JP5625112B2 - 基材材料及び粒子状材料を移動させるための装置及びプロセス - Google Patents

Description

本発明は、高速で正確かつ費用効果の高い様態で、粒子状材料をリザーバ（複数を含む）を有する第１の運動無端表面から、不織布ウェブ材料などの基材材料を運搬する第２の運動無端表面に移動させるため、及び粒子状材料との基材材料の前記組み合わせを（更なる処理ユニット／工程）に移動させるための装置であって、前記第２の運動無端表面が、異なる真空圧力及び／又は異なるサイズを有する第１及び第２の真空チャンバと隣接する、並びにそれらと連通する装置に関する。本発明はまた、例えば本明細書において説明される装置を使用する、特定のプロセスに関する。

従来、おむつなどの吸収性物品は、吸水性（セルロース）繊維、及び吸収性ゲル化材料、すなわちＡＧＭとも呼ばれる超吸収性ポリマーの粒子が、基材材料に囲まれるか、あるいは基材材料により支持された後、例えば不織布などの更なる材料によって封鎖された吸収性コアを含んでいる。

物品の特定の領域が他の領域よりも多くのＡＧＭを含む、いわゆるプロファイル化吸収性コアを有する吸収性物品が開発されている。このような場合では、必要なプロファイルを得るうえで、ＡＧＭを正確に付着させることが重要である。更に、ごく少量のセルロース繊維を含むか、又はセルロース繊維をまったく含まない（したがって、ＡＧＭ粒子を唯一の液体貯蔵材料として有する）吸収性コアの場合、ＡＧＭの正確な分配が極めて重要である。

主としてＡＧＭ粒子を有する吸収性コアを得るための、並びに、所定のパターン、ＭＤ方向、ＣＤ方向、及び／若しくは厚さのプロファイルなどの特定のプロファイル又は分布のＡＧＭ粒子を有する吸収性コアを得るための種々のアプローチが提唱されている。これらのアプローチには、間接的印刷方法であって、ＡＧＭ粒子が、第１の表面、例えばドラム表面によって、ＡＧＭ粒子のバルク貯蔵部から拾い上げられ、前記ドラム表面がリザーバを有し、リザーバの数、サイズ、及び位置によって、ドラムによって拾い上げられるＡＧＭ顆粒の量及びパターンが決まり、次いで、ドラムが不織布などの基材に向かって回転して、ＡＧＭを、例えば、更なるドラムの表面などの運動表面によって運搬される基材上に解放する、間接的印刷方法が含まれる。例えば、国際公開第２００６／０１４８５４号が、かかるプロセスを説明する。

本発明者らは、かかる提唱された間接的印刷プロセスが、場合によっては、高速、例えば、８００ｐｐｍ以上、又は１０００ｐｐｍ以上（部（吸収性構造）／分）の速度で実行すること、及び／又は微粒子状材料が使用されるとき、及び／又は小さい（かつ大量の）リザーバが印刷のために使用されるとき、困難であることを見出した。高速では、粒子状材料が、基材材料上に常に正確に移動されるわけではなく、例えば、粉塵の創出、特定のプロファイルの不正確な印刷等をもたらすことが見出されている。本発明者らは、強力な真空を基材材料に印加して、基材上への粒子状材料のより良好な配置を確実とすることが有益でありうることを見出した。

しかしながら、本発明者らは、先行技術が提唱する装置では、特に装置を高速で実行させるとき、ＡＧＭを有する基材の（例えば、更なる処理工程への）、粒子状材料を有する基材材料の移動の間、常に、（費用）効率の高い様態で、十分な真空を維持することが可能であるわけではないことを見出した。本発明者らは、ここで、高速でさえも、及び／又は微粒子状材料が存在するときでさえも、及び／又はごく小量が表面領域あたり移動されるときでさえも、正確な様態及び費用効果の高い様態で、粒子状材料を基材上に配置するための改善された装置及びプロセスを見出した。

国際公開第２００６／０１４８５４号

本発明は、粒子状材料（１００）と基材材料（１１０）との組み合わせを含む構造を作製するための装置（１）に関し、
ａ）運動方向（ＭＤ）、及び１つ以上のリザーバ（５０）を有する第１の運動無端表面（４０）であって、前記第１の運動無端表面（４０）及びそのリザーバ（５０）が、粒子状材料（１００）を移動させるためのものである、第１の運動無端表面（４０）と、
ｂ）受容領域において、前記第１の運動無端表面（４０）から前記粒子状材料（１００）を受容するため、及び移動領域において、例えば、更なる装置ユニットに、前記粒子状材料と前記基材材料との前記組み合わせを移動させるための、基材材料（１１０）を運搬する運動方向（ＭＤ）を有する第２の運動無端表面（２００）であって、前記受容領域を移動する／にある前記第２の運動無端表面が、第１の真空チャンバ（２１０）と隣接し、かつそれとガス連通し、前記移動領域を移動する／にある前記第２の運動無端表面が、第２の真空チャンバ（２２０）と隣接し、かつそれとガス連通し、前記受容領域及び前記移動領域が、相互に隣接する（ＭＤにおいて）、第２の運動無端表面（２００）と、を含み、
前記第１の真空チャンバ（２１０）における前記真空負圧の、前記第２の真空チャンバ（２２０）における真空負圧に対する比率が、少なくとも４：３、又は例えば少なくとも５：３、又は少なくとも２：１、及び例えば最大１０：１である。

このため、装置はまた、典型的に、前記第２の運動無端表面と隣接し、かつ前記移動領域を越える更なる装置ユニットを備える。

本発明はまた、上記のようにａ）及びｂ）を有する装置に関するが、第１の真空チャンバ（２１０）が、前記第２の運動無端表面と隣接する、第１の開放領域を有する第１の表面領域を有し、前記第２の真空チャンバ（２２０）が、前記第２の運動無端表面と隣接する、第２の開放領域を有する第２の表面領域を有し、第１の開放領域の、第２の開放領域に対する比率が、３：４以下、又は２：３以下、又は１：２以下、又は１：３以下である。

本発明はまた、上記のようにａ）及びｂ）を有する装置に関し、前記第１の真空チャンバ（２１０）における前記真空負圧の、前記第２の真空チャンバ（２２０）における真空負圧に対する比率が、少なくとも４：３、又は例えば少なくとも５：３、又は少なくとも２：１、及び例えば最大１０：１であり、第１の開放領域の、第２の開放領域に対する前記比率が、３：４以下、又は２：３以下、又は１：２以下、又は１：３以下である。

第２の運動無端表面は、例えば、第２の静止（円筒状の）ステータ（２３０）の周囲を回転する円筒状の回転表面であり、かかる表面とステータとの組み合わせはまた、ドラムと称される。ステータ（２３０）は、例えば、前記第１の真空チャンバ及び前記第２の真空チャンバを包含してもよい。

本発明者らは、粒子状材料が基材上に配置されるときの、受容領域における高い（より高い）真空力（よって非常に低い（より低い）真空負圧）、その上、移動の間の比較的低減された真空力の特定の選択が、非常に正確かつ効果的な様態で、基材上への（例えば、所望のパターンにおける）粒子状材料の正確な配置を改善することができることを見出した。更に、本発明のこの装置及びプロセスは、受容領域において、第２の運動無端表面の小さいセクションのみが、（高価な）大きい真空負圧を有する真空チャンバと隣接する必要があるが、移動領域は、比較的低減された真空負圧のみを有する真空チャンバと隣接することができるため、特定の費用効果の高い様態でこれを達成することができる。

本発明はまた、本明細書において説明される装置（１）を使用して、粒子状材料（１００）と基材材料（１１０）との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセス、並びに／又は
基材材料（１１０）と粒子状材料（１００）との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセスであって、
ａ）第２の運動無端表面の受容領域において、基材材料と粒子状材料との組み合わせを形成するように、リザーバ（複数を含む）によって包含される粒子状材料（１００）を含む１つ以上のリザーバ（５０）を備える第１の無端運動表面（４０）を、第２の運動無端表面（２００）によって運搬される基材材料（１１０）上に配置し、かつ同時に、前記受容領域内に第１の真空負圧を提供する工程と、
ｂ）前記基材材料と粒子状材料との前記組み合わせを、前記第２の無端運動表面の移動領域を通って移動させ、かつ同時に、前記受容領域に第２の真空負圧を供給する（典型的に、更なる処理工程へ）工程と、を含み、
本明細書において以下で更に説明されるように、前記第１の真空負圧の、前記第２の真空負圧に対する比率が、少なくとも４：３である、プロセスに関する。

粒子状材料は、粒子状吸収性材料であってもよく、本明細書における装置及びプロセスは、吸収性構造、例えば、女性衛生物品及びおむつ又は成人用失禁製品などの、（使い捨て）吸収性物品において有用な吸収性コアを作製するためのものであってもよい。

本発明の例示的な装置（１）の一部分の断面側面図（ＭＤ及びそれに垂直な方向に沿って採られた断面）。 図１の断面図の拡大した部分図。 第２の運動無端表面及び真空ファンを示す、本発明の例示的な装置の一部の斜視図。 第２の運動無端表面及び単一の真空ファンを示す、本発明の代替的な例示的な装置の一部の斜視図。

粒子状材料
本明細書における粒子状材料（１００）は、粒子、薄片、繊維、スフェア、凝集粒子及び当該技術分野で周知の他の形態を含む、例えば乾燥状態で流動性を有する粒子状形態の任意の材料でよい。粒子状材料はまた、本明細書において使用される際、例えば、異なる形態、異なる化学的性質における、２つ以上の異なる材料であってもよい。粒子状材料は、本明細書において使用される際、例えば、粒子及び繊維の混合物であってもよい。

本明細書における一実施形態では、粒子状材料（１００）は、粒子状吸収性（又は、超吸収性）材料を含むか、又はそれである。この材料は、典型的に、本明細書において、ＡＧＭと称される、粒子状吸収性ゲル化材料として知られるものなどのポリマー材料である。ＡＧＭとは、その重量の少なくとも１０倍の０．９％生理食塩水を吸収することが可能な粒子状形態のポリマー材料、すなわち、ＥＤＡＮＡ（欧州不織布工業会）の遠心保持容量試験、試験方法番号４４１．２−０２、「遠心保持容量」を用いて測定したＣＲＣ値が少なくとも１０ｇ／ｇであるような粒子状形態のポリマー材料のことを指す。本明細書における粒子状ＡＧＭは、高い収着容量を有し、例えば少なくとも２０ｇ／ｇ、又は３０ｇ／ｇのＣＲＣを有する。上限値は、例えば最大で１５０ｇ／ｇ、又は最大で１００ｇ／ｇでありうる。

粒子状ＡＧＭは、液体に対して高い透過性を有してよく、例えば、少なくとも１０×１０^−７ｃｍ^３ｓ／ｇ、又は好ましくは少なくとも３０×１０^−７ｃｍ^３ｓ／ｇ、又は少なくとも５０×１０^−７ｃｍ^３ｓ／ｇ、１０×１０^−７ｃｍ^３ｓ／ｇのＳＦＣ値、又は場合により少なくとも１００×１０^−７ｃｍ^３ｓ／ｇの透過性ＳＦＣ値、又は少なくとも１２０×１０^−７ｃｍ^３ｓ／ｇのＳＦＣを有する。このＳＦＣは透過性の尺度であり、１９９６年１０月８日発行の米国特許第５，５６２，６４６号（ゴールドマン（Goldman）ら）に述べられるようにゲル床の塩水流伝導度によって多孔度の指標を与えるものである（ただしここでは、ジェイコ（Jayco）溶液の代わりに０．９％ ＮａＣｌ溶液を用いる）。上限値は、例えば、最大で３５０又は最大で２５０（×１０^−７ｃｍ^３．ｓ／ｇ）でありうる。

本明細書における一実施形態では、前記ＡＧＭのポリマーは、内部架橋及び／又は表面架橋されたポリマーである。

本明細書における一実施形態では、本明細書における粒子状材料は、例えば６０％〜９０％、又は約７５％の中和度を有し、例えば当該技術分野では既知のナトリウム対イオンを有する、例えば表面架橋及び／若しくは内部架橋されたポリアクリル酸／ポリアクリレートポリマーなどのポリアクリル酸／ポリアクリレートポリマーの粒子を含む、又はこれらからなる吸収性材料である。

本明細書における一実施形態では、粒子状材料（１００）は、例えば欧州特許出願公開第Ａ−０６９１１３３号に記載される方法によって測定することができる、質量平均粒径が、最大２ｍｍ、又は例えば５０マイクロメートル〜２ｍｍ、若しくは１ｍｍまで、又は好ましくは１００若しくは２００若しくは３００若しくは４００若しくは５００μｍから、又は１０００若しくは８００若しくは７００μｍまでである粒子の形態である。本発明の一実施形態では、粒子状材料（１００）は、５０μｍ〜１２００μｍの粒径、及び上記の好ましい範囲の組み合わせのいずれかの間の質量平均粒径を有する粒子の少なくとも８０重量％を有する粒子の形態である。本発明の更に別の又は追加の実施形態では、粒子状材料（１００）は、比較的狭い範囲の粒径を有し、例えば、粒子の大半（例えば、少なくとも８０重量％、又は好ましくは少なくとも９０重量％、又は更には少なくとも９５重量％）が、５０μｍ〜１０００μｍ、好ましくは１００μｍ〜８００μｍ、及びより好ましくは２００μｍ〜６００μｍの粒径を有する。

本発明の更なる、又は別の実施形態では、前記粒子は本質的に球形である。

本明細書における粒子状材料（１００）は、１５重量％未満、又は１０重量％未満、又は８重量％未満、又は５重量％未満の水を含むことが有利でありうる。含水量は、粒子状材料（１００）を１０５℃で３時間乾燥し、乾燥後の粒子状材料（１００）の重量減少によって含水量を決定するＥｄａｎａ試験番号ＥＲＴ ４３０．１−９９（１９９９年２月）によって決定することができる。

本明細書における粒子状ＡＧＭは、表面コーティング又は表面処理されたＡＧＭの粒子であってよい（更なる表面処理となりうる表面架橋はこれに含まれない）。このようなコーティング及び表面処理工程は当該技術分野では周知のものであり、ケイ酸塩、リン酸塩などの１以上の無機粉末による表面処理、及び、エラストマーポリマー材料、又はフィルム形成ポリマー材料などのポリマー材料のコーティングによる表面処理が含まれる。

基材材料（１１０）
本発明の装置（１）及び方法によって製造可能な（例えば吸収性）構造は、基材材料と粒子状材料（１００）との組み合わせを含む。この基材材料は、例えば、シート形態の任意の材料であってもよく、基材材料は、ウェブ材料であってもよく、基材材料は、例えば、紙（例えば、シート／ウェブ）、フィルム（例えば、シート／ウェブ）、織布（例えば、シート／ウェブ）、若しくは不織布（例えば、シート／ウェブ）、又はこれらの組み合わせであってもよい。基材材料は、例えば、２つ以上の不織布層、又は２つ以上のフィルム層、又は１つ以上の不織布層、及び１つ以上のフィルム層の積層体の積層体（例えば、シート／ウェブ）であってもよい。

本明細書における一実施形態では、基材材料は、不織布、例えば、不織布ウェブを含むか、又はそれであり、不織布とは、本明細書において使用されるとき、摩擦及び／又は粘着及び／又は接着により結合される、一方向に又はランダムに配向された繊維の製造されたシート又はウェブを指し、紙、及び、更に針で縫われるか否かによらず、織る、編む、タフティングする、結合糸若しくはフィラメントを組み込んでスティッチボンディングする、又は、湿式ミリングによってフェルト加工される製品は含まれない。

不織布の繊維は、天然のものでも人工のものでもよく、ステープル若しくは連続フィラメントであってもよく、又はその場で形成することもできる。市販の繊維は、いくつかの異なる形態、短繊維（ステープル繊維又は細断繊維として知られる）、連続単繊維（フィラメント又はモノフィラメント）、連続フィラメントの撚っていない束（麻くず（tow））、及び連続フィラメントの撚り束（編み糸）で提供される。繊維は、例えば異なるポリマーがシートとコアとを形成する、例えばシート／コアの構成を有する複合繊維であってもよい。不織布は、メルトブローイング、スパンボンディング、溶剤紡糸、電界紡糸、及びカーディングなどの多くのプロセスによって形成することができる。不織布の坪量は、通常、１平方メートル当たりのグラム数（ｇｓｍ）で表される。

本明細書における不織布は、親水性繊維で形成することができる。「親水性」とは、繊維に付着する水性の液体（例えば、水性の体液）によって濡らされうる繊維又は繊維の表面のことを述べて言うものである。親水性及び濡れ性は、一般的に、流体の接触角、及び例えば不織布を通過する流体の裏抜け時間によって定義される。これについては、表題が「Ｃｏｎｔａｃｔ ａｎｇｌｅ，ｗｅｔｔａｂｉｌｉｔｙ ａｎｄ ａｄｈｅｓｉｏｎ」である、Ｒｏｂｅｒｔ Ｆ．Ｇｏｕｌｄ（Ｃｏｐｙｒｉｇｈｔ １９６４）編のＡｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙの出版物に詳細に述べられている。繊維、又は繊維の表面は、流体と繊維又はその表面との間の接触角が９０°未満のとき、又は流体が繊維の表面全体に自然に広がる傾向があるときに流体によって濡らされている（すなわち、親水性）といわれ、通常は両方の条件が共存する。逆に、接触角が９０°より大きい場合及び流体が繊維の表面全体に自然に広がらない場合は、繊維又は繊維の表面は疎水性とみなされる。

本明細書における基材材料は、空気透過性であってもよい。したがって、本明細書において有用なフィルムは微小孔を含みうる。基材材料は、例えば、ＥＤＡＮＡによる方法１４０−１−９９（１２５Ｐａ、３８．３ｃｍ^２）によって決定される空気透過性が、４０又は５０〜３００又は２００ｍ^３／（ｍ^２×分）までのものであってよい。基材材料は、代替的に、空気透過性がより低いものであってもよく、例えば真空を含む運動表面上により良好に保持されるように、例えば空気不透過性であってよい。

基材材料は、不織布材料、例として、例えばＳＭＳ若しくはＳＭＭＳタイプの、相互に積層される２つ以上の不織布層を含む不織布ウェブ又は不織布積層体ウェブであってもよい。

基材材料は、例えば２０％超、又は例えば１００％超であるが、例えば、２００％以下のＣＤ方向の延伸率又はＭＤ方向の延伸率を有してもよい。ＣＤ方向の延伸率に対するＭＤ方向の延伸率の比は、所定の荷重下において１：２以下である。

更なる例示的な構造が、本明細書において以下で説明される。

装置（１）
第１の運動無端表面（４０）
本明細書における装置（１）は、第１の運動無端表面（４０）を有し、これは、運動無端表面を提供するように回転することができる任意の運動表面であってもよく、例えば、それは、回転し、このため無端表面を提供することができる、当該技術分野において既知であるようなドラムなどの輸送ベルト又は円筒状の表面であってもよい。

第１の運動無端表面（４０）は、上で説明されるように、粒子状材料を包含するため、及びそれを前記リザーバ（複数を含む）から基材材料（１１０）上に配置するための、１つ以上のリザーバ（５０）を備える。

本明細書における第１及び第２の（以降で本明細書において説明される）運動無端表面は、各々、本明細書において、機械方向、ＭＤと称される、前記表面、例えば前記回転表面の運動方向を有する。「運動方向又はＭＤ」は、本明細書において、前記表面のある点における運動方向、又は本明細書において指定されるように、前記表面のある指定された領域における平均の運動方向であるとみなされるものとする。このため、湾曲した、例えば、円筒状の運動無端表面（４０）では、表面のある点における運動方向、又は前記表面のある領域の平均の運動方向は、本明細書において、前記点における接線、又は領域の平均接線（これにより、前記接線は前記領域の平均の運動方向となる）を求めることによって求められる。

ＭＤに垂直な表面の方向は、本明細書において、機械横断方向、ＣＤ（ＭＤ及びＣＤは、表面の平面内にある）と称される。

第１の運動無端表面（４０）は、典型的に、静止要素の周囲を回転する回転表面、例えば、ともにドラムとしても称される、１つ以上の真空チャンバ及び／又は１つ以上のエアチャンバ（４６）を備えてもよい、例えば、（例えば、円筒状の）ステータ（４５）の周囲を回転する円筒状の表面である。静止要素（例えば、ステータ（４５））と静止要素（例えば、ステータ）との組み合わせ、並びに回転する第１の表面（４０）は、各々、ある半径を有する。各半径は、例えば、どのような構造を製造するか、及びどのサイズの構造を製造するか、及び、例えば、第１の運動無端表面（４０）、例えばドラムの１サイクル毎にいくつの構造を製造するかに依存してもよい。例えば、第１の円筒状の運動表面及び／又は第１のステータ（４５）は、少なくとも４０ｍｍ、又は少なくとも５０ｍｍの半径を有してもよく、それは、例えば、最大３００ｍｍ、又は最大２００ｍｍであってもよい。

第１の運動無端表面（４０）は、任意の好適な幅を有してもよい（ＣＤにおいて）が、例えば製造されるべき構造の幅に（実質的に）対応する幅を有してもよく、これは、例えば少なくとも４０ｍｍ、又は少なくとも６０ｍｍ、又は例えば最大４００ｍｍ、又は最大２００ｍｍであってもよい。

第１の運動無端表面（４０）が、対向する側面領域と、これらの間の、ＭＤ方向の全表面に沿って延在する中央領域と、を有し、前記リザーバ（複数を含む）（５０）が、前記中央領域のみに存在することが有用でありうる。これにより表面の幅の寸法が、代わりに中央領域の幅に適用されうる。

前記第１の運動無端表面（４０）のＭＤ、半径、幅などの、第１の運動無端表面（４０）の特性を決定する目的で、リザーバ（複数を含む）（５０）が存在していない表面領域（例えば、リザーバ（５０）間の領域）が、かかる決定のために使用されることを理解されたい。この各リザーバ（５０）間の表面領域を、本明細書においては前記第１の運動無端表面（４０）の「外側表面領域」と呼ぶ。

リザーバ（１つ又は複数）（５０）は、立方体、長方形、円筒状、半球状、円錐状、又は任意の他の形状を含む、任意の寸法及び形状を有してもよい。第１の運動無端表面（４０）は、典型的に、粒子状材料（複数を含む）（１００）で充填することができる空隙容積を有するリザーバ（複数を含む）（５０）を備える。これは、単一のリザーバであってもよい。しかしながら、２つ以上、例えば、多数のリザーバが存在することが好ましい場合がある。この多数とは、任意の好適な数のリザーバであってもよいが、例えば、少なくとも２０個、又は少なくとも５０個である。

リザーバ（５０）は同じリザーバ（５０）として存在してもよく、あるいは寸法又は形状が異なってもよい。それらは、前記第１の運動無端表面（４０）の表面上に（及びそれに突き出す）パターンで存在してもよい。正確なリザーバ（５０）パターン、寸法等は、形成されるべき必要とされる構造に依存するが、例えば、粒子状材料（１００）の粒径、プロセス速度等にも依存してよい。一実施形態では、上で説明される、第１の運動無端表面（４０）の表面領域、又はその前記中央領域の少なくとも３０％が、前記リザーバ（５０）を備え、好ましくは少なくとも４０％又は少なくとも５０％である。

リザーバ（５０）は、ＭＤ方向のリザーバ（５０）の縦列と、ＣＤ方向の横列として存在してもよい。また、リザーバ（５０）は、例えばいわゆる交互の横列及び／又は縦列として存在してもよい（これにより、交互のリザーバ（５０）は横列及び／又は縦列を形成する）。前記縦列は相互に対して実質的に平行かつ相互から等間隔で延在してもよく、かつ／又は前記横列は、相互に対して実質的に平行かつ相互から等間隔で延在してもよい。

リザーバ（５０）の中心点（前記中心点は第１の運動無端表面（４０）の外側表面の平面内にある）と、（リザーバ（５０）の縦列において）隣り合うリザーバ（５０）の中心点との間のＭＤ方向の距離は、例えば少なくとも２ｍｍ、若しくは少なくとも４ｍｍ、若しくは少なくとも６ｍｍ、又は例えば最大で４０ｍｍ、若しくは最大で３０ｍｍ、若しくは最大で２０ｍｍでよい。これは、ＭＤ方向の隣り合うリザーバ（５０）間の全てのこうした距離について当てはまってもよく、あるいは全てのこうした距離についての平均であってもよい。

リザーバ（５０）の中心点（前記中心点は第１の運動無端表面（４０）の外側表面の平面内にある）と、（リザーバ（５０）の横列において）隣り合うリザーバ（５０）の中心点との間のＣＤ方向の距離も、例えば上記のようなものでよい。

一実施形態では、リザーバ（５０）のＭＤ寸法（直径であってもよい）は、（第１の運動無端表面（４０）の外側表面上で測定される、全てのリザーバ（５０）及び／又は各リザーバについての平均で）は、少なくとも１ｍｍ、又は少なくとも２ｍｍ、又は少なくとも４ｍｍ、及び例えば、最大で２０ｍｍ、又は最大で１５ｍｍであってもよい。ＣＤ方向の寸法は上記と同じ範囲内であってもよく、あるいは１以上又は各リザーバについてＭＤ方向の寸法と同じであってもよい。

リザーバ（５０）は、任意の好適な深さ寸法を有してもよく、それは、例えば、第１の運動無端表面（４０）（例えば、半径）の高さ、製造されるべき所望の構造の厚さ／キャリパー、材料の粒径等に依存してもよい。１つのリザーバ（５０）及び／若しくは全てのリザーバ（５０）の最大深さ、並びに／又は平均の最大深さ（全てのリザーバ（５０）の全ての最大深さの平均）は、例えば、少なくとも１ｍｍ、又は少なくとも１．５ｍｍ、又は例えば、２ｍｍ以上、及び例えば、最大２０ｍｍ、又は最大１５ｍｍ、又は本明細書における一部の実施形態では、最大１０ｍｍ、又は５ｍｍ、又は４ｍｍ、又はｍｍであってもよい。

第１の運動無端表面（４０）は、前記粒子状材料を含むホッパーと隣接してもよく、それは、リザーバ（複数を含む）内で粒子状材料を受容し、それを（回転によって）移動させるように、ホッパーを過ぎて回転してもよい。粒子状材料（複数を含む）（１００）をリザーバ（５０）内に保持する１つの可能性は、リザーバ（５０）の（底）の吸引孔と組み合わせて、第１の運動無端表面（４０）の内側に真空を印加し、このため、粒子状材料上に真空吸引を適用することであってもよい。これは、例えば、第１のステータ（４５）内の表面に隣接する１つ以上の真空チャンバ、及び／又は、前記表面とガス（空気）連通する前記ステータに接合される（しかし、ステータによって構成されない）任意に１つ以上の真空チャンバを提供することによって、行うことができる。真空は、例えば、粒子状材料が、第２の運動無端表面（例えば、前記第２の運動無端表面の受容領域）に移動される直前、又はその点（典型的にＣＤ方向に延在する領域）、例えば、第１の運動無端表面（４０）が、前記第２の運動無端表面（２００）と隣接する、及び近接する点で解放される。次いで、追加の空気圧力を前記粒子状材料（１００）に印加して、材料がリザーバ（複数を含む）（５０）から第２の運動無端表面（２００）に確実に流れるようにしてもよい。このため、第１のステータ（４５）は、例えば、図１に示されるように、粒子状材料を、リザーバから、第２の無端運動表面（２００）上に運搬される前記基材材料（１１０）に吹き付けるように、前記リザーバ（複数を含む）とガス（空気）連通する、正圧を有するガス（空気）−チャンバ（４６）（粒子が基材材料に移動される必要がある、前記ＣＤ方向に延在する領域周辺（及びそのすぐ先））を備えてもよい。代替的に、又は加えて、装置は、ステータに接合されるが、前記表面とガス（空気）連通するステータによって構成されない、正圧を有するガス（空気）チャンバ（複数を含む）を有してもよい。

第２の運動無端表面（２００）
基材材料（１１０）を運搬する第２の運動無端表面（２００）は、受容領域において、粒子状材料を受容する。第２の運動無端表面（２００）（及び前記基材材料）は、前記受容領域において、第１の真空チャンバ（２１０）と隣接する。

第２の運動無端表面は、移動領域へ、及びそれを通って、典型的に、更なる装置ユニット／プロセス工程（本明細書において以降で説明される）に、基材材料と粒子状材料との組み合わせを運搬する。第２の運動無端表面（２００）、及び、粒子状材料を有する前記基材材料は、前記受容領域において、第２の真空チャンバ（２２０）と隣接する。

本発明の装置（１）及びプロセスにおいて、前記装置の受容領域は、第２の運動無端表面と隣接する、第１の真空チャンバ又は第１の真空圧力の存在によって画定することができ、移動領域は、第２の運動無端表面と隣接し、かつＭＤにおいて、第１の真空チャンバと隣接する、第２の真空チャンバ又は第２の（例えば、より低い）真空圧力の存在によって画定することができる。

第２の運動無端表面は、それがベルトのように回転することができることを条件として、任意の好適な形態であってもよく、あるいは例えば、第２の運動無端表面は、円筒状であってもよい。これは、例えば図１に示される。

第１の運動無端表面（４０）と前記第２の運動無端表面（２００）との間の最も近い近接点（例えば、典型的に、これは、ＣＤ方向に延在刷る線であり、この線／点は、例えば図２に示される）は、典型的に前記受容領域内にあり、前記近接点における前記第１の運動無端表面と前記第２の運動無端表面との間の距離（ｄ）は、例えば、０．５ｍｍ〜３０ｍｍ、又は例えば、１ｍｍ若しくは２ｍｍ〜最大２０ｍｍ若しくは最大１５ｍｍであってもよい。

本明細書における一部の実施形態では、第２の運動無端表面（２００）は、静止要素、例えば、前記第１及び第２の真空チャンバ（２１０、２２０）を含むステータ（ドラムとも称される）の周囲を回転する回転表面である。第２の表面（２００）は、円筒状であってもよく、前記第２の静止要素（ステータ２３０）は、円筒状であってもよい。

静止要素（例えば、ステータ（２３０））、及び／又は静止要素（例えば、ステータ）と１つ以上のリザーバを有する回転表面との組み合わせは、各々、ある半径を有する。各半径は、例えば、どのような構造を製造するか、及びどのようなサイズの構造を製造するか、及び例えば、プロセス速度に依存してもよい。

例えば、前記円筒状の第２の回転表面（２００）とステータ（例えば、ドラム）との組み合わせは、少なくとも８０ｍｍ、又は少なくとも１００ｍｍの半径を有してもよく、それは、例えば、最大１０００ｍｍ、又は最大６００ｍｍであってもよい。

第１の運動無端表面の半径及び／又は第１のステータの半径の、第２の運動無端表面の半径及び／又は第２のステータの半径に対する比率は、（各個体又は全て）例えば２：３以下、又は例えば１：２以下、例えば１：３以下、又は例えば少なくとも１：１０であってもよい。

第２の運動無端表面（２００）は、典型的に、いずれの時点においても、その表面の一部上のみに前記基材材料を運搬する。例えば、それが、円筒状の表面である場合、前記第２の運動無端表面（２００）は、回転無端表面であり、最大３００°、又は最大２７０°、又は最大２００°で前記基材材料を運搬するのみであってもよいが、典型的に、少なくとも６０°、又は少なくとも９０°である。

円筒状の円周を有する第２の運動無端表面に関して、受容領域は、例えば、少なくとも３°、又は少なくとも５°、及び／又は例えば、最大６０°、又は例えば、最大４５°、又は最大３０°、又は最大２０°（回転の円の、したがって、ＭＤ方向の−図１に角度αとして示される）を形成する／で存在してもよい。

移動領域は、例えば、少なくとも２０°、又は少なくとも３０°、及び／又は例えば、最大２７０°、又は例えば、最大２００°、又は最大１５０°、又は最大１２０°（回転の円の、したがって、ＭＤ方向の−図１に角度βとして示される）を形成する／で存在してもよい。

本明細書における一部の実施形態では、第１の真空チャンバは、本明細書における真空圧力比率が満たされることを条件として、同じ、又は第２の真空チャンバよりも大きいＭＤ寸法を有してもよい。

本発明の装置又はプロセスの一部の実施形態では、並びに、特に、プロセス精度及び／又は費用効果に関して、前記第１の真空チャンバは、第１の角度（α）によって画定されるＭＤ寸法Ｌ１を有し、前記第２の真空チャンバは、第２の角度（β）によって画定されるＭＤ寸法Ｌ２を有し、αのβに対する比率は、３：４以下、又は例えば、２：３以下、又は１：２以下、又は１：３以下である。

第１の運動表面は、重力が基材材料上への粒子状材料（複数を含む）の配置を支援することを可能にするように、実質的に第２の運動無端表面の上に位置付けられてもよい。そこへ、第１の運動無端表面が、例えば、図１に示されるように、例えば、回転する（円形の）第２の運動無端表面の２７０°（若しくは９時の位置）〜９０°（若しくは３時の位置）の位置、又は、例えば、３００°若しくは３１５°〜６０°若しくは４５°（０°は重力の線上にある）の位置で、実質的に第２の運動無端表面の上に位置付けられてもよい。

第２の運動無端表面（２００）は、真空をその上に運搬される基材材料上に印加するために、ガス通過を可能にする任意の好適な表面であってもよい。それは、そこに、使用中、ある総開放領域、典型的には、均質な総開放領域を有する。第２の運動無端表面は、そこに、典型的に、支持構造における開口を有してもよく、例えば、表面は、メッシュ材料間に開放領域を有するメッシュ表面であってもよく、それは、その中にその間の開放領域を有する、無端ＭＤ方向に延在する棒、及びＣＤ方向に横断して延在する棒によって形成されるグリッドであってよく、これによって、ＭＤ方向に延在する棒は、例えば、相互に対して（実質的に）平行であり、かつ相互から（等）間隔であってもよい、及び／又は前記第２の運動無端表面の運動方向に対して垂直な方向に沿って延在する複数の横断する棒は、相互に対して（実質的に）平行であり、かつ相互から（等）間隔であってもよい。

典型的に、前記第２の運動無端表面内の開口の構造又はパターンは、真空チャンバに面するその表面にわたり、及び／又は基材材料に面するその対向する表面にわたり均質である。更に、第２の運動無端表面は、高速で運動するため、本明細書において以降で説明されるように、総開放領域は、典型的に、使用中、均質であるとみなすことができる。

第１の真空チャンバ（２１０）は、前記第２の運動無端表面に隣接する、したがって、前記基材（１１０）に隣接する、開放されたある第１の表面領域を有する、すなわち、それは１つ以上の開口を有し、それにより、前記第２の運動無端表面上に運搬される前記基材材料とガス連通することができ、本明細書における前記開口（１つ又は複数）は、第１の真空チャンバの第１の開放領域と称される。（第２の運動無端表面は、上で説明されるように、使用中、均質な総開放領域を有するため、メッシュ材料、横断棒等といった支持構造の効果は、本発明の目的上無視することができる。）この第１の開放領域は、受容領域において、前記基材材料とガス連通する。

第１の真空チャンバの第１の開放領域は、例えば、５０又は１００又は１５０ｃｍ^２〜４００又は〜３００又は〜２５０ｃｍ^２であってもよい。

第２の真空チャンバ（２２０）は、前記第２の運動無端表面に隣接する、したがって、前記基材（１１０）に隣接する、開放されたある第２の表面領域を有する、すなわち、それは１つ以上の開口を有し、それにより、前記第２の運動無端表面上に運搬される前記基材材料とガス連通することができ、本明細書における前記開口（１つ又は複数）は、第２の真空チャンバの第２の開放領域と称される。（第２の運動無端表面は、上で説明されるように、使用中、均質な総開放領域を有するため、メッシュ材料、横断棒等といった支持構造の効果は、本発明の目的上無視することができる。）この第２の開放領域は、移動領域において、前記基材材料とガス連通する。

第２の真空チャンバの第２の開放領域は、第１の真空チャンバの開放領域を上回り、それは、例えば、２００又は２５０ｃｍ^２〜１０００、又は〜７００、又は〜５００ｃｍ^２であってもよい。

本明細書における装置又はプロセスの一部の実施形態において、（第１の真空チャンバの）前記第１の開放領域の、（第２の真空チャンバの）前記第２の開放領域に対する比率は、例えば、２：３以下、又は１：２以下、又は１：３以下である。

この第１対第２の開放領域の比率及び／又は特定の第１及び第２の領域は、第２の運動無端表面による粒子状材料の正確な受容及び移動を依然として確実としつつ、大きい真空負圧を、過剰なエネルギー消費を伴わずに、前記第１の真空チャンバにおいて創出することができることを確実とするのに有益でありうる。

第１の真空チャンバ（２１０）及び第２の真空チャンバ（２２０）は、前記真空チャンバにおいて、前記真空負圧を創出する同じ真空ファン（２４０）に接続されてもよく、このファンは、典型的に、前記ステータには存在しないが、例えば、前記第２の無端運動表面に近接して存在する。これは例えば図４に示される。前記ファン（２４０）の前記第２の真空チャンバへの接続は、ガスの流れ、ひいては、本明細書において説明される値に従って、生成される真空圧力を制御するように、ガス流れ制御デバイスを備えてもよい。ガス流れ制御デバイスは、スライドゲート、ちょう形弁などの、当該技術分野において既知のいずれのデバイスであってもよい。ファン（２４０）から第２の真空チャンバへの接続はまた、低減された真空圧力が、前記第２の真空チャンバにおいて確立されるのを可能とするように、制限されてもよい。前記ファン（２４０）から前記第２の真空チャンバへの接続はまた、例えば、図４に示されるように、前記ファンから前記第１の真空チャンバへの接続よりも狭くてもよい。

他の実施形態において、及び例えば、図３に示されるように、第１の真空チャンバ（２１０）は、第１の真空ファン（２４０ａ）に接続され、第２の真空チャンバ（２２０）は、第２の真空ファン（２４０ｂ）に接続される（相互に接続されていない）。

本明細書における一部の実施形態では、第１の真空チャンバは、例えば、−５ｋＰａ以下、又は−６．５ｋＰａ以下、又は−７．５ｋＰａ以下、又は例えば、−６．５ｋＰａ又は−７．５ｋＰａ〜−２０ｋＰａ又は〜−１５ｋＰａの第１の真空負圧を有する。

第２の真空チャンバは、前記第１の真空圧力と比較して、より小さい／低減された真空圧力を有し、例えば、前記第２の真空チャンバにおける前記第２の真空圧力は、−０．５ｋＰａ〜−５ｋＰａ、又は〜−４．５ｋＰａ又は〜−４ｋＰａ又は〜−３．５ｋＰａの範囲内である。

上で言及されるように、本明細書における一部の実施形態では、前記第１の真空負圧の、前記第２の真空負圧に対する比率は、少なくとも４：３、又は本明細書において上で説明されるとおりである。

第１のチャンバにおける、及び同等に第２のチャンバにおける真空圧力は、圧力センサをチャンバの壁に配置することによって、例えば、開口（１つ／複数）（運動無端表面と隣接する）を有する真空チャンバ側面に隣接する（及び、例えば、垂直な）が、前記側面から可能な限り離れた側壁に、センサを配置することによって測定可能である。

これは、ＢＤセンサ（モデルＤＭＰ ３３１−１１０−Ｍ１６０−３−５−Ｍ００−３００−１−０００；−１６−０ｋＰａ（−１６０−０ｍｂａｒ）；Ｖｉｔｏｎ（ＦＫＭ）シールで接続）からのセンサを用いて行うことができる。

第２の運動無端表面（２００）及びその上の基材は、第１の運動無端表面（４０）と同じ表面速度を有してもよいか、又は、それは、異なる表面速度を有してもよい。一実施形態において、第２の運動無端表面及び／又は第１の運動無端表面は、少なくとも４．５ｍ／ｓ、又は少なくとも６ｍ／ｓ、又は少なくとも８ｍ／ｓ、又は少なくとも１０ｍ／ｓの速度を有し、プロセス及び装置が、吸収性コアなどの構造の製造のためであるとき、それは、例えば、少なくとも８００部（構造）／分、又は少なくとも１０００部／分の速度を有してもよい。

前記粒子状材料（１００）の前記基材材料による受容後、基材材料と粒子状材料との組み合わせは、前記移動領域内で（及びそれを通して）、例えば、更なる装置ユニット又はプロセス工程に移動する。本発明の目的上、移動領域は、基材と粒子状材料との組み合わせが、もはや前記第２の真空チャンバ（２２０）とガス連通しない場所、例えば、前記組み合わせが第２の運動無端表面を去る場所で終了することを理解されたい。本明細書におけるプロセス及び装置は、典型的に、基材材料と粒子状材料との組み合わせを、「更なる装置ユニット」へ、又は「更なる処理工程」へ移動させる。このため、この更なる処理工程／更なる装置ユニットは、移動領域を越える（すなわち、下流）、及び第２の移動真空チャンバ（２２０）を越える。

例えば、図１に示されるように、装置は、更なる装置ユニットとして、基材材料と粒子状材料との組み合わせを受容するためのアンビルロールを備えてもよく、更なる装置ユニット／プロセス工程は、図１に示され、かつ以下で更に説明されるように、基材材料と粒子状材料との組み合わせを受容する、及び更なる基材材料（任意に粒子状材料を有する）を受容する、及び前記基材材料を組み合わせる、装置ユニット／プロセス工程であってもよく、更なる処理工程／装置ユニッは、接着剤を前記組み合わせに塗布する装置ユニット／プロセス工程であってもよく、それは、基材材料と粒子状材料との組み合わせを切断する更なる装置ユニット／プロセス工程であってもよい。

本明細書における装置／プロセスは、前記第１の無端運動表面からの上流、若しくは前記受容領域からの上流に配置される、又は生じる、あるいは、移動領域に配置される／生じてもよい、「追加の装置ユニット（複数を含む）／追加のプロセス工程（複数を含む）を備えてもよい。例えば、基材材料（１１０）は、粒子状材料（１００）を基材材料（１１０）に少なくとも部分的に接着するために、（粒子状材料の配置前）接着剤を備えてもよい。接着剤は、あるパターンで塗布されてもよく、それによって、基材（１１０）の一部は、接着剤を含まず、基材（１１０）の一部は、接着剤を含む。このパターンは、第１の運動無端表面（４０）のリザーバ（５０）のパターンに一致したものでもよい。このため、本明細書における装置は、追加の装置ユニットとして、前記第１の運動無端表面（４０）からの上流に、接着剤塗布ユニット（３００）を備えてもよい。本明細書におけるプロセスは、追加のプロセス工程として、その上の前記粒子状材料の受容の前に、基材への接着剤の塗布を含んでもよい。

例えば、上記に加えて、又は代替として、基材材料と粒子状材料との組み合わせの移動の間、接着剤は、前記組み合わせに、又は前記粒子状材料のみに塗布されてもよい。このため、装置は、第１の運動無端表面からの下流、例えば、前記移動領域内の第２の真空チャンバに対して、第２の運動無端表面の反対側上に、及び／又は移動領域からの下流に、追加の接着剤塗布ユニット（３０１）を備えてもよい。したがって、結果的に、本明細書におけるプロセスは、前記移動領域において、接着剤を前記基材材料に、及び／又は前記組み合わせに、又は前記粒子状材料に塗布する、追加のプロセス工程を含んでもよい。

例えば、図１に示される実施形態において、任意の追加の上流接着剤ユニット（３００）は、接着剤を基材材料に塗布し、任意の追加の下流接着剤ユニット（３１０）は、接着剤を前記受容領域において、基材材料と粒子状材料との前記組み合わせに塗布するが、アンビルロールなどの、更なる装置ユニット−移動領域の下流（それを越えて）；第２の運動無端表面に隣接する−は、前記組み合わせを受容し、それを更なる基材材料と組み合わせる。

更なる／追加の接着剤塗布ユニット（複数を含む）は、当該技術分野において既知の任意のタイプから選択されてもよく、特に、スロットコーティングユニット及びスプレーユニットである。

基材材料の粒子状材料との得られる組み合わせは、ウェブであってもよく、それは、粒子状材料を有する基材を個々の構造に切断する、切断ユニット（本明細書における更なるユニットであってもよい）に移動してもよい。加えて、又は代替的に、粒子状材料を有する基材材料は、基材材料を粒子状材料上に折り畳むユニットに移動してもよい。

装置／プロセスは、前記折り畳まれた基材材料を封止するため、又は基材材料及び更なる基材材料を封止して、その間でその中の粒子状材料を囲むように、その後のユニット／プロセス工程を有してもよい。封止は、任意の手段、例えば、超音波結合、熱結合、又は接着剤結合によって行われてもよい。

例えば、図１において（３１０）として示される接着剤塗布ユニットを用いて、前記粒子状材料上に塗布されてもよい接着剤は、例えば、粒子状材料（１００）を少なくとも部分的に被覆する、及び少なくとも部分的に不動化する機能を果たしてもよい熱可塑性接着材料であってもよく、例えば、熱可塑性接着材料は、繊維形態、例えば、粒子状材料（１００）と少なくとも部分的に接触し、任意に、基材材料（１１０）と部分的に接触する繊維層である。熱可塑性材料は、ホットメルト接着材料でありうる。

特定の実施形態では、熱可塑性（接着）材料は、平均の厚さが約１〜約５０マイクロメートル、又は約１〜約３５マイクロメートル、及び平均の長さが約５ｍｍ〜約５０ｍｍ、又は約５ｍｍ〜約３０ｍｍの繊維の形態であってよい。

更なる基材材料は、基材材料（１１０）と同じ材料を含んでもよいか、又は異なる材料を含んでもよい。ある実施形態において、更なる基材材料に好適な材料は、本明細書において上で説明される基材（１１０）に有用な不織布材料である。本明細書において言及されるように、更なる基材材料は、接着材料及び／又は粒子状材料を含んでもよい。

プロセス
本発明はまた、本明細書において説明される装置（１）及び任意の追加のユニットを使用して、粒子状材料（１００）と基材材料（１１０）との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセスを提供する。

このため、本明細書において上で説明される全ての特性及び特徴は、本発明のプロセスに同等に適用されうる。

一部の実施形態において、基材材料（１１０）と粒子状材料（１００）との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセスは、
ａ）第２の運動無端表面の受容領域において、基材材料と粒子状材料との組み合わせを形成するように、リザーバ（複数を含む）によって包含される粒子状材料（１００）を含む１つ以上のリザーバ（５０）を備える第１の無端運動表面（４０）を、第２の運動無端表面（２００）によって運搬される基材材料（１１０）上に配置する一方で、同時に、前記受容領域内に第１の真空負圧を提供する工程と、
ｂ）前記基材材料と粒子状材料との前記組み合わせを、前記第２の無端運動表面の移動領域を通って移動させる工程と、一方で、（同時に）前記受容領域に第２の真空負圧を提供する工程と、この組み合わせを更なる処理工程へ移動させる工程と、を含み、
前記第１の真空負圧の、前記第２の真空負圧に対する比率が、少なくとも４：３、又は本明細書において説明されるとおりである。

プロセスは、本明細書において説明されるプロセス速度で行われてもよい。それは、衛生ナプキン若しくはおむつなどの、吸収性物品における使用のための、前駆体吸収性構造又は吸収性構造を作製することであってもよい。

上で言及されるように、プロセスは、任意に粒子状材料とのその組み合わせである、第２の更なる基材材料（上で説明されるように）を、基材材料（１１０）と粒子状材料（１００）との前記組み合わせに塗布するプロセス工程、前記粒子状材料（１００）上で前記基材材料（１１０）を折り畳むプロセス工程、接着剤を、基材材料（１１０）と粒子状材料（１００）との前記組み合わせに塗布するプロセス工程、基材材料と粒子状材料との前記組み合わせを切断するプロセス工程、又はこれらの組み合わせから選択される、更なるプロセス工程を含んでもよい。

吸収性コア及び吸収性物品
本発明の装置（１）及び方法は、例えば、吸収性物品のための（前駆体）獲得層及び／又は吸収性コアなどの、（前駆体）吸収性構造を製造するために有用である。

「吸収性物品」とは、身体の排出物を吸収及び保持する装置のことを指し、より具体的には、着用者の身体に接して、又は近接して配置されることにより身体から排出される様々な排出物を吸収及び保持する装置のことを指す。吸収性物品には、締着式おむつ及び（再締着式）トレーニングパンツなどのおむつ、成人用失禁下着（パッド、おむつ）、女性用衛生製品（衛生ナプキン、パンティーライナ）、胸当て、ケアマット、よだれかけ、創傷包帯製品などがある。「おむつ」とは、幼児及び失禁症状を有する人により、着用者の腰及び脚を包囲するように胴体下部の周囲に一般的に着用される、尿及び糞便を受容及び保持するように特に構成された吸収性物品のことを指す。本明細書において使用される際、「体液」又は「身体排出物」なる用語には、これらに限定されるものではないが、尿、血液、膣排泄物、母乳、汗及び糞便が含まれる。

当該技術分野において周知であるように、吸収性コアは、吸収された体液を保持する物品の一部である。このため、本明細書における吸収性コアは、本明細書における装置（１）及びプロセスによって形成される、基材材料（１１０）上に配置される吸収性粒子状材料（１００）（本明細書において定義されるように）である、粒子状材料（１００）を備える。吸収性コアは、少なくともバックシートとトップシートとの間に通常は挟み込まれる。

好ましい吸収性物品は、使用中に着用者に面するトップシート、例えば、不織布シート、及び／又は当該技術分野において既知の孔あき成型フィルムを含む、孔あきシート、及びバックシート、任意に、使用中に着用者に面するコアカバーシートを有する吸収性コアを含む。バックシートは、当該技術分野において既知であるように、液体不浸透性であってもよい。好ましい実施形態では、液体不透過性バックシートは、約０．０１．ｍｍ〜約０．０５ｍｍの厚さを有する熱可塑性フィルムなどの薄いプラスチックフィルムを含む。好適なバックシート材料は一般的に、おむつから水蒸気を逃がす一方で、排出物がバックシートを通り抜けることを防止する通気性材料を含む。好適なバックシートフィルムとしては、インディアナ州テレホート所在のトレデガー・インダストリーズ社（Tredegar Industries Inc.）が製造する、Ｘ１５３０６、Ｘ１０９６２及びＸ１０９６４の商品名で販売されるものが挙げられる。バックシート又はその任意の部分は、１以上の方向に弾性的に延伸可能なものでよい。バックシートは、当該技術分野では周知の任意の取り付け手段によって、トップシート、吸収性コア、又はおむつの他の任意の要素に取り付け又は接合することができる。

本明細書に開示した寸法及び値は、記載された正確な数値に厳密に限定されるものとして理解されるべきでない。むしろ、特に断らないかぎり、そのようなそれぞれの寸法は、記載された値及びその値周辺の機能的に同等の範囲の両方を意味するものとする。例えば、「４０ｍｍ」として開示された寸法は、「約４０ｍｍ」を意味するものとする。

Claims (15)

1. 粒子状材料（１００）と基材材料（１１０）との組み合わせを含む構造を作製するための装置（１）であって、
   ａ）運動方向（ＭＤ）、及び１つ以上のリザーバ（５０）を有する第１の運動無端表面（４０）であって、前記第１の運動無端表面（４０）及びそのリザーバ（５０）が、粒子状材料（１００）を第２の運動無端表面（２００）に移動させるためのものである、第１の運動無端表面（４０）と、
   ｂ）受容領域において、前記第１の運動無端表面（４０）から前記粒子状材料（１００）を受容するため、及び移動領域において、前記粒子状材料と前記基材材料との前記組み合わせを移動させるための、前記基材材料（１１０）を運搬する運動方向（ＭＤ）を有する第２の運動無端表面（２００）であって、前記第２の運動無端表面が、前記受容領域において、第１の真空チャンバ（２１０）と隣接し、かつそれとガス連通し、前記第２の運動無端表面が、前記移動領域において、第２の真空チャンバ（２２０）と隣接し、かつそれとガス連通し、前記受容領域及び前記移動領域が、相互に隣接する（ＭＤにおいて）、第２の運動無端表面（２００）と、を含み、
   前記第１の真空チャンバ（２１０）における前記真空負圧の、前記第２の真空チャンバ（２２０）における前記真空負圧に対する比率が、４：３以上であり、
   少なくとも前記移動領域において、前記粒子状材料（１００）と前記基材材料（１１０）との組み合わせの上を、第２の基材材料が覆わない、装置（１）。
2. 粒子状材料（１００）と基材材料（１１０）との組み合わせを含む構造を作製するための装置（１）であって、
   ａ）運動方向（ＭＤ）、及び１つ以上のリザーバ（５０）を有する第１の運動無端表面（４０）であって、前記第１の運動無端表面（４０）及びそのリザーバ（５０）が、粒子状材料（１００）を第２の運動無端表面（２００）に移動させるためのものである、第１の運動無端表面（４０）と、
   ｂ）受容領域において、前記第１の運動無端表面（４０）から前記粒子状材料（１００）を受容するため、及び移動領域において、前記粒子状材料と前記基材材料との前記組み合わせを移動させるための、前記基材材料（１１０）を運搬する運動方向（ＭＤ）を有する第２の運動無端表面（２００）であって、前記第２の運動無端表面が、前記受容領域において、第１の真空チャンバ（２１０）と隣接し、かつそれとガス連通し、前記第２の運動無端表面が、前記移動領域において、第２の真空チャンバ（２２０）と隣接し、かつそれとガス連通し、前記受容領域及び前記移動領域が、相互に隣接する（ＭＤにおいて）、第２の運動無端表面（２００）と、を含み、
   前記第１の真空チャンバ（２１０）が、前記第２の運動無端表面と隣接する、第１の開放領域を有する第１の表面領域を有し、前記第２の真空チャンバ（２２０）が、前記第２の運動無端表面と隣接する、第２の開放領域を有する第２の表面領域を有し、前記第１の開放領域の、前記第２の開放領域に対する比率が、３：４以下であり、
   少なくとも前記移動領域において、前記粒子状材料（１００）と前記基材材料（１１０）との組み合わせの上を、第２の基材材料が覆わない、装置（１）。
3. 前記第１の運動無端表面（４０）が、第１のステータ（４５）の周囲を回転する円筒状の回転無端表面であり、前記第２の運動無端表面（２００）が、第２のステータ（２３０）の周囲を回転する円筒状の回転無端表面であり、前記第１及び第２の真空チャンバが、前記第２のステータによって構成される、請求項１又は２に記載の装置。
4. 前記第１の運動無端表面（４０）が、複数のリザーバ（５０）を有し、前記第１のステータが、加圧空気を包含するためのエアチャンバ（４６）を備え、前記エアチャンバが、前記リザーバ（複数を含む）からの粒子状材料（１００）の解放を容易にするように、前記複数のリザーバ又はその一部と空気連通している、請求項３に記載の装置（１）。
5. 前記第１の運動無端表面（４０）と前記第２の運動無端表面（２００）との間の最も近い近接点（ＣＤ延伸線）が、前記受容領域内にあり、前記近接点における前記第１の運動無端表面と前記第２の運動無端表面との間の距離（ｄ）が、０．５ｍｍ〜３０ｍｍである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置（１）。
6. 前記円筒状の第１の運動無端表面又は前記第１のステータの半径の、前記円筒状の第２の運動無端表面又は前記第２のステータの半径に対する比率が、１：２以下である、請求項３に記載の装置（１）。
7. 前記第１の真空チャンバ（２１０）及び第２の真空チャンバ（２２０）が、同じ真空ファン（２４０）に接続される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
8. 前記第１の真空チャンバ（２１０）が、第１の真空ファン（２４０ａ）に接続され、前記第２の真空チャンバ（２２０）が、第２の真空ファン（２４０ｂ）に接続される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
9. 前記第１の真空チャンバ（２１０）及び第２の真空チャンバ（２２０）が、前記第２のステータ（２３０）内に存在し、前記第１の真空チャンバが、第１の角度（α）によって画定されるＭＤ寸法を有し、前記第２の真空チャンバが、第２の角度（β）によって画定されるＭＤ寸法を有し、αのβに対する比率が、２：３以下である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置（１）。
10. 前記基材材料と粒子状材料との前記組み合わせが、更なる装置ユニットに移動され、前記更なるユニットが、前記組み合わせを受容し、任意に、前記組み合わせを更なる基材材料と組み合わせるためのアンビルロール又はドラムである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置（１）。
11. 前記第１の運動無端表面（４０）の上流及び／又は下流に、接着剤を前記基材（１１０）に、及び／又は基材（１１０）と粒子状材料（１００）との前記組み合わせに、それぞれ塗布するための１つ以上の接着剤塗布ユニット（３００、３０１）を備える、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の装置（１）。
12. 基材材料（１１０）と粒子状材料（１００）との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセスであって、
    ｃ）第２の運動無端表面の受容領域において、基材材料と粒子状材料との組み合わせを形成するように、リザーバ（複数を含む）によって包含される粒子状材料（１００）を含む１つ以上のリザーバ（５０）を備える第１の無端運動表面（４０）を、第２の運動無端表面（２００）によって運搬される基材材料（１１０）上に配置し、かつ同時に、前記受容領域内に第１の真空負圧を供給する工程と、
    ｄ）前記基材材料と粒子状材料との前記組み合わせを、前記第２の無端運動表面の移動領域を通って移動させる工程と、
    前記移動領域に第２の真空負圧を供給する工程と、を含み、
    前記第１の真空負圧の、前記第２の真空負圧に対する比率が、４：３以上であり、
    少なくとも前記移動領域において、前記粒子状材料（１００）と前記基材材料（１１０）との組み合わせの上を、第２の基材材料が覆わない、プロセス。
13. 前記第１の真空負圧が、−６．５ｋＰａ以下であり、前記第２の真空負圧が、−０．５ｋＰａ〜−５ｋＰａである、請求項１２に記載のプロセス。
14. 前記プロセスが、任意に粒子状材料とのその組み合わせである、第２の基材材料を、基材材料（１１０）と粒子状材料（１００）との前記組み合わせに塗布する工程、前記粒子状材料（１００）上で前記基材材料（１１０）を折り畳む工程、接着剤を、基材材料（１１０）と粒子状材料（１００）との前記組み合わせに塗布する工程、基材材料と粒子状材料との前記組み合わせを切断する工程、又はこれらの組み合わせから選択される更なるプロセス工程を含む、請求項１１、１２、又は１３に記載のプロセス。
15. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の装置（１）を使用して、粒子状材料（１００）と基材材料（１１０）との組み合わせを含む構造を作製するためのプロセス。

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