JP5582774B2 - 光ファイバの長さ方向の特性を制御する方法 - Google Patents

Description

本発明は、光ファイバの製造方法に関し、より詳細には、様々な用途の要求に応じて所定の長さ依存特性を生じさせるように光ファイバの屈折率を長さの関数として修正する方法に関する。

光ファイバは、通信システム、産業および環境センサ、医療撮像などを含むがこれらに限定されない様々な用途において、移送機構として発展し続けている。さらに多くの用途が毎日相変わらず見つかっている。最初に電気通信用途で使用されたとき、（コア／クラッド寸法、屈折率分布、その他に関する）塩基性シリカ・ファイバの特性は、比較的単純で、１９７０年代および１９８０年代にベル研究所で開発された改良化学気相成長（ＭＣＶＤ）および蒸気支援堆積（ＶＡＤ）のようなプロセスを使用して制御された（例えば、米国特許第４，２５７，７９７号、４，７０７，１７４号および４，９３２，９９０号を参照されたい）。ファイバの様々な用途および型の増大で、専用製造プロセスを開発することが必要になった。従来の単一モード・ファイバ（ＳＭＦ）および多モード・ファイバ（ＭＭＦ）のほかに、分散シフト・ファイバ（ＤＳＦ）、分散補償ファイバ（ＤＣＦ）、分極維持ファイバ（ＰＭＦ）、微細構造ファイバ、大モード面積ファイバ（ＬＭＡファイバ）、高次モード・ファイバ（ＨＯＭファイバ）、ドープド・ファイバ増幅器、および高非直線ファイバ（ＨＮＬＦ）のようなファイバが、特定のニーズを満たすために開発されている。これらの型の１つまたは複数では、ファイバは、また、複数の分離されたコア領域を含むように形成されている。

各場合に、これらの異なるファイバの型は、様々なコア層およびクラッド層の寸法、これらの層を形成するために使用される材料およびドーパント、およびこれらの専用層を作るために使用されるプロセスによって、特定の１組の特性を持つようになる。これらのファイバを線引きする専用プリフォームを製造するために様々な専用プロセスが開発されたが、線引きされたままのファイバは、許容できない長さ依存変動を示すことがある。色分散、偏光モード分散、複屈折、ゼロ分散波長、（基本モードと高次モードの両方の）遮断波長、誘導ブリュアン散乱（ＳＢＳ）特性などのような非直線特性の長さ依存変動によって、これらのファイバの能力が制限されている。長さの短いファイバだけが使用されるいくつかの用途では、長さ依存変動はほとんど問題でない。しかし、比較的長い長さのファイバが必要とされる用途では、１つまたは複数のこれらの特性のかなり大きな長さ依存変動はどれでも問題になる可能性がある。

例えば、ＨＮＬＦは、例えば連続光発生および４波混合（ＦＷＭ）のような非直線用途用の小さな実効面積（Ａ_ｅｆｆ）を持った分散シフト・ファイバである。本出願の譲受人に譲渡された米国特許第６，７７５，４４７号および７，１７１，０８９号には、これらの働きのためにＨＮＬＦを利用することが記載されている。これらおよび他の従来技術文献に述べられているように、連続光発生およびＦＷＭを行うために比較的短い長さのＨＬＮＦが使用される。しかし、もっと長い長さのＨＬＮＦを他の用途に使用することが求められるとき、ファイバ長さの関数としての色分散分布の不均一性が問題となる。分散の変動の少なくとも１つの原因は、製造中（例えば、ファイバ・プリフォームから最終ファイバへの線引き中）のファイバ直径の変化に起因すると考えることができ、直径の僅かな変化が分散のかなり大きな変化を引き起こすことが分かっている。

ファイバのゼロ分散波長（ＺＤＷ）が１ｋｍの長さでせいぜい０．１ｎｍ変化することが要求される場合、ファイバ直径は０．００２％を超えて変化してはならないことが、ＨＮＬＦの設計に関する敏感度解析で示される。１２５μｍのファイバでは、これは、１ｋｍで２．８ｎｍ未満の直径変動になる。

線引きファイバの直径を修正する従来技術の１つの方法が、２００８年１月８日にＭ．Ｈｉｒａｎｏ等に発行された米国特許第７，３１７，８５６号に開示されている。Ｈｉｒａｎｏ等の方法は、ＨＮＬＦの製造、またはその製造特有の要件に向けられていないが、ファイバ・プリフォームの解析を行い、その後で「望ましい」光学特性を実現するようにファイバ・プリフォームの直径を修正する。特に、ファイバ・プリフォームの屈折率分布が解析されて、分布が一様でない領域を指し示すようにプリフォームに境界の線引きが行われる。その後で、プリフォームの外面が研磨工程にかけられて一様な分布を新たに生じさせ、それから、研磨されたプリフォームが、基本的に一様な屈折率分布を持ったファイバに線引きされる。

米国特許第４，２５７，７９７号 米国特許第４，７０７，１７４号 米国特許第４，９３２，９９０号 米国特許第６，７７５，４４７号 米国特許第７，１７１，０８９号 米国特許第７，３１７，８５６号 米国特許第５，７７３，４８６号 米国特許第７，０５７，７３５号

この方法は、標準的な分布の屈折率分布の不均一性を改善する際に使用するのに適しているが、そのような方法は、今日の専用ファイバの多くのものに関して様々なパラメータを制御するのに有用であるとは考えられない。これらの専用ファイバでは、線引きプロセス自体が、望ましくない長さ依存変動を生じさせるのに十分なファイバ直径の僅かな変動を引き起こすことが知れている。

その上、線引き後の修正をファイバ特性に生じさせることが求められる状況がある。例えば、多コア・ファイバでは、コア間の結合をケース・バイ・ケースで（すなわち、用途固有に）調整すること、またはコア間結合を長さの関数として調整することが望ましいことがある。いくつかの場合には、ファイバを伝播する軸方向変化光場が期待される屈折率の軸方向変動の実現などの一定でない制御された屈折率分布が望ましい。さらに、光ファイバの特性を特定の用途および関連した条件の要求に特に合わせるように、（例えば）システム設置または現場配置のときに光ファイバのある特性を修正することが望ましいことがあろう。

したがって、当技術分野では、光ファイバの屈折率分布を特定のファイバの型および応用に特に合わせるように光ファイバの特性を修正する方法が依然として必要とされている。

本発明は、従来技術の要求に対処して、光ファイバを製造する方法、より詳細には、様々な用途の要求に応じて所定の長さ依存特性を生じさせるように光ファイバの屈折率を長さの関数として修正する方法を提供する。

本発明に従って、光ファイバのある一定の長さの屈折率分布が最初に決定され、次に、この屈折率分布は、光ファイバのその特定部分の、特定の用途のために必要な望ましい分布と比較される。それから、選ばれた処理（例えば、化学線照射、熱アニール、直流電圧印加、その他）がファイバに加えられて、ファイバが特定の用途のために望ましい特性を示すまで屈折率分布が修正される。各処理の線量および継続時間は、過補正が確実に起こらないように制御される。特に、屈折率分布が特定の用途に適しているようになるまで、１つまたは複数の処理がファイバに加えられることがある。

色分散、偏光モード分散、分散勾配、ゼロ分散波長、光フィルタ（基本モード・ファイバと高次モード・ファイバの両方）の遮断波長、複屈折、ＳＢＳ特性などのような（これらに限定されない）特性に長さ依存修正を生じさせるために、ある処理を使用することが、本発明の１つの態様である。実際は、本発明の処理プロセスを応用することによって、光ファイバの任意の直線または非直線特性に長さ依存変化を生じさせることができる。

屈折率修正処理は、ファイバの全長の屈折率分布が測定され「屈折率マップ」として格納されるやり方で実施することができる。その後、処理プロセスのパラメータが屈折率マップの制御の下で望ましい長さ依存特性を持った最終ファイバを生成するように調整された状態で、ファイバは処理プロセスに連続的に通される（以下で時々「リール・ツー・リール」・プロセスと呼ばれる）。代わりに、「止めて補正する」プロセスが使用されることがあり、このプロセスでは、ファイバのある一定の部分の屈折率が測定され、それから測定部分の屈折率を調整するためにプロセスが使用される。「止めて補正する」プロセスは、その後、ファイバの各部分に次々に応用される。

本発明の一実施形態に従って、屈折率修正は、光ファイバの部分を低線量の化学線（光ファイバに沿った回折格子素子の生成に関係して使用されるｋＪ／ｃｍ^２の値に比べて、ほぼ１Ｊ／ｃｍ^２）に曝すことによって行われる。低線量の化学線は、光場が存在するファイバのある領域の局所屈折率値を修正する。屈折率のこの変化は、例えば、ファイバの分散、ゼロ分散波長の位置、分散勾配、複屈折、コア間結合の程度などを変えるために使用することができる。

本発明のこの実施形態にさらに従って、１９３ｎｍ、２４２ｎｍ、２４４ｎｍ、２４８ｎｍ、または３０８ｎｍの波長の紫外線放射の線量（または、場合によっては、複数の線量）を使用することができる。ガラス光ファイバは、機械的損傷（擦れ傷）に対して強度を維持するための保護重合体被覆を必要とする。光ファイバを化学線に曝すという発明のプロセスを簡単化するために、化学線に対して少なくとも部分的に透明な保護重合体被覆を使用することができる。代わりに、被覆をこの照射の直前に除去し、その後で再び付けることができる。この場合、ガラス溶融温度またはそれに近い温度を使用してファイバ強度を回復させるために、高温処理を加えることができる。紫外線照射のほかに、本発明の化学線処理実施形態のソースとしてＣＯ_２レーザ・システムのフェムト秒ＩＲシステムを使用することができる（一般に、「化学線」は、ガラス密度の光化学変化または変動、光ファイバ製造で使用された材料の歪みまたは応力を引き起こす任意の波長の放射として定義することができる）。屈折率値を修正するために使用できる他のプロセスには、熱アニール、機械的歪みを加えること、直流電圧またはプラズマを加えることなどがあるが、これらに限定されない。

様々な型のファイバ／領域を生成するために使用されるドーパント（例えば、Ｇｅ、Ｐ、Ｆ）は、また、化学線の使用に他の変量を取り入れて光ファイバの特性に望ましい長さ依存変化を与えるように調整／修正することができる。例えば、分散をファイバ長さの関数として修正するために調整することができる２つの異なる成分を生成するために、ゲルマニウムのほかに燐がコア・ドーパントして使用されることがある。化学線照射がコア半径の関数として変化する屈折率変化を生じさせてファイバの半径方向屈折率分布を効果的に変えるように、コア・ドーパントの分布がまた半径方向で変えられることがある。

安定なソリトン伝播のために、ファイバ分散を伝播の長さに沿って減少させることが望ましい。約０．００６５７Δｎのコア屈折率を示すノンゼロ分散ファイバ（１．５５μｍの波長で６．３４ｐｓ／ｎｍ−ｋｍの分散を生じる）では、本発明の屈折率修正プロセスは、ファイバ長さに沿ってコア屈折率を変えて分散の減少するファイバを得るように使用されることがある。例えば、コア屈折率を０．００８７５Δｎに増加させることによって、分散は１１．３６ｐｓ／ｎｍ−ｋｍに増加する。他方で、コア屈折率を０．０００５１２Δｎに減少させることによって、分散を１．４３ｐｓ／ｎｍ−ｋｍに減少させることができる。次に、この技術を使用して、ファイバ分散をファイバの軸方向長さにわたって１１．４ｐｓ／ｎｍ−ｋｍから１．５ｐｓ／ｎｍ−ｋｍまでしだいに小さくすることができる。

光フィルタリング用途では、基本（ＬＰ_０１）モード（または、特定用途の高次モード）に一定遮断波長を維持することがしばしば望ましい。しかし、コア直径の小さな減少（例えば、２．５９μｍから２．４６μｍ）によって、ＬＰ_０１モードの遮断波長は１．６０６μｍから１．５２４μｍにシフトし、フィルタ用途にとって非常に望ましくない結果となる。したがって、本発明の技術を使用して、ＬＰ_０１遮断波長が１．６０６μｍの望ましい値に維持されるようにコア屈折率を０．０２５Δｎから０．０２７Δｎに増加させることによって、コア直径のこの望ましくない減少を補償することができる。さらに可能なことであるが、遮断波長の望ましい調整を達成するのに必要な、屈折率変化について有用な帰還を行うために、屈折率修正プロセス中に様々な波長で減衰を監視することができる。

以下の議論の間に、また添付の図面を参照することによって、本発明の方法の様々な修正および他の修正が明らかになる。

本発明の様々な処理プロセスを使用して達成することができる、光ファイバの屈折率分布の例示の変化を示すグラフである。 本発明の屈折率修正プロセスを行うための例示の装置を示す図である。 ファイバをプリフォームから線引きした直後に、光ファイバの屈折率分布に長さ依存修正を生じさせるためのシステムを示す図である。 図２の例示の装置の変形を示す図であり、複数の修正ステップが行われる。

従来、紫外線照射のような技術が、光ファイバの短い部分の屈折率を修正するために使用されていた。紫外線放射を用いて光ファイバに回折格子を「書き込む」ことができることは、標準的な慣行である（例えば、１つの例示の紫外線書き込みプロセスの完全な説明について米国特許第５，７７３，４８６号を参照されたい）。最近、４波混合（ＦＷＭ）を引き起こすために、または連続光発生を延長して超連続光源を実現するために、高非直線ファイバ（ＨＮＬＦ）と共に紫外線放射が利用された。後者の場合には、重水素添加ＨＮＬＦに対してほぼ２．５ｋＪ／ｃｍ^２の紫外線照射が加えられて０．００５の屈折率変化を生じさせ、ほぼ１００ｎｍのゼロ分散波長（ＺＤＷ）のシフトを引き起こした。

対照的に、本発明によって行われる光学特性の長さ依存修正が必要とする紫外線放射レベルは、これらの従来技術の応用に必要なレベルよりも数桁小さい。５×１０^−４から５×１０^−６のΔｎ（本発明に関連した修正で一般的なものである）を達成するために、上述の従来技術の応用（例えば、回折格子、連続光源）に関連した紫外線照射レベルの約４０分の１から４０００分の１が必要であることが、ＨＮＬＦでの回折格子成長の分布で明らかになっている。（例えば）ＨＮＬＦの１ｋｍの長さにわたって±０．２μｍのファイバ直径の、ファイバ線引き中の通常変動のために、ＨＮＬＦのＺＤＷは、おおよそ−／＋７．１ｎｍ変化し、ほぼ−／＋０．０００３４の屈折率Δｎの補正が必要になる。

したがって、本発明の長さ依存方法では、光ファイバに紫外線透過性被覆を付けた後でΔｎの必要な変化を達成することができる。さらに、このレベルの変化は、他のドーパント（例えば、重水素など）をファイバのコア領域に添加する必要なしに達成することができる。ファイバの長い長さにわたってせいぜいピコメートル（ｐｍ）・レベルの変動（例えば、１３５０．００２ｎｍに対して１３５０．００１ｎｍのＺＤＷ）を示すようにＺＤＷを制御することが望ましい場合には、（従来技術の線量ｋＪ／ｃｍ^２の代わりに）ほぼ１Ｊ／ｃｍ^２の線量を使用することで十分である。

図１は、２つのコア・ドーパント材料、すなわちゲルマニウム（Ｇｅ）および燐（Ｐ）を含む例示の光ファイバの屈折率分布の様々なグラフを含む。特に、コア内に形成されたリング構造内にＰドーピングが形成される。「未照射」のグラフは、ファイバが最初のプリフォームから最終ファイバ構造に線引きされた直後の屈折率分布を示している。本発明に従った「屈折率補正」プロセスとして紫外線ランプ照明を応用することで、ファイバ内部コア領域（Ｇｅがドープされた領域）内に約０．００１５〜０．００２０の大きさの屈折率変化Δｎが得られることが示され、また周囲のＰドープされたリングの屈折率も大きくなる。また図１に示されるように、２４２ｎｍの波長のパルス紫外線照射（例えば、約２０ｎｓのパルス）を使用することで、いっそう大きな屈折率変化（コア領域の中心でほぼ０．００４）が生じる。ランプ照明プロセスとは違って、２４２ｎｍの光の照射はＧｅドーパントだけに影響を及ぼし、したがってＧｅがドープされた内部コア領域の屈折率だけが大きくなる。Ｐがドープされた内部リングの屈折率値は一定のままである。上述のように、選ばれたプロセスのパラメータだけでなく、使用される特定の屈折率修正プロセスも、必要とされる特定の程度の屈折率補正を行うように選ばれる。

図２は、本発明に従って光ファイバの長さ依存屈折率修正を行うための例示の構成を示す略図である。この場合、光ファイバの長い長さに沿って一定の色分散値（Ｄ）を維持することが求められると仮定する。最初に、線引きファイバの分散が長さの関数として（ファイバの長さと相関的に）測定され、後でこのプロセスで使用するために「分散マップ」として格納される。特徴付け自体は、ファイバに入射された信号の４波混合からのレイリー後方散乱測定を行うという形を取ることがあり、分散の直接測定を長さの関数として（ファイバの長さと相関的に）生じる。代わりに、ファイバの直径が測定され、関連した分散が直径の値から計算されることがある。分散マップを作る他の構成が、本発明に従って使用されることがある。

次に、図２に示されるような装置がこの分散マップ情報を入力として使用し、ファイバの連続した部分の屈折率分布を一定分散に関連した所定の許容誤差範囲内に入れるために必要な補正量（もしあれば）を決定する。補正が必要な場合には、補正の程度が、処理プロセスのパラメータを指示する。例えば、紫外線照射プロセスが使用される場合には、照射の波長、継続時間およびエネルギー・レベルが、適切な補正量を与えるように調整される。直流電圧の印加が使用される場合には、印加の電圧レベルおよび継続時間がそれ相当に制御される。熱をベースにした補正プロセス、機械的（歪み）プロセス、その他に関して同様なパラメータが調整される。

図２を参照すると、製造されたままの光ファイバ１０が、長さの関数として（ファイバの長さと相関的に）変化する分散を示すように示されている（図２の差込み図Ａは、例示の変動を任意単位で示すグラフである）。本発明の屈折率修正プロセスを行うために、ファイバ１０は、第１のリール２０から所定の速度（ν）で巻き戻されて、ファイバの屈折率を修正するように機能する処理装置２２を通過する。図２の例示の構成では、長さＸのファイバ１０の部分が装置２２の中で連続的に処理にかけられる。各部分Ｘの前に特徴付けされた分散分布に基づいて、処理装置２２から（例えば）適切なレベルの化学線照射が使用されて、どんな長さ依存変動も除去するように屈折率値が修正されまた関連した色分散が補正される。これは、本明細書では「止めて補正する」プロセスと呼ばれる。したがって、ファイバ１０が装置２２から出るときに、ファイバ１０の分散分布は、長さの関数として本質的に一様であるように補正されている（図２の差込み図Ｂは、処理後のファイバ分散を長さの関数として（ファイバの長さと相関的に）示すグラフである）。図２に示されるような構成では、分散が補正されたファイバは、その後、第２のリール２４に巻き取られる。

以下の図は、図２に単純化された形で示されるように本発明に従って光ファイバの長い長さに対して屈折率修正を行うために使用することができるいろいろの異なる構成を示す。様々な方法を示し説明するが、この説明が網羅的であると考えられないことは理解されるべきである。本発明に従って望ましい屈折率修正を行うために使用することができる多くの他の技術および技術の組合せがある。さらに、本発明の特徴は、ファイバの寿命中の任意のときに処理を加えることができることである。例えば、プリフォームからファイバを線引きした直後に加えられる処理は、選ばれたパラメータの製造時の望ましくない変動を「補正」するために使用することができる。代わりに、システムの要件に関連してある特性を修正するために（例えば、ＳＢＳ閾値を大きくし、ＺＤＷ値をシフトする）、特定のシステムに組み込む際にファイバに処理を加えることができる。その上、環境または老化効果のために変化した可能性のある特性を調整するために、ファイバ組込み後に「現場」処理を使用することができる。

いくつかの場合には、製造されたファイバは、外側保護被覆を含む。この被覆を付けた後で本発明の屈折率修正処理を使用するとき、この処理を行う前に被覆の選ばれた部分を除去すること（剥離）が必要であることがある。このことが特に関係のあるのは、熱アニール処理プロセスが使用され、かつ高温を加えることが被覆の品質に影響を及ぼす可能性がある場合である（熱アニール・プロセスは、また、剥がされたファイバの機械的強度を高めるために使用されることがある）。処理の完了したとき、被覆を再び付けることができる。化学線照射プロセスだけを使用する場合には、処理プロセスに使用される波長に対して少なくとも部分的に透明であり、したがって取り除く必要のない外側被覆材料がある。

図３は、ファイバがプリフォームから線引きされた直後に本発明に従って使用される例示の処理装置を示す。この場合、標準ファイバ・プリフォームは、プリフォーム製造アセンブリ１００で生成／製造される。その後で、プリフォームは、プリフォームを柔らかくするのに十分な温度（例えば、約２０００℃）に保たれた炉１１０に入れられる。次に、加熱されたプリフォームから作られたファイバは炉１１０を出て巻取り機構１３０の制御の下で下方に引っ張られ、巻取り機構１３０は、プリフォームを所定の最終ファイバ直径（例えば、１２５μｍ）に線引きするのに必要な望ましい引っ張りを与える。線引きされたファイバは、次に、巻取りドラム１４０に巻かれて、製造プロセスが完了する。

本発明のこの特定の実施形態では、フィルタリングに有用な光ファイバを生成することが求められ、この場合、ファイバはその長さに沿って一定の遮断波長を保つ。遮断波長を測定する１つの例示の技術は、２００６年６月６日にＪ．Ｊａｓａｐａｒａに発行され本出願の譲受人に譲渡された米国特許第７，０５７，７３５号に開示されている。Ｊａｓａｐａｒａの方法は、反射干渉プロセスを使用してファイバの絶対物理的厚さと光学的厚さの両方を測定する。遮断波長の測定を長さの関数として（ファイバの長さと相関的に）得る他のプロセスが使用されることがある。図３に示されるような構成では、特徴付け装置１５０は、巻取り機構１３０の直ぐ前に配置され、ファイバがそこを通過するときにファイバの遮断波長を決定するように使用される。次に、決定された遮断波長値は、後で本発明の修正プロセスで使用するために、遮断波長マップ１６０に格納される。この特定の実施形態の場合には、遮断波長は長さの関数として一定のままであると推定される（望ましい結果が、測定ＰＭＤのグラフに点線として示されている）。

図３に示されるように、処理モジュール２００は、長さＸのファイバ１０の所定部分が巻取り機構１３０を通過した後で、この部分と相互作用するように配置されている。処理モジュール２００は、遮断波長マップ１６０に格納された情報を入力として使用して、ファイバ１０の長さＸに沿って（例えば、基本ＬＰ_０１モードの）遮断波長変動を引き起こすコア直径変動を補償するように屈折率分布を修正するために必要な処理の程度を決定する。製造時の遮断波長λ_ｃが、長さの関数として（ファイバの長さと相関的に）処理モジュール２００の左に示されており（差込み図Ａ）、補正された遮断波長測定値が長さの関数として（ファイバの長さと相関的に）処理モジュール２００の右に差込み図Ｂで示されている。

処理モジュール２００は、遮断波長値を制御するために必要とされる光ファイバの屈折率分布の必要な微修正を行うことができるいろいろの異なる構成要素を備えることができる。図３に示された特定の実施形態では、処理モジュール２００は、コアの屈折率値を修正し遮断波長値を補正することができる紫外線照射システムを備える。

上で言及したように、ファイバ１０の屈折率分布を調整するために２以上の処理を使用することができる。図４は、本発明に従って光ファイバの部分の屈折率分布の変化を微調整するために２つの連続したプロセスを使用することを例示する略図である。この場合、ゼロ分散波長（ＺＤＷ）を光ファイバの全長に沿ってずっと一定であるように制御することが求められる。上述のプロセスのように、最初にファイバのＺＤＷが長さの関数として（ファイバの長さと相関的に）測定され、ＺＤＷマップ・メモリに（ことによると）格納される（差込み図Ａ）。図４を参照すると、関連したＺＤＷマップに格納された値と、ＺＤＷを修正するために必要な屈折率値の変化の理解とに基づいて、ＺＤＷをファイバ長さの関数として（ファイバの長さと相関的に）修正するために、最初のプロセス３００が使用される。次に、ＺＤＷが再測定され、所定の許容誤差値を超えて変化することが分かった場合には、屈折率値をさらに変えるように第２の屈折率修正プロセス３１０が使用される。第２の測定で、今度はＺＤＷが所定の許容誤差限界内にあることを確認する。

一般に、本発明の屈折率修正プロセスは、望ましい結果が達成されるまで何度でも応用することができる。さらに、様々な型の処理を使用することができる。図１の例示の実施形態では、最初のプロセス３００は、紫外線照射の形を取ることがあるが、第２のプロセス３１０は熱アニール・プロセスであることがある。光ファイバの分散の温度による変化は、その後ファイバがアニール温度（例えば、１２００℃）よりも低い温度で使用される限り、固定されたままである。一般的なアニール温度は、紫外線誘起屈折率値の５〜１０％の変化をもたらす。高温アニールの場合、最初にファイバから（少なくともアニールを受ける部分から）外側被覆を剥がし、それからアニール・プロセスの完了時に被覆を再び付けることができる。

光ファイバの長さの関数として（光ファイバの長さと相関的に）屈折率変化の量を調整するために、異なるレベルのアニールで異なるファイバ屈折率が得られるように、アニール温度をある一定の範囲で変えなければならない。代わりに、２つの異なる波長で紫外線照射を行って、異なるレベルの屈折率変化を引き起こすことができる。

上で言及したように、コア中に異なる／追加のドーパント（例えば、Ｇｅ、ＰまたはＦ）を含み、各ドーパントが紫外線照射に対して異なる反応を示すようにファイバ自体を修正することができる。元の線引き技術と同様なプロセスを使用して分散値を長さの関数として（光ファイバの長さと相関的に）変えることによって、ファイバの直径自体を修正することができる（すなわち、先細りにする）。屈折率分布を修正するために使用することができる他の型のプロセスには、歪みを加えること、直流電圧を加えること、プラズマを加えること、またはこれらの任意の組合せがある。

さらに、理解すべきことであるが、本発明の屈折率修正プロセスは、任意の適切な時点で光ファイバに応用することができる。プリフォームからファイバを線引きした直後に使用するように上では述べたが、配置時、配置後に本プロセスを応用して、ファイバが老化するまたは用途が変わるなどするときにパラメータを変える／補正することができる。

本発明は、好ましい実施形態に関連して説明されたが、本発明は本明細書で与えられた詳細に限定されるべきでなく、後で特許請求される本発明の範囲内で修正可能である。

Claims (12)

1. 光ファイバの長さに沿って光学特性を制御する方法であって、
   ａ）光ファイバに沿ってその長さ（Ｌ）と相関的に制御されるべき光学特性を選択するステップと、
   ｂ）前記選択された光学特性の望ましい長さ依存値を定めるステップと、
   ｃ）選択された位置（Ｘ）において、前記光ファイバの長さに沿って、前記光ファイバの前記選択された光学特性の値を前記光ファイバの長さと相関的に測定するステップと、
   ｄ）各選択された位置において、前記光ファイバの長さに沿って、ステップｃ）で求められた前記値をステップｂ）で定められた前記望ましい値と比較するステップと、
   ｅ）各選択された位置における前記選択された光学特性の前記測定された値が、ステップｂ）で定められた前記選択された光学特性の前記望ましい長さ依存値の所定の許容誤差限界内になるまで、前記光ファイバに対して前記光ファイバの長さに沿ってその長さと相関的に屈折率修正処理を行うステップとを含む方法。
2. ステップａ）で定められた前記選択された光学特性が、色分散、分散勾配、ゼロ分散波長、基本および高次モードの遮断波長、偏光モード分散、複屈折、およびＳＢＳ特性からなるグループから選択される、請求項１に記載の方法。
3. ステップｅ）の前記屈折率修正処理が、化学線照射、熱アニール、直流電圧を加えること、機械的歪みを加えること、およびプラズマを加えることからなるグループから選択された少なくとも１つのプロセスを含む、請求項１に記載の方法。
4. 前記化学線照射プロセスが、１つまたは複数の選択された波長の紫外線放射、ランプ放射、フェムト秒ＩＲ放射、およびＣＯ_２レーザ放射からなるグループから選択される、請求項３に記載の方法。
5. 複数の化学線照射プロセスが、前記屈折率分布を修正するために使用される、請求項４に記載の方法。
6. １つまたは複数の選択された波長の紫外線放射が、１９３ｎｍ、２４２ｎｍ、２４４ｎｍ、２４８ｎｍ、および３０８ｎｍのグループから選択される、請求項４に記載の方法。
7. ステップｃ）を行う際に、前記ステップが、さらに、ステップｄ）およびｅ）を行う前に前記光ファイバの全長Ｌについて、各選択された位置Ｘにおける前記選択された光学特性の前記測定値のマップを作ることを含む、請求項１に記載の方法。
8. ステップｅ）を行う際に、前記光ファイバの連続した所定の長さＸについて「止めて補正する」プロセスが使用される、請求項１に記載の方法。
9. 前記光ファイバが、単一モード・ファイバ、多モード・ファイバ、偏光維持ファイバ、分散シフト・ファイバ、分散補償ファイバ、大モード面積ファイバ、高次モード・ファイバ、複数コア・ファイバ、微細構造ファイバ、および高非直線ファイバからなるグループから選択される、請求項１に記載の方法。
10. 前記方法が、さらに、
    ｉ）ステップｅ）の前記屈折率修正処理を行う前に前記光ファイバから外側被覆を剥がすステップと、
    ｉｉ）前記屈折率修正処理を行った後で前記光ファイバに外側被覆を再び付けるステップとを含む、請求項１に記載の方法。
11. ステップｉｉ）を行う前に、前記剥がされた光ファイバの機械的強度を熱アニール・プロセスによって高めるステップを含む、請求項１０に記載の方法。
12. 前記光ファイバが、前記屈折率修正処理の前記化学線照射プロセスに関連した放射波長に対して少なくとも部分的に透明な外側被覆を備える、請求項３に記載の方法。

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