JP5645435B2 - Aluminum oxide precursor sol and method for producing optical member - Google Patents

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Description

本発明は、酸化アルミニウム前駆体ゾル及びそれを用いた反射防止性能を有する光学用部材の製造方法に関し、さらに詳述すると可視領域を含む広い領域で高い反射防止性能を安定して得るのに適した光学用部材の製造方法に関する。   The present invention relates to an aluminum oxide precursor sol and a method for producing an optical member having antireflection performance using the same, and more specifically, suitable for stably obtaining high antireflection performance in a wide region including the visible region. The present invention also relates to a method for manufacturing optical members.

可視光領域の波長以下の微細周期構造を用いた反射防止構造体は、適切なピッチ、高さの微細周期構造を形成することにより、広い波長領域ですぐれた反射防止性能を示すことが知られている。   It is known that an antireflection structure using a fine periodic structure with a wavelength equal to or smaller than the wavelength in the visible light region exhibits excellent antireflection performance in a wide wavelength region by forming a fine periodic structure with an appropriate pitch and height. ing.

微細周期構造を形成する方法としては、可視光波長以下の粒径の微粒子を分散した膜の塗布などが知られている。また、電子線描画装置やレーザー干渉露光装置,半導体露光装置,エッチング装置などの微細加工装置によるパターン形成によって微細周期構造を形成する方法は、ピッチ、高さの制御が可能であり、またすぐれた反射防止性を持つ微細周期構造を形成することが出来ることが知られている(特許文献1)。   As a method for forming a fine periodic structure, coating of a film in which fine particles having a particle diameter of not more than a visible light wavelength are dispersed is known. In addition, the method of forming a fine periodic structure by pattern formation by a fine processing apparatus such as an electron beam lithography apparatus, a laser interference exposure apparatus, a semiconductor exposure apparatus, or an etching apparatus can control the pitch and height, and is excellent. It is known that a fine periodic structure having antireflection properties can be formed (Patent Document 1).

それ以外の方法として、アルミニウムの水酸化酸化物であるベーマイトを基材上に成長させて反射防止効果を得ることも知られている。これらの方法では、液相法(ゾルゲル法)により成膜したアルミニウム(酸化アルミニウム)の膜を水蒸気処理あるいは温水浸漬処理により、表層をベーマイト化して微細周期構造を形成し、反射防止膜を得ている(特許文献2)。   As another method, it is also known that boehmite, which is an aluminum hydroxide oxide, is grown on a substrate to obtain an antireflection effect. In these methods, an aluminum (aluminum oxide) film formed by a liquid phase method (sol-gel method) is formed into a fine periodic structure by boehmite surface treatment by steam treatment or hot water immersion treatment to obtain an antireflection film. (Patent Document 2).

ベーマイトの微細周期構造を用いて反射防止膜を形成する方法では、垂直入射による反射率が極めて低く、高い反射防止性が得られることが知られている。しかしながら高い反射防止性を維持するためには微細周期構造の高さや周期を一定にすることが求められ、前記の真空製膜法で微細周期構造を形成する方法では曲面上や広い面での膜厚制御が困難であった。一方、液相法(ゾルゲル法)により酸化アルミニウム膜を形成し温水浸漬処理する方法では、各種面形状に微細周期構造を形成できる。しかしながら、アルミニウム化合物の加水分解により合成される酸化アルミニウム前駆体ゾルは、コーティング用としては必ずしも安定ではない。そのため、基材上にムラ無く塗布した上、温水処理後に反射率のばらつきの小さい反射防止膜を得ることは困難であった。   It is known that a method of forming an antireflection film using a fine periodic structure of boehmite has a very low reflectivity due to normal incidence and can provide high antireflection properties. However, in order to maintain high antireflection properties, it is required to make the height and period of the fine periodic structure constant. In the method of forming the fine periodic structure by the vacuum film forming method, the film on a curved surface or a wide surface is required. Thickness control was difficult. On the other hand, in a method of forming an aluminum oxide film by a liquid phase method (sol-gel method) and performing a hot water immersion treatment, a fine periodic structure can be formed in various surface shapes. However, an aluminum oxide precursor sol synthesized by hydrolysis of an aluminum compound is not always stable for coating. Therefore, it has been difficult to obtain an antireflection film having a small variation in reflectance after hot water treatment after being applied evenly on a substrate.

特開昭50-70040号公報Japanese Patent Laid-Open No. 50-70040 特開平09-202649号公報JP 09-202649 A

上記の様な酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いて反射防止膜を形成する液相法(ゾルゲル法)において、凝集などによりコーティング用としての安定性が損なわれない酸化アルミニウム前駆体ゾルと、それを用いたより簡便でバラツキの少ない高性能な反射防止膜の製造方法が望まれている。   In the liquid phase method (sol-gel method) in which the antireflection film is formed using the aluminum oxide precursor sol as described above, the aluminum oxide precursor sol that does not impair the stability for coating due to aggregation, etc. In addition, there is a demand for a method for producing a high-performance antireflection film that is simpler and has less variation.

本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、コーティング用としての安定性の高い酸化アルミニウム前駆体ゾル、および高い反射防止性能を示し、反射率のばらつきの少ない反射防止膜を有する光学用部材の製造方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of the background art as described above, and provides a highly stable aluminum oxide precursor sol for coating, and an antireflection film exhibiting high antireflection performance and low variation in reflectance. The manufacturing method of the optical member which has is provided.

上記の課題を解決する酸化アルミニウム前駆体ゾルは、アルミニウム化合物の加水分解物および/またはその縮合物を成分として含有する粒子と、溶媒を含み、前記粒子の平均粒子径が2.5nm以上7nm以下であり、前記溶媒は、炭素数5以上8以下の一価のアルコールを50重量%以上90重量%以下、沸点110℃以上170℃以下の水溶性溶媒を10重量%以上50重量%以下の割合で含有することを特徴とする。 An aluminum oxide precursor sol that solves the above problems includes particles containing a hydrolyzate of an aluminum compound and / or a condensate thereof as components, and a solvent, and the average particle size of the particles is 2.5 nm to 7 nm. der is, the solvent, the alcohol having 5 to 8 monovalent carbon 50 wt% to 90 wt% or less, the boiling point of 110 ° C. or higher 170 ° C. or less water-soluble solvent to the following 50 wt% 10 wt% or more characterized that you a proportion.

上記の課題を解決する光学用部材の製造方法は、
(1)基材の少なくとも一方の面上に上記の酸化アルミニウム前駆体ゾルを供給する工程、
(2)前記酸化アルミニウム前駆体ゾルを基材上に広げる工程、
(3)基材を乾燥および/または焼成を行うことにより酸化アルミニウム膜を形成する工程、
(4)前記酸化アルミニウム膜を60℃以上100℃以下の温水中に浸漬して酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造を形成する工程を有することを特徴とする。
The manufacturing method of the optical member that solves the above problems is as follows.
(1) supplying the above-mentioned aluminum oxide precursor sol on at least one surface of the substrate;
(2) a step of spreading the aluminum oxide precursor sol on a substrate;
(3) a step of forming an aluminum oxide film by drying and / or firing the substrate;
(4) The method includes a step of forming an uneven structure of aluminum oxide boehmite by immersing the aluminum oxide film in warm water of 60 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

本発明によれば、液中で凝集などが起こり難くコーティング用としての安定性の高い酸化アルミニウム前駆体ゾルを提供することができる。またその酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いることにより、高い反射防止性能を示し、反射率のばらつきの少ない反射防止膜を有する光学用部材の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an aluminum oxide precursor sol that is less likely to aggregate in a liquid and has high stability for coating. Further, by using the aluminum oxide precursor sol, it is possible to provide a method for producing an optical member having an antireflection film that exhibits high antireflection performance and has little variation in reflectance.

本発明に係る酸化アルミニウム前駆体ゾルに含有されている粒子の粒度分布曲線の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the particle size distribution curve of the particle | grains contained in the aluminum oxide precursor sol which concerns on this invention. 本発明の光学用部材の製造方法の一実施形態を示す工程図である。It is process drawing which shows one Embodiment of the manufacturing method of the optical member of this invention. 本発明の光学用部材の一実施態様を示す概略図である。It is the schematic which shows one embodiment of the optical member of this invention. 本発明の光学用部材の一実施態様を示す概略図である。It is the schematic which shows one embodiment of the optical member of this invention. 本発明の光学用部材の一実施態様を示す概略図である。It is the schematic which shows one embodiment of the optical member of this invention. 本発明の光学用部材の一実施態様を示す概略図である。It is the schematic which shows one embodiment of the optical member of this invention. 実施例3における酸化アルミニウム前駆体ゾル5の粒度分布曲線である。4 is a particle size distribution curve of an aluminum oxide precursor sol 5 in Example 3. FIG. 比較例1における酸化アルミニウム前駆体ゾル1の粒度分布曲線である。2 is a particle size distribution curve of an aluminum oxide precursor sol 1 in Comparative Example 1. 比較例3における酸化アルミニウム前駆体ゾル7の粒度分布曲線である。4 is a particle size distribution curve of an aluminum oxide precursor sol 7 in Comparative Example 3. 実施例1から4および比較例1から3における酸化アルミニウム前駆体ゾル1から7の触媒水量と粘度との関係を表す曲線である。It is a curve showing the relationship between the amount of catalyst water and the viscosity of the aluminum oxide precursor sols 1 to 7 in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3. 実施例1から4および比較例1から3における酸化アルミニウム前駆体ゾル1から7の触媒水量と平均粒子径との関係を表す曲線である。It is a curve showing the relationship between the catalyst water amount and the average particle diameter of the aluminum oxide precursor sols 1 to 7 in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3. 実施例1から4および比較例1から3における、酸化アルミニウム前駆体ゾル1から7の触媒水量と主なピーク面積との関係を表す曲線である。4 is a curve showing the relationship between the amount of catalyst water and the main peak area of aluminum oxide precursor sols 1 to 7 in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3. 実施例9、10および比較例9、10における光学膜の波長400から700nmの絶対反射率を示すグラフである。6 is a graph showing absolute reflectances of optical films having wavelengths of 400 to 700 nm in Examples 9 and 10 and Comparative Examples 9 and 10;

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明に係る酸化アルミニウム前駆体ゾルは、アルミニウム化合物の加水分解物および/またはその縮合物を成分として含有する粒子と、溶媒を含み、前記粒子の平均粒子径が2.5nm以上7nm以下であることを特徴とする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The aluminum oxide precursor sol according to the present invention includes particles containing a hydrolyzate of an aluminum compound and / or a condensate thereof as components, and a solvent, and the average particle size of the particles is 2.5 nm to 7 nm. It is characterized by that.

本発明の酸化アルミニウム前駆体ゾルは、基材上に塗布、乾燥してから温水中に浸漬すると酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造を形成することができ、後述する本発明の光学用部材の製造方法に用いるのに適している。   The aluminum oxide precursor sol of the present invention can form an uneven structure of aluminum oxide boehmite when coated on a substrate, dried and then immersed in warm water. Suitable for use.

本発明の酸化アルミニウム前駆体ゾルは、アルミニウム化合物を溶媒中で水と接触させて得られるアルミニウム化合物の加水分解物および/またはその縮合物を主成分として含んでいる。アルミニウム化合物をAl−X(Xはアルコキシル基、アシロキシル基、ハロゲン基、硝酸イオンを表す)とした時に、その加水分解物とはAl−X(OH)、Al−X(OH)、あるいはAl−(OH)で表される化合物である。前記加水分解物はその−OH基同士あるいは−X基と−OH基が反応してHOあるいはXHの脱離を伴いながらAl−O−Al結合を形成する。その結果得られる1個以上のAl−O−Al結合を有し、直鎖構造または枝分かれ構造を持った化合物がアルミニウム化合物の縮合物である。前記粒子が非晶質であることが好ましい。 The aluminum oxide precursor sol of the present invention contains, as a main component, a hydrolyzate and / or condensate thereof obtained by contacting an aluminum compound with water in a solvent. When the aluminum compound is Al-X 3 (X represents an alkoxyl group, an acyloxyl group, a halogen group, or a nitrate ion), the hydrolyzate is Al-X 2 (OH), Al-X (OH) 2 , Alternatively, it is a compound represented by Al— (OH) 3 . In the hydrolyzate, the —OH groups or the —X group and —OH group react to form an Al—O—Al bond with the elimination of H 2 O or XH. The resulting compound having one or more Al—O—Al bonds and having a linear structure or a branched structure is a condensate of aluminum compounds. The particles are preferably amorphous.

その縮合物はゲルおよび/または粒子として存在すると考えられ、そのため酸化アルミニウム前駆体ゾルを動的光散乱法により測定すると、散乱光強度から粒度分布曲線が得られる。さらに粒度分布曲線に見られる各山からは平均粒子径が、各山の面積からある平均粒子径を持つ粒子の割合を求めることができる。   The condensate is considered to exist as a gel and / or particles. Therefore, when the aluminum oxide precursor sol is measured by a dynamic light scattering method, a particle size distribution curve is obtained from the scattered light intensity. Furthermore, from each peak seen in the particle size distribution curve, the ratio of particles having an average particle diameter from the area of each peak can be determined.

本発明に係る酸化アルミニウム前駆体ゾルの粒度分布曲線に見られる各山から求められる粒子の平均粒子径は2.5nm以上7nm以下である。前記範囲の粒子径を有する酸化アルミニウム前駆体ゾルは基材への塗工性に優れ、膜厚均一性が高い。
好ましくは、本発明に係る酸化アルミニウム前駆体ゾルの粒度分布曲線が単独のピークを持つ少なくとも1つ以上の山を有し、前記山の内一つの山の平均粒子径が2.5nm以上7nm以下であり、かつ平均粒子径が2.5nm以上7nm以下の山の面積が粒度分布曲線の総面積に対して90%以上である。より好ましくは98%以上である。
The average particle size of the particles obtained from each peak seen in the particle size distribution curve of the aluminum oxide precursor sol according to the present invention is 2.5 nm or more and 7 nm or less. An aluminum oxide precursor sol having a particle diameter in the above range is excellent in coating property to a substrate and has high film thickness uniformity.
Preferably, the particle size distribution curve of the aluminum oxide precursor sol according to the present invention has at least one or more peaks having a single peak, and the average particle diameter of one of the peaks is 2.5 nm or more and 7 nm or less. In addition, the area of the peaks having an average particle diameter of 2.5 nm or more and 7 nm or less is 90% or more with respect to the total area of the particle size distribution curve. More preferably, it is 98% or more.

図1は、本発明に係る酸化アルミニウム前駆体ゾルに含有されている粒子の粒度分布曲線の一例を示す図である。図1における粒度分布曲線は、横軸に粒子径を対数で表し、縦軸に散乱強度を表す。この粒度分布曲線はピーク1を持つ山とピーク2を持つ山の2つの山を有する。Aはピーク1を持つ山の平均粒子径を、Bはピーク2を持つ山の平均粒子径を表す。本発明における酸化アルミニウム前駆体ゾル中の粒子は、ピーク1を持つ山の平均粒子径Aで、2.5nm以上7nm以下、好ましくは3nm以上6nm以下の範囲にある。その上、ピーク1を持つ山の面積の割合が、ピーク1を持つ山およびピーク2を持つ山の面積の和、つまり粒度分布曲線の総面積に対して90%以上であることが好ましい。   FIG. 1 is a diagram showing an example of a particle size distribution curve of particles contained in an aluminum oxide precursor sol according to the present invention. In the particle size distribution curve in FIG. 1, the horizontal axis represents the particle diameter in logarithm, and the vertical axis represents the scattering intensity. This particle size distribution curve has two peaks, a peak with peak 1 and a peak with peak 2. A represents the average particle diameter of the peak having peak 1 and B represents the average particle diameter of the peak having peak 2. The particles in the aluminum oxide precursor sol in the present invention have an average particle diameter A of peaks having a peak 1, and are in the range of 2.5 nm to 7 nm, preferably 3 nm to 6 nm. In addition, the ratio of the area of the peak having peak 1 is preferably 90% or more with respect to the sum of the areas of the peaks having peak 1 and peak 2, that is, the total area of the particle size distribution curve.

アルミニウム化合物の加水分解縮合物は単一のピーク1を持つ山として現れるが、水と接触させる際に副生成物として僅かに不溶物を生成する。この不溶物由来と思われる数100nmから数10μmに広がるブロードなピークがピーク2を持つ山として観測される。   Although the hydrolysis condensate of an aluminum compound appears as a peak having a single peak 1, it forms a slightly insoluble matter as a by-product upon contact with water. A broad peak extending from several hundred nm to several tens of μm, which is thought to be derived from this insoluble matter, is observed as a peak having peak 2.

酸化アルミニウム前駆体ゾル中の加水分解縮合物は成長初期には微細なゲルであり、さらに成長すると粒子になる。ゲルから粒子への形態変化が起こる初期の段階では粒子径は2nm前後であり大きな粒子径の増加は起こらない。ところが、ゲルから粒子への形態変化に伴い、ゲル同士の凝集が起こり難くなり酸化アルミニウム前駆体ゾルの粘度が低下する。ゾルから粒子への変化が完全に進むと粒子径の増加が始まり、酸化アルミニウム前駆体ゾルの粘度は極小値をとる。粘度が極小になる領域の粒子径が2.5nm程度であり、さらに粒子が成長すると粒子径の増加に伴い酸化アルミニウム前駆体ゾルの粘度は上昇する。粒子径が7nmを超えると、粒子の成長が加速し粒子径が急激に増加して凝集が起こり易くなる。つまり、酸化アルミニウム前駆体ゾル中の縮合物がある程度成長して凝集が起こり難い粒子の状態になり、さらに成長して再び凝集が起こり易くなるまでの間の状態が平均粒子径2.5nm以上7nm以下の範囲である。   The hydrolyzed condensate in the aluminum oxide precursor sol is a fine gel at the beginning of growth, and becomes particles when grown further. At the initial stage where the morphological change from gel to particles occurs, the particle size is around 2 nm and no large increase in particle size occurs. However, as the form changes from gel to particles, the gels hardly aggregate and the viscosity of the aluminum oxide precursor sol decreases. When the change from the sol to the particles completely proceeds, the particle diameter starts to increase, and the viscosity of the aluminum oxide precursor sol takes a minimum value. The particle diameter in the region where the viscosity is minimized is about 2.5 nm, and when the particle grows further, the viscosity of the aluminum oxide precursor sol increases as the particle diameter increases. When the particle diameter exceeds 7 nm, the growth of particles accelerates, the particle diameter increases rapidly, and aggregation tends to occur. That is, the condensate in the aluminum oxide precursor sol grows to some extent and becomes a state of particles in which aggregation is unlikely to occur, and the state until it further grows and tends to occur again is an average particle size of 2.5 nm to 7 nm. The range is as follows.

本発明の酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いて酸化アルミニウム膜を製膜し温水処理すると、平均粒子径2.5nm未満の粒子が90%以上含まれる酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いた時に比べて反射防止特性の優れた反射防止膜を得ることができる。さらに平均粒子径が2.5nm未満の粒子は発達が不十分なため酸化アルミニウム前駆体ゾル中のゲル状物質と浮遊する副生成物が多く、特に数100nmから数10μmに広がる副生成物由来のブロードな山がメンブレンフィルターによる濾過後も残留する。このような酸化アルミニウム前駆体ゾルは塗工液としては不安定であり好ましくない。一方、平均粒子径が7nmを超える粒子は粒子同士の凝集力が強くなるため、独立した粒子と凝集した粒子が混在することになる。凝集した粒子を多く含む場合、濾過時のフィルターの目詰まりを招く。また凝集した粒子が少ない場合でも酸化アルミニウム前駆体ゾルの粘度は高く、塗工から指触乾燥までの間に凝集が進み急激な粘度上昇を引き起こす。   When an aluminum oxide film is formed using the aluminum oxide precursor sol of the present invention and heated with water, it is more antireflective than when an aluminum oxide precursor sol containing 90% or more of particles having an average particle diameter of less than 2.5 nm is used. An antireflection film having excellent characteristics can be obtained. Furthermore, since particles with an average particle diameter of less than 2.5 nm are not sufficiently developed, there are many by-products that float with the gel-like substance in the aluminum oxide precursor sol, especially those derived from by-products that extend from several hundred nm to several tens of μm. Broad peaks remain after filtration through the membrane filter. Such an aluminum oxide precursor sol is not preferable because it is unstable as a coating solution. On the other hand, particles having an average particle diameter of more than 7 nm have a stronger cohesion force between particles, so that independent particles and aggregated particles are mixed. When many agglomerated particles are contained, the filter is clogged during filtration. Even when there are few agglomerated particles, the viscosity of the aluminum oxide precursor sol is high, and agglomeration progresses from coating to touch drying, causing a sudden increase in viscosity.

また、酸化アルミニウム前駆体ゾルが副生成物や凝集物を多く含み、先述した100nmから数10μmに広がる副生成物由来のブロードな山の面積が10%以上になると、酸化アルミニウム膜を製膜し、温水処理すると反射率が安定しない場合がある。
酸化アルミニウム前駆体ゾルには、アルミニウム化合物とともに少量のZr、Si、Ti、Zn、Mgの各々の化合物の少なくとも1種からなる金属化合物とを用いることができる。これらの金属化合物としては各々の金属アルコキシドや塩化物や硝酸塩などの金属塩化合物を用いることができる。ゾルを調製時の副生成物がコーティングの際の製膜性に与える影響が小さいなどの理由から、特に金属アルコキシドを用いるのが好ましい。また、金属化合物の総量100モル%中のアルミニウム化合物の含まれる量は90モル%以上が好ましい。
Also, when the aluminum oxide precursor sol contains a lot of by-products and aggregates and the area of broad peaks derived from the by-products extending from 100 nm to several tens of μm is 10% or more, an aluminum oxide film is formed. If treated with warm water, the reflectance may not be stable.
For the aluminum oxide precursor sol, a small amount of a metal compound composed of at least one of each of Zr, Si, Ti, Zn, and Mg can be used together with the aluminum compound. As these metal compounds, respective metal alkoxides, metal salt compounds such as chlorides and nitrates can be used. It is particularly preferable to use a metal alkoxide for the reason that the by-product during preparation of the sol has a small influence on the film forming property during coating. Further, the amount of the aluminum compound contained in the total amount of the metal compound of 100 mol% is preferably 90 mol% or more.

本発明の酸化アルミニウム前駆体ゾルに含有されるアルミニウム化合物の加水分解物および/またはその縮合物を成分として含有する粒子の含有量は、金属酸化物に換算して1重量%以上7重量%以下、好ましくは2.5重量%以上6重量%以下が望ましい。   The content of particles containing the hydrolyzate of the aluminum compound and / or the condensate thereof as a component in the aluminum oxide precursor sol of the present invention is 1% by weight or more and 7% by weight or less in terms of metal oxide. Preferably, it is 2.5 to 6% by weight.

アルミニウム化合物などの金属化合物の具体例は以下に例示する。
アルミニウム化合物としては、例えば、アルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム−n−ブトキシド、アルミニウム−sec−ブトキシド、アルミニウム−tert−ブトキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、またこれらのオリゴマー、硝酸アルミニウム、塩化アルミニウム、酢酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、水酸化アルミニウムなどが挙げられる。
Specific examples of metal compounds such as aluminum compounds are exemplified below.
Examples of the aluminum compound include aluminum ethoxide, aluminum isopropoxide, aluminum-n-butoxide, aluminum-sec-butoxide, aluminum-tert-butoxide, aluminum acetylacetonate, and oligomers thereof, aluminum nitrate, aluminum chloride, Examples include aluminum acetate, aluminum phosphate, aluminum sulfate, and aluminum hydroxide.

ジルコニウムアルコキシドの具体例として、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラn−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラn−ブトキシド、ジルコニウムテトラt−ブトキシド等などが挙げられる。   Specific examples of the zirconium alkoxide include zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra n-propoxide, zirconium tetraisopropoxide, zirconium tetra n-butoxide, zirconium tetra t-butoxide and the like.

シリコンアルコキシドとしては、一般式Si(OR)で表される各種のものを使用することができる。Rはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等の同一または別異の低級アルキル基が挙げられる。 As the silicon alkoxide, various compounds represented by the general formula Si (OR) 4 can be used. R may be the same or different lower alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group and isobutyl group.

チタニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラn−プロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラn−ブトキシチタン、テトライソブトキシチタン等が挙げられる。   Examples of the titanium alkoxide include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra n-propoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetra n-butoxy titanium, and tetraisobutoxy titanium.

亜鉛化合物としては、例えば酢酸亜鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、オレイン酸亜鉛、サリチル酸亜鉛などが挙げられ、特に酢酸亜鉛、塩化亜鉛が好ましい。
マグネシウム化合物としてはジメトキシマグネシウム、ジエトキシマグネシウム、ジプロポキシマグネシウム、ジブトキシマグネシウム等のマグネシウムアルコキシド、マグネシウムアセチルアセトネート、塩化マグネシウム等が挙げられる。
Examples of the zinc compound include zinc acetate, zinc chloride, zinc nitrate, zinc stearate, zinc oleate, and zinc salicylate, with zinc acetate and zinc chloride being particularly preferred.
Examples of the magnesium compound include magnesium alkoxides such as dimethoxy magnesium, diethoxy magnesium, dipropoxy magnesium and dibutoxy magnesium, magnesium acetylacetonate, magnesium chloride and the like.

上記の金属化合物の中でもアルミニウム−n−ブトキシド、アルミニウム−sec−ブトキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラn−ブトキシド、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシチタン、テトラn−ブトキシチタン、ジプロポキシマグネシウム、ジブトキシマグネシウムなどの金属アルコキシドを原材料に用いることが好ましい。   Among the above metal compounds, aluminum-n-butoxide, aluminum-sec-butoxide, zirconium tetraisopropoxide, zirconium tetra-n-butoxide, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxytitanium, tetran-butoxytitanium, di A metal alkoxide such as propoxymagnesium or dibutoxymagnesium is preferably used as a raw material.

前記金属化合物の内、特にアルミニウム、ジルコニウム、チタニウムのアルコキシドは水に対する反応性が高く、空気中の水分や水の添加により急激に加水分解され溶液の白濁、沈殿を生じる。また、アルミニウム塩化合物、亜鉛塩化合物、マグネシウム塩化合物は有機溶媒のみでは溶解が困難で、溶液の安定性が低い。これらを防止するために安定化剤を添加し、溶液の安定化を図ることが好ましい。   Among the metal compounds, aluminum, zirconium, and titanium alkoxides are particularly highly reactive with water, and are rapidly hydrolyzed by the addition of water and water in the air, resulting in cloudiness and precipitation of the solution. In addition, aluminum salt compounds, zinc salt compounds, and magnesium salt compounds are difficult to dissolve with only an organic solvent, and the stability of the solution is low. In order to prevent these, it is preferable to add a stabilizer to stabilize the solution.

安定化剤としては、例えば、アセチルアセトン、ジピロバイルメタン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン化合物類。アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸アリル、アセト酢酸ベンジル、アセト酢酸−iso−プロピル、アセト酢酸−tert−ブチル、アセト酢酸−iso−ブチル、アセト酢酸−2−メトキシエチル、3−ケト−n−バレリック酸メチルなどの、β−ケトエステル化合物類。さらには、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどの、アルカノールアミン類等を挙げることができる。   Examples of the stabilizer include β-diketone compounds such as acetylacetone, dipyrobaylmethane, trifluoroacetylacetone, hexafluoroacetylacetone, benzoylacetone, and dibenzoylmethane. Methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, allyl acetoacetate, benzyl acetoacetate, acetoacetate-iso-propyl, acetoacetate-tert-butyl, acetoacetate-iso-butyl, acetoacetate-2-methoxyethyl, 3-keto-n Β-ketoester compounds such as methyl valeric acid. Furthermore, alkanolamines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine can be exemplified.

安定化剤の添加量は金属化合物の種類によって異なるが、アルミニウムアルコキシド1モルに対して0.2モル以上2モル以下が好ましい。また、安定化剤は水を加える前に、一定時間アルコキシドと混合することによって効果を発揮する。   Although the addition amount of a stabilizer changes with kinds of metal compound, 0.2 mol or more and 2 mol or less are preferable with respect to 1 mol of aluminum alkoxides. In addition, the stabilizer is effective by mixing with the alkoxide for a certain period of time before adding water.

加水分解を引き起こすためには、水を適量添加する必要がある。水の添加量は溶媒や濃度によって適量が変化する。水の添加量は、アルミニウム化合物1モルに対し1.2モル以上2モル未満であることが好ましい。   In order to cause hydrolysis, it is necessary to add an appropriate amount of water. The amount of water added varies depending on the solvent and concentration. The amount of water added is preferably 1.2 mol or more and less than 2 mol with respect to 1 mol of the aluminum compound.

また、加水分解反応の一部を促進する目的で水に触媒を加えることができる。触媒として塩酸、リン酸などを0.1mol/L以下の濃度で用いることが好ましい。
溶媒としては、アルミニウム化合物などの原料が均一に溶解し、かつ粒子が凝集などしない有機溶媒であれば良い。例えばメタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチルプロパノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、シクロペンタノール、2−メチルブタノール、3−メチルブタノール、1−ヘキサノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノール、4−メチル−2―ペンタノール、2−メチル−1―ペンタノール、2−エチルブタノール、2,4−ジメチル−3―ペンタノール、3−エチルブタノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノールなどの1価のアルコール類:エチレングリコール、トリエチレングリコールなどの2価以上のアルコール類:メトキシエタノール(沸点125℃)、エトキシエタノール(沸点136℃)、プロポキシエタノール(沸点151℃)、イソプロポキシエタノール(沸点141℃)、ブトキシエタノール(沸点170℃)、1−メトキシ−2−プロパノール(沸点120℃)、1―エトキシ−2−プロパノール(沸点132℃)、1−プロポキシ−2−プロパノール(沸点140から160℃)などのグリコールエーテル類:ジメトキシエタン、ジグライム、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテルのようなエーテル類:ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類:n−ヘキサン、n−オクタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、シクロオクタンのような各種の脂肪族系ないしは脂環族系の炭化水素類:トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの各種の芳香族炭化水素類:アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの各種のケトン類:クロロホルム、メチレンクロライド、四塩化炭素、テトラクロロエタンのような、各種の塩素化炭化水素類:N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、エチレンカーボネートのような非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。
Moreover, a catalyst can be added to water for the purpose of promoting a part of the hydrolysis reaction. It is preferable to use hydrochloric acid, phosphoric acid or the like as a catalyst at a concentration of 0.1 mol / L or less.
The solvent may be an organic solvent in which a raw material such as an aluminum compound is uniformly dissolved and particles do not aggregate. For example, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methylpropanol, 1-pentanol, 2-pentanol, cyclopentanol, 2-methylbutanol, 3-methylbutanol, 1-hexanol, 2-hexanol, 3-hexanol, 4-methyl-2-pentanol, 2-methyl-1-pentanol, 2-ethylbutanol, 2,4-dimethyl-3-pentanol, 3-ethylbutanol Monohydric alcohols such as 1-heptanol, 2-heptanol, 1-octanol and 2-octanol: Divalent or higher alcohols such as ethylene glycol and triethylene glycol: methoxyethanol (boiling point 125 ° C.), ethoxyethanol ( Boiling point 136 ° C), propoxy Tanol (boiling point 151 ° C), isopropoxyethanol (boiling point 141 ° C), butoxyethanol (boiling point 170 ° C), 1-methoxy-2-propanol (boiling point 120 ° C), 1-ethoxy-2-propanol (boiling point 132 ° C), Glycol ethers such as 1-propoxy-2-propanol (boiling point 140 to 160 ° C.): ethers such as dimethoxyethane, diglyme, tetrahydrofuran, dioxane, diisopropyl ether, cyclopentyl methyl ether: ethyl formate, ethyl acetate, n-acetate Estes such as butyl, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate Class: Various aliphatic or alicyclic hydrocarbons such as n-hexane, n-octane, cyclohexane, cyclopentane, and cyclooctane: Various aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and ethylbenzene: Various ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone: Various chlorinated hydrocarbons such as chloroform, methylene chloride, carbon tetrachloride, and tetrachloroethane: N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylform Examples include an aprotic polar solvent such as amide, N, N-dimethylacetamide, and ethylene carbonate.

上記溶媒の中でもアルミニウム化合物の溶解性が高く、吸湿し難い点で炭素数5以上8以下の一価のアルコールが好ましい。溶媒の吸湿によりアルミニウム化合物の加水分解が進行すると粒径の制御が困難になる。また塗工時の吸湿は粒子の凝集を招き、光学特性の安定性を損なう。さらに、一般的な低沸点アルコールを用いると溶媒の揮発が早く、前述した安定化剤が膜中に残存するため光学特性に影響を与えるが、炭素数5以上8以下の一価のアルコールは用いると乾燥および/または焼成時に溶媒が安定化剤を伴って揮発するため安定化剤が残存し難い。一方、前記炭素数5以上8以下の一価のアルコールは疎水性が高く、加水分解に必要な水を均一に混合できず粒径を一定にすることが困難である。そのため炭素数5以上8以下の一価のアルコールに対し水溶性溶媒を併用することが好ましい。ここで述べる水溶性溶媒とは23℃の溶媒に対する水の溶解度が80重量%以上である溶媒を指す。   Among the above solvents, monohydric alcohols having 5 or more and 8 or less carbon atoms are preferable in that the solubility of the aluminum compound is high and it is difficult to absorb moisture. When the hydrolysis of the aluminum compound proceeds due to moisture absorption by the solvent, it becomes difficult to control the particle size. Also, moisture absorption during coating causes particle aggregation and impairs the stability of optical properties. Further, when a general low boiling point alcohol is used, the solvent evaporates quickly, and the stabilizer described above remains in the film, which affects the optical characteristics. However, a monohydric alcohol having 5 to 8 carbon atoms is used. In addition, since the solvent volatilizes with the stabilizer during drying and / or firing, the stabilizer hardly remains. On the other hand, the monohydric alcohol having 5 or more and 8 or less carbon atoms has high hydrophobicity, and water necessary for hydrolysis cannot be uniformly mixed, and it is difficult to make the particle size constant. Therefore, it is preferable to use a water-soluble solvent in combination with a monohydric alcohol having 5 to 8 carbon atoms. The water-soluble solvent described here refers to a solvent having a solubility of water in a solvent at 23 ° C. of 80% by weight or more.

本発明の酸化アルミニウム前駆体ゾルに含有される溶媒の含有量は、50重量%以上98重量%以下、好ましくは60重量%以上93重量%以下が望ましい。
前記溶媒の混合比としては、炭素数5以上8以下の一価のアルコールを50重量%以上90重量%以下、沸点110℃以上170℃以下の水溶性溶媒を10重量%以上50重量%以下の割合で含有することが好ましい。水溶性溶媒は110℃以上170℃以下の沸点を有する水溶性溶媒である。沸点110℃未満の水溶性溶媒を用いると、揮発による吸湿や白化が起こり易い。沸点170℃を超える水溶性溶媒を用いると、乾燥後も酸化アルミニウム膜中に残存して反射率のばらつきを生じる。前記水溶性溶媒がグリコールエーテルであることが好ましい。
The content of the solvent contained in the aluminum oxide precursor sol of the present invention is 50% by weight to 98% by weight, preferably 60% by weight to 93% by weight.
As a mixing ratio of the solvent, a monohydric alcohol having 5 to 8 carbon atoms is 50% by weight to 90% by weight, and a water-soluble solvent having a boiling point of 110 ° C. to 170 ° C. is 10% to 50% by weight. It is preferable to contain by a ratio. The water-soluble solvent is a water-soluble solvent having a boiling point of 110 ° C. or higher and 170 ° C. or lower. When a water-soluble solvent having a boiling point of less than 110 ° C. is used, moisture absorption and whitening are likely to occur due to volatilization. If a water-soluble solvent having a boiling point exceeding 170 ° C. is used, it remains in the aluminum oxide film even after drying, resulting in a variation in reflectance. It is preferable that the water-soluble solvent is glycol ether.

本発明の酸化アルミニウム前駆体ゾルを調製するにあたり、アルミニウムアルコキシドの加水分解と縮合反応を促進するために加熱することができる。加熱温度は溶媒の沸点にも依るが60℃以上150℃以下が好ましく、加熱することによって粒子が成長し粒子性が向上する。   In preparing the aluminum oxide precursor sol of the present invention, heating can be performed to promote the hydrolysis and condensation reaction of the aluminum alkoxide. Although the heating temperature depends on the boiling point of the solvent, it is preferably 60 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. By heating, the particles grow and the particle properties are improved.

本発明の光学用部材の製造方法について詳細を説明する。
本発明に係る光学用部材の製造方法は、
(1)基材の少なくとも一方の面上に前記の酸化アルミニウム前駆体ゾルを供給する工程、
(2)前記酸化アルミニウム前駆体ゾルを基材上に広げる工程、
(3)基材を乾燥および/または焼成を行うことにより酸化アルミニウム膜を形成する工程、
(4)前記酸化アルミニウム膜を60℃以上100℃以下の温水中に浸漬して酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造を形成する工程
を有することを特徴とする。
The method for producing the optical member of the present invention will be described in detail.
The method for producing an optical member according to the present invention includes:
(1) supplying the aluminum oxide precursor sol on at least one surface of a substrate;
(2) a step of spreading the aluminum oxide precursor sol on a substrate;
(3) a step of forming an aluminum oxide film by drying and / or firing the substrate;
(4) The method includes a step of forming an uneven structure of aluminum oxide boehmite by immersing the aluminum oxide film in warm water of 60 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

上記(1)から(4)の工程を順に含み、かつ前記酸化アルミニウム前駆体ゾルを供給する工程に前述の酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いることを特徴とする。
前記光学用部材が、基材の少なくとも一方の面上に酸化アルミニウムベーマイトを成分として含有する板状結晶から形成される板状結晶層からなる反射防止膜を有することが好ましい。
The steps (1) to (4) are included in order, and the aluminum oxide precursor sol is used in the step of supplying the aluminum oxide precursor sol.
It is preferable that the optical member has an antireflection film composed of a plate crystal layer formed of a plate crystal containing aluminum oxide boehmite as a component on at least one surface of the substrate.

図2は本発明の光学用部材の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
図2(a)は、工程(1)において、基材1に前述の酸化アルミニウム前駆体ゾル2が供給された状態を表す。酸化アルミニウム前駆体ゾル2を供給する方法には、細管や一個または複数の細孔から酸化アルミニウム前駆体ゾル2を滴下するなどによって供給する方法、スリットを介して基材1上に酸化アルミニウム前駆体ゾル2を付着させる方法、あるいは版に一旦酸化アルミニウム前駆体ゾル2を付着させてから基材1に転写させる方法などが挙げられる。また、基材1を酸化アルミニウム前駆体ゾル2に浸漬することで、基材1にゾル2を供給することができる。
FIG. 2 is a process diagram showing an embodiment of the method for producing an optical member of the present invention.
FIG. 2A shows a state where the above-described aluminum oxide precursor sol 2 is supplied to the substrate 1 in the step (1). The method of supplying the aluminum oxide precursor sol 2 includes a method of supplying the aluminum oxide precursor sol 2 by dropping it from a narrow tube or one or a plurality of pores, and an aluminum oxide precursor on the substrate 1 through a slit. Examples thereof include a method of attaching the sol 2 or a method of once attaching the aluminum oxide precursor sol 2 to the plate and then transferring it to the substrate 1. Moreover, the sol 2 can be supplied to the base material 1 by immersing the base material 1 in the aluminum oxide precursor sol 2.

基材上に供給する前に予め酸化アルミニウム前駆体ゾルを濾過することが好ましい。濾過には1μm以下の細孔を有するメンブレンフィルターを用いることで異物などと数%含まれる大きな粒子を取り除くことができる。濾過方法としては吸引濾過や加圧濾過、あるいはフィルターを繰り返し通過させる循環濾過などが挙げられる。また、先述した細管を介して基材に供給する方法では細管途中にフィルターを設け、濾過しながらゾルを供給することもできる。   It is preferable to filter the aluminum oxide precursor sol in advance before feeding onto the substrate. By using a membrane filter having pores of 1 μm or less for filtration, foreign particles can be removed and large particles contained in a few percent. Examples of the filtration method include suction filtration, pressure filtration, and circulation filtration through which the filter is repeatedly passed. Moreover, in the method of supplying to a base material through the thin tube mentioned above, a sol can also be supplied, providing a filter in the middle of a thin tube, and filtering.

図2(b)は、工程(2)において、工程(1)で供給された酸化アルミニウム前駆体ゾル2が基材1上に広げられた状態を表す。酸化アルミニウム前駆体ゾル2を基材1上に広げる方法としては、基材1を回転することによって滴下したゾル2を広げるスピンコート法、基材1上をブレードやロールを移動させて滴下したゾル2を広げるブレードコート法やロールコート法などが挙げられる。また、酸化アルミニウム前駆体ゾル2を供給しながら広げることも可能である。スリットから酸化アルミニウム前駆体ゾル2を供給しながらスリットまたは基材1を移動させてゾル2を広げるスリットコート法や、一旦版に付着させたゾル2を版または基材1を移動させながら転写する印刷法などである。   FIG. 2B shows a state in which the aluminum oxide precursor sol 2 supplied in the step (1) is spread on the substrate 1 in the step (2). As a method of spreading the aluminum oxide precursor sol 2 on the substrate 1, a spin coating method that spreads the dropped sol 2 by rotating the substrate 1, a sol dropped by moving a blade or a roll on the substrate 1 For example, a blade coating method or a roll coating method can be used. Further, the aluminum oxide precursor sol 2 can be expanded while being supplied. While supplying the aluminum oxide precursor sol 2 from the slit, the slit coating method in which the slit or substrate 1 is moved to spread the sol 2 or the sol 2 once adhered to the plate is transferred while moving the plate or substrate 1. Printing method.

基材1を酸化アルミニウム前駆体ゾル2に一旦浸漬してから基材1を等速で引き上げるディップコート法なども一例である。凹面などの立体的に複雑な形状を有する光学用部材を製造する場合、酸化アルミニウム前駆体ゾル2の供給源を接近することが困難であるためスピンコート法が好ましい。   A dip coating method in which the substrate 1 is once immersed in the aluminum oxide precursor sol 2 and then the substrate 1 is pulled up at a constant speed is also an example. When an optical member having a three-dimensionally complicated shape such as a concave surface is manufactured, the spin coating method is preferable because it is difficult to access the supply source of the aluminum oxide precursor sol 2.

図2(c)は、工程(3)において、基材1を乾燥および/または焼成を行うことにより酸化アルミニウム膜3を形成した状態を表す。基材1の加熱乾燥を行うと,工程(2)で基材1上に広げた酸化アルミニウム前駆体ゾル2は溶媒が揮発して、ゾル2中の粒子が堆積した酸化アルミニウム膜3が形成される。さらに加熱すると安定化剤の揮散、未反応のアルコキシドや水酸基の縮合反応が進行する。加熱温度は安定化剤の揮散に必要な150℃以上が好ましく、基材やその他の部材への影響を考慮に入れると300℃以下が好ましい。加熱方法としては熱風循環オーブン、マッフル炉、IH炉中で加熱する方法、IRランプで加熱する方法などが挙げられる。   FIG. 2C shows a state in which the aluminum oxide film 3 is formed by drying and / or firing the substrate 1 in the step (3). When the substrate 1 is heated and dried, the aluminum oxide precursor sol 2 spread on the substrate 1 in the step (2) volatilizes the solvent, and the aluminum oxide film 3 in which particles in the sol 2 are deposited is formed. The Further heating causes volatilization of the stabilizer and condensation reaction of unreacted alkoxide and hydroxyl group. The heating temperature is preferably 150 ° C. or higher, which is necessary for volatilization of the stabilizer, and preferably 300 ° C. or lower in consideration of the influence on the base material and other members. Examples of the heating method include a method of heating in a hot air circulating oven, a muffle furnace, an IH furnace, a method of heating with an IR lamp, and the like.

図2(d)は、工程(4)において、基材1上に酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造5を有する層4が形成された状態を表す。凹凸構造5は工程(3)で得られた酸化アルミニウム膜3を60℃以上100℃以下の温水に接触し形成される。形成される酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造を有する層4は、アルミニウムの酸化物または水酸化物またはそれらの水和物の結晶からなり、主な結晶としてはベーマイトである。酸化アルミニウム膜3を温水に接触する方法は、基材1を温水に浸漬する方法、温水を流水もしくは霧状にして酸化アルミニウム膜3に接触させる方法などが挙げられる。   FIG. 2D shows a state in which the layer 4 having the uneven structure 5 of aluminum oxide boehmite is formed on the substrate 1 in the step (4). The concavo-convex structure 5 is formed by contacting the aluminum oxide film 3 obtained in the step (3) with warm water of 60 ° C. or more and 100 ° C. or less. The formed layer 4 having a concavo-convex structure of aluminum oxide boehmite consists of crystals of aluminum oxide or hydroxide or hydrates thereof, and the main crystals are boehmite. Examples of the method of bringing the aluminum oxide film 3 into contact with warm water include a method of immersing the base material 1 in warm water, a method of bringing warm water into running water or mist, and contacting the aluminum oxide film 3.

酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造5を有する層4は、酸化アルミニウムベーマイトを主成分とする板状結晶から形成されている板状結晶層であることが好ましい。その場合の本実施形態に係る光学用部材を示す模式的な概略断面図を図3に示す。   The layer 4 having the concavo-convex structure 5 of aluminum oxide boehmite is preferably a plate-like crystal layer formed from a plate-like crystal composed mainly of aluminum oxide boehmite. FIG. 3 shows a schematic schematic cross-sectional view showing the optical member according to the present embodiment in that case.

図3において、本発明の製造方法によって得られる光学用部材は、基材1上に、酸化アルミニウムベーマイトを主成分とする板状結晶から形成されている板状結晶層6が積層されている。酸化アルミニウムベーマイトを主成分とする板状結晶層6は、アルミニウムの酸化物または水酸化物またはそれらの水和物の結晶から形成され、主な結晶としてはベーマイトである。板状結晶層6は、本発明の酸化アルミニウム前駆体ゾルを基材上に塗布し、加熱することによって形成された酸化アルミニウム膜を温水に接触させることにより形成された酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造を有する層である。板状結晶層6には、板状結晶の下部(根元部分)に非晶質の酸化アルミニウムが残っていてもよい。   In FIG. 3, in the optical member obtained by the manufacturing method of the present invention, a plate-like crystal layer 6 made of plate-like crystals containing aluminum oxide boehmite as a main component is laminated on a substrate 1. The plate-like crystal layer 6 mainly composed of aluminum oxide boehmite is formed from crystals of aluminum oxide or hydroxide or hydrates thereof, and is mainly boehmite. The plate-like crystal layer 6 has a concavo-convex structure of aluminum oxide boehmite formed by applying the aluminum oxide precursor sol of the present invention on a substrate and bringing the aluminum oxide film formed by heating into contact with warm water. It is a layer having. In the plate-like crystal layer 6, amorphous aluminum oxide may remain in the lower portion (root portion) of the plate-like crystal.

また、これらの板状結晶を配することで、その端部が微細な凹凸形状7を形成するので、微細な凹凸の高さを大きくし、その間隔を狭めるために板状結晶は選択的に基材の表面に対して特定の角度で配置される。   In addition, by arranging these plate crystals, the end portions form fine uneven shapes 7, so that the plate crystals are selectively selected in order to increase the height of the fine unevenness and narrow the interval. It is arranged at a specific angle with respect to the surface of the substrate.

基材1の表面が平板、フィルムないしシートなどの平面の場合には、図4に示すように、板状結晶は基材の表面に対して、すなわち板状結晶の傾斜方向8と基材表面との間の角度θ1の平均角度が45°以上90°以下、好ましくは60°以上90°以下となるように配置されることが望ましい。   In the case where the surface of the substrate 1 is a flat surface such as a flat plate, a film or a sheet, as shown in FIG. It is desirable that the average angle of the angle θ1 is 45 ° or more and 90 ° or less, preferably 60 ° or more and 90 ° or less.

また、基材1の表面が二次元あるいは三次元の曲面を有する場合には、図5で示すように、板状結晶は基材の表面に対して、すなわち板状結晶の傾斜方向8と基材表面の接線9との間の角度θ2の平均角度が45°以上90°以下、好ましくは60°以上90°以下となるように配置されることが望ましい。   When the surface of the substrate 1 has a two-dimensional or three-dimensional curved surface, as shown in FIG. 5, the plate-like crystal is relative to the surface of the substrate, that is, the inclination direction 8 of the plate-like crystal and the base. It is desirable that the average angle of the angle θ2 between the material surface and the tangent line 9 is 45 ° or more and 90 ° or less, preferably 60 ° or more and 90 ° or less.

板状結晶層6の層厚は、好ましくは20nm以上1000nm以下であり、より好ましくは50nm以上1000nm以下である。凹凸を形成する層厚が20nm以上1000nm以下では、微細な凹凸構造による反射防止性能が効果的であり、また凹凸の機械的強度が損なわれる恐れが無くなり、微細な凹凸構造の製造コストも有利になる。また、層厚が50nm以上1000nm以下とすることにより、反射防止性能をさらに高めることとなり、より好ましい。   The layer thickness of the plate crystal layer 6 is preferably 20 nm or more and 1000 nm or less, and more preferably 50 nm or more and 1000 nm or less. When the layer thickness for forming the unevenness is 20 nm or more and 1000 nm or less, the antireflection performance by the fine uneven structure is effective, and the mechanical strength of the uneven structure is eliminated, and the manufacturing cost of the fine uneven structure is advantageous. Become. In addition, when the layer thickness is 50 nm or more and 1000 nm or less, the antireflection performance is further improved, which is more preferable.

本発明の微細凹凸の面密度も重要であり、これに対応する中心線平均粗さを面拡張した平均面粗さRa’値が5nm以上、より好ましく10nm以上、さらに好ましくは15nm以上100nm以下、また表面積比Srが1.1以上である。より好ましくは1.15以上、さらに好ましくは1.2以上3.5以下である。   The surface density of the fine irregularities of the present invention is also important, and the average surface roughness Ra ′ value obtained by expanding the corresponding centerline average roughness is 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more and 100 nm or less, The surface area ratio Sr is 1.1 or more. More preferably, it is 1.15 or more, More preferably, it is 1.2 or more and 3.5 or less.

得られた微細凹凸組織の評価方法の一つとして、走査型プローブ顕微鏡による微細凹凸組織表面の観察があり、該観察により該膜の中心線平均粗さRaを面拡張した平均面粗さRa’値と表面積比Srが求められる。すなわち、平均面粗さRa’値(nm)は、JIS B 0601で定義されている中心線平均粗さRaを、測定面に対し適用し三次元に拡張したもので、「基準面から指定面までの偏差の絶対値を平均した値」と表現し、次の式(1)で与えられる。   As one of the evaluation methods for the obtained fine uneven structure, there is observation of the surface of the fine uneven structure with a scanning probe microscope, and the average surface roughness Ra ′ obtained by extending the center line average roughness Ra of the film by the observation. The value and the surface area ratio Sr are determined. That is, the average surface roughness Ra ′ value (nm) is obtained by applying the centerline average roughness Ra defined in JIS B 0601 to the measurement surface and extending it three-dimensionally. The absolute value of the deviation up to the average value ”is expressed by the following equation (1).

Figure 0005645435
Figure 0005645435

Ra’:平均面粗さ値(nm)、
:測定面が理想的にフラットであるとした時の面積、|X−X|×|Y−Y|、F(X,Y):測定点(X,Y)における高さ、XはX座標、YはY座標、
からX:測定面のX座標の範囲、
からY:測定面のY座標の範囲、
:測定面内の平均の高さ。
Ra ′: average surface roughness value (nm),
S 0 : Area when the measurement surface is ideally flat, | X R −X L | × | Y T −Y B |, F (X, Y): High at the measurement point (X, Y) X is the X coordinate, Y is the Y coordinate,
X L to X R : X coordinate range of the measurement surface,
Y B to Y T : Y coordinate range of the measurement surface,
Z 0 : Average height in the measurement plane.

また、表面積比Srは、Sr=S/S〔S:測定面が理想的にフラットであるときの面積。S:実際の測定面の表面積。〕で求められる。なお、実際の測定面の表面積は次のようにして求める。先ず、最も近接した3つのデータ点(A,B,C)より成る微小三角形に分割し、次いで各微小三角形の面積△Sを、ベクトル積を用いて求める。△S(△ABC)=[s(s−AB)(s−BC)(s−AC)]0.5〔但し、AB、BCおよびACは各辺の長さで、s≡0.5(AB+BC+AC)〕となり、この△Sの総和が求める表面積Sになる。微細凹凸の面密度がRa’が5nm以上で、Srが1.1以上になると、凹凸構造による反射防止を発現することができる。また、Ra’が10nm以上で、Srが1.15以上であると、その反射防止効果は前者に比べ高いものとなる。そしてRa’が15nm以上で、Srが1.2以上になると実際の使用に耐えうる性能となる。しかしRa’が100nm以上で、Srが3.5以上になると反射防止効果よりも凹凸構造による散乱の効果が勝り十分な反射防止性能を得ることが出来ない。 The surface area ratio Sr is Sr = S / S 0 [S 0 : Area when the measurement surface is ideally flat. S: Surface area of the actual measurement surface. ]. The actual surface area of the measurement surface is obtained as follows. First, it is divided into minute triangles composed of the three closest data points (A, B, C), and then the area ΔS of each minute triangle is obtained using a vector product. ΔS (ΔABC) = [s (s−AB) (s−BC) (s−AC)] 0.5 [where AB, BC, and AC are the lengths of each side, and s≡0.5 ( AB + BC + AC)], and the sum of ΔS is the surface area S to be obtained. When the surface density of the fine irregularities is Ra ′ is 5 nm or more and Sr is 1.1 or more, antireflection by the irregular structure can be expressed. If Ra ′ is 10 nm or more and Sr is 1.15 or more, the antireflection effect is higher than that of the former. When Ra ′ is 15 nm or more and Sr is 1.2 or more, the performance can withstand actual use. However, when Ra ′ is 100 nm or more and Sr is 3.5 or more, the effect of scattering by the concavo-convex structure is superior to the antireflection effect, and sufficient antireflection performance cannot be obtained.

基材1と酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造5を有する層4との間に酸化アルミニウム以外を主成分とする層を設けることができる。図6は基材1上に酸化アルミニウム以外を主成分とする層10、さらにその上に酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造5を有する層4が形成された光学用部材の例である。   Between the base material 1 and the layer 4 having the concavo-convex structure 5 of aluminum oxide boehmite, a layer mainly composed of components other than aluminum oxide can be provided. FIG. 6 shows an example of an optical member in which a layer 10 mainly composed of components other than aluminum oxide is formed on a substrate 1, and a layer 4 having an uneven structure 5 of aluminum oxide boehmite is formed thereon.

酸化アルミニウム以外を主成分とする層10は、主に基材1と酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造5を有する層4との屈折率差を調整する目的で設けられる。そのため酸化アルミニウム以外を主成分とする層10は無機材料もしくは有機材料からなる透明膜であることが好ましい。   The layer 10 whose main component is other than aluminum oxide is provided mainly for the purpose of adjusting the refractive index difference between the substrate 1 and the layer 4 having the concavo-convex structure 5 of aluminum oxide boehmite. Therefore, it is preferable that the layer 10 whose main component is other than aluminum oxide is a transparent film made of an inorganic material or an organic material.

酸化アルミニウム以外を主成分とする層10に用いられる無機材料の例としては、SiO、TiO、ZrO、ZnO、Taなどの金属酸化物が挙げられる。無機材料からなる酸化アルミニウム以外を主成分とする層10を形成する方法は蒸着やスパッタなどの真空製膜法、金属酸化物前駆体ゾルの塗布によるゾル−ゲル法などが挙げられる。 Examples of the inorganic material used for the layer 10 whose main component is other than aluminum oxide include metal oxides such as SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , ZnO, and Ta 2 O 5 . Examples of the method for forming the layer 10 mainly composed of an inorganic material other than aluminum oxide include a vacuum film forming method such as vapor deposition and sputtering, and a sol-gel method by applying a metal oxide precursor sol.

一方、酸化アルミニウム以外を主成分とする層10に用いられる有機材料の例としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、マレイミド樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、レゾール樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリケトン、ポリスルホン、ポリフェニレン、ポリキシリレン、ポリシクロオレフィンなどの有機ポリマーが挙げられる。有機材料からなる酸化アルミニウム以外を主成分とする層10を形成する方法は、主にその溶液を塗布により形成するウェットコート法などが挙げられる。   On the other hand, examples of organic materials used for the layer 10 mainly composed of other than aluminum oxide include acrylic resin, epoxy resin, oxetane resin, maleimide resin, melamine resin, benzoguanamine resin, phenol resin, resol resin, polycarbonate, polyester, Examples include organic polymers such as polyarylate, polyether, polyurea, polyurethane, polyamide, polyamideimide, polyimide, polyketone, polysulfone, polyphenylene, polyxylylene, and polycycloolefin. Examples of a method for forming the layer 10 mainly composed of an organic material other than aluminum oxide include a wet coating method in which the solution is mainly formed by coating.

その他、酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造5の表面に、反射防止性を損なわない程度に処理を施すことができる。耐擦傷性や防汚性を付与するためにSiO薄膜、FAS(フッ素化アルキルシラン)やフッ素樹脂の極めて薄い層を設ける例を挙げることができる。 In addition, the surface of the concavo-convex structure 5 of aluminum oxide boehmite can be treated to such an extent that the antireflection property is not impaired. In order to impart scratch resistance and antifouling properties, an example in which a very thin layer of SiO 2 thin film, FAS (fluorinated alkylsilane) or fluororesin is provided can be given.

以下、実施例により本発明を具体的に説明する。ただし本発明はかかる実施例に限定されるものではない。各実施例、比較例で得られた、表面に微細な凹凸を有する光学膜について、下記の方法で評価を行った。   Hereinafter, the present invention will be described specifically by way of examples. However, the present invention is not limited to such examples. The optical film having fine irregularities on the surface obtained in each example and comparative example was evaluated by the following method.

(1)酸化アルミニウム前駆体ゾル1から7の調製
17.2gのアルミニウム−sec−ブトキシド(ASBD、川研ファインケミカル製)と、4.56gの3−オキソブタン酸エチルエステルと、4−メチル−2−ペンタノールとを均一になるまで混合攪拌した。0.01M希塩酸を4−メチル−2−ペンタノール/1−エトキシ−2−プロパノール(沸点132℃)の混合溶媒に溶解してから、前記アルミニウム−sec−ブトキシドの溶液にゆっくり加え、暫く攪拌した。溶媒は最終的に53gの4−メチル−2−ペンタノールと、23gの1−エトキシ−2−プロパノールの混合溶媒になるように調整した。さらに120℃のオイルバス中で2から3時間以上攪拌することによって酸化アルミニウム前駆体ゾルを調製した。0.01M希塩酸の量を0.88から2.02gまで段階的に量を変えた酸化アルミニウム前駆体ゾル1から7を調製した。
(1) Preparation of aluminum oxide precursor sols 1 to 7 17.2 g of aluminum-sec-butoxide (ASBD, manufactured by Kawaken Fine Chemical), 4.56 g of 3-oxobutanoic acid ethyl ester, and 4-methyl-2- The mixture was stirred with pentanol until uniform. After 0.01M dilute hydrochloric acid was dissolved in a mixed solvent of 4-methyl-2-pentanol / 1-ethoxy-2-propanol (boiling point 132 ° C.), it was slowly added to the aluminum-sec-butoxide solution and stirred for a while. . The solvent was finally adjusted to be a mixed solvent of 53 g of 4-methyl-2-pentanol and 23 g of 1-ethoxy-2-propanol. Furthermore, the aluminum oxide precursor sol was prepared by stirring in an oil bath at 120 ° C. for 2 to 3 hours or more. Aluminum oxide precursor sols 1 to 7 in which the amount of 0.01 M dilute hydrochloric acid was changed stepwise from 0.88 to 2.02 g were prepared.

(2)酸化アルミニウム前駆体ゾル8から11の調製
24.6gのアルミニウム−sec−ブトキシド(ASBD、川研ファインケミカル製)と、6.51gの3−オキソブタン酸エチルエステルと、1−ペンタノールとを混合し、当初白濁するものの均一になるまで混合攪拌した。0.01M希塩酸を1−ペンタノール/1−エトキシ−2−プロパノールの混合溶媒に溶解してから、前記アルミニウム−sec−ブトキシドの溶液にゆっくり加え、暫く攪拌した。溶媒は最終的に49gの1−ペンタノールと、21gの1−エトキシ−2−プロパノールの混合溶媒になるように調整した。さらに120℃のオイルバス中で2から3時間以上攪拌することによって酸化アルミニウム前駆体ゾルを調製した。0.01M希塩酸の量が1.8g、2.25g、2.7g、3.06gと異なる酸化アルミニウム前駆体ゾル8から11を調製した。
(2) Preparation of aluminum oxide precursor sols 8 to 11 24.6 g of aluminum-sec-butoxide (ASBD, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), 6.51 g of 3-oxobutanoic acid ethyl ester, and 1-pentanol The mixture was mixed and stirred until it became cloudy at first but became homogeneous. After 0.01M dilute hydrochloric acid was dissolved in a mixed solvent of 1-pentanol / 1-ethoxy-2-propanol, it was slowly added to the aluminum-sec-butoxide solution and stirred for a while. The solvent was finally adjusted to be a mixed solvent of 49 g of 1-pentanol and 21 g of 1-ethoxy-2-propanol. Furthermore, the aluminum oxide precursor sol was prepared by stirring in an oil bath at 120 ° C. for 2 to 3 hours or more. Aluminum oxide precursor sols 8 to 11 having different amounts of 0.01M dilute hydrochloric acid from 1.8 g, 2.25 g, 2.7 g, and 3.06 g were prepared.

(3)酸化アルミニウム前駆体ゾル12の調製
17.2gのアルミニウム−sec−ブトキシド(ASBD、川研ファインケミカル製)と、4.56gの3−オキソブタン酸エチルエステルと、2−プロパノールとを均一になるまで混合攪拌した。1.26gの0.01M希塩酸を2−プロパノールに溶解してから、前記アルミニウム−sec−ブトキシドの溶液にゆっくり加え、暫く攪拌した。2−プロパノールは最終的に76gになるように調整した。さらにオイルバス中で2から3時間以上還流することによって酸化アルミニウム前駆体ゾル12を調製した。
(3) Preparation of aluminum oxide precursor sol 12. 17.2 g of aluminum-sec-butoxide (ASBD, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), 4.56 g of 3-oxobutanoic acid ethyl ester, and 2-propanol are homogenized. Until mixed. 1.26 g of 0.01 M dilute hydrochloric acid was dissolved in 2-propanol, and then slowly added to the aluminum-sec-butoxide solution, followed by stirring for a while. 2-propanol was finally adjusted to 76 g. Furthermore, the aluminum oxide precursor sol 12 was prepared by refluxing in an oil bath for 2 to 3 hours or more.

(4)粘度測定
標準ローター(1°34‘、R24)を装備したコーンプレートタイプ回転粘度計(RE−105L、東機産業製)を使用し、25℃、50rpmの時の粘度を測定した。
(4) Viscosity measurement A cone plate type rotational viscometer (RE-105L, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) equipped with a standard rotor (1 ° 34 ′, R24) was used to measure the viscosity at 25 ° C. and 50 rpm.

(5)粒度分布測定
粒度分布計(ゼータサイザーナノS、マルバーン製)を用い、ガラス製セルに約1mlの酸化アルミニウム前駆体ゾルを入れて25℃で測定した。屈折率を1.5、吸収を0.01、溶液粘度に上記測定粘度として解析を行った。
(5) Particle size distribution measurement Using a particle size distribution meter (Zetasizer Nano S, manufactured by Malvern), about 1 ml of aluminum oxide precursor sol was placed in a glass cell and measured at 25 ° C. The analysis was conducted with the refractive index of 1.5, the absorption of 0.01, and the solution viscosity as the above measured viscosity.

(6)基材の洗浄
片面だけ研磨され、もう一方の面がスリガラス状の大きさ約φ30mm、厚さ約1mmの円盤状ガラス基板をアルカリ洗剤中で超音波洗浄した後、オーブン中で乾燥した。
(6) Cleaning of base material Only one side is polished, and the other side is ground glass-like size about φ30 mm, thickness about 1 mm disk-shaped glass substrate ultrasonically washed in an alkaline detergent and then dried in an oven .

(7)反射率測定
絶対反射率測定装置(USPM−RU、オリンパス製)を用い、400nmから700nmの範囲の入射角0°時の反射率測定を行った。
(7) Reflectance measurement Using an absolute reflectance measuring device (USPM-RU, manufactured by Olympus), reflectance measurement was performed at an incident angle of 0 ° in the range of 400 nm to 700 nm.

(8)基板の表面観察
基板表面をPd/Pt処理を行い、FE−SEM(S−4800、日立ハイテク製)を用いて加速電圧2kVで表面観察を行った。
(8) Surface observation of substrate The substrate surface was subjected to Pd / Pt treatment, and surface observation was performed at an acceleration voltage of 2 kV using FE-SEM (S-4800, manufactured by Hitachi High-Tech).

実施例1から4
酸化アルミニウム前駆体ゾル3から6の粘度測定と粒度分布測定を行った。その結果を表1に示した。酸化アルミニウム前駆体ゾル5を用いた実施例3の時の粒度分布曲線を図7に示した。また、アルミニウム−sec−ブトキシドに対する触媒水(0.01M希塩酸)のモル等量と粘度、主なピークの平均粒子径、および主なピークの面積%をそれぞれグラフにして、図10から図12に示した。
Examples 1 to 4
Viscosity measurement and particle size distribution measurement of the aluminum oxide precursor sols 3 to 6 were performed. The results are shown in Table 1. A particle size distribution curve in Example 3 using the aluminum oxide precursor sol 5 is shown in FIG. Further, the molar equivalent of the catalyst water (0.01M dilute hydrochloric acid) and the viscosity, the average particle diameter of the main peak, and the area% of the main peak are plotted in graphs for each of aluminum-sec-butoxide. Indicated.

実施例5
洗浄したLaを主成分とするnd=1.77、νd=50のガラス基材(φ30mm)の研磨面上に酸化アルミニウム前駆体ゾル3を適量滴下し、3500rpmで20秒スピンコートを行った。その際にスピンコートによるムラは観察されなかった。その後、200℃の熱風循環オーブンで120分間焼成し、ガラス基板上に非晶性酸化アルミニウム膜を被膜した。
Example 5
An appropriate amount of the aluminum oxide precursor sol 3 is dropped onto the polished surface of a glass substrate (φ30 mm) with nd = 1.77 and νd = 50, the main component of which is washed La 2 O 5 , and spin-coated at 3500 rpm for 20 seconds. went. At that time, no unevenness due to spin coating was observed. Then, it baked for 120 minutes in 200 degreeC hot-air circulation oven, and coat | covered the amorphous aluminum oxide film on the glass substrate.

次に、80℃の温水中に30分間浸漬したのち、60℃で15分間乾燥させた。
得られた膜表面のFE−SEM観察を行ったところ、酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶がランダム状にかつ複雑に入り組んだ微細な凹凸組織が観測された。
Next, after being immersed in warm water of 80 ° C. for 30 minutes, it was dried at 60 ° C. for 15 minutes.
When the FE-SEM observation of the obtained film surface was performed, a fine concavo-convex structure in which plate crystals mainly composed of aluminum oxide were randomly and intricately complicated was observed.

反射率の測定を行ったところ中心部1点と周辺部2点の反射率を測定し、600nmの反射率差の大小からばらつきの有無を確認した。その結果、反射率差は0.1%未満であり反射防止性のばらつきが小さいことが確認された。   When the reflectance was measured, the reflectance at one central portion and two peripheral portions was measured, and the presence or absence of variation was confirmed from the magnitude of the difference in reflectance at 600 nm. As a result, the difference in reflectance was less than 0.1%, and it was confirmed that the variation in antireflection properties was small.

実施例6
酸化アルミニウム前駆体ゾル3を4に変えた以外は実施例5と同様の操作を行った。
その結果、スピンコートの際のムラは観察されなかった。温水浸漬後の反射率差は0.1%未満であり反射防止性のばらつきが小さいことが確認された。
Example 6
The same operation as in Example 5 was performed except that the aluminum oxide precursor sol 3 was changed to 4.
As a result, no unevenness was observed during spin coating. The difference in reflectance after immersion in warm water was less than 0.1%, and it was confirmed that the variation in antireflection properties was small.

実施例7
酸化アルミニウム前駆体ゾル3を5に変えた以外は実施例5と同様の操作を行った。
その結果、スピンコートの際のムラは観察されなかった。温水浸漬後の反射率差は0.1%未満であり反射防止性のばらつきが小さいことが確認された。
Example 7
The same operation as in Example 5 was performed except that the aluminum oxide precursor sol 3 was changed to 5.
As a result, no unevenness was observed during spin coating. The difference in reflectance after immersion in warm water was less than 0.1%, and it was confirmed that the variation in antireflection properties was small.

実施例8
酸化アルミニウム前駆体ゾル3を6に変えた以外は実施例5と同様の操作を行った。
その結果、スピンコートの際のムラは観察されなかった。温水浸漬後の反射率差は0.1%未満であり反射防止性のばらつきが小さいことが確認された。
Example 8
The same operation as in Example 5 was performed except that the aluminum oxide precursor sol 3 was changed to 6.
As a result, no unevenness was observed during spin coating. The difference in reflectance after immersion in warm water was less than 0.1%, and it was confirmed that the variation in antireflection properties was small.

実施例9
酸化アルミニウム前駆体ゾル10(平均粒子径とピーク面積はそれぞれ3.5nm、93%)を洗浄したLaを主成分とするnd=1.77、νd=50のガラス基材(φ30mm)の研磨面上に適量滴下し、3000rpmで20秒スピンコートを行った。その後、200℃の熱風循環オーブンで120分間焼成し、ガラス基板上に非晶性酸化アルミニウム膜を被膜した。
Example 9
A glass substrate (φ30 mm) having nd = 1.77 and νd = 50 mainly composed of La 2 O 5 obtained by washing aluminum oxide precursor sol 10 (average particle diameter and peak area are 3.5 nm and 93%, respectively). An appropriate amount was dropped on the polished surface of the film and spin-coated at 3000 rpm for 20 seconds. Then, it baked for 120 minutes in 200 degreeC hot-air circulation oven, and coat | covered the amorphous aluminum oxide film on the glass substrate.

次に、80℃の温水中に30分間浸漬したのち、60℃で15分間乾燥させた。
得られた膜表面のFE−SEM観察を行ったところ、酸化アルミニウムを主成分とする板状結晶がランダム状にかつ複雑に入り組んだ微細な凹凸組織が観測された。
反射率の測定を行った結果を図13に示した。粒子径の増加によって反射率を下げる効果が確認された。
Next, after being immersed in warm water of 80 ° C. for 30 minutes, it was dried at 60 ° C. for 15 minutes.
When the FE-SEM observation of the obtained film surface was performed, a fine concavo-convex structure in which plate crystals mainly composed of aluminum oxide were randomly and intricately complicated was observed.
The result of measuring the reflectance is shown in FIG. The effect of lowering the reflectivity by increasing the particle diameter was confirmed.

実施例10
酸化アルミニウム前駆体ゾル10を11(平均粒子径とピーク面積はそれぞれ6.8nm、96%)に変えた以外は実施例9と同様の操作を行った。
反射率の測定を行った結果を図13に示した。粒子径の増加によって反射率を下げる効果が確認された。
Example 10
The same operation as in Example 9 was performed except that the aluminum oxide precursor sol 10 was changed to 11 (average particle diameter and peak area were 6.8 nm and 96%, respectively).
The result of measuring the reflectance is shown in FIG. The effect of lowering the reflectivity by increasing the particle diameter was confirmed.

比較例1から4
酸化アルミニウム前駆体ゾル1、2、7、12それぞれの粘度測定と粒度分布測定を行った。その時の結果を表1に示した。酸化アルミニウム前駆体ゾル1または7を用いた比較例1および3の時ぞれぞれの粒度分布曲線を図8と9に示した。また、ゾル1、2、7についてアルミニウム−sec−ブトキシドに対する触媒水(0.01M希塩酸)のモル等量と粘度、主なピークの平均粒子径、および主なピークの面積%をそれぞれグラフにし図10から12に示した。
Comparative Examples 1 to 4
Each of the aluminum oxide precursor sols 1, 2, 7, and 12 was measured for viscosity and particle size distribution. The results at that time are shown in Table 1. 8 and 9 show the particle size distribution curves of Comparative Examples 1 and 3 using the aluminum oxide precursor sol 1 or 7, respectively. For sols 1, 2 and 7, the molar equivalent of catalyst water (0.01M dilute hydrochloric acid) and viscosity, the average particle diameter of main peaks, and the area percentage of main peaks are plotted in graphs for aluminum-sec-butoxide. 10 to 12.

比較例5
酸化アルミニウム前駆体ゾル3を1に変えた以外は実施例5と同様の操作を行った。
その結果、酸化アルミニウム前駆体ゾル1をスピンコートした時点で、基材中心から周辺にかけて放射状に伸びるスジ状のムラが確認された。温水浸漬後の反射率差は0.2%と反射防止性の面内のばらつきが確認された。
Comparative Example 5
The same operation as in Example 5 was performed except that the aluminum oxide precursor sol 3 was changed to 1.
As a result, when the aluminum oxide precursor sol 1 was spin-coated, streaky unevenness extending radially from the center of the substrate to the periphery was confirmed. The difference in reflectance after immersion in warm water was 0.2%, confirming in-plane variation in antireflection properties.

比較例6
酸化アルミニウム前駆体ゾル3を2に変えた以外は実施例5と同様の操作を行った。
その結果、酸化アルミニウム前駆体ゾル2をスピンコートした時点で、基材中央部に大きな星型のムラが確認された。温水浸漬後の反射率差は0.2%と反射防止性の面内のばらつきが確認された。
Comparative Example 6
The same operation as in Example 5 was performed except that the aluminum oxide precursor sol 3 was changed to 2.
As a result, when the aluminum oxide precursor sol 2 was spin-coated, large star-shaped unevenness was confirmed at the center of the substrate. The difference in reflectance after immersion in warm water was 0.2%, confirming in-plane variation in antireflection properties.

比較例7
酸化アルミニウム前駆体ゾル3を7に変えた以外は実施例5と同様の操作を行った。
その結果、酸化アルミニウム前駆体ゾル7をスピンコートした時点で、基材中心から周辺にかけて放射状に伸びるスジ状のムラが確認された。温水浸漬後の反射率差は0.2%であり反射防止性の面内のばらつきが確認された。
Comparative Example 7
The same operation as in Example 5 was performed except that the aluminum oxide precursor sol 3 was changed to 7.
As a result, when the aluminum oxide precursor sol 7 was spin-coated, streaky unevenness extending radially from the center of the substrate to the periphery was confirmed. The difference in reflectance after immersion in warm water was 0.2%, and in-plane variation in antireflection properties was confirmed.

比較例8
酸化アルミニウム前駆体ゾル3を12に変えた以外は実施例4と同様の操作を行った。
その結果、酸化アルミニウム前駆体ゾル12をスピンコートした時点で、基材中心から周辺にかけて放射状に伸びるスジ状のムラと無数のクラックが確認された。温水浸漬後の反射率差は0.2%であり反射防止性の面内のばらつきが確認された。
Comparative Example 8
The same operation as in Example 4 was performed except that the aluminum oxide precursor sol 3 was changed to 12.
As a result, when the aluminum oxide precursor sol 12 was spin-coated, streaky unevenness and innumerable cracks extending radially from the center of the substrate to the periphery were confirmed. The difference in reflectance after immersion in warm water was 0.2%, and in-plane variation in antireflection properties was confirmed.

比較例9
酸化アルミニウム前駆体ゾル8(平均粒子径とピーク面積はそれぞれ1.7nm、84%)に変えた以外は実施例7と同様の操作を行った。
その結果、反射率の測定を行った結果を図13に示した。
Comparative Example 9
The same operation as in Example 7 was performed except that the aluminum oxide precursor sol 8 was changed to an average particle diameter and a peak area of 1.7 nm and 84%, respectively.
As a result, the result of measuring the reflectance is shown in FIG.

比較例10
酸化アルミニウム前駆体ゾル9(平均粒子径とピーク面積はそれぞれ2.2nm、88%)に変えた以外は実施例7と同様の操作を行った。
Comparative Example 10
The same operation as in Example 7 was performed except that the precursor was changed to the aluminum oxide precursor sol 9 (average particle diameter and peak area were 2.2 nm and 88%, respectively).

その結果、反射率の測定を行った結果を図13に示した。   As a result, the result of measuring the reflectance is shown in FIG.

Figure 0005645435
Figure 0005645435

(注1)*触媒水(モル等量)は、アルミニウム−sec−ブトキシドに対する触媒水のモル等量を示す。
(注2)*主なピーク面積は、全ピークの面積に対する、表中の平均粒子径のピークの面積の割合を示す。
(Note 1) * Catalyst water (molar equivalent) indicates the molar equivalent of catalytic water with respect to aluminum-sec-butoxide.
(Note 2) * Main peak area indicates the ratio of the peak area of the average particle diameter in the table to the total peak area.

〔性能評価〕
実施例1から4から特定の領域の粒子径を有する酸化アルミニウム前駆体ゾル3から6の粘度の低減効果や副生成物の減少が確認された。また実施例5から8からそれらの酸化アルミニウム前駆体ゾルを用いることで反射率のばらつきの少ない光学膜が得られた。さらに実施例9、10では反射率を下げる効果も確認された。一方、比較例5から8では酸化アルミニウム前駆体ゾルの塗布性が悪く、反射率のばらつきも大きい光学膜が得られた。
[Performance evaluation]
From Examples 1 to 4, it was confirmed that the viscosity of the aluminum oxide precursor sols 3 to 6 having a particle size in a specific region was reduced and the by-products were reduced. Also, optical films with little variation in reflectance were obtained by using those aluminum oxide precursor sols from Examples 5 to 8. Further, in Examples 9 and 10, the effect of lowering the reflectance was also confirmed. On the other hand, in Comparative Examples 5 to 8, optical films having poor applicability of the aluminum oxide precursor sol and large variations in reflectance were obtained.

本発明により製造される光学用部材は、任意の屈折率を有する透明基材に対応でき、可視光に対して優れた反射防止効果を示すとともに、長期的な耐候性を有するので、ワープロ、コンピュータ、テレビ、プラズマディスプレイパネル等の各種ディスプレイ:液晶表示装置に用いる偏光板、各種光学硝材及び透明プラスチック類からなるサングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズ、プリズム、フライアイレンズ、トーリックレンズ、各種光学フィルター、センサーなどの光学部材:さらにはそれらを用いた撮影光学系、双眼鏡などの観察光学系、液晶プロジェクタなどに用いる投射光学系:レーザービームプリンターなどに用いる走査光学系等の各種光学レンズ:各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラスなどの光学部材に利用することができる。   The optical member manufactured according to the present invention can correspond to a transparent base material having an arbitrary refractive index, exhibits an excellent antireflection effect for visible light, and has long-term weather resistance. Various displays such as TVs and plasma display panels: Polarizing plates used in liquid crystal display devices, sunglasses lenses made of various optical glass materials and transparent plastics, prescription eyeglass lenses, camera finder lenses, prisms, fly-eye lenses, toric lenses, Optical members such as various optical filters and sensors: Furthermore, photographing optical systems using them, observation optical systems such as binoculars, projection optical systems used for liquid crystal projectors, etc .: various optical lenses such as scanning optical systems used for laser beam printers, etc. : Covers for various instruments, window glass for cars, trains, etc. It can be used for optical members.

1 基材
2 酸化アルミニウム前駆体ゾル
3 酸化アルミニウム膜
4 酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造を有する層
5 酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造
6 酸化アルミニウムベーマイトを主成分とする板状結晶から形成されている板状結晶層
7 凹凸形状
8 傾斜方向
9 基材表面の接線
10 酸化アルミニウム以外を主成分とする層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material 2 Aluminum oxide precursor sol 3 Aluminum oxide film 4 Layer which has uneven structure of aluminum oxide boehmite 5 Uneven structure of aluminum oxide boehmite 6 Plate-like crystal formed from the plate-like crystal which has aluminum oxide boehmite as a main component Layer 7 Concave and convex shape 8 Inclination direction 9 Tangent line of substrate surface 10 Layer mainly composed of other than aluminum oxide

Claims (5)

アルミニウム化合物の加水分解物および/またはその縮合物を成分として含有する粒子と、溶媒とを含み、
前記粒子の平均粒子径が2.5nm以上7nm以下であり、
前記溶媒は、炭素数5以上8以下の一価のアルコールを50重量%以上90重量%以下、沸点110℃以上170℃以下の水溶性溶媒を10重量%以上50重量%以下の割合で含有することを特徴とする酸化アルミニウム前駆体ゾル。
A particle containing a hydrolyzate of an aluminum compound and / or a condensate thereof as a component, and a solvent,
Ri average particle diameter der than 7nm less 2.5nm of said particles,
The solvent contains 50 to 90% by weight of a monohydric alcohol having 5 to 8 carbon atoms and a water-soluble solvent having a boiling point of 110 to 170 ° C. in a proportion of 10 to 50% by weight. An aluminum oxide precursor sol.
前記粒子の粒度分布曲線が単独のピークを持つ少なくとも1つ以上の山を有し、前記山の内一つの山の平均粒子径が2.5nm以上7nm以下であり、かつ平均粒子径が2.5nm以上7nm以下の山の面積が粒度分布曲線の総面積に対して90%以上であることを特徴とする請求項1に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾル。   The particle size distribution curve of the particles has at least one or more peaks having a single peak, the average particle diameter of one of the peaks being 2.5 nm or more and 7 nm or less, and the average particle diameter being 2.5 nm or more 2. The aluminum oxide precursor sol according to claim 1, wherein an area of a peak of 7 nm or less is 90% or more with respect to a total area of a particle size distribution curve. 前記水溶性溶媒がグリコールエーテルであることを特徴とする請求項記載の酸化アルミニウム前駆体ゾル。 The aluminum oxide precursor sol according to claim 2, wherein the water-soluble solvent is glycol ether. 前記粒子が非晶質であることを特徴とする請求項1乃至のいずれかの項に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾル。 The aluminum oxide precursor sol according to any one of claims 1 to 3 , wherein the particles are amorphous. (1)基材の少なくとも一方の面上に請求項1乃至4のいずれか一項に記載の酸化アルミニウム前駆体ゾルを供給する工程、
(2)前記酸化アルミニウム前駆体ゾルを基材上に広げる工程、
(3)基材を乾燥および/または焼成を行うことにより酸化アルミニウム膜を形成する工程、
(4)前記酸化アルミニウム膜を60℃以上100℃以下の温水中に浸漬して酸化アルミニウムベーマイトの凹凸構造を形成する工程を有することを特徴とする光学用部材の製造方法。
(1) supplying the aluminum oxide precursor sol according to any one of claims 1 to 4 on at least one surface of the substrate;
(2) a step of spreading the aluminum oxide precursor sol on a substrate;
(3) a step of forming an aluminum oxide film by drying and / or firing the substrate;
(4) A method for producing an optical member, comprising a step of forming an uneven structure of aluminum oxide boehmite by immersing the aluminum oxide film in warm water of 60 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.
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