JP5581195B2 - 可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク、可変焦点レンズおよび可変焦点メガネ - Google Patents

Description

本発明は、可変焦点部へ電圧を印加することで焦点を可変とする光学部材として用いられる可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク、可変焦点レンズおよび可変焦点メガネに関するものである。

可変焦点液晶レンズ用セミフィニッシュトブランクは、表面が凸湾曲である下基板と、この表面と対向して接合される凹湾曲の裏面を有する上基板と、下基板と上基板の間に配置される可変焦点部などから構成される。下基板の表面と上基板の裏面には、透明導電膜などの薄膜がそれぞれ製膜されている。そして、透明導電膜を介して液晶材料へ電圧を印加することで、可変焦点部の屈折率を変化させることができるため、例えば、遠近両用メガネのレンズとして用いられる（特許文献１）。

米国特許出願公開第２００９／２５６９７７号明細書

しかしながら、上記従来の構成では、以下に示すような問題点を有している。
すなわち、上記公報に開示された構成では、上記可変焦点部はレンズの一部領域にしか存在していないにもかかわらず、透明導電膜は下基板の表面と上基板の裏面の全面に製膜されている。このため、可変焦点部へ電圧を印加するとレンズ全体に電圧がかかってしまう。可変焦点メガネの消費電力が高いと、頻繁に充電が必要となったり、容量の大きい電池を用いなくてはならなかったりして、可変焦点メガネとしての商品価値が低下してしまうという課題がある。

本発明は、消費電力の低減を実現し、商品価値の低下を防止することが可能な可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク、可変焦点レンズおよび可変焦点メガネを提供することを目的とする。

本発明は、第１基板と、第１透明導電膜と、第２基板と、第２透明導電膜と、可変焦点部と、第１領域と、第２領域と、第１領域と第２領域とを分離するレーザ加工跡と、を備えている。第１透明導電膜は、第１基板の表面に製膜されている。第２基板は、第１基板と対向する。第２透明導電膜は、第２基板の裏面に製膜されている。可変焦点部は、第１基板の表面と第２基板の裏面との間に配置されている。第１領域は、第１透明導電膜における可変焦点部と対向する領域である。第２領域は、第１透明導電膜における第１領域以外の領域に分離されている。

また、本発明は、第２透明導電膜が、可変焦点部と対向する領域を含む第３領域と、この第３領域以外の第４領域とに分離されていてもよい。
また、本発明は、第１透明導電膜に接続された第１内部電極と、第２透明導電膜に接続された第２内部電極と、を備え、第１領域は、第１内部電極と対向する第１透明導電膜の領域を含んでおり、第２領域は、第２内部電極と対向する第２透明導電膜の領域を含んでいることが好ましい。

また、本発明は、第１基板と、第１透明導電膜と、第２基板と、第２透明導電膜と、可変焦点部と、第１領域と、第２領域と、第３領域と、第４領域と、第１印加領域と、第２印加領域と、第１領域と第２領域とを分離する第１レーザ加工跡と、第３領域と第４領域とを分離する第２レーザ加工跡と、を備えている。第１基板は、表面に液晶保持部を有する。第１透明導電膜は、第１基板の表面に製膜されている。第２基板は、第１基板と対向する。第２透明導電膜は、第２基板の裏面に形成されている。可変焦点部は、液晶保持部の表面と第２基板の裏面との間に配置されている。第１領域は、第１透明導電膜における可変焦点部と対向する領域である。第２領域は、第１透明導電膜における第１領域以外の領域に分離されている。第３領域は、第２透明導電膜における可変焦点部と対向する領域である。第４領域は、第２透明導電膜における第３領域以外の領域に分離されている。第１印加領域は、可変焦点部を覆う第１領域に形成されている。第２印加領域は、第１印加領域と対向する第２透明導電膜の領域を含むとともに、可変焦点部を覆う第２領域に形成されている。

また、本発明は、第１透明導電膜に接続された第１内部電極と、第２透明導電膜に接続された第２内部電極と、をさらに備え、第１領域は、第１内部電極と対向する第１透明導電膜の領域を含むとともに、第３領域は、第２内部電極と対向する第２透明導電膜の領域を含んでおり、第２内部電極と対向する第２透明導電膜の領域と第２印加領域とを接続する第３領域の接続領域は、第１内部電極と対向する第１透明導電膜の領域と第１印加領域とを接続する第１領域の接続領域と対向する位置からずれた位置に設けられていることが好ましい。

さらに、本発明の可変焦点レンズは、第１基板と、第１透明導電膜と、第２基板と、第２透明導電膜と、可変焦点部と、第１内部電極と、第２内部電極と、第１端子および第２端子と、第１領域と、第２領域と、第１領域と第２領域とを分離するレーザ加工跡と、を備えている。第１透明導電膜は、第１基板の表面に製膜されている。第２基板は、第１基板と対向する。第２透明導電膜は、第２基板の裏面に製膜されている。可変焦点部は、第１基板の表面と第２基板の裏面との間に配置されている。第１内部電極は、第１透明導電膜に接続されている。第２内部電極は、第２透明導電膜に接続されている。第１端子および第２端子は、第１内部電極および第２内部電極にそれぞれ接続されており、可変焦点レンズの側面に設けられている。第１領域は、第１透明導電膜における可変焦点部と対向する領域である。第２領域は、第１透明導電膜における第１領域以外の領域に分離されている。

さらに、本発明の可変焦点レンズは、所定の回路部とともに可変焦点メガネを構成することもできる。

本発明の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク、可変焦点レンズおよび可変焦点メガネは、消費電力の低減を実現し、商品価値の低下を防止することができる。
すなわち、必要な領域のみ電圧を印加できるように透明導電膜を分離しているので、透明導電膜の有無による屈折率および透過性の影響をほとんど受けることがない。その結果、透明導電膜の境界線を目立たせることなく消費電力を低減させることができる。

本発明の実施の形態１に係る可変焦点メガネの全体構成図。 （ａ）は、本発明の実施の形態１に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクを構成する下基板の正面図。（ｂ）は、そのＡ−Ａ線断面図。（ｃ）は、そのＡ−Ｂ線断面図。 （ａ）は、本発明の実施の形態１に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクを構成する上基板の正面図。（ｂ）は、そのＢ−Ａ線断面図。（ｃ）は、そのＢ−Ｂ線断面図。 （ａ）は、本発明の実施の形態１に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクの正面図。（ｂ）は、そのＣ−Ｃ線断面図。 本発明の実施の形態１に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクを製造するためのフローチャート。 （ａ）は、本発明の実施の形態２に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクの正面図。（ｂ）は、そのＣ−Ｃ線断面図。

（実施の形態１）
以下に、本発明の一実施形態に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクについて、図面とともに詳細に説明する。図１は、本実施形態の可変焦点メガネレンズ用セミフィニッシュトブランクからサーフェーシング加工、エッジング加工などの所定の工程を経て得られる可変焦点レンズ１を可変焦点メガネ３として構成した概略構成図である。

可変焦点レンズ１は、その中心からずれた下方領域の一部に、可変焦点部５を有している。
メガネフレーム７には、図示しない電池およびセンサ回路などを有する回路部９が設けられている。例えば、加速度センサを用いたセンサ回路は、可変焦点メガネ３を装着した人の頭部の上下角度によってオンオフ信号を出力する機能を備えており、可変焦点部５へ印加される電圧を制御する。

このような構成により、可変焦点メガネ３は、センサ回路からの信号に基づいて可変焦点部５への電圧の印加が切り換えられる。これにより、可変焦点部５の見かけ上の屈折率を変えることで遠近両用メガネとして機能させることができる。
次に、可変焦点メガネ３の可変焦点レンズ１を加工する前の段階である可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の構成について説明する。

可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１は、第１基板１９、第２基板４１および図示しないコレステリック液晶材料１７（可変焦点部５を構成する）などを備えている。そして、第１基板１９の凸湾曲面とこれに対向する第２基板４１の凹湾曲面との間には、可変焦点部５が配置されている。
図２（ａ）は、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１を構成する第１基板１９を示している。第１基板１９は、プラスチック（例えば、チオウレタン）によって構成されている。そして、第１基板１９上には、図２（ｂ）に示すように、第１基板１９側から順に、第１透明導電膜２１、第１内部電極２３、第１絶縁層（図示せず）および第１配向膜２５が製膜されている。

また、第１基板１９の凸湾曲面上の一部領域には、図２（ｃ）に示すように、液晶保持部２７が形成されている。そして、液晶保持部２７の上面には、フレネルレンズ部２９が形成されている。フレネルレンズ部２９は、液晶保持部２７の上表面全体に形成されるのではなく、上面の外周から一定の間隔を隔てて内側の位置に形成されている。これにより、製造工程において、コレステリック液晶材料１７がフレネルレンズ部２９からはみ出るような量で塗布された場合でも、液晶保持部２７の上表面上にとどまるように余裕を持たせることができる。

第１透明導電膜２１は、第１基板１９の表面である凸湾曲面上に製膜されている。そして、第１透明導電膜２１の液晶保持部２７に対応する領域上には、第１透明導電膜２１を介して第１配向膜２５が製膜されている。また、第１透明導電膜２１上には、第１基板１９の外周部から可変焦点部５（液晶保持部２７）へ向かう途中まで第１内部電極２３が形成されている。

コレステリック液晶材料１７は、第１配向膜２５の表面に塗布される。
また、第１透明導電膜２１は、可変焦点部５と対向する領域（第１印加領域）３５と第１内部電極２３と対向する領域３７とを含む領域（第１領域）３１と、それ以外の領域（第２領域）３３と、にレーザ（図示せず）の加工跡によって分離されている。
すなわち、領域３１は、第１透明導電膜２１における領域３５と、領域（第１内部電極２３の印加領域）３７と、接続領域３９とによって構成されている。領域３５は、可変焦点部５を覆う第１透明導電膜２１の領域、換言すれば、可変焦点部５と対向する領域を囲う第１透明導電膜２１の領域である。領域３７は、第１内部電極２３と対向する第１透明導電膜２１の領域である。接続領域３９は、可変焦点部５の領域３５と第１内部電極２３の領域３７とを接続する領域である。

このように、第１透明導電膜２１は、レーザの加工跡によって領域３１と、領域３１以外の領域３３とに分離されている。これにより、領域３１（領域３５，３７，３９）は、領域３３と電気的に非接続となっている。この結果、第１内部電極２３から印加された電圧は、可変焦点部５だけに印加され、可変焦点メガネ３の消費電力を低減することができる。

可変焦点部５の領域３５は、図２（ａ）に示すように、液晶保持部２７の外周を囲うように略楕円形状となっており、この外周の一部に、ほぼ同じ幅を有する接続領域３９と第１内部電極２３の領域３７とが接続されている。
次に、図３（ａ）〜図３（ｃ）を用いて、第１基板１９の凸湾曲面と対向する第２基板４１について説明する。

第２基板４１の裏面側には、図３（ｂ）に示すように、第２基板４１側から順に、第２透明導電膜４３、第２内部電極４５、第２絶縁層（図示せず）および第２配向膜４７が製膜されている。
第２基板４１は、第１基板１９と同様に、プラスチックから構成されているが、フレネルレンズ部は形成されていない。

第２透明導電膜４３は、第２基板４１の裏面側である凹湾曲面に製膜されている。可変焦点部５に対向する第２透明導電膜４３の領域には、第２配向膜４７が製膜されている。また、第２透明導電膜４３上には、第２基板４１の外周から可変焦点部５へ向かう途中まで第２内部電極４５が形成されている。
そして、第２透明導電膜４３は、図３（ａ）に示すように、可変焦点部５と対向する領域、および第２内部電極４５と対向する領域を含む領域（第３領域）４９と、この領域４９以外の領域（第４領域）５１と、にレーザの加工跡によって分離されている。

すなわち、領域４９は、領域（第２印加領域）５３と、領域５５と、接続領域５７とによって構成されている。領域５３は、可変焦点部５を覆う第２透明導電膜４３の領域であって、換言すれば、可変焦点部５と対向する第２透明導電膜４３の領域を囲う領域である。領域５５は、第２内部電極４５の印加領域であって、第２内部電極４５と対向する領域である。接続領域５７は、可変焦点部５の領域５３および第２内部電極４５の領域５５を接続する領域である。

このように、第２透明導電膜４３は、レーザの加工跡によって、領域４９と、領域４９以外の領域５１とに分離されている。これにより、領域４９（領域５３，５５，５７）は、領域５１と電気的に非接続となっている。
可変焦点部５に電圧を印加させる領域５３は、図３（ａ）に示すように、第１基板１９側の液晶保持部２７の外周を囲うように略楕円形状となっており、この外周の一部に、ほぼ同じ幅を有する接続領域５７と第２内部電極４５の領域３７，５５とが接続されている。

第１基板１９および第２基板４１は、詳細は後述するが、第１基板１９の凸湾曲面上にコレステリック液晶材料１７および接着剤５９が塗布され、第２基板４１の凹湾曲面と接合される。図４（ａ）および図４（ｂ）は、この接合した際の状態を示したものである。
ここで、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１を正面から見ると、図４（ａ）に示すように、可変焦点部５を覆う第１透明導電膜２１の領域（第１印加領域）３５は、可変焦点部５を覆う第２透明導電膜４３の領域（第２印加領域）５３に含まれるように配置されている。

これは、領域３５を形成する際、第１基板１９は液晶保持部２７を有しているので、液晶保持部２７の外周を目印としてレーザの照射が正確にできるのに対し、領域５３の形成時には第２基板４１に目印がないため、可変焦点部５よりも小さくならないように、領域５３を大きめに形成しているためである。したがって、領域５３を形成するために、より精度の高い加工を必要としたり、別途の目印を基板に形成したりする必要がない。なお、図４（ｂ）の矢印は、第１・第２透明導電膜２１，４３の一部をレーザによって除去した箇所を示している。

また、領域３５を除く領域３１と、領域５３を除く領域４９とは、第１基板１９と第２基板４１とを接合した状態において互いに対向しないように構成されている。換言すれば、領域３１の接続領域３９および第１内部電極２３と対向する第１透明導電膜２１を含む領域３７と、領域４９の接続領域５７および第２内部電極４５と対向する第２透明導電膜４３を含む領域５５とは、互いに対向しないようにずれた位置に配置されている。

これにより、可変焦点メガネ３の消費電力を低減することができる。すなわち、第１基板１９と第２基板４１とを接合した状態で、領域３５を除く領域３１と領域５３を除く領域４９とが、正面視において重ならないように配置することで、全体の静電容量を小さくすることができる。
次に、図５を用いて、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の製造方法について説明する。

ステップ１〜ステップ６は、第１基板１９、ステップ７〜ステップ１１は、第２基板４１に、それぞれ薄膜などを製膜する工程を示している。そして、ステップ１２は、第１基板１９と第２基板４１とを貼り合わせる工程を示している。
ステップ１では、スパッタリングによって、第１基板１９の凸湾曲面上に第１透明導電膜２１を製膜する。第１透明導電膜２１の厚みは、１０〜３０ｎｍが好ましい。

ステップ２では、第１内部電極２３を形成する。より具体的には、第１内部電極２３を象ったマスキングシートを第１基板１９に被せ、スピンコートにより第１内部電極２３を製膜した後、マスキングシートを除去する。ここで、第１内部電極２３は、第１基板１９の所定の内部から端部（外周）へ延びるように形成される。これにより、レンズの加工の際に、より多くの領域を無駄なく利用できる。ここで、本実施形態では、第１内部電極２３の形成を第１透明導電膜２１の製膜よりも後に行ったが、これらの順序を逆にしてもよい。

ステップ３は、レーザのパターニングを実施する工程である。レーザによって液晶保持部２７の外周および第１内部電極２３を囲うように第１透明導電膜２１に対してレーザを照射させる。これにより、領域３１を領域３１以外の領域３３と電気的に分離させることができる。このとき、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の縁部によって位置決めし、液晶保持部２７の外周を目印にしながらレーザ加工を行うが、第１基板１９の適切な箇所に、例えば、目立たない凸部を形成し、これを目印としてもよい。

レーザは、第１透明導電膜２１のみを除去できるものが好ましい。すなわち、第１透明導電膜２１の下に設けられた第１基板１９まで除去してしまうものや、領域３１と、領域３１以外の領域３３との電気的非接触が不十分なものは好ましくない。本実施形態では、波長が１０６４ｎｍのＹＶＯ４レーザを用い、１８ｗ、６０ｋHZとしてレーザによるレーザ加工跡を形成した。

ステップ４は、第１絶縁層（図示せず）を製膜する工程である。第１絶縁層は、スパッタリングによって製膜される。ここで、第１絶縁層は、二酸化珪素膜によって構成されている。
その後、ステップ５において、第１基板１９の液晶保持部２７の表面上に第１配向膜２５を製膜して配向処理を行う。

ステップ６では、第１配向膜２５上にコレステリック液晶材料１７を塗布し、コレステリック液晶材料１７が塗布された領域を除いた第１絶縁層上に接着剤５９を塗布する。
ここで、第２基板４１側の工程については、コレステリック液晶材料１７および接着剤５９の塗布工程（ステップ６）を除き、第１基板１９側の工程とほぼ同様の工程である。このため、ここでは、ステップ７からステップ１１の説明を省略する。すなわち、ステップ１〜５は、それぞれステップ７〜１１に相当する。

なお、第２基板４１には液晶保持部２７が存在していないが、液晶保持部２７と対向配置される第２基板４１側の領域には、第２配向膜４７が製膜されて配向処理される（ステップ１１）。
最後に、ステップ１２において、第１基板１９および第２基板４１に薄膜など製膜した後、第１・第２基板１９，４１を、図示しない密閉容器へ格納し、減圧環境下において接合させる。

本実施形態の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１では、以上のように、第１透明導電膜２１が、レーザによって、可変焦点部５と対向する領域を含む領域３１と、領域３１以外の領域３３とに分離され、第２透明導電膜４３が、レーザによって可変焦点部５と対向する領域を含む領域４９と、この領域４９以外の領域５１とに分離されている。

これにより、マスキング面を目立たせることなく消費電力の低減を実現し、可変焦点レンズ１としての商品価値の低下を防止することができる。すなわち、第１・第２透明導電膜２１，４３の有無による屈折率および透過性への影響をほとんど受けることなく、電池を充電する期間を延ばすことが可能となる。
また、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１は、正面視において、領域３１と領域４９とが可変焦点部５を除き、ほとんど重なり合わないように配置されている。これにより、可変焦点メガネ３の消費電力を更に抑えることができる。しかも、第１内部電極２３の領域３７と第２内部電極４５の印加領域５５とが対向せず、接続領域３９と接続領域５７とが対向しないように配置されている。これにより、レーザによるレーザ加工跡の重なり合いは、接続領域３９と領域５３とが重なる箇所の２点しかない。また、この部分は、可変焦点部５の外側に位置するため、可変焦点メガネ３の使用時にはほとんど目立たない。

本実施形態では、第１透明導電膜２１および第２透明導電膜４３の両方に対して、レーザによる照射を行ったが、いずれか一方のみ照射してもよい。これにより、上述の効果を維持しつつ、可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク１１の製造工程を簡略化することができる。
また、液晶保持部２７を第１基板１９の凸湾曲面に形成する代わり、第２基板４１の凹湾曲面に形成してもよい。

（実施の形態２）
図６は、本発明の第２の実施形態に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクの説明図である。ここでは、上述した実施の形態１と同一の部材、構成には同一の符号を付し、その説明を省略する。
なお、上述した実施の形態１では、レーザを使って領域３１を形成する際には、液晶保持部２７の外周にレーザ加工跡を形成した。これに対して、本実施形態では、液晶保持部２７の上面であってフレネルレンズ部２９の外周にレーザを照射させて領域３１を形成している。第２基板４１は、上述した実施の形態１と同様に構成することができるが、領域４９の領域３５の面積をさらに小さくすることができる。

このような構成によって、可変焦点メガネの消費電力をさらに抑えることができる。
なお、上述した実施の形態１，２では、ともにレーザを用いて第１・第２透明導電膜２１，４３の一部領域を分離する例を挙げて説明した。しかし、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、フォトエッチング等の他の手段を用いて、第１透明導電膜の領域を、第１領域と第２領域とに分離し、同様に、第２透明導電膜の領域を、第３領域と第４領域とに分離してもよい。

本発明に係る可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランクは、消費電力を抑制することができるという効果を奏することから、メガネのレンズやカメラなどの光学部材に対して広く適用可能である。

１ 可変焦点レンズ
３ 可変焦点メガネ
５ 可変焦点部
７ メガネフレーム
９ 回路部
１１ 可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク
１７ コレステリック液晶材料
１９ 第１基板
２１ 第１透明導電膜
２３ 第１内部電極
２５ 第１配向膜
２７ 液晶保持部
２９ フレネルレンズ部
３１ 領域（第１領域）
３３ 領域（第２領域）
３５ 領域（第１印加領域）
３７ 領域
３９ 接続領域
４１ 第２基板
４３ 第２透明導電膜
４５ 内部電極（第２内部電極）
４７ 第２配向膜
４９ 領域（第３領域）
５１ 領域（第４領域）
５３ 領域（第２印加領域）
５５ 領域
５７ 接続領域
５９ 接着剤

Claims (8)

1. 第１基板と、
   前記第１基板の表面に製膜された第１透明導電膜と、
   前記第１基板と対向する第２基板と、
   前記第２基板の裏面に製膜された第２透明導電膜と、
   前記第１基板の表面と前記第２基板の裏面との間に配置された可変焦点部と、
   前記第１透明導電膜における前記可変焦点部と対向する領域である第１領域と、
   前記第１透明導電膜における前記第１領域以外の領域に分離された第２領域と、
   前記第１領域と前記第２領域とを分離するレーザ加工跡と、
   を備えている可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク。
2. 第１基板と、
   前記第１基板の表面に製膜された第１透明導電膜と、
   前記第１基板と対向する第２基板と、
   前記第２基板の裏面に製膜された第２透明導電膜と、
   前記第１基板の表面と前記第２基板の裏面との間に配置された可変焦点部と、
   前記第２透明導電膜における前記可変焦点部と対向する領域である第３領域と、
   前記第２透明導電膜における前記第３領域以外の領域に分離された第４領域と、
   前記第３領域と前記第４領域とを分離するレーザ加工跡と、
   を備えている可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク。
3. 前記第１透明導電膜に接続された第１内部電極と、
   前記第２透明導電膜に接続された第２内部電極と、
   をさらに備え、
   前記第１領域は、前記第１内部電極と対向する前記第１透明導電膜の領域を含んでいる、
   請求項１に記載の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク。
4. 前記第１透明導電膜に接続された第１内部電極と、
   前記第２透明導電膜に接続された第２内部電極と、
   をさらに備え、
   前記第３領域は、前記第２内部電極と対向する前記第２透明導電膜の領域を含んでいる、
   請求項２に記載の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク。
5. 表面に液晶保持部を有する第１基板と、
   前記第１基板の表面に製膜された第１透明導電膜と、
   前記第１基板と対向する第２基板と、
   前記第２基板の裏面に形成された第２透明導電膜と、
   前記液晶保持部の表面と前記第２基板の裏面との間に配置された可変焦点部と、
   前記第１透明導電膜における前記可変焦点部と対向する領域である第１領域と、
   前記第１透明導電膜における前記第１領域以外の領域に分離された第２領域と、
   前記第２透明導電膜における前記可変焦点部と対向する領域である第３領域と、
   前記第２透明導電膜における前記第３領域以外の領域に分離された第４領域と、
   前記可変焦点部を覆う前記第１領域に形成された第１印加領域と、
   前記第１印加領域と対向する前記第２透明導電膜の第２印加領域と、
   前記第１領域と前記第２領域とを分離する第１レーザ加工跡と、
   前記第３領域と前記第４領域とを分離する第２レーザ加工跡と、
   を備えている可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク。
6. 前記第１透明導電膜に接続された第１内部電極と、
   前記第２透明導電膜に接続された第２内部電極と、
   をさらに備え、
   前記第１領域は、前記第１内部電極と対向する前記第１透明導電膜の領域を含むとともに、前記第３領域は、前記第２内部電極と対向する前記第２透明導電膜の領域を含んでおり、
   前記第２内部電極と対向する前記第２透明導電膜の領域と前記第２印加領域とを接続する前記第３領域の接続領域は、前記第１内部電極と対向する前記第１透明導電膜の領域と前記第１印加領域とを接続する前記第１領域の接続領域と対向する位置からずれた位置に設けられている、
   請求項５に記載の可変焦点レンズ用セミフィニッシュトブランク。
7. 第１基板と、
   前記第１基板の表面に製膜された第１透明導電膜と、
   前記第１基板と対向する第２基板と、
   前記第２基板の裏面に製膜された第２透明導電膜と、
   前記第１基板の表面と前記第２基板の裏面との間に配置された可変焦点部と、
   前記第１透明導電膜に接続された第１内部電極と、
   前記第２透明導電膜に接続された第２内部電極と、
   前記第１内部電極および前記第２内部電極にそれぞれ接続されており、レンズの側面に設けられた第１端子および第２端子と、
   前記第１透明導電膜における前記可変焦点部と対向する領域である第１領域と、
   前記第１透明導電膜における前記第１領域以外の領域に分離された第２領域と、
   前記第１領域と前記第２領域とを分離するレーザ加工跡と、
   を備えている可変焦点レンズ。
8. 第１基板と、
   前記第１基板の表面に製膜された第１透明導電膜と、
   前記第１基板と対向する第２基板と、
   前記第２基板の裏面に製膜された第２透明導電膜と、
   前記第１基板の表面と前記第２基板の裏面との間に配置された可変焦点部と、
   前記第１透明導電膜に接続された第１内部電極と、
   前記第２透明導電膜に接続された第２内部電極と、
   前記第１内部電極および前記第２内部電極にそれぞれ接続されており、レンズの側面に設けられた第１端子および第２端子と、
   前記第１端子および前記第２端子を通じて前記可変焦点部へ電圧を印加させるとともに、この印加電圧を制御する回路部と、
   前記第１透明導電膜における前記可変焦点部と対向する領域である第１領域と、
   前記第１透明導電膜における前記第１領域以外の領域に分離された第２領域と、
   前記第２透明導電膜における前記可変焦点部と対向する領域である第３領域と、
   前記第２透明導電膜における前記第３領域以外の領域に分離された第４領域と、
   前記第１領域と前記第２領域とを分離する第１レーザ加工跡と、
   前記第３領域と前記第４領域とを分離する第２レーザ加工跡と、
   を備えている可変焦点メガネ。

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