JP5566416B2 - Gas proportional valve - Google Patents
Gas proportional valve Download PDFInfo
- Publication number
- JP5566416B2 JP5566416B2 JP2012077930A JP2012077930A JP5566416B2 JP 5566416 B2 JP5566416 B2 JP 5566416B2 JP 2012077930 A JP2012077930 A JP 2012077930A JP 2012077930 A JP2012077930 A JP 2012077930A JP 5566416 B2 JP5566416 B2 JP 5566416B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic path
- valve
- plate
- diaphragm
- base plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 5
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Magnetically Actuated Valves (AREA)
- Safety Valves (AREA)
Description
本発明は、例えば給湯装置内に組み込まれてガスバーナへのガスの流量を増減するものであって、ダイヤフラムによるガバナ機能を備えたガス比例弁に関する。 The present invention relates to, for example, a gas proportional valve that is incorporated in a hot water supply device to increase or decrease the flow rate of gas to a gas burner and has a governor function by a diaphragm.
従来のこの種のガス比例弁はガス通路に形成した弁口を通過するガス量を、弁口に向かって弁体を進退させることによって可変調節している。この弁体は弁軸に設けられており、弁軸はダイヤフラムの中心に固定されている。ダイヤフラムは弁口の上流側である1次室と外部との間に両者を隔絶するように設けられている。従って、1次室の圧力、すなわち、1次圧が高圧側に変動した場合、ダイヤフラムは外部側に膨らむ。弁軸はダイヤフラムに固定されているので、ダイヤフラムが膨らむと弁軸も移動する。その結果、弁軸に設けられている弁体が弁口に近づき弁口の開度を狭めるので、1次圧が高くなっても弁口の下流側である2次室へのガスの流量が変動しない。逆に1次圧が減少するとダイヤフラムが1次室側へ変位し、弁軸を介して弁体が弁口から離れて弁口の開度を拡げるので、同じく2次室へのガスの流量は変動しない。 This type of conventional gas proportional valve variably adjusts the amount of gas passing through the valve port formed in the gas passage by moving the valve body forward and backward toward the valve port. The valve body is provided on the valve shaft, and the valve shaft is fixed to the center of the diaphragm. The diaphragm is provided between the primary chamber upstream of the valve port and the outside so as to isolate both. Therefore, when the pressure in the primary chamber, that is, the primary pressure changes to the high pressure side, the diaphragm swells to the outside. Since the valve shaft is fixed to the diaphragm, the valve shaft also moves when the diaphragm expands. As a result, the valve body provided on the valve shaft approaches the valve opening and narrows the opening of the valve opening. Therefore, even if the primary pressure increases, the gas flow rate to the secondary chamber downstream of the valve opening is reduced. Does not fluctuate. Conversely, when the primary pressure decreases, the diaphragm is displaced to the primary chamber side, and the valve body is separated from the valve port via the valve shaft to increase the opening of the valve port. Does not fluctuate.
このように、弁体は一定の流量になるようにフローティングされている。その状態で弁軸を別途の付勢力で付勢するとフローティングする位置が変わり、2次室への流量が変化する。そして、その変化後の流量が一定に保持される。このような1次圧が変動しても2次室への流量が変動しない作用をする機構がガバナ機構である。 Thus, the valve body is floated so as to have a constant flow rate. In this state, when the valve shaft is urged with a separate urging force, the floating position changes, and the flow rate to the secondary chamber changes. And the flow volume after the change is kept constant. A governor mechanism is a mechanism that operates so that the flow rate to the secondary chamber does not vary even when the primary pressure varies.
別途の付勢力としてプランジャ機構を用いて弁軸を付勢すれば、プランジャ機構を構成するソレノイドコイルへの通電量を増減することにより弁軸に対する付勢力を増減し、その結果、弁体のフローティングする位置が変化してガスの流量を増減することができる。 If the valve shaft is energized by using a plunger mechanism as a separate energizing force, the energizing force to the solenoid coil constituting the plunger mechanism is increased or decreased to increase or decrease the energizing force to the valve shaft. The position of the gas can be changed to increase or decrease the gas flow rate.
一方、例えばこのガス比例弁が組み込まれた給湯装置が室内に設置されている場合に、換気扇を使用するなどして室内の圧力が変化すると、ダイヤフラムを挟んで1次室に対向する外部の圧力が変化する。そのため、1次圧が変動していないにもかかわらず室内圧力が変化する度に弁口を通過するガス量が変動して望ましくない。 On the other hand, for example, when a hot water supply device incorporating this gas proportional valve is installed in a room and the pressure in the room changes due to the use of a ventilation fan or the like, the external pressure facing the primary chamber across the diaphragm Changes. Therefore, the amount of gas passing through the valve port varies every time the indoor pressure changes even though the primary pressure does not vary, which is not desirable.
そこで、ダイヤフラムを外部側からベース板で囲んで背圧室を形成し、その背圧室を、比較的圧力変動が少ない場所、例えば、燃焼用送風ファンの下流位置や燃焼室内に連通させて、室内などの外部圧力の変化がダイヤフラムに作用しないように構成されている(例えば、特許文献1参照)。 Therefore, a back pressure chamber is formed by surrounding the diaphragm with a base plate from the outside, and the back pressure chamber is communicated with a place where the pressure fluctuation is relatively small, for example, a downstream position of the combustion blower fan or the combustion chamber, It is configured so that a change in external pressure such as in a room does not act on the diaphragm (see, for example, Patent Document 1).
上記従来のガス比例弁では、背圧室を外部に連通させるための連通部がソレノイド部の頂部に形成されている。そのため、ソレノイド部の高さが高くなり、ガス比例弁全体が占めるスペースが大きくなるため、取付位置が制限される。そこで、その連通部をダイヤフラムとソレノイド部との間に設けて、ソレノイド部の高さを低くすることが考えられる。 In the conventional gas proportional valve, a communication portion for communicating the back pressure chamber to the outside is formed at the top of the solenoid portion. Therefore, the height of the solenoid portion is increased, and the space occupied by the entire gas proportional valve is increased, so that the mounting position is limited. In view of this, it is conceivable to reduce the height of the solenoid part by providing the communication part between the diaphragm and the solenoid part.
一方、ソレノイド部のソレノイドコイルには外部から通電するため端子を設け、その端子にコネクタを接続する必要があるが、この端子にコネクタを接続する方向と連通部を設ける位相とを一致させなければ、ソレノイド部の取り付けの自由度が制限される。すなわち、ガス比例弁を壁部に近接して取り付けると、その壁部を避けて3方向のいずれかからコネクタを接続し、かつ連通部にチューブを接続することができるが、連通部の位相が端子への接続方向に一致していなければ、端子への接続方向と連通部への接続方向の双方に障害物が無いような姿勢に制限されることになる。 On the other hand, the solenoid coil of the solenoid part must be provided with a terminal for energizing from the outside, and a connector must be connected to the terminal. The degree of freedom in mounting the solenoid part is limited. That is, when the gas proportional valve is attached close to the wall portion, the connector can be connected from any one of the three directions avoiding the wall portion, and the tube can be connected to the communication portion. If it does not coincide with the connection direction to the terminal, the posture is restricted so that there is no obstacle in both the connection direction to the terminal and the connection direction to the communication portion.
また、ソレノイド部を固定するための脚部は2方向に設ける必要があるが、脚部と連通部とを同じ位相に設けることができないので、脚部を設ける2方向と端子および連通部への接続方向との合計3方向が必要となる。ところが、ソレノイドコイルを両側から挟む磁路板は相互に磁路柱によって連結し閉磁路を形成する必要があるが、その磁路柱を設ける方向は残りの1方向の位置しか残らない。しかし、磁路柱が一カ所のみにしか設けられなければ、磁路柱の磁路面積を十分に確保できず、ソレノイド部の磁力が低下することになる。 Further, the leg portion for fixing the solenoid portion needs to be provided in two directions. However, since the leg portion and the communication portion cannot be provided in the same phase, the two directions in which the leg portion is provided and the terminal and the communication portion are connected. A total of three directions with the connection direction are required. However, the magnetic path plates sandwiching the solenoid coil from both sides need to be connected to each other by magnetic path columns to form a closed magnetic path, but the direction of providing the magnetic path columns remains only in the remaining one direction. However, if the magnetic path column is provided only in one place, the magnetic path area of the magnetic path column cannot be sufficiently secured, and the magnetic force of the solenoid portion is reduced.
そこで本発明は、上記の問題点に鑑み、連通部をソレノイド部とダイヤフラムとの間に設けて小型化を図る場合でも磁路柱の磁路面積を十分に確保することのできるガス比例弁を提供することを課題とする。 Therefore, in view of the above problems, the present invention provides a gas proportional valve that can sufficiently secure the magnetic path area of the magnetic path column even when the communication portion is provided between the solenoid portion and the diaphragm to reduce the size. The issue is to provide.
上記課題を解決するために本発明によるガス比例弁は、弁口の上流側に位置する1次室を外部に隔絶するダイヤフラムを設け、このダイヤフラムの中心に弁軸の後端を保持させ、この弁軸の先端を弁口を通して弁口の下流側に位置する2次室まで延設し、その弁軸に2次室内に位置するように弁体を形成すると共に、ダイヤフラムの全周を外部側から押さえてダイヤフラムとの間に背圧室を形成するベース板と、このベース板に、弁軸を2次室方向に付勢するプランジャ機構とを設けたガス比例弁において、このプランジャ機構は、ソレノイドコイルとソレノイドコイルを両端から挟む1対の磁路板とを有し、一方の磁路板と他方の磁路板との間を相互に連結する磁路柱を設け、上記一方の磁路板に、この磁路板をベース板に固定する1対の脚部を形成し、更に、上記背圧室を外部に連通させる連通部を上記一方の磁路板とベース板との間に設けるものであって、上記ソレノイドコイルに通電するための端子に接続する方向と連通部の位置とを同位相に設定し、その位相を原点として、左右90度位相の位置に上記1対の脚部を各々設けると共に、原点とこれら脚部を設けた位相とで挟まれる位置に各々上記磁路柱を設けたことを特徴とする。 In order to solve the above problems, the gas proportional valve according to the present invention is provided with a diaphragm that isolates the primary chamber located upstream of the valve port to the outside, and the rear end of the valve shaft is held at the center of the diaphragm. The tip of the valve shaft extends through the valve port to the secondary chamber located downstream of the valve port, and a valve body is formed on the valve shaft so as to be positioned in the secondary chamber, and the entire circumference of the diaphragm is externally In the gas proportional valve in which a base plate that forms a back pressure chamber between the diaphragm and the diaphragm and a plunger mechanism that urges the valve shaft toward the secondary chamber is provided on the base plate, the plunger mechanism includes: A magnetic path column having a solenoid coil and a pair of magnetic path plates sandwiching the solenoid coil from both ends, and connecting one magnetic path plate and the other magnetic path plate to each other; A pair of plates that fix the magnetic path plate to the base plate And a communication portion for connecting the back pressure chamber to the outside is provided between the one magnetic path plate and the base plate, and is connected to a terminal for energizing the solenoid coil. The direction and the position of the communication part are set to the same phase, the phase is set as the origin, and the pair of legs are provided at the positions of the left and right 90 ° phases, and sandwiched between the origin and the phase where these legs are provided. The magnetic path column is provided at each position.
従来の構造であれば一方の脚部を設けた位相に端子を設けることができるが、端子の位相に合わせて連通部を設けると脚部を設けることができない。そこで、ソレノイド部を中心として4方向のいずれかに磁路柱を形成するのでは無く、端子の位置と連通部の位置とを同位相に設定し、その位相を原点として、左右90度位相の位置に上記1対の脚部を各々設けると共に、原点とこれら脚部を設けた位相とで挟まれる位置に各々上記磁路柱を振り分けて設けることとした。1本の磁路柱の断面積は狭くなるが、磁路柱を2本設けることができるので、十分な断面積を確保することができる。 If it is a conventional structure, a terminal can be provided in the phase which provided one leg part, but if a communicating part is provided according to the phase of a terminal, a leg part cannot be provided. Therefore, instead of forming magnetic path pillars in any of the four directions around the solenoid part, the position of the terminal and the position of the communication part are set to the same phase, and the phase is the origin and the 90 ° Each of the pair of leg portions is provided at a position, and the magnetic path columns are separately provided at a position between the origin and the phase where the leg portions are provided. Although the cross-sectional area of one magnetic path column is reduced, two magnetic path columns can be provided, so that a sufficient cross-sectional area can be ensured.
上記連通部の具体的な構成の一例として、上記ベース板に形成された小孔と、この小孔と外部とを連通する連通部材とで連通部を構成すれば、背圧室を外部に対して連通させやすくなる。その際、この連通部材は上記ベース板と上記一方の磁路板とで挟むことによって保持されることが考えられる。 As an example of a specific configuration of the communication portion, if the communication portion is configured by a small hole formed in the base plate and a communication member that communicates the small hole and the outside, the back pressure chamber is connected to the outside. Making it easier to communicate. At this time, it is conceivable that the communication member is held by being sandwiched between the base plate and the one magnetic path plate.
なお、これら2本の磁路柱のみでは断面積を十分に確保できない場合には更に追加の磁路柱を設ける必要があるが、磁路柱の本数をむやみに増やすと、他方の磁路板を磁路柱に取り付ける際に、磁路柱の高さがそろわず、他方の磁路板と磁路柱との間に隙間が生じるおそれがある。そこで、上記原点に対して180度位相の位置に第3の磁路柱を形成し、3本の磁路柱で上記両磁路板を相互に連結させれば、磁路柱と他方の磁路板との間に隙間が生じない。 In addition, when it is not possible to secure a sufficient cross-sectional area with only these two magnetic path columns, it is necessary to provide additional magnetic path columns. However, if the number of magnetic path columns is increased unnecessarily, the other magnetic path plate When attaching to the magnetic path column, the magnetic path column does not have the same height, and there is a possibility that a gap may be formed between the other magnetic path plate and the magnetic path column. Therefore, if a third magnetic path column is formed at a position 180 degrees phase with respect to the origin and the magnetic path plates are connected to each other by three magnetic path columns, the magnetic path column and the other magnetic field column are connected. There is no gap between the road plate.
なお、磁路面積は広い方が望ましいので、上記原点と左右90度位相の位置とで挟まれる位置に形成した磁路柱からソレノイドコイルの周面に対向する翼部を延設し、この翼部と他方の磁路板との間で磁路を形成して、この磁路柱に流れる磁束を増加させるようにすることが望まれる。 Since a larger magnetic path area is desirable, a wing portion facing the circumferential surface of the solenoid coil is extended from a magnetic path column formed at a position sandwiched between the origin and the 90 ° phase position. It is desired that a magnetic path is formed between the magnetic path plate and the other magnetic path plate so that the magnetic flux flowing through the magnetic path column is increased.
以上の説明から明らかなように、本発明は、連通部をソレノイド部とダイヤフラムとの間に設けて小型化を図る場合でも磁路柱の磁路面積を十分に確保することができるので、ソレノイド部の高さを低くし、ガス比例弁を小型化することができる。 As is clear from the above description, the present invention can sufficiently secure the magnetic path area of the magnetic path column even when the communication portion is provided between the solenoid portion and the diaphragm to reduce the size. The height of the part can be lowered, and the gas proportional valve can be miniaturized.
図1を参照して、1は本発明によるガス比例弁の一例である。このガス比例弁1は上流に開閉弁Vが連結されており、開閉弁Vが開弁すると、その開閉弁Vを通過したガスの流量を調節して図示しない下流のガスバーナへと供給するものである。このガス比例弁1はソレノイド部2とマニホールド部3とから構成されている。
Referring to FIG. 1, 1 is an example of a gas proportional valve according to the present invention. The gas proportional valve 1 is connected to an on-off valve V upstream, and when the on-off valve V is opened, the flow rate of the gas passing through the on-off valve V is adjusted and supplied to a downstream gas burner (not shown). is there. This gas proportional valve 1 includes a
図2を参照して、マニホールド部3を構成するマニホールド31はアルミダイキャストで形成されており、内部にガスの通路となる弁口32が形成されている。そして、その弁口32を挟んで上流側に1次室301が形成され、下流部に2次室302が形成されている。従って、開閉弁Vが開弁状態になると、1次室301から2次室302へとガスが流れることになる。但し、1次室301側から2次室302に向かって弁口32を貫通する弁軸33が設けられており、その弁軸33の先端側、すなわち、2次室302内に位置する部分に弁体34が弁軸33に一体に形成されている。
With reference to FIG. 2, the
弁軸33が1次室301側に後退すると弁体34が弁口32の開口面積を狭めるので、弁口32を通過するガスの流量が減少する。逆に弁軸33が2次室302側に前進すると弁体34は弁口32から離れて弁口32の開口面積が拡がるので、ガスの流量は増加する。
When the
この弁軸33の後端部はダイヤフラム4の中心部分に取り付けられている。このダイヤフラム4は1次室301と外部とを隔絶するように取り付けられており、そのためダイヤフラム4の内側面には1次室301内の圧力、すなわち1次圧が作用する。そのため、1次圧が急に上昇するとダイヤフラム4は外側に膨張し、その結果弁軸33を図2において下方に移動させる。
The rear end portion of the
1次圧が上昇すれば弁口32を通過するガスの流量も増加するが、このように弁軸33が移動することにより弁体34が弁口32に接近して開口面積を狭めるので、流量が絞られ、その結果、2次室302へと流れるガス量は一定に保たれることになる。逆に1次圧が減少した場合には、ダイヤフラム4が1次室301側に変位して弁体34を弁口32から遠ざけて弁口32の開口面積を拡げるので、やはりガスの流量は一定に保たれる。但しこのままではガスの流量は一定に保たれるだけであり、流量を増減することができない。
If the primary pressure increases, the flow rate of the gas passing through the
そこで、ソレノイド部2によって弁軸33を図2において上方に付勢し、その付勢力を増減することによって弁体34がバランスする位置を変更し、ガスの流量を調節できるようにした。
Therefore, the
図2に更に図3および図4を加えて参照してソレノイド部2の構成を説明する。なお、図3および図4では図2に示したソレノイド部2の姿勢を上下反転させて示している。このソレノイド部2は中空のボビン22に巻回されたソレノイドコイル21を備えている。このボビン22は上下方向から2枚の磁路板6,61によって挟まれている。一方の磁路板6から1対の脚部60が突設されており、その脚部60によってベース板5に固定されている。このベース板5はダイヤフラム4の全周を押さえてダイヤフラムを固定するものであり、マニホールド31に4本のネジにより固定されている。
The configuration of the
ベース板5がダイヤフラム4を固定するとダイヤフラム4とベース板5との間に背圧室51が形成される。ベース板5には小孔52が形成されており、その小孔52には連通部材53が取り付けられている。そのため、背圧室51は連通部材53を介して外部に連通することになる。連通部材53には図示しないチューブが接続され、そのチューブの先は送風ファンの下流側もしくは燃焼室内に接続される。なお、磁路板61とプランジャ23との間の磁束の受け渡しを効率よく行うため、磁性体材料からなるカラーKを挿入した。また、ボビン22の内部にゴミなどが入らないように、カバー部材61aを設けた。
When the
連通部材53は磁路板6をベース板5に固定する際に磁路板6とベース板5との間に挟まれて固定されるように構成されている。なお、上記ソレノイドコイル21には図示しないコネクタが接続される端子25が設けられており、図3に示すように、連通部材53の取付部の位相と端子25の位相が一致するように設定した。
The
磁路板6からは他方の磁路板61に向かって延びる3本の磁路柱62,63,64が、プレス加工によって形成されている。上記端子25および連通部材53を設けた位相を0度(原点)として、脚部60は左右90度の位相の位置に形成した。そして、上記3本の磁路柱の内、2本の磁路柱62,63をほぼ45度の位相の位置、すなわち、端子25および連通部材53と各脚部60とによって挟まれる位置に設けた。そして、残りの磁路柱64を180度の位相の位置に設けた。
Three
45度位相の位置に形成した磁路柱62,63は斜めに形成されているので、ベース板5をマニホールド31に固定するネジの邪魔になることがなく、そのため、ベース板5を固定するネジの間隔を狭くすることができる。また、磁路柱62,63は磁路柱64よりも断面積が狭くなるが、2本の磁路柱62,63の断面積の合計は磁路柱64単独の断面積よりも広く設定することが可能であるので、磁路としては十分な断面積を確保することができ、磁路柱62,63で磁束が飽和して外部に漏洩することは無い。また、磁路柱を3本としたことにより、各磁路柱の高さが微妙にばらついても磁路板61を各磁路柱に対して隙間を作ること無く固定することができる。
Since the
ところで、上述のように磁路柱の断面積を十分に確保でき、磁路柱内で磁気飽和することは無いが、磁路板61と磁路柱との間に若干の隙間ができてしまい、その隙間が磁気抵抗となってうまく両者の間に磁束が流れないことが懸念される場合には、図5に示すように、磁路柱62から翼部62a,62bを延設し、磁路柱63からも同様に翼部63b(もう一方の翼部は図示せず)を形成して、磁路板61に対して対向する部分を増やすことによって流れる磁路を増加させることが望ましい。また、これらの翼部はソレノイドコイル21のガートとしても機能するので、ソレノイド部2をベース板5に予め固定した状態でベース板5をマニホールド31にねじ止めする際に、工具などがソレノイドコイル21に不用意に当たって断線するおそれを解消することができる。
By the way, as described above, a sufficient cross-sectional area of the magnetic path column can be secured, and magnetic saturation does not occur in the magnetic path column, but a slight gap is formed between the
なお、本発明は上記した形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の変更を加えてもかまわない。例えば、磁路柱63は磁路板6と別体に設けてもよく、また、連通部として、上記連通部材53を介在させずに外部(大気)と連通させる構成のものにも本発明を適用することができる。
In addition, this invention is not limited to an above-described form, You may add a various change in the range which does not deviate from the summary of this invention. For example, the
1 ガス比例弁
2 ソレノイド部
3 マニホールド部
4 ダイヤフラム
5 ベース板
6 磁路板
21 ソレノイドコイル
32 弁口
33 弁軸
34 弁体
51 背圧室
52 小孔
53 連通部材
60 脚部
61 磁路板
62,63,64 磁路柱
V 開閉弁
1 Gas
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012077930A JP5566416B2 (en) | 2012-03-29 | 2012-03-29 | Gas proportional valve |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012077930A JP5566416B2 (en) | 2012-03-29 | 2012-03-29 | Gas proportional valve |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013204804A JP2013204804A (en) | 2013-10-07 |
JP5566416B2 true JP5566416B2 (en) | 2014-08-06 |
Family
ID=49524099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012077930A Active JP5566416B2 (en) | 2012-03-29 | 2012-03-29 | Gas proportional valve |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5566416B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111255926A (en) * | 2020-01-19 | 2020-06-09 | 绍兴艾柯电气有限公司 | Gas proportional valve |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5874677U (en) * | 1981-11-16 | 1983-05-20 | タイム技研株式会社 | solenoid valve |
JPS5929915A (en) * | 1982-08-10 | 1984-02-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gas feeder |
JPS62168610U (en) * | 1986-04-15 | 1987-10-26 | ||
JPS63186083A (en) * | 1987-01-29 | 1988-08-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gas proportional valve device with stopping function |
JPH02145368U (en) * | 1989-05-12 | 1990-12-10 | ||
JP2736027B2 (en) * | 1995-04-19 | 1998-04-02 | シーケーディ株式会社 | Solenoid and solenoid valve |
JP2000310349A (en) * | 1999-04-24 | 2000-11-07 | Saginomiya Seisakusho Inc | Cartridge type solenoid valve |
JP4115436B2 (en) * | 2004-08-24 | 2008-07-09 | リンナイ株式会社 | Solenoid proportional valve |
-
2012
- 2012-03-29 JP JP2012077930A patent/JP5566416B2/en active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111255926A (en) * | 2020-01-19 | 2020-06-09 | 绍兴艾柯电气有限公司 | Gas proportional valve |
CN111255926B (en) * | 2020-01-19 | 2021-04-09 | 绍兴艾柯电气有限公司 | Gas proportional valve |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013204804A (en) | 2013-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010505204A5 (en) | Control assembly for pressure regulator and pressure regulator | |
US3886968A (en) | Flow control device | |
BR112016001415B1 (en) | flow regulating valve | |
TR201900273T4 (en) | Inhaler. | |
EP2898244B1 (en) | Fluid regulator and method of improving stability of a fluid regulator | |
WO2009155083A3 (en) | High flow proportional valve | |
RU2009113543A (en) | POSITIONING DEVICE FOR PRESSURE REGULATOR | |
RU2009147675A (en) | THREE-WAY VALVE WITH Pneumatic Actuator | |
RU2012140069A (en) | VALVE FOR REGULATING THE FLOW CHANNEL | |
JP2010530050A5 (en) | ||
JP2013525693A5 (en) | ||
WO2005080838A3 (en) | Diaphragm for pilot valve | |
JP2012525547A5 (en) | ||
JP5566416B2 (en) | Gas proportional valve | |
JP5751617B2 (en) | Magnetorheological fluid flow damping device | |
CA2575651A1 (en) | Pressure independent control valve | |
MX2018006589A (en) | Pin release thermal valve. | |
US20120279589A1 (en) | Configurable actuation-orientation valve | |
JP5473695B2 (en) | Motor safety valve | |
TWI490438B (en) | Adjustable flow of the gas solenoid valve | |
JP4842228B2 (en) | Electric valve unit device | |
TWM464562U (en) | Cold-hot water balance valve structure and cold-hot water valve having the cold-hot water balance valve structure | |
EP2664869B1 (en) | Refrigerating system and thermostatic expansion valve thereof | |
JP2012163162A (en) | Constant flow valve | |
JP5693522B2 (en) | Solenoid proportional valve |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130806 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140617 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140617 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5566416 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |