JP5584701B2 - 潤滑油基油製造のためのサワーサービス水素処理 - Google Patents
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Description
様々な実施形態において、サワー(酸性の又は不快な:sour)環境での供給原料の接触脱ロウ処理を含むグループIIおよび高級基油の製造方法が提供される。サワー環境は、液体および気体形態での組み合わされた合計の硫黄のレベルが水素化処理された原料を基準として1000重量ppm超であるものである。接触脱ロウ処理をサワー環境で行う能力は、幾つかの利点を提供する。潤滑油基油製造のために利用可能な初期油留分の数およびタイプは、脱ロウ処理工程での汚染物質に対する耐性のために拡大することができる。サワー環境で脱ロウ処理を行う能力は処理のために必要とされる設備を減らすであろうことから、本プロセスの全体コストはより低いはずである。最後に、脱ロウ処理触媒の汚染物質への暴露を回避するために条件を選択するのではなく、処理条件は所望の規格を満たすために選択されるであろうことから、潤滑油製造プロセスについての収率は改善される可能性がある。
特許請求される本発明によるプロセスの一例は、ラフィネート水素転化、引き続くサワー環境での接触脱ロウ処理を含む。かかる実施形態では、原油は、潤滑油基油を製造するために幾つかの処理工程にかけられる。これらの工程には、蒸留(常圧蒸留および/または減圧蒸留)、ラフィネートを形成するための溶媒抽出、水素転化、接触脱ロウ処理、水素化精製および分留が含まれ得る。
溶媒抽出プロセスからのラフィネート(または水素化分解装置塔底物供給原料またはワックス質供給原料)は次に、水素転化条件下に好適な水素転化触媒に曝すことができる。別の代わりの形態では、ラフィネートまたは水素化分解装置塔底物原料油流れは、同じ処理段階または反応器で水素転化プロセス、引き続く接触脱ロウ処理プロセスに曝されてもよい。水素転化触媒は、VIB族金属(Fisher Scientificによって発表された周期表に基づいて)、および非貴VIII族金属、すなわち、鉄、コバルトおよびニッケルならびにそれらの混合物を含有するものである。これらの金属または金属の混合物は典型的には、耐熱性金属酸化物担体上に酸化物または硫化物として存在する。好適な金属酸化物担体には、シリカ、アルミナまたはチタニア、好ましくはアルミナなどの低酸性酸化物が含まれる。好ましいアルミナは、50〜200Å、好ましくは75〜150Åの平均細孔サイズ、100〜300m2/g、好ましくは150〜250m2/gの表面積、および0.25〜1.0cm3/g、好ましくは0.35〜0.8cm3/gの細孔容積を有するガンマまたはエータなどの多孔性アルミナである。担体は、担体の酸性度を一般に増大させるフッ素などのハロゲンで好ましくは活性化されない。
水素転化からの生成物は次に、接触脱ロウ処理反応域へ直接流される(移される又は流し落とされる)。従来プロセスと違って、水素転化段階と接触脱ロウ処理段階との間で分離は全く必要とされない。分離工程の排除は様々な結果を有する。分離それ自体に関して、追加の設備は全く必要とされない。幾つかの実施形態では、水素転化段階および接触脱ロウ処理段階は、同じ反応器中に置かれてもよい。あるいはまた、水素転化および接触脱ロウ処理プロセスは、別個の反応器で行われてもよい。分離工程の排除は、施設投資コストを節減し、そしてまた供給原料を再加圧するいかなる必要性も回避する。代わりに、水素転化段階からの流出物は、流出物が脱ロウ処理段階に配送されるときに処理圧力に維持することができる。
水素転化されたおよび脱ロウ処理されたラフィネートまたは水素化分解装置塔底物またはワックス質流れは次に、それが低温(穏和な)水素化精製工程にかけられる別の反応器に導かれる。この水素化精製工程における触媒は、第1水素転化反応器について上に記載されたものと同じものであってもよい。好ましい実施形態では、水素化精製工程用の触媒は、硫化された卑金属水素化処理触媒であることができる。水素化精製工程用の好ましい一触媒は、KF−848である。
プロセス実施形態1
図6は、サワー条件下に脱ロウ処理を実施するために好適な反応系の一形態(高苛酷度直接カスケードプロセススキームとも言われる)を概略的に示す。このプロセススキームでは、水素転化反応器からの全体流出物がサワー条件下に脱ロウ処理反応器に供給される状態で3つの反応器(水素転化、次に脱ロウ処理、次に水素化精製)が存在する。サワー条件は、1000重量ppm超、または少なくとも2000重量ppm、または少なくとも5000重量ppm、または少なくとも10,000重量ppm、または少なくとも15,000重量ppm、または少なくとも20,000重量ppm、または少なくとも30,000重量ppm、または少なくとも40,000重量ppmの液体有機形態および/または気体形態での組み合わされた合計の硫黄と定義される。先に記載されたように、本開示のためには、これらの硫黄レベルは、水素化処理された原料を基準として重量で百万当たりの部(ppm)単位で脱ロウ処理段階に供給される、液体および気体形態での組み合わされた合計の硫黄の観点から定義される。
図7は、サワー条件下に脱ロウ処理を行うための代わりの実施形態(中苛酷度高圧分離プロセススキームとも言われる)を示す。図7は、水素転化反応器720およびその後の高圧分離装置についての配置を概略的に描写する。図7において、水素転化反応器720からの全体流出物は、高圧セパレーター722および723のペアなどの、少なくとも1種の高圧分離装置へ通される。高圧分離装置は、流出物の気相部分を液相部分から引き離す。溶解H2Sおよび恐らく有機硫黄を含有する、生じた流出物734は次に、水素含有ガスと再び組み合わせられる。水素含有ガスはH2Sを含有してもよい。組み合わせられた混合物は次に、サワーサービス接触脱ロウ処理工程に供給される。脱ロウ処理工程からの流出物は次に、水素化精製反応器に供給され、次に分留器によって様々なカットへ分離される。これらのカットには、例えば、前の処理工程(図示せず)からの気相生成物、ナフサカットなどのより軽質の燃料タイプ生成物、ディーゼルカットなどのより軽質の燃料タイプ生成物、およびグループII、グループII+またはグループIIIカットなどの所望の潤滑油基油カットが含まれ得る。高圧分離は、さらなる処理のためにサワーガス流れ732として取り出される、流出物から幾らかのガス状硫黄および窒素を除去するであろう。しかしながら、脱ロウ処理段階に通される分離された流出物734は依然として、例えば、水素化処理された原料基準で1000重量ppm超の液体および気体形態での組み合わされた合計の硫黄を含有し得る。流出物の硫黄および窒素含量のこの部分低減は、脱ロウ処理触媒が苛酷さのより少ないサワー環境に曝されるであろうことから、脱ロウ処理触媒の活性および/または寿命を向上させることができる。
脱ロウ処理をサワー条件下に行うための、さらに別の代わりの実施形態では、水素転化プロセスおよび脱ロウ処理プロセスは、この2つの間の分離プロセスの排除およびプロセス圧力の近接のために単一反応器へ統合されてもよい。このモードは、単一反応器高苛酷度直接カスケードモードとも言われる。この形態では、ラフィネートまたは水素化分解装置またはワックス質原料油流れが単一反応器に供給され、ここで水素転化に引き続き脱ロウ処理が起こる。単一反応器からの全体流出物は、次に水素化精製反応器に供給され、次に分留器によって様々なカットへ分離される。これらのカットには、例えば、前の処理工程(図示せず)からの気相生成物、ナフサカットなどのより軽質の燃料タイプ生成物、ディーゼルカットなどのより軽質の燃料タイプ生成物、およびグループII、グループII+またはグループIIIカットなどの所望の潤滑油基油カットが含まれ得る。
次に続くプロセス例において、実験1〜5、10および12は、ラフィネート水素転化プロセス(RHCとも称される)、引き続く接触脱ロウ処理(CDWとも称される)の模擬実験である。実験1〜5、10および12は、サワーサービス原料油流れで図6および13の統合プロセススキームをシミュレートするが、模擬RHC引き続くCDWプロセスからの全液体生成物は水素化精製されなかった。実験6および8は、クリーンサービス供給原料についての比較例であり、ここでクリーンサービス供給原料は、RHC反応器とCDW反応器との間にセパレーターおよびストリッパーを有する場合を表す。実験6および8からの全液体生成物は水素化精製されなかった。実験11はまた、サワーサービス供給原料で従来の非発明脱ロウ処理触媒を使用する場合についての比較例である。実験7および11は、図7に描写されるようなラフィネート水素転化(RHC)、引き続く高圧分離、次に接触脱ロウ処理(中苛酷度高圧分離プロセススキーム)についての模擬実験である。実験7および11からの全液体生成物は水素化精製されなかった。
本開示の一形態では、接触脱ロウ処理触媒は、0.1重量%〜2.7重量%フレームワークアルミナ、0.1重量%〜5重量%Pt、100m2/g以下の表面積の、200:1〜30:1のSiO2:Al2O3比および少なくとも1種の低表面積の、耐熱性金属酸化物バインダーを含む。
(n)SiO2:Al2O3
(式中、nは70〜110、好ましくは80〜100、より好ましくは85〜95である)
に従ったモル組成を有する。別の実施形態では、nは少なくとも70、または少なくとも80、または少なくとも85である。その上別の実施形態では、nは110以下、または100以下、または95以下である。さらに他の実施形態では、SiはGeで置換されてもよく、AlはGa、B、Fe、Ti、V、およびZrで置換されてもよい。
SiO2:Al2O3(好ましい)=70〜110
H2O:SiO2=1〜500
OH−:SiO2=0.1〜0.3
OH−:SiO2(好ましい)=0.14〜0.18
テンプレート:SiO2=0.01〜0.05
テンプレート:SiO2(好ましい)=0.015〜0.025
触媒実施例1.65/35ZSM−48(90/1 SiO2:Al2O3)/TiO2上の0.6重量%Pt(IW)
65%ZSM−48(90/1 SiO2:Al2O3)および35%チタニアを1/16インチの四つ葉状形状に押し出した。押出物を1000°FでN2中予備カ焼し、1N硝酸アンモニウムでアンモニウム交換し、次に250°Fで乾燥させ、1000°Fで空気中のカ焼がこれに続いた。押出物を次に、硝酸テトラアンミン白金でのインシピアントウエットネス含浸によって0.6重量%Ptでロードし、250°Fで乾燥させ、680°Fで空気中3時間カ焼した。表6は、N2多孔度測定による押出物の表面積を提供する。
65%ZSM−48(90/1 SiO2:Al2O3)および35%Versal−300 Al2O3を1/16インチの四つ葉状形状に押し出した。押出物を1000°FでN2中予備カ焼し、1N硝酸アンモニウムでアンモニウム交換し、次に250°Fで乾燥させ、1000°Fで空気中のカ焼がこれに続いた。押出物を次にスチーム処理した(890°Fで3時間)。押出物を次に、硝酸テトラアンミン白金でのインシピアントウエットネス含浸によって0.6重量%Ptでロードし、250°Fで乾燥させ、680°Fで空気中3時間カ焼した。表6は、N2多孔度測定による押出物の表面積を提供する。
80%ZSM−48(90/1 SiO2:Al2O3)および20%SiO2を1/16インチの四つ葉状形状に押し出した。押出物を1000°FでN2中予備カ焼し、1N硝酸アンモニウムでアンモニウム交換し、次に250°Fで乾燥させ、1000°Fで空気中のカ焼がこれに続いた。押出物を次に、硝酸テトラアンミン白金でのインシピアントウエットネス含浸によって0.6重量%Ptでロードし、250°Fで乾燥させ、680°Fで空気中3時間カ焼した。表6は、N2多孔度測定による押出物の表面積を提供する。
シュードベーマイトアルミナを1000℃でカ焼してそれを、上の実施例2におけるバインダーとして使用されたガンマ相アルミナと比べて、より低い表面積のシータ相へ変換した。65%のZSM−48(90/1 SiO2:Al2O3)および35%のカ焼アルミナを0.25%PVAと共に1/16インチの四つ葉状形状に押し出した。押出物を950°FでN2中予備カ焼し、1N硝酸アンモニウムでアンモニウム交換し、次に250°Fで乾燥させ、1000°Fで空気中のカ焼がこれに続いた。押出物を次に、硝酸テトラアンミン白金でのインシピアントウエットネス含浸によって0.6重量%Ptでロードし、250°Fで乾燥させ、680°Fで空気中3時間カ焼した。表6は、N2多孔度測定による押出物の表面積を提供する。
65%ZSM−48(90/1 SiO2:Al2O3)および35%ジルコニアを1/16インチの四つ葉状形状に押し出した。押出物を1000°FでN2中予備カ焼し、1N硝酸アンモニウムでアンモニウム交換し、次に250°Fで乾燥させ、1000°Fで空気中のカ焼がこれに続いた。押出物を次に、硝酸テトラアンミン白金でのインシピアントウエットネス含浸によって0.6重量%Ptでロードし、250°Fで乾燥させ、680°Fで空気中3時間カ焼した。表6は、N2多孔度測定による押出物の表面積を提供する。
追加の触媒評価を、高シリカ対アルミナ比のゼオライトを有する比較触媒について実施した。65/35ZSM−48(180/1 SiO2:Al2O3)/P25 TiO2上の0.6重量%Ptの触媒を次の手順に従って調製した。相当するサンプルをまた、TiO2の代わりにAl2O3を使用して調製し、それは、65/35ZSM−48(180/1 SiO2:Al2O3)/Versal−300Al2O3上の0.6重量%Ptの触媒をもたらした。
本実施例は、130Nラフィネートを使用する65/35ZSM−48(90/1 SiO2/Al2O3)/TiO2上の0.6重量%Pt対相当するアルミナ結合(より高い外部表面積)触媒の触媒性能を例示する。
本実施例は、バインダーの大部分が低表面積バインダーである、混合バインダー系について、低表面積バインダーの利点が実現され得ることを例示する。
以下に、本発明のいくつかの態様を示す。
1.水素化処理された原料および水素含有ガスを、有効な接触脱ロウ処理条件下に、脱ロウ処理触媒と接触させる工程
を含む潤滑油基油の製造方法であって、
前記接触工程に供給される液体および気体形態の組み合わされた合計の硫黄が前記水素化処理された原料基準で1000重量ppmより多く、そして
前記脱ロウ処理触媒が、少なくとも1種の脱アルミナ処理されていない、一次元の10員環細孔ゼオライト、少なくとも1種のVIII族金属および少なくとも1種の低表面積の金属酸化物耐熱性バインダーを含む
方法。
2.前記水素処理原料が、水素化分解装置塔底物、ラフィネート、ワックスおよびそれらの組み合わせから選ばれる、上記1に記載の方法。
3.前記水素ガスが、水素化処理ガス流出物、クリーン水素ガス、リサイクルガスおよびそれらの組み合わせから選ばれる、上記1に記載の方法。
4.前記水素化処理された原料が、水素転化、水素化分解、水素化処理、および脱アルキル化から選ばれる、有効な水素処理条件下に、水素処理される、上記1に記載の方法。
5.前記脱ロウ処理潤滑油基油を、有効な水素化精製条件下に、水素化精製する工程をさらに含む、上記1に記載の方法。
6.前記水素化精製された、脱ロウ処理潤滑油基油を、有効な分留条件下に、分留する工程をさらに含む、上記5に記載の方法。
7.前記脱ロウ処理潤滑油基油を、有効な分留条件下に、分留する工程をさらに含む、上記1に記載の方法。
8.前記分留された、脱ロウ処理潤滑油基油を、有効な水素化精製条件下に、水素化精製する工程をさらに含む、上記7に記載の方法。
9.前記水素処理および脱ロウ処理工程が単一反応器で起こる、上記1に記載の方法。
10.前記脱ロウ処理触媒が、200:1〜30:1のSiO 2 :Al 2 O 3 比を有するモレキュラーシーブを含み、0.1重量%〜2.7重量%フレームワークAl 2 O 3 含量を含む、上記1に記載の方法。
11.前記モレキュラーシーブがEU−1、ZSM−35、ZSM−11、ZSM−57、NU−87、ZSM−22、EU−2、EU−11、ZBM−30、ZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、上記10に記載の方法。
12.前記モレキュラーシーブがEU−2、EU−11、ZBM−30、ZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、上記10に記載の方法。
13.前記モレキュラーシーブがZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、上記10に記載の方法。
14.前記モレキュラーシーブがZSM−48である、請求項10に記載の方法。
15.前記金属酸化物耐熱性バインダーが100m 2 /g以下の表面積を有する、上記1に記載の方法。
16.前記金属酸化物耐熱性バインダーが80m 2 /g以下の表面積を有する、上記1に記載の方法。
17.前記金属酸化物耐熱性バインダーが70m 2 /g以下の表面積を有する、上記1に記載の方法。
18.前記脱ロウ処理触媒が、全表面積に対して25%以上のミクロ細孔表面積を含み、前記全表面積が、前記外部ゼオライトの表面積プラス前記金属酸化物耐熱性バインダーの表面積に等しい、上記1に記載の方法。
19.前記金属酸化物耐熱性バインダーがシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、またはシリカ−アルミナである、上記1に記載の方法。
20.前記金属酸化物耐熱性バインダーが、前記第1金属酸化物耐熱性バインダーとは異なる第2金属酸化物耐熱性バインダーをさらに含む、上記1に記載の方法。
21.前記第2金属酸化物耐熱性バインダーがシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、またはシリカ−アルミナである、上記20に記載の方法。
22.前記脱ロウ処理触媒が0.1〜5重量%白金を含む、上記1に記載の方法。
23.水素化処理された原料および水素含有ガスを、有効な接触脱ロウ処理条件下に、脱ロウ処理触媒と接触させる工程
を含む潤滑油基油の製造方法であって、
前記接触工程の前に、前記水素化処理工程からの流出物が、前記水素化処理流出物のガス部分を前記水素化処理流出物の液体部分から分離するための少なくとも1種の高圧セパレーターに供給され、
前記接触工程に供給される液体および気体形態の組み合わされた合計の硫黄が前記水素化処理された原料基準で1000重量ppmより多く、そして
前記脱ロウ処理触媒が、少なくとも1種の脱アルミナ処理されていない、一次元の10員環細孔ゼオライト、少なくとも1種のVIII族金属および少なくとも1種の低表面積の、金属酸化物耐熱性バインダーを含む
方法。
24.前記少なくとも1種の高圧セパレーターからの流出物が、溶解したH 2 Sおよび場合により有機硫黄を含む、上記23に記載の方法。
25.前記少なくとも1種の高圧セパレーターからの前記流出物が、水素含有ガスと再び組み合わせられる、上記24に記載の方法。
26.前記水素含有ガスがH 2 Sを含む、上記25に記載の方法。
27.前記水素化処理された原料が、水素化分解装置塔底物、ラフィネート、ワックスおよびそれらの組み合わせから選ばれる、上記23に記載の方法。
28.前記水素ガスが、水素化処理ガス流出物、クリーン水素ガス、リサイクルガスおよびそれらの組み合わせから選ばれる、上記23に記載の方法。
29.前記水素化処理された原料が、水素転化、水素化分解、水素化処理、および脱アルキル化から選ばれる有効な水素処理条件下に水素処理される、上記23に記載の方法。
30.前記脱ロウ処理潤滑油基油を、有効な水素化精製条件下に、水素化精製する工程をさらに含む、上記23に記載の方法。
31.前記水素化精製された、脱ロウ処理潤滑油基油を、有効な分留条件下に、分留する工程をさらに含む、上記30に記載の方法。
32.前記脱ロウ処理潤滑油基油を、有効な分留条件下に、分留する工程をさらに含む、上記23に記載の方法。
33.前記分留された、脱ロウ処理潤滑油基油を、有効な水素化精製条件下に、水素化精製する工程をさらに含む、上記32に記載の方法。
34.前記脱ロウ処理触媒が、200:1〜30:1のSiO 2 :Al 2 O 3 比を有するモレキュラーシーブを含み、0.1重量%〜2.7重量%フレームワークAl 2 O 3 含量を含む、上記23に記載の方法。
35.前記モレキュラーシーブがEU−1、ZSM−35、ZSM−11、ZSM−57、NU−87、ZSM−22、EU−2、EU−11、ZBM−30、ZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、上記34に記載の方法。
36.前記モレキュラーシーブがEU−2、EU−11、ZBM−30、ZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、上記34に記載の方法。
37.前記モレキュラーシーブがZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、上記34に記載の方法。
38.前記モレキュラーシーブがZSM−48である、上記34に記載の方法。
39.前記金属酸化物耐熱性バインダーが100m 2 /g以下の表面積を有する、上記23に記載の方法。
40.前記金属酸化物耐熱性バインダーが80m 2 /g以下の表面積を有する、上記23に記載の方法。
41.前記金属酸化物耐熱性バインダーが70m 2 /g以下の表面積を有する、上記23に記載の方法。
42.前記脱ロウ処理触媒が、全表面積に対して25%以上のミクロ細孔表面積を含み、前記全表面積が、前記外部ゼオライトの表面積プラス前記金属酸化物耐熱性バインダーの表面積に等しい、上記23に記載の方法。
43.前記金属酸化物耐熱性バインダーが、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、またはシリカ−アルミナである、上記23に記載の方法。
44.前記金属酸化物耐熱性バインダーが、前記第1金属酸化物耐熱性バインダーとは異なる第2金属酸化物耐熱性バインダーをさらに含む、上記23に記載の方法。
45.前記第2金属酸化物耐熱性バインダーが、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、またはシリカ−アルミナである、上記44に記載の方法。
46.前記脱ロウ処理触媒が0.1〜5重量%白金を含む、上記23に記載の方法。
Claims (42)
- 水素化処理された原料および水素含有ガスを、接触脱ロウ処理条件下に、脱ロウ処理触媒と接触させる工程
を含む潤滑油基油の製造方法であって、
前記接触工程に供給される液体および気体形態の組み合わされた合計の硫黄が前記水素化処理された原料基準で1000重量ppmより多く、そして
前記脱ロウ処理触媒が、少なくとも1種の一次元の10員環細孔ゼオライト、少なくとも1種のVIII族金属および少なくとも1種の100m 2 /g以下の表面積を有する低表面積の金属酸化物耐熱性バインダーを含み、
前記脱ロウ処理触媒が、全表面積に対して25%以上のミクロ細孔表面積を含み、前記全表面積が、前記外部ゼオライトの表面積プラス前記金属酸化物耐熱性バインダーの表面積に等しい、
方法。 - 前記水素処理原料が、水素化分解装置塔底物、ラフィネート、ワックスおよびそれらの組み合わせから選ばれる、請求項1に記載の方法。
- 前記水素ガスが、水素化処理ガス流出物、クリーン水素ガス、リサイクルガスおよびそれらの組み合わせから選ばれる、請求項1に記載の方法。
- 前記水素化処理された原料が、水素転化、水素化分解、水素化処理、および脱アルキル化から選ばれる、水素処理条件下に、水素処理される、請求項1に記載の方法。
- 前記脱ロウ処理潤滑油基油を、水素化精製条件下に、水素化精製する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記水素化精製された、脱ロウ処理潤滑油基油を、分留条件下に、分留する工程をさらに含む、請求項5に記載の方法。
- 前記脱ロウ処理潤滑油基油を、分留条件下に、分留する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記分留された、脱ロウ処理潤滑油基油を、水素化精製条件下に、水素化精製する工程をさらに含む、請求項7に記載の方法。
- 前記水素処理および脱ロウ処理工程が単一反応器で起こる、請求項1に記載の方法。
- 前記脱ロウ処理触媒が、200:1〜30:1のSiO2:Al2O3比を有するモレキュラーシーブを含み、0.1重量%〜2.7重量%フレームワークAl2O3含量を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記モレキュラーシーブがEU−1、ZSM−35、ZSM−11、ZSM−57、NU−87、ZSM−22、EU−2、EU−11、ZBM−30、ZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、請求項10に記載の方法。
- 前記モレキュラーシーブがEU−2、EU−11、ZBM−30、ZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、請求項10に記載の方法。
- 前記モレキュラーシーブがZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、請求項10に記載の方法。
- 前記モレキュラーシーブがZSM−48である、請求項10に記載の方法。
- 前記金属酸化物耐熱性バインダーが80m2/g以下の表面積を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記金属酸化物耐熱性バインダーが70m2/g以下の表面積を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記金属酸化物耐熱性バインダーがシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、またはシリカ−アルミナである、請求項1に記載の方法。
- 前記金属酸化物耐熱性バインダーが、前記第1金属酸化物耐熱性バインダーとは異なる第2金属酸化物耐熱性バインダーをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第2金属酸化物耐熱性バインダーがシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、またはシリカ−アルミナである、請求項18に記載の方法。
- 前記脱ロウ処理触媒が0.1〜5重量%白金を含む、請求項1に記載の方法。
- 水素化処理された原料および水素含有ガスを、接触脱ロウ処理条件下に、脱ロウ処理触媒と接触させる工程
を含む潤滑油基油の製造方法であって、
前記接触工程の前に、前記水素化処理工程からの流出物が、前記水素化処理流出物のガス部分を前記水素化処理流出物の液体部分から分離するための少なくとも1種の高圧セパレーターに供給され、
前記接触工程に供給される液体および気体形態の組み合わされた合計の硫黄が前記水素化処理された原料基準で1000重量ppmより多く、そして
前記脱ロウ処理触媒が、少なくとも1種の一次元の10員環細孔ゼオライト、少なくとも1種のVIII族金属および少なくとも1種の100m 2 /g以下の表面積を有する低表面積の金属酸化物耐熱性バインダーを含み、
前記脱ロウ処理触媒が、全表面積に対して25%以上のミクロ細孔表面積を含み、前記全表面積が、前記外部ゼオライトの表面積プラス前記金属酸化物耐熱性バインダーの表面積に等しい、
方法。 - 前記少なくとも1種の高圧セパレーターからの流出物が、溶解したH2Sおよび場合により有機硫黄を含む、請求項21に記載の方法。
- 前記少なくとも1種の高圧セパレーターからの前記流出物が、水素含有ガスと再び組み合わせられる、請求項22に記載の方法。
- 前記水素含有ガスがH2Sを含む、請求項23に記載の方法。
- 前記水素化処理された原料が、水素化分解装置塔底物、ラフィネート、ワックスおよびそれらの組み合わせから選ばれる、請求項21に記載の方法。
- 前記水素ガスが、水素化処理ガス流出物、クリーン水素ガス、リサイクルガスおよびそれらの組み合わせから選ばれる、請求項21に記載の方法。
- 前記水素化処理された原料が、水素転化、水素化分解、水素化処理、および脱アルキル化から選ばれる水素処理条件下に水素処理される、請求項21に記載の方法。
- 前記脱ロウ処理潤滑油基油を、水素化精製条件下に、水素化精製する工程をさらに含む、請求項21に記載の方法。
- 前記水素化精製された、脱ロウ処理潤滑油基油を、分留条件下に、分留する工程をさらに含む、請求項28に記載の方法。
- 前記脱ロウ処理潤滑油基油を、分留条件下に、分留する工程をさらに含む、請求項21に記載の方法。
- 前記分留された、脱ロウ処理潤滑油基油を、水素化精製条件下に、水素化精製する工程をさらに含む、請求項30に記載の方法。
- 前記脱ロウ処理触媒が、200:1〜30:1のSiO2:Al2O3比を有するモレキュラーシーブを含み、0.1重量%〜2.7重量%フレームワークAl2O3含量を含む、請求項21に記載の方法。
- 前記モレキュラーシーブがEU−1、ZSM−35、ZSM−11、ZSM−57、NU−87、ZSM−22、EU−2、EU−11、ZBM−30、ZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、請求項32に記載の方法。
- 前記モレキュラーシーブがEU−2、EU−11、ZBM−30、ZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、請求項32に記載の方法。
- 前記モレキュラーシーブがZSM−48、ZSM−23、またはそれらの組み合わせである、請求項32に記載の方法。
- 前記モレキュラーシーブがZSM−48である、請求項32に記載の方法。
- 前記金属酸化物耐熱性バインダーが80m2/g以下の表面積を有する、請求項21に記載の方法。
- 前記金属酸化物耐熱性バインダーが70m2/g以下の表面積を有する、請求項21に記載の方法。
- 前記金属酸化物耐熱性バインダーが、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、またはシリカ−アルミナである、請求項21に記載の方法。
- 前記金属酸化物耐熱性バインダーが、前記第1金属酸化物耐熱性バインダーとは異なる第2金属酸化物耐熱性バインダーをさらに含む、請求項21に記載の方法。
- 前記第2金属酸化物耐熱性バインダーが、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、またはシリカ−アルミナである、請求項40に記載の方法。
- 前記脱ロウ処理触媒が0.1〜5重量%白金を含む、請求項21に記載の方法。
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