JP5534828B2 - Tuning fork type bending crystal resonator element - Google Patents

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Description

本発明は、電子機器に用いられる音叉型屈曲水晶振動素子に関する。   The present invention relates to a tuning fork-type bending crystal resonator element used in electronic equipment.

従来、コンピュータ,携帯電話又は小型情報機器等の電子機器には、電子部品の一つとして圧電振動子又は圧電発振器が搭載されている。この圧電振動子又は圧電発振器は、基準信号源やクロック信号源として用いられる。又、圧電振動子や圧電発振器は、その内部に水晶からなる圧電振動素子が搭載されている。
以下、圧電材料に水晶を用いた圧電振動素子について説明する。
図9に示すように、圧電振動素子の一つである音叉型屈曲水晶振動素子400は、水晶振動片410と、その水晶振動片410の表面に設けられた励振用電極421と接続用電極422と周波数調整用金属膜423と導配線パターン424とにより概略構成される。
Conventionally, a piezoelectric vibrator or a piezoelectric oscillator is mounted as an electronic component in an electronic device such as a computer, a mobile phone, or a small information device. This piezoelectric vibrator or piezoelectric oscillator is used as a reference signal source or a clock signal source. In addition, piezoelectric vibrators and piezoelectric oscillators are equipped with a piezoelectric vibration element made of quartz.
Hereinafter, a piezoelectric vibration element using quartz as a piezoelectric material will be described.
As shown in FIG. 9, a tuning fork-type bending crystal resonator element 400 that is one of the piezoelectric resonator elements includes a crystal resonator element 410, an excitation electrode 421 provided on the surface of the crystal resonator element 410, and a connection electrode 422. The frequency adjusting metal film 423 and the conductive wiring pattern 424 are roughly configured.

水晶振動片410は、音叉形状となっており、基部411と基部411から延設する2本一対の振動腕部412と、により概略構成される。この振動腕部412には、対向する平面同士に同極となる励振用電極421が設けられている。
また、基部411は、平面視略四角形の平板となっている。振動腕部412は、第一の振動腕部412a及び第二の振動腕部412bとから成る。第一の振動腕部412a及び第二の振動腕部412bは、基部411の一辺から同一方向に延設されており、第一の振動腕部412a及び第二の振動腕部412bの長さ方向にはそれぞれ溝部GLが設けられている。溝部GLは、第一の振動腕部412a及び第二の振動腕部412bの両主面に、基部411との境界部分から振動腕部412の先端に向って、振動腕部412の長さ方向と平行に所定の長さで2本設けられている。このような水晶振動片410は、基部411と振動腕部412とが一体となって音叉形状を成しており、フォトリソグラフィ技術と化学エッチング技術により製造される。
The quartz crystal vibrating piece 410 has a tuning fork shape, and is roughly constituted by a base portion 411 and a pair of vibrating arm portions 412 extending from the base portion 411. The vibrating arm portion 412 is provided with an excitation electrode 421 having the same polarity on opposing planes.
The base 411 is a substantially rectangular flat plate in plan view. The vibrating arm portion 412 includes a first vibrating arm portion 412a and a second vibrating arm portion 412b. The first vibrating arm portion 412a and the second vibrating arm portion 412b are extended in the same direction from one side of the base portion 411, and the length direction of the first vibrating arm portion 412a and the second vibrating arm portion 412b. Each is provided with a groove GL. The groove portion GL is formed on both main surfaces of the first vibrating arm portion 412a and the second vibrating arm portion 412b from the boundary portion with the base portion 411 toward the tip of the vibrating arm portion 412 in the longitudinal direction. Are provided in parallel with each other at a predetermined length. In such a quartz crystal vibrating piece 410, the base portion 411 and the vibrating arm portion 412 are integrally formed into a tuning fork shape, and is manufactured by a photolithography technique and a chemical etching technique.

第一の振動腕部412aに設けられる電極は、励振用電極421と周波数調整用金属膜423とから成る。励振用電極421は、第一の振動腕部412aの溝部GL内表面を含む一方の主面と、第一の振動腕部412aの溝部GL内表面を含む他方の主面に設けられている。また、励振用電極421は、第二の振動腕部412bに対向する第一の振動腕部412aの内側側面と、この側面に対向する第一の振動腕部412aの外側側面とに異極となるように設けられている。周波数調整用金属膜423は、第一の振動腕部412aの先端部の両主面に設けられている。   The electrode provided on the first vibrating arm portion 412 a is composed of an excitation electrode 421 and a frequency adjusting metal film 423. The excitation electrode 421 is provided on one main surface including the inner surface of the groove portion GL of the first vibrating arm portion 412a and the other main surface including the inner surface of the groove portion GL of the first vibrating arm portion 412a. The excitation electrode 421 has a different polarity between the inner side surface of the first vibrating arm portion 412a facing the second vibrating arm portion 412b and the outer side surface of the first vibrating arm portion 412a facing the side surface. It is provided to become. The frequency adjusting metal film 423 is provided on both main surfaces of the distal end portion of the first vibrating arm portion 412a.

第二の振動腕部412bに設けられる電極は、励振用電極421と周波数調整用金属膜423とから成る。この励振用電極421は、第二の振動腕部412bの溝部GL内表面を含む一方の主面と、第二の振動腕部412bの溝部GL内表面を含む他方の主面に設けられている。また、励振用電極421は、第一の振動腕部412aに対向する第二の振動腕部412bの内側側面と、この側面に対向する第二の振動腕部412bの外側側面とに異極となるように設けられている。周波数調整用金属膜423は、第二の振動腕部412aの先端部の両主面に設けられている。   The electrode provided on the second vibrating arm portion 412 b is composed of an excitation electrode 421 and a frequency adjusting metal film 423. The excitation electrode 421 is provided on one main surface including the inner surface of the groove portion GL of the second vibrating arm portion 412b and the other main surface including the inner surface of the groove portion GL of the second vibrating arm portion 412b. . The excitation electrode 421 has a different polarity between the inner side surface of the second vibrating arm portion 412b facing the first vibrating arm portion 412a and the outer side surface of the second vibrating arm portion 412b facing the side surface. It is provided to become. The frequency adjusting metal film 423 is provided on both main surfaces of the distal end portion of the second vibrating arm portion 412a.

基部411は、2つ一対の接続用電極422が設けられる。一方の接続用電極422は、基部411の振動腕部412が形成されている辺とは反対側にあたる辺の一方の角端部及び基部411の一方の主面から他方の主面にわたって設けられている。また、他方の接続用電極422は、基部411の振動腕部412が形成されている辺とは反対側にあたる辺の他方の角端部及び基部411の一方の主面から他方の主面にわたって設けられている。
また、基部411及び振動腕部412には、所定の電極間を電気的に接続させるための導配線パターン424が設けられている。
The base 411 is provided with two pairs of connection electrodes 422. One connection electrode 422 is provided from one corner end of the side opposite to the side where the vibrating arm portion 412 of the base 411 is formed and from one main surface of the base 411 to the other main surface. Yes. The other connection electrode 422 is provided from the other corner end of the side opposite to the side where the vibrating arm portion 412 of the base 411 is formed and from one main surface of the base 411 to the other main surface. It has been.
The base portion 411 and the vibrating arm portion 412 are provided with a conductive wiring pattern 424 for electrically connecting predetermined electrodes.

一方の接続用電極422は、基部411の一方の主面に設けられた導配線パターン424により、第一の振動腕部412aの一方の主面に設けられた励振用電極421と電気的に接続し、かつ、第二の振動腕部412bの外側側面に設けられた励振用電極421と電気的に接続している。また、第二の振動腕部412bの外側側面に設けられた励振用電極421は、第二の振動腕部412bの内側側面に設けられた励振用電極421と電気的に接続している。更に、第一の振動腕部412の一方の主面に設けられた励振用電極421は、第一の振動腕部412の内側側面に設けられた導配線パターン424により、第一の振動腕部412aの他方の主面に設けられた励振用電極421と電気的に接続されている。   One connection electrode 422 is electrically connected to an excitation electrode 421 provided on one main surface of the first vibrating arm portion 412a by a conductive wiring pattern 424 provided on one main surface of the base 411. In addition, it is electrically connected to the excitation electrode 421 provided on the outer side surface of the second vibrating arm portion 412b. In addition, the excitation electrode 421 provided on the outer side surface of the second vibrating arm portion 412b is electrically connected to the excitation electrode 421 provided on the inner side surface of the second vibrating arm portion 412b. Furthermore, the excitation electrode 421 provided on one main surface of the first vibrating arm portion 412 is connected to the first vibrating arm portion by the conductive wiring pattern 424 provided on the inner side surface of the first vibrating arm portion 412. It is electrically connected to an excitation electrode 421 provided on the other main surface of 412a.

他方の接続用電極422は、基部411の他方の主面に設けられた導配線パターンにより、第二の振動腕部412bの他方の主面に設けられた励振用電極421と電気的に接続し、かつ、第一の振動腕部412aの外側側面に設けられた励振用電極421と電気的に接続している。また、第一の振動腕部412aの外側側面に設けられた励振用電極421は、第一の振動腕部412aの内側側面に設けられた励振用電極421と電気的に接続している。更に、第二の振動腕部412aの他方の主面に設けられた励振用電極421は、第二の振動腕部412bの内側側面に設けられた導配線パターン424により、第一の振動腕部412aの一方の主面に設けられた励振用電極421aと電気的に接続されている。   The other connection electrode 422 is electrically connected to the excitation electrode 421 provided on the other main surface of the second vibrating arm portion 412b by a conductive wiring pattern provided on the other main surface of the base portion 411. And, it is electrically connected to the excitation electrode 421 provided on the outer side surface of the first vibrating arm portion 412a. In addition, the excitation electrode 421 provided on the outer side surface of the first vibrating arm portion 412a is electrically connected to the excitation electrode 421 provided on the inner side surface of the first vibrating arm portion 412a. Further, the excitation electrode 421 provided on the other main surface of the second vibrating arm portion 412a is connected to the first vibrating arm portion by the conductive wiring pattern 424 provided on the inner side surface of the second vibrating arm portion 412b. It is electrically connected to an excitation electrode 421a provided on one main surface of 412a.

これら励振用電極421、接続用電極422、周波数調整用金属膜423及び導配線パターン424は、スパッタ技術、蒸着技術、フォトリソグラフィ技術により形成され、Cr層の上にAu層が設けられた積層構造となっている。   The excitation electrode 421, the connection electrode 422, the frequency adjusting metal film 423, and the conductive wiring pattern 424 are formed by sputtering, vapor deposition, or photolithography, and a laminated structure in which an Au layer is provided on a Cr layer. It has become.

この水晶振動片410を振動させる場合、接続用電極422に交番電圧を印加する。印加後のある電気的状態を瞬間的にとらえると、第一の振動腕部412aの両主面に設けられた励振用電極421はプラス電位となり、両側面に設けられた励振用電極421はマイナス電位となり、プラスからマイナスに電界が生じる。このときの第二の振動腕部412bの両主面の励振用電極421はマイナス電位となり、両側面に設けられた励振用電極421はプラス電位という第一の振動腕部412の励振用電極421に生じた極性とは反対の極性となり、プラスからマイナスに電界が生じる。この交番電圧により生じた電界によって、第一の振動腕部412a及び第二の振動腕部412bに伸縮現象が生じ、振動腕部412に設定した共振周波数の屈曲振動モードとなる。尚、この共振周波数は、水晶振動片410に設けられた周波数調整用金属膜423を構成する金属の量を増減させて調整することができる(例えば、特許文献1又は2参照)。   When the crystal vibrating piece 410 is vibrated, an alternating voltage is applied to the connection electrode 422. When an electrical state after application is instantaneously captured, the excitation electrodes 421 provided on both main surfaces of the first vibrating arm portion 412a have a positive potential, and the excitation electrodes 421 provided on both side surfaces are negative. An electric field is generated from positive to negative. At this time, the excitation electrodes 421 on both main surfaces of the second vibrating arm portion 412b have a negative potential, and the excitation electrodes 421 provided on both side surfaces have a positive potential, the excitation electrodes 421 of the first vibrating arm portion 412. The polarity is opposite to the polarity generated in, and an electric field is generated from plus to minus. The electric field generated by the alternating voltage causes an expansion / contraction phenomenon in the first vibrating arm portion 412a and the second vibrating arm portion 412b, and a bending vibration mode having a resonance frequency set in the vibrating arm portion 412 is set. The resonance frequency can be adjusted by increasing or decreasing the amount of metal constituting the frequency adjusting metal film 423 provided on the crystal vibrating piece 410 (see, for example, Patent Document 1 or 2).

このような音叉型屈曲水晶振動素子400は、フォトリソグラフィ技術と化学エッチング技術を用いて製造されると、第一の振動腕部412aと第二の振動腕部412bと基部411とで囲まれる範囲に残渣が生じる。この残渣は、化学エッチングの異方性により、2つの振動腕部412の間を二等分する中心線Cに対して、非対称な形状で生じることが知られている(例えば、特許文献3参照)。   When such a tuning-fork-type bending crystal resonator element 400 is manufactured using a photolithography technique and a chemical etching technique, a range surrounded by the first vibrating arm portion 412a, the second vibrating arm portion 412b, and the base portion 411. A residue is formed. It is known that this residue is generated in an asymmetric shape with respect to a center line C that bisects between the two vibrating arm portions 412 due to anisotropy of chemical etching (see, for example, Patent Document 3). ).

このとき、図10に示すように、第一の振動腕部412a側に生じる残渣は、第一の振動腕部412aの側面に生じ、所定の位置で基部411に近づくにつれて幅が広がる傾斜部分が形成される。
また、第二の振動腕部412bに生じる残渣は、第二の振動腕部412bの側面から所定の位置で基部411に近づくにつれて幅が広がるような傾斜部分が形成される。
ここで、第二の振動腕部412bに生じる残渣の傾斜部分の先端位置P2dが、第一の振動腕部412aに生じる残渣の傾斜部分の先端位置P1dに比べて基部411から離れた位置となっている。
At this time, as shown in FIG. 10, the residue generated on the first vibrating arm portion 412 a side is generated on the side surface of the first vibrating arm portion 412 a, and an inclined portion whose width increases as it approaches the base portion 411 at a predetermined position. It is formed.
In addition, the residue generated in the second vibrating arm portion 412b is formed with an inclined portion whose width increases as it approaches the base portion 411 at a predetermined position from the side surface of the second vibrating arm portion 412b.
Here, the tip position P2d of the inclined portion of the residue generated in the second vibrating arm portion 412b is located farther from the base portion 411 than the tip position P1d of the inclined portion of the residue generated in the first vibrating arm portion 412a. ing.

また、このような音叉型屈曲水晶振動素子400は、音叉型に水晶振動片410を形成した後に電極の形成が行われる。
例えば、水晶ウェハ(図示せず)の表裏に例えば、Cr、Cr+Auなどの耐食膜(図示せず)をスパッタリングにて成膜する。
Further, in such a tuning fork type bending quartz crystal vibrating element 400, electrodes are formed after the crystal vibrating piece 410 is formed in a tuning fork type.
For example, a corrosion resistant film (not shown) such as Cr or Cr + Au is formed on the front and back of a quartz wafer (not shown) by sputtering.

次に耐食膜上に感光性レジスト(ポジ型)を両面に形成し、乾燥後表裏の両面に音叉形状の耐食膜が残るように露光、現像、乾燥(以下パターン化)と音叉形状以外の耐食膜のエッチングを行う。   Next, a photosensitive resist (positive type) is formed on both sides of the anticorrosion film, and after drying, exposure, development, drying (patterning) and anticorrosion other than the tuning fork shape so that the anticorrosion film on the front and back sides remains. Etch the film.

次に前記表裏の耐食膜上に電極の形状を決定するために感光性レジスト(ポジ型)をパターン化する。ここで、この感光性レジストの一部は、振動腕部と基部との接続部分を覆うように設けられている。   Next, a photosensitive resist (positive type) is patterned on the front and back corrosion-resistant films in order to determine the shape of the electrodes. Here, a part of the photosensitive resist is provided so as to cover a connection portion between the vibrating arm portion and the base portion.

次に露出する水晶部分をエッチングする。このとき、溝部の形状と水晶振動片410の形状とが同時に形成される。なお、振動腕部412と基部411との接続部分を覆う感光性レジストは、エッチングされることなく残る。そのため、この感光性レジストを残した状態で、基部411と振動腕部412とが形成される。したがって、この感光性レジストは、2つの振動腕部412を跨いだ状態で残されている。   Next, the exposed crystal portion is etched. At this time, the shape of the groove and the shape of the crystal vibrating piece 410 are formed simultaneously. Note that the photosensitive resist covering the connection portion between the vibrating arm portion 412 and the base portion 411 remains without being etched. Therefore, the base portion 411 and the vibrating arm portion 412 are formed with the photosensitive resist remaining. Therefore, this photosensitive resist is left in a state of straddling the two vibrating arm portions 412.

次に裏面に露出した耐食膜をエッチングし水晶表面を得る。次に全面に電極膜を蒸着技術により形成する。このとき、振動腕部412と基部411との接続部分を覆う感光性レジストにより、振動腕部412が接続している側の基部411の側面に電極膜が形成されずに、振動腕部412の側面のみに電極膜が形成される。
次に表裏に形成した感光性レジストとその上に形成された電極膜を剥離する。これは感光性レジストを溶解する液に浸すことで容易に除去できる。しかし、その下部に有する耐食膜は残る。次に前記の残りである耐食膜をエッチングする。
このようにして、水晶振動片410に電極が形成される(特許文献1参照)。
Next, the corrosion-resistant film exposed on the back surface is etched to obtain a crystal surface. Next, an electrode film is formed on the entire surface by a vapor deposition technique. At this time, an electrode film is not formed on the side surface of the base portion 411 to which the vibrating arm portion 412 is connected by the photosensitive resist that covers the connection portion between the vibrating arm portion 412 and the base portion 411, and the vibrating arm portion 412 An electrode film is formed only on the side surface.
Next, the photosensitive resist formed on the front and back and the electrode film formed thereon are peeled off. This can be easily removed by immersing it in a solution for dissolving the photosensitive resist. However, the anticorrosion film that remains in the lower portion remains. Next, the remaining corrosion-resistant film is etched.
In this way, electrodes are formed on the crystal vibrating piece 410 (see Patent Document 1).

特開2007−329879号公報JP 2007-329879 A 特開2004−248237号公報JP 2004-248237 A 特開2005−167992号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2005-167992

しかしながら、このような音叉型屈曲水晶振動素子400は、この第一の振動腕部412aと第二の振動腕部412bとの残渣の違いにより、第一の振動腕部412aと第二の振動腕部412bの振動を阻害することなり、振動の固定端が第一の振動腕部412aと第二の振動腕部412bとで異なる状態にあるとみなすことができる。これにより、第一の振動腕部412aの屈曲振動と第二の振動腕部412bの屈曲振動が一致せずに振動のバランスが崩れ、クリスタル・インピーダンス値(以下、「CI値」という。)が悪化することがある。   However, such a tuning-fork type bending crystal vibrating element 400 has the first vibrating arm portion 412a and the second vibrating arm due to the difference in residue between the first vibrating arm portion 412a and the second vibrating arm portion 412b. The vibration of the part 412b is inhibited, and it can be considered that the fixed end of the vibration is different between the first vibrating arm part 412a and the second vibrating arm part 412b. As a result, the bending vibration of the first vibrating arm portion 412a and the bending vibration of the second vibrating arm portion 412b do not match, and the balance of vibration is lost, and the crystal impedance value (hereinafter referred to as “CI value”). May get worse.

そこで、本発明では、前記した問題を解決し、振動腕部の振動バランスの崩れを軽減し、CI値を低くする音叉型屈曲水晶振動素子を提供することを課題とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a tuning fork-type bending crystal resonator element that solves the above-described problems, reduces the vibration balance of the vibrating arm portion, and lowers the CI value.

前記課題を解決するため、本発明は、音叉型屈曲水晶振動素子であって、基部と、基部から延設する2つ一対の振動腕部と、前記振動腕部の間であって前記基部から延設しつつ前記振動腕部より短く形成される突起部と、を備え、前記振動腕部が延設する方向をY軸方向又はY´軸方向とし、2つの振動腕部の並ぶ方向をX軸方向とした場合、前記2つ一対の振動腕部の間の中心に対して前記突起部が−X軸方向にずれて設けられていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, the present invention provides a tuning fork-type bending quartz crystal resonator element, which includes a base, a pair of vibrating arms extending from the base, and the vibrating arms between the base and the base. A projecting portion that is formed to be shorter than the vibrating arm portion while extending, and a direction in which the vibrating arm portion extends is a Y-axis direction or a Y′-axis direction, and a direction in which the two vibrating arm portions are arranged is X When the axial direction is adopted, the protrusion is provided so as to be shifted in the −X-axis direction with respect to the center between the pair of vibrating arms.

また、本発明は、音叉型屈曲水晶振動素子であって、基部と、基部から延設する2つ一対の振動腕部と、前記振動腕部の間であって前記基部から延設しつつ前記振動腕部より短く形成される突起部と、を備え、前記振動腕部が延設する方向をY軸方向又はY´軸方向とし、2つの振動腕部の並ぶ方向をX軸方向とした場合、前記2つ一対の振動腕部のうち、−X軸方向側の振動腕部と前記突起部との間隔をW1、+X軸方向側の振動腕部と前記突起部との間隔をW2としたとき、前記突起部が、0.2≦W1/W21.0となる位置に設けられることを特徴とする。 Further, the present invention is a tuning fork-type bending quartz crystal vibration element, comprising a base, a pair of vibrating arms extending from the base, and the extending between the vibrating arms while extending from the base. A protrusion formed shorter than the vibrating arm portion, the extending direction of the vibrating arm portion is the Y-axis direction or the Y′-axis direction, and the direction in which the two vibrating arm portions are aligned is the X-axis direction. , one of the two pair of vibrating arms, the distance between the protrusions and the vibrating arms of the -X-axis direction side W1, the distance between the protrusions and the vibrating arms of the + X-axis direction side is W2 The protrusion is provided at a position where 0.2 ≦ W1 / W2 < 1.0.

また、本発明は、前記一対の振動腕部のそれぞれに、延設方向に沿って溝部が設けられていても良い。   In the present invention, a groove portion may be provided in each of the pair of vibrating arm portions along the extending direction.

このような本発明の音叉型屈曲水晶振動素子によれば、突起部の位置が−X軸側に位置しているので、一方の振動腕部と基部と突起部とに発生する残渣の先端位置が、他方の振動腕部と基部と突起部とに発生する残渣の先端位置に近づくことで2つの振動腕部の振動の固定端の位置が近づき、これにより2つの振動腕部の振動のバランスの崩れが軽減され、CI値を低くすることができる。   According to such a tuning-fork type bending crystal resonator element of the present invention, since the position of the protrusion is located on the −X axis side, the tip position of the residue generated in one vibration arm part, the base part, and the protrusion part However, by approaching the tip position of the residue generated at the other vibrating arm part, the base part, and the protrusion part, the positions of the fixed ends of the vibrations of the two vibrating arm parts approach, thereby balancing the vibrations of the two vibrating arm parts. Can be reduced and the CI value can be lowered.

また、本発明の音叉型屈曲水晶振動素子が、前記2つ一対の腕部のうち、一方の振動腕部と前記突起部との間隔をW1、他方の振動腕部と前記突起部との間隔をW2としたとき、前記突起部が、0.2≦W1/W21.0となる位置に突起部を位置しているので、一方の振動腕部と基部と突起部とに発生する残渣の一方の振動腕部側の先端位置が、他方の振動腕部と基部と突起部とに発生する残渣の他方の振動腕部側の先端位置に近づくこととなる。そのため、2つの振動腕部の振動の固定端の位置が近くなるため、振動のバランスが崩れにくくなり、CI値を低くすることができる。 Further, in the tuning fork-type bending crystal resonator element of the present invention, of the two pairs of arms, the distance between one vibrating arm and the protruding portion is W1, and the distance between the other vibrating arm and the protruding portion. When W2 is W2, since the protrusion is located at a position where 0.2 ≦ W1 / W2 < 1.0, the residue generated in one vibrating arm, base, and protrusion The tip position on one vibration arm portion side of the first portion approaches the tip position on the other vibration arm portion side of the residue generated in the other vibration arm portion, the base portion, and the projection portion. For this reason, since the positions of the vibration fixed ends of the two vibrating arm portions are close to each other, the vibration balance is not easily lost, and the CI value can be lowered.

また、本発明の音叉型屈曲水晶振動素子が、前記一対の振動腕部のそれぞれに、延設方向に沿って溝部を設けたので、それぞれの振動腕部に生じる電界効率を向上させることができ、CI値の低い音叉型屈曲水晶振動素子を提供することができる。   In addition, since the tuning fork-type bending crystal resonator element of the present invention is provided with the groove portion along the extending direction in each of the pair of vibrating arm portions, the electric field efficiency generated in each vibrating arm portion can be improved. , A tuning fork-type bending crystal resonator element having a low CI value can be provided.

本発明の実施形態に係る圧電振動素子の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the piezoelectric vibration element which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る圧電振動素子の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the piezoelectric vibration element which concerns on embodiment of this invention. 実施例1における圧電振動素子に生じる残渣の一例を示す図である。6 is a diagram illustrating an example of a residue generated in the piezoelectric vibration element in Example 1. FIG. 実施例2における圧電振動素子に生じる残渣の一例を示す図である。6 is a diagram illustrating an example of a residue generated in a piezoelectric vibration element in Example 2. FIG. 実施例3における圧電振動素子に生じる残渣の一例を示す図である。6 is a diagram illustrating an example of a residue generated in a piezoelectric vibration element in Example 3. FIG. 比較例5における圧電振動素子に生じる残渣の一例を示す図である。10 is a diagram illustrating an example of a residue generated in a piezoelectric vibration element in Comparative Example 5. FIG. 比較例6における圧電振動素子に生じる残渣の一例を示す図である。10 is a diagram illustrating an example of a residue generated in a piezoelectric vibration element in Comparative Example 6. FIG. W1/W2とCI値の関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between W1 / W2 and CI value. 従来の圧電振動素子を用いた圧電振動子の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the piezoelectric vibrator using the conventional piezoelectric vibration element. 従来の圧電振動素子に生じる残渣の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the residue which arises in the conventional piezoelectric vibration element.

本発明を実施するための最良の形態(以下、「実施形態」という。)について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各構成要素について、状態をわかりやすくするために、誇張して図示している。なお、図1及び図2は、残渣のない状態を示している。   The best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “embodiment”) will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. Note that each component is exaggerated for easy understanding of the state. 1 and 2 show a state without residue.

図1及び図2に示すように、本発明の第一の実施形態に係る音叉型屈曲水晶振動素子100aは、水晶振動片110と、その水晶振動片110に設けられた励振用電極121と接続用電極122a,122bと、周波数調整用金属膜123と、導配線パターン124とから主に構成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the tuning fork-type bending crystal resonator element 100 a according to the first embodiment of the present invention is connected to a crystal resonator element 110 and an excitation electrode 121 provided on the crystal resonator element 110. Mainly composed of electrodes 122a and 122b, a frequency adjusting metal film 123, and a conductive wiring pattern 124.

水晶振動片110は、音叉形状となっており、基部となる基部111と基部111から延設する2本一対の振動腕部112と2本の振動腕部112の間であって基部111から延設する突起部113とにより概略構成される。この振動腕部112には、対向する平面同士に同極となる励振用電極121が設けられている。
また、基部111は、平面視略四角形の平板となっている。振動腕部112は、第一の振動腕部112a及び第二の振動腕部112bとから成る。第一の振動腕部112a及び第二の振動腕部112bは、基部111の一辺から同一方向に延設されており、第一の振動腕部112a及び第二の振動腕部112bの長さ方向にはそれぞれ溝部GLが設けられている。溝部GLは、第一の振動腕部112a及び第二の振動腕部112bの両主面に、基部111との境界部分から振動腕部112の先端に向って、振動腕部112の長さ方向と平行に所定の長さで2本設けられている。このような水晶振動片110は、基部111と振動腕部112とが一体となって音叉形状を成しており、フォトリソグラフィ技術と化学エッチング技術、成膜技術により製造される。
The quartz crystal vibrating piece 110 has a tuning fork shape, and extends from the base 111 between the pair of vibrating arms 112 and the two vibrating arms 112 extending from the base 111 and the base 111. And a projecting portion 113 to be provided. The vibrating arm portion 112 is provided with excitation electrodes 121 having the same polarity on opposing planes.
The base 111 is a flat plate having a substantially rectangular shape in plan view. The vibrating arm portion 112 includes a first vibrating arm portion 112a and a second vibrating arm portion 112b. The first vibrating arm portion 112a and the second vibrating arm portion 112b extend in the same direction from one side of the base 111, and the length direction of the first vibrating arm portion 112a and the second vibrating arm portion 112b. Each is provided with a groove GL. The groove portion GL is formed on both main surfaces of the first vibrating arm portion 112a and the second vibrating arm portion 112b in the length direction of the vibrating arm portion 112 from the boundary portion with the base 111 toward the tip of the vibrating arm portion 112. Are provided in parallel with each other at a predetermined length. In such a quartz crystal vibrating piece 110, the base portion 111 and the vibrating arm portion 112 are integrally formed into a tuning fork shape, and is manufactured by a photolithography technique, a chemical etching technique, and a film forming technique.

第一の振動腕部112aに設けられる電極は、励振用電極121と周波数調整用金属膜123とから成る。第一の振動腕部112aに設けられる励振用電極121は、第一の振動腕部112aの溝部GL内表面を含む一方の主面と、第一の振動腕部112aの溝部GL内表面を含む他方の主面に設けられている。また、第一の振動腕部112aに設けられる励振用電極121は、第二の振動腕部112bに対向する第一の振動腕部112aの内側側面と、この側面に対向する第一の振動腕部112aの外側側面とに設けられ、第一の振動腕部112aの両主面に設けられる励振用電極121と異極となるように設けられている。第一の振動腕部112aに設けられる周波数調整用金属膜123は、第一の振動腕部112aの先端部の両主面に設けられている。なお、周波数調整用金属膜123は、すくなくとも一方の主面に設ける構成としても良い。   The electrode provided on the first vibrating arm portion 112 a is composed of an excitation electrode 121 and a frequency adjusting metal film 123. The excitation electrode 121 provided on the first vibrating arm portion 112a includes one main surface including the inner surface of the groove portion GL of the first vibrating arm portion 112a and the inner surface of the groove portion GL of the first vibrating arm portion 112a. It is provided on the other main surface. The excitation electrode 121 provided on the first vibrating arm portion 112a includes an inner side surface of the first vibrating arm portion 112a facing the second vibrating arm portion 112b and a first vibrating arm facing the side surface. It is provided on the outer side surface of the portion 112a and is provided so as to have a different polarity from the excitation electrode 121 provided on both main surfaces of the first vibrating arm portion 112a. The frequency adjusting metal film 123 provided on the first vibrating arm portion 112a is provided on both main surfaces of the distal end portion of the first vibrating arm portion 112a. The frequency adjusting metal film 123 may be provided on at least one main surface.

第二の振動腕部112bに設けられる電極は、励振用電極121と周波数調整用金属膜123とから成る。第二の振動腕部112bに設けられる励振用電極121は、第二の振動腕部112bの溝部GL内表面を含む一方の主面と、第二の振動腕部112bの溝部GL内表面を含む他方の主面に設けられている。また、第二の振動腕部112bに設けられる励振用電極121は、第一の振動腕部112aに対向する第二の振動腕部112bの内側側面と、この側面に対向する第二の振動腕部112bの外側側面とに設けられ、第二の振動腕部112bの両主面に設けられる励振用電極121と異極となるように設けられている。第二の振動腕部112bに設けられる周波数調整用金属膜123は、第二の振動腕部112aの先端部の両主面に設けられている。なお、周波数調整用金属膜123は、すくなくとも一方の主面に設ける構成としても良い。   The electrode provided on the second vibrating arm portion 112 b is composed of an excitation electrode 121 and a frequency adjusting metal film 123. The excitation electrode 121 provided on the second vibrating arm portion 112b includes one main surface including the inner surface of the groove portion GL of the second vibrating arm portion 112b and the inner surface of the groove portion GL of the second vibrating arm portion 112b. It is provided on the other main surface. The excitation electrode 121 provided on the second vibrating arm portion 112b includes an inner side surface of the second vibrating arm portion 112b facing the first vibrating arm portion 112a and a second vibrating arm facing the side surface. It is provided on the outer side surface of the portion 112b and is provided so as to have a different polarity from the excitation electrode 121 provided on both main surfaces of the second vibrating arm portion 112b. The frequency adjusting metal film 123 provided on the second vibrating arm portion 112b is provided on both main surfaces of the distal end portion of the second vibrating arm portion 112a. The frequency adjusting metal film 123 may be provided on at least one main surface.

基部111は、接続用電極122a及び122bが設けられる。接続用電極122aは、基部111の振動腕部112が形成されている辺とは反対側にあたる辺の一方の角端部及び基部111の一方の主面から他方の主面にわたって設けられている。また、接続用電極122bは、基部111の振動腕部112が形成されている辺とは反対側にあたる辺の他方の角端部及び基部111の一方の主面から他方の主面にわたって設けられている。
また、基部111及び振動腕部112には、所定の電極間を電気的に接続させるための導配線パターン124が設けられている。
The base 111 is provided with connection electrodes 122a and 122b. The connection electrode 122 a is provided from one corner end of the side opposite to the side where the vibrating arm portion 112 of the base 111 is formed and from one main surface of the base 111 to the other main surface. The connection electrode 122b is provided from the other corner end of the side opposite to the side on which the vibrating arm portion 112 of the base 111 is formed and from one main surface of the base 111 to the other main surface. Yes.
Further, the base portion 111 and the vibrating arm portion 112 are provided with a conductive wiring pattern 124 for electrically connecting predetermined electrodes.

接続用電極122aは、基部111の一方の主面に設けられた導配線パターン124により、第一の振動腕部112aの一方の主面に設けられた励振用電極121と電気的に接続し、かつ、第二の振動腕部112bの外側側面に設けられた励振用電極121と電気的に接続している。また、第二の振動腕部112bの外側側面に設けられた励振用電極121は、第二の振動腕部112bの内側側面に設けられた励振用電極121と電気的に接続している。更に、第一の振動腕部112aの一方の主面に設けられた励振用電極121は、第一の振動腕部112aの内側側面に設けられた導配線パターン124により、第一の振動腕部112aの他方の主面に設けられた励振用電極121と電気的に接続されている。   The connection electrode 122a is electrically connected to the excitation electrode 121 provided on one main surface of the first vibrating arm portion 112a by the conductive wiring pattern 124 provided on one main surface of the base 111, And it is electrically connected to the excitation electrode 121 provided on the outer side surface of the second vibrating arm portion 112b. Further, the excitation electrode 121 provided on the outer side surface of the second vibrating arm portion 112b is electrically connected to the excitation electrode 121 provided on the inner side surface of the second vibrating arm portion 112b. Further, the excitation electrode 121 provided on one main surface of the first vibrating arm portion 112a is connected to the first vibrating arm portion by a conductive wiring pattern 124 provided on the inner side surface of the first vibrating arm portion 112a. It is electrically connected to the excitation electrode 121 provided on the other main surface of 112a.

接続用電極122bは、基部111の他方の主面に設けられた導配線パターンにより、第二の振動腕部112bの他方の主面に設けられた励振用電極121と電気的に接続し、かつ、第一の振動腕部112aの外側側面に設けられた励振用電極121と電気的に接続している。また、第一の振動腕部112aの外側側面に設けられた励振用電極121は、第一の振動腕部112aの内側側面に設けられた励振用電極121と電気的に接続している。更に、第二の振動腕部112aの他方の主面に設けられた励振用電極121は、第二の振動腕部112bの内側側面に設けられた導配線パターン124により、第一の振動腕部112aの一方の主面に設けられた励振用電極121と電気的に接続されている。   The connection electrode 122b is electrically connected to the excitation electrode 121 provided on the other main surface of the second vibrating arm portion 112b by a conductive wiring pattern provided on the other main surface of the base 111, and , And electrically connected to the excitation electrode 121 provided on the outer side surface of the first vibrating arm portion 112a. In addition, the excitation electrode 121 provided on the outer side surface of the first vibrating arm portion 112a is electrically connected to the excitation electrode 121 provided on the inner side surface of the first vibrating arm portion 112a. Further, the excitation electrode 121 provided on the other main surface of the second vibrating arm portion 112a is connected to the first vibrating arm portion by the conductive wiring pattern 124 provided on the inner side surface of the second vibrating arm portion 112b. It is electrically connected to an excitation electrode 121 provided on one main surface of 112a.

これら励振用電極121、接続用電極122a,122b、周波数調整用金属膜123及び導配線パターン124は、フォトリソグラフィ技術により形成され、Ti層の上にPd又はAu層が設けられた積層構造となっている。   The excitation electrode 121, the connection electrodes 122a and 122b, the frequency adjusting metal film 123, and the conductive wiring pattern 124 are formed by a photolithography technique and have a laminated structure in which a Pd or Au layer is provided on a Ti layer. ing.

この音叉型の水晶振動片110を振動させる場合、接続用電極122a及び122bに交番電圧を印加する。印加後のある電気的状態を瞬間的にとらえると、第一の振動腕部112aの両主面に設けられた励振用電極121はプラス電位となり、両側面に設けられた励振用電極121はマイナス電位となり、プラスからマイナスに電界が生じる。このときの第二の振動腕部112bの両主面の励振用電極121はマイナス電位となり、両側面に設けられた励振用電極121はプラス電位という第一の振動腕部112aの励振用電極121に生じた極性とは反対の極性となり、プラスからマイナスに電界が生じる。この交番電圧により生じた電界によって、第一の振動腕部112a及び第二の振動腕部112bに伸縮現象が生じ、振動腕部112に設定した共振周波数の屈曲振動モードとなる。尚、この共振周波数は、音叉型の水晶振動片110に設けられた周波数調整用金属膜123を構成する金属の量を増減させて調整することができる。   When this tuning-fork type crystal vibrating piece 110 is vibrated, an alternating voltage is applied to the connection electrodes 122a and 122b. When an electrical state after application is instantaneously captured, the excitation electrodes 121 provided on both main surfaces of the first vibrating arm portion 112a have a positive potential, and the excitation electrodes 121 provided on both side surfaces are negative. An electric field is generated from positive to negative. At this time, the excitation electrodes 121 on both main surfaces of the second vibrating arm portion 112b have a negative potential, and the excitation electrodes 121 provided on both side surfaces have a positive potential, the exciting electrodes 121 of the first vibrating arm portion 112a. The polarity is opposite to the polarity generated in, and an electric field is generated from plus to minus. The electric field generated by the alternating voltage causes an expansion / contraction phenomenon in the first vibrating arm portion 112a and the second vibrating arm portion 112b, and a bending vibration mode having a resonance frequency set in the vibrating arm portion 112 is set. The resonance frequency can be adjusted by increasing or decreasing the amount of metal constituting the frequency adjusting metal film 123 provided on the tuning-fork type crystal vibrating piece 110.

突起部113は、2本一対の振動腕部112の間であって、振動腕部112に沿って基部111から延設されている。
ここで、振動腕部112が延設する方向をY軸方向又はY´軸方向とし、2つの振動腕部112の並ぶ方向をX軸方向とし、2つ一対の振動腕部112のうち、一方の振動腕部として第一の振動腕部112aと突起部113との間隔をW1、他方の振動腕部として第二の振動腕部112bと突起部113との間隔をW2とし、第二の振動腕部112bから第一の振動腕部112aに向かう方向を−X軸方向とする。
なお、2つの振動腕部412の間を二等分する中心線Cに対して、第一の振動腕部112a側を−X軸方向、第二の振動腕部112b側を+X軸方向と呼称する。
The protrusion 113 extends between the pair of vibrating arms 112 and extends from the base 111 along the vibrating arms 112.
Here, the extending direction of the vibrating arm portion 112 is defined as the Y-axis direction or the Y′-axis direction, and the direction in which the two vibrating arm portions 112 are arranged is defined as the X-axis direction. The first vibrating arm portion 112a and the protruding portion 113 are separated by W1 as the vibrating arm portion, and the second vibrating arm portion 112b and the protruding portion 113 are separated by W2 as the other vibrating arm portion. A direction from the arm portion 112b toward the first vibrating arm portion 112a is defined as a −X axis direction.
In addition, with respect to the center line C that bisects between the two vibrating arm portions 412, the first vibrating arm portion 112a side is referred to as the −X axis direction, and the second vibrating arm portion 112b side is referred to as the + X axis direction. To do.

この突起部113は、0.2≦W1/W21.0となる位置に設けられる。つまり、突起部113は、第一の振動腕部112aと第二の振動腕部112bとの間の中間となる位置から−X軸方向の位置までの間に設けられる。 The protrusion 113 is provided at a position where 0.2 ≦ W1 / W2 < 1.0. That is, the protrusion 113 is provided between a position between the first vibrating arm 112a and the second vibrating arm 112b and a position in the −X axis direction.

また、突起部113は、振動腕部112よりも短く設けられる。
例えば、突起部113は、長さが残渣の先端部よりも長くなるように設けられる。つまり、突起部113は、振動腕部112と基部111と突起部113に発生する残渣において、振動腕部112の残渣の幅が広がり始める位置、つまり先端部から基部までの距離よりも突起部113が長い状態となっている。したがって、例えば、突起部113の長さは、2つ一対の振動腕部112の間の距離よりも小さく設けられる。
また、突起部113は、幅を振動腕部112よりも大きく又は小さく若しくは同じとなるように設けられる。
Further, the protrusion 113 is provided shorter than the vibrating arm 112.
For example, the protrusion 113 is provided so that its length is longer than the tip of the residue. That is, the protrusion 113 has a protrusion 113 that is larger than the position where the width of the residue of the vibrating arm 112 starts to spread, that is, the distance from the tip to the base, in the residue generated in the vibrating arm 112, the base 111, and the protrusion 113. Is in a long state. Therefore, for example, the length of the projection 113 is provided smaller than the distance between the two pairs of vibrating arms 112.
Further, the protrusion 113 is provided so that the width is larger, smaller, or the same as that of the vibrating arm 112.

突起部113が設けられる位置は、前記のとおり0.2≦W1/W2<1.0の範囲内とする。
これは、一方の振動腕部として第一の振動腕部112aと突起部113との間隔に生じる残渣と、他方の振動腕部として第二の振動腕部112bと突起部113との間隔に生じる残渣とにより、振動腕部112の振動の固定端となる位置が近づくため、第一の振動腕部112aの屈曲振動と第二の振動腕部112bの屈曲振動のバランスの崩れが軽減され、振動の抑制を軽減して屈曲振動をすることができるため、CI値が低くなると考えられる。
As described above, the position where the protrusion 113 is provided is in the range of 0.2 ≦ W1 / W2 <1.0.
This occurs in the interval between the first vibrating arm portion 112a and the protruding portion 113 as one vibrating arm portion and in the interval between the second vibrating arm portion 112b and the protruding portion 113 as the other vibrating arm portion. Since the position that becomes the fixed end of vibration of the vibrating arm portion 112 approaches due to the residue, the balance of the bending vibration of the first vibrating arm portion 112a and the bending vibration of the second vibrating arm portion 112b is reduced, and the vibration is reduced. It is considered that the CI value becomes low because the bending vibration can be reduced with the suppression of the above.

設計上、振動腕部112の振動の固定端は、基部111と振動腕部112との境目とされるが、エッチング技術を用いて音叉型の水晶振動片110を形成する場合、振動腕部112と基部111とに残渣が生じる。
また、従来のように突起部113がない場合、前記のとおり、第一の振動腕部412aと第二の振動腕部412bと基部411とで囲まれる範囲に生じる残渣(図10参照)は、第一の振動腕部412aの側部から基部411に向かうにつれて幅が広がる傾斜部分を有し、また、第二の振動腕部412bの側部から基部411に向かうにつれて幅が広がる傾斜部分を有している。このそれぞれの傾斜部分の先端位置が振動の固定端となるとみなせるため、第一の振動腕部412aの振動と第二の振動腕部412bの振動とは異なった共振周波数になり、第一の振動腕部412aの振動と第二の振動腕部412bの振動が振動変位が異なるため、振動が抑制され、CI値の悪化の一因となる。
By design, the fixed end of vibration of the vibrating arm portion 112 is a boundary between the base portion 111 and the vibrating arm portion 112. When the tuning fork type crystal vibrating piece 110 is formed using an etching technique, the vibrating arm portion 112 is used. A residue is formed on the base 111.
Further, when there is no projection 113 as in the prior art, as described above, the residue (see FIG. 10) generated in the range surrounded by the first vibrating arm 412a, the second vibrating arm 412b, and the base 411 is It has an inclined part that increases in width as it goes from the side part of the first vibrating arm part 412a toward the base part 411, and has an inclined part that increases in width as it goes from the side part of the second vibrating arm part 412b toward the base part 411. doing. Since the tip position of each inclined portion can be regarded as a fixed end of vibration, the vibration of the first vibrating arm portion 412a and the vibration of the second vibrating arm portion 412b have different resonance frequencies, and the first vibration. Since the vibration of the arm portion 412a and the vibration of the second vibrating arm portion 412b are different in vibration displacement, the vibration is suppressed, which contributes to the deterioration of the CI value.

しかしながら、図3〜図5に示すように、突起部113を−X軸方向に0.2≦W1/W21.0の範囲内に設けると、第一の振動腕部112a側に生じる残渣の先端位置が、第二の振動腕部112bの残渣の先端位置に近づく状態となる。そのため、第一の振動腕部112aの振動と第二の振動腕部112bの振動とが近い状態となって振動のバランスの悪化を抑えて低いCI値に向上させたものと考えられる。
また、突起部113の位置がW1/W2<0.2となる場合は、一方の振動腕部として第一の振動腕部112aと突起部113との間隔の全てに残渣が生じることがあり、突起部113の先端位置が第一の振動腕部112aの振動の固定端となり、第二の振動腕部112bとの振動のバランスが悪くなる。
また、突起部113の位置がW1/W2>1となる場合は、第一の振動腕部112a側に生じる残渣の先端位置と第二の振動腕部112bに生じる残渣の先端位置の位置関係が、突起部113を設けていない場合に生じる残渣の位置関係に近似し、CI値の改善がみられなかった。
However, as shown in FIGS. 3 to 5, if the protrusion 113 is provided in the range of 0.2 ≦ W1 / W2 < 1.0 in the −X axis direction, the residue generated on the first vibrating arm 112a side Is in a state of approaching the tip position of the residue of the second vibrating arm portion 112b. For this reason, it is considered that the vibration of the first vibrating arm portion 112a and the vibration of the second vibrating arm portion 112b are close to each other, and the deterioration of the balance of vibration is suppressed and the CI value is improved.
Further, when the position of the protrusion 113 is W1 / W2 <0.2, a residue may be generated in the entire distance between the first vibration arm 112a and the protrusion 113 as one vibration arm, The tip position of the projection 113 becomes the fixed end of vibration of the first vibrating arm 112a, and the balance of vibration with the second vibrating arm 112b is deteriorated.
Further, when the position of the protrusion 113 is W1 / W2> 1, the positional relationship between the tip position of the residue generated on the first vibrating arm portion 112a side and the tip position of the residue generated on the second vibrating arm portion 112b is Approximating the positional relationship of the residue generated when the protrusion 113 is not provided, the CI value was not improved.

このように、本発明の音叉型屈曲水晶振動素子100を構成したので、第一の振動腕部112aと第二の振動腕部112bとの振動のバランスが崩れにくくなり、低いCI値となるように向上させることができる。   Thus, since the tuning-fork type bending crystal resonator element 100 of the present invention is configured, the vibration balance between the first vibrating arm portion 112a and the second vibrating arm portion 112b is not easily lost, and the CI value becomes low. Can be improved.

なお、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、適宜、変更可能である。
例えば、周波数調整用金属膜には、別途、Ag(銀)、Au(金)等の金属材料を用いて、厚みを厚くしても良い。
また、本発明の音叉型屈曲水晶振動素子は、所定のパッケージに封入して圧電振動子に用いることができ、また、この状態で発振回路を備えた集積回路素子と接続する構成にして圧電発振器に用いても良い。
In addition, although embodiment of this invention was described, this invention can be changed suitably.
For example, the metal film for frequency adjustment may be separately thickened using a metal material such as Ag (silver) or Au (gold).
Further, the tuning fork-type bending crystal resonator element of the present invention can be used in a piezoelectric vibrator by being enclosed in a predetermined package. In this state, the piezoelectric oscillator is configured to be connected to an integrated circuit element including an oscillation circuit. You may use for.

次に実施例について説明する。ここで、第一の振動腕部の内側の側面と第二の振動腕部の内側の側面との間隔をW=200(μm)とする。また、前記の通り、一方の振動腕部として第一の振動腕部112aと突起部113との間隔をW1、他方の振動腕部として第二の振動腕部112bと突起部113との間隔をW2とする。   Next, examples will be described. Here, the interval between the inner side surface of the first vibrating arm portion and the inner side surface of the second vibrating arm portion is W = 200 (μm). Further, as described above, the interval between the first vibrating arm portion 112a and the protruding portion 113 is set as one vibrating arm portion, and the interval between the second vibrating arm portion 112b and the protruding portion 113 is set as the other vibrating arm portion. Let W2.

(実施例1)
実施例1は、W1=55(μm)、W2=95(μm)、W1/W2≒0.58となっている。このときの残渣は、図3に示すように、第一の振動腕部112a側に生じる残渣の先端位置P1aが、第二の振動腕部112bの残渣の先端位置P2aに近づく状態となる。
Example 1
In Example 1, W1 = 55 (μm), W2 = 95 (μm), and W1 / W2≈0.58. As shown in FIG. 3, the residue at this time is in a state in which the residue tip position P1a generated on the first vibrating arm portion 112a side approaches the residue tip position P2a of the second vibrating arm portion 112b.

(実施例2)
実施例2は、W1=65(μm)、W2=85(μm)、W1/W2≒0.76となっている。このときの残渣は、図4に示すように、第一の振動腕部112a側に生じる残渣の先端位置P1bが、第二の振動腕部112bの残渣の先端位置P2bに近づく状態となる。
(Example 2)
In Example 2, W1 = 65 (μm), W2 = 85 (μm), and W1 / W2≈0.76. As shown in FIG. 4, the residue at this time is in a state in which the tip position P1b of the residue generated on the first vibrating arm portion 112a side approaches the tip position P2b of the residue of the second vibrating arm portion 112b.

(実施例3)
実施例3は、W1=75(μm)、W2=75(μm)、W1/W2≒1.0となっている。このときの残渣は、図5に示すように、第一の振動腕部112a側に生じる残渣の先端位置P1cが、第二の振動腕部112bの残渣の先端位置P2cに近づく状態となる。
(Example 3)
In Example 3, W1 = 75 (μm), W2 = 75 (μm), and W1 / W2≈1.0. As shown in FIG. 5, the residue at this time is in a state in which the residue tip position P1c generated on the first vibrating arm portion 112a side approaches the residue tip position P2c of the second vibrating arm portion 112b.

(比較例1)
比較例1は、W1とW2とがない従来の音叉型屈曲水晶振動素子である。このときの残渣は、図10に示すように、第一の振動腕部112a側に生じる残渣の先端位置P1dが、第二の振動腕部112bの残渣の先端位置P2dから離れた状態となる。
(Comparative Example 1)
Comparative Example 1 is a conventional tuning fork-type bending crystal resonator element that does not have W1 and W2. As shown in FIG. 10, the residue at this time is such that the residue tip position P1d generated on the first vibrating arm portion 112a side is away from the residue tip position P2d of the second vibrating arm portion 112b.

(比較例2)
比較例2は、W1=95(μm)、W2=55(μm)、W1/W2≒1.73となっている。このときの残渣は、図6に示すように、第一の振動腕部112a側に生じる残渣の先端位置P1eが、第二の振動腕部112bの残渣の先端位置P2eから離れた状態となる。
この比較例2は、比較例1の状態と似たような状態であると考えられる。
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 2, W1 = 95 (μm), W2 = 55 (μm), and W1 / W2≈1.73. As shown in FIG. 6, the residue at this time is such that the residue tip position P1e generated on the first vibrating arm portion 112a side is away from the residue tip position P2e of the second vibrating arm portion 112b.
The comparative example 2 is considered to be in a state similar to the state of the comparative example 1.

(比較例3)
比較例3は、W1=85(μm)、W2=65(μm)、W1/W2≒1.31となっている。このときの残渣は、図7に示すように、第一の振動腕部112a側に生じる残渣の先端位置P1fが、第二の振動腕部112bの残渣の先端位置P2fから離れた状態となる。
(Comparative Example 3)
In Comparative Example 3, W1 = 85 (μm), W2 = 65 (μm), and W1 / W2≈1.31. As shown in FIG. 7, the residue at this time is such that the residue tip position P1f generated on the first vibrating arm portion 112a side is away from the residue tip position P2f of the second vibrating arm portion 112b.

ここで、図8は、W1/W2=0.2〜2.4のときのCI値の変化を示しており、W1/W2が0.2〜1.0の時にCI値が50(Ω)前後となっている。
なお、CI値の測定は、W1/W2が0.2、0.3、0.43、0.58、0.76、1.0、1.31、1.73、2.30の各比率となる音叉型屈曲振動素子を5つ用意し、それぞれの測定を行った。
音叉型屈曲振動素子は、一般的に、小型化するとCI値は上昇傾向にあるが、発振器の構成部品として用いる場合、発振回路の発振マージンを考慮すれば50kΩ以下が理想である。70kΩでは起動性も悪く、不発振となることもあるため本発明の効果は大きい。本発明では、起動性が良くなるCI値として、60kΩ以下となるときが最良であるとした。
その結果、W1/W2が0.2〜1.0となるときが、60kΩを下回る結果と成り、本発明の効果が確認できた。しかし、W1/W2が1.31となるときは、CI値が60kΩを下回る結果となった。しかし、W1/W2が1.73、2.30のときは、CI値が70kΩを超えており、CI値が増大する傾向にあるため、W1/W2が1.31のときは、CI値が70kΩを超えることも考えられる。
Here, FIG. 8 shows changes in the CI value when W1 / W2 = 0.2 to 2.4, and the CI value is 50 (Ω) when W1 / W2 is 0.2 to 1.0. Before and after.
In addition, the measurement of CI value is W1 / W2 ratio of 0.2, 0.3, 0.43, 0.58, 0.76, 1.0, 1.31, 1.73, 2.30. Five tuning fork-type bending vibration elements were prepared and each of them was measured.
In general, the tuning fork type flexural vibration element tends to increase its CI value when it is miniaturized. However, when used as a component of an oscillator, the ideal value is 50 kΩ or less in consideration of the oscillation margin of the oscillation circuit. At 70 kΩ, the start-up property is poor, and non-oscillation may occur, so the effect of the present invention is great. In the present invention, the CI value that improves the startability is best when the CI value is 60 kΩ or less.
As a result, when W1 / W2 was 0.2 to 1.0, the result was less than 60 kΩ, and the effect of the present invention was confirmed. However, when W1 / W2 was 1.31, the CI value was less than 60 kΩ. However, when W1 / W2 is 1.73, 2.30, the CI value exceeds 70 kΩ, and the CI value tends to increase. Therefore, when W1 / W2 is 1.31, the CI value is It is also possible to exceed 70 kΩ.

このように、実施例1〜実施例3は、比較例1〜比較例3に比べて、第一の振動腕部112a側に生じる残渣の先端位置が、第二の振動腕部112bの残渣の先端位置に近い状態であるため、第一の振動腕部112aと第二の振動腕部112bとの振動のバランスが向上し、低いCI値となったものと考えられる。   Thus, compared with Comparative Examples 1 to 3, Example 1 to Example 3 are such that the tip position of the residue generated on the first vibrating arm part 112a side is the residue of the second vibrating arm part 112b. Since it is in a state close to the tip position, it is considered that the balance of vibration between the first vibrating arm portion 112a and the second vibrating arm portion 112b is improved and a low CI value is obtained.

100 音叉型屈曲水晶振動素子
110 水晶振動片
111 基部
112 振動腕部
112a 第一の振動腕部
112b 第二の振動腕部
121 励振用電極
122a,122b 接続用電極
123 周波数調整用金属膜
124 導配線パターン
113 突起部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Tuning fork type bending crystal vibrating element 110 Crystal vibrating piece 111 Base part 112 Vibrating arm part 112a First vibrating arm part 112b Second vibrating arm part 121 Excitation electrode 122a, 122b Connection electrode 123 Frequency adjusting metal film 124 Conductive wiring Pattern 113 protrusion

Claims (3)

基部と、
基部から延設する2つ一対の振動腕部と、
前記振動腕部の間であって前記基部から延設しつつ前記振動腕部より短く形成される突起部と、を備え、
前記振動腕部が延設する方向をY軸方向又はY´軸方向とし、2つの振動腕部の並ぶ方向をX軸方向とした場合、
前記2つ一対の振動腕部の間の中心に対して前記突起部が−X軸方向にずれて設けられていることを特徴とする音叉型屈曲水晶振動素子。
The base,
Two pairs of vibrating arms extending from the base,
A projection formed between the vibrating arms and extending from the base while being shorter than the vibrating arms,
When the direction in which the vibrating arm portion extends is the Y-axis direction or the Y′-axis direction, and the direction in which the two vibrating arm portions are arranged is the X-axis direction,
A tuning fork-type bending quartz crystal vibration element, wherein the protrusion is provided so as to be shifted in the -X-axis direction with respect to the center between the two pairs of vibrating arms.
基部と、
基部から延設する2つ一対の振動腕部と、
前記振動腕部の間であって前記基部から延設しつつ前記振動腕部より短く形成される突起部と、を備え、
前記振動腕部が延設する方向をY軸方向又はY´軸方向とし、2つの振動腕部の並ぶ方向をX軸方向とした場合、
前記2つ一対の振動腕部のうち、−X軸方向側の振動腕部と前記突起部との間隔をW1、+X軸方向側の振動腕部と前記突起部との間隔をW2としたとき、
前記突起部が、0.2≦W1/W21.0となる位置に設けられることを特徴とする音叉型屈曲水晶振動素子。
The base,
Two pairs of vibrating arms extending from the base,
A projection formed between the vibrating arms and extending from the base while being shorter than the vibrating arms,
When the direction in which the vibrating arm portion extends is the Y-axis direction or the Y′-axis direction, and the direction in which the two vibrating arm portions are arranged is the X-axis direction,
Of said two pair of vibrating arms, when the distance between the distance between the protrusions and the vibrating arms of the -X-axis direction side W1, the projection portion and the vibrating arms of the + X-axis direction side is W2 ,
A tuning fork-type bending quartz crystal vibration element, wherein the protrusion is provided at a position where 0.2 ≦ W1 / W2 < 1.0.
前記一対の振動腕部のそれぞれに、延設方向に沿って溝部が設けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の音叉型屈曲水晶振動素子。   The tuning fork-type bent quartz crystal resonator element according to claim 1, wherein a groove portion is provided in each of the pair of vibrating arm portions along the extending direction.
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