JP5637120B2 - Vapor deposition equipment - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 31
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims description 86
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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Description
本発明は、例えば半導体装置の製造などに用いられる蒸着装置に関する。 The present invention relates to a vapor deposition apparatus used for manufacturing a semiconductor device, for example.
蒸着を繰り返すと蒸着装置の蒸着材料が減少する。そこで、所定の周期で蒸着装置に蒸着材料を追加する作業が行われる。特許文献1には、大きな蒸着材料であるインゴット上の所定位置に小型の蒸着材料であるペレットを追加する技術が開示されている。この技術は、インゴット上に追加されたペレットがインゴット上を転がらないように、治具でペレットを固定するものである。 When deposition is repeated, the deposition material of the deposition apparatus decreases. Therefore, an operation of adding a vapor deposition material to the vapor deposition apparatus at a predetermined cycle is performed. Patent Document 1 discloses a technique for adding a pellet, which is a small vapor deposition material, to a predetermined position on an ingot, which is a large vapor deposition material. In this technique, pellets are fixed with a jig so that pellets added on the ingot do not roll on the ingot.
特許文献1の技術では治具でペレットを固定した後に治具をペレットから取り外す。そのため、治具をペレットから外した後に、ペレットがインゴットの上を転がり所定位置の外に出ることがあった。また、治具をインゴットに対して上下動させる機構が必要になり蒸着材料(ペレット)を追加する作業が複雑になる。 In the technique of Patent Document 1, the jig is removed from the pellet after the pellet is fixed with the jig. Therefore, after removing the jig from the pellet, the pellet may roll on the ingot and go out of the predetermined position. In addition, a mechanism for moving the jig up and down relative to the ingot is required, and the work of adding the vapor deposition material (pellet) becomes complicated.
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、簡易な方法でペレットがインゴット上を転がることを防止できる蒸着装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a vapor deposition apparatus that can prevent pellets from rolling on an ingot by a simple method.
本願の発明に係る蒸着装置は、蒸着材料で形成されたインゴットと、該インゴットの上に供給され、該インゴットと同一材料で形成された複数のペレットと、該インゴットと同一材料で形成され、該複数のペレットが該インゴットの上を転がらないように該複数のペレットを囲う固定用ペレットと、を備えたことを特徴とする。 The vapor deposition apparatus according to the invention of the present application includes an ingot formed of a vapor deposition material, a plurality of pellets formed on the ingot and formed of the same material as the ingot, and formed of the same material as the ingot. And a fixing pellet that surrounds the plurality of pellets so that the plurality of pellets do not roll on the ingot.
本発明の蒸着装置によれば、簡易な方法でペレットがインゴット上を転がることを防止できる。 According to the vapor deposition apparatus of the present invention, the pellets can be prevented from rolling on the ingot by a simple method.
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係る蒸着装置の概略図である。蒸着装置10は、ハース11に収容されたインゴット12を備えている。インゴット12は例えばAlなどの蒸着材料で形成されている。インゴット12の上には複数のペレット14が供給されている。複数のペレット14は、蒸着装置10に蒸着材料を追加するために供給される。そのため、複数のペレット14はインゴット12と同一材料で形成されている。複数のペレット14のそれぞれは、底面がインゴット12に接する円柱形状である。
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a schematic diagram of a vapor deposition apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. The
インゴット12の上方には、固定用ペレット16が形成されている。固定用ペレット16は、複数のペレットがインゴットの上を転がるのを防止するものである。固定用ペレット16はインゴット12と同一材料で形成されている。図2は、図1の固定用ペレットとその周辺を拡大した図である。固定用ペレット16は、複数のペレット14がインゴット12の上を転がらないように複数のペレット14を囲っている。本発明の実施の形態1に係る固定用ペレット16は環状に形成され、当該環の中に複数のペレット14が立てられている。
A
ところで、複数のペレット14はインゴット12の上の電子ビームやレーザなどの当たる場所(加熱位置という)に供給されなければならない。ところが、蒸着を繰り返すとインゴットの上面の形状は変化し曲面となるので、インゴットの上に供給した複数のペレットがインゴットの上を転がり加熱位置の外へ出る場合があった。加熱位置の外に出たペレットは加熱位置に戻さねばならず、ペレットの追加作業が複雑になっていた。
By the way, the plurality of
しかしながら、本発明の実施の形態1に係る蒸着装置10によれば、ペレット14が加熱位置の外に出ることを防止できる。つまり、固定用ペレット16が複数のペレット14を囲むことで、複数のペレット14が加熱位置の外に転がることを防止できる。よって、簡易な方法でペレットがインゴット上を転がることを防止できる。しかも、固定用ペレット16はインゴット12と同一材料で形成されているので、固定用ペレット16が加熱されることで蒸着材料を追加できる。
However, according to the
図3は、本発明の実施の形態1に係る蒸着装置の変形例を示す図である。環状の固定用ペレット16の中にはできるだけ多くのペレットがぎっしり配置されている。つまり、環状の固定用ペレット16の内側は複数のペレット14で満たされている。これにより、複数のペレット14は固定用ペレット16で固定され移動できず、複数のペレット14と固定用ペレット16が一体となっている。複数のペレット14と固定用ペレット16とが一体化した物(結合ペレット18という)を予め作成しておけば、結合ペレット18をインゴット12の上に置くだけでペレットの追加作業を終えるとこができる。
FIG. 3 is a diagram showing a modification of the vapor deposition apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. As many pellets as possible are arranged in the
図4は、本発明の実施の形態1の固定用ペレットの変形例を示す図である。固定用ペレットは、複数のペレットが加熱位置の外に出ないようにこれらを囲むことができる形状であれば特に限定されない。例えば図4Aに示すように、角柱を環状に加工した形状にしても良い。また、図4Bに示すように、切れ目のない円形となるように形成しても良い。 FIG. 4 is a view showing a modification of the fixing pellet according to the first embodiment of the present invention. The fixing pellet is not particularly limited as long as it can surround the plurality of pellets so that they do not go out of the heating position. For example, as shown to FIG. 4A, you may make it the shape which processed the prism into the cyclic | annular form. Moreover, as shown to FIG. 4B, you may form so that it may become an unbroken circular shape.
蒸着材料はAlに限定されず、蒸着に用いられる金属などで形成されていれば特に限定されない。また、複数のペレットのそれぞれは円柱形状に限定されない。 The vapor deposition material is not limited to Al, and is not particularly limited as long as it is formed of a metal used for vapor deposition. Each of the plurality of pellets is not limited to a cylindrical shape.
実施の形態2.
本発明の実施の形態2に係る蒸着装置は、実施の形態1に係る蒸着装置との相違点を中心に説明する。図5は、本発明の実施の形態2に係る蒸着装置の一部を示す図である。インゴット12の上の加熱位置には多面体ペレット20が複数形成されている。多面体ペレット20は、インゴット12と同一材料で形成された多面体である。この多面体の最も大きい面積を有する面がインゴット12と接している。
Embodiment 2. FIG.
The vapor deposition apparatus according to Embodiment 2 of the present invention will be described focusing on differences from the vapor deposition apparatus according to Embodiment 1. FIG. 5 is a diagram showing a part of the vapor deposition apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. A plurality of
多面体ペレット20は、最も大きい面積を有する面がインゴット12と接するようにインゴット12上に供給されているので、多面体ペレット20が加熱位置の外に転がることはない。よって、簡易な方法でペレットがインゴット上を転がることを防止できる。多面体ペレット20は六面体としたが、多面体であれば特にこれに限定されない。
Since the
図6は、本発明の実施の形態2に係る蒸着装置の変形例を示す図である。インゴット12の上の加熱位置には円柱ペレット22が複数形成されている。円柱ペレット22は、インゴット12と同一材料で形成された円柱である。この円柱ペレット22の直径は円柱ペレット22の高さよりも大きい。そして、円柱ペレット22の底面がインゴット12に接している。円柱ペレット22はインゴット12上を転がりづらい形状であるので、簡易な方法でペレットがインゴット上を転がることを防止できる。
FIG. 6 is a view showing a modification of the vapor deposition apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. A plurality of
10 蒸着装置、 11 ハース、 12 インゴット、 14 複数のペレット、 16 固定用ペレット、 18 結合ペレット、 20 多面体ペレット、 22 円柱ペレット 10 evaporation apparatus, 11 hearth, 12 ingot, 14 multiple pellets, 16 fixing pellet, 18 bonded pellet, 20 polyhedral pellet, 22 columnar pellet
Claims (4)
前記インゴットの上に供給され、前記インゴットと同一材料で形成された複数のペレットと、
前記インゴットと同一材料で形成され、前記複数のペレットが前記インゴットの上を転がらないように前記複数のペレットを囲う固定用ペレットと、を備えたことを特徴とする蒸着装置。 An ingot formed of a vapor deposition material;
A plurality of pellets supplied on the ingot and formed of the same material as the ingot;
An evaporation apparatus comprising: a fixing pellet formed of the same material as the ingot, and surrounding the plurality of pellets so that the plurality of pellets do not roll on the ingot.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011249478A JP5637120B2 (en) | 2011-11-15 | 2011-11-15 | Vapor deposition equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011249478A JP5637120B2 (en) | 2011-11-15 | 2011-11-15 | Vapor deposition equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013104106A JP2013104106A (en) | 2013-05-30 |
JP5637120B2 true JP5637120B2 (en) | 2014-12-10 |
Family
ID=48623887
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011249478A Active JP5637120B2 (en) | 2011-11-15 | 2011-11-15 | Vapor deposition equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5637120B2 (en) |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5215277B2 (en) * | 1973-02-09 | 1977-04-27 | ||
JPS6252925U (en) * | 1985-09-20 | 1987-04-02 | ||
JP3239385B2 (en) * | 1991-09-26 | 2001-12-17 | 凸版印刷株式会社 | Manufacturing method of vapor-deposited film |
JPH0765163B2 (en) * | 1991-09-30 | 1995-07-12 | 株式会社シンクロン | Hearth liner and vapor deposition method |
JP2004043955A (en) * | 2002-05-20 | 2004-02-12 | Mitsubishi Materials Corp | MgO VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND ITS MANUFACTURING PROCESS, MANUFACTURING PROCESS OF MgO DEPOSITION FILM |
JP4627652B2 (en) * | 2003-10-21 | 2011-02-09 | 宇部マテリアルズ株式会社 | Magnesium oxide vapor deposition material |
JP2008223117A (en) * | 2007-03-15 | 2008-09-25 | Fujitsu Ltd | Vacuum vapor deposition apparatus, tool for the vacuum vapor deposition apparatus, and using method for the same |
-
2011
- 2011-11-15 JP JP2011249478A patent/JP5637120B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013104106A (en) | 2013-05-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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