JP5614538B2 - Method for forming composite plating film - Google Patents

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Description

本発明は、ダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子を分散・共析させた複合めっき被膜の形成方法に関する。   The present invention relates to a method for forming a composite plating film in which diamond fine particles and fluororesin fine particles are dispersed and co-deposited.

複合めっきは、一般に、通常のめっき処理に用いられるめっき浴中に不溶性の微粒子が均一に分散した状態にして、被めっき体を浸漬させて複合めっきを行う。被めっき体の表面には、化学的に金属膜を析出させるとともに金属膜中に微粒子を共析させ、金属マトリックス中に微粒子を分散させた複合めっき被膜を形成する。   In general, composite plating is performed by immersing an object to be plated in a state in which insoluble fine particles are uniformly dispersed in a plating bath used in a normal plating process. On the surface of the object to be plated, a metal film is chemically deposited and fine particles are co-deposited in the metal film to form a composite plating film in which the fine particles are dispersed in the metal matrix.

こうした複合めっきに用いられる微粒子としては、酸化物(二酸化ケイ素、アルミナ等)、炭化物(炭化ケイ素、炭化クロム等)、フッ素樹脂、ナイロン、ポリエチレン、黒鉛、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン、窒化ホウ素等が挙げられ、微粒子の特性により複合めっき被膜に、硬質、耐摩耗性、潤滑性、撥水性、非粘着性といった機能を付与することができる。   Fine particles used in such composite plating include oxides (silicon dioxide, alumina, etc.), carbides (silicon carbide, chromium carbide, etc.), fluororesins, nylon, polyethylene, graphite, fluorinated graphite, molybdenum disulfide, boron nitride, etc. Depending on the characteristics of the fine particles, the composite plating film can be provided with functions such as hardness, wear resistance, lubricity, water repellency, and non-adhesiveness.

例えば、特許文献1では、金属基材表面に、ニッケル中にPTFE粒子が分散された表面平滑化層を形成し、その表面平滑化層上にフッ素系皮膜を形成した点が記載されており、こうした皮膜の形成により撥水性及び耐熱性を付与する点が記載されている。   For example, Patent Document 1 describes that a surface smoothing layer in which PTFE particles are dispersed in nickel is formed on the surface of a metal substrate, and a fluorine-based film is formed on the surface smoothing layer. The point that water repellency and heat resistance are imparted by the formation of such a film is described.

複合めっき被膜に分散させる微粒子としては、近年ダイヤモンド微粒子が注目されている。例えば、特許文献2及び3では、Ni−Pめっきに用いる微粒子として、PTFEとともにダイヤモンドが例示されている。   In recent years, diamond fine particles have attracted attention as fine particles dispersed in the composite plating film. For example, Patent Documents 2 and 3 exemplify diamond together with PTFE as fine particles used for Ni-P plating.

ダイヤモンド微粒子であるナノダイヤモンドは、人工的には衝撃圧縮法や静圧法により製造され、その製造方法により得られる形態が異なり、多結晶、単結晶、クラスター等の異なるタイプのナノダイヤモンドが知られている。多結晶タイプのナノダイヤモンドは、球状の構造を有しているため、固体間の摺動面に適した材料と考えられる。   Nanodiamond, which is a fine diamond particle, is artificially produced by the impact compression method or the static pressure method, and the form obtained by the production method is different. Different types of nanodiamond such as polycrystal, single crystal, and cluster are known. Yes. Polycrystalline nanodiamond has a spherical structure and is therefore considered a material suitable for a sliding surface between solids.

多結晶タイプのナノダイヤモンドは、一次粒子の粒径が5〜20nmの焼結体であるが、一次粒子のままで安定に存在することは困難で、50〜7,500nm程度の大きな凝集体となって存在している。そのため、こうしたナノダイヤモンドは、工業的に利用する際に液体中で分散させて使用されてきた。   The polycrystalline nanodiamond is a sintered body having a primary particle size of 5 to 20 nm, but it is difficult to stably exist as a primary particle, and a large aggregate of about 50 to 7,500 nm It exists. Therefore, such nanodiamond has been used by being dispersed in a liquid when used industrially.

しかしながら、分散させる微粒子として、ナノダイヤモンド等の炭素系材料、フッ素系樹脂、セラミック等の微粒子をめっき処理に用いる場合、撥水性及び疎水性が強く、そのままでは、金属めっき浴中に分散させることができないため、微粒子をめっき膜中に均一に分散共析させることは非常に困難である。   However, as fine particles to be dispersed, carbon-based materials such as nanodiamonds, fine particles such as fluorine-based resins, ceramics, etc. are used for plating treatment, which is strong in water repellency and hydrophobicity and can be dispersed in a metal plating bath as it is. Therefore, it is very difficult to disperse and eutect the fine particles uniformly in the plating film.

従来より、界面活性剤を分散助剤として用いて微粒子をめっき浴に分散させる方法が用いられている。分散助剤として用いられる界面活性剤としては、カチオン性界面活性剤、めっき浴のpHに対応してカチオン性を示す両性界面活性剤及び非イオン性界面活性剤等が知られている。また、界面活性剤を用いない方法としては、微粒子を懸濁しためっき浴に対して気体で撹拌する方法等が知られている。   Conventionally, a method of dispersing fine particles in a plating bath using a surfactant as a dispersion aid has been used. As surfactants used as dispersion aids, there are known cationic surfactants, amphoteric surfactants and nonionic surfactants that exhibit a cationic property corresponding to the pH of the plating bath. Further, as a method not using a surfactant, a method of stirring with a gas in a plating bath in which fine particles are suspended is known.

特開2007−327135号公報JP 2007-327135 A 特開平5−171454号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-171454 特開2005−256170号公報JP-A-2005-256170

衝撃圧縮法により得られた多結晶タイプのナノダイヤモンドは、一次粒子が5〜20nmと極めて小さいが、ナノダイヤモンド表面には、非黒鉛質、黒鉛質皮膜などが融着し、粒径が50〜7,500nmの二次又は三次凝集体として製造販売されている。   The polycrystalline nanodiamond obtained by the impact compression method has primary particles as small as 5 to 20 nm, but the surface of the nanodiamond is fused with non-graphitic, graphite film, etc. It is manufactured and sold as a secondary or tertiary aggregate of 7,500 nm.

市販のナノダイヤモンドをめっき液中に分散させる場合、界面活性剤を添加しても粒子同士の凝集が起こりやすく、凝集した粒子が沈殿するため安定した分散液を得ることは非常に難しい。ナノダイヤモンドが安定して分散していない状態でめっき処理を行っためっき膜の表面には、ナノダイヤモンドの凝集析出(偏析)が生じるという問題があった。   When commercially available nanodiamonds are dispersed in the plating solution, even if a surfactant is added, the particles are likely to aggregate, and the aggregated particles are precipitated, so that it is very difficult to obtain a stable dispersion. There was a problem that nanodiamonds aggregated (segregated) on the surface of the plating film that was plated in a state where nanodiamonds were not stably dispersed.

こうした問題に対処するために、超音波分散法やビーズミル分散法等によりナノダイヤモンドの凝集体を解砕することが提案されている。こうした分散方法を用いるとナノダイヤモンドの平均粒径が十数nm〜数百nmの分散液を得ることができるが、めっき液中においては金属イオンの影響を受けるため、ナノダイヤモンドは再凝集・沈殿を生じてしまう。   In order to deal with such problems, it has been proposed to crush nanodiamond aggregates by an ultrasonic dispersion method, a bead mill dispersion method, or the like. By using such a dispersion method, a dispersion liquid having an average particle diameter of nano-diamonds of 10 nm to several hundreds nm can be obtained. Will occur.

また、従来行われてきたナノダイヤモンドを用いた複合めっき処理では、平均粒径が数nm〜数百nm程度のサイズのナノダイヤモンドをめっき液中に分散させて複合めっき被膜を得ていたが、分散させるナノダイヤモンドの濃度が希薄であったため、複合めっき被膜中に共析するナノダイヤモンドの含有量が数%程度のものであった。そのため、ナノダイヤモンドの特性を十分に発揮する複合めっき被膜が得られなかった。   Moreover, in the conventional composite plating treatment using nanodiamonds, nanodiamonds having an average particle size of several nanometers to several hundred nanometers were dispersed in a plating solution to obtain a composite plating film. Since the concentration of nanodiamond to be dispersed was dilute, the content of nanodiamond co-deposited in the composite plating film was about several percent. Therefore, a composite plating film that sufficiently exhibits the characteristics of nanodiamonds cannot be obtained.

そこで、本発明は、ダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子を均一に分散・共析させた複合めっき被膜の形成方法を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for forming a composite plating film in which diamond fine particles and fluororesin fine particles are uniformly dispersed and co-deposited.

本発明に係る複合めっき被膜の形成方法は、親水性ポリマー又はイオン性官能基が導入された平均粒径10nm〜300nmのダイヤモンド微粒子、平均粒径100nm〜300nmのフッ素樹脂微粒子及び界面活性剤を金属めっき液に添加した複合めっき液を基材表面に接触させて、ダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子を金属マトリクス中に均一に分散させた複合めっき被膜を形成することを特徴とする。さらに、前記界面活性剤は、カチオン性界面活性剤、前記金属めっき液のpHにおいてカチオン性を示す両性界面活性剤又は非イオン性界面活性剤であることを特徴とする。さらに、前記複合めっき液中の界面活性剤の添加量は、ダイヤモンド微粒子を分散させるための界面活性剤0.5g/リットル〜2g/リットル及びフッ素樹脂微粒子を分散させるための界面活性剤0.1g/リットル〜0.3g/リットルであることを特徴とする。さらに、前記金属めっき液は、ニッケルイオン、コバルトイオン、銅イオン、金イオン、鉄イオン、パラジウムイオン、白金イオン、スズイオン及びロジウムイオンよりなる群から選ばれた1種又は2種以上の金属イオンを含むことを特徴とする。さらに、前記フッ素樹脂微粒子は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、及びエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする。   The method for forming a composite plating film according to the present invention comprises a method of forming diamond fine particles having an average particle size of 10 nm to 300 nm, fluororesin fine particles having an average particle size of 100 nm to 300 nm and a surfactant into which a hydrophilic polymer or an ionic functional group has been introduced. The composite plating solution added to the plating solution is brought into contact with the substrate surface to form a composite plating film in which diamond fine particles and fluororesin fine particles are uniformly dispersed in a metal matrix. Further, the surfactant is a cationic surfactant, an amphoteric surfactant or a nonionic surfactant that exhibits a cationic property at the pH of the metal plating solution. Further, the amount of the surfactant added in the composite plating solution is 0.5 g / liter to 2 g / liter of the surfactant for dispersing the diamond fine particles and 0.1 g of the surfactant for dispersing the fluororesin fine particles. / Liter to 0.3 g / liter. Furthermore, the metal plating solution contains one or more metal ions selected from the group consisting of nickel ions, cobalt ions, copper ions, gold ions, iron ions, palladium ions, platinum ions, tin ions and rhodium ions. It is characterized by including. Furthermore, the fluororesin fine particles include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), polyvinylidene fluoride ( PVDF), ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), and at least one selected from the group consisting of ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE).

本発明は、上記のような構成を有することで、金属めっき液中にダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子を安定した状態で均一に分散させた複合めっき液を基材表面に接触させ、ダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子を金属マトリクス中に均一に分散させた複合めっき被膜を形成することができる。   The present invention has the above-described configuration, so that a composite plating solution in which diamond fine particles and fluororesin fine particles are stably dispersed in a metal plating solution is brought into contact with the substrate surface, and the diamond fine particles and fluorine A composite plating film in which resin fine particles are uniformly dispersed in a metal matrix can be formed.

こうして複合めっき被膜が形成された摺動材は、高耐摩耗性・低摩擦性・相手材への低攻撃性といった優れた特性を有するようになる。そのため、平均粒径100nm〜300nmのフッ素樹脂微粒子により摺動開始時における初期なじみが改善され、突発的な焼付きの問題を解消できる。また、なじみ過程が終了した後の定常状態の摩耗に移行する段階では、平均粒径10nm〜300nmのダイヤモンド微粒子により複合めっき被膜の摩耗が防止され、摺動材の長寿命化を図ることができる。   Thus, the sliding material on which the composite plating film is formed has excellent characteristics such as high wear resistance, low friction, and low attacking property on the mating material. Therefore, the initial familiarity at the start of sliding is improved by the fluororesin fine particles having an average particle diameter of 100 nm to 300 nm, and the problem of sudden seizure can be solved. Further, at the stage of transition to steady-state wear after the familiarization process is finished, wear of the composite plating film is prevented by diamond fine particles having an average particle diameter of 10 nm to 300 nm, and the life of the sliding material can be extended. .

複合めっき被膜の表面の微粒子の分散状態を電子顕微鏡(SEM)により撮影した拡大写真である。It is the enlarged photograph which image | photographed the dispersion state of the microparticles | fine-particles on the surface of a composite plating film with the electron microscope (SEM). 試験の実施方法に関する説明図である。It is explanatory drawing regarding the implementation method of a test. 実施例及び比較例に関する平均摩擦係数を示すグラフである。It is a graph which shows the average friction coefficient regarding an Example and a comparative example. 実施例及び比較例に関する摩耗痕幅及び相手材の比摩耗量を示すグラフである。It is a graph which shows the wear scar width regarding an Example and a comparative example, and the specific wear amount of the other party material.

本発明に係る複合めっき被膜の形成方法において使用される金属めっき液としては特に制限はないが、ニッケルイオン、コバルトイオン、銅イオン、金イオン、鉄イオン、パラジウムイオン、白金イオン、スズイオン及びロジウムイオンよりなる群から選ばれた1種又は2種以上の金属イオンを含むものが使用でき、特に好ましいものとしてはニッケルイオンを含む金属めっき液が挙げられる。金属イオンは、その硫酸塩、塩化物等、水溶性金属塩の形で用いることができ、複合めっき液への金属イオンの配合は、0.02モル/リットル〜0.2モル/リットル、好ましくは0.05モル/リットル〜0.1モル/リットルである。   Although there is no restriction | limiting in particular as a metal plating solution used in the formation method of the composite plating film concerning this invention, Nickel ion, cobalt ion, copper ion, gold ion, iron ion, palladium ion, platinum ion, tin ion, and rhodium ion One containing one or two or more metal ions selected from the group consisting of the above can be used, and particularly preferred is a metal plating solution containing nickel ions. Metal ions can be used in the form of water-soluble metal salts such as sulfates and chlorides, and the compounding of metal ions in the composite plating solution is 0.02 mol / liter to 0.2 mol / liter, preferably Is 0.05 mol / liter to 0.1 mol / liter.

本発明に使用するダイヤモンド微粒子としては、平均粒径が1nm〜1000nm、好ましくは10nm〜1000nm、特に10nm〜300nmのものを使用すると、優れた摺動特性を得ることができる。こうしたダイヤモンド微粒子は、通常入手可能な多結晶タイプ、単結晶タイプ、クラスタータイプのものを用いることができる。   As the diamond fine particles used in the present invention, excellent sliding properties can be obtained when an average particle diameter of 1 nm to 1000 nm, preferably 10 nm to 1000 nm, particularly 10 nm to 300 nm is used. As such diamond fine particles, those of a polycrystalline type, a single crystal type, and a cluster type that are usually available can be used.

金属めっき液中にてダイヤモンド微粒子を均一に分散させるために、ダイヤモンド粒子の表面に親水性ポリマー又はイオン性官能基を導入するが、例えば、カチオン性官能基の場合、酸性領域下で容易にプロトンと結合してオニウムを形成するアミノ基、チオール基、水酸基、ホスフィン基等が挙げられる。この中でも、最もオニウムを形成しやすいアミノ基が好ましく、二つのアミノ基を有するアミジン骨格がさらに好ましい。   In order to uniformly disperse the diamond fine particles in the metal plating solution, a hydrophilic polymer or an ionic functional group is introduced on the surface of the diamond particle. For example, in the case of a cationic functional group, protons are easily generated in an acidic region. An amino group, a thiol group, a hydroxyl group, a phosphine group and the like which are bonded to each other to form onium. Among these, an amino group that is most likely to form onium is preferable, and an amidine skeleton having two amino groups is more preferable.

そのため、ダイヤモンド微粒子と反応させるアゾ系ラジカル開始剤は、アミジン骨格を有するものが好ましい。アミジンは塩酸塩になっていても環状体でもよい。具体的に列挙すると、2,2’−アゾビス(2−メチル−N−フェニルプロピオンアミジン)二塩酸塩、2,2’−アゾビス[N−(4−クロロフェニル)−2−メチルプロピオンアミジン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[N−(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロピオンアミジン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(フェニルメチル)プロピオンアミジン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−プロペニル)プロピオンアミジン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸塩、2,2’−アゾビス[N−(2−ヒドロキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジアゼピン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(5−ヒドロキシ−3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン]二塩酸塩、2,2’−アゾビス{2−[1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル]プロパン}二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]等が挙げられる。これらは市販されており容易に入手できる。   Therefore, the azo radical initiator to be reacted with the diamond fine particles preferably has an amidine skeleton. Amidine may be hydrochloride or cyclic. Specifically, 2,2′-azobis (2-methyl-N-phenylpropionamidine) dihydrochloride, 2,2′-azobis [N- (4-chlorophenyl) -2-methylpropionamidine] dihydrochloride Salt, 2,2′-azobis [N- (4-hydroxyphenyl) -2-methylpropionamidine] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (phenylmethyl) propionamidine] dihydrochloride Salt, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-propenyl) propionamidine] dihydrochloride, 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) dihydrochloride, 2,2′-azobis [N- (2-hydroxyethyl) -2-methylpropionamidine] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl) propane Dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis [2- (4,5,6,7-tetrahydro-1H- 1,3-diazepin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2 '-Azobis [2- (5-hydroxy-3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis {2- [1- (2-hydroxyethyl) -2-imidazolin-2-yl] propane} dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] and the like. These are commercially available and can be easily obtained.

イオン性官能基を導入したダイヤモンド微粒子を分散させた水性分散液を製造するには、ダイヤモンド微粒子をアゾ系ラジカル開始剤と水系溶媒中で反応させて行う。水系溶媒中にダイヤモンド微粒子及びアゾ系ラジカル開始剤を混合して、加熱又は光照射によりラジカル反応を開始させればよい。加熱する場合は50℃以上、好ましくは65〜75℃に加熱すれば十分であり、数十時間で反応は完了する。反応の速度は、アゾ系ラジカル開始剤の量に依存し、ダイヤモンド微粒子の重量の0.1〜5倍量のアゾ系開始剤を用いることが好ましい。アゾ系開始剤の量が5倍量を越えるとダイヤモンド微粒子に導入される有機物の量は増加しなくなり、0.1倍量未満ではダイヤモンド微粒子に導入される有機物が少なく分散性が不十分になる。   In order to produce an aqueous dispersion in which diamond fine particles having ionic functional groups introduced therein are dispersed, the diamond fine particles are reacted with an azo radical initiator in an aqueous solvent. What is necessary is just to mix a diamond fine particle and an azo radical initiator in an aqueous solvent, and to start radical reaction by heating or light irradiation. In the case of heating, it is sufficient to heat to 50 ° C. or more, preferably 65 to 75 ° C., and the reaction is completed in several tens of hours. The rate of reaction depends on the amount of the azo radical initiator, and it is preferable to use an azo initiator in an amount of 0.1 to 5 times the weight of the diamond fine particles. If the amount of the azo initiator exceeds 5 times, the amount of organic matter introduced into the diamond fine particles will not increase, and if it is less than 0.1 times the amount of organic matter introduced into the diamond fine particles is small and the dispersibility becomes insufficient. .

水系溶媒は、水、又は水と水溶性溶媒との混合物であり、通常は水を用いればよい。使用するアゾ系ラジカル開始剤が水に溶解しない場合には、水溶性溶媒を適宜混合して用いることができる。水溶性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、エチレングリコール、グリセリン、低分子量ポリエチレングリコール等の脂肪族ポリオール、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、N−メチル−2−ピロリドン等のラクタム類、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、スルホラン等の含硫黄溶媒、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の含燐溶媒等が挙げられる。   The aqueous solvent is water or a mixture of water and a water-soluble solvent, and usually water may be used. When the azo radical initiator to be used does not dissolve in water, a water-soluble solvent can be appropriately mixed and used. Examples of the water-soluble solvent include alcohols such as methanol and ethanol, aliphatic polyols such as ethylene glycol, glycerin and low molecular weight polyethylene glycol, nitriles such as acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide. Amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfone and sulfolane, and phosphorus-containing solvents such as hexamethylphosphoric triamide.

反応時のダイヤモンド微粒子の濃度は、1〜20重量%であることが好ましく、さらに5〜10重量%が好ましい。濃度が20重量%よりも高くなるとダイヤモンド微粒子が凝集してしまい、凝集したダイヤモンド微粒子とアゾ系ラジカル開始剤との間の反応が不十分となってをイオン性官能基を導入するのが難しくなり、1重量%未満では複合めっき液中のダイヤモンド微粒子の濃度が低下して複合めっき膜中のダイヤモンド微粒子の共析量が低下する。   The concentration of the diamond fine particles during the reaction is preferably 1 to 20% by weight, more preferably 5 to 10% by weight. When the concentration is higher than 20% by weight, the diamond fine particles aggregate, and the reaction between the aggregated diamond fine particles and the azo radical initiator becomes insufficient, making it difficult to introduce an ionic functional group. If it is less than 1% by weight, the concentration of diamond fine particles in the composite plating solution is lowered and the amount of diamond fine particles in the composite plating film is reduced.

上述の方法で得られたダイヤモンド微粒子の水性分散液は、そのまま金属めっき液中に添加することもできるが、未反応のアゾ系ラジカル開始剤や過剰な塩類を除くために分離・洗浄といった処理を行うことが好ましい。分離方法としては、濾過、遠心分離等の方法が用いられる。濾材としては0.1μm程度のメンブランフィルターが分離ロスが少なく好ましい。洗浄する場合には通常脱塩水を用いるが、残存するアゾ系ラジカル開始剤等の有機物を除去しやすいように水溶性の有機溶媒を適宜混合してもよい。また、pHを調整するために、各種塩類を溶解して用いることもできる。   The aqueous dispersion of diamond fine particles obtained by the above method can be added to the metal plating solution as it is, but a treatment such as separation and washing is performed to remove unreacted azo radical initiators and excess salts. Preferably it is done. As the separation method, methods such as filtration and centrifugation are used. As the filter medium, a membrane filter of about 0.1 μm is preferable because of little separation loss. In the case of washing, demineralized water is usually used, but a water-soluble organic solvent may be appropriately mixed so that the remaining organic substances such as the azo radical initiator can be easily removed. Moreover, in order to adjust pH, various salts can also be dissolved and used.

水性分散液中でのダイヤモンド微粒子の再凝集を抑制するためには、水性分散液をpH3〜8の範囲に調整することが好ましい。強酸又は塩基の液性の場合には、ダイヤモンド微粒子の表面の電荷が対イオンによって中和され、電荷反発による分散安定性が阻害される。pH調整剤としては、燐酸1水素塩、燐酸2水素塩、炭酸水素塩、炭酸塩、水酸化物等が挙げられるが、これらのアルカリ金属塩やアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等を用いることもできる。   In order to suppress reaggregation of diamond fine particles in the aqueous dispersion, it is preferable to adjust the aqueous dispersion to a pH in the range of 3 to 8. In the case of a strong acid or base liquid, the charge on the surface of the diamond fine particles is neutralized by a counter ion, and dispersion stability due to charge repulsion is inhibited. Examples of the pH adjuster include monohydrogen phosphate, dihydrogen phosphate, hydrogen carbonate, carbonate, hydroxide, and the like, and alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts, and the like are used. You can also.

また、ダイヤモンド微粒子の表面に導入する官能基を親水性ポリマーにすることで、微粒子表面における高分子鎖による立体反発力を高めて、ダイヤモンド微粒子を安定して分散させることもできる。   In addition, by using a hydrophilic polymer as a functional group to be introduced on the surface of the diamond fine particles, the steric repulsion force due to the polymer chain on the surface of the fine particles can be increased, and the diamond fine particles can be stably dispersed.

この場合、アゾ系ラジカル開始剤の両末端を水酸基からCl(塩素)末端に変換し、次いで得られる化合物に高分子鎖を付与することができる。例えば、ポリエチレングリコール(PEG)残基、ポリジメチルシロキサン(PDMS)残基等が挙げられる。水酸基からCl末端への変換は、公知の酸クロライド化反応の反応条件を広く適用できる。引き続き行われる高分子との反応は、一般的な脱塩化水素反応であり、通常、塩基性化合物の存在下で行うのが有利である。ここで、PEG残基としては、具体的には、
−(CH2CH2O)−(nは約4以上、好ましくは約10以上の整数)
が挙げられる。また、PDMS残基としては、
−[Si(CH32−O]−(mは約3以上、好ましくは40以上の整数)
が挙げられる(特開2006−219591号公報参照)。
In this case, both ends of the azo radical initiator can be converted from a hydroxyl group to a Cl (chlorine) end, and then a polymer chain can be imparted to the resulting compound. For example, a polyethylene glycol (PEG) residue, a polydimethylsiloxane (PDMS) residue, etc. are mentioned. The conversion from a hydroxyl group to a Cl terminal can be widely applied to known reaction conditions for acid chloride reaction. The subsequent reaction with the polymer is a general dehydrochlorination reaction, and it is usually advantageous to carry out the reaction in the presence of a basic compound. Here, as the PEG residue, specifically,
- (CH 2 CH 2 O) n - (n is about 4 or more, preferably about 10 or more integer)
Is mentioned. PDMS residues include
- [Si (CH 3) 2 -O] m - (m is about 3 or more, preferably 40 or more integer)
(See JP 2006-219591 A).

また、ダイヤモンド微粒子に対して、アミノ基含有シランカップリング剤又はアミノ基含有シリコーンオイルにより乾式下で表面処理してその表面にアミノ基を導入し、導入されたアミノ基についてアクリル酸メチルのマイケル付加反応及びジアミンによる末端アミノ化を乾式下で繰り返すことによりグラフト反応させて、ポリアミンデンドリマーをダイヤモンド微粒子の表面に形成することも可能である(特開2001−106940号公報参照)。   In addition, diamond fine particles are surface treated under dry conditions with an amino group-containing silane coupling agent or amino group-containing silicone oil to introduce amino groups on the surface, and Michael addition of methyl acrylate is added to the introduced amino groups. It is also possible to form a polyamine dendrimer on the surface of the diamond fine particles by repeating the reaction and terminal amination with diamine by repeating under dry conditions (see JP 2001-106940 A).

以上説明した親水性ポリマー又はイオン性官能基を導入したダイヤモンド微粒子をそのまま金属めっき液中に添加しても、金属めっき液中ではニッケルイオン等の電解質イオンの強いイオン強度の影響を受けるため、ダイヤモンド微粒子間に働く静電的反発力が打ち消され、凝集・沈殿を生じてしまう。   Even if the diamond fine particles introduced with the hydrophilic polymer or ionic functional group described above are added to the metal plating solution as they are, they are affected by the strong ionic strength of electrolyte ions such as nickel ions in the metal plating solution. The electrostatic repulsive force acting between the fine particles is canceled out, causing aggregation and precipitation.

そのため、こうしたダイヤモンド微粒子の凝集・沈殿を抑制し、金属めっき液中でダイヤモンド微粒子を安定して分散させるために、分散剤として界面活性剤を添加することが好ましい。添加する界面活性剤としては、カチオン性、使用されるめっき浴のpHにおいてカチオン性を示す両性界面活性剤又は非イオン性界面活性剤が挙げられる。   Therefore, it is preferable to add a surfactant as a dispersant in order to suppress such aggregation and precipitation of the diamond fine particles and stably disperse the diamond fine particles in the metal plating solution. Examples of the surfactant to be added include cationic and amphoteric surfactants or nonionic surfactants that are cationic at the pH of the plating bath used.

分散剤として用いる界面活性剤は、分子量30,000〜200,000の単独重合体又は共重合体の界面活性剤が好ましい。分子量が200,000よりも大きいと、ダイヤモンド微粒子間架橋を引き起こし、分散剤よりもむしろ凝集剤として作用するようになる。また、分子量が30,000よりも小さいと、吸着速度は速くてもダイヤモンド微粒子からの脱着が起こりやすくなって分散剤としての効果は小さくなる。   The surfactant used as the dispersant is preferably a homopolymer or copolymer surfactant having a molecular weight of 30,000 to 200,000. When the molecular weight is larger than 200,000, it causes cross-linking between diamond fine particles, and acts as an aggregating agent rather than a dispersing agent. On the other hand, if the molecular weight is smaller than 30,000, desorption from the diamond fine particles is likely to occur even if the adsorption rate is high, and the effect as a dispersing agent becomes small.

例えば、カチオン性界面活性剤の場合、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩等であり、これらはダイヤモンド微粒子の表面に導入したイオン性官能基により適宜選択すればよい。ここで用いるアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数1〜6の整数である。   For example, in the case of a cationic surfactant, alkylbenzene sulfonate, dialkyldimethylammonium salt, and the like may be selected as appropriate depending on the ionic functional group introduced on the surface of the diamond fine particles. As an alkyl group used here, it is a C1-C6 integer, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl.

また、親水性ポリマーを導入したダイヤモンド微粒子の場合、非イオン系界面活性剤を用いることが好ましく、例えばPEGの場合ポリエチレングリコールモノ−4−オクチルフェニルエーテルやアルキルフェノール系の界面活性剤が挙げられる。   In the case of diamond fine particles into which a hydrophilic polymer has been introduced, it is preferable to use a nonionic surfactant. For example, in the case of PEG, polyethylene glycol mono-4-octylphenyl ether and alkylphenol surfactants can be used.

本発明に使用するフッ素樹脂微粒子としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、及びエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)が挙げられ、特に、PTFEからなる微粒子が好ましい。フッ素樹脂粒子は、平均粒径が100〜1000nm、特に平均粒径が100nm〜300nmのものを使用すると、優れた摺動特性を得ることができる。     Examples of the fluororesin fine particles used in the present invention include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), and polyvinylidene. Fluoride (PVDF), ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), and ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE) are exemplified, and fine particles made of PTFE are particularly preferable. When the fluororesin particles having an average particle diameter of 100 to 1000 nm, particularly an average particle diameter of 100 nm to 300 nm are used, excellent sliding characteristics can be obtained.

PTFEに代表されるフッ素樹脂は、撥水性及び疎水性が強く、そのままでは金属めっき液中に分散させることができないため、フッ素樹脂微粒子をめっき被膜に均一に分散させて共析させることは困難である。そのため、界面活性剤を分散剤として用いることで金属めっき液中に分散させるようにする。   Fluororesin represented by PTFE is strong in water repellency and hydrophobicity and cannot be dispersed in the metal plating solution as it is, so it is difficult to uniformly disperse the fluororesin fine particles in the plating film. is there. Therefore, it is made to disperse | distribute in a metal plating solution by using surfactant as a dispersing agent.

PTFE等のフッ素樹脂微粒子を金属めっき液中に分散させる分散剤としては、カチオン性界面活性剤、使用される金属めっき液のpHにおいてカチオン性を示す両性界面活性剤又は非イオン性界面活性剤が挙げられる。   Examples of the dispersing agent for dispersing the fluororesin fine particles such as PTFE in the metal plating solution include a cationic surfactant, an amphoteric surfactant or a nonionic surfactant exhibiting a cationic property at the pH of the metal plating solution used. Can be mentioned.

例えば、アルカリ又はアルカリ土類金属で塩化されたカルボキシル又はスルホン末端基を有するパーフルオロポリエーテル又はパーフルオロカーボン構造を有するアニオン系フッ素化界面活性剤、カチオン系フッ素化界面活性剤、例えばパーフルオロアルキル4級アンモニウム塩、長鎖(C8 〜C18 )アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジメチルアルキルラウリルベタイン等を挙げることができる。さらに、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノール、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のノニオン性界面活性剤を本発明の効果を損なわない範囲で添加しても差し支えなく、混合し用いることもできる。   For example, perfluoropolyether having a carboxyl or sulfone end group salified with an alkali or alkaline earth metal or an anionic fluorinated surfactant having a perfluorocarbon structure, a cationic fluorinated surfactant such as perfluoroalkyl 4 Examples include quaternary ammonium salts, long chain (C8 to C18) alkyltrimethylammonium salts, and dimethylalkyllaurylbetaines. Furthermore, nonionic surfactants such as perfluoroalkyl polyoxyethylene ethanol and polyoxyethylene nonylphenyl ether may be added within a range not impairing the effects of the present invention, and may be mixed and used.

無電解複合めっき処理を行う場合、添加した界面活性剤により生じる様々な不具合に対して留意する必要がある。例えば、得られた複合めっき被膜に縞状のムラが生じたり、無めっき部分が生じたり、共析ムラが生じるといった不具合に留意しなければならない。こうした界面活性剤による悪影響を避けるために界面活性剤の添加量を調整することになるが、添加量を抑制しすぎると微粒子の分散安定性が低下して凝集・沈殿が発生し、添加量が過剰になると微粒子の十分な共析量が得られなくなるといった問題が生じる。そして、形成されためっき被膜の外観が荒れた状態となって良好な外観が得られなくなる。   When electroless composite plating is performed, it is necessary to pay attention to various problems caused by the added surfactant. For example, it is necessary to pay attention to problems such as striped unevenness, unplated portions, and eutectoid unevenness in the obtained composite plating film. In order to avoid such adverse effects due to the surfactant, the amount of the surfactant to be added is adjusted. However, if the amount added is excessively suppressed, the dispersion stability of the fine particles is reduced, and aggregation / precipitation occurs. When the amount is excessive, there arises a problem that a sufficient eutectoid amount of fine particles cannot be obtained. And the external appearance of the formed plating film will be in the rough state, and a favorable external appearance will not be obtained.

上述したダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子を金属めっき液中に分散させる場合においても、界面活性剤の添加量に留意する必要がある。そのため、複合めっき液中の界面活性剤の添加量を、ダイヤモンド微粒子を分散させるための界面活性剤0.5g/リットル〜2g/リットル、フッ素樹脂微粒子を分散させるための界面活性剤0.1g/リットル〜0.3g/リットルとすることが好ましい。このように界面活性剤の添加量を設定することで、ダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子を同時に安定した分散状態に保持することができ、複合めっき処理に形成された複合めっき被膜中に両微粒子を均一に分散・共析することが可能となる。   Even when the above-mentioned diamond fine particles and fluororesin fine particles are dispersed in the metal plating solution, it is necessary to pay attention to the addition amount of the surfactant. Therefore, the addition amount of the surfactant in the composite plating solution is 0.5 g / liter to 2 g / liter of the surfactant for dispersing the diamond fine particles, and 0.1 g / surfactant for dispersing the fluororesin fine particles. It is preferable to set it as liter-0.3 g / liter. By setting the addition amount of the surfactant in this way, the diamond fine particles and the fluororesin fine particles can be kept in a stable dispersed state at the same time, and both fine particles can be uniformly distributed in the composite plating film formed in the composite plating process. Can be dispersed and co-deposited.

本発明で使用する複合めっき液は、上記の界面活性剤に加え、必須成分として金属イオン及び水不溶性の微粒子、錯化剤並びに還元剤を含有するものである。   The composite plating solution used in the present invention contains metal ions, water-insoluble fine particles, a complexing agent, and a reducing agent as essential components in addition to the above surfactant.

錯化剤としては、クエン酸、リンゴ酸、EDTA、マロン酸、フタル酸、マレイン酸、グルタル酸、乳酸、コハク酸、アジピン酸、酢酸等やその水溶性塩といったカルボン酸、オキシカルボン酸及びこれらの水溶性塩の1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、錯化剤の合計配合量は、0.05モル/リットル〜2モル/リットル、特に0.1モル/リットル〜1.1モル/リットルであることが好ましい。   Complexing agents include carboxylic acids such as citric acid, malic acid, EDTA, malonic acid, phthalic acid, maleic acid, glutaric acid, lactic acid, succinic acid, adipic acid, acetic acid, and their water-soluble salts, oxycarboxylic acids, and the like. These water-soluble salts can be used alone or in combination. The total compounding amount of the complexing agent is preferably 0.05 mol / liter to 2 mol / liter, particularly preferably 0.1 mol / liter to 1.1 mol / liter.

還元剤としては、次亜リン酸ナトリウム等の次亜リン酸塩を用いるものであり、還元剤の複合めっき液への配合量は、特に制限されるものではないが、通常0.05モル/リットル〜0.5モル/リットル、特に0.15モル/リットル〜0.3モル/リットルとすることが好ましい。   As the reducing agent, hypophosphite such as sodium hypophosphite is used, and the amount of the reducing agent in the composite plating solution is not particularly limited, but is usually 0.05 mol / It is preferable to set it to liter-0.5 mol / liter, especially 0.15 mol / liter-0.3 mol / liter.

ダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子の複合めっき液への配合量は、合計濃度で100g/リットル以下、より好ましくは0.1g/リットル〜100g/リットル、さらに好ましくは0.1g/リットル〜20g/リットルであることが好ましい。   The blending amount of diamond fine particles and fluororesin fine particles in the composite plating solution is 100 g / liter or less in total concentration, more preferably 0.1 g / liter to 100 g / liter, and further preferably 0.1 g / liter to 20 g / liter. Preferably there is.

本発明の複合めっき液のpHは、弱酸性であることが好ましく、具体的にはpH4〜pH6、好ましくはpH4.2〜pH5.5、さらに好ましくはpH4.5〜pH5.2であることが好ましい。pH調整のために、硫酸、塩酸等の酸や水酸化ナトリウム等のアルカリを添加することができる。   The pH of the composite plating solution of the present invention is preferably weakly acidic, specifically, pH 4 to pH 6, preferably pH 4.2 to pH 5.5, more preferably pH 4.5 to pH 5.2. preferable. For pH adjustment, an acid such as sulfuric acid or hydrochloric acid or an alkali such as sodium hydroxide can be added.

本発明に係る複合めっき被膜の形成方法は、無電解めっき処理で行うことが好ましく、複合めっき液を貯留するめっき浴中に基材である被めっき物を浸漬して、被めっき物に複合めっき液を接触させて無電解めっき処理を行えばよい。   The method for forming a composite plating film according to the present invention is preferably performed by electroless plating treatment, and the object to be plated, which is a base material, is immersed in a plating bath storing the composite plating solution, and the composite plating is applied to the object to be plated. What is necessary is just to perform an electroless-plating process by making a liquid contact.

具体的には、ダイヤモンド微粒子及びPTFE微粒子が均一に分散した複合めっき液中に被めっき物を浸漬し、浴温を好ましくは70℃〜95℃、より好ましくは80℃〜90℃に設定して、必要に応じて複合めっき液を撹拌したり、被めっき物を揺動することにより、被めっき物表面にダイヤモンド微粒子及びPTFE微粒子が金属マトリックス中に均一に分散・共析した複合めっき被膜を形成する。   Specifically, the object to be plated is immersed in a composite plating solution in which diamond fine particles and PTFE fine particles are uniformly dispersed, and the bath temperature is preferably set to 70 ° C. to 95 ° C., more preferably 80 ° C. to 90 ° C. If necessary, the composite plating solution is agitated or rocked to form a composite plating film in which diamond particles and PTFE particles are uniformly dispersed and co-deposited in the metal matrix. To do.

なお、被めっき物に制限はなく、無電解めっき処理が可能なものであればいずれの材質でも使用することができ、例えば金属材料、表面が導電化されたプラスチック材料やセラミック材料等が挙げられる。   The material to be plated is not limited, and any material can be used as long as it can be electrolessly plated. Examples thereof include metal materials, plastic materials whose surfaces are made conductive, ceramic materials, and the like. .

また、複合めっき被膜の膜厚は、めっき製品の使用目的等により適宜選定されるが、通常1μm〜30μmとすればよく、被膜の析出速度は、5μm/時〜20μm/時に設定するとよい。   Moreover, although the film thickness of a composite plating film is suitably selected according to the use purpose etc. of a plating product, it should just normally be 1 micrometer-30 micrometers, and it is good to set the deposition rate of a film to 5 micrometer / hour-20 micrometers / hour.

摺動材に形成する複合めっき被膜は、好ましくは、0.1体積%〜15体積%のダイヤモンド微粒子及び1体積%〜30体積%のフッ素樹脂粒子を含むようにすれば、高耐摩耗性、低摩擦性・相手材への低攻撃性といった優れた特性を有するようになる。   The composite plating film formed on the sliding material preferably has a high wear resistance if it contains 0.1 volume% to 15 volume% diamond fine particles and 1 volume% to 30 volume% fluororesin particles. It has excellent properties such as low friction and low attack on the mating material.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.

<実施例1>
下記に示す複合めっき液を調製し、スチール板及びステンレス板に無電解複合めっき処理を施した。
[液組成(基本浴組成)]
硫酸ニッケル7水和物 0.07モル/リットル
次亜リン酸ナトリウム1水和物 0.22モル/リットル
リンゴ酸 0.10モル/リットル
マロン酸 0.30モル/リットル
アジピン酸 0.85モル/リットル
安定剤 微量
ポリ(ジアリルジメチルアンモニウムクロリド) 1g/リットル
(グラフト化ダイヤモンド微粒子用分散剤)
パーフルオロアルキル4級アンモニウムヨウ化物 150mg/リットル
(PTFE分散剤)
グラフト化ダイヤモンド微粒子(平均粒径50nm)2.0g/リットル
(住石マテリアルズ社製SCMファインダイヤ)
PTFE微粒子(平均粒径200nm) 0.2g/リットル
(デュポン社製MP1100)
[めっき条件]
複合めっき液pH=4.9
浴温:90℃
撹拌:緩やか
めっき時間:60分
<Example 1>
The composite plating solution shown below was prepared, and the steel plate and the stainless plate were subjected to electroless composite plating treatment.
[Liquid composition (basic bath composition)]
Nickel sulfate heptahydrate 0.07 mol / liter Sodium hypophosphite monohydrate 0.22 mol / liter Malic acid 0.10 mol / liter Malonic acid 0.30 mol / liter Adipic acid 0.85 mol / Liter stabilizer Trace amount poly (diallyldimethylammonium chloride) 1g / liter (dispersant for grafted diamond fine particles)
Perfluoroalkyl quaternary ammonium iodide 150 mg / liter (PTFE dispersant)
Grafted diamond fine particles (average particle size 50 nm) 2.0 g / liter (SCM Fine Diamond manufactured by Sumiishi Materials)
PTFE fine particles (average particle size 200 nm) 0.2 g / liter (MP1100 manufactured by DuPont)
[Plating conditions]
Composite plating solution pH = 4.9
Bath temperature: 90 ° C
Stirring: Slow plating time: 60 minutes

試験片として、直径8mm長さ25mmの細長い円柱状のピン形状で、接触する先端面は曲率半径18mmの曲面形状に形成した炭素鋼(SK105)を用いた。試験片の先端面を含む先端部の表面には、予め無電解めっき処理により中間層BとしてNi−Pからなる金属被膜(膜厚10μm)を形成しておき、金属被膜上に、上述した複合めっき液によりめっき処理を行い、ダイヤモンド微粒子及びPTFE微粒子が均一に分散・共析した複合めっき被膜(膜厚10μm)を形成した。この場合、めっき処理により形成された複合めっき被膜は、ダイヤモンド微粒子の含有割合が約5体積%、PTFE微粒子の含有割合が約5体積%であった。   As a test piece, carbon steel (SK105) was used which was formed into an elongated cylindrical pin shape having a diameter of 8 mm and a length of 25 mm, and the tip surface to be contacted was formed into a curved shape having a curvature radius of 18 mm. On the surface of the tip portion including the tip surface of the test piece, a metal film (film thickness: 10 μm) made of Ni—P is formed as an intermediate layer B in advance by electroless plating, and the above-described composite is formed on the metal film. Plating treatment was performed with a plating solution to form a composite plating film (film thickness 10 μm) in which diamond fine particles and PTFE fine particles were uniformly dispersed and co-deposited. In this case, the composite plating film formed by the plating treatment had a diamond fine particle content of about 5% by volume and a PTFE fine particle content of about 5% by volume.

形成された複合めっき被膜の表面の微粒子の分散状態を走査型電子顕微鏡(SEM)により撮影した拡大写真を図1に示す。拡大写真では、大きな黒丸状のものがPTFE微粒子であり、小さな黒丸状のものがダイヤモンド微粒子である。これらの微粒子の分布状態をみると、均一に分散・共析していることがわかる。   The enlarged photograph which image | photographed the dispersed state of the microparticles | fine-particles on the surface of the formed composite plating film with the scanning electron microscope (SEM) is shown in FIG. In the enlarged photograph, large black circles are PTFE fine particles, and small black circles are diamond fine particles. Looking at the distribution of these fine particles, it can be seen that they are uniformly dispersed and eutectoid.

<実施例2>
実施例1では、ダイヤモンド微粒子1gに対してPTFE微粒子を0.1g投入したが、実施例2では、ダイヤモンド微粒子1gに対してPTFE微粒子を0.05g投入して、実施例1と同様に複合めっき被膜を形成した。
<Example 2>
In Example 1, 0.1 g of PTFE fine particles were added to 1 g of diamond fine particles. In Example 2, 0.05 g of PTFE fine particles were added to 1 g of diamond fine particles, and composite plating was performed in the same manner as in Example 1. A film was formed.

<比較例>
上述した試験片と同様の形状の基材の先端面に、以下の4種類の被膜を形成したものを準備した。
(比較例1)
電解めっき法により成膜した硬質クロム被膜(膜厚10μm)
(比較例2)
無電解めっき法により成膜したNi−Pからなる金属被膜(膜厚10μm)
(比較例3)
上述しためっき液の組成のうちPTFE微粒子を添加しない複合めっき液を用いて無電解めっき法により成膜したダイヤモンド微粒子のみが均一に分散した複合めっき被膜(膜厚10μm)
(比較例4)
上述しためっき液の組成のうちダイヤモンド微粒子を添加しない複合めっき液を用いて無電解めっき法により成膜したPTFE微粒子のみが均一に分散した複合めっき被膜(膜厚10μm)
<Comparative example>
What prepared the following four types of films on the front end surface of the base material having the same shape as the above-described test piece was prepared.
(Comparative Example 1)
Hard chromium film (film thickness 10μm) formed by electrolytic plating
(Comparative Example 2)
Ni-P metal film (film thickness 10μm) formed by electroless plating
(Comparative Example 3)
Of the above-described plating solution composition, a composite plating film in which only diamond fine particles formed by electroless plating using a composite plating solution to which PTFE fine particles are not added is uniformly dispersed (film thickness: 10 μm)
(Comparative Example 4)
Of the above-described plating solution composition, a composite plating film (thickness 10 μm) in which only PTFE fine particles formed by electroless plating using a composite plating solution to which diamond fine particles are not added is uniformly dispersed

<往復動摩擦摩耗試験>
形成された複合めっき被膜の摺動特性について、往復動摩擦摩耗試験により評価した。試験には、往復動摩擦摩耗試験機(テーピーエンジニアリング社製RFT−070)を用いた。
<Reciprocating friction and wear test>
The sliding characteristics of the formed composite plating film were evaluated by a reciprocating frictional wear test. A reciprocating friction and wear tester (RFT-070 manufactured by Tapy Engineering Co., Ltd.) was used for the test.

図2は、試験の実施方法に関する説明図である。プレート状の試験台1(材質;ねずみ鋳鉄(FC250))の上面にピン形状の試験片2の先端を接触させて、試験台1に対して試験片2を垂直になるように保持する。そして、試験片2に試験荷重Lを印加した状態で試験台1を上面に沿う方向(矢印方向)に往復直線運動させて試験を行う。試験片2の先端の試験台1への接触部分には、ノズル3から常時潤滑油が供給される。潤滑油として工作機械用多目的汎用潤滑油テトラオイル2(昭和シェル石油社製)を用いた。   FIG. 2 is an explanatory diagram relating to a test execution method. The tip of the pin-shaped test piece 2 is brought into contact with the upper surface of the plate-like test stand 1 (material: gray cast iron (FC250)), and the test piece 2 is held vertically with respect to the test stand 1. Then, in a state where the test load L is applied to the test piece 2, the test table 1 is reciprocated linearly in the direction along the upper surface (arrow direction) to perform the test. Lubricating oil is always supplied from the nozzle 3 to the contact portion of the tip of the test piece 2 with the test table 1. Multipurpose general-purpose lubricating oil tetra oil 2 (manufactured by Showa Shell Sekiyu KK) for machine tools was used as the lubricating oil.

試験は、なじみ運転(試験開始前に試験片に対して19.6Nの試験荷重を印加した状態で、回転速度200rpm(すべり速度0.3m/s)で往復運動開始)を往復回数400回(約2分間)行なった後、以下に示す条件で本試験を続けて開始した。
荷 重 98N
すべり速度 1m/s
ストローク 50mm
往復回数 36,000回
すべり距離 3.6km(往復回数;36,000回時)
雰囲気 油潤滑状態 (テトラオイル2,2.1mm2/s,40℃)
相手材 FC250(Ra=0.02μm以下)
室温 22℃〜23℃
In the test, a running-in operation (starting reciprocating motion at a rotational speed of 200 rpm (sliding speed of 0.3 m / s) in a state where a test load of 19.6 N was applied to the test piece before starting the test) was repeated 400 times ( After about 2 minutes, the test was started under the following conditions.
Load 98N
Sliding speed 1m / s
Stroke 50mm
Number of reciprocations 36,000 times Sliding distance 3.6 km (Number of reciprocations: 36,000 times)
Atmosphere Oil lubrication (Tetra oil 2,2.1 mm 2 / s, 40 ° C)
Mating material FC250 (Ra = 0.02μm or less)
Room temperature 22 ℃ ~ 23 ℃

試験片に加わる摩擦力は、試験片取付部に配置したロードセルにより検出し、動ひずみ計で増幅後AD変換器を介してPC(パーソナルコンピュータ)に保存するようになっている。そして、摩擦係数は、摩擦力を試験荷重で除した値とした。   The frictional force applied to the test piece is detected by a load cell arranged at the test piece mounting portion, amplified by a dynamic strain meter, and stored in a PC (personal computer) via an AD converter. The coefficient of friction was a value obtained by dividing the friction force by the test load.

平均摩擦係数については、摺動開始から往復回数が1,000回に到達した時点(摺動開始から約3分後) の前後合わせて20回(約2秒間)の摩擦係数の平均値を平均摩擦係数とした。   For the average friction coefficient, average the average value of the friction coefficient of 20 times (about 2 seconds) before and after the time when the number of reciprocations reached 1,000 times from the start of sliding (about 3 minutes after the start of sliding). The friction coefficient was used.

ピン形状の試験片の摩耗評価については、レーザー顕微鏡(キーエンス社製VK8700)を用いて、試験片の摩耗表面の摺動方向に形成された摩耗痕について摺動方向と直交する方向の最大幅を測定し、その値を摩耗痕幅(単位;mm)とした。   For the wear evaluation of the pin-shaped test piece, the maximum width in the direction perpendicular to the sliding direction of the wear mark formed in the sliding direction of the wear surface of the test piece is measured using a laser microscope (VK8700 manufactured by Keyence Corporation). The measured value was defined as the wear scar width (unit: mm).

相手材(この例ではプレート状の試験台)の摩耗量については、2次元触針式粗さ計を用いて摺動方向に対し直角に摩耗痕断面形状を5か所測定し、予め摺動前の処女面で測定した表面形状とフィッテングさせて摩耗断面積を求め、5か所の摩耗断面積の平均値と往復動のストローク長とを掛け合わせた値を算出し、摩耗量とした。算出した摩耗量を試験荷重及びすべり距離で除して、相手材の比摩耗量(単位;×10-8mm3/Nm)を算出した。 For the amount of wear of the mating material (in this example, a plate-shaped test stand), the cross-sectional shape of the wear scar was measured at five locations at right angles to the sliding direction using a two-dimensional stylus type roughness meter, and then sliding was performed in advance. A wear cross-sectional area was obtained by fitting the surface shape measured on the previous virgin surface, and a value obtained by multiplying the average value of the wear cross-sectional areas at five locations and the stroke length of the reciprocating motion was calculated as the wear amount. The calculated wear amount was divided by the test load and the sliding distance to calculate the specific wear amount of the counterpart material (unit: × 10 −8 mm 3 / Nm).

図3は、実施例及び比較例に関する平均摩擦係数を示すグラフであり、図4は、実施例及び比較例に関する摩耗痕幅及び相手材の比摩耗量を示すグラフである。   FIG. 3 is a graph showing the average friction coefficient regarding the example and the comparative example, and FIG. 4 is a graph showing the wear scar width and the specific wear amount of the counterpart material regarding the example and the comparative example.

比較例に比べて実施例では平均摩擦係数が低下しており、ダイヤモンド微粒子及びPTFE微粒子を均一に分散・共析させることにより、摺動動作での初期なじみ過程において低摩擦となることがわかる。したがって、摺動材の摺動開始時のなじみ運転が改善されて突発的な焼付等の発生を抑えることができる。   Compared with the comparative example, in the example, the average friction coefficient is lowered, and it can be seen that by uniformly dispersing and eutecting the diamond fine particles and PTFE fine particles, the friction becomes low in the initial familiarization process in the sliding operation. Therefore, the familiar operation at the start of sliding of the sliding material is improved, and the occurrence of sudden seizure or the like can be suppressed.

また、比較例に比べて実施例では相手材の比摩耗量が大幅に低下していることから、相手材に対する低攻撃性が大幅に改善され、また摩耗痕幅についても比較例1(硬質クロム被膜)や比較例2(Ni−P被膜)に比べて低下しており、耐摩耗性についても改善していることがわかる。そのため、摺動材がなじみ運転から摩耗の段階に移行した場合に複合めっき被膜及び相手材の摩耗を低減でき、摺動材の長寿命化を図ることができる。   Further, since the specific wear amount of the counterpart material is significantly reduced in the embodiment as compared with the comparative example, the low attacking property against the counterpart material is greatly improved, and the wear scar width is also comparative example 1 (hard chromium). Film) and Comparative Example 2 (Ni-P film), and the wear resistance is also improved. Therefore, when the sliding material shifts from the familiar operation to the wear stage, the wear of the composite plating film and the counterpart material can be reduced, and the life of the sliding material can be extended.

本発明の複合めっき被膜の形成方法は、極めて広範な対象物に対して効率よく複合めっき被膜を形成することができ、例えば、自動車の各種摺動部材、カメラ、時計等の精密機器の駆動部品、金型、特殊印刷技術における金属製のマスク、アイロン等の家電製品全般、特殊な産業用刃物・工具といった広範な用途に適用できる。   The method of forming a composite plating film of the present invention can efficiently form a composite plating film on a very wide range of objects. For example, driving parts for precision equipment such as various sliding members of automobiles, cameras, watches, etc. It can be applied to a wide range of applications such as metal molds, metal masks in special printing technology, general household appliances such as irons, and special industrial blades and tools.

1 試験台
2 試験片
3 ノズル
1 Test stand 2 Test piece 3 Nozzle

Claims (7)

親水性ポリマー又はイオン性官能基が導入された平均粒径10nm〜300nmのダイヤモンド微粒子、平均粒径100nm〜300nmのフッ素樹脂微粒子及び界面活性剤を金属めっき液に添加した複合めっき液を基材表面に接触させて、ダイヤモンド微粒子及びフッ素樹脂微粒子を金属マトリクス中に均一に分散させた複合めっき被膜を形成することを特徴とする複合めっき被膜の形成方法。   The surface of the substrate is a composite plating solution in which a hydrophilic polymer or ionic functional group-introduced diamond fine particles having an average particle size of 10 nm to 300 nm, fluororesin fine particles having an average particle size of 100 nm to 300 nm, and a surfactant are added to the metal plating solution. And forming a composite plating film in which diamond fine particles and fluororesin fine particles are uniformly dispersed in a metal matrix. 前記界面活性剤は、カチオン性界面活性剤、前記金属めっき液のpHにおいてカチオン性を示す両性界面活性剤又は非イオン性界面活性剤であることを特徴とする請求項1に記載の形成方法。   The formation method according to claim 1, wherein the surfactant is a cationic surfactant, an amphoteric surfactant or a nonionic surfactant that exhibits a cationic property at a pH of the metal plating solution. 前記複合めっき液中の界面活性剤の添加量は、ダイヤモンド微粒子を分散させるための界面活性剤を0.5g/リットル〜2g/リットルとするとともにフッ素樹脂微粒子を分散させるための界面活性剤を0.1g/リットル〜0.3g/リットルとすることを特徴とする請求項1又は2に記載の形成方法。   The addition amount of the surfactant in the composite plating solution is such that the surfactant for dispersing the diamond fine particles is 0.5 g / liter to 2 g / liter and the surfactant for dispersing the fluororesin fine particles is 0. The forming method according to claim 1, wherein the forming method is 1 g / liter to 0.3 g / liter. 前記金属めっき液は、ニッケルイオン、コバルトイオン、銅イオン、金イオン、鉄イオン、パラジウムイオン、白金イオン、スズイオン及びロジウムイオンよりなる群から選ばれた1種又は2種以上の金属イオンを含むことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の形成方法。   The metal plating solution contains one or more metal ions selected from the group consisting of nickel ions, cobalt ions, copper ions, gold ions, iron ions, palladium ions, platinum ions, tin ions and rhodium ions. The formation method according to any one of claims 1 to 3. 前記フッ素樹脂微粒子は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、及びエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の形成方法。   The fluororesin fine particles include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), and polyvinylidene fluoride (PVDF). And at least one selected from the group consisting of ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), and ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE). The forming method described in 1. 請求項1から5のいずれかに記載の形成方法により形成された複合めっき被膜を有することを特徴とする摺動材。   A sliding material comprising a composite plating film formed by the forming method according to claim 1. 前記複合めっき被膜は、0.1体積%〜15体積%の前記ダイヤモンド微粒子及び1体積%〜30体積%の前記フッ素樹脂微粒子を含むことを特徴とする請求項6に記載の摺動材。   The sliding material according to claim 6, wherein the composite plating film contains 0.1% by volume to 15% by volume of the diamond fine particles and 1% by volume to 30% by volume of the fluororesin fine particles.
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