JP5620315B2 - Photoelectric conversion element and photoelectrochemical cell - Google Patents

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Description

本発明は、変換効率が高く、耐久性に優れた光電変換素子及び光電気化学電池に関する。   The present invention relates to a photoelectric conversion element and a photoelectrochemical cell having high conversion efficiency and excellent durability.

光電変換素子は各種の光センサー、複写機、太陽電池等に用いられている。この光電変換素子には金属を用いたもの、半導体を用いたもの、有機顔料や色素を用いたもの、あるいはこれらを組み合わせたものなどの様々な方式が実用化されている。中でも、非枯渇性の太陽エネルギーを利用した太陽電池は、燃料が不要であり、無尽蔵なクリーンエネルギーを利用したものとして、その本格的な実用化が大いに期待されている。この中でも、シリコン系太陽電池は古くから研究開発が進められてきた。各国の政策的な配慮もあって普及が進んでいる。しかし、シリコンは無機材料であり、スループット及び分子修飾には自ずと限界がある。   Photoelectric conversion elements are used in various optical sensors, copying machines, solar cells, and the like. Various types of photoelectric conversion elements have been put to practical use, such as those using metals, semiconductors, organic pigments and dyes, or combinations thereof. Above all, a solar cell using non-depleting solar energy does not require fuel, and its full-scale practical use is expected greatly as it uses inexhaustible clean energy. Among these, silicon solar cells have been researched and developed for a long time. It is spreading due to the policy considerations of each country. However, silicon is an inorganic material, and its throughput and molecular modification are naturally limited.

そこで色素増感型太陽電池の研究が精力的に行われている。とくに、スイスのローザンヌ工科大学のGraetzel等がポーラス酸化チタン薄膜の表面にルテニウム錯体からなる色素を固定した色素増感型太陽電池を開発し、アモルファスシリコン並の変換効率を実現した。これにより、色素増感型太陽電池が一躍世界の研究者から注目を集めるようになった。   Therefore, research on dye-sensitized solar cells has been vigorously conducted. In particular, Graetzel et al. Of Lausanne University of Technology in Switzerland developed a dye-sensitized solar cell in which a dye composed of a ruthenium complex was fixed on the surface of a porous titanium oxide thin film, and realized conversion efficiency comparable to amorphous silicon. As a result, dye-sensitized solar cells have attracted a great deal of attention from researchers around the world.

特許文献1には、この技術を応用し、ルテニウム錯体色素によって増感された半導体微粒子を用いた色素増感光電変換素子が記載されている。しかしながら従来のルテニウム錯体色素は、可視光線を用いて光電変換できるものの、700nmより長波長の赤外光をほとんど吸収することができないため、赤外域での光電変換能が低いという問題点がある。
そこで異なる波長域での光吸収が可能な色素を2種以上用いることにより、光吸収を多くし、変換効率の高い光電変換素子を提供する提案がされている(例えば、特許文献2参照)。
ところで、光電変換素子には、初期の変換効率が高く、使用後も変換効率の低下が少なく耐久性に優れることが必要とされる。しかし耐久性という点では、特許文献2記載の光電変換素子では十分とはいえない。
そこで、変換効率が高く、耐久性に優れた光電変換素子及び光電気化学電池が必要とされている。
Patent Document 1 describes a dye-sensitized photoelectric conversion element using semiconductor fine particles sensitized with a ruthenium complex dye by applying this technique. However, although conventional ruthenium complex dyes can be photoelectrically converted using visible light, they hardly absorb infrared light having a wavelength longer than 700 nm, and thus have a problem of low photoelectric conversion ability in the infrared region.
In view of this, a proposal has been made to provide a photoelectric conversion element having a high conversion efficiency by using two or more dyes capable of absorbing light in different wavelength regions (see Patent Document 2, for example).
By the way, the photoelectric conversion element is required to have high initial conversion efficiency, low decrease in conversion efficiency even after use, and excellent durability. However, in terms of durability, the photoelectric conversion element described in Patent Document 2 is not sufficient.
Therefore, a photoelectric conversion element and a photoelectrochemical cell having high conversion efficiency and excellent durability are required.

米国特許第5463057号明細書US Pat. No. 5,463,057 特開2000−268892号公報JP 2000-268892 A

本発明の課題は、光電変換効率が高く、さらに耐久性に優れた光電変換素子および光電気化学電池を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a photoelectric conversion element and a photoelectrochemical cell having high photoelectric conversion efficiency and excellent durability.

本発明者等は、鋭意検討を重ねた結果、導電性支持体上に特定の構造を有する色素(色素化合物)を組み合わせて吸着させた多孔質半導体微粒子層を有する感光体、電荷移動体、及び対極を含む積層構造よりなる光電変換素子とこれを用いた光電気化学電池が、変換効率が高く、耐久性に優れることを見出した。本発明はこの知見に基づきなされたものである。
本発明の課題は、以下の手段によって達成された。
As a result of intensive studies, the present inventors have obtained a photosensitive member having a porous semiconductor fine particle layer adsorbed in combination with a dye having a specific structure (dye compound) on a conductive support, a charge transfer body, and It has been found that a photoelectric conversion element having a laminated structure including a counter electrode and a photoelectrochemical cell using the same have high conversion efficiency and excellent durability. The present invention has been made based on this finding.
The object of the present invention has been achieved by the following means.

<1>導電性支持体上に色素が吸着された半導体微粒子層を有する感光体、電荷移動体、および対極を含む積層構造よりなる光電変換素子であって、前記色素が下記一般式(1)で表される化合物からなる色素の少なくとも1種と、下記一般式(2)で表される化合物からなる色素の少なくとも1種とを含有することを特徴とする光電変換素子。

Figure 0005620315
[一般式(1)において、Qは4価のベンゼン環基し、X およびはそれぞれ独立にCを表す。ここでR およびはそれぞれ独立に脂肪基を表す。RおよびR’はそれぞれ独立に脂肪族基を表す。P およびはそれぞれ独立に、下記一般式(8)で表される基を表す。Wは電荷を中和させるのに必要な場合の対イオンを表す。]
Figure 0005620315
[一般式(8)において、V は、カルボキシ基もしくはその塩、または2つのV が互いに結合してベンゼン環を形成する基を表す。nは0〜2の整数を表し、nが2の場合は、V は同じでも異なっていてもよい。
YはC(R )R を表す。R およびR は脂肪族基を表し、同一でも異なっていてもよい。
Zは脂肪族基を表し、カルボキシ基または4−カルボキシフェニル基で置換されていてもよい。
およびR はそれぞれ独立に、水素原子または脂肪族基を表す。
は酸素原子、または、下記一般式(12)〜(14)のいずれかで表される基を表す。]
Figure 0005620315
[一般式(12)〜(14)において、Rfは水素原子または脂肪族基を表す。]

M(LL)m(LL)m(X)m・CI 一般式(2)

[一般式(2)において、MはRuを表し、LLは下記一般式(5−3)で表される2座の配位子を表し、LLは下記一般式(4)で表される2座の配位子を表す
はチオシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基およびイソシアネート基からなる群から選ばれた基で配位する1座の配位子を表す。
は1を表す。m は1を表す
は2を表す
CIは一般式()において、電荷を中和させるのに対イオンが必要な場合の対イオンを表す。]
Figure 0005620315
[一般式(5−3)において、 およびR10はそれぞれ独立に、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基、ヒドロキサム酸基、ホスホリル基しくはホスホニル基またはこれらの塩を表す。R11 およびR12はそれぞれ独立に置換基を表す。aおよびa2は0をし、bおよびb2はを表す。nは1をす。R 53 およびR 54 はアルキニル基またはアリール基を表す。
Figure 0005620315
[一般式(4)において、Za、ZbおよびZcはそれぞれ独立に、ピリジン環を形成しうる非金属原子群を表し、それぞれ独立にカルボキシ基およびその塩から選択される酸性基を有していてもよい。cは0を表す。]
<1> A photoelectric conversion element having a laminated structure including a photoconductor having a semiconductor fine particle layer having a dye adsorbed on a conductive support, a charge transfer body, and a counter electrode, wherein the dye is represented by the following general formula (1) A photoelectric conversion device comprising at least one dye comprising a compound represented by formula (1) and at least one dye comprising a compound represented by the following general formula (2).
Figure 0005620315
[In the general formula (1), Q and Table tetravalent benzene ring group, a C R 1 R 2 X 1 and X 2 are each independently. Here, R 1 and R 2 each independently represents an aliphatic group . R and R ′ each independently represents an aliphatic group . P 1 and P 2 each independently represent a group represented by the following general formula (8) . W 1 represents a counter ion as necessary to neutralize the charge. ]
Figure 0005620315
[In General Formula (8), V 1 represents a carboxy group or a salt thereof, or a group in which two V 1 are bonded to each other to form a benzene ring. n represents an integer of 0 to 2, and when n is 2, V 1 may be the same or different.
Y represents C (R b ) R c . R b and R c represent an aliphatic group and may be the same or different.
Z represents an aliphatic group and may be substituted with a carboxy group or a 4-carboxyphenyl group.
R 6 and R 8 each independently represents a hydrogen atom or an aliphatic group.
R 7 represents an oxygen atom or a group represented by any one of the following general formulas (12) to (14). ]
Figure 0005620315
[In General Formulas (12) to (14), Rf represents a hydrogen atom or an aliphatic group. ]

M (LL 1 ) m 1 (LL 2 ) m 2 (X) m 3 · CI General formula (2)

[In one general formula (2), M represents Ru, LL 1 represents a bidentate ligand shown by the following formula (5-3), LL 2 in the following general formula (4) Table Represents a bidentate ligand.
X represents a Chi Oshianeto group, isothiocyanate group, ligand of monodentate coordinating with a group selected from cyanate group and an isocyanate group or Ranaru group.
m 1 represents 1 . m 2 represents 1 .
m 3 represents 2 .
CI represents a counter ion in the general formula ( 2 ) when a counter ion is necessary to neutralize the charge. ]
Figure 0005620315
[And have contact with one general formula (5-3), each R 9 and R 10 are independently carboxy sheet group, sul ho group, hydroxy sheet group, hydroxamic acid group, a phosphoryl group properly the phosphonyl group or their Represents the salt. R 11 and R 12 is to display the substituents independently. a 1 and a2 will table a 0, b 1 and b2 are to table a 0. n is to Table 1. R 53 and R 54 represent an alkynyl group or an aryl group. ]
Figure 0005620315
[In the general formula (4), Za, are each Zb and Zc independently represents a non-metallic atomic group which can form a pyridine ring, having acidic groups selected independently carboxy group and a salt thereof It may be. c represents 0 . ]

>前記一般式(8)で表される基が下記一般式(10)で表されることを特徴とする<記載の光電変換素子。

Figure 0005620315
[一式(10)において、V、n、ZおよびYは、前記一般式(8)におけるものと同義である。]
The photoelectric conversion device according to <1> which is characterized by being represented by <2> before Symbol one general formula group you express (8) is the following general formula (10).
Figure 0005620315
[In General Formula (10), V 1, n, Z and Y have the same meanings as in the formula (8). ]

>前記一般式(8)におけるRが、記一般式(12または(13)で表される基であることを特徴とする<>に記載の光電変換素子。
>前記一般式(8)におけるRが、下記一般式(16)で表される基であることを特徴とする<または<>に記載の光電変換素子。

Figure 0005620315
<3> R 7 in the general formula (8) is pre-Symbol photoelectric conversion element according to <1>, which is a group represented by the general formula (12) or (13).
<4> R 7 in the general formula (8) is a photoelectric conversion element according to <1> or <3>, characterized in that a group represented by the following general formula (16).
Figure 0005620315

>前記YがC(CH であり前記Zが炭素数5〜18の脂肪族基であることを特徴とする<>〜<>のいずれか1項記載の光電変換素子。
>前記YがC(CH であり前記ZがCH、C、C またはCHCHCOOHであることを特徴とする<>〜<>のいずれか1項記載の光電変換素子。
>前記V、カルボキシ基またはその塩であることを特徴とする<>〜<>のいずれか1項に記載の光電変換素子。
>前記V、5−カルボキシ基および4,5−ベンゼン環縮合からなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする<>〜<>のいずれか1項記載の光電変換素子。
<9>前記Zが、4−カルボキシフェニル基で置換された脂肪族基であり、前記、カルボキシ基もしくはその塩であることを特徴とする<>〜<4>のいずれか1項に記載の光電変換素子。
<5> wherein Y is C (CH 3) 2, wherein Z is characterized by an aliphatic group having 5 to 18 carbon atoms <1> to according to any one of <4> Photoelectric conversion element.
<6> is the Y is C (CH 3) 2, wherein Z is, CH 3, C 2 H 5 , C 3 H 7 or characterized in that it is a CH 2 CH 2 COOH <1> ~ < The photoelectric conversion element according to any one of 4 >.
< 7 > The photoelectric conversion element according to any one of < 1 > to < 6 >, wherein the V 1 is a carboxy group or a salt thereof .
<8> wherein V 1 is, 5 - carboxy sheet, wherein the group Oyo selected from the group consisting of beautiful 4,5 benzene ring condensed is at least one <1> to any one of <6> the photoelectric conversion device according to (1).
<9> wherein Z is 4-carboxyphenyl aliphatic group substituted with a phenyl group, wherein V 1 is characterized in that it is a carboxyl group or a salt thereof <1> - or <4> 1 the photoelectric conversion element according to claim.

10>前記半導体微粒子が酸化チタン微粒子であることを特徴とする<1>〜<>のいずれか1項記載の光電変換素子。
11>前記<1>〜<10>のいずれか1項に記載の光電変換素子を備えることを特徴とする光電気化学電池。
< 10 > The photoelectric conversion element according to any one of <1> to < 9 >, wherein the semiconductor fine particles are titanium oxide fine particles.
< 11 > A photoelectrochemical cell comprising the photoelectric conversion element according to any one of <1> to < 10 >.

本発明により、変換効率が高く、耐久性に優れた光電変換素子及び光電気化学電池を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a photoelectric conversion element and a photoelectrochemical cell having high conversion efficiency and excellent durability.

本発明の光電変換素子の一実施態様について模式的に示した断面図である。It is sectional drawing shown typically about one embodiment of the photoelectric conversion element of this invention.

本発明者等は、鋭意検討を重ねた結果、導電性支持体上に特定の色素の組合せが吸着された半導体微粒子層を有する感光体、電荷移動体、及び対極を含む積層構造よりなる光電変換素子とこれを用いた光電気化学電池が、変換効率が高く、耐久性、特に変換効率の低下が少ないことを見出した。本発明はこの知見に基づきなされたものである。   As a result of extensive studies, the present inventors have made a photoelectric conversion comprising a photoconductor having a semiconductor fine particle layer in which a specific combination of dyes is adsorbed on a conductive support, a charge transfer body, and a laminated structure including a counter electrode. It has been found that the device and the photoelectrochemical cell using the same have high conversion efficiency, and durability, particularly reduction in conversion efficiency is small. The present invention has been made based on this finding.

図1に示すように、光電変換素子10は、導電性支持体1、導電性支持体1上にその順序で配された、感光体層2、電荷移動体層3、及び対極4からなる。上記導電性支持体1と感光体層2とにより受光電極5を構成している。その感光体層2は半導体微粒子22と増感色素(以下、単に、色素ともいう。)21とを有している。増感色素21はその少なくとも一部において半導体微粒子22に吸着している(増感色素21は吸着平衡状態になっており、一部電荷移動体層3に存在していてもよい。)。電荷移動体層3は、例えば正孔(ホール)を輸送する正孔輸送層として機能する。感光体層2が形成された導電性支持体1は、光電変換素子10において作用電極として機能する。この光電変換素子10を外部回路6で仕事をさせるようにして、光電気化学電池100として作動させることができる。 As shown in FIG. 1, the photoelectric conversion element 10 includes a conductive support 1, a photosensitive layer 2, a charge transfer layer 3, and a counter electrode 4 arranged in that order on the conductive support 1. The conductive support 1 and the photoreceptor layer 2 constitute a light receiving electrode 5. The photoreceptor layer 2 has semiconductor fine particles 22 and a sensitizing dye (hereinafter also simply referred to as a dye) 21. At least a part of the sensitizing dye 21 is adsorbed on the semiconductor fine particles 22 (the sensitizing dye 21 is in an adsorption equilibrium state and may be partially present in the charge transfer layer 3). The charge transfer body layer 3 functions as, for example, a hole transport layer that transports holes. The conductive support 1 on which the photoreceptor layer 2 is formed functions as a working electrode in the photoelectric conversion element 10. The photoelectric conversion element 10 can be operated as the photoelectrochemical cell 100 by causing the external circuit 6 to work.

上記受光電極5は、導電性支持体1及び導電性支持体1上に塗設される増感色素21の吸着した半導体微粒子22の感光体層2(半導体膜)よりなる電極である。感光体層2(半導体膜)に入射した光は色素を励起する。励起色素はエネルギーの高い電子を有している。そこでこの電子が増感色素21から半導体微粒子22の伝導帯に渡され、さらに拡散によって導電性支持体1に到達する。このとき増感色素21の分子は酸化体となっている。電極上の電子が外部回路6で仕事をしながら酸化体に戻ることにより、光電気化学電池100として作用する。この際、受光電極5はこの電池の負極として働く。   The light receiving electrode 5 is an electrode composed of a conductive support 1 and a photosensitive layer 2 (semiconductor film) of semiconductor fine particles 22 adsorbed by a sensitizing dye 21 coated on the conductive support 1. Light incident on the photoreceptor layer 2 (semiconductor film) excites the dye. The excited dye has high energy electrons. Therefore, the electrons are transferred from the sensitizing dye 21 to the conduction band of the semiconductor fine particles 22 and reach the conductive support 1 by diffusion. At this time, the molecule of the sensitizing dye 21 is an oxidant. The electrons on the electrode return to the oxidant while working in the external circuit 6, thereby acting as the photoelectrochemical cell 100. At this time, the light receiving electrode 5 functions as a negative electrode of the battery.

本発明の光電変換素子は、導電性支持体上に、後述の特定の色素を組み合わせたものが吸着された多孔質半導体微粒子層を有する感光体を有する。感光体は目的に応じて設計され、単層構成でも多層構成でもよい。感光体中の色素は多種類の色素が混合されたものでもよいが、少なくとも後述の2種の色素を用いる。本発明の光電変換素子の感光体には、これらのの色素が吸着した半導体微粒子を含み、感度が高く、光電気化学電池として使用する場合に、高い変換効率を得ることができ、変換効率の低下が少なく耐久性に優れている光電変換素子を得ることができる。   The photoelectric conversion element of the present invention has a photoreceptor having a porous semiconductor fine particle layer on which a combination of specific dyes described later is adsorbed on a conductive support. The photoreceptor is designed according to the purpose, and may have a single layer structure or a multilayer structure. The dye in the photoreceptor may be a mixture of many kinds of dyes, but at least two kinds of dyes described later are used. The photoconductor of the photoelectric conversion element of the present invention contains semiconductor fine particles to which these dyes are adsorbed, has high sensitivity, and when used as a photoelectrochemical cell, high conversion efficiency can be obtained. A photoelectric conversion element that is less deteriorated and excellent in durability can be obtained.

(A)色素
(A1)一般式(1)の構造を有する色素
本発明の光電変換素子においては、下記一般式(1)で表される化合物からなる色素が使用される。

Figure 0005620315
一般式(1)中、Qは少なくとも四官能以上の芳香族基を示す。芳香族基の例としては、芳香族炭化水素として、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレンなどが挙げられ、芳香族へテロ環として、アントラキノン、カルバゾール、ピリジン、キノリン、チオフェン、フラン、キサンテン、チアントレンなどが挙げられ、これらは連結部分以外に置換基を有していてもよい。Qで表される芳香族基として、好ましくは芳香族炭化水素であり、さらに好ましくはベンゼン又はナフタレンであり、本発明では、4価のベンゼン環基である。ここで、QへのXとN(R’)の結合は、図示した式中で、N(R’)の位置にXが、Xの位置にN(R’)が結合するものも含むものである。
(A) Dye (A1) Dye having the structure of the general formula (1) In the photoelectric conversion element of the present invention, a dye comprising a compound represented by the following general formula (1) is used.
Figure 0005620315
In general formula (1), Q represents at least a tetrafunctional or higher aromatic group. Examples of aromatic groups include aromatic hydrocarbons such as benzene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, and aromatic heterocycles such as anthraquinone, carbazole, pyridine, quinoline, thiophene, furan, xanthene, and thianthrene. These may have a substituent other than the linking moiety. The aromatic group represented by Q, preferably an aromatic hydrocarbon, more Ri preferably a benzene or naphthalene der, in the present invention, Ru der tetravalent benzene ring group. Here, X 2 and N (R ') to Q bonds are in the illustrated formula, N (R' which X 2 in position of) the, N (R ') is attached to the position of X 2 Is also included.

また、X、Xは、それぞれ独立に、硫黄原子、酸素原子又はCRを表す。X、Xは好ましくは、硫黄原子またはCRであり、最も好ましくはCRである。ここでR及びRは、それぞれ独立に水素原子、脂肪族基、芳香族基、又は炭素原子で結合するヘテロ環基を表す。R、Rは、好ましくは、脂肪族基、芳香族基であり、より好ましくは脂肪族基(例えばメチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−ドデシル、シクロヘキシル、ベンジル等)である。
ただし、本発明では、X およびX はCR であり、R およびR は脂肪族基である。
X 1 and X 2 each independently represents a sulfur atom, an oxygen atom or CR 1 R 2 . X 1 and X 2 are preferably a sulfur atom or CR 1 R 2 , and most preferably CR 1 R 2 . Here, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group bonded with a carbon atom. R 1 and R 2 are preferably an aliphatic group or an aromatic group, more preferably an aliphatic group (for example, methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, n-dodecyl, cyclohexyl, benzyl, etc.).
However, in the present invention, X 1 and X 2 are CR 1 R 2 , and R 1 and R 2 are aliphatic groups.

R、R’は、それぞれ独立に、脂肪族基、芳香族基、又は炭素原子で結合するヘテロ環基を表し、これらは置換されていてもよい。好ましくは、脂肪族基又は芳香族基である(芳香族基の炭素原子数は、好ましくは5〜16、さらに好ましくは5又は6である。脂肪族基の炭素原子数は、好ましくは1〜10、さらに好ましくは1〜6である。無置換の脂肪族基、芳香族基としては、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、シクロヘキシル、フェニル、ナフチル等が挙げられる。
ただし、本発明では、R、R’は脂肪族基である。
R and R ′ each independently represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group bonded with a carbon atom, and these may be substituted. Preferably, it is an aliphatic group or an aromatic group (the number of carbon atoms of the aromatic group is preferably 5 to 16, more preferably 5 or 6. The number of carbon atoms of the aliphatic group is preferably 1 to More preferably, it is 1 to 6. Examples of the unsubstituted aliphatic group and aromatic group include methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, cyclohexyl, phenyl, naphthyl and the like.
However, in the present invention, R and R ′ are aliphatic groups.

、Pは色素残基を表す。色素残基とは、一般式(1)のP、P以外の構造とともに、全体として色素化合物を構成するのに必要な原子群を示す。P及びPは、直接又は連結基を介して結合し、一般式(1)の色素を構成する。P及びPによって形成される色素(色素化合物)としては、例えば、シアニン、メロシアニン、ロダシアニン、3核メロシアニン、アロポーラー、ヘミシアニン、スチリル、オキソノール、シアニンなどのポリメチン色素、アクリジン、キサンテン、チオキサンテンなどを含むジアリールメチン、トリアリールメチン、クマリン、インドアニリン、インドフェノール、ジアジン、オキサジン、チアジン、ジケトピロロピロール、インジゴ、アントラキノン、ペリレン、キナクリドン、ナフトキノン、ビピリジル、ターピリジル、テトラピリジル、フェナントロリンなどが挙げられる。
好ましくはシアニン、メロシアニン、ロダシアニン、3核メロシアニン、アロポーラー、ヘミシアニン、スチリルなどが挙げられる。この際、シアニンには色素を形成するメチン鎖上の置換基がスクアリウム環やクロコニウム環を形成したものも含む。これらの色素の詳細については、エフ・エム・ハーマー(F.M.Harmer)著「ヘテロサイクリック・コンパウンズ−シアニンダイズ・アンド・リレィティド・コンパウンズ(Heterocyclic Compounds−Cyanine Dyes and Related Compounds)」、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wiley & Sons)社、ニューヨーク、ロンドン、1964年刊などに記載されている。シアニン、メロシアニン、ロダシアニンの一般式は、米国特許第5,340,694号第21、22頁の(XI)、(XII)、(XIII)に示されているものが好ましい。また、P及びPによって形成される色素残基の少なくともいずれか一方のメチン鎖部分にスクアリリウム環を有するものが好ましく、両方に有するものがさらに好ましい。
P 1 and P 2 represent dye residues. The dye residue refers to an atomic group necessary for constituting the dye compound as a whole together with structures other than P 1 and P 2 in the general formula (1). P 1 and P 2 are bonded directly or via a linking group to constitute a dye of the general formula (1). Examples of the dye (dye compound) formed by P 1 and P 2 include polymethine dyes such as cyanine, merocyanine, rhodacyanine, trinuclear merocyanine, allopolar, hemicyanine, styryl, oxonol, and cyanine, acridine, xanthene, thioxanthene, and the like. Diarylmethine, triarylmethine, coumarin, indoaniline, indophenol, diazine, oxazine, thiazine, diketopyrrolopyrrole, indigo, anthraquinone, perylene, quinacridone, naphthoquinone, bipyridyl, terpyridyl, tetrapyridyl, phenanthroline, etc. .
Preferably, cyanine, merocyanine, rhodacyanine, trinuclear merocyanine, allopolar, hemicyanine, styryl and the like can be mentioned. In this case, cyanine includes those in which the substituent on the methine chain forming the dye forms a squalium ring or a croconium ring. For more information on these dyes, see FM Harmer, “Heterocyclic Compounds-Cyanine Dies and Related Compounds,” John, “Heterocyclic Compounds-Cyanine Soybeans and Reeled Compounds”, John. It is described in, for example, John Wiley & Sons, New York, London, 1964. The general formulas of cyanine, merocyanine and rhodacyanine are preferably those shown in (XI), (XII) and (XIII) of U.S. Pat. No. 5,340,694, pages 21,22. Further, preferably it has a squarylium ring in at least one of the methine chain moiety of the dye residue which is formed by P 1 and P 2, which has both are more preferred.

前記一般式(1)の構造を有する色素におけるP及びPは、それぞれ独立に、下記一般式(7)又は(8)で表されることが好ましく、本発明では、一般式(8)で表される基である

Figure 0005620315
Figure 0005620315
一般式(7)、(8)において、Vは水素原子又は置換基を表す。nは0〜4の整数を表し、nが2以上の場合は、Vは同じでも異なっていてもよく、又は互いに結合して環を形成していてもよい。nは好ましくは、0〜3であり、より好ましくは0〜2である。
ただし、本発明では、V は、カルボキシ基もしくはその塩、または2つのV が互いに結合してベンゼン環を形成する基を表す。nは0〜2の整数を表し、nが2の場合は、V は同じでも異なっていてもよい。
P 1 and P 2 in the dye having the structure of Formula (1) are each independently represented by the following general formula (7) or (8) it is rather preferable that represented, in the present invention have the general formula ( It is a group represented by 8) .
Figure 0005620315
Figure 0005620315
In the general formulas (7) and (8), V 1 represents a hydrogen atom or a substituent. n represents an integer of 0 to 4, and when n is 2 or more, V 1 may be the same or different, or may be bonded to each other to form a ring. n is preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2.
However, in the present invention, V 1 represents a carboxy group or a salt thereof, or a group in which two V 1 are bonded to each other to form a benzene ring. n represents an integer of 0 to 2, and when n is 2, V 1 may be the same or different.

Yは硫黄原子、NR、又はC(R)Rを表す。Rは水素原子、脂肪族基、芳香族基、炭素原子で結合するヘテロ環基を表す。Rの好ましい例は、脂肪族基(例えばメチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−ドデシル、シクロヘキシル、ベンジル等)又は芳香族基(例えばフェニル、トリル、ナフチル等)である。Rは、より好ましくは、脂肪族基(例えばメチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−ドデシル、シクロヘキシル、ベンジル等)である。
、Rは、水素原子、脂肪族基、芳香族基、炭素原子で結合するヘテロ環基を表し、RとRとは、同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。R、Rの好ましい例は、脂肪族基又は芳香族基であり、より好ましくは脂肪族基(例えばメチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−ドデシル、シクロヘキシル、ベンジル等)である。
ただし、本発明では、YはC(R )R であり、R およびR は脂肪族基であって、同一でも異なっていてもよい。
Y represents a sulfur atom, NR a , or C (R b ) R c . R a represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group bonded with a carbon atom. Preferred examples of R a are aliphatic groups (eg methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, n-dodecyl, cyclohexyl, benzyl etc.) or aromatic groups (eg phenyl , Tolyl, naphthyl, etc.). R 9 is more preferably an aliphatic group (eg, methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, n-dodecyl, cyclohexyl, benzyl, etc.).
R b and R c represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group bonded by a carbon atom, and R b and R c may be the same or different and are bonded to each other to form a ring May be formed. Preferred examples of R b and R c are aliphatic groups or aromatic groups, more preferably aliphatic groups (for example, methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, n-dodecyl, cyclohexyl, benzyl, etc.).
However, in the present invention, Y is C (R b ) R c , and R b and R c are aliphatic groups which may be the same or different.

Zは脂肪族基、芳香族基、又は炭素原子で結合するヘテロ環基を表し、置換基を有していてもよい。置換基の好ましい例として酸性基が挙げられ、より好ましくはカルボキシル基を有する基が挙げられる。R〜R、及びRは水素原子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基を表し、置換基を有していてもよく、好ましくは水素原子または脂肪族基であり、より好ましくは水素原子である。Rは酸素原子又は結合する二つの置換基のHammett則におけるσの和が正となる二価の炭素原子を表す。
ただし、本発明では、Zは脂肪族基であり、カルボキシ基または4−カルボキシフェニル基で置換されていてもよい。R およびR は水素原子または脂肪族基である。R は酸素原子、または、後述の一般式(12)〜(14)のいずれかで表される基である。
Z represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group bonded with a carbon atom, and may have a substituent. Preferable examples of the substituent include an acidic group, more preferably a group having a carboxyl group. R 3 to R 6 and R 8 represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group, and may have a substituent, preferably a hydrogen atom or an aliphatic group, more preferably Is a hydrogen atom. R 7 represents an oxygen atom or a divalent carbon atom in which the sum of σ p in the Hammett rule of the two substituents to be bonded is positive.
However, in the present invention, Z is an aliphatic group and may be substituted with a carboxy group or a 4-carboxyphenyl group. R 6 and R 8 are a hydrogen atom or an aliphatic group. R 7 is an oxygen atom or a group represented by any one of the following general formulas (12) to (14).

一般式(1)は、R、R’、P、及びPの少なくともひとつに酸性基を有することが好ましい。ここで酸性基とは、解離性のプロトンを有する置換基であり、例えば、カルボキシ基、ホスホニル基、スルホニル基、ホウ酸基などを有する基が挙げられ、好ましくはカルボキシル基を有する基であり、本発明では、カルボキシ基である。また酸性基はプロトンを放出して解離した形を採っていてもよい。その塩であってもよい。
The general formula (1) preferably has an acidic group in at least one of R, R ′, P 1 and P 2 . Here, the acidic group is a substituent having a dissociable proton, for example, carboxy shea group, a phosphonyl group, a sulfonyl group, and a group having a boric acid group, Oh preferably a group having a carboxyl group In the present invention, it is a carboxy group . Further, the acidic group may take a form of releasing a proton and dissociating. The salt may be sufficient.

一般式(1)において、Wは電荷を中和させるのに対イオンが必要な場合の対イオンを表す。一般に、色素が陽イオン、陰イオンであるか、あるいは正味のイオン電荷を持つかどうかは、色素中の助色団及び置換基に依存する。一般式(1)の構造を有する色素が解離性の置換基を有する場合、解離して負電荷を有していてもよい。この場合、分子全体の電荷はWによって中和される。
が陽イオンの場合、例えば、無機若しくは有機のアンモニウムイオン(例えばテトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン)又はアルカリ金属イオンである。Wが陰イオンの場合、無機陰イオン又は有機陰イオンのいずれであってもよい。例えば、ハロゲン陰イオン、(例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン)、置換アリールスルホン酸イオン(例えば、p−トルエンスルホン酸イオン、p−クロロベンゼンスルホン酸イオン)、アリールジスルホン酸イオン(例えば、1,3−ベンゼンジスルホン酸イオン、1,5−ナフタレンジスルホン酸イオン、2,6−ナフタレンジスルホン酸イオン)、アルキル硫酸イオン(例えば、メチル硫酸イオン)、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンなどが挙げられる。さらに電荷均衡対イオンとしてイオン性ポリマーあるいは、色素と逆電荷を有する他の色素を用いてもよいし、金属錯イオン(例えば、ビスベンゼン−1,2−ジチオラトニッケル(III))でもよい。
In the general formula (1), W 1 represents a counter ion when a counter ion is necessary to neutralize the charge. Generally, whether a dye is a cation, an anion, or has a net ionic charge depends on the auxiliary color groups and substituents in the dye. When the dye having the structure of the general formula (1) has a dissociable substituent, it may be dissociated and have a negative charge. In this case, the charge of the whole molecule is neutralized by W 1.
When W 1 is a cation, for example, it is an inorganic or organic ammonium ion (for example, a tetraalkylammonium ion or a pyridinium ion) or an alkali metal ion. When W 1 is an anion, either an inorganic anion or an organic anion may be used. For example, halogen anion (for example, fluoride ion, chloride ion, bromide ion, iodide ion), substituted aryl sulfonate ion (for example, p-toluene sulfonate ion, p-chlorobenzene sulfonate ion), aryl disulfone Acid ion (for example, 1,3-benzenedisulfonic acid ion, 1,5-naphthalenedisulfonic acid ion, 2,6-naphthalenedisulfonic acid ion), alkyl sulfate ion (for example, methyl sulfate ion), sulfate ion, thiocyanate ion Perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, picrate ion, acetate ion, trifluoromethanesulfonate ion and the like. Furthermore, an ionic polymer or another dye having a charge opposite to that of the dye may be used as the charge balance counter ion, or a metal complex ion (for example, bisbenzene-1,2-dithiolatonickel (III)) may be used.

前記一般式(1)におけるP及びPが、それぞれ独立に下記一般式(9)又は(10)で表されることが好ましい。これにより、高いモル吸光係数を有する色素となる。
このうち、一般式(9)で表される基は参考例の基である。

Figure 0005620315
Figure 0005620315
(V、n、Z、Yは前記一般式(7)及び(8)におけるものと同義である。)
It is preferable that P 1 and P 2 in the general formula (1) are independently represented by the following general formula (9) or (10). This results in a dye having a high molar extinction coefficient.
Among these, the group represented by the general formula (9) is a group of a reference example.
Figure 0005620315
Figure 0005620315
(V 1 , n, Z and Y have the same meanings as in the general formulas (7) and (8).)

前記一般式(8)におけるRが、下記一般式(11)〜(14)のいずれかで表されることが好ましく、本発明では、一般式(12)〜(14)で表されるいずれかの基である。一般式(11)〜(14)において、Rfは水素原子又は置換基を表す。置換基としては、脂肪族基、芳香族基、炭素原子で結合するヘテロ環基を挙げることができ、これらは置換されていてもよい。好ましい置換基は、脂肪族基、芳香族基である。これにより、短波長側の吸収が強化される
ただし、本発明では、Rfは、水素原子または脂肪族基である。
Wherein R 7 in the general formula (8) is represented by the following general formula (11) to (14) rather is preferably that represented by any one of, in the present invention are represented by the general formula (12) to (14) Any group . In general formula (11)-(14), Rf represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group bonded with a carbon atom, and these may be substituted. Preferred substituents are aliphatic groups and aromatic groups. This enhances the absorption on the short wavelength side .
However, in the present invention, Rf is a hydrogen atom or an aliphatic group.

Figure 0005620315
Figure 0005620315

前記一般式(8)におけるRが、下記一般式(15)又は(16)で表されることが好ましい。これにより、電子注入効率向上の効果が得られる。
なお、一般式(15)は参考例の基である。

Figure 0005620315
R 7 in the general formula (8) is preferably represented by the following general formula (15) or (16). As a result, the effect of improving the electron injection efficiency can be obtained.
In addition, General formula (15) is group of a reference example.
Figure 0005620315

前記Yが、S、NCH、又はC(CHを表し、Zが炭素数5〜18の脂肪族基を表すことが好ましい。Zは好ましくは、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、3,5,5−トリメチルヘキシル、デシル、オクタデシル、さらに好ましくは、デシル、オクタデシルである。これにより、非効率会合抑制による変換効率向上、酸化チタン表面への酸化還元種接近による電圧低下抑制の効果を奏することができる。 It is preferable that Y represents S, NCH 3 , or C (CH 3 ) 2 and Z represents an aliphatic group having 5 to 18 carbon atoms. Z is preferably pentyl, hexyl, heptyl, 3,5,5-trimethylhexyl, decyl, octadecyl, more preferably decyl, octadecyl. Thereby, the conversion efficiency improvement by inefficient association suppression and the effect of the voltage drop suppression by the oxidation-reduction seed | species approach to the titanium oxide surface can be show | played.

前記一般式(7)〜(10)において、前記Yは、S、NCH、又はC(CHを表し、ZがCH、C、C、又はCHCHCOOHを表すことが好ましい。これにより、電子注入効率向上の効果が得られる。 In the general formulas (7) to (10), Y represents S, NCH 3 , or C (CH 3 ) 2 , and Z is CH 3 , C 2 H 5 , C 3 H 7 , or CH 2 CH. It preferably represents 2 COOH. As a result, the effect of improving the electron injection efficiency can be obtained.

前記一般式(7)〜(10)において、Vは酸性基を有することが好ましい。ここで酸性基とは、解離性のプロトンを有する置換基であり、例えば、カルボキシ、ホスホニル、スルホニル基、ホウ酸基などを有する基が挙げられる。Vは酸性基の塩であってもよい。
は水素原子、5−カルボキシ基、5−スルホニル基、5−メチル基又は4,5−ベンゼン環縮合を有することが好ましい。なお、ここで位置番号は、Nを1とし、反時計回りに付けるものである。
これにより、モル吸光係数向上または電子注入効率向上の効果が得られる。
ただし、本発明では、V における酸性基は、カルボキシ基もしくはその塩である。
In the general formulas (7) to (10), V 1 preferably has an acidic group. Here, the acidic group is a substituent having a dissociative proton, and examples thereof include a group having a carboxy group , a phosphonyl, a sulfonyl group, a boric acid group, and the like. V 1 may be an acid group salt.
V 1 was a hydrogen atom, 5-carboxy sheet group, 5-sulfonyl group, to have 5-methyl or 4,5-benzene-fused preferred. Here, the position number is given counterclockwise, with N + being 1.
Thereby, the effect of improving the molar extinction coefficient or improving the electron injection efficiency is obtained.
However, in the present invention, the acidic group in V 1 is a carboxy group or a salt thereof.

一般式(1)で表される本発明の色素は、テトラヒドロフラン:エタノール=1:1溶液における極大吸収波長が、好ましくは670〜1100nmの範囲であり、より好ましくは700〜900nmの範囲である。
以下に本発明の一般式(1)で表される化合物の好ましい具体例を示すが、本発明がこれに限定されるものではない。
なお、化合物S−1〜S−8、S−10〜S−12、S−15〜S−24、S−26〜S−28、S−33は参考例である。
In the dye of the present invention represented by the general formula (1), the maximum absorption wavelength in a tetrahydrofuran: ethanol = 1: 1 solution is preferably in the range of 670 to 1100 nm, more preferably in the range of 700 to 900 nm.
Although the preferable specific example of a compound represented by General formula (1) of this invention below is shown, this invention is not limited to this.
Compounds S-1 to S-8, S-10 to S-12, S-15 to S-24, S-26 to S-28, and S-33 are reference examples.

Figure 0005620315
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一般式(1)の構造を有する色素の合成は、Ukrainskii Khimicheskii Zhurnal 第40巻3号253〜258頁、Dyes and Pigments 第21巻227〜234頁及びこれらの文献中に引用された文献の記載等を参考にして行うことができる。   Synthesis of the dye having the structure of the general formula (1) is described in Ukrainski Kimicheskii Zhurnal, Vol. 40, No. 3, pages 253-258, Dyes and Pigments, Vol. Can be done with reference to.

(A2)一般式(2)で表される構造を有する色素
本発明の光電変換素子及び光電気化学電池においては、上記一般式(1)で表される化合物からなる色素の少なくとも1種とともに下記一般式(2)で表される化合物からなる色素の少なくとも1種を用いる。

M(LL)m(LL)m(X)m・CI 一般式(2)

一般式()の色素は、金属原子に、配位子LL及び/又は配位子LLと、場合により特定の官能基Xが配位しており、必要な場合はCIにより電気的に中性に保たれている。
(A2−1)金属原子M
Mは金属原子を表す。Mは好ましくは4配位または6配位が可能な金属であり、より好ましくはRu、Fe、Os、Cu、W、Cr、Mo、Ni、Pd、Pt、Co、Ir、Rh、Re、Mn又はZnである。特に好ましくは、Ru、Os、Zn又はCuであり、最も好ましくはRuであり、本発明では、Ruである。
(A2) Dye having a structure represented by the general formula (2) In the photoelectric conversion element and the photoelectrochemical cell of the present invention, the dye is composed of the compound represented by the general formula (1) and at least one kind of the following dye. At least one dye composed of the compound represented by the general formula (2) is used.

M (LL 1 ) m 1 (LL 2 ) m 2 (X) m 3 · CI General formula (2)

In the dye of the general formula ( 2 ), the ligand LL 1 and / or the ligand LL 2 and optionally a specific functional group X are coordinated to a metal atom. It is kept neutral.
(A2-1) Metal atom M
M represents a metal atom. M is preferably a metal capable of tetracoordinate or hexacoordinate, and more preferably Ru, Fe, Os, Cu, W, Cr, Mo, Ni, Pd, Pt, Co, Ir, Rh, Re, Mn Or it is Zn. Particularly preferred are Ru, Os, Zn or Cu, most preferably Ri Ru der, in the present invention, Ru Ru der.

(A2−2)配位子LL
配位子LLは、下記一般式(3)により表される2座または3座の配位子により表される2座または3座の配位子であり、好ましくは2座配位子である。配位子LLの数を表すmは0〜3の整数であり、1〜3であるのが好ましく、1であるのがより好ましい。mが2以上のとき、LLは同じでも異なっていてもよい。ただし、mと、後述の配位子LLの数を表すmのうち少なくとも一方は1以上の整数である。したがって金属原子に、配位子LL及び/又は配位子LLが配位している。
一般式(3)中のR及びR10はそれぞれ独立に酸性基又はその塩を表し、例えばカルボキシル基、スルホン酸基、ヒドロキシル基、ヒドロキサム酸基(好ましくは炭素原子数1〜20のヒドロキサム酸基、例えば、―CONHOH、―CONCHOH等)、ホスホリル基(例えば―OP(O)(OH)等)及びホスホニル基(例えば―P(O)(OH)等)並びにこれらの塩が挙げられ、好ましくはカルボキシル基、ホスホニル基であり、より好ましくはカルボキシル基が挙げられる。RおよびR13はピリジン環上のどの炭素原子に置換してもよい。

Figure 0005620315
(A2-2) Ligand LL 1
The ligand LL 1 is a bidentate or tridentate ligand represented by the bidentate or tridentate ligand represented by the following general formula (3), preferably a bidentate ligand. is there. M 1 representing the number of ligands LL 1 is an integer of 0 to 3, preferably from 1 to 3, and more preferably 1. When m 1 is 2 or more, LL 1 may be the same or different. However, at least one of m 1 and m 2 representing the number of ligands LL 2 described later is an integer of 1 or more. Thus the metal atom, the ligand LL 1 and / or ligand LL 2 is coordinated.
R 9 and R 10 in the general formula (3) each independently represent an acidic group or a salt thereof, for example, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a hydroxyl group, a hydroxamic acid group (preferably a hydroxamic acid having 1 to 20 carbon atoms) Groups such as —CONHOH, —CONCH 3 OH, etc.), phosphoryl groups (eg —OP (O) (OH) 2 etc.) and phosphonyl groups (eg —P (O) (OH) 2 etc.) and salts thereof Preferably, they are a carboxyl group and a phosphonyl group, More preferably, a carboxyl group is mentioned. R 9 and R 13 may be substituted on any carbon atom on the pyridine ring.
Figure 0005620315

式中、R11、R12はそれぞれ独立に置換基を表し、好ましくはアルキル基(好ましくは炭素原子数1〜20のアルキル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘプチル、1−エチルペンチル、ベンジル、2−エトキシエチル、1−カルボキシメチル等)、アルケニル基(好ましくは炭素原子数2〜20のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、オレイル等)、アルキニル基(好ましくは炭素原子数2〜20のアルキニル基、例えば、エチニル、ブタジイニル、フェニルエチニル等)、シクロアルキル基(好ましくは炭素原子数3〜20のシクロアルキル基、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル等)、アリール基(好ましくは炭素原子数6〜26のアリール基、例えば、フェニル、1−ナフチル、4−メトキシフェニル、2−クロロフェニル、3−メチルフェニル等)、ヘテロ環基(好ましくは炭素原子数2〜20のヘテロ環基、例えば、2−ピリジル、4−ピリジル、2−イミダゾリル、2−ベンゾイミダゾリル、2−チアゾリル、2−オキサゾリル等)、アルコキシ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等)、アリールオキシ基(好ましくは炭素原子数6〜26のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、1−ナフチルオキシ、3−メチルフェノキシ、4−メトキシフェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素原子数2〜20のアルコキシカルボニル基、例えば、エトキシカルボニル、2−エチルヘキシルオキシカルボニル等)、アミノ基(好ましくは炭素原子数0〜20のアミノ基、例えば、アミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N−エチルアミノ、アニリノ等)、スルホンアミド基(好ましくは炭素原子数0〜20のスルホンアミド基、例えば、N,N−ジメチルスルホンアミド、N−フェニルスルホンアミド等)、アシルオキシ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアシルオキシ基、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等)、カルバモイル基(好ましくは炭素原子数1〜20のカルバモイル基、例えば、N,N−ジメチルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル等)、アシルアミノ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアシルアミノ基、例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、シアノ基、又はハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)であり、より好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基又はハロゲン原子であり、特に好ましくはアルキル基、アルケニル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基又はシアノ基である。 In the formula, R 11 and R 12 each independently represent a substituent, preferably an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl, isopropyl, t-butyl, pentyl, heptyl, 1 -Ethylpentyl, benzyl, 2-ethoxyethyl, 1-carboxymethyl, etc.), alkenyl groups (preferably alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms such as vinyl, allyl, oleyl etc.), alkynyl groups (preferably carbon atoms) C2-C20 alkynyl groups such as ethynyl, butadiynyl, phenylethynyl, etc., cycloalkyl groups (preferably C3-C20 cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, 4-methylcyclohexyl, etc.) ), An aryl group (preferably an ant having 6 to 26 carbon atoms) Group such as phenyl, 1-naphthyl, 4-methoxyphenyl, 2-chlorophenyl, 3-methylphenyl and the like, a heterocyclic group (preferably a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, such as 2-pyridyl, 4-pyridyl, 2-imidazolyl, 2-benzimidazolyl, 2-thiazolyl, 2-oxazolyl, etc.), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, isopropyloxy, benzyloxy, etc.) An aryloxy group (preferably an aryloxy group having 6 to 26 carbon atoms such as phenoxy, 1-naphthyloxy, 3-methylphenoxy, 4-methoxyphenoxy, etc.), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 2 carbon atoms) 20 alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl, 2 Ethylhexyloxycarbonyl, etc.), amino group (preferably an amino group having 0-20 carbon atoms, such as amino, N, N-dimethylamino, N, N-diethylamino, N-ethylamino, anilino, etc.), sulfonamide group (Preferably a sulfonamide group having 0 to 20 carbon atoms, such as N, N-dimethylsulfonamide, N-phenylsulfonamide, etc.), an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, for example, acetyl Oxy, benzoyloxy and the like), a carbamoyl group (preferably a carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, etc.), an acylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms). An acylamino group such as acetylamino, benzoylamino, etc.), A cyano group or a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc.), more preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group An amino group, an acylamino group, a cyano group or a halogen atom, particularly preferably an alkyl group, an alkenyl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an amino group, an acylamino group or a cyano group.

配位子LLがアルキル基、アルケニル基等を含むとき、これらは直鎖状でも分岐状でもよく、置換されていても無置換でもよい。また配位子LLがアリール基、ヘテロ環基等を含むとき、それらは単環でも縮環でもよく、置換されていても無置換でもよい。 When the ligand LL 1 contains an alkyl group, an alkenyl group or the like, these may be linear or branched, and may be substituted or unsubstituted. Further, when the ligand LL 1 contains an aryl group, a heterocyclic group or the like, they may be monocyclic or condensed and may be substituted or unsubstituted.

一般式(3)中、R13およびR14はそれぞれ独立に、アルキル基(好ましくは炭素原子数1〜20のアルキル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘプチル、1−エチルペンチル、ベンジル、2−エトキシエチル、1−カルボキシメチル等)、アルケニル基(好ましくは炭素原子数2〜20のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、オレイル等)、芳香族基(好ましくは炭素原子数6〜30の芳香族基、例えば、フェニル、置換フェニル、ナフチル、置換ナフチル等)又はヘテロ環基(好ましくは炭素原子数1〜30のヘテロ環基、例えば、2−チエニル、2−ピロリル、2−イミダゾリル、1−イミダゾリル、4−ピリジル、3−インドリル)が好ましい。R13およびR14は、ヘテロ環基又はヘテロ環が縮環した炭素環芳香族基であることが好ましい。ヘテロ環が縮環した炭素環芳香族基としては、例えば、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、インドール、ベンゾチオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾジチオフェンなどを挙げることができる。R13およびR14は複数のヘテロ環を有することが好ましい。複数のヘテロ環を有するものとしては、例えば、チエノチオフェン、ジチエノチオフェンなどを挙げることができる。ヘテロ環基はチオフェン環、ピロール環及びフラン環からなる群から選ばれた少なくとも1種であることが好ましい。ヘテロ環基には、電子供与基を有することが好ましい。さらに好ましくは、1〜3個の電子供与基を有することが好ましい。該電子供与基はとしては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基(以上好ましい例はR11及びR12の場合と同様)またはヒドロキシル基であるのが好ましく、アルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基であるのがより好ましく、アルキル基、アルキニル基であるのが特に好ましい。R13とR14は同じであっても異なっていてもよいが、同じであるのが好ましい。 In the general formula (3), R 13 and R 14 are each independently an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl, isopropyl, t-butyl, pentyl, heptyl, 1-ethyl. Pentyl, benzyl, 2-ethoxyethyl, 1-carboxymethyl, etc.), alkenyl groups (preferably alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms, such as vinyl, allyl, oleyl, etc.), aromatic groups (preferably carbon atoms) 6-30 aromatic groups, such as phenyl, substituted phenyl, naphthyl, substituted naphthyl, etc., or heterocyclic groups (preferably having 1-30 carbon atoms, such as 2-thienyl, 2-pyrrolyl, 2 -Imidazolyl, 1-imidazolyl, 4-pyridyl, 3-indolyl) are preferred. R 13 and R 14 are preferably a heterocyclic group or a carbocyclic aromatic group in which the heterocyclic ring is condensed. Examples of the carbocyclic aromatic group condensed with a heterocycle include benzofuran, isobenzofuran, indole, benzothiophene, benzimidazole, benzothiazole, and benzodithiophene. R 13 and R 14 preferably have a plurality of heterocycles. Examples of those having a plurality of heterocycles include thienothiophene and dithienothiophene. The heterocyclic group is preferably at least one selected from the group consisting of a thiophene ring, a pyrrole ring and a furan ring. The heterocyclic group preferably has an electron donating group. More preferably, it has 1 to 3 electron donating groups. Examples of the electron donating group include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an amino group, and an acylamino group (the preferred examples are the same as those for R 11 and R 12 ). Or an hydroxyl group, more preferably an alkyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group or an amino group, and particularly preferably an alkyl group or an alkynyl group. R 13 and R 14 may be the same or different, but are preferably the same.

13とR14は、直接ピリジン環に結合していてもよい。R13とR14が直接ピリジン環に結合しているものとしては、下記一般式(5−1)において、R41及びR42の少なくとも一方は、アルキル基(例えば、置換又は無置換の炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−オクチル、n−ノニル、n−ドデシル、シクロヘキシル、ベンジル等)、アルキニル基又はアリール基を挙げることができる。ここで、一般式(5−1)におけるR、R10、R11、R12、a1、a2、b1及びb2は、前記一般式(3)におけるものと同義である。 R 13 and R 14 may be directly bonded to the pyridine ring. As for R 13 and R 14 directly bonded to the pyridine ring, in the following general formula (5-1), at least one of R 41 and R 42 is an alkyl group (for example, a substituted or unsubstituted carbon number). 1-20 alkyl groups (for example, methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, n-octyl, n-nonyl, n-dodecyl, cyclohexyl, benzyl, etc.), alkynyl groups In the formula (5-1), R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , a1, a2, b1 and b2 are the same as those in the formula (3). It is synonymous.

Figure 0005620315
Figure 0005620315

13とR14は、L及び/又はLを介してピリジン環に結合していてもよい。前記一般式(3)において、d1及びd2はそれぞれ0以上の整数を表す。d1及びd2がともに1以上の整数であることが好ましい。d1及びd2は好ましくは、1〜3の整数、さらに好ましくは、1〜2の整数である。ここでL及びLはそれぞれ独立に、置換若しくは無置換のエテニレン基及び/又はエチニレン基からなる共役鎖を表す。エテニレン基が置換基を有する場合、該置換基はアルキル基であるのが好ましく、メチルであるのがより好ましい。L及びLはそれぞれ独立に、炭素原子数2〜6個の共役鎖であるのが好ましく、エテニレン、ブタジエニレン、エチニレン、ブタジイニレン、メチルエテニレン又はジメチルエテニレンがより好ましく、エテニレン又はブタジエニレンが特に好ましく、エテニレンが最も好ましい。LとLは同じであっても異なっていてもよいが、同じであるのが好ましい。なお、共役鎖が炭素―炭素二重結合を含む場合、各二重結合はトランス体であってもシス体であってもよく、これらの混合物であってもよい。 R 13 and R 14 may be bonded to the pyridine ring via L 1 and / or L 2 . In the general formula (3), d1 and d2 each represents an integer of 0 or more. It is preferable that d1 and d2 are both integers of 1 or more. d1 and d2 are preferably an integer of 1 to 3, more preferably an integer of 1 to 2. Here, L 1 and L 2 each independently represent a conjugated chain composed of a substituted or unsubstituted ethenylene group and / or an ethynylene group. When the ethenylene group has a substituent, the substituent is preferably an alkyl group, and more preferably methyl. L 1 and L 2 are each independently preferably a conjugated chain having 2 to 6 carbon atoms, more preferably ethenylene, butadienylene, ethynylene, butadienylene, methylethenylene or dimethylethenylene, particularly ethenylene or butadienylene. Preferably, ethenylene is most preferred. L 1 and L 2 may be the same or different, but are preferably the same. When the conjugated chain contains a carbon-carbon double bond, each double bond may be a trans isomer, a cis isomer, or a mixture thereof.

nは0または1であり、a1及びa2はそれぞれ独立に0〜3の整数を表す。a1が2以上のときRは同じでも異なっていてもよく、a2が2以上のときR10は同じでも異なっていてもよい。a1は0又は1であるのが好ましく、a2は0〜2の整数であるのが好ましい。特に、nが0のときa2は1又は2であるのが好ましく、nが1のときa2は0又は1であるのが好ましい。a1とa2の和は0〜2の整数であるのが好ましい。 n is 0 or 1, and a1 and a2 each independently represent an integer of 0 to 3. a1 is may be the R 9 when 2 or more be the same or different, a2 is the R 10 when two or more may be the same or different. a1 is preferably 0 or 1, and a2 is preferably an integer of 0 to 2. In particular, when n is 0, a2 is preferably 1 or 2, and when n is 1, a2 is preferably 0 or 1. The sum of a1 and a2 is preferably an integer of 0-2.

b1及びb2はそれぞれ独立に0〜3の整数を表し、0〜2の整数であるのが好ましい。b1が2以上のとき、R12は同じでも異なっていてもよく、互いに連結して環を形成していてもよい。b2が2以上のとき、R13は同じでも異なっていてもよく、互いに連結して環を形成していてもよい。またb1及びb2がともに1以上のとき、R12とR13が連結して環を形成していてもよい。形成する環の好ましい例としては、ベンゼン環、ピリジン環、チオフェン環、ピロール環、シクロヘキサン環、シクロペンタン環等が挙げられる。
a1とa2の和が1以上であって、配位子LLが酸性基又はその塩を少なくとも1個有するときは、一般式(8)中のm1は2または3であるのが好ましく、2であるのがより好ましい。
b1 and b2 each independently represent an integer of 0 to 3, preferably an integer of 0 to 2. When b1 is 2 or more, R 12 may be the same or different and may be connected to each other to form a ring. When b2 is 2 or more, R 13 may be the same or different and may be connected to each other to form a ring. When both b1 and b2 are 1 or more, R 12 and R 13 may be linked to form a ring. Preferable examples of the ring to be formed include a benzene ring, a pyridine ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a cyclohexane ring, a cyclopentane ring and the like.
A is the sum of a1 and a2 is 1 or more, when the ligand LL 1 is having at least one acidic group or a salt thereof is preferably m1 in formula (8) is 2 or 3, 2 It is more preferable that

前記一般式(1)におけるLLが、下記一般式(5−2)で表されることが好ましい。

Figure 0005620315
[ 一般式(5−2)におけるR、R10、R11、R12、a1、a2、b1及びb2は、一般式(3)におけるものと同義である。R51及びR52は置換基である。nは1以上の整数を表す。] LL 1 in the general formula (1) is preferably represented by the following general formula (5-2).
Figure 0005620315
[R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , a1, a2, b1 and b2 in General Formula (5-2) have the same meanings as in General Formula (3). R 51 and R 52 are substituents. n represents an integer of 1 or more. ]

置換基R51及びR52は前記一般式(3)中におけるR13およびR14と同様のものを挙げることができる。置換基R51及びR52としては、脂肪族基(例えば、置換又は無置換の炭素数1〜20のアルキル基(例えばメチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−オクチル、n−ノニル、n−ドデシル、シクロヘキシル、ベンジル等)、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基(以上好ましい例は一般式(3)におけるR13およびR14の場合と同様)又はヒドロキシル基であり、より好ましくは、アルキル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基であり、さらに好ましくは、前記R51及びR52のうち少なくとも一方が、アルキル基、アルキニル基、アリール基、アルケニル基からなる群から選ばれた少なくとも1種であることが好ましい。この中でもアルキル基、アルキニル基が好ましい。 Examples of the substituents R 51 and R 52 are the same as those of R 13 and R 14 in the general formula (3). Examples of the substituents R 51 and R 52 include aliphatic groups (for example, substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl, isobutyl, sec-butyl, t -Butyl, n-octyl, n-nonyl, n-dodecyl, cyclohexyl, benzyl, etc.), alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, amino group, acylamino group (more preferred examples) a case similar) or hydroxyl groups of R 13 and R 14 in the general formula (3), more preferably an alkyl group, an alkynyl group, an aryl group, an amino group, more preferably, the R 51 and R at least one of 52, an alkyl group, an alkynyl group, an aryl group, selected from the group consisting of an alkenyl group Was is preferably at least one. Among these alkyl groups, alkynyl groups are preferred.

前記一般式(1)におけるLLが、下記一般式(5−3)で表されることが好ましい。ここで、(5−3)におけるR、R10、R11、R12、a1、a2、b1及びb2は、一般式(3)におけるものと同義である。nは1以上の整数を表し、R51、R52、R53及びR54は、置換基を表す。置換基R53及びR54としては前記一般式(3)中におけるR13およびR14と同様のものを挙げることができる。置換基R53及びR54としては、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基(以上好ましい例は上記一般式(3)におけるRの場合と同様)又はヒドロキシル基を挙げることができる。前記R53及びR54のうち少なくとも一方が、アルキル基、アルキニル基及びアリール基からなる群から選ばれた少なくとも1種であることが好ましい。 LL 1 in the general formula (1) is preferably represented by the following general formula (5-3). Here, R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , a1, a2, b1, and b2 in (5-3) have the same meanings as in general formula (3). n represents an integer of 1 or more, and R 51 , R 52 , R 53, and R 54 represent a substituent. Examples of the substituents R 53 and R 54 include the same groups as R 13 and R 14 in the general formula (3). As the substituents R 53 and R 54 , an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an amino group, an acylamino group (preferred examples are the general formula (3 can be exemplified when the same) or hydroxyl group R 9 in). It is preferable that at least one of R 53 and R 54 is at least one selected from the group consisting of an alkyl group, an alkynyl group, and an aryl group.

Figure 0005620315
Figure 0005620315

前記一般式(1)におけるLLが、下記一般式(5−4)又は(5−5)で表されることが好ましい。
下記一般式(5−4)及び(5−5)において、R、R10、R11、R12、a1、a2、b1及びb2は、一般式(3)におけるものと同義である。R61、R62、R71、R72、R73及びR74は、置換基を表す。f1及びf2は0以上の整数を表す。nは1以上の整数を表す。置換基R61、R62、R71、R72、R73及びR74は前記一般式(3)中におけるR13およびR14と同様のものを挙げることができる。
61、R62としては、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基(以上好ましい例は上記一般式(3)におけるR13およびR14の場合と同様)又はヒドロキシル基である。置換基R61、R62としては、好ましくは、アルキル基、アミノ基である。
LL 1 in the general formula (1) is preferably represented by the following general formula (5-4) or (5-5).
In the following general formulas (5-4) and (5-5), R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , a1, a2, b1 and b2 have the same meanings as in general formula (3). R 61 , R 62 , R 71 , R 72 , R 73 and R 74 represent a substituent. f1 and f2 represent an integer of 0 or more. n represents an integer of 1 or more. Examples of the substituents R 61 , R 62 , R 71 , R 72 , R 73, and R 74 are the same as R 13 and R 14 in the general formula (3).
As R 61 and R 62 , an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, and an acylamino group (preferred examples are R 13 in the general formula (3) and As in R 14 ) or a hydroxyl group. The substituents R 61 and R 62 are preferably an alkyl group and an amino group.

一般式(5−5)中、R71〜R74は、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基又はアシルアミノ基(以上好ましい例は、一般式(3)における上記R13およびR14の場合と同様)であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アミノ基またはアシルアミノ基である。 In the general formula (5-5), R 71 to R 74 are preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, or an acylamino group. R 13 and R 14 in the formula (3)), and more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or an acylamino group.

一般式(5−4)及び(5−5)中、R71〜R74はそれぞれ独立に、水素、アルキル基、アルケニル基又はアリール基であることが好ましい。R71〜R74のさらに好ましい例は、一般式(3)における上記R13及びR14の好ましい例と同様である。R71〜R74はさらに好ましくは、アルキル基又はアリール基であり、より好ましくはアルキル基である。R71〜R74がアルキル基である場合はさらに置換基を有していてもよく、該置換基としてはアルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基またはカルボンアミド基が好ましく、アルコキシ基が特に好ましい。R71とR72並びにR73とR74はそれぞれ互いに連結して環を形成していてもよい。形成する環としてはピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、又はモルホリン環等が好ましい。 In general formulas (5-4) and (5-5), R 71 to R 74 are preferably each independently hydrogen, an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group. Further preferred examples of R 71 to R 74 are the same as the preferred examples of R 13 and R 14 in formula (3). R 71 to R 74 are more preferably an alkyl group or an aryl group, and more preferably an alkyl group. When R 71 to R 74 are alkyl groups, they may further have a substituent, and the substituent is preferably an alkoxy group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group or a carbonamido group, particularly preferably an alkoxy group. R 71 and R 72 and R 73 and R 74 may be connected to each other to form a ring. As the ring to be formed, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a piperazine ring, a morpholine ring or the like is preferable.

一般式(5−5)中、R15は一般式(3)におけるR10と同義であり、R16は一般式(3)におけるR10と同義である。a3は0〜3の整数を表し、好ましくは0〜2の整数を表す。nが1のときa3は0または1であるのが好ましい。a3が2以上のときR15は同じでも異なっていてもよい。 In the general formula (5-5), R 15 has the same meaning as R 10 in the general formula (3), R 16 has the same meaning as R 10 in the general formula (3). a3 represents an integer of 0 to 3, preferably an integer of 0 to 2. When n is 1, a3 is preferably 0 or 1. a3 is 2 or more when R 15 may be the same or different.

一般式(5−4)及び(5−5)中、d1及びd2はそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。d1が1以上のときR21は、R17及び/又はR18と連結して環を形成していてもよい。形成される環はピペリジン環又はピロリジン環であるのが好ましい。d1が2以上のときR21は同じでも異なっていてもよく、互いに連結して環を形成していてもよい。d2が1以上のときR22は、R19及び/又はR20と連結して環を形成していてもよい
形成される環はピペリジン環又はピロリジン環であるのが好ましい。d2が2以上のときR22は同じでも異なっていてもよく、互いに連結して環を形成していてもよい。
In general formulas (5-4) and (5-5), d1 and d2 each independently represent an integer of 0 to 4. When d1 is 1 or more, R 21 may be linked to R 17 and / or R 18 to form a ring. The ring formed is preferably a piperidine ring or a pyrrolidine ring. When d1 is 2 or more, R 21 may be the same or different, and may be connected to each other to form a ring. When d2 is 1 or more, R 22 may be linked to R 19 and / or R 20 to form a ring. The ring formed is preferably a piperidine ring or a pyrrolidine ring. When d2 is 2 or more, R 22 may be the same or different, and may be linked to each other to form a ring.

一般式(5−5)中、b3は0〜5の整数を表し、好ましくは0〜3の整数を表す。b3は1〜3の整数であるのが好ましい。b3が2以上のときR16は同じでも異なっていてもよく、互いに連結して環を形成していてもよい。一般式(5−5)中のb1及びb3がともに1以上のとき、R11とR16が連結して環を形成していてもよい。形成される環としてはベンゼン環、シクロペンタン環又はシクロヘキサン環が好ましい。

Figure 0005620315
Figure 0005620315
なお、本発明においては、配位子LL は前記一般式(5−3)で表される2座の配位子であって、該一般式(5−3)において、R およびR 10 はそれぞれ独立に、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基、ヒドロキサム酸基、ホスホリル基もしくはホスホニル基またはこれらの塩であり、R 11 およびR 12 はそれぞれ独立に置換基である。a1、a2、b1およびb2は0である。nは1である。R 53 およびR 54 はアルキニル基またはアリール基である。
また、一般式(2)におけるm は1である。
In general formula (5-5), b3 represents the integer of 0-5, Preferably the integer of 0-3 is represented. b3 is preferably an integer of 1 to 3. When b3 is 2 or more, R 16 may be the same or different, and may be connected to each other to form a ring. When b1 and b3 in general formula (5-5) are both 1 or more, R 11 and R 16 may be linked to form a ring. As the ring formed, a benzene ring, a cyclopentane ring or a cyclohexane ring is preferable.
Figure 0005620315
Figure 0005620315
In the present invention, the ligand LL 1 is a bidentate ligand represented by the general formula (5-3), and in the general formula (5-3), R 9 and R 10 Are each independently a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, a hydroxamic acid group, a phosphoryl group or a phosphonyl group, or a salt thereof, and R 11 and R 12 are each independently a substituent. a1, a2, b1 and b2 are 0. n is 1. R 53 and R 54 are an alkynyl group or an aryl group.
Further, m 1 in the general formula (2) is 1.

(A2−3)配位子LL
一般式(2)中、LLは2座又は3座の配位子を表す。配位子LLの数を表すmは0〜2の整数であり、0又は1であるのが好ましい。mが2のときLLは同じでも異なっていてもよい。ただし、mと、前述の配位子LLの数を表すmのうち少なくとも一方は1以上の整数である。
配位子LLは、下記一般式(4)で表される2座又は3座の配位子である。

Figure 0005620315
一般式(4)中、Za、Zb及びZcはそれぞれ独立に、5員環又は6員環を形成しうる非金属原子群を表す。形成される5員環又は6員環は置換されていても無置換でもよく、単環でも縮環していてもよい。Za、Zb及びZcは炭素原子、水素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子及び/又はハロゲン原子で構成されることが好ましく、芳香族環を形成するのが好ましい。5員環の場合はイミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環又はトリアゾール環を形成するのが好ましく、6員環の場合はピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環又はピラジン環を形成するのが好ましい。なかでもイミダゾール環又はピリジン環がより好ましい。
一般式(4)中、cは0または1を表す。cは0であるのが好ましく、LLは2座配位子であるのが好ましい。 (A2-3) Ligand LL 2
In the general formula (2), LL 2 represents a bidentate or tridentate ligand. M 2 representing the number of ligands LL 2 is an integer of 0 to 2, is preferably 0 or 1. When m 2 is 2, LL 2 may be the same or different. However, at least one is an integer equal to or greater than 1 among m 2 and m 1 representing the number of the ligand LL 1 described above.
Ligand LL 2 is a bidentate or tridentate ligand represented by the following general formula (4).
Figure 0005620315
In General Formula (4), Za, Zb, and Zc each independently represent a nonmetallic atom group that can form a 5-membered ring or a 6-membered ring. The formed 5-membered or 6-membered ring may be substituted or unsubstituted, and may be monocyclic or condensed. Za, Zb and Zc are preferably composed of a carbon atom, a hydrogen atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom and / or a halogen atom, and preferably form an aromatic ring. In the case of a 5-membered ring, an imidazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring or a triazole ring is preferably formed. In the case of a 6-membered ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring or a pyrazine ring is preferably formed. Of these, an imidazole ring or a pyridine ring is more preferable.
In general formula (4), c represents 0 or 1. c is preferably 0, and LL 2 is preferably a bidentate ligand.

配位子LLは、下記一般式(6−1)〜(6−8)のいずれかにより表されるのが好ましく、一般式(6−1)、(6−2)、(6−4)又は(6−6)により表されるのがより好ましく、一般式(6−1)又は(6−2)により表されるのが特に好ましく、一般式(6−1)により表されるのが最も好ましい。

Figure 0005620315
Ligand LL 2 is preferably represented by any of the following general formula (6-1) to (6-8), the formula (6-1), (6-2), (6-4 ) Or (6-6), more preferably represented by formula (6-1) or (6-2), and represented by formula (6-1). Is most preferred.
Figure 0005620315

一般式(6−1)〜(6−8)中、R25〜R32はそれぞれ独立に酸性基又はその塩を表す。R25〜R32は、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、ヒドロキシル基、ヒドロキサム酸基(好ましくは炭素原子数1〜20のヒドロキサム酸基、例えば―CONHOH、―CONCHOH等)、ホスホリル基(例えば―OP(O)(OH)等)若しくはホスホニル基(例えば―P(O)(OH)等)又はこれらの塩を表す。R25〜R32は、好ましくはカルボキシル基、ホスホリル基又はホスホニル基等、さらに好ましくはカルボキシル基又はホスホニル基であり、より好ましくはカルボキシル基である。 In general formulas (6-1) to (6-8), R 25 to R 32 each independently represents an acidic group or a salt thereof. R 25 to R 32 are, for example, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a hydroxyl group, a hydroxamic acid group (preferably a hydroxamic acid group having 1 to 20 carbon atoms, such as —CONHOH, —CONCH 3 OH, etc.), phosphoryl group ( For example, —OP (O) (OH) 2 etc.) or a phosphonyl group (eg —P (O) (OH) 2 etc.) or a salt thereof is represented. R 25 to R 32 are preferably a carboxyl group, a phosphoryl group, or a phosphonyl group, more preferably a carboxyl group or a phosphonyl group, and more preferably a carboxyl group.

一般式(6−1)〜(6−8)中、R33〜R40はそれぞれ独立に置換基を表し、好ましくはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシル基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子(以上好ましい例は、一般式(3)におけるR13及びR14の場合と同様)であり、より好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基またはハロゲン原子であり、特に好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基またはアシルアミノ基である。 In general formulas (6-1) to (6-8), R 33 to R 40 each independently represent a substituent, preferably an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, or an alkoxy group. , Aryloxy group, alkoxycarbonyl group, amino group, acyl group, sulfonamido group, acyloxy group, carbamoyl group, acylamino group, cyano group or halogen atom (above preferred examples are R 13 and R 14 in formula (3)) More preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an amino group, an acylamino group or a halogen atom, particularly preferably an alkyl group or an alkenyl group. An alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an amino group, or an acylamino group. .

一般式(6−1)〜(6−8)中、R41〜R45はそれぞれ独立に水素原子、脂肪族基、芳香族基、炭素原子で結合するヘテロ環基を表し。好ましくは、脂肪族基、芳香族基であり。より好ましくはカルボキシル基を有する脂肪族基である。配位子LLがアルキル基、アルケニル基等を含むとき、それらは直鎖状でも分岐状でもよく、置換されていても無置換でもよい。また、LLがアリール基、ヘテロ環基等を含むとき、それらは単環でも縮環でもよく、置換されていても無置換でもよい。 In formulas (6-1) to (6-8), R 41 to R 45 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group bonded with a carbon atom. Of these, an aliphatic group and an aromatic group are preferable. More preferably, it is an aliphatic group having a carboxyl group. When the ligand LL 2 contains an alkyl group, an alkenyl group or the like, they may be linear or branched and may be unsubstituted substituted. Further, LL 2 is an aryl group, when containing heterocyclic group, they may be a condensed ring may be monocyclic or unsubstituted substituted.

一般式(6−1)〜(6−8)中、R25〜R40は環上のどの位置に結合していてもよい。またe1〜e6はそれぞれ独立に0〜4の整数を表し、好ましくは0〜2の整数を表す。e7及びe8はそれぞれ独立に0〜4の整数を表し、好ましくは0〜3の整数を表す。e9〜e12及びe15はそれぞれ独立に0〜6の整数を表し、e13、e14及びe16はそれぞれ独立に0〜4の整数を表す。e9〜e16はそれぞれ独立に0〜3の整数であるのが好ましい。 In general formulas (6-1) to (6-8), R 25 to R 40 may be bonded to any position on the ring. E1 to e6 each independently represents an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2. e7 and e8 each independently represents an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 3. e9 to e12 and e15 each independently represents an integer of 0 to 6, and e13, e14 and e16 each independently represents an integer of 0 to 4. e9 to e16 are each independently preferably an integer of 0 to 3.

e1〜e8が2以上のとき、R25〜R32はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、e9〜e16が2以上のとき、R33〜R40はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに連結して環を形成していてもよい。
なお、本発明においては、配位子LL は前記一般式(4)で表される2座の配位子であって、該一般式(4)において、Za、ZbおよびZcはそれぞれ独立に、ピリジン環を形成しうる非金属原子群であって、それぞれ独立にカルボキシ基およびその塩から選択される酸性基を有していてもよい。cは0である。
また、一般式(2)におけるm は1である。
When e1 to e8 is 2 or more, R 25 to R 32 may be the same or different, and when e9 to e16 is 2 or more, R 33 to R 40 may be the same or different and are connected to each other. To form a ring.
In the present invention, the ligand LL 2 is a bidentate ligand represented by the general formula (4), and in the general formula (4), Za, Zb and Zc are each independently And a non-metal atom group capable of forming a pyridine ring, each of which may independently have an acidic group selected from a carboxy group and a salt thereof. c is 0.
Further, m 2 in the general formula (2) is 1.

(A2−4)配位子X
一般式(2)中、Xは1座又は2座の配位子を表す。配位子Xの数を表すmは0〜2の整数を表し、mは好ましくは1又は2である。Xが1座配位子のとき、mは2であるのが好ましく、Xが2座配位子のとき、mは1であるのが好ましい。mが2のとき、Xは同じでも異なっていてもよく、X同士が連結していてもよい。
(A2-4) Ligand X
In general formula (2), X represents a monodentate or bidentate ligand. M 3 representing the number of ligands X represents an integer of 0 to 2, and m 3 is preferably 1 or 2. When X is a monodentate ligand, m 3 is preferably 2. When X is a bidentate ligand, m 3 is preferably 1. When m 3 is 2, Xs may be the same or different, and Xs may be linked together.

配位子Xは、アシルオキシ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアシルオキシ基、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、サリチル酸、グリシルオキシ、N,N−ジメチルグリシルオキシ、オキザリレン(―OC(O)C(O)O―)等)、アシルチオ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアシルチオ基、例えば、アセチルチオ、ベンゾイルチオ等)、チオアシルオキシ基(好ましくは炭素原子数1〜20のチオアシルオキシ基、例えば、チオアセチルオキシ基(CHC(S)O―)等))、チオアシルチオ基(好ましくは炭素原子数1〜20のチオアシルチオ基、例えば、チオアセチルチオ(CHC(S)S―)、チオベンゾイルチオ(PhC(S)S―)等))、アシルアミノオキシ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアシルアミノオキシ基、例えば、N−メチルベンゾイルアミノオキシ(PhC(O)N(CH)O―)、アセチルアミノオキシ(CHC(O)NHO―)等))、チオカルバメート基(好ましくは炭素原子数1〜20のチオカルバメート基、例えば、N,N−ジエチルチオカルバメート等)、ジチオカルバメート基(好ましくは炭素原子数1〜20のジチオカルバメート基、例えば、N−フェニルジチオカルバメート、N,N−ジメチルジチオカルバメート、N,N−ジエチルジチオカルバメート、N,N−ジベンジルジチオカルバメート等)、チオカルボネート基(好ましくは炭素原子数1〜20のチオカルボネート基、例えば、エチルチオカルボネート等)、ジチオカルボネート(好ましくは炭素原子数1〜20のジチオカルボネート、例えば、エチルジチオカルボネート(COC(S)S―)等)、トリチオカルボネート基(好ましくは炭素原子数1〜20のトリチオカルボネート基、例えば、エチルトリチオカルボネート(CSC(S)S−)等)、アシル基(好ましくは炭素原子数1〜20のアシル基、例えば、アセチル、ベンゾイル等)、チオシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基、イソシアネート基、シアノ基、アルキルチオ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアルキルチオ基、例えばメタンチオ、エチレンジチオ等)、アリールチオ基(好ましくは炭素原子数6〜20のアリールチオ基、例えば、ベンゼンチオ、1,2−フェニレンジチオ等)、アルコキシ基(好ましくは炭素原子数1〜20のアルコキシ基、例えばメトキシ等)及びアリールオキシ基(好ましくは炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、例えばフェノキシ、キノリン−8−ヒドロキシル等)からなる群から選ばれた基で配位された1座又は2座の配位子、若しくはハロゲン原子(好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、カルボニル(…CO)、ジアルキルケトン(好ましくは炭素原子数3〜20のジアルキルケトン、例えばアセトン((CHCO…)等)、1,3−ジケトン(好ましくは炭素原子数3〜20の1,3−ジケトン、例えば、アセチルアセトン(CHC(O…)CH=C(O―)CH)、トリフルオロアセチルアセトン(CFC(O…)CH=C(O―)CH)、ジピバロイルメタン(tCC(O…)CH=C(O―)t−C)、ジベンゾイルメタン(PhC(O…)CH=C(O―)Ph)、3−クロロアセチルアセトン(CHC(O…)CCl=C(O―)CH)等)、カルボンアミド(好ましくは炭素原子数1〜20のカルボンアミド、例えば、CHN=C(CH)O―、―OC(=NH)―C(=NH)O―等)、チオカルボンアミド(好ましくは炭素原子数1〜20のチオカルボンアミド、例えば、CHN=C(CH)S―等)、またはチオ尿素(好ましくは炭素原子数1〜20のチオ尿素、例えば、NH(…)=C(S―)NH、CHN(…)=C(S―)NHCH、(CHN―C(S…)N(CH等)からなる配位子を表す。なお、「…」は配位結合を示す。 The ligand X is an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, such as acetyloxy, benzoyloxy, salicylic acid, glycyloxy, N, N-dimethylglycyloxy, oxalylene (—OC (O) C (O) O-), etc.), an acylthio group (preferably an acylthio group having 1 to 20 carbon atoms, such as acetylthio, benzoylthio, etc.), a thioacyloxy group (preferably a thioacyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, For example, a thioacetyloxy group (CH 3 C (S) O—) and the like)), a thioacylthio group (preferably a thioacylthio group having 1 to 20 carbon atoms, such as thioacetylthio (CH 3 C (S) S—) , Thiobenzoylthio (PhC (S) S—) and the like)), an acylaminooxy group (preferably an aryl having 1 to 20 carbon atoms). Silaminooxy group, for example, N-methylbenzoylaminooxy (PhC (O) N (CH 3 ) O—), acetylaminooxy (CH 3 C (O) NHO—), etc.)), thiocarbamate group (preferably A thiocarbamate group having 1 to 20 carbon atoms such as N, N-diethylthiocarbamate), a dithiocarbamate group (preferably a dithiocarbamate group having 1 to 20 carbon atoms such as N-phenyldithiocarbamate, N, N-dimethyldithiocarbamate, N, N-diethyldithiocarbamate, N, N-dibenzyldithiocarbamate, etc.), a thiocarbonate group (preferably a thiocarbonate group having 1 to 20 carbon atoms, such as ethylthiocarbonate) Etc.), dithiocarbonate (preferably dithiocarbonate having 1 to 20 carbon atoms) Such as ethyl dithiocarbonate (C 2 H 5 OC (S) S—), etc., trithiocarbonate group (preferably a trithiocarbonate group having 1 to 20 carbon atoms, such as ethyl trithiocarbonate sulphonate (C 2 H 5 SC (S ) S-) and the like), an acyl group (preferably an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, e.g., acetyl, benzoyl, etc.), a thiocyanate group, an isothiocyanate group, a cyanate group, an isocyanate Group, cyano group, alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms such as methanethio, ethylenedithio, etc.), arylthio group (preferably an arylthio group having 6 to 20 carbon atoms such as benzenethio, 1, 2 -Phenylenedithio etc.), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, such as metho A monodentate or bidentate coordinated with a group selected from the group consisting of an aryloxy group (preferably an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, such as phenoxy, quinoline-8-hydroxyl, etc.) A ligand, or a halogen atom (preferably a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc.), a carbonyl (... CO), a dialkyl ketone (preferably a dialkyl ketone having 3 to 20 carbon atoms, such as acetone ((CH 3 ) 2 ). CO ...), etc.), 1,3-diketone (preferably having 3 to 20 carbon atoms 1,3-diketones, for example, acetylacetone (CH 3 C (O ...) CH = C (O-) CH 3), tri fluoro acetylacetone (CF 3 C (O ...) CH = C (O-) CH 3), dipivaloylmethane (tC 4 H 9 C (O ...) CH = C (O-) tC 4 H ), Dibenzoylmethane (PhC (O ...) CH = C (O-) Ph), 3- chloro-acetylacetone (CH 3 C (O ...) CCl = C (O-) CH 3) , etc.), carbonamido (preferably Is a carbonamide having 1 to 20 carbon atoms, such as CH 3 N═C (CH 3 ) O—, —OC (═NH) —C (═NH) O—, etc.), thiocarbonamide (preferably having carbon atoms 1-20 thiocarbonamide, such as CH 3 N═C (CH 3 ) S—, or thiourea (preferably a thiourea having 1-20 carbon atoms, such as NH (...) = C (S— ) NH 2 , CH 3 N (...) = C (S—) NHCH 3 , (CH 3 ) 2 N—C (S...) N (CH 3 ) 2, etc.) "..." indicates a coordination bond.

配位子Xは、好ましくはアシルオキシ基、チオアシルチオ基、アシルアミノオキシ基、ジチオカルバメート基、ジチオカルボネート基、トリチオカルボネート基、チオシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基、イソシアネート基、シアノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基およびアリールオキシ基からなる群から選ばれた基で配位する配位子、あるいはハロゲン原子、カルボニル、1,3−ジケトンまたはチオ尿素からなる配位子であり、より好ましくはアシルオキシ基、アシルアミノオキシ基、ジチオカルバメート基、チオシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基、イソシアネート基、シアノ基またはアリールチオ基からなる群から選ばれた基で配位する配位子、あるいはハロゲン原子、1,3−ジケトンまたはチオ尿素からなる配位子であり、特に好ましくはジチオカルバメート基、チオシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基およびイソシアネート基からなる群から選ばれた基で配位する配位子、あるいはハロゲン原子または1,3−ジケトンからなる配位子であり、最も好ましくは、ジチオカルバメート基、チオシアネート基およびイソチオシアネート基からなる群から選ばれた基で配位する配位子、あるいは1,3−ジケトンからなる配位子である。なお配位子Xがアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキレン基等を含む場合、それらは直鎖状でも分岐状でもよく、置換されていても無置換でもよい。またアリール基、ヘテロ環基、シクロアルキル基等を含む場合、それらは置換されていても無置換でもよく、単環でも縮環していてもよい。   The ligand X is preferably an acyloxy group, a thioacylthio group, an acylaminooxy group, a dithiocarbamate group, a dithiocarbonate group, a trithiocarbonate group, a thiocyanate group, an isothiocyanate group, a cyanate group, an isocyanate group, a cyano group, A ligand coordinated by a group selected from the group consisting of an alkylthio group, an arylthio group, an alkoxy group and an aryloxy group, or a ligand consisting of a halogen atom, carbonyl, 1,3-diketone or thiourea, More preferably, a ligand coordinated by a group selected from the group consisting of acyloxy group, acylaminooxy group, dithiocarbamate group, thiocyanate group, isothiocyanate group, cyanate group, isocyanate group, cyano group or arylthio group, or Halogen atom 1,3 A ligand comprising a diketone or thiourea, particularly preferably a ligand coordinated by a group selected from the group consisting of a dithiocarbamate group, a thiocyanate group, an isothiocyanate group, a cyanate group and an isocyanate group, or a halogen atom Or a ligand consisting of a 1,3-diketone, most preferably a ligand coordinated with a group selected from the group consisting of a dithiocarbamate group, a thiocyanate group and an isothiocyanate group, or a 1,3-diketone A ligand consisting of In addition, when the ligand X contains an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkylene group or the like, these may be linear or branched, and may be substituted or unsubstituted. Moreover, when an aryl group, a heterocyclic group, a cycloalkyl group, etc. are included, they may be substituted or unsubstituted, and may be monocyclic or condensed.

Xが2座配位子のとき、Xはアシルオキシ基、アシルチオ基、チオアシルオキシ基、チオアシルチオ基、アシルアミノオキシ基、チオカルバメート基、ジチオカルバメート基、チオカルボネート基、ジチオカルボネート基、トリチオカルボネート基、アシル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシ基およびアリールオキシ基からなる群から選ばれた基で配位する配位子、あるいは1,3−ジケトン、カルボンアミド、チオカルボンアミド、またはチオ尿素からなる配位子であるのが好ましい。Xが1座配位子のとき、Xはチオシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基、イソシアネート基、シアノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基からなる群から選ばれた基で配位する配位子、あるいはハロゲン原子、カルボニル、ジアルキルケトン、チオ尿素からなる配位子であるのが好ましい。
なお、本発明では、Xはチオシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基およびイソシアネート基からなる群から選ばれた基で配位する1座の配位子である。
また、一般式(2)におけるm は2である。
When X is a bidentate ligand, X is an acyloxy group, acylthio group, thioacyloxy group, thioacylthio group, acylaminooxy group, thiocarbamate group, dithiocarbamate group, thiocarbonate group, dithiocarbonate group, trithio A ligand coordinated by a group selected from the group consisting of a carbonate group, an acyl group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkoxy group and an aryloxy group, or a 1,3-diketone, carbonamide, thiocarbonamide, or thio A ligand composed of urea is preferable. When X is a monodentate ligand, X is a ligand coordinated by a group selected from the group consisting of a thiocyanate group, an isothiocyanate group, a cyanate group, an isocyanate group, a cyano group, an alkylthio group, and an arylthio group, or A ligand composed of a halogen atom, carbonyl, dialkyl ketone, or thiourea is preferred.
In the present invention, X is a monodentate ligand coordinated with a group selected from the group consisting of a thiocyanate group, an isothiocyanate group, a cyanate group and an isocyanate group.
Further, m 3 in the general formula (2) is 2.

(A2−5)対イオンCI
一般式(2)中のCIは電荷を中和させるのに対イオンが必要な場合の対イオンを表す。一般に、色素が陽イオン又は陰イオンであるか、あるいは正味のイオン電荷を有するかどうかは、色素中の金属、配位子および置換基に依存する。
置換基が解離性基を有することなどにより、一般式(2)の色素は解離して負電荷を持ってもよい。この場合、一般式(2)の色素全体の電荷はCIにより電気的に中性とされる。
(A2-5) Counter ion CI
CI in the general formula (2) represents a counter ion when a counter ion is required to neutralize the charge. In general, whether a dye is a cation or an anion or has a net ionic charge depends on the metal, ligand and substituent in the dye.
The dye of the general formula (2) may be dissociated and have a negative charge because the substituent has a dissociable group. In this case, the entire charge of the dye of the general formula (2) is electrically neutralized by CI.

対イオンCIが正の対イオンの場合、例えば、対イオンCIは、無機又は有機のアンモニウムイオン(例えばテトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン等)、アルカリ金属イオン又はプロトンである。
対イオンCIが負の対イオンの場合、例えば、対イオンCIは、無機陰イオンでも有機陰イオンでもよい。例えば、ハロゲン陰イオン(例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等)、置換アリールスルホン酸イオン(例えばp−トルエンスルホン酸イオン、p−クロロベンゼンスルホン酸イオン等)、アリールジスルホン酸イオン(例えば1,3−ベンゼンジスルホン酸イオン、1,5−ナフタレンジスルホン酸イオン、2,6−ナフタレンジスルホン酸イオン等)、アルキル硫酸イオン(例えばメチル硫酸イオン等)、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等が挙げられる。さらに電荷均衡対イオンとして、イオン性ポリマーあるいは色素と逆電荷を有する他の色素を用いてもよく、金属錯イオン(例えばビスベンゼン−1,2−ジチオラトニッケル(III)等)も使用可能である。
When the counter ion CI is a positive counter ion, for example, the counter ion CI is an inorganic or organic ammonium ion (for example, tetraalkylammonium ion, pyridinium ion, etc.), an alkali metal ion, or a proton.
When the counter ion CI is a negative counter ion, for example, the counter ion CI may be an inorganic anion or an organic anion. For example, halogen anions (eg, fluoride ions, chloride ions, bromide ions, iodide ions, etc.), substituted aryl sulfonate ions (eg, p-toluene sulfonate ions, p-chlorobenzene sulfonate ions, etc.), aryl disulfones Acid ion (for example, 1,3-benzenedisulfonic acid ion, 1,5-naphthalenedisulfonic acid ion, 2,6-naphthalenedisulfonic acid ion, etc.), alkyl sulfate ion (for example, methyl sulfate ion, etc.), sulfate ion, thiocyanate ion Perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, picrate ion, acetate ion, trifluoromethanesulfonate ion and the like. Further, as the charge balance counter ion, an ionic polymer or another dye having a charge opposite to that of the dye may be used, and a metal complex ion (for example, bisbenzene-1,2-dithiolatonickel (III)) can also be used. is there.

(A2−6)結合基
一般式(2)で表される構造を有する色素は、半導体微粒子の表面に対する適当な結合基(interlocking group)を少なくとも1つ以上有するのが好ましい。この結合基を色素中に1〜6個有するのがより好ましく、1〜4個有するのが特に好ましい。カルボキシ基、スルホン酸基、ヒドロキシル基、ヒドロキサム酸基(例えば―CONHOH等)、ホスホリル基(例えば―OP(O)(OH)等)、ホスホニル基(例えば―P(O)(OH)等)等の酸性基(解離性のプロトンを有する置換基)を色素中に有することが好ましい。
本発明では、結合基の酸性基はカルボキシ基である。
(A2-6) Bonding Group The dye having the structure represented by the general formula (2) preferably has at least one suitable bonding group (interlocking group) for the surface of the semiconductor fine particles. It is more preferable to have 1 to 6 bonding groups in the dye, and it is particularly preferable to have 1 to 4 bonding groups. Carboxy shea group, a sulfonic acid group, a hydroxyl group, a hydroxamic acid group (e.g., -CONHOH, etc.), a phosphoryl group (e.g., -OP (O) (OH) 2, etc.), phosphonyl group (e.g., -P (O) (OH) 2 Etc.) in the dye.
In the present invention, the acidic group of the linking group is a carboxy group.

本発明で用いる一般式(2)で表される構造を有する色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記具体例における色素がプロトン解離性基を有する配位子を含む場合、該配位子は必要に応じて解離しプロトンを放出してもよい。
ここで、色素R−1〜R−7、R−9〜R11、Z−1、C−1、O−1は参考例である
Specific examples of the dye having the structure represented by the general formula (2) used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. In addition, when the pigment | dye in the following specific example contains the ligand which has a proton dissociable group, this ligand may dissociate as needed and may discharge | release a proton.
Here, dyes R-1 to R-7, R-9 to R11, Z-1, C-1, and O-1 are reference examples.

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前記一般式(2)の具体例をさらに以下に示すが本発明はこれに限定されるものではない。また、これらの酸性基はプロトン非解離体のみ示しているが、これらのプロトン解離体でもよい。一般式(2)の配位子LLとしては、以下のA−1−1〜A−1−14、A−2−1〜A−2−14およびA−16−1〜A−16−10を挙げることができる。
これ以外は、参考例である。
Specific examples of the general formula (2) are further shown below, but the present invention is not limited thereto. Moreover, although these acidic groups show only proton non-dissociated products, these proton dissociated products may be used. As the ligand LL 1 of the general formula (2), the following A-1-1 to A-1-14, A-2-1 to A-2-14 and A-16-1 to A-16- 10 can be mentioned.
The other examples are reference examples.

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以下にLLの具体例であるB−1−1、B−10−5、B−11−6を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらの酸性基はプロトン非解離体のみ示しているが、これらのプロトン解離体でもよい。
なお、残りの配位子は参考例である
Specific examples of LL 2 such as B-1-1 , B-10-5, and B-11-6 are shown below, but the present invention is not limited thereto. Moreover, although these acidic groups show only proton non-dissociated products, these proton dissociated products may be used.
The remaining ligands are reference examples .

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以下に配位子Zの具体例であるZ−44〜Z−47とともに、参考例の配位子を示す。
なお、以下に示す構造式は幾つも取りうる共鳴構造のうちの1つの極限構造にすぎず、共有結合(―で示す)と配位結合(…で示す)の区別も形式的なもので、絶対的な区別を表すものではない。

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The ligand of a reference example is shown with Z-44-Z-47 which is a specific example of the ligand Z below.
Note that the structural formula shown below is only one of the many possible resonance structures, and the distinction between a covalent bond (indicated by-) and a coordination bond (indicated by ...) is also formal. It does not represent an absolute distinction.
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以下に一般式(2)で表される色素の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。また、これらの酸性基はプロトン非解離体のみ示しているが、これらのプロトン解離体でもよい。さらに、これらの化合物はシス体、トランス体及びその混合物、光学活性体等の異性体になりえるが、特に限定されない。
ここで、本発明の色素は、D−1−1a〜D−2−3、D−1−14、D−1−21a〜D−1−22c、D−1−24a〜24c、D−7−1、D−7−2、D−7−14、D−7−21、D−7−22であり、残りは参考例である。
Although the specific example of the pigment | dye represented by General formula (2) below is shown, this invention is not limited to these. Moreover, although these acidic groups show only proton non-dissociated products, these proton dissociated products may be used. Furthermore, these compounds can be isomers such as cis isomers, trans isomers and mixtures thereof, and optically active isomers, but are not particularly limited.
Here, the dyes of the present invention are D-1-1a to D-2-3, D-1-14, D-1-21a to D-1-22c, D-1-24a to 24c, D-7. -1, D-7-2, D-7-14, D-7-21, D-7-22, and the rest are reference examples.

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本発明の一般式(2)により表される色素は、特開2001−291534号公報や当該公報に引用された方法を参考にして合成することができる。
一般式(2)の化合物からなる色素は、溶液における極大吸収波長が、好ましくは300〜1000nmの範囲であり、より好ましくは350〜950nmの範囲であり、特に好ましくは370〜900nmの範囲である。
また一般式(1)の化合物からなる色素は、溶液中における極大吸収波長が、好ましくは670〜1100nmの範囲であり、より好ましくは700〜900nmの範囲である。
本発明の光電変換素子及び光電気化学電池においては、少なくとも前記一般式(1)の構造を有する色素と、一般式(2)の構造を有する色素を用いることにより、広範囲の波長の光を利用することにより、高い変換効率を確保することができる。さらにこれらの色素を併用することにより、変換効率の低下率を低減することできる。
The dye represented by the general formula (2) of the present invention can be synthesized with reference to JP-A No. 2001-291534 and the methods cited in the publication.
The dye composed of the compound of the general formula (2) has a maximum absorption wavelength in the solution of preferably 300 to 1000 nm, more preferably 350 to 950 nm, and particularly preferably 370 to 900 nm. .
Moreover, as for the pigment | dye which consists of a compound of General formula (1), the maximum absorption wavelength in a solution becomes like this. Preferably it is the range of 670-1100 nm, More preferably, it is the range of 700-900 nm.
In the photoelectric conversion element and the photoelectrochemical cell of the present invention, light having a wide range of wavelengths is used by using at least the dye having the structure of the general formula (1) and the dye having the structure of the general formula (2). By doing so, high conversion efficiency can be ensured. Furthermore, the combined use of these dyes can reduce the rate of decrease in conversion efficiency.

一般式(2)で示される金属錯体色素と、一般式(1)で表わされる色素の配合割合は、前者をR、後者をSとすると、モル%の比で、R/S=90/10〜10/90、好ましくはR/S=80/20〜20/80、さらに好ましくはR/S=70/30〜30/70、より一層好ましくはR/S=60/40〜40/60、最も好ましくはR/S=55/45〜45/55であり、通常は両者を等モル使用する。   The blending ratio of the metal complex dye represented by the general formula (2) and the dye represented by the general formula (1) is R / S = 90/10 in the ratio of mol%, where R is the former and S is the latter. 10/90, preferably R / S = 80/20 to 20/80, more preferably R / S = 70/30 to 30/70, even more preferably R / S = 60/40 to 40/60, Most preferably, R / S = 55/45 to 45/55, and usually equimolar amounts of both are used.

(B)導電性支持体
図1に示すように、本発明の光電変換素子には、導電性支持体1上には多孔質の半導体微粒子22に色素21が吸着された感光体2が形成されている。後述する通り、例えば、半導体微粒子の分散液を導電性支持体に塗布・乾燥後、本発明の色素溶液に浸漬することにより、感光層を製造することができる。
導電性支持体としては、金属のように支持体そのものに導電性があるものか、または表面に導電膜層を有するガラスや高分子材料を使用することができる。導電性支持体は実質的に透明であることが好ましい。実質的に透明であるとは光の透過率が10%以上であることを意味し、50%以上であることが好ましく、80%以上が特に好ましい。導電性支持体としては、ガラスや高分子材料に導電性の金属酸化物を塗設したものを使用することができる。このときの導電性の金属酸化物の塗布量は、ガラスや高分子材料の支持体1m当たり、0.1〜100gが好ましい。透明導電性支持体を用いる場合、光は支持体側から入射させることが好ましい。好ましく使用される高分子材料の一例として、テトラアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリカーボネート(PC)、ポリアリレート(PAR)、ポリスルフォン(PSF)、ポリエステルスルフォン(PES)、ポリエーテルイミド(PEI)、環状ポリオレフィン、ブロム化フェノキシ等を挙げることができる。
(B) Conductive Support As shown in FIG. 1, in the photoelectric conversion element of the present invention, a photosensitive member 2 in which a dye 21 is adsorbed on porous semiconductor fine particles 22 is formed on a conductive support 1. ing. As described later, for example, the photosensitive layer can be produced by immersing the dispersion of semiconductor fine particles in the dye solution of the present invention after coating and drying on a conductive support.
As the conductive support, there can be used a glass or a polymer material having a conductive film layer on the surface, such as a metal that is conductive in the support itself. It is preferable that the conductive support is substantially transparent. Substantially transparent means that the light transmittance is 10% or more, preferably 50% or more, particularly preferably 80% or more. As the conductive support, a glass or polymer material coated with a conductive metal oxide can be used. The coating amount of the conductive metal oxide at this time is preferably 0.1 to 100 g per 1 m 2 of the support of glass or polymer material. When a transparent conductive support is used, light is preferably incident from the support side. Examples of polymer materials that are preferably used include tetraacetyl cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), syndiotactic polystyrene (SPS), polyphenylene sulfide (PPS), polycarbonate (PC), Examples include polyarylate (PAR), polysulfone (PSF), polyester sulfone (PES), polyetherimide (PEI), cyclic polyolefin, and brominated phenoxy.

本発明においては、好ましい導電性支持体として、金属支持体を用いることができる。導電性金属支持体としては、導電性支持体として4族〜13族に属するいずれかの元素で構成された導電性金属支持体が使用される。ここで4族〜13族とは、長周期型周期表におけるものをいう。
本発明における導電性金属支持体の厚さは10μm以上2000μm以下であることが好ましく、さらに好ましくは10μm以上1000μm以下であり、特に好ましくは50μm以上500μm以下である。この厚さが厚すぎると可撓性に欠けるため、光電変換素子として使用する場合に支障が生じることがある。また薄すぎると光電変換素子を使用中に破損することがあり好ましくない。
本発明に用いられる導電性金属支持体の表面抵抗は低い程よい。好ましい表面抵抗の範囲としては10Ω/m以下であり、さらに好ましくは1Ω/m以下であり、特に好ましくは0.1Ω/m以下である。この値が高すぎると、通電しにくくなり光電変換素子としての機能を発揮することができない。
In the present invention, a metal support can be used as a preferable conductive support. As the conductive metal support, a conductive metal support composed of any element belonging to Group 4 to Group 13 is used as the conductive support. Here, Group 4 to Group 13 are those in the long-period periodic table.
The thickness of the conductive metal support in the present invention is preferably 10 μm or more and 2000 μm or less, more preferably 10 μm or more and 1000 μm or less, and particularly preferably 50 μm or more and 500 μm or less. When this thickness is too thick, flexibility is lacking, which may cause trouble when used as a photoelectric conversion element. Moreover, when too thin, it may be damaged during use of the photoelectric conversion element, which is not preferable.
The lower the surface resistance of the conductive metal support used in the present invention, the better. The range of the surface resistance is preferably 10Ω / m 2 or less, more preferably 1Ω / m 2 or less, and particularly preferably 0.1Ω / m 2 or less. When this value is too high, it becomes difficult to energize and the function as a photoelectric conversion element cannot be exhibited.

導電性金属支持体としては、チタン、アルミニウム、銅、ニッケル、鉄、ステンレス、亜鉛、モリブデン、タンタル、ニオブ、及びジルコニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種を好ましく使用できる。これらの金属は合金であってもよい。これらのうち、チタン、アルミニウム、銅、ニッケル、鉄、ステンレス、および亜鉛がより好ましく、チタン、アルミニウム、および銅がさらに好ましく、チタンおよびアルミニウムがもっとも好ましい。アルミニウムの場合は、アルミニウム合金展伸材、1000系〜7000系(軽金属協会:アルミニウムハンドブック、軽金属協会、(1978)、26)などを好ましく使用することができる。   As the conductive metal support, at least one selected from the group consisting of titanium, aluminum, copper, nickel, iron, stainless steel, zinc, molybdenum, tantalum, niobium, and zirconium can be preferably used. These metals may be alloys. Of these, titanium, aluminum, copper, nickel, iron, stainless steel, and zinc are more preferred, titanium, aluminum, and copper are more preferred, and titanium and aluminum are most preferred. In the case of aluminum, aluminum alloy wrought material, 1000 series to 7000 series (Light Metal Association: Aluminum Handbook, Light Metal Association, (1978), 26) and the like can be preferably used.

導電性金属支持体は、表面抵抗が小さく光電気化学電池の内部抵抗を下げられるため高出力の電池を得ることができる。また導電性金属支持体を用いた場合には、後述の半導体微粒子分散液が塗布された導電性金属支持体を加熱乾燥させる温度を高くして焼成しても、支持体が軟化することがない。したがって加熱条件を適宜選択することにより、比表面積の大きな多孔質半導体微粒子層を形成することができる。これにより色素吸着量を増加させ、高出力で変換効率の高い光電変換素子を提供することができる。
また巻回された金属シートを連続的に送り出しながら半導体微粒子分散液を該金属シートに塗工し、その後加熱することで、多孔質の導電性支持体を得ることができる。その後本発明の色素を連続塗布することで、導電性支持体上に感光層を形成することができる。この工程を経ることにより、廉価で光電変換素子や光電気化学電池を製造することが可能になる。
Since the conductive metal support has a small surface resistance and can reduce the internal resistance of the photoelectrochemical cell, a high output battery can be obtained. Further, when a conductive metal support is used, the support does not soften even if the conductive metal support coated with the semiconductor fine particle dispersion described below is heated and dried at a high temperature. . Therefore, a porous semiconductor fine particle layer having a large specific surface area can be formed by appropriately selecting the heating conditions. Thereby, the amount of dye adsorption can be increased, and a photoelectric conversion element with high output and high conversion efficiency can be provided.
Moreover, a porous electroconductive support body can be obtained by apply | coating a semiconductor fine particle dispersion liquid to this metal sheet | seat, and heating after that while winding the metal sheet | seat continuously. Thereafter, the photosensitive layer can be formed on the conductive support by continuously applying the dye of the present invention. By passing through this process, it becomes possible to manufacture a photoelectric conversion element and a photoelectrochemical cell at low cost.

本発明の導電性金属支持体としては、高分子材料層の上に導電層を設けたものを好ましく使用することができる。高分子材料層としては、特に制限されないが、導電層上に半導体微粒子分散液を塗布後加熱した場合に溶融して形状を保持することがない材料を選択する。導電層は高分子材料層に従来の方法、例えば押出被覆等により積層して製造することができる。
使用することが可能な高分子材料層としては、テトラアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリカーボネート(PC)、ポリアリレート(PAr)、ポリスルフォン(PSF)、ポリエステルスルフォン(PES)、ポリエーテルイミド(PEI)、環状ポリオレフィン、ブロム化フェノキシ等を例示することができる。
本発明の導電性金属支持体として、高分子材料層の上に導電層を設けたものを使用することにより、該高分子材料層は光電変換素子や光電気化学電池の保護層として機能することが可能となる。高分子材料として電気絶縁性の材料を使用すれば、該高分子材料層は保護層としてだけでなく、絶縁層として機能することができる。これにより、光電変換素子自体の絶縁性を確保することができる。該高分子材料層を絶縁層として使用する場合は、この体積固有抵抗は1010〜1020Ω・cmのものを使用することが好ましい。さらに好ましくは、体積固有抵抗は1011〜1019Ω・cmである。前記の材料を使用して、特に導電性の材料を配合しなければ、この範囲内の体積固有抵抗を有する絶縁層のものを得ることができる。
導電性金属支持体は実質的に透明であることが好ましい。実質的に透明であるとは光の透過率が10%以上であることを意味し、50%以上であることが好ましく、80%以上が特に好ましい。
As the conductive metal support of the present invention, a conductive metal layer provided on a polymer material layer can be preferably used. The polymer material layer is not particularly limited, but a material that does not melt and retain its shape when heated after coating the semiconductor fine particle dispersion on the conductive layer is selected. The conductive layer can be produced by laminating the polymer material layer by a conventional method such as extrusion coating.
Examples of the polymer material layer that can be used include tetraacetyl cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), syndiotactic polystyrene (SPS), polyphenylene sulfide (PPS), and polycarbonate (PC ), Polyarylate (PAr), polysulfone (PSF), polyester sulfone (PES), polyetherimide (PEI), cyclic polyolefin, brominated phenoxy and the like.
As the conductive metal support of the present invention, a polymer material layer provided with a conductive layer is used so that the polymer material layer functions as a protective layer for a photoelectric conversion element or a photoelectrochemical cell. Is possible. If an electrically insulating material is used as the polymer material, the polymer material layer can function not only as a protective layer but also as an insulating layer. Thereby, the insulation of photoelectric conversion element itself can be ensured. When the polymer material layer is used as an insulating layer, it is preferable to use a material having a volume resistivity of 10 10 to 10 20 Ω · cm. More preferably, the volume resistivity is 10 11 to 10 19 Ω · cm. If an electrically conductive material is not blended using the above materials, an insulating layer having a volume resistivity within this range can be obtained.
The conductive metal support is preferably substantially transparent. Substantially transparent means that the light transmittance is 10% or more, preferably 50% or more, particularly preferably 80% or more.

導電性金属支持体上には、表面に光マネージメント機能を施してもよい。例えば、高屈折膜及び低屈性率の酸化物膜を交互に積層した反射防止膜や、ライトガイド機能を設けてもよい。
導電性支持体上には、紫外光を遮断する機能を持たせることが好ましい。例えば、紫外光を可視光に変えることが出来る蛍光材料を前記高分子材料層の内部または表面に存在させる方法が挙げられる。また、別の好ましい方法して、紫外線吸収剤を用いる方法も挙げられる。導電性支持体上には、特開平11−250944号公報などに記載の機能を付与してもよい。
導電膜の抵抗値はセル面積が大きくなると大きくなる為、集電電極を配置してもよい。好ましい集電電極の形状及び材質としては、特開平11−266028号公報などに記載のものを使用することができる。高分子材料層と導電層の間にガスバリア膜及び/又はイオン拡散防止膜を配置しても良い。ガスバリア層としては、樹脂膜や無機膜のどちらでもよい。
A light management function may be provided on the surface of the conductive metal support. For example, an antireflection film in which high refractive films and low refractive index oxide films are alternately stacked, or a light guide function may be provided.
It is preferable that the conductive support has a function of blocking ultraviolet light. For example, there is a method in which a fluorescent material capable of changing ultraviolet light into visible light is present inside or on the surface of the polymer material layer. Another preferred method is a method using an ultraviolet absorber. A function described in JP-A-11-250944 may be provided on the conductive support.
Since the resistance value of the conductive film increases as the cell area increases, a collecting electrode may be disposed. As a preferable shape and material of the current collecting electrode, those described in JP-A No. 11-266028 can be used. A gas barrier film and / or an ion diffusion preventing film may be disposed between the polymer material layer and the conductive layer. As the gas barrier layer, either a resin film or an inorganic film may be used.

(C)半導体微粒子
図1に示すように、本発明の光電変換素子には、導電性支持体1上には半導体微粒子22に色素21が吸着された感光層2が形成されている。後述する通り、例えば、半導体微粒子の分散液を前記の導電性支持体に塗布・乾燥後、本発明の色素溶液に浸漬することにより、感光体を製造することができる。
半導体微粒子としては、好ましくは金属のカルコゲニド(例えば酸化物、硫化物、セレン化物等)またはペロブスカイトの微粒子が用いられる。金属のカルコゲニドとしては、好ましくはチタン、スズ、亜鉛、タングステン、ジルコニウム、ハフニウム、ストロンチウム、インジウム、セリウム、イットリウム、ランタン、バナジウム、ニオブ、もしくはタンタルの酸化物、硫化カドミウム、セレン化カドミウム等が挙げられる。ペロブスカイトとしては、好ましくはチタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム等が挙げられる。これらのうち酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化タングステンが特に好ましい。
(C) Semiconductor Fine Particle As shown in FIG. 1, in the photoelectric conversion element of the present invention, a photosensitive layer 2 in which a dye 21 is adsorbed on a semiconductor fine particle 22 is formed on a conductive support 1. As will be described later, for example, a dispersion of semiconductor fine particles is applied to the conductive support and dried, and then immersed in the dye solution of the present invention to produce a photoreceptor.
As the semiconductor fine particles, metal chalcogenides (for example, oxides, sulfides, selenides, etc.) or perovskite fine particles are preferably used. Preferred examples of the metal chalcogenide include titanium, tin, zinc, tungsten, zirconium, hafnium, strontium, indium, cerium, yttrium, lanthanum, vanadium, niobium, tantalum oxide, cadmium sulfide, cadmium selenide, and the like. . Preferred perovskites include strontium titanate and calcium titanate. Of these, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, and tungsten oxide are particularly preferable.

半導体には伝導に関わるキャリアーが電子であるn型とキャリアーが正孔であるp型が存在するが、本発明の素子ではn型を用いることが変換効率の点で好ましい。n型半導体には、不純物準位をもたず伝導帯電子と価電子帯正孔によるキャリアーの濃度が等しい固有半導体(あるいは真性半導体)の他に、不純物に由来する構造欠陥により電子キャリアー濃度の高いn型半導体が存在する。本発明で好ましく用いられるn型の無機半導体は、TiO、TiSrO、ZnO、Nb、SnO、WO、Si、CdS、CdSe、V、ZnS、ZnSe、SnSe、KTaO、FeS、PbS、InP、GaAs、CuInS、CuInSeなどである。これらのうち最も好ましいn型半導体はTiO、ZnO、SnO、WO、ならびにNbである。また、これらの半導体の複数を複合させた半導体材料も好ましく用いられる。 In semiconductors, there are an n-type in which carriers involved in conduction are electrons and a p-type in which carriers are holes. In the element of the present invention, n-type is preferable in terms of conversion efficiency. In an n-type semiconductor, in addition to an intrinsic semiconductor (or an intrinsic semiconductor) having no impurity level and equal carrier concentration due to conduction band electrons and valence band holes, the electron carrier concentration is reduced due to structural defects derived from impurities. There are high n-type semiconductors. The n-type inorganic semiconductor preferably used in the present invention is TiO 2 , TiSrO 3 , ZnO, Nb 2 O 3 , SnO 2 , WO 3 , Si, CdS, CdSe, V 2 O 5 , ZnS, ZnSe, SnSe, KTaO. 3 , FeS 2 , PbS, InP, GaAs, CuInS 2 , CuInSe 2 and the like. Of these, the most preferred n-type semiconductors are TiO 2 , ZnO, SnO 2 , WO 3 , and Nb 2 O 3 . A semiconductor material in which a plurality of these semiconductors are combined is also preferably used.

半導体微粒子の粒径は、半導体微粒子分散液の粘度を高く保つ目的で、一次粒子の平均粒径が2nm以上50nm以下であることが好ましく、また一次粒子の平均粒径が2nm以上30nm以下の超微粒子であることがより好ましい。粒径分布の異なる2種類以上の微粒子を混合してもよく、この場合小さい粒子の平均サイズは5nm以下であるのが好ましい。また、入射光を散乱させて光捕獲率を向上させる目的で、上記の超微粒子に対して平均粒径が50nmを越える大きな粒子を、低含率で添加することもできる。この場合、大粒子の含率は、平均粒径が50nm以下の粒子の質量の50%以下であることが好ましく、20%以下であることがより好ましい。上記の目的で添加混合する大粒子の平均粒径は、100nm以上が好ましく、250nm以上がより好ましい。   For the purpose of keeping the viscosity of the semiconductor fine particle dispersion high, it is preferable that the average particle size of the primary particles is 2 nm to 50 nm, and the average primary particle size is 2 nm to 30 nm. More preferably, it is a fine particle. Two or more kinds of fine particles having different particle size distributions may be mixed. In this case, the average size of the small particles is preferably 5 nm or less. In addition, for the purpose of improving the light capture rate by scattering incident light, large particles having an average particle size exceeding 50 nm can be added to the above ultrafine particles at a low content. In this case, the content of the large particles is preferably 50% or less, more preferably 20% or less of the mass of particles having an average particle size of 50 nm or less. The average particle size of the large particles added and mixed for the above purpose is preferably 100 nm or more, and more preferably 250 nm or more.

半導体微粒子の作製法としては、作花済夫の「ゾル・ゲル法の科学」アグネ承風社(1998年)等に記載のゲル・ゾル法が好ましい。またDegussa社が開発した塩化物を酸水素塩中で高温加水分解により酸化物を作製する方法も好ましい。半導体微粒子が酸化チタンの場合、上記ゾル・ゲル法、ゲル・ゾル法、塩化物の酸水素塩中での高温加水分解法はいずれも好ましいが、さらに清野学の「酸化チタン 物性と応用技術」技報堂出版(1997年)に記載の硫酸法および塩素法を用いることもできる。さらにゾル・ゲル法として、バルべ等のジャーナル・オブ・アメリカン・セラミック・ソサエティー,第80巻,第12号,3157〜3171頁(1997年)に記載の方法や、バーンサイドらのケミストリー・オブ・マテリアルズ,第10巻,第9号,2419〜2425頁に記載の方法も好ましい。   As a method for producing the semiconductor fine particles, the gel-sol method described in Sakuo Sakuo's “Science of Sol-Gel Method”, Agne Jofu Co., Ltd. (1998) and the like is preferable. Also preferred is a method of producing an oxide by high-temperature hydrolysis of chloride developed by Degussa in an oxyhydrogen salt. When the semiconductor fine particles are titanium oxide, the above sol-gel method, gel-sol method, and high-temperature hydrolysis method in oxyhydrogen salt of chloride are preferred, but Kiyoshi Manabu's “Titanium oxide properties and applied technology” The sulfuric acid method and the chlorine method described in Gihodo Publishing (1997) can also be used. Further, as the sol-gel method, the method described in Journal of American Ceramic Society, Vol. 80, No. 12, 3157-3171 (1997), or the chemistry of Burnside et al. The method described in Materials, Vol. 10, No. 9, pages 2419-2425 is also preferable.

この他に、半導体微粒子の製造方法として、例えば、チタニアナノ粒子の製造方法として好ましくは、四塩化チタンの火炎加水分解による方法、四塩化チタンの燃焼法、安定なカルコゲナイド錯体の加水分解、オルトチタン酸の加水分解、可溶部と不溶部から半導体微粒子を形成後可溶部を溶解除去する方法、過酸化物水溶液の水熱合成、またはゾル・ゲル法によるコア/シェル構造の酸化チタン微粒子の製造方法が挙げられる。   In addition to this, as a method for producing semiconductor fine particles, for example, as a method for producing titania nanoparticles, preferably, a method by flame hydrolysis of titanium tetrachloride, a combustion method of titanium tetrachloride, hydrolysis of a stable chalcogenide complex, orthotitanic acid Of semiconductor, forming semiconductor fine particles from soluble and insoluble parts, then dissolving and removing soluble parts, hydrothermal synthesis of peroxide aqueous solution, or production of core / shell structured titanium oxide fine particles by sol-gel method A method is mentioned.

チタニアの結晶構造としては、アナターゼ型、ブルッカイト型、または、ルチル型があげられ、アナターゼ型、ブルッカイト型が好ましい。
チタニアナノチューブ・ナノワイヤー・ナノロッドをチタニア微粒子に混合してもよい。
Examples of the crystal structure of titania include anatase type, brookite type, and rutile type, and anatase type and brookite type are preferable.
Titania nanotubes, nanowires, and nanorods may be mixed with titania fine particles.

チタニアは、非金属元素などによりドーピングされていても良い。チタニアへの添加剤としてド―パント以外に、ネッキングを改善する為のバインダーや逆電子移動防止の為に表面へ添加剤を用いても良い。好ましい添加剤の例としては、ITO、SnO粒子、ウイスカー、繊維状グラファイト・カーボンナノチューブ、酸化亜鉛ネッキング結合子、セルロース等の繊維状物質、金属、有機シリコン、ドデシルベンゼンスルホン酸、シラン化合物等の電荷移動結合分子、及び電位傾斜型デンドリマーなどが挙げられる。   Titania may be doped with a nonmetallic element or the like. In addition to the dopant, an additive to the titania may be used as a binder for improving necking or an additive on the surface for preventing reverse electron transfer. Examples of preferred additives include ITO, SnO particles, whiskers, fibrous graphite / carbon nanotubes, zinc oxide necking binders, fibrous materials such as cellulose, metals, organic silicon, dodecylbenzenesulfonic acid, silane compounds, etc. Examples thereof include a mobile binding molecule and a potential gradient dendrimer.

チタニア上の表面欠陥を除去するなどの目的で、色素吸着前にチタニアを酸塩基又は酸化還元処理しても良い。エッチング、酸化処理、過酸化水素処理、脱水素処理、UV−オゾン、酸素プラズマなどで処理してもよい。   For the purpose of removing surface defects on titania, titania may be acid-base or redox treated before dye adsorption. Etching, oxidation treatment, hydrogen peroxide treatment, dehydrogenation treatment, UV-ozone, oxygen plasma, or the like may be used.

(D)半導体微粒子分散液
本発明においては、半導体微粒子分散液を前記の導電性支持体に塗布し、適度に加熱することにより、多孔質半導体微粒子塗布層を得ることができる。
半導体微粒子分散液を作製する方法としては、前述のゾル・ゲル法の他に、半導体を合成する際に溶媒中で微粒子として析出させそのまま使用する方法、微粒子に超音波などを照射して超微粒子に粉砕する方法、あるいはミルや乳鉢などを使って機械的に粉砕しすり潰す方法、等が挙げられる。分散溶媒としては、水および/または各種の有機溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、メタノール,エタノール,イソプロピルアルコール,シトロネロール,ターピネオールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、酢酸エチルなどのエステル類、ジクロロメタン、アセトニトリル等が挙げられる。
分散の際、必要に応じて例えばポリエチレングリコール、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロースのようなポリマー、界面活性剤、酸、またはキレート剤等を分散助剤として少量用いてもよい。しかし、これらの分散助剤は、導電性支持体上へ製膜する工程の前に、ろ過法や分離膜を用いる方法、あるいは遠心分離法などによって大部分を除去しておくことが好ましい。
半導体微粒子分散液の粘度が高すぎると分散液が凝集してしまい製膜することができず、逆に半導体微粒子分散液の粘度が低すぎると液が流れてしまい製膜することができないことがある。したがって分散液の粘度は、25℃で10〜300N・s/mが好ましい。さらに好ましくは、25℃で50〜200N・s/mである。
(D) Semiconductor Fine Particle Dispersion In the present invention, a porous semiconductor fine particle coating layer can be obtained by applying a semiconductor fine particle dispersion to the conductive support and heating appropriately.
In addition to the sol-gel method described above, a method of preparing a semiconductor fine particle dispersion is a method of depositing fine particles in a solvent and using them as they are when synthesizing a semiconductor. Ultrafine particles are irradiated with ultrasonic waves. Or a method of mechanically pulverizing and grinding using a mill or a mortar. As the dispersion solvent, water and / or various organic solvents can be used. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, citronellol and terpineol, ketones such as acetone, esters such as ethyl acetate, dichloromethane, acetonitrile and the like.
At the time of dispersion, a small amount of, for example, a polymer such as polyethylene glycol, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, a surfactant, an acid, or a chelating agent may be used as a dispersion aid. However, most of these dispersing aids are preferably removed by a filtration method, a method using a separation membrane, a centrifugal method or the like before the step of forming a film on a conductive support.
If the viscosity of the semiconductor fine particle dispersion is too high, the dispersion will aggregate and cannot be formed into a film. Conversely, if the viscosity of the semiconductor fine particle dispersion is too low, the liquid will flow and cannot be formed into a film. is there. Therefore, the viscosity of the dispersion is preferably 10 to 300 N · s / m 2 at 25 ° C. More preferably, it is 50 to 200 N · s / m 2 at 25 ° C.

半導体微粒子分散液の塗布方法としては、アプリケーション系の方法としてローラ法、ディップ法等を使用することができる。またメータリング系の方法としてエアーナイフ法、ブレード法等を使用することができる。またアプリケーション系の方法とメータリング系の方法を同一部分にできるものとして、特公昭58−4589号に開示されているワイヤーバー法、米国特許2681294号明細書等に記載のスライドホッパー法、エクストルージョン法、カーテン法等が好ましい。また汎用機を使用してスピン法やスプレー法で塗布するのも好ましい。湿式印刷方法としては、凸版、オフセットおよびグラビアの3大印刷法をはじめ、凹版、ゴム版、スクリーン印刷等が好ましい。これらの中から、液粘度やウェット厚さに応じて、好ましい製膜方法を選択する。また本発明の半導体微粒子分散液は粘度が高く、粘稠性を有するため、凝集力が強いことがあり、塗布時に支持体とうまく馴染まない場合がある。このような場合に、UVオゾン処理で表面のクリーニングと親水化を行うことにより、塗布した半導体微粒子分散液と導電性支持体表面の結着力が増し、半導体微粒子分散液の塗布が行い易くなる。
半導体微粒子層全体の好ましい厚さは0.1〜100μmである。半導体微粒子層の厚さはさらに1〜30μmが好ましく、2〜25μmがより好ましい。半導体微粒子の支持体1m当りの担持量は0.5g〜400gが好ましく、5〜100gがより好ましい。
As a method for applying the semiconductor fine particle dispersion, a roller method, a dip method, or the like can be used as an application method. Moreover, an air knife method, a blade method, etc. can be used as a metering method. In addition, the application method and the metering method can be made the same part. The method and the curtain method are preferable. It is also preferable to apply by a spin method or a spray method using a general-purpose machine. As the wet printing method, intaglio, rubber plate, screen printing and the like are preferred, including the three major printing methods of letterpress, offset and gravure. From these, a preferred film forming method is selected according to the liquid viscosity and the wet thickness. Further, since the semiconductor fine particle dispersion of the present invention has a high viscosity and has a viscous property, it may have a strong cohesive force and may not be well adapted to the support during coating. In such a case, by performing cleaning and hydrophilization of the surface by UV ozone treatment, the binding force between the applied semiconductor fine particle dispersion and the surface of the conductive support increases, and the semiconductor fine particle dispersion can be easily applied.
The preferred thickness of the entire semiconductor fine particle layer is 0.1 to 100 μm. The thickness of the semiconductor fine particle layer is further preferably 1 to 30 μm, and more preferably 2 to 25 μm. The amount of the semiconductor fine particles supported per 1 m 2 of the support is preferably 0.5 g to 400 g, and more preferably 5 to 100 g.

塗布した半導体微粒子の層に対し、半導体微粒子同士の電子的接触の強化と、支持体との密着性の向上のため、また塗布した半導体微粒子分散液を乾燥させるために、加熱処理が施される。この加熱処理により多孔質半導体微粒子層を形成することができる。
また、加熱処理に加えて光のエネルギーを用いることもできる。例えば、半導体微粒子として酸化チタンを用いた場合に、紫外光のような半導体微粒子が吸収する光を与えることで表面を活性化してもよいし、レーザー光などで半導体微粒子表面のみを活性化することができる。半導体微粒子に対して該微粒子が吸収する光を照射することで、粒子表面に吸着した不純物が粒子表面の活性化によって分解され、上記の目的のために好ましい状態とすることができる。加熱処理と紫外光を組み合わせる場合は、半導体微粒子に対して該微粒子が吸収する光を照射しながら、加熱が100℃以上250℃以下あるいは好ましくは100℃以上150℃以下で行われることが好ましい。このように、半導体微粒子を光励起することによって、微粒子層内に混入した不純物を光分解により洗浄するとともに、微粒子の間の物理的接合を強めることができる。
The applied semiconductor fine particle layer is subjected to heat treatment in order to enhance the electronic contact between the semiconductor fine particles and to improve the adhesion to the support and to dry the applied semiconductor fine particle dispersion. . By this heat treatment, a porous semiconductor fine particle layer can be formed.
In addition to heat treatment, light energy can also be used. For example, when titanium oxide is used as the semiconductor fine particles, the surface may be activated by applying light absorbed by the semiconductor fine particles such as ultraviolet light, or only the surface of the semiconductor fine particles may be activated by laser light or the like. Can do. By irradiating the semiconductor fine particles with light absorbed by the fine particles, the impurities adsorbed on the particle surface are decomposed by the activation of the particle surface, and can be brought into a preferable state for the above purpose. When heat treatment and ultraviolet light are combined, it is preferable that heating be performed at 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, or preferably 100 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, while irradiating the semiconductor fine particles with light absorbed by the fine particles. Thus, by photoexciting the semiconductor fine particles, impurities mixed in the fine particle layer can be washed by photolysis, and physical bonding between the fine particles can be strengthened.

また、半導体微粒子分散液を前記の導電性支持体に塗布し、加熱や光を照射する以外に他の処理を行ってもよい。好ましい方法として例えば、通電、化学的処理などが挙げられる。
塗布後に圧力をかけても良く、圧力をかける方法としては、特表2003−500857号公報等が挙げられる。光照射の例としては、特開2001−357896号公報等が挙げられる。プラズマ・マイクロ波・通電の例としては、特開2002−353453号公報等が挙げられる。化学的処理としては、例えば特開2001−357896号公報が挙げられる。
In addition, the semiconductor fine particle dispersion may be applied to the conductive support, and other treatments may be performed in addition to heating and light irradiation. Examples of preferred methods include energization and chemical treatment.
A pressure may be applied after application, and examples of a method for applying pressure include Japanese Patent Application Publication No. 2003-500857. Examples of light irradiation include JP-A No. 2001-357896. Examples of plasma, microwave, and energization include JP-A-2002-353453. Examples of the chemical treatment include JP-A-2001-357896.

上述の半導体微粒子を導電性支持体上に塗設する方法は、上述の半導体微粒子分散液を導電性支持体上に塗布する方法のほか、特許第2664194号公報に記載の半導体微粒子の前駆体を導電性支持体上に塗布し空気中の水分によって加水分解して半導体微粒子膜を得る方法などの方法を使用することができる。
前駆体として例えば、(NHTiF、過酸化チタン、金属アルコキシド・金属錯体・金属有機酸塩等が挙げられる。
また、金属有機酸化物(アルコキシドなど)を共存させたスラリーを塗布し加熱処理、光処理などで半導体膜を形成する方法、無機系前駆体を共存させたスラリー、スラリーのpHと分散させたチタニア粒子の性状を特定した方法が挙げられる。これらスラリーには、少量であればバインダーを添加しても良く、バインダーとしては、セルロース、フッ素ポリマー、架橋ゴム、ポリブチルチタネート、カルボキシメチルセルロースなどが挙げられる。
半導体微粒子又はその前駆体層の形成に関する技術としては、コロナ放電、プラズマ、UVなどの物理的な方法で親水化する方法、アルカリやポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸などによる化学処理、ポリアニリンなどの接合用中間膜の形成などが挙げられる。
The method for coating the above-mentioned semiconductor fine particles on the conductive support is not only the method for coating the above-mentioned semiconductor fine particle dispersion on the conductive support, but also the semiconductor fine particle precursor described in Japanese Patent No. 2664194. A method such as a method of obtaining a semiconductor fine particle film by coating on a conductive support and hydrolyzing with moisture in the air can be used.
Examples of the precursor include (NH 4 ) 2 TiF 6 , titanium peroxide, metal alkoxide / metal complex / metal organic acid salt, and the like.
Also, a method of forming a semiconductor film by applying a slurry in which a metal organic oxide (such as an alkoxide) coexists, and heat treatment, light treatment, etc., a slurry in which an inorganic precursor coexists, titania dispersed in the slurry pH The method which specified the property of particle | grains is mentioned. A binder may be added to these slurries in a small amount, and examples of the binder include cellulose, fluoropolymer, crosslinked rubber, polybutyl titanate, carboxymethyl cellulose and the like.
Techniques related to the formation of semiconductor fine particles or precursor layers thereof include corona discharge, plasma, a method of hydrophilizing by physical methods such as UV, a chemical treatment with alkali, polyethylenedioxythiophene and polystyrenesulfonic acid, polyaniline, etc. For example, formation of an interlayer film for bonding may be mentioned.

半導体微粒子を導電性支持体上に塗設する方法として、上述の(1)湿式法とともに、(2)乾式法、(3)その他の方法を併用しても良い。
(2)乾式法として好ましくは、特開2000−231943号公報等が挙げられる。
(3)その他の方法として、好ましくは、特開2002−134435号公報等が挙げられる。
As a method of coating the semiconductor fine particles on the conductive support, (2) the dry method and (3) other methods may be used in combination with the above (1) wet method.
(2) As a dry method, JP 2000-231943 A is preferable.
(3) As other methods, JP-A-2002-134435 is preferable.

乾式法としては、蒸着やスパッタリング、エアロゾルデポジション法などが挙げられる。また、電気泳動法・電析法を用いても良い。
また、耐熱基板上でいったん塗膜を作製した後、プラスチック等のフィルムに転写する方法を用いても良い。好ましくは、特開2002−184475号公報記載のEVAを介して転写する方法、特開2003−98977号公報記載の紫外線、水系溶媒で除去可能な無機塩を含む犠牲基盤上に半導体層・導電層を形成後、有機基板に転写後、犠牲基板を除去する方法などが挙げられる。
Examples of the dry method include vapor deposition, sputtering, and aerosol deposition method. Further, electrophoresis or electrodeposition may be used.
Moreover, after producing a coating film once on a heat-resistant board | substrate, you may use the method of transcribe | transferring to films, such as a plastics. Preferably, a method of transferring via EVA described in JP-A No. 2002-184475, a semiconductor layer / conductive layer on a sacrificial substrate containing an inorganic salt that can be removed with ultraviolet rays and an aqueous solvent described in JP-A No. 2003-98977 And a method of removing the sacrificial substrate after transfer to an organic substrate.

半導体微粒子は多くの色素を吸着することができるように表面積の大きいものが好ましい。例えば半導体微粒子を支持体上に塗設した状態で、その表面積が投影面積に対して10倍以上であることが好ましく、100倍以上であることがより好ましい。この上限には特に制限はないが、通常5000倍程度である。好ましい半導体微粒子の構造としては、特開2001−93591号公報等が挙げられる。   The semiconductor fine particles preferably have a large surface area so that many dyes can be adsorbed. For example, in a state where the semiconductor fine particles are coated on the support, the surface area is preferably 10 times or more, more preferably 100 times or more the projected area. Although there is no restriction | limiting in particular in this upper limit, Usually, it is about 5000 times. JP-A-2001-93591 and the like are preferable as the structure of the semiconductor fine particles.

一般に、半導体微粒子の層の厚みが大きいほど単位面積当たりに担持できる色素の量が増えるため光の吸収効率が高くなるが、発生した電子の拡散距離が増すため電荷再結合によるロスも大きくなる。半導体微粒子層の好ましい厚みは素子の用途によって異なるが、典型的には0.1〜100μmである。光電気化学電池として用いる場合は1〜50μmであることが好ましく、3〜30μmであることがより好ましい。半導体微粒子は、支持体に塗布した後に粒子同士を密着させるために、100〜800℃の温度で10分〜10時間加熱してもよい。支持体としてガラスを用いる場合、製膜温度は400〜600℃が好ましい。
支持体として高分子材料を用いる場合、250℃以下で製膜後加熱することが好ましい。その場合の製膜方法としては、(1)湿式法、(2)乾式法、(3)電気泳動法(電析法を含む)の何れでも良く、好ましくは、(1)湿式法、又は(2)乾式であり、更に好ましくは、(1)湿式法である。
なお、半導体微粒子の支持体1m当たりの塗布量は0.5〜500g、さらには5〜100gが好ましい。
In general, as the thickness of the semiconductor fine particle layer increases, the amount of dye that can be supported per unit area increases, so that the light absorption efficiency increases. However, the diffusion distance of the generated electrons increases, and the loss due to charge recombination also increases. The preferred thickness of the semiconductor fine particle layer varies depending on the use of the device, but is typically 0.1 to 100 μm. When using as a photoelectrochemical cell, it is preferable that it is 1-50 micrometers, and it is more preferable that it is 3-30 micrometers. The semiconductor fine particles may be heated at a temperature of 100 to 800 ° C. for 10 minutes to 10 hours in order to adhere the particles to each other after being applied to the support. When glass is used as the support, the film forming temperature is preferably 400 to 600 ° C.
When a polymer material is used as the support, it is preferably heated after film formation at 250 ° C. or lower. In this case, the film forming method may be any one of (1) a wet method, (2) a dry method, and (3) an electrophoresis method (including an electrodeposition method), preferably (1) a wet method, or ( 2) A dry method, more preferably (1) a wet method.
The coating amount of the semiconductor fine particles per 1 m 2 of the support is preferably 0.5 to 500 g, more preferably 5 to 100 g.

半導体微粒子に色素を吸着させるには、溶液と本発明の色素よりなる色素吸着用色素溶液の中に、製膜後の半導体電極を浸漬するのが好ましい。色素吸着用色素溶液に使用される溶液は、本発明の色素が溶解できる溶液なら特に制限なく使用することができる。例えば、エタノール、メタノール、イソプロパノール、トルエン、t−ブタノール、アセトニトリル、アセトン、n−ブタノールなどを使用することができる。その中でも、エタノール、トルエンを好ましく使用することができる。
溶液と本発明の色素よりなる色素吸着用色素溶液は必要に応じて50℃ないし100℃に加熱してもよい。色素の吸着は半導体微粒子の塗布前に行っても塗布後に行ってもよい。また、半導体微粒子と色素を同時に塗布して吸着させてもよい。未吸着の色素は洗浄によって除去する。塗布膜の焼成を行う場合は色素の吸着は焼成後に行うことが好ましい。焼成後、塗布膜表面に水が吸着する前にすばやく色素を吸着させるのが特に好ましい。吸着する色素は一般式(1)の構造を有する色素と一般式(2)の構造を有する色素とを併用することが必要である。本発明の趣旨を損なわない範囲内で他の色素をさらに混合してもよい。光電変換の波長域をできるだけ広くするように、混合する色素が選ばれる。色素を混合する場合は、すべての色素が溶解するようにして、色素吸着用色素溶液とすることが必要である。
In order to adsorb the dye to the semiconductor fine particles, it is preferable to immerse the semiconductor electrode after film formation in the dye adsorbing dye solution comprising the solution and the dye of the present invention. The solution used for the dye solution for dye adsorption can be used without particular limitation as long as it is a solution that can dissolve the dye of the present invention. For example, ethanol, methanol, isopropanol, toluene, t-butanol, acetonitrile, acetone, n-butanol and the like can be used. Among these, ethanol and toluene can be preferably used.
The dye solution for dye adsorption comprising the solution and the dye of the present invention may be heated to 50 ° C. to 100 ° C. as necessary. The adsorption of the dye may be performed before or after application of the semiconductor fine particles. Further, the semiconductor fine particles and the dye may be applied and adsorbed simultaneously. Unadsorbed dye is removed by washing. When baking a coating film, it is preferable to adsorb | suck a pigment | dye after baking. It is particularly preferable that the dye is quickly adsorbed after the baking and before water adsorbs on the surface of the coating film. The dye to be adsorbed needs to be used in combination with a dye having the structure of the general formula (1) and a dye having the structure of the general formula (2). You may further mix other pigment | dye within the range which does not impair the meaning of this invention. The dye to be mixed is selected so as to make the wavelength range of photoelectric conversion as wide as possible. When mixing the dyes, it is necessary to prepare a dye solution for dye adsorption so that all the dyes are dissolved.

色素の使用量は、全体で、支持体1m当たり0.01〜100ミリモルが好ましく、より好ましくは0.1〜50ミリモル、特に好ましくは0.1〜10ミリモルである。この場合、本発明の色素の使用量は5モル%以上とすることが好ましい。
また、色素の半導体微粒子に対する吸着量は半導体微粒子1gに対して0.001〜1ミリモルが好ましく、より好ましくは0.1〜0.5ミリモルである。
このような色素量とすることによって、半導体における増感効果が十分に得られる。これに対し、色素量が少ないと増感効果が不十分となり、色素量が多すぎると、半導体に付着していない色素が浮遊し増感効果を低減させる原因となる。
The total amount of the dye used is preferably 0.01 to 100 mmol, more preferably 0.1 to 50 mmol, particularly preferably 0.1 to 10 mmol, per 1 m 2 of the support. In this case, it is preferable that the usage-amount of the pigment | dye of this invention shall be 5 mol% or more.
Further, the adsorption amount of the dye to the semiconductor fine particles is preferably 0.001 to 1 mmol, more preferably 0.1 to 0.5 mmol, with respect to 1 g of the semiconductor fine particles.
By using such a dye amount, a sensitizing effect in a semiconductor can be sufficiently obtained. On the other hand, when the amount of the dye is small, the sensitizing effect is insufficient, and when the amount of the dye is too large, the dye not attached to the semiconductor floats and causes the sensitizing effect to be reduced.

また、会合など色素同士の相互作用を低減する目的で無色の化合物を共吸着させてもよい。共吸着させる疎水性化合物としてはカルボキシル基を有するステロイド化合物(例えばコール酸、ピバロイル酸)等が挙げられる。
色素を吸着した後に、アミン類を用いて半導体微粒子の表面を処理してもよい。好ましいアミン類としては4−tert−ブチルピリジン、ポリビニルピリジン等が挙げられる。これらは液体の場合はそのまま用いてもよいし有機溶媒に溶解して用いてもよい。
Further, a colorless compound may be co-adsorbed for the purpose of reducing the interaction between dyes such as association. Examples of the hydrophobic compound to be co-adsorbed include steroid compounds having a carboxyl group (for example, cholic acid and pivaloyl acid).
After adsorbing the dye, the surface of the semiconductor fine particles may be treated with amines. Preferred amines include 4-tert-butyl pyridine, polyvinyl pyridine and the like. These may be used as they are in the case of a liquid, or may be used by dissolving in an organic solvent.

対向電極は、光電気化学電池の正極として働くものである。対向電極は、通常前述の導電性支持体と同義であるが、強度が十分に保たれるような構成では支持体は必ずしも必要でない。ただし、支持体を有する方が密閉性の点で有利である。対向電極の材料としては、白金、カーボン、導電性ポリマー、などがあげられる。好ましい例としては、白金、カーボン、導電性ポリマーが挙げられる。   The counter electrode functions as a positive electrode of the photoelectrochemical cell. The counter electrode is usually synonymous with the conductive support described above, but the support is not necessarily required in a configuration in which the strength is sufficiently maintained. However, having a support is advantageous in terms of hermeticity. Examples of the material for the counter electrode include platinum, carbon, conductive polymer, and the like. Preferable examples include platinum, carbon, and conductive polymer.

対極の構造としては、集電効果が高い構造が好ましい。好ましい例としては、特開平10−505192号公報などが挙げられる。
受光電極は酸化チタンと酸化スズ(TiO/SnO)などの複合電極を用いても良く、チタニアの混合電極として例えば、特開2000−113913号公報等が挙げられる。チタニア以外の混合電極として例えば、特開2001−185243号公報、特開2003−282164号公報等が挙げられる。
As the structure of the counter electrode, a structure having a high current collecting effect is preferable. Preferable examples include JP-A-10-505192.
A composite electrode such as titanium oxide and tin oxide (TiO 2 / SnO 2 ) may be used as the light receiving electrode, and as a mixed electrode of titania, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-119393 may be cited. Examples of mixed electrodes other than titania include JP-A Nos. 2001-185243 and 2003-282164.

受光電極は、入射光の利用率を高めるなどのためにタンデム型にしても良い。好ましいタンデム型の構成例としては、特開2002−90989号公報等に記載の例が挙げられる。
受光電極層内部で光散乱、反射を効率的に行う光マネージメント機能を設けてもよい。好ましくは、特開2002−93476号公報に記載のものが挙げられる。
The light receiving electrode may be a tandem type in order to increase the utilization rate of incident light. Examples of preferable tandem type configurations include those described in JP-A No. 2002-90989.
A light management function for efficiently performing light scattering and reflection inside the light receiving electrode layer may be provided. Preferably, the thing of Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-93476 is mentioned.

導電性支持体と多孔質半導体微粒子層の間には、電解液と電極が直接接触することによる逆電流を防止する為、短絡防止層を形成することが好ましい。好ましい例としては、特開平06−507999号公報等が挙げられる。
受光電極と対極の接触を防ぐ為に、スペーサーやセパレータを用いることが好ましい。好ましい例としては、特開2001−283941号公報が挙げられる。
A short-circuit prevention layer is preferably formed between the conductive support and the porous semiconductor fine particle layer in order to prevent a reverse current due to direct contact between the electrolyte and the electrode. Preferable examples include Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-507999.
In order to prevent contact between the light receiving electrode and the counter electrode, it is preferable to use a spacer or a separator. A preferable example is JP-A No. 2001-283941.

(E)電解質
代表的な酸化還元対としては、例えばヨウ素とヨウ化物(例えばヨウ化リチウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウム、ヨウ化テトラプロピルアンモニウム等)との組み合わせ、アルキルビオローゲン(例えばメチルビオローゲンクロリド、ヘキシルビオローゲンブロミド、ベンジルビオローゲンテトラフルオロボレート)とその還元体との組み合わせ、ポリヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロキノン、ナフトハイドロキノン等)とその酸化体との組み合わせ、2価と3価の鉄錯体(例えば赤血塩と黄血塩)の組み合わせ等が挙げられる。これらのうちヨウ素とヨウ化物との組み合わせが好ましい。これらを溶かす有機溶媒としては、非プロトン性の極性溶媒(例えばアセトニトリル、炭酸プロピレン、炭酸エチレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、1,3−ジメチルイミダゾリノン、3−メチルオキサゾリジノン等)が好ましい。ゲル電解質のマトリクスに使用されるポリマーとしては、例えばポリアクリロニトリル、ポリビニリデンフルオリド等が挙げられる。溶融塩としては、例えばヨウ化リチウムと他の少なくとも1種類のリチウム塩(例えば酢酸リチウム、過塩素酸リチウム等)にポリエチレンオキシドを混合することにより、室温での流動性を付与したもの等が挙げられる。この場合のポリマーの添加量は1〜50質量%である。また、γ−ブチロラクトンを電解液に含んでいてもよく、これによりヨウ化物イオンの拡散効率が高くなり変換効率が向上する。
(E) Electrolyte As a typical redox couple, for example, a combination of iodine and iodide (for example, lithium iodide, tetrabutylammonium iodide, tetrapropylammonium iodide, etc.), alkyl viologen (for example, methyl viologen chloride, hexyl) A combination of viologen bromide, benzyl viologen tetrafluoroborate) and its reduced form, a combination of polyhydroxybenzenes (eg, hydroquinone, naphthohydroquinone, etc.) and its oxidant, and a divalent and trivalent iron complex (eg, red blood salt) And a combination of yellow blood salt). Of these, a combination of iodine and iodide is preferred. As the organic solvent for dissolving them, an aprotic polar solvent (for example, acetonitrile, propylene carbonate, ethylene carbonate, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, sulfolane, 1,3-dimethylimidazolinone, 3-methyloxazolidinone, etc.) is preferable. Examples of the polymer used for the matrix of the gel electrolyte include polyacrylonitrile and polyvinylidene fluoride. Examples of the molten salt include those imparted with fluidity at room temperature by mixing polyethylene oxide with lithium iodide and at least one other lithium salt (for example, lithium acetate, lithium perchlorate, etc.). It is done. In this case, the amount of the polymer added is 1 to 50% by mass. Moreover, (gamma) -butyrolactone may be contained in electrolyte solution, and thereby the diffusion efficiency of iodide ion becomes high and conversion efficiency improves.

電解質への添加物として、前述の4−tert−ブチルピリジンのほか、アミノピリジン系化合物、ベンズイミダゾール系化合物、アミノトリアゾール系化合物及びアミノチアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、アミノトリアジン系化合物、尿素誘導体、アミド化合物、ピリミジン系化合物及び窒素を含まない複素環を加えることができる。   As an additive to the electrolyte, in addition to the aforementioned 4-tert-butylpyridine, an aminopyridine compound, a benzimidazole compound, an aminotriazole compound and an aminothiazole compound, an imidazole compound, an aminotriazine compound, a urea derivative, Amide compounds, pyrimidine-based compounds and nitrogen-free heterocycles can be added.

また、効率を向上する為に、電解液の水分を制御する方法をとってもよい。水分を制御する好ましい方法としては、濃度を制御する方法や脱水剤を共存させる方法を挙げることができる。ヨウ素の毒性軽減のために、ヨウ素とシクロデキストリンの包摂化合物の使用をしてもよく、逆に水分を常時補給する方法を用いてもよい。また環状アミジンを用いてもよく、酸化防止剤、加水分解防止剤、分解防止剤、ヨウ化亜鉛を加えてもよい。   In order to improve efficiency, a method of controlling the water content of the electrolytic solution may be used. Preferred methods for controlling moisture include a method for controlling the concentration and a method in which a dehydrating agent is allowed to coexist. In order to reduce the toxicity of iodine, an inclusion compound of iodine and cyclodextrin may be used, and conversely, a method of constantly supplying water may be used. Cyclic amidine may be used, and an antioxidant, hydrolysis inhibitor, decomposition inhibitor, and zinc iodide may be added.

電解質として溶融塩を用いてもよく、好ましい溶融塩としては、イミダゾリウム又はトリアゾリウム型陽イオンを含むイオン性液体、オキサゾリウム系、ピリジニウム系、グアニジウム系およびこれらの組み合わせが挙げられる。これらカチオン系に対して特定のアニオンと組み合わせてもよい。これらの溶融塩に対しては添加物を加えてもよい。液晶性の置換基を持っていてもよい。また、四級アンモニウム塩系の溶融塩を用いてもよい。   Molten salts may be used as the electrolyte, and preferred molten salts include ionic liquids containing imidazolium or triazolium type cations, oxazolium-based, pyridinium-based, guanidinium-based, and combinations thereof. These cationic systems may be combined with specific anions. Additives may be added to these molten salts. You may have a liquid crystalline substituent. Further, a quaternary ammonium salt-based molten salt may be used.

これら以外の溶融塩としては、例えば、ヨウ化リチウムと他の少なくとも1種類のリチウム塩(例えば酢酸リチウム、過塩素酸リチウム等)にポリエチレンオキシドを混合することにより、室温での流動性を付与したもの等が挙げられる。   As molten salts other than these, for example, flowability at room temperature was imparted by mixing polyethylene oxide with lithium iodide and at least one other lithium salt (for example, lithium acetate, lithium perchlorate, etc.). And the like.

電解質と溶媒からなる電解液にゲル化剤を添加してゲル化させることにより、電解質を擬固体化してもよい。ゲル化剤としては、分子量1000以下の有機化合物、分子量500−5000の範囲のSi含有化合物、特定の酸性化合物と塩基性化合物から出来る有機塩、ソルビトール誘導体、ポリビニルピリジンが挙げられる。   The electrolyte may be quasi-solidified by adding a gelling agent to an electrolyte solution composed of an electrolyte and a solvent to cause gelation. Examples of the gelling agent include organic compounds having a molecular weight of 1000 or less, Si-containing compounds having a molecular weight in the range of 500 to 5000, organic salts made of specific acidic compounds and basic compounds, sorbitol derivatives, and polyvinylpyridine.

また、マトリックス高分子、架橋型高分子化合物又はモノマー、架橋剤、電解質及び溶媒を高分子中に閉じ込める方法を用いても良い。
マトリックス高分子として好ましくは、含窒素複素環を主鎖あるいは側鎖の繰り返し単位中に持つ高分子及びこれらを求電子性化合物と反応させた架橋体、トリアジン構造を持つ高分子、ウレイド構造をもつ高分子、液晶性化合物を含むもの、エーテル結合を有する高分子、ポリフッ化ビニリデン系、メタクリレート・アクリレート系、熱硬化性樹脂、架橋ポリシロキサン、PVA、ポリアルキレングリールとデキストリンなどの包摂化合物、含酸素または含硫黄高分子を添加した系、天然高分子などが挙げられる。これらにアルカリ膨潤型高分子、一つの高分子内にカチオン部位とヨウ素との電荷移動錯体を形成できる化合物を持った高分子などを添加しても良い。
Alternatively, a method of confining the matrix polymer, the crosslinkable polymer compound or monomer, the crosslinking agent, the electrolyte, and the solvent in the polymer may be used.
As a matrix polymer, a polymer having a nitrogen-containing heterocyclic ring in a repeating unit of a main chain or a side chain, a crosslinked product obtained by reacting these with an electrophilic compound, a polymer having a triazine structure, or having a ureido structure Polymers, liquid crystalline compounds, ether-bonded polymers, polyvinylidene fluorides, methacrylates / acrylates, thermosetting resins, crosslinked polysiloxanes, PVA, inclusion compounds such as polyalkylene glycol and dextrin, Examples include systems to which oxygen or sulfur-containing polymers are added, natural polymers, and the like. An alkali swelling polymer, a polymer having a compound capable of forming a charge transfer complex between a cation moiety and iodine in one polymer may be added to these.

マトリックスポリマーとして2官能以上のイソシアネートを一方の成分として、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基などの官能基と反応させた架橋ポリマーを含む系を用いても良い。また、ヒドロシリル基と二重結合性化合物による架橋高分子、ポリスルホン酸又はポリカルボン酸などを2価以上の金属イオン化合物と反応させる架橋方法などを用いても良い。   As the matrix polymer, a system including a cross-linked polymer obtained by reacting a functional group such as a hydroxyl group, an amino group, or a carboxyl group with one or more functional isocyanate as one component may be used. Further, a crosslinking method in which a crosslinked polymer composed of a hydrosilyl group and a double bond compound, polysulfonic acid, polycarboxylic acid, or the like is reacted with a divalent or higher valent metal ion compound may be used.

上記擬固体の電解質との組み合わせで好ましく用いることが出来る溶媒としては、特定のりん酸エステル、エチレンカーボネートを含む混合溶媒、特定の比誘電率を持つ溶媒などが挙げられる。固体電解質膜あるいは細孔に液体電解質溶液を保持させても良く、その方法として好ましくは、導電性高分子膜、繊維状固体、フィルタなどの布状固体が挙げられる。   Examples of the solvent that can be preferably used in combination with the quasi-solid electrolyte include a specific phosphate ester, a mixed solvent containing ethylene carbonate, and a solvent having a specific dielectric constant. The liquid electrolyte solution may be held in a solid electrolyte membrane or pores, and preferred methods thereof include conductive polymer membranes, fibrous solids, and cloth solids such as filters.

以上の液体電解質及び擬固体電解質の代わりにp型半導体あるいはホール輸送材料などの固体電荷輸送層を用いてもよい。固体電荷輸送層として有機ホール輸送材料を用いても良い。ホール輸送層として好ましくは、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、及びポリシランなどの導電性高分子、及び2個の環がC、Siなど四面体構造をとる中心元素を共有するスピロ化合物、トリアリールアミンなどの芳香族アミン誘導体、トリフェニレン誘導体、含窒素複素環誘導体、液晶性シアノ誘導体が挙げられる。   A solid charge transport layer such as a p-type semiconductor or a hole transport material may be used instead of the above liquid electrolyte and quasi-solid electrolyte. An organic hole transport material may be used as the solid charge transport layer. The hole transport layer is preferably a conductive polymer such as polythiophene, polyaniline, polypyrrole, and polysilane, and a spiro compound in which two rings share a central element having a tetrahedral structure such as C or Si, a triarylamine, etc. Aromatic amine derivatives, triphenylene derivatives, nitrogen-containing heterocyclic derivatives, liquid crystal cyano derivatives are exemplified.

酸化還元対は、電子のキャリアになるので、ある程度の濃度が必要である。好ましい濃度としては合計で0.01モル/l以上であり、より好ましくは0.1モル/lであり、特に好ましくは0.3モル/l以上である。この場合の上限には特に制限はないが、通常5モル/l程度である。   Since the redox couple becomes an electron carrier, a certain concentration is required. The preferred concentration is 0.01 mol / l or more in total, more preferably 0.1 mol / l, and particularly preferably 0.3 mol / l or more. The upper limit in this case is not particularly limited, but is usually about 5 mol / l.

以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, this invention is not limited to these.

1.色素の調製

Figure 0005620315
(A−1)0.17gと(B−1)0.40gを1−ブタノール10mlとトルエン10mlの混合溶媒中で混合し、6時間120℃に加熱下攪拌した。得られた結晶を吸引ろ過によりろ別し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製して、前述のS−13(0.10g)を調製した。
また以下の方法により、参考例の色素R−4を調製した。
Figure 0005620315
4,4’−ビス[2−(5−ヘキシル−2−チエニル)ビニル]−2,2’−ビピリジン(0.30g、0.49mmol)とジクロロ(p−シメン)ルテニウム(II)二量体(0.15g、0.24mmol)のDMF25ml溶液をマイクロ波(200W)、窒素暗雰囲気下、60℃で10分間加熱した。続いて2,2’−ビピリジン−4,4’−ジカルボン酸(0.24g、0.98mmol)を添加し、150℃で10分間加熱した。温度を100℃に冷却し、チオシアン酸アンモニウム(1.6g、水10mlの溶液)を加え、120℃で10分間反応させた。温度を室温まで下げ、DMFを真空蒸留した。水150mlを残留物に添加し、30分間浸漬した。不溶物を集め、水とジエチルエーテルで洗浄した。粗生成物をTBAOH(水酸化テトラブチルアンモニウム)と共にメタノールに溶解し、メタノールを流出液として、SephadexLH−20カラムで精製した。主層の生成物を回収濃縮し、硝酸0.2Mを添加して沈殿物を得た。この生成物を集め、室温で真空乾燥後、0.63gのルテニウム錯体(R−4)を得た.
1. Dye preparation
Figure 0005620315
0.17 g of (A-1) and 0.40 g of (B-1) were mixed in a mixed solvent of 10 ml of 1-butanol and 10 ml of toluene and stirred while heating at 120 ° C. for 6 hours. The obtained crystals were separated by suction filtration and purified by silica gel column chromatography to prepare the aforementioned S-13 (0.10 g).
Moreover, the pigment | dye R-4 of the reference example was prepared with the following method.
Figure 0005620315
4,4′-bis [2- (5-hexyl-2-thienyl) vinyl] -2,2′-bipyridine (0.30 g, 0.49 mmol) and dichloro (p-cymene) ruthenium (II) dimer A solution (0.15 g, 0.24 mmol) of DMF in 25 ml was heated at 60 ° C. for 10 minutes in a microwave (200 W) under nitrogen dark atmosphere. Subsequently, 2,2′-bipyridine-4,4′-dicarboxylic acid (0.24 g, 0.98 mmol) was added and heated at 150 ° C. for 10 minutes. The temperature was cooled to 100 ° C., ammonium thiocyanate (1.6 g, a solution of 10 ml of water) was added, and the mixture was reacted at 120 ° C. for 10 minutes. The temperature was lowered to room temperature and DMF was distilled in vacuo. 150 ml of water was added to the residue and immersed for 30 minutes. The insoluble material was collected and washed with water and diethyl ether. The crude product was dissolved in methanol together with TBAOH (tetrabutylammonium hydroxide), and purified with a Sephadex LH-20 column using methanol as the effluent. The product of the main layer was collected and concentrated, and 0.2M nitric acid was added to obtain a precipitate. This product was collected and vacuum dried at room temperature to obtain 0.63 g of ruthenium complex (R-4).

(例示化合物D−1−1aの調製)
下記のスキームの方法に従って例示色素D−1−1aを調製した。
(Preparation of Exemplified Compound D-1-1a)
Exemplified dye D-1-1a was prepared according to the method of the following scheme.

(i)化合物d−1−2の調製
d−1−1 25g、Pd(dba)33.8g、トリフェニルホスフィン8.6g、ヨウ化銅2.5g、1−へプチン25.2gをトリエチルアミン70ml、テトラヒドロフラン50mlに室温で攪拌し、80℃で4.5時間攪拌した。濃縮後カラムクロマトグラフィーで精製することで化合物d−1−2 26.4gを得た。
(ii)d−1−4の調製
d−1−3 6.7gを窒素雰囲気下、−15℃でTHF(テラヒドロフラン)200mlに溶解し、別途調整したLDA(リチウムジイソプロピルアミド)をd−1−3の2.5等量を滴下し、75分攪拌した。その後d−1−2 15gをTHF30mlに溶解した溶液を滴下し0℃で1時間攪拌し、室温で終夜攪拌した。濃縮後、水150mlを加え、塩化メチレン150mlで分液・抽出し、塩水で有機層を洗浄し、有機層を濃縮した。得られた結晶はメタノールで再結晶後、d−1−4 18.9gを得た。
(I) Preparation of Compound d-1-2 d-1-1 25 g, Pd (dba) 33.8 g, triphenylphosphine 8.6 g, copper iodide 2.5 g, 1-heptin 25.2 g were triethylamine 70 ml. The mixture was stirred in 50 ml of tetrahydrofuran at room temperature and stirred at 80 ° C. for 4.5 hours. After concentration, 26.4 g of compound d-1-2 was obtained by purification by column chromatography.
(Ii) Preparation of d-1-4 6.7 g of d-1-3 was dissolved in 200 ml of THF (terahydrofuran) at −15 ° C. in a nitrogen atmosphere, and separately prepared LDA (lithium diisopropylamide) was d- 2.5 equivalents of 1-3 were added dropwise and stirred for 75 minutes. Thereafter, a solution obtained by dissolving 15 g of d-1-2 in 30 ml of THF was dropped, and the mixture was stirred at 0 ° C. for 1 hour, and stirred at room temperature overnight. After concentration, 150 ml of water was added, liquid separation and extraction were performed with 150 ml of methylene chloride, the organic layer was washed with brine, and the organic layer was concentrated. The obtained crystal was recrystallized from methanol to obtain 18.9 g of d-1-4.

(iii)化合物d−1−5の調製
d−1−4 13.2g、PPTS(ピリジニウムパラトルエンスルホン酸)1.7gを、トルエン1000mlに加え、窒素雰囲気下で5時間加熱還流を行った。濃縮後、飽和重曹水及び塩化メチレンで分液を行い、有機層を濃縮した。得られた結晶はメタノール及び塩化メチレンで再結晶後、d−1−5 11.7gを得た。
(iv)例示色素D−1−1aの調製
化合物d−1−5 4.0g、d−1−6 2.2g、をDMF60mlに加え70℃で4時間攪拌した。その後d−1−7 2.1gを加え160℃で3.5時間加熱攪拌した。その後チオシアン酸アンモニウム 19.0gを加え130℃で5時間攪拌した。濃縮後、水1.3ml加えろかし、ジエチルエーテルで洗った。粗精製物をTBAOH(水酸化テトラブチルアンモニウム)と共にメタノール溶液に溶解し、SephadeXLH−20カラムで精製した。主層の分画を回収し濃縮後硝酸0.2Mを添加して、沈殿物をろ過後、水及びジエチルエーテルで洗い、D−1−1b 600mgを得た。精製物をメタノール溶液に溶解し、硝酸1Mを添加して沈殿物をろ過後、水及びジエチルエーテルで洗い、D−1―1aを570mg得た。
得られた化合物D−1―1aの構造はNMR測定により確認した。
H−NMR(DMSO−d、400MHz):δ(ppm)in aromatic regions:9.37(1H,d),9.11(1H,d),9.04(1H,s)、8.89(2H),8.74(1H,s),8.26(1H,d),8.10−7.98(2H),7.85−7.73(2H),7.60(1H,d),7.45−7.33(2H),7.33−7.12(5H,m),6.92(1H,d)
得られた例示色素D−1−1aについて、エタノール溶媒で色素の濃度が8.5μmol/lとなるように調製し、分光吸収測定を行ったところ、吸収極大波長は568nmであった。

Figure 0005620315
(Iii) Preparation of Compound d-1-5 13.2 g of d-1-4 and 1.7 g of PPTS (pyridinium paratoluenesulfonic acid) were added to 1000 ml of toluene, and the mixture was heated to reflux for 5 hours in a nitrogen atmosphere. After concentration, liquid separation was performed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and methylene chloride, and the organic layer was concentrated. The obtained crystals were recrystallized from methanol and methylene chloride to obtain 11.7 g of d-1-5.
(Iv) Preparation of Exemplified Dye D-1-1a Compound d-1-5 4.0 g and d-1-6 2.2 g were added to DMF 60 ml and stirred at 70 ° C. for 4 hours. Thereafter, 2.1 g of d-1-7 was added and the mixture was heated and stirred at 160 ° C. for 3.5 hours. Thereafter, 19.0 g of ammonium thiocyanate was added and stirred at 130 ° C. for 5 hours. After concentration, 1.3 ml of water was added and filtered, and washed with diethyl ether. The crude product was dissolved in a methanol solution together with TBAOH (tetrabutylammonium hydroxide) and purified with a Sephade XLH-20 column. The main layer fraction was collected and concentrated, and then 0.2 M nitric acid was added. The precipitate was filtered and washed with water and diethyl ether to obtain 600 mg of D-1-1b. The purified product was dissolved in a methanol solution, 1M nitric acid was added, the precipitate was filtered, and washed with water and diethyl ether to obtain 570 mg of D-1-1-1a.
The structure of the obtained compound D-1-1a was confirmed by NMR measurement.
1 H-NMR (DMSO-d 6 , 400 MHz): δ (ppm) in aromatic regions: 9.37 (1H, d), 9.11 (1H, d), 9.04 (1H, s), 8. 89 (2H), 8.74 (1H, s), 8.26 (1H, d), 8.10-7.98 (2H), 7.85-7.73 (2H), 7.60 (1H , D), 7.45-7.33 (2H), 7.33-7.12 (5H, m), 6.92 (1H, d)
About the obtained exemplary pigment | dye D-1-1a, it prepared so that the density | concentration of pigment | dye might be 8.5 micromol / l with an ethanol solvent, and when the spectral absorption measurement was performed, the absorption maximum wavelength was 568 nm.
Figure 0005620315

(例示色素D−1−21aの調製)
下記のスキームの方法に従ってd−2−4を調製し、以下例示色素D−1−1aと同様にして例示色素D−1−21aを調製した。得られた例示色素D−1−21aについて、エタノール溶媒で色素の濃度が8.5μmol/lとなるように調製し、分光吸収測定を行ったところ、吸収極大波長は570nmであった。

Figure 0005620315
(Preparation of Exemplified Dye D-1-21a)
In accordance with the method of the following scheme, d-2-4 was prepared, and Exemplified Dye D-1-21a was prepared in the same manner as Exemplified Dye D-1-1a below. About the obtained exemplary pigment | dye D-1-21a, when it prepared so that the density | concentration of pigment | dye might be set to 8.5 micromol / l with an ethanol solvent, and the spectral absorption measurement was performed, the absorption maximum wavelength was 570 nm.
Figure 0005620315

参考例の色素D−1−16aの調製)
下記のスキームの方法に従ってd−3−2を調製し、以下例示色素D−1−1aと同様に、参考例の色素D−1−16aを調製した。得られた参考例の色素D−1−16aについて、エタノール溶媒で色素の濃度が8.5μmol/lとなるように調製し、分光吸収測定を行ったところ、吸収極大波長は574nmであった。

Figure 0005620315
( Preparation of Dye D-1-16a of Reference Example )
In accordance with the method of the following scheme, d-3-2 was prepared, and a dye D-1-16a of Reference Example was prepared in the same manner as the exemplified dye D-1-1a. About the obtained pigment | dye D-1-16a of the obtained reference example, when the density | concentration of the pigment | dye was prepared so that it might become 8.5 micromol / l with the ethanol solvent, and the spectral absorption measurement was performed, the absorption maximum wavelength was 574 nm.
Figure 0005620315

参考例の色素D−1−17aの調製)
下記のスキームの方法に従ってd−4−2を調製し、以下例示色素D−1−1aと同様にして、参考例の色素D−1−17aを調製した。得られた参考例の色素D−1−17aについて、エタノール溶媒で色素の濃度が8.5μmol/lとなるように調製し、分光吸収測定を行ったところ、吸収極大波長は588nmであった。

Figure 0005620315
( Preparation of Dye D-1-17a of Reference Example )
In accordance with the method of the following scheme, d-4-2 was prepared, and in the same manner as Exemplified Dye D-1-1a, Reference Example Dye D-1-17a was prepared. About the obtained pigment | dye D-1-17a of the reference example, it prepared so that the density | concentration of the pigment | dye might be 8.5 micromol / l with an ethanol solvent, and when the spectral absorption measurement was performed, the absorption maximum wavelength was 588 nm.
Figure 0005620315

(例示色素D−1−22aの調製)
下記のスキームの方法に従ってd−5−6を調製し、以下例示色素D−1−1aと同様にして、例示色素D−1−22aを調製した。得られた例示色素D−1−22aについて、エタノール溶媒で色素の濃度が8.5μmol/lとなるように調製し、分光吸収測定を行ったところ、吸収極大波長は570nmであった。

Figure 0005620315
(Preparation of Exemplified Dye D-1-22a)
D-5-6 was prepared according to the method of the following scheme, and Exemplified Dye D-1-22a was prepared in the same manner as Exemplified Dye D-1-1a below. About the obtained exemplary pigment | dye D-1-22a, when it prepared so that the density | concentration of pigment | dye might be set to 8.5 micromol / l with an ethanol solvent, and the spectral absorption measurement was performed, the absorption maximum wavelength was 570 nm.
Figure 0005620315

参考例のD−1−23aの調製)
下記のスキームの方法に従ってd−6−3を調製し、以下例示色素D−1−1aと同様にして参考例の色素D−1−23aを調製した。得られた参考例の色素D−1−23aについて、エタノール溶媒で色素の濃度が8.5μmol/lとなるように調製し、分光吸収測定を行ったところ、吸収極大波長は571nmであった。

Figure 0005620315
( Preparation of Reference Example D-1-23a)
In accordance with the method of the following scheme, d-6-3 was prepared, and then a dye D-1-23a of Reference Example was prepared in the same manner as the exemplified dye D-1-1a. About the obtained pigment | dye D-1-23a of the obtained reference example, when the density | concentration of the pigment | dye was prepared with an ethanol solvent so that it might become 8.5 micromol / l, and the spectral absorption measurement was performed, the absorption maximum wavelength was 571 nm.
Figure 0005620315

(例示色素D−1−24aの調製)
前記例示色素D−1−21aの調製において、d−2−2の代わりに下記のd−7−1を用いて、D−1−24aを調製した。得られた例示色素D−1−24aについて、エタノール溶媒で色素の濃度が8.5μmol/lとなるように調製し、分光吸収測定を行ったところ、吸収極大波長は574nmであった。

Figure 0005620315
(Preparation of Exemplified Dye D-1-24a)
In the preparation of the exemplified dye D-1-21a, D-1-24a was prepared by using the following d-7-1 instead of d-2-2. About the obtained exemplary pigment | dye D-1-24a, it prepared so that the density | concentration of the pigment | dye might be set to 8.5 micromol / l with the ethanol solvent, and when the spectral absorption measurement was performed, the absorption maximum wavelength was 574 nm.
Figure 0005620315

参考例の色素D−8−1の調製)
下記のスキームの方法に従って、以下例示色素D−1−1aと同様にして、参考例の色素D−8−1を調製した。得られた参考例の色素D−8−1について、エタノール溶媒で色素の濃度が8.5μmol/lとなるように調製し、分光吸収測定を行ったところ、吸収極大波長は580nmであった。

Figure 0005620315
( Preparation of Reference Example Dye D-8-1)
According to the method of the following scheme, Reference Example Dye D-8-1 was prepared in the same manner as Exemplified Dye D-1-1a. About the obtained pigment | dye D-8-1 of the reference example, it prepared so that the density | concentration of pigment | dye might be 8.5 micromol / l with an ethanol solvent, and when the spectral absorption measurement was performed, the absorption maximum wavelength was 580 nm.
Figure 0005620315

前記の方法で調製した一般式(2)の色素は以下のとおりである。

Figure 0005620315
The dye of the general formula (2) prepared by the above method is as follows.
Figure 0005620315

[実験1]
(光電変換素子の作製)
図1に示す光電変換素子を以下のようにして作製した。
ガラス基板上に、透明導電膜としてフッ素をドープした酸化スズをスパッタリングにより形成し、これをレーザーでスクライブして、透明導電膜を2つの部分に分割した。このうち一方の導電膜上にアナターゼ型酸化チタン粒子を焼結して受光電極を作製した。その後、受光電極上にシリカ粒子とルチルとを40:60(質量比)で含有する分散液を塗布及び焼結して絶縁性多孔体を形成した。次いで対極として炭素電極を形成した。
[Experiment 1]
(Preparation of photoelectric conversion element)
The photoelectric conversion element shown in FIG. 1 was produced as follows.
On the glass substrate, tin oxide doped with fluorine was formed as a transparent conductive film by sputtering, and this was scribed with a laser to divide the transparent conductive film into two parts. Among these, anatase-type titanium oxide particles were sintered on one conductive film to produce a light receiving electrode. Thereafter, a dispersion containing 40:60 (mass ratio) of silica particles and rutile was applied and sintered on the light receiving electrode to form an insulating porous body. Next, a carbon electrode was formed as a counter electrode.

次に、絶縁性多孔体を形成したガラス基板を下記表1に記載された色素のエタノール溶液(色素が2種類のときは、1×10−4モル/lの混合溶液、1種類の場合は同濃度の単独溶液)に24時間浸漬した。増感色素の染着したガラスを4−tert−ブチルピリジンの10%エタノール溶液に30分間浸漬した後、エタノールで洗浄し自然乾燥させた。このようにして得られる感光体の厚さは10μmであり、半導体微粒子の塗布量は20g/mとした。色素の塗布量は、色素の種類に応じ、最適な増感度を示すように、適宜0.1〜10ミリモル/mの範囲から選択した。
電解液としては、ヨウ化ジメチルプロピルイミダゾリウム(0.5モル/l)、ヨウ素(0.1モル/l)のメトキシプロピオニトリル溶液を用いた。
Next, the glass substrate on which the insulating porous body was formed was mixed with an ethanol solution of a dye described in Table 1 below (when there were two kinds of dyes, a mixed solution of 1 × 10 −4 mol / l, when one kind was used) It was immersed in a single solution of the same concentration for 24 hours. The glass dyed with the sensitizing dye was immersed in a 10% ethanol solution of 4-tert-butylpyridine for 30 minutes, then washed with ethanol and naturally dried. The thickness of the photoreceptor thus obtained was 10 μm, and the coating amount of semiconductor fine particles was 20 g / m 2 . The coating amount of the dye was appropriately selected from the range of 0.1 to 10 mmol / m 2 so as to show the optimum sensitization according to the kind of the dye.
As the electrolytic solution, a methoxypropionitrile solution of dimethylpropylimidazolium iodide (0.5 mol / l) and iodine (0.1 mol / l) was used.

(色素の極大吸収波長の測定)
用いた色素の極大吸収波長を測定した。測定は、分光光度計(U−4100(商品名)、日立ハイテク製)によって行い、溶液はテトラヒドロフラン:エタノール=1:1を用い、色素の濃度が2μMになるようにした。その結果を表1に示す。
(Measurement of maximum absorption wavelength of dye)
The maximum absorption wavelength of the dye used was measured. The measurement was performed with a spectrophotometer (U-4100 (trade name), manufactured by Hitachi High-Tech), and the solution was tetrahydrofuran: ethanol = 1: 1 so that the dye concentration was 2 μM. The results are shown in Table 1.

(光電変換効率の測定)
500Wのキセノンランプ(ウシオ製)の光をAM1.5Gフィルター(Oriel社製)およびシャープカットフィルター(KenkoL−42(商品名)、Kenko社製)を通すことにより紫外線を含まない模擬太陽光を発生させた。この光の強度は89mW/cmであった。作製した光電変換素子にこの光を照射し、発生した電気を電流電圧測定装置(ケースレー238型(商品名)、ケースレー社製)で測定した。これにより求めた光電気化学電池の変換効率の初期値を測定した結果を表1に示した。また、光照射後の耐久性も同様に評価した。
変換効率が8.5%以上のものを◎、8%以上8.5%未満のものを○、8%以上6.5%未満のものを△、6.5%未満のものを×とし、変換効率が8%以上のものを合格、変換効率が8%未満のものを不合格とした。
(Measurement of photoelectric conversion efficiency)
Simulated sunlight that does not contain ultraviolet rays is generated by passing the light of a 500 W xenon lamp (made by Ushio) through an AM1.5G filter (made by Oriel) and a sharp cut filter (KenkoL-42 (trade name), made by Kenko). I let you. The intensity of this light was 89 mW / cm 2 . The produced photoelectric conversion element was irradiated with this light, and the generated electricity was measured with a current-voltage measuring device (Caseley 238 type (trade name), manufactured by Keithley). Table 1 shows the results obtained by measuring the initial value of the conversion efficiency of the photoelectrochemical cell thus obtained. The durability after light irradiation was also evaluated in the same manner.
A conversion efficiency of 8.5% or more is ◎, 8% or more and less than 8.5% is ○, 8% or more and less than 6.5% is △, and less than 6.5% is ×, A conversion efficiency of 8% or more was accepted and a conversion efficiency of less than 8% was rejected.

Figure 0005620315
表1からわかるように、一般式(1)の構造を有する色素と、一般式(2)の構造を有する色素を併用した場合は、一般式(1)の構造を有する色素単独又は一般式(2)の構造を有する色素単独の場合と比較して、合格レベルの変換効率の光電気化学電池が得られた。
実験1の比較例で使用した色素R−6は以下のものを表す。
Figure 0005620315
Figure 0005620315
As can be seen from Table 1, when the dye having the structure of the general formula (1) and the dye having the structure of the general formula (2) are used in combination, the dye having the structure of the general formula (1) alone or the general formula ( Compared to the case of the dye alone having the structure of 2), a photoelectrochemical cell having an acceptable conversion efficiency was obtained.
The dye R-6 used in the comparative example of Experiment 1 represents the following.
Figure 0005620315

[実験2]
ガラス基板上にITO膜を作製し、その上にFTO膜を積層することにより、透明導電膜を作製した。その後透明導電膜上に酸化物半導体多孔質膜を形成することにより、透明電極板を得た。そしてその透明電極板を使用して光電気化学電池を作製し、変換効率を測定した。その方法は以下の(1)〜(5)の通りである。
[Experiment 2]
An ITO film was produced on a glass substrate, and an FTO film was laminated thereon to produce a transparent conductive film. Then, a transparent electrode plate was obtained by forming an oxide semiconductor porous film on the transparent conductive film. And the photoelectrochemical cell was produced using the transparent electrode plate, and conversion efficiency was measured. The method is as follows (1)-(5).

(1)ITO(インジウム・スズ・オキサイド)膜用原料化合物溶液の調製
塩化インジウム(III)四水和物5.58gと塩化スズ(II)二水和物0.23gとをエタノール100mlに溶解して、ITO膜用原料化合物溶液とした。
(1) Preparation of raw material compound solution for ITO (indium / tin / oxide) film Indium (III) tetrahydrate 5.58 g and tin (II) chloride dihydrate 0.23 g were dissolved in 100 ml of ethanol. Thus, a raw material compound solution for the ITO film was obtained.

(2)FTO(フッ素ドープ酸化スズ)膜用原料化合物溶液の調製
塩化スズ(IV)五水和物0.701gをエタノール10mlに溶解し、これにフッ化アンモニウム0.592gの飽和水溶液を加え、この混合物を超音波洗浄機に約20分間かけ、完全に溶解して、FTO膜用原料化合物溶液とした。
(2) Preparation of FTO (Fluorine Doped Tin Oxide) Film Raw Material Compound Solution 0.701 g of tin (IV) chloride pentahydrate was dissolved in 10 ml of ethanol, and 0.592 g of a saturated aqueous solution of ammonium fluoride was added thereto. This mixture was subjected to an ultrasonic cleaning machine for about 20 minutes and completely dissolved to obtain a raw material compound solution for an FTO film.

(3)ITO/FTO透明導電膜の作製
厚さ2mmの耐熱ガラス基板の表面を化学洗浄し、乾燥した後、このガラス板を反応器内に置き、ヒータで加熱した。ヒータの加熱温度が450℃になったところで、(1)で得られたITO膜用原料化合物溶液を、口径0.3mmのノズルから圧力0.06MPaで、ガラス基板までの距離を400mmとして、25分間噴霧した。
このITO膜用原料化合物溶液の噴霧後、2分間(この間ガラス基板表面にエタノールを噴霧し続け、基板表面温度の上昇を抑えるようにした。)経過し、ヒータの加熱温度が530℃になった時に、(2)で得られたFTO膜用原料化合物溶液を同様の条件で2分30秒間噴霧した。これにより、耐熱ガラス板上に厚さ530nmのITO膜、厚さ170nmのFTO膜が順次形成された透明電極板が得られた。
比較のため、厚さ2mmの耐熱ガラス基板上に同様に、厚さ530nmのITO膜のみを成膜した透明電極板と、同じく厚さ180nmのFTO膜のみを成膜した透明電極板とをそれぞれ作製した。
これら3種の透明電極板を加熱炉にて、450℃で2時間加熱した。
(3) Preparation of ITO / FTO transparent conductive film The surface of a heat-resistant glass substrate having a thickness of 2 mm was chemically washed and dried, and then this glass plate was placed in a reactor and heated with a heater. When the heating temperature of the heater reached 450 ° C., the raw material compound solution for ITO film obtained in (1) was adjusted from a nozzle with a diameter of 0.3 mm to a pressure of 0.06 MPa and a distance to the glass substrate of 400 mm, 25 Sprayed for a minute.
After spraying the raw material compound solution for ITO film, 2 minutes passed (ethanol was sprayed on the glass substrate surface during this period to suppress the rise of the substrate surface temperature), and the heating temperature of the heater became 530 ° C. Occasionally, the FTO membrane raw material compound solution obtained in (2) was sprayed for 2 minutes 30 seconds under the same conditions. As a result, a transparent electrode plate was obtained in which an ITO film having a thickness of 530 nm and an FTO film having a thickness of 170 nm were sequentially formed on the heat-resistant glass plate.
For comparison, similarly, a transparent electrode plate in which only a 530 nm thick ITO film is formed on a heat resistant glass substrate having a thickness of 2 mm and a transparent electrode plate in which only a 180 nm thick FTO film is formed are respectively provided. Produced.
These three types of transparent electrode plates were heated in a heating furnace at 450 ° C. for 2 hours.

(4)光電気化学電池の作製
次に、上記3種の透明電極板を用いて、特許第4260494号公報の図2に示した構造の光電気化学電池を作製した。
酸化物半導体多孔質膜15の形成は、平均粒径約230nmの酸化チタン微粒子をアセトニトリルに分散してペーストとし、これを透明電極11上にバーコート法により厚さ15μmに塗布し、乾燥後450℃で1時間焼成して行い、この酸化物半導体多孔質膜15に表2記載の色素を担持した。
さらに、対極16には、ガラス基板上にITO膜とFTO膜とを積層した導電性基板を使用し、電解質層17には、ヨウ素/ヨウ化物の非水溶液からなる電解液を用いた。光電気化学電池の平面寸法は25mm×25mmとした。
(4) Production of photoelectrochemical cell Next, a photoelectrochemical cell having the structure shown in FIG. 2 of Japanese Patent No. 4260494 was produced using the above three types of transparent electrode plates.
The oxide semiconductor porous film 15 is formed by dispersing fine particles of titanium oxide having an average particle diameter of about 230 nm in acetonitrile to form a paste, applying the paste to the transparent electrode 11 to a thickness of 15 μm by a bar coating method, and drying 450 The oxide semiconductor porous film 15 was loaded with the dyes listed in Table 2 by baking at 1 ° C. for 1 hour.
Further, a conductive substrate in which an ITO film and an FTO film were laminated on a glass substrate was used for the counter electrode 16, and an electrolytic solution made of a non-aqueous solution of iodine / iodide was used for the electrolyte layer 17. The planar dimension of the photoelectrochemical cell was 25 mm × 25 mm.

(5)光電気化学電池の評価
この光電気化学電池について、実験1と同様の方法で模擬太陽光を照射し、変換効率をと耐久性を求めた。その結果を表2に示す。結果は、試料No.9を1としたときの相対値を示した。この変換効率の相対値が0.6以上のものを合格とした。また耐久性の低下率が80%以上のものを◎、60%以上〜80%未満のものを○、60%未満のものを△とし、○と◎を合格とした。
(5) Evaluation of photoelectrochemical cell About this photoelectrochemical cell, simulated sunlight was irradiated by the method similar to Experiment 1, and conversion efficiency and durability were calculated | required. The results are shown in Table 2. The result is Sample No. The relative value when 9 is 1 is shown. Those having a relative value of the conversion efficiency of 0.6 or more were regarded as acceptable. Also, the rate of decrease in durability was 80% or more, ◎, 60% or more to less than 80% were evaluated as ◯, less than 60% were evaluated as △, and ○ and ◎ were evaluated as acceptable.

Figure 0005620315
表2の結果からわかるように、導電層がITO膜のみの場合やFTO膜のみの場合は、一般式(1)の構造を有する色素と、一般式(2)の構造を有する色素を併用した場合は、変換効率は低くなった。しかしそれでも色素を併用することにより、導電層がITO膜のみの場合やFTO膜のみの場合でも、合格レベルの変換効率の光電気化学電池が得られた。
Figure 0005620315
As can be seen from the results in Table 2, when the conductive layer is only an ITO film or only an FTO film, the dye having the structure of the general formula (1) and the dye having the structure of the general formula (2) are used in combination. If so, the conversion efficiency was low. However, even when the dye was used in combination, a photoelectrochemical cell having an acceptable conversion efficiency was obtained even when the conductive layer was only an ITO film or only an FTO film.

[実験3]
FTO膜上に集電電極を配し、光電気化学電池を作製し、変換効率を評価した。評価は以下の通り、試験セル(i)と試験セル(iv)の2種類とした。
[Experiment 3]
A collecting electrode was arranged on the FTO film to produce a photoelectrochemical cell, and the conversion efficiency was evaluated. Evaluation was made into two types, test cell (i) and test cell (iv) as follows.

(試験セル(i))
100mm×100mm×2mmの耐熱ガラス板の表面を化学洗浄し、乾燥した後、このガラス基板を反応器内に置き、ヒータで加熱した後、実施例IIで使用したFTO(フッ素ドープ酸化スズ)膜用原料化合物溶液を、口径0.3mmのノズルから圧力0.06MPaで、ガラス板までの距離を400mmとして、25分間噴霧し、FTO膜付きガラス基板を用意した。
その表面に、エッチング法により深さ5μmの溝を格子回路パターン状に形成した。フォトリソグラフでパターン形成した後に、フッ酸を用いてエッチングを行った。これに、めっき形成を可能とするためにスパッタ法により金属導電層(シード層)を形成し、更にアディティブめっきにより金属配線層3を形成した。金属配線層3は、透明基板2表面から凸レンズ状に3μm高さまで形成した。回路幅は60μmとした。この上から、遮蔽層5としてFTO膜を400nmの厚さでSPD法により形成して、電極基板(i)とした。なお、電極基板(i)の断面形状は、特開2004−146425号公報に記載された図2に示すものとなっていた。
(Test cell (i))
The surface of a 100 mm × 100 mm × 2 mm heat-resistant glass plate was chemically cleaned and dried, and then this glass substrate was placed in a reactor and heated with a heater, and then the FTO (fluorine-doped tin oxide) film used in Example II The raw material compound solution was sprayed from a nozzle having a diameter of 0.3 mm at a pressure of 0.06 MPa and a distance to the glass plate of 400 mm for 25 minutes to prepare a glass substrate with an FTO film.
On the surface, grooves having a depth of 5 μm were formed in a lattice circuit pattern by an etching method. After pattern formation by photolithography, etching was performed using hydrofluoric acid. A metal conductive layer (seed layer) was formed thereon by sputtering in order to enable plating formation, and a metal wiring layer 3 was further formed by additive plating. The metal wiring layer 3 was formed in a convex lens shape from the surface of the transparent substrate 2 to a height of 3 μm. The circuit width was 60 μm. From this, an FTO film having a thickness of 400 nm was formed as the shielding layer 5 by the SPD method to obtain an electrode substrate (i). Note that the cross-sectional shape of the electrode substrate (i) was as shown in FIG. 2 described in JP-A No. 2004-146425.

電極基板(i)上に平均粒径25nmの酸化チタン分散液を塗布・乾燥し、450℃で1時間加熱・焼結した。これを表3に示す色素のエタノール溶液中に40分間浸漬して色素担持した。50μm厚の熱可塑性ポリオレフィン樹脂シートを介して白金スパッタFTO基板と対向して配置し、樹脂シート部を熱溶融させて両極板を固定した。
なおあらかじめ白金スパッタ極側に開けておいた電解液の注液口から、0.5Mのヨウ化塩と0.05Mのヨウ素とを主成分に含むメトキシアセトニトリル溶液を注液し、電極間に満たした。さらに周辺部及び電解液注液口をエポキシ系封止樹脂で封止し、集電端子部に銀ペーストを塗布して試験セル(i)とした。AM1.5の疑似太陽光により、実施例Iと同様の方法で、試験セル(i)の光電変換特性を評価した。その結果を表3に示した。
A titanium oxide dispersion having an average particle size of 25 nm was applied and dried on the electrode substrate (i), and heated and sintered at 450 ° C. for 1 hour. This was immersed in an ethanol solution of the dye shown in Table 3 for 40 minutes to carry the dye. It arrange | positioned facing a platinum sputter | spatter FTO board | substrate through a 50-micrometer-thick thermoplastic polyolefin resin sheet, the resin sheet part was heat-melted, and the bipolar plate was fixed.
A methoxyacetonitrile solution containing 0.5M iodide and 0.05M iodine as the main components was injected from the electrolyte solution inlet previously opened on the platinum sputter electrode side, and filled between the electrodes. It was. Furthermore, the peripheral part and the electrolyte solution injection port were sealed with an epoxy-based sealing resin, and a silver paste was applied to the current collecting terminal part to obtain a test cell (i). The photoelectric conversion characteristics of the test cell (i) were evaluated in the same manner as in Example I using AM1.5 simulated sunlight. The results are shown in Table 3.

(試験セル(iv))
試験セル(i)と同様の方法で100×100mmのFTO膜付きガラス基板を用意した。そのFTOガラス基板上に、アディティブめっき法により金属配線層3(金回路)を形成した。金属配線層3(金回路)は基板表面に格子状に形成し、回路幅50μm、回路厚5μmとした。この表面に厚さ300nmのFTO膜を遮蔽層5としてSPD法により形成して試験セル(iv)とした。電極基板(iv)の断面をSEM−EDXを用いて確認したところ、配線底部でめっきレジストの裾引きに起因すると思われる潜り込みがあり、影部分にはFTOが被覆されていなかった。
電極基板(iv)を用い、試験セル(i)と同様に、試験セル(iv)を作製した。実験1と同様の方法で模擬太陽光を照射し、変換効率を求めた。その結果を表3に示す。
(Test cell (iv))
A glass substrate with a 100 × 100 mm FTO film was prepared in the same manner as in the test cell (i). A metal wiring layer 3 (gold circuit) was formed on the FTO glass substrate by additive plating. The metal wiring layer 3 (gold circuit) was formed in a lattice shape on the substrate surface, and had a circuit width of 50 μm and a circuit thickness of 5 μm. On this surface, an FTO film having a thickness of 300 nm was formed as a shielding layer 5 by the SPD method to obtain a test cell (iv). When the cross section of the electrode substrate (iv) was confirmed using SEM-EDX, there was a sneaking in which seems to be caused by the bottom of the plating resist at the bottom of the wiring, and the shadow portion was not covered with FTO.
A test cell (iv) was produced in the same manner as the test cell (i) using the electrode substrate (iv). Simulated sunlight was irradiated in the same manner as in Experiment 1 to determine the conversion efficiency. The results are shown in Table 3.

(結果の評価)
変換効率が8.5%以上のものを◎、8%以上8.5%未満のものを○、8%以上6.5%未満のものを△、6.5%未満のものを×とし、変換効率が8%以上のものを合格、変換効率が8%未満のものを不合格とした。
(Evaluation of results)
A conversion efficiency of 8.5% or more is ◎, 8% or more and less than 8.5% is ○, 8% or more and less than 6.5% is △, and less than 6.5% is ×, A conversion efficiency of 8% or more was accepted and a conversion efficiency of less than 8% was rejected.

Figure 0005620315
表3より、本発明の色素の組み合わせを用いた場合は、試験セル(i)の場合の変換効率は8%以上と、高い値を示した。試験セル(iv)を用いた場合でも、色素を単独で用いて試験セル(i)を用いた場合よりも高い性能が得られ、いずれも合格レベルの変換効率を示した。
Figure 0005620315
From Table 3, when the combination of the pigment | dye of this invention was used, the conversion efficiency in the case of test cell (i) showed a high value with 8% or more. Even when the test cell (iv) was used, higher performance was obtained than when the test cell (i) was used using the dye alone, and all showed acceptable conversion efficiency.

[実験4]
ペルオキソチタン酸及び酸化チタン微粒子を作製し、これを用いて酸化物半導体膜を作製した。これを用いて光電気化学電池を作製し、評価した。
(光電気化学電池(A)の作製)
(1)酸化物半導体膜形成用塗布液(A1)の調製
5gの水素化チタンを1リットルの純水に懸濁し、5質量%の過酸化水素液400gを30分かけて添加し、ついで80℃に加熱して溶解してペルオキソチタン酸の溶液を調製した。この溶液の全量から90容積%を分取し、濃アンモニア水を添加してpH9に調整し、オートクレーブに入れ、250℃で5時間、飽和蒸気圧下で水熱処理を行ってチタニアコロイド粒子(A2)を調製した。得られたチタニアコロイド粒子は、X線回折により結晶性の高いアナターゼ型酸化チタンであった。
[Experiment 4]
Peroxotitanic acid and titanium oxide fine particles were prepared, and an oxide semiconductor film was prepared using them. Using this, a photoelectrochemical cell was produced and evaluated.
(Production of photoelectrochemical cell (A))
(1) Preparation of coating liquid (A1) for forming an oxide semiconductor film 5 g of titanium hydride is suspended in 1 liter of pure water, 400 g of a 5 mass% hydrogen peroxide solution is added over 30 minutes, and then 80 A solution of peroxotitanic acid was prepared by heating to ° C and dissolution. 90% by volume was taken from the total amount of this solution, adjusted to pH 9 by adding concentrated aqueous ammonia, placed in an autoclave, hydrothermally treated at 250 ° C. for 5 hours under saturated vapor pressure, and titania colloidal particles (A2) Was prepared. The obtained titania colloidal particles were anatase type titanium oxide having high crystallinity by X-ray diffraction.

次に、上記で得られたチタニアコロイド粒子(A2)を10質量%まで濃縮し、前記ペルオキソチタン酸溶液を混合し、この混合液中のチタンをTiO換算し、TiO質量の30質量%となるように膜形成助剤としてヒドロキシプロピルセルロースを添加して半導体膜形成用塗布液(A1)を調製した。 Next, the obtained titania colloidal particles (A2) was concentrated to 10 wt%, the peroxotitanic acid solution were mixed, the titanium of the mixed solution TiO 2 terms, TiO 2 mass of 30 mass% Then, hydroxypropylcellulose was added as a film formation aid so that a coating solution for forming a semiconductor film (A1) was prepared.

(2)酸化物半導体膜(A3)の作製
次いで、フッ素ドープした酸化スズが電極層として形成された透明ガラス基板上に前記塗布液(A1)を塗布し、自然乾燥し、引き続き低圧水銀ランプを用いて6000mJ/cmの紫外線を照射してペルオキソ酸を分解させ、塗膜を硬化させた。塗膜を300℃で30分間加熱してヒドロキシプロピルセルロースの分解およびアニーリングを行って酸化物半導体膜(A3)をガラス基板に形成した。
(2) Production of Oxide Semiconductor Film (A3) Next, the coating liquid (A1) is applied on a transparent glass substrate on which fluorine-doped tin oxide is formed as an electrode layer, followed by natural drying, followed by a low-pressure mercury lamp. It was used to irradiate ultraviolet rays of 6000 mJ / cm 2 to decompose the peroxo acid and harden the coating film. The coating film was heated at 300 ° C. for 30 minutes to decompose and anneal the hydroxypropyl cellulose to form an oxide semiconductor film (A3) on the glass substrate.

(3)酸化物半導体膜(A3)への色素の吸着
次に、分光増感色素として本発明の色素の濃度3×10−4モル/リットルのエタノール溶液を調製した。この色素溶液を100rpmスピナーで、金属酸化物半導体膜(A3)上へ塗布して乾燥した。この塗布および乾燥工程を5回行った。
(3) Adsorption of dye to oxide semiconductor film (A3) Next, an ethanol solution having a concentration of 3 × 10 −4 mol / liter of the dye of the present invention was prepared as a spectral sensitizing dye. This dye solution was applied onto the metal oxide semiconductor film (A3) with a 100 rpm spinner and dried. This coating and drying process was performed five times.

(4)電解質溶液の調製
アセトニトリルと炭酸エチレンとの体積比が1:5の混合溶媒に、テトラプロピルアンモニウムアイオダイドを0.46モル/リットル、ヨウ素を0.07モル/リットルの濃度となるように溶解して電解質溶液を調製した。
(4) Preparation of electrolyte solution In a mixed solvent with a volume ratio of acetonitrile and ethylene carbonate of 1: 5, tetrapropylammonium iodide is 0.46 mol / liter and iodine is 0.07 mol / liter. To prepare an electrolyte solution.

(5)光電気化学電池(A)の作製
(2)で作製した、色素を吸着させた酸化物半導体膜(A3)が形成されたガラス基板を一方の電極とし、他方の電極として、フッ素ドープした酸化スズを電極として形成した。その上に白金を担持した透明ガラス基板を対向して配置し、側面を樹脂にてシールし、電極間に(4)の電解質溶液を封入した。さらに電極間をリード線で接続して光電気化学電池(A)を作製した。
(5) Production of photoelectrochemical cell (A) The glass substrate on which the oxide semiconductor film (A3) adsorbed with the dye produced in (2) is formed is used as one electrode, and fluorine doped as the other electrode. The tin oxide was formed as an electrode. A transparent glass substrate carrying platinum thereon was disposed oppositely, the side surfaces were sealed with resin, and the electrolyte solution (4) was sealed between the electrodes. Further, the photoelectrochemical cell (A) was produced by connecting the electrodes with lead wires.

(6)光電気化学電池(A)の評価
実験1と同様の方法で模擬太陽光を照射し、光電気化学電池(A)の変換効率を求めた。その結果を表4に示す。
変換効率が8.5%以上のものを◎、8%以上8.5%未満のものを○、8%以上6.5%未満のものを△、6.5%未満のものを×とし、変換効率が8%以上のものを合格、変換効率が8%未満のものを不合格とした。
(6) Evaluation of photoelectrochemical cell (A) Simulated sunlight was irradiated in the same manner as in Experiment 1 to determine the conversion efficiency of the photoelectrochemical cell (A). The results are shown in Table 4.
A conversion efficiency of 8.5% or more is ◎, 8% or more and less than 8.5% is ○, 8% or more and less than 6.5% is △, and less than 6.5% is ×, A conversion efficiency of 8% or more was accepted and a conversion efficiency of less than 8% was rejected.

(光電気化学電池(B)の作製)
紫外線を照射してペルオキソ酸を分解させ、膜を硬化させた後、Arガスのイオン照射(日新電気製:イオン注入装置、200eVで10時間照射)を行った以外は、酸化物半導体膜(A3)と同様にして酸化物半導体膜(B3)を形成した。
(Production of photoelectrochemical cell (B))
Oxide semiconductor film (except that it was irradiated with ultraviolet rays to decompose peroxo acid and harden the film, followed by Ar gas ion irradiation (Nisshin Electric Co., Ltd .: ion implantation apparatus, 200 eV irradiation for 10 hours) An oxide semiconductor film (B3) was formed in the same manner as in A3).

酸化物半導体膜(A3)と同様に、酸化物半導体膜(B3)に色素の吸着を行った。
その後実施例1と同様の方法で光電気化学電池(B)を作製し、変換効率を測定した。その結果を表4に示した。
(光電気化学電池(B)の評価)
実験1と同様の方法で模擬太陽光を照射し、光電気化学電池(A)の変換効率を求めた。その結果を表4に示す。
変換効率が8.5%以上のものを◎、8%以上8.5%未満のものを○、8%以上6.5%未満のものを△、6.5%未満のものを×とし、変換効率が8%以上のものを合格、変換効率が8%未満のものを不合格とした。
Similarly to the oxide semiconductor film (A3), the dye was adsorbed to the oxide semiconductor film (B3).
Thereafter, a photoelectrochemical cell (B) was prepared in the same manner as in Example 1, and the conversion efficiency was measured. The results are shown in Table 4.
(Evaluation of photoelectrochemical cell (B))
Simulated sunlight was irradiated in the same manner as in Experiment 1 to determine the conversion efficiency of the photoelectrochemical cell (A). The results are shown in Table 4.
A conversion efficiency of 8.5% or more is ◎, 8% or more and less than 8.5% is ○, 8% or more and less than 6.5% is △, and less than 6.5% is ×, A conversion efficiency of 8% or more was accepted and a conversion efficiency of less than 8% was rejected.

(光電気化学電池(C)の作製)
18.3gの4塩化チタンを純水で希釈して、TiO換算で1.0質量%含有する水溶液を得た。この水溶液を撹拌しながら、15質量%のアンモニア水を添加し、pH9.5の白色スラリーを得た。このスラリーを濾過洗浄し、TiO換算で、10.2質量%の水和酸化チタンゲルのケーキを得た。このケーキと5質量%過酸化水素液400gを混合し、ついで80℃に加熱して溶解してペルオキソチタン酸の溶液を調製した。この溶液全量から90体積%を分取し、これに濃アンモニア水を添加してpH9に調整し、オートクレーブに入れ、250℃で5時間、飽和蒸気圧下で水熱処理を行ってチタニアコロイド粒子(C2)を調製した。
次に、上記で得られたペルオキソチタン酸溶液とチタニアコロイド粒子(C2)を使用して酸化物半導体膜(A3)と同様にして酸化物半導体膜(C3)を形成し、金属酸化物半導体膜(A3)と同様にして、分光増感色素として本発明の色素の吸着を行った。
(光電気化学電池(C)の評価)
実験1と同様の方法で模擬太陽光を照射し、光電気化学電池(C)の変換効率を求めた。その結果を表4に示す。
変換効率が8.5%以上のものを◎、8%以上8.5%未満のものを○、8%以上6.5%未満のものを△、6.5%未満のものを×とし、変換効率が8%以上のものを合格、変換効率が8%未満のものを不合格とした。
(Production of photoelectrochemical cell (C))
18.3 g of titanium tetrachloride was diluted with pure water to obtain an aqueous solution containing 1.0% by mass in terms of TiO 2 . While stirring this aqueous solution, 15% by mass of aqueous ammonia was added to obtain a white slurry having a pH of 9.5. This slurry was washed by filtration to obtain a 10.2% by mass hydrated titanium oxide gel cake in terms of TiO 2 . This cake was mixed with 400 g of a 5 mass% hydrogen peroxide solution, and then heated to 80 ° C. to dissolve to prepare a peroxotitanic acid solution. 90% by volume is taken from the total amount of this solution, and concentrated ammonia water is added to adjust the pH to 9, and the mixture is placed in an autoclave, hydrothermally treated at 250 ° C. for 5 hours under saturated vapor pressure, and titania colloid particles (C2 ) Was prepared.
Next, an oxide semiconductor film (C3) is formed in the same manner as the oxide semiconductor film (A3) using the peroxotitanic acid solution obtained above and titania colloidal particles (C2), and the metal oxide semiconductor film In the same manner as (A3), the dye of the present invention was adsorbed as a spectral sensitizing dye.
(Evaluation of photoelectrochemical cell (C))
Simulated sunlight was irradiated in the same manner as in Experiment 1 to determine the conversion efficiency of the photoelectrochemical cell (C). The results are shown in Table 4.
A conversion efficiency of 8.5% or more is ◎, 8% or more and less than 8.5% is ○, 8% or more and less than 6.5% is △, and less than 6.5% is ×, A conversion efficiency of 8% or more was accepted and a conversion efficiency of less than 8% was rejected.

(光電気化学電池(D)の作製)
18.3gの4塩化チタンを純水で希釈してTiO換算で1.0質量%含有する水溶液を得た。これを撹拌しながら、15質量%のアンモニア水を添加し、pH9.5の白色スラリーを得た。このスラリーを濾過洗浄した後、純水に懸濁してTiOとして0.6質量%の水和酸化チタンゲルのスラリーとし、これに塩酸を加えてpH2とした後、オートクレーブに入れ、180℃で5時間、飽和蒸気圧下で水熱処理を行ってチタニアコロイド粒子(D2)を調製した。
(Production of photoelectrochemical cell (D))
18.3 g of titanium tetrachloride was diluted with pure water to obtain an aqueous solution containing 1.0% by mass in terms of TiO 2 . While stirring this, 15% by mass of ammonia water was added to obtain a white slurry having a pH of 9.5. This slurry was filtered and washed, suspended in pure water to obtain a 0.6 mass% hydrated titanium oxide gel slurry as TiO 2 , adjusted to pH 2 by adding hydrochloric acid thereto, put in an autoclave, and stirred at 180 ° C. for 5 hours. The titania colloidal particles (D2) were prepared by performing hydrothermal treatment under saturated vapor pressure for a period of time.

次に、チタニアコロイド粒子(D2)を10質量%まで濃縮し、これに、TiOに換算して、30質量%となるように膜形成助剤としてヒドロキシプロピルセルロースを添加して、半導体膜形成用塗布液を調製した。次いで、フッ素ドープした酸化スズが電極層として形成された透明ガラス基板上に、前記塗布液を塗布し、自然乾燥し、引き続き低圧水銀ランプを用いて6000mJ/cmの紫外線を照射し、膜を硬化させた。さらに、300℃で30分間加熱してヒドロキシプロピルセルロースの分解およびアニーリングを行い、酸化物半導体膜(D3)を形成した。 Next, titania colloidal particles (D2) are concentrated to 10% by mass, and hydroxypropylcellulose is added as a film forming aid so as to be 30% by mass in terms of TiO 2 to form a semiconductor film. A coating solution was prepared. Next, the coating solution is applied onto a transparent glass substrate on which fluorine-doped tin oxide is formed as an electrode layer, dried naturally, and subsequently irradiated with 6000 mJ / cm 2 of ultraviolet rays using a low-pressure mercury lamp to form a film. Cured. Furthermore, it decomposed | disassembled and annealed by heating for 30 minutes at 300 degreeC, and the oxide semiconductor film (D3) was formed.

次に、酸化物半導体膜(A3)と同様にして分光増感色素として、本発明の色素の吸着を行った。 その後、光電気セル(A)と同様の方法で光電気化学電池(D)を作製した。
(光電気化学電池(D)の評価)
実験1と同様の方法で模擬太陽光を照射し、光電気化学電池(C)の変換効率を求めた。その結果を表4に示す。
変換効率が8.5%以上のものを◎、8%以上8.5%未満のものを○、8%以上6.5%未満のものを△、6.5%未満のものを×とし、変換効率が8%以上のものを合格、変換効率が8%未満のものを不合格とした。
Next, the dye of the present invention was adsorbed as a spectral sensitizing dye in the same manner as the oxide semiconductor film (A3). Then, the photoelectrochemical cell (D) was produced by the method similar to a photoelectric cell (A).
(Evaluation of photoelectrochemical cell (D))
Simulated sunlight was irradiated in the same manner as in Experiment 1 to determine the conversion efficiency of the photoelectrochemical cell (C). The results are shown in Table 4.
A conversion efficiency of 8.5% or more is ◎, 8% or more and less than 8.5% is ○, 8% or more and less than 6.5% is △, and less than 6.5% is ×, A conversion efficiency of 8% or more was accepted and a conversion efficiency of less than 8% was rejected.

Figure 0005620315
表4より、本発明の色素の場合には、色素単独使用の場合よりも常に変換効率が高く、特に試験セル(A)〜(C)を使用した場合には変換効率が高いことがわかった。
Figure 0005620315
From Table 4, it was found that in the case of the dye of the present invention, the conversion efficiency was always higher than in the case of using the dye alone, particularly when the test cells (A) to (C) were used. .

[実施例5]
方法を変えて酸化チタンの調製を行い、得られた酸化チタンから酸化物半導体膜を作製し、光電気化学電池とし、その評価を行った。
[Example 5]
Titanium oxide was prepared by changing the method, an oxide semiconductor film was produced from the obtained titanium oxide, and a photoelectrochemical cell was evaluated.

(1)熱処理法による酸化チタンの調製
(酸化チタン1(ブルーカイト型)等)
市販のアナターゼ型酸化チタン(石原産業社製、商品名ST−01)を用い、これを約900℃に加熱してブルーカイト型の酸化チタンに変換し、さらに約1,200℃に加熱してルチル型の酸化チタンとした。それぞれ順に、比較酸化チタン1(アナターゼ型)、酸化チタン1(ブルーカイト型)、比較酸化チタン2(ルチル型)とする。
(1) Preparation of titanium oxide by heat treatment method (titanium oxide 1 (blue kite type) etc.)
Using a commercially available anatase-type titanium oxide (trade name ST-01, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), this is heated to about 900 ° C. to be converted into a brookite-type titanium oxide, and further heated to about 1,200 ° C. Rutile type titanium oxide was used. Respectively, comparative titanium oxide 1 (anatase type), titanium oxide 1 (blue kite type), and comparative titanium oxide 2 (rutile type) are used.

(2)湿式法による酸化チタンの合成
(酸化チタン2(ブルーカイト型))
蒸留水954mlを還流冷却器付きの反応槽に装入し、95℃に加温する。撹拌速度を約200rpmに保ちながら、この蒸留水に四塩化チタン(Ti含有量:16.3質量%、比重1.59、純度99.9%)水溶液46mlを約5.0ml/minの速度で反応槽に滴下した。このとき、反応液の温度が下がらないように注意した。その結果、四塩化チタン濃度が0.25mol/リットル(酸化チタン換算2質量%)であった。反応槽中では反応液が滴下直後から、白濁し始めたがそのままの温度で保持を続け、滴下終了後さらに昇温し沸点付近(104℃)まで加熱し、この状態で60分間保持して完全に反応を終了した。
(2) Synthesis of titanium oxide by wet method (titanium oxide 2 (blue kite type))
954 ml of distilled water is charged into a reaction vessel equipped with a reflux condenser and heated to 95 ° C. While maintaining the stirring speed at about 200 rpm, 46 ml of an aqueous solution of titanium tetrachloride (Ti content: 16.3 mass%, specific gravity 1.59, purity 99.9%) was added to this distilled water at a speed of about 5.0 ml / min. It was dripped at the reaction tank. At this time, care was taken not to lower the temperature of the reaction solution. As a result, the titanium tetrachloride concentration was 0.25 mol / liter (2% by mass in terms of titanium oxide). In the reaction vessel, the reaction solution started to become cloudy immediately after dropping, but kept at the same temperature. After the dropping was completed, the temperature was further raised and heated to the vicinity of the boiling point (104 ° C.). The reaction was terminated.

反応により、得られたゾルを濾過し、次いで60℃の真空乾燥器を用いて粉末とした。この粉末をX線回折法により定量分析した結果、(ブルーカイト型121面のピーク強度)/(三本が重なる位置でのピーク強度)比は0.38、(ルチル型のメインピーク強度)/(三本が重なる位置でのピーク強度)比は0.05であった。これらから求めると酸化チタンは、ブルーカイト型が約70.0質量%、ルチル型が約1.2質量%、アナターゼ型が約28.8質量%の結晶性であった。また、透過型電子顕微鏡でこの微粒子を観察したところ、1次粒子の平均粒径は0.015μmであった。   The sol obtained by the reaction was filtered, and then powdered using a vacuum dryer at 60 ° C. As a result of quantitative analysis of this powder by X-ray diffractometry, the ratio of (peak intensity on the surface of blue kite type 121) / (peak intensity at the position where the three overlap) is 0.38, (rutile main peak intensity) / The ratio (peak intensity at the position where the three lines overlap) was 0.05. From these, the titanium oxide was crystallinity of about 70.0% by mass for the brookite type, about 1.2% by mass for the rutile type, and about 28.8% by mass for the anatase type. Further, when the fine particles were observed with a transmission electron microscope, the average particle diameter of the primary particles was 0.015 μm.

(酸化チタン3(ブルーカイト型))
三塩化チタン水溶液(Ti含有量:28質量%、比重1.5、純度99.9%)を蒸留水で希釈し、チタン濃度換算で0.25モル/Lの溶液とした。このとき、液温が上昇しないよう氷冷して、50℃以下に保った。次に、この溶液を還流冷却器付きの反応槽に500ml投入し、85℃に加温しながらオゾンガス発生装置から純度80%のオゾンガスを1L/minでバブリングし、酸化反応を行なった。この状態で2時間保持し、完全に反応を終了した。得られたゾルをろ過、真空乾燥し、粉末とした。この粉末をX線回折法により定量分析した結果、(ブルーカイト型121面のピーク強度)/(三本が重なる位置でのピーク強度)比は0.85、(ルチル型のメインピーク強度)/(三本が重なる位置でのピーク強度)比は0であった。これらから求めると二酸化チタンは、ブルーカイト型が約98質量%、ルチル型が0質量%、アナターゼ型が0質量%であり、約2%は無定形であった。また、透過型電子顕微鏡でこの微粒子を観察したところ、1次粒子の平均粒径は0.05μmであった。
(Titanium oxide 3 (Blue Kite type))
An aqueous solution of titanium trichloride (Ti content: 28% by mass, specific gravity 1.5, purity 99.9%) was diluted with distilled water to obtain a solution having a concentration of 0.25 mol / L in terms of titanium concentration. At this time, it was ice-cooled so as not to increase the liquid temperature and kept at 50 ° C. or lower. Next, 500 ml of this solution was put into a reaction tank equipped with a reflux condenser, and ozone gas with a purity of 80% was bubbled from the ozone gas generator at 1 L / min while heating at 85 ° C. to carry out an oxidation reaction. This state was maintained for 2 hours to complete the reaction. The obtained sol was filtered and vacuum-dried to obtain a powder. As a result of quantitative analysis of this powder by X-ray diffractometry, the ratio of (peak intensity on the surface of blue kite type 121) / (peak intensity at the position where the three overlap) is 0.85, (rutile main peak intensity) / The ratio (peak intensity at the position where the three lines overlap) was 0. From these, the titanium dioxide was about 98% by mass for the blue kite type, 0% by mass for the rutile type, 0% by mass for the anatase type, and about 2% was amorphous. Further, when the fine particles were observed with a transmission electron microscope, the average particle diameter of the primary particles was 0.05 μm.

(光電気化学電池の作製および評価)
上記の方法で調製した酸化チタン1〜3を半導体として特開2000−340269号公報記載の図1に示す構成の光電変換素子を用いた光電気化学電池を以下の方法で作製した。
ガラス基板上にフッ素ドープの酸化スズをコートし、導電性透明電極とした。電極面上にそれぞれの酸化チタン粒子を原料としたペーストを作成し、バーコート法で厚さ50μmに塗布した後、500℃で焼成して膜厚約20μmの薄層を形成した。
(Production and evaluation of photoelectrochemical cells)
A photoelectrochemical cell using the photoelectric conversion element having the structure shown in FIG. 1 described in JP-A No. 2000-340269 was produced by the following method using titanium oxides 1 to 3 prepared by the above method as a semiconductor.
A glass substrate was coated with fluorine-doped tin oxide to form a conductive transparent electrode. A paste using each titanium oxide particle as a raw material was formed on the electrode surface, applied to a thickness of 50 μm by a bar coating method, and then baked at 500 ° C. to form a thin layer having a thickness of about 20 μm.

次に表5記載の色素の1×10−4モル濃度のエタノール溶液を調製し、一般式(1)で表される色素を含む溶液に2時間、続いて一般式(2)で表される色素を含む溶液に20時間酸化チタンの薄層を形成したガラス基板を浸漬させた。その結果、酸化チタンの薄層上にこれらの色素を吸着させた。 Next, a 1 × 10 −4 molar ethanol solution of the dye described in Table 5 is prepared, and the solution containing the dye represented by the general formula (1) is added for 2 hours, followed by the general formula (2). A glass substrate on which a thin layer of titanium oxide was formed was immersed in a solution containing a dye for 20 hours. As a result, these dyes were adsorbed onto a thin layer of titanium oxide.

電解液としてテトラプロピルアンモニウムのヨウ素塩とヨウ化リチウムのアセトニトリル溶液を用い、白金を対極として特開2000−340269号公報の図1に示す構成を有する光電変換素子を作製した。光電変換は160Wの高圧水銀ランプの光(フィルターで赤外線部をカット)を上記の素子に照射し、その際の変換効率を測定した。結果を表5に示す。   A photoelectric conversion element having a configuration shown in FIG. 1 of JP-A No. 2000-340269 was produced using an iodine salt of tetrapropylammonium as an electrolytic solution and an acetonitrile solution of lithium iodide and using platinum as a counter electrode. For photoelectric conversion, light from a 160 W high-pressure mercury lamp (the infrared part was cut by a filter) was applied to the above-mentioned element, and the conversion efficiency at that time was measured. The results are shown in Table 5.

(結果の評価)
変換効率が8.5%以上のものを◎、8%以上8.5%未満のものを○、8%以上6.5%未満のものを△、6.5%未満のものを×とし、変換効率が8%以上のものを合格、変換効率が8%未満のものを不合格とした。
(Evaluation of results)
A conversion efficiency of 8.5% or more is ◎, 8% or more and less than 8.5% is ○, 8% or more and less than 6.5% is △, and less than 6.5% is ×, A conversion efficiency of 8% or more was accepted and a conversion efficiency of less than 8% was rejected.

Figure 0005620315
Figure 0005620315

表5からわかるように、一般式(1)の構造を有する色素と、一般式(2)の構造を有する色素を併用した場合は、一般式(1)の構造を有する色素単独又は一般式(2)の構造を有する色素単独の場合と比較して、合格レベルの変換効率の光電気化学電池が得られた。   As can be seen from Table 5, when the dye having the structure of the general formula (1) and the dye having the structure of the general formula (2) are used in combination, the dye having the structure of the general formula (1) alone or the general formula ( Compared to the case of the dye alone having the structure of 2), a photoelectrochemical cell having an acceptable conversion efficiency was obtained.

〔実験6〕
粒径の異なる酸化チタンを用いて、半導体微粒子が分散したペーストを作製した。これを用いて光電気化学電池を作製し、その特性を評価した。
[Experiment 6]
A paste in which semiconductor fine particles were dispersed was prepared using titanium oxides having different particle sizes. Using this, a photoelectrochemical cell was produced and its characteristics were evaluated.

[ペーストの調製]
(ペースト1)
球形のTiO粒子(アナターゼ型、平均粒径;25nm、以下、球形TiO粒子1という)とを硝酸溶液に入れて撹拌することによりチタニアスラリーを調製した。次に、チタニアスラリーに増粘剤としてセルロース系バインダーを加え、混練してペーストを調製した。
[Preparation of paste]
(Paste 1)
A titania slurry was prepared by placing spherical TiO 2 particles (anatase type, average particle size: 25 nm, hereinafter referred to as spherical TiO 2 particles 1) in a nitric acid solution and stirring. Next, a cellulose binder as a thickener was added to the titania slurry and kneaded to prepare a paste.

(ペースト2)
球形TiO粒子1と、球形のTiO粒子(アナターゼ型、平均粒径;200nm、以下、球形TiO粒子2という)とを硝酸溶液に入れて撹拌することによりチタニアスラリーを調製した。次に、チタニアスラリーに増粘剤としてセルロース系バインダーを加え、混練してペースト(TiO粒子1の質量:TiO粒子2の質量=30:70)を調製した。
(Paste 2)
A titania slurry was prepared by placing spherical TiO 2 particles 1 and spherical TiO 2 particles (anatase type, average particle size: 200 nm, hereinafter referred to as spherical TiO 2 particles 2) in a nitric acid solution and stirring. Next, a cellulose binder as a thickener was added to the titania slurry and kneaded to prepare a paste (mass of TiO 2 particles 1: mass of TiO 2 particles 2 = 30:70).

(ペースト3)
ペースト1に、棒状のTiO粒子(アナターゼ型、直径;100nm、アスペクト比;5、以下、棒状TiO粒子1という)を混合し、棒状TiO粒子1の質量:ペースト1の質量=10:90のペーストを調製した。
(Paste 3)
The paste 1 is mixed with rod-like TiO 2 particles (anatase type, diameter: 100 nm, aspect ratio: 5, hereinafter referred to as rod-like TiO 2 particles 1), the mass of the rod-like TiO 2 particles 1: the mass of the paste 1 = 10: Ninety pastes were prepared.

(ペースト4)
ペースト1に、棒状TiO粒子1を混合し、棒状TiO粒子1の質量:ペースト1の質量=30:70のペーストを調製した。
(Paste 4)
The paste 1, a rod-shaped TiO 2 particles 1 were mixed, the mass rod-shaped TiO 2 particles 1: Paste 1 Mass = 30: 70 paste was prepared.

(ペースト5)
ペースト1に、棒状TiO粒子1を混合し、棒状TiO粒子1の質量:ペースト1の質量=50:50のペーストを調製した。
(Paste 5)
The paste 1, a rod-shaped TiO 2 particles 1 were mixed, the mass rod-shaped TiO 2 particles 1: Paste 1 Mass = 50: 50 paste was prepared.

(ペースト6)
ペースト1に、板状のマイカ粒子(直径;100nm、アスペクト比;6、以下、板状マイカ粒子1という)を混合し、板状マイカ粒子1の質量:ペースト1の質量=20:80のペーストを調製した。
(Paste 6)
The paste 1 is mixed with plate-like mica particles (diameter: 100 nm, aspect ratio: 6, hereinafter referred to as plate-like mica particles 1), and the mass of the plate-like mica particles 1: the mass of the paste 1 = 20: 80 paste. Was prepared.

(ペースト7)
ペースト1に、棒状のTiO粒子(アナターゼ、直径;30nm、アスペクト比;6.3、以下、棒状TiO粒子2という)を混合し、棒状TiO2粒子2の質量:ペースト1の質量=30:70のペーストを調製した。
(Paste 7)
The paste 1 is mixed with rod-like TiO 2 particles (anatase, diameter: 30 nm, aspect ratio: 6.3, hereinafter referred to as rod-like TiO 2 particles 2), the mass of the rod-like TiO 2 particles 2: the mass of the paste 1 = 30: 70 pastes were prepared.

(ペースト8)
ペースト1に、棒状のTiO粒子(アナターゼ、直径;50nm、アスペクト比;6.1、以下、棒状TiO粒子3という)を混合し、棒状TiO粒子3の質量:ペースト1の質量=30:70のペーストを調製した。
(Paste 8)
The paste 1 is mixed with rod-like TiO 2 particles (anatase, diameter: 50 nm, aspect ratio: 6.1, hereinafter referred to as rod-like TiO 2 particles 3), and the mass of the rod-like TiO 2 particles 3: the mass of the paste 1 = 30. : 70 paste was prepared.

(ペースト9)
ペースト1に、棒状のTiO粒子(アナターゼ、直径;75nm、アスペクト比;5.8、以下、棒状TiO粒子4という)を混合し、棒状TiO粒子4の質量:ペースト1の質量=30:70のペーストを調製した。
(Paste 9)
The paste 1 is mixed with rod-like TiO 2 particles (anatase, diameter: 75 nm, aspect ratio: 5.8, hereinafter referred to as rod-like TiO 2 particles 4), and the mass of the rod-like TiO 2 particles 4: the mass of the paste 1 = 30. : 70 paste was prepared.

(ペースト10)
ペースト1に、棒状のTiO粒子(アナターゼ、直径;130nm、アスペクト比;5.2、以下、棒状TiO粒子5という)を混合し、棒状TiO粒子5の質量:ペースト1の質量=30:70のペーストを調製した。
(Paste 10)
The paste 1 is mixed with rod-like TiO 2 particles (anatase, diameter: 130 nm, aspect ratio: 5.2, hereinafter referred to as rod-like TiO 2 particles 5), and the mass of the rod-like TiO 2 particles 5: the mass of the paste 1 = 30. : 70 paste was prepared.

(ペースト11)
ペースト1に、棒状のTiO粒子(アナターゼ、直径;180nm、アスペクト比;5、以下、棒状TiO粒子6という)を混合し、棒状TiO粒子6の質量:ペースト1の質量=30:70のペーストを調製した。
(Paste 11)
The paste 1 is mixed with rod-like TiO 2 particles (anatase, diameter: 180 nm, aspect ratio: 5, hereinafter referred to as rod-like TiO 2 particles 6), and the mass of the rod-like TiO 2 particles 6: the mass of the paste 1 = 30: 70. A paste was prepared.

(ペースト12)
ペースト1に、棒状のTiO粒子(アナターゼ、直径;240nm、アスペクト比;5、以下、棒状TiO粒子7という)を混合し、棒状TiO粒子7の質量:ペースト1の質量=30:70のペーストを調製した。
(Paste 12)
The paste 1 is mixed with rod-like TiO 2 particles (anatase, diameter: 240 nm, aspect ratio: 5, hereinafter referred to as rod-like TiO 2 particles 7), and the mass of the rod-like TiO 2 particles 7: the mass of the paste 1 = 30: 70. A paste was prepared.

(ペースト13)
ペースト1に、棒状のTiO粒子(アナターゼ、直径;110nm、アスペクト比;4.1、以下、棒状TiO粒子8という)を混合し、棒状TiO粒子8の質量:ペースト1の質量=30:70のペーストを調製した。
(Paste 13)
The paste 1 is mixed with rod-like TiO 2 particles (anatase, diameter: 110 nm, aspect ratio: 4.1, hereinafter referred to as rod-like TiO 2 particles 8), and the mass of the rod-like TiO 2 particles 8: the mass of the paste 1 = 30. : 70 paste was prepared.

(ペースト14)
ペースト1に、棒状のTiO粒子(アナターゼ、直径;105nm、アスペクト比;3.4、以下、棒状TiO粒子9という)を混合し、棒状TiO粒子9の質量:ペースト1の質量=30:70のペーストを調製した。
(Paste 14)
The paste 1 is mixed with rod-shaped TiO 2 particles (anatase, diameter: 105 nm, aspect ratio: 3.4, hereinafter referred to as rod-shaped TiO 2 particles 9), and the mass of the rod-shaped TiO 2 particles 9: the mass of the paste 1 = 30. : 70 paste was prepared.

(光電気化学電池1)
以下に示す手順により、特開2002−289274号公報の図5に記載の光電極12と同様の構成を有する光電極を作製し、更に、光電極を用いて、当該光電極以外は色素増感型太陽電池20と同様の構成を有する10×10mmのスケールの光電気化学電池1を作製した。
(Photoelectrochemical cell 1)
A photoelectrode having the same configuration as the photoelectrode 12 shown in FIG. 5 of JP-A-2002-289274 is prepared by the following procedure, and further, using the photoelectrode, dye sensitization other than the photoelectrode is performed. A 10 × 10 mm scale photoelectrochemical cell 1 having the same configuration as the solar cell 20 was produced.

ガラス基板上にフッ素ドープされたSnO導電膜(膜厚;500nm)を形成した透明電極を準備した。
このSnO導電膜上に、上記のペースト2をスクリーン印刷し、次いで乾燥させた。その後、空気中、450℃の条件のもとで焼成した。更に、ペースト4を用いてこのスクリーン印刷と焼成とを繰り返すことにより、SnO導電膜上に上記特許文献の図5に示す半導体電極2と同様の構成の半導体電極(受光面の面積;10mm×10mm、層厚;10μm、半導体層の層厚;6μm、光散乱層の層厚;4μm、光散乱層に含有される棒状TiO粒子1の含有率;30質量%)を形成し、増感色素を含有していない光電極を作製した。
A transparent electrode in which a fluorine-doped SnO 2 conductive film (film thickness: 500 nm) was formed on a glass substrate was prepared.
On the SnO 2 conductive film, the paste 2 was screen-printed and then dried. Then, it baked on the conditions of 450 degreeC in the air. Further, by repeating the firing and the screen printing using a paste 4, the semiconductor electrodes (area of the light receiving surface of the same structure as the semiconductor electrode 2 shown in FIG. 5 of Patent Document on SnO 2 conductive film; 10 mm × 10 mm, layer thickness: 10 μm, semiconductor layer thickness: 6 μm, light scattering layer thickness: 4 μm, content of rod-like TiO 2 particles 1 contained in the light scattering layer; 30% by mass) for sensitization A photoelectrode containing no dye was prepared.

次に、半導体電極に色素を以下のようにして吸着させた。まずマグネシウムエトキシドで脱水した無水エタノールを溶媒として、これに表6記載の色素のそれぞれの濃度が3×10−4mol/Lとなるように溶解し、色素溶液を調製した。次に、この溶液に半導体電極を浸漬し、これにより、半導体電極に色素が全量で約1.5×10−7mol/cm吸着し、光電極10を完成させた。 Next, the pigment | dye was made to adsorb | suck to a semiconductor electrode as follows. First, an absolute ethanol dehydrated with magnesium ethoxide was used as a solvent, and each of the dyes described in Table 6 was dissolved so as to have a concentration of 3 × 10 −4 mol / L to prepare a dye solution. Next, the semiconductor electrode was immersed in this solution, whereby about 1.5 × 10 −7 mol / cm 2 of the dye was adsorbed to the semiconductor electrode in total, and the photoelectrode 10 was completed.

次に、対極として上記の光電極と同様の形状と大きさを有する白金電極(Pt薄膜の厚さ;100nm)、電解質Eとして、ヨウ素及びヨウ化リチウムを含むヨウ素系レドックス溶液を調製した。更に、半導体電極の大きさに合わせた形状を有するデュポン社製のスペーサS(商品名:「サーリン」)を準備し、特開2002−289274号公報の図3に示すように、光電極10と対極CEとスペーサSを介して対向させ、内部に上記の電解質を充填して光電気化学電池1を完成させた。   Next, a platinum electrode (thickness of Pt thin film; 100 nm) having the same shape and size as the above-described photoelectrode as a counter electrode, and an iodine redox solution containing iodine and lithium iodide as an electrolyte E were prepared. Furthermore, a spacer S (trade name: “Surlin”) manufactured by DuPont having a shape corresponding to the size of the semiconductor electrode is prepared. As shown in FIG. 3 of JP-A-2002-289274, the photoelectrode 10 and The counter electrode CE and the spacer S were opposed to each other, and the above electrolyte was filled therein to complete the photoelectrochemical cell 1.

(光電気化学電池2)
半導体電極の製造を以下のようにして行ったこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により特開2002−289274号公報記載の図1に示した光電極10を作製し、特開2002−289274号公報記載の図3に示した色素増感型太陽電池20と同様の構成を有する光電気化学電池2を作製した。
(Photoelectrochemical cell 2)
The photoelectrode 10 shown in FIG. 1 described in JP-A-2002-289274 was prepared by the same procedure as that of the photoelectrochemical cell 1 except that the semiconductor electrode was manufactured as follows. A photoelectrochemical cell 2 having the same configuration as that of the dye-sensitized solar cell 20 shown in FIG.

ペースト2を半導体層形成用ペーストとして使用した。そして、SnO導電膜上に、ペースト2をスクリーン印刷し、次いで乾燥させた。その後、空気中、450℃の条件のもとで焼成し、半導体層を形成した。 Paste 2 was used as a semiconductor layer forming paste. Then, paste 2 was screen-printed on the SnO 2 conductive film and then dried. Then, it baked on the conditions of 450 degreeC in the air, and formed the semiconductor layer.

ペースト3を光散乱層の最内部の層形成用ペーストとして使用した。また、ペースト5を光散乱層の最外部の層形成用ペーストとして使用した。そして、光電気化学電池1と同様にして半導体層上に光散乱層を形成した。   Paste 3 was used as the innermost layer forming paste of the light scattering layer. The paste 5 was used as the outermost layer forming paste of the light scattering layer. Then, a light scattering layer was formed on the semiconductor layer in the same manner as in the photoelectrochemical cell 1.

そして、SnO導電膜上に、特開2002−289274号公報記載の図1に示す半導体電極2と同様の構成の半導体電極(受光面の面積;10mm×10mm、層厚;10μm、半導体層の層厚;3μm、最内部の層の層厚;4μm、最内部の層に含有される棒状TiO粒子1の含有率;10質量%、最外部の層の層厚;3μm、最内部の層に含有される棒状TiO粒子1の含有率;50質量%)を形成し、増感色素を含有していない光電極を作製した。光電気化学電池1と同様に、光電極と対極CEとスペーサSを介して対向させ、内部に上記の電解質を充填して光電気化学電池2を完成させた。 Then, on the SnO 2 conductive film, a semiconductor electrode having the same structure as the semiconductor electrode 2 shown in FIG. 1 described in JP-A-2002-289274 (area of light receiving surface; 10 mm × 10 mm, layer thickness: 10 μm, semiconductor layer) Layer thickness: 3 μm, innermost layer thickness: 4 μm, content of rod-like TiO 2 particles 1 contained in the innermost layer; 10 mass%, outermost layer thickness: 3 μm, innermost layer The content ratio of the rod-like TiO 2 particles 1 contained in 1; 50% by mass) was formed, and a photoelectrode containing no sensitizing dye was produced. Similarly to the photoelectrochemical cell 1, the photoelectrochemical cell 2 was completed by making the photoelectrode, the counter electrode CE, and the spacer S face each other and filling the above electrolyte therein.

(光電気化学電池3)
半導体電極の製造に際して、ペースト1を半導体層形成用ペーストとして使用し、ペースト4を光散乱層形成用ペーストとして使用したこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により、特開2002−289274号公報の図5に示した光電極10を作製し、特開2002−289274号公報記載の図3に示した光電気化学電池20と同様の構成を有する光電気化学電池3を作製した。
なお、半導体電極は、受光面の面積;10mm×10mm、層厚;10μm、半導体層の層厚;5μm、光散乱層の層厚;5μm、光散乱層に含有される棒状TiO粒子1の含有率;30質量%であった。
(Photoelectrochemical cell 3)
According to the same procedure as that of the photoelectrochemical cell 1, except that the paste 1 was used as a semiconductor layer forming paste and the paste 4 was used as a light scattering layer forming paste in the production of a semiconductor electrode. 5 was produced, and a photoelectrochemical cell 3 having the same configuration as the photoelectrochemical cell 20 shown in FIG. 3 described in JP-A-2002-289274 was produced.
The semiconductor electrode has a light receiving surface area of 10 mm × 10 mm, a layer thickness of 10 μm, a semiconductor layer thickness of 5 μm, a light scattering layer thickness of 5 μm, and the rod-like TiO 2 particles 1 contained in the light scattering layer. Content rate: 30% by mass.

(光電気化学電池4)
半導体電極の製造に際して、ペースト2を半導体層形成用ペーストとして使用し、ペースト6を光散乱層形成用ペーストとして使用したこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により図5に示した光電極10及び特開2002−289274記載の図3に示した光電気化学電池20と同様の構成を有する光電極及び光電気化学電池4を作製した。なお、半導体電極は、受光面の面積;10mm×10mm、層厚;10μm、半導体層の層厚;6.5μm、光散乱層の層厚;3.5μm、光散乱層に含有される板状マイカ粒子1の含有率;20質量%であった。
(Photoelectrochemical cell 4)
In the production of the semiconductor electrode, the light shown in FIG. 5 was obtained by the same procedure as that of the photoelectrochemical cell 1 except that the paste 2 was used as the semiconductor layer forming paste and the paste 6 was used as the light scattering layer forming paste. A photoelectrode and a photoelectrochemical cell 4 having the same configuration as the electrode 10 and the photoelectrochemical cell 20 shown in FIG. 3 described in JP-A-2002-289274 were produced. The semiconductor electrode has a light receiving surface area: 10 mm × 10 mm, layer thickness: 10 μm, semiconductor layer thickness: 6.5 μm, light scattering layer thickness: 3.5 μm, plate-like contained in the light scattering layer The content of mica particles 1 was 20% by mass.

(光電気化学電池5)
半導体電極の製造に際して、ペースト2を半導体層形成用ペーストとして使用し、ペースト8を光散乱層形成用ペーストとして使用したこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により光電気化学電池5を作製した。なお、半導体電極の光散乱層に含有される棒状TiO粒子3の含有率;30質量%であった。
(Photoelectrochemical cell 5)
In the production of the semiconductor electrode, the photoelectrochemical cell 5 was prepared by the same procedure as that of the photoelectrochemical cell 1 except that the paste 2 was used as the semiconductor layer forming paste and the paste 8 was used as the light scattering layer forming paste. Produced. The content ratio of the rod-shaped TiO 2 particles 3 contained in the light scattering layer of the semiconductor electrode; was 30 wt%.

(光電気化学電池6)
半導体電極の製造に際して、ペースト2を半導体層形成用ペーストとして使用し、ペースト9を光散乱層形成用ペーストとして使用したこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により光電気化学電池6を作製した。なお、半導体電極の光散乱層に含有される棒状TiO粒子4の含有率;30質量%であった。
(Photoelectrochemical cell 6)
In the production of the semiconductor electrode, the photoelectrochemical cell 6 was prepared by the same procedure as that of the photoelectrochemical cell 1 except that the paste 2 was used as the semiconductor layer forming paste and the paste 9 was used as the light scattering layer forming paste. Produced. The content ratio of the rod-shaped TiO 2 particles 4 contained in the light scattering layer of the semiconductor electrode; was 30 wt%.

(光電気化学電池7)
半導体電極の製造に際して、ペースト2を半導体層形成用ペーストとして使用し、ペースト10を光散乱層形成用ペーストとして使用したこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により光電気化学電池7を作製した。なお、半導体電極の光散乱層に含有される棒状TiO粒子5の含有率;30質量%であった。
(Photoelectrochemical cell 7)
In the production of the semiconductor electrode, the photoelectrochemical cell 7 was prepared by the same procedure as that of the photoelectrochemical cell 1 except that the paste 2 was used as the semiconductor layer forming paste and the paste 10 was used as the light scattering layer forming paste. Produced. The content ratio of the rod-shaped TiO 2 particles 5 contained in the light scattering layer of the semiconductor electrode; was 30 wt%.

(光電気化学電池8)
半導体電極の製造に際して、ペースト2を半導体層形成用ペーストとして使用し、ペースト11を光散乱層形成用ペーストとして使用したこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により光電気化学電池8を作製した。なお、半導体電極の光散乱層に含有される棒状TiO粒子6の含有率;30質量%であった。
(Photoelectrochemical cell 8)
In the production of the semiconductor electrode, the photoelectrochemical cell 8 was prepared by the same procedure as the photoelectrochemical cell 1 except that the paste 2 was used as the semiconductor layer forming paste and the paste 11 was used as the light scattering layer forming paste. Produced. The content ratio of the rod-shaped TiO 2 particles 6 contained in the light scattering layer of the semiconductor electrode; was 30 wt%.

(光電気化学電池9)
半導体電極の製造に際して、ペースト2を半導体層形成用ペーストとして使用し、ペースト13を光散乱層形成用ペーストとして使用したこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により光電気化学電池9を作製した。なお、半導体電極の光散乱層に含有される棒状TiO粒子8の含有率;30質量%であった。
(Photoelectrochemical cell 9)
In the production of the semiconductor electrode, the photoelectrochemical cell 9 was prepared in the same procedure as the photoelectrochemical cell 1 except that the paste 2 was used as the semiconductor layer forming paste and the paste 13 was used as the light scattering layer forming paste. Produced. The content ratio of the rod-shaped TiO 2 particles 8 contained in the light scattering layer of the semiconductor electrode; was 30 wt%.

(光電気化学電池10)
半導体電極の製造に際して、ペースト2を半導体層形成用ペーストとして使用し、ペースト14を光散乱層形成用ペーストとして使用したこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により光電気化学電池10を作製した。なお、半導体電極の光散乱層に含有される棒状TiO粒子9の含有率;30質量%であった。
(Photoelectrochemical cell 10)
In the production of the semiconductor electrode, the photoelectrochemical cell 10 was prepared by the same procedure as that of the photoelectrochemical cell 1 except that the paste 2 was used as the semiconductor layer forming paste and the paste 14 was used as the light scattering layer forming paste. Produced. The content of the rod-like TiO 2 particles 9 contained in the light scattering layer of the semiconductor electrode was 30% by mass.

(光電気化学電池11)
半導体電極の製造に際して、ペースト2のみを用いて半導体層のみからなる半導体電極(受光面の面積;10mm×10mm、層厚;10μm、)を作製したこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により光電気化学電池11を作製した。
(Photoelectrochemical cell 11)
Similar to the photoelectrochemical cell 1 except that a semiconductor electrode (light-receiving surface area: 10 mm × 10 mm, layer thickness: 10 μm) made of only the semiconductor layer using only the paste 2 was manufactured in the manufacture of the semiconductor electrode. The photoelectrochemical cell 11 was produced according to the procedure.

(電気化学電池12)
半導体電極の製造に際して、ペースト2を半導体層形成用ペーストとして使用し、ペースト7を光散乱層形成用ペーストとして使用したこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順により光電極及び比較光電気化学電池12を作製した。なお、半導体電極の光散乱層に含有される棒状TiO粒子2の含有率;30質量%であった。
(Electrochemical battery 12)
In the production of the semiconductor electrode, the photoelectrode and the comparative photoelectricity were prepared in the same procedure as in the photoelectrochemical cell 1 except that the paste 2 was used as the semiconductor layer forming paste and the paste 7 was used as the light scattering layer forming paste. A chemical battery 12 was produced. The content ratio of the rod-shaped TiO 2 particles 2 contained in the light scattering layer of the semiconductor electrode; was 30 wt%.

[特性の試験及び評価]
光電気化学電池1〜12について、ソーラーシミュレータ(WACOM製、WXS−85H)を用いて、AM1.5フィルターを通したキセノンランプから1000W/mの疑似太陽光を照射した。I−Vテスターを用いて電流−電圧特性を測定し、変換効率を求めた。その結果を表6に示す。
変換効率が8.5%以上のものを◎、8%以上8.5%未満のものを○、8%以上6.5%未満のものを△、6.5%未満のものを×とし、変換効率が8%以上のものを合格、変換効率が8%未満のものを不合格とした。
[Testing and evaluation of characteristics]
About the photoelectrochemical cells 1-12, 1000 W / m < 2 > pseudo-sunlight was irradiated from the xenon lamp which passed the AM1.5 filter using the solar simulator (the product made from WACOM, WXS-85H). The current-voltage characteristics were measured using an IV tester to determine the conversion efficiency. The results are shown in Table 6.
A conversion efficiency of 8.5% or more is ◎, 8% or more and less than 8.5% is ○, 8% or more and less than 6.5% is △, and less than 6.5% is ×, A conversion efficiency of 8% or more was accepted and a conversion efficiency of less than 8% was rejected.

Figure 0005620315
表6からわかるように、一般式(1)の構造を有する色素と、一般式(2)の構造を有する色素を併用した場合は、一般式(1)の構造を有する色素単独又は一般式(2)の構造を有する色素単独の場合と比較して、合格レベルの変換効率の光電気化学電池が得られた。
Figure 0005620315
As can be seen from Table 6, when the dye having the structure of the general formula (1) and the dye having the structure of the general formula (2) are used in combination, the dye having the structure of the general formula (1) alone or the general formula ( Compared to the case of the dye alone having the structure of 2), a photoelectrochemical cell having an acceptable conversion efficiency was obtained.

[実施例7]
金属酸化物微粒子に金属アルコキシドを加えスラリー状としたものを導電性基板に塗布し、その後、UVオゾン照射、UV照射又は乾燥を行い、電極を作製した。その後、光電気化学電池を作製し、変換効率を測定した。
[Example 7]
A slurry obtained by adding metal alkoxide to metal oxide fine particles was applied to a conductive substrate, and then UV ozone irradiation, UV irradiation or drying was performed to produce an electrode. Then, the photoelectrochemical cell was produced and the conversion efficiency was measured.

(金属酸化物微粒子)
金属酸化物微粒子としては、酸化チタンを用いた。酸化チタンは、質量比で、30%ルチル型及び70%アナターゼ型、平均粒径25nmのP25粉末(Degussa社製、商品名)を用いた。
(Metal oxide fine particles)
Titanium oxide was used as the metal oxide fine particles. As the titanium oxide, P25 powder (trade name, manufactured by Degussa) having a mass ratio of 30% rutile type and 70% anatase type and an average particle size of 25 nm was used.

(金属酸化物微粒子粉末の前処理)
金属酸化物微粒子をあらかじめ熱処理することで表面の有機物と水分を除去した。酸化チタン微粒子の場合は450℃のオーブンで大気下、30分間加熱した。
(Pretreatment of metal oxide fine particle powder)
The metal oxide fine particles were previously heat-treated to remove surface organic substances and moisture. In the case of titanium oxide fine particles, the fine particles were heated in an oven at 450 ° C. in the atmosphere for 30 minutes.

(金属酸化物微粒子に含まれる水分量の測定)
温度26℃、湿度72%の環境に保存しておいた酸化チタン、P25粉末(Degussa社製、商品名)に含まれる水分量を、熱重量測定における重量減少、及び300℃に加熱したときに脱着した水分量のカールフィッシャー滴定により定量した。
(Measurement of water content in metal oxide fine particles)
When the moisture content contained in titanium oxide and P25 powder (trade name, manufactured by Degussa) stored in an environment of temperature 26 ° C. and humidity 72% is reduced by thermogravimetry and heated to 300 ° C. The amount of moisture desorbed was determined by Karl Fischer titration.

酸化チタン、P25粉末(Degussa社製、商品名)を300℃で加熱したときに脱着する水分量をカールフィッシャー滴定によって定量したところ、0.1033gの酸化チタン微粉末中に0.253mgの水が含まれていた。すなわち、酸化チタン微粉末は約2.5質量%の水分を含んでいた。30分間熱処理し、冷却後デシケーター中に保存して用いた。   When the amount of water desorbed when titanium oxide, P25 powder (trade name, manufactured by Degussa) was heated at 300 ° C. was quantified by Karl Fischer titration, 0.253 mg of water was contained in 0.1033 g of titanium oxide fine powder. It was included. That is, the fine titanium oxide powder contained about 2.5% by mass of water. It was heat-treated for 30 minutes, cooled and stored in a desiccator.

(金属アルコキシドペーストの調製)
金属酸化物微粒子を結合する役割をする金属アルコキシドとしては、チタン原料としてはチタン(IV)テトライソプロポキシド(TTIP)、ジルコニウム原料としてはジルコニウム(IV)テトラn−プロポキシド、ニオブ原料としてはニオブ(V)ペンタエトキシド(全てAldrich社製)をそれぞれ用いた。
(Preparation of metal alkoxide paste)
The metal alkoxide that plays a role in bonding metal oxide fine particles includes titanium (IV) tetraisopropoxide (TTIP) as a titanium raw material, zirconium (IV) tetra n-propoxide as a zirconium raw material, and niobium as a niobium raw material. (V) Pentaethoxide (all manufactured by Aldrich) was used.

金属酸化物微粒子と金属アルコキシドのモル濃度比は、金属アルコキシドの加水分解によって生じるアモルファス層が過度に厚くならず、かつ粒子同士の結合が十分行えるように、金属酸化物微粒子径に応じて適宜調節した。なお、金属アルコキシドはすべて、0.1Mのエタノール溶液とした。酸化チタン微粒子とチタン(IV)テトライソプロポキシド(TTIP)とを混合する場合には、酸化チタン微粒子1gに対し、3.55gの0.1M TTIP溶液を混合した。このとき、得られたペースト中の酸化チタン濃度は約22質量%となり、塗布に適当な粘度となった。また、このときの酸化チタンとTTIPとエタノールは、質量比で1:0.127:3.42、モル比で1:0.036:5.92であった。   The molar concentration ratio between the metal oxide fine particles and the metal alkoxide is appropriately adjusted according to the metal oxide fine particle diameter so that the amorphous layer generated by hydrolysis of the metal alkoxide is not excessively thick and the particles can be sufficiently bonded to each other. did. All metal alkoxides were 0.1M ethanol solutions. When mixing titanium oxide fine particles and titanium (IV) tetraisopropoxide (TTIP), 3.55 g of 0.1M TTIP solution was mixed with 1 g of titanium oxide fine particles. At this time, the titanium oxide concentration in the obtained paste was about 22% by mass, and the viscosity was appropriate for coating. Moreover, the titanium oxide, TTIP, and ethanol at this time were 1: 0.127: 3.42 by mass ratio, and 1: 0.036: 5.92 by molar ratio.

同様に、酸化チタン微粒子とTTIP以外のアルコキシドの混合ペーストについても微粒子濃度が22質量%となるように調製した。酸化亜鉛及び酸化スズ微粒子を用いたペーストでは16質量%とした。酸化亜鉛及び酸化スズの場合は、金属酸化物微粒子1gに対して、金属アルコキシド溶液5.25gの比で混合した。   Similarly, a mixed paste of titanium oxide fine particles and an alkoxide other than TTIP was prepared so that the fine particle concentration was 22% by mass. In the paste using zinc oxide and tin oxide fine particles, the content was 16% by mass. In the case of zinc oxide and tin oxide, the metal alkoxide solution was mixed at a ratio of 5.25 g to 1 g of the metal oxide fine particles.

金属酸化物微粒子と金属アルコキシド溶液は、密閉容器中においてマグネチックスターラーによって2時間攪拌して均一なペーストを得た。導電性基板へのペーストの塗布方法は、ドクターブレード法、スクリーン印刷法、スプレー塗布法などを用いることが可能であり、適当なペースト粘度は塗布方法によって適宜選択した。ここでは簡便にガラス棒で塗布する方法(ドクターブレード法に類似)を用いた。この場合、適当なペースト粘度を与える金属酸化物微粒子の濃度は概ね5〜30質量%の範囲となった。   The metal oxide fine particles and the metal alkoxide solution were stirred for 2 hours with a magnetic stirrer in a sealed container to obtain a uniform paste. As a method for applying the paste to the conductive substrate, a doctor blade method, a screen printing method, a spray coating method, or the like can be used, and an appropriate paste viscosity is appropriately selected depending on the application method. Here, a method of applying simply with a glass rod (similar to the doctor blade method) was used. In this case, the concentration of the metal oxide fine particles giving an appropriate paste viscosity was approximately in the range of 5 to 30% by mass.

金属アルコキシドの分解によって生成するアモルファス金属酸化物の厚さは本実験では0.1〜0.6nm程度の範囲にあり、適切な範囲の厚さとすることができた。   In this experiment, the thickness of the amorphous metal oxide produced by the decomposition of the metal alkoxide was in the range of about 0.1 to 0.6 nm, and the thickness could be set to an appropriate range.

(導電性基板上へのペーストの塗布と風乾処理)
スズドープ酸化インジウム(ITO)導電膜付きポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム基板(20Ω/cm)又はフッ素ドープ酸化スズ(FTO)導電膜付きガラス基板(10Ω/cm)に、スペーサとして粘着テープ2枚を一定間隔で平行に貼り付け、上記の方法に従って調製した各ペーストを、ガラス棒を用いて均一に塗布した。
ペーストを塗布後、色素吸着前に、UVオゾン処理、UV照射処理、又は乾燥処理の有無について条件を変えて多孔質膜を作製した。
(Applying paste on conductive substrate and air-drying treatment)
Two adhesive tapes as spacers on a polyethylene terephthalate (PET) film substrate (20Ω / cm 2 ) with tin-doped indium oxide (ITO) conductive film or a glass substrate (10Ω / cm 2 ) with fluorine-doped tin oxide (FTO) conductive film The pastes were applied in parallel at regular intervals, and each paste prepared according to the above method was uniformly applied using a glass rod.
After applying the paste and before dye adsorption, a porous film was prepared by changing the conditions for the presence or absence of UV ozone treatment, UV irradiation treatment, or drying treatment.

(乾燥処理)
導電性基板へ塗布した後の膜を大気中室温において2分程度で風乾した。この過程でペースト中の金属アルコキシドが大気中の水分によって加水分解を受け、Tiアルコキシド、Zrアルコキシド、Nbアルコキシドからそれぞれアモルファスの酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオブが形成された。
生成したアモルファス金属酸化物が、金属酸化物微粒子同士及び膜と導電性基板を接着する役割を果たすため、風乾するのみで機械的強度と付着性に優れた多孔質膜が得られた。
(Drying process)
The film after application to the conductive substrate was air-dried in the atmosphere at room temperature for about 2 minutes. During this process, the metal alkoxide in the paste was hydrolyzed by moisture in the atmosphere, and amorphous titanium oxide, zirconium oxide, and niobium oxide were formed from Ti alkoxide, Zr alkoxide, and Nb alkoxide, respectively.
Since the produced amorphous metal oxide plays a role of adhering metal oxide fine particles and the film to the conductive substrate, a porous film excellent in mechanical strength and adhesion was obtained only by air drying.

(UVオゾン処理)
UVオゾン処理には日本レーザー電子社製のNL−UV253 UVオゾンクリーナーを用いた。UV光源には185nmと254nmに輝線を持つ4.5W水銀ランプ3個を備えており、試料を光源から約6.5センチの距離に水平に配置した。チャンバー中に酸素気流を導入することでオゾンが発生する。本実施例においてはこのUVオゾン処理を2時間行なった。なお、このUVオゾン処理によるITO膜及びFTO膜の導電性の低下は全く見られなかった。
(UV ozone treatment)
NL-UV253 UV ozone cleaner manufactured by Nippon Laser Electronics Co., Ltd. was used for UV ozone treatment. The UV light source was equipped with three 4.5 W mercury lamps having emission lines at 185 nm and 254 nm, and the sample was placed horizontally at a distance of about 6.5 cm from the light source. Ozone is generated by introducing an oxygen stream into the chamber. In this example, this UV ozone treatment was performed for 2 hours. Note that no decrease in the conductivity of the ITO film and the FTO film due to this UV ozone treatment was observed.

(UV処理)
チャンバー中を窒素置換して処理を行う以外は同様に、前記UVオゾン処理と同様に、2時間処理を行った。このUV処理によるITO膜及びFTO膜の導電性の低下はまったく見られなかった。
(UV treatment)
Similarly to the UV ozone treatment, the treatment was performed for 2 hours, except that the inside of the chamber was replaced with nitrogen. No decrease in the conductivity of the ITO film and FTO film due to the UV treatment was observed.

(色素吸着)
色素には表7記載の色素を用いて、各色素の0.3mMのエタノール混合溶液を調製した。本実験では上記のプロセスで作製した多孔質膜を100℃のオーブンで1時間乾燥した後に増感色素の溶液に浸漬し、そのまま室温で1時間放置して酸化チタン表面に色素を吸着させた。色素吸着後の試料はエタノールで洗浄し、風乾した。
(Dye adsorption)
The dye of Table 7 was used for the dye, and a 0.3 mM ethanol mixed solution of each dye was prepared. In this experiment, the porous film produced by the above process was dried in an oven at 100 ° C. for 1 hour, then immersed in a sensitizing dye solution, and allowed to stand at room temperature for 1 hour to adsorb the dye on the titanium oxide surface. The sample after dye adsorption was washed with ethanol and air-dried.

(光電気化学電池の作製と電池特性評価)
色素吸着後の多孔質膜が形成された導電性基板を光電極とし、これと白金微粒子をスパッタリングにより修飾したITO/PETフィルム又はFTO/ガラス対極を対向させて、光電気化学電池を試作した。上記光電極の実効面積は約0.2cmとした。電解質溶液には0.5MのLiI,0.05MのI,0.5Mのt−ブチルピリジンを含む3−メトキシプロピオニトリルを用い、毛管現象によって両電極間のギャップに導入した。
(Production of photoelectrochemical cell and evaluation of battery characteristics)
A photoelectrochemical cell was fabricated by using a conductive substrate on which a porous film after dye adsorption was formed as a photoelectrode, and an ITO / PET film or FTO / glass counter electrode in which platinum fine particles were modified by sputtering. The effective area of the photoelectrode was about 0.2 cm 2 . As the electrolyte solution, 3-methoxypropionitrile containing 0.5 M LiI, 0.05 M I 2 and 0.5 M t-butylpyridine was introduced into the gap between the two electrodes by capillary action.

電池性能の評価は、一定フォトン数(1016cm−2)照射下での光電流作用スペクトル測定及びAM1.5擬似太陽光(100mW/cm)照射下でのI−V測定により行なった。これらの測定には分光計器社製のCEP−2000型分光感度測定装置を用いた。
得られた変換効率を表7にまとめた。
The battery performance was evaluated by photocurrent action spectrum measurement under irradiation with a constant number of photons (1016 cm −2 ) and IV measurement under irradiation with AM1.5 simulated sunlight (100 mW / cm 2 ). A CEP-2000 type spectral sensitivity measuring device manufactured by Spectrometer Co., Ltd. was used for these measurements.
The conversion efficiency obtained is summarized in Table 7.

(結果の評価)
結果は、変換効率が6%以上のものを◎、5.5%以上6%未満のものを○、5.%以上5.5%未満のものを△、5%未満のものを×として表示し、変換効率が5.5%以上のものを合格とした。
(Evaluation of results)
As a result, the conversion efficiency of 6% or more is ◎, 5.5% or more and less than 6% is ◯, 5. % Or more and less than 5.5% are indicated as Δ, and those less than 5% are indicated as x, and those with a conversion efficiency of 5.5% or more are regarded as acceptable.

Figure 0005620315
Figure 0005620315

表7において、「UVオゾン」、「UV」、「乾燥」の欄はそれぞれ、多孔質膜の形成後、増感色素吸着前における、UVオゾン処理、UV照射処理、乾燥処理の有無を表す。処理したものが「○」であり、処理なしのものが「×」である。   In Table 7, the columns of “UV ozone”, “UV”, and “dry” indicate the presence / absence of UV ozone treatment, UV irradiation treatment, and drying treatment after formation of the porous film and before sensitizing dye adsorption, respectively. The processed one is “◯”, and the unprocessed one is “×”.

表7の「TiOの前処理の欄は、酸化チタン微粒子の前処理(450℃のオーブンで30分間熱処理)の有無を示す。試料6、14、22は、高TTIP濃度(酸化チタン:TTIPのモル比が1:0.356)のペーストを用いた試料を表す。他の試料(試料1〜5,7〜13,23,24)は全て酸化チタン:TTIP=1:0.0356のペーストを用いた。 The column of Pretreatment of TiO 2 ” in Table 7 indicates the presence or absence of pretreatment of titanium oxide fine particles (heat treatment in an oven at 450 ° C. for 30 minutes). Samples 6, 14, and 22 represent samples using a paste having a high TTIP concentration (titanium oxide: TTIP molar ratio of 1: 0.356). All other samples (samples 1 to 5, 7 to 13, 23, and 24) were made of a paste of titanium oxide: TTIP = 1: 0.0356.

表7に示す結果から、一般式(1)の構造を有する色素と、一般式(2)の構造を有する色素を併用した場合は、多孔質膜の形成後、増感色素吸着前における、UVオゾン処理、UV照射処理、乾燥処理の有無にかかわらず、当該色素を単独使用した場合よりも、常に光電気化学電池の変換効率が高く、合格レベルの変換効率が得られることがわかった。   From the results shown in Table 7, when the dye having the structure of the general formula (1) and the dye having the structure of the general formula (2) are used in combination, the UV after the formation of the porous film and before the adsorption of the sensitizing dye It was found that the conversion efficiency of the photoelectrochemical cell was always higher than that when the dye was used alone, regardless of the presence of ozone treatment, UV irradiation treatment, and drying treatment, and conversion efficiency at a pass level was obtained.

[実験8]
溶媒としてアセトニトリルを用い、ヨウ化リチウム0.1mol/l、ヨウ素0.05mol/l、ヨウ化ジメチルプロピルイミダゾリウム0.62mol/lを溶解した電解質溶液を調製した。ここに下記に示すNo.1〜No.8のベンズイミダゾール系化合物をそれぞれ濃度0.5mol/lになるように別々に添加し、溶解した。
[Experiment 8]
Using acetonitrile as a solvent, an electrolyte solution was prepared in which lithium iodide 0.1 mol / l, iodine 0.05 mol / l, and dimethylpropylimidazolium iodide 0.62 mol / l were dissolved. No. shown below. 1-No. 8 benzimidazole compounds were separately added and dissolved to a concentration of 0.5 mol / l.

Figure 0005620315
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No.1〜No.8のベンズイミダゾール系化合物電解液を、導電性ガラスに表8記載の色素を担持した多孔質酸化チタン半導体薄膜(厚さ15μm)に滴下した。ここにポリエチレンフィルム製のフレーム型スペーサー(厚さ25μm)をのせ、白金対電極でこれを覆い、光電変換素子を作製した。
得られた光電変換素子に、Xeランプを光源として強度100mW/cmの光を照射した。表8に得られた開放電圧と光電変換効率を示した。
No. 1-No. No. 8 benzimidazole compound electrolyte was dropped onto a porous titanium oxide semiconductor thin film (thickness: 15 μm) in which the dyes listed in Table 8 were supported on conductive glass. A frame type spacer (thickness: 25 μm) made of a polyethylene film was placed thereon, and this was covered with a platinum counter electrode to produce a photoelectric conversion element.
The obtained photoelectric conversion element was irradiated with light having an intensity of 100 mW / cm 2 using a Xe lamp as a light source. Table 8 shows the open circuit voltage and photoelectric conversion efficiency obtained.

(結果の評価)
(i)開放電圧は、7.0V以上のものを◎、6.5V以上7.0V未満のものを○、6.0V以上6.5V未満のものを△、6.0V未満のものを×として表示し、6.5V以上を合格とした。
(ii)変換効率が8.5%以上のものを◎、8%以上8.5%未満のものを○、6.5%以上8%未満のものを△、6.5%未満のものを×とし、変換効率が8%以上のものを合格、変換効率が8%未満のものを不合格とした。
以上の(i)と(ii)がともに合格のものを総合評価合格とした。
(Evaluation of results)
(I) The open circuit voltage is 7.0 V or more, ◎, 6.5 V or more and less than 7.0 V, ◯, 6.0 V or more and less than 6.5 V, Δ, or less than 6.0 V × It was displayed as 6.5V or more as the pass.
(Ii) A conversion efficiency of 8.5% or more is ◎, 8% or more and less than 8.5% is 、, 6.5% or more and less than 8% is △, and less than 6.5%. The case where the conversion efficiency was 8% or more was passed, and the conversion efficiency was less than 8% was rejected.
When the above (i) and (ii) were both acceptable, the overall evaluation was accepted.

Figure 0005620315
表8の結果からわかるように、一般式(1)の構造を有する色素と、一般式(2)の構造を有する色素を併用した場合は、一般式(1)の構造を有する色素単独又は一般式(2)の構造を有する色素単独の場合と比較して、合格レベルの開放電圧及び変換効率の光電気化学電池を得ることができる。
Figure 0005620315
As can be seen from the results of Table 8, when the dye having the structure of the general formula (1) and the dye having the structure of the general formula (2) are used in combination, the dye having the structure of the general formula (1) alone or in general Compared to the case of the dye alone having the structure of the formula (2), a photoelectrochemical cell having an acceptable open circuit voltage and conversion efficiency can be obtained.

[実験9]
(光電気化学電池1)
以下に示す手順により、特開2004−152613号公報の図1に示した光電極10と同様の構成を有する光電極(ただし、半導体電極2を2層構造とした。)を作製し、更に、この光電極を用いた以外は特開2004−152613号公報の図1に示した色素増感型太陽電池20と同様の構成を有する光電気化学電池(半導体電極2の受光面F2の面積:1cm)を作製した。なお、当該2層構造を有する半導体電極2の各層について、透明電極1に近い側に配置される層を「第1の層」、多孔体層PSに近い側に配置される層を「第2の層」という。
[Experiment 9]
(Photoelectrochemical cell 1)
According to the following procedure, a photoelectrode having the same configuration as the photoelectrode 10 shown in FIG. 1 of JP-A No. 2004-152613 (however, the semiconductor electrode 2 has a two-layer structure) is manufactured. Except for using this photoelectrode, a photoelectrochemical cell having the same structure as the dye-sensitized solar cell 20 shown in FIG. 1 of JP-A No. 2004-152613 (the area of the light receiving surface F2 of the semiconductor electrode 2 is 1 cm). 2 ) was produced. For each layer of the semiconductor electrode 2 having the two-layer structure, a layer disposed on the side close to the transparent electrode 1 is referred to as “first layer”, and a layer disposed on the side close to the porous body layer PS is referred to as “second layer”. The layer.

まず、平均粒子径25nmのP25粉末(Degussa社製、商品名)と、これと粒子径の異なる酸化チタン粒子、P200粉末(平均粒子径:200nm、Degussa社製、商品名)とを用い、P25とP200の合計の含有量が15質量%で、P25とP200との質量比が、P25:P200=30:70となるように、これらにアセチルアセトン、イオン交換水、界面活性剤(東京化成社製、商品名;「Triton−X」)を加え、混練して第2の層形成用のスラリー、以下、「スラリー1」とする)を調製した。
次に、P200を使用せず、P25のみを使用したこと以外は、前述のスラリー1と同様の調製手順により第1の層形成用のスラリー(P1の含有量;15質量%、以下、「スラリー2」とする)を調製した。
First, P25 powder having an average particle diameter of 25 nm (trade name, manufactured by Degussa), titanium oxide particles having a different particle diameter, and P200 powder (average particle diameter: 200 nm, product name, manufactured by Degussa) were used. And P200 are 15% by mass, and the mass ratio of P25 and P200 is P25: P200 = 30: 70, so that acetylacetone, ion-exchanged water, surfactant (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) , Trade name: “Triton-X”) and kneaded to prepare a slurry for forming a second layer (hereinafter referred to as “slurry 1”).
Next, the slurry for forming the first layer (P1 content: 15 mass%; hereinafter, “slurry” was prepared by the same preparation procedure as that of the slurry 1 except that only P25 was used without using P200. 2)) was prepared.

一方、ガラス基板(透明導電性ガラス)上に、フッ素ドープされたSnO導電膜(膜厚:700nm)を形成した透明電極(厚さ:1.1mm)を準備した。そして、このSnO導電膜上に、上述のスラリー2をバーコーダで塗布し、次いで乾燥させた。その後、大気中、450℃で30分間焼成した。このようにして、透明電極上に、半導体電極2の第1の層を形成した。 On the other hand, a transparent electrode (thickness: 1.1 mm) in which a fluorine-doped SnO 2 conductive film (film thickness: 700 nm) was formed on a glass substrate (transparent conductive glass) was prepared. Then, the SnO 2 conductive film, the slurry 2 described above was coated with Bakoda, then dried. Then, it baked for 30 minutes at 450 degreeC in air | atmosphere. In this way, the first layer of the semiconductor electrode 2 was formed on the transparent electrode.

更に、スラリー1を用いて、上述と同様の塗布と焼成とを繰り返すことにより、第1の層上に、第2の層を形成した。このようにして、SnO導電膜上に半導体電極2(受光面の面積;1.0cm、第1層と第2層の合計厚さ:10μm(第1の層の厚さ:3μm、第2の層の厚さ:7μm))を形成し、増感色素を含有していない状態の光電極10を作製した。 Furthermore, the second layer was formed on the first layer by repeating the same application and firing as described above using the slurry 1. In this way, the semiconductor electrode 2 (light-receiving surface area; 1.0 cm 2 , the total thickness of the first layer and the second layer: 10 μm (the thickness of the first layer: 3 μm, the first layer) on the SnO 2 conductive film No. 2 layer thickness: 7 μm)), and a photoelectrode 10 containing no sensitizing dye was prepared.

次に、色素として表9記載の色素のエタノール溶液(各増感色素の濃度;3×10−4mol/L)を調製した。この溶液に前記光電極10を浸漬し、80℃の温度条件のもとで20時間放置した。これにより、半導体電極の内部に増感色素を合計で約1.0×10−7mol/cm吸着させた。その後、開放電圧Vocを向上させるために、ルテニウム錯体吸着後の半導体電極を4−tert−ブチルピリジンのアセトニトリル溶液に15分浸漬した後、25℃に保持した窒素気流中において乾燥させ、上記光電極10を完成させた。なお、表9において、R−6は実験1の比較例で使用したものを示す。 Next, an ethanol solution of the dye described in Table 9 (concentration of each sensitizing dye; 3 × 10 −4 mol / L) was prepared as the dye. The photoelectrode 10 was immersed in this solution and allowed to stand for 20 hours under a temperature condition of 80 ° C. As a result, a total of about 1.0 × 10 −7 mol / cm 2 of sensitizing dye was adsorbed inside the semiconductor electrode. Thereafter, in order to improve the open circuit voltage Voc, the semiconductor electrode after the adsorption of the ruthenium complex was immersed in an acetonitrile solution of 4-tert-butylpyridine for 15 minutes, and then dried in a nitrogen stream maintained at 25 ° C. 10 was completed. In Table 9, R-6 indicates that used in Comparative Example of Experiment 1.

次に、上記の光電極と同様の形状と大きさを有する対極CEを作製した。先ず、透明導電性ガラス上に、塩化白金酸六水和物のイソプロパノール溶液を滴下し、大気中で乾燥した後に450℃で30分焼成処理することにより、白金焼結対極CEを得た。なお、この対極CEには予め電解質Eの注入用の孔(直径1mm)を設けておいた。   Next, a counter electrode CE having the same shape and size as the above photoelectrode was produced. First, an isopropanol solution of chloroplatinic acid hexahydrate was dropped on a transparent conductive glass, dried in air, and then baked at 450 ° C. for 30 minutes to obtain a platinum sintered counter electrode CE. The counter electrode CE was previously provided with a hole for injection of the electrolyte E (diameter 1 mm).

次に、溶媒となるメトキシアセトニトリルに、ヨウ化亜鉛と、ヨウ化−1,2−ジメチル−3−プロピルイミダゾリウムと、ヨウ素と、4−tert−ブチルピリジンとを溶解させて液状電解質(ヨウ化亜鉛の濃度:10mmol/L、ヨウ化ジメチルプロピルイミダゾリウムの濃度:0.6mol/L、ヨウ素の濃度:0.05mol/L、4−tert−ブチルピリジン濃度:1mol/L)を調製した。   Next, zinc iodide, 1,2-dimethyl-3-propylimidazolium iodide, iodine, and 4-tert-butylpyridine are dissolved in methoxyacetonitrile as a solvent to form a liquid electrolyte (iodide). Zinc concentration: 10 mmol / L, dimethylpropylimidazolium iodide concentration: 0.6 mol / L, iodine concentration: 0.05 mol / L, 4-tert-butylpyridine concentration: 1 mol / L).

次に、半導体電極の大きさに合わせた形状を有する三井デュポンポリケミカル社製のスペーサS(商品名:「ハイミラン」,エチレン/メタクリル酸ランダム共重合体アイオノマーフィルム)を準備し、特開2004−152613号公報の図1に示すように、光電極と対極とをスペーサを介して対向させ、それぞれを熱溶着により張り合わせて電池の筐体(電解質未充填)を得た。
次に、液状電解質を対極の孔から筐体内に注入した後、孔をスペーサと同素材の部材で塞ぎ、更に対極の孔にこの部材を熱溶着させて孔を封止し、光電気化学電池1を完成させた。
Next, a spacer S (trade name: “HIMILAN”, ethylene / methacrylic acid random copolymer ionomer film) manufactured by Mitsui Dupont Polychemical Co., Ltd. having a shape matched to the size of the semiconductor electrode was prepared. As shown in FIG. 1 of Japanese Patent No. 152613, the photoelectrode and the counter electrode were opposed to each other via a spacer, and each was bonded by thermal welding to obtain a battery casing (no electrolyte filled).
Next, after injecting the liquid electrolyte into the housing from the hole of the counter electrode, the hole is closed with a member made of the same material as the spacer, and this member is thermally welded to the hole of the counter electrode to seal the hole. 1 was completed.

(光電気化学電池2)
液状電解質におけるヨウ化亜鉛の濃度を50mmol/Lとしたこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順及び条件で光電気化学電池2を作製した。
(Photoelectrochemical cell 2)
The photoelectrochemical cell 2 was produced in the same procedure and conditions as the photoelectrochemical cell 1 except that the concentration of zinc iodide in the liquid electrolyte was 50 mmol / L.

(光電気化学電池3)
液状電解質におけるヨウ化亜鉛の代わりにヨウ化リチウムを添加し、液状電解質におけるヨウ化リチウムの濃度を20mmol/Lとしたこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順及び条件で比較光電気化学電池を1を作製した。
(Photoelectrochemical cell 3)
Comparative photoelectrochemistry was performed in the same procedure and conditions as in the photoelectrochemical cell 1 except that lithium iodide was added instead of zinc iodide in the liquid electrolyte, and the concentration of lithium iodide in the liquid electrolyte was 20 mmol / L. A battery 1 was produced.

(比較電気化学電池4)
液状電解質におけるヨウ化亜鉛の代わりにヨウ化リチウムを添加し、液状電解質におけるヨウ化リチウムの濃度を100mmol/Lとしたこと以外は、光電気化学電池1と同様の手順及び条件で比較光電気化学電池4を作製した。
(Comparative electrochemical cell 4)
Comparative photoelectrochemistry in the same procedure and conditions as in the photoelectrochemical cell 1 except that lithium iodide was added instead of zinc iodide in the liquid electrolyte, and the concentration of lithium iodide in the liquid electrolyte was 100 mmol / L. Battery 4 was produced.

(試験と評価)
以下の手順により、光電気化学電池1〜4を用いた試料について、変換効率を測定した。
電池特性評価試験は、ソーラーシミュレータ(ワコム製、商品名;「WXS−85−H型」)を用い、AMフィルター(AM1.5)を通したキセノンランプ光源からの疑似太陽光の照射条件を、100mW/cmとする(いわゆる「1Sun」の照射条件)測定条件の下で行った。
(Examination and evaluation)
Conversion efficiency was measured about the sample using the photoelectrochemical cells 1-4 by the following procedures.
The battery characteristic evaluation test uses a solar simulator (trade name; “WXS-85-H type”, manufactured by Wacom), and the irradiation conditions of pseudo-sunlight from a xenon lamp light source through an AM filter (AM1.5), The measurement was performed under measurement conditions of 100 mW / cm 2 (so-called “1Sun” irradiation conditions).

各光電気化学電池について、I−Vテスターを用いて室温にて電流−電圧特性を測定し、これらから変換効率を求めた。得られた結果を表9(1Sunの照射条件)の「fresh」として示す。また、60℃、1Sun照射で、10Ω負荷での作動条件で、変換効率の300時間経時後の耐久性評価試験の結果も表9に示す。   About each photoelectrochemical cell, the current-voltage characteristic was measured at room temperature using the IV tester, and conversion efficiency was calculated | required from these. The obtained results are shown as “fresh” in Table 9 (1 Sun irradiation conditions). Table 9 also shows the results of a durability evaluation test after 300 hours of conversion efficiency under operating conditions of 60 ° C., 1 Sun irradiation and 10Ω load.

Figure 0005620315
表9に示した結果から明らかなように、一般式(1)の構造を有する色素と、一般式(2)の構造を有する色素を併用した場合は、電解質にヨウ化亜鉛を添加した場合でも優れたものであることがわかった。
Figure 0005620315
As is clear from the results shown in Table 9, when the dye having the structure of the general formula (1) and the dye having the structure of the general formula (2) are used in combination, even when zinc iodide is added to the electrolyte, It turned out to be excellent.

[実験10]
1.二酸化チタン分散液の調製
内側をフッ素樹脂コーティングした内容積200mlのステンレス製容器に二酸化チタン微粒子(日本アエロジル(株)製,Degussa P−25)15g、水45g、分散剤(アルドリッチ社製、Triron X−100)1g、直径0.5mmのジルコニアビーズ(ニッカトー社製)30gを入れ、サンドグラインダーミル(アイメックス社製)を用いて1500rpmで2時間分散処理した。得られた分散液からジルコニアビーズを濾別した。得られた分散液中の二酸化チタン微粒子の平均粒径は2.5μmであった。なお粒径はMALVERN社製のマスターサイザーにより測定した。
[Experiment 10]
1. Preparation of Titanium Dioxide Dispersion 15 g of titanium dioxide fine particles (Nippon Aerosil Co., Ltd., Degussa P-25), water 45 g, dispersant (Aldrich, Triron X −100) 1 g and 30 g of zirconia beads having a diameter of 0.5 mm (manufactured by Nikkato Co., Ltd.) were added, and dispersion treatment was performed at 1500 rpm for 2 hours using a sand grinder mill (manufactured by Imex). Zirconia beads were filtered off from the resulting dispersion. The average particle diameter of the titanium dioxide fine particles in the obtained dispersion was 2.5 μm. The particle size was measured with a master sizer manufactured by MALVERN.

2.色素を吸着した酸化チタン微粒子層(電極A)の作製
フッ素をドープした酸化スズを被覆した20mm×20mmの導電性ガラス板(旭ガラス(株)製,TCOガラス−U,表面抵抗:約30Ω/m)を準備し、その導電層側の両端(端から3mmの幅の部分)にスペーサー用粘着テープを張った後で、導電層上にガラス棒を用いて上記分散液を塗布した。分散液の塗布後、粘着テープを剥離し、室温で1日間風乾した。次にこの半導体塗布ガラス板を電気炉(ヤマト科学(株)製マッフル炉FP−32型)に入れ、450℃で30分間焼成した。半導体塗布ガラス板を取り出し冷却した後、表10に示す色素のエタノール溶液(濃度:各1×10−4mol/Lの混合溶液)に3時間浸漬した。色素が吸着した半導体塗布ガラス板を4−tert−ブチルピリジンに15分間浸漬した後、エタノールで洗浄し、自然乾燥させた。このようにして得られた色素増感酸化チタン微粒子層の厚さは10μmであり、酸化チタン微粒子の塗布量は20g/mであった。また色素の吸着量は、その種類に応じて0.1〜10mmol/mの範囲内であった。
2. Preparation of Titanium Oxide Fine Particle Layer (Electrode A) Adsorbed with Dye 20 mm × 20 mm conductive glass plate coated with fluorine-doped tin oxide (Asahi Glass Co., Ltd., TCO glass-U, surface resistance: about 30Ω / m 2 ) was prepared, and an adhesive tape for spacers was applied to both ends (a portion having a width of 3 mm from the end) on the conductive layer side, and then the dispersion was applied onto the conductive layer using a glass rod. After application of the dispersion, the adhesive tape was peeled off and air-dried at room temperature for 1 day. Next, this semiconductor-coated glass plate was placed in an electric furnace (muffle furnace FP-32 type manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) and baked at 450 ° C. for 30 minutes. The semiconductor coated glass plate was taken out and cooled, and then immersed in an ethanol solution of the dye shown in Table 10 (concentration: mixed solution of 1 × 10 −4 mol / L each) for 3 hours. The semiconductor-coated glass plate on which the dye was adsorbed was immersed in 4-tert-butylpyridine for 15 minutes, washed with ethanol, and air dried. The thickness of the dye-sensitized titanium oxide fine particle layer thus obtained was 10 μm, and the coating amount of the titanium oxide fine particles was 20 g / m 2 . Moreover, the adsorption amount of the pigment | dye was in the range of 0.1-10 mmol / m < 2 > according to the kind.

3.光電気化学電池の作製
溶媒としては、アセトニトリルと3−メチル−2−オキサゾリジノンとの体積比90/10の混合物を用いた。この溶媒に、ヨウ素と、電解質塩として1−メチル−3−ヘキシルイミダゾリウムのヨウ素塩を加えて、電解質塩の濃度0.5mol/Lで、0.05mol/Lのヨウ素を含んだ溶液を調製した。この溶液100質量部に対して、窒素含有高分子化合物(1−1)を10質量部加えた。さらに窒素含有高分子化合物の反応性窒素原子に対する求電子剤(2−6)を0.1モル混合し、均一な反応溶液とした。
3. Production of Photoelectrochemical Battery As a solvent, a mixture of acetonitrile and 3-methyl-2-oxazolidinone in a volume ratio of 90/10 was used. Iodine and iodine salt of 1-methyl-3-hexylimidazolium as an electrolyte salt are added to this solvent to prepare a solution containing 0.05 mol / L iodine at an electrolyte salt concentration of 0.5 mol / L. did. 10 parts by mass of the nitrogen-containing polymer compound (1-1) was added to 100 parts by mass of this solution. Furthermore, 0.1 mol of an electrophile (2-6) for reactive nitrogen atoms of the nitrogen-containing polymer compound was mixed to obtain a uniform reaction solution.

一方、導電性ガラス板上に形成された色素増感酸化チタン微粒子層の上にスペーサーを介して白金を蒸着したガラス板からなる対極の白金薄膜側を載置し、導電性ガラス板と白金蒸着ガラス板とを固定した。得られた組立体の開放端を上記電解質溶液に浸漬し、毛細管現象により色素増感酸化チタン微粒子層中に反応溶液を浸透させた。
次いで80℃で30分間加熱して、架橋反応を行った。このようにして、特開2000−323190号公報の図2に示す通り、導電性ガラス板10の導電層12上に、色素増感酸化チタン微粒子層20、電解質層30、および白金薄膜42およびガラス板41からなる対極40が順に積層された本発明の光電気化学電池1−1(試料No.1)を得た。
また色素と電解質組成物の組成の組み合わせを表10に示すように変更した以外上記工程を繰り返すことにより、異なる感光層20および/または電荷移動層30を有する光電気化学電池1−2、1−3、1−4を得た。
On the other hand, on the dye-sensitized titanium oxide fine particle layer formed on the conductive glass plate, the platinum thin film side of the counter electrode made of a glass plate on which platinum is vapor-deposited through a spacer is placed. A glass plate was fixed. The open end of the obtained assembly was immersed in the electrolyte solution, and the reaction solution was infiltrated into the dye-sensitized titanium oxide fine particle layer by capillary action.
Subsequently, it heated at 80 degreeC for 30 minutes, and the crosslinking reaction was performed. Thus, as shown in FIG. 2 of JP 2000-323190 A, the dye-sensitized titanium oxide fine particle layer 20, the electrolyte layer 30, the platinum thin film 42, and the glass are formed on the conductive layer 12 of the conductive glass plate 10. A photoelectrochemical cell 1-1 (sample No. 1) of the present invention in which the counter electrode 40 composed of the plate 41 was sequentially laminated was obtained.
Further, by repeating the above process except that the combination of the composition of the dye and the electrolyte composition is changed as shown in Table 10, photoelectrochemical cells 1-2, 1- having different photosensitive layers 20 and / or charge transfer layers 30 are obtained. 3, 1-4 were obtained.

4.光電気化学電池A、Bの作製
(1)光電気化学電池A
前述のようにして本発明の色素により色素増感された酸化チタン微粒子層からなる電極A(20mm×20mm)を同じ大きさの白金蒸着ガラス板にスペーサーを介して重ねあわせた。次に両ガラス板の隙間に毛細管現象を利用して電解液(アセトニトリルと3−メチル−2−オキサゾリジノンとの体積比90/10の混合物を溶媒としたヨウ素0.05mol/L、ヨウ化リチウム0.5mol/Lの溶液)を浸透させて、光電気化学電池A−1を作製した。また色素を表10に示すように変更した以外上記工程を繰り返すことにより、光電気化学電池A−2、A−3、A−4を得た。
4). Production of photoelectrochemical cells A and B (1) Photoelectrochemical cell A
An electrode A (20 mm × 20 mm) composed of a titanium oxide fine particle layer dye-sensitized with the dye of the present invention as described above was superimposed on a platinum-deposited glass plate of the same size via a spacer. Next, using a capillary phenomenon in the gap between both glass plates, an electrolytic solution (0.05 mol / L of iodine using a mixture of acetonitrile and 3-methyl-2-oxazolidinone in a volume ratio of 90/10 as a solvent, lithium iodide 0) .5 mol / L solution) was infiltrated to produce photoelectrochemical cell A-1. Photoelectrochemical cells A-2, A-3, and A-4 were obtained by repeating the above steps except that the dye was changed as shown in Table 10.

(2)光電気化学電池B(特開平9−27352号に記載の電解質)
前述のようにして本発明の色素により色素増感された酸化チタン微粒子層からなる電極A(20mm×20mm)上に、電解液を塗布し、含浸させた。なお電解液は、ヘキサエチレングリコールメタクリル酸エステル(日本油脂化学(株)製,ブレンマーPE−350)1gと、エチレングリコール1gと、重合開始剤として2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロバン−1−オン(日本チバガイギー(株)製,ダロキュア1173)20mgを含有した混合液に、ヨウ化リチウム500mgを溶解し10分間真空脱気することにより得た。次に前記混合溶液を含浸させた多孔性酸化チタン層を減圧下に置くことにより、多孔性酸化チタン層中の気泡を除き、モノマーの浸透を促した後、紫外光照射により重合して高分子化合物の均一なゲルを多孔性酸化チタン層の微細空孔内に充填した。このようにして得られたものをヨウ素雰囲気に30分間曝して、高分子化合物中にヨウ素を拡散させた後、白金蒸着ガラス板を重ね合わせ、光電気化学電池B−1を得た。また色素を表10に示すように変更した以外上記工程を繰り返すことにより、光電気化学電池B−2、B−3、B−4を得た。
(2) Photoelectrochemical cell B (electrolyte described in JP-A-9-27352)
The electrolytic solution was applied and impregnated on the electrode A (20 mm × 20 mm) composed of the titanium oxide fine particle layer dye-sensitized with the dye of the present invention as described above. The electrolyte was 1 g of hexaethylene glycol methacrylate (manufactured by Nippon Oil & Fats Chemical Co., Ltd., Bremer PE-350), 1 g of ethylene glycol, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane as a polymerization initiator. It was obtained by dissolving 500 mg of lithium iodide in a mixed solution containing 20 mg of -1-one (manufactured by Ciba Geigy Japan, Darocur 1173) and vacuum degassing for 10 minutes. Next, the porous titanium oxide layer impregnated with the mixed solution is placed under a reduced pressure to remove bubbles in the porous titanium oxide layer, promote penetration of the monomer, and then polymerize by irradiation with ultraviolet light. A uniform gel of the compound was filled into the fine pores of the porous titanium oxide layer. The product thus obtained was exposed to an iodine atmosphere for 30 minutes to diffuse iodine in the polymer compound, and then a platinum-deposited glass plate was overlaid to obtain a photoelectrochemical cell B-1. Photoelectrochemical cells B-2, B-3, and B-4 were obtained by repeating the above steps except that the dye was changed as shown in Table 10.

5.光電変換効率の測定
500Wのキセノンランプ(ウシオ電機(株)製)の光をAM1.5フィルター(Oriel社製)およびシャープカットフィルター(Kenko L−42)を通すことにより、紫外線を含まない模擬太陽光とした。光強度は89mW/cmとした。
5. Measurement of photoelectric conversion efficiency Simulated sun which does not contain ultraviolet rays by passing light of 500W xenon lamp (made by USHIO INC.) Through AM1.5 filter (made by Oriel) and sharp cut filter (Kenko L-42) It was light. The light intensity was 89 mW / cm 2 .

前述の光電気化学電池の導電性ガラス板10と白金蒸着ガラス板40にそれぞれワニ口クリップを接続し、各ワニ口クリップを電流電圧測定装置(ケースレーSMU238型)に接続した。これに導電性ガラス板10側から模擬太陽光を照射し、発生した電気を電流電圧測定装置により測定した。これにより求められた光電気化学電池の変換効率(η)の初期値(fresh)と、300時間連続照射時の変換効率の低下率をまとめて表10に示す。

Figure 0005620315
Figure 0005620315
(備考)
(1)色素の記号は本文中に記載のとおりである。また、色素S−100としては上記の化合物を用いた。
(2)窒素含有高分子1−1は以下の化合物を示す。
Figure 0005620315
(3)求電子剤
Figure 0005620315
表10からわかるように、本発明の条件は色素を各々単独で用いた場合に比べ300時間経過後の変換効率低下が小さく、高い耐久性を示すことがわかった。
Alligator clips were connected to the conductive glass plate 10 and the platinum-deposited glass plate 40 of the above-described photoelectrochemical cell, and each alligator clip was connected to a current-voltage measuring device (Keutley SMU238 type). This was irradiated with simulated sunlight from the conductive glass plate 10 side, and the generated electricity was measured with a current-voltage measuring device. Table 10 summarizes the initial value (fresh) of the conversion efficiency (η) of the photoelectrochemical cell determined in this way and the rate of decrease in conversion efficiency after 300 hours of continuous irradiation.
Figure 0005620315
Figure 0005620315
(Remarks)
(1) Symbols of pigments are as described in the text. Moreover, said compound was used as pigment | dye S-100.
(2) Nitrogen-containing polymer 1-1 represents the following compound.
Figure 0005620315
(3) Electrophile
Figure 0005620315
As can be seen from Table 10, it was found that the conditions of the present invention showed a high durability since the decrease in conversion efficiency after 300 hours was smaller than when the dyes were used alone.

1 導電性支持体
2 感光体層
21 増感色素
22 半導体微粒子
3 電荷移動体層
4 対極
5 受光電極
6 外部回路
10 光電変換素子
100 光電気化学電池
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conductive support body 2 Photosensitive layer 21 Sensitizing dye 22 Semiconductor fine particle 3 Charge transfer body layer 4 Counter electrode 5 Photosensitive electrode 6 External circuit 10 Photoelectric conversion element 100 Photoelectrochemical cell

Claims (11)

導電性支持体上に色素が吸着された半導体微粒子層を有する感光体、電荷移動体、および対極を含む積層構造よりなる光電変換素子であって、前記色素が下記一般式(1)で表される化合物からなる色素の少なくとも1種と、下記一般式(2)で表される化合物からなる色素の少なくとも1種とを含有することを特徴とする光電変換素子。
Figure 0005620315
[一般式(1)において、Qは4価のベンゼン環基し、X およびはそれぞれ独立にCを表す。ここでR およびはそれぞれ独立に脂肪基を表す。RおよびR’はそれぞれ独立に脂肪族基を表す。P およびはそれぞれ独立に、下記一般式(8)で表される基を表す。Wは電荷を中和させるのに必要な場合の対イオンを表す。]
Figure 0005620315
[一般式(8)において、V は、カルボキシ基もしくはその塩、または2つのV が互いに結合してベンゼン環を形成する基を表す。nは0〜2の整数を表し、nが2の場合は、V は同じでも異なっていてもよい。
YはC(R )R を表す。R およびR は脂肪族基を表し、同一でも異なっていてもよい。
Zは脂肪族基を表し、カルボキシ基または4−カルボキシフェニル基で置換されていてもよい。
およびR はそれぞれ独立に、水素原子または脂肪族基を表す。
は酸素原子、または、下記一般式(12)〜(14)のいずれかで表される基を表す。]
Figure 0005620315
[一般式(12)〜(14)において、Rfは水素原子または脂肪族基を表す。]

M(LL)m(LL)m(X)m・CI 一般式(2)

[一般式(2)において、MはRuを表し、LLは下記一般式(5−3)で表される2座の配位子を表し、LLは下記一般式(4)で表される2座の配位子を表す
はチオシアネート基、イソチオシアネート基、シアネート基およびイソシアネート基からなる群から選ばれた基で配位する1座の配位子を表す。
は1を表す。m は1を表す
は2を表す
CIは一般式()において、電荷を中和させるのに対イオンが必要な場合の対イオンを表す。]
Figure 0005620315
[一般式(5−3)において、 およびR10はそれぞれ独立に、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基、ヒドロキサム酸基、ホスホリル基しくはホスホニル基またはこれらの塩を表す。R11 およびR12はそれぞれ独立に置換基を表す。aおよびa2は0をし、bおよびb2はを表す。nは1をす。R 53 およびR 54 はアルキニル基またはアリール基を表す。
Figure 0005620315
[一般式(4)において、Za、ZbおよびZcはそれぞれ独立に、ピリジン環を形成しうる非金属原子群を表し、それぞれ独立にカルボキシ基およびその塩から選択される酸性基を有していてもよい。cは0を表す。]
A photoelectric conversion element having a laminated structure including a photoconductor having a semiconductor fine particle layer having a dye adsorbed on a conductive support, a charge transfer body, and a counter electrode, wherein the dye is represented by the following general formula (1) The photoelectric conversion element characterized by containing at least 1 sort (s) of the pigment | dye which consists of a compound which consists of, and at least 1 sort (s) of the pigment | dye which consists of a compound represented by following General formula (2).
Figure 0005620315
[In the general formula (1), Q and Table tetravalent benzene ring group, a C R 1 R 2 X 1 and X 2 are each independently. Here, R 1 and R 2 each independently represents an aliphatic group . R and R ′ each independently represents an aliphatic group . P 1 and P 2 each independently represent a group represented by the following general formula (8) . W 1 represents a counter ion as necessary to neutralize the charge. ]
Figure 0005620315
[In General Formula (8), V 1 represents a carboxy group or a salt thereof, or a group in which two V 1 are bonded to each other to form a benzene ring. n represents an integer of 0 to 2, and when n is 2, V 1 may be the same or different.
Y represents C (R b ) R c . R b and R c represent an aliphatic group and may be the same or different.
Z represents an aliphatic group and may be substituted with a carboxy group or a 4-carboxyphenyl group.
R 6 and R 8 each independently represents a hydrogen atom or an aliphatic group.
R 7 represents an oxygen atom or a group represented by any one of the following general formulas (12) to (14). ]
Figure 0005620315
[In General Formulas (12) to (14), Rf represents a hydrogen atom or an aliphatic group. ]

M (LL 1 ) m 1 (LL 2 ) m 2 (X) m 3 · CI General formula (2)

[In one general formula (2), M represents Ru, LL 1 represents a bidentate ligand shown by the following formula (5-3), LL 2 in the following general formula (4) Table Represents a bidentate ligand.
X represents a Chi Oshianeto group, isothiocyanate group, ligand of monodentate coordinating with a group selected from cyanate group and an isocyanate group or Ranaru group.
m 1 represents 1 . m 2 represents 1 .
m 3 represents 2 .
CI represents a counter ion in the general formula ( 2 ) when a counter ion is necessary to neutralize the charge. ]
Figure 0005620315
[And have contact with one general formula (5-3), each R 9 and R 10 are independently carboxy sheet group, sul ho group, hydroxy sheet group, hydroxamic acid group, a phosphoryl group properly the phosphonyl group or their Represents the salt. R 11 and R 12 is to display the substituents independently. a 1 and a2 will table a 0, b 1 and b2 are to table a 0. n is to Table 1. R 53 and R 54 represent an alkynyl group or an aryl group. ]
Figure 0005620315
[In the general formula (4), Za, are each Zb and Zc independently represents a non-metallic atomic group which can form a pyridine ring, having acidic groups selected independently carboxy group and a salt thereof It may be. c represents 0 . ]
記一般式(8)で表される基が下記一般式(10)で表されることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。
Figure 0005620315
[一式(10)において、V、n、ZおよびYは、前記一般式(8)におけるものと同義である。]
The photoelectric conversion device according to claim 1, before Symbol group you express one general formula (8) is characterized by being represented by the following general formula (10).
Figure 0005620315
[In General Formula (10), V 1, n, Z and Y have the same meanings as in the formula (8). ]
前記一般式(8)におけるRが、記一般式(12または(13)で表される基であることを特徴とする請求項に記載の光電変換素子。 The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein R 7 in the general formula (8), and wherein the pre-SL is a group represented by the general formula (12) or (13). 前記一般式(8)におけるRが、下記一般式(16)で表される基であることを特徴とする請求項1または3に記載の光電変換素子。
Figure 0005620315
The photoelectric conversion device according to claim 1 or 3 wherein R 7 in the general formula (8), characterized in that it is a group represented by the following general formula (16).
Figure 0005620315
前記YがC(CH であり前記Zが炭素数5〜18の脂肪族基であることを特徴とする請求項のいずれか1項記載の光電変換素子。 Wherein Y is C (CH 3) 2, wherein Z is a photoelectric conversion device according to any one of claims 1 to 4, wherein the aliphatic group having 5 to 18 carbon atoms. 前記YがC(CH であり前記ZがCH、C、C またはCHCHCOOHであることを特徴とする請求項のいずれか1項記載の光電変換素子。 Wherein Y is C (CH 3) 2, wherein Z is either CH 3, C 2 H 5, C 3 H 7 or claims 1 to 4, characterized in that it is a CH 2 CH 2 COOH the photoelectric conversion device according to (1). 前記V、カルボキシ基またはその塩であることを特徴とする請求項のいずれか1項に記載の光電変換素子。 Wherein V 1 is, photoelectric conversion device according to any one of claims 1 to 6, characterized in that a carboxy group or a salt thereof. 前記V、5−カルボキシ基および4,5−ベンゼン環縮合からなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする請求項のいずれか1項記載の光電変換素子。 Wherein V 1 is, 5 - carboxy sheet group and 4,5-benzene ring selected from the group consisting of the condensation of claims 1 to 6, characterized in that at least one of any one Photoelectric conversion element. 前記Zが、4−カルボキシフェニル基で置換された脂肪族基であり、前記、カルボキシ基もしくはその塩であることを特徴とする請求項4のいずれか1項に記載の光電変換素子。 Wherein Z is an aliphatic group substituted with 4-carboxyphenyl group, wherein V 1 is, photoelectric according to any one of claims 1 to 4, characterized in that a carboxy group or a salt thereof Conversion element. 前記半導体微粒子が酸化チタン微粒子であることを特徴とする請求項1〜のいずれか1項記載の光電変換素子。 The photoelectric conversion element of any one two of claims 1-9, characterized in that said semiconductor fine particles are titanium oxide particles. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の光電変換素子を備えることを特徴とする光電気化学電池。
A photoelectrochemical cell comprising the photoelectric conversion device according to any one of claims 1 to 10 .
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