JP5551008B2 - Forming roll and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は成形ロールに関し、さらに詳しくは、炭素鋼、合金鋼、ステンレス鋼などからなるロール胴部表面にアモルファス状ニッケル合金層を有し、さらにそのアモルファス状ニッケル合金層上に硬質クロム層を有する、プラスチックシートやプラスチックフィルム、特に光学シートや光学フィルムの成形に適したロールに関する。 The present invention relates to a forming roll. More specifically, the present invention has an amorphous nickel alloy layer on the surface of a roll body made of carbon steel, alloy steel, stainless steel, and the like, and further has a hard chromium layer on the amorphous nickel alloy layer. The present invention relates to a roll suitable for molding a plastic sheet or a plastic film, particularly an optical sheet or an optical film.
金属表面上に硬質クロムめっき層を析出させ、グラインダ研磨、バフ研磨、砥石研磨などの物理的な研磨法で硬質クロムめっきを平滑に仕上げて鏡面にしたロールはよく知られている。また、硬質クロムめっき皮膜は、その高い電着応力によりミクロクラックを内在していることもよく知られている。硬質クロムめっきは、高硬度、耐摩耗性、離型性、優れた光の反射率、耐食性等の金属皮膜としてのあらゆる特性が優れているために、従来から金型、各種の産業用ロール、ピストンロッド等に被覆され、機能性皮膜として多用されている。また、装飾的な用途においても、装飾クロムとして、高硬度と、特有の金属光沢と、外観が変化せずに光沢が長く持続するという特長があって、古くからあらゆる装飾分野で利用されてきた。 A roll in which a hard chrome plating layer is deposited on a metal surface, and the hard chrome plating is smoothly finished to a mirror surface by a physical polishing method such as grinder polishing, buff polishing, or grindstone polishing is well known. It is also well known that hard chromium plating films contain microcracks due to their high electrodeposition stress. Hard chrome plating has excellent properties such as high hardness, wear resistance, mold releasability, excellent light reflectivity, corrosion resistance and other metal coatings. It is covered with a piston rod and is often used as a functional coating. Also for decorative applications, it has been used in decorative fields for a long time as a decorative chrome because of its high hardness, unique metallic luster, and long lasting luster without changing its appearance. .
しかし、一方で、金属皮膜中にミクロクラックを内在していることは、クロムめっき自体の耐食性が優れていても、時に致命的な欠陥となる。そのクラックを介して、水分、二酸化硫黄、塩化物イオン等の腐食誘発成分が浸透していき、クロムめっき自体は腐食しないけれども、局部電池作用で下地の金属が腐食されるために、製品寿命が短くなる。 However, the presence of microcracks in the metal film is sometimes a fatal defect even if the corrosion resistance of the chromium plating itself is excellent. Although corrosion-inducing components such as moisture, sulfur dioxide, and chloride ions permeate through the crack, and the chrome plating itself does not corrode, the underlying metal is corroded by the local battery action, so the product life is shortened. Shorter.
例えば、この種の先行技術を開示した文献として、特許文献1は、もともとクロムめっきに存在するクラックの拡大防止と、ロール構成材の防食対策を目的として、下地金属と硬質クロムめっき層との間の中間層に、クラックがなく、柔軟性があって、下地金属を完全に保護できる電気ニッケルめっきを用いたキャストドラムを開示している。しかし、ニッケルめっきの中間層が存在しても、クロムめっきに存在するミクロクラックがなくなるわけではなく、目視で観察できないだけである。このようにして硬質クロムめっきを被覆したものは、ニッケルめっきの中間層が柔軟であるため、各種の研削工程や研磨工程を経ることにより、埋没した研磨砥粒や脱落した研磨砥粒に起因して、中間層上に被覆した硬質クロムめっき表面にピットやピンホールやスクラッチなどの欠陥ができることがある。その場合、硬質クロムめっき表面に生じた欠陥を補修して再度クロムめっきをする、いわゆる2層のクロムめっき皮膜形成工程が必要である。その結果、鏡面を有する硬質クロムめっき層を得るためには、多くの加工時間と労力が必要となる。 For example, as a document disclosing the prior art of this type, Patent Document 1 discloses that between the base metal and the hard chromium plating layer for the purpose of preventing the expansion of cracks originally present in the chromium plating and the anti-corrosion measures for the roll components. A cast drum using electro-nickel plating that is free from cracks, has flexibility, and can completely protect the base metal is disclosed. However, even if there is an intermediate layer of nickel plating, the microcracks present in the chromium plating are not eliminated, and they cannot be observed visually. In this way, since the nickel plating intermediate layer is flexible, the one coated with hard chrome plating is caused by buried abrasive grains or dropped abrasive grains through various grinding and polishing processes. As a result, defects such as pits, pinholes, and scratches may be formed on the hard chrome plating surface coated on the intermediate layer. In that case, a so-called two-layer chromium plating film forming step of repairing a defect generated on the hard chromium plating surface and performing chromium plating again is necessary. As a result, in order to obtain a hard chromium plating layer having a mirror surface, a lot of processing time and labor are required.
特許文献2には、炭素繊維強化樹脂製ロールの表面に、無電解めっき受容性の樹脂薄膜と、無電解めっき層と、電気めっきによる銅やニッケルの中間層と、硬質クロムめっきからなる最外層とをこの順番で形成し、バフ研磨によって表面を平滑に仕上げた樹脂ローラーが開示されている。しかし、積極的に硬質クロムめっきのクラックを防止しようとするものではなく、表面粗さを0.1μmRy以下にすることは開示されていない。 In Patent Document 2, an electroless plating-accepting resin thin film, an electroless plating layer, an intermediate layer of copper or nickel by electroplating, and an outermost layer made of hard chromium plating are provided on the surface of a roll made of carbon fiber reinforced resin. And a resin roller having a smooth surface finished by buffing. However, it does not actively prevent cracks in hard chrome plating, and it is not disclosed that the surface roughness is 0.1 μm Ry or less.
特許文献3と4と5は、クロムめっきの引張残留応力をパルス電解法でコントロールすることにより、圧縮側の残留応力とすることでクラックのないクロムめっきを得る方法を開示している。これら文献に開示された方法は、いずれもめっき用電源としてパルス波を出力できる、特殊で高価な電源設備を必要としており、また適用できる条件幅に制約がある。さらに、パルス波出力用電源設備の致命的な問題として、大容量の電源設備を作製する場合、直流をオフとしたときに生じる残余電流の問題がある。大容量の整流器ほど、この影響を受けるので、理想形状のパルスパターンを得ることが原理的に困難である。その上、パルス電源を利用したからといって、介在物の多い鋼材の表面に被覆するクロムめっき表面を無欠陥とすることは現実的に極めて困難である。 Patent Documents 3, 4 and 5 disclose a method of obtaining chromium plating without cracks by controlling the tensile residual stress of chromium plating by a pulse electrolysis method to obtain residual stress on the compression side. All of the methods disclosed in these documents require special and expensive power supply equipment that can output a pulse wave as a power supply for plating, and there are restrictions on the applicable condition range. Further, as a fatal problem of the power supply equipment for pulse wave output, there is a problem of residual current that occurs when direct current is turned off when producing a large capacity power supply equipment. Larger capacity rectifiers are affected by this effect, so it is theoretically difficult to obtain an ideally shaped pulse pattern. Moreover, it is practically very difficult to make the chrome plating surface coated on the surface of the steel material with many inclusions defect-free even by using the pulse power source.
近年、光学的な用途に利用するプラスチックフィルムやシートの生産が増加しており、これらの用途で使用される成形ロールに被覆される硬質クロムめっきに対する要求表面性状としては、表面粗さが0.1μmRy以下の鏡面が必要とされている。この表面粗さは、従来からのラッピングやポリッシングの方法で、ほぼ達成することは可能である。また、それによって、もともと存在するクラック自体は塞がれた状態になる。然るに、成形対象である溶融したプラスチックからの熱サイクルを繰り返し受ける成形ロールの場合、成形時に受ける熱サイクルにより硬質クロムめっきにもともと内在するクラックが早期に露呈してきて、成形されるフィルムやシートの表面にクラックパターンが転写されるという問題がある。また、別の問題として、使用中にクロムめっきに内在するクラックが発達して、そのクラックに異物(オリゴマー)が付着および堆積して、成形されたプラスチックフィルムやシートが成形ロールから剥離し難くなるとともに、その異物が成形製品に付着してしまうというような基本的な問題がある。 In recent years, the production of plastic films and sheets used for optical applications has increased, and the required surface properties for hard chromium plating coated on the forming rolls used in these applications are as follows. A mirror surface of 1 μm Ry or less is required. This surface roughness can be almost achieved by conventional lapping and polishing methods. In addition, the originally existing crack itself is closed. However, in the case of a molding roll that repeatedly receives thermal cycles from the molten plastic that is the molding target, the cracks inherent in the hard chrome plating are exposed early due to the thermal cycles received during molding, and the surface of the film or sheet to be molded However, there is a problem that the crack pattern is transferred. Another problem is that a crack inherent in chrome plating develops during use, and foreign matter (oligomer) adheres to and accumulates on the crack, making it difficult for the molded plastic film or sheet to peel off from the molding roll. In addition, there is a basic problem that the foreign matter adheres to the molded product.
上記のように、従来の硬質クロムめっきは、ミクロクラックを内在したまま仕上げ加工されており、クラックは無くなっていない。また、特殊なパルス電源を利用してクラックのないクロムめっきを得る方法は、適用できる電流値の問題からあらゆるロールに適用できないという問題と、クロムめっきの引張残留応力値を圧縮側にコントロールするための条件的な制約がある。さらに、下地金属に起因して硬質クロムめっき表面に発生するピットやピンホールやスクラッチなどの欠陥を根本的に無くすものでもない。 As described above, the conventional hard chrome plating is finished with micro cracks inherent, and the cracks are not lost. In addition, the method of obtaining chromium plating without cracks using a special pulse power supply is not applicable to any roll due to the problem of applicable current value, and to control the tensile residual stress value of chromium plating to the compression side. There are conditional constraints. Further, it does not fundamentally eliminate defects such as pits, pinholes, and scratches generated on the hard chrome plating surface due to the base metal.
本発明は従来の技術の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであって、その目的は、硬質クロムめっきに固有の高硬度と離型性を維持しつつ、クラックのない硬質クロムめっき層を有する成形ロールおよびその製造方法を提供することにある。また、本発明の目的は、傷が付きにくい成形ロールおよびその製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and the object thereof is hard chromium plating without cracks while maintaining the high hardness and releasability inherent in hard chromium plating. It is providing the forming roll which has a layer, and its manufacturing method. Another object of the present invention is to provide a forming roll that is not easily damaged and a method for producing the same.
上記目的を達成するために、本発明の成形ロールは、鋼材からなるロール胴部表面にアモルファス状ニッケル合金層が被覆され、当該アモルファス状ニッケル合金層上に0.1μmRy以下の表面粗さを有する硬質クロムめっき層が被覆されていることを特徴としている。本発明における表面粗さの表記であるμmRyは、1994年制定のJIS規格による。
ロール胴部表面に被覆したアモルファス状ニッケル合金層を研磨したものにクロムめっき層が被覆され、当該クロムめっき層を研磨することによって0.1μmRy以下の表面粗さを有する硬質クロムめっき層を得ることが好ましい。
In order to achieve the above object, the forming roll of the present invention has an amorphous nickel alloy layer coated on the surface of a roll body made of steel, and has a surface roughness of 0.1 μm Ry or less on the amorphous nickel alloy layer. The hard chrome plating layer is covered. ΜmRy, which is a notation of surface roughness in the present invention, is based on the JIS standard established in 1994.
A hard chromium plating layer having a surface roughness of 0.1 μm Ry or less is obtained by polishing the amorphous nickel alloy layer coated on the surface of the roll body with a chromium plating layer and polishing the chromium plating layer. Is preferred.
アモルファス状ニッケル合金は、ニッケル−リン合金、ニッケル−タングステン合金およびニッケル−タングステン−リン合金の中のいずれかから選択することができる。 The amorphous nickel alloy can be selected from any of a nickel-phosphorus alloy, a nickel-tungsten alloy, and a nickel-tungsten-phosphorus alloy.
アモルファス状ニッケル合金層は、めっき法で被覆され、0.1μmRy以下の表面粗さに研磨することが好ましく、0.05μmRy以下の表面粗さに研磨することがさらに好ましい。 The amorphous nickel alloy layer is coated by a plating method and is preferably polished to a surface roughness of 0.1 μmRy or less, more preferably polished to a surface roughness of 0.05 μmRy or less.
硬質クロムめっき層の厚さは、0.1〜1.0μmであることが好ましく、0.05〜0.5μmであることがさらに好ましい。 The thickness of the hard chromium plating layer is preferably 0.1 to 1.0 μm, and more preferably 0.05 to 0.5 μm.
クロムめっき層は、フェルトまたはスエードクロスからなる研磨パッドと、平均粒径が10μm以下の酸化物を含む遊離砥粒により研磨され、表面粗さが0.05μmRy以下であることが好ましい。本発明における平均粒径とは、当該物質の粒径分布における最小粒径と最大粒径の算術平均値をいう。 The chromium plating layer is preferably polished with a polishing pad made of felt or suede cloth and free abrasive grains containing an oxide having an average particle diameter of 10 μm or less, and the surface roughness is preferably 0.05 μm Ry or less. The average particle size in the present invention refers to an arithmetic average value of the minimum particle size and the maximum particle size in the particle size distribution of the substance.
本発明の成形ロールの製造方法は、鋼材からなるロール胴部表面にアモルファス状ニッケル合金層を被覆し、次に、当該アモルファス状ニッケル合金層を研磨し、研磨後のアモルファス状ニッケル合金層上にクロムめっき層を被覆し、さらに、当該クロムめっき層を研磨することによって0.1μmRy以下の表面粗さを有する硬質クロムめっき層が最外部に被覆されている成形用ロールを製造することを特徴としている。 In the method for producing a forming roll of the present invention, the surface of a roll body made of steel is coated with an amorphous nickel alloy layer, then the amorphous nickel alloy layer is polished, and the polished amorphous nickel alloy layer is formed on the surface. It is characterized by producing a forming roll in which a hard chromium plating layer having a surface roughness of 0.1 μm Ry or less is coated on the outermost surface by coating the chromium plating layer and polishing the chromium plating layer. Yes.
本発明の成形ロールは、最外部のクロムめっき層の内部にミクロクラックを内在していないので、クラックの転写やロール表面へのオリゴマー等の異物の付着がなく、ロール表面をクリーニングするために生産を中断する必要がなく、光学用途のプラスチックフィルムやプラスチックシートの成形に適用した場合において、フィルムやシートの安定生産に大きく寄与し、かかる産業の発達に大きく貢献することができる。 The forming roll of the present invention does not contain microcracks inside the outermost chromium plating layer, so there is no transfer of cracks or adhesion of foreign substances such as oligomers to the roll surface, and it is produced to clean the roll surface. When applied to the molding of plastic films and plastic sheets for optical applications, it can greatly contribute to the stable production of films and sheets, and can greatly contribute to the development of such industries.
また、中間層はアモルファス状ニッケル合金層からなり、硬度がHV500〜600であって焼き入れ鋼並みに硬く、外部からの荷重にも十分耐えることができるので、最外部のクロムめっき層を補強して外的応力による変形を防止しやすくなる。さらに、中間層はアモルファス状ニッケル合金層からなるので、皮膜欠陥がほとんどなく、中間層上に被覆した硬質クロムめっき層表面にピットやピンホールやスクラッチなどの欠陥が発生しにくい。そして、最外部の薄膜のクロムめっき層が損傷した場合、損傷した最外部の薄膜のクロムめっき層を化学的な方法(例えば、溶解)で簡単に除去し、無傷の中間層上に新たなクロムめっき層を被覆することで、経済的に再生することができる。 In addition, the intermediate layer is made of an amorphous nickel alloy layer, has a hardness of HV500-600, is as hard as hardened steel, and can withstand loads from the outside, so the outermost chromium plating layer is reinforced. This makes it easier to prevent deformation due to external stress. Furthermore, since the intermediate layer is made of an amorphous nickel alloy layer, there are almost no film defects, and defects such as pits, pinholes, and scratches are unlikely to occur on the surface of the hard chromium plating layer coated on the intermediate layer. If the outermost thin chrome plating layer is damaged, the damaged outermost thin chrome plating layer can be easily removed by chemical methods (eg, dissolution), and new chrome is applied to the intact intermediate layer. By covering the plating layer, it can be economically regenerated.
(1)事前の検討
本発明者等は、表面粗さが0.1μmRy以下である鏡面のロールを得るために、パルス電解法によらない方法を選択した。クロムめっき浴としては、最も利用されているサージェント浴を利用して、浴温度、電流密度などのパラメーターの数値を変化させて実験した。その結果、70℃以上の高温度でクロムめっきをすると、クラックのないクロムめっき皮膜が得られたが、HV500以下の硬度となり、硬質クロムとは言えないものであった。これでは、耐傷性の観点から、到底本発明の対象とするプラスチックフィルムやプラスチックシートの成形に適用できない。
(1) Prior examination In order to obtain a mirror roll having a surface roughness of 0.1 μmRy or less, the present inventors selected a method that does not depend on the pulse electrolysis method. As a chromium plating bath, an experiment was performed by changing the numerical values of parameters such as bath temperature and current density, using the most utilized surge bath. As a result, when chromium plating was performed at a high temperature of 70 ° C. or higher, a crack-free chromium plating film was obtained, but it had a hardness of HV500 or less and could not be said to be hard chromium. Thus, from the viewpoint of scratch resistance, it cannot be applied to the molding of plastic films and plastic sheets that are the subject of the present invention.
一方、クロムめっきの析出機構は古くから研究されており、クラック発生のメカニズムもほぼ明らかにされており、クロムめっきの大きな引張残留応力がクラックの原因とされている。例えば、クロムめっきと称する公知文献(日刊工業新聞社により昭和39年6月20日発行、著者 岸 松平)によれば、クロムメッキのクラックは、めっき層の内部応力がクロム原子相互の引き合う力を超えると発生し、そのままめっきを継続すると、めっき層の内部応力がクロム原子相互の引き合う力を超えるとクラックが発生するとされている。従って、クロムめっきの膜厚が薄い場合には、クラックは発生していない筈である。しかし、この場合、クラックのないクロムめっきを得ることができるめっき層膜厚の上限値は明らかにされていないけれども、少なくとも装飾クロムめっきに関してJISで基準化されている0.25μm厚までは、クラックが存在しないというのが当業者に共通する認識である。 On the other hand, the deposition mechanism of chromium plating has been studied for a long time, and the mechanism of crack generation has also been clarified, and the large residual tensile stress of chromium plating is the cause of cracks. For example, according to a well-known document called chrome plating (published June 20, 1964 by Nikkan Kogyo Shimbun, author Matsudaira Kishi), cracks in chrome plating are caused by the internal stress of the plating layer attracting each other's chrome atoms. It is said that if it exceeds, the plating is continued as it is, and if the internal stress of the plating layer exceeds the mutual attractive force of chromium atoms, cracks are supposed to occur. Therefore, when the chromium plating film is thin, cracks should not occur. However, in this case, although the upper limit value of the plating layer thickness that can obtain chromium plating without cracks is not clarified, at least up to 0.25 μm thickness standardized by JIS for decorative chromium plating, It is a common recognition to those skilled in the art that no exists.
(2)めっき層の膜厚とクラックの発生
そこで、クラックの生成しない硬質クロムめっき条件を見出すために、以下のような実験を行った。試験片としては、縦が50mmで横が50mmの正方形で10mm厚さのS50Cの炭素鋼を用い、その試験片の表面を0.1μmRy粗さに研磨した。そして、そのS50Cの試験片を、無水クロム酸が250g/literで、硫酸が2.5g/literである組成のクロムめっき浴に浸漬して、浴温を50℃、電流密度を25A/dm2として固定し、電解時間を変化させることによってクロムめっき厚みを変化させた。そして、クロムめっき後のS50Cの試験片の表面を顕微鏡で拡大観察(100倍)することによってクラックの有無を調査するとともに、表面粗さを測定した。そして、クロムめっきしたS50Cの試験片を100℃、200℃、300℃、350℃の各温度で1時間保持した後、20℃の冷水中へ投入するという熱衝撃試験を行い、熱衝撃試験後のS50Cの試験片の表面を顕微鏡で拡大観察(100倍)することによってクラックの有無を調査した。以上のクラックの有無と表面粗さの測定結果を以下の表1に示す。表1において、記号「○」は試験片にクラックが発生しなかったことを示し、「△」は試験片の一部にクラックが発生したことを示し、「×」は試験片にクラックが明確に発生したことを示す。また、表面粗さの測定は、東京精密社製のサーフコム480Aによった。
(2) Film thickness of plating layer and generation of cracks Therefore, in order to find out hard chrome plating conditions in which no cracks were generated, the following experiment was performed. As a test piece, a S50C carbon steel having a length of 50 mm and a width of 50 mm and a thickness of 10 mm was used, and the surface of the test piece was polished to a roughness of 0.1 μm Ry. Then, the S50C test piece was immersed in a chromium plating bath having a composition of chromic anhydride of 250 g / liter and sulfuric acid of 2.5 g / liter, and the bath temperature was 50 ° C. and the current density was 25 A / dm 2. The thickness of the chrome plating was changed by changing the electrolysis time. And the presence or absence of a crack was investigated and the surface roughness was measured by magnifying and observing the surface of the test piece of S50C after chromium plating with a microscope (100 times). Then, after holding the chrome-plated S50C test piece at 100 ° C., 200 ° C., 300 ° C., and 350 ° C. for 1 hour and then putting it into cold water at 20 ° C., after the thermal shock test The presence or absence of cracks was investigated by magnifying and observing the surface of the S50C test piece with a microscope (100 times). The presence or absence of the above cracks and the measurement results of the surface roughness are shown in Table 1 below. In Table 1, the symbol “◯” indicates that no crack was generated in the test piece, “Δ” indicates that a crack was generated in a part of the test piece, and “×” indicates that the test piece was clearly cracked. Indicates that this occurred. The surface roughness was measured with Surfcom 480A manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.
表1によれば、クロムめっき層の膜厚と熱衝撃試験温度の間には相関があり、めっきのままでクラックを生じない膜厚(0.2〜1.0μm)であれば、プラスチックフィルムやプラスチックシートの製造工程で一般的に実施されている300℃までの温度域での熱衝撃試験でもクラックを生じないことを発見した。図1は、クロムめっき膜厚が2.0μmの表面を拡大観察した写真であり、図2はクロムめっき膜厚が1.0μmの表面を拡大観察した写真である。図1には明らかにクラックの発生(左上方から右下方に至る数本の線)が認められるが、図2にはこのようなクラックは見られない。 According to Table 1, there is a correlation between the film thickness of the chrome plating layer and the thermal shock test temperature, and if it is a film thickness (0.2 to 1.0 μm) that does not cause cracks as it is plated, the plastic film In the thermal shock test in the temperature range up to 300 ° C., which is generally performed in the manufacturing process of plastic sheets, it was found that no cracks occur. FIG. 1 is an enlarged photograph of a surface having a chromium plating film thickness of 2.0 μm, and FIG. 2 is an enlarged photograph of a surface having a chromium plating film thickness of 1.0 μm. FIG. 1 clearly shows the occurrence of cracks (several lines from the upper left to the lower right), but FIG. 2 does not show such cracks.
また、表1より、クロムめっき厚とクロムめっき被覆後の表面粗さとの関係については、クロムめっき厚が増加するに伴い、表面粗さが大きくなる傾向にあり、このままでは、目標とする表面粗さ(0.1μmRy)を達成できないことが分かった。
そこで、クロムめっき条件を変化させて、めっき膜厚とクラック発生、めっき膜厚と熱衝撃試験後のクラック発生、めっき膜厚と表面粗さの関係について実験を繰り返した。その結果、めっき膜厚とクラック発生との関係については、浴組成として無水クロム酸が200〜300g/literで硫酸が2〜3g/liter、浴温が45〜55℃、電流密度が10〜35A/dm2である範囲において、表1の熱衝撃試験の結果をほぼ再現できることが分かった。また、クロムめっき厚の範囲としては0.2〜1.0μmが好ましいことが分かった。
From Table 1, the relationship between the chrome plating thickness and the surface roughness after chrome plating coating tends to increase as the chrome plating thickness increases. (0.1 μm Ry) was not achieved.
Therefore, the experiment was repeated with respect to the relationship between the plating film thickness and crack generation, the plating film thickness and crack generation after the thermal shock test, and the relationship between the plating film thickness and the surface roughness by changing the chromium plating conditions. As a result, regarding the relationship between the plating film thickness and the occurrence of cracks, the chromic anhydride is 200 to 300 g / liter, the sulfuric acid is 2 to 3 g / liter, the bath temperature is 45 to 55 ° C., and the current density is 10 to 35 A. In the range of / dm 2 , it was found that the results of the thermal shock test shown in Table 1 can be almost reproduced. Moreover, it turned out that 0.2-1.0 micrometer is preferable as a range of chromium plating thickness.
(3)0.1μmRy以下の表面粗さを達成するための手段
0.1μmRy以下の表面粗さを有する硬質クロムめっき層が被覆されている成形ロールを提供するという課題を解決するためには、クロムめっき層の金属下地の平滑度を上げるか、クロムめっき層の下層として平滑化しやすくてクラックのない中間層を設けるか、又は薄膜のクロムめっき層を研磨するかのいずれかの方法を選択することができる。これらの中で、クロムめっき層の金属下地の平滑度を上げる方法は、もともと鉄鋼材料は成分的に不均一で非金属介在物を含有しているために、クロムめっき層にピンホールやザラツキなどの欠陥を生じやすいという欠点がある。また、クロムめっき層を研磨して平滑化するには、膜厚が薄すぎて通常の研磨方法を利用できない。
そこで、本発明者等は、0.1μmRy以下の表面粗さを有する硬質クロムめっき層をその上部に形成することのできる中間層について、以下のように検討した。
(3) Means for achieving a surface roughness of 0.1 μm Ry or less In order to solve the problem of providing a forming roll coated with a hard chromium plating layer having a surface roughness of 0.1 μm Ry or less, Choose between increasing the smoothness of the metal base of the chrome plating layer, providing an intermediate layer that is easy to smooth as a lower layer of the chrome plating layer and is free of cracks, or polishing the thin chrome plating layer be able to. Among them, the method of increasing the smoothness of the metal base of the chrome plating layer is because the steel material is originally non-uniform in composition and contains non-metallic inclusions. There is a drawback that it is easy to cause defects. Further, in order to polish and smooth the chrome plating layer, the film thickness is too thin to use a normal polishing method.
Therefore, the present inventors examined the intermediate layer on which a hard chromium plating layer having a surface roughness of 0.1 μm Ry or less can be formed on the upper portion thereof as follows.
(4)中間層の検討
同上S50Cの試験片に、銅めっきまたはリン含有量が8重量%以上のニッケル−リン合金めっきを施し、ダイヤモンド切削加工により0.06μmRy以下の表面粗さの鏡面に切削加工した。銅めっきとニッケル−リン合金めっきの膜厚は、ともに100μmである。そして、そのS50Cの試験片を上記(2)の浴組成のクロムめっき浴に浸漬して、同上浴温(25℃)、同上電流密度(25A/dm2)で、電解時間を変化させることによって銅めっきまたはニッケル−リン合金めっきの中間層上に被覆するクロムめっき厚みを変化させた。そして、クロムめっき後のS50Cの試験片の表面を顕微鏡で拡大観察(100倍)することによってクラックの有無を調査するとともに、表面粗さを測定した。そして、クロムめっきしたS50Cの試験片を100℃、200℃、300℃、350℃の各温度で1時間保持した後、20℃の冷水中へ投入するという熱衝撃試験を行い、熱衝撃試験後のS50Cの試験片の表面を顕微鏡で拡大観察(100倍)することによってクラックの有無を調査した。以上の表面粗さとクラックの有無の測定結果を以下の表2に示す。表2における記号「○」、「△」および「×」の意味は表1と同じである。また、表面粗さの測定は、東京精密社製のサーフコム480Aによった。
(4) Examination of intermediate layer Same as above, S50C test piece was subjected to copper plating or nickel-phosphorus alloy plating with phosphorus content of 8 wt% or more, and cut to a mirror surface with a surface roughness of 0.06 μm Ry or less by diamond cutting processed. The film thicknesses of the copper plating and nickel-phosphorus alloy plating are both 100 μm. Then, the S50C test piece is immersed in a chromium plating bath having the bath composition of (2) above, and the electrolysis time is changed at the same bath temperature (25 ° C.) and the same current density (25 A / dm 2 ). The chromium plating thickness coated on the intermediate layer of copper plating or nickel-phosphorus alloy plating was changed. And the presence or absence of a crack was investigated and the surface roughness was measured by magnifying and observing the surface of the test piece of S50C after chromium plating with a microscope (100 times). Then, after holding the chrome-plated S50C test piece at 100 ° C., 200 ° C., 300 ° C., and 350 ° C. for 1 hour and then putting it into cold water at 20 ° C., after the thermal shock test The presence or absence of cracks was examined by magnifying the surface of the S50C test piece with a microscope (100 times). The measurement results of the surface roughness and the presence or absence of cracks are shown in Table 2 below. The meanings of symbols “◯”, “Δ”, and “x” in Table 2 are the same as those in Table 1. The surface roughness was measured with Surfcom 480A manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.
表2より、中間層が銅めっき及びニッケル−8wt%リン合金めっきのいずれにおいても、切削加工後の表面粗さを0.03〜0.06μm程度とすることにより、表層のクロムめっき皮膜の厚みが1.0μmまでであれば、クラックがなく、目標とする表面粗さのクロムめっき層を得られることが分かった。 From Table 2, the thickness of the chromium plating film on the surface layer is determined by setting the surface roughness after cutting to about 0.03 to 0.06 μm in both the copper plating and the nickel-8 wt% phosphorus alloy plating. When the thickness is up to 1.0 μm, it has been found that there is no crack and a chromium plating layer having a target surface roughness can be obtained.
一方、中間層のめっき種により、熱衝撃試験の結果に差異が生じている。銅めっきと、ニッケル−8wt%リン合金めっきとの熱衝撃試験の差異は、それぞれの熱膨張係数が異なるからである。熱膨張係数の大きい銅を中間層とすると、熱衝撃試験での加熱時の熱膨張に耐え切れなくなってクラックが発生しやすくなるのである。なお、室温近傍での熱膨張係数と230℃での熱膨張係数は、クロム、銅、ニッケル−8wt%リン合金について、それぞれ「4.9×10−6、8.8×10−6」、「16.5×10−6、18.3×10−6」、「12.9×10−6、11.5×10−6」である。 On the other hand, the thermal shock test results vary depending on the plating type of the intermediate layer. The difference in thermal shock test between copper plating and nickel-8 wt% phosphorus alloy plating is because the respective thermal expansion coefficients are different. If copper having a large coefficient of thermal expansion is used as the intermediate layer, it becomes difficult to withstand thermal expansion during heating in the thermal shock test, and cracks are likely to occur. The thermal expansion coefficient in the vicinity of room temperature and the thermal expansion coefficient at 230 ° C. are “4.9 × 10 −6 , 8.8 × 10 −6 ” for chromium, copper, and nickel-8 wt% phosphorus alloy, They are “16.5 × 10 −6 , 18.3 × 10 −6 ” and “12.9 × 10 −6 , 11.5 × 10 −6 ”.
中間層の熱膨張係数の大小が、表層のクロムめっき層のクラック発生の有無を左右する傾向があることが分かったので、中間層として好ましい皮膜種の選定要件として熱膨張係数を考慮しながら、研磨ないし切削後の加工面粗さを0.05μmRy前後の粗さとすることができる皮膜種の選定を行なった。 Since it was found that the thermal expansion coefficient of the intermediate layer tends to influence the presence or absence of cracks in the surface chromium plating layer, while considering the thermal expansion coefficient as a requirement for selecting a preferred film type as the intermediate layer, A film type that can make the surface roughness after polishing or cutting approximately 0.05 μm Ry was selected.
具体的には、ニッケルめっき、光沢ニッケル、ニッケル−コバルト合金めっき、ニッケル−タングステン合金めっき、ニッケル−タングステン−リン合金めっき、ニッケル−鉄合金めっき、ニッケル−リン合金など種々のめっき皮膜について検討を行った。
その結果、研磨ないし切削後の加工面粗さとして0.1μmRy以下を容易に満足し、且つ表層のクロムめっき層にクラックを生じ難い中間層の皮膜種としては、ニッケル−リン合金、ニッケル−タングステン合金、ニッケル−タングステン−リン合金などアモルファスないし準アモルファス状となり易い合金めっき種が最も適していることを見出した。その理由は、アモルファスであるために結晶形態をとらず、研磨や切削によって表面を平滑に出来るからである。これらのアモルファス合金の表面にクラックの無いクロムめっきを1.0μm被覆して300℃での熱衝撃試験(300℃で1時間保持後20℃の冷水中へ投入)を行っても、銅を中間層としたときのようにクラックを発生することは無いことを確認できた。
Specifically, various plating films such as nickel plating, bright nickel, nickel-cobalt alloy plating, nickel-tungsten alloy plating, nickel-tungsten-phosphorus alloy plating, nickel-iron alloy plating, nickel-phosphorus alloy were examined. It was.
As a result, as the film type of the intermediate layer that easily satisfies the surface roughness after polishing or cutting of 0.1 μmRy or less and hardly causes cracks in the surface chromium plating layer, nickel-phosphorus alloy, nickel-tungsten It has been found that alloy plating types such as alloys and nickel-tungsten-phosphorus alloys that tend to be amorphous or quasi-amorphous are most suitable. The reason is that since it is amorphous, it does not take a crystal form, and the surface can be smoothed by polishing or cutting. Even if the surface of these amorphous alloys is coated with 1.0 μm of chromium plating without cracks and subjected to a thermal shock test at 300 ° C. (held at 300 ° C. for 1 hour and then put into 20 ° C. cold water), copper remains in the middle. It was confirmed that no cracks were generated as in the case of the layer.
なお、中間層として適切な皮膜厚みは、ロールとしての形状精度出しと表面粗さ改善のための研磨、研削、切削、ラッピングなどの後加工で中間層が除去されても、金属下地が露出しない厚み以上であれば特に厚みの制約はない。しかし、ロール素材の塑性変形を防止するために実施する焼き入れ代替層として中間層にこの機能を兼ねさせるためには、中間層の硬度はHV500以上であり、中間層の厚みは少なくとも50μm、望ましくは中間層の厚みは100μm以上とすることがより好適である。 The film thickness suitable for the intermediate layer is such that the metal base is not exposed even if the intermediate layer is removed by post-processing such as polishing, grinding, cutting, and lapping to improve the shape accuracy and surface roughness of the roll. If it is more than thickness, there will be no restriction | limiting in particular in thickness. However, in order for the intermediate layer to serve this function as a quenching substitute layer to prevent plastic deformation of the roll material, the intermediate layer has a hardness of HV500 or more, and the intermediate layer has a thickness of at least 50 μm, preferably The thickness of the intermediate layer is more preferably 100 μm or more.
なお、中間層としてニッケル−リン合金、ニッケル−タングステン合金、ニッケル−タングステン−リン合金を得るために適しためっき液の組成とその適用条件の例は、以下の通りであるが、必ずしもこれに限定されるものではない。 Examples of the composition of the plating solution suitable for obtaining the nickel-phosphorus alloy, nickel-tungsten alloy, nickel-tungsten-phosphorus alloy as the intermediate layer and the application conditions thereof are as follows, but are not limited thereto. Is not to be done.
(5)本発明の中間層を得るための好ましいめっき液の組成と適用条件
a.ニッケル−リン合金めっき(P含有量が8wt%以上)
pH 1〜4
硫酸ニッケル 100〜200g/liter
クエン酸ナトリウム 80〜120g/liter
亜リン酸 30〜80g/liter
ホウ酸 20〜40g/liter
浴温 40〜60℃
電流密度 1〜5A/dm2
(5) Preferred composition of plating solution and application conditions for obtaining the intermediate layer of the present invention
a. Nickel-phosphorus alloy plating (P content is 8wt% or more)
pH 1-4
Nickel sulfate 100-200g / liter
Sodium citrate 80-120g / liter
Phosphorous acid 30-80g / liter
Boric acid 20-40g / liter
Bath temperature 40-60 ° C
Current density 1-5A / dm 2
b.ニッケル-タングステン合金めっき(W含有量が35wt%以上)
pH 5〜8
硫酸ニッケル 40〜65g/liter
タングステン酸ナトリウム 50〜80g/liter
クエン酸二アンモニウム 35〜55g/liter
ギ酸ナトリウム 5〜20g/liter
浴温 55〜65℃
電流密度 5〜20A/dm2
b. Nickel-tungsten alloy plating (W content 35wt% or more)
pH 5-8
Nickel sulfate 40-65g / liter
Sodium tungstate 50-80g / liter
Diammonium citrate 35-55 g / liter
Sodium formate 5-20g / liter
Bath temperature 55-65 ° C
Current density 5-20A / dm 2
c.ニッケル−タングステン-リン合金めっき
pH 4〜5
硫酸ニッケル 25〜75g/liter
タングステン酸ナトリウム 30〜90g/liter
クエン酸二アンモニウム 80〜100g/liter
亜リン酸 2〜4g/liter
浴温 40〜70℃
電流密度 5〜20A/dm2
c. Nickel-tungsten-phosphorus alloy plating pH 4-5
Nickel sulfate 25-75g / liter
Sodium tungstate 30-90g / liter
Diammonium citrate 80-100g / liter
Phosphorous acid 2-4g / liter
Bath temperature 40-70 ° C
Current density 5-20A / dm 2
以上の基礎実験の結果、熱衝撃を受けてもクロムめっき層にクラックを発生しない中間層のめっき種としてはニッケル−リン合金めっきやニッケル−タングステン合金めっきやニッケル−タングステン−リン合金めっきなどのアモルファス状ニッケル合金が好ましいことが分かり、その中間層のめっき厚みとしては100μm以上が好ましいことが分かった。同時に中間層の表面粗さとして、0.06μmRy以下の平滑な鏡面性を要することが分った。 As a result of the above basic experiments, the intermediate layer plating type that does not crack in the chromium plating layer even when subjected to thermal shock is amorphous such as nickel-phosphorus alloy plating, nickel-tungsten alloy plating, nickel-tungsten-phosphorus alloy plating, etc. It was found that a nickel-like alloy was preferable, and the plating thickness of the intermediate layer was preferably 100 μm or more. At the same time, it was found that the surface roughness of the intermediate layer requires a smooth specularity of 0.06 μm Ry or less.
(6)鏡面のクロムめっきロールの試作
そこで、図3に示すように、ロール胴部1としてSTKM13Aを使用し、ロール軸部2としてS45Cを使用し、ロール胴部1の直径が450mmで胴長が1800mmである本発明の成形用ロールの一例(以下、試験ロールという)を実際に製作した。その試験ロールの胴部1を精密加工して表面粗さを1.0μmRyに仕上げ、さらに、試験ロールの胴部1の表面を脱脂して活性化処理を施した後、200μm厚みのニッケル−10wt%リン合金めっきを被覆した。そして、そのニッケル−リン合金めっきを被覆した試験ロールの胴部1を単結晶ダイヤモンドバイトにより切削加工して、0.03〜0.05μmRyの表面粗さに仕上げた後、電解脱脂および活性化処理を経て、無水クロム酸が250g/literで硫酸が2.5g/literである標準的なサージェント浴を用いて、浴温が48℃で、電流密度が25A/dm2の条件で電気めっきして、0.8μm厚のクロムめっきを被覆した鏡面ロールを製作した。このクロムめっきを被覆した試験ロールの胴部1の表面粗さは0.07〜0.09μmRyで、その表面を拡大観察してもクラックは一切認められなかった。このようにして、表面粗さが0.10μmRy以下であって、クラックのないクロムめっき層を有する成形ロールを提供するという目的を達成することができた。
(6) Trial manufacture of mirror-finished chrome plating roll Therefore, as shown in FIG. 3, STKM13A is used as the roll body 1, S45C is used as the roll shaft 2, and the diameter of the roll body 1 is 450 mm. An example of a forming roll of the present invention (hereinafter referred to as a test roll) having a diameter of 1800 mm was actually produced. The body 1 of the test roll is precisely processed to finish the surface roughness to 1.0 μm Ry, and the surface of the body 1 of the test roll is degreased and activated, followed by 200 μm-thick nickel—10 wt. % Phosphorus alloy plating was coated. And the body part 1 of the test roll which coat | covered the nickel- phosphorus alloy plating is cut with a single crystal diamond bite, and after finishing to the surface roughness of 0.03-0.05 micrometer Ry, electrolytic degreasing and activation process Then, using a standard sergeant bath with chromic anhydride of 250 g / liter and sulfuric acid of 2.5 g / liter, electroplating was performed at a bath temperature of 48 ° C. and a current density of 25 A / dm 2. A mirror roll coated with 0.8 μm thick chromium plating was manufactured. The surface roughness of the body part 1 of the test roll coated with this chromium plating was 0.07 to 0.09 μm Ry, and no cracks were observed even when the surface was magnified. In this way, the object of providing a forming roll having a chromium plating layer having a surface roughness of 0.10 μm Ry or less and having no cracks could be achieved.
しかし、ロール表面の埃を拭うためにガーゼやクリーンルーム用のワイパー(キュプラ長繊維不織布、例えば、旭化成社製のベンコット)で表面を擦ると、通常のクロムめっきを研磨して鏡面ロールとしたものに比べて異常に傷が付きやすいことが分かった。なお、ここで言う傷とは、肉眼で判別しうる30μm程度の大きさを下回る微小な傷であって、且つ光学的用途において影響しない0.2〜0.3μm程度を超えるスクラッチ状の傷を指している。 However, if the surface is rubbed with a gauze or clean room wiper (cupra long-fiber nonwoven fabric, for example, Bencott manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) to wipe off dust on the roll surface, normal chrome plating is polished into a mirror surface roll. It was found that it is easily damaged. The scratches referred to here are small scratches having a size of less than about 30 μm that can be discriminated with the naked eye, and scratches exceeding about 0.2 to 0.3 μm that do not affect optical applications. pointing.
(7)クロムめっき層の硬度の上昇
中間層表面の超平滑化を実施し、中間層上のクロムめっき膜厚をコントロールすることで、クロムめっきしたままの状態で、表面粗さが0.10μmRy以下の鏡面が得られることは見いだしたが、耐傷性にやや劣ることが分かった。そこで、本発明者は、耐傷性を向上させるために、縦、横の大きさがそれぞれ50mmで、厚みが10mmの正方形状のS50Cの試験片の片面に100μmの厚みのアモルファス状のニッケル−リン合金を被覆して中間層とし、その中間層の表面をダイヤモンドバイトで切削して0.05μmRyの表面粗さとしたものの上に、めっき条件として、浴温を50℃、電流密度を25A/dm2に固定して、膜厚が2μmと20μmの2種類のクロムめっきを施した。
(7) Increasing the hardness of the chrome plating layer The surface roughness is 0.10 μm Ry in the state of chrome plating by carrying out super smoothing of the intermediate layer surface and controlling the chrome plating film thickness on the intermediate layer. Although it was found that the following mirror surface was obtained, it was found that the scratch resistance was slightly inferior. Therefore, in order to improve the scratch resistance, the inventor of the present invention has an amorphous nickel-phosphorus having a thickness of 100 μm on one side of a square S50C test piece having a vertical and horizontal size of 50 mm and a thickness of 10 mm. An alloy is coated to form an intermediate layer, and the surface of the intermediate layer is cut with a diamond cutting tool to have a surface roughness of 0.05 μm Ry. As plating conditions, the bath temperature is 50 ° C. and the current density is 25 A / dm 2. Two types of chromium plating with a film thickness of 2 μm and 20 μm were applied.
その後、めっき膜厚が2μmの試験片はクロムめっきのままとし、めっき膜厚が20μmの試験片は平面板専用の研磨機で番手を変化させて研磨し、0.1μmRyの表面粗さに仕上げた。なお、クロムめっきしたままの膜厚2μmの試験片と膜厚20μmの試験片の表面粗さは、それぞれ0.09μmRyと0.4μmRyであった。次いで、上記試験片の表面からの硬度を段階的に測定するためにナノインデンターを用いて超微小硬度を測定した。すると、通常のビッカース硬度計による表示とは異なるが、以下の表3のように、研磨後のクロムめっき面は、クロムめっきのままの面よりも著しく高硬度となることを見出した。なお、GPaを100倍したものは、ほぼビッカース硬さ(HV)に等しい。 After that, the test piece with a plating thickness of 2 μm is left as chrome plating, and the test piece with a plating thickness of 20 μm is polished by changing the count with a polishing machine dedicated to a flat plate and finished to a surface roughness of 0.1 μm Ry. It was. In addition, the surface roughness of the test piece with a film thickness of 2 μm and the test piece with a film thickness of 20 μm as-plated was 0.09 μm Ry and 0.4 μm Ry, respectively. Subsequently, in order to measure the hardness from the surface of the test piece in a stepwise manner, an ultra micro hardness was measured using a nanoindenter. Then, although it differs from the display by a normal Vickers hardness meter, it discovered that the chromium plating surface after grinding | polishing becomes remarkably higher hardness than the surface as it is, as shown in Table 3 below. A value obtained by multiplying GPa by 100 is substantially equal to Vickers hardness (HV).
図4は、表3におけるクロムめっき表面からの測定深度(μm)を横軸とし、表3における硬度測定値(GPa)を縦軸として、表3の数値を図示したものである。図4において、記号「●」は、めっきのままのクロムめっき面を示し、記号「○」は研磨後のクロムめっき面を示す。表3および図4から、クロムめっき面を研磨することにより硬さが増加し、特に極表層の硬さ上昇が顕著であることが分かる。このようにして、クロムめっき層を研磨することにより著しく硬さが増加し、耐傷性を向上し得ることが分かる。 FIG. 4 illustrates the numerical values in Table 3 with the measurement depth (μm) from the chromium plating surface in Table 3 as the horizontal axis and the hardness measurement value (GPa) in Table 3 as the vertical axis. In FIG. 4, the symbol “●” indicates the chrome plating surface as plated, and the symbol “◯” indicates the chrome plating surface after polishing. From Table 3 and FIG. 4, it can be seen that the hardness is increased by polishing the chromium plating surface, and in particular, the increase in the hardness of the extreme surface layer is significant. In this way, it can be seen that polishing the chromium plating layer significantly increases the hardness and can improve the scratch resistance.
(8)薄膜クロムめっき層の平滑化と高硬度化の達成
以上のように、クロムめっき層を物理的に研磨すると極表層は著しく高硬度化することを見出したので、アモルファス状の中間層を露出させることなくクラックのない1.0μm程度の厚さの薄膜を物理的に研磨して、一層の平滑化と高硬度化を達成することを目的として種々の方法について検討した。その結果、アモルファス状ニッケル合金の中間層を切削や研磨により、表面粗さを0.1μmRy、好ましくは0.05μmRy以下とし、その表面を脱脂して活性化処理を施した後、1.0μm以下の厚みのクロムめっきを被覆し、次いで、そのクロムめっき面をフェルトやスエードクロムなどの研磨パッドと、平均粒径が20μm以下、好ましくは、10μmから0.1μmの遊離砥粒とを組み合わせて研磨すると、クロムめっきの膜厚を殆ど減少させることなく、表面粗さが0.1μmRy以下で、研磨に伴なうスクラッチの発生もない鏡面のクロムめっき面を得ることが可能となり、本発明を完成するに至った。
なお、遊離砥粒としては、酸化クロム、アルミナおよび炭化ケイ素の中の少なくとも1種類、又はこれらの内から選択した2種類以上の混合物と水と適量の分散助剤とを懸濁させたもので研磨する方法が好ましい。なお、上記研磨パッドと遊離砥粒とで研磨したクロムめっき層の表面硬度をナノインデンテーション法で測定すると、表面からの深さが0.1μm以下の範囲は、常に20GPa以上の高硬度であることも確認できた。なお、ナノインデンテーション法による硬度とミクロビッカース硬度とは、ほぼ近似していた。
(8) Achievement of smoothing and high hardness of thin chrome plating layer As described above, it was found that when the chrome plating layer was physically polished, the extreme surface layer was extremely hardened. Various methods were studied for the purpose of achieving a further smoothing and higher hardness by physically polishing a thin film having a thickness of about 1.0 μm without exposure and without cracks. As a result, the intermediate layer of the amorphous nickel alloy is cut or polished to a surface roughness of 0.1 μm Ry, preferably 0.05 μm Ry or less, and after the surface is degreased and activated, 1.0 μm or less Then, the chrome-plated surface is polished with a polishing pad such as felt or suede chrome, and free abrasive grains having an average particle diameter of 20 μm or less, preferably 10 μm to 0.1 μm. As a result, it is possible to obtain a mirror-finished chrome-plated surface having a surface roughness of 0.1 μm Ry or less and without the occurrence of scratches associated with polishing, with almost no decrease in the chrome-plated film thickness. It came to do.
The free abrasive is a suspension of at least one of chromium oxide, alumina, and silicon carbide, or a mixture of two or more selected from these, water, and a suitable amount of a dispersion aid. A polishing method is preferred. When the surface hardness of the chromium plating layer polished with the polishing pad and the loose abrasive grains is measured by the nanoindentation method, the range where the depth from the surface is 0.1 μm or less is always high hardness of 20 GPa or more. I was able to confirm that. The hardness by the nanoindentation method and the micro Vickers hardness were almost approximate.
以下に本発明の実施例を説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱しない範囲において、適宜変更や修正が可能である。 Examples of the present invention will be described below. However, the present invention is not limited to the following examples, and changes and modifications can be made as appropriate without departing from the technical scope of the present invention.
直径が450mmで胴長が1800mmの同上試験ロールの胴部をグラインダ研磨加工した後にバフ研磨により表面粗さを1μmRy程度とした表面に、上記(5)aのニッケル−リン合金めっき浴と条件を用いて、150μmのニッケル-リン合金の中間層を被覆した。そして、円筒精密鏡面仕上機にて#1000WAレジンボンドの砥石により、砥石ヘッド回転数を200rpm、試験ロール回転数を100rpm、砥石ヘッド送り速度を300mm/分、給水量を2liter/分とする条件で、試験ロールの胴部に被覆したニッケル-リン合金の表面を0.4μmRyの表面粗さまで研磨した。 The surface of the test roll having the diameter of 450 mm and the cylinder length of 1800 mm is grinder-polished and then the surface roughness is about 1 μm Ry by buffing. In use, a 150 μm nickel-phosphorus alloy interlayer was coated. Then, using a # 1000WA resin bond grindstone with a cylindrical precision mirror finisher, the grindstone head rotation speed is 200 rpm, the test roll rotation speed is 100 rpm, the grindstone head feed speed is 300 mm / min, and the water supply amount is 2 liter / min. The surface of the nickel-phosphorous alloy coated on the body of the test roll was polished to a surface roughness of 0.4 μm Ry.
続いて、フェルトと遊離砥粒を用いて、試験ロールの胴部に被覆したニッケル−リン合金の表面をさらに研磨した。すなわち、遊離砥粒としては、平均粒径が10μmのアルミナを10wt%含有し、10%の硝酸アルミニウムと少量の分散助剤からなる研磨液を適下速度5ml/秒の割合で連続して滴下しながら、フェルト装着ヘッド回転数を150rpm、試験ロール回転数を100rpm、フェルト装着ヘッドの送り速度を300mm/分、加工面圧を100g/cm2とする条件でニッケル−リン合金の表面を研磨し、表面粗さが0.06μmRyの表面を得た。当該試験ロールを20%硫酸溶液に5分間浸漬した後、無水クロム酸が250g/literで、硫酸が2.3g/literである組成のクロムめっき浴を用いて、浴温を50℃、電流密度を30A/dm2として、ニッケル−リン合金層上に0.5μmの厚みのクロムめっきを被覆した。クロムめっき後の表面粗さは、0.08μmRyであった。 Subsequently, the surface of the nickel-phosphorous alloy coated on the body of the test roll was further polished using felt and loose abrasive grains. That is, as free abrasive grains, 10 wt% of alumina having an average particle diameter of 10 μm, and a polishing liquid composed of 10% aluminum nitrate and a small amount of dispersion aid are continuously dropped at a rate of 5 ml / sec. On the other hand, the surface of the nickel-phosphorus alloy was polished under the conditions that the rotational speed of the felt mounting head was 150 rpm, the rotational speed of the test roll was 100 rpm, the feed speed of the felt mounting head was 300 mm / min, and the processing surface pressure was 100 g / cm 2. A surface having a surface roughness of 0.06 μm Ry was obtained. After immersing the test roll in a 20% sulfuric acid solution for 5 minutes, using a chromium plating bath having a composition of 250 g / liter of chromic anhydride and 2.3 g / liter of sulfuric acid, the bath temperature is 50 ° C., and the current density is 50 ° C. Was 30 A / dm 2 , and a chromium plating with a thickness of 0.5 μm was coated on the nickel-phosphorus alloy layer. The surface roughness after chromium plating was 0.08 μm Ry.
再度、同一の円筒精密鏡面仕上機に試験ロールを装着し、研磨パッドをスエードクロスとした研磨ヘッドにて、研磨ヘッド回転数を150rpm、試験ロール回転数を80rpm、研磨ヘッド送り速度を300mm/分とし、遊離砥粒として、平均粒径が10μmのアルミナを10wt%含有し、10%の硝酸アルミニウムと少量の分散助剤からなる研磨液を適下速度3ml/秒で連続して滴下しながら試験ロールのクロムめっき面を研磨した。 Again, the test roll was mounted on the same cylindrical precision mirror finisher, and the polishing head rotation was 150 rpm, the test roll rotation speed was 80 rpm, and the polishing head feed speed was 300 mm / min. As a free abrasive, 10 wt% of alumina having an average particle diameter of 10 μm is contained, and a test solution containing 10% aluminum nitrate and a small amount of a dispersion aid is continuously dropped at an appropriate speed of 3 ml / sec. The roll chrome-plated surface was polished.
研磨後の試験ロール表面の粗さについて、触針式粗さ計でロール胴部両端と中央部の表面粗さを測定すると、0.03〜0.04μmRyの範囲に含まれていた。また、ロール端近傍のめっき膜厚を電解式膜厚計で測定すると、胴部両端のそれぞれ3回ずつの測定値の平均は0.42μmであって、最初のめっき厚み0.5μmに比べて0.1μm未満の減肉に留めることが出来た。そして、耐傷性を見るために、ガーゼでごしごしと上記試験ロールの胴部表面を擦った後、光ファイバーライトガイドで擦り傷を確認したが、特に傷は認められず、また、CCDにて表面を100倍に拡大観察してもクロムめっき固有のクラックは認められなかった。 About the roughness of the test roll surface after grinding | polishing, when the surface roughness of a roll trunk | drum part both ends and center part was measured with the stylus-type roughness meter, it was contained in the range of 0.03-0.04 micrometer Ry. Further, when the plating film thickness in the vicinity of the roll end is measured with an electrolytic film thickness meter, the average of the measured values for each of the three times at both ends of the body portion is 0.42 μm, which is compared with the initial plating thickness of 0.5 μm The thickness could be reduced to less than 0.1 μm. In order to check the scratch resistance, after scrubbing with gauze and rubbing the surface of the body of the test roll, scratches were confirmed with an optical fiber light guide, but no particular scratch was observed. No cracks inherent to chrome plating were observed even with double magnification observation.
本発明は、特に光学シートや光学フィルムの成形ロールとして利用することができる。 Especially this invention can be utilized as a shaping | molding roll of an optical sheet or an optical film.
1 ロール胴部
2 ロール軸部
1 Roll body 2 Roll shaft
Claims (6)
アモルファス状ニッケル合金層は、0.1μmRy以下の表面粗さを有することを特徴とする成形ロール。 A roll body surface made of steel is coated with an amorphous nickel alloy layer, and a hard chromium plating layer having a surface roughness of 0.1 μmRy or less is coated on the amorphous nickel alloy layer .
Amorphous nickel alloy layer, forming rolls, characterized in Rukoto to have a surface roughness of less than 0.1MyumRy.
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