距離(DP)のところに配列された像視野対面ミラー(M5;M6;M4)を有し、
ミラーの前記像関連の対のうちの少なくとも1つのミラー(M5;M6;M4)は、球面ミラーであることを特徴とする請求項10から請求項17のいずれか1項に記載の結像光学器械。
The field-related pair of curved mirrors is an image-related pair of mirrors (36; 46; 48; 51) that directs the imaging light (15) to the image field (17), the image-related pair of mirrors. Of pairs of image field facing mirrors (M5; M6; arranged at a distance (D P ) from the image field (17) of less than 60% of the total track length (T) of the imaging optics. M4)
18. Imaging optics according to any one of claims 10 to 17, wherein at least one mirror (M5; M6; M4) of the image-related pair of mirrors is a spherical mirror. instrument.
前記結像光(15)は、反射手段だけによって誘導されることを特徴とする請求項10から請求項18のいずれか1項に記載の結像光学器械。   19. Imaging optics according to any one of claims 10 to 18, characterized in that the imaging light (15) is guided only by reflecting means. 瞳面(38)の近くに屈折要素(39から41;53から57)の群(37;52)を有することを特徴とする請求項10から請求項18のいずれか1項に記載の結像光学器械。   19. Imaging according to any one of claims 10 to 18, characterized in that it has a group (37; 52) of refractive elements (39 to 41; 53 to 57) close to the pupil plane (38). Optical instrument. 屈折要素の前記群(37;52)の焦点距離が、結像光学器械の前記トラック長(T)よりも大きいことを特徴とする請求項20に記載の結像光学器械。   21. Imaging optics according to claim 20, characterized in that the focal length of the group (37; 52) of refractive elements is greater than the track length (T) of the imaging optics. 屈折要素の前記群(37;52)は、少なくとも1つの非球面レンズを含むことを特徴とする請求項20又は請求項21に記載の結像光学器械。   22. Imaging optics according to claim 20 or 21, characterized in that said group (37; 52) of refractive elements comprises at least one aspheric lens. 瞳面(38)に又はそれに隣接して配列された少なくとも1つの瞳ミラー(M3)を有することを特徴とする請求項10から請求項22のいずれか1項に記載の結像光学器械。   23. Imaging optics according to any one of claims 10 to 22, comprising at least one pupil mirror (M3) arranged at or adjacent to the pupil plane (38). 前記瞳ミラー(M3)は、非球面ミラーであることを特徴とする請求項23に記載の結像光学器械。   The imaging optical instrument according to claim 23, wherein the pupil mirror (M3) is an aspherical mirror. 前記結像光(15)を反射する奇数個のミラーを有することを特徴とする請求項10から請求項24のいずれか1項に記載の結像光学器械。   25. Imaging optics according to any one of claims 10 to 24, comprising an odd number of mirrors for reflecting the imaging light (15). 請求項1から請求項25のいずれか1項に記載の結像光学器械を含む投影露光装置。   A projection exposure apparatus including the imaging optical apparatus according to any one of claims 1 to 25.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016212578A1 (en) * 2016-07-11 2018-01-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optics for EUV projection lithography
JP6635904B2 (en) 2016-10-14 2020-01-29 キヤノン株式会社 Projection optical system, exposure apparatus and article manufacturing method
JP6882053B2 (en) * 2016-12-05 2021-06-02 キヤノン株式会社 Catadioptric optics, illumination optics, exposure equipment and article manufacturing methods
JP2019211798A (en) * 2019-09-18 2019-12-12 キヤノン株式会社 Projection optical system, exposure apparatus, and manufacturing method of items

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3339592B2 (en) * 1993-03-12 2002-10-28 株式会社ニコン Catadioptric projection optical system, and exposure method and apparatus
JP2000098228A (en) * 1998-09-21 2000-04-07 Nikon Corp Projection exposing device, exposing method and reflection reduction projection optical system
DE10052289A1 (en) * 2000-10-20 2002-04-25 Zeiss Carl 8 mirror microlithography projection lens
JP2006196559A (en) * 2005-01-12 2006-07-27 Nikon Corp Method of manufacturing aligner and micro device
JP2007206319A (en) * 2006-02-01 2007-08-16 Nikon Corp Reflective/refractive optical system, exposure apparatus and method of manufacturing micro device
JP2008089832A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Canon Inc Lithography device

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