JP5527163B2 - Conductive paste and wiring board using the same - Google Patents

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本発明は、銅ナノ粒子の酸化による導電性の低下を抑制することができ、導電パターンの形成に用いることのできる導電性ペーストに関する。   The present invention relates to a conductive paste that can suppress a decrease in conductivity due to oxidation of copper nanoparticles and can be used to form a conductive pattern.

現在、プリント配線基板等に導電パターンを形成する材料として、銀ナノ粒子を導電材料とした導電性ペーストが知られている。この導電性ペーストをセラミック等の基材上に塗布、焼き付けを行うことで、銀ナノ粒子が焼結されて導電パターンを形成することができる。しかしながら、銀ナノ粒子を導電材料とした導電性ペーストは、イオンマイグレーションが発生して絶縁層を通電させるため短絡を生じる問題があり、さらに銀ナノ粒子は高価であるという問題もあった。そこで、安価でイオンマイグレーションが発生しにくい銅を導電材料に用いた導電性ペーストが注目されている。   Currently, a conductive paste using silver nanoparticles as a conductive material is known as a material for forming a conductive pattern on a printed wiring board or the like. By applying and baking this conductive paste on a substrate such as ceramic, silver nanoparticles can be sintered to form a conductive pattern. However, the conductive paste using silver nanoparticles as a conductive material has a problem that ion migration occurs and an insulating layer is energized, causing a short circuit, and silver nanoparticles are expensive. Thus, conductive paste using copper as a conductive material, which is inexpensive and hardly causes ion migration, has attracted attention.

ここで、銅は銀に比べ酸化しやすく、導電性ペーストに用いるナノサイズの銅ナノ粒の場合、表面積が大きいためにより酸化されやすく、この酸化によって導電性が低下するという問題があった。この銅の酸化を防止する手法としては、ジブチルヒドロキシトルエン(以下、「BHT」と略記する。)を用いる方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、BHTによる酸化防止は十分でなく、銅の酸化による導電性の低下は避けられなかった。   Here, copper is more easily oxidized than silver. In the case of nano-sized copper nanoparticles used for the conductive paste, there is a problem that the conductivity is lowered due to this oxidation because the surface area is large and the copper is more easily oxidized. As a technique for preventing the oxidation of copper, a method using dibutylhydroxytoluene (hereinafter abbreviated as “BHT”) has been proposed (see, for example, Patent Document 1). However, the prevention of oxidation by BHT is not sufficient, and the decrease in conductivity due to the oxidation of copper is inevitable.

そこで、安価でイオンマイグレーションの発生による短絡を生じず、酸化による導電性の低下が抑制された導電性ペーストが求められている。   Therefore, there is a need for an electrically conductive paste that is inexpensive, does not cause a short circuit due to the occurrence of ion migration, and suppresses a decrease in conductivity due to oxidation.

特開2009−146890号公報JP 2009-146890 A

本発明が解決しようとする課題は、安価でイオンマイグレーションの発生による短絡を生じにくく、酸化による導電性の低下が抑制された導電性ペースト及びそれを用いた配線基板を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a conductive paste which is inexpensive and hardly causes a short circuit due to the occurrence of ion migration and suppresses a decrease in conductivity due to oxidation, and a wiring board using the same.

本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、銅ナノ粒子を導電材料として用いた導電性ペーストにおいて、該ペーストに特定の硫黄化合物を配合することにより、銅ナノ粒子の酸化が大幅に抑制できることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive research, the present inventors have been able to greatly suppress the oxidation of copper nanoparticles by adding a specific sulfur compound to the paste in a conductive paste using copper nanoparticles as a conductive material. The present invention has been completed.

すなわち、本発明は、銅ナノ粒子及び下記一般式(1)で表されるチアジアゾールを含有することを特徴とする導電性ペースト及びそれを用いた配線基板に関する。   That is, the present invention relates to a conductive paste containing copper nanoparticles and thiadiazole represented by the following general formula (1), and a wiring board using the same.

Figure 0005527163
(式中、R及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1〜18のアルキル基を表す。)
Figure 0005527163
(Wherein, R 1 and R 2 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms independently.)

本発明の導電性ペーストは、銅ナノ粒子を導電材料として用いているため、安価でイオンマイグレーションの発生による短絡を生じにくいという利点がある。また、該ペースト中に含まれる銅ナノ粒子の酸化を防止できるため、酸化による導電性の低下が抑制された優れた導電性ペーストである。したがって、本発明の導電性ペーストは、プリント配線基板等の導電パターンの形成用の材料として好適に用いることができる。   Since the conductive paste of the present invention uses copper nanoparticles as a conductive material, there is an advantage that it is inexpensive and hardly causes a short circuit due to the occurrence of ion migration. Moreover, since it can prevent the oxidation of the copper nanoparticles contained in the paste, it is an excellent conductive paste in which the decrease in conductivity due to oxidation is suppressed. Therefore, the conductive paste of the present invention can be suitably used as a material for forming a conductive pattern such as a printed wiring board.

本発明の導電性ペーストは、銅ナノ粒子及び下記一般式(1)で表されるチアジアゾールを含有するものである。   The conductive paste of the present invention contains copper nanoparticles and thiadiazole represented by the following general formula (1).

Figure 0005527163
(式中、R及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1〜18のアルキル基を表す。)
Figure 0005527163
(Wherein, R 1 and R 2 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms independently.)

本発明の導電性ペーストに用いる銅ナノ粒子は、ナノサイズの平均粒子径を有する金属銅の微粒子である。この銅ナノ粒子の平均粒子径としては、より低温での焼結が可能となることから、1〜500nmの範囲が好ましく、10〜300nmの範囲がより好ましく、30〜200nmの範囲がさらに好ましい。   The copper nanoparticles used in the conductive paste of the present invention are metal copper fine particles having a nano-sized average particle diameter. The average particle diameter of the copper nanoparticles is preferably 1 to 500 nm, more preferably 10 to 300 nm, and even more preferably 30 to 200 nm because sintering at a lower temperature is possible.

銅ナノ粒子の平均粒子径は、FPAR−1000型濃厚系粒径アナライザー(大塚電子株式会社製)による動的光散乱法や、SALD−7100型島津ナノ粒子径分布測定装置(株式会社島津製作所製)によるレーザー回折・散乱法などによって測定することができる。   The average particle size of the copper nanoparticles is determined by the dynamic light scattering method using FPAR-1000 type dense particle size analyzer (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) ) By laser diffraction / scattering method.

前記銅ナノ粒子の製造方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、銅化合物を、ポリオールで還元するポリオール還元法が挙げられる。ポリオール還元法で用いることができる銅化合物としては、例えば、硫酸銅、硝酸銅、ギ酸銅、酢酸銅、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅等が挙げられる。また、ポリオール還元法で還元剤として用いることができるポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロプレングリコール、ブチレングリコール等のジオールが挙げられる。これらの銅化合物及びポリオールは、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。   A known method can be used as the method for producing the copper nanoparticles, and examples thereof include a polyol reduction method in which a copper compound is reduced with a polyol. Examples of the copper compound that can be used in the polyol reduction method include copper sulfate, copper nitrate, copper formate, copper acetate, copper chloride, copper bromide, and copper iodide. Examples of the polyol that can be used as a reducing agent in the polyol reduction method include diols such as ethylene glycol, propylene glycol, and butylene glycol. These copper compounds and polyols can be used alone or in combination of two or more.

上記のポリオール還元法で銅ナノ粒子を製造する際に、保護剤を用いることが好ましい。この保護剤としては、銅と親和性のある配位子を有する高分子が好ましく、例えば、ポリビニルピロリドン、メトキシポリエチレンオキシドメタクリレート等の非イオン性のポリマーが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルピロリドンが好ましい。なお、保護剤は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。   When producing copper nanoparticles by the above polyol reduction method, it is preferable to use a protective agent. As this protective agent, a polymer having a ligand having an affinity for copper is preferable, and examples thereof include nonionic polymers such as polyvinylpyrrolidone and methoxypolyethylene oxide methacrylate. Among these, polyvinylpyrrolidone is preferable. In addition, the protective agent can be used alone or in combination of two or more.

前記銅ナノ粒子の製造は、前記銅化合物、ポリオール及び保護剤を反応容器に仕込み、生成した銅ナノ粒子の酸化を防止するために、アルゴンガス、窒素ガス等の不活性ガスを吹き込みながら、120℃以上に加熱することによって行うことができる。一次粒子径を小さくするには目的温度まで急激に加熱することが好ましい。加熱温度は、120℃以上であればよいが、180〜200℃の範囲がより好ましい。   In order to prepare the copper nanoparticles, the copper compound, polyol and protective agent are charged into a reaction vessel, and an inert gas such as argon gas or nitrogen gas is blown in order to prevent oxidation of the generated copper nanoparticles. It can be performed by heating to a temperature of ℃ or higher. In order to reduce the primary particle size, it is preferable to rapidly heat to the target temperature. Although heating temperature should just be 120 degreeC or more, the range of 180-200 degreeC is more preferable.

本発明の導電性ペーストに用いるチアジアゾールは、下記一般式(1)で表される化合物である。   The thiadiazole used for the conductive paste of the present invention is a compound represented by the following general formula (1).

Figure 0005527163
(式中、R及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1〜18のアルキル基を表す。)
Figure 0005527163
(Wherein, R 1 and R 2 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms independently.)

上記一般式(1)中のR及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1〜18のアルキル基であるが、このアルキル基は、直鎖状のものでも分岐状のものでも構わない。また、上記一般式(1)中のR及びRとしては、炭素原子数6〜12のアルキル基がより好ましく、具体例には、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1−メチルオクチル基等が挙げられる。上記一般式(1)で表されるチアジアゾールの中でも、R及びRが同一のものが好ましく、R及びRがともに1−メチルオクチル基であるものが特に好ましい。 R 1 and R 2 in the general formula (1) are each independently an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and the alkyl group may be linear or branched. Moreover, as R < 1 > and R < 2 > in the said General formula (1), a C6-C12 alkyl group is more preferable, and a specific example includes n-hexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group. And 1-methyloctyl group. Among the thiadiazoles represented by the general formula (1), those in which R 1 and R 2 are the same are preferable, and those in which both R 1 and R 2 are 1-methyloctyl groups are particularly preferable.

なお、上記一般式(1)で表されるチアジアゾールは、「新実験化学講座14 有機化学の合成と反応III」(第1735〜1741頁;財団法人日本化学会編、昭和53年2月20日発行)等に記載の公知の合成方法により、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾールと脂肪族スルフィドを原料として、酸化剤を作用させることにより製造することができる。   The thiadiazole represented by the general formula (1) is “New Experimental Chemistry Lecture 14 Synthesis and Reaction III of Organic Chemistry” (pp. 1735-1741; edited by the Chemical Society of Japan, February 20, 1978). It can be produced by reacting an oxidizing agent with 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole and aliphatic sulfide as raw materials by a known synthesis method described in the publication.

本発明の導電性ペースト中の上記一般式(1)で表されるチアジアゾールの配合量は、ナノ銅粒子の酸化抑制を十分に行えることから、ナノ銅粒子100質量部に対して0.1〜50質量部の範囲が好ましく、1〜40重量部の範囲がより好ましい。   Since the blending amount of thiadiazole represented by the above general formula (1) in the conductive paste of the present invention can sufficiently suppress the oxidation of the nanocopper particles, it is 0.1 to 100 parts by mass of the nanocopper particles. The range of 50 parts by mass is preferable, and the range of 1 to 40 parts by weight is more preferable.

本発明の導電性ペーストには、塗布性を付与するため、前記銅ナノ粒子及び前記チアジアゾール以外に、溶剤を配合することが好ましい。この溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、キシレン等の有機溶剤、水が挙げられる。これらの溶剤は、1種類のみで用いることができるが、混合して分離しない範囲で2種以上併用することもできる。   In order to give applicability | paintability to the electrically conductive paste of this invention, it is preferable to mix | blend a solvent other than the said copper nanoparticle and the said thiadiazole. Examples of the solvent include methanol, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, diethyl ether, Examples thereof include organic solvents such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, toluene and xylene, and water. These solvents can be used alone, but two or more of them can be used in combination as long as they are not mixed and separated.

本発明の導電性ペーストには、上記の銅ナノ粒子、チアジアゾール及び溶剤の他、本発明の効果を阻害しない範囲で各種添加剤を配合しても構わない。このような添加剤としては、レベリング剤、分散剤、揺変性付与剤(チキソトロピック粘性付与剤)、消泡剤、充填剤、可塑剤、硬化触媒等が挙げられる。   In addition to the above copper nanoparticles, thiadiazole and solvent, the conductive paste of the present invention may contain various additives as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such additives include a leveling agent, a dispersant, a thixotropic agent (thixotropic viscosity imparting agent), an antifoaming agent, a filler, a plasticizer, and a curing catalyst.

本発明の導電性ペーストは、上記の銅ナノ粒子、チアジアゾール及び溶剤、さらに必要に応じて加えた各種添加剤を通常の方法で、撹拌混合して均一な液とすることで調製することができるが、必要に応じて3本ロール、ボールミル、アトライター、サンドミル等を用いて攪拌分散して調製しても構わない。   The conductive paste of the present invention can be prepared by stirring and mixing the above-mentioned copper nanoparticles, thiadiazole and solvent, and various additives added as necessary, into a uniform liquid. However, if necessary, it may be prepared by stirring and dispersing using a three-roll, ball mill, attritor, sand mill or the like.

本発明の配線基板は、本発明の導電性ペーストを用いて、セラミック、ガラス等の基材上に導電パターンを形成したものである。この導電パターンを基材上に形成する方法としては、まず、導電パターンを形成する基材上に導電性ペーストを回路配線の形状に塗布し、溶剤を乾燥後、焼き付けする方法が挙げられる。この際の導電性ペーストの塗布方法としては、版式印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンス法等を用いることができる。   The wiring board of the present invention is obtained by forming a conductive pattern on a substrate such as ceramic or glass using the conductive paste of the present invention. As a method of forming this conductive pattern on the substrate, first, a method of applying a conductive paste to the shape of the circuit wiring on the substrate on which the conductive pattern is to be formed, drying the solvent, and baking it. As a method for applying the conductive paste at this time, a plate printing method, an ink jet printing method, a dispensing method, or the like can be used.

版式印刷法としては、例えば、凸版印刷、平版印刷、凹版印刷、孔版印刷等を挙げられる。また、インクジェット印刷法としては、ピエゾ方式、サーマル方式いずれの方式も用いることができる。さらに、ディスペンス法として、画像処理により導電性ペーストの塗布量をコントロールして配線を形成する方法が挙げられる。   Examples of the plate printing method include letterpress printing, planographic printing, intaglio printing, and stencil printing. As the ink jet printing method, either a piezo method or a thermal method can be used. Furthermore, as a dispensing method, there is a method in which the amount of conductive paste applied is controlled by image processing to form wiring.

上記の焼き付けは、アルゴンガス、窒素ガス等の不活性ガスの雰囲気下で、通常、600〜800℃の温度で焼き付けを行うことができるが、本発明の導電性ペーストは、より低温での焼き付けも可能であり、450〜600℃での焼き付けも可能である。   The above baking can be performed usually at a temperature of 600 to 800 ° C. in an atmosphere of an inert gas such as argon gas or nitrogen gas. However, the conductive paste of the present invention is baked at a lower temperature. And baking at 450 to 600 ° C. is also possible.

以下に具体的な例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明する。なお、銅ナノ粒子の平均粒子径は、下記の条件で測定した。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with specific examples. The average particle size of the copper nanoparticles was measured under the following conditions.

[銅ナノ粒子の平均粒子径の測定]
銅ナノ粒子の分散体の一部をエチレングリコールで希釈し、FPAR−1000型濃厚系粒径アナライザー(大塚電子株式会社製)を用いて、測定条件を温度25℃、媒体の屈折率1.4306、粘度17.4mPa・sとして平均粒子径を測定した。
[Measurement of average particle diameter of copper nanoparticles]
A part of the dispersion of copper nanoparticles was diluted with ethylene glycol, and using a FPAR-1000 type dense particle size analyzer (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), the measurement conditions were a temperature of 25 ° C., and the refractive index of the medium was 1.4306. The average particle diameter was measured as a viscosity of 17.4 mPa · s.

(製造例1)
酢酸銅(II)(関東化学株式会社製)240mg、エチレングリコール(関東化学株式会社製)240ml、ポリビニルピロリドン(和光純薬工業株式会社製)33gを丸底フラスコに仕込んだ。その後、窒素ガスの吹込みを行いながら、5分で180℃まで昇温し、180℃で10分間加熱撹拌を行った。次いで、この反応混合物を中空糸型限外濾過膜モジュール(ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社製「HIT−1−FUS1582」;表面積145cm、分画分子量15万)中に循環させ、滲出す濾液と同量の精製水を加えながら、限外濾過モジュールからの濾液が約500mLとなるまで循環させて精製した。精製水の供給を止め、そのまま限外濾過法により濃縮すると、536mgの有機化合物/ナノ銅粒子複合体の水分散体が得られた。分散体中の不揮発物量は30質量%、不揮発物中の銅ナノ粒子の含有率は95質量%であった。得られた銅粒子を、上記の動的光散乱法により測定した平均粒子径は176nmであった。分散体の広角X線回折からは、還元銅であることが確認された。
(Production Example 1)
A round bottom flask was charged with 240 mg of copper (II) acetate (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), 240 ml of ethylene glycol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) and 33 g of polyvinylpyrrolidone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). Thereafter, while blowing nitrogen gas, the temperature was raised to 180 ° C. in 5 minutes, and heated and stirred at 180 ° C. for 10 minutes. Then, this reaction mixture is circulated in a hollow fiber type ultrafiltration membrane module ("HIT-1-FUS1582" manufactured by Daisen Membrane Systems Co., Ltd .; surface area 145cm 2 , molecular weight cut off 150,000), While adding the same amount of purified water, purification was performed by circulating until the filtrate from the ultrafiltration module was about 500 mL. When the purified water was stopped and concentrated as it was by ultrafiltration, 536 mg of an organic compound / nanocopper particle composite aqueous dispersion was obtained. The amount of non-volatiles in the dispersion was 30% by mass, and the content of copper nanoparticles in the non-volatiles was 95% by mass. The average particle diameter which measured the obtained copper particle by said dynamic light scattering method was 176 nm. Wide-angle X-ray diffraction of the dispersion confirmed that it was reduced copper.

(実施例1)
製造例1で得られた銅ナノ粒子の水分散体7.7mg(銅ナノ粒子として2.2mg)、下記式(2)で表されるチアジアゾール(DIC株式会社製「DAILUBE R−300」)9mg、トルエン90g及びエタノール10gを均一に混合して、導電性ペースト(1)を調製した。
Example 1
7.7 mg of an aqueous dispersion of copper nanoparticles obtained in Production Example 1 (2.2 mg as copper nanoparticles), 9 mg of thiadiazole (“DAILUBE R-300” manufactured by DIC Corporation) represented by the following formula (2) Then, 90 g of toluene and 10 g of ethanol were uniformly mixed to prepare a conductive paste (1).

Figure 0005527163
Figure 0005527163

(比較例1)
製造例1で得られた銅ナノ粒子の水分散体7.7mg(銅ナノ粒子として2.2mg)、BHT(関東化学株式会社製)0.9mg、トルエン90及びエタノール10gを均一に混合して、導電性ペースト(2)を調製した。
(Comparative Example 1)
An aqueous dispersion of copper nanoparticles obtained in Production Example 1 (7.7 mg (2.2 mg as copper nanoparticles)), BHT (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) 0.9 mg, toluene 90 and ethanol 10 g were uniformly mixed. A conductive paste (2) was prepared.

上記の実施例1及び比較例1で得られた導電性ペースト(1)及び(2)について、プラズモン共鳴吸収スペクトルを測定して、銅ナノ粒子の酸化状態を観察し、導電性ペーストの酸化防止性を評価した。   For the conductive pastes (1) and (2) obtained in Example 1 and Comparative Example 1 above, the plasmon resonance absorption spectrum is measured, the oxidation state of the copper nanoparticles is observed, and the oxidation of the conductive paste is prevented. Sex was evaluated.

[プラズモン共鳴吸収スペクトルの測定]
各導電性ペーストの調製直後より、日本分光株式会社製MV−2000型フォトダイオードアレイ式紫外可視吸収スペクトル測定装置を用いて、400〜800nmまで0.1秒間で掃引して、紫外可視吸収スペクトルの測定を開始した。測定は、導電性ペーストの調製直後及び調製後2時間経過時の2回行った。
[Measurement of plasmon resonance absorption spectrum]
Immediately after the preparation of each conductive paste, using an MV-2000 type photodiode array type UV-visible absorption spectrum measuring apparatus manufactured by JASCO Corporation, sweeping from 400 to 800 nm in 0.1 seconds, Measurement started. The measurement was performed twice immediately after the preparation of the conductive paste and 2 hours after the preparation.

なお、プラズモン共鳴吸収とは、ナノ微粒子中の電子が光と相互作用することにより光の吸収を生じる現象であり、ナノ微粒子の酸化が進行した場合、光の吸収強度(吸光度)が低下するため、これを測定することで、銅ナノ粒子の酸化状態を把握することができ、吸光度の低下がない場合、酸化の進行が少ないといえる。   In addition, plasmon resonance absorption is a phenomenon in which electrons in a nanoparticle interact with light to cause light absorption. When the oxidation of the nanoparticle proceeds, the light absorption intensity (absorbance) decreases. By measuring this, the oxidation state of the copper nanoparticles can be grasped, and when there is no decrease in absorbance, it can be said that the progress of oxidation is small.

[酸化防止性の評価]
上記で測定したプラズモン共鳴吸収スペクトルの導電性ペーストの調製直後及び調製後2時間経過時の極大吸光度の値の変化率(%)を下記式(1)によって算出し、得られた値から、下記の基準にしたがって酸化防止性を評価した。
○:変化率が2%未満である。
×:変化率が2%以上である。
[Evaluation of antioxidant properties]
The change rate (%) of the maximum absorbance value immediately after the preparation of the conductive paste of the plasmon resonance absorption spectrum measured above and after 2 hours from the preparation was calculated by the following formula (1). Antioxidant properties were evaluated according to the criteria.
○: Change rate is less than 2%.
X: The rate of change is 2% or more.

Figure 0005527163
Figure 0005527163

導電性ペーストとして、酸化による導電性の低下が少ない優れた性能を発揮するには、このプラズモン共鳴吸収スペクトルの極大吸光度の導電性ペースト調製後の1時間毎の変化率が、毎時2%未満であることが好ましく、1%未満であることがより好ましい。   As a conductive paste, in order to exhibit excellent performance with little decrease in conductivity due to oxidation, the change rate per hour after preparation of the conductive paste of the maximum absorbance of this plasmon resonance absorption spectrum is less than 2% per hour. It is preferable that it is less than 1%.

実施例1及び比較例1で得られた導電性ペースト(1)及び(2)についての上記測定及び評価の結果を表1に示す。   Table 1 shows the results of the above measurement and evaluation for the conductive pastes (1) and (2) obtained in Example 1 and Comparative Example 1.

Figure 0005527163
Figure 0005527163

表1に示した評価結果から、実施例1で得られた本発明の導電性ペースト(1)は、プラズモン共鳴吸収スペクトルの極大吸光度の変化率が0.88%と極めて少なく、非常に優れた酸化防止性を有することが分かった。   From the evaluation results shown in Table 1, the conductive paste (1) of the present invention obtained in Example 1 was extremely excellent, with the rate of change of the maximum absorbance of the plasmon resonance absorption spectrum being as extremely low as 0.88%. It was found to have antioxidant properties.

一方、比較例1は、本発明の導電性ペーストにおいて必須成分であるチアジアゾールを配合しなかった例であるが、この導電性ペースト(2)は、プラズモン共鳴吸収スペクトルの極大吸光度の変化率が5.59%と大きく、酸化防止性が不十分であることが分かった。   On the other hand, Comparative Example 1 is an example in which thiadiazole which is an essential component in the conductive paste of the present invention was not blended, but this conductive paste (2) has a maximum absorbance change rate of 5 in the plasmon resonance absorption spectrum. It was found that the antioxidant property was insufficient, as large as .59%.

Claims (3)

銅ナノ粒子及び下記一般式(1)で表されるチアジアゾールを含有することを特徴とする導電性ペースト。
Figure 0005527163
(式中、R及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1〜18のアルキル基を表す。)
An electroconductive paste comprising copper nanoparticles and thiadiazole represented by the following general formula (1).
Figure 0005527163
(Wherein, R 1 and R 2 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms independently.)
前記銅ナノ粒子100質量部に対して、前記一般式(1)で表されるチアジアゾールを0.1〜50質量部含有する請求項1記載の導電性ペースト。   The electrically conductive paste of Claim 1 which contains 0.1-50 mass parts of thiadiazole represented by the said General formula (1) with respect to 100 mass parts of said copper nanoparticles. 請求項1又は2記載の導電性ペーストを用いて導電パターンを形成したことを特徴とする配線基板。   A wiring board, wherein a conductive pattern is formed using the conductive paste according to claim 1.
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