JP5599455B2 - 基材のコーティングのための方法及びコーティングを有する基材 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 178
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 62
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 46
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 38
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 60
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 47
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 47
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical group [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 19
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 19
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 17
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 16
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 claims description 13
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 7
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 claims description 6
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 6
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 5
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical group [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 4
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N [Cr].[Co] Chemical compound [Cr].[Co] WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N chromium carbide Chemical compound [Cr]#C[Cr]C#[Cr] UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 claims description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 1
- -1 chromium carbides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000623 nickel–chromium alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012254 powdered material Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 238000005480 shot peening Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/137—Spraying in vacuum or in an inert atmosphere
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/134—Plasma spraying
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T50/00—Aeronautics or air transport
- Y02T50/60—Efficient propulsion technologies, e.g. for aircraft
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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Description
本発明は、それぞれのカテゴリの独立請求項の導入部分による基材のコーティングのための方法及びコーティングを有する基材に関するものである。
熱溶射法は、基材上にコーティング、例えば、腐食保護層又は浸食保護層を堆積することにおいて有効であると確認されている。特に、金属材料又は炭化物材料が熱溶射法に使用され、基材上に金属層若しくは硬質金属層又は炭化物層が形成される。今日、特に典型的には、大気圧プラズマ溶射（ＡＰＳ）プロセス又は高速フレーム（ＨＶＯＦ）プロセスが、硬質金属層又は炭化物層に対して良好に使用されている。
これらの方法においては、直接見通しがきく（ｄｉｒｅｃｔ ｌｉｎｅ ｏｆ ｓｉｇｈｔ）領域内だけでコーティングを行うことができるという事実の中に、これらの方法の制約を認めることができる。これは、プロセス・ジェットの幾何学的な死角領域に位置する、コーティングされるべき基材の内側表面又は隠れた表面を、一般的にコーティングできないということを意味する。
そこで、本発明の目的は、プロセス・ジェットの直接見通しがきく領域内に位置しない、基材のこのような表面をコーティングすることが可能な、基材のコーティングのための方法を提供することである。本発明方法は、金属基材上に硬質金属層又は炭化物層を生成することに特に適している。さらに、本発明は、このようにしてコーティングされた基材を提供する。
この目的を満足する本発明の主題は、それぞれのカテゴリの独立請求項によって特徴付けられる。
したがって、本発明によれば、基材のコーティングのための方法が提供される。この方法においては、プロセス・ジェットをデフォーカス（ｄｅｆｏｃｕｓ、焦点をぼけさせる）するプラズマ中へ出発材料を注入し、その中において、最大２０，０００Ｐａの低いプロセス圧力で、出発材料を液相又は流動化（ｐｌａｓｔｉｃｉｚｅｄ）した相へ部分的に又は完全に溶融して、出発材料をプラズマ溶射によってプロセス・ジェットの形で基材へ溶射する。出発材料が金属母材又は金属合金を含有しており、プロセス・ジェット中の出発材料Ｐの温度が金属母材又は金属合金の沸点よりも低くなっており、液相又は流動化した相からの堆積によって、基材が、プロセス・ジェットに対して幾何学的な死角に位置する少なくとも１つの領域においてコーティングされるように、プロセス・ジェット用のガス流を設定する。
この方法は、国際公開第０３／０８７４２２号、又は米国特許第５，８５３，８１５号明細書に一般的に記載されている特定のプラズマ溶射法である。すなわち、いわゆるＬＰＰＳ（低圧プラズマ溶射）薄膜の形成のための熱溶射である。
これは、特にＬＰＰＳ薄膜（ＬＰＰＳ−ＴＦ）プロセスである。ここで、従来のＬＰＰＳプラズマ溶射法は、技術的なプロセスの方法で修正されており、プラズマ（「プラズマ火炎」又は「プロセス・ジェット」）が流れる空間が、その変更に起因して広げられ、最大２．５ｍの長さに拡張されている。プラズマの幾何学的な広がりによって、キャリア・ガスによってプラズマ中へ注入されるプロセス・ジェットの一様な拡張（「デフォーカシング」）がもたらされる。プロセス・ジェットの材料が、一様な分布で基材１０の表面に到達する。プロセス・ジェットの材料は、プラズマ中にクラウド（雲）を形成するために分散され、そこで部分的に又は完全に溶融される、又は少なくとも流動化される。
ここで、出発材料中の金属母材に関して又は金属合金に関して、プロセス・ジェットに対して幾何学的な死角にある領域において、液相からの堆積が実現されるように、プロセス・ジェット用のガス流を設定するという認識が、本発明にとって重要である。したがって、プロセス・ジェットの直接見通しがきく領域内にはない（見通しがきく領域外の）隠れた領域又は内側領域内に、プロセス・ジェットの液相から堆積させることが、やはり可能である。ここで、プロセス・ジェット中の金属出発材料の温度が金属母材又は金属合金の沸点よりも低くなるように、プラズマのエネルギー含有量を設定することが重要である。金属成分を、単に流動化させる又は溶融させるべきであり、金属成分の蒸発を回避すべきである（大部分の蒸発を少なくとも回避すべきである）。出発材料の粒子温度は、金属母材又は金属合金の沸点の９０％、好ましくは８０％、特に７０％を超えるべきではない。
プラズマのエネルギー含有量に加えて、プロセス・ジェット中の出発材料の粒子温度に影響を与えるさらなるパラメータは、出発材料がプラズマ中へ運ばれる供給速度である。供給速度が大きいと、プラズマ火炎中の出発材料の滞留時間が非常に短くなり、出発材料の粒子中への熱入力が平均的に小さくなり、供給速度を介して、プロセス・ジェット中の出発材料の温度を金属母材又は金属合金の沸点よりも確実に低くすることができる。これによって、金属成分が蒸発することも回避することができる。実際、それは、それを介して粒子温度が設定される供給速度とプラズマ・パラメータとの組み合わせである。
出発材料をプロセス・ジェット中へと導入する供給角度も、プロセス・ジェット中の出発材料の粒子温度に影響を与える。一般的に、吐出ノズルの内部の出発材料をプロセス・ジェット中へと注入することが通例である。この点において、出発材料をプロセス・ジェットの流れ方向に垂直に−即ち、半径方向に−プロセス・ジェット中へと導入するか、または、出発材料をプロセス・ジェットの流れ方向に斜めに注入することのどちらかが可能である。このケースでは、「下流方向」及び「上流方向」の２つの変化形がある。上流方向注入では、プロセス・ジェットの流れ方向に対して斜め方向に逆らって出発材料を注入する。下流方向注入では、プロセス・ジェットの流れ方向の方向に斜めに出発材料を注入する。上流方向注入では、プラズマ中の、特に、吐出ノズル内の高エネルギー領域中の滞留時間が、下流方向注入の場合よりも長いために、出発材料中へのより大きな熱入力が生じる。したがって、金属成分が実質的に気相になることを回避することに関して、下流方向注入がより有利であるため、本発明方法にとって下流方向注入が好ましい。
プロセス圧力は、少なくとも５０Ｐａであり、最大１０，０００Ｐａであることが好ましい。
プロセス・ジェットのガス流が５０〜２００ＳＬＰＭ（標準リットル毎分）の全流量を有するとき、隠れた領域のコーティングが特に良好であることが見出されている。
プロセス・ジェット用の吐出ノズルと基材との間の溶射距離が、５０ｍｍ〜１５００ｍｍであり、好ましくは４００ｍｍよりも大きく、特に好ましくは７００ｍｍ〜１０００ｍｍである場合には、距離に関して好都合である。
粉末供給に関して、供給速度が選択されると好ましい。
本発明方法は、基材上に腐食保護層又は浸食保護層を形成するのに適している。
本発明方法を用いて、金属層、硬質金属層、又は炭化物層が、形成されることが好ましい。
好ましい実施形態では、出発材料は、ＭＣｒＡｌＸタイプの金属合金であり、ここでは、Ｍがニッケル（Ｎｉ）及び／又はコバルト（Ｃｏ）及び／又は鉄（Ｆｅ）を表し、Ｘがイットリウム（Ｙ）及び／又はジルコニウム（Ｚｒ）及び／又はハフニウム（Ｈｆ）を表す。これらのＭＣｒＡｌＸ化合物のＸについて、イットリウムを使用することが特に好ましい。これらの化合物を用いて、非常に良好な腐食保護層を生成することができる。ここで、本発明によれば、これらのＭＣｒＡｌＸ化合物は、プロセス・ジェットの幾何学的な死角の液相からも生成されることができる。
本発明方法は、層が炭化タングステン又は炭化クロム、及びニッケル−クロム又はコバルト−クロムを含有する基材上に形成されるときにも特に適している。
さらに好ましい変形例は、ニッケル−クロム層又はニッケル−炭化クロム層が、基材上に形成されるときである。
出発材料は、２つの金属及び炭素を各々が実質的に有する粒子を含む溶射粉末であり、第１の金属が、第２の金属と合金を作る部分、及び炭素と炭化物を形成する別の部分を含むことが好ましい。
この点において、第１の金属は、好ましくはクロム、２番目に好ましくはニッケルであり、炭化物が析出物の形で金属母材中に一様に分布する。
出発材料Ｐは、好ましくは５〜５０マイクロメートル、特に１０〜２０マイクロメートルのサイズの粒子を含む溶射粉末である。このサイズは、個々の粒子がより小さな粒子へ分解することを防止することに有効であることが確認されている。それに加えて、炭化物の場合には、この粒子サイズによって炭化物の熱分解が起きることを防止することができる。
本発明方法は、基材が回転機械、特にポンプのロータであるときに特に適している。
さらに本発明によって、プラズマ溶射によって形成されるコーティングを有する基材が提供される。出発材料がプロセス・ジェットをデフォーカスするプラズマ中へ注入され、その中において、最大２０，０００Ｐａの低いプロセス圧力で、液相又は流動化した相へ部分的に又は完全に溶融されて、出発材料がプロセス・ジェットの形で基材上へ溶射される。出発材料Ｐが金属母材又は金属合金を含有しており、プロセス・ジェット２中の出発材料Ｐの温度が金属母材又は金属合金の沸点よりも低くなっており、コーティングが液相又は流動化した相からの堆積によって形成され、コーティングがプロセス・ジェットに対して幾何学的な死角に位置する少なくとも１つの領域に形成される。
好ましい実施形態では、コーティングは、硬質金属コーティング又は炭化物コーティングである。
本発明のさらなる有益な手段及び好ましい実施形態が、従属請求項からもたらされる。
実施例及び図面を参照して本発明をより詳細に下記に説明する。これらは、概略的な図面であり、一部は断面で示されている。
基材のコーティングのための本発明方法は、真空にすることができるプロセス・チャンバを含むプラズマ溶射装置によって実行される。
図１は、プラズマ溶射装置を非常に概略的な図で示す。プラズマ溶射装置は、全体を参照番号１によって示されており、このプラズマ溶射装置は、本発明方法を実行するのに適している。さらに、図１には、その上に層１１が堆積した基材１０が概略的に示されている。
本発明方法は、国際公開第０３／０８７４２２号又は米国特許第５，８５３，８１５号明細書に一般的に記載されているプラズマ溶射を含むことが好ましい。このプラズマ溶射法は、いわゆるＬＰＰＳ（低圧プラズマ溶射）薄膜の形成のための熱溶射である。
ＬＰＰＳ薄膜（ＬＰＰＳ−ＴＦ）プロセスは、図１に示されたプラズマ溶射装置を使用して具体的に実行される。ここで、従来のＬＰＰＳプラズマ溶射法は、技術的なプロセスの方法で修正されており、プラズマ（「プラズマ火炎」又は「プロセス・ジェット」）が流れる空間が、その変更に起因して広げられ、最大２．５ｍの長さに拡張されている。
プラズマの幾何学的な広がりによって、キャリア・ガスによってプラズマ中へ注入されるプロセス・ジェットの一様な拡張（「デフォーカシング」）がもたらされる。プロセス・ジェットの材料が、一様な分布で基材１０の表面に到達する。プロセス・ジェットの材料は、プラズマ中にクラウドを形成するために分散され、そこで部分的に又は完全に溶融される。
図１に示されたプラズマ溶射装置１は、プラズマの発生用のプラズマ・トーチを含むプラズマ発生器３を含む。プラズマ発生器３は、それ自体は公知であり、これ以上詳細には示さない。出発材料Ｐ、プロセス・ガス混合物Ｇ、及び電気エネルギーＥから、プラズマ発生器３を使用して、それ自体公知の方法でプロセス・ジェット２を発生させる。図１では、これらの構成要素Ｅ、Ｇ、Ｐの供給が、矢印４、５、６によって表示されている。発生させられたプロセス・ジェット２は、吐出ノズル７を介して吐出される。プロセス・ジェット２は、プロセス・ジェット２の形態で出発材料Ｐを搬送する。プロセス・ジェット２において、コーティング材料２１、２２がプラズマ中に分散されている。この搬送が、矢印２４によって表示されている。コーティング材料が複数の相で存在できる−しかし必ずしもその必要はない−ということが、異なる参照番号２１、２２によって示されている。少なくとも１つの液相２１は存在する。さらに、固相及び／又は気相２２が、プロセス・ジェット２中に含有されることができる。基材１０上に堆積した層１１の形態は、プロセス・パラメータ、並びに特に出発材料Ｐ、プロセス・エンタルピー、及び基材１０の温度に依存する。図１には、真空にすることができるプロセス・チャンバは示されていない。
本明細書において記載されたＬＰＰＳ−ＴＦプロセスでは、出発材料Ｐがプラズマ中へ注入される。プラズマは、低いプロセス圧力でプロセス・ジェットをデフォーカスする。その圧力は、最大２０，０００Ｐａであり、好ましくは最大１０，０００Ｐａである。そして、出発材料Ｐは、液相２１が生じるように部分的に又は完全にプラズマ中で溶融されている。この目的のために、非常に高密度の層１１が基材上に生じるように、十分に大きな比エンタルピーを有するプラズマが発生させられる。層組織などの層の構造は、コーティング条件によって、特にプロセス・エンタルピー、プロセス・チャンバ内及びプロセス・ジェット内の動作圧力によって、実質的に影響され制御可能である。したがって、プロセス・ジェット２は、制御可能なプロセス・パラメータによって決定される特性を有する。
図１に示されているように、基材１０は、プロセス・ジェット２に対して幾何学的な死角に位置する少なくとも１つの領域１０１を有する。この領域は、例えば、基材の隠れた領域１０１又は内側表面である。これらの幾何学的な死角領域又は隠れた領域若しくは覆われた領域は、プラズマ溶射のプロセス・ジェット２によって、幾何学的な意味で直接作用を受けない（見通しがきく領域外の）幾何学的な死角領域１０１又は隠れた領域若しくは覆われた領域１０１という意味である。プロセス・ジェット２中で基材１０を回転させても、又はプロセス・ジェット２と基材１０との間で他の相対的な運動をさせても、やはりこのような領域１０１に到達することができないということはよくあることである。
本発明によれば、プロセス・ジェットに対して幾何学的な死角に位置する領域１０１のうちの少なくとも１つにおいて、液相２１からの堆積によって基材１０がコーティングされるように、プロセス・ジェット２用のガス流を設定する。プロセス・ジェット２の幾何学的な死角領域内にも液相２１からの堆積物をもたらすことが可能であるという点の認識が重要であり驚くべきものである。
ここで、ＬＰＰＳ−ＴＦによる層１１の生成をより詳細に説明する。
出発材料Ｐとして、下記にさらに説明するような適切な組成の粉末が選択される。この粉末は、金属母材又は金属合金、好ましくはＭＣｒＡｌＸタイプの金属合金を含有する。ここで、Ｍはニッケル（Ｎｉ）及び／又はコバルト（Ｃｏ）及び／又は鉄（Ｆｅ）を表し、Ｘはイットリウム（Ｙ）及び／又はジルコニウム（Ｚｒ）及び／又はハフニウム（Ｈｆ）を表す。この点において、出発材料Ｐが単一の粉末の形で存在するということも可能である。他にも、出発材料として２つ以上の異なる粉末状の材料を使用することも可能である。出発材料は、粉末混合物として存在することができる。または、出発材料は、２つの異なる粉末供給部を介して同時に若しくは時間的に次々とプラズマ火炎中へ注入される。
既述の通り、ＬＰＰＳ−ＴＦプロセスでは、プロセス・パラメータ設定に起因して、従来のプラズマ溶射プロセスと比較して、プラズマ火炎が非常に長い。それに加えて、プラズマ火炎が大きく広げられる。例えば最大１５，０００ｋＪ／ｋｇの大きな比エンタルピーを有するプラズマが発生させられる。それによって高いプラズマ温度になる。プラズマ火炎の大きなエンタルピー及び長さ又はサイズのために、コーティング材料２１、２２への非常に大きなエネルギー入力が生じる。それによって、前記コーティング材料が、一方で大きく加速され、他方では、コーティング材料を非常に良く溶融することができる又は柔軟にすることができるように高温にされる。
しかしながら、金属成分の蒸発を防止すべきであるので、プラズマ温度及び粉末の溶射速度を互いに整合させ、プロセス・ジェット２中の出発材料Ｐの粒子の温度が、金属母材又は金属合金の沸点よりも低くなるようにすることが重要である。
例えば、ＤＣ電流を用いて並びに１つ又は複数の陰極及び環状陽極によってプラズマ発生器３のそれ自体公知のプラズマ・トーチにおいて、プラズマを発生させる。プラズマに供給する電力、有効電力を、経験的に決定することができる。電力と冷却によって取り去られる熱との間の差によって与えられる有効電力は、経験的には、例えば８０ｋＷまでの範囲内である。システムの全電力が２０〜２００ｋＷである場合には、この目的に対して有効であると確認されている。
プラズマの発生のための電流は２０００〜２６００Ａであることが好ましい。
５０〜２０００Ｐａ、好ましくは１００〜１０００Ｐａ、具体的には１５０Ｐａの範囲で、処理チャンバ内のＬＰＰＳ−ＴＦプラズマ溶射のプロセス圧力の値が選択される。
キャリア・ガス、好ましくは、アルゴン、ヘリウム、水素、又はこれらのガスのうちの少なくとも２つの混合物を使用して、出発材料Ｐが粉末ジェットとしてプラズマ中へ注入される。キャリア・ガスの流量は、５〜４０ＳＬＰＭ（標準リットル毎分）になることが好ましい。
出発材料Ｐの粒子サイズは、好ましくは５〜５０マイクロメートルであり、１０〜２０マイクロメートルの範囲にあることが特に好ましい。
プラズマの発生のためのプロセス・ジェット２用のガスであるプロセス・ガスは、不活性ガスの混合物であることが好ましく、特にアルゴンＡｒ、水素Ｈ、ヘリウムＨｅの混合物であることが好ましい。とりわけ、実際、下記のプロセス・ガスのガス流量は有効であると確認されている。
Ａｒ流量：５０〜１２０ＳＬＰＭ
Ｈ２流量：ゼロ〜１２ＳＬＰＭ
Ｈｅ流量：ゼロ〜４０ＳＬＰＭ
ここで、プロセス・ガスの全流量は、少なくとも５０ＳＬＰＭで、２００ＳＬＰＭ未満になることが好ましい。
Ａｒ流量：５０〜１２０ＳＬＰＭ
Ｈ２流量：ゼロ〜１２ＳＬＰＭ
Ｈｅ流量：ゼロ〜４０ＳＬＰＭ
ここで、プロセス・ガスの全流量は、少なくとも５０ＳＬＰＭで、２００ＳＬＰＭ未満になることが好ましい。
出発材料Ｐを運搬する供給速度は、特に、少なくとも２０ｇ／ｍｉｎで多くとも１６０ｇ／ｍｉｎであり、好ましくは４０〜８０ｇ／ｍｉｎである。粉末供給用の２つ以上の注入器を用いる構成においては、これらの流量が、すべての注入器にわたり均等に分配されることが好ましい。すなわち、２つの注入器を用いた場合、注入器１つ当たりの粉末供給速度を２０ｇ／ｍｉｎ〜４０ｇ／ｍｉｎとして作業を実行することが好ましく、その結果、全体の供給速度は２×２０ｇ／ｍｉｎ〜２×４０ｇ／ｍｉｎとなる。
材料散布中にプロセス・ジェットに対して相対的に回転運動又はピボット運動によって基材を動かすと有利な場合がある。勿論、基材１０に対してプラズマ発生器３を相対的に動かすことも可能である。
吐出ノズル７と基材１０との間の距離Ｄである溶射距離は、好ましくは５０〜１５００ｍｍ、とりわけ４００ｍｍより大きく、特に７００〜１０００ｍｍになる。
本発明方法は、金属腐食保護層又は浸食保護層の形成のために特に適している。
本発明方法は、特に内部領域又は隠れた領域１０１を有する基材上に、硬質金属層又は炭化物層を形成することにとりわけ適している。この目的のために、欧州特許出願公開第０９６０９５４号明細書に記載されているような出発材料Ｐとして、粉末が特に適している。
この熱溶射粉末は、各々がニッケル、クロム、及び炭素を実質的に含む粒子を含む。クロムは、母材を形成するニッケルと共に合金を形成する第１の部分、及び炭素と炭化物を形成し堆積物の形で母材中に一様に分布する第２の部分を含む。
勿論、このような硬質金属コーティング又は炭化物コーティング、例えば炭化タングステンに対して他の金属も適している。既述のニッケル−クロム母材に加えて、炭化タングステン又は炭化クロムをコバルト−クロム母材中に埋め込むこともできる。
炭化物のない金属合金、例えば、ニッケル−クロム合金又はやはり亜鉛などの金属を、耐腐食層の形成のためにやはり使用することができるということが理解される。
回転機械のロータ、特にポンプのロータに硬質金属コーティングが設けられた実施例を下記に示す。
図２は、既にコーティングしてあるポンプロータの平面図を示す。このポンプロータは、全体として参照番号５０で示され、湾曲した形に形成された複数の翼５１を含む。したがって、コーティング・プロセスにおいてプロセス・ジェット２の幾何学的な死角領域に位置する隠れた領域１０１が、これらの翼５１の間に生じる。
図３は、図２のロータの半分（カバー）の一部の概略的な断面表示であり、その上部を表示している。ロータがその周りを回転する軸に対して垂直な断面を表わしている。図３では、実施例によって、コーティング中にプロセス・ジェット２の幾何学的な死角領域に位置する内側表面又は隠れた領域を表す３つの異なる領域１０１が示されている。
例えば、基材の表面のクリーニング、サンドブラスト又はショット−ピーニング、イオン・クリーニング等、それ自体公知の方法でコーティングするために、ここではポンプのロータ５０である基材１０を準備した後、基材をプロセス・チャンバ内へ導入し、可動ホルダ、例えば回転可能なホルダに固定する。実際のコーティング・プロセスを始める前に、プロセス・チャンバ内において、プラズマ源によって、ロータの予熱をすることによって、それ自体公知の方法で追加のイオン・クリーニングを行うことができる。基材１０の予熱は、コーティングと基材との間のより良い結合を実現するように働く。
プロセス・ジェット２の長さ及び直径の両方がプロセス圧力の関数であるので、プロセス・チャンバ内のプロセス圧力に応じて吐出ノズル７間の溶射距離を選択する。本実施例では、プロセス圧力が１５０Ｐａであり、溶射距離Ｄが７００ｍｍになる。これによって、広いプラズマ火炎で大きな表面を覆い、プラズマ流又はプロセス・ジェット２がロータの複雑な幾何学形状を通り抜けるようにさせることが可能である。
プラズマ・トーチが基材１０に対して相対的に可動であるように、プラズマ・トーチを主軸上に配置する。それによって、プラズマによって制御された方法で全基材１０を加熱することができる。そして、コーティング中にロータ５０全体にわたってプロセス・ジェット２を掃射することができる。このようにして、堆積したコーティングの厚さ及び品質も監視することができる。
プラズマによるロータ５０の予熱を、例えば、次のコーティングと同じプラズマ・パラメータを用いて行うことができる。予熱のためにロータ５０全体にわたってプラズマ火炎を複数回動かす。そして、一様な加熱を確実にするためにこのプロセスでは前記ロータを回転させる。典型的には３００Ｋ〜５００Ｋの温度にロータを予熱する。
ＮｉＣｒ−ＣｒＣ（ニッケル・クロム−炭化クロム）を、コーティング材料として選択する。この点において、出発材料Ｐは、欧州特許出願公開第０９６０９５４号明細書に開示されている既述の粉末である。すなわち、出発材料Ｐでは、各粒子が、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、及び炭素（Ｃ）を実質的に含む熱溶射粉末である。クロムの第１の部分が、母材を形成するニッケルと共に合金を形成し、クロムの第２の部分が、堆積物の形態でＮｉＣｒ母材中に実質的に一様に分布する炭素と１つ又は複数の炭化クロム（例えば、Ｃｒ３Ｃ２又はＣｒ７Ｃ３）を形成する。堆積物の典型的なサイズは、０．１μｍ〜５μｍである。２つの粉末キャリア及びキャリア・ガス、ここではアルゴンによって、それ自体公知の方法で出発材料Ｐをプラズマ中へ導入する。
アルゴン（Ａｒ）及び水素（Ｈ２）の混合物が、プロセス・ガスに使用される。プロセス・ガスによってプラズマ又はプロセス・ジェット２が発生させられる。そのガス流量は、Ａｒが６０ＳＬＰＭ及びＨ２が１２ＳＬＰＭになる。４３．７５Ｖの電圧をもたらす２４００Ａの電流でプラズマを発生させる。そのとき、全電力は１０５ｋＷになる。プラズマ・トーチを水冷し、電力の一部を冷却システムへ出力する。そして、全電力の約４５％〜５５％の低下された電力が、プラズマ火炎をもたらす。直接プラズマ火炎中へ、すなわち、大きなエンタルピーの領域中へ粉末状の出発材料Ｐの注入を行う。２つの粉末キャリアを互いに反対側に配置する。出発材料をプラズマ中へ導入する供給速度は、２×３０ｇ／ｍｉｎ、すなわち、全量６０ｇ／ｍｉｎになる。キャリア・ガス、ここではアルゴンの流量を２×５ＳＬＰＭに設定する。コーティング時間は２〜１０分になる。
コーティングの後、ロータ５０を冷却する。これを、例えば、プロセス・チャンバとは異なるチャンバ内で行うことができる。中でロータ５０が冷却されるこのチャンバを、不活性ガス、特にアルゴンで満たし、事前設定可能な圧力にすることが好ましい。冷却中の内部歪及びひび割れを回避するように、基材１０のタイプ及び適用するコーティングのタイプに応じて冷却時間及び圧力を選択する。本実施例では、アルゴン圧力５０，０００Ｐａ、冷却時間１０分を選択している。
噴霧されたＮｉＣｒ−ＣｒＣの出発材料からの本実施例のような、この発明方法で生成されたコーティングは、典型的にはＨｖ（０．３）＝９００〜９５０のミクロ硬度を有する。
本発明方法は、プロセス・ジェットの見通しがきく領域内ではなくプロセス・ジェットの幾何学的な死角領域に位置する内側表面又は隠れた表面を有する基材上に、硬質金属層又は炭化物層などの金属腐食保護層又は浸食保護層を形成することに特に適している。
さらに、本発明方法は、ＭＣｒＡｌＸの層等を堆積するのに適している。ここで、Ｘは、イットリウムであることが特に好ましい。
既述のポンプのロータ５０に加えて、例えば、タービン部品に適用することができる。例えば、蒸気タービン、定置型ガス・タービン、又は航空機エンジン等のタービンは、通常、複数の回転ロータ及び静止ガイド部材を含む。ロータ及びガイド部材は、共に、複数のタービン翼をそれぞれ含む。タービン翼は、その根元の位置でタービンの共通主軸にそれぞれ取り付けられる。または、タービン翼は、複数のタービン翼をそれぞれが含むセグメントの形で設けられることができる。この設計は、クラスタ（ｃｌｕｓｔｅｒ）翼セグメント、又は、タービン翼の数に応じて、二枚翼セグメント、三枚翼セグメント等と呼ばれることが多い。
これらの方法を用いてコーティングを死角領域にも行うことができるので、本発明方法を、特に、クラスタ翼セグメントに有利に使用することができる。クラスタ翼部材においては、プロセス・ジェットが幾何学的な意味で直接作用することができない幾何学的な死角領域又は隠れた領域若しくは覆われた領域がある。プロセス・ジェット中で基部本体を回転させても、又はプロセス・ジェットと基部本体との間で他の相対的な運動をさせても、やはりこのような領域に到達することができないということはよくあることである。本発明方法を使用することによって、プロセス・ジェットの見通しがきく領域内になく、プロセス・ジェットの幾何学的な死角に位置するこれらの領域に、コーティングを形成することができる。したがって、本発明方法により、角、端、及び円形部分をコーティングすることも可能である。
したがって、例えば、タービン翼を、単独ではなく既に組み立てられた大きな塊の状態でコーティングすることが可能である。
基材をコーティングするための方法において、プロセス・ジェット２をデフォーカスするプラズマへ注入し、その中において、最大２０，０００Ｐａの低いプロセス圧力で、液相２１へ部分的に又は完全に溶融して、出発材料Ｐをプラズマ溶射によってプロセス・ジェット２の形で基材１０；５０へ溶射し、液相２１からの堆積によって、基材１０；５０が、プロセス・ジェット２に対して幾何学的な死角に位置する少なくとも１つの領域１０１においてコーティングされるように、プロセス・ジェット２用のガス流を設定する。
Claims (18)
- 基材のコーティングのための方法であって、前記方法においては、プロセス・ジェット（２）をデフォーカスするプラズマ中へ出発材料（Ｐ）を注入し、その中において、最大２０，０００Ｐａの低いプロセス圧力で、前記出発材料（Ｐ）を液相又は流動化した相（２１）へ部分的に又は完全に溶融して、出発材料（Ｐ）をプラズマ溶射によってプロセス・ジェット（２）の形で基材（１０；５０）へ溶射する、方法において、
前記出発材料（Ｐ）が金属母材又は金属合金を含有しており、前記プロセス・ジェット（２）中の前記出発材料（Ｐ）の温度が前記金属母材又は金属合金の沸点よりも低くなっており、前記プロセス・ジェット（２）に対して幾何学的な死角に位置する少なくとも１つの領域（１０１）において、前記液相又は流動化した相（２１）からの堆積によって、前記基材（１０；５０）がコーティングされるように、前記プロセス・ジェット（２）用のガス流を設定し、前記プロセス・ジェット（２）用のガス流が、５０〜２００ＳＬＰＭの全流量を有することを特徴とする、方法。 - 前記プロセス圧力が、少なくとも５０Ｐａ、最大１０，０００Ｐａである、請求項１に記載された方法。
- 前記プロセス・ジェット（２）用の吐出ノズル（７）と前記基材（１０；５０）との間の溶射距離（Ｄ）が、５０ｍｍ〜１５００ｍｍである、請求項１又は請求項２に記載された方法。
- 前記プロセス・ジェット（２）用の吐出ノズル（７）と前記基材（１０；５０）との間の溶射距離（Ｄ）が、４００ｍｍより大きい、請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記プロセス・ジェット（２）用の吐出ノズル（７）と前記基材（１０；５０）との間の溶射距離（Ｄ）が、７００ｍｍ〜１０００ｍｍである、請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記プロセス・ジェット（２）の供給範囲が、最大１６０ｇ／ｍｉｎで、少なくとも２０ｇ／ｍｉｎの範囲から選択される、請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載された方法。
- 腐食保護層又は浸食保護層（１１）が、前記基材（１０；５０）上に形成される、請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記出発材料（Ｐ）が、ＭＣｒＡｌＸタイプの金属合金であり、ここで、Ｍがニッケル（Ｎｉ）及び／又はコバルト（Ｃｏ）及び／又は鉄（Ｆｅ）を表し、Ｘがイットリウム（Ｙ）及び／又はジルコニウム（Ｚｒ）及び／又はハフニウム（Ｈｆ）を表す、請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載された方法。
- 硬質金属層（１１）又は炭化物層（１１）が、前記基材（１０；５０）上に形成される、請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載された方法。
- 層（１１）が、炭化タングステン又は炭化クロム、及びニッケル−クロム又はコバルト・クロムを含有する前記基材（１０；５０）上に形成される、請求項１から請求項９までのいずれか一項に記載された方法。
- ニッケル・クロム層又はニッケル−炭化クロム層が、前記基材（１０；５０）上に形成される、請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記出発材料（Ｐ）が、２つの金属及び炭素を各々が実質的に含む粒子を含む溶射粉末であり、第１の金属が、第２の金属との合金になる一部分、及び炭素と炭化物を形成する別の一部分を含む、請求項１から請求項１１までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記第１の金属が、クロムであり、前記第２の金属が、ニッケルであり、前記炭化物が、析出物の形で前記金属母材中に一様に分布する、請求項１２に記載された方法。
- 前記出発材料（Ｐ）が、５〜５０マイクロメートルのサイズの粒子を含む溶射粉末である、請求項１から請求項１３までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記出発材料（Ｐ）が、１０〜２０マイクロメートルのサイズの粒子を含む溶射粉末である、請求項１から請求項１４までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記基材が、回転機械のロータ（５０）である、請求項１から請求項１５までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記基材が、ポンプのロータ（５０）である、請求項１から請求項１６までのいずれか一項に記載された方法。
- プラズマ溶射によって形成されるコーティングを有する基材であって、出発材料がプロセス・ジェット（２）をデフォーカスするプラズマ中へ注入され、その中において、最大２０，０００Ｐａの低いプロセス圧力で、液相又は流動化した相（２１）へ部分的に又は完全に溶融されて、出発材料（Ｐ）がプロセス・ジェット（２）の形で前記基材（１０；５０）上へ溶射される、基材において、
前記出発材料（Ｐ）が金属母材又は金属合金を含有しており、前記プロセス・ジェット（２）中の前記出発材料（Ｐ）の温度が前記金属母材又は金属合金の沸点よりも低くなっており、前記コーティングが前記液相又は流動化した相（２１）からの堆積によって形成され、前記コーティングが前記プロセス・ジェット（２）に対して幾何学的な死角に位置する少なくとも１つの領域（１０１）に形成されることを特徴とする、基材。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP09159805.2 | 2009-05-08 | ||
| EP09159805 | 2009-05-08 | ||
| PCT/EP2010/056276 WO2010128147A1 (de) | 2009-05-08 | 2010-05-07 | Verfahren zum beschichten eines substrats sowie substrat mit einer beschichtung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012526196A JP2012526196A (ja) | 2012-10-25 |
| JP5599455B2 true JP5599455B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=41110806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012509053A Expired - Fee Related JP5599455B2 (ja) | 2009-05-08 | 2010-05-07 | 基材のコーティングのための方法及びコーティングを有する基材 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8815006B2 (ja) |
| EP (1) | EP2427585B1 (ja) |
| JP (1) | JP5599455B2 (ja) |
| KR (1) | KR20120023644A (ja) |
| CN (1) | CN102439193B (ja) |
| CA (1) | CA2757074C (ja) |
| WO (1) | WO2010128147A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1911858B1 (de) * | 2006-10-02 | 2012-07-11 | Sulzer Metco AG | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung mit kolumnarer Struktur |
| US20140335282A1 (en) * | 2011-12-09 | 2014-11-13 | Georg Fischer Automotive (Suzhou) Co Ltd | Method for coating a substrate |
| US20150079370A1 (en) * | 2013-09-18 | 2015-03-19 | Applied Materials, Inc. | Coating architecture for plasma sprayed chamber components |
| WO2018146156A1 (en) * | 2017-02-07 | 2018-08-16 | Oerlikon Metco Ag, Wohlen | Abradable coating |
| US11047035B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-06-29 | Applied Materials, Inc. | Protective yttria coating for semiconductor equipment parts |
| US12083554B2 (en) * | 2018-12-17 | 2024-09-10 | Borregaard As | Spraying of microfibrillated cellulose |
| CN115627439B (zh) * | 2022-11-18 | 2023-03-21 | 矿冶科技集团有限公司 | 一种无分层组织结构的致密厚合金涂层及其制备方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62256954A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-09 | Agency Of Ind Science & Technol | 繊維強化金属系複合材料の中間素材製造方法 |
| CN1036286A (zh) * | 1988-02-24 | 1989-10-11 | 珀金·埃莱姆公司 | 超导陶瓷的次大气压等离子体喷涂 |
| JPH03294470A (ja) * | 1990-04-12 | 1991-12-25 | Nippon Steel Corp | 低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
| JPH03294468A (ja) * | 1990-04-12 | 1991-12-25 | Nippon Steel Corp | 低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
| JPH10504605A (ja) * | 1994-08-18 | 1998-05-06 | ホーセル・グラフィック・インダストリーズ・リミテッド | 印刷版の製造における、およびこれに関連する改良 |
| US5679167A (en) | 1994-08-18 | 1997-10-21 | Sulzer Metco Ag | Plasma gun apparatus for forming dense, uniform coatings on large substrates |
| US6071324A (en) | 1998-05-28 | 2000-06-06 | Sulzer Metco (Us) Inc. | Powder of chromium carbide and nickel chromium |
| JP2002539331A (ja) * | 1999-03-16 | 2002-11-19 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | 支持体に硬磁性ｓｅ−ｆｅ−ｂ材を被着する方法と装置 |
| CH695689A5 (de) * | 2001-05-23 | 2006-07-31 | Sulzer Metco Ag | Verfahren zum Erzeugen eines wärmedämmenden Schichtsystems auf einem metallischen Substrat. |
| US7678428B2 (en) * | 2002-04-12 | 2010-03-16 | Sulzer Metco Ag | Plasma spraying method |
| CA2460296C (en) * | 2003-05-23 | 2012-02-14 | Sulzer Metco Ag | A hybrid method for the coating of a substrate by a thermal application of the coating |
| SE528807C2 (sv) * | 2004-12-23 | 2007-02-20 | Siemens Ag | Komponent av en superlegering innehållande palladium för användning i en högtemperaturomgivning samt användning av palladium för motstånd mot väteförsprödning |
| EP1911858B1 (de) * | 2006-10-02 | 2012-07-11 | Sulzer Metco AG | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung mit kolumnarer Struktur |
| EP2030669B1 (de) * | 2007-08-16 | 2014-04-02 | Sulzer Metco AG | Verfahren zum Herstellen einer wasserstoffpermeablen Membran sowie wasserstoffpermeable Membran |
| EP2025772A1 (de) * | 2007-08-16 | 2009-02-18 | Sulzer Metco AG | Verfahren zum Herstellen einer funktionalen Schicht |
-
2010
- 2010-05-07 KR KR1020117026578A patent/KR20120023644A/ko not_active Application Discontinuation
- 2010-05-07 CN CN2010800200296A patent/CN102439193B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-07 EP EP10717174.6A patent/EP2427585B1/de not_active Not-in-force
- 2010-05-07 US US13/266,727 patent/US8815006B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-07 CA CA2757074A patent/CA2757074C/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-07 JP JP2012509053A patent/JP5599455B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-07 WO PCT/EP2010/056276 patent/WO2010128147A1/de active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US8815006B2 (en) | 2014-08-26 |
| EP2427585A1 (de) | 2012-03-14 |
| EP2427585B1 (de) | 2020-08-12 |
| CN102439193A (zh) | 2012-05-02 |
| JP2012526196A (ja) | 2012-10-25 |
| CN102439193B (zh) | 2013-11-06 |
| CA2757074C (en) | 2018-04-10 |
| KR20120023644A (ko) | 2012-03-13 |
| WO2010128147A1 (de) | 2010-11-11 |
| US20120132106A1 (en) | 2012-05-31 |
| CA2757074A1 (en) | 2010-11-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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