JP5626610B2 - Connection structure and damping structure - Google Patents

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本発明は、構造物を支持する接続構造及び制振構造物に関する。   The present invention relates to a connection structure and a vibration control structure that support a structure.

これまで、地震や風等の外力に対して、上方に配置された上方構造物を下方から安定して支持するために、様々な接続構造が検討されてきた。構造物が高層ビル等の建築構造物である場合には、上方構造物を制振させる接続構造として、種々のダンパが用いられている。
ダンパには、鉛を用いた履歴ダンパ、オイルを利用した粘性ダンパ等がある。これらのダンパは局所的な変形抑制には効果があるが、構造物全体の共振特性を大きく変えることはなく、補助装置として考えるべきである。
このようなダンパが有効に働かない代表的な例として高層構造物がある。高層構造物の振動は長周期の曲げ振動が卓越するが、曲げ振動は高剛性である軸長方向(鉛直方向)の剛性に依存するうえに層間変位も小さい。粘性ダンパ、履歴ダンパなどは、低剛性部分に用いるか、層間変位が大きい部分に用いるか、振動周波数が高いときに用いる場合には効きが良いが、高層ビルの場合にはこのいずれにも当てはまらないため、ダンパを挿入しても効果が低い。従って、長周期地震の影響を受け易い高層ビルは、振動減衰を大きく設計することが困難であるため、長周期地震が問題となっている。
Up to now, various connection structures have been studied in order to stably support an upper structure disposed above from an external force such as an earthquake or wind. When the structure is a building structure such as a high-rise building, various dampers are used as a connection structure for damping the upper structure.
The damper includes a hysteresis damper using lead and a viscous damper using oil. Although these dampers are effective in suppressing local deformation, they do not change the resonance characteristics of the entire structure greatly, and should be considered as auxiliary devices.
A typical example of such a damper that does not work effectively is a high-rise structure. The vibration of a high-rise structure is dominated by long-period bending vibration, but the bending vibration depends on the rigidity in the axial length direction (vertical direction), which is highly rigid, and the interlayer displacement is small. Viscous dampers, hysteresis dampers, etc. are effective when used in low-rigidity parts, in parts where the interlayer displacement is large, or when the vibration frequency is high, but this is not the case for high-rise buildings. Therefore, even if a damper is inserted, the effect is low. Therefore, high-rise buildings that are easily affected by long-period earthquakes are difficult to design with large vibration damping, so long-period earthquakes are a problem.

近年、高層構造物の制振で注目されているのは、以下に示す構造的なダンパである。
例えば1つめの例として、特許文献1に示す動的制振装置は、建築物上部と下部を分断することによりマスダンパ効果で制振する手法であり、この手法は中間免震にも部類される。
この動的制振装置の原理は、中間免震とすることで構造物全体の固有周期を長くすることにより、通常着目する地震周期領域でのビルの振動が、節の無い1次モードではなく中間免震部付近を節とする2次モードで振動するように設計したものであり、振動の2次モードが1次モードより振幅が小さいことを利用して制振する手法である。
しかし、一般の複数周期の混入した振動で2次モードが卓越して表れなければ、上記動的制振装置は、単に固有周期を長周期側にシフトしたに過ぎず、逆に長周期地震の影響が顕著に表れる可能性がある。また、この動的制振装置は強風に対しても有効とされているが、強風による振動では卓越モードが顕著に表れるため、地震動で意図したような2次モードでは振動せず1次モードでの振動となり、逆に振幅を増大させる可能性がある。これらの理由は、2次モードが卓越する構造となっていないことによる。
In recent years, the following structural dampers are attracting attention for damping high-rise structures.
For example, as a first example, the dynamic vibration damping device shown in Patent Document 1 is a technique of damping with a mass damper effect by dividing an upper part and a lower part of a building, and this technique is also classified as an intermediate seismic isolation. .
The principle of this dynamic vibration control device is that the natural period of the entire structure is lengthened by adopting an intermediate seismic isolation, so that the vibration of the building in the normal seismic period region is not a primary mode without nodes. It is designed to vibrate in a secondary mode with a node in the vicinity of the intermediate seismic isolation part, and is a method of damping using the fact that the secondary mode of vibration has a smaller amplitude than the primary mode.
However, if the secondary mode does not appear predominately due to vibrations mixed in with a plurality of general periods, the dynamic vibration control device simply shifts the natural period to the long period side. The impact may be noticeable. This dynamic vibration control device is also effective against strong winds, but the dominant mode appears remarkably in vibrations caused by strong winds. Therefore, the primary mode does not vibrate in the secondary mode as intended by earthquake motion. In contrast, the amplitude may increase. These reasons are due to the fact that the secondary mode is not an excellent structure.

また、2つ目の例として、特許文献2では、固有周期の異なる構造物を連結した構築構造が提案されている。しかし、構造物を連結することにより1つの構造物となるため、異なる周期振動によるダンピング効果は期待できない。連結構造で得られるのは、連結したことによる曲げ剛性の向上、連結部での大きな運動による連結部のダンパの減衰性能の向上などであり、高層構造物で問題となる共振特性を大きく変えるものではない。   As a second example, Patent Document 2 proposes a construction structure in which structures having different natural periods are connected. However, since a single structure is obtained by connecting the structures, a damping effect due to different periodic vibrations cannot be expected. What can be obtained with a connection structure is that the rigidity of the connection is improved by improving the flexural rigidity due to the connection, and the damping performance of the damper of the connection by a large movement at the connection. is not.

これに対し、高層の構造物を中心として用いられる新しい概念の接続構造として、上方構造物が鉛直下向きに凸の円弧軌道を描くように、上方構造物の下方においてこの上方構造物の重心を含む鉛直面に対して対称に配置された一対又は複数対のアイソレータを備えるものが提案されている(例えば、特許文献3及び特許文献4参照)。これらのアイソレータに作用する合力は、上方構造物の重心を向いている(以下、アイソレータのこの配置を「特異配置」と称する)。
上記特許文献3及び特許文献4に示す多層構造物では、地震振動、風振動の主体となる水平方向が剛となる構造を用いているため、従来の高層構造物より小振幅高周波振動となる。この水平方向の振動の実態は縦剪断振動である。そして、縦剪断振動から円弧振動への内部共振により高次モードが卓越した多節振動となるため、低剛性の円弧方向でのダンピングで構造物全体の減衰を得ている。
On the other hand, as a new concept connection structure used mainly for high-rise structures, the upper structure includes the center of gravity of the upper structure below the upper structure so that the upper structure draws a vertically downward convex arc trajectory. One having a pair or a plurality of pairs of isolators arranged symmetrically with respect to a vertical plane has been proposed (see, for example, Patent Document 3 and Patent Document 4). The resultant force acting on these isolators is directed toward the center of gravity of the upper structure (hereinafter, this arrangement of the isolators is referred to as “unique arrangement”).
The multilayer structures shown in Patent Document 3 and Patent Document 4 use a structure in which the horizontal direction, which is the main component of earthquake vibration and wind vibration, is rigid, so that the amplitude is higher than that of a conventional high-layer structure. The actual state of horizontal vibration is longitudinal shear vibration. Since the high-order mode is an excellent multi-node vibration due to the internal resonance from the longitudinal shear vibration to the arc vibration, damping of the entire structure is obtained by damping in the arc direction of low rigidity.

しかし、アイソレータを特異配置とした場合では減衰性能向上に関して幾つかの課題を残していた。まず第1に、減衰応答の速応性、すなわち減衰応答の速さである。特許文献3及び特許文献4に示す多層構造物では、減衰を得るプロセスとして、縦剪断振動から円弧振動への内部共振を用いている。このため、振動初期には減衰が小さく、内部共振により円弧方向へのエネルギー遷移が十分になったときに減衰効果が顕著となるため、減衰応答が遅い。
第2に、減衰量自体の大きさの改善である。アイソレータを特異配置とした場合では、内部共振により円弧方向が高次モード振動となった場合の層間変位により減衰を得るが、内部共振で得たエネルギー量は構造物全体の振動を減衰させるエネルギーとしては不足である。従って、遷移した高次円弧振動の減衰は速いが、十分に円弧方向にエネルギー遷移していない縦剪断振動の減衰は大きくはないため、定常的には縦剪断振動だけが残ることが考えられる。
However, in the case where the isolator is arranged in a specific manner, some problems remain with respect to improving the damping performance. First, it is the quick response of the attenuation response, that is, the speed of the attenuation response. In the multilayer structures shown in Patent Document 3 and Patent Document 4, internal resonance from longitudinal shear vibration to arc vibration is used as a process for obtaining damping. For this reason, the damping is small at the beginning of vibration, and the damping effect becomes significant when the energy transition in the arc direction becomes sufficient due to internal resonance, so that the damping response is slow.
Second, the amount of attenuation itself is improved. When the isolator is singularly arranged, attenuation is obtained by interlayer displacement when the arc direction becomes higher order mode vibration due to internal resonance, but the amount of energy obtained by internal resonance is energy that attenuates vibration of the entire structure. Is in short supply. Therefore, although the transition of the higher order circular vibration that has transitioned is fast, the longitudinal shear vibration that is not sufficiently energy-transitioned in the arc direction is not significantly attenuated.

そこで、上記特許文献3及び特許文献4の制振性能を向上させるため、特許文献5に示された制振構造物が提案されている。この特許文献5に示された制振構造物では、各層におけるアイソレータは、上記の特異配置だけでなく、一対又は複数対のアイソレータに作用する合力が上方構造物の重心の上方、下方の所定の場所に向く配置(以下、アイソレータのこの配置を「上方配置」、「下方配置」と称する)が組み合わせて用いられている。
この制振構造物は、水平方向の振動である縦剪断振動の擾乱により、高次円弧振動に類似した各層が逆方向に運動する振動モードとなる。これより、ダイレクトに高次円弧振動を励振する速応性、両振動の類似性から得られる大きな層間変位から、内部共振という間接的なエネルギー遷移手段を経ずに高減衰を得ている。さらに、上記特許文献3及び特許文献4に示された多層構造物に無い減衰効果として、縦剪断振動と高次円弧振動の重ね合わせにより、構造物全体の振動を減少させている。
Therefore, in order to improve the damping performance of Patent Document 3 and Patent Document 4, the damping structure shown in Patent Document 5 has been proposed. In the vibration damping structure disclosed in Patent Document 5, the isolator in each layer is not only the above-described specific arrangement, but the resultant force acting on one or more pairs of isolators is a predetermined force above and below the center of gravity of the upper structure. An arrangement that is directed to the place (hereinafter, this arrangement of the isolator is referred to as “upward arrangement” and “lower arrangement”) is used in combination.
This vibration damping structure becomes a vibration mode in which each layer similar to the higher-order arc vibration moves in the reverse direction due to the disturbance of the longitudinal shear vibration which is the vibration in the horizontal direction. As a result, high damping is obtained without indirect energy transition means such as internal resonance from the rapid response to directly excite high-order circular vibration and the large interlayer displacement obtained from the similarity of both vibrations. Furthermore, as a damping effect not found in the multilayer structures shown in Patent Document 3 and Patent Document 4, vibration of the entire structure is reduced by superimposing longitudinal shear vibration and higher-order arc vibration.

特公平06−60538号公報Japanese Patent Publication No. 06-60538 特公平04−26385号公報Japanese Patent Publication No. 04-26385 特開2007−231718号公報JP 2007-231718 A 特願2008−151030号Japanese Patent Application No. 2008-153030 特願2008−192421号Japanese Patent Application No. 2008-192421

しかしながら、上記特許文献5に示す制振構造物では、アイソレータの上方配置という安定な振子構造の他に、アイソレータの下方配置という不安定な倒立振子型の構造を用いている。重力下において、アイソレータを下方配置としたときに、このアイソレータに円弧方向の剛性があればその剛性により倒立振子の不安定性をカバーするよう設計できるが、円弧方向の接続が平面(支持面)による滑りあるいは転がりなどの場合には、円弧方向剛性の設計自由度が小さいため不安定になり易い。   However, the damping structure shown in Patent Document 5 uses an unstable inverted pendulum type structure in which the isolator is disposed below, in addition to a stable pendulum structure in which the isolator is disposed above. Under gravity, when the isolator is placed downward, if the isolator has rigidity in the arc direction, the rigidity can be designed to cover the instability of the inverted pendulum, but the connection in the arc direction depends on the plane (support surface) In the case of slipping or rolling, the degree of freedom in design of the arc-direction rigidity is small, so it tends to be unstable.

本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであって、支持面における上方構造物を支持する部分での法線が上方構造物の重心の下方の所定の場所に向く場合(下方配置)であっても、上方構造物を下方から安定して支持する接続構造及び制振構造物を提供するものである。   The present invention has been made in view of such a problem, and the normal line at the portion of the support surface that supports the upper structure is directed to a predetermined position below the center of gravity of the upper structure (downward). Even in the arrangement, a connection structure and a vibration control structure that stably support the upper structure from below are provided.

上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
本発明の接続構造は、上方構造物と、該上方構造物の下方に設けられ当該上方構造物を支持する下方構造物との間に設けられる接続構造であって、前記上方構造物の重心を含む鉛直面上において、前記下方構造物の上部に設けられ、前記上方構造物の重心を含む鉛直線に対して対称に配置されるとともに、上方に向かうに従って互いに接近するように配置された一対の支持面と、前記上方構造物の下部に設けられ、前記鉛直線に対して対称に配置された一対の支持部と、を備え、前記鉛直面上において、前記一対の支持面はそれぞれが直線状に形成され、前記鉛直面上で、前記支持部に当接する部分での前記一対の支持面の法線が、前記上方構造物の重心の下方の所定の場所にそれぞれ向くように設定され、前記一対の支持部は、前記鉛直面上を前記一対の支持面にそれぞれ当接しながら移動することを特徴としている。
なお、以下では、本請求項における、上方構造物の重心を含む鉛直面上において、下方構造物の上部に設けられ、上方構造物の重心を含む鉛直線に対して対称に配置された一対の支持面と、上方構造物の下部に設けられ、鉛直線に対して対称に配置された一対の支持部とによる接続構造の構成を、「下接続」と称する。また、以下では、上方に向かうに従って互いに接近するように配置された一対の支持面の配置を、「上に凸」と称する。
In order to solve the above problems, the present invention proposes the following means.
The connection structure of the present invention is a connection structure provided between an upper structure and a lower structure provided below the upper structure and supporting the upper structure. On a vertical plane including the pair of lower structures, the pair is disposed symmetrically with respect to a vertical line including the center of gravity of the upper structure, and is disposed so as to approach each other toward the upper side. A support surface and a pair of support portions provided at the lower part of the upper structure and arranged symmetrically with respect to the vertical line , wherein each of the pair of support surfaces is linear on the vertical surface are formed on, the on vertical plane, the normal of the pair of support surfaces in contact with the portion to the support portion, is set to face each at a predetermined location below the center of gravity of the upper structure, wherein The pair of support portions is the vertical plane The is characterized in that moves while contact to each of the pair of support surfaces.
In the following description, in the present invention, on the vertical plane including the center of gravity of the upper structure, a pair of symmetrically arranged with respect to the vertical line including the center of gravity of the upper structure provided on the lower structure. A configuration of a connection structure including a support surface and a pair of support portions provided below the upper structure and arranged symmetrically with respect to the vertical line is referred to as “lower connection”. Hereinafter, the arrangement of the pair of support surfaces arranged so as to approach each other as they go upward is referred to as “convex upward”.

この発明によれば、上方構造物の重心を含む鉛直面上において、上方構造物は、下部に設けられた一対の支持部を一対の支持面にそれぞれ当接させながら移動する。そして、上方構造物が傾いて所定方向回りに回転したときに、上方構造物に作用する重力により、上方構造物に所定方向とは逆方向回りのトルクが作用する。
従って、この鉛直面上で上方構造物が回転することを抑えて、上方構造物を下方から安定して支持することができる。
なお、ここで言う安定とは、着目する範囲内での局所的な安定を意味する。
また、支持面における支持部に当接する部分での法線が、上方構造物の重心の下方の所定の場所に向く(以下では、支持面のこの配置を「下方配置」と称する。)という、倒立振子に類似した構成となる場合であっても、上方構造物を下方から安定して支持することができる。
According to the present invention, on the vertical plane including the center of gravity of the upper structure, the upper structure moves while bringing the pair of support portions provided at the lower portion into contact with the pair of support surfaces. When the upper structure is tilted and rotated around a predetermined direction, a torque about a direction opposite to the predetermined direction acts on the upper structure due to gravity acting on the upper structure.
Therefore, the upper structure can be stably supported from below by suppressing the upper structure from rotating on the vertical plane.
In addition, the stability said here means local stability within the range to which attention is paid.
Further, the normal line at the portion of the support surface that contacts the support portion is directed to a predetermined location below the center of gravity of the upper structure (hereinafter, this arrangement of the support surface is referred to as “lower arrangement”). Even if it is a case similar to an inverted pendulum, the upper structure can be stably supported from below.

また、上記の接続構造において、前記鉛直面上で、前記一対の支持面の前記一対の支持部にそれぞれ当接する当接部間の距離を2w、前記当接部から前記上方構造物の重心までの鉛直方向の高さをh、水平面と前記支持面がなす角度をθ、前記上方構造物の前記鉛直線に対する回転角をφとしたときに、(1)式を満たすように設定されていることがより好ましい。   In the above connection structure, on the vertical plane, the distance between the contact portions that contact the pair of support portions of the pair of support surfaces is 2w, from the contact portion to the center of gravity of the upper structure. Is set to satisfy the equation (1) where h is the height in the vertical direction, θ is the angle between the horizontal plane and the support surface, and φ is the rotation angle of the upper structure with respect to the vertical line. It is more preferable.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

この発明によれば、上方構造物の重心を含む鉛直面上において、所定方向回りに回転した上方構造物に、所定方向とは逆方向回りのトルクをより確実に作用させることができる。   According to this invention, on the vertical plane including the center of gravity of the upper structure, it is possible to cause the torque around the direction opposite to the predetermined direction to act on the upper structure rotated around the predetermined direction more reliably.

また、本発明の制振構造物は、前記上方構造物と、前記下方構造物と、該上方構造物と該下方構造物との間に設けられた上記のいずれかに記載の接続構造と、を備えることを特徴としている。
この発明によれば、上方構造物の重心を含む鉛直面上で上方構造物が回転することを抑えて、上方構造物を下方構造物で下方から安定して支持することができる。
Further, the vibration damping structure of the present invention includes the upper structure, the lower structure, and the connection structure according to any one of the above provided between the upper structure and the lower structure, It is characterized by having.
According to the present invention, the upper structure can be stably supported from below by the lower structure while suppressing the upper structure from rotating on the vertical plane including the center of gravity of the upper structure.

本発明の接続構造及び制振構造物によれば、支持面における上方構造物を支持する部分での法線が上方構造物の重心の下方の所定の場所に向く場合(下方配置)であっても、上方構造物を下方から安定して支持することができる。   According to the connection structure and the vibration damping structure of the present invention, the normal line at the portion of the support surface that supports the upper structure is directed to a predetermined location below the center of gravity of the upper structure (downward arrangement). In addition, the upper structure can be stably supported from below.

本発明の第1実施形態のアイソレータが上接続の高層構造物で、一対の支持面が下に凸の場合を模式的に示した正面図である。It is the front view which showed typically the case where the isolator of 1st Embodiment of this invention is an upper connection high-rise structure, and a pair of support surface is convex below. 同高層構造物をモデル化した図である。It is the figure which modeled the same high-rise structure. モデル化した同高層構造物の上層構造物が回転した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the upper layer structure of the modeled high-rise structure rotated. モデル化した同高層構造物のアイソレータの周辺の拡大図である。It is an enlarged view of the periphery of the isolator of the modeled high-rise structure. 本発明の第1実施形態のアイソレータが上接続の高層構造物で、一対の支持面が上に凸の場合を模式的に示した正面図である。It is the front view which showed typically the case where the isolator of 1st Embodiment of this invention is an upper connection high-rise structure, and a pair of support surface is convex upwards. 同高層構造物をモデル化した図である。It is the figure which modeled the same high-rise structure. モデル化した同高層構造物の上層構造物が傾いた状態を示す図である。It is a figure which shows the state in which the upper layer structure of the modeled high-rise structure inclined. モデル化した同高層構造物のアイソレータの周辺の拡大図である。It is an enlarged view of the periphery of the isolator of the modeled high-rise structure. 同高層構造物の重心に対する中心の位置の位置を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the position of the center position with respect to the gravity center of the same high-rise structure. 同高層構造物の安定性を上層構造物の高さが20(m)の場合でシミュレーションした結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having simulated stability of the same high-rise structure in case the height of an upper-layer structure is 20 (m). 同高層構造物の安定性を上層構造物の高さが200(m)の場合でシミュレーションした結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having simulated stability of the same high-rise structure in case the height of an upper-layer structure is 200 (m). 本発明の第2実施形態のアイソレータが下接続の高層構造物で、一対の支持面が下に凸の場合を模式的に示した正面図である。It is the front view which showed typically the case where the isolator of 2nd Embodiment of this invention is a high connection structure of a lower connection, and a pair of support surface is convex below. 同高層構造物をモデル化した図である。It is the figure which modeled the same high-rise structure. モデル化した同高層構造物の上層構造物が傾いた状態を示す図である。It is a figure which shows the state in which the upper layer structure of the modeled high-rise structure inclined. モデル化した同高層構造物のアイソレータの周辺の拡大図である。It is an enlarged view of the periphery of the isolator of the modeled high-rise structure. 本発明の第2実施形態のアイソレータが下接続の高層構造物で、一対の支持面が上に凸の場合を模式的に示した正面図である。It is the front view which showed typically the case where the isolator of 2nd Embodiment of this invention is a high-rise structure of a bottom connection, and a pair of support surface is convex upwards. 同高層構造物をモデル化した図である。It is the figure which modeled the same high-rise structure. モデル化した同高層構造物の上層構造物が傾いた状態を示す図である。It is a figure which shows the state in which the upper layer structure of the modeled high-rise structure inclined. モデル化した同高層構造物のアイソレータの周辺の拡大図である。It is an enlarged view of the periphery of the isolator of the modeled high-rise structure. 同高層構造物の安定性を上層構造物の高さが20(m)の場合でシミュレーションした結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having simulated stability of the same high-rise structure in case the height of an upper-layer structure is 20 (m). 同高層構造物の安定性を上層構造物の高さが200(m)の場合でシミュレーションした結果を示す図である。It is a figure which shows the result of having simulated stability of the same high-rise structure in case the height of an upper-layer structure is 200 (m).

(第1実施形態)
以下、本発明に係る制振構造物の第1実施形態を、図1から図11を参照しながら説明する。本実施形態では、制振構造物が高層構造物である場合を例にとって説明する。
図1に示すように、本実施形態の高層構造物1は、複数の層からなる上層構造物(上方構造物)2と、上層構造物2の下方に設けられ上層構造物2を支持する下層構造物(下方構造物)3と、上層構造物2と下層構造物3との間に設けられた一対のアイソレータ(接続構造)4a、4bと、を備えている。
図中に示すように、鉛直方向をYとし、鉛直方向Yに直交するとともに互いに直交するX方向とZ方向を定める。なお、図中、Y1方向が下方となっている。
本実施形態では、上層構造物2は、Z方向に直交する平面での断面形状が一定であり、上層構造物2の重心Gを含みX方向に直交する鉛直面に対して対称に形成されている。
このため、以下では、高層構造物1を2次元状のモデルとして説明を行う。
また、本実施形態では、アイソレータ4a、4bが上接続の場合について説明するが、まず、後述する支持面8aと支持面8bが上述の下に凸の場合について説明し、次に、支持面8aと支持面8bが上に凸について説明する。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of a vibration damping structure according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 11. In the present embodiment, a case where the vibration damping structure is a high-rise structure will be described as an example.
As shown in FIG. 1, the high-layer structure 1 of the present embodiment includes an upper layer structure (upper structure) 2 composed of a plurality of layers, and a lower layer that is provided below the upper layer structure 2 and supports the upper layer structure 2. A structure (lower structure) 3 and a pair of isolators (connection structures) 4 a and 4 b provided between the upper layer structure 2 and the lower layer structure 3 are provided.
As shown in the figure, the vertical direction is Y, and an X direction and a Z direction that are orthogonal to the vertical direction Y and orthogonal to each other are determined. In the figure, the Y1 direction is downward.
In the present embodiment, the upper layer structure 2 has a constant cross-sectional shape in a plane orthogonal to the Z direction, and is formed symmetrically with respect to a vertical plane that includes the center of gravity G of the upper layer structure 2 and is orthogonal to the X direction. Yes.
For this reason, below, the high-rise structure 1 is demonstrated as a two-dimensional model.
In this embodiment, the case where the isolators 4a and 4b are connected upward will be described. First, the case where the support surface 8a and the support surface 8b described later are convex downward will be described, and then the support surface 8a. The support surface 8b is convex upward.

アイソレータ4aは、上層構造物2の重心Gを含みZ方向に直交する鉛直面S1上において、下層構造物3の上部に設けられた支持部7aと、上層構造物2の下部に設けられた支持面8aと、を有する。支持部7aは、球状の回転体9aと、一端が下層構造物3の天面に固定され、他端に回転体9aを回転可能に支持する支持体10aとを備えている。
同様に、アイソレータ4bは、鉛直面S1上において、下層構造物3の上部に設けられた支持部7bと、上層構造物2の下部に設けられた支持面8bと、を有する。支持部7bは、球状の回転体9bと、一端が下層構造物3の天面に固定され、他端に回転体9bを回転可能に支持する支持体10bとを備えている。
なお、支持面8aと支持面8bの鉛直面S1による断面は、それぞれ直線状になっている。
The isolator 4a includes a support portion 7a provided above the lower structure 3 and a support provided below the upper structure 2 on a vertical plane S1 including the center of gravity G of the upper structure 2 and perpendicular to the Z direction. And a surface 8a. The support portion 7a includes a spherical rotator 9a, and a support 10a having one end fixed to the top surface of the lower structure 3 and the other end rotatably supporting the rotator 9a.
Similarly, the isolator 4b has a support portion 7b provided on the upper portion of the lower layer structure 3 and a support surface 8b provided on the lower portion of the upper layer structure 2 on the vertical plane S1. The support portion 7b includes a spherical rotator 9b and a support 10b that has one end fixed to the top surface of the lower structure 3 and the other end rotatably supporting the rotator 9b.
In addition, the cross section by the vertical surface S1 of the support surface 8a and the support surface 8b is each linear form.

支持部7aと支持部7b、支持面8aと支持面8bは、それぞれ上層構造物2の重心Gを含む鉛直線L1に対して対称に配置されている。支持面8aにおける支持部7aに当接する部分である当接部11aでの法線、及び支持面8bにおける支持部7bに当接する部分である当接部11bでの法線は、鉛直線L1上の中心Cに向くように配置されている。すなわち、それぞれの法線が中心Cを通っている。
回転体9a、9bの軸線は、Z方向と平行になるように配置されている。さらに、支持面8aと支持面8bは、下に凸となるように配置されている。
そして、上層構造物2の下部に設けられた一対の支持面8a、8bは、鉛直面S1上を、一対の支持部7a、7bにそれぞれ当接しながら移動するように構成されている。なお、上層構造物2を鉛直面S1上で移動させるために、上記のアイソレータ4a、4bをZ方向に複数備えても良い。
上層構造物2、下層構造物3、支持部7a、7bは、例えばコンクリートや鉄筋等の硬質の材料で形成され、変形は無視できるものとする。
The support portion 7a and the support portion 7b, and the support surface 8a and the support surface 8b are arranged symmetrically with respect to the vertical line L1 including the center of gravity G of the upper layer structure 2, respectively. The normal line at the contact part 11a that is the part that contacts the support part 7a in the support surface 8a and the normal line at the contact part 11b that is the part that contacts the support part 7b in the support surface 8b are on the vertical line L1. It is arrange | positioned so that it may face the center C. That is, each normal passes through the center C.
The axes of the rotating bodies 9a and 9b are arranged so as to be parallel to the Z direction. Further, the support surface 8a and the support surface 8b are disposed so as to protrude downward.
And a pair of support surface 8a, 8b provided in the lower part of the upper layer structure 2 is comprised so that it may move on the vertical surface S1, abutting on a pair of support part 7a, 7b, respectively. In order to move the upper layer structure 2 on the vertical plane S1, a plurality of the isolators 4a and 4b may be provided in the Z direction.
The upper layer structure 2, the lower layer structure 3, and the support portions 7a and 7b are formed of, for example, a hard material such as concrete or a reinforcing bar, and the deformation can be ignored.

ここで、当接部11a、11bから鉛直線L1までの距離をそれぞれwとする(このとき、当接部11aと当接部11bの間の距離は2wとなる)。さらに、当接部11a、11bから重心Gまでの鉛直方向Yの高さをh、水平面と支持面8a、8bがなす角度をθとする。
なお、後述する図10、図11、図20、及び図21では角度の単位を(°)とし、これら以外の図では角度の単位を(rad)としている。
また、当接部11aと当接部11bの間の距離は、一般的に、実際の上層構造物2の幅より狭くなる。
Here, the distances from the contact portions 11a and 11b to the vertical line L1 are each w (the distance between the contact portions 11a and 11b is 2w at this time). Furthermore, the height in the vertical direction Y from the contact portions 11a and 11b to the center of gravity G is h, and the angle between the horizontal plane and the support surfaces 8a and 8b is θ.
In FIGS. 10, 11, 20, and 21, which will be described later, the unit of angle is (°), and the unit of angle is (rad) in other figures.
Moreover, the distance between the contact part 11a and the contact part 11b is generally narrower than the actual width of the upper layer structure 2.

本実施形態の高層構造物1をモデル化したものを図2に示す。
当接部11aと当接部11bを点A、点Bとし、支持面8aと支持面8bが交差する点を点Oとする。支持面8aにおける当接部11aでの法線が中心Cを通るので、角OACは直角になる。同様に、角OBCも直角になる。
ここで、図3に、モデル化した上層構造物2が方向D1回りに回転し、上層構造物2が傾いたときの状態を示す。移動後の鉛直線L1’と元の位置の鉛直線L1がなす角を回転角φとする(図中に示すφの向きを正とする)。なお、回転角φは、上層構造物2の鉛直線L1に対する角度とみることもできる。
重心G’、中心C’、点A’、点B’、及び点O’は、それぞれ重心G、中心C、点A、点B、及び点Oの移動後の点である。支持面8a、8bは、支持部7a、7bにそれぞれ当接しながら移動するので、点Aは直線O’A’上に位置し、点Bは直線O’B’上に位置する。そして、角OAC及び角OBCが直角なので、角O’AC’及び角O’BC’もそれぞれ直角になる。
図4に示すように、上層構造物2が回転したときに直線OB上を点B’が移動した距離をdとする。
距離dを角度θと回転角φの関数として表すため、三角形O’ABに正弦定理を用いる。このとき、次式が成り立つ。
FIG. 2 shows a model of the high-rise structure 1 of the present embodiment.
The contact portion 11a and the contact portion 11b are point A and point B, and the point where the support surface 8a and the support surface 8b intersect is point O. Since the normal line at the contact portion 11a on the support surface 8a passes through the center C, the angle OAC becomes a right angle. Similarly, the angle OBC is also a right angle.
Here, FIG. 3 shows a state where the modeled upper layer structure 2 rotates around the direction D1 and the upper layer structure 2 is tilted. An angle formed by the vertical line L1 ′ after movement and the vertical line L1 at the original position is defined as a rotation angle φ (the direction of φ shown in the figure is positive). The rotation angle φ can be regarded as an angle with respect to the vertical line L1 of the upper layer structure 2.
The centroid G ′, the center C ′, the point A ′, the point B ′, and the point O ′ are points after movement of the centroid G, the center C, the point A, the point B, and the point O, respectively. Since the support surfaces 8a and 8b move while being in contact with the support portions 7a and 7b, the point A is located on the straight line O′A ′, and the point B is located on the straight line O′B ′. Since the corner OAC and the corner OBC are right angles, the corner O′AC ′ and the corner O′BC ′ are also right angles.
As shown in FIG. 4, the distance that the point B ′ has moved on the straight line OB when the upper layer structure 2 rotates is defined as d.
In order to express the distance d as a function of the angle θ and the rotation angle φ, the sine theorem is used for the triangle O′AB. At this time, the following equation holds.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

BC’(点Bと中心C’との距離のこと。以下同様に示す。)を、角度θと回転角φの関数として表すため、三角形ABC’に正弦定理を用いる。このとき、次式が成り立つ。   In order to express BC ′ (the distance between the point B and the center C ′; the same applies hereinafter) as a function of the angle θ and the rotation angle φ, the sine theorem is used for the triangle ABC ′. At this time, the following equation holds.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

ここで、図4に示すように、X方向及び鉛直方向Yにそれぞれ平行にx軸及びy軸を定める。このとき、点G’から点C’に向かうベクトルG’C’のx軸成分(以下、「(G’C’)x」のように示す。)及びy軸成分(G’C’)yは、次式のようになる。 Here, as shown in FIG. 4, the x-axis and the y-axis are defined in parallel with the X direction and the vertical direction Y, respectively. At this time, the x-axis component (hereinafter referred to as “(G′C ′) x ”) and the y-axis component (G′C ′) y of the vector G′C ′ from the point G ′ to the point C ′. Is as follows.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

次に、アイソレータ4a、4bが上接続である本実施形態において、支持面8aと支持面8bが上に凸となるように配置されている場合について説明する。なお、前述の場合と同一の部位には同一の符号を付してその説明は省略し、異なる点についてのみ説明する。
この場合におけるアイソレータ4a、4bは、図5に示すような構成となる。
支持面8aにおける当接部11aでの法線が中心Cを通るので、図6において、角OACは直角になる。同様に、角OBCも直角になる。また、支持面8a、8bは、支持部7a、7bにそれぞれ当接しながら移動するので、図7において、点Aは直線O’A’上に位置し、点Bは直線O’B’上に位置する。そして、角OAC及び角OBCが直角なので、角O’AC’及び角O’BC’もそれぞれ直角になる。
図8において、距離dを角度θと回転角φの関数として表すため、三角形O’ABに正弦定理を用いる。このとき、次式が成り立つ。
Next, in the present embodiment in which the isolators 4a and 4b are connected upward, the case where the support surface 8a and the support surface 8b are arranged so as to protrude upward will be described. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the site | part same as the above-mentioned case, the description is abbreviate | omitted, and only a different point is demonstrated.
In this case, the isolators 4a and 4b are configured as shown in FIG.
Since the normal line at the contact portion 11a on the support surface 8a passes through the center C, the angle OAC is a right angle in FIG. Similarly, the angle OBC is also a right angle. Further, since the support surfaces 8a and 8b move while abutting on the support portions 7a and 7b, the point A is located on the straight line O′A ′ and the point B is located on the straight line O′B ′ in FIG. To position. Since the corner OAC and the corner OBC are right angles, the corner O′AC ′ and the corner O′BC ′ are also right angles.
In FIG. 8, the sine theorem is used for the triangle O′AB in order to express the distance d as a function of the angle θ and the rotation angle φ. At this time, the following equation holds.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

また、BC’を、角度θと回転角φの関数として表すため、三角形ABC’に正弦定理を用いる。このとき、次式が成り立つ。   Further, in order to express BC ′ as a function of the angle θ and the rotation angle φ, the sine theorem is used for the triangle ABC ′. At this time, the following equation holds.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

また、この場合の(G’C’)x及び(G’C’)yは、次式のようになる。 In this case, (G′C ′) x and (G′C ′) y are expressed by the following equations.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

ここで、(17)式及び(18)式において、θ=−θ’と置換すると(9)式及び(10)式に一致することが解る。従って、図5に示すように支持面8aと支持面8bが上に凸となる場合は、図1に示すように支持面8aと支持面8bが下に凸となる場合において、θが負の場合として扱えばよいことになる。これより、以下で上層構造物2の安定性を検討するときには、(9)式及び(10)式で統一して行う。   Here, in the equations (17) and (18), when θ = −θ ′ is substituted, it can be seen that the equations agree with the equations (9) and (10). Therefore, when the support surface 8a and the support surface 8b are convex upward as shown in FIG. 5, when the support surface 8a and the support surface 8b are convex downward as shown in FIG. It can be handled as a case. From this, when examining the stability of the upper layer structure 2 below, it unifies by (9) Formula and (10) Formula.

本発明で安定とは、着目する範囲内での局所的な安定を意味し、上層構造物2が回転した方向D1とは逆方向D2回りのトルクが上層構造物2に作用する場合を安定とする。具体的には、図3のように上層構造物2が回転したときに、中心C’に対して重心G’がx軸の正の方向(図4におけるx軸の矢印の方向)にあれば、上層構造物2に逆方向D2回りのトルクが作用する。
従って、上層構造物2の対称性も考えて、上層構造物2が安定する条件は、次式のようになる。
The term “stable” in the present invention means local stability within a range of interest, and the case where a torque around the direction D2 opposite to the direction D1 in which the upper layer structure 2 rotates acts on the upper layer structure 2 is stable. To do. Specifically, when the upper layer structure 2 rotates as shown in FIG. 3, if the center of gravity G ′ is in the positive direction of the x axis (the direction of the arrow of the x axis in FIG. 4) with respect to the center C ′. The torque around the reverse direction D2 acts on the upper layer structure 2.
Accordingly, considering the symmetry of the upper layer structure 2, the condition for stabilizing the upper layer structure 2 is as follows.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

ここで、本実施形態において、上層構造物2の中心Cと重心Gとの位置関係について説明する。図9(a)〜図9(c)に示すように、重心Gと中心Cはそれぞれ鉛直線L1上に配置されるが、支持面が水平面となす角度により、アイソレータ4a、4bは3種類に分類される。
図9(a)は、重心Gに中心Cが一致する場合で、アイソレータのこの配置が上述の「特異配置」である。図9(b)は、重心Gの上方に中心Cが配置される場合で、アイソレータのこの配置が上述の「上方配置」である。図9(c)は、重心Gの下方に中心Cが配置される場合で、アイソレータのこの配置が上述の「下方配置」である。
Here, in this embodiment, the positional relationship between the center C and the center of gravity G of the upper layer structure 2 will be described. As shown in FIGS. 9A to 9C, the center of gravity G and the center C are respectively arranged on the vertical line L1, but there are three types of isolators 4a and 4b depending on the angle between the support surface and the horizontal plane. being classified.
FIG. 9A shows a case where the center C coincides with the center of gravity G, and this arrangement of the isolator is the above-mentioned “singular arrangement”. FIG. 9B shows a case where the center C is arranged above the center of gravity G, and this arrangement of the isolator is the above-described “upward arrangement”. FIG. 9C shows a case where the center C is arranged below the center of gravity G, and this arrangement of the isolator is the above-described “downward arrangement”.

上層構造物2のX方向の幅を40(m)とし、上層構造物2の高さを20(m)及び200(m)としたモデルで検討を行った。この場合、当接部11a、11bから鉛直線L1までの距離wは20(m)、当接部11a、11bから重心Gまでの高さhは10(m)及び100(m)となる。
本実施形態では、回転角φとして許容される角度の範囲を、上層構造物2において、−10(°)以上10(°)以下とした。なお、高層構造物1は上層構造物2の重心Gを含みX方向に直交する鉛直面に対して対称に配置されているので、回転角φは、0(°)以上10(°)以下の範囲だけシミュレーションを行った。
シミュレーションの結果を、上層構造物2の高さが20(m)の場合を図10に、200(m)の場合を図11に示す。図10及び図11において、横軸は(G’C’)x、縦軸は(G’C’)yである。
Examination was performed using a model in which the width of the upper layer structure 2 in the X direction was 40 (m) and the height of the upper layer structure 2 was 20 (m) and 200 (m). In this case, the distance w from the contact portions 11a and 11b to the vertical line L1 is 20 (m), and the height h from the contact portions 11a and 11b to the center of gravity G is 10 (m) and 100 (m).
In the present embodiment, the allowable range of the rotation angle φ is set to −10 (°) or more and 10 (°) or less in the upper layer structure 2. Since the high-rise structure 1 is arranged symmetrically with respect to a vertical plane that includes the center of gravity G of the upper-layer structure 2 and is orthogonal to the X direction, the rotation angle φ is not less than 0 (°) and not more than 10 (°). Only the range was simulated.
The simulation results are shown in FIG. 10 when the height of the upper layer structure 2 is 20 (m) and in FIG. 11 when it is 200 (m). 10 and 11, the horizontal axis is (G′C ′) x , and the vertical axis is (G′C ′) y .

角度θとして、−80(°)から80(°)までの、0(°)を除く10(°)刻みの値を用いた。さらに、アイソレータが特異配置のときの角度θを求め、図中に示した。アイソレータが特異配置となるのは、tanθの値と(w/h)の値とが等しくなるときなので、上層構造物2の高さが20(m)の場合は角度θが63.43(°)とき、上層構造物2の高さが200(m)の場合は角度θが11.31(°)ときである。   As the angle θ, values in increments of 10 (°) excluding 0 (°) from −80 (°) to 80 (°) were used. Further, the angle θ when the isolator is in a specific arrangement was obtained and shown in the figure. The isolator is singularly arranged when the value of tan θ is equal to the value of (w / h). Therefore, when the height of the upper layer structure 2 is 20 (m), the angle θ is 63.43 (° ) When the height of the upper layer structure 2 is 200 (m), the angle θ is 11.31 (°).

図10及び図11は、重心G’を基準とした中心C’の変位を示している。このため、例えば図10において、角度θが63.43(°)のグラフより上方に示されている((G’C’)yの値が大きい)グラフに対応する角度θの範囲(角度θが10、20、30、40、50、60(°))のときにアイソレータ4a、4bは上方配置となる。また、角度θが63.43(°)のグラフより下方に示されている((G’C’)yの値が小さい)グラフに対応する角度θの範囲(角度θが−80、−70、−60、−50、−40、−30、−20、−10、70、80(°))のときにアイソレータ4a、4bは下方配置となる。
同様に、図11において、角度θが11.31(°)のグラフより上方に示されているグラフに対応する角度θの範囲(角度θが10(°))のときにアイソレータ4a、4bは上方配置となる。また、角度θが11.31(°)のグラフより下方に示されているグラフに対応する角度θの範囲(角度θが−80、−70、−60、−50、−40、−30、−20、−10、20、30、40、50、60、70、80(°))のときにアイソレータ4a、4bは下方配置となる。
10 and 11 show the displacement of the center C ′ with reference to the center of gravity G ′. For this reason, for example, in FIG. 10, the range of the angle θ (angle θ) corresponding to the graph where the angle θ is shown above the graph of 63.43 (°) (the value of (G′C ′) y is large). Is 10, 20, 30, 40, 50, 60 (°)), the isolators 4a and 4b are arranged upward. In addition, the range of the angle θ corresponding to the graph (the value of (G′C ′) y is small) shown below the graph where the angle θ is 63.43 (°) (the angle θ is −80, −70). , −60, −50, −40, −30, −20, −10, 70, 80 (°)), the isolators 4a and 4b are arranged downward.
Similarly, in FIG. 11, when the angle θ is in the range of the angle θ corresponding to the graph shown above the graph of 11.31 (°) (the angle θ is 10 (°)), the isolators 4a and 4b are It becomes an upper arrangement. Further, the range of the angle θ corresponding to the graph shown below the graph where the angle θ is 11.31 (°) (the angle θ is −80, −70, −60, −50, −40, −30, -20, -10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80 (°)), the isolators 4a and 4b are arranged downward.

シミュレーションを行った範囲においては、(20)式の両辺をφsinφで除して得られる次式を満たす場合に上層構造物2が安定する。   In the simulation range, the upper layer structure 2 is stable when the following equation obtained by dividing both sides of the equation (20) by φsinφ is satisfied.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

図10に示すように、上層構造物2の高さが比較的低いときには、角度θが正の場合、すなわち、支持面8aと支持面8bが下に凸となる図1に示す場合に(21)式を満たし、上層構造物2が安定する。一方、支持面8aと支持面8bが上に凸となる図5に示す場合には、上層構造物2は安定しない。
上層構造物2が安定する範囲を詳細に検討すると、シミュレーションを行った上記の角度θの範囲において、(21)式を満たす場合に上層構造物2が安定する。すなわち、図10の場合には、角度θが10、20、30、40、50、60、70、80(°))のときに上層構造物2が安定する。また、図11の場合には、角度θが10、20、80(°))のときに上層構造物2が安定する。
なお、シミュレーションを行った上記の角度θの範囲において、アイソレータ4a、4bが下方配置であって上層構造物2が安定するのは、図10の場合には角度θが70、80(°)のとき、図11の場合には角度θが20、80(°)のときである。
As shown in FIG. 10, when the height of the upper layer structure 2 is relatively low, when the angle θ is positive, that is, in the case shown in FIG. 1 where the support surface 8a and the support surface 8b are convex downward (21 ) Is satisfied, and the upper layer structure 2 is stabilized. On the other hand, when the support surface 8a and the support surface 8b are convex upward, the upper layer structure 2 is not stable.
When the range in which the upper layer structure 2 is stabilized is examined in detail, the upper layer structure 2 is stabilized when the equation (21) is satisfied in the range of the angle θ in which the simulation is performed. That is, in the case of FIG. 10, the upper layer structure 2 is stabilized when the angle θ is 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80 (°). In the case of FIG. 11, the upper layer structure 2 is stable when the angle θ is 10, 20, 80 (°).
Note that the isolator 4a, 4b is disposed below and the upper layer structure 2 is stable in the range of the angle θ in which the simulation is performed. In the case of FIG. 10, the angle θ is 70, 80 (°). In the case of FIG. 11, the angle θ is 20, 80 (°).

こうして、本発明の第1実施形態の高層構造物1によれば、鉛直面S1上において、上層構造物2は、下部に設けられた一対の支持面8a、8bを一対の支持部7a、7bにそれぞれ当接させながら移動する。そして、上層構造物2が傾いて方向D1回りに回転したときに、上層構造物2に作用する重力により、上層構造物2に方向D1とは逆方向の方向D2回りのトルクが作用する。
従って、鉛直面S1上で上層構造物2が回転することを抑えて、上層構造物2を下方から安定して支持することができる。
また、アイソレータ4a、4bが下方配置とされる、倒立振子に類似した構成となる場合であっても、上層構造物2を下方から安定して支持することができる。
Thus, according to the high-rise structure 1 of the first embodiment of the present invention, on the vertical plane S1, the upper-layer structure 2 has a pair of support surfaces 8a and 8b provided at the lower portion and a pair of support portions 7a and 7b. It moves while abutting each. When the upper layer structure 2 is tilted and rotated around the direction D1, the torque around the direction D2 opposite to the direction D1 acts on the upper layer structure 2 due to the gravity acting on the upper layer structure 2.
Accordingly, it is possible to stably support the upper layer structure 2 from below by suppressing the rotation of the upper layer structure 2 on the vertical plane S1.
Moreover, even if it is a case where it becomes a structure similar to the inverted pendulum by which the isolator 4a, 4b is arrange | positioned below, the upper layer structure 2 can be supported stably from the downward direction.

(第2実施形態)
次に、本発明に係る第2実施形態について説明するが、前記実施形態と同一の部位には同一の符号を付してその説明は省略し、異なる点についてのみ説明する。
図12に示すように、本実施形態の高層構造物21は、上記実施形態の高層構造物1の上接続の構成とされたアイソレータ4a、4bに代えて、下接続の構成とされたアイソレータ(接続構造)24a、24bを備えている。
また、本実施形態において、まず、後述する支持面27aと支持面27bが下に凸の場合について説明し、次に、支持面27aと支持面27bが上に凸の場合について説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment according to the present invention will be described. The same parts as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, the description thereof will be omitted, and only different points will be described.
As shown in FIG. 12, the high-rise structure 21 of the present embodiment is replaced with an isolator having a lower connection configuration in place of the isolator 4 a, 4 b having the upper connection configuration of the higher-layer structure 1 of the above embodiment. Connection structure) 24a, 24b.
In this embodiment, first, a case where a support surface 27a and a support surface 27b, which will be described later, are convex downward will be described, and then a case where the support surface 27a and the support surface 27b are convex upward will be described.

アイソレータ24aは、鉛直面S1上において、下層構造物3の上部に設けられた支持面27aと、上層構造物2の下部に設けられた支持部28aと、を有する。支持部28aは、球状の回転体29aと、一端が上層構造物2の底面に固定され、他端に回転体29aを回転可能に支持する支持体30aとを備えている。
同様に、アイソレータ24bは、鉛直面S1上において、下層構造物3の上部に設けられた支持面27bと、上層構造物2の下部に設けられた支持部28bと、を有する。支持部28bは、球状の回転体29bと、一端が上層構造物2の底面に固定され、他端に回転体29bを回転可能に支持する支持体30bとを備えている。
なお、支持面27aと支持面27bの鉛直面S1による断面は、それぞれ直線状になっている。
The isolator 24 a includes a support surface 27 a provided on the upper portion of the lower layer structure 3 and a support portion 28 a provided on the lower portion of the upper layer structure 2 on the vertical surface S1. The support portion 28a includes a spherical rotating body 29a, and a supporting body 30a having one end fixed to the bottom surface of the upper layer structure 2 and the other end rotatably supporting the rotating body 29a.
Similarly, the isolator 24b has a support surface 27b provided on the upper portion of the lower layer structure 3 and a support portion 28b provided on the lower portion of the upper layer structure 2 on the vertical surface S1. The support portion 28b includes a spherical rotating body 29b, and a supporting body 30b having one end fixed to the bottom surface of the upper structure 2 and the other end rotatably supporting the rotating body 29b.
In addition, the cross section by the perpendicular surface S1 of the support surface 27a and the support surface 27b is respectively linear.

支持面27aと支持面27b、支持部28aと支持部28bは、それぞれ鉛直線L1に対して対称に配置されている。支持面27aにおける支持部28aに当接する部分である当接部31aでの法線、及び支持面27bにおける支持部28bに当接する部分である当接部31bでの法線は、鉛直線L1上の中心Cに向くように配置されている。すなわち、それぞれの法線が中心Cを通っている。
回転体29a、29bの軸線は、Z方向と平行になるように配置されている。さらに、支持面27aと支持面27bは、下に凸となるように配置されている。
そして、上層構造物2の下部に設けられた一対の支持部28a、28bは、鉛直面S1上を、一対の支持面27a、27bにそれぞれ当接しながら移動するように構成されている。
本実施形態のアイソレータ24a、24bは硬質の材料で形成され、変形は無視できるものとする。
The support surface 27a and the support surface 27b, and the support portion 28a and the support portion 28b are arranged symmetrically with respect to the vertical line L1. The normal line at the contact part 31a, which is the part of the support surface 27a that contacts the support part 28a, and the normal line at the contact part 31b, which is the part of the support surface 27b that contacts the support part 28b, are on the vertical line L1. It is arrange | positioned so that it may face the center C. That is, each normal passes through the center C.
The axes of the rotating bodies 29a and 29b are arranged so as to be parallel to the Z direction. Further, the support surface 27a and the support surface 27b are arranged so as to protrude downward.
And a pair of support part 28a, 28b provided in the lower part of the upper layer structure 2 is comprised so that it may move on the vertical surface S1, abutting on a pair of support surface 27a, 27b, respectively.
It is assumed that the isolators 24a and 24b of this embodiment are made of a hard material and the deformation can be ignored.

ここで、当接部31a、31bから鉛直線L1までの距離をそれぞれwとする(このとき、当接部31aと当接部31bの間の距離は2wとなる)。さらに、当接部31a、31bから重心Gまでの鉛直方向Yの高さをh、水平面と支持面27a、27bがなす角度をθとする。   Here, the distance from the contact portions 31a and 31b to the vertical line L1 is set to w (at this time, the distance between the contact portion 31a and the contact portion 31b is 2w). Furthermore, the height in the vertical direction Y from the contact portions 31a and 31b to the center of gravity G is h, and the angle between the horizontal plane and the support surfaces 27a and 27b is θ.

本実施形態の高層構造物21をモデル化したものを図13に示す。
当接部31aと当接部31bを点A、点Bとし、支持面27aと支持面27bが交差する点を点Oとする。支持面27aにおける当接部31aでの法線が中心Cを通るので、角OACは直角になる。同様に、角OBCも直角になる。
ここで、図14に、モデル化した上層構造物2が方向D1回りに回転し、上層構造物2が傾いたときの状態を示す。移動後の鉛直線L1’と元の位置の鉛直線L1がなす角を回転角φとする(図中に示すφの向きを正とする)。
重心G’、中心C’、点A’、及び点B’は、それぞれ重心G、中心C、点A、及び点Bの移動後の点である。支持部28a、28bは、支持面27a、27bにそれぞれ当接しながら移動するので、点A’は直線OA上に位置し、点B’は直線OB上に位置する。そして、角OAC及び角OBCが直角なので、角OA’C’及び角OB’C’もそれぞれ直角になる。
図15に示すように、上層構造物2が傾いたときに直線OB上を点B’が移動した距離をdとする。
B’C’を、角度θと回転角φの関数として表すため、三角形A’B’C’に正弦定理を用いる。このとき、次式が成り立つ。
FIG. 13 shows a model of the high-rise structure 21 of the present embodiment.
The contact part 31a and the contact part 31b are point A and point B, and the point where the support surface 27a and the support surface 27b intersect is point O. Since the normal line at the contact portion 31a on the support surface 27a passes through the center C, the angle OAC becomes a right angle. Similarly, the angle OBC is also a right angle.
Here, FIG. 14 shows a state when the modeled upper layer structure 2 rotates around the direction D1 and the upper layer structure 2 is tilted. An angle formed by the vertical line L1 ′ after movement and the vertical line L1 at the original position is defined as a rotation angle φ (the direction of φ shown in the figure is positive).
The centroid G ′, the center C ′, the point A ′, and the point B ′ are points after the centroid G, the center C, the point A, and the point B are moved, respectively. Since the support portions 28a and 28b move while being in contact with the support surfaces 27a and 27b, the point A ′ is located on the straight line OA and the point B ′ is located on the straight line OB. Since the angle OAC and the angle OBC are right angles, the angles OA′C ′ and OB′C ′ are also right angles.
As shown in FIG. 15, the distance that the point B ′ has moved on the straight line OB when the upper layer structure 2 is tilted is defined as d.
In order to express B′C ′ as a function of the angle θ and the rotation angle φ, the sine theorem is used for the triangle A′B′C ′. At this time, the following equation holds.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

ここで、図15に示すように、X方向及び鉛直方向Yにそれぞれ平行にx軸及びy軸を定める。このとき、(G’C’)x及び(G’C’)yは、次式のようになる。 Here, as shown in FIG. 15, the x-axis and the y-axis are defined in parallel with the X direction and the vertical direction Y, respectively. At this time, (G′C ′) x and (G′C ′) y are as follows.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

次に、アイソレータ24a、24bが下接続である本実施形態において、支持面27aと支持面27bが上に凸となる場合について説明する。なお、前述の場合と同一の部位には同一の符号を付してその説明は省略し、異なる点についてのみ説明する。
この場合におけるアイソレータ24a、24bは、図16に示すような構成となる。
支持面27aにおける当接部31aでの法線が中心Cを通るので、図17において、角OACは直角になる。同様に、角OBCも直角になる。また、支持部28a、28bは、支持面27a、27bにそれぞれ当接しながら移動するので、図18において、点A’は直線OA上に位置し、点B’は直線OB上に位置する。そして、角OAC及び角OBCが直角なので、角OA’C’及び角OB’C’もそれぞれ直角になる。
図19において、B’C’を、角度θと回転角φの関数として表すため、三角形A’B’C’に正弦定理を用いる。このとき、次式が成り立つ。
Next, in the present embodiment in which the isolators 24a and 24b are connected downward, the case where the support surface 27a and the support surface 27b are convex upward will be described. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the site | part same as the above-mentioned case, the description is abbreviate | omitted, and only a different point is demonstrated.
The isolators 24a and 24b in this case are configured as shown in FIG.
Since the normal line at the contact portion 31a on the support surface 27a passes through the center C, the angle OAC is a right angle in FIG. Similarly, the angle OBC is also a right angle. Further, since the support portions 28a and 28b move while contacting the support surfaces 27a and 27b, respectively, the point A ′ is located on the straight line OA and the point B ′ is located on the straight line OB in FIG. Since the angle OAC and the angle OBC are right angles, the angles OA′C ′ and OB′C ′ are also right angles.
In FIG. 19, the sine theorem is used for the triangle A′B′C ′ in order to represent B′C ′ as a function of the angle θ and the rotation angle φ. At this time, the following equation holds.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

また、この場合の(G’C’)x及びは(G’C’)yは、(27)式を用いて次式のようになる。 In this case, (G′C ′) x and (G′C ′) y are expressed by the following equation using equation (27).

Figure 0005626610
Figure 0005626610

ここで、(28)式及び(29)式において、θ=−θ’と置換すると(24)式及び(25)式に一致することが解る。従って、図16に示すように支持面27aと支持面27bが上に凸となる場合は、図12に示すように支持面27a、27bが下に凸となる場合において、θが負の場合として扱えばよいことになる。これより、以下で上層構造物2の安定性を検討するときには、(24)式及び(25)式で統一して行う。
本実施形態の場合、上層構造物2が安定する条件は、次式のようになる。
Here, in the equations (28) and (29), when θ = −θ ′ is substituted, it is understood that the equations agree with the equations (24) and (25). Accordingly, when the support surface 27a and the support surface 27b are convex upward as shown in FIG. 16, when the support surfaces 27a and 27b are convex downward as shown in FIG. It will be good to handle. From this, when examining the stability of the upper layer structure 2 below, it unifies with Formula (24) and Formula (25).
In the case of this embodiment, the conditions under which the upper structure 2 is stabilized are as follows.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

上記実施形態と同様に、上層構造物2のX方向の幅を40(m)とし、上層構造物2の高さを20(m)及び200(m)としたモデルで検討を行った。
本実施形態では、回転角φとして許容される角度の範囲を、上記実施形態と同様に、上層構造物2において、−10(°)以上10(°)以下とした。なお、高層構造物21は上層構造物2の重心Gを含みX方向に直交する鉛直面に対して対称に配置されているので、回転角φは、0(°)以上10(°)以下の範囲だけシミュレーションを行った。
シミュレーションの結果を、上層構造物2の高さが20(m)の場合を図20に、上層構造物2の高さが200(m)の場合を図21に示す。図20及び図21において、横軸は(G’C’)x、縦軸は(G’C’)yである。
In the same manner as in the above embodiment, a study was performed using a model in which the width of the upper layer structure 2 in the X direction was 40 (m) and the height of the upper layer structure 2 was 20 (m) and 200 (m).
In the present embodiment, the allowable angle range as the rotation angle φ is set to −10 (°) or more and 10 (°) or less in the upper layer structure 2 as in the above embodiment. In addition, since the high-rise structure 21 is symmetrically disposed with respect to a vertical plane that includes the center of gravity G of the upper-layer structure 2 and is orthogonal to the X direction, the rotation angle φ is not less than 0 (°) and not more than 10 (°). Only the range was simulated.
As a result of the simulation, FIG. 20 shows a case where the height of the upper layer structure 2 is 20 (m), and FIG. 21 shows a case where the height of the upper layer structure 2 is 200 (m). 20 and 21, the horizontal axis is (G′C ′) x , and the vertical axis is (G′C ′) y .

角度θとして、−80(°)〜80(°)までの、0(°)を除く10(°)刻みの値を用いた。さらに、アイソレータが特異配置のときの角度θを求め、図中に示した。アイソレータが特異配置となるのは、上層構造物2の高さが20(m)の場合は角度θが63.43(°)とき、上層構造物2の高さが200(m)の場合は角度θが11.31(°)ときである。   As the angle θ, values in increments of 10 (°) excluding 0 (°) from −80 (°) to 80 (°) were used. Further, the angle θ when the isolator is in a specific arrangement was obtained and shown in the figure. The isolator has a unique arrangement when the height of the upper layer structure 2 is 20 (m), when the angle θ is 63.43 (°), and when the height of the upper layer structure 2 is 200 (m). This is when the angle θ is 11.31 (°).

図20において、角度θが63.43(°)のグラフより上方に示されているグラフに対応する角度θの範囲(角度θが10、20、30、40、50、60(°))のときにアイソレータ24a、24bは上方配置となる。また、角度θが63.43(°)のグラフより下方に示されているグラフに対応する角度θの範囲(角度θが−80、−70、−60、−50、−40、−30、−20、−10、70、80(°))のときにアイソレータ24a、24bは下方配置となる。
同様に、図21において、角度θが11.31(°)のグラフより上方に示されているグラフに対応する角度θの範囲(角度θが10(°))のときにアイソレータ24a、24bは上方配置となる。また、角度θが11.31(°)のグラフより下方に示されているグラフに対応する角度θの範囲(角度θが−80、−70、−60、−50、−40、−30、−20、−10、20、30、40、50、60、70、80(°))のときにアイソレータ24a、24bは下方配置となる。
In FIG. 20, the angle θ range (angle θ is 10, 20, 30, 40, 50, 60 (°)) corresponding to the graph shown above the graph where the angle θ is 63.43 (°). Sometimes the isolators 24a, 24b are arranged upward. Further, the range of the angle θ corresponding to the graph shown below the graph where the angle θ is 63.43 (°) (the angle θ is −80, −70, −60, −50, −40, −30, -20, -10, 70, 80 (°)), the isolators 24a, 24b are arranged downward.
Similarly, in FIG. 21, when the angle θ is in the range of the angle θ corresponding to the graph shown above the graph of 11.31 (°) (the angle θ is 10 (°)), the isolators 24a and 24b are It becomes an upper arrangement. Further, the range of the angle θ corresponding to the graph shown below the graph where the angle θ is 11.31 (°) (the angle θ is −80, −70, −60, −50, −40, −30, -20, -10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80 (°)), the isolators 24a and 24b are arranged downward.

シミュレーションを行った範囲においては、(31)式の両辺をφsinφで除して得られる次式を満たす場合に上層構造物2が安定する。   In the simulation range, the upper layer structure 2 is stable when the following formula obtained by dividing both sides of the formula (31) by φsinφ is satisfied.

Figure 0005626610
Figure 0005626610

図20及び図21に示すように、角度θが正の場合、すなわち、支持面27aと支持面27bが下に凸となる図12に示す場合に、本実施形態の高層構造物21は安定しないことが分かる。
上層構造物2が安定する範囲を詳細に検討すると、シミュレーションを行った上記の角度θの範囲において、(32)式を満たす場合に上層構造物2が安定する。すなわち、図20の場合には、角度θが−80、−70、−60、−50、−40、−30(°))のときに上層構造物2が安定する。また、図21の場合には、角度θが−80(°))のときに上層構造物2が安定する。
このように、上層構造物2が安定するのは、支持面8aと支持面8bが上に凸となる図16に示す場合、より詳しくは、(32)式を満たす場合となる。
As shown in FIGS. 20 and 21, when the angle θ is positive, that is, when the support surface 27a and the support surface 27b are convex downward, the high-rise structure 21 of the present embodiment is not stable. I understand that.
When the range in which the upper layer structure 2 is stabilized is examined in detail, the upper layer structure 2 is stabilized when the equation (32) is satisfied within the range of the angle θ in which the simulation is performed. That is, in the case of FIG. 20, the upper layer structure 2 is stable when the angle θ is −80, −70, −60, −50, −40, −30 (°). In the case of FIG. 21, the upper layer structure 2 is stable when the angle θ is −80 (°).
In this way, the upper layer structure 2 is stabilized when the support surface 8a and the support surface 8b are convex upward as shown in FIG. 16, more specifically, when the equation (32) is satisfied.

こうして、本発明の第2実施形態の高層構造物21によれば、鉛直面S1上において、上層構造物2は、下部に設けられた一対の支持部28a、28bを一対の支持面27a、27bにそれぞれ当接させながら移動する。そして、上層構造物2が傾いて方向D1回りに回転したときに、上層構造物2に作用する重力により、上層構造物2に方向D1とは逆方向の方向D2回りのトルクが作用する。
従って、鉛直面S1上で上層構造物2が傾くことを抑えて、上層構造物2を下方から安定して支持することができる。
Thus, according to the high-rise structure 21 of the second embodiment of the present invention, on the vertical surface S1, the upper-layer structure 2 has a pair of support portions 28a and 28b provided at the lower portion and a pair of support surfaces 27a and 27b. It moves while abutting each. When the upper layer structure 2 is tilted and rotated around the direction D1, the torque around the direction D2 opposite to the direction D1 acts on the upper layer structure 2 due to the gravity acting on the upper layer structure 2.
Therefore, the upper layer structure 2 can be stably supported from below by suppressing the upper layer structure 2 from being inclined on the vertical plane S1.

なお、本実施形態に比較して上記第1実施形態では、アイソレータを上方配置及び下方配置にした場合のいずれにおいても安定であることが分かった。これにより、アイソレータの上方配置及び下方配置にする場合には、上記第1実施形態のアイソレータの上接続の仕様にすることが好ましい。   In addition, compared with this embodiment, in the said 1st Embodiment, it turned out that it is stable also in any case when an isolator is arrange | positioned upward and downward. As a result, when the isolator is arranged upward and downward, it is preferable to set the specification of the upper connection of the isolator of the first embodiment.

以上、本発明の第1実施形態及び第2実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の構成の変更等も含まれる。
例えば、上記第1実施形態及び第2実施形態では、上層構造物2は、Z方向に直交する平面での断面形状が一定であり、上層構造物2の重心Gを含みX方向に直交する鉛直面に対して対称に形成されているとした。しかし、上層構造物の重心を含む鉛直面上(鉛直面上とは、この鉛直面における断面のことを意味する)において、アイソレータが前記上接続又は下接続の構成になっていれば良い。
また、上層構造物の水平面による断面が、正六角形、正八角形等の、辺の数が偶数である正多角形でも良い。また、上層構造物の水平面による断面は、円形であっても良い。この場合、アイソレータは、上層構造物の重心を含む鉛直線回りに回転対称となるように設けても良い。
As mentioned above, although 1st Embodiment and 2nd Embodiment of this invention were explained in full detail with reference to drawings, the concrete structure is not restricted to this embodiment, The structure of the range which does not deviate from the summary of this invention Changes are also included.
For example, in the first embodiment and the second embodiment, the upper layer structure 2 has a constant cross-sectional shape in a plane perpendicular to the Z direction, and includes the center of gravity G of the upper layer structure 2 and is perpendicular to the X direction. It is assumed that it is formed symmetrically with respect to the surface. However, on the vertical plane including the center of gravity of the upper layer structure (the vertical plane means a cross section of the vertical plane), the isolator may be configured to be the upper connection or the lower connection.
The cross section of the upper layer structure in the horizontal plane may be a regular polygon having an even number of sides such as a regular hexagon or a regular octagon. Further, the cross section of the upper layer structure in the horizontal plane may be circular. In this case, the isolator may be provided so as to be rotationally symmetric about a vertical line including the center of gravity of the upper layer structure.

また、上記第1実施形態及び第2実施形態では、支持部は、球状の回転体と支持体とを備えていた。しかし、支持部の構成はこれに限ることなく、上層構造物の重心を含む鉛直面上において、支持部が支持面と一点で当接するように構成され、支持面がこの一点に当接しながら移動するように構成されるものであれば良い。
例えば、支持部は円柱状に形成され、支持体によりZ方向に平行な回転軸回りに回転可能に支持されていても良い。
また、支持部が多角柱状で硬質の材料で形成され、その軸線に平行な一辺で支持面と当接し、その支持部の一つの側面が上層構造物2又は下層構造物3に支持されていても良い。
Moreover, in the said 1st Embodiment and 2nd Embodiment, the support part was provided with the spherical rotary body and the support body. However, the configuration of the support portion is not limited to this, and the support portion is configured to abut on the support surface at one point on the vertical plane including the center of gravity of the upper layer structure, and the support surface moves while abutting against this one point. Any configuration may be used.
For example, the support portion may be formed in a columnar shape and supported by the support body so as to be rotatable around a rotation axis parallel to the Z direction.
Further, the support portion is formed of a polygonal column-like hard material, abuts on the support surface on one side parallel to the axis, and one side surface of the support portion is supported by the upper layer structure 2 or the lower layer structure 3. Also good.

また、上記第1実施形態及び第2実施形態では、制振構造物が高層構造物である場合について説明したが、制振構造物はこれに限ることなく、例えば荷物を支持する荷台としても良い。
また、上記第1実施形態及び第2実施形態では、制振構造物が高層構造物である場合に、上層構造物2の回転角φの許容範囲を−10(°)以上10(°)以下とした。しかし、回転角φの許容範囲は高層構造物の仕様に応じて適宜設定することができる。また、制振構造物が荷台等の場合にも、その仕様や目的に応じて適宜設定することができる。
In the first and second embodiments, the case where the vibration control structure is a high-rise structure has been described. However, the vibration control structure is not limited to this, and may be, for example, a cargo bed that supports a load. .
Moreover, in the said 1st Embodiment and 2nd Embodiment, when the damping structure is a high-rise structure, the allowable range of the rotation angle φ of the upper-layer structure 2 is −10 (°) or more and 10 (°) or less. It was. However, the allowable range of the rotation angle φ can be appropriately set according to the specifications of the high-rise structure. In addition, when the damping structure is a cargo bed or the like, it can be set as appropriate according to its specifications and purpose.

また、上記実施形態の接続構造及び制振構造物は、地球上の構造物だけでなく、月といった衛星や、火星等の惑星上でも用いることができる。   In addition, the connection structure and the vibration damping structure of the above-described embodiment can be used not only on the earth structure but also on a satellite such as the moon and a planet such as Mars.

1、21 高層構造物(制振構造物)
2 上層構造物(上方構造物)
3 下層構造物(下方構造物)
4a、4b、24a、24b アイソレータ(接続構造)
7a、7b、28a、28b 支持部
8a、8b、27a、27b 支持面
11a、11b、31a、31b 当接部
G 重心
L1 鉛直線
S1 鉛直面
θ 角度
φ 回転角
1,21 High-rise structure (damping structure)
2 Upper layer structure (upper structure)
3 Lower layer structure (lower structure)
4a, 4b, 24a, 24b Isolator (connection structure)
7a, 7b, 28a, 28b Support portion 8a, 8b, 27a, 27b Support surface 11a, 11b, 31a, 31b Abutting portion G Center of gravity L1 Vertical line S1 Vertical surface θ Angle φ Rotation angle

Claims (3)

上方構造物と、該上方構造物の下方に設けられ当該上方構造物を支持する下方構造物との間に設けられる接続構造であって、
前記上方構造物の重心を含む鉛直面上において、
前記下方構造物の上部に設けられ、前記上方構造物の重心を含む鉛直線に対して対称に配置されるとともに、上方に向かうに従って互いに接近するように配置された一対の支持面と、
前記上方構造物の下部に設けられ、前記鉛直線に対して対称に配置された一対の支持部と、を備え、
前記鉛直面上において、前記一対の支持面はそれぞれが直線状に形成され、
前記鉛直面上で、前記支持部に当接する部分での前記一対の支持面の法線が、前記上方構造物の重心の下方の所定の場所にそれぞれ向くように設定され、
前記一対の支持部は、前記鉛直面上を前記一対の支持面にそれぞれ当接しながら移動することを特徴とする接続構造。
A connection structure provided between an upper structure and a lower structure provided below the upper structure and supporting the upper structure,
On the vertical plane including the center of gravity of the upper structure,
A pair of support surfaces provided on top of the lower structure, arranged symmetrically with respect to a vertical line including the center of gravity of the upper structure, and arranged so as to approach each other toward the upper side;
A pair of support portions provided at a lower portion of the upper structure and arranged symmetrically with respect to the vertical line,
On the vertical surface, each of the pair of support surfaces is formed in a straight line,
On the vertical plane, the normal line of the pair of support surfaces at the portion in contact with the support portion is set so as to face a predetermined location below the center of gravity of the upper structure,
The connection structure according to claim 1, wherein the pair of support portions move while abutting on the pair of support surfaces on the vertical plane.
請求項1に記載の接続構造において、
前記鉛直面上で、
前記一対の支持面の前記一対の支持部にそれぞれ当接する当接部間の距離を2w、前記当接部から前記上方構造物の重心までの鉛直方向の高さをh、水平面と前記支持面がなす角度をθ、前記上方構造物の前記鉛直線に対する回転角をφとしたときに、(1)式を満たすように設定されていることを特徴とする接続構造。
Figure 0005626610
The connection structure according to claim 1,
On the vertical plane,
The distance between the contact portions of the pair of support surfaces that contact the pair of support portions is 2w, the height in the vertical direction from the contact portion to the center of gravity of the upper structure is h, the horizontal plane and the support surface The connection structure is set so as to satisfy the expression (1) where θ is an angle formed by θ and the rotation angle of the upper structure with respect to the vertical line is φ.
Figure 0005626610
前記上方構造物と、
前記下方構造物と、
該上方構造物と該下方構造物との間に設けられた請求項1または2に記載の接続構造と、
を備えることを特徴とする制振構造物。
The upper structure;
The lower structure;
The connection structure according to claim 1 or 2 provided between the upper structure and the lower structure;
A vibration control structure characterized by comprising:
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