JP5555428B2 - Radio frequency ion guide - Google Patents

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    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02Details
    • H01J49/06Electron- or ion-optical arrangements
    • H01J49/062Ion guides

Description

本開示はイオンガイドに関する。より詳細には、本開示はイオンを移送するために用いられる無線周波数(RF)イオンガイドに関する。   The present disclosure relates to ion guides. More particularly, this disclosure relates to radio frequency (RF) ion guides used to transport ions.

イオンガイドは、分析計ならびにイオンを移送するためおよび他の目的のための他のデバイスにおいて用いられる。イオンはイオン源を用いて提供される。ほとんどの大気圧イオン源に関して、イオンは、イオン入口端部においてイオンガイドに入る前に、開口部またはスキマー(skimmer)を通過する。無線周波数信号がイオンガイドに印加され、イオンガイド内においてイオンの放射状の収束を提供し得る。その結果、イオンガイドを通る移送効率は非常に高くなり得る。   Ion guides are used in analyzers and other devices for transporting ions and for other purposes. Ions are provided using an ion source. For most atmospheric ion sources, ions pass through an opening or skimmer before entering the ion guide at the ion inlet end. A radio frequency signal may be applied to the ion guide to provide radial focusing of the ions within the ion guide. As a result, the transfer efficiency through the ion guide can be very high.

マトリックス支援レーザ脱離イオン化(MALDI)、表面増強レーザ脱離イオン化(SELDI)および他のイオン源を含む一部のイオン源は、より低い圧力領域においてイオンを生成する能力がある。そのようなイオン源がイオンガイドと共に用いられるとき、イオン源は多重極のイオン入口端部に隣接して配置され得、その結果、イオン生成領域および多重極は同じ圧力に維持され得る。イオン源から生成されるイオンのうちの一部は、イオンガイドに入る。源とイオンガイドとの間に圧力の差がほとんどないか、または全くないとき、イオンは、典型的には、同じ極性を有するイオン間の空間電荷斥力によってイオンガイドの長さに沿って前進させられる。特定の実験中に新しいイオンが生成され、イオンガイドに入ると、以前に生成されたイオンは空間電荷斥力によってイオンガイドの長さに沿って前進させられる。空間電荷効果は、イオンガイドを介してイオンを前進させるが、その効果は、多数の望ましくない結果を導き得る。例えば、イオンに対する軸力の程度は、同じ極性の他のイオンの数および近さの両方に依存する。その結果、空間電荷が支配的な駆動力であるとき、イオンガイドを介するイオンの移送は、むらがあり、遅い。サンプルが標的上で空乏となるまで除去され得るMALDI計量実験に関して、サンプルからのイオン分離度は最初に高く、次いで実験の経過により0に減衰する。従って、空間電荷力は、最初に強く、次いで減衰し、その結果、実験の終了近くに生成されるイオンはイオンガイドを介してより弱く前進させられる。このことは、高スループット計量に適さない、大まかでかつ変化しやすいピーク形状に導き得る。さらに、空間電荷力は本質的に無指向性であるので、該空間電荷力が軸方向へのイオンの移動に関する最も重要な駆動力を含むとき、イオン損失はより大きくなることが予期される。   Some ion sources, including matrix assisted laser desorption ionization (MALDI), surface enhanced laser desorption ionization (SELDI) and other ion sources are capable of generating ions in lower pressure regions. When such an ion source is used with an ion guide, the ion source can be placed adjacent to the ion entrance end of the multipole so that the ion generation region and the multipole can be maintained at the same pressure. Some of the ions generated from the ion source enter the ion guide. When there is little or no pressure difference between the source and the ion guide, the ions are typically advanced along the length of the ion guide by space charge repulsion between ions of the same polarity. It is done. As new ions are generated during a particular experiment and enter the ion guide, previously generated ions are advanced along the length of the ion guide by space charge repulsion. The space charge effect advances ions through the ion guide, but the effect can lead to a number of undesirable results. For example, the degree of axial force on ions depends on both the number and proximity of other ions of the same polarity. As a result, when space charge is the dominant driving force, the transport of ions through the ion guide is uneven and slow. For MALDI weighing experiments where the sample can be removed until it is depleted on the target, the degree of ion separation from the sample is first high and then decays to zero over the course of the experiment. Thus, the space charge force is initially strong and then decays, so that ions generated near the end of the experiment are advanced weaker through the ion guide. This can lead to rough and variable peak shapes that are not suitable for high-throughput weighing. Furthermore, since the space charge force is essentially omnidirectional, it is expected that the ion loss will be greater when the space charge force includes the most important driving force for ion movement in the axial direction.

以前のデバイスより効率的なイオン移送機構をイオンガイドに提供して、イオンガイドの長さに沿ってより効率的かつ再生可能にイオンを移送することが望ましい。   It is desirable to provide an ion guide with a more efficient ion transport mechanism than previous devices to transport ions more efficiently and reproducibly along the length of the ion guide.

(概要)
第1の局面に従う一例において、出願人の教示は、イオン入口端部およびイオン出口端部を有するイオンガイドにおいてイオンを移送する方法を提供する。該方法は、イオンガイド内にイオン収束場を提供することと、イオン出口端部に隣接する領域を含むイオン収束場の長さの少なくとも一部に沿って気体の流れを生成することとを包含する。
(Overview)
In one example in accordance with the first aspect, Applicants' teachings provide a method for transporting ions in an ion guide having an ion inlet end and an ion outlet end. The method includes providing an ion focusing field in the ion guide and generating a flow of gas along at least a portion of the length of the ion focusing field including a region adjacent to the ion exit end. To do.

この局面の別の例において、イオンガイドは、少なくとも2つの極を有する多重極のイオンガイドであり、イオン収束場は無線周波数信号を極に印加することによって提供される。   In another example of this aspect, the ion guide is a multipole ion guide having at least two poles, and the ion focusing field is provided by applying a radio frequency signal to the poles.

この局面の別の例において、イオン収束場はイオンガイドの軸に沿って生成され、気体の流れは、軸に少なくとも部分的に沿って提供される。   In another example of this aspect, the ion focusing field is generated along the axis of the ion guide and the gas flow is provided at least partially along the axis.

この局面の別の例において、気体の流れは、極の周りにスリーブを配置し、かつスリーブを介して気体を吸引することによって生成される。   In another example of this aspect, the gas flow is generated by placing a sleeve around the pole and sucking the gas through the sleeve.

この局面の別の例において、イオンガイドは、点在する絶縁体によって分離される複数の電導性リングから形成され、各絶縁体は、隣接するリングに対して封印され、気体の流れは、リングおよび絶縁体を介して気体を吸引することによって生成される。   In another example of this aspect, the ion guide is formed from a plurality of conductive rings separated by interspersed insulators, each insulator sealed against an adjacent ring, and the gas flow And by sucking gas through the insulator.

この局面の別の例において、イオンガイドは、互いに間隔を置いて配置される複数のリングから構成され、前記気体の流れは、リングの周りにスリーブを配置し、かつスリーブを介して気体を吸収することによって生成される。   In another example of this aspect, the ion guide is comprised of a plurality of rings spaced apart from each other, and the gas flow places a sleeve around the ring and absorbs the gas through the sleeve. Is generated by

この局面の別の例において、概ね平衡した軸方向の場は、第1のRF信号を第1の極に、第2のRF信号を第2の極に印加することによって生成され、第1のRF信号および第2のRF信号は、ほぼ等しい大きさを有するが、互いに180°位相がずれている。   In another example of this aspect, the generally balanced axial field is generated by applying a first RF signal to the first pole and a second RF signal to the second pole, The RF signal and the second RF signal have approximately the same magnitude, but are 180 degrees out of phase with each other.

この局面の別の例において、方法は、イオンガイドの入口端部に隣接して配置されるイオン源からイオンを生成することを包含し、生成されたイオンは、気体の流れによって、イオンガイドアセンブリのイオン入口端部からイオンガイドのイオン出口端部に移送される。   In another example of this aspect, the method includes generating ions from an ion source disposed adjacent to an inlet end of the ion guide, the generated ions being generated by a gas flow through an ion guide assembly. From the ion inlet end of the ion guide to the ion outlet end of the ion guide.

この局面の別の例において、追加の気体の流れは、イオンガイドのイオン入口端部を通って生成される。オプションで、追加の気体の流れは、イオン入口端部に隣接して制限され得る。   In another example of this aspect, an additional gas flow is generated through the ion inlet end of the ion guide. Optionally, additional gas flow can be restricted adjacent to the ion inlet end.

この局面の別の例において、気体の流れは、イオン入口端部に隣接して始まり、イオンガイドのイオン出口端部を通って継続する。オプションで、気体の流れは、レンズまたは他の制限的要素を用いてイオン入口端部に隣接して制限され得る。   In another example of this aspect, the gas flow begins adjacent to the ion inlet end and continues through the ion outlet end of the ion guide. Optionally, the gas flow can be restricted adjacent to the ion inlet end using a lens or other restrictive element.

出願人の教示の別の局面の例は、軸の周りに配置される複数のイオン収束要素と、軸の少なくとも一部分に沿って気体の流れを運ぶためのスリーブとを備えているイオンガイドを提供する。   An example of another aspect of applicant's teaching provides an ion guide comprising a plurality of ion focusing elements disposed about an axis and a sleeve for carrying a gas flow along at least a portion of the axis. To do.

この局面の別の例において、イオン収束要素は、第1の極および第2の極を含み、第1の極は少なくとも2つの第1の極ロッドを含み、第2の極は少なくとも2つの第2の極ロッドを含み、スリーブは、第1の極ロッドおよび第2の極ロッドの周りに配置される。   In another example of this aspect, the ion focusing element includes a first pole and a second pole, the first pole includes at least two first pole rods, and the second pole has at least two second poles. The two pole rods are included, and the sleeve is disposed around the first pole rod and the second pole rod.

この局面の別の例において、イオンガイドは、イオン入口端部およびイオン出口端部を有し、スリーブは、イオン入口端部とイオン出口端部との間に延びる。   In another example of this aspect, the ion guide has an ion inlet end and an ion outlet end, and the sleeve extends between the ion inlet end and the ion outlet end.

この局面の別の例において、イオンガイドは、イオン入口端部に隣接するスリーブに取り付けられるスリーブキャップを備え、スリーブキャップは、軸に整列されるキャップ開口部を有する。   In another example of this aspect, the ion guide comprises a sleeve cap that is attached to a sleeve adjacent to the ion inlet end, the sleeve cap having a cap opening aligned with the shaft.

この局面の別の例において、イオン収束要素は、絶縁体によって分離される複数のリングを含み、リングおよび絶縁体は一緒にスリーブを形成する。   In another example of this aspect, the ion focusing element includes a plurality of rings separated by an insulator, which ring and insulator together form a sleeve.

この局面の別の例において、イオン収束要素は、軸の周りに配置され、かつスリーブ内に配置される複数のリングを含む。   In another example of this aspect, the ion focusing element includes a plurality of rings disposed about the axis and disposed within the sleeve.

出願人の教示の別の局面の例は、イオン入口端部およびイオン出口端部を有するイオンガイドアセンブリであって、軸の周りに配置される複数のイオン収束要素と、軸の少なくとも一部分に沿って気体の流れを運ぶためのスリーブと、スリーブを介して気体を吸引するための吸引デバイスとを備えているイオンガイドアセンブリを提供する。   An example of another aspect of applicant's teachings is an ion guide assembly having an ion entrance end and an ion exit end, wherein the ion guide assembly is disposed about an axis and along at least a portion of the axis. An ion guide assembly is provided that includes a sleeve for carrying a gas flow and a suction device for sucking the gas through the sleeve.

この局面の別の例において、イオンガイドアセンブリは、イオン入口端部に隣接するスリーブに取り付けられるスリーブキャップを備えている。   In another example of this aspect, the ion guide assembly includes a sleeve cap that is attached to a sleeve adjacent to the ion inlet end.

この局面の別の例において、イオンガイドは、質量分析計の差動ポンプ領域(differentially pumped region)内に置かれ、その結果、付加的な気体の流れが、2つの真空段の間の圧力差の結果、イオンガイド入口の中に生成される。   In another example of this aspect, the ion guide is placed in a differentially pumped region of the mass spectrometer so that the additional gas flow causes a pressure difference between the two vacuum stages. As a result, it is generated in the ion guide inlet.

出願人の教示のこれらおよび他の局面は、より詳細に以下に記述される。   These and other aspects of applicant's teachings are described in more detail below.

いくつかの例がここで図面を参照して詳細に記述され、図面において同様な要素は同様な参照番号によって識別される。   Several examples will now be described in detail with reference to the drawings, wherein like elements are identified with like reference numerals.

(例の説明)
第1の例のイオンガイド100を例示する図1および図2がまず参照される。イオンガイド100は、取り付けブラケット102、4つのロッド104a〜d、気体チャネリングスリーブ106ならびに一対の絶縁体108および109を備えている。イオンガイド100は、イオン入口端部110およびイオン出口端部112を有する。
(Example description)
Reference is first made to FIGS. 1 and 2, which illustrate a first example ion guide 100. The ion guide 100 includes a mounting bracket 102, four rods 104a to 104d, a gas channeling sleeve 106, and a pair of insulators 108 and 109. The ion guide 100 has an ion inlet end 110 and an ion outlet end 112.

取り付けブラケット102は、ベースフランジ114およびバリアフランジ116を有する。本例において、ベースフランジ114およびバリアフランジ116は、取り付けブラケット102と一体化して形成され、スリーブサポート120によって離されている。スリーブサポート120は、概ね円筒形の内壁122を有する。   The mounting bracket 102 has a base flange 114 and a barrier flange 116. In this example, the base flange 114 and the barrier flange 116 are formed integrally with the mounting bracket 102 and separated by the sleeve support 120. The sleeve support 120 has a generally cylindrical inner wall 122.

スリーブサポート120は、複数のスリーブ位置決めアーム124を含む。スリーブ106は、スリーブサポート120内に配置され、内壁122内にぴったり合っている。スリーブ106は、その外側の周囲に形成される移動止め126を有する。移動止め126は、スリーブ位置決めアーム124に対して置かれており、その結果、スリーブ106は、イオンガイド100のイオン出口端部112にあるベースフランジ114から間隔をあけて配置される。移動止め126は、ベースフランジに対して、スリーブ106およびロッド104a〜dの適切な位置決めを確実にする。スリーブ106は、止めねじ(図示されていない)を用いて正しい位置に固定される。止めねじは、ねじ切りされた開口部を通ってスリーブサポート120にねじ込まれ、スリーブを係合させる。当業者は、止めねじを用い、ブラケット102に対して固定された位置にスリーブ106を保持することを理解する。   The sleeve support 120 includes a plurality of sleeve positioning arms 124. The sleeve 106 is disposed within the sleeve support 120 and fits snugly within the inner wall 122. The sleeve 106 has a detent 126 formed around its outer periphery. The detent 126 is placed against the sleeve positioning arm 124 so that the sleeve 106 is spaced from the base flange 114 at the ion exit end 112 of the ion guide 100. The detent 126 ensures proper positioning of the sleeve 106 and rods 104a-d relative to the base flange. The sleeve 106 is fixed in place using a set screw (not shown). The set screw is threaded into the sleeve support 120 through the threaded opening to engage the sleeve. Those skilled in the art understand that a set screw is used to hold the sleeve 106 in a fixed position relative to the bracket 102.

スリーブ106は、(X−Y平面において見たとき)円形の断面を有し、内壁122の断面に一致し、スリーブ106がスリーブサポート120内にぴったり収まることを可能にし、イオンガイド軸113に中心を合わせられる。スリーブ106はロッド104を囲む。   The sleeve 106 has a circular cross-section (when viewed in the XY plane), matches the cross-section of the inner wall 122, allows the sleeve 106 to fit snugly within the sleeve support 120, and is centered on the ion guide shaft 113. Can be adjusted. A sleeve 106 surrounds the rod 104.

別の例示的なイオンガイドにおいて、スリーブは、スリーブを配置するために移動止めまたは支持アームを用いない別の方法で、サポートブラケット内に、またはサポートブラケットに取り付けられ得る。例えば、スリーブは、サポートブラケット内の特定な位置に固定され得る。別の実施形態において、スリーブはブラケットの取り付け点に固定され得、スリーブおよびブラケットは摩擦ばめマウント(friction fit mount)を有し得ない。別の実施形態において、スリーブは、その実施形態に適切な任意の方法で、多重極の周りに取り付けられ得る。   In another exemplary ion guide, the sleeve may be attached within or to the support bracket in another manner that does not use a detent or support arm to position the sleeve. For example, the sleeve may be fixed at a specific position within the support bracket. In another embodiment, the sleeve may be secured to the attachment point of the bracket, and the sleeve and bracket may not have a friction fit mount. In another embodiment, the sleeve can be attached around the multipole in any manner appropriate to that embodiment.

絶縁体108および109は、スリーブ106内に取り付けられる。絶縁体108および109は、該絶縁体を貫通し、固定ねじ130を受け入れるように形作られる一連の固定開口部128を有する。取り付けブラケット102およびスリーブ106は、固定開口部128がアクセスされることを可能にする対応する開口部132および134を有する。ロッド104は、ねじ130を用いて絶縁体108および109に取り付けられる。ロッド104は、ねじ130を受け入れるようにねじ切りされる。絶縁体108および109は、電気的に伝導性がなく、ロッド104を互いに電気的に絶縁するように働く。   Insulators 108 and 109 are mounted within sleeve 106. Insulators 108 and 109 have a series of fixation openings 128 that are shaped to pass through the insulation and receive fixation screws 130. The mounting bracket 102 and the sleeve 106 have corresponding openings 132 and 134 that allow the fixed opening 128 to be accessed. Rod 104 is attached to insulators 108 and 109 using screws 130. Rod 104 is threaded to accept screw 130. Insulators 108 and 109 are not electrically conductive and serve to electrically insulate rods 104 from each other.

本例において、絶縁体108および109は、摩擦によってスリーブ106内の正しい位置に保持される。別の例示的なイオンガイドにおいて、絶縁体108および109は、ねじ、ボルトまたは接着剤などのファスナーを用いてスリーブ106の内面に固定され得る。   In this example, insulators 108 and 109 are held in place within sleeve 106 by friction. In another exemplary ion guide, insulators 108 and 109 may be secured to the inner surface of sleeve 106 using fasteners such as screws, bolts, or adhesives.

ロッド104a〜dは、四重極を形成し、イオン収束要素として動作する。気体チャネリングスリーブを用いる他のイオンガイドは、5つ以上のロッドを含み得る。そのような例および本例におけるロッドは、多重極を形成する。ロッド104は、本例において、多重極軸113から等距離にかつそれに平行に配置されるが、当該分野において公知の任意の手段によって取り付けられ得る。ロッド104aおよび104cは、軸113の周りに互いに反対に配置され、X軸を規定する。同様に、ロッド104bおよび104dは、軸113の周りに互いに反対に配置され、X軸に垂直であるY軸を規定する。Z軸はXおよびY軸の両方に対して垂直に規定される。軸113はZ軸上にある。この例において、ロッド104は円形の断面を有し、各ロッドは軸を有する。ロッド104の軸は、Z軸に垂直に取られた断面において見られるとき正方形を規定する。   Rods 104a-d form a quadrupole and operate as an ion focusing element. Other ion guides that use a gas channeling sleeve may include five or more rods. Such an example and the rod in this example form a multipole. In this example, the rod 104 is disposed equidistant from the multipole shaft 113 and parallel thereto, but may be attached by any means known in the art. The rods 104a and 104c are arranged opposite to each other around the axis 113 and define the X axis. Similarly, rods 104b and 104d are disposed opposite to each other about axis 113 and define a Y axis that is perpendicular to the X axis. The Z axis is defined perpendicular to both the X and Y axes. The axis 113 is on the Z axis. In this example, the rods 104 have a circular cross section and each rod has an axis. The axis of the rod 104 defines a square when viewed in a cross section taken perpendicular to the Z axis.

ロッド104は、円形の断面を有する。本開示は、円筒形ロッドと共に用いることに限定されなく、放物線ロッド、四角形ロッドまたは双曲線ロッドなどの任意の断面のロッドと共に用いられ得る。   The rod 104 has a circular cross section. The present disclosure is not limited to use with cylindrical rods, but can be used with rods of any cross-section such as parabolic rods, square rods or hyperbolic rods.

ロッド104aおよび104cは共に電気的に連結され、共にX極を形成する。(該連結は図に示されていない。一例において、電気的コネクタは、各ロッドを取り付けるために用いられるねじ130のうちの1つとワイヤに連結されロッドを連結するコネクタとの間に取り付けられる)。ロッド104bおよび104dは共に電気的に連結され、Y極を形成する。   The rods 104a and 104c are electrically connected together and together form an X pole. (The connection is not shown in the figure. In one example, the electrical connector is attached between one of the screws 130 used to attach each rod and the connector connected to the wire and connecting the rod). . The rods 104b and 104d are electrically connected together to form a Y pole.

X極およびY極は、RF信号源(図示されていない)に結合され、該RF信号源はRF信号を極に印加する。RF信号は、イオンガイドの長さに沿ってイオン収束場を提供するように構成される。RF信号は、ほぼ等しい大きさを有するが、極に対して180°位相がずれていて、四重極の軸113に沿った平衡のRF場を提供する。あるいは、平衡でないRF信号が極に印加され得る。   The X and Y poles are coupled to an RF signal source (not shown) that applies an RF signal to the pole. The RF signal is configured to provide an ion focusing field along the length of the ion guide. The RF signals have approximately equal magnitude, but are 180 ° out of phase with respect to the pole, providing a balanced RF field along the quadrupole axis 113. Alternatively, an unbalanced RF signal can be applied to the pole.

ブラケット102は、気体不浸透性材料から作られる。本例において、ブラケット102はステンレス鋼から作られる。他の例において、ブラケット102は、別の金属またはプラスチックまたはナイロンなどの気体不浸透性材料から作られ得る。ブラケット102は、ベースフランジ114に隣接する複数の開口部118を有する。出口プレート158は、イオンガイドのイオン出口端部112に隣接するブラケット102に取り付けられる。出口プレート158は、イオンがイオンガイド100から出ることが可能なイオン出口開口部160を有する。イオン出口開口部160は、軸113を中心とする。   The bracket 102 is made from a gas impermeable material. In this example, the bracket 102 is made from stainless steel. In other examples, the bracket 102 may be made from another metal or a gas impermeable material such as plastic or nylon. The bracket 102 has a plurality of openings 118 adjacent to the base flange 114. The exit plate 158 is attached to the bracket 102 adjacent to the ion exit end 112 of the ion guide. The exit plate 158 has an ion exit opening 160 through which ions can exit the ion guide 100. The ion outlet opening 160 is centered on the axis 113.

図3を参照すると、図3は、ハウジング140内に取り付けられ、イオンガイドアセンブリ139を形成するイオンガイド100を例示する。ハウジング140は、取り付けフランジ142を有し、取り付けフランジ142は、取り付け開口部141を用いて、イオン源もしくは質量分析計などのイオン処理デバイス(またはそれらの両方)内か、またはそれらにハウジング140を取り付けるために用いられ得る。ハウジング140はまた、イオンガイドシートフランジ144と、イオンガイドチャンバ146と、ポンプポート148と、ポンプ取り付けフランジ150とを有する。イオンガイド100は、イオンガイドチャンバ146の中に挿入され、ベースフランジ114は、シートフランジ144に対して配置される。Vitonなどの適切な材料から作られるoリング(図示されていない)は、真空密閉を達成するために用いられ得る。イオンガイドチャンバ146は、円形の断面を有し、イオンガイドの取り付けブラケット102を受けるような大きさに合わせて作られる。   Referring to FIG. 3, FIG. 3 illustrates the ion guide 100 mounted within the housing 140 and forming the ion guide assembly 139. The housing 140 has a mounting flange 142 that uses the mounting opening 141 to place the housing 140 in or on an ion processing device such as an ion source or mass spectrometer (or both). Can be used to attach. The housing 140 also includes an ion guide seat flange 144, an ion guide chamber 146, a pump port 148, and a pump mounting flange 150. The ion guide 100 is inserted into the ion guide chamber 146 and the base flange 114 is disposed relative to the seat flange 144. An o-ring (not shown) made from a suitable material such as Viton can be used to achieve a vacuum seal. The ion guide chamber 146 has a circular cross section and is sized to receive the ion guide mounting bracket 102.

ポンプフランジ150は、気体管153(図4)を受けるように適合され、気体管153は、あら引きポンプ(roughing pump)154(図4)またはポンプポートから気体を吸引するために用いられ得る別の吸引デバイスに接続される。あるいは、吸引デバイスは、ポンプフランジ150に直接に連結され得る。本例において、気体管153は、複数のねじを用いてポンプフランジ150に連結される。他の実施形態において、ねじ、クリップ、接着剤、ホースクランプなどの任意の他の固定デバイス、または締りマウント(interference mount)が、あら引きポンプまたはその他の吸引デバイスを取り付けるために用いられ得る。   The pump flange 150 is adapted to receive a gas tube 153 (FIG. 4), which can be used to draw gas from a roughing pump 154 (FIG. 4) or pump port. Connected to the suction device. Alternatively, the suction device can be connected directly to the pump flange 150. In this example, the gas pipe 153 is connected to the pump flange 150 using a plurality of screws. In other embodiments, any other securing device, such as screws, clips, adhesives, hose clamps, or interference mounts can be used to attach a roughing pump or other suction device.

イオンガイドのイオン入口端部110からイオン出口端部112に延び、ロッド104が配置されるスリーブ内に含まれる空間の容積は、イオン移送スペース156と呼ばれ得る。開口部118は、イオン移送スペース156とイオンガイドチャンバ146とを接続し、その結果、気体はそれらの間を流れ得る。ポンプポート148は、イオンガイドチャンバ148に接続される。   The volume of space that extends from the ion inlet end 110 of the ion guide to the ion outlet end 112 and is contained within the sleeve in which the rod 104 is located may be referred to as the ion transport space 156. The opening 118 connects the ion transport space 156 and the ion guide chamber 146 so that gas can flow between them. The pump port 148 is connected to the ion guide chamber 148.

あら引きポンプ154がハウジング140に取り付けられ、起動されると、あら引きポンプ154は、イオンガイドアセンブリからポンプポート146内の気体を吸引し、イオン入口端部110において始まる気体の流れ157を作り、該気体の流れは、イオン出口端部112と、開口部118と、イオンガイドチャンバ146と、ポンプポート148とを通過し、あら引きポンプを通ってイオンガイドアセンブリから出る。イオンガイド100の長さに沿って、気体の流れ157は、イオン入口端部110からイオン出口端部112へのイオン移送を増強する。イオンは、ロッド104に適用されるRF場によって収束されるので、イオン出口端部112を越える気体の流れ157に従わない。イオンは、軸113に沿ってその動作を継続し、イオン出口開口部160を通ってイオンガイドから出る。   When the roughing pump 154 is attached to the housing 140 and activated, the roughing pump 154 draws gas in the pump port 146 from the ion guide assembly, creating a gas flow 157 that begins at the ion inlet end 110, The gas flow passes through the ion exit end 112, the opening 118, the ion guide chamber 146, and the pump port 148 and out of the ion guide assembly through the roughing pump. Along the length of the ion guide 100, the gas flow 157 enhances ion transport from the ion inlet end 110 to the ion outlet end 112. Ions are focused by the RF field applied to the rod 104 and therefore do not follow the gas flow 157 over the ion exit end 112. The ions continue their motion along the axis 113 and exit the ion guide through the ion exit opening 160.

図4を参照すると、図4は、MALDI(マトリックス支援レーザ脱離イオン化)イオン源164およびイオン処理デバイス166と共に使用されるイオンガイドアセンブリ139を例示する。MALDIイオン源164は、サンプルプレート170と、マトリックス溶液172と、レーザ174とを有する。イオン化され、多重極アセンブリ139を介して移送される分子を含むサンプルは、マトリックスベースと組み合わされる。サンプルおよびマトリックスの溶液は混合され、マトリックス溶液172を形成し、マトリックス溶液172は、次いで、サンプルおよびマトリックスが共結晶化する(co−crystalize)サンプルプレート上に堆積される。あるいは、サンプルは、マトリックスベースの必要のない適切な表面上に堆積され得る。   Referring to FIG. 4, FIG. 4 illustrates an ion guide assembly 139 used with a MALDI (Matrix Assisted Laser Desorption Ionization) ion source 164 and an ion processing device 166. The MALDI ion source 164 includes a sample plate 170, a matrix solution 172, and a laser 174. A sample containing molecules that are ionized and transported through the multipole assembly 139 is combined with a matrix base. The sample and matrix solutions are mixed to form a matrix solution 172, which is then deposited on the sample plate where the sample and matrix co-crystallize. Alternatively, the sample can be deposited on a suitable surface that does not require a matrix base.

イオン処理デバイス166は、ベースフランジ114においてイオン出口開口部160に隣接して取り付けられる。イオン処理デバイス166は、イオン検出器、質量分析器(これはイオン検出器を含み得る)または、イオン選択、イオン処理またはイオン検出の段(stage)の組合せなどのイオン分析デバイスまたはイオン処理デバイスの任意のタイプであり得る。   The ion processing device 166 is mounted adjacent to the ion outlet opening 160 at the base flange 114. The ion processing device 166 is an ion analysis device or ion processing device such as an ion detector, mass analyzer (which may include an ion detector) or a combination of ion selection, ion processing or ion detection stages. It can be of any type.

多重極アセンブリ139は、次のように用いられる。   The multipole assembly 139 is used as follows.

RF信号源は、起動され、X極およびY極にRF信号を印加する。印加されたRF信号は、典型的には、多重極軸113に沿って収束場を作る。   The RF signal source is activated and applies RF signals to the X and Y poles. The applied RF signal typically creates a converging field along the multipole axis 113.

あら引きポンプ154は、起動され、気体の流れ157を提供する。RF信号源およびあら引きポンプ154は、実験と実験の間も動作中のままであり得る。信号源およびあら引きポンプが起動された後に、個々の実験は次のように行なわれる。   The roughing pump 154 is activated and provides a gas flow 157. The RF signal source and roughing pump 154 may remain in operation between experiments. After the signal source and roughing pump are activated, the individual experiments are performed as follows.

個々の実験を行なうために、レーザ174が起動される。レーザ174が起動されると、レーザ174は、マトリックス溶液172にレーザビーム178を放出する。マトリックス溶液172内のサンプルは、イオン化され、サンプルから生じるイオンは、イオン入口端部110において多重極アセンブリの中に流入し始める。標的のプレートから多重極アセンブリへのイオンの流れは、プレートと入口との間の電場の印加によって促進される。イオン移送空間122を通るイオンの流れは、部分的には前述の空間電荷斥力によるものであり、気体の流れ157によって増強される。   Laser 174 is activated to perform individual experiments. When the laser 174 is activated, the laser 174 emits a laser beam 178 to the matrix solution 172. The sample in the matrix solution 172 is ionized and ions originating from the sample begin to flow into the multipole assembly at the ion inlet end 110. Ion flow from the target plate to the multipole assembly is facilitated by the application of an electric field between the plate and the inlet. The flow of ions through the ion transport space 122 is due in part to the aforementioned space charge repulsion and is enhanced by the gas flow 157.

X極およびY極に印加されるRF信号は、多重極アセンブリに入るイオンの少なくとも一部を多重極軸に沿って放射状に収束させる。これらの収束されるイオンは、イオンガイド100の長さに沿ってイオン出口端部112にまで引かれ、イオン処理デバイス166の中に排出される。   The RF signal applied to the X and Y poles causes at least some of the ions entering the multipole assembly to converge radially along the multipole axis. These focused ions are drawn along the length of the ion guide 100 to the ion exit end 112 and are ejected into the ion processing device 166.

一連の実験は、レーザ174を繰返し起動および停止することおよび/またはサンプルプレートを移動することによって行われ得る。   A series of experiments can be performed by repeatedly starting and stopping the laser 174 and / or moving the sample plate.

次に、図5を参照すると、図5は、イオン処理デバイス166として用いられる質量分析計を有する図4の構成を用いて生成される質量スペクトル180を例示する。質量分析計は、イオン検出器を含み、この例に関して、質量分析器は、動作の選択された反応監視するモードで動作される。検出器に到達するイオンは、カウントされ、質量スペクトル180は、時間経過に対するイオン検出器によって毎秒カウント(cps)されるイオンをプロットする。質量分析計は、衝突セル(collision cell)すなわち選択されたイオンのみが段を通って移送されることを可能にする様々なイオン選択段を含み得る。イオンが質量分析計において選択された場合、イオンはイオン検出器に到達し、特定のイオンが選択およびカウントされることが可能となる。オプションで、イオン移送空間の中へのイオンの進入を増強するために、DCオフセットがMALDIサンプルプレート170もしくはロッド104、または両方に適用され得る。   Reference is now made to FIG. 5, which illustrates a mass spectrum 180 generated using the configuration of FIG. 4 with a mass spectrometer used as the ion processing device 166. The mass spectrometer includes an ion detector, and for this example, the mass analyzer is operated in a selected reaction monitoring mode of operation. Ions reaching the detector are counted and the mass spectrum 180 plots ions that are counted (cps) per second by the ion detector over time. The mass spectrometer may include various ion selection stages that allow a collision cell or only selected ions to be transported through the stage. When ions are selected in the mass spectrometer, the ions reach the ion detector, and specific ions can be selected and counted. Optionally, a DC offset can be applied to the MALDI sample plate 170 or the rod 104, or both, to enhance ion entry into the ion transport space.

質量スペクトル180は、いくつかの連続した実験の間に、時間に対する、イオン検出器に到達するハロペリドールフラグメントイオンのカウントを例示する。ハロペリドールのサンプルは、マトリックスベースと混合され、マトリックス溶液172を形成する。多重極アセンブリ100は、RF信号源およびあら引きポンプ154を起動することによって起動される。各試験は、ある時間レーザ174を起動し、次いでレーザを停止することによって行なわれる。   Mass spectrum 180 illustrates the count of haloperidol fragment ions that reach the ion detector over time during several consecutive experiments. A sample of haloperidol is mixed with a matrix base to form a matrix solution 172. Multipole assembly 100 is activated by activating RF signal source and roughing pump 154. Each test is performed by starting the laser 174 for a period of time and then stopping the laser.

ハロペリドールの別々のサンプルに関して生成されたデータに対応する4つのピーク182は、質量スペクトル180に示されるように約0.3分以内に生成された。ピークの各々は、ピーク幅182w(本目的のために、ピークの開始から毎秒イオンカウントが5000未満に下がるまでの期間として定義される)を有する。さらに、各ピークは、テール182t(イオンカウントが5000未満に下がった後に毎秒イオンカウントが0に再び下がるまでの期間として定義される)を有する。   Four peaks 182 corresponding to the data generated for separate samples of haloperidol were generated within about 0.3 minutes as shown in mass spectrum 180. Each of the peaks has a peak width 182w (for this purpose, defined as the period from the start of the peak until the ion count per second drops below 5000). In addition, each peak has a tail 182t (defined as the period of time after which the ion count drops back to 0 after every time the ion count drops below 5000).

次に、図6を参照すると、図6は、スリーブを含まない公知のイオン移送多重極アセンブリ(図示されていない)を用いて生成される質量スペクトル190を例示する。先行技術の多重極アセンブリは、多重極アセンブリ内の圧力を減少するあら引きポンプを含む。先行技術の多重極アセンブリはまた、RF信号を多重極の極に印加するための信号源を含む。ハロペリドールフラグメントに対応するイオンのカウントの3つのピーク192は、同じ時間フレームにわたり得られるような質量スペクトル190において示される。   Referring now to FIG. 6, FIG. 6 illustrates a mass spectrum 190 generated using a known ion transport multipole assembly (not shown) that does not include a sleeve. Prior art multipole assemblies include a roughing pump that reduces the pressure in the multipole assembly. Prior art multipole assemblies also include a signal source for applying an RF signal to the poles of the multipole. Three peaks 192 of the count of ions corresponding to the haloperidol fragment are shown in the mass spectrum 190 as obtained over the same time frame.

質量スペクトル180および190を生成するために、レーザ174は各試験の最初に同じ時間だけ起動された。先行する試験からのイオンがイオン検出器によってもはやカウントされなくなったとき、引続きの試験が開始された。   To generate mass spectra 180 and 190, laser 174 was activated for the same time at the beginning of each test. Subsequent tests were initiated when ions from previous tests were no longer counted by the ion detector.

図5および図6を共に参照すると、質量スペクトル180および190が比較され得る。質量スペクトル190のピーク192は、質量スペクトル180におけるピーク182のピーク幅182wより広いピーク幅192wを有する。質量スペクトル190のピークのテール192tはまた、質量スペクトル180におけるピーク182のピーク幅182tより長い。ピークの合計長(ピーク幅をテール幅に結合する)は、ピーク192に関するよりピーク182に関して大幅に短い。ピーク182の高さは、ピーク192に関する約50,000cpsの高さに比較して、約120,000cpsである。最後に、ピーク182は互いに非常に類似している。比較すると、ピーク192は、類似していなく、事実、特にテール期間において全く異なっている。   Referring to FIGS. 5 and 6 together, mass spectra 180 and 190 can be compared. The peak 192 of the mass spectrum 190 has a peak width 192 w wider than the peak width 182 w of the peak 182 in the mass spectrum 180. The peak tail 192t of the mass spectrum 190 is also longer than the peak width 182t of the peak 182 in the mass spectrum 180. The total peak length (which combines the peak width with the tail width) is much shorter for peak 182 than for peak 192. The height of peak 182 is about 120,000 cps compared to the height of about 50,000 cps for peak 192. Finally, peaks 182 are very similar to each other. In comparison, the peak 192 is not similar and in fact is quite different, especially in the tail period.

気体チャネリングスリーブの使用は、ピーク182が、ピーク192より、狭く(ピーク幅、テール長および全長において)、ピーク高さにおいてはるかに大きく、面積および形状の点で再生可能であり、頻繁に生成されることを可能にする。さらに、ピーク182の形状は、ピーク192より一貫性があり、反復可能である。気体チャネリングスリーブの使用は、質量スペクトル190におけるピーク192より高く、狭く、近接する間隔のピーク182によって示されるように、イオンガイドによるイオンのより高いスループットを可能にする。   The use of a gas channeling sleeve is frequently generated, with peak 182 narrower (in peak width, tail length and overall length) than peak 192, much larger in peak height, reproducible in terms of area and shape. Makes it possible to Further, the shape of peak 182 is more consistent than peak 192 and is repeatable. The use of a gas channeling sleeve allows higher throughput of ions through the ion guide, as shown by peaks 182 that are higher, narrower, and closely spaced than peak 192 in mass spectrum 190.

オプションで、気体源は、イオンガイドのイオン入口端部110において気体を提供するために用いられ得る。そのような気体は、気体の流れ157の一部としてイオン移送空間を介して引かれる。そのような気体の流れを提供することは、気体の流れ157を増強し、イオン移送空間におけるイオンに対する軸方向の抵抗を増加させ、それによって、イオン入口端部110からイオン出口端部112にイオンをより効率的に運ぶ。   Optionally, a gas source can be used to provide gas at the ion inlet end 110 of the ion guide. Such gas is drawn through the ion transport space as part of the gas stream 157. Providing such a gas flow enhances the gas flow 157 and increases the axial resistance to ions in the ion transport space, thereby causing ions from the ion inlet end 110 to the ion outlet end 112. Carry more efficiently.

気体チャネリング技術は、任意の圧力レベルで動作するイオンガイドにおいて用いられ得る。該技術は、特に、0.1トル以上の圧力で動作するイオンガイドと共に用いることが有用である。但し、該技術はより低い圧力のイオンガイドと共に用いられ得る。   Gas channeling techniques can be used in ion guides operating at any pressure level. The technique is particularly useful with ion guides that operate at pressures of 0.1 Torr or higher. However, the technique can be used with lower pressure ion guides.

次に、図7を参照すると、図7は、第2の例示的なイオンガイド200を例示する。イオンガイド200は、イオンガイドのイオン入口端部においてスリーブ206に取り付けられるスリーブキャップ209を含む。この例において、スリーブキャップ209は円錐の形状をしている。本発明に従うイオンガイドアセンブリの他の例において、スリーブキャップは異なる形状であり、イオンガイド200のイオン入口端部においてスリーブ206を横切って延びる平らなキャップであり得る。   Reference is now made to FIG. 7, which illustrates a second exemplary ion guide 200. The ion guide 200 includes a sleeve cap 209 that is attached to the sleeve 206 at the ion inlet end of the ion guide. In this example, the sleeve cap 209 has a conical shape. In another example of an ion guide assembly according to the present invention, the sleeve cap is a different shape and may be a flat cap that extends across the sleeve 206 at the ion inlet end of the ion guide 200.

イオンは、イオン源からイオン移送空間256に入る。さらに、気体の流れ257は、キャップ開口部209において始まる。スリーブキャップ209は、イオン入口端部210の中への気体の流れを制限し、あら引きポンプ(または別の吸引デバイス)がイオン移送空間において圧力を設定するために用いられるとき、圧力差が、イオン移送空間256とMALDIイオン化領域との間(MALDIプレートとイオンガイドのイオン入口端部および隣接のマトリックス溶液との間)に作られることを可能にする。例えば、気体は、イオン化領域の中に抜かれ、イオン移送空間256において存在し得るより高い圧力型をイオン化領域において可能にし得る。   Ions enter the ion transport space 256 from the ion source. Further, the gas flow 257 begins at the cap opening 209. The sleeve cap 209 restricts the flow of gas into the ion inlet end 210 and when a roughing pump (or another suction device) is used to set the pressure in the ion transfer space, the pressure differential is Allowing it to be created between the ion transport space 256 and the MALDI ionization region (between the MALDI plate and the ion inlet end of the ion guide and the adjacent matrix solution). For example, the gas may be evacuated into the ionization region, allowing a higher pressure type in the ionization region that may exist in the ion transport space 256.

スリーブキャップ209はまた、マトリックス溶液244に隣接する、イオン除去の点の近くの気体抵抗を増加させることによって、キャップ開口部209を通る気体の流れを増強するように働き得る。イオン移送空間256に入るイオンの数は、増加した気体抵抗によって増加され得る。キャップはまた、イオンガイドアセンブリの前に(しかし固定されていない)配置される円錐の形態をとり得、圧力差のある領域を分離させる。これらの状況において、気体は円錐を介して拡張し、イオンガイド入口の中に入り、スリーブは、イオンガイドの全長に沿ってこの流れを補う。   The sleeve cap 209 may also serve to enhance gas flow through the cap opening 209 by increasing the gas resistance near the point of ion removal adjacent to the matrix solution 244. The number of ions entering the ion transport space 256 can be increased by the increased gas resistance. The cap may also take the form of a cone that is placed (but not fixed) in front of the ion guide assembly, separating the pressure differential areas. In these situations, the gas expands through the cone and enters the ion guide inlet, and the sleeve supplements this flow along the entire length of the ion guide.

次に、図8を参照すると、図8は、別の例示的なイオンガイド300を例示する。イオンガイド300は、互いに間隔をあけ配置される複数のイオン収束リング304を含む。RF信号源(図示されていない)は、第1のRF信号をリング304の第1のグループに印加し、第2のRF信号をリング304の第2のグループに印加する。本例において、リングは、第1および第2のグループの中に交互に設置され、その結果、第1のグループにおける各隣接する対のリングは、それらの間に第2のグループからのリングを有する。逆もまた同様である。第1および第2のRF信号は、イオンガイドの軸313に沿ってイオンを収束するように構成される。スリーブ306は取り付けブラケット302内に配置される。絶縁体308は、スリーブ306に取り付けられ、リング304は、絶縁体308に取り付けられる。絶縁体308は、摩擦または機械的もしくは接着性のファスナー(図示されていない)を用いて、スリーブ306およびリング304に取り付けられ得る。イオンガイド300は、ハウジング内に据え付けられ、吸引デバイスが連結され得るイオンガイドアセンブリを形成する。イオンガイド300はイオンガイド100と同じ方法で用いられ、イオン入口端部310からイオン出口端部312にイオンを移送する。吸引デバイスが起動されているとき、スリーブ306は、概ね、軸313に沿って気体の流れ357を運ぶ。リングは追加のDCオフセットを有し、気体の流れの他にイオンの動作をさらに促進する。   Reference is now made to FIG. 8, which illustrates another exemplary ion guide 300. The ion guide 300 includes a plurality of ion focusing rings 304 that are spaced apart from one another. An RF signal source (not shown) applies a first RF signal to the first group of rings 304 and a second RF signal to the second group of rings 304. In this example, the rings are placed alternately in the first and second groups so that each adjacent pair of rings in the first group has a ring from the second group between them. Have. The reverse is also true. The first and second RF signals are configured to focus ions along the axis 313 of the ion guide. A sleeve 306 is disposed in the mounting bracket 302. Insulator 308 is attached to sleeve 306 and ring 304 is attached to insulator 308. Insulator 308 may be attached to sleeve 306 and ring 304 using friction or mechanical or adhesive fasteners (not shown). The ion guide 300 is installed in a housing to form an ion guide assembly to which an aspiration device can be coupled. The ion guide 300 is used in the same manner as the ion guide 100 and transfers ions from the ion inlet end 310 to the ion outlet end 312. When the suction device is activated, the sleeve 306 carries a gas flow 357 generally along the axis 313. The ring has an additional DC offset to further facilitate ion motion in addition to gas flow.

次に、図9を参照すると、図9は、別の例示的なイオンガイド400を例示する。イオンガイド300と同様に、イオンガイド400は、イオン収束リング404を用いイオンガイドの軸に沿ってイオンを収束する。リング404は、リング間に取り付けられ隣接するリングを電気的に絶縁する絶縁体408によって離される。リング404および絶縁体408は、密閉され、側壁に沿って気体不浸透性であるシリンダーを形成する。リング404および絶縁体408は、不導体のプレート409を用いて取り付けブラケットに取り付けられる。気体不浸透性の側壁は、気体チャネリングスリーブ406として機能を果たし、別のスリーブは必要ない。イオンガイド400は、ハウジング内に取り付けられ、イオンガイドを形成する。吸引デバイスは、イオンガイド400の長さに沿って気体の流れ457を提供するために用いられる。気体の流れは、イオン入口端部410からイオン出口端部412にイオンを移送する。   Reference is now made to FIG. 9, which illustrates another exemplary ion guide 400. Similar to ion guide 300, ion guide 400 uses ion focusing ring 404 to focus ions along the axis of the ion guide. Rings 404 are separated by an insulator 408 attached between the rings to electrically insulate adjacent rings. Ring 404 and insulator 408 form a cylinder that is sealed and gas impermeable along the sidewalls. Ring 404 and insulator 408 are attached to the mounting bracket using a non-conductive plate 409. The gas impermeable sidewall serves as a gas channeling sleeve 406 and does not require a separate sleeve. The ion guide 400 is mounted within the housing and forms an ion guide. The suction device is used to provide a gas flow 457 along the length of the ion guide 400. The gas flow transfers ions from the ion inlet end 410 to the ion outlet end 412.

いくつかの例が記述された。気体チャネリングスリーブを用いるイオンガイドの特定の構造は、イオンガイドが共に用いられるデバイスの構造および動作によって、変更され得る。   Several examples have been described. The particular structure of the ion guide using a gas channeling sleeve can be altered by the structure and operation of the device with which the ion guide is used.

イオンガイド200に類似の他の例において、スリーブキャップは、スリーブ206と一体化して形成され得る。同様に、スリーブキャップは、スリーブ306と接続して用いられ得、スリーブキャップはイオンガイド400における側壁406に取り付けられ得る。あるいは、イオンガイド100、200、300および400は、気体の流れを制限する開口部または円錐の後に配置され得る。   In other examples similar to the ion guide 200, the sleeve cap may be formed integrally with the sleeve 206. Similarly, a sleeve cap can be used in connection with the sleeve 306, and the sleeve cap can be attached to the side wall 406 in the ion guide 400. Alternatively, the ion guides 100, 200, 300, and 400 can be placed behind an opening or cone that restricts gas flow.

気体チャネリングスリーブを用いるイオンガイドにおいて生成される気体の流れは、空間電荷斥力効果、または気体拡張から生じイオンガイド入口の中に入る追加の気体の流れを増加させ、多重極アセンブリを介してイオンの流れを増強する。イオン移送気体の流れはまた、イオン移送を増強し得るかまたは方向付け得る他の機構と共同して用いられ得る。例えば、傾いたロッドまたは抵抗性のロッドは、多重極アセンブリの長さに沿って一定でない場を作るために用いられ得る。RF信号のロッドへの印加はまた、多重極アセンブリに沿ってイオン移送を増強し得る。そのような実施形態において、第1および第2の極に印加されるRF信号は、等しい大きさではなく、互いに180°位相がずれていない場合もある。気体チャネリングスリーブの使用は、これらおよび他のイオン移送の構造および技術と共用できる。   The gas flow generated in the ion guide using the gas channeling sleeve increases the flow of additional gas resulting from space charge repulsive effects, or gas expansion, and into the ion guide inlet, and the ion flow through the multipole assembly. Strengthen the flow. The ion transport gas flow can also be used in conjunction with other mechanisms that can enhance or direct ion transport. For example, tilted rods or resistive rods can be used to create a non-constant field along the length of the multipole assembly. Application of the RF signal to the rod may also enhance ion transport along the multipole assembly. In such embodiments, the RF signals applied to the first and second poles may not be of equal magnitude and may not be 180 degrees out of phase with each other. The use of a gas channeling sleeve can be shared with these and other ion transport structures and techniques.

イオンガイド100および200は、四重極に関連して記述される。気体チャネリングスリーブは、5つ以上のロッドを有し、3つ以上の極を有し得る任意の多重極アセンブリと共に用いられ得る。   The ion guides 100 and 200 are described with respect to a quadrupole. The gas channeling sleeve has more than five rods and can be used with any multipole assembly that can have more than two poles.

これまでに記述された例は、主として、イオン移送空間内に気体の流れを提供しないイオン源に関連して例示されている。本技術はまた、エレクトロスプレーイオン源などの気体の流れ内にイオンを提供するイオン源と共に用いることにも適している。エレクトロスプレーイオン源は、イオンを移送する気体流にイオンを注入する。気体流は、イオンガイドの長さの少なくとも一部分にわたりイオンガイドの軸に沿ってイオンを移送する。本発明を用いて追加の気体の流れを生成することによって、そのようなイオン源からのイオンの移送が増強され得る。   The examples described so far are illustrated primarily in the context of an ion source that does not provide a gas flow within the ion transport space. The technology is also suitable for use with ion sources that provide ions in a gas stream, such as an electrospray ion source. Electrospray ion sources inject ions into a gas stream that transports the ions. The gas stream transports ions along the axis of the ion guide over at least a portion of the length of the ion guide. By generating additional gas streams using the present invention, the transport of ions from such ion sources can be enhanced.

出願人の教示の精神および範囲から逸脱することなく、様々な他の修正および変更がこれらの例示的な実施形態になされ得、該出願人の教示の精神および範囲は、添付の特許請求の範囲によってのみ限定される。   Various other modifications and changes may be made to these exemplary embodiments without departing from the spirit and scope of applicant's teachings, which are within the scope of the appended claims. Limited only by.

図1は、第1の例のイオンガイドの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of an ion guide of a first example. 図2は、第1の例のイオンガイドの斜視断面図である。FIG. 2 is a perspective sectional view of the ion guide of the first example. 図3は、第1のイオンガイドアセンブリの斜視断面図である。FIG. 3 is a perspective sectional view of the first ion guide assembly. 図4は、使用中の第1のイオンガイドアセンブリの断面側面図である。FIG. 4 is a cross-sectional side view of the first ion guide assembly in use. 図5は、第1の例のイオンガイドアセンブリを用いて生成される例の質量スペクトルである。FIG. 5 is an example mass spectrum generated using the ion guide assembly of the first example. 図6は、従来技術のイオンガイドを用いて生成される例の質量スペクトルである。FIG. 6 is an example mass spectrum generated using a prior art ion guide. 図7は、第2の例のイオンガイドの斜視断面図である。FIG. 7 is a perspective sectional view of the ion guide of the second example. 図8は、第3の例のイオンガイドの斜視断面図である。FIG. 8 is a perspective sectional view of the ion guide of the third example. 図9は、第4の例のイオンガイドの斜視断面図である。FIG. 9 is a perspective sectional view of the ion guide of the fourth example.

Claims (19)

イオンを移送する方法であって、
該方法は、
単一の圧力領域内にイオンガイドを提供することであって、該イオンガイドは、イオン入口端部およびイオン出口端部を有する、ことと、
該イオンガイド内にイオン収束場を提供することと、
該イオンガイドの周りに気体チャネリングスリーブを配置することと、
該気体チャネリングスリーブを介して気体を吸引することにより、該イオン入口端部から該イオン出口端部に隣接する領域該イオン収束場に沿って気体の流れを生成することと
を包含する、方法。
A method for transporting ions comprising:
The method
Providing an ion guide within a single pressure region, the ion guide having an ion inlet end and an ion outlet end;
Providing an ion focusing field within the ion guide;
Disposing a gas channeling sleeve around the ion guide;
By sucking the gas through the gas channeling sleeve includes the fact that from the ion entrance end to a region adjacent to said ion exit end along said ion focusing field to generate a flow of gas, the method .
前記イオンガイドは、少なくとも2つの極を有する多重極のイオンガイドであり、前記イオン収束場は、無線周波数信号を該極に印加することによって提供される、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein the ion guide is a multipole ion guide having at least two poles, and the ion focusing field is provided by applying a radio frequency signal to the poles. 前記イオンガイドは、点在する絶縁体によって分離される複数の電導性リングから形成され、各絶縁体は、隣接するリングに対して封印され、前記気体の流れは、該リングおよび該絶縁体を介して気体を吸引することによって生成される、請求項1に記載の方法。   The ion guide is formed from a plurality of conductive rings separated by interspersed insulators, each insulator being sealed against an adjacent ring, and the flow of gas to the ring and the insulator. The method of claim 1, wherein the method is generated by aspirating gas through. 前記イオンガイドは、互いに間隔を置いて配置される複数のリングから構成され、前記気体の流れは、該リングの周りに前記気体チャネリングスリーブを配置し、かつ、該気体チャネリングスリーブを介して気体を吸引することによって生成される、請求項1に記載の方法。   The ion guide is composed of a plurality of rings that are spaced apart from each other, and the gas flow is arranged such that the gas channeling sleeve is arranged around the ring, and gas is passed through the gas channeling sleeve. The method of claim 1, wherein the method is generated by aspiration. 前記極は、第1の極および第2の極を含み、前記イオン収束場は、第1のRF信号を該第1の極に印加し、第2のRF信号を該第2の極に印加することによって生成され、該第1のRF信号および該第2のRF信号は、ほぼ等しい大きさを有するが、互いに180°位相がずれている、請求項2に記載の方法。   The pole includes a first pole and a second pole, and the ion focusing field applies a first RF signal to the first pole and a second RF signal to the second pole. The method of claim 2, wherein the first RF signal and the second RF signal have substantially equal magnitudes but are 180 degrees out of phase with each other. 前記イオンガイドの前記イオン入口端部に隣接して配置されるイオン源からイオンを生成することをさらに包含し、該生成されたイオンは、前記気体の流れによって、該イオンガイドのイオン入口端部から該イオンガイドのイオン出口端部に向けて移送される、請求項1に記載の方法。 The ion guide wherein ions inlet end further includes a generating ions from an ion source which is positioned adjacent to the, the generated ions by the flow of the gas, ion entrance end of the ion guide from being transported toward the ion exit end of the ion guide method according to claim 1. 前記イオンガイドに対して上昇した圧力においてイオンを生成することと、該イオンガイドに入る前に1つ以上の圧力分化要素を介して該イオンを通過させることとをさらに包含する、請求項1に記載の方法。   2. The method of claim 1, further comprising generating ions at an elevated pressure relative to the ion guide and passing the ions through one or more pressure differentiation elements prior to entering the ion guide. The method described. 追加の気体の流れは、前記イオンガイドの前記イオン入口端部を介して生成される、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein an additional gas flow is generated through the ion inlet end of the ion guide. 前記追加の気体の流れは、前記イオン入口端部において制限される、請求項に記載の方法。 9. The method of claim 8 , wherein the additional gas flow is restricted at the ion inlet end. 前記気体の流れは、前記イオンガイドの前記イオン入口端部を介して生成される、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein the gas flow is generated through the ion inlet end of the ion guide. 前記気体の流れは、前記イオン入口端部において制限される、請求項10に記載の方法。 The method of claim 10 , wherein the gas flow is restricted at the ion inlet end. イオンガイドであって、
(a)軸の周りに配置される複数のイオン収束要素と、
(b)該軸に沿って間隔を置いて配置されるイオン入口端部およびイオン出口端部と、
(c)該イオン入口端部から該イオン出口端部に隣接する領域へ該軸に沿って気体の流れを運ぶための気体チャネリングスリーブであって、該イオンガイドは、単一の圧力領域内に配置される、気体チャネリングスリーブと、
(d)該気体チャネリングスリーブを介して気体の流れを吸引するための吸引デバイスと
を備えている、イオンガイド。
An ion guide,
(A) a plurality of ion focusing elements disposed about an axis;
(B) an ion inlet end and an ion outlet end that are spaced along the axis;
(C) a gas channeling sleeve for carrying a gas flow along the axis from the ion inlet end to a region adjacent to the ion outlet end , wherein the ion guide is within a single pressure region; A gas channeling sleeve disposed;
And (d) through the gas channeling sleeve and a suction device for sucking a flow of the gas, the ion guide.
前記イオン収束要素は、第1の極および第2の極を含み、該第1の極は、少なくとも2つの第1の極ロッドを含み、該第2の極は、少なくとも2つの第2の極ロッドを含み、前記気体チャネリングスリーブは、該第1の極ロッドおよび該第2の極ロッドの周りに配置される、請求項12に記載のイオンガイド。 The ion focusing element includes a first pole and a second pole, the first pole includes at least two first pole rods, and the second pole includes at least two second poles. 13. The ion guide of claim 12 , comprising a rod, wherein the gas channeling sleeve is disposed about the first pole rod and the second pole rod. 前記イオンガイドは、イオン入口端部およびイオン出口端部を有し、前記気体チャネリングスリーブは、該イオン入口端部該イオン出口端部との間に延びる、請求項13に記載のイオンガイド。 Said ion guide comprises an ion inlet end and the ion exit end, said gas channeling sleeve extends between said ion inlet end and the ion exit end, the ion guide of claim 13. 前記イオン入口端部に隣接する前記気体チャネリングスリーブに取り付けられるスリーブキャップをさらに備え、該スリーブキャップは、イオンが前記イオンガイドに入ることを可能にするキャップアパーチャを有する、請求項14に記載のイオンガイド。 Further comprising a sleeve cap mounted on said gas channeling sleeve adjacent said ion inlet end, the sleeve cap has a cap aperture to allow the ions entering the ion guide of claim 14 ions guide. 前記イオン収束要素は、絶縁体によって分離される複数のリングを含み、該リングおよび絶縁体は、一緒に前記気体チャネリングスリーブを形成する、請求項12に記載のイオガイド。 The ion guide of claim 12 , wherein the ion focusing element includes a plurality of rings separated by an insulator, the rings and the insulator together forming the gas channeling sleeve. 前記イオン収束要素は、前記軸の周りに配置され、かつ、前記気体チャネリングスリーブ内に配置される複数のリングを含む、請求項12に記載のイオンガイド。 The ion guide of claim 12 , wherein the ion focusing element includes a plurality of rings disposed about the axis and disposed within the gas channeling sleeve. イオン入口端部およびイオン出口端部を有するイオンガイドアセンブリであって、
(a)軸の周りに配置される複数のイオン収束要素と、
(b)該イオン入口端部から該イオン出口端部に隣接する領域へ該軸に沿って気体の流れを運ぶための気体チャネリングスリーブと、
(c)該気体チャネリングスリーブを介して気体を吸引するための吸引デバイスであって、該イオンガイドアセンブリは、単一の圧力領域内に配置されている、吸引デバイスと
を備えている、イオンガイドアセンブリ。
An ion guide assembly having an ion inlet end and an ion outlet end comprising:
(A) a plurality of ion focusing elements disposed about an axis;
(B) a gas channeling sleeve for carrying a gas flow along the axis from the ion inlet end to a region adjacent to the ion outlet end ;
(C) an aspiration device for aspirating gas through the gas channeling sleeve, wherein the ion guide assembly comprises an aspiration device disposed within a single pressure region assembly.
前記イオン入口端部に隣接する前記気体チャネリングスリーブに取り付けられるスリーブキャップをさらに備えている、請求項18に記載のイオンガイドアセンブリ。 The ion guide assembly of claim 18 , further comprising a sleeve cap attached to the gas channeling sleeve adjacent to the ion inlet end.
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