JP5619855B2 - PROBE DEVICE, TEST DEVICE, AND PROBE METHOD - Google Patents

PROBE DEVICE, TEST DEVICE, AND PROBE METHOD Download PDF

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    • G01R31/26Testing of individual semiconductor devices

Description

本発明は、プローブ装置、試験装置、及び、プローブ方法に関する。   The present invention relates to a probe device, a test device, and a probe method.

ウエハ等に形成された複数の被試験デバイスを試験する試験装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1 特開平8−115954号公報
A test apparatus that tests a plurality of devices under test formed on a wafer or the like is known (see, for example, Patent Document 1).
Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-115954

しかしながら、上述の試験装置では、電気的に接続させるために部材間に作用させる押圧力を適切に設定することができないといった課題がある。   However, in the above-described test apparatus, there is a problem that the pressing force that is applied between the members in order to be electrically connected cannot be set appropriately.

本発明の第1の態様においては、被試験デバイスをテスタとの間を電気的に接続するプローブ装置であって、前記被試験デバイスを保持するデバイス保持部と、可撓性を有するシート、及び、前記シートを貫通して前記デバイス保持部に保持された前記被試験デバイスに接続される複数のデバイス側端子を有するデバイス側ユニットと、前記デバイス側ユニットより前記テスタ側に設けられた中間基板、前記複数のデバイス側端子と電気的に接続される前記中間基板に形成された複数のデバイス側中間電極、及び、前記テスタと電気的に接続される前記中間基板に形成された複数のテスタ側中間電極を有する中間ユニットと、前記中間ユニットより前記テスタ側に設けられたテスタ側基板、前記テスタへと電気的に接続される前記テスタ側基板に形成された複数のテスタ側電極を有するテスタ側ユニットと、前記中間ユニットと前記テスタ側ユニットとの間の第1空間を減圧する第1減圧部と、前記被試験デバイスが前記デバイス側ユニットに接続された状態で、前記デバイス保持部と前記中間ユニットとの間の第2空間を減圧する第2減圧部とを備えるプローブ装置を提供する。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a probe apparatus for electrically connecting a device under test to a tester, a device holding unit for holding the device under test, a flexible sheet, and A device side unit having a plurality of device side terminals connected to the device under test held by the device holding part through the sheet, and an intermediate substrate provided on the tester side from the device side unit, A plurality of device side intermediate electrodes formed on the intermediate substrate electrically connected to the plurality of device side terminals, and a plurality of tester side intermediates formed on the intermediate substrate electrically connected to the tester An intermediate unit having electrodes, a tester side substrate provided on the tester side from the intermediate unit, and the tester side base electrically connected to the tester A tester side unit having a plurality of tester side electrodes, a first pressure reducing unit that decompresses a first space between the intermediate unit and the tester side unit, and the device under test as the device side unit. Provided is a probe device including a second decompression unit that decompresses a second space between the device holding unit and the intermediate unit in a connected state.

本発明の第2の態様においては、ウエハに形成された複数の被試験デバイスを試験する試験装置であって、前記複数の被試験デバイスとの間で電気信号を授受して前記複数の被試験デバイスを試験するテスタと、前記複数の被試験デバイスに形成されたデバイスパッドと前記テスタとを電気的に接続する上述のプローブ装置とを備える試験装置を提供する。   In a second aspect of the present invention, a test apparatus for testing a plurality of devices under test formed on a wafer, wherein the plurality of devices under test are exchanged with the plurality of devices under test by exchanging electrical signals. Provided is a test apparatus comprising a tester for testing a device, and the above-described probe apparatus that electrically connects device pads formed on the plurality of devices under test and the tester.

本発明の第3の態様においては、被試験デバイスをテスタとの間を電気的に接続するプローブ方法であって、前記被試験デバイスを保持するデバイス保持部と、可撓性を有するシート、及び、前記シートを貫通して前記デバイス保持部に保持された前記被試験デバイスに接続される複数のデバイス側端子を有するデバイス側ユニットと、前記デバイス側ユニットより前記テスタ側に設けられた中間基板、前記複数のデバイス側端子と電気的に接続される前記中間基板に形成された複数のデバイス側中間電極、及び、前記テスタと電気的に接続される前記中間基板に形成された複数のテスタ側中間電極を有する中間ユニットと、前記中間ユニットより前記テスタ側に設けられたテスタ側基板、前記テスタへと電気的に接続される前記テスタ側基板に形成された複数のテスタ側電極を有するテスタ側ユニットとを備えるプローブ装置において、前記中間ユニットと前記テスタ側ユニットとの間の第1空間を減圧する第1減圧段階と、前記被試験デバイスが前記デバイス側ユニットに接続された状態で、前記デバイス保持部と前記中間ユニットとの間の第2空間を減圧する第2減圧段階とを備えるプローブ方法を提供する。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a probe method for electrically connecting a device under test to a tester, a device holding portion for holding the device under test, a flexible sheet, and A device side unit having a plurality of device side terminals connected to the device under test held by the device holding part through the sheet, and an intermediate substrate provided on the tester side from the device side unit, A plurality of device side intermediate electrodes formed on the intermediate substrate electrically connected to the plurality of device side terminals, and a plurality of tester side intermediates formed on the intermediate substrate electrically connected to the tester An intermediate unit having electrodes, a tester side substrate provided on the tester side from the intermediate unit, and the tester side base electrically connected to the tester In a probe apparatus comprising a tester side unit having a plurality of tester side electrodes formed in a first decompression stage for decompressing a first space between the intermediate unit and the tester side unit, and the device under test A probe method comprising: a second decompression step of decompressing a second space between the device holding unit and the intermediate unit in a state of being connected to the device side unit.

なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。   It should be noted that the above summary of the invention does not enumerate all the necessary features of the present invention. In addition, a sub-combination of these feature groups can also be an invention.

試験装置100全体を示す正面図である。1 is a front view showing an entire test apparatus 100. FIG. 試験装置100の部分縦断面図である。1 is a partial longitudinal sectional view of a test apparatus 100. FIG. 試験装置100の部分水平断面図である。2 is a partial horizontal sectional view of the test apparatus 100. FIG. アライメントユニット400の構造を示す部分縦断面図である。4 is a partial longitudinal sectional view showing the structure of alignment unit 400. FIG. テストヘッド200の断面図である。2 is a cross-sectional view of a test head 200. FIG. プローブカード300の分解図である。2 is an exploded view of a probe card 300. FIG. ウエハトレイ450を吸着したプローブカード300の全体図である。FIG. 3 is an overall view of a probe card 300 that sucks a wafer tray 450. ウエハ101の試験工程を示すフローチャートである。3 is a flowchart showing a test process for a wafer 101. 試験工程でのプローブカード300の状態を示す図である。It is a figure which shows the state of the probe card 300 in a test process. 試験工程でのプローブカード300の状態を示す図である。It is a figure which shows the state of the probe card 300 in a test process.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。   Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention according to the claims. In addition, not all the combinations of features described in the embodiments are essential for the solving means of the invention.

図1は、試験装置100全体を示す正面図である。試験装置100は、複数の被試験デバイスが形成された半導体ウエハ等のウエハを装置内部に搬入して、当該ウエハを位置合わせした後、当該複数の被試験デバイスをテスタによって試験する。   FIG. 1 is a front view showing the entire test apparatus 100. The test apparatus 100 loads a wafer such as a semiconductor wafer on which a plurality of devices under test are formed into the apparatus, aligns the wafers, and then tests the plurality of devices under test using a tester.

ここで、試験装置100は、アナログ回路、デジタル回路、メモリ、およびシステム・オン・チップ(SOC)等の被試験デバイスを試験する。試験装置100は、被試験デバイスを試験するための試験パターンに基づく試験信号を被試験デバイスに入力して、試験信号に応じて被試験デバイスが出力する出力信号に基づいて被試験デバイスの良否を判定する。試験装置100は、EFEM110、操作部120、ロードユニット130、チラー140を備える。EFEMは、Equipment Front End Moduleの略である。   Here, the test apparatus 100 tests devices under test such as analog circuits, digital circuits, memories, and system-on-chip (SOC). The test apparatus 100 inputs a test signal based on a test pattern for testing the device under test to the device under test, and determines whether the device under test is acceptable based on an output signal output from the device under test according to the test signal. judge. The test apparatus 100 includes an EFEM 110, an operation unit 120, a load unit 130, and a chiller 140. EFEM is an abbreviation for Equipment Front End Module.

EFEM110は、試験対象となる基板を試験装置100の内部で搬送する機構を内蔵する。試験装置100の中でEFEM110は寸法が最も大きいので、試験装置100の動作状態を示すシグナルランプ112と、試験装置100を非常停止させる場合に操作するEMO114とが、EFEM110前面の高い位置に配される。尚、EMOは、EMergency Offの略である。   The EFEM 110 incorporates a mechanism for transporting a substrate to be tested inside the test apparatus 100. Since the EFEM 110 is the largest in the test apparatus 100, the signal lamp 112 indicating the operation state of the test apparatus 100 and the EMO 114 operated when the test apparatus 100 is stopped in an emergency are arranged at a high position on the front surface of the EFEM 110. The Note that EMO is an abbreviation for Emergency Off.

操作部120は、EFEM110に支持される。操作部120は、ディスプレイ122、アーム124および入力装置126を有する。アーム124は、一端をEFEM110に結合され、他端においてディスプレイ122および入力装置126を移動自在に支持する。   The operation unit 120 is supported by the EFEM 110. The operation unit 120 includes a display 122, an arm 124, and an input device 126. One end of the arm 124 is coupled to the EFEM 110 and the other end of the arm 124 supports the display 122 and the input device 126 movably.

ディスプレイ122は、例えば液晶表示装置を含み、試験装置100の動作状態、入力装置126からの入力内容のエコーバック等を表示する。入力装置126は、キーボード、マウス、トラックボール、ジョグタイヤル等を含み得、試験装置100の設定、操作等を受け付ける。   The display 122 includes, for example, a liquid crystal display device, and displays an operation state of the test apparatus 100, an echo back of input content from the input device 126, and the like. The input device 126 may include a keyboard, a mouse, a trackball, a jog tire, and the like, and accepts settings, operations, and the like of the test apparatus 100.

なお、入力装置126から入力され、または予めプログラムされている各構成要素の動作等、試験装置100全体の制御は、図示されていない制御部が行う。この場合、各構成要素はそれぞれに設けられた個別の制御部が制御を行い、複数の構成要素が協調作業を行うときのタイミング等の指示を全体の制御部が個別の制御部に行うようにしても良い。   Note that control of the entire test apparatus 100 such as the operation of each component input from the input device 126 or programmed in advance is performed by a control unit (not shown). In this case, each component is controlled by an individual control unit provided for each component, and the entire control unit instructs each individual control unit to give instructions such as timing when a plurality of components perform cooperative work. May be.

ロードユニット130は、ロードテーブル132およびロードゲート134を有する。ロードテーブル132は、試験の対象となる半導体ウエハを収容した容器が載せられる。ロードゲート134は、試験装置100に半導体ウエハを搬入または搬出する場合に開閉する。これにより、試験装置100内部の清浄度を低下させることなく、外部から半導体ウエハをロードできる。   The load unit 130 includes a load table 132 and a load gate 134. On the load table 132, a container that contains a semiconductor wafer to be tested is placed. The load gate 134 opens and closes when the semiconductor wafer is loaded into or unloaded from the test apparatus 100. Thereby, the semiconductor wafer can be loaded from the outside without reducing the cleanliness inside the test apparatus 100.

チラー140は、試験装置100における試験により温度が上昇したウエハを搬出前に冷却する場合等に、冷却された媒体を供給する。このため、チラー140は、熱交換器を有して、試験を実行するテストヘッドの近傍に配される。なお、チラー140は、多くの場合は、冷媒を冷却する目的で使用される。しかしながら、加熱用熱源を供給する目的で、熱媒の加熱に使用される場合もある。また、冷却または加熱された熱媒の供給源が試験装置100の外部に別途用意されている場合は、チラー140が試験装置100から省かれる場合もある。   The chiller 140 supplies a cooled medium, for example, when a wafer whose temperature has been raised by a test in the test apparatus 100 is cooled before being unloaded. For this reason, the chiller 140 has a heat exchanger and is arranged in the vicinity of the test head that performs the test. In many cases, the chiller 140 is used for the purpose of cooling the refrigerant. However, it may be used to heat the heat medium for the purpose of supplying a heat source for heating. In addition, when a supply source of a cooled or heated heat medium is separately prepared outside the test apparatus 100, the chiller 140 may be omitted from the test apparatus 100.

図2は、試験装置100の部分縦断面図である。図1と共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。試験装置100は、ロードユニット130、EFEM110、メインフレーム160、アライメントユニット400、プローブカード300およびテストヘッド200を備える。この図ではチラー140の図示は省いた。   FIG. 2 is a partial longitudinal sectional view of the test apparatus 100. Elements that are the same as those in FIG. 1 are given the same reference numerals, and redundant descriptions are omitted. The test apparatus 100 includes a load unit 130, an EFEM 110, a main frame 160, an alignment unit 400, a probe card 300, and a test head 200. In this figure, the chiller 140 is not shown.

この試験装置100においては、ロードユニット130、EFEM110およびメインフレーム160が、前面(図中の左側)から後方(図中の右側)に向かって順次隣接して配される。また、アライメントユニット400、プローブカード300およびテストヘッド200は、メインフレーム160の上に積層される。   In the test apparatus 100, a load unit 130, an EFEM 110, and a main frame 160 are sequentially arranged adjacently from the front surface (left side in the figure) to the rear side (right side in the figure). The alignment unit 400, the probe card 300, and the test head 200 are stacked on the main frame 160.

ロードユニット130のロードテーブル132には、FOUP150が載せられている。FOUPは、Front Opening Unified Podの略である。FOUP150は、試験対象となるウエハ101を複数格納する。また、試験終了後のウエハ101を回収する場合にも、FOUP150にウエハが収納される。   A FOUP 150 is placed on the load table 132 of the load unit 130. FOUP is an abbreviation for Front Opening Unified Pod. The FOUP 150 stores a plurality of wafers 101 to be tested. Further, when the wafer 101 after the test is collected, the wafer is stored in the FOUP 150.

EFEM110は、ロボットアーム116を内蔵する。ロボットアーム116は、レール115に沿って走行するコラム117に搭載され、ロードユニット130およびアライメントユニット400の間でウエハを搬送する。このため、ロードユニット130とEFEM110、アライメントユニット400とEFEM110は、それぞれ内部で気密に連通し、これらの内部は高い清浄度を保たれる。   The EFEM 110 incorporates a robot arm 116. The robot arm 116 is mounted on a column 117 that travels along the rail 115, and conveys the wafer between the load unit 130 and the alignment unit 400. For this reason, the load unit 130 and the EFEM 110 and the alignment unit 400 and the EFEM 110 communicate with each other in an airtight manner, and the inside thereof is kept highly clean.

メインフレーム160は、試験装置100全体の動作を制御する。例えば、操作部120に接続されて、入力装置126から入力を受け付け、それを試験装置100の各部に反映させる。また、試験装置100の動作状態を反映させた表示内容を生成して、ディスプレイ122に表示させる。   The main frame 160 controls the overall operation of the test apparatus 100. For example, it is connected to the operation unit 120, receives an input from the input device 126, and reflects it on each unit of the test apparatus 100. Further, display contents reflecting the operation state of the test apparatus 100 are generated and displayed on the display 122.

更に、メインフレーム160は、ロードユニット130、EFEM110およびアライメントユニット400の動作を同期させて、ウエハ101を相互に受け渡しさせる。また更に、EMO114が操作された場合は、試験装置100各部の動作を直ちに停止させる。これらの動作は、試験の対象となるウエハ101の種類、試験の内容に関わらず求められるので、メインフレーム160は、試験装置100に恒常的に装備される。   Further, the main frame 160 synchronizes the operations of the load unit 130, the EFEM 110, and the alignment unit 400 to transfer the wafer 101 to each other. Further, when the EMO 114 is operated, the operation of each part of the test apparatus 100 is immediately stopped. Since these operations are required regardless of the type of wafer 101 to be tested and the content of the test, the main frame 160 is constantly installed in the test apparatus 100.

アライメントユニット400は、ウエハ101を搬送して、搬送先での位置ずれを補正するアライメントステージ410を有する。換言すれば、プローブカード300を交換することにより、レイアウトの異なるウエハ101に試験装置100を対応させることができる。   The alignment unit 400 includes an alignment stage 410 that transports the wafer 101 and corrects misalignment at the transport destination. In other words, by replacing the probe card 300, the test apparatus 100 can correspond to the wafer 101 having a different layout.

アライメントステージ410は、ウエハトレイ450およびウエハ101を搭載してレール402に沿って走行する。また、アライメントステージ410は、垂直方向に伸縮して、搭載したウエハ101を上昇または降下させることができる。これにより、プローブカード300に対してウエハ101を位置合わせした後、ウエハ101を上方のプローブカード300に押し付ける。   The alignment stage 410 travels along the rail 402 with the wafer tray 450 and the wafer 101 mounted thereon. In addition, the alignment stage 410 can expand and contract in the vertical direction to raise or lower the mounted wafer 101. Thereby, after aligning the wafer 101 with respect to the probe card 300, the wafer 101 is pressed against the upper probe card 300.

プローブカード300は、試験装置100において試験を実行する場合に、テストヘッド200とウエハ101との間に介在して、テストヘッド200およびウエハ101を電気的に接続する配線基板ユニットとして用いられる。ウエハ101に対して試験を実行する場合は、プローブカード300により、テストヘッド200とウエハ101との間に電気的な信号経路が形成される。   The probe card 300 is used as a wiring board unit that is interposed between the test head 200 and the wafer 101 and electrically connects the test head 200 and the wafer 101 when the test apparatus 100 executes a test. When a test is performed on the wafer 101, an electrical signal path is formed between the test head 200 and the wafer 101 by the probe card 300.

テストヘッド200は、複数のピンエレクトロニクス210を格納する。ピンエレクトロニクス210は、試験の対象および試験の内容に応じて求められる電気回路を実装される。換言すれば、テストヘッド200は、下面に装着されたコンタクタ202を介して、プローブカード300に対して電気的に接続される。   The test head 200 stores a plurality of pin electronics 210. The pin electronics 210 is mounted with an electric circuit required according to the test target and the content of the test. In other words, the test head 200 is electrically connected to the probe card 300 via the contactor 202 attached to the lower surface.

上記のような試験装置100において、試験に供するウエハ101は、FOUP150に収容された状態で、ロードテーブル132に搭載される。ロボットアーム116は、ロードゲート134を通してウエハ101を1枚ずつ取り出して、アライメントユニット400に搬送する。   In the test apparatus 100 as described above, the wafer 101 to be tested is mounted on the load table 132 while being accommodated in the FOUP 150. The robot arm 116 takes out the wafers 101 one by one through the load gate 134 and conveys them to the alignment unit 400.

アライメントユニット400において、ウエハ101は、アライメントステージ410上の、プローブカード300のウエハトレイ450に搭載される。アライメントステージ410は、搭載されたウエハ101をプローブカード300に対して位置合わせした後、プローブカード300に対して下方から押し付ける。以後の動作については後述する。   In alignment unit 400, wafer 101 is mounted on wafer tray 450 of probe card 300 on alignment stage 410. The alignment stage 410 aligns the mounted wafer 101 with the probe card 300 and then presses it against the probe card 300 from below. Subsequent operations will be described later.

図3は、試験装置100の部分水平断面図である。図1および図2と共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。試験装置100は、4基のロードユニット130と、4基のテストヘッド200とを備える。また、ロードユニット130の各々には、FOUP150が装填される。   FIG. 3 is a partial horizontal sectional view of the test apparatus 100. Elements common to those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. The test apparatus 100 includes four load units 130 and four test heads 200. Each load unit 130 is loaded with a FOUP 150.

EFEM110およびアライメントユニット400は1基ずつ配される。また、アライメントユニット400は、単一のアライメントステージ410を備える。   One EFEM 110 and one alignment unit 400 are arranged. The alignment unit 400 includes a single alignment stage 410.

EFEM110において、ロボットアーム116を支持するコラム117は、レール115に沿って、EFEM110の略全幅にわたって移動する。従って、ロボットアーム116は、4基のロードユニット130および4基のテストヘッド200の全てにウエハ101を搬送できる。   In the EFEM 110, the column 117 that supports the robot arm 116 moves along the rail 115 over substantially the entire width of the EFEM 110. Therefore, the robot arm 116 can transfer the wafer 101 to all of the four load units 130 and the four test heads 200.

なお、EFEM110内部の、チラー140と反対側の端部に、プリアライナ118が配される。プリアライナ118は、ロボットアーム116に対するウエハ101の搭載位置を、テストヘッド200が要求する精度よりは低いが相当に高い精度で調整する。   A pre-aligner 118 is disposed at the end of the EFEM 110 opposite to the chiller 140. The pre-aligner 118 adjusts the mounting position of the wafer 101 with respect to the robot arm 116 with a considerably higher accuracy than the accuracy required by the test head 200.

これにより、ロボットアーム116がウエハトレイ450にウエハ101を搭載する場合の初期位置精度が向上され、プローブカード300に対する位置合わせに要する時間が短縮される。また、試験装置100のスループットを向上させることができる。   Thereby, the initial position accuracy when the robot arm 116 mounts the wafer 101 on the wafer tray 450 is improved, and the time required for alignment with the probe card 300 is shortened. In addition, the throughput of the test apparatus 100 can be improved.

アライメントユニット400は、レール402、422、ステージキャリア420、アライメントステージ410およびマイクロスコープ430を有する。レール402は、筐体401底面の略全幅にわたって配される。ステージキャリア420は、レール402に沿って、筐体401の長手方向に移動する。   The alignment unit 400 includes rails 402 and 422, a stage carrier 420, an alignment stage 410 and a microscope 430. The rail 402 is disposed over substantially the entire width of the bottom surface of the housing 401. The stage carrier 420 moves in the longitudinal direction of the housing 401 along the rail 402.

ステージキャリア420は、筐体401のレール402に直行するレール422を上面に有する。アライメントステージ410は、レール422の上を筐体401の短手方向に移動する。   The stage carrier 420 has a rail 422 that goes directly to the rail 402 of the housing 401 on the upper surface. The alignment stage 410 moves on the rail 422 in the lateral direction of the housing 401.

マイクロスコープ430の一部は、テストヘッド200の各々に対応して、プローブカード300の各々の直近に配される。これらのマイクロスコープ430は、筐体401の天井面に、下方に向かって配される。   A part of the microscope 430 is arranged in the vicinity of each of the probe cards 300 corresponding to each of the test heads 200. These microscopes 430 are arranged downward on the ceiling surface of the housing 401.

また、一対のマイクロスコープ430が、アライメントステージ410と共に、ステージキャリア420に搭載される。この一対のマイクロスコープ430は、アライメントステージ410と共に移動する。また、これらのマイクロスコープ430は、上方に向かって配される。   A pair of microscopes 430 are mounted on the stage carrier 420 together with the alignment stage 410. The pair of microscopes 430 moves together with the alignment stage 410. These microscopes 430 are arranged upward.

これらのマイクロスコープ430を用いることにより、プローブカード300に対してアライメントステージ410上のウエハ101を位置合わせすることができる。即ち、アライメントステージ410上の上に搭載された段階では、ウエハ101の位置は、プリアライメントの精度で位置決めされている。そこで、下方を向いたマイクロスコープ430でウエハ101の例えば縁部を検出することにより、ウエハ101の位置を正確に検出することができる。   By using these microscopes 430, the wafer 101 on the alignment stage 410 can be aligned with the probe card 300. That is, at the stage of being mounted on the alignment stage 410, the position of the wafer 101 is positioned with the accuracy of pre-alignment. Therefore, the position of the wafer 101 can be accurately detected by detecting, for example, the edge of the wafer 101 with the microscope 430 facing downward.

一方、筐体401に配されたマイクロスコープのプローブカード300に対する相対位置は既知である。これにより、ウエハ101の位置とプローブカード300の位置との差分を検出し、それが補償されるようにアライメントステージ410を移動させて、ウエハ101およびプローブカード300を位置合わせすることができる。   On the other hand, the relative position of the microscope arranged in the housing 401 with respect to the probe card 300 is known. As a result, the difference between the position of the wafer 101 and the position of the probe card 300 can be detected, and the alignment stage 410 can be moved so as to compensate for the difference, thereby aligning the wafer 101 and the probe card 300.

なお、ウエハ101の検出は、縁部の検出に限られるわけではない。例えば、ディスプレイ122にマイクロスコープ430の映像を表示して、手動で位置合わせしてもよい。   The detection of the wafer 101 is not limited to the detection of the edge. For example, an image of the microscope 430 may be displayed on the display 122 and manually aligned.

図4は、アライメントユニット400の構造を示す部分縦断面図である。図1から図3と共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。アライメントユニット400は、筐体401、アライメントステージ410およびハンガフック440を備える。   FIG. 4 is a partial longitudinal sectional view showing the structure of the alignment unit 400. Elements common to FIGS. 1 to 3 are given the same reference numerals, and redundant description is omitted. The alignment unit 400 includes a housing 401, an alignment stage 410, and a hanger hook 440.

筐体401は、複数のテストヘッド200、例えば4基のテストヘッド200に応じた幅を有する。また、筐体401の上面には、テストヘッド200の各々に対応して4枚のプローブカード300が装着される。更に、筐体401内部の天井面には、テストヘッド200の各々に対応する位置に、開閉するハンガフック440がそれぞれ配される。   The casing 401 has a width corresponding to a plurality of test heads 200, for example, four test heads 200. In addition, four probe cards 300 are mounted on the upper surface of the housing 401 corresponding to each of the test heads 200. Further, on the ceiling surface inside the housing 401, hanger hooks 440 that are opened and closed are arranged at positions corresponding to the test heads 200, respectively.

ハンガフック440は、閉じた場合にはウエハトレイ450を懸下して、プローブカード300の下部に保持する。ハンガフック440が開いた場合、ウエハトレイ450は開放される。これにより、アライメントユニット400は、テストヘッド200およびプローブカード300の各々の下部に、それぞれウエハトレイ450を開放可能に保持できる。   When closed, the hanger hook 440 suspends the wafer tray 450 and holds it under the probe card 300. When the hanger hook 440 is opened, the wafer tray 450 is opened. Thereby, the alignment unit 400 can hold | maintain the wafer tray 450 in the lower part of each of the test head 200 and the probe card 300 so that opening is possible respectively.

アライメントステージ410は、筐体401の底面に配されたレール402に沿って、全てのテストヘッド200の下方に移動できる。また、アライメントステージ410は、垂直方向に伸縮して、搭載したウエハトレイ450をウエハ101とともに上昇または下降させることができる。   The alignment stage 410 can move below all the test heads 200 along the rail 402 arranged on the bottom surface of the housing 401. In addition, the alignment stage 410 can expand and contract in the vertical direction to raise or lower the mounted wafer tray 450 together with the wafer 101.

上記のような構造を有するアライメントユニット400及びプローブカード300において、ハンガフック440に保持されたウエハ101を保持しないウエハトレイ450が、下方から上昇したアライメントステージ410に支持される。続いて、ハンガフック440を開放した後、アライメントステージ410が、ウエハトレイ450を下降させる。   In the alignment unit 400 and the probe card 300 having the above-described structure, a wafer tray 450 that does not hold the wafer 101 held by the hanger hook 440 is supported by the alignment stage 410 that is lifted from below. Subsequently, after opening the hanger hook 440, the alignment stage 410 lowers the wafer tray 450.

この状態で、EFEM110のロボットアーム116は、ウエハ101が搭載されていないウエハトレイ450に、FOUP150から搬送したウエハ101を搭載する。アライメントステージ410は、プローブカード300に対してウエハ101を位置合わせしつつ、ウエハトレイ450を上昇させて、プローブカード300の下部に押し付ける。   In this state, the robot arm 116 of the EFEM 110 mounts the wafer 101 transferred from the FOUP 150 on the wafer tray 450 on which the wafer 101 is not mounted. The alignment stage 410 raises the wafer tray 450 and presses it against the lower part of the probe card 300 while aligning the wafer 101 with the probe card 300.

次に、プローブカード300は、押し付けられたウエハトレイ450およびウエハ101を吸着する。プローブカード300が、ウエハ101およびウエハトレイ450を吸着する構造については後述する。尚、吸着されたウエハトレイ450は、ハンガフック440には保持されないが、吸着が失敗して落下した場合には、ハンガフック440に受け止められる。   Next, the probe card 300 sucks the pressed wafer tray 450 and wafer 101. The structure in which the probe card 300 sucks the wafer 101 and the wafer tray 450 will be described later. The sucked wafer tray 450 is not held by the hanger hook 440, but is picked up by the hanger hook 440 when the suction fails and the wafer tray 450 is dropped.

アライメントステージ410は、ウエハ101およびウエハトレイ450を残して移動し、他のウエハ101を搬送する。こうして、ウエハ101は、プローブカード300を介してテストヘッド200に装填される。この状態で、テストヘッド200は、ウエハ101を試験する。   The alignment stage 410 moves leaving the wafer 101 and the wafer tray 450, and carries another wafer 101. Thus, the wafer 101 is loaded into the test head 200 via the probe card 300. In this state, the test head 200 tests the wafer 101.

なお、試験を終えたウエハ101を回収する場合、吸着状態のウエハトレイ450が、下方から上昇したアライメントステージ410に保持される。続いて、ハンガフック440を開放した後、アライメントステージ410が、ウエハトレイ450とともに降下する。これにより、ウエハトレイ450が、ウエハ101ともにプローブカード300の下部から開放される。この後、ウエハ101が、EFEM110によってFOUP150まで搬出される。   When the wafer 101 that has been tested is collected, the wafer tray 450 in the suction state is held on the alignment stage 410 that is lifted from below. Subsequently, after opening the hanger hook 440, the alignment stage 410 is lowered together with the wafer tray 450. As a result, the wafer tray 450 is released from the lower part of the probe card 300 together with the wafer 101. Thereafter, the wafer 101 is unloaded to the FOUP 150 by the EFEM 110.

図示の例では、図上で右側のテストヘッド200の直下で、ウエハトレイ450およびウエハ101が、プローブカード300に吸着されている。ハンガフック440は閉じているが、ウエハトレイ450には接していない。   In the illustrated example, the wafer tray 450 and the wafer 101 are adsorbed to the probe card 300 immediately below the right test head 200 in the drawing. The hanger hook 440 is closed but is not in contact with the wafer tray 450.

右から2番目のテストヘッド200の直下では、アライメントステージ410が、搭載したウエハトレイ450およびウエハ101を押し上げて、プローブカード300の下面に密着させている。他のテストヘッド200の下方では、ハンガフック440がウエハトレイ450を保持して待機している。   Immediately below the second test head 200 from the right, the alignment stage 410 pushes up the mounted wafer tray 450 and wafer 101 so as to be in close contact with the lower surface of the probe card 300. Under the other test head 200, a hanger hook 440 holds the wafer tray 450 and stands by.

このように、アライメントユニット400においては、4基のテストヘッド200の各々に対応してウエハトレイ450を含むプローブカード300が装備される。これにより、テストヘッド200の各々が個別にウエハ101を試験できる。   As described above, the alignment unit 400 is equipped with the probe card 300 including the wafer tray 450 corresponding to each of the four test heads 200. Thereby, each of the test heads 200 can test the wafer 101 individually.

なお、複数のテストヘッド200は、互いに同じ種類の試験を実行してもよいし、互いに異なる種類の試験を実行してもよい。また、後者の場合、時間のかかる試験を複数のテストヘッドに担わせることにより、試験装置100のスループットを向上させることもできる。   Note that the plurality of test heads 200 may perform the same type of test, or may perform different types of tests. In the latter case, the throughput of the test apparatus 100 can be improved by causing a plurality of test heads to perform a time-consuming test.

このように、試験装置100においては、単一のアライメントステージ410およびロボットアーム116を、複数のテストヘッド200に対して用いる。これにより、試験を実行している期間は不要なアライメントステージ410およびロボットアーム116の利用効率を向上させることができる。   As described above, in the test apparatus 100, the single alignment stage 410 and the robot arm 116 are used for the plurality of test heads 200. As a result, it is possible to improve the utilization efficiency of the alignment stage 410 and the robot arm 116 that are not required during the test execution period.

図5は、テストヘッド200の断面図である。図1から図4と共通の要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。テストヘッド200は、複数の被試験デバイスとの間で電気信号を授受して複数の被試験デバイスを試験する。テストヘッド200は、筐体201、コンタクタ202、ピンエレクトロニクス210、マザーボード220およびフラットケーブル230を備える。   FIG. 5 is a cross-sectional view of the test head 200. Elements common to FIGS. 1 to 4 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. The test head 200 tests the plurality of devices under test by exchanging electrical signals with the plurality of devices under test. The test head 200 includes a housing 201, a contactor 202, pin electronics 210, a motherboard 220, and a flat cable 230.

筐体201の内部には、複数の中継コネクタ224を有するマザーボード220が水平に配される。中継コネクタ224は、マザーボード220の上面側および下面側にそれぞれレセプタクルを有し、マザーボード220を貫通する信号経路を形成する。   Inside the housing 201, a mother board 220 having a plurality of relay connectors 224 is disposed horizontally. The relay connector 224 has receptacles on the upper surface side and the lower surface side of the mother board 220, respectively, and forms a signal path that penetrates the mother board 220.

マザーボード220の上面において、中継コネクタ224の各々には、アングルコネクタ222を介してピンエレクトロニクス210が装着される。このような構造により、試験対象の仕様および試験内容に応じてピンエレクトロニクス210を交換することができる。   On the upper surface of the motherboard 220, the pin electronics 210 is attached to each of the relay connectors 224 via the angle connectors 222. With such a structure, the pin electronics 210 can be exchanged according to the specification of the test object and the test content.

複数のピンエレクトロニクス210は、互いに同じ仕様である場合も、互いに異なる仕様である場合もある。また、一部の中継コネクタ224に、ピンエレクトロニクス210が装着されない場合もある。   The plurality of pin electronics 210 may have the same specifications or different specifications. Further, the pin electronics 210 may not be attached to some relay connectors 224.

マザーボード220の下面において、中継コネクタ224の各々には、アングルコネクタ226を介して小基板228が接続される。小基板228には、フラットケーブル230の一端が接続される。これにより、筐体201内部のピンエレクトロニクス210と、後述するコンタクタ202とを、フラットケーブル230を介して接続できる。   On the lower surface of the motherboard 220, a small board 228 is connected to each relay connector 224 via an angle connector 226. One end of a flat cable 230 is connected to the small board 228. Thereby, the pin electronics 210 inside the housing 201 and the contactor 202 described later can be connected via the flat cable 230.

コンタクタ202は、上面を筐体201に対して固定される。コンタクタ202は、水平方向に移動するとともに、垂直方向に伸縮する。これにより、コンタクタ202は、三次元的に移動できる。   The contactor 202 has an upper surface fixed to the housing 201. The contactor 202 moves in the horizontal direction and expands and contracts in the vertical direction. Thereby, the contactor 202 can move three-dimensionally.

なお、フラットケーブル230の下端は、コンタクタ202に保持された端子、例えばスプリングピンに結合される。これにより、ピンエレクトロニクス210は、テストヘッド200の最下面まで電気的に接続される。また、ここでは一例としてスプリングピンを挙げたが、容量結合、光接続等、スプリングピンを用いない接続を含む構造も採り得る。   Note that the lower end of the flat cable 230 is coupled to a terminal, for example, a spring pin, held by the contactor 202. Thereby, the pin electronics 210 is electrically connected to the lowermost surface of the test head 200. In addition, although a spring pin has been described here as an example, a structure including a connection that does not use a spring pin, such as capacitive coupling or optical connection, may be employed.

図6は、プローブカード300の分解図である。図7は、ウエハトレイ450を吸着したプローブカード300の全体図である。尚、図6では、ウエハトレイ450を省略している。プローブカード300は、プローブ装置の一例であって、複数の被試験デバイスとテストヘッド200との間を電気的に接続する。より具体的には、プローブカード300は、複数の被試験デバイスに形成されたデバイスパッドと、テストヘッド200とを接続する。プローブカード300は、スティフナ302と、パフォーマンスボード304と、枠体306と、IPC308と、インタポーザ310と、PCRシート312と、メンブレンユニット314と、押圧部材316と、減圧部318と、ウエハトレイ450と、減圧部456と、吸着部458とを備える。IPCは、InterPoser Connectorの略である。PCRは、Pressure sensitive Conductive Rubberの略である。   FIG. 6 is an exploded view of the probe card 300. FIG. 7 is an overall view of the probe card 300 that sucks the wafer tray 450. In FIG. 6, the wafer tray 450 is omitted. The probe card 300 is an example of a probe device, and electrically connects a plurality of devices under test and the test head 200. More specifically, the probe card 300 connects device pads formed on a plurality of devices under test to the test head 200. The probe card 300 includes a stiffener 302, a performance board 304, a frame body 306, an IPC 308, an interposer 310, a PCR sheet 312, a membrane unit 314, a pressing member 316, a decompression unit 318, a wafer tray 450, A decompression unit 456 and an adsorption unit 458 are provided. IPC is an abbreviation for InterPosor Connector. PCR is an abbreviation for Pressure sensitive Conductive Rubber.

スティフナ302は、枠部320と、クロスメンバ322とを有する。枠部320は、パフォーマンスボード304の外側を包囲して、保持する。クロスメンバ322は、枠部320の内側に設けられる。クロスメンバ322は、平面視において、パフォーマンスボード304の上面を網目状に横切る。これにより、スティフナ302と一体化されたパフォーマンスボード304全体の曲げ剛性が向上されると共に、ねじれ剛性も高くなる。従って、パフォーマンスボード304の反り等の変形が抑制される。   The stiffener 302 has a frame part 320 and a cross member 322. The frame part 320 surrounds and holds the outside of the performance board 304. The cross member 322 is provided inside the frame part 320. The cross member 322 crosses the upper surface of the performance board 304 in a mesh shape in plan view. As a result, the bending rigidity of the entire performance board 304 integrated with the stiffener 302 is improved and the torsional rigidity is also increased. Therefore, deformation such as warping of the performance board 304 is suppressed.

パフォーマンスボード304は、テスタ側ユニットの一例である。パフォーマンスボード304は、テスタ側基板326と、ガイドユニット328と、複数のコンタクトパッド330及び複数のコンタクトパッド332と、配線334と、電子部品335とを有する。複数のコンタクトパッド330、複数のコンタクトパッド332及び配線334が、テスタ側電極の一例である。   The performance board 304 is an example of a tester unit. The performance board 304 includes a tester side substrate 326, a guide unit 328, a plurality of contact pads 330 and a plurality of contact pads 332, a wiring 334, and an electronic component 335. The plurality of contact pads 330, the plurality of contact pads 332, and the wiring 334 are examples of tester side electrodes.

テスタ側基板326の一例は、比較的機械強度の高い絶縁性基板、例えばポリイミド板が積層された多層基板である。テスタ側基板326は、IPC308及びインタポーザ310よりもテストヘッド200側に設けられている。テスタ側基板326の周縁部は、スティフナ302によって保持されている。これにより、パフォーマンスボード304の機械的強度は、スティフナ302によって強化される。   An example of the tester side substrate 326 is an insulating substrate having relatively high mechanical strength, for example, a multilayer substrate in which polyimide plates are stacked. The tester side substrate 326 is provided closer to the test head 200 than the IPC 308 and the interposer 310. The peripheral portion of the tester side substrate 326 is held by a stiffener 302. As a result, the mechanical strength of the performance board 304 is enhanced by the stiffener 302.

ガイドユニット328は、テスタ側基板326の上面に設けられている。ガイドユニット328は、コンタクタ202がパフォーマンスボード304に当接する場合に、コンタクタ202を案内して位置決めするコンタクタガイドとして機能する。   The guide unit 328 is provided on the upper surface of the tester side substrate 326. The guide unit 328 functions as a contactor guide that guides and positions the contactor 202 when the contactor 202 contacts the performance board 304.

複数のコンタクトパッド330は、テスタ側基板326の上面に形成されている。コンタクトパッド330は、コンタクタ202を介してテストヘッド200と電気的に接続される。複数のコンタクトパッド332は、テスタ側基板326の下面に形成されている。複数のコンタクトパッド332は、配線334を介して、対応するコンタクトパッド330と接続される。配線334は、多層構造を有するテスタ側基板326の各層に形成された配線によって構成される。   The plurality of contact pads 330 are formed on the upper surface of the tester side substrate 326. Contact pad 330 is electrically connected to test head 200 via contactor 202. The plurality of contact pads 332 are formed on the lower surface of the tester side substrate 326. The plurality of contact pads 332 are connected to the corresponding contact pads 330 via the wiring 334. The wiring 334 is configured by wiring formed in each layer of the tester side substrate 326 having a multilayer structure.

電子部品335は、テスタ側基板326のテストヘッド200側の面及びウエハ101側の面のうち、コンタクトパッド330、332が実装されていない領域に配置されている。電子部品335は、抵抗、コンデンサ、コイル、半導体デバイス等を含む。   The electronic component 335 is disposed in a region where the contact pads 330 and 332 are not mounted on the surface on the test head 200 side and the surface on the wafer 101 side of the tester side substrate 326. The electronic component 335 includes a resistor, a capacitor, a coil, a semiconductor device, and the like.

枠体306は、本体部338と、封止部材340とを有する。   The frame body 306 includes a main body portion 338 and a sealing member 340.

本体部338は、パフォーマンスボード304の下面に設けられている。本体部338は、IPC308及びインタポーザ310の外周部を全周にわたって囲む。本体部338には、排気路339が形成されている。排気路339は、第1空間344と、減圧部318とを接続する。ここでいう第1空間344は、パフォーマンスボード304、枠体306、及び、後述するメンブレンユニット314のフレーム362によって囲まれた空間のことである。従って、第1空間344は、パフォーマンスボード304とインタポーザ310との間の空間を含む。   The main body 338 is provided on the lower surface of the performance board 304. The main body 338 surrounds the outer periphery of the IPC 308 and the interposer 310 over the entire periphery. An exhaust passage 339 is formed in the main body 338. The exhaust path 339 connects the first space 344 and the decompression unit 318. The first space 344 here is a space surrounded by the performance board 304, the frame body 306, and a frame 362 of the membrane unit 314 described later. Accordingly, the first space 344 includes a space between the performance board 304 and the interposer 310.

封止部材340の一例は、樹脂等からなるOリングである。封止部材340は、パフォーマンスボード304の周縁部の下面と、本体部338の周縁部の上面との間に配置される。封止部材340は、パフォーマンスボード304と本体部338との間を封止する。   An example of the sealing member 340 is an O-ring made of resin or the like. The sealing member 340 is disposed between the lower surface of the peripheral portion of the performance board 304 and the upper surface of the peripheral portion of the main body 338. The sealing member 340 seals between the performance board 304 and the main body 338.

IPC308は、コンタクトユニットの一例である。IPC308は、パフォーマンスボード304とインタポーザ310との間に設けられている。IPC308の一端部は、上下方向に移動可能に、枠体306の本体部338に保持されている。IPC308は、複数の貫通電極346を有する。貫通電極346は、接続電極の一例である。貫通電極346は、IPC308を上下方向に貫通する。貫通電極346は、導電性を有し、上下方向に伸縮するバネ等の弾性部材である。各貫通電極346は、いずれかのコンタクトパッド332と電気的に接続される。   The IPC 308 is an example of a contact unit. The IPC 308 is provided between the performance board 304 and the interposer 310. One end of the IPC 308 is held by the main body 338 of the frame 306 so as to be movable in the vertical direction. The IPC 308 has a plurality of through electrodes 346. The through electrode 346 is an example of a connection electrode. The through electrode 346 penetrates the IPC 308 in the vertical direction. The through electrode 346 is an elastic member such as a spring having conductivity and extending and contracting in the vertical direction. Each through electrode 346 is electrically connected to one of the contact pads 332.

インタポーザ310は、中間ユニットの一例である。インタポーザ310は、中間基板350と、保持部材352と、複数のコンタクトパッド354と、複数のコンタクトパッド356と、貫通電極358とを有する。   The interposer 310 is an example of an intermediate unit. The interposer 310 includes an intermediate substrate 350, a holding member 352, a plurality of contact pads 354, a plurality of contact pads 356, and a through electrode 358.

中間基板350は、パフォーマンスボード304と、メンブレンユニット314との間に配置されている。換言すれば、中間基板350は、メンブレンユニット314よりテストヘッド200側に設けられている。中間基板350は、枠体306に対して上下方向に移動可能に保持部材352を介して、枠体306に保持されている。これにより、中間基板350は、第1空間344が減圧されると、パフォーマンスボード304及びIPC308の方向へと移動する。   The intermediate substrate 350 is disposed between the performance board 304 and the membrane unit 314. In other words, the intermediate substrate 350 is provided closer to the test head 200 than the membrane unit 314. The intermediate substrate 350 is held by the frame body 306 via a holding member 352 so as to be movable in the vertical direction with respect to the frame body 306. Thereby, the intermediate board 350 moves in the direction of the performance board 304 and the IPC 308 when the first space 344 is depressurized.

コンタクトパッド354は、テスタ側中間電極の一例である。コンタクトパッド354は、中間基板350の上面に形成されている。コンタクトパッド354は、平面視において、貫通電極346と同じレイアウトで配置されている。これにより、コンタクトパッド354は、貫通電極346と接続されるとともに、貫通電極346によって、コンタクトパッド332と接続される。コンタクトパッド354は、パフォーマンスボード304及びIPC308を介して、テストヘッド200と電気的に接続される。コンタクトパッド354のいずれかは、平面視において、IPC308の貫通電極358と同じレイアウトで形成されている。これにより、コンタクトパッド354のいずれかは、貫通電極358と電気的に接続される。   The contact pad 354 is an example of a tester side intermediate electrode. The contact pad 354 is formed on the upper surface of the intermediate substrate 350. The contact pads 354 are arranged in the same layout as the through electrodes 346 in plan view. As a result, the contact pad 354 is connected to the through electrode 346 and is connected to the contact pad 332 by the through electrode 346. The contact pad 354 is electrically connected to the test head 200 via the performance board 304 and the IPC 308. Any of the contact pads 354 is formed in the same layout as the through electrode 358 of the IPC 308 in plan view. Thereby, any one of the contact pads 354 is electrically connected to the through electrode 358.

貫通電極358は、中間基板350を上下方向に貫通する。貫通電極358は、コンタクトパッド354と、当該コンタクトパッド354と対応するコンタクトパッド356とを電気的に接続する。   The through electrode 358 penetrates the intermediate substrate 350 in the vertical direction. The through electrode 358 electrically connects the contact pad 354 and the contact pad 356 corresponding to the contact pad 354.

コンタクトパッド356は、デバイス側中間電極の一例である。コンタクトパッド356は、中間基板350の下面に形成されている。コンタクトパッド356は、PCRシート312を介して、後述するメンブレンユニット314のバンプ368と電気的に接続される。コンタクトパッド356は、コンタクトパッド354と異なるレイアウトで形成されている。具体的には、複数のコンタクトパッド356間のピッチは、複数のコンタクトパッド354間のピッチよりも小さい。これにより、インタポーザ310は、コンタクトパッド356の狭いピッチを、コンタクトパッド354の広いピッチにする。   The contact pad 356 is an example of a device side intermediate electrode. Contact pad 356 is formed on the lower surface of intermediate substrate 350. The contact pad 356 is electrically connected to the bump 368 of the membrane unit 314 described later via the PCR sheet 312. The contact pad 356 is formed with a different layout from the contact pad 354. Specifically, the pitch between the plurality of contact pads 356 is smaller than the pitch between the plurality of contact pads 354. As a result, the interposer 310 changes the narrow pitch of the contact pads 356 to the wide pitch of the contact pads 354.

PCRシート312は、導電部材の一例である。PCRシート312は、インタポーザ310とメンブレンユニット314との間に設けられている。PCRシート312は、金属微粒子を含むゴム等の樹脂シートである。PCRシート312は、厚み方向(即ち、上下方向)に圧力が作用すると、圧力の付加された領域の金属微粒子が互いに接触する。これにより、PCRシート312は、圧力の作用した領域の上面及び下面を電気的に接続する。従って、PCRシート312は、インタポーザ310のコンタクトパッド356と、後述するメンブレンユニット314のコンタクトパッド366とによって圧力が付加されると、隣接するコンタクトパッド356、366を短絡させることなく、金属微粒子によって、メンブレンユニット314のコンタクトパッド366及びバンプ368と、コンタクトパッド366とを個別に接続する。   The PCR sheet 312 is an example of a conductive member. The PCR sheet 312 is provided between the interposer 310 and the membrane unit 314. The PCR sheet 312 is a resin sheet such as rubber containing metal fine particles. When pressure is applied to the PCR sheet 312 in the thickness direction (that is, the vertical direction), the metal fine particles in the region to which pressure is applied come into contact with each other. Thereby, the PCR sheet 312 electrically connects the upper surface and the lower surface of the area where the pressure is applied. Therefore, when pressure is applied by the contact pad 356 of the interposer 310 and the contact pad 366 of the membrane unit 314 to be described later, the PCR sheet 312 does not short-circuit the adjacent contact pads 356 and 366, but by metal fine particles. The contact pads 366 and bumps 368 of the membrane unit 314 and the contact pads 366 are individually connected.

メンブレンユニット314は、デバイス側ユニットの一例である。メンブレンユニット314は、フレーム362と、可撓性シート364と、複数のコンタクトパッド366と、複数のバンプ368とを有する。   The membrane unit 314 is an example of a device side unit. The membrane unit 314 includes a frame 362, a flexible sheet 364, a plurality of contact pads 366, and a plurality of bumps 368.

フレーム362は、離隔部材の一例である。フレーム362は、可撓性シート364の周縁部を保持して、可撓性シート364の平坦性を維持する。フレーム362は、枠体306の本体部338の下面及びインタポーザ310の中間基板350の下面に向けて、押圧部材316によって押圧されている。従って、フレーム362は、可撓性シート364の外周部と枠体306の本体部338の下面との間を密閉する。これにより、フレーム362は、インタポーザ310とメンブレンユニット314のメンブレンユニット314間を封止して、第1空間344を減圧可能に封止する。更に、フレーム362は、第1空間344と、第2空間370とを離隔する。ここでいう第2空間370は、ウエハトレイ450とインタポーザ310との間の空間のことである。これにより、第1空間344と第2空間370とを異なる気圧にすることができる。   The frame 362 is an example of a separation member. The frame 362 maintains the periphery of the flexible sheet 364 and maintains the flatness of the flexible sheet 364. The frame 362 is pressed by the pressing member 316 toward the lower surface of the main body 338 of the frame body 306 and the lower surface of the intermediate substrate 350 of the interposer 310. Therefore, the frame 362 seals between the outer peripheral portion of the flexible sheet 364 and the lower surface of the main body portion 338 of the frame body 306. Accordingly, the frame 362 seals the gap between the interposer 310 and the membrane unit 314 of the membrane unit 314, and seals the first space 344 so that the pressure can be reduced. Further, the frame 362 separates the first space 344 and the second space 370. The second space 370 here is a space between the wafer tray 450 and the interposer 310. Thereby, the 1st space 344 and the 2nd space 370 can be made into different atmospheric pressure.

可撓性シート364は、絶縁性を有し、可撓性を有する弾性変形可能な樹脂等によってシート状に形成される。これにより、フレーム362に保持されていない可撓性シート364の中央部の領域は、フレーム362に対して上下に弾性変形する。   The flexible sheet 364 has an insulating property and is formed into a sheet shape using a flexible elastically deformable resin or the like. As a result, the central region of the flexible sheet 364 not held by the frame 362 is elastically deformed up and down with respect to the frame 362.

コンタクトパッド366は、可撓性シート364の上面に設けられている。コンタクトパッド366は、平面視において、インタポーザ310のコンタクトパッド356と同じレイアウトで配置されている。これにより、互いに対向するコンタクトパッド366とインタポーザ310のコンタクトパッド356は、PCRシート312の同じ領域を押圧するので、PCRシート312の金属粒子によって接続される。   The contact pad 366 is provided on the upper surface of the flexible sheet 364. Contact pad 366 is arranged in the same layout as contact pad 356 of interposer 310 in plan view. As a result, the contact pad 366 and the contact pad 356 of the interposer 310 facing each other press the same region of the PCR sheet 312 and are therefore connected by the metal particles of the PCR sheet 312.

複数のバンプ368は、デバイス側端子の一例である。複数のバンプ368は、ウエハトレイ450に保持されたウエハ101の被試験デバイスと電気的に接続可能に、可撓性シート364を貫通して設けられている。複数のバンプ368は、コンタクトパッド366と同じレイアウトで配置されている。各バンプ368は、対応するコンタクトパッド366と電気的に接続されている。また、複数のバンプ368は、試験対象となるウエハ101の被試験デバイスに形成されたデバイスパッドと同じレイアウトに配される。これにより、バンプ368は、プローブカード300のウエハ101側の面において、ウエハ101に対するプローブ端子として機能する。バンプ368のウエハ101側の端部は、先端が平坦な錐体状、突起を有する形状、突部のない平面、または、先端を丸めた針状の形状であってもよい。   The plurality of bumps 368 are an example of device-side terminals. The plurality of bumps 368 are provided through the flexible sheet 364 so as to be electrically connected to the device under test of the wafer 101 held on the wafer tray 450. The plurality of bumps 368 are arranged in the same layout as the contact pads 366. Each bump 368 is electrically connected to a corresponding contact pad 366. The plurality of bumps 368 are arranged in the same layout as the device pads formed on the device under test of the wafer 101 to be tested. Thus, the bump 368 functions as a probe terminal for the wafer 101 on the surface of the probe card 300 on the wafer 101 side. The end of the bump 368 on the wafer 101 side may have a cone shape with a flat tip, a shape having a protrusion, a flat surface without a protrusion, or a needle shape with a rounded tip.

押圧部材316は、枠体306の本体部338の下面に設けられている。押圧部材316は、メンブレンユニット314の下面をインタポーザ310へと押圧する。   The pressing member 316 is provided on the lower surface of the main body 338 of the frame body 306. The pressing member 316 presses the lower surface of the membrane unit 314 to the interposer 310.

減圧部318は、枠体306の本体部338の排気路339に接続されている。これにより、減圧部318は、排気路339を介して、第1空間344を減圧する。   The decompression unit 318 is connected to the exhaust path 339 of the main body 338 of the frame 306. Thereby, the decompression unit 318 decompresses the first space 344 via the exhaust passage 339.

ウエハ101を試験する場合、ウエハトレイ450は、メンブレンユニット314の下方に配置される。この状態では、ウエハ101は、メンブレンユニット314のバンプ368と電気的に接続される。   When testing the wafer 101, the wafer tray 450 is disposed below the membrane unit 314. In this state, the wafer 101 is electrically connected to the bumps 368 of the membrane unit 314.

ウエハトレイ450は、デバイス保持部の一例である。ウエハトレイ450は、トレイ本体452と、封止リング454とを有する。   The wafer tray 450 is an example of a device holding unit. The wafer tray 450 has a tray body 452 and a sealing ring 454.

トレイ本体452の上面は、平面視において、ウエハ101よりも大きい載置面として機能する。トレイ本体452の内部には、第2空間370と外部の減圧部456とを接続する減圧用排気路462が形成されている。減圧用排気路462の第2空間370側の端部は、トレイ本体452の載置面にウエハ101が載置されても塞がれない外周部に形成されている。これにより、第2空間370は、減圧部456によって減圧される。トレイ本体452の内部には、吸着用排気路464が形成されている。吸着用排気路464の載置面側の端部は、載置面にウエハ101が載置されると塞がれる位置に形成されている。   The upper surface of the tray main body 452 functions as a mounting surface larger than the wafer 101 in plan view. A pressure reducing exhaust passage 462 that connects the second space 370 and the external pressure reducing portion 456 is formed inside the tray body 452. The end of the decompression exhaust passage 462 on the second space 370 side is formed in an outer peripheral portion that is not blocked even when the wafer 101 is placed on the placement surface of the tray main body 452. As a result, the second space 370 is decompressed by the decompression unit 456. An adsorption exhaust path 464 is formed inside the tray body 452. The end of the adsorption exhaust path 464 on the placement surface side is formed at a position that is blocked when the wafer 101 is placed on the placement surface.

封止リング454は、封止部材の一例である。封止リング454は、トレイ本体452の上面に設けられている。封止リング454は、リング状であって、トレイ本体452の上部の全周を囲むように形成されている。ウエハトレイ450がメンブレンユニット314の近接した下方に配置された状態では、封止リング454は、メンブレンユニット314のフレーム362の下面と密着する。これにより、封止リング454は、メンブレンユニット314とウエハトレイ450との間を封止するので、第2空間370が、減圧可能に封止される。   The sealing ring 454 is an example of a sealing member. The sealing ring 454 is provided on the upper surface of the tray main body 452. The sealing ring 454 has a ring shape and is formed so as to surround the entire upper periphery of the tray body 452. In a state where the wafer tray 450 is disposed below the membrane unit 314, the sealing ring 454 is in close contact with the lower surface of the frame 362 of the membrane unit 314. Thereby, since the sealing ring 454 seals between the membrane unit 314 and the wafer tray 450, the 2nd space 370 is sealed so that pressure reduction is possible.

減圧部456及び吸着部458は、真空ポンプ等の気体を排気可能な装置によって構成される。減圧部456は、被試験デバイスを含むウエハ101がメンブレンユニット314のバンプ368に接続された状態で、減圧用排気路462を介して、第2空間370を減圧する。ここで、減圧部456は、減圧部318が第1空間344を減圧する気圧よりも低い気圧となるように第2空間370を減圧する。これにより、インタポーザ310が、メンブレンユニット314をウエハ101の方向へと押圧する。これにより、メンブレンユニット314のバンプ368とウエハ101の被試験デバイスとの電気的接続がより強固になる。吸着部458が、吸着用排気路464を減圧することにより、ウエハトレイ450は、被試験デバイスが形成されたウエハ101を載置面に吸着させて保持する。   The decompression unit 456 and the adsorption unit 458 are configured by a device that can exhaust a gas, such as a vacuum pump. The decompression unit 456 decompresses the second space 370 through the decompression exhaust passage 462 in a state where the wafer 101 including the device under test is connected to the bump 368 of the membrane unit 314. Here, the decompression unit 456 decompresses the second space 370 such that the decompression unit 318 has a lower pressure than the pressure at which the first space 344 is decompressed. As a result, the interposer 310 presses the membrane unit 314 toward the wafer 101. As a result, the electrical connection between the bump 368 of the membrane unit 314 and the device under test of the wafer 101 becomes stronger. The suction unit 458 reduces the pressure of the suction exhaust path 464, so that the wafer tray 450 holds the wafer 101 on which the device under test is sucked on the mounting surface.

図8は、プローブ工程を含むウエハ101の試験工程を示すフローチャートである。図9、図10は、試験工程でのプローブカード300の状態を示す図である。   FIG. 8 is a flowchart showing the test process of the wafer 101 including the probe process. 9 and 10 are diagrams showing a state of the probe card 300 in the test process.

図8に示すように、試験装置100では、試験工程が開始すると、図9に示すように、ウエハトレイ450にウエハ101が搬入されていない状態で、減圧部318が、第1空間344の気体を排気して減圧する(S10)。この減圧によって、IPC308及びインタポーザ310が、パフォーマンスボード304の方向へと吸着されて、移動または弾性変形する。これにより、インタポーザ310の位置が、パフォーマンスボード304に対して固定される。この状態では、インタポーザ310が、パフォーマンスボード304及びIPC308を押圧するので、インタポーザ310とIPC308間の電気的接続、及び、パフォーマンスボード304とIPC308間の電気的接続が強固になる。また、メンブレンユニット314は、押圧部材316によってテストヘッド200側へと押圧されて保持される。   As shown in FIG. 8, in the test apparatus 100, when the test process is started, as shown in FIG. 9, the decompression unit 318 causes the gas in the first space 344 to flow while the wafer 101 is not loaded into the wafer tray 450. Evacuate and depressurize (S10). By this pressure reduction, the IPC 308 and the interposer 310 are attracted toward the performance board 304 and moved or elastically deformed. Thereby, the position of the interposer 310 is fixed with respect to the performance board 304. In this state, since the interposer 310 presses the performance board 304 and the IPC 308, the electrical connection between the interposer 310 and the IPC 308 and the electrical connection between the performance board 304 and the IPC 308 are strengthened. The membrane unit 314 is pressed and held by the pressing member 316 toward the test head 200 side.

次に、図10に示すように、アライメントステージ410が、ウエハ101が載置されていないウエハトレイ450を下降させる。この状態で、EFEM110が、FOUP150からアライメントステージ410上のウエハトレイ450へとウエハ101を搬入する(S12)。吸着部458が、吸着用排気路464を減圧することによって、ウエハトレイ450は、ウエハ101を吸着して固定する。アライメントステージ410は、搬入されたウエハ101をウエハトレイ450とともにプローブカード300に対して位置合わせする(S14)。   Next, as shown in FIG. 10, the alignment stage 410 lowers the wafer tray 450 on which the wafer 101 is not placed. In this state, the EFEM 110 carries the wafer 101 from the FOUP 150 to the wafer tray 450 on the alignment stage 410 (S12). The suction unit 458 depressurizes the suction exhaust passage 464, whereby the wafer tray 450 sucks and fixes the wafer 101. The alignment stage 410 aligns the loaded wafer 101 with the probe tray 300 together with the wafer tray 450 (S14).

アライメントステージ410は、ウエハ101とともにウエハトレイ450をプローブカード300の下面まで上昇させる(S16)。この上昇により、図7に示すように、ウエハ101が、メンブレンユニット314のバンプ368と接触する。   The alignment stage 410 raises the wafer tray 450 together with the wafer 101 to the lower surface of the probe card 300 (S16). With this rise, the wafer 101 comes into contact with the bumps 368 of the membrane unit 314 as shown in FIG.

次に、減圧部456が、第2空間370の気体を排気して減圧する(S18)。尚、この状態では、上述したように、第1空間344は、減圧部318によって減圧されている。メンブレンユニット314は、この減圧により、ウエハトレイ450及びウエハ101の方向へと吸着される。これにより、メンブレンユニット314のバンプ368が、より強固にウエハ101に接触して、バンプ368とウエハ101の被試験デバイスとの電気的接続が強固になる。   Next, the decompression unit 456 exhausts the gas in the second space 370 to decompress (S18). In this state, as described above, the first space 344 is decompressed by the decompression unit 318. The membrane unit 314 is adsorbed in the direction of the wafer tray 450 and the wafer 101 by this decompression. As a result, the bump 368 of the membrane unit 314 comes into contact with the wafer 101 more firmly, and the electrical connection between the bump 368 and the device under test on the wafer 101 is strengthened.

この後、ウエハ101が、テストヘッド200によって試験される(S20)。当該ウエハ101の試験が終了すると、気体が第2空間370に供給されて、第2空間370が大気圧に戻る(S22)。ウエハトレイ450は、ウエハ101とともにアライメントステージ410によって下降して、メンブレンユニット314から離脱する。ここで、ウエハトレイ450がメンブレンユニット314から離脱した状態でも、減圧部318は第1空間344の減圧状態を維持する。この後、試験の終了したウエハトレイ450のウエハ101は、EFEM110によってFOUP150へと搬出される(S24)。この後、全てのウエハ101の試験が終了するまで、ステップS10を実行することなく、ステップS12以降が繰り返される(S26:No)。換言すれば、減圧部318は、ウエハトレイ450がウエハ101とともに、メンブレンユニット314から離脱しても、第1空間344の減圧状態を継続する。全てのウエハ101の試験が終了すると(S26:Yes)、試験工程は終了する。   Thereafter, the wafer 101 is tested by the test head 200 (S20). When the test of the wafer 101 is completed, gas is supplied to the second space 370, and the second space 370 returns to atmospheric pressure (S22). The wafer tray 450 is lowered together with the wafer 101 by the alignment stage 410 and is detached from the membrane unit 314. Here, even when the wafer tray 450 is detached from the membrane unit 314, the decompression unit 318 maintains the decompressed state of the first space 344. Thereafter, the wafer 101 on the wafer tray 450 for which the test has been completed is carried out to the FOUP 150 by the EFEM 110 (S24). After this, step S12 and the subsequent steps are repeated without executing step S10 until all the wafers 101 have been tested (S26: No). In other words, the decompression unit 318 continues the decompression state of the first space 344 even when the wafer tray 450 is detached from the membrane unit 314 together with the wafer 101. When all the wafers 101 have been tested (S26: Yes), the test process is finished.

上述したように、試験装置100では、減圧部318、456が、第1空間344及び第2空間370を独立して減圧する。これにより、第1空間344の減圧によって電気的に接続されるパフォーマンスボード304、IPC308、及び、インタポーザ310間の押圧力と、第2空間370の減圧によって電気的に接続されるインタポーザ310、PCRシート312、及び、メンブレンユニット314間の押圧力を個別に設定できる。これにより、試験装置100は、電気的に接続させるために作用させるパフォーマンスボード304からメンブレンユニット314までの間の押圧力を適切に設定することができる。更に、第2空間370の圧力を制御することにより、メンブレンユニット314のバンプ368とウエハ101との間に作用する圧力を適切に設定することできる。   As described above, in the test apparatus 100, the decompression units 318 and 456 decompress the first space 344 and the second space 370 independently. Accordingly, the pressure between the performance board 304, the IPC 308, and the interposer 310 that are electrically connected by the decompression of the first space 344, and the interposer 310 that is electrically connected by the decompression of the second space 370, the PCR sheet. 312 and the pressing force between the membrane units 314 can be set individually. As a result, the test apparatus 100 can appropriately set the pressing force between the performance board 304 and the membrane unit 314 that are operated for electrical connection. Furthermore, by controlling the pressure in the second space 370, the pressure acting between the bump 368 of the membrane unit 314 and the wafer 101 can be set appropriately.

試験装置100では、インタポーザ310が反り等の要因によって変形した場合であっても、第1空間344及び第2空間370の圧力を制御することによって、面内でのメンブレンユニット314のバンプ368とウエハ101との押圧力を均一にすることができる。   In the test apparatus 100, even when the interposer 310 is deformed due to a warp or the like, the bumps 368 of the membrane unit 314 and the wafer in the plane are controlled by controlling the pressure in the first space 344 and the second space 370. The pressing force with 101 can be made uniform.

試験装置100では、減圧部318が第1空間344を第2空間370よりも先に減圧しているので、ウエハ101がメンブレンユニット314に接触する前に、インタポーザ310を保持して固定することができる。これにより、ウエハ101がメンブレンユニット314に接触した状態で第2空間370を減圧しても、インタポーザ310が移動することを抑制できる。この結果、メンブレンユニット314のバンプ368がウエハ101に接触したときの、インタポーザ310とメンブレンユニット314との相対位置の位置ずれを抑制できる。   In the test apparatus 100, since the decompression unit 318 decompresses the first space 344 before the second space 370, the interposer 310 can be held and fixed before the wafer 101 contacts the membrane unit 314. it can. Thereby, even if the second space 370 is depressurized while the wafer 101 is in contact with the membrane unit 314, the interposer 310 can be prevented from moving. As a result, the displacement of the relative position between the interposer 310 and the membrane unit 314 when the bump 368 of the membrane unit 314 contacts the wafer 101 can be suppressed.

試験装置100では、ウエハ101がプローブカード300から離脱した状態でも、減圧部318が第1空間344の減圧を維持する。これにより、各ウエハ101を試験する場合、第2空間370を減圧すればよいので、減圧に必要な時間を低減できる。   In the test apparatus 100, the decompression unit 318 maintains the decompression of the first space 344 even when the wafer 101 is detached from the probe card 300. Accordingly, when testing each wafer 101, the second space 370 may be decompressed, and therefore the time required for decompression can be reduced.

上述した実施形態の各構成の形状、個数等の数値、配置等は適宜変更してよい。   You may change suitably the numerical values, arrangement | positioning, etc., such as a shape of each structure of embodiment mentioned above, a number.

上述した実施形態では、第2空間370をインタポーザ310とウエハトレイ450との間の空間としたが、メンブレンユニット314とウエハトレイ450との間の空間を第2空間370としてもよい。   In the embodiment described above, the second space 370 is the space between the interposer 310 and the wafer tray 450, but the space between the membrane unit 314 and the wafer tray 450 may be the second space 370.

上述の実施形態では、第2空間370の気圧が、第1空間344の気圧よりも低くなるように減圧する形態をあげたが、第2空間370の気圧は第1空間344の気圧よりも低くてもよく、同じであってもよい。   In the above-described embodiment, the form in which the pressure in the second space 370 is reduced to be lower than the pressure in the first space 344 has been described. However, the pressure in the second space 370 is lower than the pressure in the first space 344. It may be the same.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above-described embodiment. It is apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。   The order of execution of each process such as operations, procedures, steps, and stages in the apparatus, system, program, and method shown in the claims, the description, and the drawings is particularly “before” or “prior to”. It should be noted that the output can be realized in any order unless the output of the previous process is used in the subsequent process. Regarding the operation flow in the claims, the description, and the drawings, even if it is described using “first”, “next”, etc. for convenience, it means that it is essential to carry out in this order. It is not a thing.

100 試験装置、 101 ウエハ、 110 EFEM、 112 シグナルランプ、 114 EMO、 115 レール、 116 ロボットアーム、 117 コラム、 118 プリアライナ、 120 操作部、 122 ディスプレイ、 124 アーム、 126 入力装置、 130 ロードユニット、 132 ロードテーブル、 134 ロードゲート、 140 チラー、 150 FOUP、 160 メインフレーム、 200 テストヘッド、 201 筐体、 202 コンタクタ、 210 ピンエレクトロニクス、 220 マザーボード、 222 アングルコネクタ、 224 中継コネクタ、 226 アングルコネクタ、 228 小基板、 230 フラットケーブル、 300 プローブカード、 302 スティフナ、 304 パフォーマンスボード、 306 枠体、 308 IPC、 310 インタポーザ、 312 PCRシート、 314 メンブレンユニット、 316 押圧部材、 318 減圧部、 320 枠部、 322 クロスメンバ、 326 テスタ側基板、 328 ガイドユニット、 330 コンタクトパッド、 332 コンタクトパッド、 334 配線、 335 電子部品、 338 本体部、 339 排気路、 340 封止部材、 344 第1空間、 346 貫通電極、 350 中間基板、 352 保持部材、 354 コンタクトパッド、 356 コンタクトパッド、 358 貫通電極、 362 フレーム、 364 可撓性シート、 366 コンタクトパッド、 368 バンプ、 370 第2空間、 400 アライメントユニット、 401 筐体、 402 レール、 410 アライメントステージ、 420 ステージキャリア、 422 レール、 430 マイクロスコープ、 440 ハンガフック、 450 ウエハトレイ、 452 トレイ本体、 454 封止リング、 456 減圧部、 458 吸着部、 462 減圧用排気路、 464 吸着用排気路   100 test equipment, 101 wafer, 110 EFEM, 112 signal lamp, 114 EMO, 115 rail, 116 robot arm, 117 column, 118 pre-aligner, 120 operation unit, 122 display, 124 arm, 126 input device, 130 load unit, 132 load Table, 134 load gate, 140 chiller, 150 FOUP, 160 main frame, 200 test head, 201 housing, 202 contactor, 210 pin electronics, 220 motherboard, 222 angle connector, 224 relay connector, 226 angle connector, 228 small board, 23 Flat cable, 300 probe card, 302 stiffener, 304 performance board, 306 frame, 308 IPC, 310 interposer, 312 PCR sheet, 314 membrane unit, 316 pressing member, 318 decompression section, 320 frame section, 322 cross member, 326 tester Side substrate, 328 guide unit, 330 contact pad, 332 contact pad, 334 wiring, 335 electronic component, 338 main body, 339 exhaust path, 340 sealing member, 344 first space, 346 penetrating electrode, 350 intermediate substrate, 352 holding Members, 354 contact pads, 356 contact pads, 3 8 Through electrode, 362 frame, 364 flexible sheet, 366 contact pad, 368 bump, 370 second space, 400 alignment unit, 401 housing, 402 rail, 410 alignment stage, 420 stage carrier, 422 rail, 430 microscope 440 Hanger hook, 450 Wafer tray, 452 Tray body, 454 Seal ring, 456 Decompression unit, 458 Suction unit, 462 Depressurization exhaust path, 464 Suction exhaust path

Claims (9)

被試験デバイステスタとの間を電気的に接続するプローブ装置であって、
前記被試験デバイスを保持するデバイス保持部と、
可撓性を有するシート、及び、前記シートを貫通して前記デバイス保持部に保持された前記被試験デバイスに接続される複数のデバイス側端子を有するデバイス側ユニットと、
前記デバイス側ユニットより前記テスタ側に設けられた中間基板、前記複数のデバイス側端子と電気的に接続される前記中間基板に形成された複数のデバイス側中間電極、及び、前記テスタと電気的に接続される前記中間基板に形成された複数のテスタ側中間電極を有する中間ユニットと、
前記中間ユニットより前記テスタ側に設けられたテスタ側基板、前記テスタへと電気的に接続される前記テスタ側基板に形成された複数のテスタ側電極を有するテスタ側ユニットと、
前記中間ユニットと前記テスタ側ユニットとの間の第1空間を減圧する第1減圧部と、
前記被試験デバイスが前記デバイス側ユニットに接続された状態で、前記デバイス保持部と前記中間ユニットとの間の第2空間を減圧する第2減圧部と
を備え
前記第1減圧部は、前記デバイス保持部が前記デバイス側ユニットから離脱した状態でも、前記第1空間の減圧状態を継続して、
前記第2減圧部は、前記第1減圧部が前記第1空間を減圧している状態で、前記第2空間を減圧する
プローブ装置。
A probe apparatus for electrically connecting a device under test and a tester,
A device holding unit for holding the device under test;
A sheet having flexibility, and a device-side unit having a plurality of device-side terminals that pass through the sheet and are connected to the device under test held by the device holding unit;
An intermediate board provided on the tester side from the device side unit, a plurality of device side intermediate electrodes formed on the intermediate board electrically connected to the plurality of device side terminals, and electrically with the tester An intermediate unit having a plurality of tester side intermediate electrodes formed on the intermediate substrate to be connected;
A tester side unit provided on the tester side substrate from the intermediate unit, a tester side unit having a plurality of tester side electrodes formed on the tester side substrate electrically connected to the tester;
A first decompression unit for decompressing a first space between the intermediate unit and the tester side unit;
In a state where the device under test is connected to the device side unit, a second decompression unit that decompresses a second space between the device holding unit and the intermediate unit ,
The first decompression unit continues the decompressed state of the first space even when the device holding unit is detached from the device-side unit.
The probe device according to claim 2, wherein the second decompression unit decompresses the second space in a state where the first decompression unit decompresses the first space .
前記中間ユニットと前記テスタ側ユニットとの間に設けられ、前記複数のテスタ側中間電極と前記複数のテスタ側電極とを電気的に接続する複数の接続電極とを有するコンタクトユニットを更に備える
請求項1に記載のプローブ装置。
The contact unit is further provided between the intermediate unit and the tester side unit, and further includes a contact unit having a plurality of connection electrodes that electrically connect the plurality of tester side intermediate electrodes and the plurality of tester side electrodes. 2. The probe device according to 1.
前記デバイス側ユニットと前記中間ユニットとの間に設けられ、前記複数のデバイス側端子と前記複数のデバイス側中間電極とを個別に接続する導電部材を更に備える
請求項1または2に記載のプローブ装置。
The probe apparatus according to claim 1, further comprising a conductive member provided between the device side unit and the intermediate unit and individually connecting the plurality of device side terminals and the plurality of device side intermediate electrodes. .
前記デバイス保持部は、前記デバイス保持部と前記デバイス側ユニットとの間を封止する封止部材を有する
請求項1から3のいずれか1項に記載のプローブ装置。
The probe device according to claim 1, wherein the device holding unit includes a sealing member that seals between the device holding unit and the device side unit.
前記第1空間を封止しつつ、前記第1空間と前記第2空間とを離隔する離隔部材を更に備える
請求項1から4のいずれか1項に記載のプローブ装置。
5. The probe device according to claim 1, further comprising a separation member that seals the first space and separates the first space and the second space. 6.
前記第1減圧部が、前記第1空間を減圧することにより、
前記中間ユニットが、前記テスタ側ユニットに固定され、
前記複数のテスタ側中間電極は、前記テスタと電気的に接続される
請求項1からのいずれか1項に記載のプローブ装置。
The first decompression unit decompresses the first space,
The intermediate unit is fixed to the tester side unit;
The plurality of tester-side intermediate electrodes, the probe device according to any one of claims 1 to 5, wherein the tester and are electrically connected.
前記第2減圧部が、前記第2空間を減圧することにより、
前記デバイス側ユニットが、前記デバイス保持部側へと吸着され
請求項1からのいずれか1項に記載のプローブ装置。
The second decompression unit decompresses the second space,
The device-side unit, the probe device according to any one of the device holding portion Ru is adsorbed to the side <br/> claims 1 to 6.
ウエハに形成された複数の被試験デバイスを試験する試験装置であって、
前記複数の被試験デバイスとの間で電気信号を授受して前記複数の被試験デバイスを試験するテスタと、
前記複数の被試験デバイスに形成されたデバイスパッドと前記テスタとを電気的に接続する請求項1からのいずれか1項に記載のプローブ装置と
を備える試験装置。
A test apparatus for testing a plurality of devices under test formed on a wafer,
A tester for exchanging electrical signals with the plurality of devices under test to test the plurality of devices under test;
Wherein the plurality of test apparatus including a probe device according to any one of claims 1 7 for electrically connecting the device pad formed on the device under test and the tester.
被試験デバイステスタとの間を電気的に接続するプローブ方法であって、
前記被試験デバイスを保持するデバイス保持部と、
可撓性を有するシート、及び、前記シートを貫通して前記デバイス保持部に保持された前記被試験デバイスに接続される複数のデバイス側端子を有するデバイス側ユニットと、
前記デバイス側ユニットより前記テスタ側に設けられた中間基板、前記複数のデバイス側端子と電気的に接続される前記中間基板に形成された複数のデバイス側中間電極、及び、前記テスタと電気的に接続される前記中間基板に形成された複数のテスタ側中間電極を有する中間ユニットと、
前記中間ユニットより前記テスタ側に設けられたテスタ側基板、前記テスタへと電気的に接続される前記テスタ側基板に形成された複数のテスタ側電極を有するテスタ側ユニットとを備えるプローブ装置において、
前記中間ユニットと前記テスタ側ユニットとの間の第1空間を減圧する第1減圧段階と、
前記被試験デバイスが前記デバイス側ユニットに接続された状態で、前記デバイス保持部と前記中間ユニットとの間の第2空間を減圧する第2減圧段階と
を備え
前記第1減圧段階では、前記デバイス保持部が前記デバイス側ユニットから離脱した状態でも、前記第1空間の減圧状態を継続して、
前記第2減圧段階では、前記第1減圧段階において前記第1空間を減圧している状態で、前記第2空間を減圧する
プローブ方法。
A probe method for electrically connecting a device under test and a tester,
A device holding unit for holding the device under test;
A sheet having flexibility, and a device-side unit having a plurality of device-side terminals that pass through the sheet and are connected to the device under test held by the device holding unit;
An intermediate board provided on the tester side from the device side unit, a plurality of device side intermediate electrodes formed on the intermediate board electrically connected to the plurality of device side terminals, and electrically with the tester An intermediate unit having a plurality of tester side intermediate electrodes formed on the intermediate substrate to be connected;
In a probe apparatus comprising: a tester side substrate provided on the tester side from the intermediate unit; and a tester side unit having a plurality of tester side electrodes formed on the tester side substrate electrically connected to the tester.
A first depressurization stage for depressurizing a first space between the intermediate unit and the tester side unit;
A second depressurizing step of depressurizing a second space between the device holding unit and the intermediate unit in a state where the device under test is connected to the device side unit ;
In the first decompression step, even if the device holding unit is detached from the device side unit, the decompression state of the first space is continued,
In the second decompression step, the second space is decompressed in a state where the first space is decompressed in the first decompression step .
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