JP5594110B2 - Lens for imaging apparatus and imaging apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、近赤外線遮断効果を備えた撮像装置用レンズ、およびそれを用いた撮像装置に関する。   The present invention relates to a lens for an imaging device having a near-infrared shielding effect, and an imaging device using the same.

デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ等に使用される固体撮像素子(CCD、CMOS等)の感度は、光の波長の可視領域から近赤外領域にわたっている。一方、人間の視感度は光の波長の可視領域のみである。そのため、例えばデジタルスチルカメラにおいては、撮像レンズと固体撮像素子との間に、可視波長領域(波長420〜630nm)の光を透過し、かつ近赤外波長領域(波長700〜1200nm)の光を吸収または反射する近赤外線カットフィルタを設けることで、人間の視感度に近づくように固体撮像素子の感度を補正している。   The sensitivity of solid-state image sensors (CCD, CMOS, etc.) used in digital still cameras, digital video cameras, etc. extends from the visible region to the near infrared region of the wavelength of light. On the other hand, human visibility is only in the visible region of the wavelength of light. Therefore, for example, in a digital still camera, light in the visible wavelength region (wavelength 420 to 630 nm) is transmitted and light in the near infrared wavelength region (wavelength 700 to 1200 nm) is transmitted between the imaging lens and the solid-state imaging device. By providing a near-infrared cut filter that absorbs or reflects, the sensitivity of the solid-state imaging device is corrected so as to approach human visibility.

しかしながら、近赤外線カットフィルタを配置することによって、撮像装置の小型化・薄型化が阻害されるとともに、部品数の増加によって、製品価格も高くなるという問題があった。   However, the arrangement of the near-infrared cut filter hinders downsizing and thinning of the image pickup apparatus, and increases the number of parts, resulting in a problem that the product price increases.

そこで、上記問題を解決すべく、レンズの表面に近赤外領域の波長の光を遮断する効果を有する誘電体多層膜を設けたり、あるいは、近赤外領域の波長の光を選択的に吸収するガラス材料を用いてレンズを成形する等、レンズ自体に近赤外線カットフィルタ機能を付与したものが開発されてきている(例えば、特許文献1、2参照)。   Therefore, in order to solve the above problems, a dielectric multilayer film having an effect of blocking light in the near-infrared region is provided on the surface of the lens, or light in the near-infrared region is selectively absorbed. For example, lenses having a near-infrared cut filter function have been developed, such as molding a lens using a glass material (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

しかしながら、前者の誘電体多層膜は、光の干渉によって近赤外領域の光を反射して遮断する、いわゆる反射型の干渉フィルタ作用を有するものであるため、遮断特性が光の入射角度により変わり、画像の中央部と周辺部で色特性が変化するという問題がある。また、反射した光が迷光となり固体撮像素子に入射することによるゴーストと呼ばれる多重像が発生しやすいという問題もある。一方、後者のレンズは、材料自体が高価であるとともに、軟化点の高いガラス材料をプレス成型するため製造コストも高くなり、低コスト化を図ることができない。さらに、撮像装置の近赤外線カットフィルタには、近赤外領域の波長の光を単に遮断する効果に加え、暗部をより明るく撮影するため、波長630〜700nmの間で急峻に透過率が変化することが求められるが、上記レンズはいずれもかかる特性が不十分である。   However, the former dielectric multilayer film has a so-called reflective interference filter function that reflects and blocks light in the near-infrared region by light interference, so that the blocking characteristic varies depending on the incident angle of light. There is a problem that the color characteristics change between the central portion and the peripheral portion of the image. Another problem is that multiple images called ghosts are likely to occur due to the reflected light becoming stray light and entering the solid-state imaging device. On the other hand, in the latter lens, the material itself is expensive, and a glass material having a high softening point is press-molded. Therefore, the manufacturing cost is high, and the cost cannot be reduced. Further, the near-infrared cut filter of the imaging device has a sharp change in transmittance between wavelengths of 630 to 700 nm in order to capture dark areas more brightly, in addition to the effect of simply blocking light of wavelengths in the near-infrared region. However, all of the above lenses have insufficient characteristics.

特開平5−207350号公報JP-A-5-207350 特開2002−139605号公報JP 2002-139605 A

本発明は、良好な近赤外線遮断特性を有するとともに、撮像装置の十分な小型化、薄型化、低コスト化を図ることができる撮像装置用レンズ、および、このような撮像装置用レンズを用いた撮像装置を提供することを目的とする。   The present invention uses a lens for an imaging device that has good near-infrared shielding characteristics and can sufficiently reduce the size, thickness, and cost of the imaging device, and such an imaging device lens. An object is to provide an imaging device.

本発明の一態様に係る撮像装置用レンズは、固体撮像素子を備えた撮像装置に用いられるレンズであって、少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子からなり、数平均凝集粒子径が5〜200nmである近赤外線吸収粒子を含有するか、または前記近赤外線吸収粒子を含有する層を備えることを特徴としている。 An imaging device lens according to an aspect of the present invention is a lens used in an imaging device including a solid-state imaging device, and is made of an oxide crystallite containing at least Cu and / or P, and has a number average aggregate particle diameter. Contains near-infrared absorbing particles having a diameter of 5 to 200 nm , or a layer containing the near-infrared absorbing particles .

上記撮像装置用レンズにおいて、前記近赤外線吸収粒子を含有する層は、レンズ本体の少なくとも一方の面に形成された層であってよい。 In the imaging device lens, the layer containing the near-infrared absorbing particles may be a layer formed on at least one surface of the lens body.

上記撮像装置用レンズにおいて、前記酸化物は、下式(1)で表わされる化合物(例えば、LiCuPO、Mg1/2CuPO等)であってよい。
1/nCuPO …(1)
(式中、Aは、アルカリ金属(Li、Na、K、Rb、Cs)、アルカリ土類金属(Mg、Ca、Sr、Ba)およびNHからなる群より選ばれる少なくとも1種であり、nは、Aがアルカリ金属またはNHの場合は1であり、Aがアルカリ土類金属の場合は2である。)
In the imaging device lens, the oxide may be a compound represented by the following formula (1) (e.g., LiCuPO 4, Mg 1/2 CuPO 4, etc.).
A 1 / n CuPO 4 (1)
(In the formula, A is at least one selected from the group consisting of alkali metals (Li, Na, K, Rb, Cs), alkaline earth metals (Mg, Ca, Sr, Ba) and NH 4 ; Is 1 when A is an alkali metal or NH 4 and is 2 when A is an alkaline earth metal.)

上記撮像装置用レンズにおいて、前記近赤外線吸収粒子は、X線回折から求めた結晶子の大きさが、5〜80nmであってよい。   In the imaging device lens, the near-infrared absorbing particles may have a crystallite size of 5 to 80 nm determined from X-ray diffraction.

上記撮像装置用レンズにおいて、前記近赤外線吸収粒子は、下式(2)で表わされる反射率の変化量Dが、−0.41%/nm以下であってよい。
D(%/nm)=[R700(%)−R600(%)]/[700(nm)−600(nm)] …(2)
(式中、R700は、近赤外線吸収粒子の拡散反射スペクトルにおける波長700nmの反射率であり、R600は、近赤外線吸収粒子の拡散反射スペクトルにおける波長600nmの反射率である。)
In the imaging device lens, the near-infrared absorbing particles may have a reflectance change amount D represented by the following formula (2) of −0.41% / nm or less.
D (% / nm) = [R 700 (%) − R 600 (%)] / [700 (nm) −600 (nm)] (2)
(In the formula, R 700 is a reflectance at a wavelength of 700 nm in the diffuse reflection spectrum of the near-infrared absorbing particles, and R 600 is a reflectance at a wavelength of 600 nm in the diffuse reflection spectrum of the near-infrared absorbing particles.)

上記撮像装置用レンズにおいて、前記近赤外線吸収粒子は、拡散反射スペクトルにおける波長715nmの反射率が、19%以下であり、かつ波長500nmの反射率が、85%以上であってよい。   In the imaging device lens, the near-infrared absorbing particles may have a reflectance at a wavelength of 715 nm in a diffuse reflection spectrum of 19% or less and a reflectance at a wavelength of 500 nm of 85% or more.

上記撮像装置用レンズにおいて、前記近赤外線吸収粒子は、顕微IRスペクトルにおいて、リン酸基に帰属される1000cm−1付近のピークの吸収強度を基準(100%)とした際に、水に帰属される1600cm−1付近のピークの吸収強度が8%以下であり、かつ水酸基に帰属される3750cm−1付近のピークの吸収強度が26%以下であってよい。 In the imaging device lens, the near-infrared absorbing particles are attributed to water in a microscopic IR spectrum when the absorption intensity of a peak near 1000 cm −1 attributed to a phosphate group is used as a reference (100%). The peak absorption intensity near 1600 cm −1 may be 8% or less, and the peak absorption intensity near 3750 cm −1 attributed to a hydroxyl group may be 26% or less.

上記撮像装置用レンズにおいて、前記近赤外線吸収粒子を含有する層における前記近赤外線吸収粒子の含有量が、20〜60質量%であってよい。 The said lens for imaging devices WHEREIN: Content of the said near-infrared absorption particle in the layer containing the said near-infrared absorption particle may be 20-60 mass%.

上記撮像装置用レンズにおいて、前記近赤外線吸収粒子を含有する層は、少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子のない近赤外線吸収材をさらに含有してもよい。 In the lens for an imaging device, the layer containing the near-infrared absorbing particles may further contain a near-infrared absorbing material free from oxide crystallites containing at least Cu and / or P.

上記撮像装置用レンズにおいて、前記近赤外線吸収粒子を含有する層における前記少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子のない近赤外線吸収材の含有量が、0.5〜30質量%であってよい。 In the lens for an imaging device , the content of the near-infrared absorbing material having no crystallites of an oxide containing at least Cu and / or P in the layer containing the near-infrared absorbing particles is 0.5 to 30% by mass. It may be.

上記撮像装置用レンズにおいて、前記少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子のない近赤外線吸収材として、ITO粒子を含んでもよい。 In the imaging device lens, ITO particles may be included as a near-infrared absorbing material having no crystallites of oxide containing at least Cu and / or P.

上記撮像装置用レンズにおいて、前記近赤外線吸収粒子を含有する層は、下式(3)で表わされる透過率の変化量D’が、−0.36%/nm以下であってよい。
D’(%/nm)=[T700(%)−T630(%)]/[700(nm)−630(nm)] …(3)
(式中、T700は、近赤外線吸収粒子を含有する層の透過スペクトルにおける波長700nmの透過率であり、T630は、近赤外線吸収粒子を含有する層の透過スペクトルにおける波長630nmの透過率である。)
In the lens for an imaging device, the layer containing the near-infrared absorbing particles may have a transmittance change amount D ′ represented by the following formula (3) of −0.36% / nm or less.
D ′ (% / nm) = [T 700 (%) − T 630 (%)] / [700 (nm) −630 (nm)] (3)
(Where T 700 is the transmittance at a wavelength of 700 nm in the transmission spectrum of the layer containing near-infrared absorbing particles, and T 630 is the transmittance at a wavelength of 630 nm in the transmission spectrum of the layer containing near-infrared absorbing particles. is there.)

本発明の一態様に係る撮像装置は、上記撮像装置用レンズと、前記レンズを介して入射した光を受光し電気信号に変換する固体撮像素子とを具備することを特徴としている。   An imaging device according to an aspect of the present invention includes the imaging device lens and a solid-state imaging device that receives light incident through the lens and converts the light into an electrical signal.

本発明の一態様に係る撮像装置用レンズによれば、良好な近赤外線遮断特性を有するとともに、撮像装置の十分な小型化、薄型化、低コスト化を図ることができる。また、本発明の一態様に係る撮像装置によれば、撮影画像の高品質化とともに、装置の小型化、薄型化、低コスト化を図ることができる。   According to the lens for an imaging device according to one embodiment of the present invention, the imaging device has favorable near-infrared shielding characteristics, and the imaging device can be sufficiently reduced in size, thickness, and cost. In addition, according to the imaging device of one embodiment of the present invention, it is possible to improve the quality of a captured image and reduce the size, thickness, and cost of the device.

本発明の第1の実施形態による撮像装置用レンズの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the lens for imaging devices by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態による撮像装置用レンズの一変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the lens for imaging devices by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態による撮像装置用レンズの他の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other modification of the lens for imaging devices by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態による撮像装置用レンズのさらに他の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the further another modification of the lens for imaging devices by the 1st Embodiment of this invention. 本発明において使用される近赤外線吸収粒子のX線回折の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the X-ray diffraction of the near-infrared absorption particle used in this invention. 本発明の第2の実施形態による撮像装置用レンズの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the lens for imaging devices by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態による撮像装置用レンズの一変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the lens for imaging devices by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態による撮像装置用レンズの他の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other modification of the lens for imaging devices by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態による撮像装置の一例の要部構成を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows roughly the principal part structure of an example of the imaging device by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態による撮像装置の一例の要部構成を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows roughly the principal part structure of an example of the imaging device by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の実施例の近赤外線吸収層の透過スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the transmission spectrum of the near-infrared absorption layer of the Example of this invention. 本発明の他の実施例の近赤外線吸収層の透過スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the transmission spectrum of the near-infrared absorption layer of the other Example of this invention. 本発明の他の実施例の近赤外線吸収層の透過スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the transmission spectrum of the near-infrared absorption layer of the other Example of this invention. 本発明の他の実施例の近赤外線吸収層の透過スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the transmission spectrum of the near-infrared absorption layer of the other Example of this invention.

以下、本発明を実施するための形態について説明する。なお、説明は図面に基づいて行うが、それらの図面は単に図解のために提供されるものであって、本発明はそれらの図面により何ら限定されるものではない。   Hereinafter, modes for carrying out the present invention will be described. Although the description will be made based on the drawings, the drawings are provided for illustration only, and the present invention is not limited to the drawings.

(第1の実施の形態)
図1は、本実施の形態に係る撮像装置用レンズを示す断面図である。本実施形態の撮像装置用レンズは、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話、ノート型パーソナルコンピュータ、PDA(Personal Digital Assistant)等の情報機器に組み込まれる小型カメラ等の撮像装置の、固体撮像素子に結像させるレンズ系の全部または一部を構成するレンズである。
(First embodiment)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a lens for an imaging device according to the present embodiment. The lens for the image pickup apparatus of the present embodiment is a solid-state image pickup element of an image pickup apparatus such as a small camera incorporated in an information device such as a digital still camera, a digital video camera, a mobile phone, a notebook personal computer, or a PDA (Personal Digital Assistant). This lens constitutes all or part of a lens system that forms an image.

図1に示すように、この撮像装置用レンズ10Aは、一方の面(屈折面)11aが平面で他方の面(屈折面)11bが凸面の、いわゆるガラス平凸レンズからなるレンズ本体11の一方の面11aに後述するような近赤外線吸収粒子を含有する層(近赤外線吸収層)12を設け、他方の面11bに反射防止膜13を設けた構造を有する。   As shown in FIG. 1, this imaging device lens 10A has one surface (refractive surface) 11a as a flat surface and the other surface (refractive surface) 11b as a convex surface. The surface 11a is provided with a layer (near infrared absorbing layer) 12 containing near infrared absorbing particles as described later, and the antireflection film 13 is provided on the other surface 11b.

レンズ本体11に用いられるレンズは、従来、この種の用途に使用されるレンズであれば、形状や材質等は特に限定されるものではない。図2および図3は、レンズ本体11として使用される他の例を示したものである。すなわち、図2に示す撮像装置用レンズ10Bでは、レンズ本体11として、外周部に平板部14を有するガラス平凸レンズが用いられ、平面からなる一方の面11aに近赤外線吸収層12が設けられ、他方の凸面側の面11bに反射防止膜13が設けられている。また、図3に示す撮像装置用レンズ10Cでは、レンズ本体11として、一方の面11aが凹面を有し、他方の面11bが凸面を有し、さらに、外周部に平板部14を有するガラス凹凸レンズが用いられ、このガラス凹凸レンズの凹面側の面11aに近赤外線吸収層12を設けられ、他方の凸面側の面11bに反射防止膜13が設けられている。図3に示したような凹凸レンズは、凸レンズの機能を有するものは凸メニスカス、凹レンズの機能を有するものは凹メニスカスと呼ばれている。   If the lens used for the lens main body 11 is a lens conventionally used for this kind of use, a shape, a material, etc. will not be specifically limited. 2 and 3 show other examples used as the lens body 11. That is, in the imaging apparatus lens 10B shown in FIG. 2, a glass plano-convex lens having a flat plate portion 14 on the outer peripheral portion is used as the lens body 11, and the near-infrared absorbing layer 12 is provided on one surface 11a made of a plane. An antireflection film 13 is provided on the other convex surface 11b. Further, in the imaging device lens 10C shown in FIG. 3, as the lens body 11, one surface 11a has a concave surface, the other surface 11b has a convex surface, and further has a flat plate portion 14 on the outer peripheral portion. A lens is used, a near-infrared absorbing layer 12 is provided on the concave surface 11a of the glass concave-convex lens, and an antireflection film 13 is provided on the other convex surface 11b. In the concavo-convex lens as shown in FIG. 3, a lens having a convex lens function is called a convex meniscus, and a lens having a concave lens function is called a concave meniscus.

レンズ本体11を構成する材料としては、例えば、水晶、ニオブ酸リチウム、サファイヤ等の結晶;BK7、石英、精密プレス成形用低融点ガラス等のガラス;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等のプラスチック等が挙げられる。これらの材料は、紫外領域および/または近赤外領域の波長の光に対して吸収特性を有するものであってもよい。また、レンズ本体11は、例えば、フツリン酸塩系ガラスやリン酸塩系ガラス等にCuO等を添加した色ガラスで構成されていてもよい。また、図面は、いずれも屈折型レンズの例であるが、フレネルレンズ等の回折を利用した回折レンズや、屈折と回折を併用したハイブリッドレンズ等であってもよい。   Examples of the material constituting the lens body 11 include crystals such as quartz, lithium niobate, and sapphire; glasses such as BK7, quartz, and low-melting glass for precision press molding; polyethylene terephthalate (PET) and polybutylene terephthalate (PBT). Polyester resin such as polyethylene, polypropylene, ethylene vinyl acetate copolymer, etc., acrylic resin such as norbornene resin, polyacrylate, polymethyl methacrylate, urethane resin, vinyl chloride resin, fluorine resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin And plastics such as polyvinyl alcohol resin. These materials may have an absorption characteristic for light having a wavelength in the ultraviolet region and / or near infrared region. The lens body 11 may be made of, for example, colored glass obtained by adding CuO or the like to fluorophosphate glass or phosphate glass. The drawings are examples of refractive lenses, but may be a diffractive lens using diffraction such as a Fresnel lens, a hybrid lens using both refraction and diffraction, or the like.

また、図示は省略したが、例えば、レンズ本体11の一方の面11aに反射防止膜13を設け、他方の面11bに近赤外線吸収層12を設けるようにしてもよく、さらに、他方の面11bに、反射防止膜13に代えて、一方の面11aと同様の近赤外線吸収層12を形成してもよい。すなわち、レンズ本体11の両面11a、11bにいずれも近赤外線吸収層12を設けるようにしてもよい。   Although not shown, for example, the antireflection film 13 may be provided on one surface 11a of the lens body 11, and the near-infrared absorbing layer 12 may be provided on the other surface 11b, and the other surface 11b. Furthermore, instead of the antireflection film 13, a near infrared absorption layer 12 similar to the one surface 11a may be formed. That is, you may make it provide the near-infrared absorption layer 12 in both surfaces 11a and 11b of the lens main body 11. FIG.

また、近赤外線吸収層と空気と近接する表面に誘電体多層膜やモスアイ構造を設けてもよい。これにより、界面反射を低減し、光の利用効率を高めることができる。誘電体多層膜は、酸化シリコン、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化タンタル、アルミナ等の金属酸化物、フッ化マグネシウム等の金属フッ化物、フッ素樹脂等の透明材料からなる膜を積層し、光の干渉を利用して反射抑制効果を発現させるもので、その形成にあたっては、例えば、CVD法、スパッタ法、真空蒸着法等の真空成膜プロセスや、スプレー法、ディップ法等の湿式成膜プロセス等を用いることができる。また、モスアイ構造は、例えば、400nmよりも小さい周期で規則的な突起配列を形成したもので、厚さ方向に実効的な屈折率が連続的に変化するため、周期より長い波長の光の表面反射率を抑える機能を有する。モスアイ構造は、モールド成型等により形成することができる。   Further, a dielectric multilayer film or a moth-eye structure may be provided on the surface close to the near-infrared absorbing layer and air. Thereby, interface reflection can be reduced and the utilization efficiency of light can be improved. Dielectric multilayer film is made by laminating films made of transparent materials such as metal oxides such as silicon oxide, titanium oxide, niobium oxide, tantalum oxide and alumina, metal fluorides such as magnesium fluoride, fluororesin, etc. For example, a vacuum film formation process such as a CVD method, a sputtering method, or a vacuum deposition method, or a wet film formation process such as a spray method or a dip method, etc. Can be used. In addition, the moth-eye structure is a structure in which a regular protrusion array is formed with a period smaller than 400 nm, for example, and the effective refractive index continuously changes in the thickness direction. It has a function of suppressing reflectivity. The moth-eye structure can be formed by molding or the like.

レンズ本体11は、また、複数のレンズを接着剤で接合した構造のものであってよく、この場合、接合面に近赤外線吸収層を設けることができる。図4は、そのような撮像装置用レンズの一例を示したもので、この撮像装置用レンズ10Dは、レンズ本体11が2つのレンズ11A、11Bで構成され、その接合面に近赤外線吸収層12を設けるとともに、接合面とは反対側の面に反射防止膜13を設けた構造となっている。このような撮像装置用レンズ10Dは、2つのレンズ11A、11Bの一方(例えば、レンズ11A)に近赤外線吸収層12を設け、接着剤で他方(例えば、レンズ11B)と一体に貼り合わせて形成するようにしてもよく、あるいは、2つのレンズ11A、11Bを近赤外線吸収層12を接着剤として貼り合わせるようにしてもよい。   The lens body 11 may have a structure in which a plurality of lenses are bonded with an adhesive, and in this case, a near-infrared absorbing layer can be provided on the bonding surface. FIG. 4 shows an example of such a lens for an imaging device. In this imaging device lens 10D, a lens body 11 is composed of two lenses 11A and 11B, and a near-infrared absorbing layer 12 is formed on a joint surface thereof. And an antireflection film 13 is provided on the surface opposite to the bonding surface. Such an imaging device lens 10D is formed by providing the near-infrared absorbing layer 12 on one of the two lenses 11A and 11B (for example, the lens 11A) and bonding them together with the other (for example, the lens 11B) with an adhesive. Alternatively, the two lenses 11A and 11B may be bonded together using the near-infrared absorbing layer 12 as an adhesive.

レンズ本体11に用いるレンズの種類や、反射防止膜13の有無等は、用途や、組み合わせて使用するレンズの種類、配置場所等を考慮して適宜定められる。   The type of lens used in the lens body 11 and the presence or absence of the antireflection film 13 are appropriately determined in consideration of the purpose of use, the type of lens used in combination, the arrangement location, and the like.

なお、レンズ本体11としてガラスからなるレンズを使用する場合、その表面には、近赤外線吸収層12や反射防止膜13との密着性を高めるため、シランカップリング剤による表面処理が施されていてもよい。シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−N’−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシランのようなアミノシラン類や、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランのようなエポキシシラン類、ビニルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランのようなビニルシラン類、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等を用いることができる。   In addition, when using the lens which consists of glass as the lens main body 11, in order to improve the adhesiveness with the near-infrared absorption layer 12 and the anti-reflective film 13, the surface treatment by the silane coupling agent is given to the surface. Also good. Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -N′-β- (amino Ethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, aminosilanes such as γ-anilinopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane Epoxy silanes such as, vinyltrimethoxysilane, vinyl silanes such as N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-chloro Propyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxy Silane or the like can be used.

また、レンズ本体11としてプラスチックからなるレンズを使用する場合、近赤外線吸収粒子含有層12や反射防止膜13を形成する前に、レンズ表面にコロナ処理や易接着処理を施すことが好ましい。   Moreover, when using the lens which consists of plastics as the lens main body 11, before forming the near-infrared absorption particle content layer 12 and the anti-reflective film 13, it is preferable to give a corona treatment and an easily bonding process to the lens surface.

次に、近赤外線吸収層12について説明する。
近赤外線吸収層12に含まれる近赤外線吸収粒子は、前述した式(1)で表わされる化合物の結晶子からなり、かつ数平均凝集粒子径が5〜200nmのものである。なお、本発明において、近赤外線吸収粒子は、特にこのような粒子に限定されるものではなく、少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子からなり、かつ数平均凝集粒子径が5〜200nmのものであればよい。結晶子を吸収物質として使用することにより、結晶構造に起因する近赤外線吸収特性を維持することができる。また、結晶子は微粒子であるため、近赤外線吸収層12中に高濃度で吸収物質を含有させることが可能となり、単位長あたりの吸収能を高めることができる。
Next, the near infrared absorption layer 12 will be described.
The near-infrared absorbing particles contained in the near-infrared absorbing layer 12 are composed of crystallites of the compound represented by the formula (1) described above, and have a number average aggregate particle diameter of 5 to 200 nm. In the present invention, the near-infrared absorbing particles are not particularly limited to such particles, and are composed of oxide crystallites containing at least Cu and / or P, and have a number average aggregate particle diameter of 5 to 5. What is necessary is just 200 nm. By using the crystallite as an absorbing substance, it is possible to maintain near-infrared absorption characteristics resulting from the crystal structure. Further, since the crystallite is a fine particle, it is possible to contain an absorbing substance at a high concentration in the near-infrared absorbing layer 12, and the absorption capacity per unit length can be increased.

ここで、「結晶子」とは単結晶とみなせる単位結晶を意味し、「粒子」は複数の結晶子によって構成される。「式(1)で表わされる化合物の結晶子からなる」とは、例えば、図5に示すように、X線回折によってA1/nCuPOの結晶構造を確認でき、実質的にA1/nCuPOの結晶子からなることがX線回折によって同定されていることを意味し、「実質的にA1/nCuPOの結晶子からなる」とは、結晶子がA1/nCuPOの結晶構造を十分に維持できる(X線回折によってA1/nCuPOの結晶構造を確認できる)範囲内で不純物を含んでいてもよいことを意味する。なお、X線回折は、粉末状態の近赤外線吸収粒子について、X線回折装置を用いて測定される。 Here, “crystallite” means a unit crystal that can be regarded as a single crystal, and “particle” is composed of a plurality of crystallites. By "represented by consisting crystallites of the compound with formula (1)", for example, as shown in FIG. 5, can confirm the crystal structure of A 1 / n CuPO 4 by X-ray diffraction, essentially A 1 / It means that the crystallite of n CuPO 4 is identified by X-ray diffraction, and “substantially consists of crystallite of A 1 / n CuPO 4 ” means that the crystallite is A 1 / n CuPO 4. 4 may contain impurities within a range where the crystal structure of 4 can be sufficiently maintained (the crystal structure of A 1 / n CuPO 4 can be confirmed by X-ray diffraction). In addition, X-ray diffraction is measured about the near-infrared absorption particle | grains of a powder state using an X-ray-diffraction apparatus.

近赤外線吸収粒子の数平均凝集粒子径は、200nm以下であり、100nm以下であることが好ましく、70nm以下であることがより好ましい。また、近赤外線吸収粒子の数平均凝集粒子径は、5nm以上であり、10nm以上であることが好ましく、30nm以上であることがより好ましい。数平均凝集粒子径が5nm以上であれば、微粒子化のため過剰な粉砕処理を必要とせず、結晶子がA1/nCuPOの結晶構造を維持でき、その結果、近赤外線吸収特性を発現できる。また、数平均凝集粒子径が200nmを超えると、ミー散乱を含めた散乱の影響を大きく受けるため、可視波長帯の光の透過率が大きく減少し、近赤外線吸収層12のコントラストやヘーズ等の性能が低下する。数平均凝集粒子径が100nm以下であれば、散乱の影響が少なくなり、特に70nm以下であれば、レイリー散乱に起因する散乱光の影響も受けにくくなるため、透明性が高くなる。数平均凝集粒子径が30〜70nmであれば、近赤外線吸収層のヘーズが低くなり(すなわち、透過率が高くなり)、近赤外線吸収特性がより向上する。ここで、数平均凝集粒子径は、近赤外線吸収粒子を分散媒に分散させた粒子径測定用分散液について、動的光散乱式粒度分布測定装置を用いて測定した値である。 The number average aggregated particle diameter of the near infrared absorbing particles is 200 nm or less, preferably 100 nm or less, and more preferably 70 nm or less. Moreover, the number average aggregate particle diameter of the near-infrared absorbing particles is 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and more preferably 30 nm or more. If the number average agglomerated particle diameter is 5 nm or more, excessive pulverization treatment is not required for the formation of fine particles, and the crystallite can maintain the crystal structure of A 1 / n CuPO 4. As a result, near infrared absorption characteristics are exhibited. it can. Further, when the number average aggregate particle diameter exceeds 200 nm, it is greatly affected by scattering including Mie scattering, so that the transmittance of light in the visible wavelength band is greatly reduced, and the contrast and haze of the near infrared absorption layer 12 are reduced. Performance decreases. If the number average agglomerated particle diameter is 100 nm or less, the influence of scattering is reduced, and if it is 70 nm or less, the influence of scattered light due to Rayleigh scattering is less likely to be affected, so that the transparency is increased. If the number average aggregate particle diameter is 30 to 70 nm, the haze of the near-infrared absorbing layer is reduced (that is, the transmittance is increased), and the near-infrared absorbing characteristics are further improved. Here, the number average agglomerated particle diameter is a value measured using a dynamic light scattering particle size distribution measuring device for a particle diameter measurement dispersion in which near-infrared absorbing particles are dispersed in a dispersion medium.

なお、近赤外線吸収層12のヘーズ値は1%以下に制御することが好ましく、ヘーズ値が1%を超えると画像が不鮮明になる。ヘーズ値は0.2%以下に制御することがより好ましい。   The haze value of the near-infrared absorbing layer 12 is preferably controlled to 1% or less. If the haze value exceeds 1%, the image becomes unclear. The haze value is more preferably controlled to 0.2% or less.

近赤外線吸収粒子における結晶子の大きさは、5〜80nmであることが好ましく、10〜80nmであることがより好ましい。結晶子の大きさが5nm以上であれば、結晶子がA1/nCuPOの結晶構造を十分に維持でき、その結果、十分な近赤外線吸収特性を発現できる。また、結晶子の大きさが80nm以下であれば、近赤外線吸収粒子の数平均凝集粒子径を小さく抑えることができ、近赤外線吸収層のヘーズが低く抑えられる。なお、結晶子の大きさは、近赤外線吸収粒子についてX線回折を行い、シェラーの方法により計算によって求めた値である。 The crystallite size in the near-infrared absorbing particles is preferably 5 to 80 nm, and more preferably 10 to 80 nm. If the crystallite size is 5 nm or more, the crystallite can sufficiently maintain the crystal structure of A 1 / n CuPO 4 , and as a result, sufficient near-infrared absorption characteristics can be exhibited. If the crystallite size is 80 nm or less, the number-average aggregated particle diameter of the near-infrared absorbing particles can be kept small, and the haze of the near-infrared absorbing layer can be kept low. The crystallite size is a value obtained by performing X-ray diffraction on near-infrared absorbing particles and calculating by Scherrer's method.

式(1)中のAとして、アルカリ金属(Li、Na、K、Rb、Cs)、アルカリ土類金属(Mg、Ca、Sr、Ba)、またはNHを採用する理由は、下記の(i)〜(iii)の通りである。
(i)近赤外線吸収粒子における結晶子の結晶構造は、PO 3−とCu2+との交互結合からなる網目状三次元骨格であり、骨格の内部に空間を有する。該空間のサイズが、アルカリ金属イオン(Li:0.090nm、Na:0.116nm、K:0.152nm、Rb:0.166nm、Cs:0.181nm)、アルカリ土類金属イオン(Mg2+:0.086nm、Ca2+:0.114nm、Sr2+:0.132nm、Ba2+:0.149nm)およびNH (0.166nm)のイオン半径と適合するため、結晶構造を十分に維持できる。
(ii)アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオンおよびNH は、溶液中で1価または2価のカチオンとして安定的に存在できるため、近赤外線吸収粒子の製造過程において、前駆体が生成する際、結晶構造中にカチオンが取り込まれやすい。
(iii)PO 3−と配位結合性の強いカチオン( 例えば、遷移金属イオン等)では、十分な近赤外線吸収特性を発現する本発明における結晶構造とは異なる結晶構造を与える可能性がある。
The reason for adopting alkali metal (Li, Na, K, Rb, Cs), alkaline earth metal (Mg, Ca, Sr, Ba), or NH 4 as A in formula (1) is as follows (i ) To (iii).
(I) The crystal structure of the crystallite in the near-infrared absorbing particle is a network-like three-dimensional skeleton composed of alternating bonds of PO 4 3− and Cu 2+, and has a space inside the skeleton. The size of the space is alkali metal ion (Li + : 0.090 nm, Na + : 0.116 nm, K + : 0.152 nm, Rb + : 0.166 nm, Cs + : 0.181 nm), alkaline earth metal In order to match the ionic radius of ions (Mg 2+ : 0.086 nm, Ca 2+ : 0.114 nm, Sr 2+ : 0.132 nm, Ba 2+ : 0.149 nm) and NH 4 + (0.166 nm) Sufficiently maintain.
(Ii) Alkali metal ions, alkaline earth metal ions, and NH 4 + can stably exist as monovalent or divalent cations in the solution, so that a precursor is generated in the process of producing near-infrared absorbing particles. At this time, cations are easily incorporated into the crystal structure.
(Iii) A cation having strong coordination bond with PO 4 3- (for example, a transition metal ion or the like) may give a crystal structure different from the crystal structure in the present invention that exhibits sufficient near-infrared absorption characteristics. .

式(1)中のAとしては、PO 3−とCu2+とからなる骨格内に取り込まれるイオンとして最もカチオンサイズが適し、熱力学的な安定構造をとる点から、Kが特に好ましい。 As A in the formula (1), K is particularly preferable because it has the most suitable cation size as an ion taken into the skeleton composed of PO 4 3− and Cu 2+ and takes a thermodynamically stable structure.

近赤外線吸収粒子は、下式(2)で表わされる反射率の変化量Dが、−0.41%/nm以下であることが好ましく、−0.45%/nm以下であることがより好ましい。
D(%/nm)=[R700(%)−R600(%)]/[700(nm)−600(nm)] …(2)
式中、R700は、近赤外線吸収粒子の拡散反射スペクトルにおける波長700nmの反射率であり、R600は、近赤外線吸収粒子の拡散反射スペクトルにおける波長600nmの反射率である。
The near-infrared absorbing particles preferably have a reflectance change amount D represented by the following formula (2) of −0.41% / nm or less, and more preferably −0.45% / nm or less. .
D (% / nm) = [R 700 (%) − R 600 (%)] / [700 (nm) −600 (nm)] (2)
In the formula, R 700 is a reflectance at a wavelength of 700 nm in the diffuse reflection spectrum of the near-infrared absorbing particles, and R 600 is a reflectance at a wavelength of 600 nm in the diffuse reflection spectrum of the near-infrared absorbing particles.

粉体に光吸収がある拡散反射スペクトル測定では、光吸収波長において光路長により光吸収の強度が異なるため、透過スペクトルでの弱い吸収帯が比較的強く観測される。そこで、本明細書中での反射率の変化率算出は、透過スペクトルでの透過率変化と同等に反射率が変化する範囲である600−700nmの反射率の値を用いる。   In the diffuse reflection spectrum measurement in which the powder absorbs light, the intensity of light absorption varies depending on the optical path length at the light absorption wavelength, so that a weak absorption band in the transmission spectrum is observed relatively strongly. Therefore, the reflectance change rate calculation in this specification uses a reflectance value of 600 to 700 nm, which is a range in which the reflectance changes in the same manner as the transmittance change in the transmission spectrum.

近赤外線吸収粒子の反射率が高いということは、近赤外線吸収粒子による光の吸収が少なく、近赤外線吸収粒子の反射率が低いということは、近赤外線吸収粒子による光の吸収が多いことを示している。すなわち、近赤外線吸収粒子の反射率は、近赤外線吸収粒子の透過率の目安となる。   High reflectivity of near infrared absorbing particles means that light absorption by near infrared absorbing particles is low, and low reflectivity of near infrared absorbing particles means that light absorption by near infrared absorbing particles is high. ing. That is, the reflectance of the near infrared absorbing particles is a measure of the transmittance of the near infrared absorbing particles.

よって、前記反射率の変化量Dが−0.41%/nm以下であれば、波長630〜700nmの間における透過率の変化が十分に急峻となり、これを含有する近赤外線吸収層は、撮像装置用レンズに好適となる。   Therefore, if the reflectance change amount D is −0.41% / nm or less, the transmittance change between wavelengths of 630 to 700 nm is sufficiently steep, and the near-infrared absorbing layer containing this has an imaging function. Suitable for apparatus lens.

また、近赤外線吸収粒子は、拡散反射スペクトルにおける波長715nmの反射率が、19%以下であることが好ましく、18%以下であることがより好ましい。また、近赤外線吸収粒子は、拡散反射スペクトルにおける波長500nmの反射率が、85%以上であることが好ましく、86%以上であることがより好ましい。なお、拡散反射スペクトルは、粉末状態の近赤外線吸収粒子について、紫外可視分光光度計を用いて測定される。   The near-infrared absorbing particles preferably have a reflectance at a wavelength of 715 nm in the diffuse reflection spectrum of 19% or less, and more preferably 18% or less. Further, the near-infrared absorbing particles preferably have a reflectance at a wavelength of 500 nm in the diffuse reflection spectrum of 85% or more, and more preferably 86% or more. In addition, a diffuse reflection spectrum is measured about the near-infrared absorption particle of a powder state using an ultraviolet visible spectrophotometer.

近赤外線吸収粒子は、結晶子がA1/nCuPOの結晶構造を十分に維持することによって、十分な近赤外線吸収特性を発現できる。よって、結晶子の表面に水または水酸基が付着した場合、A1/nCuPOの結晶構造を維持できなくなるため、可視光領域と近赤外波長領域の光の透過率の差が減少し、これを含有する近赤外線吸収層は、撮像装置用レンズに適さない。 The near-infrared absorbing particles can exhibit sufficient near-infrared absorption characteristics when the crystallites sufficiently maintain the crystal structure of A 1 / n CuPO 4 . Therefore, when water or a hydroxyl group adheres to the surface of the crystallite, the crystal structure of A 1 / n CuPO 4 cannot be maintained, so that the difference in light transmittance between the visible light region and the near infrared wavelength region is reduced. A near-infrared absorbing layer containing this is not suitable for a lens for an imaging device.

よって、近赤外線吸収粒子は、顕微IRスペクトルにおいて、リン酸基に帰属される1000cm−1付近のピークの吸収強度を基準(100%)とした際に、水に帰属される1600cm−1付近のピークの吸収強度が8%以下であり、かつ水酸基に帰属される3750cm−1付近のピークの吸収強度が26%以下であることが好ましく、水に帰属される1600cm−1付近のピークの吸収強度が5%以下であり、かつ水酸基に帰属される3750cm−1付近のピークの吸収強度が15%以下であることがより好ましい。なお、顕微IRスペクトルは、粉末状態の近赤外線吸収粒子について、フーリエ変換赤外分光光度計を用いて測定される。具体的には、例えば、Thermo Fisher Scientific社製のフーリエ変換赤外分光光度計Magna760を用い、そのダイヤモンドプレート上に、近赤外線吸収粒子の1片を置き、ローラーで平坦にし、顕微FT−IR法により測定する。 Therefore, the near-infrared absorbing particles have a peak of about 1600 cm −1 attributed to water when the absorption intensity of the peak near 1000 cm −1 attributed to the phosphate group is used as a reference (100%) in the microscopic IR spectrum. It is preferable that the peak absorption intensity is 8% or less, and the peak absorption intensity near 3750 cm −1 attributed to a hydroxyl group is 26% or less, and the peak absorption intensity near 1600 cm −1 attributed to water. Is 5% or less, and the absorption intensity of the peak near 3750 cm −1 attributed to the hydroxyl group is more preferably 15% or less. The microscopic IR spectrum is measured with a Fourier transform infrared spectrophotometer for powdered near-infrared absorbing particles. Specifically, for example, using a Fourier transform infrared spectrophotometer Magna 760 manufactured by Thermo Fisher Scientific, a piece of near-infrared absorbing particles is placed on the diamond plate, flattened with a roller, and microscopic FT-IR method Measure with

また、近赤外線吸収粒子においては、A1/nCuPO以外の結晶構造、例えば、A1/nCu(POが増えると、波長630〜700nmの間における透過率の変化が緩慢となる。よって、X線回折によって実質的にA1/nCuPOの結晶子からなることが同定されていることが好ましい。 Further, in the near-infrared absorbing particles, when the crystal structure other than A 1 / n CuPO 4 , for example, A 1 / n Cu 4 (PO 4 ) 3 increases, the change in transmittance between wavelengths of 630 to 700 nm is slow. It becomes. Therefore, it is preferable that it has been identified by X-ray diffraction that it is substantially composed of A 1 / n CuPO 4 crystallites.

以上説明した、本実施形態において使用される近赤外線吸収粒子は、A1/nCuPOで表わされる化合物の結晶子からなり、かつ数平均凝集粒子径が5〜200nmであるため、可視波長領域の光の透過率が高く、近赤外波長領域の光の透過率が低く、かつ波長630〜700nmの間で急峻に透過率が変化する。 The near-infrared absorbing particles used in the present embodiment described above are composed of crystallites of a compound represented by A 1 / n CuPO 4 and have a number average aggregated particle diameter of 5 to 200 nm. The transmittance of light is high, the transmittance of light in the near infrared wavelength region is low, and the transmittance sharply changes between wavelengths of 630 to 700 nm.

上記近赤外線吸収粒子は、例えば下記の工程(a)〜(c)を有する方法により製造することができる。
(a)Cu2+を含む塩と、PO 3−を含む塩または有機物とを、Cu2+に対するPO 3−のモル比(PO 3−/Cu2+)が10〜20となるような割合で、かつAn+の存在下に混合する工程
(b)工程(a)で得られた生成物を560〜760℃で焼成する工程
(c)工程(b)で得られた焼成物を、数平均凝集粒子径が5〜200nmとなるように解砕する工程
The near-infrared absorbing particles can be produced, for example, by a method having the following steps (a) to (c).
(A) a salt containing Cu 2+, a salt or an organic material containing PO 4 3-, proportions as PO 4 3- molar ratio with respect to Cu 2+ (PO 4 3- / Cu 2+) is 10 to 20 And (b) a step of mixing in the presence of An + (b) a step of baking the product obtained in step (a) at 560 to 760 ° C. (c) several baking products obtained in step (b) Step of crushing so that the average aggregated particle diameter is 5 to 200 nm

[工程(a)]
Cu2+を含む塩としては、硫酸銅(II)五水和物、塩化銅(II)二水和物、酢酸銅(II)一水和物、臭化銅(II)、硝酸銅(II)三水和物等が挙げられる。
[Step (a)]
Examples of salts containing Cu 2+ include copper (II) sulfate pentahydrate, copper (II) chloride dihydrate, copper (II) acetate monohydrate, copper (II) bromide, and copper (II) nitrate. And trihydrate.

PO 3−を含む塩または有機物としては、アルカリ金属のリン酸塩、リン酸のアンモニウム塩、アルカリ土類金属のリン酸塩、リン酸等が挙げられる。 Examples of the salt or organic substance containing PO 4 3- include alkali metal phosphates, ammonium phosphates, alkaline earth metal phosphates, phosphoric acid, and the like.

アルカリ金属のリン酸塩またはアルカリ土類金属のリン酸塩としては、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸カリウム、リン酸水素二ナトリウム十二水和物、リン酸二水素ナトリウム二水和物、リン酸三ナトリウム十二水和物、リン酸リチウム、リン酸水素カルシウム、リン酸水素マグネシウム三水和物、リン酸マグネシウム八水和物等が挙げられる。また、リン酸のアンモニウム塩としては、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム四水和物、リン酸アンモニウム三水和物等が挙げられる。   Examples of alkali metal phosphate or alkaline earth metal phosphate include dipotassium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, potassium phosphate, disodium hydrogen phosphate dodecahydrate, sodium dihydrogen phosphate Examples thereof include dihydrate, trisodium phosphate dodecahydrate, lithium phosphate, calcium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate trihydrate, and magnesium phosphate octahydrate. Examples of the ammonium salt of phosphoric acid include diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate tetrahydrate, and ammonium phosphate trihydrate.

n+を存在させる方法としては、PO 3−を含む塩としてアルカリ金属のリン酸塩、リン酸のアンモニウム塩、アルカリ土類金属のリン酸塩等を用いる方法;Cu2+を含む塩とPO 3−を含む塩または有機物とを混合する際に、An+を含む塩を添加する方法等が挙げられる。 As a method for allowing An + to exist, a method using an alkali metal phosphate, an ammonium phosphate, an alkaline earth metal phosphate, or the like as a salt containing PO 4 3- ; a salt containing Cu 2+ and PO 4 When a salt containing 3- or an organic substance is mixed, a method of adding a salt containing An + is exemplified.

n+を含む塩としては、アルカリ金属の水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、アルカリ金属の塩化物、アルカリ土類金属の塩化物、アルカリ金属の臭化物、アルカリ土類金属の臭化物、アルカリ金属の硝酸塩、アルカリ土類金属の硝酸塩、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ土類金属の炭酸塩、アルカリ金属の硫酸塩、アルカリ土類金属の硫酸塩等が挙げられる。 Salts containing An + include alkali metal hydroxides, alkaline earth metal hydroxides, alkali metal chlorides, alkaline earth metal chlorides, alkali metal bromides, alkaline earth metal bromides, Examples thereof include alkali metal nitrates, alkaline earth metal nitrates, alkali metal carbonates, alkaline earth metal carbonates, alkali metal sulfates, alkaline earth metal sulfates, and the like.

Cu2+を含む塩とPO 3−を含む塩または有機物との混合は、Cu2+を含む塩、PO 3−を含む塩、必要に応じてAn+を含む塩を溶解し得る溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、水が好ましい。 Mixing a salt containing Cu 2+ with a salt containing PO 4 3− or an organic substance is carried out in a solvent capable of dissolving a salt containing Cu 2+ , a salt containing PO 4 3−, and a salt containing An + as required. Preferably it is done. As the solvent, water is preferable.

Cu2+を含む塩とPO 3−を含む塩または有機物との割合は、Cu2+に対するPO 3−のモル比(PO 3−/Cu2+)が10〜20、好ましくは12〜18となるような割合とする。PO 3−/Cu2+が10以上であれば、A1/nCu(POが副生しない、または副生したとしてもその量が、結晶子がA1/nCuPOの結晶構造を十分に維持できる程度であるため、波長630〜700nmの間における透過率の変化が十分に急峻となる近赤外線吸収粒子が得られる。PO 3−/Cu2+が20以下であれば、A1/nCuPO以外の不純物が副生しない、または副生したとしてもその量が、結晶子がA1/nCuPOの結晶構造を十分に維持できる程度であるため、波長630〜700nmの間における透過率の変化が十分に急峻となる近赤外線吸収粒子が得られる。 Ratio of the salt or organic containing salt and PO 4 3- and containing Cu 2+ is, PO 4 3- molar ratio with respect to Cu 2+ (PO 4 3- / Cu 2+) 10-20, preferably 12-18 and The ratio is as follows. If PO 4 3− / Cu 2+ is 10 or more, even if A 1 / n Cu 4 (PO 4 ) 3 is not by-produced or by-produced, the amount of the crystallite is A 1 / n CuPO 4 . Since the crystal structure is sufficiently maintained, near-infrared absorbing particles in which the change in transmittance between wavelengths of 630 to 700 nm is sufficiently steep can be obtained. If PO 4 3− / Cu 2+ is 20 or less, impurities other than A 1 / n CuPO 4 are not by-produced, or even if they are by-produced, the amount of the crystal structure is A 1 / n CuPO 4 . Therefore, near-infrared absorbing particles in which the change in transmittance between wavelengths of 630 to 700 nm is sufficiently steep can be obtained.

Cu2+を含む塩とPO 3−を含む塩または有機物とを混合する際の温度は、10〜95℃が好ましく、15〜40℃がより好ましい。温度が高すぎると、溶媒の蒸発による溶質の濃縮が生じ、目的とする生成物以外の不純物が混入するおそれがある。温度が低すぎると、反応速度が遅くなり、反応時間が長くなるため、工程上好ましくない。 Temperature at the time of mixing the salt or organic containing salt and PO 4 3- and containing Cu 2+ is preferably 10 to 95 ° C., and more preferably from 15 to 40 ° C.. If the temperature is too high, the solute is concentrated by evaporation of the solvent, and impurities other than the target product may be mixed. If the temperature is too low, the reaction rate becomes slow and the reaction time becomes long, which is not preferable in terms of the process.

生成物は、濾過等によって分離された後、必要に応じて、洗浄、乾燥、乾式粉砕される。工程(b)における焼成の際に、水を介した粒子の固着を抑え、粒子の成長を抑える点から、有機溶媒で生成物を洗浄し、生成物に含まれる水分を除去することが好ましい。   The product is separated by filtration or the like, and then washed, dried, and dry pulverized as necessary. In the firing in the step (b), it is preferable to remove the moisture contained in the product by washing the product with an organic solvent from the viewpoint of suppressing the adhesion of the particles via water and suppressing the growth of the particles.

[工程(b)]
焼成温度は、560〜760℃が好ましく、580〜750℃がより好ましい。焼成温度が560℃以上であれば、構造相転移により結晶構造が変化し、構造相転移後の結晶構造は室温に冷却した後も維持される。焼成温度が760℃以下であれば、加熱分解が抑えられる。なお、焼成温度が低すぎると、前記温度範囲で焼成した場合と結晶構造が異なってしまい、十分な分光特性が得られないおそれがある。
[Step (b)]
The firing temperature is preferably 560 to 760 ° C, more preferably 580 to 750 ° C. If the firing temperature is 560 ° C. or higher, the crystal structure changes due to the structural phase transition, and the crystal structure after the structural phase transition is maintained even after cooling to room temperature. If the firing temperature is 760 ° C. or lower, thermal decomposition can be suppressed. If the firing temperature is too low, the crystal structure is different from the case of firing in the above temperature range, and sufficient spectral characteristics may not be obtained.

焼成の際には、粒子の成長を抑える点から、被焼成物(工程(a)で得られた生成物)を流動させることが好ましい。被焼成物を流動させながら焼成できる装置としては、ロータリーキルン炉等が挙げられる。   In firing, it is preferable to flow the product to be fired (the product obtained in the step (a)) from the viewpoint of suppressing particle growth. A rotary kiln furnace etc. are mentioned as an apparatus which can be baked, making a to-be-baked material flow.

[工程(c)]
解砕方法としては、公知の乾式粉砕法または湿式粉砕法が挙げられ、数平均凝集粒子径を200nm以下としやすい点から、湿式粉砕法が好ましい。乾式粉砕法としては、ボールミル、ジェットミル、ミル型粉砕機、ミキサー型粉砕機等を用いる方法等が挙げられる。湿式粉砕法としては、湿式ミル(ボールミル、遊星ミル等)、クラッシャー、乳鉢、衝撃粉砕装置(ナノマイザー等)、湿式微粒子化装置等を用いる方法等が挙げられ、湿式微粒子化装置を用いる方法が好ましい。
[Step (c)]
Examples of the pulverization method include a known dry pulverization method or wet pulverization method, and the wet pulverization method is preferable from the viewpoint that the number average aggregated particle diameter is easily set to 200 nm or less. Examples of the dry pulverization method include a method using a ball mill, a jet mill, a mill pulverizer, a mixer pulverizer, and the like. Examples of the wet pulverization method include a method using a wet mill (ball mill, planetary mill, etc.), a crusher, a mortar, an impact pulverizer (nanomizer, etc.), a wet micronizer, etc., and a method using a wet micronizer is preferable. .

湿式粉砕法の場合、工程(b)で得られた焼成物を分散媒に分散させて解砕用分散液とする必要がある。分散媒としては、水、アルコール、ケトン、エーテル、エステル、アルデヒド等が挙げられる。分散媒は、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。分散媒としては、作業環境の点から、水またはアルコールが好ましく、解砕用分散液に高圧力をかける場合は、水が特に好ましい。分散媒の量は、焼成物の分散性を維持する点から、解砕用分散液(100質量%)のうち、50〜95質量%が好ましい。水としては、なかでも蒸留水が好ましく、特に、電気伝導率が1.0×10−4S/m以下のものが好ましい。また、アルコールとしては、特に、エタノール、イソプロピルアルコールが好ましい。 In the case of the wet pulverization method, it is necessary to disperse the fired product obtained in step (b) in a dispersion medium to obtain a dispersion for crushing. Examples of the dispersion medium include water, alcohol, ketone, ether, ester, aldehyde and the like. A dispersion medium may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. As the dispersion medium, water or alcohol is preferable from the viewpoint of the working environment, and water is particularly preferable when a high pressure is applied to the dispersion liquid for crushing. The amount of the dispersion medium is preferably 50 to 95% by mass in the disintegrating dispersion (100% by mass) from the viewpoint of maintaining the dispersibility of the fired product. Among them, distilled water is preferable, and water having an electric conductivity of 1.0 × 10 −4 S / m or less is particularly preferable. Moreover, as alcohol, especially ethanol and isopropyl alcohol are preferable.

解砕物は、必要に応じて、遠心分離等によって分散液から分離された後、洗浄、乾燥、乾式粉砕される。乾燥方法としては、加熱乾燥法、スプレードライ法、凍結乾燥法、真空乾燥法等が挙げられる。   The pulverized product is separated from the dispersion liquid by centrifugation or the like, if necessary, and then washed, dried, and dry pulverized. Examples of the drying method include a heat drying method, a spray drying method, a freeze drying method, and a vacuum drying method.

以上のようにして得られた近赤外線吸収粒子は、耐候性、耐酸性、耐水性等の向上や表面改質によるバインダ樹脂との相溶性の向上を目的に、公知の方法で表面処理されてもよい。   The near-infrared absorbing particles obtained as described above are subjected to surface treatment by a known method for the purpose of improving the weather resistance, acid resistance, water resistance, etc. and improving the compatibility with the binder resin by surface modification. Also good.

表面処理の方法としては、近赤外線吸収粒子を含む分散液中に、表面処理剤または溶媒で希釈した表面処理剤を添加し、撹拌して処理した後、溶媒を除去し乾燥させる方法(湿式法);近赤外線吸収粒子を撹拌しながら、表面処理剤または溶媒で希釈した表面処理剤を、乾燥空気または窒素ガスで噴射させて処理した後、乾燥させる方法(乾式法)が挙げられる。表面処理剤としては、界面活性剤、カップリング剤等が挙げられる。   As a surface treatment method, a surface treatment agent or a surface treatment agent diluted with a solvent is added to a dispersion containing near-infrared absorbing particles, the mixture is stirred and treated, and then the solvent is removed and dried (wet method). ); A method (dry method) in which a surface treatment agent diluted with a surface treatment agent or a solvent is jetted with dry air or nitrogen gas and then dried while stirring the near infrared absorbing particles (dry method). Examples of the surface treatment agent include a surfactant and a coupling agent.

近赤外線吸収層12における上記近赤外線吸収粒子の含有量は、20〜60質量%であることが好ましく、20〜50質量%であることがより好ましい。近赤外線吸収粒子の含有量が20質量%以上であれば、近赤外線吸収層12に十分な近赤外線吸収特性が得られる。また、近赤外線吸収粒子の含有量が60質量%以下であれば、可視波長領域の光の透過率を高く維持できる。   The content of the near-infrared absorbing particles in the near-infrared absorbing layer 12 is preferably 20 to 60% by mass, and more preferably 20 to 50% by mass. When the content of the near-infrared absorbing particles is 20% by mass or more, sufficient near-infrared absorbing characteristics for the near-infrared absorbing layer 12 can be obtained. Moreover, if the content of near-infrared absorbing particles is 60% by mass or less, the light transmittance in the visible wavelength region can be maintained high.

近赤外線吸収層12には、上記近赤外線吸収粒子以外の近赤外線ないし赤外線吸収材を含有させることができる。この場合、近赤外線吸収層12は、上記近赤外線吸収粒子および/または上記近赤外線吸収粒子以外の近赤外線ないし赤外線吸収材を含む層の多層構造とすることができる。   The near infrared absorbing layer 12 can contain a near infrared ray or an infrared absorbing material other than the near infrared absorbing particles. In this case, the near-infrared absorbing layer 12 may have a multilayer structure including a layer containing near-infrared absorbing particles and / or a near-infrared absorbing material other than the near-infrared absorbing particles.

上記近赤外線吸収粒子以外の近赤外線ないし赤外線吸収材としては、少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子のない近赤外線吸収材、例えば、ITO(In‐TiO系)、ATO(ZnO‐TiO系)、ホウ化ランタン等の無機微粒子、有機系色素等が挙げられる。なかでも、ITO粒子は、可視波長領域の光の透過率が高く、かつ1200nmを超える赤外波長領域も含めた広範囲の光吸収性を有するため、赤外波長領域の光の遮蔽性を必要とする場合に特に好ましい。ITO粒子は、近赤外線吸収層12中に、0.5〜30質量%含有させることが好ましく、1〜30質量%含有させることがより好ましい。ITO粒子の含有量が0.5質量%以上であれば、赤外波長領域の光の遮蔽性に対し一定の効果が得られる。また、ITO粒子の含有量が30質量%以下であれば、可視波長領域の光に吸収を示さず、透明性を保持できる。 As the near infrared ray or infrared ray absorbing material other than the near infrared ray absorbing particles, a near infrared ray absorbing material having no crystallites of oxide containing at least Cu and / or P, for example, ITO (In 2 O 3 -TiO 2 system), Examples thereof include inorganic fine particles such as ATO (ZnO—TiO 2 system) and lanthanum boride, and organic dyes. In particular, ITO particles have a high light transmittance in the visible wavelength region and have a wide range of light absorption properties including an infrared wavelength region exceeding 1200 nm, and therefore need to shield light in the infrared wavelength region. This is particularly preferable. It is preferable to contain 0.5-30 mass% of ITO particles in the near-infrared absorption layer 12, and it is more preferable to contain 1-30 mass%. When the content of the ITO particles is 0.5% by mass or more, a certain effect is obtained with respect to the light shielding property in the infrared wavelength region. Moreover, if content of ITO particle | grains is 30 mass% or less, it does not show absorption to the light of visible wavelength region, but can maintain transparency.

ITO粒子の数平均凝集粒子径は、散乱を抑制し、透明性を維持する点から、5〜200nmであることが好ましく、5〜100nmであることがより好ましく、5〜60nmであることがより一層好ましい。なお、有機系色素としては、例えば、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ジチオール金属錯体系化合物、ジイモニウム系化合物、ポリメチン系化合物、フタリド化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、インドフェノール系化合物等が使用できる。   The number average aggregate particle diameter of the ITO particles is preferably 5 to 200 nm, more preferably 5 to 100 nm, and more preferably 5 to 60 nm from the viewpoint of suppressing scattering and maintaining transparency. Even more preferred. Examples of organic dyes include cyanine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, dithiol metal complex compounds, diimonium compounds, polymethine compounds, phthalide compounds, naphthoquinone compounds, anthraquinone compounds, indophenols. Series compounds and the like can be used.

近赤外線吸収層12には、また、紫外線吸収材等の他の光吸収材を含有させることができる。紫外線吸収材としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、マイカ、カオリン、セリサイト等の粒子が挙げられる。他の光吸収材の数平均凝集粒子径は、透明性の点から、5〜200nmであることが好ましく、5〜100nmであることがより好ましく、5〜60nmであることがより一層好ましい。   The near-infrared absorbing layer 12 can also contain other light absorbing materials such as ultraviolet absorbing materials. Examples of the ultraviolet absorber include particles of zinc oxide, titanium oxide, cerium oxide, zirconium oxide, mica, kaolin, sericite, and the like. The number average aggregate particle diameter of the other light absorbing material is preferably 5 to 200 nm, more preferably 5 to 100 nm, and even more preferably 5 to 60 nm from the viewpoint of transparency.

近赤外線吸収層12には、さらに、透明樹脂を含有させることができる。透明樹脂を含有させることにより、近赤外線吸収層12の層形成が容易になるとともに、近赤外線吸収層12、ひいては撮像装置用レンズ10A〜10Cの耐久性を高めることができる。   The near-infrared absorbing layer 12 can further contain a transparent resin. By including the transparent resin, the near-infrared absorbing layer 12 can be easily formed, and the durability of the near-infrared absorbing layer 12 and thus the imaging device lenses 10A to 10C can be enhanced.

透明樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化型アクリル系樹脂、シルセスキオキサン樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。透明性の点から、なかでも、アクリル樹脂またはポリエステル系樹脂が好ましい。この透明樹脂の近赤外線吸収層12における含有量は、40〜80質量%であることが好ましく、50〜80質量%であることがより好ましい。透明樹脂の含有量が40質量%以上であれば、使用による効果が十分に得られ、また、80質量%以下であれば、十分な近赤外線吸収特性を維持できる。   Transparent resins include polyester resins, acrylic resins, polyolefin resins, polycarbonate resins, polyamide resins, alkyd resins, and other thermoplastic resins, epoxy resins, thermosetting acrylic resins, and thermosetting resins such as silsesquioxane resins. Is mentioned. Of these, acrylic resins or polyester resins are preferred from the viewpoint of transparency. The content of the transparent resin in the near-infrared absorbing layer 12 is preferably 40 to 80% by mass, and more preferably 50 to 80% by mass. If the content of the transparent resin is 40% by mass or more, the effect of use is sufficiently obtained, and if it is 80% by mass or less, sufficient near infrared absorption characteristics can be maintained.

近赤外線吸収層12には、上記成分の他に、さらに、本発明の効果を阻害しない範囲で、色調補正色素、レベリング剤、帯電防止剤、熱安定剤、酸化防止剤、分散剤、難燃剤、滑剤、可塑剤等が含有されていてもよい。   In addition to the above components, the near-infrared absorbing layer 12 further includes a color tone correction dye, a leveling agent, an antistatic agent, a heat stabilizer, an antioxidant, a dispersant, a flame retardant, as long as the effects of the present invention are not impaired. Further, a lubricant, a plasticizer and the like may be contained.

近赤外線吸収層12は、例えば、上記した近赤外線吸収粒子、および必要に応じて配合される他の成分を、分散媒に分散または溶解させて塗工液を調製し、この塗工液をレンズ本体11上に塗工し、乾燥させることにより形成できる。塗工、乾燥は、複数回に分けて行うことができ、また、その際、含有成分の異なる複数の塗工液を調製し、これらを順に塗工、乾燥させるようにしてもよい。具体的には、例えば、近赤外線吸収粒子を含む塗工液と、ITO粒子を含む塗工液をそれぞれ個別に調製し、これらを順にレンズ本体11上に塗工し、乾燥させて、近赤外線吸収層12を形成することができる。   The near-infrared absorbing layer 12 is prepared by, for example, preparing a coating liquid by dispersing or dissolving the above-described near-infrared absorbing particles and other components blended as necessary in a dispersion medium. It can be formed by coating on the main body 11 and drying. The coating and drying can be performed in a plurality of times. In this case, a plurality of coating liquids having different components may be prepared, and these may be sequentially coated and dried. Specifically, for example, a coating liquid containing near-infrared absorbing particles and a coating liquid containing ITO particles are individually prepared, and these are sequentially coated on the lens body 11 and dried. The absorption layer 12 can be formed.

分散媒としては、水、アルコール、ケトン、エーテル、エステル、アルデヒド、アミン、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。分散媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。分散媒としては、作業環境の点から、水またはアルコールが好ましい。分散媒の量は、近赤外線吸収粒子の分散性を維持する点から、分散液(100質量%)のうち、50〜95質量%が好ましい。   Examples of the dispersion medium include water, alcohol, ketone, ether, ester, aldehyde, amine, aliphatic hydrocarbon, alicyclic hydrocarbon, and aromatic hydrocarbon. A dispersion medium may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for it. The dispersion medium is preferably water or alcohol from the viewpoint of the working environment. The amount of the dispersion medium is preferably 50 to 95% by mass in the dispersion (100% by mass) from the viewpoint of maintaining the dispersibility of the near-infrared absorbing particles.

塗工液には、必要に応じて分散剤を配合することができる。分散剤としては、近赤外線吸収粒子の表面に対して改質効果を示すもの、例えば、界面活性剤、シラン化合物、シリコーンレジン、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤等が使用される。   A dispersing agent can be mix | blended with a coating liquid as needed. Examples of the dispersant include those having a modification effect on the surface of the near-infrared absorbing particles, such as surfactants, silane compounds, silicone resins, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, zircoaluminate cups. A ring agent or the like is used.

界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤(特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、アルキルリン酸エステル等)、ノニオン系界面活性剤(ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンカルボン酸エステル、ソルビタン高級カルボン酸エステル等)、カチオン系界面活性剤(ポリオキシエチレンアルキルアミンカルボン酸エステル、アルキルアミン、アルキルアンモニウム塩等)、両性界面活性剤(高級アルキルベタイン等)が挙げられる。   Surfactants include anionic surfactants (special polycarboxylic acid type polymer surfactants, alkyl phosphate esters, etc.), nonionic surfactants (polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenol ether, polyoxy Ethylene carboxylic acid esters, sorbitan higher carboxylic acid esters, etc.), cationic surfactants (polyoxyethylene alkylamine carboxylic acid esters, alkylamines, alkylammonium salts, etc.), and amphoteric surfactants (higher alkylbetaines, etc.). .

シラン化合物としては、シランカップリング剤、クロロシラン、アルコキシシラン、シラザン等が挙げられる。シランカップリング剤としては、官能基(グリシドキシ基、ビニル基、アミノ基、アルケニル基、エポキシ基、メルカプト基、クロロ基、アンモニウム基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基等)を有するアルコキシシラン等が挙げられる。   Examples of the silane compound include a silane coupling agent, chlorosilane, alkoxysilane, and silazane. Examples of the silane coupling agent include alkoxysilanes having a functional group (glycidoxy group, vinyl group, amino group, alkenyl group, epoxy group, mercapto group, chloro group, ammonium group, acryloxy group, methacryloxy group, etc.).

シリコーンレジンとしては、メチルシリコーンレジン、メチルフェニルシリコーンレジン等が挙げられる。   Examples of the silicone resin include methyl silicone resin and methylphenyl silicone resin.

チタネート系カップリング剤としては、アシロキシ基、ホスホキシ基、ピロホスホキシ基、スルホキシ基、アリーロキシ基等を有するものが挙げられる。   Examples of titanate coupling agents include those having an acyloxy group, phosphoxy group, pyrophosphoxy group, sulfoxy group, aryloxy group, and the like.

アルミニウム系カップリング剤としては、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレートが挙げられる。   Examples of the aluminum coupling agent include acetoalkoxyaluminum diisopropylate.

ジルコアルミネート系カップリング剤としては、アミノ基、メルカプト基、アルキル基、アルケニル基等を有するものが挙げられる。   Examples of the zircoaluminate coupling agent include those having an amino group, a mercapto group, an alkyl group, an alkenyl group, and the like.

分散剤の量は、分散剤の種類にもよるが、分散液(100質量%)のうち、0.5〜10質量%が好ましい。分散剤の量が該範囲内であれば、近赤外線吸収粒子の分散性が良好となり、透明性が損なわれず、また、経時的な近赤外線吸収粒子の沈降が抑えられる。   Although the quantity of a dispersing agent is based also on the kind of dispersing agent, 0.5-10 mass% is preferable among dispersion liquids (100 mass%). If the amount of the dispersant is within the above range, the dispersibility of the near-infrared absorbing particles becomes good, the transparency is not impaired, and the sedimentation of the near-infrared absorbing particles over time can be suppressed.

なお、塗工液の調製には、自転・公転式ミキサー、ビーズミル、遊星ミル、超音波ホモジナイザ等の攪拌装置を用いることができる。高い透明性を確保するためには、攪拌を十分に行うことが好ましい。撹拌は、連続的に行ってもよく、断続的に行ってもよい。   In addition, a stirrer such as a rotation / revolution mixer, a bead mill, a planetary mill, or an ultrasonic homogenizer can be used for preparing the coating liquid. In order to ensure high transparency, it is preferable to sufficiently stir. Stirring may be performed continuously or intermittently.

また、塗工液の塗工には、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、スピンコーティング法、ビードコーティング法、グラビアコーター法、マイクログラビア法、等のコーティング法を用いることができる。その他、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法等も用いることができる。   For coating the coating liquid, a coating method such as a dip coating method, a spray coating method, a spin coating method, a bead coating method, a gravure coater method, a micro gravure method, or the like can be used. In addition, a screen printing method, a flexographic printing method, etc. can also be used.

近赤外線吸収層12の厚さは、1〜200μmの範囲が好ましく、4〜100μmの範囲がより好ましく、20〜50μmの範囲がより一層好ましい。1μm以上とすることで、近赤外線吸収能を十分に発現させることができ、200μm以下とすることで、層形成時の分散媒の残留を抑制することができる。また、4μm以上とすると、さらに、膜厚の平坦性が得やすくなり、吸収率のバラツキが生じにくくすることができ、100μm以下とすると、さらに、膜厚の平坦性が得やすくなるうえに、薄型化に有利となる。   The thickness of the near-infrared absorbing layer 12 is preferably in the range of 1 to 200 μm, more preferably in the range of 4 to 100 μm, and still more preferably in the range of 20 to 50 μm. By setting it as 1 micrometer or more, near-infrared absorptivity can fully be expressed, and the residual of the dispersion medium at the time of layer formation can be suppressed by setting it as 200 micrometers or less. Further, when the thickness is 4 μm or more, it becomes easier to obtain the flatness of the film thickness, and it is possible to make it difficult for the variation in the absorption rate to occur. When the thickness is 100 μm or less, the flatness of the film thickness is further easily obtained. It is advantageous for thinning.

近赤外線吸収層12は、下式(3)で表わされる透過率の変化量D’は、−0.36%/nm以下が好ましく、−0.45%/nm以下がより好ましい。
D’(%/nm)=[T700(%)−T630(%)]/[700(nm)−630(nm)] …(3)。
式中、T700は、近赤外線吸収層の透過スペクトルにおける波長700nmの透過率であり、T630は、近赤外線吸収層の透過スペクトルにおける波長630nmの透過率である。
The near-infrared absorbing layer 12 has a transmittance change amount D ′ represented by the following formula (3) of preferably −0.36% / nm or less, and more preferably −0.45% / nm or less.
D ′ (% / nm) = [T 700 (%) − T 630 (%)] / [700 (nm) −630 (nm)] (3).
In the formula, T 700 is a transmittance at a wavelength of 700 nm in the transmission spectrum of the near-infrared absorbing layer, and T 630 is a transmittance at a wavelength of 630 nm in the transmission spectrum of the near-infrared absorbing layer.

透過率の変化量D’が、−0.36%/nm以下であれば、波長630〜700nmの間における透過率の変化が充分に急峻となり、撮像装置用レンズに好適となる。−0.45%/nm以下であれば、さらに、近赤外波長領域の光を遮断しつつ可視波長域の光の利用効率が向上し、暗部撮像でのノイズ抑制の点で有利となる。   When the transmittance change amount D ′ is −0.36% / nm or less, the transmittance change between wavelengths of 630 to 700 nm is sufficiently steep, which is suitable for a lens for an imaging device. If it is −0.45% / nm or less, the utilization efficiency of light in the visible wavelength region is further improved while blocking light in the near infrared wavelength region, which is advantageous in terms of noise suppression in dark area imaging.

また、近赤外線吸収層12の波長715nmの透過率は、10%以下が好ましく、5%以下がより好ましい。また、近赤外線吸収層12の波長500nmの透過率は、80%以上が好ましく、85%以上がより好ましい。なお、近赤外線吸収層の透過率は、紫外可視分光光度計を用いて測定される。   Further, the transmittance of the near-infrared absorbing layer 12 at a wavelength of 715 nm is preferably 10% or less, and more preferably 5% or less. Further, the transmittance of the near-infrared absorbing layer 12 at a wavelength of 500 nm is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more. In addition, the transmittance | permeability of a near-infrared absorption layer is measured using an ultraviolet visible spectrophotometer.

反射防止膜13は、酸化ジルコニウム、酸化セシウム、酸化タンタル、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化イットリウム、酸化スズ、酸化タングステン等の金属酸化物、フッ化マグネシウム等の金属フッ化物、フッ素樹脂等の透明材料からなる膜を積層し、光の干渉を利用して反射抑制効果を発現させるもので、その形成にあたっては、例えば、CVD法、スパッタ法、真空蒸着法等の真空成膜プロセスや、スプレー法、ディップ法等の湿式成膜プロセス等を用いることができる。   The antireflection film 13 is made of a metal oxide such as zirconium oxide, cesium oxide, tantalum oxide, alumina, magnesium oxide, yttrium oxide, tin oxide or tungsten oxide, a metal fluoride such as magnesium fluoride, or a transparent material such as fluororesin. In order to form a reflection suppression effect by using light interference, for example, a vacuum film forming process such as a CVD method, a sputtering method, a vacuum evaporation method, a spray method, a dip method, etc. A wet film forming process such as a method can be used.

本実施形態の撮像装置用レンズ10A〜10Cは、レンズ本体11の少なくとも一方の面に、近赤外線吸収層12を備えるので、従来、別体で配置していた近赤外線カットフィルタを省略することができ、撮像装置の小型化、薄型化、低コスト化を図ることができる。   The imaging device lenses 10 </ b> A to 10 </ b> C of the present embodiment include the near-infrared absorbing layer 12 on at least one surface of the lens body 11, so that the near-infrared cut filter that has been conventionally arranged separately may be omitted. Thus, the imaging apparatus can be reduced in size, thickness, and cost.

しかも、近赤外線吸収層12は、A1/nCuPOで表わされる化合物の結晶子からなり、数平均凝集粒子径が5〜200nmであるため、可視波長領域の光の透過率が高く、近赤外波長領域の光の透過率が低く、かつ波長630〜700nmの間で急峻に透過率が変化する近赤外線吸収粒子を含有するので、良好な近赤外線遮断特性を有することができる。 Moreover, the near-infrared absorbing layer 12 is made of a crystallite of a compound represented by A 1 / n CuPO 4 and has a number average aggregate particle diameter of 5 to 200 nm. Since near-infrared absorbing particles having a low light transmittance in the infrared wavelength region and a sharp change in transmittance between wavelengths of 630 to 700 nm are contained, it is possible to have good near-infrared shielding characteristics.

また、近赤外線吸収粒子を分散媒に分散させて調製した塗工液をレンズ本体11の一主面に、塗工、乾燥させることにより、近赤外線吸収層12を形成することができるため、容易に、かつ低コストで製造することができる。   Moreover, since the near-infrared absorption layer 12 can be formed by coating and drying a coating liquid prepared by dispersing near-infrared absorbing particles in a dispersion medium on one main surface of the lens body 11, it is easy. And can be manufactured at low cost.

(第2の実施の形態)
図6は、本実施の形態に係る撮像装置用レンズを示す断面図である。本実施形態の撮像装置用レンズも、第1の実施の形態の撮像装置用レンズと同様、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話、ノート型パーソナルコンピュータ、PDA等の情報機器に組み込まれる小型カメラ等の撮像装置の、固体撮像素子に結像させるレンズ系の全部または一部を構成するレンズである。なお、本実施の形態においては、重複する説明を避けるため、第1の実施の形態と共通する点については説明を省略し、相違点を中心に説明する。
(Second Embodiment)
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the imaging apparatus lens according to the present embodiment. The imaging device lens of the present embodiment is also a small camera incorporated in information equipment such as a digital still camera, a digital video camera, a mobile phone, a notebook personal computer, and a PDA, like the imaging device lens of the first embodiment. The lens which comprises all or one part of the lens system imaged on a solid-state image sensor of imaging devices, such as. In the present embodiment, in order to avoid overlapping description, description of points that are common to the first embodiment will be omitted, and differences will be mainly described.

図6に示すように、この撮像装置用レンズ50Aは、一方の面51aが平面で、他方の面51bが凸面の、いわゆる平凸レンズであり、全体が前述した近赤外線吸収粒子、または近赤外線吸収粒子およびその他の必要に応じて配合される成分から構成されている。   As shown in FIG. 6, this imaging device lens 50A is a so-called plano-convex lens in which one surface 51a is a flat surface and the other surface 51b is a convex surface. It is composed of particles and other components blended as necessary.

なお、レンズ形状は特に限定されるものではなく、例えば、図7に示す撮像装置用レンズ50Bのように、外周部に平板部52を有する平凸レンズであってもよく、また、図8に示す撮像装置用レンズ50Cのように、一方の面51aが凹面を有し、他方の面51bが凸面を有し、さらに、外周部に平板部52を有する凹凸レンズであってもよい。さらに、図示は省略したが、これらの撮像装置用レンズ50A〜50Cの一方の面51a(または51b)または両面51a(または51b)に、反射防止膜を設けるようにしてもよい。レンズの形状や、反射防止膜の有無等は、用途や、組み合わせて使用するレンズの種類、配置場所等を考慮して適宜定められる。   The lens shape is not particularly limited. For example, it may be a plano-convex lens having a flat plate portion 52 on the outer periphery, such as an imaging device lens 50B shown in FIG. 7, and also shown in FIG. Like the imaging device lens 50 </ b> C, one surface 51 a may be a concave surface, the other surface 51 b may be a convex surface, and a concavo-convex lens having a flat plate portion 52 on the outer periphery. Furthermore, although illustration is omitted, an antireflection film may be provided on one surface 51a (or 51b) or both surfaces 51a (or 51b) of these imaging device lenses 50A to 50C. The shape of the lens, the presence / absence of an antireflection film, and the like are appropriately determined in consideration of the application, the type of lens used in combination, the arrangement location, and the like.

本実施形態の撮像装置用レンズ50A〜50Cは、固定金型と固定金型に対して移動可能な可動金型からなり、これらの間に形成すべきレンズ形状のキャビティを備えた射出成型用金型を用いて、例えば次のように製造することができる。   The imaging device lenses 50 </ b> A to 50 </ b> C of the present embodiment include a fixed mold and a movable mold movable with respect to the fixed mold, and an injection mold having a lens-shaped cavity to be formed therebetween. For example, the mold can be used as follows.

まず、上記した近赤外線吸収粒子、および必要に応じて配合される他の成分を混合する。成形金型には、このような混合物を前記キャビティに供給するためのゲート部が設けられており、これらのゲート部より前記混合物を前記キャビティに供給し、冷却固化させる。その後、可動金型を移動させ、成形物を固定金型より剥離し、外部に取り出す。   First, the above-described near-infrared absorbing particles and other components blended as necessary are mixed. The molding die is provided with a gate portion for supplying such a mixture to the cavity, and the mixture is supplied from the gate portion to the cavity to be cooled and solidified. Thereafter, the movable mold is moved, the molded product is peeled off from the fixed mold, and taken out to the outside.

なお、撮像装置用レンズ50A〜50Cは、このような射出成形に限らず、トランスファー成形や注型成形等によっても成形することが可能である。また、成形金型として、多数個取りの金型を用いることも可能である。この場合、成形後、必要に応じて反射防止膜13を形成した後、ダイシング装置により個々のレンズに切断する。これにより、図6〜図8に示したような個々の撮像装置用レンズ50A〜50Cが得られる。   The imaging device lenses 50 </ b> A to 50 </ b> C can be molded not only by such injection molding but also by transfer molding, cast molding, or the like. Further, as a molding die, a multi-cavity die can be used. In this case, after molding, an antireflection film 13 is formed as necessary, and then cut into individual lenses by a dicing apparatus. As a result, individual imaging device lenses 50A to 50C as shown in FIGS. 6 to 8 are obtained.

本実施形態の撮像装置用レンズ50A〜50Cの下式(3)で表わされる透過率の変化量D’は、−0.36%/nm以下が好ましく、−0.45%/nm以下がより好ましい。
D’(%/nm)=[T700(%)−T630(%)]/[700(nm)−630(nm)] …(3)。
式中、T700は、撮像装置用レンズの透過スペクトルにおける波長700nmの透過率であり、T630は、撮像装置用レンズの透過スペクトルにおける波長630nmの透過率である。
The transmittance change amount D ′ represented by the following expression (3) of the imaging device lenses 50 </ b> A to 50 </ b> C of the present embodiment is preferably −0.36% / nm or less, and more preferably −0.45% / nm or less. preferable.
D ′ (% / nm) = [T 700 (%) − T 630 (%)] / [700 (nm) −630 (nm)] (3).
In the equation, T 700 is a transmittance at a wavelength of 700 nm in the transmission spectrum of the lens for the imaging device, and T 630 is a transmittance at a wavelength of 630 nm in the transmission spectrum of the lens for the imaging device.

透過率の変化量D’が、−0.36%/nm以下であれば、波長630〜700nmの間における透過率の変化が充分に急峻となり、撮像装置用レンズに好適となる。−0.45%/nm以下であれば、さらに、近赤外波長領域の光を遮断しつつ可視波長域の光の利用効率が向上し、暗部撮像でのノイズ抑制の点で有利となる。   When the transmittance change amount D ′ is −0.36% / nm or less, the transmittance change between wavelengths of 630 to 700 nm is sufficiently steep, which is suitable for a lens for an imaging device. If it is −0.45% / nm or less, the utilization efficiency of light in the visible wavelength region is further improved while blocking light in the near infrared wavelength region, which is advantageous in terms of noise suppression in dark area imaging.

また、撮像装置用レンズ50A〜50Cの波長715nmの透過率は、10%以下が好ましく、5%以下がより好ましい。また、撮像装置用レンズ50A〜50Cの波長500nmの透過率は、80%以上が好ましく、85%以上がより好ましい。撮像装置用レンズの透過率は、紫外可視分光光度計を用いて測定される。   Further, the transmittance of the imaging device lenses 50A to 50C at a wavelength of 715 nm is preferably 10% or less, and more preferably 5% or less. Further, the transmittance of the imaging device lenses 50A to 50C at a wavelength of 500 nm is preferably 80% or more, and more preferably 85% or more. The transmittance of the imaging device lens is measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer.

第2の実施の形態においても、第1の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、本実施形態においては、レンズ自体に近赤外線吸収粒子が含まれるため、第1の実施の形態に比べ、撮像装置のさらなる小型化、薄型化が可能となる。また、第1の実施の形態におけるレンズ成形工程と近赤外線吸収層12形成工程を一工程で行うことができるので、さらなる低コスト化および生産性の向上を図ることができる。   Also in the second embodiment, the same effect as in the first embodiment can be obtained. Further, in the present embodiment, since the near infrared absorbing particles are included in the lens itself, the imaging device can be further reduced in size and thickness as compared with the first embodiment. Moreover, since the lens shaping | molding process and the near-infrared absorption layer 12 formation process in 1st Embodiment can be performed by one process, further cost reduction and productivity improvement can be aimed at.

なお、透過する光の光路によりレンズ肉厚差が生じるため、透過分光特性にバラツキが生ずる場合がある。このような場合には、例えば、レンズの肉厚差が少ないメニスカスレンズとする、レンズの場所に応じて近赤外線吸収粒子の密度等を変化させて肉厚差を相殺する、形状および/または近赤外線吸収粒子の密度の異なる複数の近赤外線吸収レンズを組み合わせて肉厚差を相殺する等の対応を採ることが好ましく、レンズ肉厚差に起因する透過分光特性のばらつきを低減することができる。   In addition, since the lens thickness difference is caused by the optical path of the transmitted light, the transmission spectral characteristics may vary. In such a case, for example, a meniscus lens with a small thickness difference between the lenses is used, and the density and the near-infrared absorbing particle density is changed depending on the lens location to cancel the thickness difference. It is preferable to take a countermeasure such as canceling the wall thickness difference by combining a plurality of near-infrared absorbing lenses having different densities of infrared absorbing particles, and variation in transmission spectral characteristics due to the lens wall thickness difference can be reduced.

(第3の実施の形態)
図9は、本実施の形態に係る撮像装置の要部構成を概略的に示す断面図である。本実施形態の撮像装置80Aは、図9に示すように、基板81と、基板81上に実装された固体撮像素子82と、カバーガラス83と、本発明の撮像装置用レンズ(図面の例では、図1に示す撮像装置用レンズ10A)と、開口絞り84とを備えている。固体撮像素子82と、撮像装置用レンズ10Aと、開口絞り84は、光軸xに沿って配置されている。
(Third embodiment)
FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a main configuration of the imaging apparatus according to the present embodiment. As shown in FIG. 9, the imaging device 80A of the present embodiment includes a substrate 81, a solid-state imaging device 82 mounted on the substrate 81, a cover glass 83, and an imaging device lens of the present invention (in the example of the drawings). , The imaging apparatus lens 10 </ b> A) shown in FIG. 1 and an aperture stop 84. The solid-state image sensor 82, the imaging device lens 10A, and the aperture stop 84 are disposed along the optical axis x.

固体撮像素子82は、撮像装置用レンズ10Aを通過した光を電気信号に変換する電子部品であり、具体的にはCCDやCMOS等が使用される。カバーガラス83は、固体撮像素子82の撮像装置用レンズ10A側の表面に配置されており、固体撮像素子82を外的環境から保護する機能を有する。撮像装置用レンズ10Aは、近赤外線吸収層12を設けた平面側を開口絞り84側、つまり、光の入射側に向け、反射防止膜13を設けた凸面側を固体撮像素子82側に向けて配置されている。なお、これとは逆に、反射防止膜13を設けた凸面側を開口絞り84側、つまり、光の入射側に向け、近赤外線吸収層12を設けた平面側を固体撮像素子82側に向けて配置するようにしてもよい。   The solid-state imaging element 82 is an electronic component that converts light that has passed through the imaging device lens 10A into an electrical signal, and specifically, a CCD, CMOS, or the like is used. The cover glass 83 is disposed on the surface of the solid-state image sensor 82 on the imaging device lens 10A side, and has a function of protecting the solid-state image sensor 82 from the external environment. In the imaging apparatus lens 10A, the plane side on which the near-infrared absorbing layer 12 is provided faces the aperture stop 84 side, that is, the light incident side, and the convex side on which the antireflection film 13 is provided faces the solid-state imaging element 82 side. Has been placed. On the other hand, the convex side provided with the antireflection film 13 is directed to the aperture stop 84 side, that is, the light incident side, and the plane side provided with the near infrared absorption layer 12 is directed to the solid-state image sensor 82 side. May be arranged.

このように構成される撮像装置80Aにおいては、開口絞り84の開口より入射した光は、撮像装置用レンズ10Aを通って固体撮像素子82に受光され、この受光した光を固体撮像素子82が電気信号に変換し、画像信号として出力される。撮像装置用レンズ10Aには、近赤外線吸収層12が設けられており、近赤外線が遮断された光が固体撮像素子82で受光される。   In the imaging device 80A configured as described above, light incident from the aperture of the aperture stop 84 is received by the solid-state imaging device 82 through the imaging device lens 10A, and the received light is electrically converted by the solid-state imaging device 82. It is converted into a signal and output as an image signal. The imaging device lens 10 </ b> A is provided with a near-infrared absorbing layer 12, and light from which the near-infrared light is blocked is received by the solid-state imaging device 82.

このように撮像装置用レンズ10Aは、レンズとしての機能と近赤外線を遮断する機能を併せ持つため、撮像装置80Aは、従来、必要とした近赤外線カットフィルタを省略することができ、これにより、撮像装置の小型化、薄型化を図ることができる。   As described above, the imaging apparatus lens 10A has both a lens function and a function of blocking near infrared rays. Therefore, the imaging apparatus 80A can omit a conventionally required near infrared cut filter. The device can be reduced in size and thickness.

しかも、近赤外線吸収層12は、A1/nCuPOで表わされる化合物の結晶子からなり、数平均凝集粒子径が5〜200nmであるため、可視波長領域の光の透過率が高く、近赤外波長領域の光の透過率が低く、かつ波長630〜700nmの間で急峻に透過率が変化する近赤外線吸収粒子を含有するので、近赤外線遮断誘電体多層膜のような画像の中央部と周辺部で色特性が変化したり、ゴーストと呼ばれる多重像が発生しやすい等の問題が生ずることはなく、品質の良い撮影画像を得ることができる。 Moreover, the near-infrared absorbing layer 12 is made of a crystallite of a compound represented by A 1 / n CuPO 4 and has a number average aggregate particle diameter of 5 to 200 nm. Since it contains near-infrared absorbing particles having a low light transmittance in the infrared wavelength region and a sharp change in transmittance between wavelengths of 630 to 700 nm, the central portion of the image such as a near-infrared blocking dielectric multilayer film Thus, there is no problem that color characteristics change in the peripheral portion or a multiple image called a ghost is likely to occur, and a high quality photographed image can be obtained.

さらに、近赤外線吸収層12を備えた撮像装置用レンズは、容易に、かつ安価に製造することができるため、低コスト化を図ることができる。   Furthermore, the imaging device lens including the near-infrared absorbing layer 12 can be easily and inexpensively manufactured, so that the cost can be reduced.

なお、図9に示す撮像装置80Aのレンズ系は、1個のレンズのみで構成されているが、複数のレンズが組み込まれていてもよい。この場合、少なくとも1個のレンズが本発明の撮像装置用レンズであればよく、他のレンズは従来のレンズであってよい。また、本発明の撮像装置用レンズの配置位置も特に限定されるものではない。   Note that the lens system of the imaging device 80A illustrated in FIG. 9 includes only one lens, but a plurality of lenses may be incorporated. In this case, at least one lens may be an imaging device lens according to the present invention, and the other lenses may be conventional lenses. Further, the arrangement position of the lens for an imaging device of the present invention is not particularly limited.

図10は、レンズ系が複数のレンズからなる撮像装置80Bの一例を示したものである。この撮像装置80Bは、基板81と、基板81上に実装された固体撮像素子82と、カバーガラス83と、複数のレンズ群85と、開口絞り84とを備えている。図10の例では、複数のレンズ群85は、開口絞り84側から固体撮像素子82の撮像面に向けて、第1のレンズL1、第2のレンズL2、第3のレンズL3および第4のレンズL4が順に配置され、そのうちの最も固体撮像素子82側に配置された第4のレンズL4に、図3に示す撮像装置用レンズ10Cが用いられている。   FIG. 10 shows an example of an imaging device 80B in which the lens system includes a plurality of lenses. The imaging device 80B includes a substrate 81, a solid-state imaging device 82 mounted on the substrate 81, a cover glass 83, a plurality of lens groups 85, and an aperture stop 84. In the example of FIG. 10, the plurality of lens groups 85 includes a first lens L1, a second lens L2, a third lens L3, and a fourth lens from the aperture stop 84 side toward the imaging surface of the solid-state imaging device 82. The lens L4 is arranged in order, and the imaging device lens 10C shown in FIG. 3 is used for the fourth lens L4 arranged closest to the solid-state imaging element 82.

このように構成される撮像装置80Bにおいても、撮像装置用レンズ10Cは、レンズとしての機能と近赤外線を遮断する機能を併せ持つため、撮像装置80Aは、従来、必要とした近赤外線カットフィルタを省略することができ、これにより、撮像装置の小型化、薄型化を図ることができる。   Also in the imaging device 80B configured as described above, the imaging device lens 10C has both a lens function and a function of blocking near infrared rays, and thus the imaging device 80A omits the conventionally required near infrared cut filter. Accordingly, the image pickup apparatus can be reduced in size and thickness.

しかも、近赤外線吸収層12は、A1/nCuPOで表わされる化合物の結晶子からなり、数平均凝集粒子径が5〜200nmであるため、可視波長領域の光の透過率が高く、近赤外波長領域の光の透過率が低く、かつ波長630〜700nmの間で急峻に透過率が変化する近赤外線吸収粒子を含有するので、近赤外線遮断誘電体多層膜のような画像の中央部と周辺部で色特性が変化したり、ゴーストと呼ばれる多重像が発生しやすい等の問題が生ずることはなく、品質の良い撮影画像を得ることができる。 Moreover, the near-infrared absorbing layer 12 is made of a crystallite of a compound represented by A 1 / n CuPO 4 and has a number average aggregate particle diameter of 5 to 200 nm. Since it contains near-infrared absorbing particles having a low light transmittance in the infrared wavelength region and a sharp change in transmittance between wavelengths of 630 to 700 nm, the central portion of the image such as a near-infrared blocking dielectric multilayer film Thus, there is no problem that color characteristics change in the peripheral portion or a multiple image called a ghost is likely to occur, and a high quality photographed image can be obtained.

さらに、近赤外線吸収層12を備えた撮像装置用レンズは、容易に、かつ安価に製造することができるため、低コスト化を図ることができる。   Furthermore, the imaging device lens including the near-infrared absorbing layer 12 can be easily and inexpensively manufactured, so that the cost can be reduced.

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、実施例および比較例中の各種物性値等は下記に示す方法で測定した。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples at all. In addition, the various physical-property values in an Example and a comparative example were measured by the method shown below.

[X線回折]
粉末状態の近赤外線吸収粒子について、X線回折装置(RIGAKU社製、RINT−TTR−III)を用いてX線回折の測定を行い、結晶構造の同定を行った。また、結晶子の大きさを、2θ=14°の反射についてシェラーの方法により計算によって求めた。
[X-ray diffraction]
About the near-infrared absorption particle | grains of a powder state, the X-ray-diffraction measurement was performed using the X-ray-diffraction apparatus (the RIGAKU company make, RINT-TTR-III), and the crystal structure was identified. Further, the size of the crystallite was obtained by calculation according to Scherrer's method for reflection at 2θ = 14 °.

[数平均凝集粒子径]
近赤外線吸収粒子を水に分散させた粒子径測定用分散液(固形分濃度:5質量%)について、動的光散乱式粒度分布測定装置(日機装社製、マイクロトラック超微粒子粒度分析計UPA−150)を用いて数平均凝集粒子径を測定した。
[Number average agglomerated particle size]
About a dispersion for particle size measurement (solid content concentration: 5% by mass) in which near-infrared absorbing particles are dispersed in water, a dynamic light scattering particle size distribution analyzer (manufactured by Nikkiso Co., Ltd., Microtrac Ultrafine Particle Size Analyzer UPA-) 150) was used to measure the number average aggregate particle size.

[反射率の変化量D]
粉末状態の近赤外線吸収粒子について、紫外可視分光光度計(日立ハイテクノロジーズ社製、U−4100形)を用いて拡散反射スペクトル(反射率)を測定し、算出した。なお、ベースラインとして、硫酸バリウムを用いた。
[Change D in reflectance]
About the near-infrared absorption particle | grains of a powder state, the diffuse reflection spectrum (reflectance) was measured and calculated using the ultraviolet visible spectrophotometer (the Hitachi High-Technologies company make, U-4100 type). Note that barium sulfate was used as a baseline.

[透過率および透過率の変化量D’]
近赤外線吸収層について紫外可視分光光度計(日立ハイテクノロジーズ社製、U−4100形)を用いて透過スペクトル(透過率)を測定し、算出した。
[Transmittance and transmittance change D ′]
The near-infrared absorption layer was measured by calculating a transmission spectrum (transmittance) using an ultraviolet-visible spectrophotometer (U-4100, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).

[近赤外線吸収粒子の製造]
(製造例1)
52質量%リン酸水素二カリウム(純正化学製)水溶液500gに、撹拌下、5質量%硫酸銅・五水和物(純正化学製)水溶液500gを加え、5時間以上室温にて撹拌し、水色溶液(PO 3−/Cu2+(モル比)=15)を得た。
[Production of near-infrared absorbing particles]
(Production Example 1)
To 500 g of an aqueous solution of 52% by mass dipotassium hydrogen phosphate (manufactured by Junsei Kagaku), 500 g of an aqueous solution of 5% by mass copper sulfate pentahydrate (manufactured by Junsei Kagaku) is added and stirred at room temperature for 5 hours or more A solution (PO 4 3− / Cu 2+ (molar ratio) = 15) was obtained.

得られた水色溶液から生成物を吸引濾過によって分離し、水およびアセトンで洗浄し、水色の生成物を得た。生成物をるつぼに移し、100℃で4時間真空乾燥した後、ワンダーブレンダー(大阪ケミカル社製、以下同じ)を用いて、30秒間の乾式粉砕を2回行った。   The product was separated from the resulting light blue solution by suction filtration and washed with water and acetone to give a light blue product. The product was transferred to a crucible and vacuum-dried at 100 ° C. for 4 hours, and then dry pulverization for 30 seconds was performed twice using a wonder blender (manufactured by Osaka Chemical Co., Ltd., hereinafter the same).

粉末状態の生成物をるつぼに移し、大気下、600℃で8時間焼成し、黄緑色の焼成物を得た。焼成物について、ワンダーブレンダーを用いて、30秒間の乾式粉砕を2回行った。得られた黄緑色の焼成物は15.4gであり、硫酸銅・五水和物のモル数を基準とした場合の収率は78%であった。   The powdered product was transferred to a crucible and fired at 600 ° C. for 8 hours in the air to obtain a yellow-green fired product. The fired product was subjected to dry grinding for 30 seconds twice using a wonder blender. The obtained yellowish green fired product was 15.4 g, and the yield based on the number of moles of copper sulfate pentahydrate was 78%.

焼成物についてX線回折を測定した。X線回折の結果から、KCuPOの結晶構造を確認でき、焼成物は、実質的にKCuPOの結晶子からなる粒子であることが同定された。 X-ray diffraction was measured for the fired product. From the result of X-ray diffraction, the crystal structure of KCuPO 4 could be confirmed, and the fired product was identified as particles substantially consisting of crystallites of KCuPO 4 .

上記焼成物を水に分散させ、固形分濃度10質量%の分散液とし、超音波ホモジナイザで処理した後、湿式微粒子化装置(スギノマシン社製、スターバーストミニ)を用いて湿式粉砕を行った。分散液がオリフィス径を通過する回数を湿式粉砕処理回数とする。本例においては、湿式粉砕処理回数を20回とした。   The fired product was dispersed in water to obtain a dispersion having a solid content of 10% by mass, treated with an ultrasonic homogenizer, and then wet pulverized using a wet micronizer (Starburst Mini, manufactured by Sugino Machine Co., Ltd.). . The number of times the dispersion passes through the orifice diameter is defined as the number of wet pulverization treatments. In this example, the number of wet pulverization treatments was 20.

湿式粉砕後の分散液から解砕物を遠心分離し、るつぼに移して150℃で乾燥し、黄緑色の解砕物を得た。解砕物について、ワンダーブレンダーを用いて、30秒間の乾式粉砕を2回行った。   The crushed material was centrifuged from the dispersion after wet pulverization, transferred to a crucible, and dried at 150 ° C. to obtain a yellow-green crushed material. About the crushed material, 30 seconds of dry-type grinding | pulverization was performed twice using the wonder blender.

解砕物についてX線回折を測定した。X線回折の結果から、KCuPOの結晶構造を確認でき、解砕物は、実質的にKCuPOの結晶子からなる近赤外線吸収粒子であることが同定された。結晶子の大きさは27nmであった。また、近赤外線吸収粒子の粒子径測定用分散液を調製し、数平均凝集粒子径を測定したところ、89nmであった。さらに、近赤外線吸収粒子の拡散反射スペクトル(反射率)を測定し、反射率の変化量Dを求めたところ、−0.46%/nmであった。 X-ray diffraction of the crushed material was measured. From the result of X-ray diffraction, the crystal structure of KCuPO 4 could be confirmed, and the crushed material was identified to be near-infrared absorbing particles substantially consisting of KCuPO 4 crystallites. The crystallite size was 27 nm. In addition, a dispersion for measuring the particle size of near-infrared absorbing particles was prepared, and the number average aggregated particle size was measured and found to be 89 nm. Furthermore, the diffuse reflection spectrum (reflectance) of the near-infrared absorbing particles was measured, and the change D in reflectivity was determined to be -0.46% / nm.

[撮像装置用レンズの製造]
(実施例1)
製造例1で得られた近赤外線吸収粒子と、メタクリル樹脂(ADELL社製、商品名 HV153;屈折率1.63)を、固形分が近赤外線吸収粒子37質量%およびメタクリル樹脂63質量%となるような割合で混合した後、この混合液に直径0.5mmのジルコニアビーズを加え、ボールミルを用いて粉砕し、分散液を得た。得られた分散液をガラス平凸レンズの一方の面(平面)にスピンコータ(ミカサ社製 スピンコータMS−A200)を用いて塗布し、120℃で1分間加熱して、厚さ100μmの近赤外線吸収層(吸収層(I)と表記)を形成する。これとは別に厚さ1.3mmのガラス板(ソーダガラス)に、吸収層(I)と同様の膜を同様にして成膜し、その透過率を測定した。結果を表1および図11(透過スペクトル)に示す。
[Manufacture of lenses for imaging devices]
Example 1
The near-infrared absorbing particles obtained in Production Example 1 and a methacrylic resin (manufactured by ADELL, trade name HV153; refractive index 1.63) have a solid content of 37% by mass of near-infrared absorbing particles and 63% by mass of methacrylic resin. After mixing at such a ratio, zirconia beads having a diameter of 0.5 mm were added to this mixed solution and pulverized using a ball mill to obtain a dispersion. The obtained dispersion was applied to one surface (flat surface) of a glass plano-convex lens using a spin coater (Spin Coater MS-A200, manufactured by Mikasa), heated at 120 ° C. for 1 minute, and a near-infrared absorbing layer having a thickness of 100 μm. (Absorbed layer (I)) is formed. Separately from this, a film similar to the absorption layer (I) was formed on a glass plate (soda glass) having a thickness of 1.3 mm in the same manner, and the transmittance was measured. The results are shown in Table 1 and FIG. 11 (transmission spectrum).

(実施例2)
ITO粒子(富士チタン社製、結晶子の大きさ38nm)を、分散剤とともに、エタノールに混合し、固形分濃度20重量%の分散液を得た。
(Example 2)
ITO particles (manufactured by Fuji Titanium Co., Ltd., crystallite size 38 nm) were mixed with ethanol together with a dispersant to obtain a dispersion having a solid content of 20% by weight.

このITO粒子含有分散液を、ガラス平凸レンズの一方の面(平面)にスピンコータ(スピンコータMS−A200)を用いて塗布し、150℃15分間加熱乾燥させて、厚さ4μmの近赤外線吸収層(吸収層(II)と表記)を形成する。これとは別に厚さ3.5mmのガラス板(旭硝子社製フロート板ガラス、品種クリアFL3.5)に、吸収層(II)と同様の膜を同様にして成膜し、その透過率を測定した。結果を表1および図12(透過スペクトル)に示す。   This ITO particle-containing dispersion was applied to one surface (flat surface) of a glass plano-convex lens using a spin coater (spin coater MS-A200), dried by heating at 150 ° C. for 15 minutes, and a near-infrared absorbing layer having a thickness of 4 μm ( Absorbing layer (II)). Separately from this, a film similar to the absorption layer (II) was formed on a 3.5 mm thick glass plate (Float plate glass manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., clear FL 3.5), and the transmittance was measured. . The results are shown in Table 1 and FIG. 12 (transmission spectrum).

製造例1で得られた近赤外線吸収粒子と、ポリエステル樹脂(東洋紡績社製、商品名 バイロン103;屈折率1.60〜1.61)の30質量%シクロヘキサノン溶液とを、固形分が近赤外線吸収粒子44質量%およびポリエステル樹脂56質量%となるような割合で混合し、自転・公転式ミキサーで撹拌し、分散液を得た。得られた分散液を吸収層(II)上にスピンコータ(ミカサ社製 スピンコータMS−A200)を用いて塗布し、150℃で15分間加熱して、厚さ50μmの近赤外線吸収層(吸収層(III)と表記)を形成する。これとは別に厚さ3.5mmのガラス板(旭硝子社製フロート板ガラス、品種クリアFL3.5)に吸収層(II)と同様にして成膜した上記膜上に、吸収層(III)と同様の膜を同様にして成膜し、その透過率を測定した。結果を表1および図13(透過スペクトル)に示す。   The near-infrared absorbing particles obtained in Production Example 1 and a 30% by mass cyclohexanone solution of a polyester resin (trade name Byron 103, manufactured by Toyobo Co., Ltd .; refractive index: 1.60 to 1.61) have a solid content of near-infrared. The mixture was mixed in such a ratio as to be 44% by mass of absorbent particles and 56% by mass of the polyester resin, and stirred with a rotation / revolution mixer to obtain a dispersion. The obtained dispersion was applied onto the absorption layer (II) using a spin coater (Spin Coater MS-A200 manufactured by Mikasa Co., Ltd.), heated at 150 ° C. for 15 minutes, and a near infrared absorption layer (absorption layer (absorption layer ( III). Separately, the same as the absorbing layer (III) on the above-mentioned film formed in the same manner as the absorbing layer (II) on a 3.5 mm thick glass plate (Float plate glass manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., clear FL 3.5) This film was formed in the same manner, and the transmittance was measured. The results are shown in Table 1 and FIG. 13 (transmission spectrum).

(実施例3)
製造例1で得られた近赤外線吸収粒子、実施例2で用いたITO粒子(富士チタン社製)、およびポリエステル樹脂(商品名 バイロン103)の30質量%シクロヘキサノン溶液とを、固形分が近赤外線吸収粒子50質量%、ITO粒子3質量%およびポリエステル樹脂46質量%となるような割合で混合し、自転・公転式ミキサーで撹拌し、分散液を得た。得られた分散液をガラス平凸レンズの一方の面(平面)にスピンコータ(ミカサ社製 スピンコータMS−A200)を用いて塗布し、150℃で15分間加熱して、厚さ50μmの近赤外線吸収層(吸収層(IV)と表記)を形成する。これとは別に厚さ1.3mmのスライドグラス(武藤化学社製、材質:ソーダガラス)に、吸収層(IV)と同様の膜を同様の方法で成膜し、その透過率を測定した。結果を表1および図14(透過スペクトル)に示す。
(Example 3)
The near-infrared absorbing particles obtained in Production Example 1, the ITO particles used in Example 2 (manufactured by Fuji Titanium Co., Ltd.), and a 30% by mass cyclohexanone solution of a polyester resin (trade name: Byron 103) have a solid content of near-infrared. The mixture was mixed in such a ratio that 50% by mass of absorbing particles, 3% by mass of ITO particles and 46% by mass of polyester resin were mixed, and stirred with a rotation / revolution mixer to obtain a dispersion. The obtained dispersion was applied to one surface (flat surface) of a glass plano-convex lens using a spin coater (Spin Coater MS-A200, manufactured by Mikasa), heated at 150 ° C. for 15 minutes, and a near-infrared absorbing layer having a thickness of 50 μm. (Absorbed layer (IV)) is formed. Separately from this, a film similar to the absorption layer (IV) was formed on a slide glass having a thickness of 1.3 mm (manufactured by Muto Chemical Co., Ltd., material: soda glass) by the same method, and the transmittance was measured. The results are shown in Table 1 and FIG. 14 (transmission spectrum).

(実施例4)
製造例1で得られた近赤外線吸収粒子から分粒して得た近赤外線吸収粒子(数平均凝集粒子径65nm)と、エポキシ樹脂(長瀬産業社製、商品名 EX1011;屈折率1.62)とを、固形分が近赤外線吸収粒子37質量%およびエポキシ樹脂73質量%となるような割合で混合した。この混合液に直径0.5mmのジルコニアビーズを加え、ボールミルを用いて粉砕し、分散液を得た。得られた分散液をガラス平凸レンズの一方の面(平面)にスピンコータ(スピンコータMS−A200)を用いて塗布し、100℃で1時間加熱後、さらに180℃で4時間加熱して、厚さ100μmの近赤外線吸収層(吸収層(V)と表記)を形成する。これとは別に厚さ1.3mmのガラス板(ソーダガラス)に、吸収層(V)と同様の膜を同様にして成膜し、その透過率を測定した。結果を表1に示す。

Figure 0005594110
Example 4
Near-infrared absorbing particles (number average agglomerated particle diameter 65 nm) obtained by sizing from the near-infrared absorbing particles obtained in Production Example 1 and epoxy resin (trade name EX1011 manufactured by Nagase Sangyo Co., Ltd .; refractive index 1.62) Were mixed in such a ratio that the solid content was 37% by mass of the near-infrared absorbing particles and 73% by mass of the epoxy resin. To this mixed solution, zirconia beads having a diameter of 0.5 mm were added and pulverized using a ball mill to obtain a dispersion. The obtained dispersion was applied to one surface (flat surface) of a glass plano-convex lens using a spin coater (spin coater MS-A200), heated at 100 ° C. for 1 hour, and further heated at 180 ° C. for 4 hours to obtain a thickness. A near-infrared absorption layer (denoted as absorption layer (V)) of 100 μm is formed. Separately, a film similar to the absorbing layer (V) was formed on a glass plate (soda glass) having a thickness of 1.3 mm in the same manner, and the transmittance was measured. The results are shown in Table 1.
Figure 0005594110

本発明の撮像装置用レンズは、良好な赤外線遮断機能を有し、かつ撮像装置の十分な小型化、薄型化、低コスト化を図ることができることから、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話、ノート型パーソナルコンピュータ、PDA等の情報機器に組み込まれる小型カメラ等の、固体撮像素子を用いた撮像装置に好適に用いることができる。   The lens for an image pickup apparatus of the present invention has a good infrared shielding function, and can sufficiently reduce the size, thickness, and cost of the image pickup apparatus. Therefore, a digital still camera, a digital video camera, and a mobile phone It can be suitably used for an imaging apparatus using a solid-state imaging device, such as a small camera incorporated in an information device such as a notebook personal computer or PDA.

10A,10B,10C,50A,50B,50C…撮像装置用レンズ、11…レンズ本体、12…近赤外線吸収層、80A,80B…撮像装置、82…固体撮像素子、L1〜L4…第1〜第4のレンズ。   10A, 10B, 10C, 50A, 50B, 50C ... Lens for imaging device, 11 ... Lens body, 12 ... Near-infrared absorbing layer, 80A, 80B ... Imaging device, 82 ... Solid-state imaging device, L1-L4 ... First to second 4 lenses.

Claims (19)

固体撮像素子を備えた撮像装置に用いられるレンズであって、
少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子からなり、数平均凝集粒子径が5〜200nmである近赤外線吸収粒子を含有するか、または前記近赤外線吸収粒子を含有する層を備える、撮像装置用レンズ。
A lens used in an imaging device including a solid-state imaging device,
Imaging comprising an oxide crystallite containing at least Cu and / or P and containing near-infrared absorbing particles having a number average aggregated particle diameter of 5 to 200 nm , or comprising a layer containing the near-infrared absorbing particles Lens for device.
前記近赤外線吸収粒子を含有する層は、レンズ本体の少なくとも一方の面に形成された層である、請求項1に記載の撮像装置用レンズ。 The imaging device lens according to claim 1, wherein the layer containing the near-infrared absorbing particles is a layer formed on at least one surface of the lens body. 前記近赤外線吸収粒子を含有する層における前記近赤外線吸収粒子の含有量が、20〜60質量%である請求項1または2に記載の撮像装置用レンズ。 The imaging device lens according to claim 1 or 2 , wherein a content of the near-infrared absorbing particles in a layer containing the near-infrared absorbing particles is 20 to 60% by mass. 前記近赤外線吸収粒子を含有する層は、少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子のない近赤外線吸収材をさらに含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の撮像装置用レンズ。 The imaging device according to any one of claims 1 to 3 , wherein the layer containing the near-infrared absorbing particles further contains a near-infrared absorbing material having no crystallites of an oxide containing at least Cu and / or P. Lens. 前記近赤外線吸収粒子を含有する層における前記少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子のない近赤外線吸収材の含有量が、0.5〜30質量%である請求項に記載の撮像装置用レンズ。 The content of the at least Cu and / or near-infrared-absorbing material with no crystallites oxide containing P in the layer containing the near infrared absorbing particles of claim 4 wherein 0.5 to 30 wt% Lens for imaging device. 前記少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子のない近赤外線吸収材として、ITO粒子を含む、請求項4または5に記載の撮像装置用レンズ。 The lens for an imaging device according to claim 4 or 5 , comprising ITO particles as the near-infrared absorbing material having no crystallites of an oxide containing at least Cu and / or P. 前記近赤外線吸収粒子を含有する層は、下式で表わされる透過率の変化量D’が、−0.36%/nm以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の撮像装置用レンズ。
D’(%/nm)=[T700(%)−T630(%)]/[700(nm)−630(nm)
(式中、T700は、近赤外線吸収粒子を含有する層の透過スペクトルにおける波長700nmの透過率であり、T630は、近赤外線吸収粒子を含有する層の透過スペクトルにおける波長630nmの透過率である。)
Layer containing the near infrared absorbing particles, the change amount D of transmittance 'represented by the following formula, is not more than -0.36% / nm, an imaging according to any one of claims 1 to 6 Lens for device.
D ′ (% / nm) = [T 700 (%) − T 630 (%)] / [700 (nm) −630 (nm) ]
(Where T 700 is the transmittance at a wavelength of 700 nm in the transmission spectrum of the layer containing near-infrared absorbing particles, and T 630 is the transmittance at a wavelength of 630 nm in the transmission spectrum of the layer containing near-infrared absorbing particles. is there.)
前記近赤外線吸収粒子を含有するレンズである、請求項1に記載の撮像装置用レンズ。The imaging device lens according to claim 1, wherein the imaging device lens is a lens containing the near-infrared absorbing particles. 前記近赤外線吸収粒子の含有量が、20〜60質量%である請求項8に記載の撮像装置用レンズ。The lens for an imaging device according to claim 8, wherein the content of the near-infrared absorbing particles is 20 to 60% by mass. 少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子のない近赤外線吸収材をさらに含有する、請求項8または9に記載の撮像装置用レンズ。The lens for an imaging device according to claim 8 or 9, further comprising a near-infrared absorbing material free from oxide crystallites containing at least Cu and / or P. 前記少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子のない近赤外線吸収材の含有量が、0.5〜30質量%である請求項10に記載の撮像装置用レンズ。The imaging device lens according to claim 10, wherein a content of the near-infrared absorbing material having no crystallites of oxide containing at least Cu and / or P is 0.5 to 30% by mass. 前記少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子のない近赤外線吸収材として、ITO粒子を含む、請求項10または11に記載の撮像装置用レンズ。  The lens for an imaging device according to claim 10 or 11, comprising ITO particles as a near-infrared absorbing material having no crystallites of an oxide containing at least Cu and / or P. 下式で表わされる透過率の変化量D’が、−0.36%/nm以下である、請求項8〜12のいずれか1項に記載の撮像装置用レンズ。The lens for an imaging device according to claim 8, wherein a transmittance change amount D ′ represented by the following formula is −0.36% / nm or less.
D’(%/nm)=[T  D ′ (% / nm) = [T 700700 (%)−T(%)-T 630630 (%)]/[700(nm)−630(nm)] (%)] / [700 (nm) -630 (nm)]
(式中、T(Where T 700700 は、撮像装置用レンズの透過スペクトルにおける波長700nmの透過率であり、TIs the transmittance at a wavelength of 700 nm in the transmission spectrum of the lens for the imaging device, and T 630630 は、撮像装置用レンズの透過スペクトルにおける波長630nmの透過率である。)Is the transmittance at a wavelength of 630 nm in the transmission spectrum of the imaging device lens. )
前記酸化物は、下式(1)で表わされる化合物である、請求項1〜13のいずれか1項に記載の撮像装置用レンズ。
1/nCuPO …(1)
(式中、Aは、アルカリ金属(Li、Na、K、Rb、Cs)、アルカリ土類金属(Mg、Ca、Sr、Ba)およびNHからなる群より選ばれる少なくとも1種であり、nは、Aがアルカリ金属またはNHの場合は1であり、Aがアルカリ土類金属の場合は2である。)
The oxide is a compound represented by the following formula (1), the imaging device lens according to any one of claims 1 to 13.
A 1 / n CuPO 4 (1)
(In the formula, A is at least one selected from the group consisting of alkali metals (Li, Na, K, Rb, Cs), alkaline earth metals (Mg, Ca, Sr, Ba) and NH 4 ; Is 1 when A is an alkali metal or NH 4 and is 2 when A is an alkaline earth metal.)
前記近赤外線吸収粒子は、X線回折から求めた結晶子の大きさが5〜80nmである、請求項1〜14のいずれか1項に記載の撮像装置用レンズ。 The lens for an imaging device according to any one of claims 1 to 14 , wherein the near-infrared absorbing particles have a crystallite size of 5 to 80 nm determined from X-ray diffraction. 前記近赤外線吸収粒子は、下式(2)で表わされる反射率の変化量Dが、−0.41%/nm以下である、請求項1〜15のいずれか1項に記載の撮像装置用レンズ。
D(%/nm)=[R700(%)−R600(%)]/[700(nm)−600(nm)] …(2)
(式中、R700は、近赤外線吸収粒子の拡散反射スペクトルにおける波長700nmの反射率であり、R600は、近赤外線吸収粒子の拡散反射スペクトルにおける波長600nmの反射率である。)
The near-infrared-absorbing particles, the change amount D of reflectivity represented by the following formula (2) is not more than -0.41% / nm, for imaging apparatus according to any one of claims 1 to 15 lens.
D (% / nm) = [R 700 (%) − R 600 (%)] / [700 (nm) −600 (nm)] (2)
(In the formula, R 700 is a reflectance at a wavelength of 700 nm in the diffuse reflection spectrum of the near-infrared absorbing particles, and R 600 is a reflectance at a wavelength of 600 nm in the diffuse reflection spectrum of the near-infrared absorbing particles.)
前記近赤外線吸収粒子は、拡散反射スペクトルにおける波長715nmの反射率が、19%以下であり、かつ波長500nmの反射率が、85%以上である、請求項1〜16のいずれか1項に記載の撮像装置用レンズ。 The near-infrared absorbing particles according to any one of claims 1 to 16 , wherein a reflectance at a wavelength of 715 nm in a diffuse reflectance spectrum is 19% or less, and a reflectance at a wavelength of 500 nm is 85% or more. Lens for imaging devices. 前記近赤外線吸収粒子は、顕微IRスペクトルにおいて、リン酸基に帰属される1000cm−1付近のピークの吸収強度を基準(100%)とした際に、水に帰属される1600cm−1付近のピークの吸収強度が8%以下であり、かつ水酸基に帰属される3750cm−1付近のピークの吸収強度が26%以下である、請求項1〜17のいずれか1項に記載の撮像装置用レンズ。 The near-infrared absorbing particle has a peak near 1600 cm −1 attributed to water when the absorption intensity of a peak near 1000 cm −1 attributed to a phosphate group is defined as a reference (100%) in a microscopic IR spectrum. the absorption intensity is 8% or less, and the absorption intensity of a peak in the vicinity of 3750cm -1, which is attributed to hydroxyl groups is less than 26%, the imaging device lens according to any one of claims 1 to 17. 請求項1〜18のいずれか1項に記載の撮像装置用レンズと、前記レンズを介して入射した光を受光し電気信号に変換する固体撮像素子とを具備する、撮像装置。 Comprising an imaging device lens according, and a solid-state image sensor that converts light incident through the lens to the light receiving electrical signals to any one of claims 1 to 18 imaging device.
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