JP5654460B2 - 化粧料用油性基剤及びそれを含む化粧料 - Google Patents
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Description
ヒドロキシル化エステル、例えば、トリイソステアリン酸ポリグリセロール−2、芳香族エステル、例えば、トリメリト酸トリデシル、脂肪酸または脂肪アルコールのエステル、例えば、クエン酸トリイソアラキル、テトライソノナン酸ペンタエリスリチル、トリイソステアリン酸グリセリル、2−トリデシルテトラデカン酸グルセリル、テトライソステアリン酸ペンタエリスリチル、テトライソステアリン酸ポリグリセリル−2、2−テトラデシルテトラデカン酸ペンタエリスリチルが挙げられている。しかし、実施例においては、ii)のオイルとして、これらのうち、水添ポリイソブチレン、ポリブチレンが使用されているに過ぎない。
安息香酸/ エチルヘキサン酸)ペンタエリスリチル、ジイソステアリン酸グリセリル、テトラエチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、およびトリオクタノインが挙げられている。該発明は、上記成分の組み合わせにより、 つやがあり、かつ、色もち(化粧もち)
、塗布感(なめらかさ)に優れる口唇用化粧料を得るものである。
又は2 − エチルヘキサン酸と多価アルコールのエステル油を含有する油性固形化粧料が開示されている。該発明において、上記の物質の組み合わせにより、化粧料のとれ、伸び広がりの良さやべたつきのなさといった使用感が良好で、化粧膜の均一性と化粧膜の持続性に優れ、かつ、保存安定性にも優れた油性固形化粧料が得られたのである。化粧料のとれ及び保存安定性に優れているという観点から、エステル油として、イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸イソデシル、イソノナン酸イソドデシル、ジ2−エチルヘキサン酸ネオペンチルグリコール、トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル、トリ2−エチルヘキサン酸トリメチロールプロパン、テトラ2−エチルヘキサン酸ペンタエリスリトールが挙げられている。
(1)多価アルコールと脂肪酸とから成るエステル化合物を含む化粧料用油性基剤において、エステル化合物がペンタエリスリトールとイソノナン酸とから成り、かつ、該エステル化合物中のペンタエリスリトール残基とイソノナン酸残基とのモル比が、1.0:2.3〜1.0:4.0であり、かつ、該エステル化合物が、テトライソノナン酸ペンタエリスリチルと、トリイソノナン酸ペンタエリスリチル、ジイソノナン酸ペンタエリスリチル及びモノイソノナン酸ペンタエリスリチルより成る群から選ばれる1種類以上との混合物であることを特徴とする化粧料用油性基剤である。
(2)ペンタエリスリトール残基とイソノナン酸残基とのモル比が、1.0:2.5〜1.0:4.0である上記(1)記載の化粧料用油性基剤、
(3)ペンタエリスリトール残基とイソノナン酸残基とのモル比が、1.0:3.0〜1.0:4.0である上記(1)記載の化粧料用油性基剤、
(4)上記エステル化合物が、
テトライソノナン酸ペンタエリスリチル 100質量部未満20.0質量部以上、
トリイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超55.0質量部以下、
ジイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超30.0質量部以下、及び
モノイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部以上10.0質量部以下
の合計100質量部から成る上記(1)〜(3)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(5)上記エステル化合物が、
テトライソノナン酸ペンタエリスリチル 100質量部未満22.0質量部以上、
トリイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超52.0質量部以下、
ジイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超25.0質量部以下、及び
モノイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部以上5.0質量部以下
の合計100質量部から成る上記(1)〜(3)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(6)上記エステル化合物が、
テトライソノナン酸ペンタエリスリチル 100質量部未満40.0質量部以上、
トリイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超45.0質量部以下、
ジイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超15.0質量部以下、及び
モノイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部以上2.0質量部以下
の合計100質量部から成る上記(1)〜(3)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(7)水酸基価が0.3〜140であるところの上記(1)〜(6)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(8)水酸基価が0.5〜90であるところの上記(1)〜(6)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(9)粘度(25℃)が300〜1,000mPa・sであるところの上記(1)〜(8)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(10)粘度(25℃)が300〜800mPa・sであるところの上記(1)〜(8)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(11)粘度(25℃)が300〜600mPa・sであるところの上記(1)〜(8)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(12)数平均分子量が500〜800であるところの上記(1)〜(11)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(13)数平均分子量が520〜780であるところの上記(1)〜(11)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(14)数平均分子量が540〜760であるところの上記(1)〜(11)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤、
(15)上記(1)〜(14)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤を含む化粧料、
(16)スキンクリーム、ヘアトリートメント、ファンデーション、マスカラ、アイシャドウ、リップグロス又はリップスティック用の上記(1)〜(14)のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤
を挙げることができる。
(17)多価アルコールと脂肪酸とを反応せしめて、化粧料用油性基剤用のエステル化合物を製造する方法において、多価アルコールがペンタエリスリトールであり、脂肪酸がイソノナン酸であり、かつ上記反応におけるペンタエリスリトールとイソノナン酸とのモル当量比が、1.0:2.3〜1.0:4.0であり、かつ、得られたエステル化合物が、テトライソノナン酸ペンタエリスリチルと、トリイソノナン酸ペンタエリスリチル、ジイソノナン酸ペンタエリスリチル及びモノイソノナン酸ペンタエリスリチルより成る群から選ばれる1種類以上との混合物であることを特徴とする方法である。
(18)ペンタエリスリトールとイソノナン酸とのモル当量比が、1.0:2.5〜1.0:4.0である上記(17)記載の方法、
(19)ペンタエリスリトールとイソノナン酸とのモル当量比が、1.0:3.0〜1.0:4.0である上記(17)記載の方法
を挙げることができる。
合成実施例及び合成比較例において使用した物質は、特に記載のない限り下記の通りである。
ペンタエリスリトール:三菱ガス化学株式会社製ペンタエリスリトール(商標)又は広栄パーストープ株式会社ペンタリット(商標)
イソノナン酸:協和発酵ケミカル株式会社製キョーワノイック−N(商標)
2−エチルヘキサン酸:協和発酵ケミカル株式会社製オクチル酸
イソステアリン酸:高級アルコール工業株式会社製イソステリン酸EX(商標)
化粧品原料基準18.酸価測定法に準拠して測定したものである。
化粧品原料基準24.水酸基価測定法に準拠して測定したものである。
ブルックフィールド粘度計 DV−II+(スピンドルNo.2、12rpm、25℃)により測定したものである。
下記条件において、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)によりポリスチレン換算の相対分子量分布を測定して得たものである。
測定機種 昭和電工株式会社製 GPC‐101
カラム Shodex GPC KF‐603(2本)
溶離液 THF
温度 カラム恒温槽 40℃
流速 0.5mL/min
注入量 100μL(約0.2重量%/体積%)
溶解性 完全溶解
検出器 示差屈折計(R1)
合成実施例及び合成比較例で得られたエステル化合物0.1グラムを上腕部内側に塗布し、塗布後の「密着性」について、パネラー20名で評価を行った。評価結果は、20人中15人以上が「密着性良好」と回答した場合を「G」で示し、20人中6〜9人が「密着性良好」と回答した場合を「M」で示し、20人中5人以下が「密着性良好」と回答した場合を「B」で示した。
使用した油剤は下記の通りである。
炭化水素油:スクワラン(高級アルコール工業株式会社製、オリーブスクワラン)
シリコーン油:シクロメチコン(東レ・ダウコーニング株式会社製、DOWCORNING TORAY SH 245 FLUID、商標)
測定機種 Agilent Technologies 6890N
カラム 開管カラム DB−1 15m×0.25mm×0.1mm
キャリアーガス ヘリウム 45ml/min
オーブン温度 150℃ to 280℃ 5℃/min 280℃ for 10min
注入口温度 250℃
検出器 水素炎イオン化検出器(FID)
注入量 1μL(約0.5重量%/体積%)
溶解液 シクロヘキサン
溶解性 完全溶解
攪拌装置、温度計、窒素ガス導入管、ディーンスターク水分計及びコンデンサーを取り付けた2リットルの4つ口フラスコに、ペンタエリスリトール204.2グラム(1.5mol)、イソノナン酸593.3グラム(3.75mol)を仕込んだ。次いで、メタスルホン酸を0.8グラム、溶媒としてのトルエンを100ミリリットル加えた。次いで、窒素を20ミリリットル/分で流しながら200℃から230℃まで徐々に昇温した。該温度で、生成水を溶媒と共沸させながら留去しつつ反応させた。生成水の留出が無くなったところで反応を停止した。次いで、温度を170℃に下げた後に減圧(約20mmHg)とし、溶媒(トルエン)を完全に除去した。淡黄色で粘性のあるエステル化合物647.5グラムが得られた。
イソノナン酸の仕込み量を711.9グラム(4.5mol)に変えた以外は、合成実施例1と同一にして実施した。淡黄色で粘性のあるエステル化合物706.2グラムが得られた。
イソノナン酸の仕込み量を830.6グラム(5.25mol)に変えた以外は、合成実施例1と同一にして実施した。淡黄色で粘性のあるエステル化合物843.5グラムが得られた。
イソノナン酸の仕込み量を949.2グラム(6.0mol)に変えた以外は、合成実施例1と同一にして実施した。淡黄色で粘性のあるエステル化合物964.2グラムが得られた。
イソノナン酸の仕込み量を474.6グラム(3.0mol)に変えた以外は、合成実施例1と同一にして実施した。淡黄色で粘性のあるエステル化合物503.5グラムが得られた。
イソノナン酸に代えて2−エチルヘキサン酸864.6グラム(6.0mol)を仕込んだ以外は、合成実施例1と同一にして実施した。淡黄色で粘性のあるエステル化合物896.2グラムが得られた。
イソノナン酸に代えてイソステアリン酸1707グラム(6.0mol)を仕込んだ以外は、合成実施例1と同一にして実施した。淡黄色で粘性のあるエステル化合物1726グラムが得られた。
実施例及び比較例で使用した物質は、特に記載のない限り下記の通りである。
(イソステアリン酸ポリグリセリル−2/ダイマージリノール酸)コポリマー:高級アルコール工業株式会社製ハイルーセント ISDA(商標)
ステアリン酸ポリグリセリル‐10:日光ケミカルズ株式会社製NIKKOL Decaglyn 1−SV(商標)
ポリソルベート−80:花王株式会社製レドール TW−0120V(商標)
水添レシチン:日光ケミカルズ株式会社製NIKKOL レシノール S−10EX(商標)
ベヘニルアルコール:高級アルコール工業株式会社製ベヘニルアルコール 65(商標)
水添ナタネ油アルコール:高級アルコール工業株式会社製アルコールNo.20−B(商標)
セトステアリルアルコール:高級アルコール工業株式会社製セタノール NX(商標)
ペンチレングリコール:高級アルコール工業株式会社製ジオール PD(商標)
パラフィン:株式会社伊那貿易商会製PARAFFIN WAX SP(商標)
ジプロピレングリコール(DPG):株式会社クラレ製DPG−RF(商標)
1,3−ブチレングリコール(1,3−BG):高級アルコール工業株式会社製ハイシュガーケインBG(商標)
シア脂:高級アルコール工業株式会社製シアバターRF(商標)
ヘキサ(ヒドロキシステアリン酸/ステアリン酸/ロジン酸)ジペンタエリスリチル:高級アルコール工業株式会社製ハイルーセント 138DP(商標)
コハク酸ビスエトキシジグリコール:高級アルコール工業株式会社製ハイアクオスターDCS(商標)
ホホバ油:高級アルコール工業株式会社製エコオイル RS(商標)
マカデミアナッツ油:日光ケミカルズ株式会社製NIKKOL マカデミアンナッツ油(商標)
ステアリルアルコール:高級アルコール工業株式会社製ステアリルアルコール NX(商標)
ステアリルトリモニウムクロリド:Clariant社製Genamin STAC(商標)
ジステアリルジモニウムクロリド:Clariant社製Genamin DSAC(商標)
ベヘントリモニウムクロリド:Clariant社製Genamin KDM−P(商標)
ジココジモニウムクロリド:竹本油脂株式会社製パイオニンB−2211(商標)
アモジメチコン:東レ・ダウコーニング株式会社製SF 8452 C(商標)
シクロメチコン:東レ・ダウコーニング株式会社製SH245 Fluid(商標)
ジメチコン:GE東芝シリコーン株式会社製TSF451−100A(商標)(実施例3〜5で使用)
ジメチコン:モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製TSF451−10A(商標)(実施例9において使用)
フェノキシエタノール:東邦化学工業株式会社製ハイソルブ EPH(商標)
マイカ:Merck社製Timiron Star Luster MP−1001(商標)
酸化チタン被覆雲母:Merck社製Timiron Star Luster MP−115(商標)
シリコーン処理硫酸バリウム:堺化学工業株式会社製板状硫酸バリウムHシリーズ(商標)
窒化ホウ素:水島合金鉄株式会社製ボロンナイトライドSHP−6(商標)
球状PMMA粉体:積水化成品工業株式会社製MBX−8C(商標)
タルク:US Cosmetic Corporation製Soft Talc(商標)
ナイロンパウダー:東レ株式会社製ナイロンパウダーTR−1(商標)
シリコーン処理微粒子酸化チタン:テイカ株式会社製SMT−100SAS(商標)
シリコーン処理微粒子酸化亜鉛:テイカ株式会社製MZ−505S(商標)
シリコーン処理酸化チタン:US Cosmetic Corporation製DHL−TRI−77891(商標)
シリコーン処理黄酸化鉄:US Cosmetic Corporation製DHL−Y−77492(商標)
シリコーン処理赤酸化鉄:US Cosmetic Corporation製DHL−R−77491(商標)
シリコーン処理黒酸化鉄:US Cosmetic Corporation製DHL−B−77499(商標)
ジメチコン:モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製TSF451−10A(商標)
トリエチルヘキサノイン:高級アルコール工業株式会社製TOG
ジイソノナン酸ネオペンチルグリコール:高級アルコール工業株式会社製NPDIN
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル:ISP社製ESCALOL 557(商標)
トコフェロール:エーザイ株式会社製イーミックスD(商標)
イソステアリン酸ヘキシルデシル:高級アルコール工業株式会社製ICIS
ジエチルヘキサン酸ネオペンチルグリコール:高級アルコール工業株式会社製KAK NDO(商標)
(ジグリセリン/ジリノール酸/ヒドロキシステアリン酸)コポリマー:高級アルコール工業株式会社製リソカスタ HSDA(商標)
モノイソステアリン酸ソルビタン:日本エマルジョン株式会社製エマレックス SPIS−100(商標)
ジメチコンコポリオール:Evonik Goldschmidt GmbH製ABIL EM90(商標)
パルミチン酸デキストリン:千葉製粉株式会社製レオパール KL2(商標)
(パルミチン酸/エチルヘキサン酸)デキストリン:千葉製粉株式会社製レオパール TT2(商標)
マイクロクリスタリンワックス:日興リカ株式会社製精製マイクロクリスタリンワックス
疎水化処理酸化チタン:US Cosmetic Corporation製NHS−TRI−77891(商標)
疎水化処理黄酸化鉄:US Cosmetic Corporation製NHS−Y−77492(商標)
疎水化処理赤酸化鉄:US Cosmetic Corporation製NHS−R−77491(商標)
疎水化処理黒酸化鉄:US Cosmetic Corporation製NHS−B−77499(商標)
ナイロン‐6:宇部興産株式会社製POMP605(商標)
架橋型シリコーン末:東レ・ダウコーニング株式会社製トレフィル E506C(商標)
ミネラルオイル:カネダ株式会社製ハイコール K230(商標)
イソステアリン酸イソステアリル:高級アルコール工業株式会社製ISIS
ミリスチン酸イソセチル:高級アルコール工業株式会社製ICM−R(商標)
ネオデカン酸オクチルドデシル:高級アルコール工業株式会社製ネオライト2000(商標)
デカメチルシクロペンタンシロキサン:東レ・ダウコーニング株式会社製SH245 Fluid(商標)
ダイマージリノール酸水添ヒマシ油:高級アルコール工業株式会社製リソカスタ DA−L(商標)
キャンデリラワックス:STRAHL & PITSCH社製CANDELILLA WAX 75(商標)
カルナウバロウ:STRAHL & PITSCH社製CARNAUBA WAX 142(商標)
ミツロウ:三木化学工業株式会社製精製ミツロウ
ポリエチレン:Baker Petrolite社製ポリワックス 500(商標)
青色1号:癸巳化成株式会社製青色1号
リンゴ酸ジイソステアリル:高級アルコール工業株式会社製ハイマレート DIS(商標)
ステアリン酸グリセリル(SE):日本エマルジョン株式会社製EMALEX GMS−195(商標)
疎水化処理群青:Whittaker Clark & Daniels製7104 Ultramarine Blue(商標)
雲母チタン:Merck社製Timiron Star Luster MP−115
(商標)
水添ポリイソブテン:日油株式会社製パールリーム18(商標)
ジイソステアリン酸ポリグリセリル‐2:高級アルコール工業株式会社製リソレックス PGIS22(商標)
トリイソステアリン酸ポリグリセリル‐2:高級アルコール工業株式会社製リソレックス PGIS23(商標)
テトライソステアリン酸ペンタエリスリチル:高級アルコール工業株式会社製KAK PTI(商標)
ヒドロキシステアリン酸エチルヘキシル:高級アルコール工業株式会社製リソカスタ IOHS(商標)
ステアロイルオキシステアリン酸オクチルドデシル:高級アルコール工業株式会社製リソカスタ ODSHS(商標)
オクチルドデカノール:高級アルコール工業株式会社製リソノール 20SP(商標)
ステアリン酸イヌリン:千葉製粉株式会社製レオパール ISL2(商標)
(ベヘン酸/エイコサン二酸)グリセリル:日清オイリオグループ株式会社製ノムコート HK−G(商標)
ダイマージリノール酸ジ(C20−40)アルキル:Koster Keunen社製Kester Wax K82−D(商標)
ジブチルラウロイルグルタミド:味の素株式会社製GP−1(商標)
ステアリルジメチコン:クラリアント社製Silcare Silicone 41M65(商標)
アミド末端ポリアミド樹脂:Arizona Chemical社製Sylvaclear 200V(商標)
エステル末端ポリアミド樹脂:Arizona Chemical社製Uniclear 100VG(商標)
赤色218号:癸巳化成株式会社製赤色218号
赤色226号:癸巳化成株式会社製赤色226号
赤色201号:癸巳化成株式会社製赤色201号
赤色202号:癸巳化成株式会社製赤色202号
カルミン:Merck 社製COLORONA CARMINE RED(商標)
酸化チタン:石原産業株式会社製タイペークCR−30(商標)
合成金雲母、酸化チタン、酸化鉄[ラメ剤]:トピー工業株式会社製プロミネンス RYH(商標)
ホウケイ酸(Ca/Al)、シリカ、酸化チタン、酸化スズ[ラメ剤]:Merck社製Ronastar Silver(商標)
(PET/ポリメタクリル酸メチル)ラミネート[ラメ剤]:株式会社ダイヤケムコ製イリデッセントグリッターIF8101(商標)
トリエチルヘキサン酸トリメチロールプロパン:高級アルコール工業株式会社製KAK TTO(商標)
イソノナン酸イソトリデシル:高級アルコール工業株式会社製KAK 139(商標)
イソステアリン酸水添ヒマシ油:高級アルコール工業株式会社製リソカスタ MIS(商標)
トリ(カプリル酸/カプリン酸)グリセリル:高級アルコール工業株式会社製TCG−M(商標)
ネオペンタン酸イソステアリル:高級アルコール工業株式会社製ネオライト 180P(商標)
ジカプリン酸ネオペンチルグリコール:高級アルコール工業株式会社製NPDC(商標)
セレシン:STRAHL & PITSCH社製セレシン SP1020(商標)
合成ワックス、(エチレン/プロピレン)コポリマー:日本ナチュラルプロダクツ社製LIP WAX PZ80−20(商標)
黄色4号アルミニウムレーキ:癸巳化成株式会社製黄色4号アルミニウムレーキ
ベンガラ:US Cosmetic Corporation社製NHS−R−77491(商標)
青色1号アルミニウムレーキ:癸巳化成株式会社製青色1号アルミニウムレーキ
グリセリン:高級アルコール工業株式会社製トリオール VE(商標)
(アクリロイルジメチルタウリンアンモニウム/VP)コポリマー:クラリアント社製Aristoflex AVC(商標)
キサンタンガム:三晶株式会社製KELTROL T(商標)
カルボマー:日光ケミカルズ株式会社製カーボポールETD2050(商標)
ヒドロキシエチルセルロース:住友精化株式会社製HEC(商標)
ヒドロキシプロピルメチルセルロース:信越化学工業株式会社製メトローズ 60SH−4000(商標)
ペンチレングリコール:高級アルコール工業株式会社製ジオール PD(商標)
ポリクオタニウム-7:ライオン株式会社製リポフローMN(商標)
加水分解シルク:株式会社成和化成製プロモイスシルク‐1000Q(商標)
グリコール酸:和光純薬工業株式会社製グリコール酸(商標)
メチルパラベン:クラリアント社製Nipagin M(商標)
高重合メチルポリシロキサン(1):東レ・ダウコーニング株式会社製BY 22−029(商標)
実施例及び比較例の各化粧料(スキンクリーム、ヘアトリートメント、ファンデーション、マスカラ、アイシャドウ、リップグロス及びリップスティック)を下記所定の方法により、夫々、3個ずつ調製した。次いで、25℃及び45℃の恒温槽内で、夫々、1個ずつ、いずれも1ヶ月間保存した。残りの1個を、夫々、恒温室内で−10℃、25℃、45℃の3つの温度で8時間ずつ保持して、1往復48時間かけて5往復させた。このようにして得たサンプルについて、外観の劣化(粒子の粗大化)の有無、着色着臭の有無、分離の有無について人間の五感により観察した。その結果、外観の劣化及び着色着臭については、いずれのサンプルについても変化が認められなかった。従って、評価は分離の有無のみについて判断した。評価結果は、各サンプルを目視確認し、全てのサンプルで分離がない場合を「G」で示し、一つの温度条件のサンプルに僅かにでも分離がある場合を「M」で示し、二つ以上の温度条件のサンプルに僅かにでも分離がある場合を「B」で示した。
実施例及び比較例の各化粧料(スキンクリーム、ヘアトリートメント、ファンデーション、マスカラ、アイシャドウ、リップグロス及びリップスティック)の塗布時の「塗り易さ」について、パネラー20名で評価を行った。スキンクリームに関しては、0.5グラムを顔面に塗布した。ヘアトリートメントに関しては、2.0グラムを毛髪に塗布した。ファンデーションに関しては、1.0グラムを顔面に塗布した。マスカラに関しては、0.1グラムをまつ毛に塗布した。アイシャドウに関しては、0.1グラムを瞼に塗布した。リップグロス及びリップスティックに関しては、0.2グラムを唇に塗布した。評価結果は、20人中15人以上が「塗りやすさ良好」と回答した場合を「G」で示し、20人中6〜9人が「塗りやすさ良好」と回答した場合を「M」で示し、20人中5人以下が「塗りやすさ良好」と回答した場合を「B」で示した。
実施例及び比較例の各化粧料(スキンクリーム、ヘアトリートメント、ファンデーション、マスカラ、アイシャドウ、リップグロス及びリップスティック)の塗布後の「油性感・保湿性」については、上記の「塗りやすさ」の評価方法と同一にして、パネラー20名を使用し、同一箇所に同一量を塗布することにより評価した。評価結果は、20人中15人以上が「適度な油性感・保湿性あり」と回答した場合を「G」で示し、20人中6〜9人が「適度な油性感・保湿性あり」と回答した場合を「M」で示し、20人中5人以下が「適度な油性感・保湿性あり」と回答した場合を「B」で示した。
実施例及び比較例の各化粧料(スキンクリーム、ヘアトリートメント、ファンデーション、マスカラ、アイシャドウ、リップグロス及びリップスティック)の肌(毛髪、まつ毛、瞼、唇)へのなじみ良さ、付きの良さについて、パネラー20名で評価を行った。スキンクリームに関しては、0.5グラムを顔面に塗布した。ヘアトリートメントに関しては、2.0グラムを毛髪に塗布した。ファンデーションに関しては、1.0グラムを顔面に塗布した。マスカラに関しては、0.1グラムをまつ毛に塗布した。アイシャドウに関しては、0.1グラムを瞼に塗布した。リップグロス及びリップスティックに関しては、0.2グラムを唇に塗布した。評価結果は、20人中15人以上が「各化粧料塗布後の肌(毛髪、まつ毛、瞼、唇)へのなじみが良好、付きが良好」と回答した場合を「G」で示し、20人中6〜9人が「各化粧料塗布後の肌(毛髪、まつ毛、瞼、唇)へのなじみが良好、付きが良好」」と回答した場合を「M」で示し、20人中5人以下が「各化粧料塗布後の肌(毛髪、まつ毛、瞼、唇)へのなじみが良好、付きが良好」」と回答した場合を「B」で示した。
被試験者は男子10名及び女子10名の合計20名である。前腕屈側部皮膚に、実施例及び比較例において得られた各化粧料の0.05gを、直径1.0cmのリント布の付いた円型パッチテスト用絆創膏を用いて24時間閉塞貼布する。絆創膏を除去した後の1時間及び24時間における被試験者20名の皮膚状態を、下記の評価基準に従い評価した。評価には、絆創膏除去後1時間後及び24時間後のうち、反応の強いほうを採用した。(−)が20名のときを「G」、(±)が1〜2名であり他の被験者が(−)のときを「M」、(±)が3名以上であり他の被験者が(−)のとき、又は(+)〜(+++)が1名以上のときを「B」で示した。評価に際し、ヘアトリートメントは0.5%の水溶液を使用した。
(皮膚状態) (評価)
紅斑、浮腫、水疱
: (+++)
紅斑、浮腫 : (++)
紅斑
: (+)
軽微な紅斑 : (±)
無紅斑、無浮腫
: (−)
スキンクリーム
表2に示した(A)及び(B)の各成分を、夫々別個に75〜80℃において均一に溶解した。次いで、組成物(B)を組成物(A)に攪拌しながら加え、ホモミキサーにより乳化した。次いで、該混合物を攪拌しながら30℃まで冷却してスキンクリームを調製した。
スキンクリーム
合成実施例3のエステル化合物に代えて、合成比較例1のエステル化合物を使用したこと以外は、実施例1と同一にして実施した。
ヘアトリートメント
表3に示した(A)及び(B)の各成分を、夫々別個に75〜80℃において均一に溶解した。次いで、組成物(B)を組成物(A)に攪拌しながら加え、ホモミキサーにより乳化した。次いで、攪拌しながら該乳化物に(C)成分を添加し、更に該混合物を攪拌しながら30℃まで冷却してヘアトリートメントを調製した。表3に評価結果を示した。
固形粉末ファンデーション
表4に示した(A)の各成分をヘンシェルミキサーにより均一分散させた。別途、(B)の各成分を60℃に加熱して、均一に混合して溶解させる。次いで、ヘンシェルミキサーにより攪拌しながら、組成物(B)を組成物(A)に加え均一分散した。得られた混合物を30℃まで冷却して粉砕した後、金皿に充填し、次いで、圧縮成形して固形粉末ファンデーションを調製した。表4に評価結果を示した。
クリーム状ファンデーション(W/O型)
表5に示した(A)及び(B)の各成分を、夫々別個に75〜80℃において均一に溶解した。次いで、組成物(B)を組成物(A)に攪拌しながら加え、ホモミキサーにより乳化した。次いで、該混合物を攪拌しながら30℃まで冷却してクリーム状ファンデーションを調製した。
クリーム状ファンデーション(W/O型)
合成実施例4のエステル化合物に代えて、合成比較例3のエステル化合物を使用したこと以外は、実施例10と同一にして実施した。
マスカラ
表6に示した(A)の各成分中の粉体状成分を除く全ての成分を100℃において均一溶解した後、上記の粉体状成分を加えディスパー分散を行なった。次いで、室温まで攪拌冷却してマスカラを調製した。
マスカラ
合成実施例4のエステル化合物に代えて、合成比較例3のエステル化合物を使用したこと以外は、実施例12と同一にして実施した。
アイシャドウ
表7に示した(A)及び(B)の各成分を、夫々別個に75〜80℃において均一に溶解した。次いで、組成物(B)を組成物(A)に攪拌しながら加え、ホモミキサーにより乳化した。次いで、該混合物を攪拌しながら30℃まで冷却してアイシャドウを調製した。
ペースト状リップグロス
表8に示した各成分を110℃において均一に溶解した後、脱泡した。次いで、該混合物を30℃まで冷却してリップグロスを調製した。
ペースト状リップグロス
合成実施例2のエステル化合物に代えて、夫々、合成比較例1及び2のエステル化合物を使用したこと以外は、実施例15と同一にして実施した。
パレット型リップグロス
表9に示した各成分を110℃において均一に溶解した後、脱泡した。次いで、該混合物を適当な金型に流し込み、30℃まで冷却してリップグロスを調製した。
リップスティック
表10に示した各成分を110℃において均一に溶解した後、脱泡した。次いで、該混合物を適当な金型に流し込み、10℃で20分間冷却してリップスティックを調製した。
リップスティック
合成実施例4のエステル化合物に代えて、合成比較例3のエステル化合物を使用したこと以外は、実施例24と同一にして実施した。
Claims (19)
- 多価アルコールと脂肪酸とから成るエステル化合物を含む化粧料用油性基剤において、エステル化合物がペンタエリスリトールとイソノナン酸とから成り、かつ、該エステル化合物中のペンタエリスリトール残基とイソノナン酸残基とのモル比が、1.0:2.3〜1.0:4.0であり、かつ、該エステル化合物が、テトライソノナン酸ペンタエリスリチルと、トリイソノナン酸ペンタエリスリチル、ジイソノナン酸ペンタエリスリチル及びモノイソノナン酸ペンタエリスリチルより成る群から選ばれる1種類以上との混合物であることを特徴とする化粧料用油性基剤。
- ペンタエリスリトール残基とイソノナン酸残基とのモル比が、1.0:2.5〜1.0:4.0である請求項1記載の化粧料用油性基剤。
- ペンタエリスリトール残基とイソノナン酸残基とのモル比が、1.0:3.0〜1.0:4.0である請求項1記載の化粧料用油性基剤。
- 上記エステル化合物が、
テトライソノナン酸ペンタエリスリチル 100質量部未満20.0質量部以上、
トリイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超55.0質量部以下、
ジイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超30.0質量部以下、及び
モノイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部以上10.0質量部以下
の合計100質量部から成る請求項1〜3のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。 - 上記エステル化合物が、
テトライソノナン酸ペンタエリスリチル 100質量部未満22.0質量部以上、
トリイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超52.0質量部以下、
ジイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超25.0質量部以下、及び
モノイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部以上5.0質量部以下
の合計100質量部から成る請求項1〜3のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。 - 上記エステル化合物が、
テトライソノナン酸ペンタエリスリチル 100質量部未満40.0質量部以上、
トリイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超45.0質量部以下、
ジイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部超15.0質量部以下、及び
モノイソノナン酸ペンタエリスリチル 0質量部以上2.0質量部以下
の合計100質量部から成る請求項1〜3のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。 - 水酸基価が0.3〜140である請求項1〜6のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。
- 水酸基価が0.5〜90である請求項1〜6のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。
- 粘度(25℃)が300〜1,000mPa・sである請求項1〜8のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。
- 粘度(25℃)が300〜800mPa・sである請求項1〜8のいずれか一つに記載の化粧料用エステル化合物。
- 粘度(25℃)が300〜600mPa・sである請求項1〜8のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。
- 数平均分子量が500〜800である請求項1〜11のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。
- 数平均分子量が520〜780である請求項1〜11のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。
- 数平均分子量が540〜760である請求項1〜11のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。
- 請求項1〜14のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤を含む化粧料。
- スキンクリーム、ヘアトリートメント、ファンデーション、マスカラ、アイシャドウ、リップグロス又はリップスティック用の請求項1〜14のいずれか一つに記載の化粧料用油性基剤。
- 多価アルコールと脂肪酸とを反応せしめて、化粧料用油性基剤用のエステル化合物を製造する方法において、多価アルコールがペンタエリスリトールであり、脂肪酸がイソノナン酸であり、かつ上記反応におけるペンタエリスリトールとイソノナン酸とのモル当量比が、1.0:2.3〜1.0:4.0であり、かつ、得られたエステル化合物が、テトライソノナン酸ペンタエリスリチルと、トリイソノナン酸ペンタエリスリチル、ジイソノナン酸ペンタエリスリチル及びモノイソノナン酸ペンタエリスリチルより成る群から選ばれる1種類以上との混合物であることを特徴とする方法。
- ペンタエリスリトールとイソノナン酸とのモル当量比が、1.0:2.5〜1.0:4.0である請求項17記載の方法。
- ペンタエリスリトールとイソノナン酸とのモル当量比が、1.0:3.0〜1.0:4.0である請求項17記載の方法。
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