JP5588525B2 - Manufacturing method of touch panel - Google Patents
Manufacturing method of touch panel Download PDFInfo
- Publication number
- JP5588525B2 JP5588525B2 JP2013009121A JP2013009121A JP5588525B2 JP 5588525 B2 JP5588525 B2 JP 5588525B2 JP 2013009121 A JP2013009121 A JP 2013009121A JP 2013009121 A JP2013009121 A JP 2013009121A JP 5588525 B2 JP5588525 B2 JP 5588525B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- touch
- layer
- oxide
- touch panel
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 39
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 112
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 17
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 11
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 10
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 9
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- -1 aluminum tin oxide Chemical compound 0.000 claims description 5
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 3
- 229930001119 polyketide Natural products 0.000 claims description 3
- 125000000830 polyketide group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920006389 polyphenyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BEQNOZDXPONEMR-UHFFFAOYSA-N cadmium;oxotin Chemical compound [Cd].[Sn]=O BEQNOZDXPONEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UMJICYDOGPFMOB-UHFFFAOYSA-N zinc;cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zn+2].[Cd+2] UMJICYDOGPFMOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WGCXSIWGFOQDEG-UHFFFAOYSA-N [Zn].[Sn].[In] Chemical compound [Zn].[Sn].[In] WGCXSIWGFOQDEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- TYHJXGDMRRJCRY-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) tin(4+) Chemical compound [O-2].[Zn+2].[Sn+4].[In+3] TYHJXGDMRRJCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Position Input By Displaying (AREA)
Description
本発明は、タッチパネルの製造方法に関し、特に、フォトマスクの費用を節約できることにより、製造コストを節約できるタッチパネルの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a touch panel, and more particularly, to a method for manufacturing a touch panel that can reduce the manufacturing cost by reducing the cost of a photomask.
技術の発展に伴い、携帯電話(Mobile Phone)、PDA(Personal Digital Assistant)、ノートパソコン(Notebook)、タブレットコンピュータ(Tablet Computer)などのデジタルツールは、何れも、更なる利便性、機能性及び美観性が追及されている。 With the development of technology, digital tools such as mobile phones, PDAs (Personal Digital Assistants), notebook computers (Notebooks), and tablet computers (Tablet Computers) are all more convenient, functional, and aesthetic. Sex is being pursued.
携帯電話、PDA、ノートパソコン及びタブレットコンピュータ中の表示モニターは、マンマシンインターフェースとして欠かすことができないものである。携帯電話、PDA、ノートパソコン及びタブレットコンピュータは、表示モニターにより、便利に操作することができる。現在、表示モニターは、液晶表示装置が主流となっている。 Display monitors in mobile phones, PDAs, notebook computers and tablet computers are indispensable as man-machine interfaces. Mobile phones, PDAs, notebook computers, and tablet computers can be conveniently operated with a display monitor. Currently, liquid crystal display devices are the mainstream of display monitors.
近年、情報技術、無線移動通信及び情報家電の迅速な発展及び応用範囲の拡大に伴い、更なる利便性を実現し、体積を縮小し、更なるヒューマナイズ化を実現するために、多くの情報製品においては、従来のキーボード、マウスなどの入力装置に代わり、タッチパネル(Touch Panel)が入力装置として使用されている。現在、静電容量方式のタッチパネルを有する液晶表示装置が最も使用されている。 In recent years, with the rapid development of information technology, wireless mobile communications and information appliances and the expansion of application range, a lot of information has been created to realize further convenience, reduce volume, and realize further humanization. In products, a touch panel (Touch Panel) is used as an input device instead of a conventional input device such as a keyboard and a mouse. Currently, a liquid crystal display device having a capacitive touch panel is most used.
上述のタッチ操作式の液晶表示装置は、タッチパネルと称される。タッチパネルは、層状構造であり、ガラス基板、タッチ電極層、遮蔽層、電極配線層、絶縁層、保護層などの構造を含み、各層間が互いに積層された層状構造である。ガラス基板は、タッチ領域及び非タッチ領域を有する。タッチ電極層は、主に、スパッタリングにより、ガラス基板のタッチ領域に積層される。その後、タッチ電極層は、フォトリソグラフィにより、タッチ電極に成形される。次に、印刷により、ガラス基板上の非タッチ領域に遮蔽層が印刷される。その後、スパッタリングにより、遮蔽層上に電極配線層が被覆される。次に、電極配線層は、フォトリソグラフィにより、複数の電極配線に成形される。また、遮蔽領域中のタッチ電極の延伸端及び対応しない電極配線の部分に絶縁インクが印刷されることにより、タッチ電極の延伸端と対応しない電極配線とがショートするのが防止される。次に、塗布により、前述のガラス基板、タッチ電極層、遮蔽層、電極配線層、絶縁層上に保護層が被覆される。従来のタッチパネルの製造方法においては、スパッタリング及びフォトリソグラフィにより、タッチ電極及び電極配線が製造されるため、フォトマスクの製造に多くのコストが費やされる。また、スパッタリングに掛かる時間も長い。即ち、従来のタッチパネルの製造方法においては、コスト及び時間が大幅に掛かる。 The touch-operated liquid crystal display device described above is referred to as a touch panel. The touch panel has a layered structure, and includes a structure such as a glass substrate, a touch electrode layer, a shielding layer, an electrode wiring layer, an insulating layer, a protective layer, and the like. The glass substrate has a touch area and a non-touch area. The touch electrode layer is laminated on the touch region of the glass substrate mainly by sputtering. Thereafter, the touch electrode layer is formed into a touch electrode by photolithography. Next, the shielding layer is printed on the non-touch area on the glass substrate by printing. Thereafter, the electrode wiring layer is coated on the shielding layer by sputtering. Next, the electrode wiring layer is formed into a plurality of electrode wirings by photolithography. In addition, the insulating ink is printed on the extended end of the touch electrode and the non-corresponding electrode wiring portion in the shielding region, thereby preventing a short circuit between the extended end of the touch electrode and the non-corresponding electrode wiring. Next, a protective layer is coated on the glass substrate, touch electrode layer, shielding layer, electrode wiring layer, and insulating layer by coating. In the conventional touch panel manufacturing method, the touch electrode and the electrode wiring are manufactured by sputtering and photolithography, so that a lot of cost is spent on manufacturing the photomask. Also, the time required for sputtering is long. That is, in the conventional touch panel manufacturing method, cost and time are significantly increased.
本発明の主な目的は、製造時間を短縮することができるタッチパネルの製造方法を提供することにある。
本発明のもう1つの目的は、製造コストを節約することができるタッチパネルの製造方法を提供することにある。
A main object of the present invention is to provide a method for manufacturing a touch panel capable of shortening the manufacturing time.
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a touch panel that can save manufacturing costs.
上述の課題を解決するために、本発明は、タッチパネルの製造方法を提供するものである。本発明のタッチパネルの製造方法は、以下のステップを含む。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a method for manufacturing a touch panel. The manufacturing method of the touch panel of this invention includes the following steps.
基板を準備する。基板上に遮蔽層を設置する。基板の遮蔽層の位置を非タッチ領域に画定する。また、遮蔽されない位置をタッチ領域に画定する。 Prepare the board. A shielding layer is placed on the substrate. The position of the shielding layer of the substrate is defined in the non-touch area. In addition, a non-shielded position is defined in the touch area.
基板上に複数のタッチ電極を有するタッチ電極層を設置する。 A touch electrode layer having a plurality of touch electrodes is provided on the substrate.
タッチ電極層上に複数の金属配線を有する金属配線層を設置する。 A metal wiring layer having a plurality of metal wirings is installed on the touch electrode layer.
1回目のフォトリソグラフィ工程を行い、非タッチ領域に位置する金属配線層を複数の金属配線に成形する。 A first photolithography process is performed to form a metal wiring layer located in the non-touch area into a plurality of metal wirings.
2回目のフォトリソグラフィ工程を行い、非タッチ領域及びタッチ領域のタッチ電極層を複数のタッチ電極に成形する。 A second photolithography process is performed to form the touch electrode layers in the non-touch area and the touch area into a plurality of touch electrodes.
複数のタッチ電極上に絶縁層を設置する。また、タッチ電極上の絶縁層に複数の導電性接続孔を形成する。 An insulating layer is provided on the plurality of touch electrodes. A plurality of conductive connection holes are formed in the insulating layer on the touch electrode.
絶縁層上に複数の金属導線を有する導線層を設置する上、導電性接続孔を介し、複数の金属導線と複数のタッチ電極とを電気的に接続する。 A conductor layer having a plurality of metal conductors is provided on the insulating layer, and the plurality of metal conductors and the plurality of touch electrodes are electrically connected through the conductive connection holes.
タッチ電極層、導線層及び絶縁層上に、保護層を設置する。 A protective layer is provided on the touch electrode layer, the conductive wire layer, and the insulating layer.
本発明のタッチパネルの製造方法により、製造時間を大幅に短縮することができる上、フォトマスクの使用が減少するため、製造コストを低減することができる。 According to the touch panel manufacturing method of the present invention, the manufacturing time can be significantly shortened and the use of a photomask is reduced, so that the manufacturing cost can be reduced.
本発明の目的、特徴および効果を示す実施形態を図面に沿って詳細に説明する。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments showing the objects, features and effects of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(第1実施形態)
図1〜図3を参照する。図1は、本発明の第1実施形態によるタッチパネルの製造方法を示す流れ図である。図2は、本発明の第1実施形態によるタッチパネルの構造を示す平面図である。図3は、本発明の第1実施形態によるタッチパネルの製造工程を示す断面図である。図1〜図3に示すように、本発明のタッチパネルの製造方法は、以下S1〜S8のステップを含む。
(First embodiment)
Please refer to FIG. FIG. 1 is a flowchart illustrating a method for manufacturing a touch panel according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing the structure of the touch panel according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the touch panel according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIGS. 1-3, the manufacturing method of the touchscreen of this invention includes the step of S1-S8 below.
S1:基板を準備する。基板上に遮蔽層を設置する。基板の遮蔽層の位置を非タッチ領域に画定する。また、遮蔽されない位置をタッチ領域に画定する。 S1: Prepare a substrate. A shielding layer is placed on the substrate. The position of the shielding layer of the substrate is defined in the non-touch area. In addition, a non-shielded position is defined in the touch area.
S1において、基板1の材料は、ガラス又は高分子材料からなる透明板である。また、インクが塗布されることにより、基板1上に遮蔽層11が形成される。基板1の遮蔽層11の位置が非タッチ領域12に画定され、遮蔽されない位置がタッチ領域13に画定される。本発明において使用される基板1は、透明ガラス材料からなり、基板1を製造する際の前作業は、従来技術と同一であるため、ここでは贅言しない。
In S1, the material of the
S2:基板上に複数のタッチ電極を有するタッチ電極層を設置する。 S2: A touch electrode layer having a plurality of touch electrodes is placed on the substrate.
S2において、スパッタリングにより、基板1上にタッチ電極層14を形成する。タッチ電極層14は、酸化インジウムスズ(Indium Tin Oxide:ITO)、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムスズ亜鉛、酸化ハフニウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化アルミニウムスズ、酸化アルミニウム亜鉛、酸化カドミウムスズ及び酸化カドミウム亜鉛からなる群から選択される。
In S2, the
S3:タッチ電極層上に複数の金属配線を有する金属配線層を設置する。 S3: A metal wiring layer having a plurality of metal wirings is placed on the touch electrode layer.
S3において、スパッタリングにより、タッチ電極層14上に、金属配線層15形成する。
In S3, the
S4:1回目のフォトリソグラフィ工程を行い、非タッチ領域に位置する金属配線層を複数の金属配線に成形する。 S4: A first photolithography process is performed to form a metal wiring layer located in the non-touch area into a plurality of metal wirings.
S4において、金属配線層15に対し、1回目のフォトリソグラフィ工程を行い、非タッチ領域12に位置する金属配線層15を複数の金属配線151に成形する。金属配線層15に1回目のフォトリソグラフィ工程を行う際に使用されるエッチング液は、リン酸塩、硝酸、酢酸及び水からなる群から選択される。
In S <b> 4, the first photolithography process is performed on the
S5:2回目のフォトリソグラフィ工程を行い、非タッチ領域及びタッチ領域のタッチ電極層を複数のタッチ電極に成形する。 S5: A second photolithography process is performed, and the touch electrode layers in the non-touch area and the touch area are formed into a plurality of touch electrodes.
S5において、タッチ電極層14に対し、2回目のフォトリソグラフィ工程を行い、非タッチ領域12及びタッチ領域13のタッチ電極層14を複数のタッチ電極141に成形する。タッチ電極層14に2回目のフォトリソグラフィ工程を行う際に使用されるエッチング液は、硝酸、塩酸及び水からなる群から選択される。
In S <b> 5, a second photolithography process is performed on the
S6:複数のタッチ電極上に絶縁層を設置する。また、タッチ電極上の絶縁層に複数の導電性接続孔を形成する。 S6: An insulating layer is provided on the plurality of touch electrodes. A plurality of conductive connection holes are formed in the insulating layer on the touch electrode.
S6において、非タッチ領域12の複数のタッチ電極と複数の金属配線とが交差する位置に、絶縁層16を被覆する上、絶縁層16に対し、ウェットエッチングを行うことにより、絶縁層16の複数のタッチ電極141上に対応する位置に複数の導電性接続孔161を形成する。絶縁層16は、スクリーン印刷又は平版印刷によって形成される。絶縁層16の材料は、誘電率が2〜4の材料であり、インクなどの透光性を有する絶縁材料又は透光性を有さない絶縁材料を使用することができる。また、絶縁材料は、無機材料又は有機材料を使用することができる。無機材料は、酸化ケイ素、窒化ケイ素、窒酸化ケイ素、炭化ケイ素、酸化ハフニウム及び酸化アルミニウムからなる群から選択される。有機材料は、フォトレジスト、ベンゾシクロブテン(benzocyclobutane:BCB)、環状オレフィン類、ポリエステル類、ポリオール類、ポリエチレンオキシド類、ポリフェニル類、樹脂類、ポリエーテル類及びポリケチド類からなる群から選択される。
In S <b> 6, the insulating
S7:絶縁層上に複数の金属導線を有する導線層を設置する上、導電性接続孔を介し、複数の金属導線と複数のタッチ電極とを電気的に接続する。 S7: A conductor layer having a plurality of metal conductors is placed on the insulating layer, and the plurality of metal conductors and the plurality of touch electrodes are electrically connected through the conductive connection holes.
S7において、銀ペースト印刷又はスパッタリングにより、絶縁層16上及び導電性接続孔161中に金属導線17を設置することにより、複数のタッチ電極141と複数の金属配線151とを電気的に接続することができる。
In S7, the plurality of
S8:タッチ電極層、導線層及び絶縁層上に、保護層を設置する。 S8: A protective layer is provided on the touch electrode layer, the conductive wire layer, and the insulating layer.
S8において、タッチ電極層14、導線層及び絶縁層16上に、塗布により、保護層18を形成し、タッチ電極層14、絶縁層16及び金属導線17を保護する。
In S <b> 8, a
(第2実施形態)
図4及び図5を参照する。図4は、本発明の第2実施形態によるタッチパネルの製造方法を示す流れ図である。図5は、本発明の第2実施形態によるタッチパネルの構造を示す断面図である。図4及び図5に示すように、本発明の第2実施形態によるタッチパネルの製造方法は、以下S1〜S8のステップを含む。
(Second Embodiment)
Please refer to FIG. 4 and FIG. FIG. 4 is a flowchart illustrating a touch panel manufacturing method according to the second embodiment of the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a structure of a touch panel according to the second embodiment of the present invention. As shown in FIGS. 4 and 5, the touch panel manufacturing method according to the second embodiment of the present invention includes steps S <b> 1 to S <b> 8 below.
S1:基板を準備する。基板上に遮蔽層を設置する。基板の遮蔽層の位置を非タッチ領域に画定する。また、遮蔽されない位置をタッチ領域に画定する。 S1: Prepare a substrate. A shielding layer is placed on the substrate. The position of the shielding layer of the substrate is defined in the non-touch area. In addition, a non-shielded position is defined in the touch area.
S2:基板上に複数のタッチ電極を有する、別言すれば、複数のタッチ電極を形成するためのタッチ電極層を設置する。
S2: A plurality of touch electrodes are provided on the substrate . In other words, a touch electrode layer for forming a plurality of touch electrodes is provided.
S3:タッチ電極層上に複数の金属配線を有する、別言すれば、複数の金属配線を形成するための金属配線層を設置する。 S3: A plurality of metal wirings are provided on the touch electrode layer . In other words, a metal wiring layer for forming a plurality of metal wirings is provided.
S4:1回目のフォトリソグラフィ工程を行い、非タッチ領域に位置する金属配線層を複数の金属配線に成形する。 S4: A first photolithography process is performed to form a metal wiring layer located in the non-touch area into a plurality of metal wirings.
S5:2回目のフォトリソグラフィ工程を行い、非タッチ領域及びタッチ領域のタッチ電極層を複数のタッチ電極に成形する。 S5: A second photolithography process is performed, and the touch electrode layers in the non-touch area and the touch area are formed into a plurality of touch electrodes.
S6:複数のタッチ電極上に絶縁層を設置する。また、タッチ電極上の絶縁層に複数の導電性接続孔を形成する。 S6: An insulating layer is provided on the plurality of touch electrodes. A plurality of conductive connection holes are formed in the insulating layer on the touch electrode.
S7:絶縁層上に複数の金属導線を有する導線層を設置する上、導電性接続孔を介し、複数の金属導線と複数のタッチ電極とを電気的に接続する。 S7: A conductor layer having a plurality of metal conductors is placed on the insulating layer, and the plurality of metal conductors and the plurality of touch electrodes are electrically connected through the conductive connection holes.
S8:タッチ電極層、導線層及び絶縁層上に、保護層を設置する。 S8: A protective layer is provided on the touch electrode layer, the conductive wire layer, and the insulating layer.
本発明の第2実施形態は、前述の第1の実施形態と内容が略同一であるため、同一である箇所は贅言しない。本発明の第2実施形態においては、S2の基板上に複数のタッチ電極を有するタッチ電極層を設置するステップと、S3のタッチ電極層上に複数の金属配線を有する金属配線層を設置するステップと、の間に、S2−1のタッチ領域及び非タッチ領域に、光学補償層を形成するステップをさらに含む。S2−1において、スパッタリングにより、基板上に光学補償層19が設置される。
Since the content of the second embodiment of the present invention is substantially the same as that of the first embodiment described above, the same portions are not exaggerated. In the second embodiment of the present invention, a step of installing a touch electrode layer having a plurality of touch electrodes on the substrate of S2, and a step of installing a metal wiring layer having a plurality of metal wires on the touch electrode layer of S3. And a step of forming an optical compensation layer in the touch area and the non-touch area of S2-1. In S2-1, the
本発明のタッチパネルの製造方法により、製造時間を大幅に短縮することができる上、フォトマスクの使用が減少されるため、製造コストを低減することができる。 According to the touch panel manufacturing method of the present invention, the manufacturing time can be significantly shortened, and the use of a photomask is reduced, so that the manufacturing cost can be reduced.
説明したことから分かるように、本発明は、従来技術と比較し、以下(1)及び(2)に示す長所を有する。
(1)製造コストが低減される。
(2)フォトマスクの使用が減少される。
As can be seen from the description, the present invention has the following advantages (1) and (2) as compared with the prior art.
(1) Manufacturing cost is reduced.
(2) The use of photomasks is reduced.
以上の説明は、本発明の好適な実施形態を示すものであり、当業者は、本発明の領域内において変更及び修飾を行うことができ、それらは、何れも特許請求の範囲に含まれる。 The above description shows preferred embodiments of the present invention, and those skilled in the art can make changes and modifications within the scope of the present invention, all of which are within the scope of the claims.
1 基板
11 遮蔽層
12 非タッチ領域
13 タッチ領域
14 タッチ電極層
141 タッチ電極
15 金属配線層
151 金属配線
16 絶縁層
161 導電性接続孔
17 金属導線
18 保護層
19 光学補償層
DESCRIPTION OF
Claims (10)
基板を準備し、前記基板上に遮蔽層を設置し、前記基板の前記遮蔽層の位置を非タッチ領域に画定し、遮蔽されない位置をタッチ領域に画定し、
その後、前記基板上に複数のタッチ電極を形成するためのタッチ電極層を設置し、
その後、前記タッチ電極層上に複数の金属配線を形成するための金属配線層を設置し、
その後、1回目のフォトリソグラフィ工程を行い、前記非タッチ領域に位置する前記金属配線層を前記複数の金属配線に成形し、
その後、2回目のフォトリソグラフィ工程を行い、前記タッチ領域の前記タッチ電極層を前記複数のタッチ電極に成形し、
その後、前記複数のタッチ電極上に絶縁層を設置し、前記タッチ電極上の前記絶縁層に複数の導電性接続孔を形成し、
その後、前記絶縁層上に複数の金属導線を有する導線層を設置し、前記導電性接続孔を介して前記複数の金属導線と前記複数のタッチ電極とを電気的に接続し、
その後、前記タッチ電極層、前記導線層及び前記絶縁層上に、保護層を設置することを特徴とするタッチパネルの製造方法。 A touch panel manufacturing method,
Providing a substrate, the shielding layer is placed on the substrate to define the position of the shielding layer of the substrate in the non-touch area, defining a position not shielded in the touch region,
Then, it sets up a touch electrode layer for forming a plurality of touch electrodes on the substrate,
Then, we set up a metal wiring layer for forming a plurality of metal wires to the touch electrode layer,
Thereafter, a first photolithography step is performed, and the metal wiring layer located in the non-touch area is formed into the plurality of metal wirings,
Thereafter, the second photolithography process, and forming the touch electrode layer before Symbol touch area to the plurality of touch electrodes,
Thereafter, an insulating layer is installed on the plurality of touch electrodes, and a plurality of conductive connection holes are formed in the insulating layer on the touch electrode,
Thereafter, the on an insulating layer is placed a wire layer having a plurality of metal wires, and electrically connects the plurality of touch electrodes and the plurality of metal wires through the conductive connection hole,
Thereafter, the touch electrode layer, the conductor layer and the insulating layer, the touch panel manufacturing method according to claim and Turkey be installed a protective layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013009121A JP5588525B2 (en) | 2013-01-22 | 2013-01-22 | Manufacturing method of touch panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013009121A JP5588525B2 (en) | 2013-01-22 | 2013-01-22 | Manufacturing method of touch panel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014142692A JP2014142692A (en) | 2014-08-07 |
JP5588525B2 true JP5588525B2 (en) | 2014-09-10 |
Family
ID=51423943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013009121A Expired - Fee Related JP5588525B2 (en) | 2013-01-22 | 2013-01-22 | Manufacturing method of touch panel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5588525B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190105656A (en) * | 2017-08-15 | 2019-09-17 | 보에 테크놀로지 그룹 컴퍼니 리미티드 | Touch control structures and methods for manufacturing the same, and display devices |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110501897B (en) * | 2019-08-30 | 2021-08-17 | 安徽华米信息科技有限公司 | Intelligent watch and touch control method thereof |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101743528B (en) * | 2007-08-30 | 2012-09-26 | 京瓷株式会社 | Touch panel and touch panel display device |
WO2012057027A1 (en) * | 2010-10-28 | 2012-05-03 | シャープ株式会社 | Touch panel, display device, and method for manufacturing touch panel |
CN102681712B (en) * | 2011-03-18 | 2016-08-24 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | Contactor control device and manufacture method thereof |
-
2013
- 2013-01-22 JP JP2013009121A patent/JP5588525B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190105656A (en) * | 2017-08-15 | 2019-09-17 | 보에 테크놀로지 그룹 컴퍼니 리미티드 | Touch control structures and methods for manufacturing the same, and display devices |
KR102265755B1 (en) * | 2017-08-15 | 2021-06-16 | 보에 테크놀로지 그룹 컴퍼니 리미티드 | Touch control structure and manufacturing method thereof, and display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014142692A (en) | 2014-08-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106775066B (en) | Touch screen, manufacturing method thereof and touch display device | |
TWI436252B (en) | Manufacturing method of touchpad | |
TWI492111B (en) | Touch panel and manufacturing method | |
TWI443685B (en) | Touch devices and fabrication methods thereof | |
KR101320186B1 (en) | Transparent panel and manufacturing method thereof | |
CN203849704U (en) | Touch screen with ultra-narrow frame | |
CN107025027A (en) | Touch base plate and preparation method thereof, display panel and display device | |
TWI553711B (en) | Touch panel and method for manufacturing the same | |
TWM493109U (en) | Capacitive touch panel | |
CN105702701A (en) | Piezoelectric touch organic light-emitting display panel and manufacturing method thereof, and organic light-emitting display | |
CN105159489A (en) | Display apparatus, touch panel and manufacturing method thereof | |
CN102830836B (en) | A kind of contact panel and manufacture method, touch control device | |
US10768764B2 (en) | Touch structure and manufacturing method thereof, and touch device | |
KR20150006228A (en) | Touch panel | |
TW201443719A (en) | Touch panel and touch display panel | |
US9304645B2 (en) | Manufacturing method of touch module | |
JP5588525B2 (en) | Manufacturing method of touch panel | |
CN101706702A (en) | Capacitive touch control panel, capacitive touch control display device and manufacturing method thereof | |
TWI466002B (en) | Manufacturing method of touch panel | |
US20150090578A1 (en) | Touch panel and method of manufacturing the same | |
KR20150019058A (en) | Touch screen panel and manufacturing method thereof | |
TWI512572B (en) | Manufacturing method of touch module | |
CN113064514A (en) | Display panel and display device | |
CN202711205U (en) | Touch panel and touch equipment | |
JP5750126B2 (en) | Touch control panel manufacturing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140508 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140715 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140725 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5588525 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |