JP5525784B2 - Liquid supply apparatus, liquid application apparatus, and image forming apparatus - Google Patents
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Description
本発明は液供給装置及び液付与装置並びに画像形成装置に係り、特に媒体等に液を付与する液付与装置における液の循環系の構造及びメンテナンス技術、並びにこれを用いた画像形成装置に関する。 The present invention relates to a liquid supply apparatus, a liquid applying apparatus, and an image forming apparatus, and more particularly to a structure and maintenance technique of a liquid circulation system in a liquid applying apparatus that applies liquid to a medium or the like, and an image forming apparatus using the same.
汎用の画像形成装置として普及しているインクジェット記録装置において、インクジェット方式を用いた各種媒体への良好な画像形成を目的として、凝集処理剤を用いた直接描画方式が検討されている。かかる直接描画方式は、凝集処理剤や他の処理液体を記録媒体上に付与し、これらの液体を乾燥させた後に、定着用ポリマー粒子を添加したインクを打滴して記録媒体上に画像を形成し、インクに凝集反応が発生した後に加熱して記録媒体上の水分を除去し、さらに、ポリマー粒子を成膜して画像を記録媒体に固定する方式が好適である。また、上述した直接描画方式において凝集処理液を付与する方法として、オフセット印刷機などで実績のあるローラ塗布が好適である。 In an inkjet recording apparatus that is widely used as a general-purpose image forming apparatus, a direct drawing system using an aggregating agent has been studied for the purpose of forming a good image on various media using the inkjet system. In such a direct drawing method, an aggregating treatment agent or other processing liquid is applied onto a recording medium, and after these liquids are dried, an ink added with fixing polymer particles is ejected to form an image on the recording medium. It is preferable to form the ink after the aggregation reaction occurs in the ink to remove moisture on the recording medium, and to form polymer particles to fix the image on the recording medium. In addition, as a method of applying the aggregation treatment liquid in the direct drawing method described above, roller coating that has a proven record in an offset printing machine or the like is suitable.
一方、稼動中に凝集処理液中の水分（溶質成分）が蒸発して濃度が高まることや、稼動後に凝集処理液の諸成分が塗布ローラに残留することなどによって、塗布ムラなどの不具合が発生してしまうことがあり得る。 On the other hand, problems such as coating unevenness occur due to evaporation of moisture (solute component) in the aggregating treatment liquid during operation and increasing the concentration, and various components of the aggregating treatment liquid remaining on the application roller after operation. It can happen.
これらの課題に対しては、凝集処理液のタンク内の濃度をモニタして加水制御を行うことや、自動洗浄機能を具備した循環供給系を構成することなどの改善策が取られている。 For these problems, improvement measures such as monitoring the concentration in the tank of the aggregating treatment liquid to perform hydration control and configuring a circulation supply system having an automatic cleaning function are being taken.
塗布液の濃度変化に対して、特許文献１は、塗布ローラの浸漬深さや回転速度を可変することで、付与される液の付与量を調整するように構成された液体付与装置を開示している。また、特許文献２は、バッファ容器や浸漬槽のレジスト溶液の濃度又は粘度を測定し、測定された濃度、粘度に応じて溶媒をレジスト溶液に添加して、レジスト溶液の塗布厚を一定に保つように構成されたレジスト塗布装置、塗布方法を開示している。
洗浄機能に関して、特許文献３は、印字ヘッドの下流のトレイや回収タンクの洗浄廃液中の吐出液成分の濃度をモニタし、濃度測定値が所定の基準以下になるまで洗浄を繰り返して、洗浄を確実に行うように構成された印刷装置を開示している。また、特許文献４は、流路制御弁４２〜４６を切換制御して、インラインコーティング装置（ドクターブレード装置）１２にコート液と洗浄液を切換供給することで、インラインコーティング装置１２のコート部を自動洗浄するように構成された印刷機用自動コーティング／洗浄システムを開示している。
Regarding the cleaning function, Patent Document 3 monitors the concentration of the discharge liquid component in the cleaning waste liquid of the tray downstream of the print head and the recovery tank, and repeats the cleaning until the measured concentration value falls below a predetermined standard. A printing apparatus configured to reliably perform is disclosed. Further, Patent Document 4 automatically controls the coating portion of the
さらに、特許文献５は、ポンプの運転とバルブの切り換えにより、ニス舟へのニスの供給とニス舟の洗浄とを選択的に切り替えることで、ニスコートの作業性改善と労力の軽減を計るように構成された印刷物ニス塗り装置を開示している。
Furthermore,
しかしながら、液付与処理におけるさらなる信頼性の確保及び安定性の確保を図る上で、付与される液の濃度調整に供給される希釈液や、洗浄時に供給される洗浄液の誤充填を検知すること、ポンプや制御弁などの動作を確認すること、塗布液の濃度をモニタする手段を清浄に保つこと、洗浄状態を簡便にチェックすることなどが課題として挙げられる。 However, in order to ensure further reliability and stability in the liquid application process, to detect the dilution liquid supplied to adjust the concentration of the liquid to be applied and the erroneous filling of the cleaning liquid supplied at the time of cleaning, Problems include checking the operation of the pump and control valve, keeping the means for monitoring the concentration of the coating solution clean, and simply checking the cleaning state.
特許文献１に記載された液体付与装置は、浸漬深さや回転速度を可変させることで一定レベルの液付与量の調整を可能としているが、浸漬深さや回転速度だけで溶媒蒸発に対応するためには調整範囲を広く設定する必要があり、共振や塗布ムラなどの不具合を生じやすい。また、塗布ローラを付与液に浸漬したまま停止すると、塗布ローラの非浸漬部に付与液が固着して塗布ムラが発生しやすい。
The liquid application apparatus described in
また、特許文献２に記載のレジスト塗布装置は、循環を停止すると浸漬槽にレジスト溶液が残留して固着などの不具合を生じやすい構成である。また、循環ポンプが故障や制御エラーで停止しても検出できず、塗布不良が長時間持続する可能性もある。さらに、溶媒を補充するための専用のポンプが必要だが、このポンプは稼動時間が短いため利用効率が上がらない。
In addition, the resist coating apparatus described in
特許文献３に記載された印刷装置は、洗浄後の廃液のための専用のモニタ手段を設けることで廃液の吐出液成分の濃度を測定することが可能ではあるが、廃液用のモニタ手段の利用効率が上がらない構成である。また、吐出動作時又は洗浄時における供給液の誤装填という問題が存在しているが、特許文献３には吐出液と洗浄液の誤装填の検知については何ら開示されていない。 Although the printing apparatus described in Patent Document 3 can measure the concentration of the discharged liquid component of the waste liquid by providing a dedicated monitor means for the waste liquid after washing, use of the monitor means for the waste liquid The configuration does not increase efficiency. Further, there is a problem of erroneous loading of the supply liquid during the discharge operation or cleaning, but Patent Document 3 does not disclose any detection of erroneous loading of the discharge liquid and the cleaning liquid.
特許文献４に記載された印刷機用自動コーティング／洗浄システム、及び特許文献５に記載された印刷物ニス塗り装置は、水や溶剤などの蒸発性を有する溶媒を用いたコーティングを使用するには、溶媒が蒸発して濃度変化を生じやすい。また、特許文献２に記載のように循環系に濃度計を設けることで、コーティング液の濃度を管理できるが、ポンプや制御弁の動作状態を確認することや、ドクターブレード装置１２の洗浄状態を確認することが困難である。さらに、洗浄不足によるコーティング液の残留や、洗浄過多による洗浄液や洗浄時間の無駄が生じやすい構成である。
The automatic coating / cleaning system for a printing press described in Patent Document 4 and the printed varnishing device described in
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、付与液の物性の変化や装置内の洗浄不足による不具合を回避するとともに、装置各部の動作異常や液の誤装填が防止され、液の安定した付与が実現される液供給装置及び液付与装置、並びにこれを用いた画像形成装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and avoids problems due to changes in the physical properties of the applied liquid and insufficient cleaning in the apparatus, prevents abnormal operation of each part of the apparatus and erroneous liquid loading, It is an object of the present invention to provide a liquid supply device and a liquid application device that can realize stable application, and an image forming apparatus using the same.
上記目的を達成するために、本発明に係る液供給装置は、溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与装置へ液を供給する供給流路と、前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を断続的に供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、を備えたことを特徴とする。 In order to achieve the above object, a liquid supply apparatus according to the present invention includes a supply flow path for supplying a liquid to a liquid application apparatus that applies a first liquid containing a solute in a solvent to a medium, and the first liquid as described above. A first liquid supply flow path for supplying to the supply flow path; a second liquid supply flow path for supplying to the supply flow path a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid; and the supply flow path Switching means for switching whether to supply the first liquid or the second liquid to the at least one physical property value of the concentration, conductivity, pH value, and viscosity of the liquid passing through the supply flow path. In the liquid application process to the medium by the measurement unit to measure and the liquid application device, when the physical property value of the first liquid measured by the measurement unit exceeds a predetermined range, the supply channel switching for performing switching control of said switching means so as to intermittently supply the second liquid Characterized by comprising a means.
本発明によれば、液付与装置に供給される第１液の物性監視が可能となり、第１液の物性が所定範囲を超えたときに第２液を供給することで、第１液の物性が安定する。また、第２液を供給することで測定手段が浄化され、かつ、第２液を供給する際の物性値の変化から切換手段の動作確認が可能である。第１液と第２液の物性監視を行うことで、第１液と第２液のタンクに補充される液の誤充填が検出可能となる。 According to the present invention, it is possible to monitor the physical properties of the first liquid supplied to the liquid application device, and the physical properties of the first liquid are supplied by supplying the second liquid when the physical properties of the first liquid exceed a predetermined range. Is stable. Moreover, the measurement means is purified by supplying the second liquid, and the operation of the switching means can be confirmed from the change in the physical property value when the second liquid is supplied. By monitoring the physical properties of the first liquid and the second liquid, it is possible to detect erroneous filling of the liquid replenished in the tanks of the first liquid and the second liquid.
以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について詳説する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
〔塗布装置の全体構成〕
図１は、本発明の実施形態に係る塗布装置の概略構成を示す全体構成図である。
[Overall configuration of coating device]
FIG. 1 is an overall configuration diagram showing a schematic configuration of a coating apparatus according to an embodiment of the present invention.
同図に示す塗布装置１０は、溶媒（水）と溶質を含む水溶性の塗布液を媒体の表面に塗布する塗布部１２と、塗布部１２に塗布液及び希釈液を供給する供給部１４と、を含んで構成されている。なお、塗布部１２及び供給部１４のそれぞれは、単独で液塗布装置、液供給装置として機能させることができる。また、塗布液の一例として、インクジェット記録装置に使用されるインクを凝集させる酸性液が挙げられる。以下の〔表２〕に、インクを凝集させる機能を有する酸性液（凝集処理液）の組成例を示す。
The
塗布部１２は、周面に媒体を保持する圧胴２０と、圧胴２０に保持された媒体に接触して塗布液を塗布する塗布ローラ２２と、塗布皿２４に充填されている塗布液を汲み上げて塗布ローラ２２に供給する供給ローラ２６と、塗布ローラ２２をクリーニングする清掃部２８と、を含んで構成される。
The
供給部１４は、補充用の塗布液が貯留される塗布液補充タンク３０と、塗布液補充タンク３０から塗布液バッファタンク３２へ塗布液を送液するための塗布液補充ポンプ３４と、塗布液バッファタンク３２から塗布部１２へ送られる塗布液の流路となる供給流路３６と、供給流路３６を開閉するための塗布液供給バルブ３８と、塗布液バッファタンク３２から塗布部１２へ送られる塗布液に圧力を付与する供給ポンプ４０と、を含んで構成される。
The
また、塗布液の濃度を調整するために塗布部１２へ供給される希釈液が貯留される希釈液タンク４２が、希釈液供給流路４４を介して供給流路３６と連通している。希釈液供給流路４４は、希釈液供給流路４４を開閉するための希釈液供給バルブ４６が設けられ、塗布液供給バルブ３８よりも塗布部１２側で供給流路３６と接続されている。
In addition, a
供給流路３６の希釈液供給流路４４との接続部よりも塗布部１２側には、供給流路３６を通過する液の濃度を測定するための濃度センサ４８が設けられている。濃度センサ４８から得られた濃度情報（センサ信号）は、変換部５０を介して制御系（図１中不図示、図２に詳細を図示）へ送られる。すなわち、塗布液供給バルブ３８を通過して塗布部１２へ送られる塗布液、及び希釈液供給バルブ４６を通過して塗布部１２へ送られる希釈液は、供給流路３６に設けられた濃度センサ４８によって濃度値が監視されるように構成されている。
A
供給流路３６の供給ポンプ４０よりも塗布部１２側には、供給流路３６を通過する液の温度を調整するためのヒータ５２と、メンテナンス時や凍結防止の目的で供給流路３６の液を抜くための手動バルブ５４と、塗布部１２の直近において、塗布部１２に送られる液の温度を検出するためのサーミスタ５６が設けられている。ヒータ５２に付随してヒータ自身の温度を検出するためのサーミスタ（不図示）と、ヒータ５２の過熱防止用のサーモスタット５８とが具備される。
A
塗布部１２に設けられる塗布皿２４の排出口（不図示）は、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２を介して排出流路６４と連通されている。排出流路６４は、廃液タンク７２と連通されるとともに、ろ過フィルタ６６、排出ポンプ６８、排出バルブ７０が設けられている。また、排出流路６４は循環流路７４と連通され、循環流路７４に設けられた循環バルブ７６を介して塗布液バッファタンク３２と連通されている。
A discharge port (not shown) of the
〔塗布部の構成〕
次に、図１に図示される塗布部１２の構成について詳細に説明する。
(Configuration of application part)
Next, the configuration of the
圧胴２０は、周面に媒体を保持するための多数の吸着穴が設けられている媒体保持領域を具備し、吸着穴から媒体に対して真空ポンプ（不図示）から負圧が付与され媒体が保持されるように構成されている。圧胴２０は円筒のドラム形状を有し、不図示の回転機構により符号Ａを付して図示した反時計回りに回転させることで、周面に保持された媒体を圧胴２０の回転方向に沿って移動させる。
The
塗布ローラ２２は、その表面が所定量の塗布液を保持することができる材質（例えば、ゴム）で構成され、不図示の回転機構によって圧胴２０と反対方向（符号Ｂを付して図示した時計回り方向）に回転駆動可能に構成されている。塗布ローラ２２を所定の回転速度で回転させながら、圧胴２０に保持された媒体に所定の押圧で押し当てて、媒体の表面に塗布液が塗布される。
The
また、圧胴２０は媒体の先端を保持するグリッパ（グリッパ部）２１が設けられている。該グリッパ２１は、圧胴２０の周面（媒体保持面）から突出した構造を有しているので、塗布ローラ２２はグリッパ２１と衝突しないように、グリッパ２１が通過する際に圧胴２０の周面から離間可能に構成されている。図１では、符号Ｄを付して塗布ローラ２２の移動方向を図示する。
The
塗布皿２４は、供給部１４から供給された塗布液が貯留される部材であり、塗布液が保持される液保持部２４Ａと、液保持部２４Ａからオーバーフローした塗布液が集められるオーバーフロー部２４Ｂと、液保持部２４Ａとオーバーフロー部２４Ｂとを区画している仕切板２４Ｃと、を含んで構成される。液保持部２４Ａの塗布液の液面高さが仕切板２４Ｃに設けられた開口部２４Ｄの位置に達すると、開口部２４Ｄからオーバーフロー部２４Ｂへ塗布液が流れ込み、液保持部２４Ａ内の塗布液の液面高さが一定に保たれる。
The
液保持部２４Ａの底面には塗布液を排出するための排出口（不図示）が設けられ、オーバーフロー部２４Ｂの底面にも塗布液を排出するための排出口（不図示）が設けられている。液保持部２４Ａ及びオーバーフロー部２４Ｂの排出口は、それぞれドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２と接続され、排出流路６４と連通される。また、液保持部２４Ａの底面には、液保持部２４Ａ内の塗布液の温度を調整するためのヒータ２４Ｅが設けられている。なお、ヒータ２４Ｅが省略された態様も可能である。
A discharge port (not shown) for discharging the coating liquid is provided on the bottom surface of the
供給ローラ２６は、クロムやセラミックでメッキ（又はコート）された表面、もしくはステンレス材の表面に、図示しない細かい溝（セル）が形成されたアニロックスローラが適用される。供給ローラ２６は、その表面の一部が塗布皿２４の中の塗布液に浸漬され、符号Ｃを付して図示した塗布ローラ２２と反対の反時計回り方向に回転させることで、溝の中に保持された塗布液を汲み上げる。供給ローラ２６の表面が塗布ローラ２２に接触すると、供給ローラ２６の溝に保持された塗布液は塗布ローラ２２の表面に転写される。なお、供給ローラ２６に液量を調整するためにブレードを付勢させてもよい。
As the
清掃部２８は、圧胴２０の周面に付着した付着物（主として塗布液）を除去するための手段として機能する。図１には、圧胴２０の周面を払拭するブレード２８Ａと、ブレード２８Ａにより除去された付着物を回収する回収トレイ２８Ｂと、を含む態様が図示されている。塗布ローラ２２と同様に、ブレード２８Ａはグリッパ２１と衝突を回避するためにグリッパ２１が通過する際に圧胴２０の周面から離間可能に構成されている。
The
〔供給部の構成〕
次に、供給部１４の構成について詳細に説明する。
[Configuration of supply section]
Next, the configuration of the
塗布液補充タンク３０は、内部の塗布液が消費された分だけ大気と置換される一方向弁などが組み込まれた密閉型の構造を有し、その内部には塗布液をろ過するためのろ過フィルタ３０Ａが具備されている。また、塗布液補充タンク３０はフロートセンサ（図１中不図示、図２に符号１２６を付して図示）を具備し、塗布液を補充する際の液面の上限を検出することができ、かつ、塗布液を消費したときの液面の下限を検出することができる。液面の上限又は下限が検出されるとその旨を報知する報知手段（ブザー、ランプ、報知信号を制御系へ送出する手段等）が具備されている。
The coating
塗布液バッファタンク３２は、内部の塗布液をろ過するためのろ過フィルタ３２Ａと、塗布液の液面の上限及び下限を検出するためのフロートセンサ３３と、を備えている。フロートセンサ３３によって塗布液の液面が下限を下回ったことが検出されると、塗布液補充ポンプ３４を動作させて塗布液補充タンク３０から塗布液バッファタンク３２へ一定量の塗布液が補充され、塗布液バッファタンク３２内の液量が一定範囲に保たれる。また、フロートセンサ３３によって塗布液の液面が上限に達したことが検出されると、塗布液バッファタンク３２の液量異常として報知信号が制御系へ送出される。
The coating
希釈液タンク４２は、塗布液補充タンク３０と同様の密閉型の構造（内部の塗布液が消費された分だけ大気と置換される一方向弁などが組み込まれた構造）を有し、内部の希釈液をろ過するためのろ過フィルタ４２Ａが具備されるとともに、外部に回収トレイ４２Ｂが具備されている。回収トレイ４２Ｂは、希釈液タンク４２に液を補充する際の液受けであり、回収トレイ４２Ｂ溜まった液は不図示の廃液流路を介して廃液タンク７２に送られるように構成されている。
The diluting
希釈液は、溶媒の蒸発等によって使用範囲濃度を超えて高濃度となった塗布液を希釈する液体であり、蒸留水やイオン交換水などの水にジクロルイソシアヌル酸塩などの塩素系殺菌剤を添加したものが好適に用いられる。なお、希釈液は、使用範囲濃度よりも希釈された低濃度の塗布液を適用してもよい。 Diluent is a liquid that dilutes the coating solution that has become higher than the concentration in the range of use due to evaporation of the solvent, etc., and chlorine-based disinfectant such as dichloroisocyanurate in water such as distilled water or ion-exchanged water Those added with are preferably used. In addition, you may apply the low concentration coating liquid diluted rather than the use range density | concentration as a dilution liquid.
廃液タンク７２は、塗布部１２から排出される液体が集められるタンクである。廃液タンク７２にも不図示の上限センサが具備されており、廃液タンク７２内の液が上限センサの位置を超えるとその旨を報知する報知手段（ブザー、ランプ、報知信号を制御系へ送出する手段等）が具備されている。また、廃液タンク７２は、廃液回収流路７８及びポンプ８０を介して清掃部２８の回収トレイ２８Ｂと連通されている。
The
塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６は、図２に図示する制御系から送出される制御信号に応じて開閉が制御される制御弁が適用される。塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６の開閉を制御するとともに、これらの開閉に応じ供給ポンプ４０を動作させることで、供給流路３６へ塗布液が供給されるか、希釈液が供給されるかを切り換えることが可能となっている。なお、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、排出バルブ７０、循環バルブ７６もまた、制御弁が適用され、図２に図示する制御系から送出される制御信号に応じてその開閉が制御される。
As the coating
供給ポンプ４０及び排出ポンプ６８は、チュープポンプなど正逆両用型ポンプが適用される。供給ポンプ４０及び排出ポンプ６８の回転方向の切り換えによって、供給流路３６、排出流路６４に流れる液の方向は切り換え可能に構成されている。チューブポンプは、小型自給式であり、送液方向の切り換えが容易であり、装置の小型化、制御系の簡素化に寄与する。なお、塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６などバルブ類の開閉制御、及び供給ポンプ４０及び排出ポンプ６８のオンオフ制御、回転方向制御、回転速度制御の詳細については後述する。
As the
供給流路３６内を通過する液の濃度を検出する濃度センサ４８は、被検出対象の液体の濃度情報（濃度値）に応じたセンサ信号を出力する。本例の濃度センサ４８には、光の屈折率に基づいて水溶液中に含まれる溶質成分（可溶性固形分）の濃度を測定する屈折率濃度計（ブリックス濃度計）が適用される。屈折率濃度計は、不図示の温度センサが内蔵されており、測定濃度の温度依存が自動的に補正される。
The
供給流路３６を流れる液の温度調節を行うヒータ５２は、塗布部１２の近傍に設けられるサーミスタ５６の検出温度に応じて通電時間が制御される。サーミスタ５６は、塗布部１２（塗布皿２４）内の塗布液の温度を検出する位置に設けられていてもよい。
The
〔制御系の説明〕
図２は、塗布装置１０の制御系の概略構成を示すブロック図である。塗布装置１０は、通信インターフェース１００、システム制御部１０２、圧胴制御部１０４、塗布ローラ制御部１０６、バルブ制御部１０８、ポンプ制御部１１０、温度制御部１１２（サーモスタット５８）が備えられている。また、図２では図示を省略するが、各部の動作パラメータや設定値、濃度センサ４８から得られた濃度情報等が記憶される記憶部（メモリ）を備えている。
[Explanation of control system]
FIG. 2 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a control system of the
通信インターフェース１００は、ホストコンピュータ１１６から送られてくる制御データを受信するインターフェース部である。通信インターフェース１００の通信方式や形態は限定されるものではなく、ＵＳＢ（Universal Serial Bus）などのシリアルインターフェースを適用してもよいし、セントロニクスなどのパラレルインターフェースを適用してもよい。
The
システム制御部１０２は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）及びその周辺回路等から構成され、所定のプログラムに従って塗布装置１０の全体を制御する制御装置として機能するとともに、各種演算を行う演算装置として機能する。すなわち、システム制御部１０２は、通信インターフェース１００、圧胴制御部１０４等の各部を制御し、ホストコンピュータ１１６との間の通信制御、記憶部の読み書き制御等を行うとともに、上記の各部を制御する制御信号を生成する。
The
圧胴制御部１０４は、圧胴駆動部１１８を介して図１に図示した圧胴２０の回転動作や媒体の動作を制御する。例えば、ジョブ（塗布動作）間の待機モードにおいて媒体検出センサ１２０により処理対象の媒体が検出されると、媒体の吸着動作が開始されるとともに、圧胴２０の回転動作が塗布処理モードの動作に切り換えられる。
The impression
塗布ローラ制御部１０６は、システム制御部１０２から送られた制御信号に基づいて、図１に図示した塗布ローラ２２や供給ローラ２６を駆動するローラ駆動部１２２を制御する。例えば、圧胴２０に処理対象の媒体が供給されると、圧胴２０の動作に応じて塗布ローラ２２を圧胴２０に押圧させるとともに圧胴２０に供給ローラ２６を押圧させ、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を所定の回転数で所定の回転方向に回転させる。また、塗布ローラ制御部１０６は、塗布ローラ２２の離間や、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６の回転速度を制御する。
The application
バルブ制御部１０８は、システム制御部１０２から送られた制御信号に基づいて、制御バルブ（塗布液供給バルブ３８、希釈液供給バルブ４６、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、排出バルブ７０、循環バルブ７６）の開閉を制御する。
Based on the control signal sent from the
ポンプ制御部１１０は、システム制御部１０２から送られた制御信号に基づいて、ポンプ１１１（塗布液補充ポンプ３４、供給ポンプ４０、排出ポンプ６８、ポンプ８０、及び圧胴２０に保持される媒体に吸着圧力を付与するポンプなどその他のポンプ）のオンオフ、回転速度、回転方向（正逆転制御可能なもの）を制御する。なお、システム制御部１０２によって、バルブの開閉タイミングや、ポンプのオンオフのタイミングの同期が取られるように制御される。
Based on the control signal sent from the
温度制御部１１２は、塗布液の温度が所定の温度に保たれるように、温度センサ１２４（サーミスタ５６）の検出温度に基づいて、塗布部１２に供給される塗布液の温度を調整するヒータ５２を制御するとともに、塗布皿２４に設けられるヒータ２４Ｅを制御する。また、塗布装置１０の各部に設けられる不図示のヒータ類の制御を行う。
The
図１に図示した塗布液補充タンク３０や塗布液バッファタンク３２、希釈液タンク４２、廃液タンク７２に設けられているフロートセンサ１２６（図１では、塗布液バッファタンク３２に設けられたフロートセンサに符号３３を付して図示）によって、内部の液の液面が上限を超えたことが検出されると、その旨の検出信号がシステム制御部１０２に送られる。システム制御部１０２は、フロートセンサ１２６から送出される検出信号を受け取ると、ブザーやランプなどの報知手段（不図示）を動作させて、その旨を報知させる。
The float sensor 126 (shown in FIG. 1 as a float sensor provided in the coating
一方、システム制御部１０２は、塗布液バッファタンク３２に設けられるフロートセンサ１２６から塗布液の液面が下限を下回ったことを検出した旨の検出信号を受けると、塗布液補充ポンプ３４を動作させるようにポンプ制御部１１０へ制御信号を送出する。また、塗布液補充タンク３０及び希釈液タンク４２に設けられたフロートセンサ１２６によって、内部の液の液面が下限を下回ったことを検出した旨の検出信号を受け取ると、ブザーやランプなどの報知手段を動作させて、その旨を報知させる。
On the other hand, upon receiving a detection signal from the
システム制御部１０２は、濃度センサ４８から供給流路３６を通過する液の濃度情報が送られると、その濃度情報を所定の記憶部（不図示）に逐次記憶してその変化を監視する。供給流路３６を通過する塗布液の濃度が設定範囲の上限を超えると、塗布部１２へ希釈液タンク４２から所定量の希釈液が供給されるように、加水制御シーケンス（詳細後述）が実行される。
When the concentration information of the liquid passing through the
一方、供給流路３６を通過する塗布液の濃度が設定範囲の下限を超えると、塗布部１２の塗布液を循環させる循環シーケンスが実行されるとともに、ヒータ５２（ヒータ２４Ｅ）を動作させて塗布液を加温して濃縮するように温度制御部１１２へ制御信号を送出する。
On the other hand, when the concentration of the coating liquid passing through the
ここで、塗布部１２の塗布処理の一連の流れを説明する。待機モード中は塗布ローラ２２（図１参照）を圧胴２０から離間させ、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を塗布動作中よりも遅い回転速度で回転させるとともに、塗布液バッファタンク３２と塗布皿２４の間で塗布液を循環させる。塗布皿２４内の塗布液を攪拌し、かつ、塗布液を循環させることで、塗布液の温度、濃度、粘度などの物性が均質に保たれ、塗布液の溶質の固着が防止され、紙粉などの異物はフィルタ６６によってろ過される。
Here, a series of flow of the coating process of the
不図示の搬送系によって処理対象の媒体が搬送され、媒体検出センサ１２０によって媒体が検出されると塗布処理モードに移行し、媒体の搬送に同期して塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を所定の回転速度で回転させるとともに、グリッパ２１の通過に同期しながら塗布ローラ２２をニップさせる。塗布動作が終了して処理モードから待機モードに移行すると、塗布ローラ２２を圧胴２０から離間させ、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を減速させる。一方、塗布処理が終了すると、塗布部１２の塗布液は塗布液バッファタンク３２へ回収され、洗浄シーケンスが実行される。なお、塗布処理モード中は、処理液を循環させている（詳細後述）。
When the medium to be processed is transported by a transport system (not shown) and the
次に、本例に示す塗布装置１０の液供給制御、液循環制御、洗浄制御について詳説する。
Next, liquid supply control, liquid circulation control, and cleaning control of the
〔循環供給シーケンスの説明〕
図３は、塗布液バッファタンク３２から塗布部１２へ塗布液を供給する場合の循環供給シーケンスを模式的に表した図である。以降、先に説明した部分と同一又は類似する部分には同一の符号を付し、その説明は省略する。また、図３以降の図において太線で図示された流路は、矢印の方向へ液が流れることを表している。
[Explanation of circulation supply sequence]
FIG. 3 is a diagram schematically showing a circulation supply sequence when supplying the coating liquid from the coating
循環供給シーケンスでは、塗布液供給バルブ３８、オーバーフローバルブ６２、及び循環バルブ７６が開かれ、供給ポンプ４０及び排出ポンプ６８を正転動作させる。塗布液バッファタンク３２の塗布液は、塗布液供給バルブ３８、濃度センサ４８、供給ポンプ４０、サーミスタ５６を経由して塗布部１２の塗布皿２４へ供給される。
In the circulation supply sequence, the coating
塗布皿２４へ塗布液が連続的に供給され、塗布皿２４の液保持部２４Ａに一定量以上の塗布液が供給されると、余剰の塗布液はオーバーフロー部２４Ｂへ流れ出し、オーバーフロー部２４Ｂの排出口（不図示）、オーバーフローバルブ６２、排出ポンプ６８、循環流路７４、循環バルブ７６を経由して塗布液バッファタンク３２へ戻される。塗布部１２の動作中において、かかる塗布液の循環供給を行うことにより、供給ローラ２６によって汲み上げられた分の塗布液が遅滞なく補充され、塗布皿２４の液保持部２４Ａの液面は一定の水位に保たれる。
When the application liquid is continuously supplied to the
循環シーケンスが終了されるときは、ドレインバルブ６０が開かれ、オーバーフローバルブ６２及び循環バルブ７６が開かれたまま、供給ポンプ４０を停止させ、塗布液供給バルブ３８が閉じられる。排出ポンプ６８を一定期間正転動作させて塗布液が塗布液バッファタンク３２へ回収されると、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、循環バルブ７６が閉じられる。
When the circulation sequence is completed, the
塗布液の循環供給シーケンスの実行中は、濃度センサ４８から得られる濃度情報に基づき、供給流路３６を通過する塗布液の濃度が監視される。上述したように、濃度センサ４８から得られた濃度情報は、図３に図示したシステムコントローラの制御により所定のサンプリングタイミングでサンプリングされ、記憶される。
During the execution of the coating liquid circulation supply sequence, the concentration of the coating liquid passing through the
〔加水シーケンスの説明〕
濃度センサ４８から得られた濃度情報に基づいて、供給流路３６を通過して塗布部１２に供給される塗布液の濃度が設定濃度範囲の上限を超えたと判断されると、塗布液の濃度が使用濃度範囲内になるように希釈する加水シーケンスが実行される。
[Description of water addition sequence]
Based on the concentration information obtained from the
図４は、希釈液タンク４２から供給流路３６へ希釈液が供給される加水シーケンスの説明図である。同図に示す加水シーケンスでは、塗布液供給バルブ３８が閉じられて塗布液の供給を停止させるとともに、希釈液供給バルブ４６を開いて希釈液供給流路４４、希釈液供給バルブ４６を経由して希釈液が供給流路３６へ供給される。供給流路３６へ供給された希釈液は、濃度センサ４８、供給ポンプ４０、ヒータ５２、サーミスタ５６を経由して塗布部１２へ供給される。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a hydration sequence in which the diluent is supplied from the
希釈液の供給量は、濃度センサ４８により得られた濃度情報と、希釈後の塗布液の目標濃度とに基づいて決められ、希釈液供給バルブ４６の開放時間及び供給ポンプ４０の動作時間及び回転速度により管理される。すなわち、濃度センサ４８により得られた濃度情報と、希釈後の塗布液の目標濃度との関係から希釈液の供給量が決められると、希釈液の供給量に対応して希釈液供給バルブ４６の開放時間、供給ポンプ４０の回転速度、動作時間が決められる。
The supply amount of the dilution liquid is determined based on the concentration information obtained by the
所定量の希釈液が塗布部１２へ供給されると、塗布液供給バルブ３８を開くとともに、希釈液供給バルブ４６が閉じられ、塗布液バッファタンク３２から塗布部１２へ塗布液の循環供給が再開される（図３参照）。
When a predetermined amount of the diluent is supplied to the
本例では、供給流路３６へ塗布液を供給するか、希釈液を供給するかを切り換える塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６の塗布部１２側（液の流れ方向における下流側）に濃度センサ４８を配置することで、循環供給シーケンス実行時の塗布液、加水シーケンス実行時の希釈液のいずれも濃度センサ４８を通過するので、塗布液、希釈液の両方の濃度を測定し、監視することが可能である。
In this example, the coating
また、希釈液タンク４２から塗布液バッファタンク３２へポンプを介して直接希釈液を供給する態様と比較して、当該ポンプや塗布液バッファタンク３２へ供給される希釈液の濃度を測定するための手段が不要となる。
Compared with the aspect in which the diluent is directly supplied from the
さらに、希釈液を塗布部１２へ供給する際に、希釈液が通過する供給流路３６（チューブ）の内部が洗浄されるとともに、濃度センサ４８やサーミスタ５６などの測定部材、ヒータなどの液と接触する部材（接液部材）の内部が洗浄される。
Furthermore, when supplying the dilution liquid to the
ここで、液体の種類と濃度センサ４８から得られる濃度値について説明する。図５は、液体の種類と濃度センサ４８（ブリックス濃度計）により得られる濃度値（Brix濃度(%)）の関係を示す表である。同図に示すように、塗布液（凝集処理剤）の濃度値は２１〜２８パーセントであり、希釈液（水の場合）の濃度値は０〜５パーセントである。したがって、この濃度値（濃度情報）から濃度センサ４８を通った液の種類を判断することが可能である。また、塗布液供給バルブ３８と希釈液供給バルブ４６の切換が正常に行われているか、さらに、塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６が正常に動作しているかを判断することができる。さらにまた、塗布液補充タンク３０や希釈液タンク４２に他の液が誤装填されていないかを判断することができる。
Here, the type of liquid and the concentration value obtained from the
なお、参考までに、本例に示す塗布装置１０をインクジェット記録装置に適用した場合において（詳細後述）、使用される液体のブリック濃度を図５に示す。Ｃ（シアン）インク、Ｍ（マゼンダ）インク、Ｋ（黒）インクのブリックス濃度は３５パーセント以上、Ｙ（イエロー）インクのブリックス濃度は３０〜３３パーセント、洗浄液（インクジェットヘッドのノズル面等を洗浄するもの）のブリックス濃度は１８〜２０パーセントである。また、液が存在しない場合のブリックス濃度は−２〜−１パーセントとする。
For reference, FIG. 5 shows the brick concentration of the liquid used when the
図５に示す、希釈液、洗浄液、塗布液はいずれも無色透明のものが多く、見た目では判断することが極めて困難であるが、濃度センサ４８から得られる濃度情報に基づいて、いずれの液体であるかを容易に判断することができる。
The dilution liquid, the cleaning liquid, and the coating liquid shown in FIG. 5 are all colorless and transparent, and are very difficult to judge visually. However, based on the density information obtained from the
本例に示す加水シーケンスは、ジョブ間などの待機モード中及びジョブ内の処理モード中のいずれの場合にも実行可能である。以下に、加水シーケンスが待機モード中に実行される場合と、処理モード中に実行される場合とに分けて詳説する。 The hydration sequence shown in this example can be executed both in a standby mode such as between jobs and in a processing mode within a job. Hereinafter, the case where the water addition sequence is executed during the standby mode and the case where it is executed during the processing mode will be described in detail.
（待機モード中に加水シーケンスが実行される場合）
上述したように、待機モード中は塗布液を循環させ、濃度センサ４８により得られた塗布液の濃度値が監視され、塗布液の濃度値が設定範囲の上限を超えて濃縮が進んだ場合には塗布部１２へ希釈液が供給される。待機モード中は、塗布皿２４内の塗布液の濃度が変化しても問題はなく、希釈された塗布液を循環させることで、次のジョブ開始までに塗布液の濃度、温度等を均質にすることができる。
(When water addition sequence is executed during standby mode)
As described above, during the standby mode, the coating liquid is circulated, and the concentration value of the coating liquid obtained by the
また、供給流路３６に希釈液を通過させることで、待機中にも供給流路３６や供給流路３６に設けられている測定部材や接液部材を洗浄することができ、塗布液が固定されることによる測定精度の低下やヒータの寿命低下が防止される。
Further, by passing the diluting liquid through the
図６は、１ジョブ（３０分）を実行後に塗布液を循環させながら加水制御をしたときの経過時間と濃度値（Brix濃度(%)）との関係を示すグラフである。なお、塗布液の温度は３５℃に温調されている。同図に示すように、希釈液が供給された直後は、濃度値がゼロ近傍まで大きく下降するものの、循環流路７４や塗布液バッファタンク３２で攪拌され、すぐに濃度は安定する。一方、図６に破線で図示するように、該加水シーケンスを実行しない場合には、ほぼ経過時間に比例して濃度が上昇する。
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the elapsed time and the concentration value (Brix concentration (%)) when water addition is controlled while circulating the coating liquid after one job (30 minutes) is executed. The temperature of the coating solution is adjusted to 35 ° C. As shown in the figure, immediately after the dilution liquid is supplied, the concentration value greatly decreases to near zero, but is stirred in the
塗布液のブリックス濃度は２５パーセントから２５．７パーセントの範囲内（２５パーセントを基準として３パーセント以内）であり、塗布開始前の塗布液の濃度変化を±３パーセントの範囲で制御することが可能である。 The Brix concentration of the coating solution is in the range of 25 percent to 25.7 percent (within 3 percent based on 25 percent), and the concentration change of the coating solution before the start of coating can be controlled within a range of ± 3 percent. It is.
（処理モード中に加水シーケンスが実行される場合）
処理モード中における加水シーケンスの実行では、濃度センサ４８よりも塗布部１２側の配管を濃度センサ４８の塗布部１２と反対側の配管よりも太くするとともに、希釈液の供給を断続的に行うことで、塗布部１２における塗布液の急激な濃度変化を回避することができ、塗布処理に影響を与えることなく加水シーケンスを実行することができる。
(When hydration sequence is executed during processing mode)
In the execution of the hydration sequence in the processing mode, the pipe on the
図７（ａ）は供給ポンプ４０の動作、（ｂ）は塗布液供給バルブ３８の動作、（ｃ）は希釈液供給バルブ４６（図１参照）の動作であり、（ｄ）は濃度センサ４８（図４参照）から得られる濃度値の変化を表している。図７（ａ）〜（ｄ）の横方向は時間を示し、供給ポンプ４０の動作タイミング、塗布液供給バルブ３８の動作タイミング、希釈液供給バルブ４６の動作タイミング、濃度値の変化の関係を示している。
7A shows the operation of the
図７（ａ）において「ＯＮ」で示す状態は供給ポンプ４０の動作中であり、「ＯＦＦ」で示す状態は供給ポンプ４０の停止中である。また、図７（ｂ），（ｃ）において「ＯＰＥＮ」で表す状態は塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６を開いた状態を表し、「ＣＬＯＳＥ」で表す状態は塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６が閉じられた状態である。図７（ｄ）に図示した濃度センサ４８の濃度値において、「塗布液」と記載した状態は塗布液の濃度値を表し、「水」と記載した状態は希釈液の濃度値を表している。
In FIG. 7A, the state indicated by “ON” indicates that the
希釈液供給バルブ４６が閉じられた状態で塗布液供給バルブ３８が開かれ、供給ポンプ４０を動作させると、符号１４０を付して図示するように、濃度センサ４８が示す濃度値は洗浄状態である水の濃度値から塗布液の濃度値へ上昇する。符号１４２を付して図示するように、塗布液の濃度が経時濃縮によって緩やかに上昇して所定の値を超えると、希釈液供給バルブ４６が開かれ希釈液が供給流路３６へ供給され、その後、塗布液供給バルブ３８が閉じられて塗布液の供給を停止させる。
When the coating
希釈液が供給流路３６に供給されることで、符号１４４を付して図示したように、濃度センサ４８が示す濃度値が急激に低下する。その後、塗布液供給バルブ３８が開かれ塗布液が供給流路３６へ送られると、符号１４６を付して図示したように、供給流路３６内の液の濃度は急激に上昇する。希釈液供給バルブ４６が閉じられると、循環によって供給流路３６内の液の濃度は低下し、経時によって所定の濃度まで上昇する。
By supplying the dilution liquid to the
なお、塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６が同時に開かれる期間を設けることで、供給流路３６に適用されるチューブが負圧を受けてつぶれてしまうことが防止される。
In addition, by providing a period in which the coating
希釈液の供給を停止させるときは、先に塗布液供給バルブ３８が開かれて塗布液の供給が開始された後に、希釈液供給バルブ４６が閉じられる。塗布液が供給されると、符号１４６を付して図示したように、濃度センサ４８が示す濃度値は水の濃度値から塗布液の濃度値へ急激に変化する。希釈液供給バルブ４６が閉じられるときにも、供給流路３６に適用されるチューブがつぶれることを防止するために、塗布液供給バルブ３８と希釈液供給バルブ４６の両方を同時に開く期間が設けられる。
When stopping the supply of the diluent, the coating
希釈液供給バルブ４６が開かれる期間を２〜３秒程度とすることで、塗布液の急激な濃度変化が回避され、塗布液供給バルブ３８及び希釈液供給バルブ４６の両方が同時に開かれる期間を０．２〜０．５秒程度とすることで、希釈液供給バルブ４６の開閉時における供給流路３６に用いられるチューブがつぶれてしまうことが防止される。
By setting the period during which the dilution
塗布液供給バルブ３８と希釈液供給バルブ４６から濃度センサ４８までの流路に使用されるチューブやヒータ５２の内径をより細くすることで（例えば、内径１〜１０ｍｍ、断面積に換算すると０．８ｍｍ２〜８０ｍｍ２）、濃度変化の検出応答性が向上する。また、濃度センサ４８から塗布部１２までの供給流路３６に用いられるチューブの内径をより太くすることで（例えば、内径１０〜２０ｍｍ、断面積に換算すると約７８ｍｍ２〜３２０ｍｍ２）、この部分における攪拌作用が大きくなり、供給流路３６において塗布液がより均質化しやすくなり、好適である。また、供給ローラ２６の回転によって塗布皿２４内の塗布状態の液が一段と攪拌されて均質化され、待機モードと同様の濃度管理が可能である。
By narrowing the inner diameter of the tube or
処理モード中に塗布液の濃縮がより顕著な場合には、塗布液の温度、塗布ローラ２２の回転数、塗布ローラ２２の付勢力を変えて、媒体に塗布される塗布液の濃度を相対的に変えて補助的に補正する態様が好ましい。
When the concentration of the coating liquid is more remarkable during the processing mode, the concentration of the coating liquid applied to the medium is relatively changed by changing the temperature of the coating liquid, the rotation speed of the
図８は、塗布ローラ２２（図１参照）と圧胴２０との速比（塗布ローラの速度／圧胴の速度）と、媒体に塗布される塗布液の量（ｇ／ｍ２）との関係を表したグラフである。同図に示すように、塗布ローラ２２の速度を小さくすると単位面積あたりの塗布液の塗布量は減少し、塗布ローラ２２の速度を大きくすると単位面積あたりの塗布液の塗布量は増加する傾向がある。この傾向は、媒体の種類を変えても共通している。図８に符号１６０を付した特性は媒体Ａ（グロス紙）のものであり、符号１６２を付した特性は媒体Ｂ（マット紙）のものである。
FIG. 8 shows the ratio between the speed of the coating roller 22 (see FIG. 1) and the impression cylinder 20 (the speed of the application roller / the speed of the impression cylinder) and the amount of coating liquid (g / m 2 ) applied to the medium. It is a graph showing the relationship. As shown in the figure, when the speed of the
塗布液の単位面積あたりの塗布量を減少させることで、媒体に塗布される塗布液の総量（塗布液に含有する溶質の総量）が減少するので、媒体に塗布される塗布液の濃度を低下させることと等価になる。また、塗布液の温度を上昇させると塗布液の粘度が低下して媒体に塗布される塗布液の総量が減少し、塗布ローラ２２の付勢力を上昇させると媒体に塗布される塗布液の総量が減少し、いずれの場合にも媒体に塗布される塗布液の濃度を低下させること等価になる。
By reducing the coating amount per unit area of the coating solution, the total amount of coating solution applied to the medium (the total amount of solutes contained in the coating solution) decreases, so the concentration of the coating solution applied to the medium is reduced. Is equivalent to Further, when the temperature of the coating liquid is increased, the viscosity of the coating liquid is decreased to reduce the total amount of the coating liquid applied to the medium. When the biasing force of the
塗布ローラ２２の回転速度や付勢力の大幅な変更や塗布液の温度の大幅な変更は、塗布ムラや共振などの不具合を生じるものの、かかる不具合を生じない範囲で変更を行うことにより濃度調整を補助する手段として有効である。
Although a drastic change in the rotation speed and urging force of the
さらに、塗布液バッファタンク３２に設けられたフロートセンサ（図２参照）を用いて、一定量（例えば、塗布液バッファタンク３２の容量が５リットルのときに２〜３リットル程度）の塗布液を循環させることで、塗布液の濃度や粘度などの物性値が安定する。また、塗布液の液量が低下する度合い（塗布液補充ポンプ３４の動作頻度）を監視することで、供給系（図１の供給部１４）や制御系（図２参照）の動作確認をすることが可能である。
Further, by using a float sensor (see FIG. 2) provided in the coating
例えば、塗布液補充ポンプ３４の動作頻度が低い場合は、塗布液の塗布量が過少であり、塗布ローラ２２の媒体への接触不良の可能性が考えられる。一方、塗布液補充ポンプ３４の動作頻度が高い場合は、塗布液の塗布量が過大であり、配管（塗布皿２４の配管、排出流路６４に用いられる配管の液漏れの可能性が考えられる。
For example, when the operation frequency of the application
本例では、供給流路３６を通過する液の濃度情報を取得して、塗布部１２へ供給される液の種類を判断し、ポンプ類、バルブ類の動作確認を行う態様を例示したが、濃度情報に代わり他の液物性情報を測定してもよい。他の液物性情報としては、導電率計による導電率、ｐＨメータによるｐＨ値、粘度計による粘度などが挙げられる。導電率、粘度の測定値が上昇した場合やｐＨ値が下降した場合には、液の濃縮が進行したと判断することができる。
In this example, the concentration information of the liquid passing through the
〔洗浄シーケンスの説明〕
次に、本例に示す塗布装置１０の洗浄シーケンスについて説明する。以下に説明する洗浄シーケンスは、塗布部１２の塗布処理が終了した後に自動実行される。
[Description of cleaning sequence]
Next, the cleaning sequence of the
図９は、洗浄シーケンスの説明図である。本例に示す洗浄シーケンスは、塗布液の濃度調整に使用する希釈液を用いて、塗布部１２の圧胴２０、塗布ローラ２２、供給ローラ２６が洗浄されるとともに、供給部１４の供給流路３６や濃度センサ４８が洗浄される。
FIG. 9 is an explanatory diagram of the cleaning sequence. In the cleaning sequence shown in this example, the
同図に示すように、洗浄シーケンスが実行されると、先ず、供給ポンプ４０を停止させ、塗布液供給バルブ３８が閉じられて塗布液の供給を停止させるとともに、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、循環バルブ７６が開かれ、排出ポンプ６８を動作させて、塗布部１２の塗布液が塗布液バッファタンク３２へ回収される。
As shown in the figure, when the cleaning sequence is executed, first, the
次に、ドレインバルブ６０が閉じられ、排出バルブ７０が開かれた後に循環バルブ７６が閉じられ、さらに、希釈液供給バルブ４６が開かれて供給ポンプ４０を動作させると、希釈液タンク４２から希釈液供給バルブ４６、供給流路３６を経由して希釈液が塗布部１２へ連続的に供給され、塗布皿２４からオーバーフローした希釈液は、排出流路６４を経由して廃液タンク７２へ回収される。
Next, when the
また、洗浄シーケンスでは、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を所定の期間回転させて、これらの洗浄が行われ、洗浄後の塗布ローラ２２を圧胴２０に押圧させた状態で圧胴２０を回転させて圧胴２０が洗浄される。圧胴２０、塗布ローラ２２、供給ローラ２６が洗浄されるとドレインバルブ６０が開かれ、塗布皿２４の液保持部２４Ａの希釈液が廃液タンク７２へ回収される。
Further, in the cleaning sequence, the
上述した洗浄シーケンスでは、希釈液供給バルブ４６から塗布部１２までの間に設けられる供給流路３６及び供給ポンプ４０が洗浄されるとともに、供給流路３６に設けられる濃度センサ４８、サーミスタ５６など測定部材の内部（塗布液が通過する部分）が洗浄されるので、供給部１４の各部の良好な状態が維持され、塗布液の供給異常などの不具合が防止される。なお、希釈液に代わり、洗浄効果を向上させる機能を有する洗浄液を適用することも可能である。
In the cleaning sequence described above, the
ここで、オーバーフローバルブ６２を開かずに供給ポンプ４０を動作させれば、塗布皿２４のオーバーフロー部２４Ｂの液面が塗布処理中よりも上昇して、仕切板２４Ｃより高い位置まで液が補充される。この状態で供給ローラ２６を高速回転させると、液保持部２４Ａのオーバーフロー界面やオーバーフロー部２４Ｂの洗浄性が向上する。塗布皿２４に供給される液の量は供給ポンプ４０の動作時間により設定することができ、また、塗布皿２４に上限センサを設けてオーバーフローバルブ６２を制御してもよい。
Here, if the
〔洗浄モニタ機能〕
次に、本例に示す塗布装置１０に具備される洗浄モニタ機能について説明する。洗浄モニタ機能は、洗浄シーケンスが正常に実行されたかを確認するとともに、洗浄対象の各部の洗浄が十分であるかを確認するための洗浄モニタ機能を具備している。
[Cleaning monitor function]
Next, the cleaning monitor function provided in the
図１０は、洗浄モニタ機能の説明図である。洗浄モニタ機能が実行されると、まず、塗布液供給バルブ３８が閉じられた状態で希釈液供給バルブ４６が開かれ、供給ポンプ４０を動作させて、希釈液タンク４２から塗布部１２へ希釈液が供給される。塗布皿２４の液保持部２４Ａからの希釈液がオーバーフローする程度の量、もしくはそれ以上の量の希釈液が塗布部１２へ供給されると、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、排出バルブ７０、循環バルブ７６が閉じられ、排出ポンプ６８を停止させる。
FIG. 10 is an explanatory diagram of the cleaning monitor function. When the cleaning monitor function is executed, first, the
塗布皿２４に希釈液が溜められた状態で塗布ローラ２２を圧胴２０から離間させ、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６を回転させて塗布ローラ２２及び供給ローラ２６の洗浄が行われる。さらに、塗布ローラ２２を圧胴２０に押圧させ、圧胴２０及び塗布ローラ２２、供給ローラ２６を回転させて、圧胴２０の洗浄が行われる。なお、圧胴２０、塗布ローラ２２、供給ローラ２６の洗浄中に希釈液が不足する場合には、希釈液が適宜補充される。
The
圧胴２０、塗布ローラ２２及び供給ローラ２６が洗浄されると、塗布液供給バルブ３８が開かれるとともに希釈液供給バルブ４６が閉じられ、供給ポンプ４０を逆転動作させて、塗布皿２４の液保持部２４Ａに残った洗浄後の希釈液の少なくとも一部を、濃度センサ４８の濃度測定値が所定の値に上昇するまで戻す。次に、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２、排出バルブ７０が開かれ、排出ポンプ６８を正転動作させて塗布皿２４に残った洗浄後の希釈液が廃液タンク７２へ回収する。さらに、供給ポンプ４０を逆転動作させて塗布液バッファタンク３２へ希釈液を回収すれば、供給流路３６に残った洗浄後の希釈液が塗布液バッファタンク３２へ回収される際に、濃度センサ４８から回収時の希釈液の濃度情報を得ることができる。
When the
回収時の希釈液には洗浄された被洗浄部から除去された塗布液の成分が溶解しているので、回収時の希釈液の濃度情報に基づいて、塗布ローラ２２、供給ローラ２６、圧胴２０などの塗布部１２の洗浄状態や、供給流路３６及び供給流路３６に設けられる濃度センサ４８等の洗浄状態を把握することが可能である。
Since the components of the coating liquid removed from the cleaned portion to be cleaned are dissolved in the diluted liquid at the time of recovery, the
例えば、供給時の希釈液の濃度値は０〜５パーセントであり（図５参照）、塗布液（凝集処理液の場合）の濃度値は２１〜２８パーセントなので、回収時の希釈液の濃度値が５パーセントを超え、２１パーセント未満であれば、洗浄シーケンスが正常に実行されたと判断することができる。また、回収時の希釈液の濃度値に洗浄の程度の指標を規定しておくことで、良好な洗浄状態が得られているか否かを判断することができる。例えば、「０％＜濃度値＜１０％」の場合は洗浄が十分と判断し、「１０％≦濃度値＜２１％」の場合には、洗浄が不十分と判断することができる。 For example, the concentration value of the diluted solution at the time of supply is 0 to 5 percent (see FIG. 5), and the concentration value of the coating solution (in the case of the aggregation treatment solution) is 21 to 28 percent. If it exceeds 5 percent and less than 21 percent, it can be determined that the cleaning sequence has been executed normally. Further, by defining an index of the degree of cleaning in the concentration value of the diluent at the time of recovery, it can be determined whether or not a good cleaning state is obtained. For example, if “0% <concentration value <10%”, it can be determined that the cleaning is sufficient, and if “10% ≦ concentration value <21%”, it can be determined that the cleaning is insufficient.
洗浄が不十分と判断された場合には、洗浄シーケンスを再度実行することが好ましい。より好ましくは、再洗浄の際には洗浄条件を変更してより強力に洗浄を行うことである。洗浄条件の変更例として、洗浄回数を増やす、洗浄時間（塗布ローラ２２の回転時間など）を増やす、洗浄時の温度設定を上げるなどが挙げられる。 When it is determined that the cleaning is insufficient, it is preferable to execute the cleaning sequence again. More preferably, the washing is performed more strongly by changing the washing conditions at the time of re-washing. Examples of changing the cleaning conditions include increasing the number of cleanings, increasing the cleaning time (such as the rotation time of the application roller 22), and increasing the temperature setting during cleaning.
図１１は、洗浄液の温度（液温）と粘度との関係を表すグラフである。同図に示すように、希釈液の温度が上がると残留している塗布液の粘度が低下するので高い洗浄効果を得ることができ、塗布液及び希釈液の溶解度が増して、より高い洗浄効果を得ることができる。 FIG. 11 is a graph showing the relationship between the temperature (liquid temperature) of the cleaning liquid and the viscosity. As shown in the figure, when the temperature of the dilution liquid rises, the viscosity of the remaining coating liquid decreases, so a high cleaning effect can be obtained, and the solubility of the coating liquid and the dilution liquid increases, resulting in a higher cleaning effect. Can be obtained.
上述した洗浄モニタ機能を利用することにより、洗浄対象の各部の洗浄が十分に行われたか否かを判断することができ、洗浄不足による塗布ローラ２２や供給ローラ２６への塗布液の残留が防止される。なお、塗布液バッファタンク３２内の塗布液は回収された希釈液により希釈されるが、塗布液バッファタンク３２は供給流路３６と比較して大容量であり、希釈の程度は軽度である。
By using the cleaning monitor function described above, it is possible to determine whether or not each part to be cleaned has been sufficiently cleaned, and it is possible to prevent the coating liquid from remaining on the
仮に、洗浄を数回実施して、ある程度の希釈液が塗布液バッファタンク３２に回収された場合など、希釈の程度が塗布処理時の塗布液の濃度に影響する程度に塗布液が希釈されたとしても、塗布液の温度を下げて粘度を下げる、塗布ローラ２２の回転数を下げるなどの塗布量の補助的な補正によって対応可能である。
If, for example, cleaning is performed several times and a certain amount of the diluted solution is collected in the coating
〔予備洗浄機能〕
次に、予備洗浄機能について説明する。
[Preliminary cleaning function]
Next, the preliminary cleaning function will be described.
予備洗浄機能では、廃液タンク７２内の液体を使用して塗布部１２の各部を洗浄するものである。廃液タンク７２は、洗浄シーケンスに使用された希釈液や、装置のジャムの発生などにより塗布皿２４に残った塗布液などが回収されるので、塗布液バッファタンク３２の塗布液よりも希釈された低濃度の塗布液が収容されている。この低濃度の塗布液を用いて予備洗浄を行うことで、希釈液の消費量が抑制され、かつ、廃液の再利用が可能となる。
In the preliminary cleaning function, each part of the
図１２は、予備洗浄機能の説明図である。塗布部１２の塗布液が塗布液バッファタンク３２へ回収されると、循環バルブ７６が閉じられ、ドレインバルブ６０、排出バルブ７０が開かれ、排出ポンプ６８を反転動作させて、廃液タンク７２内の液が塗布皿２４の液保持部２４Ａへ供給される。液保持部２４Ａに所定量の液が供給されると、洗浄シーケンスと同様の制御によって、圧胴２０、塗布ローラ２２、供給ローラ２６の予備洗浄が行われる。予備洗浄時に排出ポンプ６８を駆動制御して、塗布皿２４のオーバーフロー部２４Ｂにも廃液タンク７２から液を充填させれば、塗布皿２４の液保持部２４Ａの液面が上昇して洗浄性の向上が見込まれる。
FIG. 12 is an explanatory diagram of the preliminary cleaning function. When the coating liquid in the
〔廃液の再利用〕
廃液タンク７２の液は前述のとおり希釈されているため、通常は所定の廃棄処理が施された後に廃棄されるが、廃液タンク７２から塗布液バッファタンク３２へ廃液を戻し、再利用処理を施して塗布液として再利用することが可能である。廃液の再利用処理は夜間や休日など装置非稼動後に実行される。
[Reuse of waste liquid]
Since the liquid in the
図１３は、廃液タンク７２から塗布液バッファタンク３２へ廃液を戻す廃液回収シーケンスの説明図である。同図に示すように、塗布液供給バルブ３８、ドレインバルブ６０、排出バルブ７０が開かれ、供給ポンプ４０及び排出ポンプ６８を反転動作させ、廃液タンク７２内の液が排出流路６４、塗布部１２、供給流路３６、塗布液供給バルブ３８を経由して塗布液バッファタンク３２へ戻される。
FIG. 13 is an explanatory diagram of a waste liquid recovery sequence for returning the waste liquid from the
塗布液バッファタンク３２へ廃液が戻されると、再利用処理が実行される。再利用処理は、循環供給シーケンス（図３参照）が利用され、塗布液バッファタンク３２の液を循環させ、濃度センサ４８を用いて液の濃度が監視されながら、ヒータ５２を用いて循環中の液に加熱処理が施される。加熱処理によって循環中の液が濃縮されて所定の濃度に達すると、加熱処理及び循環シーケンスが停止される。
When the waste liquid is returned to the coating
上述した再利用処理が終了されると、供給ポンプ４０を反転動作させて供給流路３６内の液が塗布液バッファタンク３２へ回収されるとともに、ドレインバルブ６０、循環バルブ７６が開かれ、排出ポンプ６８を正転動作させて塗布皿２４に残留している液は塗布液バッファタンク３２へ回収される。なお、廃液回収シーケンス実行前に、補充配管（塗布液補充タンク３０から塗布液バッファタンク３２へ塗布液を供給するための配管）を塗布液バッファタンク３２の底部に到達するように延ばしておき、塗布液補充ポンプ３４を逆転動作させて、塗布液バッファタンク３２の塗布液を抜いておけば、さらに効果的である。
When the above-described recycling process is completed, the
〔液抜きシーケンス〕
次に、液抜きシーケンスについて説明する。液抜きシーケンスは、部品交換などのメンテナンスや冬場の凍結防止を目的として、塗布液の循環供給シーケンス（図３参照）の終了後や洗浄シーケンス（図９参照）の終了後に実行される。
[Liquid removal sequence]
Next, the liquid removal sequence will be described. The liquid draining sequence is executed after completion of the coating liquid circulation supply sequence (see FIG. 3) or after the cleaning sequence (see FIG. 9) for the purpose of maintenance such as replacement of parts and prevention of freezing in winter.
図１４は、液抜きシーケンスの説明図である。液抜きシーケンスでは、塗布液供給バルブ３８が開かれ、希釈液供給バルブ４６が閉じられた状態で、供給ポンプ４０を逆転動作させ、塗布部１２の塗布液が塗布液バッファタンク３２へ回収される。その後、塗布液供給バルブ３８が閉じられた状態で希釈液供給バルブ４６を開くと希釈液供給流路４４内の希釈液が希釈液タンク４２へ回収される。
FIG. 14 is an explanatory diagram of the liquid removal sequence. In the liquid removal sequence, the coating
また、塗布液補充ポンプ３４を正逆転切換が可能な構成とすることで、塗布液補充タンク３０と塗布液バッファタンク３２との間の流路の塗布液を塗布液補充タンク３０へ戻すことも可能である。
In addition, the application
このようにして、供給部１４の各流路内の液を抜くことができるように構成することで、部品交換などのメンテナンス性が改善され、濃度センサ４８や塗布液供給バルブ３８等のバルブ類、供給ポンプ４０等のポンプ類、ヒータ５２などの凍結による破損が防止される。また、濃度センサ４８から得られる濃度値を監視することで、液が抜けたことを確実に検出することができる。
In this way, by configuring so that the liquid in each flow path of the
〔ろ過フィルタのメンテナンス〕
塗布処理中や塗布処理後の塗布液には、処理対象の媒体を構成する素材や媒体の処理に用いられる材料、及び媒体の表面に付着して機外から持ち込まれる物質が混入していることがあり、排出流路６４に設けられたろ過フィルタ６６でこれらの異物を除去することで、濃度センサ４８や塗布ローラ２２の塗布欠陥などを低減化しているが、長期間の使用によりろ過フィルタ６６の詰まりが発生しやすい。ろ過フィルタ６６の詰まりの原因となるものとして、紙媒体を使用する場合の紙粉や塗工層成分、印刷装置に用いられるパウダー類などが挙げられ、これらを除去するろ過フィルタ６６はメッシュサイズが１０〜１００μｍ程度の比較的細かなものが適用される。
[Maintenance of filtration filter]
The coating liquid during and after the coating process is mixed with the materials that make up the medium to be processed, the materials used for the processing of the medium, and substances that are attached to the surface of the medium and brought from outside the machine. The foreign matter is removed by the
図１５に示す塗布装置１０’は、ろ過フィルタ６６に詰まった汚れ（異物）を除去するメンテナンスを実行可能に構成されている。
The
図１５は、ろ過フィルタ６６のメンテナンスを行う構成が追加された塗布装置１０’の概略構成図である。同図に示すよう塗布装置１０’は、ろ過フィルタ６６と廃液タンク７２の間にメンテナンス用排出流路６４’が設けられるとともに、メンテナンス用排出流路６４’に一方向弁７０’が設けられている。
FIG. 15 is a schematic configuration diagram of the
一方向弁７０’は、ろ過フィルタ６６から廃液タンク７２へ向かう方向にのみ液を流すように構成されており、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２が閉じられた状態で排出ポンプ６８を反転動作させると一方向弁７０’が開かれるので、ろ過フィルタ６６から除去された異物を含んだ塗布液は、一方向弁７０’、メンテナンス用排出流路６４’を介して廃液タンク７２へ回収される。
The one-
かかる構成によれば、ろ過フィルタ６６の自動メンテナンスが可能となり、詰まりの原因となる異物による装置内の汚染も防止される。また、一方向弁７０’に代わり、リリーフバルブを適用することも可能である。リリーフバルブは、一次側（ろ過フィルタ６６側）に一定以上の圧力が付与されると自動的に弁が開いて流体を放出し、一次側の圧力が一定以下に下降すれば弁が閉じる機能（構造）を持つ弁である。
According to this configuration, automatic maintenance of the
すなわち、ドレインバルブ６０、オーバーフローバルブ６２が閉じられた状態で排出ポンプ６８を反転動作させると、リリーフバルブの一次側に圧力がかかり、一定以上の圧力（例えば、３０〜３００キロパスカル程度）がかかるとリリーフバルブが開き、ろ過フィルタ６６の汚れが廃液タンク７２へ送られる。さらに、リリーフバルブの開放圧力を高くして（例えば、１００〜２００キロパスカル）ろ過フィルタ６６からリリーフバルブまでの流路にシリコンチューブなどの弾性を有する材料（硬度が４０〜７０°、より好ましくは５０〜６０°の材料）を適用すれば、該流路が膨張してからリリーフバルブが開放されるので、瞬間的に流速を高めることができ、より効果的なメンテナンスが可能である。
In other words, when the
なお、廃液タンク７２の液を濃縮して再利用する場合などは、廃液タンク７２とは別にタンクを用意して回収すれば、塗布液の汚れを軽減することも可能である。
When the liquid in the
〔塗布皿のメンテナンス〕
次に、塗布皿のメンテナンス機能が付加された塗布装置について説明する。図１６は、塗布液バッファタンク３２のメンテナンス機能が付加された塗布装置１０”の概略構成図である。
[Maintenance of application tray]
Next, a coating apparatus to which a maintenance function for the coating dish is added will be described. FIG. 16 is a schematic configuration diagram of a
同図に示す塗布装置１０”は、先に説明した塗布装置１０（図１参照）において、供給ポンプ４０の塗布液供給バルブ３８側から廃液タンク７２へのメンテナンス流路９０が設けられるとともに、メンテナンス流路９０に一方向弁９２が設けられている。一方向弁９２は、供給ポンプ４０から廃液タンク７２へ向かう方向にのみ開く構造を有している。
The
塗布部１２に設けられる塗布皿２４の液保持部２４Ａの排出口近傍には、液保持部２４Ａ内に混入した異物（紙粉や紙片など）を捕獲するドレインフィルタ（不図示）が設けられ、オーバーフロー部２４Ｂの排出口の近傍には、オーバーフローフィルタ（不図示）が設けられている。このドレインフィルタ、オーバーフローフィルタは、塗布皿２４内の配管に異物が詰まることを防止するものであり、０．１ｍｍ〜０．５ｍｍ程度のメッシュ構造を有している。長期間の使用によってドレインフィルタ及びオーバーフローフィルタにも詰まりが発生するので、メンテナンスを行う必要がある。
In the vicinity of the discharge port of the
図１６に示す塗布装置１０”は、塗布皿２４のドレインフィルタ及びオーバーフローフィルタに付着した異物が供給流路３６を経由し、さらに、メンテナンス流路９０及び一方向弁９２を経由して廃液タンク７２へ送られるように構成されている。
In the
すなわち、ドレインフィルタ及びオーバーフローフィルタのメンテナンスが実行されると、循環バルブ７６、ドレインバルブ６０が開かれるとともに、塗布液供給バルブ３８、希釈液供給バルブ４６、オーバーフローバルブ６２が閉じられる。この状態で排出ポンプ６８を逆回転させると、塗布皿２４の液保持部２４Ａのドレインフィルタに付着した異物がドレインフィルタから離脱して液保持部２４Ａを浮遊する。また、循環バルブ７６、オーバーフローバルブ６２が開かれ、塗布液供給バルブ３８、希釈液供給バルブ４６、ドレインバルブ６０が閉じられる。この状態で排出ポンプ６８を逆転動作させると、オーバーフローフィルタに付着した異物がオーバーフローフィルタから離脱してオーバーフロー部２４Ｂを浮遊する。
That is, when maintenance of the drain filter and the overflow filter is executed, the
さらに、供給ポンプ４０を逆転動作させると一方向弁９２が開かれるので、塗布皿２４の液保持部２４Ａの塗布液は供給流路３６、供給ポンプ４０、メンテナンス流路９０、一方向弁９２を経由して、廃液タンク７２へ送られる。さらにまた、オーバーフローバルブ６２が開かれた状態で排出ポンプ６８を逆転動作させると、オーバーフロー部２４Ｂの液が液保持部２４Ａへ移動する。液保持部２４Ａの液は供給ポンプ４０を逆転動作させることで廃液タンク７２へ送られる。
Further, when the
かかる構成によれば、塗布皿２４に設けられるドレインフィルタ及びオーバーフローフィルタの自動メンテナンスが可能である。なお、塗布皿２４から供給流路３６、メンテナンス流路９０を経由して廃液タンク７２に至る流路は、紙粉などの異物が詰まらないように、異物の大きさを考慮して通常よりも太くしておくことが好ましい。
According to such a configuration, automatic maintenance of the drain filter and the overflow filter provided in the
上述したろ過フィルタのメンテナンス及び塗布皿のメンテナンスは、水溶性の塗布液以外の塗布液（例えば、フォトレジストや油性インク）を使用する塗布装置にも適用することが可能である。 The filtration filter maintenance and the application tray maintenance described above can also be applied to an application apparatus using an application liquid (for example, photoresist or oil-based ink) other than the water-soluble application liquid.
〔塗布液バッファタンクのメンテナンス〕
次に、塗布液バッファタンクのメンテナンスについて説明する。
[Maintenance of coating solution buffer tank]
Next, maintenance of the coating liquid buffer tank will be described.
上記したろ過フィルタ６６や、ドレインフィルタ、オーバーフローフィルタのメンテナンスなどによって塗布液を消費して、塗布液バッファタンク３２を空にした後に、希釈液タンク４２から、塗布皿２４を経由して希釈液が塗布液バッファタンク３２へ充填され、塗布液バッファタンク３２から供給流路３６、塗布部１２、排出流路６４、循環流路７４を経由して塗布液バッファタンク３２へ希釈液を循環させることで、塗布液バッファタンク３２や供給流路３６、排出流路６４、循環流路７４のメンテナンスを行うことができる。
After the coating liquid is consumed by maintenance of the
図１７は、塗布液バッファタンク３２等のメンテナンスを説明する図である。同図に太実線を用いて示すように、希釈液を塗布液バッファタンク３２へ充填するシーケンスは、希釈液供給バルブ４６、オーバーフローバルブ６２、循環バルブ７６が開かれ、供給ポンプ４０、排出ポンプ６８を正転動作させると、希釈液タンク４２から塗布部１２を経由して塗布液バッファタンク３２へ希釈液が充填される。
FIG. 17 is a diagram illustrating maintenance of the coating
希釈液を循環させるシーケンスでは、塗布液供給バルブ３８、オーバーフローバルブ６２、循環バルブ７６が開かれ、供給ポンプ４０、排出ポンプ６８を正転動作させると、塗布液バッファタンク３２内の希釈液は太破線で図示する経路を循環する。希釈液を循環させるシーケンスにおいて、塗布ローラ２２、供給ローラ２６を回転させて、これらを洗浄してもよい。また、濃度センサ４８を用いて循環する希釈液の濃度をモニタして洗浄回数などを設定することで、さらに安定したメンテナンス（洗浄）が可能である。
In the sequence for circulating the dilution liquid, the coating
塗布液バッファタンク３２にジクロルイソシアヌル酸塩などの塩素系殺菌剤を希釈液タンク４２よりも多く添加することで、濃度センサ４８などの測定部材や塗布ローラ２２などの洗浄殺菌効果が向上し、さらに効果的である。
By adding more chlorine-based disinfectant such as dichloroisocyanurate to the application
さらに、図１５に示したメンテナンス用排出流路６４’及び一方向弁７０’、図１６に示したメンテナンス流路９０、一方向弁９２を備え、循環（洗浄）後にフィルタ類のメンテナンスを行うことで、メンテナンス流路６４’，９０、一方向弁７０’，９２が希釈液で洗浄される。
Further, the
〔他の装置構成への適用例〕
次に、上述した塗布装置１０（１０’、１０”）を記録媒体にカラー画像を形成するインクジェット記録装置へ適用した構成例について説明する。以下に説明するインクジェット記録装置は、記録媒体に凝集処理剤を塗布する処理液塗布部へ上述した塗布装置を適用したものである。
[Example of application to other device configurations]
Next, a configuration example in which the above-described coating apparatus 10 (10 ′, 10 ″) is applied to an ink jet recording apparatus that forms a color image on a recording medium will be described. The ink jet recording apparatus described below is an aggregation process on a recording medium. The above-described coating apparatus is applied to the treatment liquid coating unit that coats the agent.
（インクジェット記録装置の全体構成）
図１８は、本実施形態に係るインクジェット記録装置の全体構成を示した構成図である。同図に示すインクジェット記録装置２００は、色材を含有するインクと該インクを凝集させる機能を有する凝集処理液を用いて、所定の画像データに基づいて記録媒体２１４の記録面に画像を形成する二液凝集方式の記録装置である。
(Overall configuration of inkjet recording apparatus)
FIG. 18 is a configuration diagram showing the overall configuration of the ink jet recording apparatus according to the present embodiment. The ink
インクジェット記録装置２００は、主として、給紙部２２０、処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０、及び排出部２７０を備えて構成される。処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０の前段に搬送される記録媒体２１４の受け渡しを行う手段として渡し胴２３２，２４２，２５２，２６２が設けられるとともに、処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０のそれぞれに記録媒体２１４を保持しながら搬送する手段として、ドラム形状を有する圧胴２３４，２４４，２５４，２６４が設けられている。
The ink
渡し胴２３２〜２６２及び圧胴２３４〜２６４は、外周面の所定位置に記録媒体２１４の先端部（又は後端部）を挟んで保持するグリッパ２８０Ａ，２８０Ｂが設けられている。グリッパ２８０Ａとグリッパ２８０Ｂにおける記録媒体２１４の先端部を挟んで保持する構造、及び他の圧胴又は渡し胴に備えられるグリッパとの間で記録媒体２１４の受け渡しを行う構造は同一であり、かつ、グリッパ２８０Ａとグリッパ２８０Ｂは、圧胴２３４の外周面の圧胴２３４の回転方向について１８０°移動させた対称位置に配置されている。
The transfer drums 232 to 262 and the pressure drums 234 to 264 are provided with
グリッパ２８０Ａ，２８０Ｂにより記録媒体２１４の先端部を狭持した状態で渡し胴２３２〜２６２及び圧胴２３４〜２６４を所定の方向に回転させると、渡し胴２３２〜２６２及び圧胴２３４〜２６４の外周面に沿って記録媒体２１４が回転搬送される。
When the transfer cylinders 232 to 262 and the impression cylinders 234 to 264 are rotated in a predetermined direction with the
なお、図１８中、圧胴２３４に備えられるグリッパ２８０Ａ，２８０Ｂのみ符号を付し、他の圧胴及び渡し胴のグリッパの符号は省略する。
In FIG. 18, only the
給紙部２２０に収容されている記録媒体（枚葉紙）２１４が処理液塗布部２３０に給紙されると、圧胴２３４の外周面に保持された記録媒体２１４の記録面に、凝集処理液（以下、単に「処理液」と記載することがある。）が付与される。なお、「記録媒体２１４の記録面」とは、圧胴２３４〜２６４の保持された状態における外側面であり、圧胴２３４〜２６４に保持される面と反対面である。
When the recording medium (sheet) 214 accommodated in the
その後、凝集処理液が付与された記録媒体２１４は描画部２４０に送出され、描画部２４０において記録面の凝集処理液が付与された領域に色インクが付与され、所望の画像が形成される。
Thereafter, the
さらに、該色インクによる画像が形成された記録媒体２１４は乾燥処理部２５０に送られ、乾燥処理部２５０において乾燥処理が施されるとともに、乾燥処理後に定着処理部２６０に送られ、定着処理が施される。乾燥処理及び定着処理が施されることで、記録媒体２１４上に形成された画像が堅牢化される。このようにして、記録媒体２１４の記録面に所望の画像が形成され、該画像が記録媒体２１４の記録面に定着した後に、排出部２７０から装置外部に搬送される。
Further, the
以下、インクジェット記録装置２００の各部(給紙部２２０、処理液塗布部２３０、描画部２４０、乾燥処理部２５０、定着処理部２６０、排出部２７０)について詳細に説明する。
Hereinafter, each unit (the
（給紙部）
給紙部２２０は、給紙トレイ２２２と不図示の送り出し機構が設けられ、記録媒体２１４は給紙トレイ２２２から一枚ずつ送り出されるように構成されている。給紙トレイ２２２から送り出された記録媒体２１４は、渡し胴（給紙胴）２３２のグリッパ（不図示）の位置に先端部が位置するように不図示のガイド部材によって位置決めされて一旦停止する。
(Paper Feeder)
The
（処理液塗布部）
処理液塗布部２３０（図１に図示した塗布装置１０に対応）は、給紙胴２３２から受け渡された記録媒体２１４を外周面に保持して記録媒体２１４を所定の搬送方向へ搬送する圧胴（処理液ドラム）２３４（図１に図示した圧胴２０に対応）と、処理液ドラム２３４の外周面に保持された記録媒体２１４の記録面に処理液を付与する処理液塗布装置２３６（図１に図示した供給部１４及び塗布ローラ２２、塗布皿２４，供給ローラ２６を含む構成に対応）と、を含んで構成されている。処理液ドラム２３４を図１８における反時計回りに回転させると、記録媒体２１４は処理液ドラム２３４の外周面に沿って反時計回り方向に回転搬送される。
(Processing liquid application part)
The processing liquid coating unit 230 (corresponding to the
図１８に示す処理液塗布装置２３６は、処理液ドラム２３４の外周面（記録媒体保持面）と対向する位置に設けられている。処理液塗布装置２３６の構成例として、処理液が貯留される処理液容器（図１に図示した塗布皿２４に対応）と、処理液容器の処理液に一部が浸漬され、処理液容器内の処理液を汲み上げる汲み上げローラ（図１に図示した供給ローラ２６に対応）と、汲み上げローラにより汲み上げられた処理液を記録媒体２１４上に移動させる塗布ローラ（ゴムローラ、図１に図示した塗布ローラ２２に対応）と、を含んで構成される態様が挙げられる。
The processing
なお、該塗布ローラを上下方向（処理液ドラム２３４の外周面の法線方向）に移動させる塗布ローラ移動機構を備え、該塗布ローラとグリッパ２８０Ａ，２８０Ｂとの衝突を回避可能に構成する態様が好ましい。
In addition, there is provided an application roller moving mechanism that moves the application roller in the vertical direction (the normal direction of the outer peripheral surface of the treatment liquid drum 234), and is configured to avoid collision between the application roller and the
処理液塗布部２３０により記録媒体２１４に付与される処理液は、描画部２４０で付与されるインク中の色材（顔料）を凝集させる色材凝集剤を含有し、記録媒体２１４上で処理液とインクとが接触すると、インク中の色材が凝集して溶媒との分離が促進される。
The treatment liquid applied to the
処理液塗布装置２３６は、記録媒体２１４に塗布される処理液量を計量しながら塗布することが好ましく、記録媒体２１４上の処理液の膜厚は、描画部２４０から打滴されるインク液滴の直径より十分に小さくすることが好ましい。
The treatment
本発明に係る塗布装置（液供給装置）は、処理液塗布部２３０（処理液塗布装置２３６）に適用される。 The coating apparatus (liquid supply apparatus) according to the present invention is applied to the processing liquid coating unit 230 (processing liquid coating apparatus 236).
（描画部）
描画部２４０は、記録媒体２１４を保持して搬送する圧胴（描画ドラム）２４４と、記録媒体２１４を描画ドラム２４４に密着させるための用紙抑えローラ２４６と、記録媒体２１４にインクを付与するインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙを備えている。なお、描画ドラム２４４の基本構造は、先に説明した処理液ドラム２３４と共通しているので、ここでの説明は省略する。
(Drawing part)
The
用紙抑えローラ２４６は、描画ドラム２４４の外周面に記録媒体２１４を密着させるためのガイド部材であり、描画ドラム２４４の外周面に対向し、渡し胴２４２と描画ドラム２４４との記録媒体２１４の受渡位置よりも記録媒体２１４の搬送方向下流側であり、且つ、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙよりも記録媒体２１４の搬送方向上流側に配置される。
The
渡し胴２４２から描画ドラム２４４に受け渡された記録媒体２１４は、グリッパ（符号省略）によって先端が保持された状態で回転搬送される際に、用紙抑えローラ２４６によって押圧され、描画ドラム２４４の外周面に密着する。このようにして、記録媒体２１４を描画ドラム２４４の外周面に密着させた後に、描画ドラム２４４の外周面から浮き上がりのない状態で、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの直下の印字領域に送られる。
The
インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙはそれぞれ、マゼンダ（Ｍ）、黒（Ｋ）、シアン（Ｃ）、イエロー（Ｙ）の４色のインクに対応しており、描画ドラム２４４の回転方向（図１８における反時計回り方向）に上流側から順に配置されるとともに、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙのインク吐出面（ノズル面）が描画ドラム２４４に保持された記録媒体２１４の記録面と対向するように配置される。なお、「インク吐出面（ノズル面）」とは、記録媒体２１４の記録面と対向するインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの面であり、後述するインクが吐出されるノズル（図１９に符号３０１を付して図示する。）が形成される面である。
The inkjet heads 248M, 248K, 248C, and 248Y correspond to inks of four colors, magenta (M), black (K), cyan (C), and yellow (Y), respectively, and the rotation direction of the drawing drum 244 (see FIG. 18 (counterclockwise direction in FIG. 18) in order from the upstream side, and the ink discharge surfaces (nozzle surfaces) of the inkjet heads 248M, 248K, 248C, 248Y face the recording surface of the
また、図１８に示すインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙは、描画ドラム２４４の外周面に保持された記録媒体２１４の記録面とインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙのノズル面が略平行となるように、水平面に対して傾けられて配置されている。
Further, in the inkjet heads 248M, 248K, 248C, 248Y shown in FIG. 18, the recording surface of the
インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙは、記録媒体２１４における画像形成領域の最大幅（記録媒体２１４の搬送方向と直交する方向の長さ）に対応する長さを有するフルライン型のヘッドであり、記録媒体２１４の搬送方向と直交する方向に延在するように固定設置される。
The inkjet heads 248M, 248K, 248C, and 248Y are full-line heads having a length corresponding to the maximum width of the image forming area in the recording medium 214 (the length in the direction orthogonal to the conveyance direction of the recording medium 214). The
インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙのノズル面（液体吐出面）には、記録媒体２１４の画像形成領域の全幅にわたってインク吐出用のノズル（図１８中不図示、図１９に符号３０２を付して図示する。）がマトリクス配置されて形成されている。
The nozzle surfaces (liquid ejection surfaces) of the ink jet heads 248M, 248K, 248C, and 248Y are provided with ink ejection nozzles (not shown in FIG. 18;
記録媒体２１４がインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの直下の印字領域に搬送されると、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙから記録媒体２１４の凝集処理液が付与された領域に画像データに基づいて各色のインクが吐出（打滴）される。
When the
インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙから、対応する色インクの液滴が、描画ドラム２４４の外周面に保持された記録媒体２１４の記録面に向かって吐出されると、記録媒体２１４上で処理液とインクが接触し、インク中に分散する色材（顔料系色材）又は不溶化する色材（染料系色材）の凝集反応が発現し、色材凝集体が形成される。これにより、記録媒体２１４上に形成された画像における色材の移動（ドットの位置ズレ、ドットの色ムラ）が防止される。
When ink droplets of the corresponding color ink are ejected from the inkjet heads 248M, 248K, 248C, and 248Y toward the recording surface of the
また、描画部２４０の描画ドラム２４４は、処理液塗布部２３０の処理液ドラム２３４に対して構造上分離しているので、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙに処理液が付着することがなく、インクの吐出異常の要因を低減することができる。
In addition, since the
なお、本例では、ＣＭＹＫの標準色（４色）の構成を例示したが、インク色や色数の組み合わせについては本実施形態に限定されず、必要に応じて淡インク、濃インク、特別色インクを追加してもよい。例えば、ライトシアン、ライトマゼンタなどのライト系インクを吐出するインクジェットヘッドを追加する構成も可能であり、各色ヘッドの配置順序も特に限定はない。 In this example, the configuration of CMYK standard colors (four colors) is illustrated, but the combination of ink colors and the number of colors is not limited to this embodiment, and light ink, dark ink, and special colors are used as necessary. Ink may be added. For example, it is possible to add an inkjet head that discharges light-colored ink such as light cyan and light magenta, and the arrangement order of the color heads is not particularly limited.
（乾燥処理部）
乾燥処理部２５０は、画像形成後の記録媒体２１４を保持して搬送する圧胴（乾燥ドラム）２５４と、該記録媒体２１４上の水分（液体成分）を蒸発させる乾燥処理を施す溶媒乾燥装置２５６を備えている。なお、乾燥ドラム２５４の基本構造は、先に説明した処理液ドラム２３４及び描画ドラム２４４と共通しているので、ここでの説明は省略する。
(Dry processing part)
The drying
溶媒乾燥装置２５６は、乾燥ドラム２５４の外周面に対向する位置に配置され、記録媒体２１４に存在する水分を蒸発させる処理部である。描画部２４０により記録媒体２１４にインクが付与されると、処理液とインクとの凝集反応により分離したインクの液体成分（溶媒成分）及び処理液の液体成分（溶媒成分）が記録媒体２１４上に残留してしまうので、かかる液体成分を除去する必要がある。
The
溶媒乾燥装置２５６は、ヒータによる加熱、ファンによる送風、又はこれらを併用して記録媒体２１４上に存在する液体成分を蒸発させる乾燥処理を施し、記録媒体２１４上の液体成分を除去するための処理部である。記録媒体２１４に付与される加熱量及び送風量は、記録媒体２１４上に残留する水分量、記録媒体２１４の種類、及び記録媒体２１４の搬送速度（干渉処理時間）等のパラメータに応じて適宜設定される。
The
溶媒乾燥装置２５６による乾燥処理が行われる際に、乾燥処理部２５０の乾燥ドラム２５４は、描画部２４０の描画ドラム２４４に対して構造上分離しているので、インクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙにおいて、熱又は送風によるヘッドメニスカス部の乾燥によるインクの吐出異常の要因を低減することができる。
When the drying process is performed by the
記録媒体２１４のコックリングの矯正効果を発揮させるために、乾燥ドラム２５４の曲率を０．００２（１／ｍｍ）以上とするとよい。また、乾燥処理後の記録媒体の湾曲（カール）を防止するために、乾燥ドラム２５４の曲率を０．００３３（１／ｍｍ）以下とするとよい。
In order to exhibit the cockling correction effect of the
また、乾燥ドラム２５４の表面温度を調整する手段（例えば、内蔵ヒータ）を備え、該表面温度を５０℃以上に調整するとよい。記録媒体２１４の裏面から加熱処理を施すことによって乾燥が促進され、次段の定着処理時における画像破壊が防止される。かかる態様において、乾燥ドラム２５４の外周面に記録媒体２１４を密着させる手段を具備すると、さらに効果的である。記録媒体２１４を密着させる手段の一例として、真空吸着、静電吸着などが挙げられる。
In addition, a means (for example, a built-in heater) for adjusting the surface temperature of the drying
なお、乾燥ドラム２５４の表面温度の上限については、特に限定されるものではないが、乾燥ドラム２５４の表面に付着したインクをクリーニングするなどのメンテナンス作業の安全性（高温による火傷防止）の観点から７５℃以下（より好ましくは６０℃以下）に設定されることが好ましい。
The upper limit of the surface temperature of the drying
このように構成された乾燥ドラム２５４の外周面に、記録媒体２１４の記録面が外側を向くように（すなわち、記録媒体２１４の記録面が凸側となるように湾曲させた状態で）保持し、回転搬送しながら乾燥処理を施すことで、記録媒体２１４のシワや浮きに起因する乾燥ムラが確実に防止される。
The
（定着処理部）
定着処理部２６０は、記録媒体２１４を保持して搬送する圧胴（定着ドラム）２６４と、画像形成がされ、さらに、液体が除去された記録媒体２１４に加熱処理を施すヒータ２６６と、該記録媒体２１４を記録面側から押圧する定着ローラ２６８と、を備えて構成される。なお、定着ドラム２６４の基本構造は処理液ドラム２３４、描画ドラム２４４、及び乾燥ドラム２５４と共通しているので、ここでの説明は省略する。ヒータ２６６及び定着ローラ２６８は、定着ドラム２６４の外周面に対向する位置に配置され、定着ドラム２６４の回転方向（図１８において反時計回り方向）の上流側から順に配置される。
(Fixing processing part)
The fixing
定着処理部２６０では、記録媒体２１４の記録面に対してヒータ２６６による予備加熱処理が施されるとともに、定着ローラ２６８による定着処理が施される。ヒータ２６６の加熱温度は記録媒体の種類、インクの種類（インクに含有するポリマー微粒子の種類）などに応じて適宜設定される。例えば、インクに含有するポリマー微粒子のガラス転移点温度や最低造膜温度とする態様が考えられる。
In the fixing
定着ローラ２６８は、乾燥させたインクを加熱加圧することによってインク中の自己分散性ポリマー微粒子を溶着し、インクを被膜化させるためのローラ部材であり、記録媒体２１４を加熱加圧するように構成される。具体的には、定着ローラ２６８は、定着ドラム２６４に対して圧接するように配置されており、定着ドラム２６４との間でニップローラを構成するようになっている。これにより、記録媒体２１４は、定着ローラ２６８と定着ドラム２６４との間に挟まれ、所定のニップ圧でニップされ、定着処理が行われる。
The fixing
定着ローラ２６８の構成例として、熱伝導性の良いアルミなどの金属パイプ内にハロゲンランプを組み込んだ加熱ローラによって構成する態様が挙げられる。かかる加熱ローラで記録媒体２１４を加熱することによって、インクに含まれるポリマー微粒子のガラス転移点温度以上の熱エネルギーが付与されると、該ポリマー微粒子が溶融して画像の表面に透明の被膜が形成される。
As an example of the configuration of the fixing
この状態で記録媒体２１４の記録面に加圧を施すと、記録媒体２１４の凹凸に溶融したポリマー微粒子が押し込み定着されるとともに、画像表面の凹凸がレベリングされ、好ましい光沢性を得ることができる。なお、画像層の厚みやポリマー微粒子のガラス転移点温度特性に応じて、定着ローラ２６８を複数段設けた構成も好ましい。
When pressure is applied to the recording surface of the
また、定着ローラ２６８の表面硬度は７１°以下であることが好ましい。定着ローラ２６８の表面をより軟質化することで、コックリングにより生じた記録媒体２１４の凹凸に対して追随効果を期待でき、記録媒体２１４の凹凸に起因する定着ムラがより効果的に防止される。
The surface hardness of the fixing
図１８に示すインクジェット記録装置２００は、定着処理部２６０の処理領域の後段（記録媒体搬送方向の下流側）には、インラインセンサ２８２が設けられている。インラインセンサ２８２は、記録媒体２１４に形成された画像（又は記録媒体２１４の余白領域に形成されたチェックパターン）を読み取るためのセンサであり、ＣＣＤラインセンサが好適に用いられる。
In the
本例に示すインクジェット記録装置２００は、インラインセンサ２８２の読取結果に基づいてインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの吐出異常の有無が判断される。また、インラインセンサ２８２は、水分量、表面温度、光沢度などを計測するための計測手段を含む態様も可能である。かかる態様において、水分量、表面温度、光沢度の読取結果に基づいて、乾燥処理部２５０の処理温度や定着処理部２６０の加熱温度及び加圧圧力などのパラメータを適宜調整し、装置内部の温度変化や各部の温度変化に対応して、上記制御パラメータが適宜調整される。
In the ink
（排出部）
図１８に示すように、定着処理部２６０に続いて排出部２７０が設けられている。排出部２７０は、張架ローラ２７２Ａ，２７２Ｂに巻きかけられた無端状の搬送ベルト２７４と、画像形成後の記録媒体２１４が収容される排出トレイ２７６と、を備えて構成されている。
(Discharge part)
As shown in FIG. 18, a
定着処理部２６０から送り出された定着処理後の記録媒体２１４は、搬送ベルト２７４によって搬送され、排出トレイ２７６に排出される。
The
（インクジェットヘッドの構造）
次に、描画部２４０に具備されるインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの構造について説明する。なお、各色に対応するインクジェットヘッド２４８Ｍ，２４８Ｋ，２４８Ｃ，２４８Ｙの構造は共通しているので、以下、これらを代表して符号３００によってインクジェットヘッド（以下、単に「ヘッド」ともいう。）を示すものとする。
(Inkjet head structure)
Next, the structure of the inkjet heads 248M, 248K, 248C, 248Y provided in the
図１９はヘッド３００の構造例を示す平面透視図である。以降、本明細書において、先に説明した図と同一又は類似する部分には同一の符号を付し、その説明は省略することとする。
FIG. 19 is a perspective plan view showing a structural example of the
図１９に示すように、ヘッド３００のノズル面には、記録媒体２１４の全幅Ｗｍに対応する長さにわたって複数のノズル３０２が並べられた構造を有するフルライン型ヘッドである。なお、記録媒体２１４の搬送方向Ｓは副走査方向と呼ばれることがあり、記録媒体２１４の搬送方向Ｓと直交する方向Ｍは主走査方向と呼ばれることがある。
As shown in FIG. 19, the full surface type head has a structure in which a plurality of
記録媒体２１４上に形成されるドットピッチを高密度化するためには、ヘッド３００におけるノズルピッチを高密度化する必要がある。本例のヘッド３００は、図１９に示すように、インク吐出口であるノズル３０２と、各ノズル３０２と連通する圧力室３０４と、不図示の共通流路と各圧力室３０４とを連通させる供給口３０６等からなる複数のインク室ユニット（記録素子単位としての液滴吐出素子）３０８をマトリクス配置した構造を有し、これにより、ヘッド３００の長手方向である主走査方向に沿って並ぶように投影される実質的なノズル間隔（図２０に符号Ｐｎを付して図示する投影ノズルピッチ）の高密度化を達成している。
In order to increase the dot pitch formed on the
ノズル３０２と連通する圧力室３０４は、その平面形状が概略正方形となっており、対角線上の両隅部の一方にノズル３０２が設けられ、他方に供給口３０６が設けられている。なお、圧力室３０４の形状は本例に限定されず、平面形状が四角形（菱形、長方形など）、五角形、六角形その他の多角形、円形、楕円形など、多様な形態があり得る。
The planar shape of the
図２０は、図１９に図示したヘッド３００の一部を拡大した拡大図である。同図に示すように、ノズル３０２及び圧力室３０４等からなるインク室ユニット３０８を、主走査方向（符号Ｍを付して図示）に沿う行方向及び主走査方向に対して直交しない一定の角度θ（０°＜θ＜９０°）を有する斜めの列方向（符号Ｓ’を付して図示）に沿って一定の配列パターンでマトリクス配列させることにより、本例の高密度ノズルヘッドが実現されている。
FIG. 20 is an enlarged view of a part of the
すなわち、主走査方向に対してある角度θをなす方向に沿ってインク室ユニット３０８を一定のピッチｄで複数配列する構造により、主走査方向に並ぶように投影されたノズルの投影ノズルピッチＰｎはｄ×cosθとなり、主走査方向については、各ノズル３０２が一定のピッチＰｎで直線状に配列されたものと等価的に取り扱うことができる。このような構成により、主走査方向に並ぶように投影されるノズル列は、１インチ当たり2400個（2400ノズル／インチ）におよぶ高密度配置を実現することが可能になる。
That is, the projected nozzle pitch P n of the nozzles projected so as to be aligned in the main scanning direction by a structure in which a plurality of
なお、記録媒体２１４の全幅Ｗｍに対応する長さにわたり１列以上のノズル列を構成する形態は本例に限定されない。例えば、図１９の構成に代えて、図２１に示すように、複数のノズル３０２が２次元に配列された短尺のヘッドモジュール３００’を千鳥状に配列して繋ぎ合わせることで長尺化することにより、全体として記録媒体２１４の全幅に対応する長さのノズル列を有するラインヘッドを構成してもよい。
Note that mode of forming one or more nozzle rows through a length corresponding to the full width W m of the
また、図２２に示すように、記録媒体２１４の全幅に満たない短尺のヘッドモジュール３００”を一列に並べてラインヘッドを構成してもよい。同図において、列方向（図２０参照）に沿って並べられたノズル３０２は斜めの実線で図示されている。
Further, as shown in FIG. 22, a line head may be configured by arranging a
図２３は、図１９に示すヘッド３００（インク室ユニット３０８）の立体構造を示す断面図（図１９中Ａ−Ａ線に沿う断面図）である。 23 is a cross-sectional view (a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 19) showing a three-dimensional structure of the head 300 (ink chamber unit 308) shown in FIG.
ノズル３０２と連通する圧力室３０４は、供給口３０６を介して共通流路３１０と連通している。共通流路３１０はインク供給源たるインクタンク（不図示）と連通しており、該インクタンクから供給されるインクは共通流路３１０を介して各圧力室３０４に供給される。
A
圧力室３０４の上面を構成する振動板３１２には、個別電極３１４と共通電極３１６とを具備し、個別電極３１４と共通電極３１６との間に圧電体部３１８がはさまれた構造を有する圧電素子３２０が接合されている。また、図２３に示すヘッド３００は、圧力室３０４、供給口３０６、及び共通流路３１０などの流路構造が形成された構造体に、ノズル３０２の開口部３２２が形成されるノズル板３２４を接合した構造を有している。
A
個別電極３１４と共通電極３１６との間に所定の駆動電圧を印加することによって圧電素子３２０及び振動板３１２が変形し、これに伴い圧力室３０４の容積が変化する。圧力室３０４の容積変化により圧力室３０４内部のインクに圧力変化が生じ、圧力室３０４の容積変化に対応する体積のインクがノズル３０２から吐出される。インクが吐出された後は、圧電素子３２０及び振動板３１２が元の状態に戻る際に、共通流路３１０から供給口３０６を通って新しいインクが圧力室３０４に充填される。
By applying a predetermined drive voltage between the
本例では、ヘッド３００に設けられたノズル３０２から吐出させるインクの吐出力発生手段として圧電素子３２０を適用したが、圧力室３０４内にヒータを備え、ヒータの加熱による膜沸騰の圧力を利用してインクを吐出させるサーマル方式を適用することも可能である。
In this example, the
（制御系の説明）
図２４は、インクジェット記録装置２００の制御系の概略構成を示すブロック図である。インクジェット記録装置２００は、通信インターフェース４００、システム制御部４０２、搬送制御部３４４、画像処理部３４６、ヘッド駆動部３４８を備えるとともに、記憶部（メモリ）３５０、一次記憶部３５２を備えている。
(Description of control system)
FIG. 24 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a control system of the ink
通信インターフェース４００は、ホストコンピュータ４１６から送られてくる画像データを受信するインターフェース部である。通信インターフェース４００は、ＵＳＢ（Universal Serial Bus）などのシリアルインターフェースを適用してもよいし、セントロニクスなどのパラレルインターフェースを適用してもよい。通信インターフェース４００は、通信を高速化するためのバッファメモリ（不図示）を搭載してもよい。
The
システム制御部４０２は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）及びその周辺回路等から構成され、所定のプログラムに従ってインクジェット記録装置２００の全体を制御する制御装置として機能するとともに、各種演算を行う演算装置として機能し、さらに、記憶部３５０及び一次記憶部３５２のメモリコントローラとして機能する。すなわち、システム制御部４０２は、通信インターフェース４００、搬送制御部３４４等の各部を制御し、ホストコンピュータ４１６との間の通信制御、記憶部３５０及び一次記憶部３５２の読み書き制御等を行うとともに、上記の各部を制御する制御信号を生成する。
The
ホストコンピュータ４１６から送出された画像データは通信インターフェース４００を介してインクジェット記録装置２００に取り込まれ、画像処理部３４６によって所定の画像処理が施される。
Image data sent from the host computer 416 is taken into the
画像処理部３４６は、画像データから印字制御用の信号を生成するための各種加工、補正などの処理を行う信号（画像）処理機能を有し、生成した印字データをヘッド駆動部３４８に供給する制御部である。画像処理部３４６において所要の信号処理が施され、該画像データに基づいて、ヘッド駆動部３４８を介してヘッド３００の吐出液滴量（打滴量）や吐出タイミングの制御が行われる。これにより、所望のドットサイズやドット配置が実現される。なお、図２４に示すヘッド駆動部３４８には、ヘッド３００の駆動条件を一定に保つためのフィードバック制御系を含んでいてもよい。
The
また、搬送制御部３４４は、画像処理部３４６により生成された印字制御用の信号に基づいて記録媒体２１４（図１８参照）の搬送タイミング及び搬送速度を制御する。図２４における搬送駆動部３５６は、図１８の圧胴２３４〜２６４を回転させるモータや、渡し胴２３２〜２６２を回転させるモータ、給紙部２２０における記録媒体２１４の送出機構のモータ、排出部２７０の張架ローラ２７２Ａ（２７２Ｂ）を駆動するモータなどが含まれ、搬送制御部３４４は上記のモータのドライバーとして機能している。
The
記憶部３５０は、システム制御部４０２のＣＰＵが実行するプログラムや、装置各部の制御に必要な各種データ、制御パラメータなどが格納されており、システム制御部４０２を通じてデータの読み書きが行われる。記憶部３５０は、半導体素子からなるメモリに限らず、ハードディスクなど磁気媒体を用いてもよい。また、外部インターフェースを備え、着脱可能な記憶媒体を用いてもよい。
The
一時記憶部（一次記憶メモリ）３５２は、通信インターフェース４００を介して入力された画像データを一旦格納する一次記憶手段としての機能や、記憶部３５０に記憶されている各種プログラムの展開領域及びＣＰＵの演算作業領域（例えば、画像処理部３４６の作業領域）としての機能を有している。一時記憶部３５２には、逐次読み書きが可能な揮発性メモリ（ＲＡＭ）が用いられる。
The temporary storage unit (primary storage memory) 352 functions as a primary storage unit that temporarily stores image data input via the
さらに、このインクジェット記録装置２００は、処理液付与制御部３６０、乾燥処理制御部３６２、及び定着処理制御部３６４を備えており、システム制御部４０２からの指示にしたがって、それぞれ、処理液塗布部２３０、乾燥処理部２５０、及び定着処理部２６０の各部の動作を制御する。
Further, the ink
処理液付与制御部３６０は、画像処理部３４６から得られた印字データに基づいて、処理液付与のタイミングの制御を制御するとともに、処理液の付与量を制御する。また、乾燥処理制御部３６２は、乾燥処理のタイミングを制御するとともに、処理温度、送風量等を制御し、定着処理制御部３６４は、定着処理部２６０のヒータ２６６の温度を制御するとともに、定着ローラ２６８の押圧を制御する。
Based on the print data obtained from the
検出部３６６は、図１８に示したインラインセンサ２８２と、インラインセンサ２８２から出力される読取信号にノズル除去や増幅、波形整形などの所定の信号処理を施す信号処理部を含む処理ブロックである。システム制御部４０２は、検出部３６６により得られた検出信号に基づいて、ヘッド３００の吐出異常の有無を判断する。
The
図２４に図示した、ローラ制御部４０６、バルブ制御部４０８、ポンプ制御部４１０、温度制御部４１２は、図２の塗布ローラ制御部１０６、バルブ制御部１０８、ポンプ制御部１１０、温度制御部１１２に相当している。また、図２４のローラ駆動部４２２、制御バルブ４０９は図２のローラ駆動部１２２、塗布液供給バルブ３８等の制御バルブに相当している。なお、図２４では、複数の制御バルブを代表して符号４０９を付して図示されている。
The
図２４のポンプ４１１、ヒータ４３０は、図２のポンプ１１１、ヒータ２４Ｅ，５２に相当し、図２４の濃度センサ４４８、温度センサ４２４、フロートセンサ４２６及び媒体検出センサ４２０は、それぞれ図２の濃度センサ４８、温度センサ１２４、フロートセンサ１２６（３３）、媒体検出センサ１２０に相当している。なお、図２に図示した構成と対応関係を説明した構成についてはすでに説明しているので、ここでの説明は省略する。
The
上述した他の装置構成例では、記録媒体にカラーインクを吐出してカラー画像を記録するインクジェット記録装置を例示したが、マスクパターンの形成やプリント配線基板の配線描画など基板に樹脂液等により所定のパターン形状を形成する他の画像形成装置にも、本発明に係る塗布装置（液供給装置）を適用可能である。 In the above-described other apparatus configuration examples, an ink jet recording apparatus that records color images by ejecting color ink onto a recording medium has been exemplified. The coating apparatus (liquid supply apparatus) according to the present invention can also be applied to other image forming apparatuses that form the pattern shape.
以上、本発明に係る塗布装置（液供給装置）を詳細に説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行ってもよいのはもちろんである。 Although the coating apparatus (liquid supply apparatus) according to the present invention has been described in detail above, the present invention is not limited to the above examples, and various improvements and modifications are made without departing from the gist of the present invention. Of course.
〔付記〕
上記に詳述した発明の実施形態についての記載から把握されるとおり、本明細書は少なくとも以下に示す発明を含む多様な技術思想の開示を含んでいる。
[Appendix]
As will be understood from the description of the embodiments of the invention described in detail above, the present specification includes disclosure of various technical ideas including at least the invention described below.
（発明１）：溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与装置へ液を供給する供給流路と、前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、前記供給流路を通過する液の物性を測定する測定手段と、前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、を備えたことを特徴とする液供給装置。 (Invention 1): Supply channel for supplying a liquid to a liquid application device that applies a first liquid containing a solute in a solvent to a medium, and a first liquid supply channel for supplying the first liquid to the supply channel A second liquid supply channel that supplies a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid to the supply channel; and whether the first liquid is supplied to the supply channel or the second liquid Switching means for switching between liquid supply, measurement means for measuring the physical properties of the liquid passing through the supply flow path, and measurement by the measurement means during the liquid application process to the medium by the liquid application device Switching control means for performing switching control of the switching means so as to supply the second liquid to the supply flow path when a physical property value of the first liquid exceeds a predetermined range. Liquid supply device.
本発明によれば、液付与装置に供給される第１液の物性監視が可能となり、第１液の物性が所定範囲を超えたときに第２液を供給することで、第１液の物性が安定する。また、第２液を供給することで測定手段が浄化され、かつ、第２液を供給する際の物性値の変化から切換手段の動作確認が可能である。第１液と第２液の物性監視を行うことで、第１液と第２液のタンクに補充される液の誤充填が検出可能となる。 According to the present invention, it is possible to monitor the physical properties of the first liquid supplied to the liquid application device, and the physical properties of the first liquid are supplied by supplying the second liquid when the physical properties of the first liquid exceed a predetermined range. Is stable. Moreover, the measurement means is purified by supplying the second liquid, and the operation of the switching means can be confirmed from the change in the physical property value when the second liquid is supplied. By monitoring the physical properties of the first liquid and the second liquid, it is possible to detect erroneous filling of the liquid replenished in the tanks of the first liquid and the second liquid.
第１液は、溶媒（例えば、水系溶媒）に所定の溶質成分を含有させた液体であり、その一例として、所定の媒体の表明をコートする（コート層を形成する）コート液が挙げられる。また、第２液は、第１液の溶媒のみでもよい。 The first liquid is a liquid in which a predetermined solute component is contained in a solvent (for example, an aqueous solvent), and an example thereof is a coating liquid that coats an expression of a predetermined medium (forms a coat layer). Further, the second liquid may be only the solvent of the first liquid.
第１液の物性（物性値）は、少なくとも第１液の濃度情報を含む態様が好ましい。すなわち、切換制御手段は第１液の濃度情報に応じて第１液と第２液との供給切換を制御する。 It is preferable that the physical properties (physical property values) of the first liquid include at least the concentration information of the first liquid. That is, the switching control means controls supply switching between the first liquid and the second liquid according to the concentration information of the first liquid.
切換手段には、切換制御手段から送出された制御信号に応じて動作する制御弁を適用する態様が好ましい。 A mode in which a control valve that operates in response to a control signal sent from the switching control unit is applied to the switching unit is preferable.
（発明２）：発明１に記載の液供給装置において、前記供給流路を通過する液を加圧する第１加圧手段と、前記液付与装置による媒体への液付与処理停止中に前記第２液を前記液付与装置へ供給する場合に、前記第１加圧手段を連続的又は断続的に動作させるように前記第１加圧手段の動作を制御する第１加圧制御手段と、を備えたことを特徴する。
(Invention 2): In the liquid supply apparatus according to
かかる態様によれば、液付与装置の動作中に第１液の溶媒が蒸発して第１液の濃縮が進行した場合にも、動作休止中に第１液を希釈させることで、次の液付与装置の動作時における第１液の好ましい状態が維持される。 According to this aspect, even when the solvent of the first liquid evaporates during the operation of the liquid application device and the concentration of the first liquid proceeds, the first liquid is diluted during the operation pause to thereby obtain the next liquid. A preferable state of the first liquid during operation of the applying device is maintained.
また、供給流路や測定手段を第２液によって洗浄することができ、供給流路や測定手段の好ましい状態が維持される。 Further, the supply flow path and the measurement means can be washed with the second liquid, and the preferable state of the supply flow path and the measurement means is maintained.
（発明３）：発明２に記載の液供給装置において、前記第１加圧制御手段は、前記液付与装置による媒体への液付与処理中に前記第２液を供給する場合に、前記第１加圧手段を断続的に動作させることを特徴とする。
(Invention 3): In the liquid supply apparatus according to
かかる態様によれば、液付与装置に液付与処理中においても、液付与装置内の第１液の急激な物性変化を抑制しながら、第１液の好ましい状態を維持し得る。 According to this aspect, the preferable state of the first liquid can be maintained while suppressing a sudden change in physical properties of the first liquid in the liquid application apparatus even during the liquid application process in the liquid application apparatus.
（発明４）：発明１乃至３のいずれかに記載の液供給装置において、前記測定手段よりも前記液付与装置側における前記供給流路の少なくとも一部の断面積は、前記切換手段から前記測定手段までの断面積を超える構造を有することを特徴とする。
(Invention 4): In the liquid supply apparatus according to any one of
かかる態様によれば、切換手段から測定手段までの供給流路の断面積をより小さくすることで物性値の変化を検出する際の応答性が向上する。また、測定手段よりも液付与装置側の供給流路の断面積をより大きくすることで、第１液と第２液との攪拌効果が向上する。 According to this aspect, the responsiveness when detecting a change in the physical property value is improved by reducing the cross-sectional area of the supply flow path from the switching unit to the measurement unit. Moreover, the stirring effect of a 1st liquid and a 2nd liquid improves by making larger the cross-sectional area of the supply flow path by the side of a liquid provision apparatus rather than a measurement means.
（発明５）：発明１乃至４に記載の液供給装置において、前記供給流路の前記切換手段から前記測定手段までの断面積は、０．８ｍｍ２以上８０ｍｍ２以下であることを特徴する。
(Invention 5): The liquid supply device according to any one of
かかる態様において、測定手段よりも液付与装置側の供給流路の断面積は、７８ｍｍ２（例えば、供給流路の断面が直径１０ｍｍの円の場合の断面積７８．５ｍｍ２）を超え３２０ｍｍ２（例えば、供給流路の断面が直径２００ｍｍの円の場合の断面積３１４ｍｍ２）以下とする態様が好ましい。 In such an aspect, the cross-sectional area of the supply channel closer to the liquid applicator than the measuring means exceeds 78 mm 2 (for example, the cross-sectional area of the supply channel having a diameter of 10 mm is 78.5 mm 2 ) and is 320 mm 2. (For example, the cross-sectional area is 314 mm 2 when the cross section of the supply channel is a circle having a diameter of 200 mm) is preferable.
（発明６）：発明１乃至５のいずれかに記載の液供給装置において、前記第１液が貯留される第１液貯留部と、前記第１液貯留部に貯留される液量を検出する液量検出手段と、前記第１液貯留部へ前記第１液を補充する第１液補充手段と、前記第１液貯留部から前記液付与装置へ液が供給される流路とは別経路で前記液付与装置から前記第１液貯留部へ液を循環させる循環流路と、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への第１液の補充を制御する循環制御手段と、を備えたことを特徴とする。
(Invention 6): In the liquid supply device according to any one of
かかる態様によれば、第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように第１液を循環させることで、一定量の第２液を加える加水制御が安定する。また、循環によって液付与装置における第１液が均質化され、第１液の物性が安定する。 According to this aspect, the hydration control for adding a constant amount of the second liquid is stabilized by circulating the first liquid so as to keep the liquid amount in the first liquid storage portion within a certain range. Moreover, the 1st liquid in a liquid application apparatus is homogenized by circulation, and the physical property of a 1st liquid is stabilized.
循環流路のうち、第１液貯留部から液付与部までは供給流路を含む態様が好ましい。かかる態様によれば、測定手段によって循環中の液の物性値を測定可能となる。 Of the circulation channels, a mode including a supply channel from the first liquid storage part to the liquid application part is preferable. According to this aspect, the physical property value of the circulating liquid can be measured by the measuring means.
循環流路と、循環流路に設けられる開閉手段（制御弁）と、加圧手段（ポンプ）と、を含む循環手段を具備する態様も可能である。また、第１貯留部の容積の２０％〜６０％の第１液（例えば、５リットルに対して２〜３リットル）を循環させる態様が好ましい。 An aspect including a circulation means including a circulation flow path, an opening / closing means (control valve) provided in the circulation flow path, and a pressurization means (pump) is also possible. Moreover, the aspect which circulates 20%-60% of 1st liquid (for example, 2-3 liters with respect to 5 liters) of the volume of a 1st storage part is preferable.
（発明７）：発明６に記載の液供給装置において、前記第１液補充手段の動作頻度を監視し、前記第１液補充手段の動作頻度に基づいて当該液供給装置の状態を判断する監視手段を備えたことを特徴とする。 (Invention 7): The liquid supply apparatus according to Invention 6, wherein the operation frequency of the first liquid replenishing means is monitored, and the state of the liquid supply apparatus is determined based on the operation frequency of the first liquid replenishment means. Means are provided.
かかる態様によれば、液付与装置の動作状態や当該液供給装置の動作状態（液付与装置の供給系の動作状態）を確認することができる。 According to this aspect, the operation state of the liquid application device and the operation state of the liquid supply device (operation state of the supply system of the liquid application device) can be confirmed.
例えば、第１液補充手段の動作頻度が所定範囲未満の場合には供給液量の不足であり、液付与装置の異常（付与液量の過少）と判断し、所定範囲を超える場合には供給液量が過剰であり、液供給装置の異常（流路のリーク、液漏れ等）と判断することができる。 For example, when the operation frequency of the first liquid replenishing means is less than a predetermined range, the supply liquid amount is insufficient, and it is determined that the liquid application device is abnormal (the applied liquid amount is too low). The amount of liquid is excessive, and it can be determined that the liquid supply device is abnormal (flow channel leak, liquid leak, etc.).
（発明８）：溶媒に溶質を含有する第１液を媒体に付与する液付与部と、前記液付与部へ液を供給する供給流路と、前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、前記供給流路を通過する液の物性を測定する測定手段と、前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、を備えたことを特徴とする液付与装置。 (Invention 8): A liquid application unit that applies a first liquid containing a solute in a solvent to the medium, a supply channel that supplies the liquid to the liquid application unit, and a first channel that supplies the first liquid to the supply channel A first liquid supply channel, a second liquid supply channel for supplying a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid to the supply channel, and the first liquid to the supply channel. The switching means for switching between supplying or supplying the second liquid, the measuring means for measuring the physical properties of the liquid passing through the supply flow path, and the liquid applying process to the medium by the liquid applying section, Switching control means for performing switching control of the switching means so as to supply the second liquid to the supply flow path when the physical property value of the first liquid measured by the measuring means exceeds a predetermined range; A liquid applicator characterized by comprising:
本発明における液付与装置には、所定の媒体に第１液を塗布する塗布装置が含まれる。
（発明９）：発明８に記載の液付与装置において、前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段の測定結果に応じて、前記液付与部により媒体に付与される液の温度を調節する温度調節手段を備えたことを特徴とする。
The liquid application apparatus in the present invention includes a coating apparatus that applies the first liquid to a predetermined medium.
(Invention 9): In the liquid application device according to Invention 8, when the liquid application process is performed on the medium by the liquid application unit, the liquid application unit applies the liquid to the medium according to the measurement result of the measurement unit. A temperature adjusting means for adjusting the temperature of the liquid is provided.
かかる態様によれば、第１液の物性値に応じて前記供給流路を通過する液の温度を調節することで、第１液に物性の変化が生じた場合（例えば、濃縮した場合）の付与量の微調整ができ、第１液の付与量を安定させることができる。 According to this aspect, when the temperature of the liquid passing through the supply flow path is adjusted according to the physical property value of the first liquid, the physical property of the first liquid changes (for example, when it is concentrated). The application amount can be finely adjusted, and the application amount of the first liquid can be stabilized.
かかる態様において、第１液の温度を上げると粘度が低下して溶質成分の塗布量を減少させることができる。すなわち、第１液の濃縮が進行して付与量が増加するときには、第１液の温度を上げて付与量の微調整が可能である。 In such an embodiment, when the temperature of the first liquid is raised, the viscosity is lowered and the amount of the solute component applied can be reduced. That is, when the concentration of the first liquid proceeds and the applied amount increases, the applied amount can be finely adjusted by raising the temperature of the first liquid.
（発明１０）：発明８又は９に記載の液付与装置において、前記液付与部は、回転させながら前記媒体へ接触させて前記第１液を前記媒体へ付与する付与ローラを含み、前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段の測定結果に応じて、前記付与ローラの回転速度及び前記付与ローラの前記媒体への付勢力の少なくともいずれかを可変させる付与ローラ制御手段を備えたことを特徴とする。 (Invention 10): In the liquid application device according to the invention 8 or 9, the liquid application unit includes an application roller that applies the first liquid to the medium by contacting the medium while rotating, and the liquid application An application roller control unit that varies at least one of the rotation speed of the application roller and the urging force of the application roller to the medium according to the measurement result of the measurement unit during the liquid application process to the medium by the unit It is provided with.
かかる態様によれば、付与ローラ等を制御することにより第１液の物性変化による塗布量の変化の微調整が可能である。 According to this aspect, it is possible to finely adjust the change in the coating amount due to the change in physical properties of the first liquid by controlling the application roller and the like.
（発明１１）：記録媒体に処理液を付与する処理液付与手段と、前記処理液付与手段によって処理液が付与された記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、前記処理液付与手段へ液を供給する供給流路と、前記供給流路へ前記処理液を供給する処理液供給流路と、前記処理液よりも溶質成分の含有比率が低い希釈液を前記供給流路へ供給する希釈液供給流路と、前記供給流路へ前記処理液を供給するか前記希釈液を供給するかを切り換える切換手段と、前記供給流路を通過する液の物性を測定する測定手段と、前記処理液付与部による記録媒体への処理液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、を具備することを特徴とする画像形成装置。 (Invention 11): A processing liquid applying unit for applying a processing liquid to a recording medium, an image forming unit for forming an image on a recording medium to which a processing liquid is applied by the processing liquid applying unit, and a liquid to the processing liquid applying unit A supply flow path for supplying the treatment liquid, a treatment liquid supply flow path for supplying the treatment liquid to the supply flow path, and a dilution liquid for supplying a dilution liquid having a lower solute component content than the treatment liquid to the supply flow path A supply channel, a switching unit that switches between supplying the processing liquid or the dilution liquid to the supply channel, a measuring unit that measures physical properties of the liquid that passes through the supply channel, and the processing liquid When the treatment liquid is applied to the recording medium by the applying unit, the second liquid is supplied to the supply flow path when the physical property value of the first liquid measured by the measuring unit exceeds a predetermined range. Switching control for switching control of the switching means An image forming apparatus characterized by comprising a stage, a.
本発明に係る画像形成装置には、インクジェット方式により記録媒体に画像を形成するインクジェット記録装置が含まれる。 The image forming apparatus according to the present invention includes an ink jet recording apparatus that forms an image on a recording medium by an ink jet method.
また、本明細書は以下に示す発明を含む技術思想の開示を含んでいる。 Further, the present specification includes disclosure of technical ideas including the following inventions.
（発明１２）：発明１乃至７のいずれかに記載の液供給装置において、前記液付与装置を洗浄するための洗浄液を前記液付与装置へ供給する洗浄液供給流路と、前記供給流路を介して前記液付与装置に洗浄処理が施された後の洗浄液を回収する洗浄液回収手段と、を備えたことを特徴とする。
(Invention 12): In the liquid supply apparatus according to any one of
かかる態様によれば、洗浄液を液付与装置から回収する際に、供給流路の洗浄が可能となる。また、かかる態様において、供給流路を経由して液付与装置へ洗浄液を供給する態様も好ましい。 According to this aspect, the supply flow path can be cleaned when the cleaning liquid is recovered from the liquid application device. Moreover, in this aspect, an aspect in which the cleaning liquid is supplied to the liquid application device via the supply flow path is also preferable.
（発明１３）：発明１２に記載の液供給装置において、前記洗浄液回収手段は、前記測定手段を介して前記液付与装置に洗浄処理が施された後の洗浄液の少なくとも一部を回収することを特徴とする。
(Invention 13): In the liquid supply apparatus according to
かかる態様によれば、測定手段によって洗浄後の洗浄液の物性値を測定し、該物性値に基づく洗浄状態のモニタが可能となる。 According to this aspect, the physical property value of the cleaning liquid after cleaning is measured by the measuring means, and the cleaning state can be monitored based on the physical property value.
（発明１４）：発明１２又は１３に記載の液供給装置において、前記洗浄液は前記第２液であり、前記洗浄液供給流路は前記第２液供給流路であり、前記切換制御手段は、前記洗浄液を前記液付与装置へ供給するよう前記切換手段を切り換えることを特徴とする。
(Invention 14): In the liquid supply apparatus according to
第１液を希釈する第２液を洗浄液として用いることで、供給系を共通化することができ、装置構成の簡略化が可能である。また、回収された洗浄後の第２液を希釈液として再利用することが可能となる。 By using the second liquid for diluting the first liquid as the cleaning liquid, the supply system can be shared, and the apparatus configuration can be simplified. Further, the recovered second liquid after washing can be reused as a diluent.
（発明１５）：発明２乃至７のいずれか及び発明１２乃至１３のいずれかに記載の液供給装置において、前記第１加圧手段は、チューブポンプを含み、前記第１加圧制御手段は、当該液供給装置の動作に応じて前記第１加圧手段の動作方向を制御することを特徴とする。
(Invention 15): In the liquid supply device according to any one of
供給流路内の液を加圧する第１加圧手段を正逆転可能に構成することで、供給流路を液回収流路として使用することができる。 By configuring the first pressurizing unit that pressurizes the liquid in the supply flow path so as to be able to rotate forward and backward, the supply flow path can be used as the liquid recovery flow path.
（発明１６）：発明９又は１０のいずれかに記載の液付与装置において、前記液付与部を洗浄する場合、前記温度調節手段は前記媒体に前記第１液を付与するときよりも前記第２液の温度が高くなるように洗浄液温度調節手段の設定温度を上げることを特徴とする。
(Invention 16): In the liquid application device according to any one of
かかる態様によれば、洗浄液の粘度が低下し溶解度が増加するので、洗浄効果を高めることが可能となる。 According to this aspect, since the viscosity of the cleaning liquid is decreased and the solubility is increased, the cleaning effect can be enhanced.
（発明１７）：発明８乃至１０及び１６に記載の液付与装置において、前記液付与部は、前記供給流路を介して供給された液が保持される液保持部を具備し、前記液保持部と連通する液回収流路と、前記液保持部内の液及び前記液回収流路内の液を加圧する第２加圧手段と、前記第２加圧手段の動作を制御する第２加圧制御手段と、を備え、前記第２加圧制御手段は、前記液付与部を洗浄するときの前記液付与部の液量が前記媒体へ前記第１液を付与するときの前記液付与部の液量よりも多くなるように前記第２加圧手段を制御することを特徴とする。 (Invention 17): In the liquid application device according to any one of Inventions 8 to 10 and 16, the liquid application unit includes a liquid holding unit that holds the liquid supplied through the supply flow path, and the liquid holding unit. A liquid recovery channel communicating with the unit, a second pressurizing unit that pressurizes the liquid in the liquid holding unit and the liquid in the liquid recovery channel, and a second pressurizing unit that controls the operation of the second pressurizing unit Control means, and the second pressurization control means includes: a liquid amount of the liquid application portion when the liquid application portion is applied to the medium. The second pressurizing means is controlled to be larger than the liquid amount.
液付与部の洗浄時における液付与部の洗浄液の液面が第１液付与時よりも上昇して液界面の洗浄性が向上する。 The liquid level of the cleaning liquid in the liquid application part at the time of cleaning the liquid application part is higher than that at the time of application of the first liquid, and the cleaning property of the liquid interface is improved.
（発明１８）：発明１０、１６及び１７に記載の液付与装置において、前記付与ローラ制御手段は、洗浄時における前記付与ローラの回転速度を前記第１液の付与動作時よりも上げるように前記付与ローラの動作を制御することを特徴とする。
(Invention 18): In the liquid application device according to any one of
かかる態様によれば、洗浄液の攪拌性が増して洗浄効果が向上する。 According to this aspect, the stirring effect of the cleaning liquid is increased and the cleaning effect is improved.
（発明１９）：発明１７又は１８に記載の液付与装置において、前記液回収流路を介して回収された液を収容する廃液収容手段を備え、前記第２加圧制御手段は、前記液付与部を洗浄する際に、前記廃液回収手段に収容されている液を前記液付与部へ戻すように前記第２加圧手段を制御することを特徴とする。
(Invention 19): The liquid application apparatus according to the
かかる態様によれば、廃液回収手段に収容されている液を予備洗浄に使用することで、洗浄液の消費量の低減化を図ることが可能となる。 According to this aspect, it is possible to reduce the consumption of the cleaning liquid by using the liquid stored in the waste liquid collecting means for the preliminary cleaning.
（発明２０）：発明１９に記載の液付与装置において、前記第１液貯留部へ前記第１液を補充する第１液補充手段と、前記液付与装置と前記第１液貯留部との間で液を循環させる循環流路と、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への第１液の補充を制御する循環制御手段と、を備え、前記第２加圧制御手段を用いて前記廃液回収手段に収容されている液を前記液付与部へ戻すように前記第２加圧手段を制御し、前記循環制御手段を用いて前記液付与部、前記供給流路及び前記測定手段を介して前記第１液貯留部へ循環させ、前記測定手段を用いて前記循環させる液の物性値を監視しながら、前記温度調整手段を用いて前記循環させる液に濃縮処理を施すことを特徴とする。 (Invention 20): In the liquid application apparatus according to Invention 19, between the liquid application apparatus and the first liquid storage section, a first liquid replenishing means for replenishing the first liquid to the first liquid storage section. And a circulation path for controlling the replenishment of the first liquid to the first liquid reservoir by the first liquid replenishing means so as to keep the amount of the liquid in the first liquid reservoir in a certain range. Control means, and controls the second pressurization means so as to return the liquid stored in the waste liquid recovery means to the liquid application section using the second pressurization control means, and the circulation control means Circulates to the first liquid storage part via the liquid application part, the supply flow path and the measurement means using the liquid, and adjusts the temperature while monitoring the physical property value of the circulated liquid using the measurement means The liquid to be circulated is subjected to concentration treatment using means.
（発明２１）：発明２０に記載の液付与装置において、前記供給流路及び前記第１液供給流路、前記第２液供給流路における液の流れ方向を切り換える液流方向切換手段と、前記液付与部へ前記第２液が供給された後に前記第２液が回収されるときに、前記液付与部内及び前記供給流路内の液が前記付与液供給流路を介して回収されるように、前記切換手段及び前記液流方向切換手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする。
(Invention 21): In the liquid application device according to
かかる態様によれば、「液抜き」を行うことで部品交換などのメンテナンスにおける作業性が改善されるとともに、凍結等による各流路や各流路に設けられる加圧手段、切換手段などの破損が防止される。 According to this aspect, workability in maintenance such as parts replacement is improved by performing “liquid draining”, and breakage of each flow path and pressurizing means, switching means, etc. provided in each flow path due to freezing or the like Is prevented.
かかる態様における「液抜き」は、夜間など装置を長期間停止させる場合に行うとことが好ましい。 The “drainage” in such an embodiment is preferably performed when the apparatus is stopped for a long time such as at night.
（発明２２）：発明２１に記載の液付与装置において、前記第２液が貯留される第２液貯留部を備え、前記制御手段は、前記第２液供給流路内の液が前記第２液貯留部へ回収されるように、前記切換手段及び前記液流方向切換手段を制御することを特徴とする。
(Invention 22): The liquid application apparatus according to
かかる態様によれば、第２液の「液抜き」も可能である。 According to this aspect, the “liquid draining” of the second liquid is also possible.
（発明２３）：発明１７乃至２２のいずれかに記載の液付与装置において、前記液回収流路の前記第２加圧手段よりも前記液付与部側に設けられ、前記液回収流路を通過する液をろ過する第１フィルタ手段と、前記第１フィルタ手段の前記液付与部側に接続されるとともに前記廃液回収手段と連通される第２液回収流路と、前記第１フィルタ手段から前記第２液回収流路を介して前記廃液回収手段へ液が流れるときに前記第２回収流路を開く第２回収流路開閉手段と、を備えたことを特徴とする。 (Invention 23): The liquid application device according to any one of Inventions 17 to 22, wherein the liquid application channel is provided closer to the liquid application part than the second pressurizing unit of the liquid recovery channel, and passes through the liquid recovery channel. A first filter means for filtering the liquid to be discharged, a second liquid recovery flow path connected to the liquid application portion side of the first filter means and communicating with the waste liquid recovery means, and from the first filter means And a second recovery flow path opening / closing means for opening the second recovery flow path when the liquid flows to the waste liquid recovery means via the second liquid recovery flow path.
かかる態様によれば、第１フィルタ手段の詰まりが解消されるとともに、第１フィルタ手段に詰まっていた汚れは廃液回収手段に回収される。 According to this aspect, the clogging of the first filter means is eliminated, and the dirt clogged in the first filter means is recovered by the waste liquid recovery means.
（発明２４）：発明２３に記載の液付与装置において、前記第２回収流路開閉手段は、前記第１フィルタ手段から前記第２流路へ液が流れるときに開く一方向弁を含むことを特徴とする。 (Invention 24): In the liquid application device according to Invention 23, the second recovery flow path opening / closing means includes a one-way valve that opens when liquid flows from the first filter means to the second flow path. Features.
かかる態様によれは、簡単な構成によって第１フィルタ手段のメンテナンスが可能となる。 According to this aspect, the first filter means can be maintained with a simple configuration.
一方向弁は、所定の方向に所定の圧力が付与されたときにのみ開くように動作するリリーフバルブを適用するとよい。 The one-way valve may be a relief valve that operates to open only when a predetermined pressure is applied in a predetermined direction.
（発明２５）：発明２３又は２４に記載の液付与装置において、前記第２回収流路は、少なくとも前記第１フィルタ手段と前記第２流路開閉手段との間が弾性を有する部材により構成されることを特徴とする。
(Invention 25): In the liquid application device according to
かかる態様によれは、瞬間的に流速が速まるので効果的である。 Such an embodiment is effective because the flow velocity increases instantaneously.
（発明２６）：発明１９乃至２５のいずれかに記載の液付与装置において、前記液付与部の前記第１液回収流路と連通する排出部に設けられ、前記液付与部から前記第１液回収流路へ排出される液をろ過する第２フィルタ手段と、一方の端部は前記供給流路と連通され、他方の端部は前記廃液回収手段と連通されるメンテナンス流路と、前記メンテナンス流路に設けられ前記供給流路から前記廃液回収手段へ液が流れるときに開くメンテナンス流路開閉手段と、を備えたことを特徴とする。 (Invention 26): In the liquid application device according to any one of Inventions 19 to 25, the liquid application device is provided in a discharge part communicating with the first liquid recovery flow path of the liquid application part, and the first liquid is supplied from the liquid application part. A second filter means for filtering the liquid discharged to the recovery flow path, one end portion communicating with the supply flow path, and the other end communicating with the waste liquid recovery means, and the maintenance A maintenance flow path opening / closing means provided in the flow path and opening when the liquid flows from the supply flow path to the waste liquid recovery means.
かかる態様によれば、第２フィルタ手段の詰まりが解消されるとともに、第２フィルタ手段に詰まっていた第１液の溶質成分は第１液貯留部へ回収される。 According to this aspect, the clogging of the second filter means is eliminated, and the solute component of the first liquid clogged in the second filter means is recovered to the first liquid storage part.
（発明２７）：発明２６に記載の液付与装置において、前記メンテナンス流路開閉手段は、前記供給流路から前記廃液回収手段へ液が流れるときに開く一方向弁を含むことを特徴とする。
(Invention 27): In the liquid application apparatus according to
一方向弁は、メンテナンス流路と供給流路との接合部により近い位置に設けられる態様が好ましい。 It is preferable that the one-way valve is provided at a position closer to the joint between the maintenance flow path and the supply flow path.
（発明２８）：発明２６又は２７に記載の液付与装置において、前記メンテナンス流路は、少なくとも前記供給流路との接続部と前記メンテナンス流路開閉手段との間が弾性を有する部材により構成されることを特徴とする。
(Invention 28): In the liquid application device according to
１０…塗布装置、１２…塗布部、１４…供給部、２２…塗布ローラ、２４…塗布皿、３０…塗布液補充タンク、３２…塗布液バッファタンク、３３，１２６…フロートセンサ、３４…塗布液補充ポンプ、３６…供給流路、３８…塗布液供給バルブ、４０…供給ポンプ、４２…希釈液タンク、４６…希釈液供給バルブ、４８…濃度センサ、５０…変換部、５２…ヒータ、５６…サーミスタ、６４…排出流路、６８…排出ポンプ、７０…排出バルブ、７２…廃液タンク、７４…循環流路、７６…循環バルブ、１０２…システム制御部、１０６…塗布ローラ制御部、１０８…バルブ制御部、１１０…ポンプ制御部、１１２…温度制御部
DESCRIPTION OF
Claims (20)
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を断続的に供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を備えたことを特徴とする液供給装置。 A supply flow path for supplying a liquid to a liquid applying apparatus for applying a first liquid containing a solute in the solvent to the medium;
A first liquid supply channel for supplying the first liquid to the supply channel;
A second liquid supply flow path for supplying a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid to the supply flow path;
Switching means for switching whether to supply the first liquid or the second liquid to the supply flow path;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
During the liquid application process to the medium by the liquid application device, the second liquid is intermittently supplied to the supply channel when the physical property value of the first liquid measured by the measurement unit exceeds a predetermined range. Switching control means for performing switching control of the switching means to be supplied to,
A liquid supply apparatus comprising:
前記供給流路を通過する液を加圧する第１加圧手段と、
前記液付与装置による媒体への液付与処理停止中に前記第２液を前記液付与装置へ供給する場合に、前記第１加圧手段を連続的又は断続的に動作させるように前記第１加圧手段の動作を制御する第１加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする液供給装置。 The liquid supply apparatus according to claim 1,
First pressurizing means for pressurizing the liquid passing through the supply flow path;
When supplying the second liquid to the liquid applying apparatus while the liquid applying process to the medium by the liquid applying apparatus is stopped, the first pressurizing unit is operated continuously or intermittently. First pressure control means for controlling the operation of the pressure means;
A liquid supply apparatus comprising:
前記第１加圧制御手段は、前記液付与装置による媒体への液付与処理中に前記第２液を供給する場合に、前記第１加圧手段を断続的に動作させることを特徴とする液供給装置。 The liquid supply apparatus according to claim 2,
The first pressurizing control means operates the first pressurizing means intermittently when supplying the second liquid during the liquid applying process to the medium by the liquid applying device. Feeding device.
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記供給流路を通過する液を加圧する第１加圧手段と、
前記液付与装置による媒体への液付与処理停止中に前記第２液を前記液付与装置へ供給する場合に前記第１加圧手段を連続的又は断続的に動作させ、前記液付与装置による媒体への液付与処理中に前記第２液を供給する場合に前記第１加圧手段を断続的に動作させるように前記第１加圧手段の動作を制御する第１加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする液供給装置。 A supply flow path for supplying a liquid to a liquid applying apparatus for applying a first liquid containing a solute in the solvent to the medium;
A first liquid supply channel for supplying the first liquid to the supply channel;
A second liquid supply flow path for supplying a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid to the supply flow path;
Switching means for switching whether to supply the first liquid or the second liquid to the supply flow path;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
During the liquid application process to the medium by the liquid application device, the second liquid is supplied to the supply channel when the physical property value of the first liquid measured by the measurement unit exceeds a predetermined range. Switching control means for performing switching control of the switching means,
First pressurizing means for pressurizing the liquid passing through the supply flow path;
When supplying the second liquid to the liquid applying apparatus while the liquid applying process to the medium by the liquid applying apparatus is stopped, the first pressurizing unit is operated continuously or intermittently, and the medium by the liquid applying apparatus is used. A first pressurizing control means for controlling the operation of the first pressurizing means so that the first pressurizing means is operated intermittently when the second liquid is supplied during the liquid application process.
A liquid supply apparatus comprising:
前記測定手段よりも前記液付与装置側における前記供給流路の少なくとも一部の断面積は、前記切換手段から前記測定手段までの断面積を超える構造を有することを特徴とする液供給装置。 In the liquid supply apparatus of any one of Claim 1 to 4,
The liquid supply apparatus according to claim 1, wherein a cross-sectional area of at least a part of the supply flow path on the liquid applicator side with respect to the measurement means has a structure exceeding a cross-sectional area from the switching means to the measurement means.
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を備え、
前記測定手段よりも前記液付与装置側における前記供給流路の少なくとも一部の断面積は、前記切換手段から前記測定手段までの断面積を超える構造を有することを特徴とする液供給装置。 A supply flow path for supplying a liquid to a liquid applying apparatus for applying a first liquid containing a solute in the solvent to the medium;
A first liquid supply channel for supplying the first liquid to the supply channel;
A second liquid supply flow path for supplying a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid to the supply flow path;
Switching means for switching whether to supply the first liquid or the second liquid to the supply flow path;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
During the liquid application process to the medium by the liquid application device, the second liquid is supplied to the supply channel when the physical property value of the first liquid measured by the measurement unit exceeds a predetermined range. Switching control means for performing switching control of the switching means,
With
The liquid supply apparatus according to claim 1, wherein a cross-sectional area of at least a part of the supply flow path on the liquid applicator side with respect to the measurement means has a structure exceeding a cross-sectional area from the switching means to the measurement means.
前記供給流路の前記切換手段から前記測定手段までの断面積は、０．８ｍｍ２以上８０ｍｍ２以下であることを特徴とする液供給装置。 In the liquid supply apparatus of any one of Claim 1 to 6,
The liquid supply apparatus according to claim 1, wherein a cross-sectional area of the supply channel from the switching unit to the measuring unit is 0.8 mm 2 or more and 80 mm 2 or less.
前記第１液が貯留される第１液貯留部と、
前記第１液貯留部に貯留される液量を検出する液量検出手段と、
前記第１液貯留部へ前記第１液を補充する第１液補充手段と、
前記第１液貯留部から前記液付与装置へ液が供給される流路とは別経路で前記液付与装置から前記第１液貯留部へ液を循環させる循環流路と、
前記液付与装置と前記第１液貯留部との間で液を循環させている間に、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への第１液の補充を制御する循環制御手段と、
を備えたことを特徴とする液供給装置。 In the liquid supply apparatus of any one of Claim 1 to 7,
A first liquid storage section in which the first liquid is stored;
A liquid amount detection means for detecting the amount of liquid stored in the first liquid storage section;
First liquid replenishing means for replenishing the first liquid to the first liquid reservoir;
A circulation channel that circulates the liquid from the liquid application device to the first liquid storage unit in a different path from the channel through which the liquid is supplied from the first liquid storage unit to the liquid application device;
While the liquid is being circulated between the liquid application device and the first liquid storage part, the first liquid replenishing means maintains the first liquid replenishing means so as to keep the liquid amount in a certain range. A circulation control means for controlling replenishment of the first liquid to the liquid storage section;
A liquid supply apparatus comprising:
前記第１液補充手段の動作頻度を監視し、前記第１液補充手段の動作頻度に基づいて当該液供給装置の動作状態を判断する監視手段を備えたことを特徴とする液供給装置。 The liquid supply apparatus according to claim 8, wherein
A liquid supply apparatus comprising: monitoring means for monitoring an operating frequency of the first liquid replenishing means and determining an operating state of the liquid supply apparatus based on the operating frequency of the first liquid replenishing means.
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与装置による前記媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記第１液が貯留される第１液貯留部と、
前記第１液貯留部に貯留される液量を検出する液量検出手段と、
前記第１液貯留部へ前記第１液を補充する第１液補充手段と、
前記第１液貯留部から前記液付与装置へ液が供給される流路とは別経路で前記液付与装置から前記第１液貯留部へ液を循環させる循環流路と、
前記液付与装置と前記第１液貯留部との間で液を循環させている間に、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への第１液の補充を制御する循環制御手段と、
を備えた液供給装置であって、
前記第１液補充手段の動作頻度を監視し、前記第１液補充手段の動作頻度に基づいて当該液供給装置の動作状態を判断する監視手段を備えたことを特徴とする液供給装置。 A supply flow path for supplying a liquid to a liquid applying apparatus for applying a first liquid containing a solute in the solvent to the medium;
A first liquid supply channel for supplying the first liquid to the supply channel;
A second liquid supply flow path for supplying a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid to the supply flow path;
Switching means for switching whether to supply the first liquid or the second liquid to the supply flow path;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
During the liquid application process to the medium by the liquid application device, the second liquid is supplied to the supply channel when the physical property value of the first liquid measured by the measurement unit exceeds a predetermined range. Switching control means for performing switching control of the switching means,
A first liquid storage section in which the first liquid is stored;
A liquid amount detection means for detecting the amount of liquid stored in the first liquid storage section;
First liquid replenishing means for replenishing the first liquid to the first liquid reservoir;
A circulation channel that circulates the liquid from the liquid application device to the first liquid storage unit in a different path from the channel through which the liquid is supplied from the first liquid storage unit to the liquid application device;
While the liquid is being circulated between the liquid application device and the first liquid storage part, the first liquid replenishing means maintains the first liquid replenishing means so as to keep the liquid amount in a certain range. A circulation control means for controlling replenishment of the first liquid to the liquid storage section;
A liquid supply apparatus comprising:
The frequency of operation of the first replenishment means monitors, liquid supply apparatus characterized by comprising monitoring means to determine the operating state of the liquid supply device based on the operation frequency of the first liquid supply devices.
前記液付与部へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を断続的に供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を備えたことを特徴とする液付与装置。 A liquid application unit for applying to the medium a first liquid containing a solute in a solvent;
A supply flow path for supplying a liquid to the liquid application section;
A first liquid supply channel for supplying the first liquid to the supply channel;
A second liquid supply flow path for supplying a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid to the supply flow path;
Switching means for switching whether to supply the first liquid or the second liquid to the supply flow path;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
During the liquid application process to the medium by the liquid application unit, when the physical property value of the first liquid measured by the measurement unit exceeds a predetermined range, the second liquid is intermittently supplied to the supply channel. Switching control means for performing switching control of the switching means to be supplied to,
A liquid applicator characterized by comprising:
前記液付与部へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記供給流路を通過する液を加圧する第１加圧手段と、
前記液付与部による媒体への液付与処理停止中に前記第２液を前記液付与部へ供給する場合に前記第１加圧手段を連続的又は断続的に動作させ、前記液付与部による媒体への液付与処理中に前記第２液を供給する場合に前記第１加圧手段を断続的に動作させるように前記第１加圧手段の動作を制御する第１加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする液付与装置。 A liquid application unit for applying to the medium a first liquid containing a solute in a solvent;
A supply flow path for supplying a liquid to the liquid application section;
A first liquid supply channel for supplying the first liquid to the supply channel;
A second liquid supply flow path for supplying a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid to the supply flow path;
Switching means for switching whether to supply the first liquid or the second liquid to the supply flow path;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
During the liquid application process to the medium by the liquid application unit, when the physical property value of the first liquid measured by the measurement unit exceeds a predetermined range, the second liquid is supplied to the supply channel. Switching control means for performing switching control of the switching means,
First pressurizing means for pressurizing the liquid passing through the supply flow path;
Continuously or intermittently operates the first pressure unit when supplying the second liquid to the liquid application unit in the liquid application treatment stops on the medium by the liquid application unit, the medium by the liquid application unit A first pressurizing control means for controlling the operation of the first pressurizing means so that the first pressurizing means is operated intermittently when the second liquid is supplied during the liquid application process.
A liquid applicator characterized by comprising:
前記液付与部へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を備え、
前記測定手段よりも前記液付与部側における前記供給流路の少なくとも一部の断面積は、前記切換手段から前記測定手段までの断面積を超える構造を有することを特徴とする液付与装置。 A liquid application unit for applying to the medium a first liquid containing a solute in a solvent;
A supply flow path for supplying a liquid to the liquid application section;
A first liquid supply channel for supplying the first liquid to the supply channel;
A second liquid supply flow path for supplying a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid to the supply flow path;
Switching means for switching whether to supply the first liquid or the second liquid to the supply flow path;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
During the liquid application process to the medium by the liquid application unit, when the physical property value of the first liquid measured by the measurement unit exceeds a predetermined range, the second liquid is supplied to the supply channel. Switching control means for performing switching control of the switching means,
With
Wherein at least a portion of the cross-sectional area of the supply passage in the liquid application unit side of the measuring means, a liquid applying apparatus characterized by having a structure of greater than the cross-sectional area from said switching means to said measuring means.
前記液付与部へ液を供給する液供給装置と、
を備えた液付与装置であって、
前記液供給装置は、前記液付与部へ液を供給する供給流路と、
前記第１液を前記供給流路へ供給する第１液供給流路と、
前記第１液よりも溶質成分の含有比率が低い第２液を前記供給流路へ供給する第２液供給流路と、
前記供給流路へ前記第１液を供給するか前記第２液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記第１液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記第２液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記第１液が貯留される第１液貯留部と、
前記第１液貯留部に貯留される液量を検出する液量検出手段と、
前記第１液貯留部へ前記第１液を補充する第１液補充手段と、
前記第１液貯留部から前記液付与部へ液が供給される流路とは別経路で前記液付与部から前記第１液貯留部へ液を循環させる循環流路と、
前記液付与部と前記第１液貯留部との間で液を循環させている間に、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への第１液の補充を制御する循環制御手段と、
前記第１液補充手段の動作頻度を監視し、前記第１液補充手段の動作頻度に基づいて当該液供給装置の動作状態を判断する監視手段と、
を備えたことを特徴とする液付与装置。 A liquid application unit for applying to the medium a first liquid containing a solute in a solvent;
A liquid supply device for supplying a liquid to the liquid application unit;
A liquid applicator comprising:
The liquid supply device includes a supply flow path for supplying a liquid to the liquid application unit,
A first liquid supply channel for supplying the first liquid to the supply channel;
A second liquid supply flow path for supplying a second liquid having a lower content ratio of the solute component than the first liquid to the supply flow path;
Switching means for switching whether to supply the first liquid or the second liquid to the supply flow path;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
During the liquid application process to the medium by the liquid application unit, when the physical property value of the first liquid measured by the measurement unit exceeds a predetermined range, the second liquid is supplied to the supply channel. Switching control means for performing switching control of the switching means,
A first liquid storage section in which the first liquid is stored;
A liquid amount detection means for detecting the amount of liquid stored in the first liquid storage section;
First liquid replenishing means for replenishing the first liquid to the first liquid reservoir;
A circulation passage for circulating the liquid to the first liquid reservoir wherein the first liquid the flow liquid into the liquid application unit is supplied path from reservoir from the liquid application unit in a different path,
While the liquid is circulated between the liquid application unit and the first liquid reservoir, the first by the first liquid supply devices so as to maintain the amount of liquid in the first liquid storage portion within a predetermined range A circulation control means for controlling replenishment of the first liquid to the liquid storage section;
Monitoring means for monitoring the operating frequency of the first liquid replenishing means and determining the operating state of the liquid supply device based on the operating frequency of the first liquid replenishing means;
A liquid applicator characterized by comprising:
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段の測定結果に応じて、前記液付与部により媒体に付与される液の温度を調節する温度調節手段を備えたことを特徴とする液付与装置。 In the liquid application apparatus according to any one of claims 11 to 14,
In the liquid application process to the medium by the liquid application unit, a temperature adjusting unit that adjusts the temperature of the liquid applied to the medium by the liquid application unit according to the measurement result of the measurement unit is provided. A liquid applicator.
前記液付与部は、回転させながら前記媒体へ接触させて前記第１液を前記媒体へ付与す
る付与ローラを含み、
前記液付与部による媒体への液付与処理の際に、前記測定手段の測定結果に応じて、前
記付与ローラの回転速度及び前記付与ローラの前記媒体への付勢力の少なくともいずれかを可変させる付与ローラ制御手段を備えたことを特徴とする液付与装置。 The liquid application apparatus according to any one of claims 11 to 15,
The liquid application unit includes an application roller that applies the first liquid to the medium by contacting the medium while rotating.
Application of varying at least one of the rotation speed of the application roller and the urging force of the application roller on the medium according to the measurement result of the measurement means during the liquid application process to the medium by the liquid application unit A liquid applying apparatus comprising a roller control means.
前記処理液付与手段によって処理液が付与された記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、
前記処理液付与手段へ液を供給する供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給する処理液供給流路と、
前記処理液よりも溶質成分の含有比率が低い希釈液を前記供給流路へ供給する希釈液供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給するか前記希釈液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記処理液付与手段による記録媒体への処理液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記処理液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記希釈液を断続的に供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を具備することを特徴とする画像形成装置。 Treatment liquid application means for applying the treatment liquid to the recording medium;
Image forming means for forming an image on a recording medium to which the processing liquid is applied by the processing liquid applying means;
A supply flow path for supplying a liquid to the treatment liquid applying means;
A processing liquid supply channel for supplying the processing liquid to the supply channel;
A diluent supply channel for supplying a diluent having a lower content ratio of the solute component than the processing solution to the supply channel;
Switching means for switching between supplying the processing liquid to the supply flow path or supplying the dilution liquid;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
During the treatment liquid application process to the recording medium by the treatment liquid application means, when the physical property value of the treatment liquid measured by the measurement means exceeds a predetermined range, the dilution liquid is intermittently supplied to the supply channel. Switching control means for performing switching control of the switching means so as to be supplied,
An image forming apparatus comprising:
前記処理液付与手段によって処理液が付与された記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、
前記処理液付与手段へ液を供給する供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給する処理液供給流路と、
前記処理液よりも溶質成分の含有比率が低い希釈液を前記供給流路へ供給する希釈液供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給するか前記希釈液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記処理液付与手段による記録媒体への処理液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記処理液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記希釈液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記供給流路を通過する液を加圧する第１加圧手段と、
前記処理液付与手段による媒体への液付与処理停止中に前記希釈液を前記処理液付与手段へ供給する場合に前記第１加圧手段を連続的又は断続的に動作させ、前記処理液付与手段による媒体への液付与処理中に前記希釈液を供給する場合に前記第１加圧手段を断続的に動作させるように前記第１加圧手段の動作を制御する第１加圧制御手段と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。 Treatment liquid application means for applying the treatment liquid to the recording medium;
Image forming means for forming an image on a recording medium to which the processing liquid is applied by the processing liquid applying means;
A supply flow path for supplying a liquid to the treatment liquid applying means;
A processing liquid supply channel for supplying the processing liquid to the supply channel;
A diluent supply channel for supplying a diluent having a lower content ratio of the solute component than the processing solution to the supply channel;
Switching means for switching between supplying the processing liquid to the supply flow path or supplying the dilution liquid;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
When the treatment liquid is applied to the recording medium by the treatment liquid application means, when the physical property value of the treatment liquid measured by the measurement means exceeds a predetermined range, the dilution liquid is supplied to the supply channel. Switching control means for performing switching control of the switching means,
First pressurizing means for pressurizing the liquid passing through the supply flow path;
Continuously or intermittently operates the first pressure unit when supplying the diluting liquid to the treatment liquid deposition unit in the liquid application treatment stops on the medium by the treatment liquid deposition device, the treatment liquid deposition unit A first pressurizing control means for controlling the operation of the first pressurizing means so as to intermittently operate the first pressurizing means when the diluent is supplied during the liquid application process to the medium by:
An image forming apparatus comprising:
前記処理液付与手段によって処理液が付与された記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、
前記処理液付与手段へ液を供給する供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給する処理液供給流路と、
前記処理液よりも溶質成分の含有比率が低い希釈液を前記供給流路へ供給する希釈液供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給するか前記希釈液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記処理液付与手段による記録媒体への処理液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記処理液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記希釈液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
を備え、
前記測定手段よりも前記処理液付与手段側における前記供給流路の少なくとも一部の断面積は、前記切換手段から前記測定手段までの断面積を超える構造を有することを特徴とする画像形成装置。 Treatment liquid application means for applying the treatment liquid to the recording medium;
Image forming means for forming an image on a recording medium to which the processing liquid is applied by the processing liquid applying means;
A supply flow path for supplying a liquid to the treatment liquid applying means;
A processing liquid supply channel for supplying the processing liquid to the supply channel;
A diluent supply channel for supplying a diluent having a lower content ratio of the solute component than the processing solution to the supply channel;
Switching means for switching between supplying the processing liquid to the supply flow path or supplying the dilution liquid;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
When the treatment liquid is applied to the recording medium by the treatment liquid application means, when the physical property value of the treatment liquid measured by the measurement means exceeds a predetermined range, the dilution liquid is supplied to the supply channel. Switching control means for performing switching control of the switching means,
With
The image forming apparatus according to claim 1, wherein a cross-sectional area of at least a part of the supply flow path on the processing liquid applying unit side with respect to the measuring unit has a structure exceeding a cross-sectional area from the switching unit to the measuring unit.
前記処理液付与手段によって処理液が付与された記録媒体に画像を形成する画像形成手段と、
前記処理液付与手段へ液を供給する液供給装置と、
を備えた画像形成装置であって、
前記液供給装置は、前記処理液付与手段へ液を供給する供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給する処理液供給流路と、
前記処理液よりも溶質成分の含有比率が低い希釈液を前記供給流路へ供給する希釈液供給流路と、
前記供給流路へ前記処理液を供給するか前記希釈液を供給するかを切り換える切換手段と、
前記供給流路を通過する液の濃度、導電率、ペーハー値、粘度の少なくともいずれか１つの物性値を測定する測定手段と、
前記処理液付与手段による記録媒体への処理液付与処理の際に、前記測定手段によって測定された前記処理液の物性値が所定範囲を超えたときに、前記供給流路へ前記希釈液を供給するように前記切換手段の切換制御を行う切換制御手段と、
前記処理液が貯留される第１液貯留部と、
前記第１液貯留部に貯留される液量を検出する液量検出手段と、
前記第１液貯留部へ前記処理液を補充する第１液補充手段と、
前記第１液貯留部から前記処理液付与手段へ液が供給される流路とは別経路で前記処理液付与手段から前記第１液貯留部へ液を循環させる循環流路と、
前記処理液付与手段と前記第１液貯留部との間で液を循環させている間に、前記第１液貯留部の液量を一定範囲に保つように前記第１液補充手段による前記第１液貯留部への前記処理液の補充を制御する循環制御手段と、
前記第１液補充手段の動作頻度を監視し、前記第１液補充手段の動作頻度に基づいて当該液供給装置の動作状態を判断する監視手段と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。 Treatment liquid application means for applying the treatment liquid to the recording medium;
Image forming means for forming an image on a recording medium to which the processing liquid is applied by the processing liquid applying means;
A liquid supply device for supplying a liquid to the treatment liquid application means;
An image forming apparatus comprising:
The liquid supply device includes a supply flow path for supplying a liquid to the processing liquid application unit,
A processing liquid supply channel for supplying the processing liquid to the supply channel;
A diluent supply channel for supplying a diluent having a lower content ratio of the solute component than the processing solution to the supply channel;
Switching means for switching between supplying the processing liquid to the supply flow path or supplying the dilution liquid;
Measuring means for measuring at least one physical property value of concentration, conductivity, pH value, viscosity of the liquid passing through the supply flow path;
When the treatment liquid is applied to the recording medium by the treatment liquid application means, when the physical property value of the treatment liquid measured by the measurement means exceeds a predetermined range, the dilution liquid is supplied to the supply channel. Switching control means for performing switching control of the switching means,
A first liquid storage section in which the processing liquid is stored;
A liquid amount detection means for detecting the amount of liquid stored in the first liquid storage section;
First liquid replenishing means for replenishing the processing liquid to the first liquid reservoir;
A circulation flow path for circulating the liquid from the treatment liquid application unit to the first liquid storage unit in a different path from the flow path through which the liquid is supplied from the first liquid storage unit to the treatment liquid application unit ;
While the liquid is being circulated between the treatment liquid application unit and the first liquid storage unit, the first liquid replenishing unit causes the first liquid replenishing unit to maintain the liquid amount in a certain range. A circulation control means for controlling the replenishment of the treatment liquid to the one-liquid storage section;
Monitoring means for monitoring the operating frequency of the first liquid replenishing means and determining the operating state of the liquid supply device based on the operating frequency of the first liquid replenishing means;
An image forming apparatus comprising:
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