JP5603125B2 - Mold, manufacturing method thereof, and optical element and optical device manufacturing method - Google Patents

Mold, manufacturing method thereof, and optical element and optical device manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、成形型及びその製造方法、並びに、光学素子及び光学機器の製造方法に関する。   The present invention relates to a mold and a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing an optical element and an optical apparatus.

従来、ガラス成形体の製造は、板ガラスから切り出したガラスを研磨加工し、ガラス成形体に近似した形状に研磨し、この研磨物を加熱成形することで行われてきた。しかし、レンズ等の光学素子を作製する場合、この方法ではガラス素材の研磨コストが嵩む。そこで、成形型を用いて原料ガラスをプレス成形することにより、レンズ等の光学素子を形成する方法が用いられている。   Conventionally, a glass molded body has been manufactured by polishing glass cut out from plate glass, polishing it into a shape approximate to a glass molded body, and heat-molding the polished product. However, when producing an optical element such as a lens, this method increases the polishing cost of the glass material. Therefore, a method of forming an optical element such as a lens by press-molding the raw glass using a mold is used.

ここで、プレス成形に用いられる成形型の光学ガラスとの反応性を低減し、又は成形型の表面の耐久性を高める等の目的で、成形面に保護膜を設けた成形型が知られている。例えば、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びLuからなる群から選ばれる1種以上の元素を含む保護膜を有する成形型が開示されている(特許文献1参照)。また、保護膜と成形型との中間に、Zr、Ti、V、Cr、Mo、Nb、Pd及びAuからなる群より選ばれた少なくとも一種を含有する中間層を有する成形型が開示されている(特許文献2参照)。   Here, for the purpose of reducing the reactivity of the mold used for press molding with the optical glass or increasing the durability of the surface of the mold, a mold having a protective film on the molding surface is known. Yes. For example, a mold having a protective film containing one or more elements selected from the group consisting of Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu is disclosed. (See Patent Document 1). Further, a mold having an intermediate layer containing at least one selected from the group consisting of Zr, Ti, V, Cr, Mo, Nb, Pd and Au is disclosed between the protective film and the mold. (See Patent Document 2).

特開2009−46320号公報JP 2009-46320 A 特開2007−269511号公報JP 2007-269511 A

しかしながら、特許文献1及び2で開示された成形型を用いてランタン系ガラスをプレス成形する場合、成形されたガラスに割れや曇りが生じ易い。割れや曇りが生じたガラスは、もはや光学素子として用いることができない。そればかりか、ガラスに割れが生じた場合、成形型に残留するガラスの破片を成形型から除去する必要が生じる。   However, when lanthanum-based glass is press-molded using the molds disclosed in Patent Documents 1 and 2, the molded glass is likely to be cracked or cloudy. Glass that is cracked or cloudy can no longer be used as an optical element. In addition, when the glass is cracked, it is necessary to remove glass fragments remaining in the mold from the mold.

本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、特にランタン系ガラスを成形する際に、成形されたガラスに割れや曇りが生じ難い成形型及びその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and the object of the present invention is, in particular, when forming a lanthanum-based glass, a molding die that hardly causes cracking or clouding in the molded glass, and a method for manufacturing the same. Is to provide.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意試験研究を重ねた結果、成形型の成形面上に設ける保護膜のIr及びReの含量の比率を所定の範囲内にすることにより、成形されたガラスに割れや曇りが生じ難くなることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies and studies to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention have made the molding by setting the ratio of the Ir and Re contents of the protective film provided on the molding surface of the molding die within a predetermined range. As a result, it was found that cracking and fogging are less likely to occur in the formed glass, and the present invention has been completed.

(1) 成形面を有する型母材と、前記成形面上に設けられた保護膜と、を備える成形型であって、前記保護膜は、Ir及びReを、Irの含量に対するReの含量のモル比が2.5倍以下になる含量で含有し、前記成形型は、ランタン系ガラスの成形に用いられる成形型。   (1) A mold comprising a mold base material having a molding surface and a protective film provided on the molding surface, wherein the protective film has Ir and Re content of Ir relative to Ir content. The mold is contained in such a content that the molar ratio is 2.5 times or less, and the mold is a mold used for molding lanthanum-based glass.

(2) Irの含量に対するReの含量のモル比は、0.5倍以上である(1)記載の成形型。   (2) The mold according to (1), wherein the molar ratio of the Re content to the Ir content is 0.5 times or more.

(3) 前記保護膜は、Rhを実質的に含有しない(1)又は(2)記載の成形型。   (3) The mold according to (1) or (2), wherein the protective film does not substantially contain Rh.

(4) 型母材の成形面上に、Ir及びReを、Irの含量に対するReの含量のモル比が2.5倍以下になる含量で含有する保護膜を形成する工程を有するランタン系ガラスの成形に用いられる成形型の製造方法。   (4) A lanthanum-based glass having a step of forming a protective film containing Ir and Re in such a content that the molar ratio of the Re content to the Ir content is 2.5 times or less on the molding surface of the mold base material A manufacturing method of a mold used for molding.

(5) Irの含量に対するReの含量のモル比を、0.5倍以上にする(4)記載の成形型の製造方法。   (5) The method for producing a mold according to (4), wherein the molar ratio of the Re content to the Ir content is 0.5 times or more.

(6) 前記保護膜にRhを実質的に含有させない(4)又は(5)記載の成形型の製造方法。   (6) The method for producing a molding die according to (4) or (5), wherein Rh is not substantially contained in the protective film.

(7) (1)から(3)いずれか記載の成形型を用いてランタン系ガラスをプレス成形する工程を有する光学素子の製造方法。   (7) A method for producing an optical element comprising a step of press-molding lanthanum-based glass using the molding die according to any one of (1) to (3).

(8) 前記ランタン系ガラスとして、B成分、La成分及びZnO成分と、Nb成分、Ta成分及びWO成分からなる群より選ばれる1種以上と、を含有するものを用いる(7)記載の光学素子の製造方法。 (8) As the lanthanum-based glass, one or more selected from the group consisting of B 2 O 3 component, La 2 O 3 component and ZnO component, Nb 2 O 5 component, Ta 2 O 5 component and WO 3 component (7) The manufacturing method of the optical element as described in (7) using what contains.

(9) 前記ランタン系ガラスとして、屈折率(nd)が1.75〜1.85及びアッベ数(νd)が35〜45の範囲の光学定数を有し、酸化物基準の質量%で、
SiO成分 0〜20%
成分 10〜30%
La成分 15〜40%
ZrO成分 0〜15%
Nb成分 0〜20%
Ta成分 0〜20%
WO成分 0〜20%
ZnO成分 10〜30%
LiO成分 0〜5%
の各成分を含有し、転移点(Tg)が500〜590℃、屈伏点(At)が530〜630℃であり、950℃、2時間の条件の失透試験にて失透が見られないものを用いる(8)記載の光学素子の製造方法。
(9) As the lanthanum-based glass, the refractive index (nd) has an optical constant in the range of 1.75 to 1.85 and the Abbe number (νd) in the range of 35 to 45;
SiO 2 component 0-20%
B 2 O 3 component 10-30%
La 2 O 3 component 15-40%
ZrO 2 component 0-15%
Nb 2 O 5 component 0-20%
Ta 2 O 5 component 0-20%
WO 3 component 0-20%
ZnO component 10-30%
Li 2 O component 0-5%
The transition point (Tg) is 500 to 590 ° C., the yield point (At) is 530 to 630 ° C., and no devitrification is observed in the devitrification test at 950 ° C. for 2 hours. (8) The manufacturing method of the optical element described in (8).

(10) (1)から(3)いずれか記載の成形型を用いてランタン系ガラスをプレス成形し、得られる光学素子を用いる光学機器の製造方法。   (10) A method for producing an optical instrument using an optical element obtained by press-molding lanthanum-based glass using the molding die according to any one of (1) to (3).

(11) 前記ランタン系ガラスとして、B成分、La成分及びZnO成分と、Nb成分、Ta成分及びWO成分からなる群より選ばれる1種以上と、を含有するものを用いる(10)記載の光学機器の製造方法。 (11) As the lanthanum-based glass, one or more selected from the group consisting of B 2 O 3 component, La 2 O 3 component and ZnO component, Nb 2 O 5 component, Ta 2 O 5 component and WO 3 component (10) The manufacturing method of the optical instrument as described in (10) using what contains.

(12) 前記ランタン系ガラスとして、屈折率(nd)が1.75〜1.85及びアッベ数(νd)が35〜45の範囲の光学定数を有し、酸化物基準の質量%で、
SiO成分 0〜20%
成分 10〜30%
La成分 15〜40%
ZrO成分 0〜15%
Nb成分 0〜20%
Ta成分 0〜20%
WO成分 0〜20%
ZnO成分 10〜30%
LiO成分 0〜5%
の各成分を含有し、転移点(Tg)が500〜590℃、屈伏点(At)が530〜630℃であり、950℃、2時間の条件の失透試験にて失透が見られないものを用いる(11)記載の光学機器の製造方法。
(12) As the lanthanum-based glass, the refractive index (nd) has an optical constant in the range of 1.75 to 1.85 and the Abbe number (νd) in the range of 35 to 45;
SiO 2 component 0-20%
B 2 O 3 component 10-30%
La 2 O 3 component 15-40%
ZrO 2 component 0-15%
Nb 2 O 5 component 0-20%
Ta 2 O 5 component 0-20%
WO 3 component 0-20%
ZnO component 10-30%
Li 2 O component 0-5%
The transition point (Tg) is 500 to 590 ° C., the yield point (At) is 530 to 630 ° C., and no devitrification is observed in the devitrification test at 950 ° C. for 2 hours. (11) The manufacturing method of the optical instrument which uses a thing.

本発明によれば、成形型の成形面上に設ける保護膜のIr及びReの含量の比率を所定の範囲内にすることにより、特にランタン系ガラスを成形する際に、成形されたガラスに割れや傷、曇りが生じ難い成形型及びその製造方法を提供できる。   According to the present invention, when the ratio of the Ir and Re contents of the protective film provided on the molding surface of the mold is within a predetermined range, particularly when the lanthanum glass is molded, the molded glass is cracked. It is possible to provide a mold that hardly causes scratches or clouding and a method for producing the same.

本発明の一実施形態に係る成形型の断面図である。It is sectional drawing of the shaping | molding die which concerns on one Embodiment of this invention.

本発明の成形型は、成形面を有する型母材と、前記成形面上に設けられた保護膜と、を備える成形型であって、前記保護膜は、Ir及びReを、Irの含量に対するReの含量のモル比が2.5倍以下になる含量で含有し、前記成形型は、ランタン系ガラスの成形に用いられる。   The molding die of the present invention is a molding die comprising a mold base material having a molding surface and a protective film provided on the molding surface, wherein the protective film has Ir and Re as to the Ir content. The Re is contained in such a content that the molar ratio of the Re content is 2.5 times or less, and the mold is used for molding lanthanum-based glass.

以下、本発明の成形型及びその製造方法、並びに、光学素子及び光学機器の製造方法について詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。なお、説明が重複する箇所については、適宜説明を省略する場合があるが、発明の趣旨を限定するものではない。   Hereinafter, the molding die of the present invention and the manufacturing method thereof, and the manufacturing method of the optical element and the optical apparatus will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and the object of the present invention Within the range, it can be implemented with appropriate modifications. In addition, although description may be abbreviate | omitted suitably about the location where description overlaps, the meaning of invention is not limited.

<実施形態>
本発明の一実施形態は、ガラスGを押圧する下型20及び上型30を備える成形型10である。図1は、本発明の第1実施形態に係る成形型の断面図である。
<Embodiment>
One embodiment of the present invention is a molding die 10 including a lower die 20 and an upper die 30 that press the glass G. FIG. 1 is a cross-sectional view of a mold according to the first embodiment of the present invention.

〔下型及び上型〕
成形型10は、図1に示すように、下型20及び上型30を有する。このうち、下型20の上側の面は、上側にガラスGが設置される成形面211を有する。また、上型30の下側の面は、下型20の成形面211に対向し、この成形面211に接近及び離隔してガラスGを押圧する成形面311を有する。ここで、下型20は、成形面211を有する型母材21と、成形面211の表面に設けられる保護膜23と、から構成される。また、上型30は、成形面311を有する型母材31と、成形面311の表面に設けられる保護膜33と、から構成される。
[Lower mold and upper mold]
As shown in FIG. 1, the mold 10 includes a lower mold 20 and an upper mold 30. Among these, the upper surface of the lower mold 20 has a molding surface 211 on which the glass G is installed. The lower surface of the upper mold 30 faces the molding surface 211 of the lower mold 20, and has a molding surface 311 that presses the glass G while approaching and separating from the molding surface 211. Here, the lower mold 20 includes a mold base material 21 having a molding surface 211 and a protective film 23 provided on the surface of the molding surface 211. The upper mold 30 includes a mold base material 31 having a molding surface 311 and a protective film 33 provided on the surface of the molding surface 311.

(保護膜)
成形型10に設けられる保護膜23、33は、少なくともIr及びReを、Irの含量に対するReの含量のモル比(Re/Ir)が2.5倍以下になる含量で含有する。これにより、成形されたガラスGへの曇りを生じ難くすることができる。また、高価なReの含量が低減されるため、保護膜23、33の材料コストを低減できる。ここで、Irの含量に対するReの含量のモル比は、2.5倍以下であることが好ましく、2.3倍以下であることがより好ましく、2.2倍以下であることが最も好ましい。
(Protective film)
The protective films 23 and 33 provided in the mold 10 contain at least Ir and Re in such a content that the molar ratio of the Re content to the Ir content (Re / Ir) is 2.5 times or less. As a result, fogging of the molded glass G can be made difficult to occur. In addition, since the expensive Re content is reduced, the material costs of the protective films 23 and 33 can be reduced. Here, the molar ratio of the Re content to the Ir content is preferably 2.5 times or less, more preferably 2.3 times or less, and most preferably 2.2 times or less.

一方で、Irの含量に対するReの含量のモル比(Re/Ir)の下限は、0.5倍であることが好ましい。これにより、成形されたガラスGへの割れや傷を生じ難くすることができる。このとき、ガラスGへの割れや傷を生じ難くできる理由は、下型20及び上型30によって押圧されたガラスGを冷却する際に、ガラスGと保護膜23、33の間の熱膨張率差に起因してこれらの間に摩擦が生じたとしても、摩擦によってガラスGの表面に生じる応力が低減されるためであると推察される。また、保護膜23、33の機械的強度が高められるため、この成形型10を繰返してガラスGの成形に用いたとしても、成形されるガラスGを高精度で所望の表面状態にすることができる。すなわち、特にガラスGの成形された面を光学素子の光学面として用いる成形方法(精密プレス成形)で光学素子を量産する場合にも、この成形型10を好ましく用いることができる。ここで、Irの含量に対するReの含量のモル比は、0.6倍以上であることがより好ましく、0.65倍以上であることが最も好ましい。   On the other hand, the lower limit of the molar ratio of the Re content to the Ir content (Re / Ir) is preferably 0.5 times. Thereby, it can be made hard to produce the crack and damage | wound to the shape | molded glass G. FIG. At this time, the reason why it is difficult to cause cracks and scratches on the glass G is that when the glass G pressed by the lower mold 20 and the upper mold 30 is cooled, the coefficient of thermal expansion between the glass G and the protective films 23 and 33. Even if friction occurs between them due to the difference, it is assumed that the stress generated on the surface of the glass G due to the friction is reduced. Further, since the mechanical strength of the protective films 23 and 33 is increased, even if the mold 10 is repeatedly used for molding the glass G, the glass G to be molded can be brought into a desired surface state with high accuracy. it can. That is, the mold 10 can be preferably used particularly when mass-producing optical elements by a molding method (precision press molding) in which the glass G-shaped surface is used as the optical surface of the optical element. Here, the molar ratio of the Re content to the Ir content is more preferably 0.6 times or more, and most preferably 0.65 times or more.

このほか、保護膜23、33は、耐熱性及び/又は化学的耐久性を高めるために、例えばOs、Pd、Pt、Au、Ru、Ta及びWからなる群より選択される1種以上を含有してもよい。これらの金属とIr及びReを合わせた含有量の合計は、モル分率で60%以上が好ましく、80%以上がより好ましく、99%より多いことが最も好ましい。これにより、保護膜23、33の耐熱性及び化学的耐久性が高められるため、保護膜23、33の長寿命化を図ることができる。   In addition, the protective films 23 and 33 contain at least one selected from the group consisting of Os, Pd, Pt, Au, Ru, Ta, and W, for example, in order to improve heat resistance and / or chemical durability. May be. The total content of these metals and Ir and Re is preferably 60% or more, more preferably 80% or more, and most preferably more than 99% in terms of molar fraction. Thereby, since the heat resistance and chemical durability of the protective films 23 and 33 are improved, the lifetime of the protective films 23 and 33 can be extended.

上記以外の成分も、保護膜23、33の特性を損なわない範囲で必要に応じて添加してもよい。但し、保護膜23、33は、Rhを実質的に含有しないことが好ましい。これにより、成形されたガラスGへの割れや傷をより生じ難くすることができる。これは、保護膜23、33とガラスGとの間に生じる摩擦がより低減され易くなるためであると推察される。   Components other than those described above may be added as necessary as long as the characteristics of the protective films 23 and 33 are not impaired. However, it is preferable that the protective films 23 and 33 do not substantially contain Rh. Thereby, the crack and damage | wound to the shape | molded glass G can be made hard to produce more. This is presumably because the friction generated between the protective films 23 and 33 and the glass G is more easily reduced.

保護膜23、33の厚さは、保護膜の組成や機械的強度に応じて適宜設定されるが、平均して50nm以上であることが好ましく、100nm以上であることがより好ましく、200nm以上であることが最も好ましい。これにより、ガラスへの傷や割れを生じ難くすることができる。これは、保護膜23、33の形成が不十分な領域によるガラスとの摩擦が低減されるためであると推察される。それとともに、Irの含量に対するReの含量のモル比が所望の範囲内にある膜が剥離し難くなると推察されるため、成形されたガラスGへの曇りをより生じ難くすることができる。一方、保護膜23、33の厚さは、3000nm以下であることが好ましく、1500nm以下であることがより好ましく、1000nm以下であることが最も好ましい。これにより、保護膜23、33の形成に要する貴金属の量が低減されるため、保護膜23、33の材料コストを低減できる。   The thickness of the protective films 23 and 33 is appropriately set according to the composition and mechanical strength of the protective film, but is preferably 50 nm or more on average, more preferably 100 nm or more, and 200 nm or more. Most preferably it is. Thereby, it is hard to produce the damage | wound and a crack to glass. This is presumably because the friction with the glass due to the area where the protective films 23 and 33 are insufficiently formed is reduced. At the same time, it is presumed that a film having a molar ratio of the Re content to the Ir content within a desired range is less likely to be peeled off, so that the fogging of the molded glass G can be made more difficult to occur. On the other hand, the thickness of the protective films 23 and 33 is preferably 3000 nm or less, more preferably 1500 nm or less, and most preferably 1000 nm or less. Thereby, since the amount of noble metal required for forming the protective films 23 and 33 is reduced, the material cost of the protective films 23 and 33 can be reduced.

(型母材)
下型20及び上型30の型母材21、31は、保護膜23、33の形成された成形面211、311を有する。ここで、型母材21、31の材質は、ガラスGの硬さやガラス転移点(Tg)等に応じて適宜設定されるが、その熱膨張係数が、保護膜23、33の熱膨張係数と略等しい材質であることが好ましい。これにより、保護膜23、33の形成された型母材21、31を加熱及び冷却した際に、保護膜23、33が型母材21、31から剥離し難くなる。そのため、保護膜23、33の長寿命化を図ることができる。なお、保護膜23、33は、成形面211、311を覆うように設けられていればよく、必ずしも下型20及び上型30が当接する当接面213、313に設けられている必要はない。
(Mold base material)
The mold base materials 21 and 31 of the lower mold 20 and the upper mold 30 have molding surfaces 211 and 311 on which protective films 23 and 33 are formed. Here, although the materials of the mold base materials 21 and 31 are appropriately set according to the hardness of the glass G, the glass transition point (Tg), etc., the thermal expansion coefficient is the same as the thermal expansion coefficient of the protective films 23 and 33. It is preferable that the materials are substantially equal. Accordingly, when the mold base materials 21 and 31 on which the protective films 23 and 33 are formed are heated and cooled, the protective films 23 and 33 are hardly separated from the mold base materials 21 and 31. Therefore, the lifetime of the protective films 23 and 33 can be increased. The protective films 23 and 33 may be provided so as to cover the molding surfaces 211 and 311, and are not necessarily provided on the contact surfaces 213 and 313 on which the lower mold 20 and the upper mold 30 are in contact. .

一方で、型母材21、31は、熱膨張係数がガラスGの熱膨張係数以下であるような材質であることが好ましい。これにより、ガラスGをプレスした後で冷却する際に、型母材21、31がガラスGに比べて収縮し難くなる。そのため、ガラスGへの傷や割れをより低減でき、且つ、保護膜23、33の剥離や型母材21、31の破損を低減して成形型10の長寿命化を図ることができる。これは、ガラスGから型母材21、31に向かって作用する応力が低減されるためであると推測される。   On the other hand, the mold base materials 21 and 31 are preferably made of a material having a thermal expansion coefficient equal to or lower than that of the glass G. Accordingly, when the glass G is cooled after being pressed, the mold base materials 21 and 31 are less likely to shrink than the glass G. Therefore, scratches and cracks on the glass G can be further reduced, and peeling of the protective films 23 and 33 and breakage of the mold base materials 21 and 31 can be reduced to extend the life of the mold 10. This is presumably because the stress acting from the glass G toward the mold base materials 21 and 31 is reduced.

このような部材として、例えばタングステンカーバイト(WC)やシリコンカーバイト(SiC)等の超硬部材を用いることができる。これにより、型母材21、31に傷が入り難くなるため、特にガラスGの成形面を光学素子の光学面として用いるような場合(精密プレス成形)であっても、ガラスGに高精度で所望の表面状態をもたらすことができる。また、ガラスGを押圧する際の大きな圧力に耐えられるため、型母材21、31の長寿命化を図ることができる。   As such a member, for example, a carbide member such as tungsten carbide (WC) or silicon carbide (SiC) can be used. As a result, the mold base materials 21 and 31 are less likely to be scratched. Therefore, even when the molding surface of the glass G is used as the optical surface of the optical element (precision press molding), the glass G is highly accurate. The desired surface condition can be brought about. Moreover, since it can endure the large pressure at the time of pressing the glass G, the lifetime of the type | mold base materials 21 and 31 can be achieved.

なお、型母材21、31やその成形面211、311の形状は、押圧により作製されるガラス成形体の形状に応じて適宜設定される。   The shapes of the mold base materials 21 and 31 and the molding surfaces 211 and 311 are appropriately set according to the shape of the glass molded body produced by pressing.

(中間膜)
保護膜23、33と型母材21、31との間には、図示しない中間膜を設けてもよい。これにより、保護膜23、33が剥離した場合にも型母材21、31が露出し難くなる。そのため、型母材21、31の成形面211、311への傷を低減でき、型母材21、31の長寿命化を図ることができる。また、保護膜23、33と型母材21、31とが直接接触しなくなるため、密着強度が弱くなるような保護膜23、33と型母材21、31の組み合わせであっても、保護膜23、33の剥離を低減できる。ここで、保護膜23、33は、中間膜の外側にある最外膜(すなわち、ガラスGと直接接触する膜)を指す。
(Interlayer film)
An intermediate film (not shown) may be provided between the protective films 23 and 33 and the mold base materials 21 and 31. This makes it difficult to expose the mold base materials 21 and 31 even when the protective films 23 and 33 are peeled off. Therefore, scratches on the molding surfaces 211 and 311 of the mold base materials 21 and 31 can be reduced, and the life of the mold base materials 21 and 31 can be extended. Further, since the protective films 23 and 33 and the mold base materials 21 and 31 are not in direct contact with each other, even if the protective films 23 and 33 and the mold base materials 21 and 31 are combined in such a manner that the adhesion strength is weakened, the protective film The peeling of 23 and 33 can be reduced. Here, the protective films 23 and 33 indicate the outermost film (that is, the film that is in direct contact with the glass G) outside the intermediate film.

なお、本発明の中間膜は、単独の膜であってもよく、複数の膜であってもよい。特に、中間膜を複数の膜で形成することにより、成形面211、311への傷をより低減でき、且つより幅広い保護膜23、33と型母材21、31の組み合わせを用いることができる。   The intermediate film of the present invention may be a single film or a plurality of films. In particular, by forming the intermediate film with a plurality of films, scratches on the molding surfaces 211 and 311 can be further reduced, and a wider combination of the protective films 23 and 33 and the mold base materials 21 and 31 can be used.

〔胴型〕
成形型10は、下型20及び上型30の一部と当接し且つこれらの側面を包囲するように、図示しない胴型を有してもよい。これにより、下型20及び上型30の接近及び離隔の軌道が規定されるので、成形面211と成形面311との位置関係を一定に保つことができる。従って、所望の形状を有するガラスGの成形体を安定的に作製できる。
[Body type]
The molding die 10 may have a barrel die (not shown) so as to abut against a part of the lower die 20 and the upper die 30 and surround these side surfaces. Thereby, since the orbit of the approach and separation of the lower mold 20 and the upper mold 30 is defined, the positional relationship between the molding surface 211 and the molding surface 311 can be kept constant. Accordingly, a glass G molded body having a desired shape can be stably produced.

胴型の材質は、ガラスGを押圧する際の熱に耐え且つ変形し難い材質であれば特に限定されないが、熱伝導率の低い材料で形成することが好ましい。これにより、成型工程における熱効率を高めることができる。このような部材として、例えばタングステンカーバイト(WC)やシリコンカーバイト(SiC)等の超硬部材を用いることができる。これにより、胴型に傷が入り難くなるため、所望の形状を有するガラスGの成形体を、より安定的に作製できる。   The material of the body mold is not particularly limited as long as it is a material that can withstand the heat when the glass G is pressed and is not easily deformed, but it is preferably formed of a material having low thermal conductivity. Thereby, the thermal efficiency in a shaping | molding process can be improved. As such a member, for example, a carbide member such as tungsten carbide (WC) or silicon carbide (SiC) can be used. Thereby, since it becomes difficult to make a damage | wound into a trunk mold, the molded object of the glass G which has a desired shape can be produced more stably.

〔成形型の製造方法〕
成形型の製造方法は、型母材21、31の成形面211、311上に、Ir及びReを、Irの含量に対するReの含量のモル比が2.5倍以下になる含量で含有する保護膜23、33を形成する工程を有する。
[Method of manufacturing mold]
The manufacturing method of a shaping | molding die is the protection which contains Ir and Re on the molding surfaces 211 and 311 of the mold base materials 21 and 31 so that the molar ratio of the Re content to the Ir content is 2.5 times or less. A step of forming the films 23 and 33;

保護膜23、33を形成する手段は、薄膜状の金属含有膜を形成できる手段の中から適宜選択されるが、DCスパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法等のプラズマを用いた物理蒸着の手段を用いることが好ましい。このような物理蒸着では、プラズマによって保護膜の材料の微粒子が形成されるため、特にIr(沸点4428℃)やRe(沸点5596℃)のように融点及び沸点の高い金属に他の沸点の低い金属を加えるような場合であっても、所望の組成の金属膜を形成することができる。   The means for forming the protective films 23 and 33 is appropriately selected from means capable of forming a thin metal-containing film. Physical vapor deposition using plasma such as DC sputtering, magnetron sputtering, and ion plating. It is preferable to use these means. In such physical vapor deposition, fine particles of the material of the protective film are formed by plasma, so that metals having a high melting point and a high boiling point, such as Ir (boiling point 4428 ° C.) and Re (boiling point 5596 ° C.), have other low boiling points. Even when a metal is added, a metal film having a desired composition can be formed.

このとき、形成される保護膜23、33のIrの含量に対するReの含量のモル比が2.5倍以下になるように、より好ましくは0.5倍以上2.5倍以下の範囲内になるように、Ir及びReの原料からの供給量を調整する。   At this time, the molar ratio of the Re content to the Ir content of the protective films 23 and 33 to be formed is 2.5 times or less, more preferably within a range of 0.5 times to 2.5 times. Thus, the supply amounts of Ir and Re from the raw materials are adjusted.

ここで、物理蒸着の手段を用いる場合、Irの含量に対するReの含量のモル比を調整する手段は、Ir、Re等の原料を粉末化して保護膜23、33の組成に近い組成のターゲットを形成してスパッタ装置内に配置し、このターゲットに向けて放電を行ってプラズマを発生させてもよい。これにより、1回プラズマを発生させるだけで保護膜23、33の組成に近い組成の微粒子が発生するため、プラズマを発生させる回数及び保護膜23、33の厚さを低減できることで、保護膜23、33の生産コストを低減できる。   Here, when the physical vapor deposition means is used, the means for adjusting the molar ratio of the Re content to the Ir content is to pulverize the raw materials such as Ir and Re to form a target having a composition close to the composition of the protective films 23 and 33. It may be formed and placed in a sputtering apparatus, and plasma may be generated by discharging toward this target. As a result, fine particles having a composition close to the composition of the protective films 23 and 33 are generated only by generating plasma once. Therefore, the number of times the plasma is generated and the thickness of the protective films 23 and 33 can be reduced. , 33 production costs can be reduced.

また、Irの含量に対するReの含量のモル比を調整する手段として、Ir、Re等の原料をそのままターゲットとして各々スパッタ装置内に配置し、これらのターゲットの各々に向けて放電を行ってプラズマを発生させてもよい。このとき、成膜する保護膜23、33の各成分の含有量に応じて、放電に用いる電源のパルス幅及び/又は印加電圧を調整しながら、各ターゲットに向けて放電することが好ましい。これにより、電源のパルス幅及び印加電圧に応じた量の原料の微粒子がターゲットから発生するため、保護膜23、33に含まれる各成分の含有量をスパッタ装置内で微調整することが可能になる。   Further, as a means for adjusting the molar ratio of the Re content to the Ir content, raw materials such as Ir and Re are arranged as targets in the respective sputtering apparatuses, and discharge is performed toward each of these targets to generate plasma. It may be generated. At this time, it is preferable to discharge toward each target while adjusting the pulse width and / or applied voltage of the power source used for discharge according to the content of each component of the protective films 23 and 33 to be formed. As a result, the amount of raw material fine particles corresponding to the pulse width of the power supply and the applied voltage is generated from the target, so that the content of each component contained in the protective films 23 and 33 can be finely adjusted in the sputtering apparatus. Become.

ここで、保護膜23、33を形成する際、保護膜23、33は成形面211、311の全面を覆うようにする。これにより、成形されるガラスGに生じる傷を低減できる。これは、保護膜23、33によって、成形面211、311の全面でガラスGとの摩擦が小さくなるためであると推察される。   Here, when forming the protective films 23 and 33, the protective films 23 and 33 cover the entire molding surfaces 211 and 311. Thereby, the damage | wound which arises in the glass G shape | molded can be reduced. This is presumably because the protective films 23 and 33 reduce friction with the glass G over the entire molding surfaces 211 and 311.

なお、保護膜23、33は、成形面211、311を覆うように形成すればよく、必ずしも下型20及び上型30が当接する当接面213、313に形成する必要はない。しかしながら、成形面211、311のみならず当接面213、313をも覆うように保護膜23、33を形成することにより、下型20及び上型30が当接する際の型母材21、31への傷が低減されるため、成形されるガラスGの寸法精度を高めつつ、型母材21、31の長寿命化を図ることができる。   The protective films 23 and 33 may be formed so as to cover the molding surfaces 211 and 311, and are not necessarily formed on the contact surfaces 213 and 313 on which the lower mold 20 and the upper mold 30 are in contact. However, by forming the protective films 23 and 33 so as to cover not only the molding surfaces 211 and 311 but also the contact surfaces 213 and 313, the mold base materials 21 and 31 when the lower mold 20 and the upper mold 30 are in contact with each other. Since the scratches on the mold are reduced, the dimensional accuracy of the glass G to be molded can be improved, and the lifetime of the mold base materials 21 and 31 can be extended.

〔光学素子の作製〕
この成形型10を用いて、ガラスGをプレスして光学素子を製造する。ここで用いるプレス成形装置は、ガラスGを加熱してプレス成形することが可能な装置である限り特に限定されないが、例えば成形型10の下型11及び上型12の間にガラスGを供給する機構と、成形型10に供給されたガラスGを加熱して軟化する機構と、軟化したガラスGを押圧する機構と、押圧したガラスGを冷却する機構と、を備えたプレス成形装置を用いることが好ましい。これにより、ガラスGが軟化した後で押圧され、その後冷却されるため、ガラスGの成形を円滑に行うことができ、例えば光学素子の生産性を高めることができる。
[Production of optical elements]
Using this mold 10, the glass G is pressed to produce an optical element. The press molding apparatus used here is not particularly limited as long as it is an apparatus capable of heating and molding glass G. For example, glass G is supplied between lower mold 11 and upper mold 12 of mold 10. Use a press molding apparatus including a mechanism, a mechanism for heating and softening the glass G supplied to the mold 10, a mechanism for pressing the softened glass G, and a mechanism for cooling the pressed glass G. Is preferred. Thereby, after the glass G is softened, it is pressed and then cooled, so that the glass G can be molded smoothly, and for example, the productivity of the optical element can be increased.

成形型10に供給するガラスGは、少なくともランタン系ガラスを用いることができる。ランタン系ガラスは、高屈折率(屈折率(nd)=1.75〜1.85)及び比較的低い分散(アッベ数(νd)=35〜45)を有するため、カメラ用のレンズやプロジェクタ用のミラー及びプリズム等の光学素子に好ましく用いられるガラスであるが、プレス成形時に割れ易く、傷が入り易く、且つ成形後のガラスに曇りが生じ易い欠点があった。この点、ランタン系ガラスの成形型10として用いることにより、ガラスGに生じる割れや傷、曇りを低減することができる。このとき、特にガラスGへの割れや傷を生じ難くできる理由は、下型20及び上型30によって押圧されたガラスGを冷却する際に、ガラスGと保護膜23、33の間の熱膨張率差に起因してこれらの間に摩擦が生じたとしても、摩擦によってガラスGの表面に生じる応力が低減されるためであると推察される。   As the glass G to be supplied to the mold 10, at least lanthanum-based glass can be used. Lanthanum-based glass has a high refractive index (refractive index (nd) = 1.75 to 1.85) and relatively low dispersion (Abbe number (νd) = 35 to 45). The glass is preferably used for optical elements such as mirrors and prisms, but has the disadvantages that it is easily broken during press molding, easily scratched, and the glass after molding is likely to be fogged. In this respect, the use of the lanthanum-based glass mold 10 can reduce cracks, scratches, and fogging that occur in the glass G. At this time, the reason why it is difficult to cause cracks and scratches on the glass G in particular is that when the glass G pressed by the lower mold 20 and the upper mold 30 is cooled, the thermal expansion between the glass G and the protective films 23 and 33 is performed. Even if friction occurs between them due to the difference in rate, it is assumed that the stress generated on the surface of the glass G due to the friction is reduced.

ここで、ガラスGとして用いられるランタン系ガラスは、B成分、La成分及びZnO成分と、Nb成分、Ta成分及びWO成分からなる群より選ばれる1種以上と、を含有するものを用いることが好ましい。これにより、ガラスGの安定性が高められることで、プレス成形時におけるガラス成分の結晶化による失透が低減される。そのため、保護膜23、33への傷の形成を低減でき、保護膜23、33の長寿命化を図ることができる。これは、失透したガラスGの結晶化された部分と保護膜23、33との接触による傷の形成が低減されるためであると推察される。 Here, the lanthanum-based glass used as the glass G is selected from the group consisting of B 2 O 3 component, La 2 O 3 component and ZnO component, Nb 2 O 5 component, Ta 2 O 5 component and WO 3 component. It is preferable to use one containing at least one kind. Thereby, the devitrification by the crystallization of the glass component at the time of press molding is reduced by improving the stability of the glass G. Therefore, the formation of scratches on the protective films 23 and 33 can be reduced, and the life of the protective films 23 and 33 can be extended. This is presumably because the formation of scratches due to the contact between the crystallized portion of the devitrified glass G and the protective films 23 and 33 is reduced.

より具体的には、ランタン系ガラスの組成は、酸化物基準の質量%で、以下の範囲内にあることが好ましい。
(好ましい範囲)
SiO成分 0〜20%
成分 10〜30%
La成分 15〜40%
ZrO成分 0〜15%
Nb成分 0〜20%
Ta成分 0〜20%
WO成分 0〜20%
ZnO成分 10〜30%
LiO成分 0〜5%
More specifically, the composition of the lanthanum-based glass is preferably in the following range in terms of mass% based on the oxide.
(Preferred range)
SiO 2 component 0-20%
B 2 O 3 component 10-30%
La 2 O 3 component 15-40%
ZrO 2 component 0-15%
Nb 2 O 5 component 0-20%
Ta 2 O 5 component 0-20%
WO 3 component 0-20%
ZnO component 10-30%
Li 2 O component 0-5%

(より好ましい範囲)
SiO成分 1〜15%
成分 13〜27%
La成分 20〜40%
ZrO成分 1〜15%
Nb成分 1〜17%
Ta成分 1〜15%
WO成分 1〜15%
ZnO成分 12〜30%
LiO成分 0.1〜5%
(More preferable range)
SiO 2 component 1-15%
B 2 O 3 component 13-27%
La 2 O 3 component 20-40%
ZrO 2 component 1-15%
Nb 2 O 5 component 1-17%
Ta 2 O 5 component 1-15%
WO 3 component 1-15%
ZnO component 12-30%
Li 2 O component 0.1-5%

(最も好ましい範囲)
SiO成分 1〜7.5%
成分 15.5〜25%
ただし、SiO成分+B成分 16.5〜30%未満
La成分 25〜40%
ZrO成分 1.5〜10%
Nb成分 1〜15%
Ta成分 1〜10%
WO成分 1〜10%
ZnO成分 15.5〜30%
LiO成分 0.6〜5%
(Most preferred range)
SiO 2 component 1-7.5%
B 2 O 3 component 15.5-25%
However, SiO 2 component + B 2 O 3 component 16.5 to less than 30% La 2 O 3 component 25 to 40%
ZrO 2 component 1.5-10%
Nb 2 O 5 component 1-15%
Ta 2 O 5 component 1-10%
WO 3 components 1-10%
ZnO component 15.5-30%
Li 2 O component 0.6-5%

ここで、「酸化物換算組成」とは、本発明のガラス構成成分の原料として使用される酸化物、複合塩、金属弗化物等が溶融時に全て分解され酸化物へ変化すると仮定した場合に、当該生成酸化物の総質量を100質量%として、ガラス中に含有される各成分を表記した組成である。   Here, the “oxide equivalent composition” means that the oxide, composite salt, metal fluoride, etc. used as the raw material of the glass component of the present invention are all decomposed and changed into oxides when melted. It is the composition which described each component contained in glass by making the total mass of the said production | generation oxide into 100 mass%.

上記の各成分の他に、ランタン系ガラスには他の成分(例えば、GeO成分、TiO成分、Al成分、MgO成分、CaO成分、SrO成分、BaO成分、Sb成分等)を、ガラスに求められる特性を損なわない範囲で必要に応じて添加できる。但し、PbO成分は、環境上の影響を低減する観点から、不可避な混入を除いて実質的に含有しないことが好ましい。 In addition to the above components, the lanthanum-based glass has other components (for example, GeO 2 component, TiO 2 component, Al 2 O 3 component, MgO component, CaO component, SrO component, BaO component, Sb 2 O 3 component). Etc.) can be added as necessary within the range not impairing the properties required of the glass. However, it is preferable that the PbO component is not substantially contained except for inevitable mixing, from the viewpoint of reducing environmental influences.

このランタン系ガラスとして、転移点(Tg)が500℃以上のものを用いることが好ましい。このようなランタン系ガラスは、必然的にプレス成形温度が高く、成形後のガラスGには割れや傷、曇りが生じ易い。この点、上述の成形型10で転移点(Tg)が500℃以上のランタン系ガラスを用いることで、成形時にガラスGを割れ難くし、成形後のガラスGに傷や曇りを生じ難くできる。このとき、特にガラスGへの割れや傷を生じ難くできる理由は、プレス成形温度が高まって加熱時及び冷却時のガラスGの膨張量及び収縮量が大きくなっても、ガラスGと保護膜23、33との摩擦によってガラスGの表面に生じる応力が低減されるためであると推察される。従って、このランタン系ガラスの転移点(Tg)は、好ましくは500℃、より好ましくは510℃、最も好ましくは520℃を下限とする。   As this lanthanum-based glass, a glass having a transition point (Tg) of 500 ° C. or higher is preferably used. Such a lanthanum-based glass inevitably has a high press molding temperature, and the glass G after molding is likely to be cracked, scratched or fogged. In this respect, by using the lanthanum glass having a transition point (Tg) of 500 ° C. or higher in the above-described mold 10, it is possible to make the glass G difficult to break at the time of molding, and to make the glass G after molding difficult to be scratched or clouded. At this time, the reason why cracks and scratches on the glass G can be made difficult is that the glass G and the protective film 23 even when the press molding temperature increases and the amount of expansion and contraction of the glass G during heating and cooling increases. This is presumably because the stress generated on the surface of the glass G is reduced by the friction with. Therefore, the transition point (Tg) of this lanthanum-based glass is preferably 500 ° C, more preferably 510 ° C, and most preferably 520 ° C.

一方で、このランタン系ガラスとして、転移点(Tg)が590℃以下のものを用いることが好ましい。これにより、ガラスGをより低温で加熱した場合にも、ガラスGがプレス成形に耐えうる程度の粘度に軟化する。そのため、プレス後の冷却時における成形型10及びガラスGの収縮量を低減できることで、成形によるガラスGへの割れや傷、曇りをより低減することができる。また、保護膜23、33の酸化を低減して保護膜23、33の長寿命化を図ることもできる。従って、このランタン系ガラスの転移点(Tg)は、好ましくは590℃、より好ましくは580℃、最も好ましくは570℃を上限とする。   On the other hand, it is preferable to use a lanthanum glass having a transition point (Tg) of 590 ° C. or lower. Thereby, even when the glass G is heated at a lower temperature, the glass G softens to a viscosity that can withstand press molding. Therefore, the shrinkage | contraction amount of the shaping | molding die 10 and the glass G at the time of cooling after a press can be reduced, and the crack, damage | wound, and cloudiness to the glass G by shaping | molding can be reduced more. Further, the oxidation of the protective films 23 and 33 can be reduced, and the life of the protective films 23 and 33 can be extended. Therefore, the upper limit of the transition point (Tg) of the lanthanum-based glass is preferably 590 ° C, more preferably 580 ° C, and most preferably 570 ° C.

また、このランタン系ガラスとして、屈伏点(At)が530℃以上のものを用いることが好ましい。このようなランタン系ガラスは、必然的にプレス成形温度が高く、成形後のガラスGには割れや傷、曇りが生じ易い。この点、上述の成形型10で屈伏点(At)が530℃以上のランタン系ガラスを用いることで、成形時にガラスGを割れ難くし、成形後のガラスGに傷や曇りを生じ難くできる。従って、このランタン系ガラスの屈伏点(At)は、好ましくは530℃、より好ましくは540℃、最も好ましくは550℃を下限とする。   Moreover, it is preferable to use a lanthanum-based glass having a yield point (At) of 530 ° C. or higher. Such a lanthanum-based glass inevitably has a high press molding temperature, and the glass G after molding is likely to be cracked, scratched or fogged. In this regard, by using the lanthanum glass having a yield point (At) of 530 ° C. or higher in the above-described mold 10, it is possible to make the glass G difficult to break at the time of molding, and to make the glass G after molding difficult to be scratched or clouded. Accordingly, the lower limit of the yield point (At) of this lanthanum-based glass is preferably 530 ° C., more preferably 540 ° C., and most preferably 550 ° C.

一方で、このランタン系ガラスとして、屈伏点(At)が630℃以下のものを用いることが好ましい。これにより、ガラスGの成形温度をより低くできる。また、ガラスGをより低温で加熱した場合にも、ガラスGをより少ない押圧力で所望の形状にプレス成形できる。そのため、成形型10の当接面213、313への傷の形成を低減できることで、成形型10の長寿命化を図ることができる。従って、このランタン系ガラスの屈伏点(At)は、好ましくは630℃、より好ましくは620℃、最も好ましくは610℃を上限とする。   On the other hand, it is preferable to use a lanthanum-based glass having a yield point (At) of 630 ° C. or lower. Thereby, the shaping | molding temperature of glass G can be made lower. Even when the glass G is heated at a lower temperature, the glass G can be press-formed into a desired shape with a smaller pressing force. Therefore, since the formation of scratches on the contact surfaces 213 and 313 of the mold 10 can be reduced, the life of the mold 10 can be extended. Therefore, the yield point (At) of this lanthanum-based glass is preferably 630 ° C, more preferably 620 ° C, and most preferably 610 ° C.

また、このランタン系ガラスとして、950℃、2時間の条件の失透試験にて失透が見られないものを用いることが好ましい。これにより、プレス成形時におけるガラス成分の結晶化による失透が低減され易くなる。そのため、保護膜23、33への傷の形成を低減でき、保護膜23、33の長寿命化を図ることができる。これは、失透したガラスGの結晶化された部分と保護膜23、33との接触による傷の形成が低減されるためであると推察される。   Moreover, it is preferable to use the lanthanum glass that does not show devitrification in a devitrification test at 950 ° C. for 2 hours. Thereby, the devitrification due to crystallization of the glass component at the time of press molding is easily reduced. Therefore, the formation of scratches on the protective films 23 and 33 can be reduced, and the life of the protective films 23 and 33 can be extended. This is presumably because the formation of scratches due to the contact between the crystallized portion of the devitrified glass G and the protective films 23 and 33 is reduced.

なお、本発明で用いられるガラスGは、上述のガラスを含めたより幅広い組成範囲及び特性範囲のガラスのプレス成形に好ましく対応できる。   In addition, the glass G used by this invention can respond | correspond favorably to the press molding of the glass of the wider composition range and characteristic range containing the above-mentioned glass.

ランタン系ガラスをプレス成形する際に加熱する温度は、ランタン系ガラスの転移点(Tg)や屈伏点(At)等に応じて適宜設定されるが、例えば(At+0)℃以上であることが好ましく、(At+5)℃以上であることがより好ましく、(At+10)℃以上であることが最も好ましい。これにより、ガラスGがプレス成形に耐えうる程度の粘度に軟化し易くなる。そのため、保護膜23、33の型母材21、31からの剥離を低減して保護膜23、33の長寿命化を図ることができる。これは、ガラスGを押圧する際の保護膜23、33への応力が低減されるためであると推察される。一方で、ランタン系ガラスをプレス成形する温度は、例えば750℃以下であることが好ましく、700℃以下であることがより好ましく、650℃以下であることが最も好ましい。これにより、保護膜23、33の酸化が低減されるため、保護膜23、33の長寿命化を図ることができる。   The temperature to be heated when the lanthanum-based glass is press-molded is appropriately set according to the transition point (Tg), yield point (At), etc. of the lanthanum-based glass, and is preferably, for example, (At + 0) ° C. or higher. , (At + 5) ° C. or higher is more preferable, and (At + 10) ° C. or higher is most preferable. Thereby, the glass G is easily softened to a viscosity that can withstand press molding. Therefore, peeling of the protective films 23 and 33 from the mold base materials 21 and 31 can be reduced, and the life of the protective films 23 and 33 can be extended. This is presumably because the stress on the protective films 23 and 33 when the glass G is pressed is reduced. On the other hand, the temperature for press-molding the lanthanum-based glass is preferably, for example, 750 ° C. or less, more preferably 700 ° C. or less, and most preferably 650 ° C. or less. Thereby, since oxidation of the protective films 23 and 33 is reduced, the life of the protective films 23 and 33 can be extended.

[光学機器の作製]
この方法によって、レンズやプリズム等の光学素子が作製される。また、この光学素子を用いて、カメラやプロジェクタ等の光学機器を製造することも好ましい。これにより、ガラスGのプレス成形による割れや傷、曇りが低減されるため、光学素子及び光学機器の信頼性を高めつつ、これらの生産効率を高めることができる。
[Production of optical equipment]
By this method, optical elements such as lenses and prisms are produced. It is also preferable to manufacture an optical device such as a camera or a projector using this optical element. Thereby, since cracks, scratches, and fogging due to press molding of the glass G are reduced, it is possible to increase the production efficiency of these elements while improving the reliability of the optical elements and optical devices.

以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail using an Example, this invention is not limited to a following example.

(実施例1)
成形型の型母材として、各々直径15.0mm、高さ12.5mmのWCからなる下型用母材及び上型用母材を用いた。ここで、下型用母材の上側の面と上型用母材の下側の面には、互いに対向するように成形面を形成した。この成形面は、内径15.0mmの円筒形状の胴型を下型用母材に嵌め込み、上型用母材をこの胴型に嵌め込んだ状態で、下型用母材の上側の面と上型用母材の下側の面とを対向させつつ接触させたときに、直径12mm、高さ2.5mmの略扁球面形状の空隙が形成されるように形成した。
Example 1
As the mold base material of the mold, a lower mold base material and an upper mold base material each made of WC having a diameter of 15.0 mm and a height of 12.5 mm were used. Here, a molding surface was formed on the upper surface of the lower mold base material and the lower surface of the upper mold base material so as to face each other. The molding surface is formed by fitting a cylindrical body mold having an inner diameter of 15.0 mm into the lower mold base material, and an upper surface of the lower mold base material with the upper mold base material fitted into the body mold. When the upper die base material was brought into contact with the lower surface while facing each other, a substantially oblong spherical void having a diameter of 12 mm and a height of 2.5 mm was formed.

ここで、下型用母材の上側の面と上型用母材の下側の面の全面に、Ir:50%、Re:50%を含有する、厚さ200nmの保護膜を形成し、下型及び上型を形成した(Re/Ir=1.0)。ここで、保護膜の形成は、DCスパッタリング装置(型番:E−400S、キヤノンアネルバ株式会社製)を用い、電圧300VでIrからなるターゲットに放電しつつ、電圧300VでReからなるターゲットに放電することで行った。   Here, a 200 nm-thick protective film containing Ir: 50% and Re: 50% is formed on the entire upper surface of the lower mold base material and the lower surface of the upper mold base material, A lower mold and an upper mold were formed (Re / Ir = 1.0). Here, the protective film is formed by using a DC sputtering apparatus (model number: E-400S, manufactured by Canon Anelva Co., Ltd.) and discharging to a target made of Re at a voltage of 300 V while discharging to a target made of Ir at a voltage of 300 V. I went there.

これにより形成された下型及び上型を用い、ランタン系ガラスのプレス成形を行った。ここで、ランタン系ガラスとして、株式会社オハラ製のL−LAH81(商品名)を用いた。また、このガラスは、転移点(Tg)が566℃、屈伏点(At)が602℃であり、且つ950℃、2時間の条件の失透試験にて失透が見られないものであった。   Using the lower mold and the upper mold thus formed, lanthanum-based glass was press-molded. Here, L-LAH81 (trade name) manufactured by OHARA INC. Was used as the lanthanum glass. Further, this glass had a transition point (Tg) of 566 ° C., a yield point (At) of 602 ° C., and no devitrification was observed in a devitrification test at 950 ° C. for 2 hours. .

上述のガラスを成形型の下型の成形面上に供給し、内径15.0mm、外径20.0mm、高さ22.0mmのWCからなる円筒形状の胴型をこの下型に嵌め込み、上型をこの胴型に嵌め込んで、下型、上型及び胴型を成形型に組み立てた。次いで、成形型を620℃に加熱して軟化させた後、100kgfの力で上型を降ろしてガラスを押圧し、ガラスをプレス成形した。プレス成形を行った後、成形型を約100℃まで徐々に冷却した後で、成形型を上型及び下型に分解し、光学素子を取り出した。   The above-mentioned glass is supplied onto the molding surface of the lower mold of the mold, and a cylindrical body mold made of WC having an inner diameter of 15.0 mm, an outer diameter of 20.0 mm, and a height of 22.0 mm is fitted into the lower mold, The mold was fitted into this body mold, and the lower mold, the upper mold, and the body mold were assembled into a molding mold. Next, after the mold was heated to 620 ° C. and softened, the upper mold was lowered with a force of 100 kgf to press the glass, and the glass was press-molded. After press molding, the mold was gradually cooled to about 100 ° C., and then the mold was disassembled into an upper mold and a lower mold, and the optical element was taken out.

その結果、100個のガラスに対して上述の方法を用いて成形を行ったところ、割れが発生したガラスは1個であり、傷が入ったガラスは0個であった。その一方で、成形されたガラスには、曇りは発生しなかった。   As a result, when 100 glasses were molded using the above-described method, one glass was broken and no glass was scratched. On the other hand, fogging did not occur in the molded glass.

(実施例2)
下型用母材の上側の面と上型用母材の下側の面の全面に、Ir:60%、Re:40%を含有する、厚さ500nmの保護膜を形成し、下型及び上型を形成した(Re/Ir=0.67)。その他の工程は、実施例1と同様に行った。
(Example 2)
A protective film having a thickness of 500 nm containing Ir: 60% and Re: 40% is formed on the entire upper surface of the lower mold base material and the lower surface of the upper mold base material. An upper mold was formed (Re / Ir = 0.67). Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

その結果、100個のガラスに対して上述の方法を用いて成形を行ったところ、割れが発生したガラスは2個であり、傷が入ったガラスは1個であった。その一方で、成形されたガラスには、曇りは発生しなかった。   As a result, when 100 glasses were molded using the above-described method, there were 2 broken glasses and 1 damaged glass. On the other hand, fogging did not occur in the molded glass.

(実施例3)
下型用母材の上側の面と上型用母材の下側の面の全面に、Ir:50%、Re:40%、Rh:10%を含有する、厚さ300nmの保護膜を形成し、下型及び上型を形成した(Re/Ir=0.8)。その他の工程は、実施例1と同様に行った。
(Example 3)
A 300 nm-thick protective film containing Ir: 50%, Re: 40%, Rh: 10% is formed on the entire upper surface of the lower mold base and the lower surface of the upper mold base. Thus, a lower mold and an upper mold were formed (Re / Ir = 0.8). Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

その結果、100個のガラスに対して上述の方法を用いて成形を行ったところ、割れが発生したガラスは20個であり、傷が入ったガラスは10個であった。その一方で、成形されたガラスには、曇りは発生しなかった。   As a result, when 100 glass pieces were molded using the above-described method, 20 pieces of broken glass were produced and 10 pieces were damaged. On the other hand, fogging did not occur in the molded glass.

(比較例1)
下型用母材の上側の面と上型用母材の下側の面の全面に、Ir:80%、Re:20%を含有する、厚さ300nmの保護膜を形成し、下型及び上型を形成した(Re/Ir=0.25)。その他の工程は、実施例1と同様に行った。
(Comparative Example 1)
A protective film having a thickness of 300 nm containing Ir: 80% and Re: 20% is formed on the entire upper surface of the lower mold base material and the lower surface of the upper mold base material. An upper mold was formed (Re / Ir = 0.25). Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

その結果、100個のガラスに対して上述の方法を用いて成形を行ったところ、割れが発生したガラスは50個であり、傷が入ったガラスは20個であった。その一方で、成形されたガラスには、曇りは発生しなかった。   As a result, when 100 glasses were molded using the above-described method, 50 glasses were broken and 20 were scratched. On the other hand, fogging did not occur in the molded glass.

(比較例2)
下型用母材の上側の面と上型用母材の下側の面の全面に、Ir:20%、Re:80%を含有する、厚さ300nmの保護膜を形成し、下型及び上型を形成した(Re/Ir=4.0)。その他の工程は、実施例1と同様に行った。
(Comparative Example 2)
A protective film having a thickness of 300 nm containing Ir: 20% and Re: 80% is formed on the entire upper surface of the lower mold base material and the lower surface of the upper mold base material. An upper mold was formed (Re / Ir = 4.0). Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

その結果、100個のガラスに対して上述の方法を用いて成形を行ったところ、成形されたガラスのうち60個に曇りが発生した。その一方で、成形されたガラスには、割れや傷は入らなかった。   As a result, when 100 glasses were molded using the method described above, 60 of the molded glasses were fogged. On the other hand, the molded glass was not cracked or scratched.

実施例1〜3と比較例1〜2の結果を比較すると、Irの含量に対するReの含量のモル比が0.5倍以上2.5倍以下になる含量でIr及びReを含有する保護膜が形成された成形型をランタン系ガラスの成形に用いたときに、成形されたガラスに割れや傷を生じ難くすることができ、且つ曇りを生じ難くできることがわかる。   When the results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 are compared, the protective film containing Ir and Re in such a content that the molar ratio of the Re content to the Ir content is 0.5 to 2.5 times It can be seen that when the mold formed with is used for molding lanthanum-based glass, the molded glass can be hardly cracked or scratched, and can be hardly fogged.

(参考例1)
実施例1と同様に形成された下型及び上型を用い、フッ化物ガラスのプレス成形を行った。ここで、フッ化物ガラスとして、株式会社オハラ製のS−FPL51(商品名)を用いた。また、このガラスは、転移点(Tg)が458℃、屈伏点(At)が489℃であり、且つ950℃、2時間の条件の失透試験にて失透が見られないものであった。その他の工程は、実施例1と同様に行った。
(Reference Example 1)
Using lower and upper molds formed in the same manner as in Example 1, fluoride glass was press-molded. Here, S-FPL51 (trade name) manufactured by OHARA INC. Was used as the fluoride glass. Further, this glass had a transition point (Tg) of 458 ° C., a yield point (At) of 489 ° C., and no devitrification was observed in a devitrification test at 950 ° C. for 2 hours. . Other steps were performed in the same manner as in Example 1.

その結果、100個のガラスに対して上述の方法を用いて成形を行ったところ、割れが発生したガラスは40個であった。その一方で、成形されたガラスには、曇りは発生しなかった。   As a result, when 100 glasses were molded using the above-described method, 40 glasses were broken. On the other hand, fogging did not occur in the molded glass.

(参考例2)
比較例1と同様に形成された下型及び上型を用い、フッ化物ガラスのプレス成形を行った。ここで、フッ化物ガラスとして、株式会社オハラ製のS−FPL51(商品名)を用いた。このガラスは、950℃、2時間の条件の失透試験にて失透が見られないものであった。その他の工程は、比較例1と同様に行った。
(Reference Example 2)
Using the lower mold and the upper mold formed in the same manner as in Comparative Example 1, fluoride glass was press-molded. Here, S-FPL51 (trade name) manufactured by OHARA INC. Was used as the fluoride glass. This glass had no devitrification in the devitrification test at 950 ° C. for 2 hours. Other steps were performed in the same manner as in Comparative Example 1.

その結果、100個のガラスに対して上述の方法を用いて成形を行ったところ、割れが発生したガラスは40個であり、傷が入ったガラスは10個であった。その一方で、成形されたガラスには、曇りは発生しなかった。   As a result, when 100 glasses were molded using the above-described method, 40 glasses were broken and 10 were damaged. On the other hand, fogging did not occur in the molded glass.

実施例1と参考例1の結果を比較すると、ランタン系ガラスを用いてプレス成形を行った場合であっても、ランタン系ガラス以外のフッ化物ガラスを用いてプレス成形を行った場合と大差ない、良好な成形結果を得られることがわかる。一方、比較例1と参考例2の結果を比較すると、ランタン系ガラスを用いてプレス成形を行った場合、ランタン系ガラス以外のフッ化物ガラスを用いてプレス成形を行った場合に比べて割れや傷が著しく増加していることがわかる。   When the results of Example 1 and Reference Example 1 are compared, even when press molding is performed using lanthanum-based glass, it is not much different from the case where press molding is performed using fluoride glass other than lanthanum-based glass. It can be seen that good molding results can be obtained. On the other hand, when the results of Comparative Example 1 and Reference Example 2 are compared, when press forming is performed using lanthanum-based glass, cracks and cracks are smaller than when pressing is performed using fluoride glass other than lanthanum-based glass. It can be seen that the number of scratches has increased significantly.

以上のことから、本願発明の成形型は、特にランタン系ガラスの成形に用いたときにも、成形されたガラスに割れや傷を生じ難くすることができ、曇りを生じ難くできることがわかる。   From the above, it can be seen that the molding die of the present invention can make it difficult to cause cracks and scratches in the molded glass, especially when used for molding lanthanum-based glass, and can hardly cause fogging.

10 成形型
11 下型
12 上型
20 下型
21 型母材
23 保護膜
30 上型
31 型母材
33 保護膜
211 成形面
213 当接面
311 成形面
313 当接面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Mold 11 Lower mold 12 Upper mold 20 Lower mold 21 Mold base material 23 Protective film 30 Upper mold 31 Mold base material 33 Protective film 211 Molding surface 213 Contact surface 311 Molding surface 313 Contact surface

Claims (10)

成形面を有する型母材と、前記成形面上に設けられた保護膜と、を備える成形型であって、
前記保護膜は、
Ir及びReを、Irの含量に対するReの含量のモル比が0.6倍以上2.5倍以下になる含量で含有し、
Os、Pd、Pt、Au、Ru、Ta、W、Ir及びReを合わせた含有量の合計で、モル分率で99%より多く含有し、
厚さが50nm以上3000nm以下
であり、
前記成形型は、ランタン系ガラスの成形に用いられる成形型(但し、保護膜がAuを含有するものを除く)。
A mold comprising a mold base material having a molding surface, and a protective film provided on the molding surface,
The protective film is
Ir and Re are contained in such a content that the molar ratio of the Re content to the Ir content is 0.6 times or more and 2.5 times or less,
The total content of Os, Pd, Pt, Au, Ru, Ta, W, Ir, and Re, containing more than 99% by mole fraction,
The thickness is 50 nm or more and 3000 nm or less,
The said shaping | molding die is a shaping | molding die used for shaping | molding lanthanum-type glass (however, except that the protective film contains Au).
前記保護膜は、Rhを実質的に含有しない請求項1記載の成形型。 The protective layer, according to claim 1 Symbol mounting molds containing no Rh substantially. 型母材の成形面上に、
Ir及びReを、Irの含量に対するReの含量のモル比が0.6倍以上2.5倍以下になる含量で含有し、Os、Pd、Pt、Au、Ru、Ta、W、Ir及びReを合わせた含有量の合計で、モル分率で99%より多く含有する(但し、保護膜がAuを含有するものを除く)、厚さが50nm以上3000nm以下の保護膜を形成する工程を有するランタン系ガラスの成形に用いられる成形型の製造方法。
On the molding surface of the mold base material,
Ir and Re are contained in such a content that the molar ratio of the Re content to the Ir content is 0.6 times or more and 2.5 times or less, and Os, Pd, Pt, Au, Ru, Ta, W, Ir, and Re And a step of forming a protective film having a thickness of 50 nm or more and 3000 nm or less, except that the total content is more than 99% by mole fraction (except that the protective film contains Au). A manufacturing method of a mold used for forming a lanthanum glass.
前記保護膜にRhを実質的に含有させない請求項記載の成形型の製造方法。 The manufacturing method of the shaping | molding die of Claim 3 which does not contain Rh substantially in the said protective film. 請求項1又は2記載の成形型を用いてランタン系ガラスをプレス成形する工程を有する光学素子の製造方法。 Method of manufacturing an optical element having a step of press-molding the lanthanum-based glass with claim 1 or 2 mold according. 前記ランタン系ガラスとして、B成分、La成分及びZnO成分と、Nb成分、Ta成分及びWO成分からなる群より選ばれる1種以上と、を含有するものを用いる請求項記載の光学素子の製造方法。 As the lanthanum-based glass, a B 2 O 3 component, a La 2 O 3 component and a ZnO component, and at least one selected from the group consisting of an Nb 2 O 5 component, a Ta 2 O 5 component and a WO 3 component are contained. The manufacturing method of the optical element of Claim 5 using what to do. 前記ランタン系ガラスとして、屈折率(nd)が1.75〜1.85及びアッベ数(νd)が35〜45の範囲の光学定数を有し、酸化物基準の質量%で、
SiO成分 0〜20%
成分 10〜30%
La成分 15〜40%
ZrO成分 0〜15%
Nb成分 0〜20%
Ta成分 0〜20%
WO成分 0〜20%
ZnO成分 10〜30%
LiO成分 0〜5%
の各成分を含有し、転移点(Tg)が500〜590℃、屈伏点(At)が530〜630℃であり、950℃、2時間の条件の失透試験にて失透が見られないものを用いる請求項記載の光学素子の製造方法。
As the lanthanum-based glass, the refractive index (nd) has an optical constant in the range of 1.75 to 1.85 and the Abbe number (νd) in the range of 35 to 45, and the mass percentage based on the oxide.
SiO 2 component 0-20%
B 2 O 3 component 10-30%
La 2 O 3 component 15-40%
ZrO 2 component 0-15%
Nb 2 O 5 component 0-20%
Ta 2 O 5 component 0-20%
WO 3 component 0-20%
ZnO component 10-30%
Li 2 O component 0-5%
The transition point (Tg) is 500 to 590 ° C., the yield point (At) is 530 to 630 ° C., and no devitrification is observed in the devitrification test at 950 ° C. for 2 hours. The manufacturing method of the optical element of Claim 6 using a thing.
請求項1又は2記載の成形型を用いてランタン系ガラスをプレス成形し、得られる光学素子を用いる光学機器の製造方法。 A method for producing an optical device using an optical element obtained by press-molding a lanthanum-based glass using the mold according to claim 1 or 2 . 前記ランタン系ガラスとして、B成分、La成分及びZnO成分と、Nb成分、Ta成分及びWO成分からなる群より選ばれる1種以上と、を含有するものを用いる請求項記載の光学機器の製造方法。 As the lanthanum-based glass, a B 2 O 3 component, a La 2 O 3 component and a ZnO component, and at least one selected from the group consisting of an Nb 2 O 5 component, a Ta 2 O 5 component and a WO 3 component are contained. The manufacturing method of the optical instrument of Claim 8 using what to do. 前記ランタン系ガラスとして、屈折率(nd)が1.75〜1.85及びアッベ数(νd)が35〜45の範囲の光学定数を有し、酸化物基準の質量%で、
SiO成分 0〜20%
成分 10〜30%
La成分 15〜40%
ZrO成分 0〜15%
Nb成分 0〜20%
Ta成分 0〜20%
WO成分 0〜20%
ZnO成分 10〜30%
LiO成分 0〜5%
の各成分を含有し、転移点(Tg)が500〜590℃、屈伏点(At)が530〜630℃であり、950℃、2時間の条件の失透試験にて失透が見られないものを用いる請求項記載の光学機器の製造方法。
As the lanthanum-based glass, the refractive index (nd) has an optical constant in the range of 1.75 to 1.85 and the Abbe number (νd) in the range of 35 to 45, and the mass percentage based on the oxide.
SiO 2 component 0-20%
B 2 O 3 component 10-30%
La 2 O 3 component 15-40%
ZrO 2 component 0-15%
Nb 2 O 5 component 0-20%
Ta 2 O 5 component 0-20%
WO 3 component 0-20%
ZnO component 10-30%
Li 2 O component 0-5%
The transition point (Tg) is 500 to 590 ° C., the yield point (At) is 530 to 630 ° C., and no devitrification is observed in the devitrification test at 950 ° C. for 2 hours. The method for manufacturing an optical apparatus according to claim 9, wherein a thing is used.
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JP4127949B2 (en) * 2000-06-27 2008-07-30 Hoya株式会社 Optical glass and optical product using the same
JP4667254B2 (en) * 2006-01-18 2011-04-06 株式会社住田光学ガラス Optical glass element mold
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