JP5564535B2 - Composition for forming transparent conductive film, transparent conductive film and antireflection film - Google Patents

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本発明は、透明導電膜形成用組成物及び該組成物から得られる硬化膜に関し、より詳しくは、多様な基材の表面に塗布し、又は印刷して硬化させることにより、帯電防止効果を有すると共に、色相吸収が可及的に少なくて膜の可視光透過率が非常に高く、しかも耐摩擦性にも優れた透明導電膜を形成し得る組成物、及びそのような組成物を用いて形成された透明導電膜や反射防止フィルムに関する。   The present invention relates to a composition for forming a transparent conductive film and a cured film obtained from the composition. More specifically, the present invention has an antistatic effect by being applied to the surface of various substrates or printed and cured. In addition, a composition capable of forming a transparent conductive film having as little hue absorption as possible, a very high visible light transmittance of the film, and excellent in friction resistance, and a composition formed using such a composition The present invention relates to a transparent conductive film and an antireflection film.

透明導電膜は、フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学部材等の用途において、帯電防止膜、反射防止膜等の部材として有用である為、注目されている。透明導電膜形成用組成物に添加する導電材料として、導電性フィラー、導電性高分子、4級アンモニウム塩等の界面活性剤、イオン液体等が用いられる。   Transparent conductive films are attracting attention because they are useful as members such as antistatic films and antireflection films in applications such as film-type liquid crystal elements, touch panels, and plastic optical members. As a conductive material added to the composition for forming a transparent conductive film, a conductive filler, a conductive polymer, a surfactant such as a quaternary ammonium salt, an ionic liquid, or the like is used.

従来、透明導電膜は、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、銀、ニッケル、又は金等の金属微粒子からなる導電材料をスパッタリング法、又は真空蒸着法で基材上に製膜することにより形成されていた。しかし、スパッタリング法や真空蒸着法を用いた透明導電膜の製造には、製造コストや環境負荷の問題がある。一方で、上記導電材料を含む塗料を基材に塗布して透明導電膜を形成する製法は、比較的簡便であるため、低コストで透明導電膜を作成することができ、この目的で用いられる導電材料含有塗料も数多く提案されている(例えば、特許文献1)。   Conventionally, a transparent conductive film is based on, for example, a conductive material made of fine metal particles such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, tin oxide, zinc oxide, silver, nickel, or gold by sputtering or vacuum deposition. It was formed by forming a film on the material. However, the production of a transparent conductive film using a sputtering method or a vacuum deposition method has problems of production cost and environmental load. On the other hand, a method for forming a transparent conductive film by applying a coating material containing the conductive material to a base material is relatively simple, and therefore, a transparent conductive film can be produced at low cost, and is used for this purpose. Many conductive material-containing paints have also been proposed (for example, Patent Document 1).

ところで、導電材料として金属微粒子を含む金属微粒子含有導電膜においては、金属微粒子の光透過スペクトルに依存して透過光に吸収が生じ、この透過光の吸収に起因して着色するという問題があった。また、酸化インジウム、ATO、ITO等の金属酸化物含有導電膜にも可視光域に吸収があり、高い可視光透過率が得られないといった問題がある。そのため、高透明かつ低抵抗な透明導電膜を得ることが困難であった。   By the way, in the conductive film containing metal fine particles including metal fine particles as the conductive material, there is a problem that absorption occurs in the transmitted light depending on the light transmission spectrum of the metal fine particles, and coloring occurs due to the absorption of the transmitted light. . In addition, metal oxide-containing conductive films such as indium oxide, ATO, and ITO also have a problem in that they have absorption in the visible light region and high visible light transmittance cannot be obtained. Therefore, it has been difficult to obtain a transparent conductive film having high transparency and low resistance.

一方で、導電性金属微粒子や導電性金属酸化物微粒子の代わりに、導電材料として界面活性剤又はイオン液体を用いた場合には、可視光域に吸収がほとんどない透明導電膜が得られるが、時間が経つに従い、界面活性剤又はイオン液体が膜の表面にブリードアウトするという別の問題があり、経時的に帯電防止性が低下してその持続性に劣るほか、帯電防止性が湿度に依存する等の問題もあった。   On the other hand, when a surfactant or an ionic liquid is used as the conductive material instead of the conductive metal fine particles or the conductive metal oxide fine particles, a transparent conductive film having almost no absorption in the visible light region can be obtained. There is another problem that the surfactant or ionic liquid bleeds out to the surface of the membrane as time goes by. The antistatic property deteriorates with time and deteriorates, and the antistatic property depends on humidity. There were also problems such as.

このような問題を解決する方法として、イオン液体含有無機微粒子を含む帯電防止性コーティング用組成物が提案されている(特許文献2)。しかしながら、この方法では、イオン液体含有無機微粒子を製造するために無機微粒子中にイオン液体を含有させるための製造工程が別途必要になり、製造方法が煩雑となるだけでなく、イオン液体が無機微粒子内に内包されてこのイオン液体の導電性が十分に発揮されないという問題がある。   As a method for solving such a problem, an antistatic coating composition containing ionic liquid-containing inorganic fine particles has been proposed (Patent Document 2). However, this method requires a separate manufacturing process for containing the ionic liquid in the inorganic fine particles in order to produce the ionic liquid-containing inorganic fine particles, which not only makes the manufacturing method complicated, but also the ionic liquid contains the inorganic fine particles. There is a problem that the conductivity of the ionic liquid is not sufficiently exhibited because it is contained inside.

特開2011-065,966号公報JP 2011-065,966 特開2009-013,198号公報JP 2009-013,198

そこで、本発明者らは、上記従来の透明導電膜における種々の課題を解決するために鋭意検討した結果、無機微粒子、分散安定剤、イオン液体及びバインダーを含む透明導電膜形成組成物を塗布して得られる透明導電膜において、特定の分散安定剤で安定化された無機微粒子が、イオン液体の膜表面へのブリードアウトを抑制する作用を示すことを見出し、本発明を完成するに至った。   Therefore, as a result of intensive studies to solve the various problems in the conventional transparent conductive film, the present inventors applied a transparent conductive film forming composition containing inorganic fine particles, a dispersion stabilizer, an ionic liquid and a binder. In the transparent conductive film obtained by the above, the present inventors have found that the inorganic fine particles stabilized with a specific dispersion stabilizer exhibit an action of suppressing bleed-out of the ionic liquid to the film surface, and have completed the present invention.

従って、本発明の目的は、複雑な製造工程を要せず、導電性、透明性及び耐水性に優れた透明導電膜を形成することができ、しかも、ブリードアウトの問題もない透明導電膜形成組成物を提供することにあり、また、この透明導電膜形成組成物を用いて作製された導電性、透明性及び耐水性に優れた透明導電膜や反射防止フィルムを提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to form a transparent conductive film which does not require a complicated manufacturing process, can form a transparent conductive film excellent in conductivity, transparency and water resistance, and has no bleed-out problem. The object is to provide a composition, and also to provide a transparent conductive film and an antireflection film which are produced using this transparent conductive film forming composition and are excellent in conductivity, transparency and water resistance.

すなわち、本発明は、無機微粒子(A)、分散安定剤(B)、イオン液体(C)及びバインダー(D)を含む透明導電膜形成用組成物である。   That is, this invention is a composition for transparent conductive film formation containing an inorganic fine particle (A), a dispersion stabilizer (B), an ionic liquid (C), and a binder (D).

本発明において、無機微粒子(A)としては、酸化チタン、チタン酸バリウム、酸化鉄、硫酸バリウム、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化インジウム、五酸化アンチモン、ITO、及びATOから選ばれる少なくとも1種類を挙げることができ、また、分散安定剤(B)としては、キレート剤及び金属錯体からなる群より選ばれる少なくとも1種類を挙げることができる。   In the present invention, the inorganic fine particles (A) include titanium oxide, barium titanate, iron oxide, barium sulfate, zinc sulfide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, cerium oxide, indium oxide, five At least one selected from antimony oxide, ITO, and ATO can be mentioned, and examples of the dispersion stabilizer (B) include at least one selected from the group consisting of chelating agents and metal complexes.

また、本発明の透明導電膜形成用組成物は、好ましくは、無機微粒子(A)100質量部当り、分散安定剤(B)の含有量が2〜45質量部であり、バインダー(D)の含有量が10〜1000質量部であり、イオン液体(C)の含有量が無機微粒子(A)と分散安定剤(B)とバインダー(D)の合計量(A+B+D)に対して0.001〜30質量%である。   Moreover, the composition for forming a transparent conductive film of the present invention preferably has a dispersion stabilizer (B) content of 2 to 45 parts by mass per 100 parts by mass of the inorganic fine particles (A), and the binder (D). The content is 10 to 1000 parts by mass, and the content of the ionic liquid (C) is 0.001 to the total amount (A + B + D) of the inorganic fine particles (A), the dispersion stabilizer (B), and the binder (D). 30% by mass.

そして、本発明は、上記透明導電膜形成用組成物を基材上に塗布し又は印刷し、硬化させて得られる透明導電膜であり、好ましくは、屈折率1.45〜1.90、光透過率80%以上、ヘイズ2.0%以下、及び表面抵抗値1×1014Ω/□以下の透明導電膜であり、また、上記透明導電膜形成用組成物を用いて作製された反射防止フィルムである。 And this invention is a transparent conductive film obtained by apply | coating or printing the said composition for transparent conductive film on a base material, or making it harden | cure, Preferably, refractive index 1.45-1.90, light It is a transparent conductive film having a transmittance of 80% or more, a haze of 2.0% or less, and a surface resistance value of 1 × 10 14 Ω / □ or less, and an antireflection produced using the transparent conductive film forming composition. It is a film.

本発明の透明導電膜形成用組成物は、複雑な製造工程を要せず、導電性、透明性及び耐水性に優れた透明導電膜を形成することが可能である。また、無機微粒子の相対的な配合量を調整することにより得られる屈折率の制御が可能であり、光学分野は勿論のこと、その他さまざまな用途においても好適に適用することができる。   The composition for forming a transparent conductive film of the present invention does not require a complicated manufacturing process and can form a transparent conductive film excellent in conductivity, transparency and water resistance. Moreover, the refractive index obtained by adjusting the relative compounding amount of the inorganic fine particles can be controlled, and can be suitably applied not only to the optical field but also to various other uses.

以下、本発明の透明導電膜形成用組成物について、より詳細にかつ具体的に説明する。   Hereinafter, the composition for forming a transparent conductive film of the present invention will be described in more detail and specifically.

本発明で用いられる無機微粒子(A)は、透明導電膜の膜硬度向上又は膜屈折率を制御する等、種々の目的をもって添加される。そのような無機微粒子としては、従来公知の無機微粒子を使用することができ、例えば、酸化チタン、チタン酸バリウム、酸化鉄、硫酸バリウム、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化インジウム、ITO、ATO、五酸化アンチモン等を挙げることができる。これらの無機微粒子のうち、高透明性の点から、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、五酸化アンチモンがより好ましい。また、これら無機微粒子の一次粒子径については、0.2μm以下の無機微粒子であることが好ましく、0.2μm以上であると膜が白く濁り易い。   The inorganic fine particles (A) used in the present invention are added for various purposes such as improving the film hardness of the transparent conductive film or controlling the film refractive index. As such inorganic fine particles, conventionally known inorganic fine particles can be used. For example, titanium oxide, barium titanate, iron oxide, barium sulfate, zinc sulfide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, silicon oxide, Examples thereof include aluminum oxide, cerium oxide, indium oxide, ITO, ATO, and antimony pentoxide. Of these inorganic fine particles, zirconium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, and antimony pentoxide are more preferable from the viewpoint of high transparency. The primary particle diameter of these inorganic fine particles is preferably 0.2 μm or less, and if it is 0.2 μm or more, the film tends to be white and cloudy.

本発明で用いる分散安定剤(B)としては、金属錯体又はキレート剤が挙げられる。   Examples of the dispersion stabilizer (B) used in the present invention include metal complexes and chelating agents.

ここで、金属錯体としては、ジルコニウム、チタン、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、バナジウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム、錫及び白金からなる群から選ばれる金属、好ましくは分散液の色味が少ない点でジルコニウム、チタン、アルミニウム、亜鉛、インジウム及び錫からなる群から選ばれる少なくとも1種類の金属と、β-ジケトンからなる群から選ばれる配位子、好ましくは、ピバロイルトリフルオルアセトン、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセトン及び、ヘキサフルオルアセチルアセトンからなる群から選ばれる少なくとも1種類の配位子とからなる金属錯体を挙げることができる。   Here, the metal complex is a metal selected from the group consisting of zirconium, titanium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, vanadium, aluminum, zinc, indium, tin and platinum, preferably the color of the dispersion. A ligand selected from the group consisting of at least one metal selected from the group consisting of zirconium, titanium, aluminum, zinc, indium and tin and a β-diketone, preferably pivaloyltrifluoroacetone And a metal complex composed of at least one ligand selected from the group consisting of acetylacetone, trifluoroacetylacetone, and hexafluoroacetylacetone.

また、キレート剤としては、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等のポリアミン類や、ジピバロイルメタン、ピバロイルトリフルオルアセトン、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセトン、ヘキサフルオルアセチルアセトン等のβ-ジケトン類や、ジメチルグリオキシム、オキシン、イミノジ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、蓚酸等を挙げることができ、好ましくは、ジピバロイルメタン、ピバロイルトリフルオルアセトン、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセトン、ヘキサフルオルアセチルアセトン等のβ-ジケトン類である。   Examples of the chelating agent include polyamines such as ethylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine; β-diketones such as dipivaloylmethane, pivaloyltrifluoroacetone, acetylacetone, trifluoroacetylacetone, and hexafluoroacetylacetone; Dimethylglyoxime, oxine, iminodiacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, succinic acid, etc., preferably dipivaloylmethane, pivaloyltrifluoroacetone, acetylacetone, trifluoroacetylacetone, hexafluoroacetylacetone, etc. β-diketones.

本発明の透明導電膜形成用組成物において、これら分散安定剤(B)の配合量については、前記無機微粒子(A)100質量部当り、2質量部以上45質量部以下、好ましくは5質量部以上20質量部以下であるのがよい。2質量部より少ない場合には無機微粒子を分散安定化させることが難しく、イオン液体の膜へのブリードアウトを抑制することも困難となる。一方、45質量部より多い場合には分散安定剤が透明導電膜形成用組成物に溶解しきれずに沈殿する傾向がある。   In the composition for forming a transparent conductive film of the present invention, the amount of the dispersion stabilizer (B) is 2 to 45 parts by mass, preferably 5 parts by mass per 100 parts by mass of the inorganic fine particles (A). The amount is preferably 20 parts by mass or less. When the amount is less than 2 parts by mass, it is difficult to disperse and stabilize the inorganic fine particles, and it is difficult to suppress bleed out of the ionic liquid to the film. On the other hand, when it is more than 45 parts by mass, the dispersion stabilizer tends to precipitate without being completely dissolved in the composition for forming a transparent conductive film.

また、本発明においては、透明導電膜形成用組成物の保存安定性をより向上させる目的で、上記の分散安定剤(B)に加えて、更に分散助剤として他の分散剤を添加してもよい。そのような分散助剤の種類については、特に限定されないが、好ましくは、ポリオキシエチレンアルキル構造を有するリン酸エステル系ノニオン型分散剤を挙げることができる。   In the present invention, in order to further improve the storage stability of the composition for forming a transparent conductive film, in addition to the above dispersion stabilizer (B), another dispersant is further added as a dispersion aid. Also good. The type of such a dispersion aid is not particularly limited, but preferably, a phosphate ester-based nonionic dispersant having a polyoxyethylene alkyl structure can be mentioned.

更に、本発明で用いられるバインダー(D)は、一般的に塗料で用いられている任意のバインダーを、特に制限無く用いることができる。好ましくは、活性エネルギー線硬化性バインダーであることが好ましい。   Furthermore, the binder (D) used by this invention can use the arbitrary binder generally used with the coating material without a restriction | limiting especially. Preferably, it is an active energy ray-curable binder.

このようなバインダー(D)としては、例えば、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フタル酸樹脂、アミノ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアクリルシリコーン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、若しくは、これらを変性したバインダー樹脂等を例示することができ、その1種のみを単独で、若しくは2種類以上を併用して用いることができる。   Examples of such binder (D) include alkyd resin, polyester resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, acrylic resin, epoxy resin, phenol resin, vinyl resin, silicone resin, fluorine resin, phthalic acid resin, amino resin. , Polyamide resin, polyacryl silicone resin, melamine resin, urea resin, binder resin modified by these, etc. can be exemplified, and only one of them can be used alone or in combination of two or more. it can.

更に、上記バインダー中には、必要に応じて架橋剤を含有させてもよく、このような架橋剤としては、例えば、アミノ基等の塩基性官能基、OH基等の中性官能基、カルボキシル基等の酸性官能基、イソシアネート基等の反応性官能基を1分子中に2つ以上有する任意のものを挙げることができる。   Furthermore, the binder may contain a crosslinking agent as necessary. Examples of such a crosslinking agent include basic functional groups such as amino groups, neutral functional groups such as OH groups, carboxyls, and the like. An arbitrary functional group having two or more reactive functional groups such as an isocyanate functional group such as an isocyanate group in one molecule can be exemplified.

ここで、上記バインダー(D)は、ラジカル重合性モノマーであってもよく、ラジカル重合性の不飽和基(α、β-エチレン性不飽和基)を有しているモノマーであれば、アミノ基等の塩基性官能基を有するもの、OH基等の中性官能基を有するもの、カルボキシル基等の酸性官能基を有するもの、或いは、このような官能基を有していないもののいずれでもよい。   Here, the binder (D) may be a radical polymerizable monomer, and if it is a monomer having a radical polymerizable unsaturated group (α, β-ethylenically unsaturated group), an amino group Any of those having a basic functional group such as those having a neutral functional group such as an OH group, those having an acidic functional group such as a carboxyl group, or those not having such a functional group may be used.

本発明において、バインダー(D)として用い得る活性エネルギー線硬化性バインダーとしては、例えばアクリレート又はメタクリレート化合物を始めとしてその他に、ラジカル重合性モノマー、ラジカル重合性オリゴマー等を挙げることができる。ここで、ラジカル重合性モノマーは、ラジカル重合性不飽和基(α,β-エチレン性不飽和基)を有しているモノマーであれば、アミノ基等の塩基性官能基を有するもの、OH基等の中性官能基を有するもの、カルボキシル基等の酸性官能基を有するもの、或いは官能基を有していないものの何れでもよい。   In the present invention, examples of the active energy ray-curable binder that can be used as the binder (D) include an acrylate or methacrylate compound, a radical polymerizable monomer, and a radical polymerizable oligomer. Here, if the radical polymerizable monomer is a monomer having a radical polymerizable unsaturated group (α, β-ethylenically unsaturated group), one having a basic functional group such as an amino group, an OH group Any of those having a neutral functional group such as those having an acidic functional group such as a carboxyl group, or those having no functional group may be used.

前記ラジカル重合モノマーの具体例としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、N-ビニルピロリドン、アクリロニトリル、アリルアルコール等のアクリレート又はメタクリレート以外のラジカル重合性モノマーや、メチルアクリレート又はメチルメタクリレート、エチルアクリレート又はエチルメタクリレート、イソプロピルアクリレート又はイソプロピルメタクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート又は2-エチルヘキシルメタクリレート、ブチルアクリレート又はブチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート又はシクロヘキシルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート又はテトラヒドロフルフリルメタクリレート、N-ビニルピロリドン、2-ヒドロキシエチルアクリレート又は2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート又は2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート又はポリエチレングリコールモノメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノアクリレート又はメトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレート又はポリプロピレングリコールモノメタクリレート、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノアクリレート又はポリエチレングリコールポリプロピレングリコールモノメタクリレート、ポリエチレングリコールポリテトラメチレングリコールモノアクリレート又はポリエチレングリコールポリテトラメチレングリコールモノメタクリレート、グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレート等の単官能アクリレート又はメタクリレートや、エチレングリコールジアクリレート又はエチレングリコールメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート又はジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート又はトリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート又はテトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート又はポリエチレンジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート又はポリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート又はネオペンチルグリコールジメタクリレート、アリルジアクリレート又はアリルジメタクリレート、ビスフェノールAジアクリレート又はビスフェノールAジメタクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート又はエチレンオキサイド変性ビスフェノールメタクリレート、ポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート又はポリエチレンオキサイド変性ビスフェノールAジメタクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート又はエチレンオキサイド変性ビスフェノールAジメタクリレート、ビスフェノールSジアクリレート又はビスフェノールSジメタクリレート、1,4-ブタンジオールSジアクリレート又は1,4-ブタンジオールSジメタクリレート、1,3-ブチレングリコールジアクリレート又は1,3-ブチレングリコールジメタクリレート等の二官能アクリレート又はメタクリレートや、トリメチロールプロパントリアクリレート又はトリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセロールトリアクリレート又はグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート又はペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート又はペンタエリスリトールテトラメタクリレート、エチレン変性トリメチロールプロパントリアクリレート又はエチレン変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート又はジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等の三官能以上のアクリレート及びメタクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of the radical polymerization monomer include, for example, radical polymerizable monomers other than acrylate or methacrylate such as styrene, vinyl toluene, vinyl acetate, N-vinyl pyrrolidone, acrylonitrile, allyl alcohol, methyl acrylate or methyl methacrylate, ethyl acrylate. Or ethyl methacrylate, isopropyl acrylate or isopropyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate or 2-ethylhexyl methacrylate, butyl acrylate or butyl methacrylate, cyclohexyl acrylate or cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate or tetrahydrofurfuryl methacrylate, N-vinylpyrrolidone, 2-hydroxy Ethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate Chryrate, 2-hydroxypropyl acrylate or 2-hydroxypropyl methacrylate, polyethylene glycol monoacrylate or polyethylene glycol monomethacrylate, methoxypolyethylene glycol monoacrylate or methoxypolyethylene glycol monomethacrylate, polypropylene glycol monoacrylate or polypropylene glycol monomethacrylate, polyethylene glycol polypropylene glycol Monoacrylate or polyethylene glycol Polypropylene glycol monomethacrylate, polyethylene glycol polytetramethylene glycol monoacrylate or polyethylene glycol polytetramethylene glycol monomethacrylate, glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate Monofunctional acrylates or methacrylates such as acrylate, ethylene glycol diacrylate or ethylene glycol methacrylate, diethylene glycol diacrylate or diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol diacrylate or triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate or tetraethylene glycol dimethacrylate , Polyethylene glycol diacrylate or polyethylene dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate or polypropylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate or neopentyl glycol dimethacrylate, allyl diacrylate or allyl dimethacrylate, bisphenol A di Chryrate or bisphenol A dimethacrylate, ethylene oxide modified bisphenol A diacrylate or ethylene oxide modified bisphenol methacrylate, polyethylene oxide modified bisphenol A diacrylate or polyethylene oxide modified bisphenol A dimethacrylate, ethylene oxide modified bisphenol A diacrylate or ethylene oxide modified bisphenol A Dimethacrylate, bisphenol S diacrylate or bisphenol S dimethacrylate, 1,4-butanediol S diacrylate or 1,4-butanediol S dimethacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate or 1,3-butylene glycol dimethacrylate Bifunctional acrylate or methacrylate such as trimethylol group Pantriacrylate or trimethylolpropane trimethacrylate, glycerol triacrylate or glycerol trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate or pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate or pentaerythritol tetramethacrylate, ethylene modified trimethylolpropane triacrylate or ethylene modified trimethylol Mention may be made of trifunctional or higher functional acrylates and methacrylates such as propane trimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or dipentaerythritol hexamethacrylate.

また、前記ラジカル重合オリゴマーの具体例としては、例えば、ポリエステルアクリレート又はポリエステルメタクリレート、ポリウレタンアクリレート又はポリウレタンメタクリレート、エポキシアクリレート又はエポキシメタクリレート、ポリエーテルアクリレート又はポリエーテルメタクリレート、オリゴアクリレート又はオリゴメタクリレート、アルキドアクリレート又はアルキドメタクリレート、ポリオールアクリレート又はポリオールメタクリレート、シリコーンアクリレート又はシリコーンメタクリレート等のアクリロイル基又はメタクリロイル基を少なくとも1個有するプレポリマーを挙げることができる。特に好ましいラジカル重合オリゴマーは、ポリエステル、エポキシ、ポリウレタンの各アクリレート又はメタクリレートである。   Specific examples of the radical polymerization oligomer include, for example, polyester acrylate or polyester methacrylate, polyurethane acrylate or polyurethane methacrylate, epoxy acrylate or epoxy methacrylate, polyether acrylate or polyether methacrylate, oligoacrylate or oligomethacrylate, alkyd acrylate or alkyd. Mention may be made of prepolymers having at least one acryloyl group or methacryloyl group such as methacrylate, polyol acrylate or polyol methacrylate, silicone acrylate or silicone methacrylate. Particularly preferred radical polymerization oligomers are polyester, epoxy, polyurethane acrylates or methacrylates.

本発明において、前記バインダー(D)の配合量は、好ましくは無機微粒子(A)100質量部当り、10質量部以上1000質量部以下、より好ましくは20質量部以上400質量部以下である。10質量部より少ないと、基材との密着性が低下し易い傾向があり、反対に、1000質量部より多い場合には、無機微粒子の添加効果が得られ難い傾向がある。   In the present invention, the blending amount of the binder (D) is preferably 10 parts by mass or more and 1000 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or more and 400 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the inorganic fine particles (A). When the amount is less than 10 parts by mass, the adhesion to the substrate tends to be lowered, and when the amount is more than 1000 parts by mass, the effect of adding inorganic fine particles tends to be difficult to obtain.

本発明において、バインダー(D)として活性エネルギー線硬化性バインダーを用いる場合には、有用な活性エネルギー線硬化型とするため、組成物中に重合開始剤及び/又は光増感剤を添加することが望ましい。重合開始剤や光増感剤の添加により、少量の活性エネルギー線の照射で組成物を硬化させることができる。但し、本発明の透明導電膜形成用組成物については、それが熱硬化させることができる場合であって、バインダー(D)を熱硬化型バインダーとして使用する場合には、光増感剤に変えて適当なラジカル重合開始剤(例えば、アゾビスイソブチロニトリル)を配合してもよい。   In the present invention, when an active energy ray-curable binder is used as the binder (D), a polymerization initiator and / or a photosensitizer is added to the composition in order to obtain a useful active energy ray-curable binder. Is desirable. By adding a polymerization initiator or a photosensitizer, the composition can be cured by irradiation with a small amount of active energy rays. However, the composition for forming a transparent conductive film of the present invention is a case where it can be thermally cured, and when the binder (D) is used as a thermosetting binder, it is changed to a photosensitizer. A suitable radical polymerization initiator (for example, azobisisobutyronitrile) may be blended.

このような目的で用いられる重合開始剤としては、例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、ベンジルジメメチルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、p-クロロベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4-メチルジフェニルサルファイド、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-ブタノン-1,2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパノン-1等を挙げることができる。重合開始剤は1種のみを単独で用いても、また、2種以上を併用してもよい。   Examples of the polymerization initiator used for such purpose include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone, benzyl dimethyl methyl ketone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, p-chlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl. Mention of sulfide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1, etc. Can do. A polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

本発明において、このような目的で用いられる重合開始剤の配合量は、通常、バインダー(D)100質量部当り、0.1〜20質量部である。   In this invention, the compounding quantity of the polymerization initiator used for such a purpose is 0.1-20 mass parts normally per 100 mass parts of binders (D).

なお、本発明の透明導電膜形成用組成物には、その目的を損なわない範囲内で、上記以外の慣用の各種添加剤を配合してもよい。このような添加剤としては、例えば、重合禁止剤、硬化触媒、酸化防止剤、レベリング剤等を挙げることができる。   In addition, you may mix | blend various conventional additives other than the above in the range which does not impair the objective in the composition for transparent conductive film formation of this invention. Examples of such additives include a polymerization inhibitor, a curing catalyst, an antioxidant, and a leveling agent.

更に、本発明で用いられるイオン液体(C)は、一般的に用いられている任意のイオン液体を、特に制限無く用いることができる。本発明に用いられるイオン液体は、室温を含む幅広い温度領域で溶融状態を呈する塩である。好ましくは、本発明の透明導電膜形成用組成物に用いられるバインダー(D)や分散安定剤(B)と相溶性を有する物が好ましい。   Furthermore, as the ionic liquid (C) used in the present invention, any commonly used ionic liquid can be used without particular limitation. The ionic liquid used in the present invention is a salt that exhibits a molten state in a wide temperature range including room temperature. Preferably, the thing compatible with the binder (D) and dispersion stabilizer (B) used for the composition for transparent conductive film formation of this invention is preferable.

ここで、イオン液体を構成するカチオンとしては、例えば、アンモニウム系、ピリジニウム系、イミダゾリウム系、ピロリジニウム系、ピペリジニウム系、ピラゾリウム系、グアニジニウム系等の有機窒素系カチオンや、ホスホニウム系等の有機リン系カチオン、スルホニウム系等の有機硫黄系カチオン等を挙げることができるが、これらに制限されるものではない。特に、導電性及び耐水性の点から、有機窒素系カチオン又は有機リン系カチオンがより好ましい。また、上記のイオン液体は一種のみを単独で用いることも、また、二種以上を併用することもできる。   Here, as a cation constituting the ionic liquid, for example, ammonium-based, pyridinium-based, imidazolium-based, pyrrolidinium-based, piperidinium-based, pyrazolium-based, organic nitrogen-based cations, phosphonium-based organic phosphorus-based, etc. Although organic sulfur type cations, such as a cation and a sulfonium type | system | group, can be mentioned, It is not restrict | limited to these. In particular, from the viewpoint of conductivity and water resistance, an organic nitrogen cation or an organic phosphorus cation is more preferable. Moreover, said ionic liquid can be used individually by 1 type, and can also use 2 or more types together.

また、イオン液体を構成するアニオンとしては、例えば、臭化物イオンやビス(トリフルオロメタンスルホン酸)イミド等のハロゲン系、テトラフルオロボレート等のホウ素系、ヘキサフルオロホスフェート等のリン系等を挙げることができるが、これらに制限されるものではない。   Examples of the anion constituting the ionic liquid include halogens such as bromide ions and bis (trifluoromethanesulfonic acid) imide, borons such as tetrafluoroborate, and phosphoruss such as hexafluorophosphate. However, it is not limited to these.

本発明において、前記イオン液体(C)の配合量は、無機微粒子(A)と分散安定剤(B)とバインダー(D)の合計量に対して、好ましくは0.001質量%以上30質量%以下、より好ましくは0.001質量%以上25質量%以下である。このイオン液体(C)の配合量が0.001質量%より少ないと、イオン液体の添加効果が得られ難く、反対に、30質量%より多い場合には、膜の透明性が低下する傾向があり、更に膜表面へのブリードアウトが顕著となり、耐水性も低下する傾向がある。   In the present invention, the blending amount of the ionic liquid (C) is preferably 0.001% by mass to 30% by mass with respect to the total amount of the inorganic fine particles (A), the dispersion stabilizer (B), and the binder (D). Hereinafter, it is more preferably 0.001% by mass to 25% by mass. When the amount of the ionic liquid (C) is less than 0.001% by mass, it is difficult to obtain the effect of adding the ionic liquid. On the other hand, when the amount is more than 30% by mass, the transparency of the film tends to decrease. Furthermore, bleeding out to the surface of the film becomes remarkable, and the water resistance tends to decrease.

本発明の透明導電膜形成用組成物には、適宜、分散媒を配合してもよい。分散媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、2-ブタノール、オクタノール等のアルコール類や、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン等のケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ-ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類や、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類や、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類や、ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類等を挙げることができる。それらの中でも、エタノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、2-ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、エチルベンゼンが好ましく、メチルエチルケトン、ブタノール、キシレン、エチルベンゼン、トルエンがより好ましい。本発明においては、分散媒として一種のみを単独で用いることも、また、二種以上を併用することもできる。   You may mix | blend a dispersion medium with the composition for transparent conductive film formation of this invention suitably. Examples of the dispersion medium include alcohols such as water, methanol, ethanol, isopropanol, normal butanol, 2-butanol, octanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone. Ketones such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone, esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether, , Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and ethylbenzene, and amides such as dimethylformamide, N, N-dimethylacetoacetamide and N-methylpyrrolidone And the like. Among them, ethanol, isopropanol, normal butanol, 2-butanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethyl acetate, butyl acetate, toluene, xylene, and ethylbenzene are preferable, and methyl ethyl ketone Butanol, xylene, ethylbenzene, and toluene are more preferable. In the present invention, only one type of dispersion medium can be used alone, or two or more types can be used in combination.

本発明の透明膜形成用組成物については、前記の無機微粒子(A)、分散安定剤(B)、イオン液体(C)及びバインダー(D)を任意の順序で又は同時に添加し、充分に混合することにより製造することができる。分散媒は必要に応じ適宜添加することができる。具体的には、例えば、分散安定剤及びイオン液体を混合した溶液、あるいは更に必要に応じて分散媒を加えて希釈した溶液中に、無機微粒子を添加して分散させ、次いでバインダーを添加する方法や、無機微粒子、分散安定剤、イオン液体及びバインダーを、更に必要に応じて分散媒を添加し同時に混合し分散させる方法や、無機微粒子及び分散安定剤を、更に必要に応じて分散媒をを加えて混合し分散させた後に、イオン液体及びバインダーを添加する方法が挙げられるが、これらに限定されるものではない。上記の分散操作については、常法により、ペイントシェーカー、ボールミル、サンドミル、セントリミル、又は三本ロール等によって行なうことができる。   For the composition for forming a transparent film of the present invention, the inorganic fine particles (A), the dispersion stabilizer (B), the ionic liquid (C) and the binder (D) are added in any order or simultaneously and mixed thoroughly. Can be manufactured. A dispersion medium can be added as needed. Specifically, for example, a method of adding and dispersing inorganic fine particles in a solution in which a dispersion stabilizer and an ionic liquid are mixed, or a solution diluted by adding a dispersion medium as necessary, and then adding a binder. In addition, the inorganic fine particles, the dispersion stabilizer, the ionic liquid and the binder may be further mixed with a dispersion medium if necessary, and mixed and dispersed at the same time. The inorganic fine particles and the dispersion stabilizer may be further mixed with a dispersion medium as necessary. In addition, there is a method of adding an ionic liquid and a binder after mixing and dispersing, but is not limited thereto. About said dispersion | distribution operation, it can carry out with a paint shaker, a ball mill, a sand mill, a sentry mill, or a three roll etc. by a conventional method.

本発明の透明導電膜形成用組成物が塗布され、又は、印刷されて表面に本発明の透明導電膜が形成される基材としては、電子機器を始めとして、様々な分野において広く用いられている各種の合成樹脂、ガラス、セラミック等で形成された各種の材料を挙げることができ、これらはシート状、フィルム状、板状等の任意の形状であり得る。合成樹脂の具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、及びフェノール樹脂等を挙げることができるが、これらに制限されるものでは無い。   The substrate on which the transparent conductive film-forming composition of the present invention is applied or printed to form the transparent conductive film of the present invention on the surface is widely used in various fields including electronic equipment. And various materials formed of various synthetic resins, glass, ceramics, and the like, and these may be any shape such as a sheet, a film, and a plate. Specific examples of the synthetic resin include, but are not limited to, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, acrylic resin, methacrylic resin, polyvinyl chloride, polyester resin, polyamide resin, and phenol resin.

また、本発明の透明導電膜形成用組成物を前記基材の表面に塗布し又は印刷する方法としては、常法により、例えば、ロールコート、スピンコート、スクリーン印刷等の手法で行うことができる。その後、バインダーが活性エネルギー線硬化型でない場合は、必要により加熱して溶剤を蒸発させ、塗膜を乾燥させて硬化させる。また、バインダーが活性エネルギー線硬化型である場合には、必要により加熱して溶剤を蒸発させ、塗膜を乾燥させ、次いで活性エネルギー線(紫外線又は電子線)を照射する。ここで、活性エネルギー線源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー、色素レーザー等の紫外線源、並びに電子線加速装置を使用することができ、その照射量は、紫外線の場合には50〜3000mJ/cm2の範囲内が、また、電子線の場合には0.2〜1000μC/ cm2の範囲内が適当である。 In addition, as a method for applying or printing the transparent conductive film forming composition of the present invention on the surface of the substrate, it can be performed by a conventional method, for example, a method such as roll coating, spin coating, or screen printing. . Thereafter, if the binder is not an active energy ray curable type, the solvent is evaporated by heating if necessary, and the coating film is dried and cured. When the binder is an active energy ray curable type, the solvent is evaporated by heating if necessary, the coating film is dried, and then the active energy ray (ultraviolet ray or electron beam) is irradiated. Here, as the active energy ray source, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, an excimer laser, a dye laser, or an ultraviolet ray source, and an electron beam accelerator can be used. in the case of in the range of 50 to 3000 mJ / cm 2, but also, in the case of the electron beam is suitably in the range of 0.2~1000μC / cm 2.

本発明の透明導電膜形成用組成物を硬化させて得られる透明導電膜の膜厚については、好ましくは0.1μm以上10.0μm以下の範囲内、より好ましくは0.3μm以上5.0μm以下の範囲内であるのがよく、無機微粒子が硬化膜内で均一に分散していて、光透過率が80%以上、好ましくは83%以上であり、ヘイズが2.0%以下、好ましくは1.5%以下であり、また、表面抵抗値が1×1014Ω/□以下、好ましくは1×1012Ω/□以下であるのがよく、透明性、導電性の持続性、耐水性に優れる。 About the film thickness of the transparent conductive film obtained by hardening the composition for transparent conductive film formation of this invention, Preferably it exists in the range of 0.1 to 10.0 micrometer, More preferably, 0.3 to 5.0 micrometer The inorganic fine particles are uniformly dispersed in the cured film, the light transmittance is 80% or more, preferably 83% or more, and the haze is 2.0% or less, preferably 1 0.5% or less, and the surface resistance value should be 1 × 10 14 Ω / □ or less, preferably 1 × 10 12 Ω / □ or less, in terms of transparency, electrical conductivity, and water resistance. Excellent.

また、本発明においては、無機微粒子の量とバインダーの量との比率を調整することにより、透明導電膜の屈折率の制御が可能であり、具体的には屈折率を1.45〜1.90の範囲で制御することが可能である。ここで、屈折率を比較的低い値に制御するためには無機微粒子とバインダーとの配合比率をバインダーの方向に調整すればよく、反対に、屈折率を比較的高い値に制御するためにはこの配合比率を無機微粒子の方向に調整すればよい。
また、透明導電膜の屈折率は、無機微粒子及びバインダーの屈折率にも影響されるため、無機微粒子の量とバインダーの量との比率を制御するだけでなく、無機微粒子及びバインダーの種類を最適に選択しても良い。
In the present invention, the refractive index of the transparent conductive film can be controlled by adjusting the ratio between the amount of the inorganic fine particles and the amount of the binder. Specifically, the refractive index is 1.45-1. It is possible to control in the range of 90. Here, in order to control the refractive index to a relatively low value, the blending ratio of the inorganic fine particles and the binder may be adjusted in the direction of the binder. On the contrary, in order to control the refractive index to a relatively high value. This blending ratio may be adjusted in the direction of the inorganic fine particles.
In addition, since the refractive index of the transparent conductive film is also affected by the refractive index of the inorganic fine particles and the binder, not only the ratio of the amount of the inorganic fine particles and the amount of the binder is controlled, but also the types of the inorganic fine particles and the binder are optimal. You may choose.

以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明の内容をより具体的に説明する。ここで、実施例及び比較例で使用した成分は以下の通りであり、また、実施例及び比較例で使用されている「部」は「質量部」である。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described more specifically based on examples and comparative examples. Here, the components used in Examples and Comparative Examples are as follows, and “parts” used in Examples and Comparative Examples are “parts by mass”.

<無機微粒子>
・酸化ジルコニウム(屈折率2.2、一次粒子径20nm)
・酸化アルミニウム(屈折率1.76、一次粒子径20nm)
・ATO(アンチモンドープ酸化錫)(屈折率2.00、一次粒子径30nm)
<Inorganic fine particles>
・ Zirconium oxide (refractive index 2.2, primary particle diameter 20 nm)
Aluminum oxide (refractive index 1.76, primary particle size 20 nm)
ATO (antimony-doped tin oxide) (refractive index 2.00, primary particle diameter 30 nm)

<分散安定剤>
・アセチルアセトン(C572
・ジルコニウムアセチルアセトナート([Zr(C572)4])
・チタンアセチルアセトナート([Ti(C572)4])
・アルミニウムアセチルアセトナート([Al(C572)3])
・亜鉛アセチルアセトナート([Zn(C572)2])
・インジウムアセチルアセトナート([In(C572)3])
・ジブチル−錫ビスアセチルアセトナート([(C49)Sn(C572)2])
<Dispersion stabilizer>
Acetyl acetone (C 5 H 7 O 2 )
Zirconium acetylacetonate ([Zr (C 5 H 7 O 2) 4])
Titanium acetylacetonate ([Ti (C 5 H 7 O 2) 4])
Aluminum acetylacetonate ([Al (C 5 H 7 O 2) 3])
Zinc acetylacetonate ([Zn (C 5 H 7 O 2) 2])
Indium acetylacetonate ([In (C 5 H 7 O 2 ) 3 ])
Dibutyl-tin bisacetylacetonate ([(C 4 H 9 ) Sn (C 5 H 7 O 2 ) 2 ])

<イオン液体>
・アンモニウム系イオン液体〔関東化学(株)、Tributylmethylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide〕
・ホスホニウム系イオン液体〔関東化学(株)、Tributylmethylphosphonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide〕
・イミダゾリウム系イオン液体〔関東化学(株)、1-Hexyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate〕
・ピロリジニウム系イオン液体〔関東化学(株)、1-Ethyl-1-methylpyrrolidinium hexafluorophosphate〕
・スルホニウム系イオン液体〔関東化学(株)、Diethylmethylsulfonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide〕
<Ionic liquid>
・ Ammonium-based ionic liquid [Kanto Chemical Co., Ltd., Tributylmethylammonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide]
・ Phosphonium-based ionic liquid [Kanto Chemical Co., Ltd., Tributylmethylphosphonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide]
・ Imidazolium-based ionic liquid [Kanto Chemical Co., Ltd., 1-Hexyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate]
・ Pyrrolidinium ionic liquid [Kanto Chemical Co., Ltd., 1-Ethyl-1-methylpyrrolidinium hexafluorophosphate]
・ Sulphonium-based ionic liquid (Kanto Chemical Co., Ltd., Dimethylmethylsulfonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide)

<バインダー>
・DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、屈折率1.49)
<Binder>
DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate, refractive index 1.49)

<光重合開始剤>
・IC−184(BASF社製、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)
<Photopolymerization initiator>
IC-184 (BASF, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone)

〔実施例1〕
酸化ジルコニウム粉末100部に対し、12部のジルコニウムアセチルアセトナート、16部のアンモニウム系イオン液体、180部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除いて、酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。この分散液に33部のDPHAと3部のIC−184とを加え、均一に溶解させることにより透明導電膜形成用組成物を得た。ロールコーターを用いて、この透明導電膜形成用組成物をPETフィルム上に塗布し、有機溶媒を蒸発させた後、空気下で高圧水銀灯を用いて300mJ/cm2の光を照射し、厚み2μmの硬化膜(透明導電膜)を作製した。
[Example 1]
Paint shaker with 100 parts of zirconium oxide powder containing all components in a ratio of 12 parts zirconium acetylacetonate, 16 parts ammonium ionic liquid, 180 parts 2-butanol, and 800 parts glass beads. And kneaded for 4 hours. After kneading, the glass beads were removed to obtain a zirconium oxide fine particle dispersion. 33 parts of DPHA and 3 parts of IC-184 were added to this dispersion and uniformly dissolved to obtain a transparent conductive film forming composition. Using a roll coater, this transparent conductive film-forming composition was applied onto a PET film, the organic solvent was evaporated, and then irradiated with 300 mJ / cm 2 of light using a high-pressure mercury lamp in the air, and the thickness was 2 μm. A cured film (transparent conductive film) was prepared.

〔実施例2〕
12部のジルコニウムアセトナートの代わりに12部のアセチルアセトンを配合した以外は、実施例1と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
[Example 2]
A cured film having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 1 except that 12 parts of acetylacetone was blended in place of 12 parts of zirconium acetonate.

〔実施例3〕
16部のアンモニウム系イオン液体の代わりに37部のスルホニウム系イオン液体を配合した以外は、実施例2と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 3
A cured film having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 2 except that 37 parts of the sulfonium-based ionic liquid was blended instead of 16 parts of the ammonium-based ionic liquid.

〔実施例4〕
12部のアセチルアセトンの代わりに40部のアセチルアセトンを配合した以外は、実施例3と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 4
A cured film having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 3 except that 40 parts of acetylacetone was blended in place of 12 parts of acetylacetone.

〔実施例5〕
酸化ジルコニウム粉末100部に対し、12部のジルコニウムアセチルアセトナート、50部のアンモニウム系イオン液体、340部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除いて、酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。この分散液に100部のDPHAと10部のIC−184とを加え、均一に溶解させることにより透明導電膜形成用組成物を得た。その後、実施例1と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜(透明導電膜)を作製した。
Example 5
In 100 parts of zirconium oxide powder, 12 parts of zirconium acetylacetonate, 50 parts of ammonium-based ionic liquid, 340 parts of 2-butanol, and 800 parts of glass beads are added to all components in a container, and a paint shaker And kneaded for 4 hours. After kneading, the glass beads were removed to obtain a zirconium oxide fine particle dispersion. 100 parts of DPHA and 10 parts of IC-184 were added to this dispersion and dissolved uniformly to obtain a composition for forming a transparent conductive film. Thereafter, a cured film (transparent conductive film) having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 1.

〔実施例6〕
酸化ジルコニウム粉末100部に対し、12部のジルコニウムアセチルアセトナート、150部のアンモニウム系イオン液体、750部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除いて、酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。この分散液に500部のDPHAと50部のIC−184とを加え、均一に溶解させることにより透明導電膜形成用組成物を得た。その後、実施例1と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜(透明導電膜)を作製した。
Example 6
Paint shaker with 100 parts of zirconium oxide powder containing all components in a ratio of 12 parts zirconium acetylacetonate, 150 parts ammonium ionic liquid, 750 parts 2-butanol, and 800 parts glass beads. And kneaded for 4 hours. After kneading, the glass beads were removed to obtain a zirconium oxide fine particle dispersion. 500 parts of DPHA and 50 parts of IC-184 were added to this dispersion and dissolved uniformly to obtain a composition for forming a transparent conductive film. Thereafter, a cured film (transparent conductive film) having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 1.

〔実施例7〕
酸化アルミニウム粉末100部に対し、12部のジルコニウムアセチルアセトナート、16部のアンモニウム系イオン液体、180部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除いて、酸化アルミニウム微粒子分散液を得た。この分散液に33部のDPHAと3部のIC−184とを加え、均一に溶解させることにより透明導電膜形成用組成物を得た。その後、実施例1と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜(透明導電膜)を作製した。
Example 7
Paint shaker with 100 parts of aluminum oxide powder containing all components in a ratio of 12 parts zirconium acetylacetonate, 16 parts ammonium ionic liquid, 180 parts 2-butanol, and 800 parts glass beads. And kneaded for 4 hours. After kneading, the glass beads were removed to obtain an aluminum oxide fine particle dispersion. 33 parts of DPHA and 3 parts of IC-184 were added to this dispersion and uniformly dissolved to obtain a transparent conductive film forming composition. Thereafter, a cured film (transparent conductive film) having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 1.

〔実施例8〕
16部のアンモニウム系イオン液体の代わりに32部のアンモニウム系イオン液体を配合した以外は、実施例7と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 8
A cured film having a thickness of 2 μm was prepared in the same manner as in Example 7 except that 32 parts of the ammonium-based ionic liquid was blended instead of 16 parts of the ammonium-based ionic liquid.

〔実施例9〕
ATO粉末100部に対し、12部のジルコニウムアセチルアセトナート、50部のアンモニウム系イオン液体、340部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除いて、ATO微粒子分散液を得た。この分散液に100部のDPHAと10部のIC−184とを加え、均一に溶解させることにより透明導電膜形成用組成物を得た。その後、実施例1と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜(透明導電膜)を作製した。
Example 9
In 100 parts of ATO powder, 12 parts of zirconium acetylacetonate, 50 parts of ammonium-based ionic liquid, 340 parts of 2-butanol, and 800 parts of glass beads are added to all components in a container. Kneaded for 4 hours. After kneading, the glass beads were removed to obtain an ATO fine particle dispersion. 100 parts of DPHA and 10 parts of IC-184 were added to this dispersion and dissolved uniformly to obtain a composition for forming a transparent conductive film. Thereafter, a cured film (transparent conductive film) having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 1.

〔実施例10〕
酸化ジルコニウム粉末100部に対し、12部のインジウムアセチルアセトナート、16部のアンモニウム系イオン液体、180部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除いて、酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。この分散液に33部のDPHAと3部のIC−184とを加え、均一に溶解させることにより透明導電膜形成用組成物を得た。その後、実施例1と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜(透明導電膜)を作製した。
Example 10
Paint shaker with 100 parts of zirconium oxide powder containing all components in a ratio of 12 parts indium acetylacetonate, 16 parts ammonium ionic liquid, 180 parts 2-butanol, and 800 parts glass beads. And kneaded for 4 hours. After kneading, the glass beads were removed to obtain a zirconium oxide fine particle dispersion. 33 parts of DPHA and 3 parts of IC-184 were added to this dispersion and uniformly dissolved to obtain a transparent conductive film forming composition. Thereafter, a cured film (transparent conductive film) having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 1.

〔実施例11〕
12部のインジウムアセチルアセトナートの代わりに2.5部の亜鉛アセチルアセトナートを配合した以外は、実施例10と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 11
A cured film having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 10 except that 2.5 parts of zinc acetylacetonate was blended instead of 12 parts of indium acetylacetonate.

〔実施例12〕
12部のインジウムアセチルアセトナートの代わりに12部のチタンアセチルアセトナートを配合した以外は、実施例10と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 12
A cured film having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 10, except that 12 parts of titanium acetylacetonate was blended instead of 12 parts of indium acetylacetonate.

〔実施例13〕
12部のインジウムアセチルアセトナートの代わりに10部の錫アセチルアセトナートを配合した以外は、実施例10と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 13
A cured film having a thickness of 2 μm was prepared in the same manner as in Example 10 except that 10 parts of tin acetylacetonate was blended instead of 12 parts of indium acetylacetonate.

〔実施例14〕
12部のインジウムアセチルアセトナートの代わりに2.5部のアルミニウムアセトナートを配合した以外は、実施例10と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 14
A cured film having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 10 except that 2.5 parts of aluminum acetonate was blended instead of 12 parts of indium acetylacetonate.

〔実施例15〕
16部のアンモニウム系イオン液体の代わりに16部のホスホニウム系イオン液体を配合した以外は、実施例2と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 15
A cured film having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 2 except that 16 parts of the phosphonium ionic liquid was blended instead of 16 parts of the ammonium ionic liquid.

〔実施例16〕
16部のアンモニウム系イオン液体の代わりに16部のイミダゾリウム系イオン液体を配合した以外は、実施例2と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 16
A cured film having a thickness of 2 μm was prepared in the same manner as in Example 2 except that 16 parts of the imidazolium-based ionic liquid was blended instead of 16 parts of the ammonium-based ionic liquid.

〔実施例17〕
16部のアンモニウム系イオン液体の代わりに16部のピロリジニウム系イオン液体を配合した以外は、実施例2と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 17
A cured film having a thickness of 2 μm was prepared in the same manner as in Example 2 except that 16 parts of pyrrolidinium ionic liquid was blended instead of 16 parts of ammonium ionic liquid.

〔実施例18〕
ATO粉末60部及び酸化ジルコニウム粉末40部に対し、12部のアセチルアセトン、16部のアンモニウム系イオン液体、180部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除いて、ATO/酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。この分散液に33部のDPHAと3部のIC−184とを加え、均一に溶解させることにより透明導電膜形成用組成物を得た。その後、実施例1と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜(透明導電膜)を作製した。
Example 18
Put all the ingredients in a container at a ratio of 12 parts acetylacetone, 16 parts ammonium ionic liquid, 180 parts 2-butanol, and 800 parts glass beads to 60 parts ATO powder and 40 parts zirconium oxide powder, Kneaded for 4 hours with a paint shaker. After kneading, the glass beads were removed to obtain an ATO / zirconium oxide fine particle dispersion. 33 parts of DPHA and 3 parts of IC-184 were added to this dispersion and uniformly dissolved to obtain a transparent conductive film forming composition. Thereafter, a cured film (transparent conductive film) having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 1.

〔実施例19〕
40部の酸化ジルコニウム粉末の代わりに40部の酸化アルミニウム粉末を配合した以外は、実施例18と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜を作製した。
Example 19
A cured film having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 18 except that 40 parts of aluminum oxide powder was blended instead of 40 parts of zirconium oxide powder.

〔実施例20〕
酸化ジルコニウム粉末80部及び酸化アルミニウム粉末20部に対し、12部のアセチルアセトン、16部のアンモニウム系イオン液体、180部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除いて、酸化ジルコニウム/酸化アルミニウム微粒子分散液を得た。この分散液に33部のDPHAと3部のIC−184をと加え、均一に溶解させることにより透明導電膜形成用組成物を得た。その後、実施例1と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜(透明導電膜)を作製した。
Example 20
Put all the ingredients in a container in a ratio of 12 parts acetylacetone, 16 parts ammonium ionic liquid, 180 parts 2-butanol, and 800 parts glass beads to 80 parts zirconium oxide powder and 20 parts aluminum oxide powder. Kneaded for 4 hours with a paint shaker. After kneading, the glass beads were removed to obtain a zirconium oxide / aluminum oxide fine particle dispersion. 33 parts of DPHA and 3 parts of IC-184 were added to this dispersion and dissolved uniformly to obtain a composition for forming a transparent conductive film. Thereafter, a cured film (transparent conductive film) having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 1.

〔比較例1〕
12部のジルコニウムアセチルアセトナート、12部のアンモニウム系イオン液体、180部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除いて、分散液を得た。この分散液に33部のDPHAと3部のIC−184とを加え、均一に溶解させることにより透明導電膜形成用組成物を得た。その後、実施例1と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜(透明導電膜)を作製した。
[Comparative Example 1]
All components were placed in a container at a ratio of 12 parts zirconium acetylacetonate, 12 parts ammonium-based ionic liquid, 180 parts 2-butanol, and 800 parts glass beads, and kneaded in a paint shaker for 4 hours. After kneading, the glass beads were removed to obtain a dispersion. 33 parts of DPHA and 3 parts of IC-184 were added to this dispersion and uniformly dissolved to obtain a transparent conductive film forming composition. Thereafter, a cured film (transparent conductive film) having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 1.

〔比較例2〕
酸化ジルコニウム粉末100部に対し、17部のアンモニウム系イオン液体、180部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後に分散液が増粘した。
[Comparative Example 2]
All components were put into a container at a ratio of 17 parts of ammonium-based ionic liquid, 180 parts of 2-butanol, and 800 parts of glass beads to 100 parts of zirconium oxide powder, and kneaded for 4 hours with a paint shaker. The dispersion thickened after kneading.

〔比較例3〕
酸化ジルコニウム粉末100部に対し、12部のジルコニウムアセチルアセトナート、180部の2-ブタノール、及び800部のガラスビーズとなる割合で全成分を容器に入れ、ペイントシェーカーで4時間練合した。練合後、ガラスビーズを取り除いて、酸化ジルコニウム微粒子分散液を得た。この分散液に33部のDPHAと3部のIC−184とを加え、均一に溶解させることにより透明導電膜形成用組成物を得た。その後、実施例1と同様の方法により、厚み2μmの硬化膜(透明導電膜)を作製した。
[Comparative Example 3]
All components were put into a container in a ratio of 12 parts of zirconium acetylacetonate, 180 parts of 2-butanol, and 800 parts of glass beads with respect to 100 parts of the zirconium oxide powder, and kneaded with a paint shaker for 4 hours. After kneading, the glass beads were removed to obtain a zirconium oxide fine particle dispersion. 33 parts of DPHA and 3 parts of IC-184 were added to this dispersion and uniformly dissolved to obtain a transparent conductive film forming composition. Thereafter, a cured film (transparent conductive film) having a thickness of 2 μm was produced in the same manner as in Example 1.

<評価方法>
(1)透明導電膜の透過率、ヘイズ
実施例1〜20及び比較例1〜3で得られた透明導電膜について、透過率(%)及びヘイズ(%)をヘイズメーター(日本電色工業(株)製NDH5000)で測定した。測定値は基材を含んだ測定値である。
<Evaluation method>
(1) Transmissivity and haze of transparent conductive film About the transparent conductive films obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 3, the transmittance (%) and haze (%) were measured using a haze meter (Nippon Denshoku Industries ( NDH5000). The measured value is a measured value including the base material.

(2)透明導電膜の表面抵抗値
実施例1〜20及び比較例1〜3で得られた透明導電膜について、表面抵抗値(Ω/□)を抵抗率計(三菱化学株式会社製ハイレスタIP MCP-HT260表面抵抗器)で測定した。
(2) Surface resistance value of transparent conductive film About the transparent conductive films obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 3, the surface resistance value (Ω / □) was measured with a resistivity meter (Hiresta IP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). MCP-HT260 surface resistor).

(3)透明導電膜の屈折率
実施例1〜20及び比較例1〜3で得られた透明導電膜について、屈折率を屈折率計で測定した。(株式会社アタゴ製アッベ屈折率計DR−M4)
(3) Refractive index of a transparent conductive film About the transparent conductive film obtained in Examples 1-20 and Comparative Examples 1-3, the refractive index was measured with the refractometer. (Atago Co., Ltd. Abbe refractometer DR-M4)

(4)浸漬試験
実施例1〜20及び比較例1〜3で得た透明導電膜について、蒸留水に24時間浸漬した後、表面抵抗値(Ω/□)を抵抗率計(三菱化学株式会社製ハイレスタIP MCP-HT260表面抵抗器)で測定した。
(4) Immersion test About the transparent conductive films obtained in Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 3, after being immersed in distilled water for 24 hours, the surface resistance value (Ω / □) was measured with a resistivity meter (Mitsubishi Chemical Corporation). Measured with Hiresta IP MCP-HT260 Surface Resistor).

上記の各々の測定結果、評価結果を各々の組成物の組成と共に、表1(実施例1〜9)、表2(実施例10〜16)、及び表3(実施例17〜20及び比較例1〜3)それぞれに示す。   Table 1 (Examples 1 to 9), Table 2 (Examples 10 to 16), and Table 3 (Examples 17 to 20 and comparative examples) together with the composition of each of the above measurement results and evaluation results 1-3) respectively.

Figure 0005564535
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Figure 0005564535
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Figure 0005564535
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表1〜3に示す結果から明らかなように、無機微粒子、分散安定剤、及びイオン液体を混合し、分散して得られた実施例1〜20の場合は、優れた初期の表面抵抗値を示すだけでなく、浸漬試験後においても優れた表面抵抗値を維持した。   As is clear from the results shown in Tables 1 to 3, in the case of Examples 1 to 20 obtained by mixing and dispersing inorganic fine particles, a dispersion stabilizer, and an ionic liquid, an excellent initial surface resistance value was obtained. In addition to showing, an excellent surface resistance value was maintained even after the immersion test.

これに対して、無機微粒子を配合しない場合(比較例1)には浸漬試験後に導電性が大幅に低下し、また、分散安定剤を添加しない場合(比較例2)には増粘して透明導電膜形成用組成物が得られず、更に、イオン液体を配合しない場合(比較例3)には表面抵抗値1×1014Ω/□以下の導電性が発現しなかった。 On the other hand, when no inorganic fine particles are blended (Comparative Example 1), the conductivity is greatly reduced after the immersion test, and when no dispersion stabilizer is added (Comparative Example 2), the viscosity is increased and transparent. When a composition for forming a conductive film was not obtained and no ionic liquid was blended (Comparative Example 3), conductivity having a surface resistance value of 1 × 10 14 Ω / □ or less was not exhibited.

Claims (9)

無機微粒子(A)、キレート剤及び金属錯体からなる群より選ばれる少なくとも1種類からなる分散安定剤(B)、イオン液体(C)並びにバインダー(D)を含む透明導電膜形成用組成物。 Inorganic fine particles (A), a chelating agent and at least consisting of type dispersion stabilizer selected from the group consisting of a metal complex (B), a transparent conductive film-forming composition comprising an ionic liquid (C) and the binder (D). キレート剤が、ポリアミン類、β-ジケトン類、ポリアミノカルボン酸類、オキシカルボン酸類、オキシム類、オキシン、及び蓚酸からなる群より選ばれる少なくとも1種類からなることを特徴とする請求項に記載の透明導電膜形成用組成物。 Chelating agents, polyamines, beta-diketones, polyaminocarboxylic acids, oxycarboxylic acids, oximes, oxine, and transparency according to claim 1, characterized in that it consists of at least one selected from the group consisting of oxalic acid A composition for forming a conductive film. 金属錯体が、ジルコニウム、チタン、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、バナジウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム、錫、及び白金からなる群から選ばれる少なくとも1種類の金属と、β-ジケトンからなる群から選ばれる少なくとも1種類の配位子とからなることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明導電膜形成用組成物。 The metal complex is composed of at least one metal selected from the group consisting of zirconium, titanium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, vanadium, aluminum, zinc, indium, tin, and platinum, and β-diketone. It consists of at least 1 type of ligand chosen from a group, The composition for transparent conductive film formation of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. 金属錯体が、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、亜鉛、インジウム、及び錫からなる群から選ばれる少なくとも1種類の金属と、ピバロイルトリフルオルアセトン、アセチルアセトン、トリフルオルアセチルアセトン、及びヘキサフルオルアセチルアセトンからなる群から選ばれる少なくとも1種類の配位子とからなることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明導電膜形成用組成物。 The metal complex is a group consisting of at least one metal selected from the group consisting of zirconium, titanium, aluminum, zinc, indium, and tin, and pivaloyltrifluoroacetone, acetylacetone, trifluoroacetylacetone, and hexafluoroacetylacetone. at least one of claims 1 or 2 for forming a transparent conductive film composition as described in characterized by comprising a ligand selected from. 無機微粒子が、酸化チタン、チタン酸バリウム、酸化鉄、硫酸バリウム、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化インジウム、五酸化アンチモン、ITO、及びATOから選ばれる少なくとも1種類からなることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。 Inorganic fine particles from titanium oxide, barium titanate, iron oxide, barium sulfate, zinc sulfide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, cerium oxide, indium oxide, antimony pentoxide, ITO, and ATO It consists of at least 1 type chosen, The composition for transparent conductive film formation in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 無機微粒子100質量部当り、分散安定剤の含有量が2〜45質量部であり、バインダーの含有量が10〜1000質量部であり、イオン液体の含有量が無機微粒子(A)と分散安定剤(B)とバインダー(D)の合計量(A+B+D)に対して0.001〜30質量%であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。 The content of the dispersion stabilizer is 2 to 45 parts by mass, the content of the binder is 10 to 1000 parts by mass, and the content of the ionic liquid is inorganic fine particles (A) and the dispersion stabilizer per 100 parts by mass of the inorganic fine particles. (B) the total amount (a + B + D), characterized in that a 0.001% by mass with respect to claim 1 for forming a transparent conductive film composition according to any one of 5 the binder (D). 請求項1〜のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物を基材上に塗布し又は印刷し、硬化させて得られるものであることを特徴とする透明導電膜。 A transparent conductive film obtained by applying the composition for forming a transparent conductive film according to any one of claims 1 to 6 on a substrate, or printing and curing the composition. 屈折率が1.45〜1.90であり、光透過率が80%以上であり、ヘイズが2.0%以下であり、表面抵抗値が1×1014Ω/□以下であることを特徴とする請求項に記載の透明導電膜。 The refractive index is 1.45 to 1.90, the light transmittance is 80% or more, the haze is 2.0% or less, and the surface resistance value is 1 × 10 14 Ω / □ or less. The transparent conductive film according to claim 7 . 請求項1〜のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物を用いて作製されたものであることを特徴とする反射防止フィルム。 An antireflection film produced using the composition for forming a transparent conductive film according to any one of claims 1 to 6 .
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