JP5586877B2 - Exposure apparatus and device manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、原版のパターンを投影して基板を露光する露光装置に関するものである。 The present invention relates to an exposure apparatus that exposes a substrate by projecting an original pattern.
従来の露光装置においては、ジョブ切り換えによりレチクルを交換する場合、レチクルステージからレチクルを搬出し、レチクル搬入搬出口またはレチクルライブラリへ回収する。さらに、これと同時に、レチクル搬入搬出口またはレチクルライブラリからレチクルステージへレチクルを搬入していた。 In the conventional exposure apparatus, when exchanging the reticle by job switching, the reticle is unloaded from the reticle stage and collected in the reticle loading / unloading port or the reticle library. At the same time, the reticle is carried into the reticle stage from the reticle loading / unloading port or the reticle library.
また、特開平５−５５１０３号公報（特許文献１）では、次ジョブ（次ロット）で使用するレチクルが予め分かっている場合、そのレチクルをジョブ切り換えに先立ってレチクルステージの近傍に設けられたレチクル待機部に搬入しておく方法が提案されている。これにより、ジョブ切り換えを速やかに行って、スループットを向上させる。
一方、特開２０００−３２３３９１号公報（特許文献２）では、ジョブキューテーブル（キューは待ち行列）の情報に従って、次ジョブ以降の複数のレチクルをレチクルステージの近傍に設けられた複数のレチクル待機部に予め搬入しておく方法が提案されている。
In Japanese Patent Laid-Open No. 5-55103 (Patent Document 1), when a reticle to be used in the next job (next lot) is known in advance, the reticle is provided near the reticle stage prior to job switching. A method of carrying in the standby unit has been proposed. As a result, job switching is performed quickly to improve throughput.
On the other hand, according to Japanese Patent Laid-Open No. 2000-323391 (Patent Document 2), a plurality of reticle standby units provided in the vicinity of the reticle stage for a plurality of reticles after the next job according to information in a job queue table (queue is a queue). The method of carrying in in advance is proposed.
ジョブキューテーブルを有する露光装置において、スループットをさらに向上させるために、次ジョブ以降のレチクルの待機部として装置内の待機部全てを使用する場合、以下の課題がある。 In an exposure apparatus having a job queue table, in order to further improve the throughput, when all the standby units in the apparatus are used as standby units for reticles subsequent to the next job, there are the following problems.
ジョブ順番を常に最優先して露光装置内のレチクル待機部を使用する方式では、装置内に具備されるペリクル異物検査装置（以下ＰＰＣ）の検査ステージについても待機部として使用する場合がある。そして、キューイングされているジョブとは無関係なレチクルに対してＰＰＣを使用してレチクル上の異物付着状態を検査する場合がある。
この場合、（１）ＰＰＣの検査ステージ上に配置されているレチクルを別の待機部に退避させる必要がある。例えば、ＰＰＣの検査ステージ上にあるレチクルをレチクル回収位置（レチクルライブラリ等）に一旦回収した後、異物検査を行いたいレチクルをＰＰＣの検査ステージ上に配置する必要がある。このため、必要以上に異物検査に時間が掛かり、異物検査ができないおそれがある。
また、（２）次ロット以降のジョブとは無関係なレチクルがＰＰＣの検査ステージ上で異物検査されている間、次ジョブのレチクルがレチクル回収位置に存在するため、次ジョブの処理開始までに時間が掛かってしまう。
In a system in which the reticle standby unit in the exposure apparatus is used with the highest priority given to the job order, the inspection stage of a pellicle foreign matter inspection apparatus (hereinafter referred to as PPC) provided in the apparatus may also be used as a standby unit. Then, there is a case in which the foreign matter adhesion state on the reticle is inspected by using PPC for the reticle unrelated to the queued job.
In this case, (1) it is necessary to retract the reticle arranged on the inspection stage of the PPC to another standby unit. For example, after a reticle on a PPC inspection stage is once collected at a reticle collection position (reticle library or the like), a reticle to be subjected to foreign substance inspection needs to be placed on the PPC inspection stage. For this reason, the foreign object inspection takes more time than necessary, and the foreign object inspection may not be performed.
(2) While the reticle unrelated to the job after the next lot is inspected for foreign matter on the inspection stage of the PPC, the reticle of the next job exists at the reticle collection position, so that it takes time to start processing the next job. Will be applied.
同様に、露光装置内に具備されるレチクル固体識別情報読み取り装置のステージを待機部として使用した場合において、キューイングされているジョブとは無関係なレチクルに対してレチクル固体識別情報読み取り装置を使用してレチクル情報の読み取りを行うことがある。
この場合、（１）レチクル固体識別情報読み取り装置のステージ上に配置されているレチクルを別の待機部に退避させる必要がある。例えば、レチクル固体識別情報読み取り装置のステージ上にあるレチクルをレチクル回収位置（レチクルライブラリ）に一旦回収した後、レチクル情報の読み取りを行いたいレチクルをレチクル固体識別情報読み取り装置のステージ上に配置する必要がある。このため、必要以上にレチクル情報の読み取りに時間が掛かり、レチクル情報の読み取りができないおそれがある。
また、（２）次ロット以降のジョブとは無関係なレチクルがレチクル固体識別情報読み取り装置のステージ上でレチクル情報の読み取り処理がされている間、次ジョブのレチクルがレチクル回収位置に存在するため、次ジョブの処理開始までに時間が掛かる。
Similarly, when the stage of the reticle solid identification information reader provided in the exposure apparatus is used as a standby unit, the reticle solid identification information reader is used for a reticle unrelated to the queued job. In some cases, reticle information is read.
In this case, (1) it is necessary to retract the reticle arranged on the stage of the reticle solid identification information reader to another standby unit. For example, after the reticle on the stage of the reticle solid-state identification information reader is once collected at the reticle collection position (reticle library), the reticle on which the reticle information is to be read needs to be placed on the stage of the reticle solid-state identification information reader. There is. For this reason, reading of reticle information takes more time than necessary, and reticle information may not be read.
(2) Since the reticle unrelated to the job after the next lot is being subjected to the reticle information reading process on the stage of the reticle solid identification information reader, the reticle of the next job exists at the reticle collection position. It takes time to start processing the next job.
ＰＰＣの検査ステージやレチクル固体識別情報読み取り装置のステージを、後続ジョブのレチクル待機部として常に使用すると以下のようになる。すなわち、後続ジョブとは無関係なレチクルに対してＰＰＣを使用して異物状況を確認する際やレチクル情報の読み取りを行う際に時間が掛かり、スループットが低下してしまう。
そこで、本発明は、例えば、スループットの点で有利な露光装置を提供することを目的とする。
When the inspection stage of the PPC and the stage of the reticle solid identification information reading device are always used as the reticle standby unit of the subsequent job, the following results. That is, it takes time to check the foreign object status using a PPC for a reticle unrelated to the succeeding job or to read reticle information, and throughput is reduced.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an exposure apparatus that is advantageous in terms of throughput, for example.
本発明の露光装置は、待ち行列中のジョブの情報に含まれる原版の情報に従って、原版を介して基板を露光する露光装置であって、
前記原版を保持し且つ移動される原版ステージと、
前記原版を待機させるのに使用可能な複数の待機部と、
前記原版ステージに前記原版を搬送する搬送手段と、
前記原版を待機させる待機部としての使用可否を前記複数の待機部のそれぞれに関して選択する選択手段と、
前記選択手段により使用可として選択された待機部に前記ジョブの情報に従って原版を待機させるよう、かつ前記選択手段により使用不可として選択された待機部をその他の待機部にある原版の退避場所とするよう、前記搬送手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする露光装置である。
The exposure apparatus of the present invention is an exposure apparatus that exposes a substrate through an original according to information on the original included in information on jobs in a queue,
An original stage holding and moving the original; and
A plurality of standby units that can be used to wait for the original;
Conveying means for conveying the original to the original stage;
Selection means for selecting whether to use as a standby unit to wait a pre-Symbol precursor for each of the plurality of standby unit,
And saving location of the original with so as to wait for the original according to the information of the job to the selected standby unit as usable by prior Symbol selection means, and a waiting unit selected as unavailable by the selection unit to the other standby section to, and control means for controlling the conveying means,
It is an exposure apparatus characterized by having.
さらに、本発明の原版搬送方法は、待ち行列中のジョブの情報に含まれる原版の情報に従って原版を介し基板を露光する装置に適用される原版搬送方法であって、
原版を待機させる待機部としての使用可否を、原版ステージに搬送されるべき原版を待機させるのに使用可能な複数の待機部のそれぞれに関して選択し、
前記選択により使用可として選択された待機部に前記ジョブの情報に従って原版を待機させるよう、かつ前記選択により使用不可として選択された待機部をその他の待機部にある原版の退避場所とするよう、該原版を搬送する、
ことを特徴とする原版搬送方法である。
Further, the original transport method of the present invention is an original transport method applied to an apparatus that exposes a substrate through an original according to the information of the original included in the information of the job in the queue,
Select whether or not to use the standby unit for waiting for the original for each of a plurality of standby units that can be used for waiting for the original to be transported to the original stage,
To the previous SL so as to wait for the original in accordance with the job information of the waiting unit selected as usable by the selection, and saving location of the original in the other standby unit wait unit selected as unavailable by the selection , Transporting the original plate,
An original conveying method characterized by the above.
本発明によれば、例えば、スループットの点で有利な露光装置を提供することができる。 According to the present invention, for example, an exposure apparatus that is advantageous in terms of throughput can be provided.
以下、添付図面を参照して、本発明の実施例を説明する。
図１は、本発明の一実施例の露光装置の概略構成図である。本実施例の露光装置は、待ち行列中のジョブの情報に含まれる原版であるレチクル２の情報に従って、レチクル２を介して基板であるウエハ９を露光する装置である。照明装置１は、光源とシャッタとを有し、原版ステージであるレチクルステージ３は、回路パターンが描かれたレチクル２を保持し且つ移動されるステージである。レチクル位置計測機構４は、レチクルステージ３上のレチクル２の位置を計測する機構で、焼付け用の投影光学系５は、回路パターンを基板であるウエハ９に投影する光学系である。基板ステージを構成するＸＹステージ６は、焼付け対象のウエハ８を載せてＸＹ平面内でＸおよびＹの２方向に移動するステージで、レーザー干渉計７は、ＸＹステージ６の位置を計測する手段である。基板ステージを構成するウエハＺステージ８は、ウエハ９を載せ露光時のピントを調節する（フォーカシングする）ためにウエハ９を垂直方向に移動させるステージで、オートフォーカスユニット１０は、ウエハ９のピント位置を計測する手段である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
FIG. 1 is a schematic block diagram of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. The exposure apparatus according to the present embodiment is an apparatus that exposes a
図２は、本実施例の露光装置内のレチクル搬送手段に関連する構成要素についての概略構成図である。
露光装置チャンバー１１には、外部からレチクルの出し入れを可能とするレチクル搬入搬出口１８が設けられている。オペレータは、このレチクル搬入搬出口１８よりレチクルをレチクルカセットに入れた状態で露光装置内に挿入する。
搬送手段であるカセットロボット１３あるいはレチクル搬送ロボット１６は、レチクル２を待機させる待機部を有し、レチクルステージ３にレチクル２を搬送する搬送手段である。
この待機部は、ＰＰＣ１７で異物が検出されなかったレチクル２が、当該検査の後、再度の検査を経ることなくレチクルステージ３に保持され、ウエハ８の露光に使用されるまで待機する場所である。従って、当該待機部には、露光に使用されたレチクル２が、ライブラリやカセット等に収納されることなく再度、レチクルステージ３に保持され、ウエハ８の露光に使用されるまで待機することもある。
待機部は、複数設けられ、レチクル２を一時的に収納する手段であるレチクルライブラリ１２（収納部）、レチクル２を保持するハンド（レチクル搬送ロボット１６のハンド）、レチクル２の異物を検査するＰＰＣ１７（検査部）と、レチクル２の固体識別情報を読み取るＲＢＣＲ２２（読取部）およびレチクル２をプリアライメントするレチクルプリステージ１５（プリアライメント部）の少なくとも１つを含む。
さらに、待機部は、一時的に収納される手段である中継収納ユニット１４、レチクル２が一時的に載置され回転される原版回転装置であるレチクル回転装置３０などを有する。
FIG. 2 is a schematic block diagram of the components related to the reticle transport means in the exposure apparatus of the present embodiment.
The
The
This standby unit is a place where the
A plurality of standby units are provided, and a reticle library 12 (storage unit) that is a means for temporarily storing the
Further, the standby unit includes a
オペレータは、ワークステーション２１に接続された端末２０より挿入されたレチクルの搬送指示を出す。端末２０は、前記待機部でレチクルを待機させるか否かを設定する設定手段である。
また、端末２０は、複数の待機部のうち、レチクルを待機させる待機部を設定する設定手段でもある。
ワークステーション２１およびレチクル搬送制御ボード１９は、前記ジョブの情報と端末２０による設定に従って搬送手段であるカセットロボット１３あるいはレチクル搬送ロボット１６を制御する制御手段である。
ワークステーション２１、レチクル搬送制御ボード１９は、ＰＰＣ１７による異物検査の後、または、ＲＢＣＲ２２によるレチクル２の固体識別情報の読み取りの後に、レチクルステージ３にレチクル２を搬送する場合もある。
さらに、ワークステーション２１およびレチクル搬送制御ボード１９（制御手段）は、待機部にレチクル２が待機した状態において、前記待ち行列中にないジョブに対応したレチクル２の待機部への搬送を少なくとも一時的に禁止する場合もある。
さらに、ワークステーション２１およびレチクル搬送制御ボード１９は、前記待機部にレチクルを待機した前記ジョブを実行しようとした際に端末２０により警告表示を行う場合もある。
The operator issues a transport instruction for the reticle inserted from the terminal 20 connected to the
The terminal 20 is also a setting unit that sets a standby unit that waits for a reticle among a plurality of standby units.
The
The
Further, the
Further, the
搬送指示はワークステーション２１を経由してレチクル搬送ロボット１６およびカセットロボット１３を制御するレチクル搬送制御ボード１９に伝達される。オペレータが挿入されたレチクルをレチクルステージ３に搬送する指示を出した場合、カセットロボット１３はレチクルカセットに入れられたレチクルを中継収納ユニット１４まで搬送し、中継収納ユニット１４においてレチクルをレチクルカセットより取り出す。さらに、レチクル搬送ロボット１３にてレチクルバーコードリーダであるＲＢＣＲ２２のステージに搬送する。その後、ＲＢＣＲ２２にてレチクル情報の読み取り処理を行った後、レチクル搬送ロボット１６のハンドにてＲＢＣＲ２２のステージからレチクルを取り、ＰＰＣ１７のステージに搬送する。ペリクル異物検査装置であるＰＰＣ１７で異物状況を検査し、異物の付着が無く露光に使用できる場合は、レチクル搬送ロボット１３により、レチクルプリステージ１５に搬送する。レチクルプリステージ１５に置かれたレチクルはプリアライメント処理を行った後、更にレチクルステージ３に搬送される。ＲＢＣＲ２２は、レチクルの個別識別情報を読み取るために使用するが、バーコードリーダでなくてもＱＲコードリーダやＩＣタグリーダなどレチクルの個別情報を識別可能な装置であれば良い。
The transfer instruction is transmitted via the
オペレータは、また、レチクル搬入搬出口１８より挿入されたレチクルをレチクルライブラリ１２に収納する指示を出すこともできる。その場合、レチクルはレチクルカセットに入ったままレチクルライブラリ１２の空き位置に収納する。レチクルライブラリ１２と中継収納ユニット１４の間のレチクル搬送は、カセットロボット１３によりレチクルカセットにレチクルが入れられたまま搬送を行う。一方、レチクル中継ユニットとＰＰＣ１７のステージの間は中継収納ユニット１４においてカセットから取り出されたレチクルをレチクル搬送ロボット１６により搬送する。同様にＲＢＣＲ２２のステージとＰＰＣ１７のステージ間およびＰＰＣ１７のステージとレチクルプリステージ１５間もレチクル搬送ロボット１６により中継収納ユニット１４においてカセットから取り出されたレチクルを搬送する。
The operator can also issue an instruction to store the reticle inserted from the reticle loading / unloading
レチクル搬送ロボット１６は、回転及び移動が可能であり、また、レチクルの配置交換のためにハンドを２つ有する。さらに、レチクル搬送ロボット１６は、レチクル中継収納ユニット１４やＰＰＣ１７、レチクルプリステージ１５に既に置いてあるレチクルを片方のハンドで回収するとともにもう片方のハンドにあるレチクルを新たに配置することが可能である。レチクルプリステージ１５とレチクルステージ３の間のレチクル搬送は回転式のハンドを用い、レチクルプリステージ１５からレチクルステージ３への搬送とレチクルステージ３からレチクルプリステージ１５への搬送を同時に行う。
The
ＲＢＣＲ２２のステージとＰＰＣ１７のステージとレチクルプリステージ１５およびレチクルステージ３の間は、中継収納ユニット１４においてレチクルカセットから取り出されたレチクルを搬送する。しかし、ＰＰＣ１７のステージとレチクルプリステージ１５およびレチクルステージ３の間はクリーンエリアであり、露光装置が正常であれば装置内はクリーンである。このため、ペリクル異物検査完了済みのレチクルを長時間装置内に放置しても異物が付着することはない。
Between the
レチクル近傍の、次ロット以降に使用するレチクルを配置可能な場所において、次ロット以降に使用するレチクルの待機部として使用するかどうかは、端末２０上に表示される使用可否設定画面により使用可否を設定する。図３は、図２に示される端末２０上に表示される、レチクルを配置可能な位置をレチクル待機部として使用するかどうかを設定可能な画面を示す。端末２０上に表示される画面にて、レチクルを配置可能な場所においてレチクル待機部として使用したい場所ではＵｓｅを選択し、使用したくない場所ではＮｏｕｓｅを選択する。使用可否の設定は、使用するかしないかのどちらかを必ず設定する必要がある。図２に示される中継収納ユニット１４は５段のスロットを持ち、レチクルカセットを５つ収納可能とする。よって露光装置内（クリーンエリア）には、レチクルを最大で５枚まで配置可能であり、クリーンエリアにレチクルが５枚入っている時は、中継収納ユニット１４内にレチクルの入っていない空カセットが５つ置かれる。
Whether or not to use as a standby unit for a reticle to be used in the next lot or later in a place near the reticle where a reticle to be used in the next lot or later can be placed is determined by using the availability setting screen displayed on the terminal 20. Set. FIG. 3 shows a screen that can be set as to whether or not to use a position where a reticle can be placed, displayed on
図４は、ＰＰＣ１７のステージをレチクル待機部として使用する場合と、使用しない場合において、表２のジョブキューテーブルに従いロット処理およびレチクル配置・搬送に掛かる時間の例を示している。図４中の上段はＰＰＣ１７のステージをレチクル待機部として使用する場合を表し、下段はＰＰＣ１７のステージをレチクル待機部として使用しない場合を表している。図４中の横棒の中に書かれている各数字は表１中の処理Ｎｏ．を表しており、また、横線の長さは各処理に掛かる時間の長さを表している。表３には表１の各種処理の間の状態が示してあり、図４中では横棒の中の「Ｓ」に続く数字が表３の状態Ｎｏ．を示している。また、図４は表２に示すジョブキューテーブルの内容に従い、レチクルを搬送したケースを示している。表２はジョブ実行順番情報（ジョブキューテーブル）の例である。表２中のＱｕｅｕｅ
Ｎｏ．に従ってジョブを順番に実行する。各ジョブで使用するレチクルは、ｒｅｔｉｃｌｅ欄に記載してあるレチクルを使用し、ジョブの切り替えに伴いレチクルを変更する。レチクル搬送制御ボード１９は、それぞれの処理に掛かる時間を予め知っており、処理時間を考慮してレチクルの搬送を制御する。また、ジョブ中での異物検査処理はＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しない場合でも実行する。
FIG. 4 shows an example of the time required for lot processing and reticle placement / transport according to the job queue table of Table 2 when the stage of the
No. Follow the steps to execute the job in order. As the reticle used in each job, the reticle described in the reticle column is used, and the reticle is changed according to job switching. The reticle
レチクルをレチクルライブラリ１２からレチクルステージ３まで搬送する際について説明する。
図４において、レチクルライブラリ１２から中継収納ユニット１４へのレチクルカセットの搬送（表２中の処理１）は、カセットロボット１３にて行う。その際、中継収納ユニット１４にはレチクルがカセットに入ったまま収納される。レチクルライブラリ１２から中継収納ユニット１４へのレチクルカセットの搬送は、カセットロボットが１台しかないため同時に行うことはできない。中継収納ユニット１４からＰＰＣ１７へのレチクルの搬送は、まず、レチクル搬送ロボット１６のハンドで行う。
A case where the reticle is transported from the
In FIG. 4, transport of the reticle cassette from the
レチクルのレチクルライブラリ１２への回収時は、まずレチクルプリステージ１５上のレチクルをレチクル搬送ロボット１６のハンドで取る。その後、中継収納ユニット１４まで移動し、中継収納ユニット１４の所定のカセット位置にレチクルを搬送した後（表２中の処理１６）、レチクルカセットへのレチクルの取入れ処理を行う（表２中の処理１７）。中継収納ユニット１４からレチクルライブラリ１２までは、カセットロボット１３を使用して搬送する（表２中の処理１８）。
When collecting the reticle into the
ロット処理にはレチクルの搬送以外の処理として、レチクル情報読み取り処理やＰＰＣ実行処理、レチクルのプリアライメント処理、露光処理がある。図４中では、それらの処理に掛かる時間についても加味してある。ただし、レチクルロボット１３のハンドの移動や回転に掛かる時間は、レチクルの受渡し処理の中に含めて示している。
The lot processing includes reticle information reading processing, PPC execution processing, reticle pre-alignment processing, and exposure processing as processing other than reticle transport. In FIG. 4, the time required for these processes is also taken into account. However, the time required for the movement and rotation of the hand of the
図４下段に示すＰＰＣ１７のステージをレチクル待機部として使用しない場合では表３の状態Ｎｏ．４の状態が無く、異物検査処理は行われているが、ＰＰＣ１７のステージでレチクルが待機していないことを示している。
When the stage of the
図４のジョブ完了時のタイミングを見ると、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用するときはタイミング７３でジョブが完了し、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しないときにはタイミング８３でジョブが完了している。このことから表２で示されるような同じレチクルを繰り返して使用する場合においては、ＰＰＣ１７のステージをレチクルの待機部として使用して、クリーンエリア内のレチクルステージ３から近い位置により多くのレチクルを待機させた方がよい。この理由は、レチクル交換をスムーズに行うことができ、ジョブに掛かる時間を短くすることができるからである。
Looking at the timing when the job is completed in FIG. 4, when the stage of
図５は、ジョブ実行と関係の無いレチクルをペリクル異物検査する場合において、レチクル待機部としてＰＰＣ１７のステージを使用する場合のレチクル搬送の制御フローを示している。また、図６にこのフローを開始する前の状態を示す。図６中のａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｈはレチクルを示し、ｈがペリクル異物検査を実行したいレチクルとする。このフローでは、装置内（クリーンエリア内）に待機可能なレチクルが全て配置されている。さらに、ＰＰＣ実行前の状態からジョブに関係の無いレチクルｈを異物検査し、再度異物検査実行前の状態に戻るまでレチクルｈの異物検査実行前に処理していたジョブが継続して処理されている場合を示している。
FIG. 5 shows a control flow of reticle conveyance when the stage of the
図５に示されるように制御シーケンスがスタートする（ステップＳ３０１）。
レチクル搬送制御ボード１９はＰＰＣ実行コマンドを受信したか否かを判断する（ステップＳ３０２）。ＰＰＣ実行コマンドを受信していない場合は再度、ステップＳ３０２を実行する。ＰＰＣ実行コマンドを受信した場合はステップＳ３０３へ進む。
中継収納ユニット１４にはＰＰＣを実行したいレチクルｈを搬入する空きスロットが無いため、クリーンエリア内のレチクルの内、ジョブ順の遅いレチクルｅを回収する必要がある。まず、レチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｃとＲＢＣＲ２２のステージ上のレチクルｅを交換する（ステップＳ３０３）。その後、ステップＳ３０４へ進む。
As shown in FIG. 5, the control sequence starts (step S301).
The reticle
Since the
レチクルロボット１３のハンド上のレチクルｅを中継収納ユニット１４の所定のカセットに格納する（ステップＳ３０４）。その後、ステップＳ３０５へ進む。
中継収納ユニット１４に搬送したレチクルｅをレチクルライブラリ１２へ格納する（ステップＳ３０５）。その後、ステップＳ３０６へ進む。
異物検査を実行したいレチクルｈを中継収納ユニット１４に搬送する（ステップＳ３０６）。その後、ステップＳ３０７へ進む。
中継収納ユニット１４にあるレチクルｈをレチクル搬送ロボット１６のハンドにて、ＰＰＣ１７のステージまで搬送する。その際にハンド上のレチクルｈとＰＰＣ１７のステージ上のレチクルｄを交換する（ステップＳ３０７）。その後、ステップＳ３０８へ進む。
The reticle e on the hand of the
The reticle e transported to the
The reticle h to be subjected to foreign matter inspection is transported to the relay storage unit 14 (step S306). Thereafter, the process proceeds to step S307.
The reticle h in the
ＰＰＣ１７のステージ上にある、異物検査を実行したいレチクルｈの異物検査処理を実行する（ステップＳ３０８）。その際、同時にステップＳ３０９において、レチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｄとＲＢＣＲ２２のステージ上のレチクルｃを配置交換する（ステップＳ３０９）。異物検査処理完了後、ステップＳ３１０へ進む。
ＰＰＣ１７のステージ上にある、異物検査処理が完了したレチクルｈとレチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｃを配置交換する（ステップＳ３１０）。その後、ステップＳ３１１へ進む。
レチクル搬送ロボット１６のハンド上にあるレチクルｈを中継収納ユニット１４の所定のカセット位置へ搬送する（ステップＳ３１１）。その後、ステップＳ３１２へ進む。
A foreign matter inspection process is performed on the reticle h on the stage of the
The reticle h on the stage of the
The reticle h on the hand of the
中継収納ユニット１４にあるレチクルｈが入ったレチクルカセットをレチクルライブラリ１２へカセットロボット１３を用いて搬送する（ステップＳ３１２）。その後、ステップＳ３１３へ進む。
レチクルライブラリ１２に一旦回収したレチクルｅを中継収納ユニット１４へ搬送する（ステップＳ３１３）。その後、ステップＳ３１４へ進む。
中継収納ユニット１４にあるレチクルｅをハンドにて、ＲＢＣＲ２２のステージまで搬送する。その際にＲＢＣＲ２２のステージ上にあるレチクルｄとレチクルロボット１３のハンド上にあるレチクルｅを配置交換する（ステップＳ３１４）。その後、ステップＳ３１５へ進む。
ＰＰＣ１７のステージ上のレチクルｃとレチクル搬送ロボット１６のハンド上にあるレチクルｄの配置交換を実施する（ステップＳ３１５）。その後、ステップＳ３１６へ進む。
レチクルｈの異物検査前の元の状態に戻る（ステップＳ３１６）。
The reticle cassette containing the reticle h in the
The reticle e once collected in the
The reticle e in the
The arrangement exchange of the reticle c on the stage of the
The original state of the reticle h before the foreign matter inspection is restored (step S316).
図７は、ジョブ実行と関係の無いレチクルをペリクル異物検査する時に、レチクル待機部としてＰＰＣ１７のステージを使用しない場合のレチクル搬送の制御フローを示している。また、図８にこのフローを開始する前の状態を示す図を示す。図８中のａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｈはレチクルを示し、ｈが異物検査を実行したいレチクルとする。このフローでは、装置内（クリーンエリア内）に待機可能なレチクルが全て配置されている。さらに、ジョブに無関係なレチクルｈの異物検査実行前の状態からレチクルｈの異物検査処理を実行し、再度異物検査実行前の状態に戻るまで異物検査前に処理していたジョブが継続して処理されている場合を示している。
FIG. 7 shows a control flow of reticle conveyance when the stage of the
図７に示されるように制御シーケンスがスタートする（ステップＳ４０１）。
レチクル搬送制御ボード１９はＰＰＣ実行コマンドを受信したか否かを判断する。ＰＰＣ実行コマンドを受信していない場合は再度Ｓ４０２を実行する（ステップＳ４０２）。ＰＰＣ実行コマンドを受信した場合はステップＳ４０３へ進む。
中継収納ユニット１４で待機しているレチクルｅをレチクルライブラリ１２へ格納する（ステップＳ４０３）。
レチクルｈを中継収納ユニット１４へ搬送する（ステップＳ４０４）。その際、同時にレチクルロボットのハンド上にあるレチクルｃをＰＰＣ１７のステージ上へ配置する（ステップＳ４０５）。その後、ステップＳ４０６へ進む。
中継収納ユニット１４に格納した、異物検査を実行したいレチクルｈをレチクル搬送ロボット１６のハンドにてＰＰＣ１７のステージ上へ搬送する。その際、ＰＰＣ１７のステージ上にあるレチクルｃとレチクル搬送ロボット１６のハンド上にあるレチクルｈを配置交換する（ステップＳ４０６）。その後、ステップＳ４０７に進む。
As shown in FIG. 7, the control sequence starts (step S401).
The reticle
The reticle e waiting in the
The reticle h is transported to the relay storage unit 14 (step S404). At the same time, the reticle c on the hand of the reticle robot is placed on the stage of the PPC 17 (step S405). Thereafter, the process proceeds to step S406.
The reticle h to be subjected to foreign matter inspection stored in the
ＰＰＣ１７のステージ上にあるレチクルｈを異物検査し、異物検査処理を完了する（ステップＳ４０７）。その後、ステップＳ４０８へ進む。
ＰＰＣ１７のステージ上にある異物検査が完了したレチクルｈとレチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｃを配置交換する（ステップＳ４０８）。その後、ステップＳ４０９へ進む。
レチクル搬送ロボット１６のハンド上にあるレチクルｈを中継収納ユニット１４へ搬送する（ステップＳ４０９）。その後、ステップＳ４１０へ進む。
中継収納ユニット１４にあるレチクルｈをレチクルライブラリ１２へ搬送する（ステップＳ４１０）。その後Ｓ４１１へ進む。
一旦、ライブラリに回収したレチクルｅを中継収納ユニット１４へ搬送する。その際、同時にＳ４１２においてＰＰＣ１７のステージ上にあるレチクルｃをレチクル搬送ロボット１６のハンド上へ配置する（ステップＳ４１１）。その後、ステップＳ４１３へ進み、元の状態に戻る。
Foreign matter inspection is performed on the reticle h on the stage of the
The reticle h on the stage of the
The reticle h on the hand of the
The reticle h in the
The reticle e once collected in the library is transported to the
図９は、上記二つのフローにおいてジョブ実行と無関係なレチクルをペリクル異物検査する時の異物検査およびレチクル搬送処理に掛かる時間を示している。
レチクルの待機部としてＰＰＣ１７のステージを使用する設定となっている場合において、以下の場所にレチクルが待機している状態を想定する。すなわち、レチクルステージ３、レチクルプリステージ１５、レチクル搬送ロボット１６のハンド、ＰＰＣ１７のステージ、ＲＢＣＲ２２のステージ、中継収納ユニット１４にジョブに使用するレチクルが待機している状態を想定する。さらに、ジョブとは無関係なレチクルを異物検査する場合を想定している。
さらに、レチクルの待機部としてＰＰＣ１７のステージを使用しない設定になっている場合において、以下の場所にレチクルが待機している状態を想定する。すなわち、レチクルステージ３、レチクルプリステージ１５、レチクル搬送ロボット１６のハンド、ＲＢＣＲ２２のステージ、中継収納ユニット１４にジョブに使用するレチクルが待機している状態を想定する。さらに、ジョブとは無関係なレチクルを異物検査する場合を想定している。
また、異物検査が行われている間は、異物検査実行前のジョブが継続して行われている場合を想定し、異物検査実行前の状態からジョブに無関係なレチクルを異物検査し、再度異物検査実行前の状態に戻るまでに掛かる時間を示している。図９上段がＰＰＣ１７のステージをレチクル待機部として使用する設定を選択した場合を示し、図９下段がＰＰＣ１７のステージをレチクル待機部として使用しない設定を選択した場合を示している。
FIG. 9 shows the time required for foreign object inspection and reticle transport processing when a reticle unrelated to job execution in the above two flows is subjected to pellicle foreign object inspection.
In the case where the stage of the
Further, it is assumed that the reticle is waiting at the following location when the stage of the
Also, while the foreign object inspection is being performed, it is assumed that the job before the foreign object inspection is being executed, and the reticle unrelated to the job is inspected from the state before the foreign object inspection is performed, and the foreign object is detected again. It shows the time taken to return to the state before the inspection is executed. The upper part of FIG. 9 shows the case where the setting for using the stage of
図９上段のＰＰＣ１７のステージを使用する設定を選択した場合に、ジョブとは関係の無いレチクルのＰＰＣ実行命令をレチクル制御ボードが受信した後、中継収納には空きスロットが無い。このため、装置内（クリーンエリア内）のレチクルを一枚レチクルライブラリ１２に回収する必要があるが、スループットの低下を防ぐためにジョブの実行順が一番遅い、ＰＰＣ１７のステージ上のレチクルをレチクルライブラリ１２に回収することになる。そのために、まずレチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｃとＲＢＣＲ２２のステージ上のレチクルｅを配置交換し、レチクルｅを中継収納ユニット１４に搬送する。その後、中継収納ユニット１４からレチクルｅ（カセット内）をレチクルライブラリ１２に搬送し、異物検査を実行したいレチクルｈ（カセット内）を中継収納ユニット１４を経由し、ＰＰＣ１７のステージ上まで配置する。ＰＰＣ１７のステージ上に配置する際には、現在ＰＰＣ１７のステージ上に配置されているレチクルｄとレチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｈを配置交換する。その後、レチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｄとＲＢＣＲ２２のステージ上のレチクルｃを配置交換する。ＰＰＣ１７のステージ上でレチクルｈのＰＰＣを実行後、レチクルｈをライブラリまで搬送することになるが、その際にＰＰＣ１７上のレチクルｈとレチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｃを配置交換し、レチクルｈを中継収納ユニット１４まで搬送する。レチクルｅを再度ＲＢＣＲ２２のステージ上まで搬送する際には、ＲＢＣＲ２２のステージ上のレチクルｄとレチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｅを配置交換する。さらに、レチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｄとＰＰＣ１７のステージ上のレチクルｃを配置交換する。レチクルｅは再度レチクル情報読み取り処理を実施する。
When the setting to use the stage of the
図９下段のＰＰＣ１７のステージを使用しない設定を選択した場合に、ジョブとは関係の無いレチクルのＰＰＣ実行命令をレチクル制御ボードが受信した後、まず、中継収納ユニット１４には空きスロットがない。このため、中継収納ユニット１４内にレチクルカセットに入ったまま待機しているレチクルｅをレチクルライブラリ１２に回収する。その際に、同時にレチクル搬送ロボット１６のハンド上で待機しているレチクルｃをＰＰＣ１７のステージ上に退避する。その後、異物検査を実行したいレチクルｈをＰＰＣ１７のステージまで搬送し、ＰＰＣ１７のステージ上のレチクルｃとレチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｈを配置交換する。ＰＰＣ１７のステージ上でレチクルｈの異物検査を実行し、異物検査処理完了後にレチクル搬送ロボット１６のハンド上のレチクルｃとＰＰＣ１７のステージ上のレチクルｈの配置交換を行った後、レチクルｈをレチクルライブラリ１２まで回収する。レチクルｈ（カセット内）が中継収納ユニット１４からレチクルライブラリ１２に搬送されている間に、ＰＰＣ１７のステージ上にあるレチクルｃをレチクル搬送ロボット１６のハンド上に配置する。その後、レチクルライブラリ１２に回収したレチクルｅを中継収納ユニット１４まで搬送する。
When the setting not to use the stage of the
図９に示されるようにＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する設定を選択した際は、異物検査処理が終了し元の状態に戻るまでのタイミングがタイミング４７である。これに対して、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しない場合は、タイミング３７で元の状態に戻る。また、異物検査処理に関しても、処理が終了して異物検査を行ったレチクルがレチクルライブラリ１２に回収されるまでに、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する場合ではタイミング３５であった。しかし、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しない場合ではタイミング３１となっている。
When the setting for using the stage of the
図９に示されるように、ＰＰＣ１７のステージをレチクルの待機部として使用する場合では、ジョブとは関係の無いレチクルを異物検査したい時に、ＰＰＣ１７のステージ上に待機しているレチクルを別の場所に退避する必要がある。このため、ＰＰＣ１７のステージをレチクル待機部として使用しない場合よりも、元の状態に戻るまでに時間が掛かる。図９においてＰＰＣ１７のステージではなく、例えばレチクル搬送ロボット１６のハンドやレチクルプリステージ１５をレチクル待機部として使用しない設定にしても、使用しない設定にした場所をレチクルの退避位置として使用可能なため同様の効果が得られる。また、図９ではジョブとは関係のないレチクルを異物検査したい場合の例を示したが、異物検査ではなくレチクル読み取り処理でも同様である。
As shown in FIG. 9, when the stage of the
図１０は、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する場合と使用しない場合を示す。図１０は、表２に示されるジョブキューテーブルに従い、ジョブを実行している途中で、次ロット以降のロット処理に使用しないレチクルを異物検査した場合での、ジョブおよびレチクル搬送、その他の処理のそれぞれ掛かる時間の例を示している。異物検査のためのＰＰＣ実行命令はオペレータが端末上で操作し、レチクル搬送制御ボードに送られる。レチクル搬送制御ボードにＰＰＣ実行命令が送られた後、レチクル搬送および異物検査処理がロット処理を考慮した上で行われる。図１０は、図４中のタイミング３８の地点で、ＰＰＣ実行命令が送られた時の、ジョブ・レチクル搬送および異物検査処理・その他の処理を行った場合を想定している。また、図１０ではタイミング３７までの地点では図４と同一なためタイミング３１までを省略して示してある。
FIG. 10 shows a case where the stage of the
図１０上段には、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する設定を選択した場合を示し、図１０下段には、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しない設定を選択した場合を示している。異物検査実行は、ジョブに与える影響を少なくしつつ、行う必要がある。
図１０上段には、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する設定を選択した場合が示される。この場合は、ＰＰＣ実行命令を受信した時に、レチクルｂがレチクルステージ３にあり、レチクルａがプリステージ１５上にある。さらに、レチクルｅはＲＢＣＲ２２のステージ上、レチクルｃおよびレチクルｄは配置換えのタイミングなので両方ともレチクル搬送ロボット１６のハンド上にある。ＰＰＣ実行命令を受信していなければレチクルｄはＰＰＣ１７のステージに置かれることになるが、ＰＰＣ実行命令を受信したため、中継収納１４に空きスロットを得るために、レチクルｅはレチクルライブラリ１２まで一旦回収することになる。レチクルｅをレチクルライブラリ１２に収納後、レチクルｈをＰＰＣ１７のステージまで搬送し、異物検査処理を実行する。レチクルｈの異物検査処理が完了し、レチクルライブラリ１２まで回収された後、再度レチクルｅをＲＢＣＲ２２のステージまで搬送する。その後は、継続してジョブが行われることになる。
The upper part of FIG. 10 shows the case where the setting for using the stage of the
The upper part of FIG. 10 shows a case where the setting for using the stage of the
図１０下段には、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しない設定を選択した場合が示される。この場合は、ＰＰＣ実行命令を受信した時に、レチクルｂがレチクルステージ３にあり、レチクルａがプリステージ１５上にある。さらに、レチクルｃはレチクル搬送ロボット１６のハンド上で待機する前の段階としてＰＰＣ１７のステージにてＰＰＣ処理が実行されている。レチクルｄはＲＢＣＲ２２のステージ上にある。レチクルｅは、装置内（クリーンエリア内）に待機可能な場所がないため、中継収納ユニット１２内にレチクルカセットに入ったまま待機している。ＰＰＣ実行命令受信後、中継収納ユニット１２に空きスロットを得るため、レチクルカセットに入ったレチクルｅをレチクルカセットに入ったままレチクルライブラリ１２まで回収する必要がある。また、ＰＰＣ実行命令受信時にレチクル搬送ロボット１６のハンド上にあるレチクルは速やかにＰＰＣ１７のステージ上に退避させる必要がある。その後、異物検査を実行したいレチクルｈをＰＰＣ１７のステージまで搬送し異物検査を行う。レチクルｈの異物検査処理が完了し、レチクルｈがレチクルライブラリ１２に回収された後、ＰＰＣ実行前に一旦レチクルライブラリ１２に回収したレチクルｅを中継収納ユニット１４まで搬送し、ジョブを継続する。
The lower part of FIG. 10 shows a case where setting not to use the stage of the
図１０に示されるジョブ完了時のタイミングを見ると、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用するときと使用しないときでロット処理完了時間に違いはない。しかし、異物検査処理は、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用するときはタイミング７５で、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しないときはタイミング７１でライブラリまで戻り、操作が完了している。図１０に示されるようにＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しない設定を選択した場合の方がよい。すなわち、ジョブに使用しないレチクルを異物検査したい時には、異物検査したいレチクルｈを異物検査しレチクルライブラリ１２まで回収するまでの時間が、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する設定を選択した場合と比較して短くすることができる。
Looking at the timing when the job is completed shown in FIG. 10, there is no difference in the lot processing completion time when the stage of the
ジョブの実行と無関係なレチクルの異物検査は、異物検査完了後にライブラリに回収する必要があり、クリーンエリア外へ出てしまうためジョブの実行に使用する際は、再度異物検査処理を実行する必要がある場合がある。しかし、ジョブの実行前に異物付着状況を確認しておきジョブの実行ではクリーンエリア外へ出たレチクルであったとしても異物検査処理を行わずに運用する場合もある。そのため、ジョブの実行と無関係なレチクルを異物検査する際に、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しない場合は、異物検査処理が早く終了する効果がある。
The reticle foreign matter inspection unrelated to job execution must be collected in the library after the foreign matter inspection is completed, and since it goes out of the clean area, it is necessary to perform foreign matter inspection processing again when used for job execution. There may be. However, there is a case where the foreign matter adhesion state is confirmed before the job is executed, and even if the reticle is out of the clean area, the foreign matter inspection process is not performed when the job is executed. For this reason, when a foreign object inspection is performed on a reticle unrelated to job execution, if the stage of the
図１１は、ＲＢＣＲ２２を待機部として使用しない場合を示す。図１１は、表２のジョブキューテーブルに従いジョブを実行している途中で、次ロット以降のロット処理に使用しないレチクルを異物検査した場合での、ジョブおよびレチクル搬送・その他の処理のそれぞれ掛かる時間の例を示す図である。タイミング３０の位置でＰＰＣ実行命令が送られた時の、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する場合としない場合でのレチクル搬送および異物検査処理、ジョブ実行処理に掛かる時間を比較したものである。この例では、中継収納ユニットは４段とし、レチクル個別識別情報読み取り処理をロット処理中に行なわない場合を想定している。
FIG. 11 shows a case where the
図１１に示されるようにＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する場合では、ＰＰＣ１７のステージで待機しているレチクルを異物検査処理のために一旦ライブラリまで回収する必要がある。一度、クリーンエリア外へ出たレチクルは、クリーンエリアに入った時に再度異物検査処理を実行する必要がある。そのため、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する場合ではロット処理の完了のタイミングがタイミング９０であるのに対し、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しない場合ではタイミング８５でロット処理が完了している。異物検査処理は、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する場合では、タイミング７２で処理が完了しているのに対して、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しない場合ではタイミング６７で処理が完了している。
When the stage of the
図１１に示されるＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する例のように、異物検査処理完了済みのレチクルをクリーンエリア外に一度退避し、再度クリーンエリア内に搬送した際には、再度異物検査処理が必要となるため、ロット処理に与える影響が大きくなる。
ＲＢＣＲ２２を待機部として使用しても、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用しない設定の場合に、ジョブ実行に無関係なレチクルを複数枚異物検査したい場合がある。この場合には、ジョブの実行の過程で異物検査処理が完了しているレチクルをクリーンエリア外に搬出する必要が生じることがある。その際には、再度クリーンエリア内に搬送したときに再度異物検査処理を行う必要があるため、ロット処理に大きく遅延を与える可能性がある。
As in the example in which the stage of the
Even if the
上記のように、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する場合と使用しない場合とで、それぞれ利点がある。また、上記例ではＰＰＣ１７のステージに関して、待機部としての使用可否を設定した場合を比較した。しかし、ジョブに使用しないレチクルを異物検査したい場合は、装置内（クリーンエリア内）で待機しているレチクルを近傍の配置可能な位置に一旦退避できれば良い。このため、ＰＰＣ１７のステージに限らずレチクル搬送ロボット１６のハンドやプリステージ１５などを待機部として使用しない場合でも同様の効果が得られる。
As described above, there are advantages both when the stage of the
同様に、ジョブに使用しないレチクルのレチクル情報を読み取りしたい場合でも、装置内（クリーンエリア内）で待機しているレチクルを近傍の配置可能な位置に一旦退避できれば良い。このため、レチクル個別識別情報読み取り装置のステージに限らずレチクル搬送ロボット１６のハンドやプリステージ１５などを待機部として使用しない場合でも同様の効果が得られる。よって、レチクルステージ３とレチクルライブラリ１２の間にある、レチクル待機部として使用可能な場所において、それぞれレチクル待機部としての使用可否を選択設定できることが好適である。
Similarly, even when it is desired to read reticle information of a reticle that is not used for a job, it is only necessary to temporarily retract the reticle waiting in the apparatus (in the clean area) to a position where it can be arranged nearby. For this reason, not only the stage of the reticle individual identification information reading apparatus but also the case where the hand of the
また、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する設定を選択した際には、ジョブの実行やジョブに無関係なレチクルの異物検査処理に大きな影響を与えることが予想される。このため、ＰＰＣ実行ボタンを押下不可にするか、もしくは、ジョブに影響が出る旨の警告を端末２０上に出す。ＰＰＣ実行ボタンを押下不可にするか、警告を出すかは設定により変更可能とする。同様にＲＢＣＲ２２のステージを待機部として使用しない設定を選択した際も、レチクルバーコード読み取り処理実行ボタンを押下不可にする、もしくは、ロット処理に影響が出る旨の警告を出す。
In addition, when the setting for using the stage of the
図１２は、ＰＰＣ１７のステージを待機部として使用する際に、ＰＰＣ実行ボタンを押下不可にする、もしくは、異物検査処理を実行しようとした際に警告を出すときのフローを示す。
図１２に示されるようにシーケンスがスタートする（ステップＳ５０１）。
ＰＰＣ１７のステージを待機部とする設定が選択されているか否かを判断する（ステップＳ５０２）。ＰＰＣ１７のステージを待機部とする場合はステップＳ５０３へ、待機部として使用しない際はステップＳ５０４へ進む。
ＰＰＣ実行ボタンを押下可能な設定となっている場合は（ステップＳ５０３）、ステップＳ５０４へ進み、押下不可となっている際はステップＳ５０９へ進む。押下不可の際は、ジョブとは無関係なレチクルの異物検査を行うことはできない。
FIG. 12 shows a flow when the PPC execution button is disabled when the stage of the
The sequence starts as shown in FIG. 12 (step S501).
It is determined whether or not the setting for setting the stage of the
If the setting is such that the PPC execution button can be pressed (step S503), the process proceeds to step S504, and if the button cannot be pressed, the process proceeds to step S509. When the pressing is impossible, the foreign object inspection of the reticle unrelated to the job cannot be performed.
レチクル搬送制御ボード１９はＰＰＣ実行ボタンが押下され、ＰＰＣ実行コマンドを受信したか否かを判断する（ステップＳ５０４）。ＰＰＣ実行コマンドを受信していない場合は再度Ｓ５０４を実行する。ＰＰＣ実行コマンドを受信した場合はＳ５０６へ進む。
レチクル搬送制御ボード１９はＰＰＣ実行コマンドを受信したか否かを判断する（ステップＳ５０５）。ＰＰＣ実行コマンドを受信していない場合は再度、ステップＳ５０７を実行する。ＰＰＣ実行コマンドを受信した場合はステップＳ５０５へ進む。
ロット処理が遅延する旨の警告を出した後（ステップＳ５０６）、ステップＳ５０８へ進む。
ステップＳ５０７およびステップＳ５０８において異物検査処理を実行し、処理完了後、ステップＳ５０９へ進みシーケンスが終了する。
The reticle
The reticle
After issuing a warning that the lot processing is delayed (step S506), the process proceeds to step S508.
In step S507 and step S508, the foreign substance inspection process is executed. After the process is completed, the process proceeds to step S509 and the sequence is completed.
上記図１２ではＰＰＣ１７のステージについて示したが、ＲＢＣＲ２２のステージを待機部として使用する際にロット処理とは無関係なレチクルのレチクル情報読み取り処理を実施した際も同様のフローとなる。
本実施例では、ＲＢＣＲ２２とレチクル２を１８０度回転させる原版回転装置が同一配置場所であるが、ＲＢＣＲ２２と、レチクル２を１８０度回転させる原版回転装置が別配置場所となる場合もあり、同一配置場所となる場合と同様な効果が得られる。
Although the stage of the
In the present embodiment, the
以上説明したように本発明の実施例によれば、ジョブキューテーブルに従いロット処理に使用する予約レチクルの待機部を決定する際に、予約レチクルを待機可能な場所をレチクル待機部として使用するかしないかを選択設定可能にする。これにより、ジョブに使用しないレチクルを異物検査したい時にレチクル待機部のうち少なくとも一つを使用しない設定とし、その場所を他の待機部で待機しているレチクルの退避場所として使用する。これにより、全ての待機部を使用する設定を選択した場合と比較して、異物検査に時間が掛かり、ジョブが遅れることを低減できる。
この予約レチクル待機部の使用可否を選択設定可能な機能を採用することにより、ユーザの運用に合わせた待機部の使用可否設定が可能となり、運用スループットの低下を低減する。
なお、これまでは、異物検査に合格したレチクルをクリーンエリア外に移動したのち再度異物検査すると再度合格になることを前提に全体の処理時間について説明してきた。しかし、場合によっては、再度異物検査した際、その結果が不合格となる場合も考えられる。こうした場合は、レチクルを装置外に一旦搬出し、クリーニングを行ってから再度装置内に搬入することになり、大幅な時間遅れが発生しうる。例えば、クリーンエリア外に配置されるレチクルカセットはユーザが管理するものであるため、当該カセット内の汚染状況によって、出し入れによりレチクルが汚染される危険性が異なる。そこで、カセット内のクリーン状況を勘案してユーザが待機場所を選択できるようにすれば、より効率の良い運用を実現することができる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, when the standby part of the reservation reticle used for lot processing is determined according to the job queue table, a place where the reservation reticle can be waited is used as the reticle standby part. Can be selected and set. Accordingly, when it is desired to inspect a foreign object for a reticle that is not used for a job, at least one of the reticle standby units is set not to be used, and that location is used as a retreat location for the reticle that is waiting in another standby unit. As a result, it is possible to reduce the time required for the foreign object inspection and delay of the job as compared with the case where the setting for using all standby units is selected.
By adopting a function capable of selectively setting whether to use the reservation reticle standby unit, it is possible to set whether to use the standby unit according to the user's operation, thereby reducing a decrease in operation throughput.
Heretofore, the entire processing time has been described on the assumption that the reticle that has passed the foreign object inspection is moved out of the clean area, and then again passes the foreign object inspection. However, in some cases, when the foreign matter inspection is performed again, the result may be rejected. In such a case, the reticle is once carried out of the apparatus, cleaned, and then carried into the apparatus again, which can cause a significant time delay. For example, since the reticle cassette arranged outside the clean area is managed by the user, the risk of the reticle being contaminated by taking in and out differs depending on the contamination status in the cassette. Therefore, more efficient operation can be realized if the user can select the standby place in consideration of the clean condition in the cassette.
（デバイス製造方法の実施例）
つぎに、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。当該方法において、本発明を適用した露光装置を使用し得る。 半導体デバイスは、ウエハ（半導体基板）に集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程とを経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、その工程で露光されたウエハを現像する工程とを含みうる。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）とを含みうる。また、液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を用いて、感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、その工程で露光されたガラス基板を現像する工程とを含みうる。 本実施形態のデバイス製造方法は、デバイスの性能、品質、生産性および生産コストの少なくとも一つにおいて従来よりも有利である。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
(Example of device manufacturing method)
Next, a method for manufacturing a device (semiconductor device, liquid crystal display device, etc.) according to an embodiment of the present invention will be described. In this method, an exposure apparatus to which the present invention is applied can be used. A semiconductor device is manufactured through a pre-process for producing an integrated circuit on a wafer (semiconductor substrate) and a post-process for completing an integrated circuit chip on the wafer produced in the pre-process as a product. The pre-process can include a step of exposing the wafer coated with the photosensitive agent using the exposure apparatus described above, and a step of developing the wafer exposed in the step. The post-process can include an assembly process (dicing, bonding) and a packaging process (encapsulation). Moreover, a liquid crystal display device is manufactured by passing through the process of forming a transparent electrode. The step of forming the transparent electrode includes a step of applying a photosensitive agent to a glass substrate on which a transparent conductive film is deposited, a step of exposing the glass substrate on which the photosensitive agent is applied, using the above-described exposure apparatus, and the step And a step of developing the glass substrate exposed in step (b). The device manufacturing method of this embodiment is more advantageous than the conventional one in at least one of device performance, quality, productivity, and production cost.
As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation and change are possible within the range of the summary.
１：照明装置、２：レチクル、３：レチクルステージ、４：レチクル位置計測機構、５：投影光学系、６：ＸＹステージ、７：レーザー干渉計、８：ウエハ、９：ウエハＺステージ、１０：オートフォーカスユニット、１１：露光装置チャンバー、１２：レチクルライブラリ、１３：カセットロボット、１４：中継収納ユニット、１５：プリステージ、１６：レチクル搬送ロボット、１７：ＰＰＣ、１８：レチクル搬入搬出口、１９：レチクル搬送制御ボード、２０：端末、２１：ワークステーション、
２２：ＲＢＣＲ ３０：レチクル回転装置
1: illumination device, 2: reticle, 3: reticle stage, 4: reticle position measurement mechanism, 5: projection optical system, 6: XY stage, 7: laser interferometer, 8: wafer, 9: wafer Z stage, 10: Autofocus unit, 11: exposure apparatus chamber, 12: reticle library, 13: cassette robot, 14: relay storage unit, 15: prestage, 16: reticle transfer robot, 17: PPC, 18: reticle loading / unloading port, 19: Reticle transfer control board, 20: terminal, 21: workstation,
22: RBCR 30: Reticle rotating device
Claims (7)
前記原版を保持し且つ移動される原版ステージと、
前記原版を待機させるのに使用可能な複数の待機部と、
前記原版ステージに前記原版を搬送する搬送手段と、
前記原版を待機させる待機部としての使用可否を前記複数の待機部のそれぞれに関して選択する選択手段と、
前記選択手段により使用可として選択された待機部に前記ジョブの情報に従って原版を待機させるよう、かつ前記選択手段により使用不可として選択された待機部をその他の待機部にある原版の退避場所とするよう、前記搬送手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus that exposes a substrate through an original according to information on the original included in information on jobs in a queue,
An original stage holding and moving the original; and
A plurality of standby units that can be used to wait for the original;
Conveying means for conveying the original to the original stage;
Selection means for selecting whether to use as a standby unit to wait a pre-Symbol precursor for each of the plurality of standby unit,
And saving location of the original with so as to wait for the original according to the information of the job to the selected standby unit as usable by prior Symbol selection means, and a waiting unit selected as unavailable by the selection unit to the other standby section to, and control means for controlling the conveying means,
An exposure apparatus comprising:
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。 A step of exposing a substrate using the exposure apparatus according to claim 1;
Developing the substrate exposed in the step;
A device manufacturing method comprising:
原版を待機させる待機部としての使用可否を、原版ステージに搬送されるべき原版を待機させるのに使用可能な複数の待機部のそれぞれに関して選択し、
前記選択により使用可として選択された待機部に前記ジョブの情報に従って原版を待機させるよう、かつ前記選択により使用不可として選択された待機部をその他の待機部にある原版の退避場所とするよう、該原版を搬送する、
ことを特徴とする原版搬送方法。 An original transport method applied to an apparatus that exposes a substrate through an original according to the information of the original included in job information in a queue,
Select whether or not to use the standby unit for waiting for the original for each of a plurality of standby units that can be used for waiting for the original to be transported to the original stage,
To the previous SL so as to wait for the original in accordance with the job information of the waiting unit selected as usable by the selection, and saving location of the original in the other standby unit wait unit selected as unavailable by the selection , Transporting the original plate,
An original conveying method characterized by that.
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